KR102667483B1 - The Electro-conductive Contact Pin - Google Patents

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KR102667483B1
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박승호
홍창희
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Abstract

본 발명은 검사 대상물의 표면에 형성된 산화막층을 효과적으로 제거하면서도 검사 대상물의 표면이 손상되는 것을 최소화할 수 있는 전기 전도성 접촉핀을 제공한다. The present invention provides an electrically conductive contact pin that can effectively remove the oxide layer formed on the surface of an inspection object while minimizing damage to the surface of the inspection object.

Figure R1020210132058
Figure R1020210132058

Description

전기 전도성 접촉핀{The Electro-conductive Contact Pin}The Electro-conductive Contact Pin}

본 발명은 전기 전도성 접촉핀에 관한 것이다.The present invention relates to electrically conductive contact pins.

도 1a은 종래기술에 따른 프로브 카드(1)를 개략적으로 도시한 도이다. 도 1b는 종래기술에 따른 프로브 핀(7)의 통전 상태를 도시한 도면이다.Figure 1a is a diagram schematically showing a probe card 1 according to the prior art. Figure 1b is a diagram showing the energized state of the probe pin 7 according to the prior art.

일반적으로 프로브 카드(1)는, 회로기판(2), 회로기판(2)의 하측에 구비되는 공간변환기(3) 및 공간변환기(3)의 하측에 구비되는 프로브 헤드(7)를 포함하여 구성된다.In general, the probe card 1 includes a circuit board 2, a spatial converter 3 provided below the circuit board 2, and a probe head 7 provided below the spatial converter 3. do.

프로브 헤드(7)는 다수의 프로브 핀(7)과 프로브 핀(7)이 삽입되는 가이드 구멍을 구비하는 가이드 플레이트(5,6)를 포함한다. 프로브 헤드(7)는 상부 가이드 플레이트(5) 및 하부 가이드 플레이트(6)를 포함하며, 상부 가이드 플레이트(5) 및 하부 가이드 플레이트(6)는 스페이서를 통해 고정 설치된다. 프로브 핀(7)은 상부 가이드 플레이트(5) 및 하부 가이드 플레이트(6)사이에서 수직방향 설치된 후 수평방향으로 탄성 변형하는 구조로서, 이러한 프로브 핀(7)을 채택하여 수직형 프로브 카드(1)를 구성한다. The probe head 7 includes guide plates 5 and 6 having a plurality of probe pins 7 and guide holes into which the probe pins 7 are inserted. The probe head 7 includes an upper guide plate 5 and a lower guide plate 6, and the upper guide plate 5 and lower guide plate 6 are fixedly installed through spacers. The probe pin (7) is a structure that is installed vertically between the upper guide plate (5) and the lower guide plate (6) and then elastically deforms in the horizontal direction. By adopting this probe pin (7), the vertical probe card (1) constitutes.

반도체 소자의 전기적 특성 시험은 다수의 프로브 핀(7)을 형성한 프로브 카드(1)에 반도체 웨이퍼(W)를 접근해 각 프로브 핀(7)을 반도체 웨이퍼(W)상의 대응하는 전극 패드(WP)에 접촉시킴으로써 수행된다. 프로브 핀(7)이 전극 패드(WP)에 접촉되는 위치까지 도달한 다음, 프로브 카드(1) 측으로 웨이퍼(W)를 소정높이 추가 상승시키는 오버 드라이브 과정을 수행한다. 다수의 프로브 핀(7)들은 제조공정 상의 오차로 인해 길이 차이가 있고, 가이드 플레이트(5,6) 및 공간변환기(3)의 평탄도가 미세하게 차이가 있고 전극 패드(WP)들 간에도 높이 차가 있기 때문에, 오버 드라이브 과정이 필연적으로 필요하다. 또한, 모든 프로브 핀(7)들에 대해 양호한 전기적 및 기계적 접촉을 보장하도록 하기 위해서는 충분한 상승 스트로크를 가지는 오버 드라이브가 필요하다.To test the electrical properties of a semiconductor device, a semiconductor wafer (W) is approached to the probe card (1) on which a plurality of probe pins (7) are formed, and each probe pin (7) is connected to the corresponding electrode pad (WP) on the semiconductor wafer (W). ) is carried out by contacting the After the probe pin 7 reaches the position where it contacts the electrode pad WP, an overdrive process is performed to further raise the wafer W to a predetermined height toward the probe card 1. The plurality of probe pins (7) have length differences due to errors in the manufacturing process, the flatness of the guide plates (5, 6) and the spatial converter (3) differ slightly, and there are height differences between the electrode pads (WP). Because of this, an overdrive process is inevitably necessary. Additionally, an overdrive with sufficient lift stroke is required to ensure good electrical and mechanical contact to all probe pins 7.

도 1b에 도시된 바와 같이, 오버 드라이브 과정에서 프로브 핀(7)의 단부는 전극 패드(WP)의 표면상에 형성된 산화막층(8)을 뚫고 전극 패드(WP)의 전도성 물질층과 전기적으로 접속되어 프로브 핀(7)은 통전 가능한 상태가 된다. 그러나 검사 장치에 있어서 프로브 핀(7)과 전도성 물질층 사이에 전기적 접점이 유지되도록 하기 위해 특정 레벨 이상의 접점 압력이 요구된다. 프로브 핀(7)의 접점은 높은 접촉 압력 상태에서 산화막층(8)을 제거하는데, 이때에 과도한 접촉압력에 의해 전극 패드(WP)의 표면 상에 큰 오목부를 형성하게 된다. 이러한 큰 오목부는 반도체 소자의 본딩 공정에서 접속불량을 야기하고 과도하게 발생한 부스러기(shavings)들이 프로브 핀(7)의 단부에 달라붙어 접촉저항을 증가시키는 문제를 야기한다. As shown in Figure 1b, during the overdrive process, the end of the probe pin 7 penetrates the oxide layer 8 formed on the surface of the electrode pad WP and is electrically connected to the conductive material layer of the electrode pad WP. Thus, the probe pin 7 becomes capable of conducting electricity. However, in the inspection device, a contact pressure above a certain level is required to maintain electrical contact between the probe pin 7 and the conductive material layer. The contact point of the probe pin 7 removes the oxide film layer 8 under high contact pressure, and at this time, a large concave portion is formed on the surface of the electrode pad WP due to excessive contact pressure. These large concavities cause connection failures in the bonding process of semiconductor devices and cause excessive shavings to stick to the ends of the probe pins 7, increasing contact resistance.

등록번호 제10-1913355호 등록특허공보Registration No. 10-1913355 Registered Patent Gazette

본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명은 검사 대상물의 표면에 형성된 산화막층을 효과적으로 제거하면서도 검사 대상물의 표면이 손상되는 것을 최소화할 수 있는 전기 전도성 접촉핀을 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention was made to solve the problems of the prior art described above. The present invention provides an electrically conductive contact pin that can effectively remove the oxide layer formed on the surface of the inspection object while minimizing damage to the surface of the inspection object. The purpose is to do so.

본 발명의 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 전기 전도성 접촉핀은, 전기를 인가하여 검사 대상물의 불량 여부를 확인하기 위한 검사장치에 구비되어 검사 대상물과 전기적, 물리적으로 접촉하여 전기적 신호를 전달하는데 사용되는 전도성 접촉핀에 있어서, 내측에 가이드부가 마련된 공간부를 구비하는 바디부; 및 상기 공간부에 적어도 일부가 삽입되어 이동가능하게 구비되는 이동 팁부;를 포함하되, 상기 이동 팁부의 머리부는 상기 가이드부에 슬라이딩되어 상기 이동 팁부의 접속부가 와이핑 동작을 한다.In order to achieve the purpose of the present invention, the electrically conductive contact pin according to the present invention is provided in an inspection device to determine whether an inspection object is defective by applying electricity and makes electrical and physical contact with the inspection object to transmit an electrical signal. In the conductive contact pin used for: a body portion having a space portion provided with a guide portion on the inside; and a movable tip portion at least partially inserted into the space and movably provided, wherein the head portion of the movable tip portion slides on the guide portion so that the connection portion of the movable tip portion performs a wiping operation.

또한, 상기 바디부와 상기 이동 팁부를 탄력적으로 연결하는 연결부를 포함한다.In addition, it includes a connection part that elastically connects the body part and the moving tip part.

또한, 상기 연결부는 상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 압축되고 상기 이동 팁부에 가압력이 해제되면 복원된다.Additionally, the connecting portion is compressed when a pressing force is applied to the connecting portion of the moving tip portion and is restored when the pressing force is released from the moving tip portion.

또한, 상기 연결부는 상기 공간부에 구비되어 상기 바디부와 상기 이동 팁부를 연결한다.Additionally, the connection portion is provided in the space portion and connects the body portion and the moving tip portion.

또한, 상기 연결부는 상기 바디부의 외측에서 구비되어 상기 바디부와 상기 이동 팁부를 연결한다.Additionally, the connection portion is provided outside the body portion and connects the body portion and the moving tip portion.

또한, 상기 바디부의 탄성부와 상기 이동 팁부를 탄력적으로 연결하는 연결부를 포함한다.In addition, it includes a connection part that elastically connects the elastic part of the body part and the moving tip part.

또한, 상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 이동 팁부의 머리부는 상기 가이드부에 접촉되어 슬라이딩 이동하며 상기 머리부의 이동 방향은 상기 가압력의 축선 방향과 일치하지 않는다.In addition, when a pressing force is applied to the connection part of the moving tip part, the head of the moving tip part contacts the guide part and slides, and the moving direction of the head does not coincide with the axial direction of the pressing force.

또한, 상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 이동 팁부의 머리부는 상기 가이드부에 접촉되어 상기 가이드부를 따라 이동하면서 상기 이동 팁부가 틸팅된다.Additionally, when a pressing force is applied to the connection portion of the movable tip portion, the head portion of the movable tip portion is in contact with the guide portion and moves along the guide portion, thereby tilting the movable tip portion.

또한, 상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 이동 팁부의 머리부는 상기 가이드부에 접촉되어 상기 가이드부를 따라 이동하면서 상기 이동 팁부의 접속부가 수평이동한다.In addition, when a pressing force is applied to the connection part of the movable tip part, the head of the movable tip part contacts the guide part and moves along the guide part, and the connection part of the movable tip part moves horizontally.

한편, 본 발명에 따른 전기 전도성 접촉핀은, 전기를 인가하여 검사 대상물의 불량 여부를 확인하기 위한 검사장치에 구비되어 검사 대상물과 전기적, 물리적으로 접촉하여 전기적 신호를 전달하는데 사용되는 전도성 접촉핀에 있어서, 바디부; 및 상기 바디부의 단부측에서 상기 바디부 내부로 적어도 일부가 삽입되는 이동 팁부;를 포함하되, 상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 바디부 내부에 위치하는 이동 팁부의 적어도 일부는 상기 바디부의 내부와 슬라이딩 접촉되어 이동함에 따라 상기 이동 팁부의 접속부가 와이핑 동작을 한다.Meanwhile, the electrically conductive contact pin according to the present invention is a conductive contact pin used to transmit an electrical signal by electrically and physically contacting the inspection object by applying electricity to an inspection device to check whether the inspection object is defective. In the body part; and a movable tip portion at least partially inserted into the body portion from an end side of the body portion, wherein when a pressing force is applied to a connection portion of the movable tip portion, at least a portion of the movable tip portion located inside the body portion is connected to the body portion. As it moves in sliding contact with the inside, the connecting portion of the moving tip part performs a wiping operation.

한편, 본 발명에 따른 전기 전도성 접촉핀은, 전기를 인가하여 검사 대상물의 불량 여부를 확인하기 위한 검사장치에 구비되어 검사 대상물과 전기적, 물리적으로 접촉하여 전기적 신호를 전달하는데 사용되는 전도성 접촉핀에 있어서, 이동 팁부 및 바디부를 포함하되, 상기 이동 팁부는, 상기 전기 전도성 접촉핀의 제1단부측에 위치하는 제1이동 팁부; 및 상기 전기 전도성 접촉핀의 제2단부측에 위치하는 제2 이동 팁부;를 포함하고, 상기 바디부는, 상기 제1이동 팁부와 상기 제2이동 팁부가 상기 전기 전도성 접촉핀의 길이방향으로 탄력적으로 변위되도록 하는 탄성부; 및 상기 탄성부가 상기 전기 전도성 접촉핀의 길이방향으로 압축 및 신장되도록 안내하며, 상기 탄성부가 압축되면서 좌굴되는 것을 방지하도록 상기 전기 전도성 접촉핀의 길이 방향을 따라 상기 탄성부의 외측에 구비되는 지지부;를 포함하고, 상기 제2이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 지지부 내부에 위치하는 제2이동 팁부의 적어도 일부는 상기 지지부의 내부와 슬라이딩 접촉되어 이동함에 따라 상기 제2이동 팁부의 접속부가 와이핑 동작을 한다.Meanwhile, the electrically conductive contact pin according to the present invention is a conductive contact pin used to transmit an electrical signal by electrically and physically contacting the inspection object by applying electricity to an inspection device to check whether the inspection object is defective. The method includes: a movable tip portion and a body portion, wherein the movable tip portion includes: a first movable tip portion located on a first end side of the electrically conductive contact pin; and a second movable tip portion located on a second end side of the electrically conductive contact pin, wherein the body portion includes the first movable tip portion and the second movable tip portion elastically in the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin. an elastic portion that causes displacement; and a support portion provided on the outside of the elastic portion along the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin to guide the elastic portion to compress and expand in the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin and to prevent the elastic portion from buckling while being compressed. Included, when a pressing force is applied to the connection portion of the second movable tip portion, at least a portion of the second movable tip portion located inside the support portion moves in sliding contact with the inside of the support portion, and the connection portion of the second movable tip portion is wiped. Take action.

또한, 상기 탄성부는, 상기 제1이동 팁부에 연결되는 제1탄성부; 상기 제2이동 팁부에 연결되는 제2탄성부; 및 상기 제1탄성부와 상기 제2탄성부 사이에서 상기 제1탄성부 및 상기 제2탄성부와 연결되고 상기 지지부와 일체로 구비되는 중간 고정부;를 포함한다. Additionally, the elastic unit may include: a first elastic unit connected to the first moving tip unit; a second elastic portion connected to the second moving tip portion; and an intermediate fixing part connected to the first elastic part and the second elastic part between the first elastic part and the second elastic part and integrally provided with the support part.

또한, 상기 전기 전도성 접촉핀은, 복수개의 금속층이 상기 전기 전도성 접촉핀의 두께 방향으로 적층되어 형성된다.Additionally, the electrically conductive contact pin is formed by stacking a plurality of metal layers in the thickness direction of the electrically conductive contact pin.

또한, 상기 전기 전도성 접촉핀은 그 측면에 구비되는 미세 트렌치를 포함한다. Additionally, the electrically conductive contact pin includes a fine trench provided on its side.

본 발명은 검사 대상물의 표면에 형성된 산화막층을 효과적으로 제거하면서도 검사 대상물의 표면이 손상되는 것을 최소화할 수 있는 전기 전도성 접촉핀을 제공한다. The present invention provides an electrically conductive contact pin that can effectively remove the oxide layer formed on the surface of an inspection object while minimizing damage to the surface of the inspection object.

