KR19980035091A - 반도체 웨이퍼 측정장치 - Google Patents

Abstract

웨이퍼의 공정 특성과 회로 파라미터를 용이하게 측정 검사하도록 하는 반도체 웨이퍼 측정장치에 관한 것이다.

본 발명은 웨이퍼 표면에 접촉되는 핀 형상의 복수개가 특정 간격으로 배치되어 이루어진 탐침과, 지지대에 설치되어 상기 탐침을 고정하도록 형성된 고정대를 포함하여 구성된 프로브를 갖는 반도체 웨이퍼 측정장치에 있어서, 상기 지지대에 각기 다른 용도를 갖는 상기 프로브가 다수개 설치됨을 특징으로 한다.

따라서, 본 발명에 의하면, 다수개 설치된 프로브를 회전식으로 교체하여 측정하도록 함으로써 웨이퍼의 저항, 비저항, 쉬트저항, 층의 두께 및 농도 프로필 등의 측정검사를 일회의 실시로 확인하게 되어 검사에 따른 시간 손실을 줄이게 되고, 공정에 따라 장비를 지정해서 사용하지 않게 됨으로 경제적인 효과가 있다.

Description

반도체 웨이퍼 측정장치

본 발명은 반도체 웨이퍼 측정장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼의 공정 특성과 회로 파라미터를 용이하게 측정 검사하도록 하는 반도체 웨이퍼 측정장치에 관한 것이다.

통상적으로 웨이퍼는 사진, 확산, 식각, 화학기상증착 및 금속배선 등의 공정이 반복 수행됨에 따라 반도체장치로 제작되고, 이러한 반도체장치 제작을 위한 공정은 높은 정확도가 요구된다.

공정이 정확히 이루어지지 않으면 웨이퍼는 더 이상 반도체장치로 제작되지 못하게 됨으로 웨이퍼가 공정 스텝을 지날 때마다 여러 가지 테스트와 평가를 받도록 되어 있다.

이러한 테스트와 평가를 위한 측정장치는 여러 가지가 있으나 여기서는 웨이퍼의 저항과 비저항, 쉬트저항, 층의 두께 및 농도 프로필 등을 측정검사하기 위한 장치로서 도1에 도시된 바와 같이 웨이퍼의 표면에 접촉되는 핀 형상으로 특정 간격을 유지하며 복수개 설치된 탐침(12)과, 이렇게 배치된 탐침(12)을 고정하도록 형성된 고정대(14)로 구성된 프로브(10)를 지지대(16)에 장착하여 사용하는 웨이퍼 측정장치(도시 안됨)가 있다.

상술한 프로브(10)는 측정하고자 하는 용도에 따라 탐침(12)의 간격이 다르거나 탐침(12)의 재질 등이 다르게 형성된 각각의 프로브(10)를 선택하여 교체 사용하도록 되어 있으며, 많은 양의 웨이퍼를 측정 검사하기 위해 측정 용도를 달리하여 측정장치를 복수개 설치하기도 한다.

그러나, 웨이퍼의 저항과 비저항, 쉬트저항, 층의 두께 및 농도 프로필 등을 측정검사하기 위해서는 막질에 따라 프로브의 타입을 교체하여 사용하거나 다른 장비를 지정하여 사용해야 하기 때문에 검사에 따른 시간 손실과 프로브를 교체하기 어려운 문제가 있었다.

또한, 측정장치를 구분하여 사용해야 함으로 시간 손실 및 고가의 측정장치를 복수개 설치해야 하는 비경제적인 문제가 있었다.

본 발명의 목적은, 웨이퍼의 저항과 비저항, 쉬트저항, 층의 두께 및 농도 프로필 등을 일회의 실시로 측정검사하도록 하여 검사에 따른 시간 손실을 줄이고, 장비의 수를 줄여 원가를 절감할 수 있도록 하는 반도체 웨이퍼 측정장치를 제공함에 있다.

도1은 종래의 반도체 웨이퍼 측정장치의 프로브의 설치 관계를 나타낸 사시도이다.

도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체의 웨이퍼 측정장치의 프로브의 설치 관계를 나타낸 사시도이다.

※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10, 20: 프로브 12, 22: 탐침

14, 24: 고정대 16, 26: 지지대

28: 회전축

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 웨이퍼 표면에 접촉되는 핀 형상의 복수개가 특정 간격으로 배치되어 이루어진 탐침과, 지지대에 설치되어 상기 탐침을 고정하도록 형성된 고정대를 포함하여 구성된 프로브를 갖는 반도체 웨이퍼 측정장치에 있어서, 상기 지지대에 각기 다른 용도를 갖는 상기 프로브가 다수개 설치됨을 특징으로 한다.

또한, 상기 각각의 프로브는 상기 지지대에 형성된 회전축을 중심으로 회전식으로 설치함이 바람직하다.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.

도2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 웨이퍼 측정장치의 프로브의 설치 관계를 나타낸 사시도로서, 종래와 동일한 부분에 대하여 상세한 설명은 생략하기로 한다.

도2를 참조하여 설명하면, 지지대(26)가 웨이퍼 측정장치(도시 안됨)의 소정 위치에 설치되어 있으며, 이 지지대(26)의 단부에는 다수개의 프로브(20)가 회전축(28)을 중심으로 회전 가능하게 설치되어 있다.

이렇게 설치된 프로브(20)는 필요에 따라 도2에 도시된 회전축(28)을 중심으로 회전하게 되고, 이에 따라 측정검사에 요구되는 프로브(20)가 웨이퍼 표면에 대해 특정 방향성을 이루며 정위치된다.

따라서, 본 발명에 의하면, 다수개 설치된 프로브를 회전식으로 교체하여 측정하도록 함으로써 웨이퍼의 저항, 비저항, 쉬트저항, 층의 두께 및 농도 프로필 등의 측정검사를 일회의 실시로 확인하게 되어 검사에 따른 시간 손실을 줄이게 되고, 공정에 따라 장비를 지정해서 사용하지 않게 됨으로 경제적인 효과가 있다.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.

Claims (2)

1. 웨이퍼 표면에 접촉되는 핀 형상의 복수개가 특정 간격으로 배치되어 이루어진 탐침과, 지지대에 설치되어 상기 탐침을 고정하도록 형성된 고정대를 포함하여 구성된 프로브를 갖는 반도체 웨이퍼 측정장치에 있어서,

   상기 지지대에 각기 다른 용도를 갖는 상기 프로브가 다수개 설치됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 측정장치.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 각각의 프로브는 상기 지지대에 형성된 회전축을 중심으로 회전식으로 설치됨을 특징으로 하는 상기 반도체 웨이퍼 측정장치.