KR102649868B1 - Film formation apparatus and embedding processing apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전자 부품의 전극 노출면을, 보호 시트에 양호하게 밀착시키는 매립 처리를 행하는 매립 처리 장치와, 매립 처리가 된 전자 부품에 대해, 성막(成膜) 처리를 행하는 성막 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
실시형태에 따른 성막 장치(7)는, 매립 처리부(1), 성막 처리부(3)를 구비하고, 매립 처리부(1)는, 내부를 진공으로 하는 것이 가능한 챔버(10)와, 챔버(10) 내에 설치되고, 보호 시트(61)를 사이에 두고 전자 부품(60)과는 반대측에 위치하는 시트 가압체(120)와, 챔버(10) 내에 설치되고, 전자 부품(60)을 사이에 두고 보호 시트(61)와는 반대측에 위치하는 부품 가압체(130)와, 시트 가압체(120)에 설치되고, 보호 시트(61)에 대향하는 평탄한 시트 대향면(121a)을 갖는 시트측 탄성체(121)와, 부품 가압체(130)에 설치되고, 전자 부품(60)에 대향하는 평탄한 부품 대향면(131a)과, 시트 가압체(120) 및 부품 가압체(130)를 상대 이동시킴으로써, 시트 대향면(121a)과 부품 대향면(131a) 사이에서, 전자 부품(60)과 보호 시트(61)를 서로 압박하게 하는 구동 기구(132)를 갖는다.
The present invention provides an embedding processing device that performs an embedding process to ensure good adhesion of the exposed electrode surface of an electronic component to a protective sheet, and a film forming apparatus that performs a film forming process on the embedded electronic component. The purpose.
The film forming apparatus 7 according to the embodiment includes an embedding processing unit 1 and a film forming processing unit 3, wherein the embedding processing unit 1 includes a chamber 10 whose interior can be vacuumed, and the chamber 10. A sheet press body 120 is installed inside the chamber and is located on the opposite side from the electronic component 60 with the protection sheet 61 in between, and a sheet presser 120 is installed in the chamber 10 and protects the electronic component 60 with the electronic component 60 interposed therebetween. A component pressing body 130 located on the opposite side from the seat 61, and a sheet side elastic body 121 provided on the sheet pressing body 120 and having a flat sheet opposing surface 121a facing the protective sheet 61. By relatively moving the flat component opposing surface 131a, which is installed on the component pressing body 130 and faces the electronic component 60, and the sheet pressing body 120 and the component pressing body 130, the sheet opposing surface Between 121a and the component opposing surface 131a, there is a drive mechanism 132 that presses the electronic component 60 and the protective sheet 61 against each other.

Description

성막 장치 및 매립 처리 장치{FILM FORMATION APPARATUS AND EMBEDDING PROCESSING APPARATUS}Film forming device and landfill processing device {FILM FORMATION APPARATUS AND EMBEDDING PROCESSING APPARATUS}

본 발명은 보호 시트에 접착된 전자 부품에 성막(成膜)하는 성막 장치, 및 전자 부품을 보호 시트의 점착면에 매립하는 매립 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a film forming device for forming a film on an electronic component adhered to a protective sheet, and an embedding processing device for embedding the electronic component in the adhesive surface of the protective sheet.

휴대 전화로 대표되는 무선 통신 기기에는, 반도체 장치 등의 전자 부품이 다수 탑재되어 있다. 전자 부품은 각종 처리를 거치기 위해서, 처리 장치로부터 처리 장치에 반송된다. 처리의 대표예로서는, 전자파 실드막의 형성을 들 수 있다. 전자파 실드막은, 통신 특성에 대한 영향을 방지하기 위해서, 외부로의 전자파의 누설 등, 내외에 대한 전자파의 영향을 억제한다. 일반적으로, 전자 부품은 밀봉 수지에 의해 외형이 형성되어 이루어지고, 전자파를 차폐하기 위해서, 이 밀봉 수지의 상면 및 측면에 도전성의 전자파 실드막이 형성된다(특허문헌 1 참조).Wireless communication devices, such as mobile phones, are equipped with many electronic components such as semiconductor devices. Electronic components are transported from a processing device to another processing device to undergo various types of processing. A representative example of the process is the formation of an electromagnetic wave shield film. The electromagnetic wave shield film suppresses the influence of electromagnetic waves on the inside and outside, such as leakage of electromagnetic waves to the outside, in order to prevent the influence on communication characteristics. Generally, electronic components are made of a sealing resin, and in order to shield electromagnetic waves, a conductive electromagnetic wave shield film is formed on the top and side surfaces of the sealing resin (see Patent Document 1).

전자파 실드막의 형성 방법으로서는, 도금법이 알려져 있다. 그러나, 도금법은, 전처리 공정, 도금 처리 공정, 및, 수세(水洗)와 같은 후처리 공정 등의 습식 공정을 필요로 하기 때문에, 전자 부품의 제조 비용의 상승을 피할 수 없다. 그래서, 건식 공정인 스퍼터링법이 주목받고 있다. 스퍼터링법에서는, 타겟을 배치한 진공 용기에 불활성 가스를 도입하고, 전압을 인가한다. 그러면, 플라즈마화한 불활성 가스의 이온이 성막 재료의 타겟에 충돌하고, 타겟으로부터 내보내진 입자를 전자 부품에 퇴적시킨다. 이 퇴적층이 전자파 실드막이 된다.As a method of forming an electromagnetic wave shield film, the plating method is known. However, since the plating method requires wet processes such as a pretreatment process, a plating treatment process, and a post-treatment process such as water washing, an increase in the manufacturing cost of electronic components cannot be avoided. Therefore, sputtering, a dry process, is attracting attention. In the sputtering method, an inert gas is introduced into a vacuum container in which the target is placed, and a voltage is applied. Then, the ions of the inert gas converted into plasma collide with the target of the film forming material, and the particles ejected from the target are deposited on the electronic component. This sediment layer becomes an electromagnetic wave shield.

스퍼터링법을 실현하는 성막 장치는, 내부가 진공실로 된 원기둥형의 챔버, 챔버 내에 수용되고, 상기 챔버와 동축의 회전축을 갖는 회전 테이블, 및 챔버 내에 구획된 성막 포지션을 갖는다. 회전 테이블에 전자 부품을 배치하고, 회전 테이블을 원주 방향을 따라 회전시킴으로써, 전자 부품을 성막 포지션에 도달시켜, 전자파 실드막을 성막한다. 이와 같이, 처리 장치 내에 있어서도 전자 부품의 회전 반송이 존재한다.A film forming apparatus that implements a sputtering method has a cylindrical chamber with a vacuum chamber on the inside, a rotary table accommodated in the chamber and having a rotation axis coaxial with the chamber, and a film forming position defined within the chamber. An electronic component is placed on a rotary table, and the rotary table is rotated along the circumferential direction, so that the electronic component reaches the film deposition position and an electromagnetic wave shield film is deposited. In this way, rotational conveyance of electronic components exists even within the processing device.

이러한 장치 내외에서의 전자 부품의 반송에서는, 가감속이나 회전 등에 의해 전자 부품이 관성력을 받아, 전자 부품의 전도, 또는 성막 포지션으로부터의 탈락이 발생할 우려가 있다. 그래서, 전자 부품은 점착 필름에 접착되고, 반송되어 전자파 실드막의 성막을 받는다. 관성력에 대항한 점착력에 의해 전자 부품을 제지시켜 적정 포지션에 유지할 수 있다. 이러한 점착 필름을, 이하, 보호 시트라고 부른다.When electronic components are transported inside or outside of such a device, the electronic components are subject to inertial forces due to acceleration/deceleration or rotation, and there is a risk that the electronic components may fall over or fall off from the film deposition position. Therefore, the electronic component is adhered to the adhesive film, transported, and receives the formation of an electromagnetic wave shield film. Electronic components can be stopped and maintained in an appropriate position by adhesive force against inertial force. This adhesive film is hereinafter referred to as a protective sheet.

보호 시트는, 전자 부품의 제지성을 향상시킬 뿐만이 아니라, 성막 처리 시에 전자파 실드막의 입자가 전극에 부착되는 것을 방지하여, 전극 사이의 절연을 유지한다. 전자 부품의 전극은, 일반적으로, 땜납 볼 범프라고 불리는 것으로, 직경이 수십 ㎛∼수백 ㎛의 구형의 땜납(땜납 볼)을 전자 부품의 패드 전극에 접합함으로써 형성된다. 전극은, 전자 부품의 전극 노출면으로부터 노출되어 있고, 매트릭스(행렬)형으로 배치되어 있다.The protective sheet not only improves the detergent properties of electronic components, but also prevents particles of the electromagnetic wave shield film from adhering to electrodes during film formation, and maintains insulation between electrodes. Electrodes of electronic components are generally called solder ball bumps, and are formed by joining spherical solder (solder balls) with a diameter of tens to hundreds of micrometers to pad electrodes of electronic components. The electrodes are exposed from the electrode-exposed surface of the electronic component and are arranged in a matrix.

이러한 전극을, 유연성을 갖는 점착 필름에 대해 매립하고, 전극 노출면을 보호 시트에 밀착시킨다. 전극의 매립은, 전자 부품을 보호 시트의 점착면에 배치하여 압박함으로써 행한다. 이에 의해, 전극 및 전극 노출면은 보호 시트에 의해 피복되기 때문에, 전자파 실드막의 입자는 전극 노출면과 보호 시트 사이에 들어갈 수 없어, 전극에는 이르지 않는다.These electrodes are embedded in a flexible adhesive film, and the exposed surface of the electrode is brought into close contact with the protective sheet. Embedding of the electrode is performed by placing the electronic component on the adhesive surface of the protective sheet and pressing it. As a result, since the electrode and the electrode exposed surface are covered with the protective sheet, particles of the electromagnetic wave shield film cannot enter between the electrode exposed surface and the protective sheet and do not reach the electrode.

국제 공개 제2013/035819호 공보International Publication No. 2013/035819 일본 특허 공개 평성 제6-97268호 공보Japanese Patent Publication No. 6-97268

상기한 바와 같이 전자 부품의 전극을 보호 시트에 매립하기 위해서, 전자 부품을 보호 시트에 압박했다고 해도, 보호 시트의 표면이 전극의 표면 및 전극 노출면을 따라 변형하지 않는 경우가 있다. 그러면, 전극 노출면과 보호 시트 사이에, 외부로 통하는 간극이나, 외부로 통하지 않는 공극이 생겨 버릴 우려가 있다.As described above, even if the electronic component is pressed against the protective sheet in order to embed the electrode of the electronic component in the protective sheet, there are cases where the surface of the protective sheet is not deformed along the surface of the electrode and the exposed surface of the electrode. Then, there is a risk that a gap leading to the outside or a gap not opening to the outside may be created between the electrode exposed surface and the protective sheet.

외부로 통하는 간극으로부터는, 성막 처리 시에, 전자파 실드막의 입자가 들어간다. 간극에 들어간 전자파 실드막의 입자가, 전극 사이를 가교하도록 부착되면, 전극 사이의 절연성을 유지할 수 없게 된다.During the film forming process, particles of the electromagnetic wave shield film enter through the gap leading to the outside. If particles of the electromagnetic wave shield film that enter the gap adhere to bridge the gap between the electrodes, the insulation between the electrodes cannot be maintained.

또한, 외부로 통하지 않는 공극이 생기면, 전자 부품과 보호 시트의 밀착성의 저하를 초래한다. 이 때문에, 전자 부품이 장치 사이에서 반송될 때, 또는 성막 장치 내에서 반송될 때에, 관성력에 진 전자 부품이 보호 시트로부터 박리되어, 상기한 바와 같이, 전극 노출면과 보호 시트 사이에, 외부로 통하는 간극이 생기는 원인이 된다.Additionally, if a gap that does not lead to the outside is created, the adhesion between the electronic component and the protective sheet decreases. For this reason, when the electronic component is transported between devices or within the film forming apparatus, the electronic component subjected to the inertial force is peeled off from the protective sheet and exposed to the outside between the electrode exposed surface and the protective sheet, as described above. This causes a communication gap to form.

이상과 같은 전자파 실드막의 입자의 들어감을 방지하기 위해서는, 매트릭스형으로 배열된 복수의 전극 중, 최외주의 전극과 전극 노출면의 외연(外緣) 사이가, 보호 시트에 의해 막혀 있는 것이 필요해진다. 그러나, 최근의 전자 부품은 소형화가 진행되어, 전극 사이의 간극뿐만이 아니라, 최외주의 전극으로부터 전극 노출면의 외연까지의 거리가 매우 짧아지고 있다. 그러면, 전극 노출면의 외연 근방의 면적이 작아지기 때문에, 보호 시트의 표면이, 전극의 표면 및 전극 노출면을 따르도록 변형하여 밀착 면적을 확보하는 것이 어려워진다. 이 때문에, 소형화가 진행된 전자 부품의 경우, 상기한 바와 같은 간극이나 공극의 문제가 보다 한층 발생하기 쉽다.In order to prevent particles from entering the electromagnetic wave shield film as described above, it is necessary that the space between the outermost electrode among the plurality of electrodes arranged in a matrix and the outer edge of the electrode exposed surface is blocked by a protective sheet. . However, recent electronic components have been miniaturized, and not only the gap between electrodes but also the distance from the outermost electrode to the outer edge of the electrode exposed surface is becoming very short. Then, since the area near the outer edge of the electrode exposed surface becomes small, it becomes difficult to deform the surface of the protective sheet to follow the surface of the electrode and the electrode exposed surface to ensure a close contact area. For this reason, in the case of electronic components where miniaturization has progressed, problems with gaps and voids as described above are more likely to occur.

본 발명은 전술한 바와 같은 과제를 해결하기 위해서 제안된 것으로, 전자 부품의 전극 노출면을, 보호 시트에 양호하게 밀착시키는 매립 처리를 행하는 매립 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은 전극 노출면을 보호 시트에 양호하게 밀착시키는 매립 처리가 된 전자 부품에 대해, 또한 성막 처리를 행하는 성막 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been proposed to solve the above-described problems, and its purpose is to provide an embedding processing device that performs embedding treatment to ensure good adhesion of the electrode-exposed surface of an electronic component to a protective sheet. Another object of the present invention is to provide a film forming apparatus that further performs a film forming process on an embedded electronic component that ensures good adhesion of the electrode exposed surface to the protective sheet.

상기한 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 성막 장치는, 보호 시트의 점착면에, 전극이 형성된 전극 노출면이 접착된 전자 부품에 대한 성막 장치로서, 상기 보호 시트의 점착면에 상기 전극을 매립하는 매립 처리부와, 상기 전극이 상기 보호 시트에 매립된 상기 전자 부품에 대해, 성막 재료를 성막하는 성막 처리부를 구비하고, 상기 매립 처리부는, 내부를 진공으로 하는 것이 가능한 챔버와, 상기 챔버 내에 설치되고, 상기 보호 시트를 사이에 두고 상기 전자 부품과는 반대측에 위치하는 시트 가압체와, 상기 챔버 내에 설치되고, 상기 전자 부품을 사이에 두고 상기 보호 시트와는 반대측에 위치하는 부품 가압체와, 상기 시트 가압체에 설치되고, 상기 보호 시트에 대향하는 평탄한 시트 대향면을 갖는 시트측 탄성체와, 상기 부품 가압체에 설치되고, 상기 전자 부품에 대향하는 평탄한 부품 대향면과, 상기 시트 가압체 및 상기 부품 가압체를 상대 이동시킴으로써, 상기 시트 대향면과 상기 부품 대향면 사이에서, 상기 전자 부품과 상기 보호 시트를 서로 압박하게 하는 구동 기구를 갖는다.In order to achieve the above object, the film forming apparatus of the present invention is a film forming apparatus for an electronic component in which an electrode exposed surface on which an electrode is formed is adhered to the adhesive surface of a protective sheet, and the electrode is embedded in the adhesive surface of the protective sheet. an embedding processing unit that deposits a film forming material on the electronic component in which the electrode is embedded in the protective sheet, wherein the embedding processing unit includes a chamber whose interior can be vacuumed, and is installed within the chamber. a sheet press body located on a side opposite to the electronic component across the protective sheet; a component press body installed in the chamber and located on a side opposite to the protection sheet across the electronic component; a sheet side elastic body provided on the sheet press body and having a flat sheet opposing surface facing the protective sheet; a sheet side elastic body provided on the component pressing body and having a flat component opposing surface facing the electronic component; and It has a drive mechanism that causes the electronic component and the protection sheet to be pressed against each other between the sheet opposing surface and the component opposing surface by relatively moving the component pressing body.