도 1a은 종래기술에 따른 프로브 카드를 개략적으로 도시한 도면
도 1b는 종래기술에 따른 프로브 핀의 통전 상태를 도시한 도면.
도 2는 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀이 구비된 프로브 헤드를 도시한 도면.
도 3 내지 도 7은 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 8은 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀의 제조방법을 설명하기 위한 도면.
도 9는 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 10은 본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 11은 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀을 도시한 도면.
도 12은 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀의 와이핑 동작을 도시한 도면.
Figure 1a is a diagram schematically showing a probe card according to the prior art.
Figure 1b is a diagram showing an energized state of a probe pin according to the prior art.
Figure 2 shows a probe head equipped with an electrically conductive contact pin according to a first preferred embodiment of the present invention.
3 to 7 are diagrams showing an electrically conductive contact pin according to a first preferred embodiment of the present invention.
Figure 8 is a diagram for explaining a method of manufacturing an electrically conductive contact pin according to a first preferred embodiment of the present invention.
Figure 9 is a diagram showing an electrically conductive contact pin according to a second preferred embodiment of the present invention.
Figure 10 is a diagram showing an electrically conductive contact pin according to a third preferred embodiment of the present invention.
Figure 11 is a diagram showing an electrically conductive contact pin according to a fourth preferred embodiment of the present invention.
Figure 12 is a diagram showing a wiping operation of an electrically conductive contact pin according to a fourth preferred embodiment of the present invention.

이하의 내용은 단지 발명의 원리를 예시한다. 그러므로 당업자는 비록 본 명세서에 명확히 설명되거나 도시되지 않았지만 발명의 원리를 구현하고 발명의 개념과 범위에 포함된 다양한 장치를 발명할 수 있는 것이다. 또한, 본 명세서에 열거된 모든 조건부 용어 및 실시 예들은 원칙적으로, 발명의 개념이 이해되도록 하기 위한 목적으로만 명백히 의도되고, 이와 같이 특별히 열거된 실시 예들 및 상태들에 제한적이지 않는 것으로 이해되어야 한다.The following merely illustrates the principles of the invention. Therefore, those skilled in the art will be able to invent various devices that embody the principles of the invention and are included in the concept and scope of the invention, although not clearly described or shown herein. In addition, all conditional terms and embodiments listed in this specification are, in principle, expressly intended only for the purpose of ensuring that the inventive concept is understood, and should be understood as not limiting to the embodiments and conditions specifically listed as such. .

상술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면과 관련한 다음의 상세한 설명을 통하여 보다 분명해질 것이며, 그에 따라 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다.The above-mentioned purpose, features and advantages will become clearer through the following detailed description in relation to the attached drawings, and accordingly, those skilled in the art in the technical field to which the invention pertains will be able to easily implement the technical idea of the invention. .

본 명세서에서 기술하는 실시 예들은 본 발명의 이상적인 예시 도인 단면도 및/또는 사시도들을 참고하여 설명될 것이다. 이러한 도면들에 도시된 막 및 영역들의 두께 등은 기술적 내용의 효과적인 설명을 위해 과장된 것이다. 제조 기술 및/또는 허용 오차 등에 의해 예시도의 형태가 변형될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시 예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 제조 공정에 따라 생성되는 형태의 변화도 포함하는 것이다. 본 명세서에서 사용한 기술적 용어는 단지 특정한 실시 예를 설명하기 위해 사용된 것으로서, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "구비하다" 등의 용어는 본 명세서에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.Embodiments described herein will be explained with reference to cross-sectional views and/or perspective views, which are ideal illustrations of the present invention. The thicknesses of films and regions shown in these drawings are exaggerated for effective explanation of technical content. The form of the illustration may be modified depending on manufacturing technology and/or tolerance. Accordingly, embodiments of the present invention are not limited to the specific form shown, but also include changes in form produced according to the manufacturing process. Technical terms used in this specification are merely used to describe specific embodiments and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as “comprise” or “comprise” are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in this specification, but are intended to indicate the presence of one or more other It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들에 대해 구체적으로 설명한다. 이하에서 다양한 실시예들을 설명함에 있어서, 동일한 기능을 수행하는 구성요소에 대해서는 실시예가 다르더라도 편의상 동일한 명칭 및 동일한 참조번호를 부여하기로 한다. 또한, 이미 다른 실시예에서 설명된 구성 및 작동에 대해서는 편의상 생략하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings. In describing various embodiments below, components that perform the same function will be given the same names and same reference numbers for convenience even if the embodiments are different. In addition, the configuration and operation already described in other embodiments will be omitted for convenience.

본 발명의 바람직한 각 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀들은, 전기를 인가하여 검사 대상물의 불량 여부를 확인하기 위한 검사장치에 구비되어 검사 대상물과 전기적, 물리적으로 접촉하여 전기적 신호를 전달하는데 사용되는 전도성 접촉핀일 수 있다. 검사장치는 반도체 제조공정에 사용되는 검사장치일 수 있으며, 그 일례로 프로브 카드일 수 있고, 테스트 소켓일 수 있다. 전기 전도성 접촉핀들은 프로브 카드에 구비되어 반도체 칩을 검사하는 프로브 핀일 수 있고, 패키징된 반도체 패키지를 검사하는 테스트 소켓에 구비되어 반도체 패키지를 검사하는 소켓 핀일 수 있다.The electrically conductive contact pins according to each preferred embodiment of the present invention are provided in an inspection device to determine whether an inspection object is defective by applying electricity and are used to transmit an electrical signal by electrically and physically contacting the inspection object. It could be a contact pin. The inspection device may be an inspection device used in a semiconductor manufacturing process, and for example, it may be a probe card or a test socket. The electrically conductive contact pins may be probe pins provided on a probe card to inspect a semiconductor chip, or may be socket pins provided in a test socket for inspecting a packaged semiconductor package and inspected a semiconductor package.

이하에서는 제1 내지 제4실시예를 구분하여 설명하나, 각각의 실시예의 구성들을 조합한 실시예들도 본 발명의 바람직한 실시예에 포함된다.Hereinafter, the first to fourth embodiments will be separately described, but embodiments that combine the components of each embodiment are also included in the preferred embodiment of the present invention.

이하에서 설명하는 전기 전도성 접촉핀의 폭 방향은 도면에 표기된 ±x방향이고, 전기 전도성 접촉핀의 길이 방향은 도면에 표기된 ±y방향이고, 전기 전도성 접촉핀의 두께 방향은 도면에 표기된 ±z방향이다. 전기 전도성 접촉핀은, 길이 방향(±y 방향)으로 전체 길이 치수(L)를 가지고, 길이 방향의 수직한 두께 방향(±z 방향)으로 전체 두께 치수(H)를 가지며, 길이 방향의 수직한 폭 방향(±x 방향)으로 전체 폭 치수(W)를 가진다.The width direction of the electrically conductive contact pins described below is the ±x direction shown in the drawings, the length direction of the electrically conductive contact pins is the ±y direction shown in the drawings, and the thickness direction of the electrically conductive contact pins is the ±z direction shown in the drawings. am. The electrically conductive contact pin has an overall length dimension (L) in the longitudinal direction (±y direction), an overall thickness dimension (H) in a thickness direction perpendicular to the longitudinal direction (±z direction), and a vertical thickness dimension (H) in the longitudinal direction. It has an overall width dimension (W) in the width direction (±x direction).

제1실시예First embodiment

이하, 도 2 내지 도 8을 참조하여, 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)에 대해 설명한다. Hereinafter, with reference to FIGS. 2 to 8, the electrically conductive contact pin 100 according to the first preferred embodiment of the present invention will be described.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로브 카드는, 반도체 제조 공정 중에서 웨이퍼 상에 제작된 칩을 검사하는 검사 공정에 사용되며 미세 미치 대응이 가능하다. 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로브 카드는 마이크로프로세서, 마이크로컨트롤러, ASICs 등과 같은 비메모리 반도체 칩을 검사하는데 보다 유용하다. The probe card according to a preferred embodiment of the present invention is used in an inspection process to inspect chips manufactured on a wafer during the semiconductor manufacturing process and is capable of responding to fine measurements. The probe card according to a preferred embodiment of the present invention is more useful for inspecting non-memory semiconductor chips such as microprocessors, microcontrollers, ASICs, etc.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 프로브 카드는, 접속 패드(CP)를 구비하는 공간변환기(ST); 공간변환기(ST) 하부에서 공간변환기(ST)와 이격되어 구비되는 가이드 플레이트(GP1, FP2); 및 가이드 플레이트(GP1, GP2)의 구멍에 삽입되어 설치되는 프로브 핀(100);을 포함한다. A probe card according to a preferred embodiment of the present invention includes a spatial transducer (ST) having a connection pad (CP); Guide plates (GP1, FP2) provided below the space converter (ST) and spaced apart from the space converter (ST); and a probe pin 100 that is inserted and installed into the holes of the guide plates (GP1, GP2).

전기 전도성 접촉핀(100)은 상부 가이드 플레이트(GP1)의 가이드 구멍과 하부 가이드 플레이트(GP2)의 가이드 구멍에 삽입된다. The electrically conductive contact pin 100 is inserted into the guide hole of the upper guide plate (GP1) and the guide hole of the lower guide plate (GP2).

가이드 플레이트(GP1, GP2)에 설치되는 프로브 핀(100)들 간의 피치 간격은 50㎛ 이상 150㎛이하일 수 있으며, 프로브 핀(100)의 좌우 폭은 40㎛이상 200㎛이하이고, 프로브 핀(100)의 두께는 40㎛이상 200㎛이하일 수 있다.The pitch interval between the probe pins 100 installed on the guide plates (GP1, GP2) may be 50 ㎛ or more and 150 ㎛ or less, the left and right widths of the probe pins 100 are 40 ㎛ or more and 200 ㎛ or less, and the probe pins 100 ) may have a thickness of 40 ㎛ or more and 200 ㎛ or less.

전기 전도성 접촉핀(100은 내측에 가이드부(127)가 마련된 공간부(125)를 구비하는 바디부(120); 및 공간부(120)에 적어도 일부가 삽입되어 이동가능하게 구비되는 이동 팁부(130);를 포함하되, 이동 팁부(130)의 머리부(131)는 가이드부(127)에 슬라이딩되어 이동 팁부(130)의 접속부(133)가 와이핑 동작을 수행한다. The electrically conductive contact pin 100 includes a body portion 120 having a space 125 with a guide portion 127 on the inside; and a movable tip portion at least partially inserted into the space 120 and movably provided. 130); wherein the head portion 131 of the movable tip portion 130 slides on the guide portion 127 so that the connection portion 133 of the movable tip portion 130 performs a wiping operation.

전기 전도성 접촉핀(100)은 바디부(120)와, 바디부(120)의 상측에 구비되는 고정 팁부(110)와, 바디부(120)의 하측 단부측에서 바디부(120) 내부로 적어도 일부가 삽입되어 이동 가능하게 구비되는 이동 팁부(130)를 포함한다. The electrically conductive contact pin 100 includes a body portion 120, a fixed tip portion 110 provided on the upper side of the body portion 120, and at least an inner portion of the body portion 120 from the lower end side of the body portion 120. It includes a movable tip portion 130 that is partially inserted and movable.

전기 전도성 접촉핀(100)의 고정 팁부(110)는 공간 변환기(ST)의 접속패드(CP)에 접속되고, 전기 전도성 접촉핀(100)의 이동 팁부(130)는 검사 대상물의 접속패드에 접속된다. 여기서 검사 대상물은 반도체 소자일 수 있다.The fixed tip portion 110 of the electrically conductive contact pin 100 is connected to the connection pad (CP) of the space transducer (ST), and the moving tip portion 130 of the electrically conductive contact pin 100 is connected to the connection pad of the inspection object. do. Here, the inspection object may be a semiconductor device.

바디부(120)는 그 내부에 공극부(121)가 구비된다. 공극부(121)는 바디부(120)의 두께 방향으로 관통되어 형성되며, 바디부(120)의 길이 방향을 따라 길게 연장되어 형성됨에 따라 바디부(120)가 복수개의 빔 구조로 형성되도록 한다. 이를 통해 바디부(120)가 보다 쉽게 폭 방향으로 탄성 변형되도록 함으로써 바디부(120)의 길이를 짧게 하는 것이 가능하여 고주파 신호 전달에 유리하다. 또한, 공극부(121)의 구성을 통해 바디부(120)의 표면적이 넓어지기 때문에 이를 통해 고주파 신호 전달에 유리하도록 한다. The body portion 120 is provided with a gap portion 121 therein. The void 121 is formed to penetrate the body portion 120 in the thickness direction, and is formed to extend long along the longitudinal direction of the body portion 120, thereby allowing the body portion 120 to be formed into a plurality of beam structures. . Through this, it is possible to shorten the length of the body portion 120 by allowing the body portion 120 to be more easily elastically deformed in the width direction, which is advantageous for transmitting high-frequency signals. In addition, since the surface area of the body portion 120 is expanded through the configuration of the void portion 121, this is advantageous for transmitting high-frequency signals.

바디부(120)의 상측에는 고정 팁부(110)가 구비된다. 고정 팁부(110)는 공간 변환기(ST)의 접속 패드(CP)에 전기적으로 접속된다. A fixed tip portion 110 is provided on the upper side of the body portion 120. The fixed tip portion 110 is electrically connected to the connection pad CP of the spatial converter ST.

고정 팁부(110)는 접속 패드(CP)와의 접속을 위해 탄성빔(111)을 구비한다. 탄성빔(111)은 일단부가 고정 팁부(110)에 연결되고 타단부가 접속 패드(CP)측으로 연장되어 자유단으로 구성되어 캔틸레버 형태로 구비된다. 탄성빔(111)의 구성을 통해 고정 팁부(110)는 접속 패드(CP)에 탄력적으로 압축되면서 접촉되어 항상 접촉 상태를 유지할 수 있게 된다. 이를 통해 고정 팁부(110)와 접속 패드(CP)간의 틈새로 인해 스파크가 발생하는 문제를 방지할 수 있다. The fixed tip portion 110 is provided with an elastic beam 111 for connection to the connection pad CP. The elastic beam 111 is provided in the form of a cantilever, with one end connected to the fixed tip portion 110 and the other end extending toward the connection pad CP to form a free end. Through the configuration of the elastic beam 111, the fixed tip portion 110 can be elastically compressed and contacted to the connection pad CP to always maintain a contact state. Through this, it is possible to prevent the problem of sparks occurring due to a gap between the fixed tip portion 110 and the connection pad (CP).

고정 팁부(110)는 고정 팁부(110)를 상부 가이드 플레이트(GP1)에 고정하기 위한 단턱부(113)가 구비된다. 단턱부(113)에 의해 고정 팁부(110)가 상부 가이드 플레이트(GP1)의 상면에 걸림으로써, 전기 전도성 접촉핀(100)이 상부 가이드 플레이트(GP1)를 통과하여 하부로 탈락되는 것이 방지된다. The fixed tip portion 110 is provided with a stepped portion 113 for fixing the fixed tip portion 110 to the upper guide plate (GP1). The fixing tip part 110 is caught on the upper surface of the upper guide plate (GP1) by the step part 113, thereby preventing the electrically conductive contact pin 100 from passing through the upper guide plate (GP1) and falling off to the lower part.

바디부(120)의 하부는 그 내측에 가이드부(127)가 마련된 공간부(125)를 구비한다. 이동 팁부(130)는 공간부(125)에 적어도 일부가 삽입되어 구비된다. The lower part of the body portion 120 has a space portion 125 inside which a guide portion 127 is provided. The moving tip portion 130 is provided with at least a portion inserted into the space portion 125.

