KR102689455B1 - The Electro-conductive Contact Pin and Testing Device Having The Same - Google Patents
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Abstract
본 발명은 전기 전도성 접촉핀의 단부에 탄성부를 구비함으로써 전기 전도성 접촉핀과 접촉되는 접속 대상물에 과도한 압력을 부여하는 것을 방지하는 전기 전도성 접촉핀 및 이를 구비하는 검사장치를 제공한다. The present invention provides an electrically conductive contact pin that prevents excessive pressure from being applied to a connection object in contact with the electrically conductive contact pin by providing an elastic portion at an end of the electrically conductive contact pin, and an inspection device including the same.
Description
본 발명은 전기 전도성 접촉핀 및 이를 구비하는 검사장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electrically conductive contact pin and an inspection device having the same.
도 1은 종래기술에 따른 프로브 카드(1)를 개략적으로 도시한 도이다. Figure 1 is a diagram schematically showing a
일반적으로 프로브 카드(1)는, 회로기판(2), 회로기판(2)의 하측에 구비되는 공간변환기(3) 및 공간변환기(3)의 하측에 구비되는 프로브 헤드(7)를 포함하여 구성된다.In general, the
프로브 헤드(7)는 다수의 프로브 핀(7)과 프로브 핀(7)이 삽입되는 가이드 구멍을 구비하는 가이드 플레이트(5,6)를 포함한다. 프로브 헤드(7)는 상부 가이드 플레이트(5) 및 하부 가이드 플레이트(6)를 포함하며, 상부 가이드 플레이트(5) 및 하부 가이드 플레이트(6)는 스페이서를 통해 고정 설치된다. 프로브 핀(7)은 상부 가이드 플레이트(5) 및 하부 가이드 플레이트(6)사이에서 탄성 변형하는 구조로서, 이러한 프로브 핀(7)을 채택하여 수직형 프로브 카드(1)를 구성한다. The probe head 7 includes
반도체 소자의 전기적 특성 시험은 다수의 프로브 핀(7)을 형성한 프로브 카드(1)에 반도체 웨이퍼(W)를 접근해 각 프로브 핀(7)을 검사 대상물(반도체 웨이퍼(W))상의 대응하는 전극 패드(WP)에 접촉시킴으로써 수행된다. To test the electrical properties of a semiconductor device, the semiconductor wafer (W) is approached to the probe card (1) on which a plurality of probe pins (7) are formed, and each probe pin (7) is connected to a corresponding test object (semiconductor wafer (W)). This is performed by contacting the electrode pad (WP).
한편, 최근의 LSI 칩의 검사 등에 있어서는 고전파 전류를 흐르게 할 경우가 발생한다. 그런데 프로브 핀(7)과 공간변환기(3) 사이 또는 프로브 핀(7)과 검사 대상물 사이에서 접속 대상물과의 간극이 발생하면 스파크가 발생하게 되고, 스파크에 의해 프로브 핀(7) 및 접속 대상물이 파손되는 문제가 발생한다. On the other hand, in recent LSI chip inspections, etc., there are cases where high-wave current flows. However, if a gap occurs between the probe pin (7) and the space converter (3) or between the probe pin (7) and the object to be inspected, a spark is generated, and the probe pin (7) and the connection object are damaged by the spark. Damage problems may occur.
본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명은 전기 전도성 접촉핀의 적어도 일단부가 접속 대상물에 항상 접촉 상태를 유지하도록 함으로써 스파크가 발생하는 것을 방지할 수 있는 전기 전도성 접촉핀 및 이를 구비하는 검사장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention was made to solve the problems of the prior art described above. The present invention provides an electrically conductive contact that can prevent sparks from occurring by ensuring that at least one end of the electrically conductive contact pin is always in contact with the connection object. The purpose is to provide pins and inspection devices equipped with the same.
또한 본 발명은 전기 전도성 접촉핀의 적어도 일단부에 탄성부를 구비함으로써 전기 전도성 접촉핀과 접촉되는 접속 대상물에 과도한 압력을 부여하는 것을 방지하는 전기 전도성 접촉핀 및 이를 구비하는 검사장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. In addition, the present invention provides an electrically conductive contact pin that prevents excessive pressure from being applied to a connection object in contact with the electrically conductive contact pin by providing an elastic portion on at least one end of the electrically conductive contact pin, and an inspection device including the same. The purpose.
본 발명의 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 검사 장치는, 검사장치의 접속 패드에 일단부가 접촉되고 검사 대상물의 접속 패드에 타단부가 접촉되어 상기 검사 대상물을 검사하는 전기 전도성 접촉핀; 및 상기 전기 전도성 접촉핀이 삽입되는 가이드홀을 구비하는 가이드 플레이트;를 포함하되, 상기 가이드 플레이트를 상기 검사장치 측에 설치한 상태에서 상기 일단부가 상기 검사장치의 접속 패드에 의해 가압되어 압축변형되어 상기 일단부가 상기 검사장치의 접속 패드에 항상 접촉상태를 유지하도록 상기 일단부는 상기 가이드 플레이트와 상기 검사장치의 접속 패드 사이에 탄성부를 구비한다.In order to achieve the object of the present invention, the inspection device according to the present invention includes an electrically conductive contact pin that has one end in contact with a connection pad of the inspection device and the other end in contact with a connection pad of the inspection object to inspect the inspection object; and a guide plate having a guide hole into which the electrically conductive contact pin is inserted; wherein, when the guide plate is installed on the inspection device side, the one end portion is compressed and deformed by being pressed by the connection pad of the inspection device. The one end is provided with an elastic portion between the guide plate and the connection pad of the inspection device so that the one end always remains in contact with the connection pad of the inspection device.
또한, 상기 가이드 플레이트는, 상부 가이드 플레이트; 및 상기 상부 가이드 플레이트와 이격되어 구비되는 하부 가이드 플레이트;를 포함하되, 상기 전기 전도성 접촉핀은 상기 상부 가이드 플레이트와 상기 하부 가이드 플레이트 사이에서 측 방향으로 탄성 변형된다.Additionally, the guide plate includes: an upper guide plate; and a lower guide plate provided to be spaced apart from the upper guide plate, wherein the electrically conductive contact pin is elastically deformed in a lateral direction between the upper guide plate and the lower guide plate.
또한, 상기 전기 전도성 접촉핀은, 종 방향으로 길이를 가지고, 횡 방향으로 폭을 가지고, 종 방향 및 횡 방향의 직각 방향으로 두께를 가지며, 상기 탄성부를 포함하는 일단부의 두께는 상기 탄성부를 제외한 상기 전기 전도성 접촉핀의 나머지의 두께와 동일하다.In addition, the electrically conductive contact pin has a length in the longitudinal direction, a width in the transverse direction, and a thickness in a direction perpendicular to the longitudinal and transverse directions, and the thickness of one end including the elastic portion is greater than the thickness of the elastic portion excluding the elastic portion. It is equal to the thickness of the rest of the electrically conductive contact pins.
또한, 상기 탄성부는 두께 방향으로 관통하는 내부 공간을 가지고 상기 내부 공간을 전체적으로 감싸는 기둥부로 구성되는 밀폐형 탄성부이다.In addition, the elastic part is a closed elastic part that has an internal space penetrating in the thickness direction and is composed of a pillar part that entirely surrounds the internal space.
또한, 상기 탄성부는 두께 방향으로 관통하는 내부 공간을 가지고 상부 또는 측부가 절개되어 상기 내부 공간을 부분적으로 감싸는 기둥부로 구성되는 개방형 탄성부이다.In addition, the elastic part is an open elastic part composed of a column part that has an internal space penetrating in the thickness direction and a top or side part is cut to partially surround the internal space.
한편, 본 발명에 따른 전기 전도성 접촉핀은, 검사장치의 접속 패드에 일단부가 접촉되고 검사 대상물의 접속 패드에 타단부가 접촉되어 상기 검사 대상물을 검사하는 전기 전도성 접촉핀에 있어서, 상기 전기 전도성 접촉핀을 상기 검사장치 측에 설치한 상태에서 상기 일단부가 상기 검사장치의 접속 패드에 의해 가압되어 압축변형되어 상기 일단부가 상기 검사장치의 접속 패드에 항상 접촉상태를 유지하도록 상기 일단부는 상기 가이드 플레이트와 상기 검사장치의 접속 패드 사이에 탄성부를 구비한다.Meanwhile, the electrically conductive contact pin according to the present invention is an electrically conductive contact pin that inspects the inspection object by having one end in contact with the connection pad of the inspection device and the other end in contact with the connection pad of the inspection object, wherein the electrically conductive contact pin With the pin installed on the inspection device side, the one end is compressed and deformed by being pressed by the connection pad of the inspection device, so that the one end is always in contact with the connection pad of the inspection device, and the one end is connected to the guide plate. An elastic portion is provided between connection pads of the inspection device.
또한, 상기 일단부는, 내부 공간이 구비된 밀폐형 탄성부로 구성된다.Additionally, the one end portion is composed of a closed elastic portion provided with an internal space.