본 발명의 매립 처리 장치에 의하면, 전자 부품의 전극 노출면을, 보호 시트에 양호하게 밀착시키는 매립 처리를 행할 수 있다. 또한, 본 발명의 성막 장치에 의하면, 전극 노출면을 보호 시트에 양호하게 밀착시키는 매립 처리가 된 전자 부품에 대해, 또한 성막 처리를 행할 수 있다.According to the embedding treatment apparatus of the present invention, embedding treatment can be performed to ensure good adhesion of the electrode-exposed surface of the electronic component to the protective sheet. In addition, according to the film forming apparatus of the present invention, film forming treatment can be further performed on electronic components that have been subjected to an embedding treatment that ensures good adhesion of the electrode exposed surface to the protective sheet.

도 1은 성막 처리된 전자 부품을 도시한 측면도이다.
도 2는 성막 처리를 받은 후의 전자 부품의 양태를 도시한 측면도이다.
도 3은 성막 처리를 받을 때의 전자 부품의 양태를 도시한 분해 사시도이다.
도 4는 전자 부품의 성막 프로세스 플로우를 도시한 천이도이다.
도 5는 성막 장치의 구성을 도시한 블록도이다.
도 6은 매립 처리부의 구성을 도시한 모식도이다.
도 7은 매립 처리부의 각 공정에서의 상태를 모식적으로 도시한 천이도이다.
도 8은 매립 처리부의 각 공정에서의 상태를 모식적으로 도시한 천이도이다.
도 9는 매립 처리부에서의 전자 부품의 상태를 도시한 천이도이다.
도 10은 보호 시트와 부품측 탄성체가 접한 상태를 도시한 도면이다.
도 11은 플레이트 장착부를 도시한 모식도이다.
도 12는 성막 처리부를 도시한 모식도이다.
도 13은 플레이트 해제부를 도시한 모식도이다.
도 14는 박리 처리부를 도시한 모식도이다.
1 is a side view showing an electronic component that has been film-deposited.
Figure 2 is a side view showing the state of the electronic component after undergoing film forming processing.
Figure 3 is an exploded perspective view showing the state of the electronic component when subjected to a film forming process.
Figure 4 is a transition diagram showing the film forming process flow of an electronic component.
Figure 5 is a block diagram showing the configuration of a film forming apparatus.
Figure 6 is a schematic diagram showing the configuration of the landfill processing unit.
Figure 7 is a transition diagram schematically showing the state in each process of the landfill processing unit.
Figure 8 is a transition diagram schematically showing the state in each process of the landfill processing unit.
Figure 9 is a transition diagram showing the state of electronic components in the embedding processing unit.
Figure 10 is a diagram showing a state in which the protective sheet and the component-side elastic body are in contact.
Figure 11 is a schematic diagram showing the plate mounting portion.
Figure 12 is a schematic diagram showing a film forming processing unit.
Figure 13 is a schematic diagram showing the plate release part.
Figure 14 is a schematic diagram showing a peeling processing unit.

[전자 부품][Electronic parts]

도 1은 성막 처리된 전자 부품(60)을 도시한 측면도이다. 전자 부품(60)의 표면에는, 전자파 실드막(605)이 형성된다. 한편, 도 1에서는, 전자파 실드막(605)만을 단면으로 도시하고 있다. 전자 부품(60)은, 반도체 칩, 다이오드, 트랜지스터, 콘덴서 또는 SAW 필터 등의 표면 실장 부품이다. 반도체 칩은, 복수의 전자 소자를 집적화한 IC나 LSI 등의 집적 회로이다. 이 전자 부품(60)은, BGA, LGA, SOP, QFP, WLP 등의 대략 직육면체 형상을 갖고, 일면이 전극 노출면(601)으로 되어 있다. 전극 노출면(601)은, 전극(602)이 노출되고, 실장 기판과 대면하여 실장 기판과 접속되는 면이다. 전극(602)은, 볼 범프나 땜납 볼 범프라고 불리고, 직경이 수십 ㎛∼수백 ㎛의 구형으로 성형된 땜납(땜납 볼)을 패드 전극에 탑재하여 형성된다.FIG. 1 is a side view showing an electronic component 60 that has undergone a film deposition process. An electromagnetic wave shield film 605 is formed on the surface of the electronic component 60. Meanwhile, in FIG. 1, only the electromagnetic wave shield film 605 is shown in cross section. The electronic component 60 is a surface-mounted component such as a semiconductor chip, diode, transistor, condenser, or SAW filter. A semiconductor chip is an integrated circuit such as an IC or LSI that integrates a plurality of electronic elements. This electronic component 60 has a substantially rectangular parallelepiped shape such as BGA, LGA, SOP, QFP, or WLP, and one surface is an electrode exposure surface 601. The electrode exposed surface 601 is a surface on which the electrode 602 is exposed, faces the mounting substrate, and is connected to the mounting substrate. The electrode 602 is called a ball bump or solder ball bump, and is formed by mounting solder (solder balls) shaped into a sphere with a diameter of tens to hundreds of μm on a pad electrode.

전자파 실드막(605)은 전자파를 차폐한다. 전자파 실드막(605)은, 예컨대 Al, Ag, Ti, Nb, Pd, Pt, Zr 등의 재료로 형성된다. 전자파 실드막(605)은 Ni, Fe, Cr, Co 등의 자성체 재료로 형성되어도 좋다. 또한, 전자파 실드막(605)의 하지층(下地層)으로서 SUS, Ni, Ti, V, Ta 등, 또한 최표면의 보호층으로서 SUS, Au 등이 성막되어 있어도 좋다.The electromagnetic wave shield film 605 shields electromagnetic waves. The electromagnetic wave shield film 605 is formed of materials such as Al, Ag, Ti, Nb, Pd, Pt, and Zr, for example. The electromagnetic wave shield film 605 may be formed of a magnetic material such as Ni, Fe, Cr, or Co. Additionally, SUS, Ni, Ti, V, Ta, etc. may be formed as a base layer of the electromagnetic wave shield film 605, and SUS, Au, etc. may be formed as a protective layer on the outermost surface.

전자파 실드막(605)은, 전자 부품(60)의 상면(603) 및 측면(604), 즉 전극 노출면(601) 이외의 외면에 성막된다. 상면(603)은 전극 노출면(601)과는 반대의 면이다. 측면(604)은 상면(603)과 전극 노출면(601)을 연결하고, 상면(603) 및 전극 노출면(601)과는 상이한 각도로 연장되는 외주면이다. 전자파를 차단하는 실드 효과를 얻기 위해서는, 전자파 실드막(605)은 적어도 상면(603)에 형성되어 있으면 된다. 단, 양호한 실드 효과를 얻기 위해서는, 상면(603) 전체뿐만이 아니라, 측면(604) 전체에 형성되어 있는 것이 바람직하다. 측면(604)에는, 도시하지 않은 그라운드 핀이 존재하고 있다. 측면(604)에 대한 전자파 실드막(605)의 형성은, 전자파 실드막(605)의 접지 때문이기도 하다.The electromagnetic wave shield film 605 is formed on the top surface 603 and the side surface 604 of the electronic component 60, that is, on the outer surface other than the electrode exposed surface 601. The upper surface 603 is a surface opposite to the electrode exposed surface 601. The side surface 604 is an outer peripheral surface that connects the upper surface 603 and the electrode exposed surface 601 and extends at a different angle from the upper surface 603 and the electrode exposed surface 601. In order to obtain a shield effect that blocks electromagnetic waves, the electromagnetic wave shield film 605 need only be formed on at least the upper surface 603. However, in order to obtain a good shielding effect, it is preferable that it is formed not only on the entire top surface 603 but also on the entire side surface 604. A ground pin (not shown) exists on the side 604. The formation of the electromagnetic wave shield film 605 on the side surface 604 is also due to the grounding of the electromagnetic wave shield film 605.

[보호 시트][Protection Sheet]

도 2는 성막 처리를 받은 후의 전자 부품(60)의 상태를 도시한 측면도이다. 도 2에서는, 전자 부품(60) 이외의 부재를, 단면으로 도시하고 있다. 또한, 도 3은 성막 처리를 받을 때의 전자 부품(60)이 지지되는 양태를 도시한 분해 사시도이다. 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 전자 부품(60)의 전극(602)은, 성막 처리 전에 보호 시트(61)에 매설되고, 전극 노출면(601)이 보호 시트(61)에 밀착되어 있다. 전극(602)이 보호 시트(61)에 매설됨으로써, 전자파 실드막(605)의 입자가 전극(602)에 이르는 것이 저지된다. 또한, 전극 노출면(601)과 보호 시트(61)가 밀착되어 있기 때문에, 전자파 실드막(605)의 입자가 전극 노출면(601)과 보호 시트(61) 사이에 들어갈 여지가 없어, 전극(602)에 전자파 실드막(605)의 입자가 이를 가능성이 저하된다.FIG. 2 is a side view showing the state of the electronic component 60 after receiving the film forming process. In FIG. 2, members other than the electronic component 60 are shown in cross section. Additionally, FIG. 3 is an exploded perspective view showing a state in which the electronic component 60 is supported when undergoing a film forming process. As shown in FIGS. 2 and 3, the electrode 602 of the electronic component 60 is embedded in the protective sheet 61 before the film forming process, and the electrode exposed surface 601 is in close contact with the protective sheet 61. there is. By embedding the electrode 602 in the protective sheet 61, particles of the electromagnetic wave shield film 605 are prevented from reaching the electrode 602. In addition, since the electrode exposed surface 601 and the protective sheet 61 are in close contact, there is no room for particles of the electromagnetic wave shield film 605 to enter between the electrode exposed surface 601 and the protective sheet 61, and the electrode ( The possibility that particles of the electromagnetic wave shield film 605 reach 602) is reduced.

보호 시트(61)는, PEN(폴리에틸렌나프탈레이트), PI(폴리이미드) 등의 내열성이 있는 합성 수지이다. 보호 시트(61)의 일면은, 전극(602)이 파고드는 유연성과, 전극 노출면(601)이 밀착되는 점착성을 갖는 점착면(점착층)(611)으로 되어 있다. 점착면(611)으로서는, 실리콘계, 아크릴계의 수지, 그 외, 우레탄 수지, 에폭시 수지 등, 접착성이 있는 여러 가지 재료가 이용된다.The protective sheet 61 is made of heat-resistant synthetic resin such as PEN (polyethylene naphthalate) or PI (polyimide). One side of the protective sheet 61 is made of an adhesive surface (adhesive layer) 611 that has flexibility to allow the electrodes 602 to penetrate and adhesiveness to adhere the exposed electrode surface 601. As the adhesive surface 611, various adhesive materials such as silicone-based, acrylic-based resin, urethane resin, and epoxy resin are used.

점착면(611)은, 보호 시트(61)의 단(端)으로부터 내측으로 소정 거리까지 이르는 외측 틀 영역(613)과, 외측 틀 영역(613)의 내주로부터 내측으로 소정 거리까지 이르는 중간 틀 영역(614)과, 중간 틀 영역(614)보다 내측의 부품 배열 영역(615)으로 구분된다. 전자 부품(60)은 부품 배열 영역(615)에 접착된다. 외측 틀 영역(613)에는, 틀 형상의 프레임(62)이 접착된다. 중간 틀 영역(614)은, 보호 시트(61)의 휘어짐이 발생하는 범위이고, 프레임(62)도 전자 부품(60)도 접착되지 않는다. 한편, 점착면(611)의 반대면은 비점착면(612)이다.The adhesive surface 611 includes an outer frame area 613 extending inward from the end of the protective sheet 61 to a predetermined distance, and an intermediate frame area extending inward from the inner periphery of the outer frame area 613 to a predetermined distance. It is divided into 614 and a parts arrangement area 615 inside the middle frame area 614. The electronic component 60 is adhered to the component arrangement area 615. A frame-shaped frame 62 is attached to the outer frame area 613. The middle frame area 614 is a range where the protective sheet 61 is bent, and neither the frame 62 nor the electronic component 60 is adhered. Meanwhile, the opposite side of the adhesive surface 611 is the non-adhesive surface 612.

보호 시트(61)는 점착 시트(64)를 통해 냉각 플레이트(63)에 접착된다. 냉각 플레이트(63)는, SUS 등의 금속, 세라믹스, 수지, 또는 그 외 열전도성이 높은 재질로 형성된다. 이 냉각 플레이트(63)는, 전자 부품(60)의 열을 방출하여, 과잉의 축열을 억제하는 방열로이다. 점착 시트(64)는, 양면이 점착성을 갖고, 보호 시트(61)와 냉각 플레이트(63)와의 밀착성을 높여, 냉각 플레이트(63)에의 전열 면적을 확보한다.The protective sheet 61 is adhered to the cooling plate 63 through an adhesive sheet 64. The cooling plate 63 is made of metal such as SUS, ceramics, resin, or other highly thermally conductive material. This cooling plate 63 is a heat dissipation furnace that radiates heat from the electronic component 60 and suppresses excessive heat storage. The adhesive sheet 64 has adhesiveness on both sides, improves adhesion between the protective sheet 61 and the cooling plate 63, and secures the heat transfer area to the cooling plate 63.

부품 배열 영역(615)의 표면으로부터 프레임(62)의 상단면까지의 높이(H1)는, 부품 배열 영역(615)의 표면으로부터 전자 부품(60)의 상면(603)까지의 높이(H2)보다 높다(도 4 참조). 한편, 높이(H1)는, 전자 부품(60)을 보호 시트(61)에 서로 압박하게 하는 방향, 즉 보호 시트(61)의 평면에 직교하는 방향의 길이이고, 편의상 두께(H1)라고 바꿔 말하는 경우도 있으나, 동일한 의미이다. 요컨대, 프레임(62)에 평판을 실은 것으로 하면, 전자 부품(60)의 상면(603)이 상기 평판에 미달(未達)로 되어 있다.The height H1 from the surface of the component arrangement area 615 to the upper surface of the frame 62 is greater than the height H2 from the surface of the component arrangement area 615 to the upper surface 603 of the electronic component 60. High (see Figure 4). Meanwhile, the height H1 is the direction in which the electronic components 60 are pressed against the protective sheet 61, that is, the length in the direction perpendicular to the plane of the protective sheet 61, and is referred to as the thickness H1 for convenience. In some cases, it has the same meaning. In short, assuming that a flat plate is mounted on the frame 62, the upper surface 603 of the electronic component 60 falls short of the flat plate.

프레임(62)의 일단부에는 안내부 삽입 관통 구멍(621)이 관통 형성되어 있다. 안내부 삽입 관통 구멍(621)은, 프레임(62)의 단부를 따라 긴 타원, 직사각형, 둥근 원 등의 개구를 갖고, 보호 시트(61)에 접착되는 면과 그 반대의 노출면을 관통하여 형성되어 있다. 즉, 예컨대 막대형 부재를 안내부 삽입 관통 구멍(621)에 삽입하여, 보호 시트(61)의 단을 누르면(도 14 참조), 보호 시트(61)의 일단부가 프레임(62)으로부터 박리하도록 되어 있다.A guide part insertion hole 621 is formed through one end of the frame 62. The guide part insertion hole 621 has an opening such as an elongated oval, rectangle, or round circle along the end of the frame 62, and is formed through the surface bonded to the protective sheet 61 and the exposed surface opposite to it. It is done. That is, for example, by inserting a rod-shaped member into the guide portion insertion hole 621 and pressing the end of the protection sheet 61 (see FIG. 14), one end of the protection sheet 61 is peeled from the frame 62. there is.