이동 팁부(130)는 가이드부(127)에 슬라이딩 접촉되는 머리부(131)와, 머리부(131)로부터 하부로 연장되는 접속부(133)를 구비한다. 이동 팁부(130)의 머리부(131)는 가이드부(127)에 슬라이딩되어 이동 가능하다. 이동 팁부(130)의 접속부(133)에 가압력이 작용하면 이동 팁부(130)의 머리부(131)는 가이드부(127)에 접촉되어 슬라이딩 이동하며 머리부(131)의 이동 방향은 가압력의 축선 방향과 일치하지 않는다. The moving tip portion 130 includes a head portion 131 in sliding contact with the guide portion 127 and a connecting portion 133 extending downward from the head portion 131. The head portion 131 of the moving tip portion 130 can be moved by sliding on the guide portion 127. When a pressing force acts on the connection part 133 of the moving tip part 130, the head part 131 of the moving tip part 130 contacts the guide part 127 and slides, and the moving direction of the head part 131 is along the axis of the pressing force. It does not match the direction.

공간부(125)는 이동 팁부(130)가 이동할 수 있는 공간을 제공한다. 공간부(125)에는 이동 팁부(130)의 머리부(131)와 접촉되어 이동 팁부(130)의 머리부(131)가 특정 방향으로 이동할 수 있도록 가이드하는 가이드부(127)가 구비된다. 가이드부(127)는 공간부(125)를 구성하는 바디부(120)의 내측면 중에서 적어도 일부 면일 수 있다. The space portion 125 provides a space in which the moving tip portion 130 can move. The space 125 is provided with a guide portion 127 that contacts the head 131 of the movable tip 130 and guides the head 131 of the movable tip 130 to move in a specific direction. The guide portion 127 may be at least a portion of the inner surface of the body portion 120 constituting the space portion 125.

전기 전도성 접촉핀의 길이 방향 및 폭 방향을 포함하는 평면을 기준으로, 공간부(125)의 단면 구성을 살펴보면, 공간부(125)의 일측만이 바디부(120)의 단부측으로 개구된 형태로 구부된다. Looking at the cross-sectional configuration of the space 125 based on the plane including the longitudinal and width directions of the electrically conductive contact pin, only one side of the space 125 is open to the end of the body 120. It bends.

가이드부(127)는 이동 팁부(130)의 머리부(131)가 접촉되는 부분이 곡면 형태로 형성되고, 이동 팁부(130)의 머리부(131) 역시 곡면 형태로 형성된다. 머리부(131)는 전체적으로 두께 방향으로 원기둥의 형태로 구비되며 원기둥의 측면이 가이드부(127)에 접촉되어 슬라이딩된다. 이를 통해 이동 팁부(130)가 가이드부(127)를 따라 슬라이딩 할 때 이동 팁부(130)의 곡면 부분이 가이드부(127)의 곡면 부분을 따라 이동함으로써 이동 팁부(130)의 머리부(131)의 부드러운 이동을 가이드한다. The guide portion 127 is formed in a curved shape at a portion that contacts the head portion 131 of the moving tip portion 130, and the head portion 131 of the moving tip portion 130 is also formed in a curved shape. The head portion 131 is generally provided in the shape of a cylinder in the thickness direction, and the side of the cylinder slides in contact with the guide portion 127. Through this, when the movable tip portion 130 slides along the guide portion 127, the curved portion of the movable tip portion 130 moves along the curved portion of the guide portion 127, thereby forming the head 131 of the movable tip portion 130. guides the smooth movement of

이동 팁부(130)의 접속부(133)는 곡률을 가진 곡면 형태로 구비되어 접속부(133)가 검사 대상물과 접촉하여 와이핑 동작을 수행할 때 검사 대상물의 표면이 손상되는 것을 최소화한다. The connection portion 133 of the moving tip portion 130 is provided in a curved shape to minimize damage to the surface of the inspection object when the connection portion 133 contacts the inspection object and performs a wiping operation.

공간부(125)는 단축과 장축을 가지는 타원 형태로 구비되되 타원의 장축은 바디부(120)의 축선과 소정의 각도를 이루면서 바디부(120)의 축선을 기준으로 사선 방향으로 기울어진 타원 형태로 구비될 수 있다. 머리부(131)의 상면이 접촉되는 가이드부(127)는 완만하게 상승하는 곡면의 형태로 구성되어 머리부(131)가 완만하게 상승하는 가이드부(127)의 곡면을 따라 일측으로 편향되어 상승되도록 한다. The space portion 125 is provided in the form of an oval with a minor axis and a long axis, and the long axis of the oval forms a predetermined angle with the axis of the body portion 120 and has an oval shape inclined diagonally with respect to the axis of the body portion 120. It can be provided with . The guide portion 127, which is in contact with the upper surface of the head portion 131, is configured in the form of a gently rising curved surface, so that the head portion 131 is deflected to one side and rises along the gently rising curved surface of the guide portion 127. Make it possible.

공간부(125)의 하부측에는 걸림부(126)가 형성된다. 걸림부(126)는 이동 팁부(130)의 머리부(131)가 공간부(125)로부터 이탈되지 않도록 한다. 걸림부(126)에 의해 형성된 개구 폭은 이동 팁부(130)의 머리부(131)의 크기보다 작게 형성되어 이동 팁부(130)는 공간부(125) 외부로 빠지지 않는다.A locking portion 126 is formed on the lower side of the space portion 125. The locking portion 126 prevents the head portion 131 of the moving tip portion 130 from being separated from the space portion 125. The width of the opening formed by the locking portion 126 is smaller than the size of the head portion 131 of the movable tip portion 130, so that the movable tip portion 130 does not fall out of the space 125.

또한, 걸림부(126)는 이동 팁부(130)의 수평 이동 거리를 제한함으로써 이동 팁부(130)의 틸팅 각도를 제한한다. 접속부(133)가 검사 대상물의 전극 패드(WP)에 대해 와이핑하는 정도의 크기는, 걸림부(126)와 이동 팁부(130)간의 틈새의 크기로 제어 가능하다. 걸림부(126)와 이동 팁부(130)사이의 틈새는 허용 틸팅 각도를 결정하는 인자로서, 걸림부(126)와 이동 팁부(130)사이의 틈새가 크면 클수록 이동 팁부(130)의 접속부(133)의 틸팅 각도는 커지고, 걸림부(126)와 이동 팁부(130)사이의 틈새가 작으면 작을수록 이동 팁부(130)의 접속부(133)의 틸팅 각도는 작아지게 된다. Additionally, the locking portion 126 limits the tilting angle of the moving tip portion 130 by limiting the horizontal movement distance of the moving tip portion 130. The extent to which the connection part 133 wipes the electrode pad WP of the inspection object can be controlled by the size of the gap between the locking part 126 and the moving tip part 130. The gap between the locking portion 126 and the moving tip portion 130 is a factor that determines the allowable tilting angle. The larger the gap between the locking portion 126 and the moving tip portion 130, the greater the connection portion 133 of the moving tip portion 130. ), the larger the tilting angle, and the smaller the gap between the locking portion 126 and the moving tip portion 130, the smaller the tilting angle of the connecting portion 133 of the moving tip portion 130 becomes.

이동 팁부(130)의 머리부(131)는 가이드부(127)에 면 접촉하면서 일측으로 편향되어 상승하게 되고, 머리부(131) 하부 측의 이동 팁부(130)의 부분이 걸림부(126)에 접촉되어 그 수평 방향 이동이 제한된다. The head portion 131 of the movable tip portion 130 is deflected to one side and rises while making surface contact with the guide portion 127, and the portion of the movable tip portion 130 on the lower side of the head portion 131 is connected to the locking portion 126. is in contact with it and its horizontal movement is restricted.

이동 팁부(130)의 접속부(133)에 가압력이 작용하면 이동 팁부(130)의 머리부(131)는 가이드부(127)에 접촉되어 가이드부(127)를 따라 이동하면서 이동 팁부(130)가 틸팅된다. 이동 팁부(130)는 걸림부(126)를 기준으로 바디부(120)에 대해 상대적으로 틸팅되게 되며 이동 팁부(130)의 접속부(133)가 접촉 대상물의 표면에서 와이핑 동작을 수행하게 된다. 이처럼 이동 팁부(130)의 접속부(133)에 가압력이 작용하면 바디부(120) 내부에 위치하는 이동 팁부(130)의 적어도 일부는 바디부(120)의 내부와 슬라이딩 접촉되어 이동함에 따라 이동 팁부(130)의 접속부(133)가 와이핑 동작을 한다. When a pressing force is applied to the connection portion 133 of the movable tip portion 130, the head portion 131 of the movable tip portion 130 contacts the guide portion 127 and moves along the guide portion 127, causing the movable tip portion 130 to move. It is tilted. The movable tip portion 130 is tilted relative to the body portion 120 with respect to the locking portion 126, and the connection portion 133 of the movable tip portion 130 performs a wiping operation on the surface of the contact object. In this way, when a pressing force is applied to the connection portion 133 of the movable tip portion 130, at least a portion of the movable tip portion 130 located inside the body portion 120 moves in sliding contact with the interior of the body portion 120, thereby causing the movable tip portion to move. The connection portion 133 of (130) performs a wiping operation.

이동 팁부(130)의 측면이 걸림부(126)에 지지됨과 함께 이동 팁부(130)의 머리부(131)가 가이드부(127)에 의해 상방에서 지지되어 이동 팁부(130)의 머리부(131)가 더 이상 상승하지 못하는 위치에 도달하면, 이동 팁부(130)의 틸팅은 더 이상 진행되지 않고 틸팅각도가 유지된다. The side of the movable tip 130 is supported by the locking portion 126, and the head 131 of the movable tip 130 is supported from above by the guide 127, so that the head 131 of the movable tip 130 ) reaches a position where it can no longer rise, the tilting of the moving tip unit 130 does not proceed any further and the tilting angle is maintained.

도 4c를 참조하면, 이동 팁부(130)가 가압력을 받으면, 이동 팁부(130)가 바디부(120)에 대해 상대적으로 틸팅되면서 산화막층(8)을 제거한다. 이를 통해, 전극 패드(WP)의 손상을 최소화하는 것이 가능하고 과도한 양의 산화막층(8)의 부스러기를 유발하지 않아 전기 전도성 접촉핀(100)의 사용시간을 향상시키는 효과를 발휘하게 된다.Referring to FIG. 4C, when the movable tip portion 130 receives a pressing force, the movable tip portion 130 is tilted relative to the body portion 120 to remove the oxide layer 8. Through this, it is possible to minimize damage to the electrode pad WP and do not cause excessive amounts of debris in the oxide layer 8, thereby improving the usage time of the electrically conductive contact pin 100.

종래 기술은 프로브 핀(7) 자체가 탄성 변형되면서 산화막층(8)을 제거하는 공정을 수행하는 구조인 반면에, 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은, 바디부(120)에 상대 변위 가능하게 구비되는 이동 팁부(130)가 와이핑 동작을 수행하는 구조라는 점에서 와이핑 동작의 기본적인 작동원리에 차이가 있다. While the conventional technology is structured to perform a process of removing the oxide layer 8 while elastically deforming the probe pin 7 itself, the electrically conductive contact pin 100 according to the first preferred embodiment of the present invention has a body. There is a difference in the basic operating principle of the wiping operation in that the movable tip unit 130, which is provided in the unit 120 to enable relative displacement, is structured to perform the wiping operation.

산화막층(8)에 과도한 접촉압력을 부여하여 과도한 접촉압력으로 산화막층(8)을 뚫고 통전 상태를 형성하는 종래 기술과는 달리, 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은 이동 팁부(130)가 바디부(120)에 대해 상대 틸팅되면서 산화막층(8)을 제거하기 때문에 전극 패드(WP)가 손상되는 것을 최소화할 수 있게 된다. Unlike the prior art in which excessive contact pressure is applied to the oxide film layer 8 to penetrate the oxide film layer 8 and form a current-carrying state, the electrically conductive contact pin 100 according to the first preferred embodiment of the present invention ) removes the oxide layer 8 while the moving tip portion 130 is tilted relative to the body portion 120, thereby minimizing damage to the electrode pad WP.

한편, 이동 팁부(130)가 전기 전도성 접촉핀(100)의 전, 후로 빠지지 않도록 하기 위한 하우징(미도시)이 구비될 수 있다. 하우징(미도시)은 전기 전도성 접촉핀(100)을 전체적으로 감싸는 형태로 구비되거나 공간부(125)의 전, 후 부분을 밀폐하는 형태로 구비될 수 있다. 또는, 도 5 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 이동 팁부(130)가 전기 전도성 접촉핀(100)의 전, 후로 빠지지 않도록 하기 위하여, 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결하는 연결부(150)를 구비할 수 있다.Meanwhile, a housing (not shown) may be provided to prevent the moving tip portion 130 from falling in front or behind the electrically conductive contact pin 100. The housing (not shown) may be provided to entirely surround the electrically conductive contact pin 100 or may be provided to seal the front and rear portions of the space 125. Alternatively, as shown in FIGS. 5 to 7, in order to prevent the movable tip portion 130 from falling out before or after the electrically conductive contact pin 100, the body portion 120 and the movable tip portion 130 are elastically connected to each other. A connecting portion 150 may be provided.

도 5는 연결부(150)의 하나의 일례를 설명하기 위한 도면이다. 도 5를 참조하면, 연결부(150)는 공간부(125)에 구비된다. 연결부(150)는 바디부(120)와 이동 팁부(130) 사이에서 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결한다. 연결부(150)의 일단은 바디부(120)에 연결되고 연결부(150)의 타단은 이동 팁부(130)에 구비된다. 이동 팁부(130), 연결부(150) 및 바디부(150)의 일체로 구비된다. 연결부(130)의 두께(H)는 바디부(120)의 두께(H)와 동일 두께로 형성된다. 이를 통해 연결부(130)가 압축 변형될때 파손되는 것이 효과적으로 방지된다.FIG. 5 is a diagram for explaining one example of the connection portion 150. Referring to FIG. 5, the connection portion 150 is provided in the space portion 125. The connection portion 150 elastically connects the body portion 120 and the movable tip portion 130 to each other. One end of the connecting portion 150 is connected to the body portion 120 and the other end of the connecting portion 150 is provided to the moving tip portion 130. The moving tip part 130, the connecting part 150, and the body part 150 are provided as one body. The thickness H of the connection portion 130 is formed to be the same as the thickness H of the body portion 120. Through this, damage is effectively prevented when the connection portion 130 is compressed and deformed.

연결부(150)는 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결하도록 링 모양으로 형성된다. 링 모양이 적어도 하나 이상 구비되어 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결한다. 연결부(150)는 이동 팁부(130)의 접속부(133)에 가압력이 작용하면 이동 팁부(130)의 이동에 따라 압축되고 이동 팁부(130)에 가해진 가압력이 해제되면 원래 상태로 복원되면서 이동 팁부(130)를 원래 위치로 돌아가도록 한다. The connection portion 150 is formed in a ring shape to elastically connect the body portion 120 and the moving tip portion 130 to each other. At least one ring shape is provided to elastically connect the body portion 120 and the moving tip portion 130 to each other. When a pressing force is applied to the connecting part 133 of the moving tip part 130, the connecting part 150 is compressed according to the movement of the moving tip part 130, and when the pressing force applied to the moving tip part 130 is released, it is restored to its original state and the moving tip part ( 130) to return to its original position.