또한, 상기 일단부는, 내부 공간이 구비된 밀폐형 탄성부와 상기 탄성부의 상부에 평면으로 구성되는 접촉평면부로 구성된다.In addition, the one end portion is composed of a closed elastic portion provided with an internal space and a contact plane portion formed as a plane on the upper part of the elastic portion.
또한, 상기 일단부는, 내부 공간이 구비되되 상부가 절개되어 적어도 2개 이상의 접촉부위를 구비하는 탄성부로 구성된다.In addition, the one end is composed of an elastic part that has an internal space and has an upper part cut out to provide at least two contact areas.
또한, 상기 일단부는, 내부 공간이 구비되되 상부가 절개되어 적어도 2개 이상의 접촉부위가 구비되는 탄성부와 상기 탄성부의 상부에 평면으로 구성되는 접촉평면부로 구성된다.In addition, the one end portion is composed of an elastic portion that has an internal space but is cut at the top to provide at least two contact portions, and a contact plane portion that is formed as a plane on the upper part of the elastic portion.
또한, 상기 일단부는, 내부 공간이 구비되되 측부가 절개된 탄성부로 구성된다.In addition, the one end is composed of an elastic portion with an internal space and a cut side.
또한, 상기 일단부는, 상기 일단부가 상기 가이드 플레이트의 가이드 구멍을 통과하지 못하도록 상기 가이드 구멍의 크기보다 크게 형성된 걸림턱을 포함하고, 상기 탄성부는 상기 걸림턱 상부에 위치한다.In addition, the one end portion includes a locking protrusion formed larger than the size of the guide hole to prevent the one end portion from passing through the guide hole of the guide plate, and the elastic portion is located above the locking protrusion.
또한, 상기 전기 전도성 접촉핀은, 복수개의 금속층이 상기 전기 전도성 접촉핀의 두께 방향으로 적층되어 형성된다.Additionally, the electrically conductive contact pin is formed by stacking a plurality of metal layers in the thickness direction of the electrically conductive contact pin.
또한, 상기 전기 전도성 접촉핀은 그 측면에 구비되는 미세 트렌치를 포함한다.Additionally, the electrically conductive contact pin includes a fine trench provided on its side.
본 발명은 전기 전도성 접촉핀의 적어도 일단부가 접속 대상물에 항상 접촉 상태를 유지하도록 함으로써 스파크가 발생하는 것을 방지할 수 있는 전기 전도성 접촉핀 및 이를 구비하는 검사장치를 제공한다. The present invention provides an electrically conductive contact pin that can prevent sparks from occurring by ensuring that at least one end of the electrically conductive contact pin is always in contact with a connection object, and an inspection device including the same.
또한 본 발명은 전기 전도성 접촉핀의 적어도 일단부에 탄성부를 구비함으로써 전기 전도성 접촉핀과 접촉되는 접속 대상물에 과도한 압력을 부여하는 것을 방지하는 전기 전도성 접촉핀 및 이를 구비하는 검사장치를 제공한다. In addition, the present invention provides an electrically conductive contact pin that prevents excessive pressure from being applied to a connection object in contact with the electrically conductive contact pin by providing an elastic portion on at least one end of the electrically conductive contact pin, and an inspection device including the same.
도 1은 종래기술에 따른 프로브 카드를 개략적으로 도시한 도면
도 2는 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀이 구비된 프로브 헤드를 도시한 도면.
도 3은 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 4 및 도 5는 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀의 탄성부의 변형례를 도시한 도면.
도 6은 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 7은 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀의 탄성부의 변형례를 도시한 도면.
도 8은 본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 9는 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 10은 본 발명의 바람직한 제5실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 11은 본 발명의 바람직한 제6실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 12는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀의 제조방법을 설명하기 위한 도면.
도 13은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀의 측면을 도시한 도면.1 is a diagram schematically showing a probe card according to the prior art.
Figure 2 shows a probe head equipped with an electrically conductive contact pin according to a first preferred embodiment of the present invention.
Figure 3 is a diagram showing an electrically conductive contact pin according to a first preferred embodiment of the present invention.
4 and 5 are views showing a modified example of the elastic portion of the electrically conductive contact pin according to the first preferred embodiment of the present invention.
Figure 6 is a diagram showing an electrically conductive contact pin according to a second preferred embodiment of the present invention.
Figure 7 is a view showing a modified example of the elastic portion of an electrically conductive contact pin according to a second preferred embodiment of the present invention.
Figure 8 is a diagram showing an electrically conductive contact pin according to a third preferred embodiment of the present invention.
Figure 9 is a diagram showing an electrically conductive contact pin according to a fourth preferred embodiment of the present invention.
Figure 10 is a diagram showing an electrically conductive contact pin according to a fifth preferred embodiment of the present invention.
Figure 11 is a diagram showing an electrically conductive contact pin according to a sixth preferred embodiment of the present invention.
Figure 12 is a diagram for explaining a method of manufacturing an electrically conductive contact pin according to a preferred embodiment of the present invention.
Figure 13 is a side view of an electrically conductive contact pin according to a preferred embodiment of the present invention.
이하의 내용은 단지 발명의 원리를 예시한다. 그러므로 당업자는 비록 본 명세서에 명확히 설명되거나 도시되지 않았지만 발명의 원리를 구현하고 발명의 개념과 범위에 포함된 다양한 장치를 발명할 수 있는 것이다. 또한, 본 명세서에 열거된 모든 조건부 용어 및 실시 예들은 원칙적으로, 발명의 개념이 이해되도록 하기 위한 목적으로만 명백히 의도되고, 이와 같이 특별히 열거된 실시 예들 및 상태들에 제한적이지 않는 것으로 이해되어야 한다.The following merely illustrates the principles of the invention. Therefore, those skilled in the art will be able to invent various devices that embody the principles of the invention and are included in the concept and scope of the invention, although not clearly described or shown herein. In addition, all conditional terms and embodiments listed in this specification are, in principle, expressly intended only for the purpose of ensuring that the inventive concept is understood, and should be understood as not limiting to the embodiments and conditions specifically listed as such. .
상술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해질 것이며, 그에 따라 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다.The above-described purpose, features and advantages will become clearer through the following detailed description in relation to the attached drawings, and accordingly, those skilled in the art in the technical field to which the invention pertains will be able to easily implement the technical idea of the invention. .
본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시 도인 단면도 및/또는 사시도들을 참고하여 설명될 것이다. 이러한 도면들에 도시된 막 및 영역들의 두께 등은 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 본 명세서에서 사용한 기술적 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Embodiments described herein will be explained with reference to cross-sectional views and/or perspective views, which are ideal illustrations of the present invention. The thicknesses of films and regions shown in these drawings are exaggerated for effective explanation of technical content. The form of the illustration may be modified depending on manufacturing technology and/or tolerance. Accordingly, embodiments of the present invention are not limited to the specific form shown, but also include changes in form produced according to the manufacturing process. Technical terms used in this specification are merely used to describe specific embodiments and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as “comprise” or “comprise” are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in this specification, but are intended to indicate the presence of one or more other It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들에 대해 구체적으로 설명한다. 이하에서 다양한 실시예들을 설명함에 있어서, 동일한 기능을 수행하는 구성요소에 대해서는 실시예가 다르더라도 편의상 동일한 명칭 및 동일한 참조번호를 부여하기로 한다. 또한, 이미 다른 실시예에서 설명된 구성 및 작동에 대해서는 편의상 생략하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. In describing various embodiments below, components that perform the same function will be given the same names and same reference numbers for convenience even if the embodiments are different. In addition, the configuration and operation already described in other embodiments will be omitted for convenience.
본 발명의 바람직한 각 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀들은, 전기를 인가하여 검사 대상물의 불량 여부를 확인하기 위한 검사장치에 구비되어 검사 대상물과 전기적, 물리적으로 접촉하여 전기적 신호를 전달하는데 사용되는 전도성 접촉핀일 수 있다. 검사장치는 반도체 제조공정에 사용되는 검사장치일 수 있으며, 그 일례로 프로브 카드일 수 있고, 테스트 소켓일 수 있다. 전기 전도성 접촉핀들은 프로브 카드에 구비되어 반도체 칩을 검사하는 프로브 핀일 수 있고, 패키징된 반도체 패키지를 검사하는 테스트 소켓에 구비되어 반도체 패키지를 검사하는 소켓 핀일 수 있다.The electrically conductive contact pins according to each preferred embodiment of the present invention are provided in an inspection device to determine whether an inspection object is defective by applying electricity and are used to transmit an electrical signal by electrically and physically contacting the inspection object. It could be a contact pin. The inspection device may be an inspection device used in a semiconductor manufacturing process, and for example, it may be a probe card or a test socket. The electrically conductive contact pins may be probe pins provided on a probe card to inspect a semiconductor chip, or may be socket pins provided in a test socket for inspecting a packaged semiconductor package and inspected a semiconductor package.
이하에서는 제1 내지 제6실시예를 구분하여 설명하나, 각각의 실시예의 구성들을 조합한 실시예들도 본 발명의 바람직한 실시예에 포함된다.Hereinafter, the first to sixth embodiments will be described separately, but embodiments that combine the components of each embodiment are also included in the preferred embodiment of the present invention.