냉각 플레이트(63) 및 점착 시트(64)에는 푸셔 삽입 관통 구멍(631)이 형성되어 있다. 푸셔 삽입 관통 구멍(631)은, 안내부 삽입 관통 구멍(621)과는 합치하지 않고, 프레임(62)에 의해 폐색되는 위치에 관통 형성되어 있다. 푸셔 삽입 관통 구멍(631)에 예컨대 막대형 부재를 삽입하고, 막대형 부재의 선단으로 프레임(62)을 밀어 올리면, 프레임(62) 전체가 평행하게 들어 올려지도록, 푸셔 삽입 관통 구멍(631)은 복수 관통 형성된다. 예컨대, 프레임(62)이 외형 직사각형의 프레임체이면, 네 모퉁이 또는 또한 각 변 중심에 푸셔 삽입 관통 구멍(631)이 위치한다. 프레임(62)의 평행 유지의 관점에서는, 막대형 부재는, 직사각형 형상의 선단면을 갖는 것이 바람직하고, 즉 가느다란 판 형상이나 단면 L자형 형상 등이 바람직하지만, 이것에 한하지 않고 둥근 원 형상의 선단면을 갖고 있어도 좋다. 푸셔 삽입 관통 구멍(631)은, 대응하여 직사각형 형상, L자 형상 또는 둥근 원 형상을 갖는다.A pusher insertion through hole 631 is formed in the cooling plate 63 and the adhesive sheet 64. The pusher insertion through hole 631 does not coincide with the guide part insertion hole 621 and is formed through a position blocked by the frame 62. When, for example, a rod-shaped member is inserted into the pusher insertion hole 631 and the frame 62 is pushed up with the tip of the rod-shaped member, the pusher insertion through hole 631 is raised so that the entire frame 62 is lifted in parallel. Multiple penetrations are formed. For example, if the frame 62 is a rectangular frame, pusher insertion holes 631 are located at the four corners or at the center of each side. From the viewpoint of maintaining the frame 62 parallel, the rod-shaped member preferably has a rectangular tip cross-section, that is, a thin plate shape or an L-shaped cross-section, etc. is preferred, but is not limited to this and has a round circular shape. It may have a tip cross section of . The pusher insertion through hole 631 has a corresponding rectangular shape, L-shape, or round circular shape.

또한, 냉각 플레이트(63) 및 점착 시트(64)에는, 보호 시트(61)의 중간 틀 영역(614) 및 부품 배열 영역(615)이 접착되는 범위의 전역에 등간격으로 미세한 공기 구멍(632)이 다수 형성되어 있다. 이 공기 구멍(632)은, 예컨대 미소 원통 형상이나 슬릿형이다. 공기 구멍(632)은, 냉각 플레이트(63)에 접착된 보호 시트(61)의 적어도 부품 배열 영역(615)에 대해, 고르게 부압 또는 정압을 부여하기 위해서 형성되어 있다. 이 공기 구멍(632)의 수나 관통 형성 간격 및 관통 형성 범위는 이것에 한정되는 것은 아니며, 예컨대, 부품 배열 영역(615)에 대응하는 범위에만 형성하도록 해도, 냉각 플레이트(63) 및 점착 시트(64)의 중심에 공기 구멍(632)을 조밀하게 배치하는 한편, 외측은 성기에 배치하도록 해도, 또한 부품 배열 영역(615)의 중앙에 대응하는 위치에 하나만 형성하도록 해도 좋다.In addition, the cooling plate 63 and the adhesive sheet 64 have fine air holes 632 at equal intervals throughout the range where the middle frame area 614 and the parts arrangement area 615 of the protection sheet 61 are adhered. Many of these have been formed. This air hole 632 has a microcylindrical shape or slit shape, for example. The air hole 632 is formed to uniformly apply negative or positive pressure to at least the component arrangement area 615 of the protective sheet 61 adhered to the cooling plate 63. The number, penetration formation interval, and penetration formation range of the air holes 632 are not limited to this. For example, even if they are formed only in the range corresponding to the component arrangement area 615, the cooling plate 63 and the adhesive sheet 64 ), the air holes 632 may be densely arranged in the center, while the air holes 632 may be arranged on the outer side in the genitals, or only one air hole 632 may be formed at a position corresponding to the center of the component arrangement area 615.

[성막 프로세스 플로우][Tabernacle process flow]

성막 프로세스에 있어서는, 부품 배치 공정, 부품 매립 공정, 플레이트 장착 공정, 성막 공정, 플레이트 해제 공정 및 부품 박리 공정을 거쳐, 전자파 실드막(605)이 형성되어 개편(個片)으로 분리한 전자 부품(60)이 얻어진다.In the film formation process, the electromagnetic wave shield film 605 is formed through a component placement process, component embedding process, plate mounting process, film formation process, plate release process, and component peeling process, and the electronic components ( 60) is obtained.

도 4는 전자 부품(60)의 성막 프로세스 플로우를 도시한 도면이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 부품 배치 공정에서는, 보호 시트(61)에 프레임(62)이 접착한 부품 미배치 시트(65)에 대해, 전자 부품(60)의 전극 노출면(601)을 마주보게 한 상태에서, 부품 배열 영역(615)에 전자 부품(60)을 배열한다. 프레임(62)이 접착되고, 또한 전자 부품(60)이 배열되어 있으나, 전극(602)이 아직 매설되어 있지 않은 상태의 보호 시트(61)를, 부품 배치 완료 시트(66)라고 한다.FIG. 4 is a diagram illustrating the film forming process flow of the electronic component 60. As shown in FIG. 4, in the component placement process, the electrode exposed surface 601 of the electronic component 60 faces the component non-placement sheet 65 where the frame 62 is adhered to the protection sheet 61. In a visible state, the electronic components 60 are arranged in the component arrangement area 615. The protective sheet 61 in which the frame 62 is adhered and the electronic components 60 are arranged, but the electrodes 602 are not yet embedded, is called a component arrangement complete sheet 66.

부품 매립 공정에서는, 부품 배치 완료 시트(66)에 대해, 전극(602)을 보호 시트(61)에 매립하고, 전극 노출면(601)을 보호 시트(61)에 밀착시킨다. 전자파 실드막(605)의 형성 및 미형성을 불문하고, 전극(602)이 매설된 상태의 보호 시트(61)를, 부품 매립 완료 시트(67)라고 한다. 플레이트 장착 공정에서는, 부품 매립 완료 시트(67)를, 점착 시트(64)를 통해 냉각 플레이트(63)에 밀착시킨다. 이 부품 매립 완료 시트(67)를 밀착한 상태의 냉각 플레이트(63)를, 부품 탑재 플레이트(68)라고 한다.In the component embedding process, the electrode 602 is embedded in the protection sheet 61 of the component placement sheet 66, and the electrode exposed surface 601 is brought into close contact with the protection sheet 61. Regardless of whether the electromagnetic wave shield film 605 is formed or not, the protective sheet 61 in which the electrodes 602 are embedded is called a component-embedded sheet 67. In the plate mounting process, the component embedded sheet 67 is brought into close contact with the cooling plate 63 through the adhesive sheet 64. The cooling plate 63 in a state in which this component-embedded sheet 67 is in close contact is called the component mounting plate 68.

성막 공정에서는, 전자 부품(60)의 상면(603)측으로부터 전자파 실드막(605)의 입자를 퇴적시켜, 전자 부품(60)에 전자파 실드막(605)을 형성한다. 이때, 전자 부품(60)의 전극(602)은 보호 시트(61)에 매몰되어 있다. 또한, 전극 노출면(601)은 보호 시트(61)에 밀착되어 있다. 이 때문에, 전자파 실드막(605)의 입자가 전극(602)에 부착되는 것이 방지된다.In the film forming process, particles of the electromagnetic wave shield film 605 are deposited from the upper surface 603 side of the electronic component 60 to form the electromagnetic wave shield film 605 on the electronic component 60 . At this time, the electrode 602 of the electronic component 60 is buried in the protection sheet 61. Additionally, the electrode exposed surface 601 is in close contact with the protective sheet 61. For this reason, particles of the electromagnetic wave shield film 605 are prevented from adhering to the electrode 602.

플레이트 해제 공정에서는, 냉각 플레이트(63)를 분리하여, 부품 매립 완료 시트(67)의 형태로 복귀시킨다. 그리고, 부품 박리 공정에서는, 보호 시트(61)로부터 전자 부품(60)을 박리하여, 부품 미배치 시트(65)와 개개의 전자 부품(60)으로 분리한다. 또한, 프레임(62)의 재사용에 대비하여, 프레임(62)으로부터 보호 시트(61)를 박리한다. 이상에 의해 성막 처리가 종료된다.In the plate release process, the cooling plate 63 is removed and returned to the form of the component embedded sheet 67. Then, in the component peeling process, the electronic component 60 is peeled from the protective sheet 61 and separated into the non-component sheet 65 and the individual electronic components 60. Additionally, in preparation for reuse of the frame 62, the protective sheet 61 is peeled from the frame 62. With the above, the film forming process is completed.

[성막 장치][Tabernacle device]

이상의 성막 프로세스 플로우 중, 부품 매립 공정, 플레이트 장착 공정, 성막 공정, 플레이트 해제 공정 및 부품 박리 공정을 담당하는 성막 장치(7)를, 도 5에 도시한다. 성막 장치(7)는, 매립 처리부(1), 플레이트 장착부(2), 성막 처리부(3), 플레이트 해제부(4) 및 박리 처리부(5)를 구비하고 있다. 각부 사이는 반송부(73)에 의해 접속되고, 각 공정에서 필요한 부재가 투입되며, 각 공정에서 처리를 끝낸 부재가 배출된다. 반송부(73)는, 예컨대 컨베이어이고, 볼나사 등으로 직선 궤도를 따라 가동인 반송 테이블이어도 좋다.Among the above film forming process flows, the film forming apparatus 7 responsible for the component embedding process, plate mounting process, film forming process, plate releasing process, and component peeling process is shown in FIG. 5 . The film forming apparatus 7 is provided with an embedding processing unit 1, a plate mounting unit 2, a film forming processing unit 3, a plate releasing unit 4, and a peeling processing unit 5. Each part is connected by a conveyance unit 73, members required for each process are input, and members that have been processed in each process are discharged. The conveyance unit 73 may be, for example, a conveyor or a conveyance table movable along a straight path using a ball screw or the like.

또한, 성막 장치(7)에는, 매립 처리부(1), 플레이트 장착부(2), 성막 처리부(3), 플레이트 해제부(4) 및 박리 처리부(5)가 구비하는 각 구성 요소의 동작 타이밍을 제어하는 CPU, ROM, RAM 및 신호 송신 회로를 갖는 컴퓨터 또는 마이크로 컴퓨터 등의 제어부(74)가 수용되어 있다. 또한, 매립 처리부(1), 플레이트 장착부(2), 성막 처리부(3), 플레이트 해제부(4) 및 박리 처리부(5)에 대해 정압이나 부압을 공급하는 공기압 회로(75)가 수용되어 있다. 제어부(74)는, 공기압 회로(75) 내의 전자 밸브에 대해서도 제어하여, 부압 발생, 부압 해제, 정압 발생 및 정압 해제를 전환하고 있다.In addition, the film forming apparatus 7 controls the operation timing of each component included in the embedding processing unit 1, the plate mounting unit 2, the film forming processing unit 3, the plate releasing unit 4, and the peeling processing unit 5. A control unit 74 such as a computer or microcomputer having a CPU, ROM, RAM, and signal transmission circuit is accommodated. Additionally, a pneumatic pressure circuit 75 that supplies positive or negative pressure to the embedding processing unit 1, plate mounting unit 2, film forming processing unit 3, plate releasing unit 4, and peeling processing unit 5 is accommodated. The control unit 74 also controls the electromagnetic valve in the pneumatic pressure circuit 75 and switches between negative pressure generation, negative pressure release, positive pressure generation, and positive pressure release.

[매립 처리부][Landfill processing department]

(구성)(composition)

부품 매립 공정을 담당하는 매립 처리부(1)에 대해 설명한다. 도 6은 매립 처리부(1)의 구성을 도시한 모식도이다. 매립 처리부(1)에는, 부품 배치 완료 시트(66)가 투입된다. 매립 처리부(1)는, 진공 중에서 시트 가압체(120)와 부품 가압체(130) 사이에서 부품 배치 완료 시트(66)를 끼워, 전자 부품(60)을 보호 시트(61)에 압박한다. 이에 의해, 매립 처리부(1)는, 전자 부품(60)의 전극(602)을 보호 시트(61)에 매립시키고, 또한 전극 노출면(601)을 보호 시트(61)에 밀착시킨다.The landfill processing unit 1, which is responsible for the parts landfill process, will be described. Figure 6 is a schematic diagram showing the configuration of the landfill processing unit 1. The component arrangement completed sheet 66 is input into the embedding processing unit 1. The embedding processing unit 1 sandwiches the component arrangement sheet 66 between the sheet press body 120 and the component press body 130 in a vacuum and presses the electronic component 60 against the protection sheet 61 . As a result, the embedding processing unit 1 embeds the electrode 602 of the electronic component 60 in the protection sheet 61 and brings the electrode exposed surface 601 into close contact with the protection sheet 61 .

매립 처리부(1)는, 도 6에 도시된 바와 같이, 챔버(10), 시트 가압체(120), 부품 가압체(130)를 구비하고 있다. 챔버(10)는, 내부를 진공으로 하는 것이 가능한 용기이다. 챔버(10)는, 대향 배치된 커버부(11), 배치부(12)를 구비한다. 커버부(11)는 배치부(12)로 향하는 바닥부가 개구되고, 매립 처리되는 부품 배치 완료 시트(66)가 수용되는 내부 공간(111)이 형성된 상자형의 부재이다. 배치부(12)는 직육면체 형상의 부재이다. 커버부(11)의 개구와 배치부(12)의 가장자리부 근방은, 서로 마주보고, 평행하게 배치된 대향면(11a, 12a)으로 되어 있다.As shown in FIG. 6 , the embedding processing unit 1 is provided with a chamber 10, a sheet press body 120, and a component press body 130. The chamber 10 is a container whose interior can be vacuumed. The chamber 10 includes a cover portion 11 and an arrangement portion 12 that are opposed to each other. The cover portion 11 is a box-shaped member with an opening at the bottom toward the placement portion 12 and an internal space 111 in which the component placement sheet 66 to be embedded is formed. The arrangement portion 12 is a rectangular parallelepiped-shaped member. The opening of the cover portion 11 and the vicinity of the edge portion of the mounting portion 12 have opposing surfaces 11a and 12a facing each other and arranged in parallel.

커버부(11)의 대향면(11a)에는, O링 등의 밀봉 부재(115)가 설치되어 있다. 커버부(11)는, 도시하지 않은 기압 또는 유압 실린더 등의 구동 기구에 의해, 배치부(12)에 접근 및 이격되는 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. 이에 의해, 커버부(11)는, 그 대향면(11a)과 배치부(12)의 대향면(12a)이, 밀봉 부재(115)를 통해 합치함으로써, 내부 공간(111)을 밀폐하는 밀폐 위치와, 대향면(11a)이 배치부(12)의 대향면(12a)으로부터 이격됨으로써, 내부 공간(111)을 대기 개방하는 개방 위치 사이를 이동한다.A sealing member 115 such as an O-ring is provided on the opposing surface 11a of the cover portion 11. The cover portion 11 is installed to be movable in directions approaching and away from the placement portion 12 by a driving mechanism such as an air pressure or hydraulic cylinder (not shown). As a result, the cover portion 11 is in a closed position where the opposing surface 11a and the opposing surface 12a of the arrangement portion 12 come into contact with each other through the sealing member 115, thereby sealing the internal space 111. And, by separating the opposing surface 11a from the opposing surface 12a of the arrangement portion 12, the internal space 111 moves between the opening positions where the interior space 111 is opened to the atmosphere.

배치부(12)에는, 관통 구멍인 푸셔 삽입 관통 구멍(12b)이 형성되어 있다. 푸셔 삽입 관통 구멍(12b)의 위치는, 시트 가압체(120)에 실린 부품 배치 완료 시트(66)의 프레임(62)에 대응하는 위치이다. 푸셔 삽입 관통 구멍(12b)에는, 후술하는 푸셔(13)가 삽입 관통된다. 푸셔(13)와 푸셔 삽입 관통 구멍(12b) 내 사이에는, 푸셔(13)를 미끄럼 이동 가능하게 밀봉하는 O링, 패킹 등의 밀봉 부재(12c)가 설치되어 있다.In the placement portion 12, a pusher insertion through hole 12b, which is a through hole, is formed. The position of the pusher insertion hole 12b is a position corresponding to the frame 62 of the component-placed sheet 66 mounted on the sheet pressing body 120. A pusher 13, which will be described later, is inserted into the pusher insertion hole 12b. A sealing member 12c, such as an O-ring or packing, is provided between the pusher 13 and the inside of the pusher insertion hole 12b to seal the pusher 13 so that it can slide.