도 6은 연결부(150)의 또 다른 일례를 설명하기 위한 도면이다. 도 6을 참조하면, 연결부(150)는 공간부(125)에 구비된다. 연결부(150)는 바디부(120)와 이동 팁부(130) 사이에서 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결한다. 연결부(150)의 일단은 바디부(120)에 연결되고 연결부(150)의 타단은 이동 팁부(130)에 구비된다. 이동 팁부(130), 연결부(150) 및 바디부(150)의 일체로 구비된다. 연결부(130)의 두께(H)는 바디부(120)의 두께(H)와 동일 두께로 형성된다. 이를 통해 연결부(130)가 압축 변형될때 파손되는 것이 효과적으로 방지된다.FIG. 6 is a diagram for explaining another example of the connection portion 150. Referring to FIG. 6, the connection portion 150 is provided in the space portion 125. The connection portion 150 elastically connects the body portion 120 and the movable tip portion 130 to each other. One end of the connecting portion 150 is connected to the body portion 120 and the other end of the connecting portion 150 is provided to the moving tip portion 130. The moving tip part 130, the connecting part 150, and the body part 150 are provided as one body. The thickness H of the connection portion 130 is formed to be the same as the thickness H of the body portion 120. Through this, damage is effectively prevented when the connection portion 130 is compressed and deformed.

연결부(150)는 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결하도록 코일 스프링 모양으로 형성된다. “S”자 모양이 반복적으로 형성되어 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결한다. 연결부(150)는 이동 팁부(130)의 접속부(133)에 가압력이 작용하면 이동 팁부(130)의 이동에 따라 압축되고 이동 팁부(130)에 가해진 가압력이 해제되면 원래 상태로 복원되면서 이동 팁부(130)를 원래 위치로 돌아가도록 한다. The connection portion 150 is formed in the shape of a coil spring to elastically connect the body portion 120 and the moving tip portion 130 to each other. The “S” shape is repeatedly formed to elastically connect the body portion 120 and the moving tip portion 130 to each other. When a pressing force is applied to the connecting part 133 of the moving tip part 130, the connecting part 150 is compressed according to the movement of the moving tip part 130, and when the pressing force applied to the moving tip part 130 is released, it is restored to its original state and the moving tip part ( 130) to return to its original position.

도 7은 연결부(150)의 또 다른 일례를 설명하기 위한 도면이다. 도 7을 참조하면, 연결부(150)는 바디부(120)의 외측에 구비된다. 연결부(150)는 바디부(120)와 이동 팁부(130) 사이에서 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결한다. 이동 팁부(130), 연결부(150) 및 바디부(150)의 일체로 구비된다. 연결부(130)의 두께(H)는 바디부(120)의 두께(H)와 동일 두께로 형성된다. 이를 통해 연결부(130)가 압축 변형될때 파손되는 것이 효과적으로 방지된다.FIG. 7 is a diagram for explaining another example of the connection portion 150. Referring to FIG. 7 , the connection portion 150 is provided on the outside of the body portion 120. The connection portion 150 elastically connects the body portion 120 and the movable tip portion 130 to each other. The moving tip part 130, the connecting part 150, and the body part 150 are provided as one body. The thickness H of the connection portion 130 is formed to be the same as the thickness H of the body portion 120. Through this, damage is effectively prevented when the connection portion 130 is compressed and deformed.

연결부(150)의 일단은 바디부(120)에 연결되고 연결부(150)의 타단은 이동 팁부(130)에 구비된다. 보다 구체적으로 연결부(150)의 일단은 검사 대상물 방향의 바디부(120)의 단부측에 연결되고 연결부(150)의 타단은 이동 팁부(130)의 측면에 연결된다. 연결부(150)는 일단이 바디부(120)의 단부측 좌측에 연결되고 타단이 이동 팁부(130)의 좌측 측면에 연결되는 제1연결부(151)와, 일단이 바디부(120)의 단부측 우측에 연결되고 타단이 이동 팁부(130)의 우측 측면에 연결되는 제2연결부(152)를 포함한다. One end of the connecting portion 150 is connected to the body portion 120 and the other end of the connecting portion 150 is provided to the moving tip portion 130. More specifically, one end of the connecting portion 150 is connected to the end side of the body portion 120 in the direction of the inspection object, and the other end of the connecting portion 150 is connected to the side of the moving tip portion 130. The connecting portion 150 includes a first connecting portion 151 having one end connected to the left side of the end side of the body portion 120 and the other end connected to the left side of the moving tip portion 130, and one end connected to the end side of the body portion 120. It includes a second connection portion 152 connected to the right side and the other end connected to the right side of the moving tip portion 130.

연결부(150)는 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결하도록 판 스프링 모양으로 형성된다. 호 형태로 굴곡진 모양으로 형성되어 바디부(120)와 이동 팁부(130)를 서로 탄력적으로 연결한다. 연결부(150)는 이동 팁부(130)의 접속부(133)에 가압력이 작용하면 이동 팁부(130)의 이동에 따라 압축되고 이동 팁부(130)에 가해진 가압력이 해제되면 원래 상태로 복원되면서 이동 팁부(130)를 원래 위치로 돌아가도록 한다. The connection portion 150 is formed in the shape of a leaf spring to elastically connect the body portion 120 and the moving tip portion 130 to each other. It is formed in an arc-shaped curved shape to elastically connect the body portion 120 and the moving tip portion 130 to each other. When a pressing force is applied to the connecting part 133 of the moving tip part 130, the connecting part 150 is compressed according to the movement of the moving tip part 130, and when the pressing force applied to the moving tip part 130 is released, it is restored to its original state and the moving tip part ( 130) to return to its original position.

본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 복수 개의 금속층이 적층되어 구비된다. 복수개의 금속층은, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)을 포함한다. 제1금속층(160)은 제2금속층(180)에 비해 상대적으로 내마모성이 높은 금속으로서 바람직하게는, 로듐(Rd), 백금 (Pt), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 니켈(Ni), 망간(Mn), 텅스텐(W), 인(Ph) 이나 이들의 합금, 또는 팔라듐-코발트(PdCo) 합금, 팔라듐-니켈(PdNi) 합금 또는 니켈-인(NiPh) 합금, 니켈-망간(NiMn), 니켈-코발트(NiCo) 또는 니켈-텅스텐(NiW) 합금 중에서 선택된 금속으로 형성될 수 있다. 제2금속층(180)은 제1금속층(160)에 비해 상대적으로 전기 전도도가 높은 금속으로서 바람직하게는, 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au) 또는 이들의 합금 중에서 선택된 금속으로 형성될 수 있다. The electrically conductive contact pin 100 according to the first preferred embodiment of the present invention is provided by stacking a plurality of metal layers in the thickness direction of the electrically conductive contact pin 100. The plurality of metal layers includes a first metal layer 160 and a second metal layer 180. The first metal layer 160 is a metal with relatively high wear resistance compared to the second metal layer 180, and is preferably made of rhodium (Rd), platinum (Pt), iridium (Ir), palladium (Pd), and nickel (Ni). , manganese (Mn), tungsten (W), phosphorus (Ph) or their alloys, or palladium-cobalt (PdCo) alloy, palladium-nickel (PdNi) alloy or nickel-phosphorus (NiPh) alloy, nickel-manganese (NiMn) ), nickel-cobalt (NiCo), or nickel-tungsten (NiW) alloy. The second metal layer 180 is a metal with relatively high electrical conductivity compared to the first metal layer 160, and is preferably formed of a metal selected from copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), or alloys thereof. It can be.

제1금속층(160)은 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 하면과 상면에 구비되고 제2금속층(180)은 제1금속층(160) 사이에 구비된다. 예를 들어, 전기 전도성 접촉핀(100)은 제1금속층(160), 제2금속층(180), 제1금속층(160) 순으로 교대로 적층되어 구비되며, 적층되는 층수는 3층 이상으로 구성될 수 있다. The first metal layer 160 is provided on the lower and upper surfaces of the electrically conductive contact pin 100 in the thickness direction, and the second metal layer 180 is provided between the first metal layers 160. For example, the electrically conductive contact pin 100 is provided by alternately stacking the first metal layer 160, the second metal layer 180, and the first metal layer 160 in that order, and the number of stacked layers consists of three or more layers. It can be.

도 8를 참조하여 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)의 제조 방법에 대해 살펴본다. With reference to FIG. 8, a method of manufacturing the electrically conductive contact pin 100 according to the first preferred embodiment of the present invention will be described.

도 8a는 내부 공간(IH)이 형성된 몰드(M)의 평면도이고, 도 8b는 도 8a의 A-A’단면도이다. 몰드(M)는 양극산화막, 포토레지스트, 실리콘 웨이퍼 또는 이와 유사한 재질로 구성될 있다. 다만, 본 발명의 보다 바람직한 실시예에 따른 몰드(M)는 양극산화막 재질로 구성될 수 있다. 따라서 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은 구조상의 이점에 의해 발휘되는 효과이외에 양극산화막 재질의 몰드(M)를 이용하여 제작됨에 따라 발휘되는 효과도 가지게 된다. 이하에서는 바람직한 몰드(M)로서 양극산화막 재질의 몰드(M)를 기준으로 설명한다. FIG. 8A is a plan view of the mold M in which the internal space IH is formed, and FIG. 8B is a cross-sectional view taken along line A-A' of FIG. 8A. The mold (M) may be composed of an anodized film, photoresist, silicon wafer, or similar materials. However, the mold M according to a more preferred embodiment of the present invention may be made of an anodic oxide film material. Therefore, the electrically conductive contact pin 100 according to a preferred embodiment of the present invention has effects that are exhibited by being manufactured using a mold (M) made of an anodized film material in addition to the effects that are exhibited by structural advantages. Hereinafter, the preferred mold (M) will be described based on the mold (M) made of an anodized film material.

양극산화막은 모재인 금속을 양극산화하여 형성된 막을 의미하고, 포어는 금속을 양극산화하여 양극산화막을 형성하는 과정에서 형성되는 구멍을 의미한다. 예컨대, 모재인 금속이 알루미늄(Al) 또는 알루미늄 합금인 경우, 모재를 양극산화하면 모재의 표면에 알루미늄 산화물(Al203) 재질의 양극산화막이 형성된다. 다만 모재 금속은 이에 한정되는 것은 아니며, Ta, Nb, Ti, Zr, Hf, Zn, W, Sb 또는 이들의 합금을 포함한다, 위와 같이 형성된 양극산화막은 수직적으로 내부에 포어가 형성되지 않은 배리어층과, 내부에 포어가 형성된 다공층으로 구분된다. 배리어층과 다공층을 갖는 양극산화막이 표면에 형성된 모재에서, 모재를 제거하게 되면, 알루미늄 산화물(Al203) 재질의 양극산화막만이 남게 된다. 양극산화막은 양극산화시 형성된 배리어층이 제거되어 포어의 상, 하로 관통되는 구조로 형성되거나 양극산화시 형성된 배리어층이 그대로 남아 포어의 상, 하 중 일단부를 밀폐하는 구조로 형성될 수 있다. An anodic oxide film refers to a film formed by anodizing a base metal, and a pore refers to a hole formed in the process of anodizing a metal to form an anodic oxide film. For example, when the base metal is aluminum (Al) or an aluminum alloy, when the base material is anodized, an anodic oxide film made of aluminum oxide (Al 2 0 3 ) is formed on the surface of the base material. However, the base metal is not limited to this and includes Ta, Nb, Ti, Zr, Hf, Zn, W, Sb, or alloys thereof. The anodic oxide film formed as above is a barrier layer in which no pores are formed vertically. It is divided into a porous layer with pores formed inside. When the base material is removed from a base material on which an anodic oxide film having a barrier layer and a porous layer is formed on the surface, only an anodic oxide film made of aluminum oxide (Al 2 0 3 ) remains. The anodic oxidation film may be formed in a structure that penetrates the top and bottom of the pore by removing the barrier layer formed during anodization, or may be formed in a structure that seals the top and bottom ends of the pore while the barrier layer formed during anodization remains intact.

양극산화막은 2~3ppm/℃의 열팽창 계수를 갖는다. 이로 인해 고온의 환경에 노출될 경우, 온도에 의한 열변형이 적다. 따라서 전기 전도성 접촉핀(100)의 제작 환경에 비록 고온 환경이라 하더라도 열 변형없이 정밀한 전기 전도성 접촉핀(100)을 제작할 수 있다. The anodic oxide film has a thermal expansion coefficient of 2~3ppm/℃. For this reason, when exposed to a high temperature environment, thermal deformation due to temperature is small. Therefore, even if the production environment for the electrically conductive contact pin 100 is a high temperature environment, the electrically conductive contact pin 100 can be manufactured with precision without thermal deformation.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은 포토 레지스트 재질의 몰드(M) 대신에 양극산화막 재질의 몰드(M)를 이용하여 제조된다는 점에서 포토 레지스트 재질의 몰드(M)로는 구현하는데 한계가 있었던 형상의 정밀도, 미세 형상의 구현의 효과를 발휘할 수 있게 된다. 또한 기존의 포토 레지스트 재질의 몰드(M)의 경우에는 40㎛ 두께 수준의 전기 전도성 접촉핀을 제작할 수 있으나 양극산화막 재질의 몰드(M)를 이용할 경우에는 40㎛ 이상에서 200㎛ 이하의 두께를 가지는 전기 전도성 접촉핀(100)을 제작할 수 있게 된다.Since the electrically conductive contact pin 100 according to a preferred embodiment of the present invention is manufactured using a mold (M) made of an anodized film material instead of the mold (M) made of photoresist material, the mold (M) made of photoresist material is It is possible to demonstrate the effect of realizing precise shapes and fine shapes that were previously limited in realization. In addition, in the case of a mold (M) made of an existing photoresist material, an electrically conductive contact pin with a thickness of about 40㎛ can be manufactured, but when a mold (M) made of an anodic oxide film is used, an electrically conductive contact pin with a thickness of 40㎛ or more to 200㎛ or less can be produced. It is possible to manufacture an electrically conductive contact pin 100.

몰드(M)의 하면에는 시드층(SL)이 구비된다. 시드층(SL)은 몰드(M)에 내부 공간(IH)을 형성하기 이전에 몰드(M)의 하면에 구비될 수 있다. 한편 몰드(M)의 하부에는 지지기판(미도시)이 형성되어 몰드(M)의 취급성을 향상시킬 수 있다. 또한 이 경우 지지기판의 상면에 시드층(SL)을 형성하고 내부 공간(IH)이 형성된 몰드(M)를 지지기판에 결합하여 사용할 수도 있다. 시드층(SL)은 구리(Cu)재질로 형성될 수 있고, 증착 방법에 의해 형성될 수 있다. A seed layer (SL) is provided on the lower surface of the mold (M). The seed layer SL may be provided on the lower surface of the mold M before forming the internal space IH in the mold M. Meanwhile, a support substrate (not shown) is formed at the bottom of the mold (M) to improve the handling of the mold (M). Also, in this case, a seed layer (SL) may be formed on the upper surface of the support substrate, and a mold (M) having an internal space (IH) formed thereon may be used by combining the mold (M) with the support substrate. The seed layer SL may be made of copper (Cu) material and may be formed by a deposition method.

내부 공간(IH)은 양극산화막 재질의 몰드(M)의 일부 영역을 습식 에칭하여 형성될 수 있다. 이를 위해 몰드(M)의 상면에 포토 레지스트를 구비하고 이를 패터닝한 다음, 패터닝되어 오픈된 영역의 양극산화막이 에칭 용액과 반응하여 내부 공간(IH)이 형성될 수 있다. The internal space (IH) may be formed by wet etching a partial area of the mold (M) made of an anodized film material. For this purpose, a photo resist is provided on the upper surface of the mold M and patterned, and then the anodic oxide film in the patterned open area reacts with the etching solution to form the internal space IH.