이하에서 설명하는 전기 전도성 접촉핀의 폭 방향은 도면에 표기된 ±x방향이고, 전기 전도성 접촉핀의 길이 방향은 도면에 표기된 ±y방향이고, 전기 전도성 접촉핀의 두께 방향은 도면에 표기된 ±z방향이다. 전기 전도성 접촉핀은, 길이 방향(±y 방향)으로 전체 길이 치수(L)를 가지고, 길이 방향의 수직한 두께 방향(±z 방향)으로 전체 두께 치수(H)를 가지며, 길이 방향의 수직한 폭 방향(±x 방향)으로 전체 폭 치수(W)를 가진다.The width direction of the electrically conductive contact pins described below is the ±x direction shown in the drawings, the length direction of the electrically conductive contact pins is the ±y direction shown in the drawings, and the thickness direction of the electrically conductive contact pins is the ±z direction shown in the drawings. am. The electrically conductive contact pin has an overall length dimension (L) in the longitudinal direction (±y direction), an overall thickness dimension (H) in a thickness direction perpendicular to the longitudinal direction (±z direction), and a vertical thickness dimension (H) in the longitudinal direction. It has an overall width dimension (W) in the width direction (±x direction).
제1실시예
이하, 도 2 및 도 3을 참조하여, 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)에 대해 설명한다. Hereinafter, with reference to FIGS. 2 and 3, the electrically
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로브 카드는, 반도체 제조 공정 중에서 웨이퍼 상에 제작된 칩을 검사하는 검사 공정에 사용되며 미세 미치 대응이 가능하다. 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로브 카드는 마이크로프로세서, 마이크로컨트롤러, ASICs 등과 같은 비메모리 반도체 칩을 검사하는데 보다 유용하다. The probe card according to a preferred embodiment of the present invention is used in an inspection process to inspect chips manufactured on a wafer during the semiconductor manufacturing process and is capable of responding to fine measurements. The probe card according to a preferred embodiment of the present invention is more useful for inspecting non-memory semiconductor chips such as microprocessors, microcontrollers, ASICs, etc.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로브 카드는, 접속 패드(CP)를 구비하는 공간변환기(ST); 공간변환기(ST) 하부에서 공간변환기(ST)와 이격되어 구비되는 가이드 플레이트(GP1, FP2); 및 가이드 플레이트(GP1, GP2)의 구멍에 삽입되어 설치되는 프로브 핀(100);을 포함한다.A probe card according to a preferred embodiment of the present invention includes a spatial transducer (ST) having a connection pad (CP); Guide plates (GP1, FP2) provided below the space converter (ST) and spaced apart from the space converter (ST); and a
가이드 플레이트는 상부 가이드 플레이트(GP1)와 상부 가이드 플레이트(GP1)와 이격되어 구비되는 하부 가이드 플레이트(GP2)를 포함한다. 전기 전도성 접촉핀(100)은 상부 가이드 플레이트(GP1)의 가이드 구멍과 하부 가이드 플레이트(GP2)의 가이드 구멍에 삽입된다. 전기 전도성 접촉핀(100)은 상부 가이드 플레이트(GP1)와 하부 가이드 플레이트(GP2) 사이에서 측 방향(x방향)으로 탄성 변형된다. The guide plate includes an upper guide plate (GP1) and a lower guide plate (GP2) that is provided to be spaced apart from the upper guide plate (GP1). The electrically
가이드 플레이트(GP1, GP2)에 설치되는 배치되는 프로브 핀(100)들 간의 피치 간격은 50㎛ 이상 150㎛이하일 수 있으며, 프로브 핀(100)의 좌우 폭은 40㎛이상 200㎛이하이고, 프로브 핀(100)의 두께는 40㎛이상 200㎛이하일 수 있다.The pitch interval between the probe pins 100 installed on the guide plates (GP1, GP2) may be 50 ㎛ or more and 150 ㎛ or less, and the left and right widths of the probe pins 100 may be 40 ㎛ or more and 200 ㎛ or less, and the probe pins The thickness of (100) may be 40㎛ or more and 200㎛ or less.
전기 전도성 접촉핀(100)의 일단부는 검사장치(공간 변환기(ST))의 접속패드(CP)에 접속되고, 전기 전도성 접촉핀(100)의 타단부는 검사 대상물의 접속패드에 접속된다. 여기서 검사 대상물은 반도체 소자일 수 있다.One end of the electrically
전기 전도성 접촉핀(100)은, 종 방향으로 길이(L)를 가지고, 횡 방향으로 폭(W)을 가지고, 종 방향 및 횡 방향의 직각 방향으로 두께(H)를 가지며, 탄성부(110a)를 포함하는 일단부의 두께(H)는 탄성부(110a)를 제외한 전기 전도성 접촉핀(100)의 나머지의 두께(H)와 동일하다. The electrically
전기 전도성 접촉핀(100)은 바디(150)를 포함하여 구성된다. 바디(150)는 전기 전도성 접촉핀(100)이 측방향으로 탄성 변형되도록 하며, 접속대상물(검사장치와 검사대상물)간의 전류 패스를 형성하는 기능을 수행한다. 바디(150)는 적어도 하나 이상의 굴곡부(155)를 포함한다. 굴곡부(155)의 구성을 통해 바디(150)는 측방향으로 변형될 수 있다. The electrically
전기 전도성 접촉핀(100)의 일단부는 탄성부(110a)를 구비한다. 보다 구체적으로 바디(150)의 일측에 탄성부(110a)가 구비된다. One end of the electrically
전기 전도성 접촉핀(100)의 일단부는 가이드 플레이트(GP1)와 검사 장치의 접속 패드(CP)사이에 탄성부(110a)를 구비함으로써, 검사 장치의 접속 패드(CP)와의 접촉시 이를 완충하고 전기 전도성 접촉핀(100)을 검사 장치 측에 설치한 상태에서 일단부가 검사 장치의 접속 패드(CP)에 의해 가압되어 압축변형되어 그 일단부가 검사 장치의 접속 패드(CP)에 항상 접촉상태를 유지하도록 한다. One end of the electrically conductive contact pin (100) is provided with an elastic portion (110a) between the guide plate (GP1) and the connection pad (CP) of the inspection device, thereby cushioning it when it comes into contact with the connection pad (CP) of the inspection device and With the
전기 전도성 접촉핀(100)은 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 복수 개의 금속층이 적층되어 구비된다. 복수개의 금속층은, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)을 포함한다. 제1금속층(160)은 제2금속층(180)에 비해 상대적으로 내마모성이 높은 금속으로서 바람직하게는, 로듐(Rd), 백금 (Pt), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 니켈(Ni), 망간(Mn), 텅스텐(W), 인(Ph) 이나 이들의 합금, 또는 팔라듐-코발트(PdCo) 합금, 팔라듐-니켈(PdNi) 합금 또는 니켈-인(NiPh) 합금, 니켈-망간(NiMn), 니켈-코발트(NiCo) 또는 니켈-텅스텐(NiW) 합금 중에서 선택된 금속으로 형성될 수 있다. 제2금속층(180)은 제1금속층(160)에 비해 상대적으로 전기 전도도가 높은 금속으로서 바람직하게는, 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au) 또는 이들의 합금 중에서 선택된 금속으로 형성될 수 있다. The electrically
제1금속층(160)은 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 하면과 상면에 구비되고 제2금속층(180)은 제1금속층(160) 사이에 구비된다. 예를 들어, 전기 전도성 접촉핀(100)은 제1금속층(160), 제2금속층(180), 제1금속층(160) 순으로 교대로 적층되어 구비되며, 적층되는 층수는 3층 이상으로 구성될 수 있다. The
제1금속층(160)과 제2금속층(180)은 바디(150) 뿐만 아니라 탄성부(110a)에도 형성된다. 탄성부(110a)가 접속대상물과 접촉할 때, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)이 접속대상물과 동시에 접촉되어 접촉부위에서 높은 내마모성과 전기 전도도를 확보할 수 있게 된다. The