또한, 배치부(12)에는, 배기 구멍(12d)이 형성되어 있다. 배기 구멍(12d)은, 공기압 회로(75)에 접속되어 있다. 공기압 회로(75)에 의해, 배기 구멍(12d)을 통해, 밀폐된 챔버(10)의 내부 공간(111)이 감압 가능해진다.Additionally, an exhaust hole 12d is formed in the arrangement portion 12. The exhaust hole 12d is connected to the pneumatic pressure circuit 75. The pneumatic pressure circuit 75 allows the internal space 111 of the sealed chamber 10 to be depressurized through the exhaust hole 12d.

시트 가압체(120)는, 챔버(10) 내에 설치되고, 보호 시트(61)를 사이에 두고 전자 부품(60)과는 반대측에 위치하는 부재이다. 본 실시형태에 있어서, 시트 가압체(120)는, 배치부(12) 상에 고정된 플레이트이다. 시트 가압체(120)에서의 부품 배치 완료 시트(66)에 대향하는 면은 평탄면(120a)이다. 평탄면(120a)의 면적은, 부품 배치 완료 시트(66)의 면적 이상의 크기를 갖는다. 한편, 평탄면(120a)에는, 도시하지 않은 복수의 가이드 핀이 설치되고, 가이드 핀이 프레임(62)의 외연에 접촉함으로써, 부품 배치 완료 시트(66)의 위치 어긋남이 방지된다.The sheet press body 120 is a member installed in the chamber 10 and located on the opposite side from the electronic component 60 with the protection sheet 61 interposed therebetween. In this embodiment, the sheet press body 120 is a plate fixed on the placing portion 12. The surface of the sheet press body 120 facing the component-placed sheet 66 is a flat surface 120a. The area of the flat surface 120a is larger than the area of the component arrangement sheet 66. On the other hand, a plurality of guide pins (not shown) are installed on the flat surface 120a, and the guide pins contact the outer edge of the frame 62, thereby preventing the component arrangement sheet 66 from being misaligned.

또한, 평탄면(120a)에는, 시트측 탄성체(121)가 설치되어 있다. 시트측 탄성체(121)는, 탄성 변형하는 시트이고, 부품 배치 완료 시트(66)에 대향하는 평탄한 시트 대향면(121a)을 갖고 있다. 예컨대, 실리콘 고무 등의 고무를, 시트측 탄성체(121)로서 이용할 수 있다. 한편, 시트측 탄성체(121)는, 후술하는 탄성 변형에 의한 작용 효과가 얻어지는 재질의 탄성체이면 된다. 예컨대, 우레탄 고무, 니트릴 고무, 에틸렌 고무, 불소 고무, 하네나이트(HANENITE) 등, 여러 가지 재질의 것이 적용 가능하다. 평탄이란, 부품 배치 완료 시트(66)의 전자 부품(60)을 균일하게 압박할 수 있을 정도로 평평하면 되고, 미소한 요철이나 표면 거칠기는 허용된다. 본 실시형태에 있어서는, 시트측 탄성체(121)는, 시트 대향면(121a)의 반대측의 면이, 시트 가압체(120)의 평탄면(120a)에 접착제 등에 의해 접착되어 있다. 시트측 탄성체(121)는, 시트 대향면(121a)의 면적이 부품 배열 영역(615)의 면적보다 크면 된다.Additionally, a sheet side elastic body 121 is provided on the flat surface 120a. The sheet-side elastic body 121 is an elastically deformable sheet and has a flat sheet opposing surface 121a facing the component-placed sheet 66. For example, rubber such as silicone rubber can be used as the sheet side elastic body 121. On the other hand, the sheet side elastic body 121 may be an elastic body made of a material that achieves the effect of elastic deformation described later. For example, various materials such as urethane rubber, nitrile rubber, ethylene rubber, fluorine rubber, and HANENITE can be applied. Flat means that the electronic components 60 of the component placement sheet 66 can be pressed evenly, and minor irregularities or surface roughness are permitted. In this embodiment, the surface of the sheet side elastic body 121 opposite to the sheet opposing surface 121a is adhered to the flat surface 120a of the sheet press body 120 using an adhesive or the like. For the sheet side elastic body 121, the area of the sheet opposing surface 121a may be larger than the area of the component arrangement area 615.

도 6에 도시된 바와 같이, 시트측 탄성체(121)의 높이, 즉 두께(Ts)는, 전극(602)의 두께(Te)(도 1 및 도 2 참조)보다 두껍다. 또한, 시트측 탄성체(121)의 경도는, 바람직하게는 쇼어(Shore) A15 이상, 쇼어 A50 이하이다. 시트측 탄성체(121)의 시트 대향면(121a)에는, 부품 배치 완료 시트(66)가 배치된다. 이때, 상기한 바와 같이, 시트 가압체(120)의 평탄면(120a)에 설치된 가이드 핀이, 프레임(62)의 외연에 접한다. 한편, 부품 배치 완료 시트(66)의 시트측 탄성체(121)에의 고정 방법으로서는, 메커니컬 척, 배큠 척, 정전 척을 이용해도 좋다.As shown in Fig. 6, the height, or thickness Ts, of the sheet side elastic body 121 is thicker than the thickness Te of the electrode 602 (see Figs. 1 and 2). Additionally, the hardness of the sheet side elastic body 121 is preferably Shore A15 or higher and Shore A50 or lower. A component-placed sheet 66 is disposed on the sheet opposing surface 121a of the sheet side elastic body 121. At this time, as described above, the guide pin provided on the flat surface 120a of the sheet press body 120 contacts the outer edge of the frame 62. On the other hand, as a method of fixing the component arrangement completed sheet 66 to the sheet side elastic body 121, a mechanical chuck, a vacuum chuck, or an electrostatic chuck may be used.

시트 가압체(120) 및 시트측 탄성체(121)에는, 각각 푸셔(13)가 삽입 관통되는 관통 구멍인 푸셔 삽입 관통 구멍(120b, 121b)이 형성되어 있다. 이에 의해, 푸셔 삽입 관통 구멍(12b, 120b, 121b) 내를 진퇴하는 푸셔(13)가, 시트측 탄성체(121)의 시트 대향면(121a)으로부터 출몰 가능하게 되어 있다. 푸셔(13)는, 푸셔 삽입 관통 구멍(121b)으로부터 돌출했을 때, 부품 배치 완료 시트(66)를 시트측 탄성체(121)로부터 이격시켜, 시트 대향면(121a)과 평행하게 들어올려, 지지할 수 있을 정도의 강성, 수 및 배치 간격으로 설치되어 있다. 예컨대, 프레임(62)의 외형이 직사각형인 경우, 프레임(62)의 각 모서리에 대응시켜, 푸셔 삽입 관통 구멍(12b, 120b, 121b)이 형성되고, 각각에 푸셔(13)가 배치된다.The sheet press body 120 and the sheet side elastic body 121 are formed with pusher insertion holes 120b and 121b, respectively, which are through holes through which the pusher 13 is inserted. As a result, the pusher 13 that advances and retreats within the pusher insertion holes 12b, 120b, and 121b can appear and retract from the sheet opposing surface 121a of the sheet side elastic body 121. When the pusher 13 protrudes from the pusher insertion hole 121b, it separates the component-placed sheet 66 from the sheet side elastic body 121, lifts it parallel to the sheet opposing surface 121a, and supports it. They are installed with acceptable rigidity, number, and arrangement spacing. For example, when the outer shape of the frame 62 is rectangular, pusher insertion through holes 12b, 120b, and 121b are formed corresponding to each corner of the frame 62, and the pusher 13 is disposed at each.

푸셔(13)는, 도시하지 않은 구동 기구에 의해, 푸셔 삽입 관통 구멍(12b, 120b, 121b) 내를 진퇴 가능하게 설치된 막대형 부재이다. 구동 기구는, 예컨대, 캠 기구에 의해 구성되어 있다. 즉, 푸셔(13)의 후단부가, 캠 팔로워로 되어 있다. 캠 팔로워는, 난형(卵形)의 캠의 둘레면을 종동한다. 캠은 회전 모터에 축 지지되고, 둘레 방향으로 회전 가능하게 되어 있다. 회전 모터가 구동하여, 캠이 회전하면, 캠 팔로워가 캠의 팽출부를 올라가, 푸셔(13)가 밀어 올려지고, 푸셔(13)의 선단이 푸셔 삽입 관통 구멍(121b)으로부터 돌출한다.The pusher 13 is a rod-shaped member installed to be able to advance and retreat within the pusher insertion holes 12b, 120b, and 121b using a drive mechanism (not shown). The drive mechanism is comprised of, for example, a cam mechanism. That is, the rear end of the pusher 13 serves as a cam follower. The cam follower follows the peripheral surface of the oval-shaped cam. The cam is axially supported by a rotation motor and can rotate in the circumferential direction. When the rotation motor drives and the cam rotates, the cam follower moves up the bulge of the cam, pushes the pusher 13 up, and the tip of the pusher 13 protrudes from the pusher insertion hole 121b.

부품 가압체(130)는, 챔버(10) 내에 설치되고, 전자 부품(60)을 사이에 두고 보호 시트(61)와는 반대측에 위치하는 부재이다. 부품 가압체(130)에서의 전자 부품(60)에 대향하는 면은, 평탄면(130a)이다. 평탄면(130a)은, 부품 배열 영역(615) 이상의 크기를 갖는다. 본 실시형태의 부품 가압체(130)는, 평탄면(130a)을 바닥면으로 하는 추체(錐體)이다. 즉, 부품 가압체(130)는, 평탄면(130a)과 반대측의 중앙을 정점으로 하여, 평탄면(130a)측으로 확대된 형상을 갖고 있다.The component pressing body 130 is a member installed in the chamber 10 and located on the opposite side from the protection sheet 61 with the electronic component 60 interposed therebetween. The surface of the component pressing body 130 facing the electronic component 60 is a flat surface 130a. The flat surface 130a has a size equal to or larger than the component arrangement area 615. The component pressing body 130 of this embodiment is a vertebrae with the flat surface 130a as its bottom surface. That is, the component pressing body 130 has a shape expanded toward the flat surface 130a, with the center on the opposite side from the flat surface 130a as the vertex.

부품 가압체(130)는, 구동 기구(132)에 의해, 부품 배치 완료 시트(66)에 접근 및 이격되는 방향으로 이동 가능하게 설치되어 있다. 구동 기구(132)는, 예컨대, 기압 또는 유압 실린더이고, 그 구동축(132a)이, 커버부(11)의 천장에 형성된 관통 구멍을, O링 등의 밀봉 부재(132b)에 의해 기밀하게 관통하고 있다. 구동축(132a)은, 부품 가압체(130)의 추체의 정점에 접속되어 있다.The component pressing body 130 is installed to be movable in directions approaching and away from the component arrangement sheet 66 by the drive mechanism 132 . The drive mechanism 132 is, for example, a pneumatic or hydraulic cylinder, and its drive shaft 132a penetrates the through hole formed in the ceiling of the cover portion 11 airtightly by a sealing member 132b such as an O-ring. there is. The drive shaft 132a is connected to the apex of the vertebral body of the component pressing body 130.

또한, 평탄면(130a)에는, 부품측 탄성체(131)가 설치되어 있다. 부품측 탄성체(131)는, 탄성 변형하는 시트이고, 부품 배치 완료 시트(66)에 대향하는 평탄한 부품 대향면(131a)을 갖고 있다. 예컨대, 실리콘 고무 등을, 부품측 탄성체(131)로서 이용할 수 있다. 부품측 탄성체(131)로서 적용 가능한 재질은, 시트측 탄성체(121)와 동일하다. 평탄이란, 부품 배치 완료 시트(66)의 전자 부품(60)을 균일하게 압박할 수 있을 정도로 평평하면 되고, 미소한 요철이나 표면 거칠기는 허용된다. 본 실시형태에 있어서는, 부품측 탄성체(131)는, 부품 대향면(131a)과 반대측의 면이, 부품 가압체(130)의 평탄면(130a) 전체에, 접착제 등에 의해 접착되어 있다. 부품측 탄성체(131)의 면적은, 부품 배열 영역(615)의 면적보다 크면 된다.Additionally, a component-side elastic body 131 is provided on the flat surface 130a. The component-side elastic body 131 is an elastically deformable sheet and has a flat component opposing surface 131a facing the component-placed sheet 66. For example, silicone rubber or the like can be used as the part-side elastic body 131. The material applicable to the part-side elastic body 131 is the same as that of the sheet-side elastic body 121. Flat means that the electronic components 60 of the component placement sheet 66 can be pressed evenly, and minor irregularities or surface roughness are permitted. In this embodiment, the part-side elastic body 131 has a surface opposite to the component opposing surface 131a adhered to the entire flat surface 130a of the component pressing body 130 with an adhesive or the like. The area of the component-side elastic body 131 may be larger than the area of the component arrangement area 615.

부품 대향면(131a)과 보호 시트(61)의 점착면(611)과의 점착력을 Fa라고 하고, 전극 노출면(601)과 보호 시트(61)의 점착면과의 점착력을 Fb라고 하면, Fa<Fb이다. 이 때문에, 부품 대향면(131a)에 보호 시트(61)가 접해도, 전극 노출면(601)에의 점착을 유지하면서, 부품 대향면(131a)으로부터 박리되기 쉽다. 또한, 부품 대향면(131a)은, 표면 거칠기(Ra)(산술 평균 거칠기)가 1.6 이상, 25 이하이다. 이에 의해, 부품 대향면(131a)은, 전자 부품(60)의 상면(603)으로부터 박리하기 쉽다. 단, 부품 대향면(131a)은, 전자 부품(60)의 상면(603)과 평행한 방향의 미끄러짐이 발생하기 어렵기 때문에, 보호 시트(61)의 평면 방향으로의 전자 부품(60)의 어긋남은 발생하기 어렵다.If the adhesive force between the component opposing surface 131a and the adhesive surface 611 of the protective sheet 61 is Fa, and the adhesive force between the electrode exposed surface 601 and the adhesive surface 61 of the protective sheet 61 is Fb, then Fa <Fb. For this reason, even if the protection sheet 61 comes into contact with the component opposing surface 131a, it is likely to peel off from the component opposing surface 131a while maintaining adhesion to the electrode exposed surface 601. Additionally, the component opposing surface 131a has a surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of 1.6 or more and 25 or less. As a result, the component opposing surface 131a is likely to peel off from the upper surface 603 of the electronic component 60. However, since it is difficult for the component opposing surface 131a to slip in a direction parallel to the upper surface 603 of the electronic component 60, the electronic component 60 is misaligned in the plane direction of the protection sheet 61. is difficult to occur.

(동작)(movement)

이와 같은 매립 처리부(1)의 동작의 흐름을, 도 7 내지 도 10을 참조하여 설명한다. 도 7 및 도 8은 매립 처리부(1)의 각 공정에서의 상태를 모식적으로 도시한 천이도이다. 도 9는 매립 처리부(1)에서의 전자 부품(60)의 상태를 도시한 천이도이다. 도 10은 보호 시트(61)와 부품측 탄성체(131)가 접한 상태를 도시한 도면이다.The flow of operation of such an embedding processing unit 1 will be described with reference to FIGS. 7 to 10. 7 and 8 are transition diagrams schematically showing the states in each process of the landfill processing unit 1. FIG. 9 is a transition diagram showing the state of the electronic component 60 in the embedding processing unit 1. FIG. 10 is a diagram showing a state in which the protection sheet 61 and the component-side elastic body 131 are in contact with each other.

먼저, 도 7의 (a)에 도시된 바와 같이, 커버부(11)는 배치부(12)로부터 충분히 이격되고, 푸셔(13)의 선단은, 시트측 탄성체(121)의 시트 대향면(121a)으로부터 돌출되어 있다. 이 상태에서, 부품 배치 완료 시트(66)가 매립 처리부(1)에 투입된다. 투입된 부품 배치 완료 시트(66)는, 그 프레임(62)이 푸셔(13)에 지지된다.First, as shown in (a) of FIG. 7, the cover portion 11 is sufficiently spaced apart from the placement portion 12, and the tip of the pusher 13 is aligned with the seat opposing surface 121a of the seat side elastic body 121. ) protrudes from the In this state, the component arrangement completed sheet 66 is put into the embedding processing section 1. The frame 62 of the loaded component arrangement sheet 66 is supported by the pusher 13.

도 7의 (b)에 도시된 바와 같이, 푸셔(13)를 푸셔 삽입 관통 구멍(12b, 120b, 121b) 내에 후퇴시키면, 부품 배치 완료 시트(66)가 시트측 탄성체(121)의 시트 대향면(121a)에 접한다. 이때, 부품 배치 완료 시트(66)의 외연에, 가이드 핀이 접촉한다.As shown in (b) of FIG. 7, when the pusher 13 is retracted into the pusher insertion holes 12b, 120b, and 121b, the component arrangement completed sheet 66 is placed on the sheet opposing surface of the sheet side elastic body 121. It touches (121a). At this time, the guide pin contacts the outer edge of the component arrangement completed sheet 66.