그 다음, 몰드(M)의 내부 공간(IH)에 전기 도금 공정을 수행하여 전기 전도성 접촉핀(100)를 형성한다. 도 8c는 내부 공간(IH)에 전기 도금 공정을 수행하여 것을 도시한 평면도이고, 도 8d는 도 8c의 A-A’단면도이다. Next, an electroplating process is performed on the internal space (IH) of the mold (M) to form the electrically conductive contact pin 100. Figure 8c is a plan view showing an electroplating process performed on the internal space (IH), and Figure 8d is a cross-sectional view taken along line A-A' of Figure 8c.

몰드(M)의 두께 방향으로 금속층이 성장하면서 형성되기 때문에, 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로의 각 단면에서의 형상이 동일하다. 또한, 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 복수 개의 금속층이 적층되어 구비된다. 복수개의 금속층은, 제1금속층(160)과 제2금속층(180)을 포함한다. 제1금속층(160)은 제2금속층(180)에 비해 상대적으로 내마모성이 높은 금속으로서 바람직하게는, 로듐(Rd), 백금 (Pt), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 니켈(Ni), 망간(Mn), 텅스텐(W), 인(Ph) 이나 이들의 합금, 또는 팔라듐-코발트(PdCo) 합금, 팔라듐-니켈(PdNi) 합금 또는 니켈-인(NiPh) 합금, 니켈-망간(NiMn), 니켈-코발트(NiCo) 또는 니켈-텅스텐(NiW) 합금 중에서 선택된 금속으로 형성될 수 있다. 제2금속층(180)은 제1금속층(160)에 비해 상대적으로 전기 전도도가 높은 금속으로서 바람직하게는, 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au) 또는 이들의 합금 중에서 선택된 금속으로 형성될 수 있다. Since the metal layer is formed while growing in the thickness direction of the mold (M), the shape of each cross section in the thickness direction of the electrically conductive contact pin 100 is the same. In addition, a plurality of metal layers are stacked in the thickness direction of the electrically conductive contact pin 100. The plurality of metal layers includes a first metal layer 160 and a second metal layer 180. The first metal layer 160 is a metal with relatively high wear resistance compared to the second metal layer 180, and is preferably made of rhodium (Rd), platinum (Pt), iridium (Ir), palladium (Pd), and nickel (Ni). , manganese (Mn), tungsten (W), phosphorus (Ph) or their alloys, or palladium-cobalt (PdCo) alloy, palladium-nickel (PdNi) alloy or nickel-phosphorus (NiPh) alloy, nickel-manganese (NiMn) ), nickel-cobalt (NiCo), or nickel-tungsten (NiW) alloy. The second metal layer 180 is a metal with relatively high electrical conductivity compared to the first metal layer 160, and is preferably formed of a metal selected from copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), or alloys thereof. It can be.

제1금속층(160)은 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 하면과 상면에 구비되고 제2금속층(180)은 제1금속층(160) 사이에 구비된다. 예를 들어, 전기 전도성 접촉핀(100)은 제1금속층(160), 제2금속층(180), 제1금속층(160) 순으로 교대로 적층되어 구비되며, 적층되는 층수는 3층 이상으로 구성될 수 있다. The first metal layer 160 is provided on the lower and upper surfaces of the electrically conductive contact pin 100 in the thickness direction, and the second metal layer 180 is provided between the first metal layers 160. For example, the electrically conductive contact pin 100 is provided by alternately stacking the first metal layer 160, the second metal layer 180, and the first metal layer 160 in that order, and the number of stacked layers consists of three or more layers. It can be.

한편, 도금 공정이 완료된 이후에, 고온으로 승온한 후 압력을 가해 도금 공정이 완료된 금속층을 눌러줌으로써 제1금속층(160) 및 제2금속층(180)이 보다 고밀화되도록 할 수 있다. 포토레지스트 재질을 몰드(M)로 이용할 경우, 도금 공정이 완료된 이후의 금속층 주변에는 포토레지스트가 존재하므로 고온으로 승온하여 압력을 가하는 공정을 수행할 수 없다. 이와는 다르게, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면 도금 공정이 완료된 금속층의 주변으로는 양극산화막 재질의 몰드(M)가 구비되어 있기 때문에 고온으로 승온하더라도 양극산화막의 낮은 열 팽창계수로 인해 변형을 최소화하면서 제1금속층(160) 및 제2금속층(180)을 고밀화시키는 것이 가능하다. 따라서 포토레지스트를 몰드(M)로 이용하는 기술에 비해 보다 고밀화된 제1금속층(160) 및 제2금속층(180)을 얻는 것이 가능하게 된다.Meanwhile, after the plating process is completed, the first metal layer 160 and the second metal layer 180 can be made more dense by raising the temperature to a high temperature and applying pressure to press the metal layer on which the plating process has been completed. When using a photoresist material as the mold (M), the process of raising the temperature to a high temperature and applying pressure cannot be performed because the photoresist exists around the metal layer after the plating process is completed. Differently, according to a preferred embodiment of the present invention, a mold M made of an anodized film is provided around the metal layer on which the plating process has been completed, so even if the temperature is raised to a high temperature, deformation is minimized due to the low thermal expansion coefficient of the anodized film. It is possible to densify the first metal layer 160 and the second metal layer 180. Therefore, it is possible to obtain a more dense first metal layer 160 and a second metal layer 180 compared to the technology using photoresist as the mold (M).

전기 도금 공정이 완료가 되면, 몰드(M)와 시드층(SL)을 제거하는 공정을 수행한다. 몰드(M)가 양극산화막 재질인 경우에는 양극산화막 재질에 선택적으로 반응하는 용액을 이용하여 몰드(M)를 제거한다. 또한 시드층(SL)이 구리(Cu) 재질인 경우에는 구리(Cu)에 선택적으로 반응하는 용액을 이용하여 시드층(SL)을 제거한다.When the electroplating process is completed, a process of removing the mold (M) and the seed layer (SL) is performed. If the mold (M) is made of an anodic oxide film material, the mold (M) is removed using a solution that selectively reacts with the anodic oxide film material. Additionally, if the seed layer (SL) is made of copper (Cu), the seed layer (SL) is removed using a solution that selectively reacts with copper (Cu).

포토 레지스트를 몰드(M)로 이용하여 전기 도금하여 핀을 제조하는 기술에 따르면, 단일층의 포토 레지스트 만으로 몰드(M)의 높이를 충분히 높게 하는 것이 어렵다. 그로 인해 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 역시 충분히 두껍게 할 수 없게 된다. 전기전도성, 복원력 및 취성 파괴 등을 고려하여 전기 전도성 접촉핀(100)은 소정의 두께 이상으로 제작될 필요가 있다. 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께를 두껍게 하기 위해 포토 레지스트를 다단으로 적층한 몰드(M)를 이용할 수 있다. 하지만 이 경우에는 포토 레지시트 각 층별로 미세하게 단차지게 되어 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면이 수직하게 형성되지 않고 단차진 영역이 미세하게 남는 문제점이 발생하게 된다. 또한, 포토 레지스트를 다단으로 적층할 경우에는, 수 내지 수십 ㎛ 이하의 치수 범위를 가지는 전기 전도성 접촉핀(100)의 형상을 정밀하게 재현하는 것이 어렵다는 문제점이 발생하게 된다. 특히 포토 레지스트 재질의 몰드(M)는 그 내부 공간과 내부 공간 사이에 포토 레지스트가 구비되는데, 내부 공간들 사이에 구비되는 포토 레지스트의 폭이 15㎛이하인 경우에는, 포토 레지스트가 제대로 형성되지 않으며, 특히 폭 대비 높이가 큰 경우에는 해당 위치의 포토 레지스트의 기립 상태가 제대로 유지되지 못하는 문제가 발생하게 된다. According to the technology of manufacturing pins by electroplating using photoresist as a mold (M), it is difficult to make the height of the mold (M) sufficiently high with only a single layer of photoresist. As a result, the thickness of the electrically conductive contact pin 100 cannot be sufficiently thick. Considering electrical conductivity, resilience, brittle fracture, etc., the electrically conductive contact pin 100 needs to be manufactured to a predetermined thickness or more. In order to increase the thickness of the electrically conductive contact pin 100, a mold (M) in which photoresist is stacked in multiple stages can be used. However, in this case, each layer of the photoresist sheet is slightly stepped, causing the problem that the side of the electrically conductive contact pin 100 is not formed vertically and a slightly stepped area remains. In addition, when photoresists are stacked in multiple stages, a problem arises in that it is difficult to precisely reproduce the shape of the electrically conductive contact pin 100 having a size range of several to tens of μm or less. In particular, the mold M made of photoresist material is provided with photoresist between its inner spaces. If the width of the photoresist provided between the inner spaces is less than 15㎛, the photoresist is not formed properly. In particular, when the height to width ratio is large, a problem occurs in which the standing state of the photoresist at the corresponding position is not properly maintained.

도 8e를 참조하면, 본 발명의 바람직한 제1실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(100)은, 그 측면에 형성된 미세 트렌치(88)를 포함한다. 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에는 그 깊이가 20㎚ 이상 1㎛이하의 산과 골이 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향에 수직한 방향으로 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면을 따라 반복되는 주름진 형태의 미세 트렌치(88)가 형성된다.Referring to FIG. 8E, the electrically conductive contact pin 100 according to the first preferred embodiment of the present invention includes a fine trench 88 formed on its side. On the side of the electrically conductive contact pin 100, ridges and valleys with a depth of 20 nm or more and 1 μm or less are repeated along the side of the electrically conductive contact pin 100 in a direction perpendicular to the thickness direction of the electrically conductive contact pin 100. A fine trench 88 in a wrinkled shape is formed.

미세 트렌치(88)는 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에서 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향으로 길게 연장되어 형성된다. 다시 말해 미세 트렌치(88)의 산과 골의 연장 방향이 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향이 된다. 여기서 전기 전도성 접촉핀(100)의 두께 방향은 전기 도금 시 금속 충진물이 성장하는 방향을 의미한다. The fine trench 88 is formed to extend long from the side of the electrically conductive contact pin 100 in the thickness direction of the electrically conductive contact pin 100. In other words, the extension direction of the peaks and valleys of the micro trench 88 becomes the thickness direction of the electrically conductive contact pin 100. Here, the thickness direction of the electrically conductive contact pin 100 refers to the direction in which the metal filler grows during electroplating.

전기 전도성 접촉핀(100)을 구성하는 판상 플레이트의 측면에서, 미세 트렌치(88)는 판상 플레이트의 두께 방향에 수직한 방향으로 산과 골이 반복되는 주름진 형태로 구성된다. On the side of the plate-shaped plate constituting the electrically conductive contact pin 100, the micro trench 88 is formed in a wrinkled form in which peaks and valleys are repeated in a direction perpendicular to the thickness direction of the plate-shaped plate.

미세 트렌치(88)는 그 깊이가 20㎚ 이상 1㎛이하의 범위를 가지며, 그 폭 역시 20㎚ 이상 1㎛이하의 범위를 가진다. 여기서 미세 트렌치(88)는 양극산화막 몰드(M)의 제조시 형성된 포어에 기인한 것이기 때문에 미세 트렌치(88)의 폭과 깊이는 양극산화막 몰드(M)의 포어의 직경의 범위 이하의 값을 가진다. 한편, 양극산화막 몰드(M)에 내부 공간(IH)을 형성하는 과정에서 에칭 용액에 의해 양극산화막 몰드(M)의 포어의 일부가 서로 뭉개지면서 양극산화시 형성된 포어의 직경의 범위보다 보다 큰 범위의 깊이를 가지는 미세 트렌치(88)가 적어도 일부 형성될 수 있다. The fine trench 88 has a depth ranging from 20 nm to 1 μm, and its width also ranges from 20 nm to 1 μm. Here, since the fine trench 88 is caused by a pore formed during the manufacture of the anodic oxide mold (M), the width and depth of the fine trench 88 have values less than the range of the diameter of the pore of the anodic oxide mold (M). . Meanwhile, in the process of forming the internal space (IH) in the anodic oxide mold (M), some of the pores of the anodic oxide mold (M) are crushed by the etching solution, and the diameter of the pores formed during anodization is larger than that of the pores. At least a portion of the fine trench 88 may be formed with a depth of .

양극산화막 몰드(M)는 수많은 포어들을 포함하고 이러한 양극산화막 몰드(M)의 적어도 일부를 에칭하여 내부 공간(IH)을 형성하고, 내부 공간(IH) 내부로 전기 도금으로 전기 전도성 접촉핀(100)을 제작하므로, 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에는 양극산화막 몰드(M)의 포어와 접촉하면서 형성되는 미세 트렌치(88)가 구비되는 것이다. The anodic oxide film mold (M) includes numerous pores, and at least a portion of the anodic oxide film mold (M) is etched to form an internal space (IH), and an electrically conductive contact pin (100) is formed by electroplating into the internal space (IH). ) is manufactured, the side of the electrically conductive contact pin 100 is provided with a fine trench 88 formed while contacting the pores of the anodic oxide film mold (M).

위와 같은 미세 트렌치(88)는 그 깊이가 20㎚ 이상 1㎛이하의 산과 골이 두께 방향에 수직한 방향으로 반복되는 주름진 형태가 되므로, 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에 있어서 표면적을 크게 할 수 있는 효과를 가진다. 전기 전도성 접촉핀(100)의 측면에 형성되는 미세 트렌치(88)의 구성을 통해, 스킨 효과(skin effect)에 따라 전류가 흐르는 표면적을 증대시켜 전기 전도성 접촉핀(100)를 따라 흐르는 전류의 밀도가 증가되어 전기 전도성 접촉핀(100)의 전기적인 특성(특히, 고주파 특성)을 향상시킬 수 있다. 또한, 미세 트렌치(88)의 구성을 통해 전기 전도성 접촉핀(100)에서 발생한 열을 빠르게 방출할 수 있으므로 전기 전도성 접촉핀(100)의 온도 상승을 억제할 수 있게 된다.The fine trench 88 as described above has a wrinkled shape in which peaks and valleys with a depth of 20 nm or more and 1 ㎛ or less are repeated in the direction perpendicular to the thickness direction, so that the surface area on the side of the electrically conductive contact pin 100 can be increased. It has a possible effect. Through the configuration of the fine trench 88 formed on the side of the electrically conductive contact pin 100, the surface area through which the current flows according to the skin effect is increased, thereby increasing the density of the current flowing along the electrically conductive contact pin 100. can be increased to improve the electrical characteristics (particularly, high-frequency characteristics) of the electrically conductive contact pin 100. In addition, the configuration of the fine trench 88 allows the heat generated in the electrically conductive contact pin 100 to be quickly dissipated, thereby suppressing an increase in the temperature of the electrically conductive contact pin 100.

제2실시예Second embodiment

다음으로, 본 발명에 따른 제2실시예에 대해 살펴본다. 단, 이하 설명되는 실시예들은 상기 제1실시예와 비교하여 특징적인 구성요소들을 중심으로 설명하겠으며, 제1실시예와 동일하거나 유사한 구성요소들에 대한 설명은 되도록이면 생략한다.Next, we will look at the second embodiment according to the present invention. However, the embodiments described below will be described focusing on characteristic components compared to the first embodiment, and descriptions of components that are the same or similar to the first embodiment will be omitted if possible.

이하, 도 9를 참조하여, 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(200)에 대해 설명한다. 도 9는 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀 및 그 와이핑 동작을 도시한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIG. 9, the electrically conductive contact pin 200 according to the second preferred embodiment of the present invention will be described. Figure 9 is a diagram showing an electrically conductive contact pin and its wiping operation according to a second preferred embodiment of the present invention.