전기 전도성 접촉핀(100)의 바디(150)는 가이드 플레이트(GP1, GP2)의 가이드 구멍을 통과할 수 있는 크기로 형성된다. 전기 전도성 접촉핀(100)의 바디(150)는 단면 형상이 사각형으로 형성되고, 가이드 플레이트(GP1, GP2)의 가이드 구멍 역시 사각 단면의 형상으로 구성된다. 이를 통해 전기 전도성 접촉핀(100)이 가이드 구멍에 삽입된 이후에, 가이드 구멍 내에서 전기 전도성 접촉핀(100)이 회전하지 않게 되어 복수개의 전기 전도성 접촉핀(100)들의 굴곡 방향이 일정하게 유지되도록 한다. The
탄성부(110a)의 하부로는 전기 전도성 접촉핀(100)의 일단부가 가이드 플레이트(보다 구체적으로는 상부 가이드 플레이트(GP1))의 가이드 구멍을 통과하지 못하도록 가이드 구멍의 크기보다 크게 형성된 걸림턱(130)을 포함한다. At the lower part of the
걸림턱(130)은 전기 전도성 접촉핀(100)의 바디(150)의 양 측면 중 적어도 어느 하나의 측면에서 폭 방향으로 돌출되어 구비된다. 걸림턱(130)이 가이드 플레이트(보다 구체적으로는 상부 가이드 플레이트(GP1))의 상면에 걸림으로써 전기 전도성 접촉핀(100)이 상부 가이드 플레이트(GP1)로부터 낙하되지 않도록 한다. The locking
다수의 전기 전도성 접촉핀(100)들은 제조공정 상의 오차로 인해 길이 차이가 있고, 가이드 플레이트(GP1, GP2) 및 공간변환기(ST)의 평탄도가 미세하게 차이가 있고 접속 패드(CP)들 간에도 높이 차가 있기 마련이다. 따라서 모든 전기 전도성 접촉핀(100)들에 대해 양호한 전기적 및 기계적 접촉을 보장하도록 하기 위해서는 전기 전도성 접촉핀(100)들이 검사 장치 쪽으로 가압되면서 설치되어야 한다. 전기 전도성 접촉핀(100)들이 설치된 가이드 플레이트(GP1, GP2)를 검사 장치 측에 설치한 상태에서, 전기 전도성 접촉핀(100)의 탄성부(110a)는 검사 장치의 접속 패드(CP)에 밀착 및 가압되어 압축변형된다. 이를 통해 모든 전기 전도성 접촉핀(100)의 단부가 검사장치의 접속 패드(CP)에 항상 접촉 상태를 유지함으로써 스파크가 발생하는 것을 방지할 수 있게 된다. The multiple electrically conductive contact pins 100 have length differences due to errors in the manufacturing process, the flatness of the guide plates (GP1, GP2) and the spatial converter (ST) differ slightly, and the connection pads (CP) also have different lengths. There is bound to be a difference in height. Therefore, in order to ensure good electrical and mechanical contact for all electrically conductive contact pins 100, the electrically conductive contact pins 100 must be installed while being pressed toward the inspection device. In a state where the guide plates (GP1, GP2) on which the electrically conductive contact pins 100 are installed are installed on the inspection device side, the
탄성부(110a)는 두께 방향으로 관통하는 내부 공간을 가지고 내부 공간을 전체적으로 감싸는 기둥부로 구성되는 밀폐형 탄성부이다. 밀폐형 탄성부는 접속 대상물과의 접촉압력이 있을 경우, 탄성 변형되는 구조이다. The
탄성부(110a)는 그 단면 형상이 원형 또는 타원형의 형상을 가진다. 탄성부(110a)는 두께 방향으로 원 기둥의 형태로 구성되어 과도한 접촉 압력이 인가되더라도 탄성부(110a)가 파손되는 것을 방지할 수 있다. 또한 원 기둥의 기둥면에는 제1금속층(160)과 제2금속층(180)이 교번적으로 구비되어 탄성부(110a)의 높은 내마모성과 높은 전기 전도도를 확보할 수 있게 된다. The
본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)을 구비하는 프로브 카드의 조립과정을 살펴보면, 먼저 전기 전도성 접촉핀(100)을 가이드 플레이트(GP1, GP2)에 삽입하여 프로브 헤드를 조립한다. 이때 전기 전도성 접촉핀(100)의 바디(150)는 가이드 구멍보다 작기 때문에 가이드 구멍을 통과하고 걸림턱(130)이 상부 가이드 플레이트(GP1)의 상면에 걸리면서 전기 전도성 접촉핀(100)가 가이드 플레이트(GP1, GP2)로부터 탈락되지 않는다. 그 다음 프로브 헤드를 공간변환기(ST)측에 고정한다. 이때 전기 전도성 접촉핀(100)의 탄성부(110a)가 공간변환기(ST)의 접속 패드(CP)에 접촉이 되되 탄성부(110a)가 탄성 변형되도록 한다. 탄성부(110a)가 접속대상물과 접촉한 상태에서 탄력적으로 지지됨에 따라 복수개의 전기 전도성 접촉핀(100)들의 일단부는 공간변환기(ST)의 접속 패드에 항상 접촉 상태를 유지한다. 이상과 같은 조립과정이 완료된 상태에서 검사대상물을 전기 전도성 접촉핀(100)의 하단부에 위치시켜 검사대상물을 검사하게 된다.Looking at the assembly process of the probe card provided with the electrically
도 4 및 도 5는 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)의 탄성부(110a)의 변형례를 도시한 도면이다. 4 and 5 are diagrams showing a modified example of the
도 4a를 참조하면, 도 4a에 도시된 탄성부(110b)는 탄성부(110b)의 내부 공간의 적어도 일부가 걸림턱(130)의 위치와 중첩되는 위치에 구비되도록 형성되는 구성이라는 점에서 도 3에 도시된 탄성부(110a)의 구성과 차이가 있다. 이를 통해 응력집중현상을 방지하여 탄성부(110d)의 변형에 따른 파손을 방지하는 효과를 발휘할 수 있다.Referring to FIG. 4A, the
도 4b를 참조하면, 도 4b에 도시된 탄성부(110c)는 탄성부(110c)의 내부 공간의 적어도 일부가 걸림턱(130)의 위치와 중첩되는 위치에 구비되도록 형성되는 구성이라는 점과 탄성부(110c)의 측면을 보다 두껍게 하는 후육부를 구비하는 구성이라는 점에서 도 3에 도시된 탄성부(110a)의 구성과 차이가 있다. 이를 통해 응력집중현상을 방지하여 탄성부(110d)의 변형에 따른 파손을 방지하는 효과를 발휘할 수 있다.Referring to FIG. 4b, the
도 4c를 참조하면, 도 4c에 도시된 탄성부(110d)는 복수개의 밀폐형 기둥부로 구성된다는 점에서 도 3에 도시된 탄성부(110a)의 구성과 차이가 있다. 복수개의 밀폐형 기둥부는 그 단면 형상이 서로 동일하거나 서로 다를 수 있다. 이를 통해 응력집중현상을 방지하여 탄성부(110d)의 변형에 따른 파손을 방지하는 효과를 발휘할 수 있다.Referring to Figure 4c, the
도 5a를 참조하면, 도 5a에 도시된 탄성부(110e)는 내부 공간이 삼각형의 형태로 되어 밀폐형 기둥부의 형상이 삼각형으로 구성된다는 점에서 도 3에 도시된 탄성부(110a)의 구성과 차이가 있다. Referring to FIG. 5A, the
도 5b를 참조하면, 도 5b에 도시된 탄성부(110f)는 내부 공간이 마름모형의 형태로 되어 밀폐형 기둥부의 형상이 마름모형으로 구성된다는 점에서 도 3에 도시된 탄성부(110a)의 구성과 차이가 있다. Referring to FIG. 5B, the
도 5c를 참조하면, 도 5c에 도시된 탄성부(110g)는 내부 공간이 반원형의 형태로 되어 밀폐형 기둥부의 형상이 반원형으로 구성된다는 점에서 도 3에 도시된 탄성부(110a)의 구성과 차이가 있다. Referring to FIG. 5C, the
제1실시예에 따른 탄성부(110a)의 변형례는, 이상에서 설명한 변형례의 탄성부(110b, 110c, 110d, 110e, 110f, 110g)에 한정되는 것은 아니고, 내부 공간이 구비된 밀폐형 탄성부의 구성이라면 모두 포함된다 할 것이다. The modification of the
한편, 이상에서는 탄성부(110a)가 구비된 일단부가 검사 장치 측에 위치하는 것으로 설명하였으나, 그 변형례로서 탄성부(110a)가 검사 대상물 측에 위치하는 구성도 가능하며, 탄성부(110a)가 검사 장치 측 및 검사 대상물 측, 양 측에 모두 위치하는 구성도 가능하다. Meanwhile, in the above description, one end provided with the
또한 도 2에서는 프로브 카드를 예시하여 도시되어 있으나, 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은 프로브 카드뿐만 아니라 패키징된 반도체 패키지를 검사하는 테스트 소켓에 구비되어 반도체 패키지를 검사하는 전기 전도성 접촉핀(100)일 수 있다. In addition, although a probe card is shown as an example in FIG. 2, the electrically
제2실시예Second embodiment
다음으로, 본 발명에 따른 제2실시예에 대해 살펴본다. 단, 이하 설명되는 실시예들은 상기 제1실시예와 비교하여 특징적인 구성요소들을 중심으로 설명하겠으며, 제1실시예와 동일하거나 유사한 구성요소들에 대한 설명은 되도록이면 생략한다.Next, we will look at the second embodiment according to the present invention. However, the embodiments described below will be described focusing on characteristic components compared to the first embodiment, and descriptions of components that are the same or similar to the first embodiment will be omitted if possible.