도 7의 (c)에 도시된 바와 같이, 커버부(11)를 배치부(12)를 향해 밀폐 위치로 이동시키면, 커버부(11)의 대향면(11a)과 배치부(12)의 대향면(12a)이, 밀봉 부재(115)를 통해 합치한다. 이에 의해, 밀봉 부재(115)로 밀봉된 내부 공간(111)에, 부품 배치 완료 시트(66)가 갇힌다.As shown in (c) of FIG. 7, when the cover part 11 is moved toward the placement part 12 to the closed position, the opposing surface 11a of the cover part 11 and the placement part 12 face each other. The surfaces 12a meet through the sealing member 115. As a result, the component arrangement sheet 66 is trapped in the internal space 111 sealed by the sealing member 115.

그리고, 배치부(12)의 배기 구멍(12d)에 부압을 발생시켜, 부품 배치 완료 시트(66)가 갇힌 내부 공간(111) 내를 감압함으로써 진공화를 행한다. 이 단계에서는, 도 9의 (a)에 도시된 바와 같이, 전자 부품(60)은 전극(602)이 보호 시트(61)의 점착면(611)에 매설되어 있지 않은 상태로 보호 시트(61)에 배치되어 있기 때문에, 전극 노출면(601)과 점착면(611) 사이에는 간극이 존재하고, 이 간극도 감압된다.Then, negative pressure is generated in the exhaust hole 12d of the placement unit 12 to reduce the pressure in the internal space 111 in which the component placement sheet 66 is confined, thereby creating a vacuum. At this stage, as shown in (a) of FIG. 9, the electronic component 60 is attached to the protective sheet 61 without the electrode 602 embedded in the adhesive surface 611 of the protective sheet 61. Since it is disposed, a gap exists between the electrode exposed surface 601 and the adhesive surface 611, and this gap is also reduced in pressure.

도 8의 (a)에 도시된 바와 같이, 부품 가압체(130)를 시트 가압체(120)를 향해 이동시켜, 부품측 탄성체(131)의 부품 대향면(131a)을 전자 부품(60)에 압박한다. 그러면, 보호 시트(61)의 점착면(611)에 전자 부품(60)의 전극(602)이 매립되어 간다. 그리고, 도 9의 (b)에 도시된 바와 같이, 보호 시트(61)와 함께 시트측 탄성체(121)가 가라앉도록 변형함으로써, 전극(602)의 표면과 그 주위의 전극 노출면(601)을 따르도록, 전극(602)의 표면과 전극 노출면(601)이 보호 시트(61)에 밀착된다. 이 때문에, 부품 배열 영역(615)의 단에서의 전극(602)의 보호 시트(61)에의 매설 부족, 전극 노출면(601)의 보호 시트(61)에의 밀착 부족이 발생하는 것이 방지된다.As shown in (a) of FIG. 8, the component pressing body 130 is moved toward the sheet pressing body 120, and the component opposing surface 131a of the component side elastic body 131 is pressed to the electronic component 60. pressure. Then, the electrode 602 of the electronic component 60 is embedded in the adhesive surface 611 of the protective sheet 61. And, as shown in (b) of FIG. 9, by deforming the sheet side elastic body 121 to sink together with the protective sheet 61, the surface of the electrode 602 and the electrode exposed surface 601 around it are The surface of the electrode 602 and the electrode exposed surface 601 are in close contact with the protective sheet 61. For this reason, insufficient embedding of the electrode 602 in the protective sheet 61 at the end of the component arrangement area 615 and insufficient adhesion of the electrode exposed surface 601 to the protective sheet 61 are prevented.

이 전극 노출면(601)과 보호 시트(61)의 밀착은, 상기한 바와 같이 감압 환경하에서 행해지고 있고, 밀폐된 내부 공간(111)에는 공기가 없거나 매우 적게 되어 있다. 그 때문에, 전극 노출면(601)과 보호 시트(61) 사이에 기포가 침입할 가능성은 낮아진다. 또한, 부품 가압체(130)는, 구동축(132a)으로부터 평탄면(130a)까지 확대되는 추체이기 때문에, 구동축(132a)으로부터의 압력이 중앙에 집중되지 않고, 평탄면(130a)에 균일하게 분산된다. 이 때문에, 평탄한 플레이트와 같이 구동축(132a)의 압력이 중앙에 집중되어 만곡하는 일이 없고, 모든 전자 부품(60)이 균등하게 가압된다.The electrode exposed surface 601 and the protective sheet 61 are brought into close contact with each other in a reduced pressure environment as described above, and there is no or very little air in the sealed internal space 111. Therefore, the possibility of air bubbles entering between the electrode exposed surface 601 and the protective sheet 61 is reduced. In addition, since the component pressing body 130 is a cone body that extends from the drive shaft 132a to the flat surface 130a, the pressure from the drive shaft 132a is not concentrated in the center but is uniformly distributed over the flat surface 130a. do. For this reason, the pressure of the drive shaft 132a is not concentrated at the center and does not bend like a flat plate, and all electronic components 60 are pressed equally.

한편, 이와 같이 압박된 전자 부품(60)은, 도 9의 (b)에 도시된 바와 같이, 바로 아래의 보호 시트(61)가 시트측 탄성체(121)와 함께 가라앉는다. 이 때문에, 가압되어 있는 전자 부품(60) 주위의 보호 시트(61)는, 부품측 탄성체(131)의 부품 대향면(131a)을 향해 일단 융기한다.On the other hand, as shown in (b) of FIG. 9, the electronic component 60 pressed in this way causes the protective sheet 61 immediately below to sink together with the sheet side elastic body 121. For this reason, the protective sheet 61 around the pressed electronic component 60 rises once toward the component opposing surface 131a of the component-side elastic body 131.

다음으로, 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이, 부품 가압체(130)를 시트 가압체(120)로부터 이격하는 방향으로 이동시켜, 전자 부품(60)으로부터 부품측 탄성체(131)를 이격시킨다. 그러면, 도 9의 (c)에 도시된 바와 같이, 시트측 탄성체(121)가 원래의 형상으로 복귀함에 따라, 보호 시트(61)의 융기한 부분이 원래의 평탄한 면으로 복귀된다. 이 때문에, 전극 노출면(601)에 대한 보호 시트(61)의 밀착이 확보되면서, 전자 부품(60)의 측면(604) 하부에는, 보호 시트(61)는 밀착되지 않는다. 이 때문에, 이후의 성막 공정에 있어서, 전자 부품(60)의 측면(604) 하부까지 전자파 실드막(605)을 성막할 수 있고, 측면측으로부터 입사하는 것과 같은 전자파의 차폐도 양호하게 행할 수 있다.Next, as shown in (b) of FIG. 8, the component pressing body 130 is moved in a direction away from the sheet pressing body 120 to separate the component side elastic body 131 from the electronic component 60. I order it. Then, as shown in Figure 9(c), as the sheet side elastic body 121 returns to its original shape, the raised portion of the protective sheet 61 returns to its original flat surface. For this reason, while close contact of the protection sheet 61 with the electrode exposed surface 601 is ensured, the protection sheet 61 is not in close contact with the lower side 604 of the electronic component 60. For this reason, in the subsequent film formation process, the electromagnetic wave shield film 605 can be formed up to the lower part of the side surface 604 of the electronic component 60, and electromagnetic waves such as those incident from the side side can be effectively shielded. .

한편, 도 10에 도시된 바와 같이, 보호 시트(61)의 융기에 의해, 점착면(611)이 부품측 탄성체(131)의 부품 대향면(131a)에 도달하는 경우가 있다. 이 경우라도, 압박 해제 후의 시트측 탄성체(121)가 원래의 형상으로 복귀함에 따라, 보호 시트(61)가 원래의 형상으로 복귀하기 때문에, 부품측 탄성체(131)로부터 박리되기 쉽다. 게다가, 부품측 탄성체(131)의 부품 대향면(131a)과 보호 시트(61)의 점착면(611)과의 점착력(Fa)은, 전자 부품(60)의 전극 노출면(601)과 보호 시트(61)의 점착면(611)과의 점착력(Fb)보다 작기 때문에, 보호 시트(61)의 점착면(611)은, 전극 노출면(601)에의 점착을 유지하면서, 부품측 탄성체(131)로부터 보다 한층 박리되기 쉬워진다.On the other hand, as shown in FIG. 10, there are cases where the adhesive surface 611 reaches the component opposing surface 131a of the component-side elastic body 131 due to the elevation of the protective sheet 61. Even in this case, as the sheet-side elastic body 121 returns to its original shape after the compression is released, the protective sheet 61 returns to its original shape, so it is likely to peel off from the component-side elastic body 131. In addition, the adhesive force Fa between the component opposing surface 131a of the component-side elastic body 131 and the adhesive surface 611 of the protective sheet 61 is determined by the adhesive force Fa between the electrode exposed surface 601 of the electronic component 60 and the protective sheet. Since the adhesive force Fb with the adhesive surface 611 of (61) is smaller, the adhesive surface 611 of the protective sheet 61 maintains adhesion to the electrode exposed surface 601 and the component-side elastic body 131. It becomes easier to peel off from the.

또한, 부품 대향면(131a)은, 표면 거칠기(Ra)(산술 평균 거칠기)가 1.6 이상, 25 이하이다. 이 때문에, 부품 가압체(130)가 전자 부품(60)에 대한 가압을 해제할 때에, 부품측 탄성체(131)의 부품 대향면(131a)이, 전자 부품(60)으로부터 박리되기 쉬워진다.Additionally, the component opposing surface 131a has a surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of 1.6 or more and 25 or less. For this reason, when the component pressing body 130 releases the pressure on the electronic component 60, the component opposing surface 131a of the component-side elastic body 131 becomes prone to peeling off from the electronic component 60.

이상과 같이, 전자 부품(60)의 전극(602)이 보호 시트(61)에 매설되고, 전자 부품(60)의 전극 노출면(601)이 보호 시트(61)에 밀착되면, 공기압 회로(75)에 의한 배기 구멍(12d)으로부터의 감압을 정지하여, 챔버(10) 내의 진공화를 해제한다. 이와 함께, 푸셔(13)를 푸셔 삽입 관통 구멍(12b, 120b, 121b)을 따라 축 방향으로 이동시켜, 시트측 탄성체(121)의 시트 대향면(121a)으로부터 재차 돌출시킨다.As described above, when the electrode 602 of the electronic component 60 is embedded in the protective sheet 61 and the electrode exposed surface 601 of the electronic component 60 is in close contact with the protective sheet 61, the pneumatic circuit 75 ) is stopped from the exhaust hole 12d, thereby releasing the vacuum in the chamber 10. At the same time, the pusher 13 is moved in the axial direction along the pusher insertion holes 12b, 120b, and 121b to protrude from the sheet opposing surface 121a of the sheet side elastic body 121 again.

그리고, 도 8의 (c)에 도시된 바와 같이, 커버부(11)를 배치부(12)로부터 분리하는 방향으로 이동시킨다. 마지막으로, 푸셔(13)를 정지시키고, 커버부(11)를 배치부(12)로부터 이격한 위치에서 정지시킨다. 이에 의해, 매립 처리부(1)에 의한 전자 부품(60)의 보호 시트(61)에의 매립이 완료된다.Then, as shown in (c) of FIG. 8, the cover part 11 is moved in a direction to separate it from the placement part 12. Finally, the pusher 13 is stopped, and the cover part 11 is stopped at a position away from the placement part 12. As a result, embedding of the electronic component 60 into the protection sheet 61 by the embedding processing unit 1 is completed.

한편, 부품 가압체(130)에 의한 전자 부품(60)의 가압의 해제는, 챔버(10) 내의 진공화를 해제하기 전에 행할 필요가 있다. 전자 부품(60)의 가압의 해제 전에, 챔버(10) 내의 진공화를 해제하면, 상기한 바와 같이 보호 시트(61)가 융기한 상태에서 주위가 대기압이 된다. 그러면, 보호 시트(61)의 점착면(611)이 전자 부품(60)의 측면(604)에 부착되어 있던 경우, 또는 부품측 탄성체(131)의 부품 대향면(131a)에 부착되어 있던 경우, 주위의 대기압에 의해 부착된 상태가 고정되어 버려, 박리되지 않게 되어 버리기 때문이다.On the other hand, it is necessary to release the pressure on the electronic component 60 by the component pressurizing body 130 before releasing the vacuum in the chamber 10. If the vacuum in the chamber 10 is released before releasing the pressurization of the electronic component 60, the surroundings become atmospheric pressure with the protection sheet 61 raised as described above. Then, when the adhesive surface 611 of the protective sheet 61 is attached to the side 604 of the electronic component 60, or when it is attached to the component opposing surface 131a of the component-side elastic body 131, This is because the attached state becomes fixed due to the surrounding atmospheric pressure, making it impossible to peel.

[플레이트 장착부][Plate mounting part]

다음으로, 플레이트 장착 공정을 담당하는 플레이트 장착부(2)에 대해 설명한다. 도 11의 (a), 도 11의 (b)는 플레이트 장착부(2)를 도시한 모식도이다. 플레이트 장착부(2)에는, 점착 시트(64)가 미리 접착된 냉각 플레이트(63)와, 매립 처리부(1)에서 작성된 부품 매립 완료 시트(67)가 투입된다. 플레이트 장착부(2)는, 부품 매립 완료 시트(67)를 냉각 플레이트(63)에 압박하고, 또한 부품 매립 완료 시트(67)를 냉각 플레이트(63)에 끌어당김으로써, 점착 시트(64)를 통해 부품 매립 완료 시트(67)를 냉각 플레이트(63)에 밀착시킨다.Next, the plate mounting unit 2, which is responsible for the plate mounting process, will be described. Figure 11(a) and Figure 11(b) are schematic diagrams showing the plate mounting portion 2. The cooling plate 63 to which the adhesive sheet 64 is previously attached and the component embedding sheet 67 created in the embedding processing unit 1 are placed in the plate mounting unit 2. The plate mounting unit 2 presses the component-embedded sheet 67 against the cooling plate 63 and pulls the component-embedded sheet 67 to the cooling plate 63, through the adhesive sheet 64. The component embedded sheet 67 is brought into close contact with the cooling plate 63.

플레이트 장착부(2)는, 천장부(21)와 배치대(22)를 구비하고 있다. 천장부(21)와 배치대(22)는 대향 배치되어 있다. 한편, 천장부(21)는 배치대(22)에 대해 승강 가능하게 되어 있다. 천장부(21)는 내부 공간(211)을 갖는 블록이고, 배치대(22)를 향하는 면에 평탄면(212)을 갖고 있다. 배치대(22)는, 바닥이 있는 컵 형상을 갖는다. 배치대(22)의 개구(221)는 천장부(21)를 향한다.The plate mounting portion 2 is provided with a ceiling portion 21 and a placement table 22. The ceiling portion 21 and the placement table 22 are arranged to face each other. Meanwhile, the ceiling portion 21 is capable of being raised and lowered relative to the placement table 22 . The ceiling portion 21 is a block with an internal space 211 and has a flat surface 212 on the side facing the placement table 22. The placement table 22 has a cup shape with a bottom. The opening 221 of the placement table 22 faces the ceiling 21.

이 배치대(22)에 있어서는, 그 가장자리부(222)는 냉각 플레이트(63)를 지지하고, 개구(221)는 냉각 플레이트(63)로 폐색된다. 냉각 플레이트(63)는, 점착 시트(64)가 접착된 면과는 반대의 면이 가장자리부(222)에 접촉한다. 또한, 부품 매립 완료 시트(67)는, 점착 시트(64)와 대면시켜 냉각 플레이트(63)에 실린다. 배치대(22)의 바닥에는, 공기압 공급 구멍(223)이 관통 형성되어 있다. 공기압 공급 구멍(223)은 공기압 회로(75)에 접속되어 있다.In this placement table 22, the edge portion 222 supports the cooling plate 63, and the opening 221 is closed by the cooling plate 63. The side of the cooling plate 63 opposite to the side to which the adhesive sheet 64 is adhered is in contact with the edge portion 222. Additionally, the fully embedded component sheet 67 is placed on the cooling plate 63 while facing the adhesive sheet 64 . An air pressure supply hole 223 is formed through the bottom of the placement table 22. The air pressure supply hole 223 is connected to the air pressure circuit 75.