본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(200)은, 내측에 가이드부(227)가 마련된 공간부(225)를 구비하는 바디부(220); 공간부(220)에 적어도 일부가 삽입되어 이동 가능하게 구비되는 이동 팁부(230); 및 바디부(220)와 이동 팁부(230)를 탄력적으로 연결하는 연결부(250);를 포함하여 이동 팁부(230)의 머리부(231)는 가이드부(227)에 슬라이딩되어 이동 팁부(230)의 접속부(233)가 와이핑 동작을 한다. The electrically conductive contact pin 200 according to a second preferred embodiment of the present invention includes a body portion 220 having a space portion 225 with a guide portion 227 therein; A moving tip portion 230 at least partially inserted into the space 220 and movably provided; and a connection portion 250 that elastically connects the body portion 220 and the movable tip portion 230; the head portion 231 of the movable tip portion 230 slides on the guide portion 227 to form the movable tip portion 230. The connection part 233 performs a wiping operation.

이동 팁부(230)는 가이드부(227)에 슬라이딩 접촉하는 머리부(231)와, 검사 대상물과 접촉하는 접속부(233)와, 머리부(231)와 접속부(233)을 연결하는 목부(232)를 포함한다. The moving tip portion 230 includes a head portion 231 in sliding contact with the guide portion 227, a connection portion 233 in contact with the inspection object, and a neck portion 232 connecting the head portion 231 and the connection portion 233. Includes.

접속부(233)는 곡률을 가진 곡면 형태로 구비되어 접속부(233)가 와이핑 동작을 수행할 때 검사 대상물의 표면이 손상되는 것을 최소화한다. The connection part 233 is provided in the form of a curved surface to minimize damage to the surface of the inspection object when the connection part 233 performs a wiping operation.

가이드부(227)는 이동 팁부(230)의 머리부(231)가 접촉되는 부분이 일측 방향으로 상승하는 곡면 형태로 형성된다. 이동 팁부(130)의 머리부(231) 역시 곡면 형태로 형성되며, 머리부(231)는 가이드부(227)와 슬라이딩 접촉되어 가이드부(227)의 형상을 따라 슬라이딩 이동한다. The guide portion 227 is formed in a curved shape where the portion in contact with the head portion 231 of the moving tip portion 230 rises in one direction. The head portion 231 of the moving tip portion 130 is also formed in a curved shape, and the head portion 231 is in sliding contact with the guide portion 227 and slides along the shape of the guide portion 227.

걸림부(226)는 이동 팁부(230)의 머리부(231)가 공간부(225)로부터 이탈되지 않도록 한다. 걸림부(226)에 의해 형성된 개구 폭은 이동 팁부(230)의 머리부(231)의 크기보다 작게 형성되어 이동 팁부(230)는 공간부(225) 외부로 빠지지 않는다. 또한, 걸림부(226)는 이동 팁부(230)의 수평 이동 거리를 제한함으로써 이동 팁부(230)의 틸팅 각도를 제한한다. 접속부(233)가 검사 대상물의 전극 패드(WP)에 대해 와이핑하는 정도의 크기는, 걸림부(226)와 이동 팁부(230)간의 틈새의 크기로 제어 가능하다. 걸림부(226)와 이동 팁부(230)사이의 틈새는 허용 틸팅 각도를 결정하는 인자로서, 걸림부(226)와 이동 팁부(230)사이의 틈새가 크면 클수록 이동 팁부(230)의 접속부(233)의 틸팅 각도는 커지고, 걸림부(226)와 이동 팁부(230)사이의 틈새가 작으면 작을수록 이동 팁부(230)의 접속부(233)의 틸팅 각도는 작아지게 된다.The locking portion 226 prevents the head portion 231 of the moving tip portion 230 from being separated from the space portion 225. The width of the opening formed by the locking portion 226 is smaller than the size of the head portion 231 of the moving tip portion 230, so that the moving tip portion 230 does not fall out of the space portion 225. Additionally, the locking portion 226 limits the tilting angle of the moving tip portion 230 by limiting the horizontal movement distance of the moving tip portion 230. The extent to which the connection part 233 wipes the electrode pad WP of the inspection object can be controlled by the size of the gap between the locking part 226 and the moving tip part 230. The gap between the locking portion 226 and the moving tip portion 230 is a factor that determines the allowable tilting angle. The larger the gap between the locking portion 226 and the moving tip portion 230, the greater the connection portion 233 of the moving tip portion 230. ), the larger the tilting angle, and the smaller the gap between the locking portion 226 and the moving tip portion 230, the smaller the tilting angle of the connecting portion 233 of the moving tip portion 230 becomes.

이동 팁부(230)의 접속부(233)에 가압력이 작용하면 바디부(220) 내부에 위치하는 이동 팁부(230)의 적어도 일부는 바디부(220)의 내부와 슬라이딩 접촉되어 이동함에 따라 이동 팁부(230)의 접속부(233)가 와이핑 동작을 한다.When a pressing force is applied to the connection portion 233 of the movable tip portion 230, at least a portion of the movable tip portion 230 located inside the body portion 220 moves in sliding contact with the interior of the body portion 220, thereby causing the movable tip portion ( The connection portion 233 of 230 performs a wiping operation.

연결부(250)의 일단은 바디부(220)에 연결되고 연결부(250)의 타단은 이동 팁부(230)에 구비된다. 보다 구체적으로 연결부(250)의 일단은 검사 대상물 방향의 바디부(220)의 단부측에 연결되고 연결부(250)의 타단은 이동 팁부(230)의 측면에 연결된다. 연결부(250)는 일단이 바디부(220)의 단부측 좌측에 연결되고 타단이 이동 팁부(230)의 좌측 측면에 연결되는 제1연결부(251)와, 일단이 바디부(220)의 단부측 우측에 연결되고 타단이 이동 팁부(230)의 우측 측면에 연결되는 제2연결부(252)를 포함한다. One end of the connecting portion 250 is connected to the body portion 220 and the other end of the connecting portion 250 is provided to the moving tip portion 230. More specifically, one end of the connecting portion 250 is connected to the end side of the body portion 220 in the direction of the inspection object, and the other end of the connecting portion 250 is connected to the side of the moving tip portion 230. The connecting portion 250 includes a first connecting portion 251 having one end connected to the left side of the end side of the body portion 220 and the other end connected to the left side of the moving tip portion 230, and one end connected to the end side of the body portion 220. It includes a second connection portion 252 connected to the right side and the other end connected to the right side of the moving tip portion 230.

연결부(250)는 바디부(220)와 이동 팁부(230)를 서로 탄력적으로 연결하도록 판 스프링 모양으로 형성된다. 호 형태로 굴곡진 모양으로 형성되어 바디부(220)와 이동 팁부(230)를 서로 탄력적으로 연결한다. 연결부(230)의 두께(H)는 바디부(220)의 두께(H)와 동일 두께로 형성된다. 연결부(250)는 이동 팁부(230)의 접속부(233)에 가압력이 작용하면 이동 팁부(230)의 이동에 따라 압축되고 이동 팁부(230)에 가해진 가압력이 해제되면 원래 상태로 복원되면서 이동 팁부(230)를 원래 위치로 돌아가도록 한다. The connection portion 250 is formed in the shape of a leaf spring to elastically connect the body portion 220 and the moving tip portion 230 to each other. It is formed in an arc-shaped curved shape to elastically connect the body portion 220 and the moving tip portion 230 to each other. The thickness H of the connection portion 230 is formed to be the same as the thickness H of the body portion 220. When a pressing force is applied to the connecting part 233 of the moving tip part 230, the connecting part 250 is compressed according to the movement of the moving tip part 230, and when the pressing force applied to the moving tip part 230 is released, it is restored to its original state and the moving tip part ( 230) to return to its original position.

한편, 연결부(250)의 구성은 이에 한정되는 것은 아니고 앞서 설명한 제1실시예의 연결부(150)의 구성을 채용한 것도 가능하다. Meanwhile, the configuration of the connecting portion 250 is not limited to this, and it is also possible to adopt the configuration of the connecting portion 150 of the first embodiment described above.

종래 기술은 프로브 핀(7) 자체가 탄성 변형되면서 산화막층(8)을 제거하는 공정을 수행하는 구조인 반면에, 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(200)은, 바디부(220)에 상대 변위 가능하게 구비되는 이동 팁부(230)가 와이핑 동작을 수행하는 구조라는 점에서 와이핑 동작의 기본적인 작동원리에 차이가 있다. While the conventional technology is structured to perform a process of removing the oxide layer 8 while elastically deforming the probe pin 7 itself, the electrically conductive contact pin 200 according to the second preferred embodiment of the present invention has a body. There is a difference in the basic operating principle of the wiping operation in that the movable tip unit 230, which is provided in the unit 220 to enable relative displacement, is structured to perform the wiping operation.

산화막층(8)에 과도한 접촉압력을 부여하여 과도한 접촉압력으로 산화막층(8)을 뚫고 통전 상태를 형성하는 종래 기술과는 달리, 본 발명의 바람직한 제2실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(200)은 이동 팁부(230)가 바디부(220)에 대해 상대 틸팅되면서 산화막층(8)을 제거하기 때문에 전극 패드(WP)가 손상되는 것을 최소화할 수 있게 된다. Unlike the prior art in which excessive contact pressure is applied to the oxide layer 8 to penetrate the oxide layer 8 and form a current-carrying state, the electrically conductive contact pin 200 according to the second preferred embodiment of the present invention ) removes the oxide layer 8 while the moving tip portion 230 is tilted relative to the body portion 220, thereby minimizing damage to the electrode pad WP.

제3실시예Third embodiment

다음으로, 본 발명에 따른 제3실시예에 대해 살펴본다. 단, 이하 설명되는 실시예들은 상기 제1실시예와 비교하여 특징적인 구성요소들을 중심으로 설명하겠으며, 제1실시예와 동일하거나 유사한 구성요소들에 대한 설명은 되도록이면 생략한다.Next, we will look at the third embodiment according to the present invention. However, the embodiments described below will be described focusing on characteristic components compared to the first embodiment, and descriptions of components that are the same or similar to the first embodiment will be omitted if possible.

이하, 도 10을 참조하여, 본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(300)에 대해 설명한다. 도 10은 본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀 및 그 와이핑 동작을 도시한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIG. 10, an electrically conductive contact pin 300 according to a third preferred embodiment of the present invention will be described. Figure 10 is a diagram showing an electrically conductive contact pin and its wiping operation according to a third preferred embodiment of the present invention.

본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(300)은, 내측에 가이드부(327)가 마련된 공간부(325)를 구비하는 바디부(320); 공간부(320)에 적어도 일부가 삽입되어 이동 가능하게 구비되는 이동 팁부(330); 및 바디부(320)와 이동 팁부(330)를 탄력적으로 연결하는 연결부(350);를 포함하여 이동 팁부(330)의 머리부(331)는 가이드부(327)에 슬라이딩되어 이동 팁부(330)의 접속부(333)가 와이핑 동작을 한다. The electrically conductive contact pin 300 according to a third preferred embodiment of the present invention includes a body portion 320 having a space portion 325 with a guide portion 327 therein; A movable tip portion 330 that is at least partially inserted into the space 320 and movably provided; and a connection portion 350 that elastically connects the body portion 320 and the movable tip portion 330; the head portion 331 of the movable tip portion 330 slides on the guide portion 327 to form the movable tip portion 330. The connection part 333 performs a wiping operation.

이동 팁부(330)는 가이드부(327)에 슬라이딩 접촉하는 머리부(331)와, 검사 대상물과 접촉하는 접속부(333)를 포함한다. 접속부(333)는 곡률을 가진 곡면 형태로 구비되어 접속부(333)가 와이핑 동작을 수행할 때 검사 대상물의 표면이 손상되는 것을 최소화한다. The movable tip portion 330 includes a head portion 331 in sliding contact with the guide portion 327 and a connection portion 333 in contact with the inspection object. The connection part 333 is provided in the form of a curved surface to minimize damage to the surface of the inspection object when the connection part 333 performs a wiping operation.

가이드부(327)는 이동 팁부(330)의 머리부(331)가 접촉되는 부분이 일측 방향으로 상승하도록 사선 형태로 형성된다. 가이드부(327)은 우측 상향하는 사선 형태의 제1가이드부(327a)와, 우측 하향하는 사선 형태의 제2가이드부(327b)를 포함한다. The guide portion 327 is formed in a diagonal shape so that the portion in contact with the head portion 331 of the moving tip portion 330 rises in one direction. The guide part 327 includes a first guide part 327a in the form of a diagonal line oriented upward to the right, and a second guide part 327b in the form of a diagonal line oriented downward to the right.

이동 팁부(330)의 머리부(331)는 우측 상향하는 사선 형태의 제1측변(331a)과, 우측 하향하는 사선 형태의 제2측변(331b)으로 구성되는 삼각형 모양으로 형성된다. 이동 팁부(33)가 가압력에 의해 제2측변(331b)과 제2가이드부(327b)이 서로 맞닿아 슬라이딩 이동됨에 따라 이동 팁부(330)의 접속부(333)는 수평 방향으로 이동한다. 이후 제1측변(331a)이 제1가이드부(327a)에 맞닿게 되면, 머리부(331)의 이동은 정지된다. The head portion 331 of the moving tip portion 330 is formed in a triangular shape consisting of a first side side 331a in the form of a diagonal line pointing upward to the right and a second side side 331b in the form of a diagonal line pointing downward to the right. As the movable tip portion 33 slides so that the second side side 331b and the second guide portion 327b come into contact with each other by pressing force, the connection portion 333 of the movable tip portion 330 moves in the horizontal direction. Afterwards, when the first side 331a comes into contact with the first guide part 327a, the movement of the head 331 is stopped.

걸림부(326)는 이동 팁부(330)의 머리부(331)가 공간부(325)로부터 이탈되지 않도록 한다. 걸림부(326)에 의해 형성된 개구 폭은 이동 팁부(330)의 머리부(331)의 크기보다 작게 형성되어 이동 팁부(330)는 공간부(325) 외부로 빠지지 않는다. The locking portion 326 prevents the head portion 331 of the moving tip portion 330 from being separated from the space portion 325. The width of the opening formed by the locking portion 326 is smaller than the size of the head portion 331 of the movable tip portion 330, so that the movable tip portion 330 does not fall out of the space 325.

이동 팁부(330)의 접속부(333)에 가압력이 작용하면 바디부(320) 내부에 위치하는 이동 팁부(330)의 적어도 일부는 바디부(320)의 내부와 슬라이딩 접촉되어 이동함에 따라 이동 팁부(330)의 접속부(333)가 와이핑 동작을 한다.When a pressing force is applied to the connection portion 333 of the movable tip portion 330, at least a portion of the movable tip portion 330 located inside the body portion 320 moves in sliding contact with the interior of the body portion 320, thereby causing the movable tip portion ( The connection portion 333 of 330 performs a wiping operation.

연결부(350)의 일단은 바디부(320)에 연결되고 연결부(350)의 타단은 이동 팁부(330)에 구비된다. 보다 구체적으로 연결부(350)의 일단은 검사 대상물 방향의 바디부(320)의 단부측에 연결되고 연결부(350)의 타단은 이동 팁부(330)의 측면에 연결된다. 연결부(350)는 일단이 바디부(320)의 단부측 좌측에 연결되고 타단이 이동 팁부(330)의 좌측 측면에 연결되는 제1연결부(351)와, 일단이 바디부(320)의 단부측 우측에 연결되고 타단이 이동 팁부(330)의 우측 측면에 연결되는 제2연결부(352)를 포함한다. One end of the connecting portion 350 is connected to the body portion 320 and the other end of the connecting portion 350 is provided to the moving tip portion 330. More specifically, one end of the connecting portion 350 is connected to the end side of the body portion 320 in the direction of the inspection object, and the other end of the connecting portion 350 is connected to the side of the moving tip portion 330. The connecting portion 350 includes a first connecting portion 351 having one end connected to the left side of the end side of the body portion 320 and the other end connected to the left side of the moving tip portion 330, and one end connected to the end side of the body portion 320. It includes a second connection portion 352 connected to the right side and the other end connected to the right side of the moving tip portion 330.