이하, 도 6를 참조하여, 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(200)에 대해 설명한다. 도 6은 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(200)을 도시한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIG. 6, the electrically
본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(200)은, 그 일단부가 내부 공간이 구비된 밀폐형 탄성부(210a)와 밀폐형 탄성부(210)의 상부에 평면으로 구성되는 접촉평면부(220)로 구성된다는 점에서, 접촉평면부(220)가 구비되지 않은 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)의 구성과 차이가 있다.The electrically
밀폐형 탄성부(210)의 상부에 구비되는 접촉평면부(220)는 접속 대상물인 검사장치의 접속 패드(CP)에 접촉되는 부분으로서, 평면으로 구성되어 접속의 신뢰성을 향상시킬 수 있게 된다.The
밀폐형 탄성부(210)는 앞서 설명한 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 탄성부(110a, 110b, 110c, 110d, 110e, 110f, 110g)로 구성될 수 있다. The closed
몇가지의 예로서, 도 7은 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(200)의 일단부의 변형례를 도시한 도면이다. 도 7a에 도시된 전기 전도성 접촉핀(200)의 일단부는 도 5a에 도시된 밀폐형 탄성부(110e)의 상부에 접촉평면부(220)가 구비된 구조이다. 도 7b에 도시된 전기 전도성 접촉핀(200)의 일단부는 도 5b에 도시된 밀폐형 탄성부(110f)의 상부에 접촉평면부(220)가 구비된 구조이다. 도 7c에 도시된 전기 전도성 접촉핀(200)의 일단부는 도 5c에 도시된 밀폐형 탄성부(110g)의 상부에 접촉평면부(220)가 구비된 구조이다. As some examples, Figure 7 is a diagram showing a modified example of one end of the electrically
한편, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)은 바디(150) 뿐만 아니라 밀폐형 탄성부(210) 및 접촉평면부(220)에도 형성된다. 접촉평면부(220)가 접속대상물과 접촉할 때, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)이 접속대상물과 동시에 접촉되어 접촉부위에서 높은 내마모성과 전기 전도도를 확보할 수 있게 된다. Meanwhile, the
제3실시예Third embodiment
다음으로, 본 발명에 따른 제3실시예에 대해 살펴본다. 단, 이하 설명되는 실시예들은 상기 제1실시예와 비교하여 특징적인 구성요소들을 중심으로 설명하겠으며, 제1실시예와 동일하거나 유사한 구성요소들에 대한 설명은 되도록이면 생략한다.Next, we will look at the third embodiment according to the present invention. However, the embodiments described below will be described focusing on characteristic components compared to the first embodiment, and descriptions of components that are the same or similar to the first embodiment will be omitted if possible.
이하, 도 8를 참조하여, 본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(300)에 대해 설명한다. 도 8은 본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(300)을 도시한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIG. 8, an electrically
본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(300)은, 그 일단부가 내부 공간이 구비되되 상부가 절개되어 적어도 2개 이상의 접촉부위를 구비하는 개방형 탄성부(310)로 구성되는 된다는 점에서, 밀폐형 탄성부(110a)로 구성되는 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)의 구성과 차이가 있다.The electrically
개방형 탄성부(310)는 그 양측으로 단면이 호 형상을 가지는 2개의 탄성변형부를 구비함으로써, 탄성변형됨과 함께 적어도 2개 이상의 접촉 부위를 형성함으로써 접속의 신뢰성을 향상시킬 수 있게 된다. The open
한편, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)은 바디(150) 뿐만 아니라 개방형 탄성부(310) 및 접촉평면부(220)에도 형성된다. 개방형 탄성부(310)가 접속대상물과 접촉할 때, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)이 접속대상물과 동시에 접촉되어 접촉부위에서 높은 내마모성과 전기 전도도를 확보할 수 있게 된다. Meanwhile, the
제4실시예
다음으로, 본 발명에 따른 제4실시예에 대해 살펴본다. 단, 이하 설명되는 실시예들은 상기 제1실시예와 비교하여 특징적인 구성요소들을 중심으로 설명하겠으며, 제1실시예와 동일하거나 유사한 구성요소들에 대한 설명은 되도록이면 생략한다.Next, we will look at the fourth embodiment according to the present invention. However, the embodiments described below will be described focusing on characteristic components compared to the first embodiment, and descriptions of components that are the same or similar to the first embodiment will be omitted if possible.
이하, 도 9를 참조하여, 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(400)에 대해 설명한다. 도 9는 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(400)을 도시한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIG. 9, the electrically
본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(400)은, 그 일단부가 내부 공간이 구비되되 상부가 절개되어 적어도 2개 이상의 접촉부위를 구비하는 개방형 탄성부(410)와, 개방형 탄성부(410)의 상부에 평면으로 구성되는 접촉평면부(420)로 구성된다는 점에서, 밀폐형 탄성부(110a)로 구성되고 접촉평면부(420)가 구비되지 않은 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)의 구성과 차이가 있다.The electrically
개방형 탄성부(410)는 그 양측으로 단면이 호 형상을 가지는 2개의 탄성변형부를 구비하고 각각의 탄성 변형부의 상부에는 접촉평면부(420)가 구비된다. 이를 통해, 접속 대상물과의 접속의 신뢰성을 향상시킨다.The open
한편, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)은 바디(150) 뿐만 아니라 개방형 탄성부(410) 및 접촉평면부(420)에도 형성된다. 접촉평면부(420)가 접속대상물과 접촉할 때, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)이 접속대상물과 동시에 접촉되어 접촉부위에서 높은 내마모성과 전기 전도도를 확보할 수 있게 된다. Meanwhile, the
제5실시예
다음으로, 본 발명에 따른 제5실시예에 대해 살펴본다. 단, 이하 설명되는 실시예들은 상기 제1실시예와 비교하여 특징적인 구성요소들을 중심으로 설명하겠으며, 제1실시예와 동일하거나 유사한 구성요소들에 대한 설명은 되도록이면 생략한다.Next, we will look at the fifth embodiment according to the present invention. However, the embodiments described below will be described focusing on characteristic components compared to the first embodiment, and descriptions of components that are the same or similar to the first embodiment will be omitted if possible.
이하, 도 10을 참조하여, 본 발명의 바람직한 제5실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(500)에 대해 설명한다. 도 10은 본 발명의 바람직한 제5실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(500)을 도시한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIG. 10, the electrically
본 발명의 바람직한 제5실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(500)은, 두께 방향으로 관통하는 내부 공간을 가지고 측부가 절개되어 내부 공간을 부분적으로 감싸는 기둥부로 구성되는 개방형 탄성부로 구성된다는 점에서, 밀폐형 탄성부(110a)로 구성되는 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)의 구성과 차이가 있다.The electrically
제5실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(500)은, 그 일단부가 접속대상물과 접촉되는 선단부(510)와, 전기 전도성 접촉핀(500)의 바디 상부에 구비되는 기단부(530)와, 선단부(510)와 기단부(530)를 서로 연결하여 선단부(510)가 접속대상물과 탄력적으로 접촉되도록 하는 연결부(520)를 포함하여 내부 공간을 부분적으로 감싸는 기둥부로 구성되는 개방형 탄성부를 구성한다.The electrically
선단부(510)는 평면으로 구성되어 접속대상물과의 접촉의 신뢰성을 향상시킨다. The
연결부(520)는 접속대상물이 선단부(510)를 가압할 때 탄성 변형될 수 있는 구조로 형성되며, 바람직하게는 곡률을 가지는 호 형태로 구비될 수 있다. The
기단부(530)는 연결부(520)와 직접적으로 연결되는 제1기단부(530a)와, 연결부(520)의 반대측에 위치하며 연결부(520)와는 직접적으로 연결되지 않는 제2기단부(530b)를 포함하여 구성된다. 제1기단부(530a)는 연결부(520)와 연결되어 연결부(520)를 지지하는 기능을 수행하며 평면으로 구성될 수 있다. 제1기단부(530a)는 전기 전도성 접촉핀(500)의 바디(150) 우측으로 돌출되어 구성되고 제2기단부(530b)는 전기 전도성 접촉핀(500)의 바디(150) 좌측으로 돌출되어 구성되어 제1기단부(530a)와 제2기단부(530b)의 각각의 하면은 상부 가이드 플레이트(GP1)의 상면에 지지된다. 이를 통해 전기 전도성 접촉핀(500)이 상부 가이드 플레이트(GP1)에 지지되도록 함으로써 전기 전도성 접촉핀(500)이 상부 가이드 플레이트(GP1)로부터 낙하되지 않도록 한다. The
한편, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)은 바디(150) 뿐만 아니라 선단부(510), 연결부(520) 및 기단부(530)에도 형성된다. 선단부(510)가 접속대상물과 접촉할 때, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)이 접속대상물과 동시에 접촉되어 접촉부위에서 높은 내마모성과 전기 전도도를 확보할 수 있게 된다. Meanwhile, the
제6실시예
다음으로, 본 발명에 따른 제6실시예에 대해 살펴본다. 단, 이하 설명되는 실시예들은 상기 제1실시예와 비교하여 특징적인 구성요소들을 중심으로 설명하겠으며, 제1실시예와 동일하거나 유사한 구성요소들에 대한 설명은 되도록이면 생략한다.Next, we will look at the sixth embodiment according to the present invention. However, the embodiments described below will be described focusing on characteristic components compared to the first embodiment, and descriptions of components that are the same or similar to the first embodiment will be omitted if possible.