또한, 배치대(22)의 가장자리부(222)에는, 배치대(22)를 관통하는 푸셔 삽입 관통 구멍(224)이 관통 형성되어 있다. 이 푸셔 삽입 관통 구멍(631)에는, 푸셔(23)가 삽입 관통되고, O링 등의 밀봉 부재에 의해 기밀하게 밀봉되어 있다. 이 푸셔(23)는, 배치대(22), 냉각 플레이트(63) 및 점착 시트(64)를 관통하여 출몰 가능하게 되어 있다.Additionally, a pusher insertion hole 224 that penetrates the placing table 22 is formed in the edge portion 222 of the placing table 22. The pusher 23 is inserted into this pusher insertion hole 631 and is airtightly sealed with a sealing member such as an O-ring. This pusher 23 is capable of penetrating the placement table 22, the cooling plate 63, and the adhesive sheet 64 to emerge and retract.

천장부(21)의 평탄면(212)에는, 내부 공간(211)으로 통하는 다수의 공기 구멍(213)이 관통 형성되어 있다. 천장부(21)의 내부 공간(211)에는, 평탄면(212)과 상이한 개소에 공기압 공급 구멍(214)이 관통 형성되어 있다. 공기압 공급 구멍(214)은, 공기압 회로(75)에 접속되어 있다.A plurality of air holes 213 leading to the internal space 211 are formed through the flat surface 212 of the ceiling portion 21 . An air pressure supply hole 214 is formed through the internal space 211 of the ceiling portion 21 at a different location from the flat surface 212. The air pressure supply hole 214 is connected to the air pressure circuit 75.

또한, 천장부(21)의 평탄면(212)에는, 배치대(22)에 실린 부품 매립 완료 시트(67)의 프레임(62)을 따라, 공기 구멍(213)의 관통 형성 범위를 둘러싸는 O링 등의 밀봉 부재(215)가 설치되어 있다. 즉, 천장부(21)의 평탄면(212)의 외주부는, 밀봉 부재(215)를 통해 프레임(62)을 압박하고, 보호 시트(61)의 외주부를 냉각 플레이트(63)에 압박한다.Additionally, on the flat surface 212 of the ceiling portion 21, an O-ring surrounds the through-forming area of the air hole 213 along the frame 62 of the component-embedded sheet 67 mounted on the placement table 22. A sealing member 215 such as the like is provided. That is, the outer peripheral portion of the flat surface 212 of the ceiling portion 21 presses the frame 62 through the sealing member 215, and the outer peripheral portion of the protective sheet 61 presses the cooling plate 63.

이러한 플레이트 장착부(2)는, 도 11의 (a)에 도시된 바와 같이, 냉각 플레이트(63)를 배치대(22)의 가장자리부(222)에 탑재하고, 푸셔(23)에 부품 매립 완료 시트(67)의 프레임(62)을 지지시킨 상태에서, 천장부(21)를 내리고, 내부 공간(211)에 부압을 발생시켜, 전자 부품(60)을 평탄면(212)에 끌어당긴다. 푸셔(23)와 천장부(21)를 내리고, 프레임(62)을 보호 시트(61)를 통해 점착 시트(64)에 압박하면, 점착 시트(64)가 설치된 냉각 플레이트(63)와 보호 시트(61) 사이에 밀폐 공간이 형성된다.As shown in (a) of FIG. 11, this plate mounting portion 2 mounts the cooling plate 63 on the edge portion 222 of the placement table 22, and inserts the component into the pusher 23. With the frame 62 of 67 supported, the ceiling portion 21 is lowered, negative pressure is generated in the internal space 211, and the electronic component 60 is pulled to the flat surface 212. When the pusher 23 and the ceiling portion 21 are lowered and the frame 62 is pressed against the adhesive sheet 64 through the protective sheet 61, the cooling plate 63 on which the adhesive sheet 64 is installed and the protective sheet 61 ) A closed space is formed between them.

도 11의 (b)에 도시된 바와 같이, 천장부(21)의 부압을 유지한 채로, 배치대(22)에도 부압을 발생시킨 후, 천장부(21)의 부압을 정압으로 서서히 변화시킨다. 그러면, 부품 매립 완료 시트(67)는 냉각 플레이트(63)에 접착된 점착 시트(64)에 압박되어 장착된다.As shown in FIG. 11 (b), while maintaining the negative pressure in the ceiling portion 21, negative pressure is also generated in the placement table 22, and then the negative pressure in the ceiling portion 21 is gradually changed to positive pressure. Then, the component embedded sheet 67 is pressed and mounted on the adhesive sheet 64 attached to the cooling plate 63.

[성막 처리부][Tabernacle Processing Department]

다음으로, 성막 공정을 담당하는 성막 처리부(3)에 대해 설명한다. 도 12의 (a), 도 12의 (b)는 성막 처리부(3)를 도시한 모식도이다. 성막 처리부(3)는, 부품 탑재 플레이트(68) 상의 개개의 전자 부품(60)에, 스퍼터링에 의해 전자파 실드막(605)을 형성한다. 도 12의 (a)에 도시된 바와 같이, 이 성막 처리부(3)는 챔버(31)와 로드록실(32)을 갖고 있다. 챔버(31)는, 축 방향보다 반경 방향으로 직경이 확대된 원기둥 형상의 진공실이다. 챔버(31) 내는, 반경 방향을 따라 연장된 구획부(33)에 의해 복수의 부채형 구획으로 구획되어 있다. 일부의 부채형 구획에는, 처리 포지션(311) 및 성막 포지션(312)이 할당되어 있다.Next, the film forming processing unit 3, which is responsible for the film forming process, will be described. FIG. 12(a) and FIG. 12(b) are schematic diagrams showing the film forming processing unit 3. The film formation processing unit 3 forms an electromagnetic wave shield film 605 on each electronic component 60 on the component mounting plate 68 by sputtering. As shown in (a) of FIG. 12, this film forming processing unit 3 has a chamber 31 and a load lock chamber 32. The chamber 31 is a cylindrical vacuum chamber whose diameter is enlarged in the radial direction rather than in the axial direction. The inside of the chamber 31 is divided into a plurality of fan-shaped partitions by partitions 33 extending along the radial direction. A processing position 311 and a deposition position 312 are assigned to some fan-shaped partitions.

구획부(33)는, 챔버(31)의 천장면으로부터 바닥면을 향해 연장되어 있으나, 바닥면에는 미달이다. 구획부(33)가 없는 바닥면측 공간에는, 회전 테이블(34)이 설치되어 있다. 회전 테이블(34)은, 냉각 플레이트(63)를 반송하는 반송 장치이다. 이 냉각 플레이트(63)에는, 보호 시트(61)에 매립된 전자 부품(60)이 탑재되어 있다. 회전 테이블(34)은, 챔버(31)와 동축의 원반 형상을 갖고, 원주 방향으로 회전한다. 로드록실(32)로부터 챔버(31) 내에 투입된 부품 탑재 플레이트(68)는, 회전 테이블(34)에 배치되고, 원주의 궤적으로 주회(周回) 이동하면서, 처리 포지션(311) 및 성막 포지션(312)을 순환한다.The partition portion 33 extends from the ceiling of the chamber 31 toward the floor, but is short of the floor. A rotary table 34 is installed in the space on the floor side without the partition portion 33. The rotary table 34 is a conveyance device that conveys the cooling plate 63. Electronic components 60 embedded in the protection sheet 61 are mounted on this cooling plate 63 . The rotary table 34 has a disk shape coaxial with the chamber 31 and rotates in the circumferential direction. The component mounting plate 68 loaded into the chamber 31 from the load lock chamber 32 is placed on the rotary table 34 and moves circumferentially in a circumferential trajectory, at the processing position 311 and the film forming position 312. ) circulates.

한편, 부품 탑재 플레이트(68)의 회전 테이블(34)에 대한 위치를 유지하기 위해서, 회전 테이블(34)에는 예컨대 홈, 구멍, 돌기, 지그, 홀더, 메커니컬 척, 또는 점착 척 등의 부품 탑재 플레이트(68)를 유지하는 유지 수단이 설치되어 있다.Meanwhile, in order to maintain the position of the component mounting plate 68 with respect to the rotation table 34, the rotation table 34 includes a component mounting plate such as a groove, hole, protrusion, jig, holder, mechanical chuck, or adhesive chuck. A holding means for maintaining (68) is installed.

처리 포지션(311)에는 표면 처리부(35)가 설치되어 있다. 이 표면 처리부(35)는, 아르곤 가스 등의 프로세스 가스가 도입되고, 고주파 전압의 인가에 의해 프로세스 가스를 플라즈마화하여, 전자, 이온 및 라디칼 등을 발생시킨다. 예컨대, 이 표면 처리부(35)는, 회전 테이블(34)측에 개구된 통형 전극이고, RF 전원에 의해 고주파 전압이 인가된다.A surface treatment unit 35 is installed at the treatment position 311. This surface treatment unit 35 introduces a process gas such as argon gas, turns the process gas into plasma by applying a high-frequency voltage, and generates electrons, ions, radicals, etc. For example, this surface treatment portion 35 is a cylindrical electrode opened on the rotary table 34 side, and a high-frequency voltage is applied by an RF power source.

성막 포지션(312)에는 스퍼터원(36)을 구성하는 타겟(361)이 설치되고, 아르곤 가스 등의 불활성 가스인 스퍼터 가스가 도입되어 있다. 스퍼터원(36)은, 타겟(361)에 전력을 인가하여, 스퍼터 가스를 플라즈마화시키고, 발생하는 이온 등을 타겟(361)에 충돌시켜, 입자를 내보낸다. 타겟(361)은, 전자파 실드막(605)의 재료를 포함한다. 즉, 타겟(361)으로부터는 전자파 실드막(605)의 입자가 내보내지고, 내보내진 전자파 실드막(605)의 입자는 회전 테이블(34) 상의 전자 부품(60)에 퇴적된다.A target 361 constituting the sputter source 36 is installed at the film forming position 312, and sputter gas, which is an inert gas such as argon gas, is introduced. The sputter source 36 applies power to the target 361 to turn the sputter gas into plasma, causes the generated ions, etc. to collide with the target 361, and emits particles. The target 361 contains the material of the electromagnetic wave shield film 605. That is, particles of the electromagnetic shield film 605 are ejected from the target 361, and the ejected particles of the electromagnetic shield film 605 are deposited on the electronic component 60 on the rotary table 34.

이 성막 포지션(312)은, 예컨대 2개소 설치되어 있다. 각각의 성막 포지션(312)의 타겟 재료는, 동일한 재료로 해도 좋고, 상이한 재료로 하여, 적층의 전자파 실드막(605)을 형성해도 좋다. 각각의 성막 포지션(312)의 스퍼터원(36)에 전력을 인가하는 전원은, 예컨대, DC 전원, DC 펄스 전원, RF 전원 등, 주지의 것을 적용할 수 있다. 또한, 스퍼터원(36)에 전력을 인가하는 전원은, 스퍼터원(36)마다 설치되어도 좋고, 공통의 전원을 전환기로 전환하여 사용해도 좋다.These deposition positions 312 are installed at two locations, for example. The target material for each film formation position 312 may be the same material, or may be used as a different material to form the laminated electromagnetic wave shield film 605. As a power source for applying power to the sputter source 36 at each deposition position 312, a known power source such as a DC power source, a DC pulse power source, or an RF power source can be used. In addition, the power source that applies power to the sputter source 36 may be installed for each sputter source 36, or a common power source may be converted to a switch and used.

이러한 성막 처리부(3)에서는, 처리 포지션(311)에서 전자 부품(60)에 대해 에칭이나 애싱에 의한 표면의 세정 및 조면화를 행하여, 전자 부품(60)에의 전자파 실드막(605)의 밀착성을 높이고, 또한 성막 포지션(312)에서 타겟(361)의 입자를 전자 부품(60)에 퇴적시킴으로써, 전자 부품(60)에 전자파 실드막(605)을 형성한다. 전극(602)은 보호 시트(61)에 매설되고, 전극 노출면(601)은 보호 시트(61)에 밀착되어 있기 때문에, 전극(602)에 전자파 실드막(605)의 입자가 부착되는 것이 저지되고, 또한 전극 노출면(601)과 보호 시트(61) 사이에 전자파 실드막(605)의 입자가 들어가는 것이 저지된다. 또한, 전자 부품(60)의 열은 냉각 플레이트(63)에 전열되어, 전자 부품(60)의 과잉의 축열이 억제된다.In this film formation processing unit 3, the surface of the electronic component 60 is cleaned and roughened by etching or ashing at the processing position 311 to improve the adhesion of the electromagnetic wave shield film 605 to the electronic component 60. By raising the temperature and depositing the particles of the target 361 on the electronic component 60 at the film deposition position 312, the electromagnetic wave shield film 605 is formed on the electronic component 60. Since the electrode 602 is embedded in the protective sheet 61 and the exposed electrode surface 601 is in close contact with the protective sheet 61, particles of the electromagnetic wave shield film 605 are prevented from adhering to the electrode 602. Additionally, particles of the electromagnetic wave shield film 605 are prevented from entering between the electrode exposed surface 601 and the protective sheet 61. Additionally, the heat of the electronic component 60 is transferred to the cooling plate 63, and excessive heat storage of the electronic component 60 is suppressed.

한편, 이 성막 처리부(3)는, 스퍼터링법을 이용하여 전자 부품(60)에 성막하는 것이지만, 성막 수법은 이것에 한정되지 않는다. 예컨대, 성막 처리부(3)는, 증착, 스프레이 코팅 또는 도포 등에 의해 전자파 실드막(605)을 전자 부품(60)에 성막하는 장치여도 좋다.Meanwhile, this film forming unit 3 forms a film on the electronic component 60 using a sputtering method, but the film forming method is not limited to this. For example, the film forming unit 3 may be a device that forms the electromagnetic wave shield film 605 on the electronic component 60 by vapor deposition, spray coating, or application.

[플레이트 해제부][Plate release part]

다음으로, 플레이트 해제 공정을 담당하는 플레이트 해제부(4)에 대해 설명한다. 도 13의 (a), 도 13의 (b)는 플레이트 해제부(4)를 도시한 모식도이다. 플레이트 해제부(4)에는, 전자 부품(60)에 전자파 실드막(605)이 형성된 부품 탑재 플레이트(68)가 투입된다. 플레이트 해제부(4)는, 개개의 전자 부품(60)을 얻기 위한 최초의 공정으로서, 냉각 플레이트(63)로부터 부품 매립 완료 시트(67)를 박리한다.Next, the plate release unit 4, which is responsible for the plate release process, will be described. Figure 13(a) and Figure 13(b) are schematic diagrams showing the plate release portion 4. A component mounting plate 68 on which an electromagnetic wave shield film 605 is formed on the electronic component 60 is inserted into the plate release unit 4. The plate release unit 4 peels the component embedded sheet 67 from the cooling plate 63 as the first process for obtaining the individual electronic components 60 .

도 13의 (a)에 도시된 바와 같이, 플레이트 해제부(4)는, 천장부(41)와 배치대(42)를 구비하고 있다. 천장부(41)와 배치대(42)는 대향 배치되어 있다. 한편, 천장부(41)는 배치대(42)에 대해 승강 가능하게 되어 있다. 천장부(41)는 내부 공간(411)을 갖는 블록이고, 배치대(42)를 향하는 면에 평탄면(412)을 갖고 있다. 배치대(42)는, 바닥이 있는 컵 형상을 갖고, 개구(421)는 천장부(41)를 향한다.As shown in (a) of FIG. 13, the plate release portion 4 is provided with a ceiling portion 41 and a placement table 42. The ceiling portion 41 and the placement table 42 are arranged to face each other. Meanwhile, the ceiling portion 41 is capable of being raised and lowered relative to the placement table 42 . The ceiling portion 41 is a block with an internal space 411, and has a flat surface 412 on the side facing the placement table 42. The placement table 42 has a cup shape with a bottom, and the opening 421 faces the ceiling portion 41.