연결부(350)는 바디부(320)와 이동 팁부(330)를 서로 탄력적으로 연결하도록 판 스프링 모양으로 형성된다. 호 형태로 굴곡진 모양으로 형성되어 바디부(320)와 이동 팁부(330)를 서로 탄력적으로 연결한다. 연결부(330)의 두께(H)는 바디부(320)의 두께(H)와 동일 두께로 형성된다. 연결부(350)는 이동 팁부(330)의 접속부(333)에 가압력이 작용하면 이동 팁부(330)의 이동에 따라 압축되고 이동 팁부(330)에 가해진 가압력이 해제되면 원래 상태로 복원되면서 이동 팁부(330)를 원래 위치로 돌아가도록 한다. The connection portion 350 is formed in the shape of a leaf spring to elastically connect the body portion 320 and the moving tip portion 330 to each other. It is formed in an arc-shaped curved shape to elastically connect the body portion 320 and the moving tip portion 330 to each other. The thickness H of the connection portion 330 is formed to be the same as the thickness H of the body portion 320. When a pressing force is applied to the connecting part 333 of the moving tip part 330, the connecting part 350 is compressed according to the movement of the moving tip part 330, and when the pressing force applied to the moving tip part 330 is released, it is restored to its original state and the moving tip part ( 330) to return to its original position.

한편, 연결부(250)의 구성은 이에 한정되는 것은 아니고 앞서 설명한 제1실시예의 연결부(150)의 구성을 채용한 것도 가능하다. Meanwhile, the configuration of the connecting portion 250 is not limited to this, and it is also possible to adopt the configuration of the connecting portion 150 of the first embodiment described above.

이동 팁부(330)의 접속부(333)에 가압력이 작용하면 이동 팁부(330)의 머리부(331)는 가이드부(327)에 접촉되어 가이드부(327)를 따라 이동하면서 이동 팁부(330)의 접속부(333)가 수평이동한다. 제3실시예는 제1,2,4실시예와는 다르게 이동 팁부(330)가 틸팅되지 않고 접속부(333)가 검사 대상물의 표면에서 수평 방향으로 이동하면서 산화막층을 제거한다는 점에서 차이가 있을 수 있다. 이동 팁부(330)가 바디부(320)에 대해 수평 방향으로 상대 이동하면서 산화막층을 제거한다는 점에서 와이핑 과정에서 검사 대상물의 표면을 손상시키는 것을 최소화할 수 있게 된다. When a pressing force is applied to the connection portion 333 of the movable tip portion 330, the head portion 331 of the movable tip portion 330 is in contact with the guide portion 327 and moves along the guide portion 327 to move the movable tip portion 330. The connection part 333 moves horizontally. The third embodiment differs from the first, second, and fourth embodiments in that the moving tip portion 330 is not tilted and the connection portion 333 moves horizontally on the surface of the inspection object to remove the oxide layer. You can. Since the moving tip portion 330 removes the oxide layer while moving relative to the body portion 320 in the horizontal direction, damage to the surface of the inspection object during the wiping process can be minimized.

종래 기술은 프로브 핀(7) 자체가 탄성 변형되면서 산화막층(8)을 제거하는 공정을 수행하는 구조인 반면에, 본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(300)은, 바디부(320)에 상대 변위 가능하게 구비되는 이동 팁부(330)가 와이핑 동작을 수행하는 구조라는 점에서 와이핑 동작의 기본적인 작동원리에 차이가 있다. While the conventional technology is structured to perform a process of removing the oxide layer 8 while elastically deforming the probe pin 7 itself, the electrically conductive contact pin 300 according to the third preferred embodiment of the present invention has a body. There is a difference in the basic operating principle of the wiping operation in that the movable tip unit 330, which is provided in the unit 320 to enable relative displacement, is structured to perform the wiping operation.

산화막층(8)에 과도한 접촉압력을 부여하여 과도한 접촉압력으로 산화막층(8)을 뚫고 통전 상태를 형성하는 종래 기술과는 달리, 본 발명의 바람직한 제3실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(300)은 이동 팁부(330)가 바디부(320)에 대해 상대 이동되면서 산화막층(8)을 제거하기 때문에 전극 패드(WP)가 손상되는 것을 최소화할 수 있게 된다. Unlike the prior art in which excessive contact pressure is applied to the oxide film layer 8 to penetrate the oxide film layer 8 and form a current-carrying state, the electrically conductive contact pin 300 according to the third preferred embodiment of the present invention ) removes the oxide film layer 8 while the moving tip part 330 moves relative to the body part 320, thereby minimizing damage to the electrode pad WP.

제4실시예Embodiment 4

다음으로, 본 발명에 따른 제4실시예에 대해 살펴본다. 단, 이하 설명되는 실시예들은 상기 제1실시예와 비교하여 특징적인 구성요소들을 중심으로 설명하겠으며, 제1실시예와 동일하거나 유사한 구성요소들에 대한 설명은 되도록이면 생략한다.Next, we will look at the fourth embodiment according to the present invention. However, the embodiments described below will be described focusing on characteristic components compared to the first embodiment, and descriptions of components that are the same or similar to the first embodiment will be omitted if possible.

이하, 도 11 및 도 12를 참조하여, 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(300)에 대해 설명한다. 도 11은 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(400)을 도시한 도면이고, 도 12는 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(400)의 와이핑 동작을 도시한 도면이다.Hereinafter, with reference to FIGS. 11 and 12, the electrically conductive contact pin 300 according to the fourth preferred embodiment of the present invention will be described. FIG. 11 is a diagram showing an electrically conductive contact pin 400 according to a fourth preferred embodiment of the present invention, and FIG. 12 is a diagram showing a wiping operation of the electrically conductive contact pin 400 according to a fourth preferred embodiment of the present invention. This is a drawing showing.

바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(400)은, 이동 팁부(430) 및 바디부(420)를 포함한다.The electrically conductive contact pin 400 according to the fourth preferred embodiment includes a moving tip portion 430 and a body portion 420.

이동 팁부(430)는, 전기 전도성 접촉핀(400)의 제1단부측에 위치하는 제1이동 팁부(431)와, 전기 전도성 접촉핀(400)의 제2단부측에 위치하는 제2 이동 팁부(435);를 포함한다.The movable tip portion 430 includes a first movable tip portion 431 located on the first end side of the electrically conductive contact pin 400, and a second movable tip portion located on the second end side of the electrically conductive contact pin 400. (435); Includes.

바디부(420)는, 제1이동 팁부(431)와 제2이동 팁부(435)가 전기 전도성 접촉핀(400)의 길이방향으로 탄력적으로 변위되도록 하는 탄성부(421); 및 탄성부(421)가 전기 전도성 접촉핀(400)의 길이방향으로 압축 및 신장되도록 안내하며, 탄성부(421)가 압축되면서 좌굴되는 것을 방지하도록 전기 전도성 접촉핀(400)의 길이 방향을 따라 탄성부(421)의 외측에 구비되는 지지부(425);를 포함한다.The body portion 420 includes an elastic portion 421 that allows the first movable tip portion 431 and the second movable tip portion 435 to elastically displace in the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin 400; and guides the elastic portion 421 to be compressed and expanded in the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin 400, and is positioned along the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin 400 to prevent the elastic portion 421 from buckling while being compressed. It includes a support part 425 provided on the outside of the elastic part 421.

제1이동 팁부(431)의 일단은 자유단이고 타단은 제1탄성부(421a)에 연결되어 접촉압력에 의해 탄력적으로 수직 이동이 가능하다. 제2이동 팁부(435)의 일단은 자유단이고 타단은 제2탄성부(421b)에 연결되어 접촉 압력에 의해 탄력적으로 수직 이동이 가능하다. One end of the first movable tip portion 431 is a free end and the other end is connected to the first elastic portion 421a, allowing elastic vertical movement by contact pressure. One end of the second movable tip portion 435 is a free end and the other end is connected to the second elastic portion 421b, allowing elastic vertical movement by contact pressure.

제1탄성부(421a)의 일단은 제1이동 팁부(431)에 연결되고 타단은 중간 고정부(421c)에 연결된다. 제2탄성부(421b)의 일단은 연결부(450)에 연결되고 타단은 중간 고정부(421c)에 연결된다. 연결부(450)는 바디부(420)의 제2탄성부(421b)와 제2이동 팁부(435)를 연결한다. One end of the first elastic part 421a is connected to the first movable tip part 431, and the other end is connected to the middle fixing part 421c. One end of the second elastic part 421b is connected to the connecting part 450 and the other end is connected to the middle fixing part 421c. The connection portion 450 connects the second elastic portion 421b of the body portion 420 and the second movable tip portion 435.

지지부(425)는 탄성부(421)의 좌측에 구비되는 제1지지부(425a)와 탄성부(421)의 우측에 구비되는 제2지지부(425b)를 포함한다. The support portion 425 includes a first support portion 425a provided on the left side of the elastic portion 421 and a second support portion 425b provided on the right side of the elastic portion 421.

중간 고정부(421c)는 전기 전도성 접촉핀(400)의 폭방향으로 연장되어 형성되며, 제1지지부(425a)와 제2지지부(425b)를 연결한다. The intermediate fixing portion 421c extends in the width direction of the electrically conductive contact pin 400 and connects the first support portion 425a and the second support portion 425b.

제1탄성부(421a)는 중간 고정부(421c)를 기준으로 그 상부에 구비되고, 제2탄성부(421b)는 중간 고정부(421c)를 기준으로 그 하부에 구비된다. 중간 고정부(421c)를 기준으로 제1탄성부(421a) 및 제2탄성부(421b)가 압축 또는 신장 변형된다. 중간 고정부(421c)는 제1,2지지부(425a, 425b)에 고정되어 제1,2탄성부(421a, 421b)가 압축 변형될 때에 제1,2탄성부(421a, 421b)의 위치 이동을 제한하는 기능을 수행하게 된다. The first elastic part 421a is provided above the middle fixing part 421c, and the second elastic part 421b is provided below the middle fixing part 421c. The first elastic part 421a and the second elastic part 421b are compressed or stretched based on the intermediate fixing part 421c. The intermediate fixing part 421c is fixed to the first and second supporting parts 425a and 425b and moves the position of the first and second elastic parts 421a and 421b when the first and second elastic parts 421a and 421b are compressed and deformed. It performs a limiting function.

중간 고정부(421c)에 의해, 제1탄성부(421a)가 구비되는 영역과 제2탄성부(421b)가 구비되는 영역이 서로 구분이 된다. 따라서 상부 개구부(143a)로 유입된 이물질은 제2탄성부(421b) 측으로 유입되지 못하고, 하부 개구부(143b)로 유입된 이물질 역시 제1탄성부(421a)측으로 유입되지 못하게 된다. 이를 통해 지지부(425) 내측으로 유입된 이물질의 이동을 제한함으로써 이물질에 의해 제1,2탄성부(421a, 421b)의 작동이 방해되는 것을 방지할 수 있다. By the intermediate fixing part 421c, the area where the first elastic part 421a is provided and the area where the second elastic part 421b is provided are separated from each other. Accordingly, foreign matter flowing into the upper opening 143a cannot flow into the second elastic part 421b, and foreign matter flowing into the lower opening 143b also cannot flow into the first elastic part 421a. Through this, it is possible to prevent the operation of the first and second elastic parts 421a and 421b from being disturbed by foreign substances by restricting the movement of foreign substances introduced into the support portion 425.

제1지지부(425a)와 제2지지부(425b)는 전기 전도성 접촉핀(400)의 길이 방향을 따라 형성되며, 제1지지부(425a)와 제2지지부(425b)는 전기 전도성 접초핀(100)의 폭 방향을 따라 연장되어 형성되는 중간 고정부(421c)에 일체로 연결된다. 제1,2탄성부(421a, 421b)는 중간 고정부(421c)를 통해 일체로 연결되면서, 전기 전도성 접촉핀(400)은 전체적으로 한 몸체로 구성된다. The first support portion 425a and the second support portion 425b are formed along the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin 400, and the first support portion 425a and the second support portion 425b are formed along the electrically conductive contact pin 100. It is integrally connected to the intermediate fixing portion 421c that extends along the width direction of . The first and second elastic parts 421a and 421b are integrally connected through the middle fixing part 421c, and the electrically conductive contact pin 400 is composed of one body as a whole.

제1,2탄성부(421a, 421b)는 복수개의 직선부와 복수개의 만곡부가 교대로 접속되어 형성된다. 직선부는 좌, 우로 인접하는 만곡부를 연결하며, 만곡부는 상, 하로 인접하는 직선부를 연결한다. 만곡부는 원호 형상으로 구비된다.The first and second elastic parts 421a and 421b are formed by alternately connecting a plurality of straight parts and a plurality of curved parts. The straight part connects the curved parts that are adjacent to the left and right, and the curved part connects the straight parts that are adjacent to the top and bottom. The curved portion is provided in an arc shape.

제1,2탄성부(421a, 421b)의 중앙 부위에는 직선부가 배치되고 제1,2탄성부(421a, 421b)의 외측 부위에는 만곡부가 배치된다. 직선부는 폭 방향과 평행하게 구비되어 접촉압에 따른 만곡부의 변형이 보다 쉽게 이루어지도록 한다. A straight portion is disposed at the central portion of the first and second elastic portions 421a and 421b, and a curved portion is disposed at an outer portion of the first and second elastic portions 421a and 421b. The straight portion is provided parallel to the width direction to make it easier to deform the curved portion according to contact pressure.

복수개의 전기 전도성 접촉핀(400)의 제1이동 팁부(431)들이 공간변환기(ST)의 접속 패드(CP)에 각각 안정적인 접촉이 가능할 정도의 압축량이 제1탄성부(421a)에 필요한 반면에, 제2탄성부(421b)는 복수개의 전기 전도성 접촉핀(400)의 제2이동 팁부(435)들이 칩들에 각각 안정적인 접촉이 가능할 정도의 압축량이 필요하다. 따라서 제1탄성부(421a)의 스프링 계수와 제2탄성부(421b)의 스프링 계수는 서로 다르다. 예컨대, 제1탄성부(421a)의 길이와 제2탄성부(421b)의 길이는 서로 다르게 구비된다. 또한, 제2탄성부(421b)의 길이는 제1탄성부(421a)의 길이보다 길게 형성될 수 있다.While the first elastic portion 421a requires a compression amount sufficient to allow the first moving tip portions 431 of the plurality of electrically conductive contact pins 400 to make stable contact with the connection pads (CP) of the space converter (ST). , the second elastic portion 421b requires an amount of compression that allows the second moving tip portions 435 of the plurality of electrically conductive contact pins 400 to make stable contact with each chip. Therefore, the spring coefficient of the first elastic part 421a and the spring coefficient of the second elastic part 421b are different from each other. For example, the length of the first elastic part 421a and the second elastic part 421b are provided differently. Additionally, the length of the second elastic portion 421b may be formed to be longer than the length of the first elastic portion 421a.