이하, 도 11을 참조하여, 본 발명의 바람직한 제6실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(600)에 대해 설명한다. 도 11은 본 발명의 바람직한 제6실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(600)을 도시한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIG. 11, the electrically
본 발명의 바람직한 제6실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(600)은, 두께 방향으로 관통하는 내부 공간을 가지고 측부가 절개되어 내부 공간을 부분적으로 감싸는 기둥부로 구성되는 개방형 탄성부로 구성된다는 점에서, 밀폐형 탄성부(110a)로 구성되는 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)의 구성과 차이가 있다.The electrically
제6실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(600)은, 그 일단부가 바디(150)의 상부에 구비되는 기단부(630)와, 기단부(630)에 일단이 연결되고 타단은 자유단으로 구성되는 캔틸레버 빔(610)을 포함하여 내부 공간을 부분적으로 감싸는 기둥부로 구성되는 개방형 탄성부를 구성한다.The electrically
기단부(630)는 바디(150)의 일측 측면으로 돌출되는 부분을 포함하며 돌출된 부분은 상부 가이드 플레이트(GP1)의 상면에 지지되어 전기 전도성 접촉핀(600)이 상부 가이드 플레이트(GP1)로부터 탈락되지 않도록 하는 걸림턱 기능을 수행한다.The
캔틸레버 빔(610)은 접속대상물과의 접촉 시 탄성 변형되는 구조로서, 기단부(630)의 폭 방향을 기준으로 기단부(630)의 일측에서 일단이 기단부(630)와 연결되고 타단이 기단부(630)의 타측을 향해 연장되는 형태로 구성된다. The
한편, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)은 바디(150) 뿐만 아니라 기단부(630) 및 캔틸레버 빔(610)에도 형성된다. 캔틸레버 빔(610)이 접속대상물과 접촉할 때, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)이 접속대상물과 동시에 접촉되어 접촉부위에서 높은 내마모성과 전기 전도도를 확보할 수 있게 된다. Meanwhile, the
제조방법Manufacturing method
이하에서는, 도 12를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들에 따른 전기 전도성 접촉핀(100, 200, 300, 400, 500, 600)의 제조방법에 대해 설명한다. 다만 도 12에 도시된 전기 전도성 접촉핀(100)은 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은 예시하여 도시하는 것이며, 다른 실시예들에 따른 전기 전도성 접촉핀들(200, 300, 400, 500, 600)도 이하에서 설명하는 제조방법과 동일한 제조방법에 의해 제조된다. Hereinafter, a method of manufacturing the electrically conductive contact pins 100, 200, 300, 400, 500, and 600 according to preferred embodiments of the present invention will be described with reference to FIG. 12. However, the electrically
도 12를 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)의 제조 방법에 대해 살펴본다. With reference to FIG. 12, a method of manufacturing the electrically
도 12a는 에칭 공간(IH)이 형성된 몰드(M)의 평면도이고, 도 12b는 도 8a의 A-A’단면도이다. 몰드(M)는 양극산화막, 포토레지스트, 실리콘 웨이퍼 또는 이와 유사한 재질로 구성될 있다. 다만, 본 발명의 보다 바람직한 실시예에 따른 몰드(M)는 양극산화막 재질로 구성될 수 있다. 따라서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은 구조상의 이점에 의해 발휘되는 효과이외에 양극산화막 재질의 몰드(M)를 이용하여 제작됨에 따라 발휘되는 효과도 가지게 된다. 이하에서는 바람직한 몰드(M)로서 양극산화막 재질의 몰드(M)를 기준으로 설명한다. FIG. 12A is a plan view of the mold M in which the etching space IH is formed, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 8A. The mold (M) may be composed of an anodized film, photoresist, silicon wafer, or similar materials. However, the mold M according to a more preferred embodiment of the present invention may be made of an anodic oxide film material. Therefore, the electrically
양극산화막은 모재인 금속을 양극산화하여 형성된 막을 의미하고, 포어는 금속을 양극산화하여 양극산화막을 형성하는 과정에서 형성되는 구멍을 의미한다. 예컨대, 모재인 금속이 알루미늄(Al) 또는 알루미늄 합금인 경우, 모재를 양극산화하면 모재의 표면에 알루미늄 산화물(Al203) 재질의 양극산화막이 형성된다. 다만 모재 금속은 이에 한정되는 것은 아니며, Ta, Nb, Ti, Zr, Hf, Zn, W, Sb 또는 이들의 합금을 포함한다, 위와 같이 형성된 양극산화막은 수직적으로 내부에 포어가 형성되지 않은 배리어층과, 내부에 포어가 형성된 다공층으로 구분된다. 배리어층과 다공층을 갖는 양극산화막이 표면에 형성된 모재에서, 모재를 제거하게 되면, 알루미늄 산화물(Al203) 재질의 양극산화막만이 남게 된다. 양극산화막은 양극산화시 형성된 배리어층이 제거되어 포어의 상, 하로 관통되는 구조로 형성되거나 양극산화시 형성된 배리어층이 그대로 남아 포어의 상, 하 중 일단부를 밀폐하는 구조로 형성될 수 있다. An anodic oxide film refers to a film formed by anodizing a base metal, and a pore refers to a hole formed in the process of anodizing a metal to form an anodic oxide film. For example, when the base metal is aluminum (Al) or an aluminum alloy, when the base material is anodized, an anodic oxide film made of aluminum oxide (Al 2 0 3 ) is formed on the surface of the base material. However, the base metal is not limited to this and includes Ta, Nb, Ti, Zr, Hf, Zn, W, Sb, or alloys thereof. The anodic oxide film formed as above is a barrier layer in which no pores are formed vertically. It is divided into a porous layer with pores formed inside. When the base material is removed from a base material on which an anodic oxide film having a barrier layer and a porous layer is formed on the surface, only an anodic oxide film made of aluminum oxide (Al 2 0 3 ) remains. The anodic oxidation film may be formed in a structure that penetrates the top and bottom of the pore by removing the barrier layer formed during anodization, or may be formed in a structure that seals the top and bottom ends of the pore while the barrier layer formed during anodization remains intact.
양극산화막은 2~3ppm/℃의 열팽창 계수를 갖는다. 이로 인해 고온의 환경에 노출될 경우, 온도에 의한 열변형이 적다. 따라서 전기 전도성 접촉핀(100)의 제작 환경에 비록 고온 환경이라 하더라도 열 변형없이 정밀한 전기 전도성 접촉핀(100)을 제작할 수 있다. The anodic oxide film has a thermal expansion coefficient of 2~3ppm/℃. For this reason, when exposed to a high temperature environment, thermal deformation due to temperature is small. Therefore, even if the production environment for the electrically
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은 포토 레지스트 재질의 몰드(M) 대신에 양극산화막 재질의 몰드(M)를 이용하여 제조된다는 점에서 포토 레지스트 재질의 몰드(M)로는 구현하는데 한계가 있었던 형상의 정밀도, 미세 형상의 구현의 효과를 발휘할 수 있게 된다. 또한 기존의 포토 레지스트 재질의 몰드(M)의 경우에는 40㎛ 두께 수준의 전기 전도성 접촉핀을 제작할 수 있으나 양극산화막 재질의 몰드(M)를 이용할 경우에는 40㎛ 이상에서 200㎛ 이하의 두께를 가지는 전기 전도성 접촉핀(100)을 제작할 수 있게 된다.Since the electrically
몰드(M)의 하면에는 시드층(SL)이 구비된다. 시드층(SL)은 몰드(M)에 에칭 공간(IH)을 형성하기 이전에 몰드(M)의 하면에 구비될 수 있다. 한편 몰드(M)의 하부에는 지지기판(미도시)이 형성되어 몰드(M)의 취급성을 향상시킬 수 있다. 또한 이 경우 지지기판의 상면에 시드층(SL)을 형성하고 에칭 공간(IH)이 형성된 몰드(M)를 지지기판에 결합하여 사용할 수도 있다. 시드층(SL)은 구리(Cu)재질로 형성될 수 있고, 증착 방법에 의해 형성될 수 있다. A seed layer (SL) is provided on the lower surface of the mold (M). The seed layer SL may be provided on the lower surface of the mold M before forming the etching space IH in the mold M. Meanwhile, a support substrate (not shown) is formed at the bottom of the mold (M) to improve the handling of the mold (M). Also, in this case, the seed layer (SL) may be formed on the upper surface of the support substrate, and the mold (M) in which the etching space (IH) is formed may be used by combining the mold (M) with the support substrate. The seed layer SL may be made of copper (Cu) material and may be formed by a deposition method.
에칭 공간(IH)은 양극산화막 재질의 몰드(M)의 일부 영역을 습식 에칭하여 형성될 수 있다. 이를 위해 몰드(M)의 상면에 포토 레지스트를 구비하고 이를 패터닝한 다음, 패터닝되어 오픈된 영역의 양극산화막이 에칭 용액과 반응하여 에칭 공간(IH)이 형성될 수 있다. The etching space IH may be formed by wet etching a partial area of the mold M made of an anodized film. To this end, a photo resist is provided on the upper surface of the mold M and patterned, and then the anodic oxide film in the patterned open area reacts with the etching solution to form an etching space IH.