이 배치대(42)에 있어서는, 그 가장자리부(422)가 부품 탑재 플레이트(68)를 지지하고, 개구(421)는 부품 탑재 플레이트(68)로 폐색된다. 가장자리부(422)는, 냉각 플레이트(63)가 접촉한다. 배치대(42)의 바닥에는, 공기압 공급 구멍(423)이 관통 형성되어 있다. 공기압 공급 구멍(423)은, 공기압 회로(75)에 접속되어 있다.In this placement table 42, the edge portion 422 supports the component mounting plate 68, and the opening 421 is closed by the component mounting plate 68. The edge portion 422 is in contact with the cooling plate 63. An air pressure supply hole 423 is formed through the bottom of the placement table 42. The air pressure supply hole 423 is connected to the air pressure circuit 75.

또한, 배치대(42)의 가장자리부(422)에는, 배치대(42)를 관통하는 푸셔 삽입 관통 구멍(424)이 관통 형성되어 있다. 이 푸셔 삽입 관통 구멍(424)에는, 푸셔(43)가 삽입 관통되고, O링 등의 밀봉 부재에 의해 기밀하게 밀봉되어 있다. 푸셔(43)는, 배치대(42)에 실린 부품 탑재 플레이트(68)의 프레임(62)보다 높은 위치로 선단을 돌출 가능하게 축 방향으로 이동한다.In addition, a pusher insertion hole 424 that penetrates the placing table 42 is formed in the edge portion 422 of the placing table 42. The pusher 43 is inserted into this pusher insertion hole 424 and is airtightly sealed with a sealing member such as an O-ring. The pusher 43 moves in the axial direction so that the tip of the pusher 43 can protrude to a position higher than the frame 62 of the component mounting plate 68 mounted on the placement table 42.

또한, 배치대(42)의 양옆에는 한 쌍의 협지(挾持) 블록(44)이 배치되어 있다. 협지 블록(44)은, 배치대(42)에 실려 있는 부품 탑재 플레이트(68) 중, 냉각 플레이트(63)만을 끼워 넣는다. 협지 블록(44)은, 냉각 플레이트(63)를 중심으로 서로 접촉 및 분리 가능하게 되어 있다.Additionally, a pair of support blocks 44 are arranged on both sides of the placement table 42. The clamping block 44 inserts only the cooling plate 63 among the component mounting plates 68 mounted on the placement table 42. The clamping blocks 44 are capable of contacting and separating from each other with the cooling plate 63 as the center.

다음으로, 천장부(41)의 평탄면(412)에는, 내부 공간(411)으로 통하는 다수의 공기 구멍(413)이 관통 형성되어 있다. 천장부(41)의 내부 공간(411)에는, 평탄면(412)과 상이한 개소에 공기압 공급 구멍(414)이 관통 형성되어 있다. 공기압 공급 구멍(414)에는, 공기압 회로(75)가 접속되어 있다.Next, a plurality of air holes 413 leading to the internal space 411 are formed through the flat surface 412 of the ceiling portion 41. An air pressure supply hole 414 is formed through the internal space 411 of the ceiling portion 41 at a different location from the flat surface 412. An air pressure circuit 75 is connected to the air pressure supply hole 414.

또한, 천장부(41)의 평탄면(412)에는, 배치대(42)에 실린 부품 탑재 플레이트(68)의 프레임(62)을 따라, 공기 구멍(413)의 관통 형성 범위를 둘러싸는 O링 등의 밀봉 부재(415)가 설치되어 있다.Additionally, on the flat surface 412 of the ceiling portion 41, an O-ring, etc., surround the penetrating area of the air hole 413 along the frame 62 of the component mounting plate 68 mounted on the placement table 42. A sealing member 415 is installed.

이러한 플레이트 해제부(4)에서는, 배치대(42)에, 냉각 플레이트(63)가 접착된 부품 탑재 플레이트(68)를 배치한다. 도 13의 (a)에 도시된 바와 같이, 천장부(41)를 배치대(42)를 향해 내려, 부품 탑재 플레이트(68)의 프레임(62)에 천장부(41)의 평탄면(412)을 접촉시킨다. 도 13의 (b)에 도시된 바와 같이, 천장부(41)의 밀폐된 내부 공간(411)에 부압을 발생시키고, 배치대(42)에 정압을 발생시킨다. 이에 의해, 냉각 플레이트(63)로부터 부품 배열 영역(615)이 박리되기에 충분한 힘이 부품 배열 영역(615)에 작용하여, 부품 배열 영역(615)은 냉각 플레이트(63)로부터 박리된다.In this plate release unit 4, the component mounting plate 68 to which the cooling plate 63 is attached is placed on the placement table 42. As shown in (a) of FIG. 13, the ceiling portion 41 is lowered toward the placement table 42, and the flat surface 412 of the ceiling portion 41 is brought into contact with the frame 62 of the component mounting plate 68. I order it. As shown in (b) of FIG. 13, negative pressure is generated in the sealed internal space 411 of the ceiling portion 41, and positive pressure is generated in the placement table 42. As a result, a force sufficient to separate the component arrangement area 615 from the cooling plate 63 acts on the component arrangement area 615, and the component arrangement area 615 is separated from the cooling plate 63.

부품 배열 영역(615)이 냉각 플레이트(63)로부터 박리되면, 푸셔(43)의 진출에 따르는 천장부(41)의 이동에 의해, 프레임(62)이 접착된 외측 틀 영역(613)이 냉각 플레이트(63)로부터 박리되고, 보호 시트(61) 전체가 냉각 플레이트(63)로부터 박리된다.When the component arrangement area 615 is separated from the cooling plate 63, the outer frame area 613 to which the frame 62 is adhered is moved by the movement of the ceiling portion 41 as the pusher 43 advances, and the cooling plate ( 63), and the entire protective sheet 61 is peeled off from the cooling plate 63.

[박리 처리부][Peeling processing unit]

또한, 부품 박리 공정을 담당하는 박리 처리부(5)에 대해 설명한다. 도 14의 (a), 도 14의 (b)는 박리 처리부(5)를 도시한 모식도이다. 박리 처리부(5)에는, 플레이트 해제부(4)를 거쳐 냉각 플레이트(63)가 떼내어진 부품 매립 완료 시트(67)가 투입되고, 보호 시트(61)로부터 개개의 전자 부품(60)을 박리한다.Additionally, the peeling processing unit 5 responsible for the component peeling process will be described. Figure 14(a) and Figure 14(b) are schematic diagrams showing the peeling processing unit 5. The component-embedded sheet 67 from which the cooling plate 63 has been removed is input into the peeling processing unit 5 via the plate release unit 4, and the individual electronic components 60 are peeled from the protective sheet 61. .

이 박리 처리부(5)는, 부품 매립 완료 시트(67)가 배치되는 배치대(51)와, 보호 시트(61)를 파지(把持)하여 연속적으로 이동하는 척(52)과, 보호 시트(61)의 단부를 걸어 척(52)이 보호 시트(61)를 파지하는 계기를 만들어내는 안내부(53)와, 보호 시트(61)의 박리 기점을 만드는 시트 스토퍼(54)와, 전자 부품(60)의 들뜸을 방지하는 부품 스토퍼(55)를 구비하고 있다.This peeling processing unit 5 includes a placement table 51 on which the embedded component sheet 67 is placed, a chuck 52 that holds the protection sheet 61 and moves continuously, and a protection sheet 61 ), a guide portion 53 that hooks the end of the chuck 52 to create a trigger for gripping the protective sheet 61, a sheet stopper 54 that creates a starting point for peeling the protective sheet 61, and an electronic component 60. ) is provided with a component stopper (55) that prevents the device from lifting.

배치대(51)는, 부품 매립 완료 시트(67)가 배치되는 평탄면(511)을 갖는다. 부품 매립 완료 시트(67)는, 이 평탄면(511)에 전자 부품(60)을 향하게 하여, 전자 부품(60)의 상면(603)을 배치면에 접촉시키고, 보호 시트(61)를 위로 향하게 하여 배치된다.The placement table 51 has a flat surface 511 on which the component-embedded sheet 67 is placed. The component embedded sheet 67 is placed with the electronic component 60 facing the flat surface 511, the upper surface 603 of the electronic component 60 is in contact with the placement surface, and the protective sheet 61 is facing upward. It is placed as follows.

이 배치대(51)는 내부 공간(512)을 갖는 블록이다. 배치대(51)의 평탄면(511)에는, 부품 배열 영역(615)과 대면하는 영역에 다수의 공기 구멍(513)이 관통 형성되어 있다. 공기 구멍(513)은, 배치대(51)의 내부 공간(512)과 연통(連通)되어 있다. 배치대(51)의 내부 공간(512)에는, 평탄면(511)과 상이한 개소에 공기압 공급 구멍(514)이 관통 형성되어 있다. 공기압 공급 구멍(514)은, 공기압 회로(75)에 접속되어 있다.This placement table 51 is a block having an internal space 512. A plurality of air holes 513 are formed through the flat surface 511 of the placement table 51 in the area facing the component arrangement area 615. The air hole 513 is in communication with the internal space 512 of the mounting table 51. An air pressure supply hole 514 is formed through the internal space 512 of the placement table 51 at a different location from the flat surface 511. The air pressure supply hole 514 is connected to the air pressure circuit 75.

척(52)은, 파지면을 대향시킨 한 쌍의 블록이다. 한 쌍의 블록은 접촉 및 분리 가능하게 되어 있다. 이 척(52)은, 수평 방향 및 수직 방향으로 가동인 이동 장치에 지지되어 있고, 배치대(51)의 평탄면(511)에 실린 보호 시트(61)를 따라, 평탄면(511)에 대해 45도의 영각(迎角)으로 연속적으로 이동한다.The chuck 52 is a pair of blocks with opposing grip surfaces. A pair of blocks can be contacted and separated. This chuck 52 is supported on a moving device movable in the horizontal and vertical directions, and is held against the flat surface 511 along the protective sheet 61 mounted on the flat surface 511 of the placing table 51. It moves continuously at an angle of attack of 45 degrees.

시트 스토퍼(54)는, 보호 시트(61)의 일변을 횡단하는 장축의 원통체 형상을 갖고, 축 회전 가능한 롤러이다. 이 시트 스토퍼(54)는, 배치대(51)의 평탄면(511)을 기준으로 높이 일정을 유지하고, 척(52) 바로 아래를 유지하여, 장축과 직교하는 방향을 따라 배치대(51)에 배치된 보호 시트(61)를 종단한다.The sheet stopper 54 is a roller that has a cylindrical shape with a long axis crossing one side of the protective sheet 61 and is rotatable. This sheet stopper 54 maintains a constant height based on the flat surface 511 of the placement table 51, stays directly below the chuck 52, and moves the placement table 51 along a direction perpendicular to the long axis. Terminates the protective sheet 61 disposed on.

부품 스토퍼(55)는, 보호 시트(61)의 적어도 부품 배열 영역(615) 전역을 횡단하는 장축의 원통체 형상을 갖고, 축 회전 가능한 롤러이다. 이 부품 스토퍼(55)는, 시트 스토퍼(54)와 접근 및 이격 가능하게 배치되어 있다.The component stopper 55 is a roller that has a cylindrical shape with a long axis that crosses at least the entire component arrangement area 615 of the protective sheet 61 and is rotatable about its axis. This component stopper 55 is arranged to enable access to and separation from the sheet stopper 54.

안내부(53)는 프레임(62)의 안내부 삽입 관통 구멍(621)과 축을 공통으로 하는 위치에 배치된다. 안내부(53)의 선단은 프레임(62)의 안내부 삽입 관통 구멍(621)을 향한다. 이 안내부(53)는, 축 방향으로 가동이고, 보호 시트(61)의 단을 향해 돌출하며, 보호 시트(61)의 단을 척(52)을 향해 밀어 올려, 보호 시트(61)의 단이 척(52)에 닿을 때까지, 프레임(62)의 안내부 삽입 관통 구멍(621) 내를 진출한다. 이 안내부(53)는, 밀어 올림에 의해 보호 시트(61)의 일변을 박리한다.The guide portion 53 is disposed at a position having a common axis with the guide portion insertion hole 621 of the frame 62. The tip of the guide portion 53 faces the guide portion insertion hole 621 of the frame 62. This guide portion 53 is movable in the axial direction, protrudes toward the end of the protection sheet 61, pushes the end of the protection sheet 61 toward the chuck 52, and pushes the end of the protection sheet 61 toward the chuck 52. It advances within the guide portion insertion hole 621 of the frame 62 until it touches the chuck 52. This guide portion 53 peels off one side of the protective sheet 61 by pushing up.

이러한 박리 처리부(5)에서는, 도 14의 (a)에 도시된 바와 같이, 전자 부품(60)의 상면(603)을 평탄면(511)에 접촉시킨 상태로, 부품 매립 완료 시트(67)를 배치대(51)에 배치한다. 배치대(51)의 공기 구멍(513)에 부압을 발생시켜, 전자 부품(60)을 평탄면(511)에 흡인 고정시켜 둔다. 안내부(53)는, 축 방향 상측으로 이동하여, 보호 시트(61)의 단을 프레임(62)으로부터 떨어지는 방향으로 밀어내어, 보호 시트(61)의 단을 박리하고, 척(52)을 향해 유도한다.In this peeling processing unit 5, as shown in (a) of FIG. 14, the component-embedded sheet 67 is placed with the upper surface 603 of the electronic component 60 in contact with the flat surface 511. It is placed on the placement table (51). Negative pressure is generated in the air hole 513 of the placement table 51, and the electronic component 60 is suction-fixed to the flat surface 511. The guide portion 53 moves upward in the axial direction, pushes the end of the protection sheet 61 away from the frame 62, peels the end of the protection sheet 61, and moves the end of the protection sheet 61 toward the chuck 52. induce.

보호 시트(61)의 단이 척(52)에 닿으면, 도 14의 (b)에 도시된 바와 같이, 한 쌍의 블록을 폐쇄하여, 척(52)으로 보호 시트(61)의 단을 파지한다. 척(52)이 보호 시트(61)의 단을 파지하면, 부품 스토퍼(55)를 이동시켜, 부품 스토퍼(55)와 시트 스토퍼(54)를 전자 부품(60)의 길이 미만의 거리까지 근접시킨다.When the end of the protection sheet 61 touches the chuck 52, the pair of blocks is closed, as shown in (b) of FIG. 14, and the end of the protection sheet 61 is held by the chuck 52. do. When the chuck 52 grips the end of the protective sheet 61, the component stopper 55 is moved to bring the component stopper 55 and the sheet stopper 54 closer to a distance less than the length of the electronic component 60. .

척(52)과 시트 스토퍼(54)를 보호 시트(61)를 따라 이동시키면서, 척(52)을 인상해 간다. 그러면, 보호 시트(61)는 시트 스토퍼(54)를 기점으로 척(52)에 인상되고, 시트 스토퍼(54)를 기점으로 전자 부품(60)이 보호 시트(61)로부터 박리된다. 이에 의해, 모든 전자 부품(60)은 보호 시트(61)로부터 박리되고, 배치대(51)의 평탄면(511)에 배열된다. 이와 같이, 보호 시트(61)로부터 박리된 전자 부품(60)이 회수된다.The chuck 52 is pulled up while the chuck 52 and the sheet stopper 54 are moved along the protective sheet 61. Then, the protection sheet 61 is pulled up on the chuck 52 starting from the sheet stopper 54, and the electronic component 60 is peeled from the protection sheet 61 starting from the sheet stopper 54. As a result, all electronic components 60 are peeled from the protective sheet 61 and arranged on the flat surface 511 of the placement table 51 . In this way, the electronic component 60 peeled from the protective sheet 61 is recovered.

(작용 효과)(action effect)

(1) 본 실시형태는, 보호 시트(61)의 점착면(611)에, 전극(602)이 형성된 전극 노출면(601)이 접착된 전자 부품(60)에 대한 성막 장치(7)로서, 보호 시트(61)의 점착면(611)에 전극(602)을 매립하는 매립 처리부(1)와, 전극(602)이 보호 시트(61)에 매립된 전자 부품(60)에 대해, 성막 재료를 성막하는 성막 처리부(3)를 구비한다.(1) This embodiment is a film forming device 7 for an electronic component 60 in which an electrode exposed surface 601 on which an electrode 602 is formed is adhered to an adhesive surface 611 of a protective sheet 61, For the embedding processing unit 1 that embeds the electrode 602 in the adhesive surface 611 of the protective sheet 61, and the electronic component 60 in which the electrode 602 is embedded in the protective sheet 61, a film forming material is applied. It is provided with a film forming processing unit 3 that forms a film.