지지부(425)에는 제1이동 팁부(435)가 와이핑 동작할 수 있도록 하는 가이드부(427)가 구비된다. 가이드부(427)은 제1지지부(425a)에 구비되는 제1가이드부(427a)와 제2지지부(425b)에 구비되는 제2가이드부(427b)를 포함한다. 제1가이드부(427a)와 제2가이드부(427b)는 제1이동 팁부(435)의 머리부(437)가 가압력에 의해 일측 상향으로 이동할 수 있도록 가이드한다. 제1가이드부(427a)와 제2가이드부(427b)는 곡면의 형태로 구비된다. The support part 425 is provided with a guide part 427 that allows the first moving tip part 435 to perform a wiping operation. The guide part 427 includes a first guide part 427a provided in the first support part 425a and a second guide part 427b provided in the second support part 425b. The first guide part 427a and the second guide part 427b guide the head part 437 of the first movable tip part 435 to move upward to one side by pressing force. The first guide part 427a and the second guide part 427b are provided in a curved shape.

제1가이드부(427a)와 제2가이드부(427b)사이에는 공간부(429)가 마련된다. 공간부(429)는 제2이동 팁부(435)가 이동할 수 있는 공간으로서, 공간부(429)를 형성하는 지지부(425)의 내벽이 가이드부(427)가 된다. A space 429 is provided between the first guide part 427a and the second guide part 427b. The space 429 is a space in which the second movable tip part 435 can move, and the inner wall of the support part 425 forming the space 429 becomes the guide part 427.

제2이동 팁부(435)의 접속부(436)에 가압력이 작용하면 지지부(425) 내부에 위치하는 제2이동 팁부(435)의 적어도 일부는 지지부(425)의 내부와 슬라이딩 접촉되어 이동함에 따라 제2이동 팁부(435)의 접속부(436)가 와이핑 동작을 한다.When a pressing force is applied to the connection portion 436 of the second movable tip portion 435, at least a portion of the second movable tip portion 435 located inside the support portion 425 moves in sliding contact with the inside of the support portion 425. 2The connection portion 436 of the moving tip portion 435 performs a wiping operation.

제2탄성부(421b)는 제2이동 팁부(435)의 접속부(436)에 가압력이 작용하면 제2이동 팁부(435)의 이동에 따라 압축되고 제2이동 팁부(435)에 가해진 가압력이 해제되면 원래 상태로 복원되면서 제2이동 팁부(435)를 원래 위치로 돌아가도록 한다. 제2이동 팁부(435)가 원래 위치로 복원될 때에도 제2이동 팁부(435)는 제1가이드부(427a) 및 제2가이드부(427b) 중 적어도 어느 하나에 가이드되어 하강한다. When a pressing force is applied to the connection part 436 of the second movable tip part 435, the second elastic part 421b is compressed according to the movement of the second movable tip part 435, and the pressing force applied to the second movable tip part 435 is released. When this happens, it is restored to its original state and the second moving tip part 435 returns to its original position. Even when the second movable tip part 435 is restored to its original position, the second movable tip part 435 is guided by at least one of the first guide part 427a and the second guide part 427b and moves down.

가이드부(427)는 적어도 일부가 곡면의 형태이거나 적어도 일부가 사선의 형태일 수 있으며, 다만, 이러한 형상으로 한정하는 것은 아니고, 제2이동 팁부(435)에 가압력이 작용되었을 때 제2이동 팁부(435)가 와이핑 동작을 수행할 수 있는 형상이라면 모두 포함된다. At least part of the guide part 427 may be in the form of a curved surface or at least part may be in the form of an oblique line, but it is not limited to this shape, and when a pressing force is applied to the second movable tip part 435, the second movable tip part 435 Any shape in which 435 can perform a wiping operation is included.

종래 기술은 프로브 핀(7) 자체가 탄성 변형되면서 산화막층(8)을 제거하는 공정을 수행하는 구조인 반면에, 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(400)은, 바디부(420)에 상대 변위 가능하게 구비되는 제2이동 팁부(435)가 와이핑 동작을 수행하는 구조라는 점에서 와이핑 동작의 기본적인 작동원리에 차이가 있다. While the conventional technology is structured to perform a process of removing the oxide layer 8 while the probe pin 7 itself is elastically deformed, the electrically conductive contact pin 400 according to the fourth preferred embodiment of the present invention has a body. There is a difference in the basic operating principle of the wiping operation in that the second movable tip unit 435, which is provided in the unit 420 to enable relative displacement, is structured to perform the wiping operation.

산화막층(8)에 과도한 접촉압력을 부여하여 과도한 접촉압력으로 산화막층(8)을 뚫고 통전 상태를 형성하는 종래 기술과는 달리, 본 발명의 바람직한 제4실시예에 따른 전기 전도성 접촉핀(400)은 제2이동 팁부(435)가 바디부(420)에 대해 상대 틸팅되면서 산화막층(8)을 제거하기 때문에 전극 패드(WP)가 손상되는 것을 최소화할 수 있게 된다. Unlike the prior art in which excessive contact pressure is applied to the oxide film layer 8 to penetrate the oxide film layer 8 and form a current-carrying state, the electrically conductive contact pin 400 according to the fourth preferred embodiment of the present invention ) removes the oxide layer 8 while the second moving tip portion 435 is tilted relative to the body portion 420, thereby minimizing damage to the electrode pad WP.

전술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 통상의 기술자는 하기의 특허 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 또는 변형하여 실시할 수 있다.As described above, although the present invention has been described with reference to preferred embodiments, those skilled in the art may modify the present invention in various ways without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the following patent claims. Or, it can be carried out in modification.

100: 전기 전도성 접촉핀 110: 고정팁부
120: 바디부 130: 이동팁부
160: 제1금속층 180: 제2금속층
100: electrically conductive contact pin 110: fixed tip portion
120: body part 130: moving tip part
160: first metal layer 180: second metal layer

Claims (14)

전기를 인가하여 검사 대상물의 불량 여부를 확인하기 위한 검사장치에 구비되어 검사 대상물과 전기적, 물리적으로 접촉하여 전기적 신호를 전달하는데 사용되는 전도성 접촉핀에 있어서,
내측에 가이드부가 마련된 공간부를 구비하는 바디부; 및
상기 공간부에 적어도 일부가 삽입되어 이동가능하게 구비되는 이동 팁부;를 포함하되,
상기 이동 팁부의 머리부는 상기 가이드부에 슬라이딩되어 상기 이동 팁부의 접속부가 와이핑 동작을 하고,
상기 바디부는 상기 공간부의 하부측에 형성된 걸림부를 포함하고,
상기 걸림부는 상기 이동 팁부의 머리부가 상기 공간부로부터 이탈되는 것을 방지하는, 전기 전도성 접촉핀.
In the conductive contact pin provided in an inspection device for applying electricity to check whether an inspection object is defective and used to transmit an electrical signal by electrically and physically contacting the inspection object,
A body portion having a space portion provided with a guide portion on the inside; and
A moving tip portion at least partially inserted into the space and movably provided,
The head of the moving tip portion slides on the guide portion so that the connecting portion of the moving tip portion performs a wiping operation,
The body portion includes a locking portion formed on a lower side of the space portion,
An electrically conductive contact pin wherein the locking portion prevents the head portion of the moving tip portion from being separated from the space portion.
제1항에 있어서,
상기 바디부와 상기 이동 팁부를 탄력적으로 연결하는 연결부를 포함하는, 전기 전도성 접촉핀.
According to paragraph 1,
An electrically conductive contact pin including a connection portion that elastically connects the body portion and the moving tip portion.
제2항에 있어서,
상기 연결부는 상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 압축되고 상기 이동 팁부에 가압력이 해제되면 복원되는, 전기 전도성 접촉핀.
According to paragraph 2,
The connecting portion is compressed when a pressing force is applied to the connecting portion of the moving tip portion and is restored when the pressing force is released from the moving tip portion.
제2항에 있어서,
상기 연결부는 상기 공간부에 구비되어 상기 바디부와 상기 이동 팁부를 연결하는, 전기 전도성 접촉핀.
According to paragraph 2,
The connecting portion is provided in the space portion and connects the body portion and the moving tip portion.
제2항에 있어서,
상기 연결부는 상기 바디부의 외측에서 구비되어 상기 바디부와 상기 이동 팁부를 연결하는, 전기 전도성 접촉핀.
According to paragraph 2,
The connecting portion is provided outside the body portion and connects the body portion and the moving tip portion.
제1항에 있어서,
상기 바디부의 탄성부와 상기 이동 팁부를 연결하는 연결부를 포함하는, 전기 전도성 접촉핀.
According to paragraph 1,
An electrically conductive contact pin including a connecting portion connecting the elastic portion of the body portion and the moving tip portion.
제1항에 있어서,
상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 이동 팁부의 머리부는 상기 가이드부에 접촉되어 슬라이딩 이동하며 상기 머리부의 이동 방향은 상기 가압력의 축선 방향과 일치하지 않는, 전기 전도성 접촉핀.
According to paragraph 1,
When a pressing force is applied to the connection part of the moving tip part, the head of the moving tip part comes into contact with the guide part and moves slidingly, and the moving direction of the head does not coincide with the axis direction of the pressing force.
제1항에 있어서,
상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 이동 팁부의 머리부는 상기 가이드부에 접촉되어 상기 가이드부를 따라 이동하면서 상기 이동 팁부가 틸팅되는, 전기 전도성 접촉핀.
According to paragraph 1,
An electrically conductive contact pin, wherein when a pressing force is applied to the connection portion of the movable tip portion, the head of the movable tip portion contacts the guide portion and moves along the guide portion, thereby tilting the movable tip portion.
제1항에 있어서,
상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 이동 팁부의 머리부는 상기 가이드부에 접촉되어 상기 가이드부를 따라 이동하면서 상기 이동 팁부의 접속부가 수평이동하는, 전기 전도성 접촉핀.
According to paragraph 1,
When a pressing force is applied to the connection part of the movable tip part, the head part of the movable tip part contacts the guide part and moves along the guide part, and the connection part of the movable tip part moves horizontally.
전기를 인가하여 검사 대상물의 불량 여부를 확인하기 위한 검사장치에 구비되어 검사 대상물과 전기적, 물리적으로 접촉하여 전기적 신호를 전달하는데 사용되는 전도성 접촉핀에 있어서,
내측에 가이드부가 마련된 공간부를 구비하는 바디부; 및
상기 바디부의 단부측에서 상기 바디부 내부로 적어도 일부가 삽입되는 이동 팁부;를 포함하되,
상기 이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 바디부 내부에 위치하는 이동 팁부의 적어도 일부는 상기 바디부의 내부와 슬라이딩 접촉되어 이동함에 따라 상기 이동 팁부의 접속부가 와이핑 동작을 하고,
상기 바디부는 상기 공간부의 하부측에 형성된 걸림부를 포함하고,
상기 걸림부는 상기 이동 팁부의 머리부가 상기 공간부로부터 이탈되는 것을 방지하는, 전기 전도성 접촉핀.
In the conductive contact pin provided in an inspection device for applying electricity to check whether an inspection object is defective and used to transmit an electrical signal by electrically and physically contacting the inspection object,
A body portion having a space portion provided with a guide portion on the inside; and
Includes a movable tip portion at least partially inserted into the body portion from an end side of the body portion,
When a pressing force is applied to the connection portion of the movable tip portion, at least a portion of the movable tip portion located inside the body portion slides into contact with the interior of the body portion and moves, causing the connection portion of the movable tip portion to perform a wiping operation,
The body portion includes a locking portion formed on a lower side of the space portion,
An electrically conductive contact pin wherein the locking portion prevents the head portion of the moving tip portion from being separated from the space portion.
전기를 인가하여 검사 대상물의 불량 여부를 확인하기 위한 검사장치에 구비되어 검사 대상물과 전기적, 물리적으로 접촉하여 전기적 신호를 전달하는데 사용되는 전기 전도성 접촉핀에 있어서,
이동 팁부 및 바디부를 포함하되,
상기 이동 팁부는,
상기 전기 전도성 접촉핀의 제1단부측에 위치하는 제1이동 팁부; 및
상기 전기 전도성 접촉핀의 제2단부측에 위치하는 제2이동 팁부;를 포함하고,
상기 바디부는,
상기 제1이동 팁부와 상기 제2이동 팁부가 상기 전기 전도성 접촉핀의 길이방향으로 탄력적으로 변위되도록 하는 탄성부; 및
상기 탄성부가 상기 전기 전도성 접촉핀의 길이방향으로 압축 및 신장되도록 안내하며, 상기 탄성부가 압축되면서 좌굴되는 것을 방지하도록 상기 전기 전도성 접촉핀의 길이 방향을 따라 상기 탄성부의 외측에 구비되는 지지부;를 포함하고,
상기 제2이동 팁부의 접속부에 가압력이 작용하면 상기 지지부 내부에 위치하는 제2이동 팁부의 적어도 일부는 상기 지지부의 내부와 슬라이딩 접촉되어 이동함에 따라 상기 제2이동 팁부의 접속부가 와이핑 동작을 하고,
상기 바디부는 상기 지지부에 형성된 공간부, 및 상기 공간부의 하부측에 형성된 걸림부를 더 포함하고,
상기 걸림부는 상기 제2이동 팁부의 머리부가 상기 공간부로부터 이탈되는 것을 방지하는, 전기 전도성 접촉핀.
In the electrically conductive contact pin provided in an inspection device to determine whether an inspection object is defective by applying electricity and used to transmit an electrical signal by electrically and physically contacting the inspection object,
Including a moving tip part and a body part,
The moving tip part,
a first moving tip portion located on a first end side of the electrically conductive contact pin; and
It includes a second moving tip portion located on the second end side of the electrically conductive contact pin,
The body part,
an elastic portion that allows the first movable tip portion and the second movable tip portion to elastically displace in the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin; and
A support portion is provided on the outside of the elastic portion along the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin to guide the elastic portion to compress and expand in the longitudinal direction of the electrically conductive contact pin, and to prevent the elastic portion from buckling while being compressed. do,
When a pressing force is applied to the connection portion of the second movable tip portion, at least a portion of the second movable tip portion located inside the support portion moves in sliding contact with the inside of the support portion, and the connection portion of the second movable tip portion performs a wiping operation. ,
The body portion further includes a space portion formed in the support portion, and a locking portion formed on a lower side of the space portion,
An electrically conductive contact pin wherein the locking portion prevents the head of the second moving tip portion from being separated from the space portion.
제11항에 있어서,
상기 탄성부는,
상기 제1이동 팁부에 연결되는 제1탄성부;
상기 제2이동 팁부에 연결되는 제2탄성부; 및
상기 제1탄성부와 상기 제2탄성부 사이에서 상기 제1탄성부 및 상기 제2탄성부와 연결되고 상기 지지부와 일체로 구비되는 중간 고정부;를 포함하는, 전기 전도성 접촉핀.
According to clause 11,
The elastic part,
a first elastic portion connected to the first moving tip portion;
a second elastic portion connected to the second moving tip portion; and
An electrically conductive contact pin comprising: an intermediate fixing part connected to the first elastic part and the second elastic part between the first elastic part and the second elastic part and provided integrally with the support part.
제1항, 제10항 및 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전기 전도성 접촉핀은, 복수개의 금속층이 상기 전기 전도성 접촉핀의 두께 방향으로 적층되어 형성되는, 전기 전도성 접촉핀.
According to any one of claims 1, 10, and 11,
The electrically conductive contact pin is formed by stacking a plurality of metal layers in the thickness direction of the electrically conductive contact pin.
제1항, 제10항 및 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전기 전도성 접촉핀은 그 측면에 구비되는 미세 트렌치를 포함하는, 전기 전도성 접촉핀.

According to any one of claims 1, 10, and 11,
The electrically conductive contact pin includes a fine trench provided on a side thereof.

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