그 다음, 몰드(M)의 에칭 공간(IH)에 전기 도금 공정을 수행하여 전기 전도성 접촉핀(100)를 형성한다. 도 12c는 에칭 공간(IH)에 전기 도금 공정을 수행하여 것을 도시한 평면도이고, 도 12d는 도 12c의 A-A’단면도이다. Next, an electroplating process is performed on the etching space (IH) of the mold (M) to form the electrically
몰드(M)의 두께 방향으로 금속층이 성장하면서 형성되기 때문에, 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로의 각 단면에서의 형상이 동일하다. 또한, 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 복수 개의 금속층이 적층되어 구비된다. 복수개의 금속층은, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)을 포함한다. 제1금속층(160)은 제2금속층(180)에 비해 상대적으로 내마모성이 높은 금속으로서 바람직하게는, 로듐(Rd), 백금 (Pt), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 니켈(Ni), 망간(Mn), 텅스텐(W), 인(Ph) 이나 이들의 합금, 또는 팔라듐-코발트(PdCo) 합금, 팔라듐-니켈(PdNi) 합금 또는 니켈-인(NiPh) 합금, 니켈-망간(NiMn), 니켈-코발트(NiCo) 또는 니켈-텅스텐(NiW) 합금 중에서 선택된 금속으로 형성될 수 있다. 제2금속층(180)은 제1금속층(160)에 비해 상대적으로 전기 전도도가 높은 금속으로서 바람직하게는, 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au) 또는 이들의 합금 중에서 선택된 금속으로 형성될 수 있다. Since the metal layer is formed while growing in the thickness direction of the mold (M), the shape of each cross section in the thickness direction of the electrically
제1금속층(160)은 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 하면과 상면에 구비되고 제2금속층(180)은 제1금속층(160) 사이에 구비된다. 예를 들어, 전기 전도성 접촉핀(100)은 제1금속층(160), 제2금속층(180), 제1금속층(160) 순으로 교대로 적층되어 구비되며, 적층되는 층수는 3층 이상으로 구성될 수 있다. The
한편, 도금 공정이 완료된 이후에, 고온으로 승온한 후 압력을 가해 도금 공정이 완료된 금속층을 눌러줌으로써 제1금속층(160) 및 제2금속층(180)이 보다 고밀화되도록 할 수 있다. 포토레지스트 재질을 몰드(M)로 이용할 경우, 도금 공정이 완료된 이후의 금속층 주변에는 포토레지스트가 존재하므로 고온으로 승온하여 압력을 가하는 공정을 수행할 수 없다. 이와는 다르게, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면 도금 공정이 완료된 금속층의 주변으로는 양극산화막 재질의 몰드(M)가 구비되어 있기 때문에 고온으로 승온하더라도 양극산화막의 낮은 열 팽창계수로 인해 변형을 최소화하면서 제1금속층(160) 및 제2금속층(180)을 고밀화시키는 것이 가능하다. 따라서 포토레지스트를 몰드(M)로 이용하는 기술에 비해 보다 고밀화된 제1금속층(160) 및 제2금속층(180)을 얻는 것이 가능하게 된다.Meanwhile, after the plating process is completed, the
전기 도금 공정이 완료가 되면, 몰드(M)와 시드층(SL)을 제거하는 공정을 수행한다. 몰드(M)가 양극산화막 재질인 경우에는 양극산화막 재질에 선택적으로 반응하는 용액을 이용하여 몰드(M)를 제거한다. 또한 시드층(SL)이 구리(Cu) 재질인 경우에는 구리(Cu)에 선택적으로 반응하는 용액을 이용하여 시드층(SL)을 제거한다.When the electroplating process is completed, a process to remove the mold (M) and the seed layer (SL) is performed. If the mold (M) is made of an anodic oxide film material, the mold (M) is removed using a solution that selectively reacts with the anodic oxide film material. Additionally, if the seed layer (SL) is made of copper (Cu), the seed layer (SL) is removed using a solution that selectively reacts with copper (Cu).
포토 레지스트를 몰드(M)로 이용하여 전기 도금하여 핀을 제조하는 기술에 따르면, 단일층의 포토 레지스트 만으로 몰드(M)의 높이를 충분히 높게 하는 것이 어렵다. 그로 인해 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 역시 충분히 두껍게 할 수 없게 된다. 전기전도성, 복원력 및 취성 파괴 등을 고려하여 전기 전도성 접촉핀(100)은 소정의 두께 이상으로 제작될 필요가 있다. 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께를 두껍게 하기 위해 포토 레지스트를 다단으로 적층한 몰드(M)를 이용할 수 있다. 하지만 이 경우에는 포토 레지시트 각 층별로 미세하게 단차지게 되어 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면이 수직하게 형성되지 않고 단차진 영역이 미세하게 남는 문제점이 발생하게 된다. 또한, 포토 레지스트를 다단으로 적층할 경우에는, 수 내지 수십 ㎛ 이하의 치수 범위를 가지는 전기 전도성 접촉핀(100)의 형상을 정밀하게 재현하는 것이 어렵다는 문제점이 발생하게 된다. 특히 포토 레지스트 재질의 몰드(M)는 그 내부 공간과 내부 공간 사이에 포토 레지스트가 구비되는데, 내부 공간들 사이에 구비되는 포토 레지스트의 폭이 15㎛이하인 경우에는, 포토 레지스트가 제대로 형성되지 않으며, 특히 폭 대비 높이가 큰 경우에는 해당 위치의 포토 레지스트의 기립 상태가 제대로 유지되지 못하는 문제가 발생하게 된다. According to the technology of manufacturing pins by electroplating using photoresist as a mold (M), it is difficult to make the height of the mold (M) sufficiently high with only a single layer of photoresist. As a result, the thickness of the electrically
도 13을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은, 그 측면에 형성된 미세 트렌치(88)를 포함한다. 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에는 그 깊이가 20㎚ 이상 1㎛이하의 산과 골이 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향에 수직한 방향으로 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면을 따라 반복되는 주름진 형태의 미세 트렌치(88)가 형성된다.Referring to FIG. 13, the electrically
미세 트렌치(88)는 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에서 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 길게 연장되어 형성된다. 다시 말해 미세 트렌치(88)의 산과 골의 연장 방향이 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향이 된다. 여기서 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향은 전기 도금 시 금속 충진물이 성장하는 방향을 의미한다. The
전기 전도성 접촉핀(100)을 구성하는 판상 플레이트의 측면에서, 미세 트렌치(88)는 판상 플레이트의 두께 방향에 수직한 방향으로 산과 골이 반복되는 주름진 형태로 구성된다. On the side of the plate-shaped plate constituting the electrically
미세 트렌치(88)는 그 깊이가 20㎚ 이상 1㎛이하의 범위를 가지며, 그 폭 역시 20㎚ 이상 1㎛이하의 범위를 가진다. 여기서 미세 트렌치(88)는 양극산화막 몰드(M)의 제조시 형성된 포어에 기인한 것이기 때문에 미세 트렌치(88)의 폭과 깊이는 양극산화막 몰드(M)의 포어의 직경의 범위 이하의 값을 가진다. 한편, 양극산화막 몰드(M)에 에칭 공간(IH)을 형성하는 과정에서 에칭 용액에 의해 양극산화막 몰드(M)의 포어의 일부가 서로 뭉개지면서 양극산화시 형성된 포어의 직경의 범위보다 보다 큰 범위의 깊이를 가지는 미세 트렌치(88)가 적어도 일부 형성될 수 있다. The
양극산화막 몰드(M)는 수많은 포어들을 포함하고 이러한 양극산화막 몰드(M)의 적어도 일부를 에칭하여 에칭 공간(IH)을 형성하고, 에칭 공간(IH) 내부로 전기 도금으로 전기 전도성 접촉핀(100)을 제작하므로, 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에는 양극산화막 몰드(M)의 포어와 접촉하면서 형성되는 미세 트렌치(88)가 구비되는 것이다. The anodic oxide film mold (M) includes numerous pores, and at least a portion of the anodic oxide film mold (M) is etched to form an etching space (IH), and an electrically conductive contact pin (100) is formed by electroplating into the etching space (IH). ) is manufactured, the side of the electrically
위와 같은 미세 트렌치(88)는 그 깊이가 20㎚ 이상 1㎛이하의 산과 골이 두께 방향에 수직한 방향으로 반복되는 주름진 형태가 되므로, 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에 있어서 표면적을 크게 할 수 있는 효과를 가진다. 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에 형성되는 미세 트렌치(88)의 구성을 통해, 스킨 효과(skin effect)에 따라 전류가 흐르는 표면적을 증대시켜 전기 전도성 접촉핀(100)를 따라 흐르는 전류의 밀도가 증가되어 전기 전도성 접촉핀(100)의 전기적인 특성(특히, 고주파 특성)을 향상시킬 수 있다. 또한, 미세 트렌치(88)의 구성을 통해 전기 전도성 접촉핀(100)에서 발생한 열을 빠르게 방출할 수 있으므로 전기 전도성 접촉핀(100)의 온도 상승을 억제할 수 있게 된다.The
전술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 통상의 기술자는 하기의 특허 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변형하여 실시할 수 있다.As described above, although the present invention has been described with reference to preferred embodiments, those skilled in the art may modify the present invention in various ways without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the following patent claims. Alternatively, it can be carried out in modification.
100: 전기 전도성 접촉핀 110a:탄성부
130: 걸림턱 150: 바디
155: 굴곡부 160: 제1금속층
180: 제2금속층100: electrically
130: Locking jaw 150: Body
155: Bend portion 160: First metal layer
180: second metal layer
Claims (14)
상기 전기 전도성 접촉핀이 삽입되는 가이드홀을 구비하는 가이드 플레이트;를 포함하되,
상기 가이드 플레이트를 상기 검사장치 측에 설치한 상태에서 상기 일단부가 상기 검사장치의 접속 패드에 의해 가압되어 압축변형되어 상기 일단부가 상기 검사장치의 접속 패드에 항상 접촉상태를 유지하도록 상기 일단부는 상기 가이드 플레이트와 상기 검사장치의 접속 패드 사이에 탄성부를 구비하고,
상기 전기 전도성 접촉핀 및 상기 탄성부는, 두께 방향으로 적층되어 구비되는 제1금속층 및 제2금속층을 포함하고,
상기 제1금속층은 상기 제2금속층보다 내마모성이 높은 금속이고, 상기 제2금속층은 상기 제1금속층보다 전기 전도도가 높은 금속이며,
상기 제1금속층 및 상기 제2금속층은 검사장치에 동시에 접촉되고, 상기 제1금속층 및 상기 제2금속층은 검사대상물에 동시에 접촉되는, 검사장치.
An electrically conductive contact pin that has one end in contact with the connection pad of the inspection device and the other end in contact with the connection pad of the inspection object to inspect the inspection object; and
Including a guide plate having a guide hole into which the electrically conductive contact pin is inserted,
In a state where the guide plate is installed on the inspection device side, the one end is compressed and deformed by being pressed by the connection pad of the inspection device, so that the one end is always maintained in contact with the connection pad of the inspection device. An elastic portion is provided between the plate and the connection pad of the inspection device,
The electrically conductive contact pin and the elastic portion include a first metal layer and a second metal layer that are stacked in the thickness direction,
The first metal layer is a metal with higher wear resistance than the second metal layer, and the second metal layer is a metal with higher electrical conductivity than the first metal layer,
The first metal layer and the second metal layer are simultaneously contacted with the inspection device, and the first metal layer and the second metal layer are simultaneously contacted with the inspection object.
상기 가이드 플레이트는,
상부 가이드 플레이트; 및
상기 상부 가이드 플레이트와 이격되어 구비되는 하부 가이드 플레이트;를 포함하되,
상기 전기 전도성 접촉핀은 상기 상부 가이드 플레이트와 상기 하부 가이드 플레이트 사이에서 측 방향으로 탄성 변형되는, 검사 장치.
According to paragraph 1,
The guide plate is,
upper guide plate; and
Including a lower guide plate provided to be spaced apart from the upper guide plate,
The electrically conductive contact pin is elastically deformed in the lateral direction between the upper guide plate and the lower guide plate.
상기 전기 전도성 접촉핀은, 종 방향으로 길이를 가지고, 횡 방향으로 폭을 가지고, 종 방향 및 횡 방향의 직각 방향으로 두께를 가지며,
상기 탄성부를 포함하는 일단부의 두께는 상기 탄성부를 제외한 상기 전기 전도성 접촉핀의 나머지의 두께와 동일한, 검사 장치.
According to paragraph 1,
The electrically conductive contact pin has a length in the longitudinal direction, a width in the transverse direction, and a thickness in a direction perpendicular to the longitudinal and transverse directions,
The thickness of one end including the elastic portion is the same as the thickness of the rest of the electrically conductive contact pin excluding the elastic portion.
상기 탄성부는 두께 방향으로 관통하는 내부 공간을 가지고 상기 내부 공간을 전체적으로 감싸는 기둥부로 구성되는 밀폐형 탄성부인, 검사 장치.
According to paragraph 3,
The elastic part is a sealed elastic part that has an internal space penetrating in the thickness direction and is composed of a column part that entirely surrounds the internal space.
상기 탄성부는 두께 방향으로 관통하는 내부 공간을 가지고 상부 또는 측부가 절개되어 상기 내부 공간을 부분적으로 감싸는 기둥부로 구성되는 개방형 탄성부인, 검사 장치.
According to paragraph 3,
The elastic part is an open elastic part that has an internal space penetrating in the thickness direction and is composed of a pillar part that is cut at the top or side and partially surrounds the internal space.
상기 전기 전도성 접촉핀을 상기 검사장치 측에 설치한 상태에서 상기 일단부가 상기 검사장치의 접속 패드에 의해 가압되어 압축변형되어 상기 일단부가 상기 검사장치의 접속 패드에 항상 접촉상태를 유지하도록 상기 일단부는 가이드 플레이트와 상기 검사장치의 접속 패드 사이에 탄성부를 구비하고,
상기 전기 전도성 접촉핀 및 상기 탄성부는, 두께 방향으로 적층되어 구비되는 제1금속층 및 제2금속층을 포함하고,
상기 제1금속층은 상기 제2금속층보다 내마모성이 높은 금속이고, 상기 제2금속층은 상기 제1금속층보다 전기 전도도가 높은 금속이며,
상기 제1금속층 및 상기 제2금속층은 검사장치에 동시에 접촉되고, 상기 제1금속층 및 상기 제2금속층은 검사대상물에 동시에 접촉되는, 전기 전도성 접촉핀.
In an electrically conductive contact pin that has one end in contact with the connection pad of an inspection device and the other end in contact with the connection pad of the inspection object to inspect the inspection object,
In a state where the electrically conductive contact pin is installed on the inspection device side, the one end portion is compressed and deformed by being pressed by the connection pad of the inspection device, so that the one end portion is always maintained in contact with the connection pad of the inspection device. An elastic portion is provided between the guide plate and the connection pad of the inspection device,
The electrically conductive contact pin and the elastic portion include a first metal layer and a second metal layer that are stacked in the thickness direction,
The first metal layer is a metal with higher wear resistance than the second metal layer, and the second metal layer is a metal with higher electrical conductivity than the first metal layer,
The first metal layer and the second metal layer are simultaneously in contact with an inspection device, and the first metal layer and the second metal layer are in simultaneous contact with an inspection object.
상기 일단부는, 내부 공간이 구비된 밀폐형 탄성부로 구성되는, 전기 전도성 접촉핀.
According to clause 6,
An electrically conductive contact pin, wherein the one end is comprised of a closed elastic portion with an internal space.
상기 일단부는, 내부 공간이 구비된 밀폐형 탄성부와 상기 탄성부의 상부에 평면으로 구성되는 접촉평면부로 구성되는, 전기 전도성 접촉핀.
According to clause 6,
The one end portion is an electrically conductive contact pin composed of a sealed elastic portion provided with an internal space and a contact plane portion configured as a plane on an upper portion of the elastic portion.
상기 일단부는, 내부 공간이 구비되되 상부가 절개되어 적어도 2개 이상의 접촉부위를 구비하는 탄성부로 구성되는, 전기 전도성 접촉핀.
According to clause 6,
An electrically conductive contact pin, wherein the one end is composed of an elastic portion having an internal space and an upper portion having at least two contact portions.
상기 일단부는, 내부 공간이 구비되되 상부가 절개되어 적어도 2개 이상의 접촉부위가 구비되는 탄성부와 상기 탄성부의 상부에 평면으로 구성되는 접촉평면부로 구성되는, 전기 전도성 접촉핀.
According to clause 6,
An electrically conductive contact pin, wherein the one end is composed of an elastic portion having an internal space and an upper portion having at least two contact portions, and a contact plane portion formed as a plane on the upper portion of the elastic portion.
상기 일단부는, 내부 공간이 구비되되 측부가 절개된 탄성부로 구성되는, 전기 전도성 접촉핀.
According to clause 6,
An electrically conductive contact pin, wherein the one end is provided with an internal space and is composed of an elastic portion with a cut side.
상기 일단부는, 상기 일단부가 상기 가이드 플레이트의 가이드 구멍을 통과하지 못하도록 상기 가이드 구멍의 크기보다 크게 형성된 걸림턱을 포함하고, 상기 탄성부는 상기 걸림턱 상부에 위치하는, 전기 전도성 접촉핀.
According to clause 6,
The one end portion includes a locking protrusion larger than the size of the guide hole to prevent the one end portion from passing through the guide hole of the guide plate, and the elastic portion is located on an upper portion of the locking protrusion.
상기 전기 전도성 접촉핀은, 복수개의 금속층이 상기 전기 전도성 접촉핀의 두께 방향으로 적층되어 형성되는, 전기 전도성 접촉핀.
According to clause 6,
The electrically conductive contact pin is formed by stacking a plurality of metal layers in the thickness direction of the electrically conductive contact pin.
상기 전기 전도성 접촉핀은 그 측면에 구비되는 미세 트렌치를 포함하는, 전기 전도성 접촉핀.
According to clause 6,
The electrically conductive contact pin includes a fine trench provided on a side thereof.
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