매립 처리부(1)는, 내부를 진공으로 하는 것이 가능한 챔버(10)와, 챔버(10) 내에 설치되고, 보호 시트(61)를 사이에 두고 전자 부품(60)과는 반대측에 위치하는 시트 가압체(120)와, 챔버(10) 내에 설치되고, 전자 부품(60)을 사이에 두고 보호 시트(61)와는 반대측에 위치하는 부품 가압체(130)와, 시트 가압체(120)에 설치되고, 보호 시트(61)에 대향하는 평탄한 시트 대향면(121a)을 갖는 시트측 탄성체(121)와, 부품 가압체(130)에 설치되고, 전자 부품(60)에 대향하는 평탄한 부품 대향면(131a)과, 시트 가압체(120) 및 부품 가압체(130)를 상대 이동시킴으로써, 시트 대향면(121a)과 부품 대향면(131a) 사이에서, 전자 부품(60)과 보호 시트(61)를 서로 압박하게 하는 구동 기구(132)를 갖는다.The embedding processing unit 1 includes a chamber 10 whose interior can be vacuumed, and a sheet pressurizing device installed within the chamber 10 and located on the opposite side from the electronic component 60 with the protection sheet 61 interposed therebetween. A sieve 120, a component pressing body 130 installed in the chamber 10 and located on the opposite side from the protection sheet 61 with the electronic component 60 interposed therebetween, and a sheet pressing body 120 are provided. , a sheet side elastic body 121 having a flat sheet opposing surface 121a facing the protective sheet 61, and a flat component opposing surface 131a provided on the component pressing body 130 and facing the electronic component 60. ) and the sheet pressing body 120 and the component pressing body 130 are moved relative to each other, between the sheet opposing surface 121a and the component opposing surface 131a, the electronic component 60 and the protective sheet 61 are pressed against each other. It has a driving mechanism 132 for pressing.

이 때문에, 전자 부품(60)이 보호 시트(61)에 압박되면, 시트측 탄성체(121)가 탄성 변형함으로써, 보호 시트(61)가 전극(602)의 표면 및 전극 노출면(601)을 따라 변형하여 밀착된다. 즉, 보호 시트(61)를 경질의 플레이트 등으로 지지하고 있는 경우에는, 보호 시트(61)만의 변형량에 한계가 있다. 이에 대해, 본 실시형태에서는, 시트측 탄성체(121)에 의해 보호 시트(61)가 지지되기 때문에, 전극(602)이 가라앉는 두께를 깊게 할 수 있고, 보호 시트(61)가 전극(602)의 표면 및 전극 노출면(601)의 요철을 따라 변형하기 쉬워진다. 따라서, 보호 시트(61)와 전극(602)의 표면 및 전극 노출면(601) 사이의 간극이나 공극의 발생을 억제하여, 보호 시트(61)를 밀착시킬 수 있고, 성막 시에 간극으로부터 전자파 실드막(605)의 입자가 들어가는 것이 방지된다. 또한, 보호 시트(61)만의 변형에 의존하는 경우에는, 보호 시트(61)에 압착시키기 위해서 높은 압력이 필요해지지만, 본 실시형태에서는, 시트측 탄성체(121)가 변형하기 때문에, 비교적 저압의 구동 기구(132)여도 용이하게 변형시킬 수 있고, 장치 전체의 소형화가 가능해진다.For this reason, when the electronic component 60 is pressed against the protective sheet 61, the sheet-side elastic body 121 is elastically deformed, so that the protective sheet 61 moves along the surface of the electrode 602 and the electrode exposed surface 601. It is transformed and adheres tightly. That is, when the protective sheet 61 is supported by a hard plate or the like, there is a limit to the amount of deformation of the protective sheet 61 alone. On the other hand, in the present embodiment, since the protective sheet 61 is supported by the sheet side elastic body 121, the thickness into which the electrode 602 sinks can be increased, and the protective sheet 61 is connected to the electrode 602. It becomes easy to deform along the irregularities of the surface and the electrode exposed surface 601. Therefore, the occurrence of gaps or voids between the protective sheet 61 and the surface of the electrode 602 and the electrode exposed surface 601 can be suppressed, the protective sheet 61 can be brought into close contact, and electromagnetic waves can be shielded from the gap during film formation. Particles of the film 605 are prevented from entering. In addition, when relying on deformation of only the protective sheet 61, high pressure is required to compress the protective sheet 61, but in the present embodiment, since the sheet side elastic body 121 is deformed, a relatively low pressure drive is required. Even the mechanism 132 can be easily modified, making it possible to miniaturize the entire device.

이에 의해, 예컨대, 최외주의 전극(602)으로부터 전극 노출면(601)의 외연까지의 거리(Wb)(도 2 참조)가 좁은 경우라도, 보호 시트(61)를 전극(602)의 표면과 전극 노출면(601)에 밀착시킬 수 있다. 또한, 보호 시트(61)는, 성막 시에 전자 부품(60)에 축열되는 열을 열전도에 의해 성막 처리부(3)측에 방출하기 쉽도록, 비교적 얇게 할 필요가 있다. 그러나, 보호 시트(61)가 얇은 경우에는 완충성이 약하고, 변형량이 보다 한층 작아진다. 이 때문에, 전극 노출면(601)으로부터 수십 ㎛∼수백 ㎛ 돌출한 전극(602)을 보호 시트(61)의 변형만으로 흡수할 수 없고, 보호 시트(61)가 전극(602)의 표면 및 전극 노출면(601)을 따르도록 변형하기 어렵다. 본 실시형태에서는, 상기한 바와 같이 시트측 탄성체(121)가 변형함으로써, 보호 시트(61)의 변형량을 확보할 수 있기 때문에, 간극이나 공극의 발생을 억제할 수 있다.As a result, for example, even when the distance Wb (see FIG. 2) from the outermost electrode 602 to the outer edge of the electrode exposed surface 601 is narrow, the protective sheet 61 is connected to the surface of the electrode 602. It can be brought into close contact with the electrode exposed surface 601. Additionally, the protective sheet 61 needs to be relatively thin so that the heat accumulated in the electronic component 60 during film formation can be easily dissipated to the film forming unit 3 side through heat conduction. However, when the protective sheet 61 is thin, the cushioning properties are weak and the amount of deformation becomes much smaller. For this reason, the electrode 602 that protrudes from the electrode exposed surface 601 by tens of μm to hundreds of μm cannot be absorbed simply by deforming the protective sheet 61, and the protective sheet 61 exposes the surface of the electrode 602 and the electrode. It is difficult to deform it to follow the plane 601. In this embodiment, by deforming the sheet side elastic body 121 as described above, the amount of deformation of the protective sheet 61 can be ensured, and thus the occurrence of gaps and voids can be suppressed.

또한, 시트측 탄성체(121)의 변형은 탄성 변형이기 때문에, 전자 부품(60)과 보호 시트(61)가 서로 압박됨으로써, 시트 대향면(121a)이 가라앉도록 변형한 후, 압박이 해제됨으로써 원래의 평탄한 형상으로 복귀한다. 그러면, 가라앉음에 의해 보호 시트(61)가 전자 부품(60)의 측면(604)에 접한 경우라도, 보호 시트(61)가 시트측 탄성체(121)와 함께 원래의 형상으로 복귀함으로써, 측면(604)에의 부착을 방지할 수 있다. 이에 의해, 측면(604)에 부착된 보호 시트(61)에 의해 전자파 실드막(605)의 성막이 저해되지 않고, 측면(604)에의 전자파 실드막(605)의 성막 부족과, 그라운드 배선과의 접속 불량을 방지할 수 있다. 또한, 보호 시트(61)가 부품 대향면(131a)에 접할 때까지 변형한 경우라도, 시트측 탄성체(121)와 함께 원래의 형상으로 복귀함으로써, 부품 대향면(131a)에 밀착되는 것이 방지된다.In addition, since the deformation of the sheet side elastic body 121 is elastic deformation, the electronic component 60 and the protective sheet 61 are pressed against each other, and the sheet opposing surface 121a is deformed to sink, and then the pressing is released. Returns to its original flat shape. Then, even when the protection sheet 61 is in contact with the side 604 of the electronic component 60 due to sinking, the protection sheet 61 returns to its original shape together with the sheet side elastic body 121, thereby causing the side ( 604) can be prevented. As a result, the formation of the electromagnetic wave shield film 605 is not hindered by the protective sheet 61 attached to the side 604, and the lack of film formation of the electromagnetic wave shield film 605 on the side 604 and the ground wiring are prevented. Connection failure can be prevented. Furthermore, even when the protective sheet 61 is deformed until it comes into contact with the component opposing surface 131a, it returns to its original shape together with the sheet side elastic body 121, thereby preventing it from coming into close contact with the component opposing surface 131a. .

(2) 성막 처리부(3)는, 스퍼터 가스가 도입되는 챔버(31)와, 챔버(31) 내에 설치되고, 스퍼터링에 의해 성막 재료를 퇴적시켜 성막하는 스퍼터원(36)과, 보호 시트(61)에 매립된 전자 부품(60)이 탑재되는 냉각 플레이트(63)와, 냉각 플레이트(63)를 반송하는 반송 장치를 갖는다.(2) The film formation processing unit 3 includes a chamber 31 into which sputter gas is introduced, a sputter source 36 installed in the chamber 31 and depositing a film forming material by sputtering to form a film, and a protection sheet 61. It has a cooling plate 63 on which the electronic component 60 embedded in ) is mounted, and a transport device for transporting the cooling plate 63.

상기한 바와 같이, 시트측 탄성체(121)가 변형함으로써, 보호 시트(61)가 전극(602)의 표면 및 전극 노출면(601)을 따르도록 변형할 수 있기 때문에, 보호 시트(61)를 얇게 하여, 전자 부품(60)의 열을 냉각 플레이트(63)에 방출하기 쉽게 할 수 있고, 방열 효과를 높일 수 있다.As described above, by deforming the sheet side elastic body 121, the protective sheet 61 can be deformed to follow the surface of the electrode 602 and the electrode exposed surface 601, so that the protective sheet 61 can be made thin. As a result, the heat of the electronic component 60 can be easily dissipated to the cooling plate 63, and the heat dissipation effect can be improved.

(3) 시트측 탄성체(121)의 두께(Ts)는, 전극(602)의 두께(Te)보다 두껍고, 경도가 쇼어 A15 이상, 쇼어 A50 이하이다. 이 때문에, 시트측 탄성체(121)는, 전극(602)이 가라앉아, 보호 시트(61)와 함께 변형하기 위해서 바람직한 두께를 갖는다. 또한, 보호 시트(61)가 전극(602)의 표면 및 전극 노출면(601)을 따르도록 변형하고, 원래의 형상으로 복귀하여 측면(604)이나 부품 대향면(131a)으로부터 박리되기에 바람직한 경도를 갖는다. 보다 구체적으로는, 시트측 탄성체(121)의 경도가 쇼어 A15보다 작으면, 전자 부품(60)의 매립 시에 가압되어 변형한 시트측 탄성체(121)가 복원되기 어려워지고, 시트측 탄성체(121)와 함께, 보호 시트(61)가 원래의 형상으로 복귀하기 어려워진다. 이 때문에, 보호 시트(61)가 부품측 탄성체(131)나 전자 부품(60)의 측면(604)과 접촉한 경우에, 박리되기 어려워진다. 본 실시형태에서는, 시트측 탄성체(121)의 경도가 쇼어 A15 이상이기 때문에, 이러한 경우라도 보호 시트(61)가 박리되기 쉬워진다. 한편, 시트측 탄성체(121)의 경도가 쇼어 A50보다 크면, 전자 부품(60)의 매립 시에 가압해도 시트측 탄성체(121)가 변형하기 어려워지고, 시트측 탄성체(121)와 함께 보호 시트(61)가 변형하기 어려워진다. 이 때문에, 최외주의 전극(602)으로부터 전극 노출면(601)의 외연까지의 거리(Wb)가 좁은 경우에, 보호 시트(61)를 전극(602)의 표면과 전극 노출면(601)에 밀착시키기 어려워진다. 본 실시형태에서는, 시트측 탄성체(121)의 경도가 쇼어 A50 이하이기 때문에, 보호 시트(61)가 변형하여 전극(602)의 표면과 전극 노출면(601)에 밀착되기 쉬워진다.(3) The thickness Ts of the sheet side elastic body 121 is thicker than the thickness Te of the electrode 602, and the hardness is Shore A15 or more and Shore A50 or less. For this reason, the sheet side elastic body 121 has a desirable thickness so that the electrode 602 sinks and deforms together with the protective sheet 61. In addition, the protective sheet 61 is deformed to follow the surface of the electrode 602 and the electrode exposed surface 601, returns to its original shape, and has a desirable hardness so that it can be peeled off from the side 604 or the component opposing surface 131a. has More specifically, if the hardness of the seat side elastic body 121 is less than Shore A15, it becomes difficult to restore the seat side elastic body 121 that has been deformed by pressure during embedding of the electronic component 60, and the seat side elastic body 121 ), it becomes difficult for the protective sheet 61 to return to its original shape. For this reason, when the protective sheet 61 comes into contact with the component-side elastic body 131 or the side 604 of the electronic component 60, it becomes difficult to peel off. In the present embodiment, the hardness of the sheet side elastic body 121 is Shore A15 or higher, so even in this case, the protective sheet 61 is prone to peeling. On the other hand, if the hardness of the sheet side elastic body 121 is greater than Shore A50, it becomes difficult for the sheet side elastic body 121 to deform even when pressed when embedding the electronic component 60, and the protective sheet ( 61) becomes difficult to transform. For this reason, when the distance Wb from the outermost electrode 602 to the outer edge of the electrode exposed surface 601 is narrow, the protective sheet 61 is applied to the surface of the electrode 602 and the electrode exposed surface 601. It becomes difficult to adhere closely. In this embodiment, since the hardness of the sheet side elastic body 121 is Shore A50 or less, the protective sheet 61 is likely to deform and come into close contact with the surface of the electrode 602 and the electrode exposed surface 601.

(4) 부품 대향면(131a)과 보호 시트(61)와의 점착력을 Fa라고 하고, 전자 부품(60)의 전극 노출면(601)과 보호 시트(61)의 점착면(611)과의 점착력을 Fb라고 하면, Fa<Fb이다. 이 때문에, 보호 시트(61)가 부품 대향면(131a)에 접한 경우라도, 전극 노출면(601)에의 점착을 유지하면서, 박리되기 쉬워진다. 이에 의해, 보호 시트(61)가 부품 대향면(131a)에 부착된 상태가 유지되고, 전자 부품(60)의 측면(604) 등에 접촉하여 부착됨으로써, 성막되지 않는 개소가 발생하는 것이 방지된다.(4) Let the adhesive force between the component opposing surface 131a and the protective sheet 61 be Fa, and the adhesive force between the electrode exposed surface 601 of the electronic component 60 and the adhesive surface 611 of the protective sheet 61. If Fb, then Fa<Fb. For this reason, even when the protective sheet 61 is in contact with the component opposing surface 131a, it is easy to peel off while maintaining adhesion to the electrode exposed surface 601. As a result, the protective sheet 61 is maintained attached to the component opposing surface 131a, and is adhered in contact with the side surface 604 of the electronic component 60, thereby preventing the occurrence of areas where film is not formed.

(5) 부품 대향면(131a)은, 표면 거칠기(Ra)(산술 평균 거칠기)가 1.6 이상, 25 이하이다. 이 때문에, 전자 부품(60)에 대한 접착이 방지되고, 압박이 해제될 때에, 전자 부품(60)이 추종하여 들떠 버리는 것이 방지된다.(5) The surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of the component opposing surface 131a is 1.6 or more and 25 or less. For this reason, adhesion to the electronic component 60 is prevented and the electronic component 60 is prevented from following and lifting when the pressure is released.

(6) 부품 가압체(130)에는, 부품 대향면(131a)을 갖는 부품측 탄성체(131)가 설치되어 있다. 이 때문에, 보호 시트(61)가 부품 대향면(131a)에 접한 경우의 박리성을 높일 수 있다.(6) The component pressing body 130 is provided with a component-side elastic body 131 having a component opposing surface 131a. For this reason, the peelability when the protective sheet 61 is in contact with the component opposing surface 131a can be improved.

[다른 실시형태][Other Embodiments]

본 발명은 상기한 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 이하와 같은 양태도 포함한다. 예컨대, 부품측 탄성체(131)를 생략해도 좋다. 이 경우, 부품 가압체(130)의 평탄면(130a)이 부품 대향면(131a)으로서 기능한다. 이 경우에도, 보호 시트(61)의 점착면(611) 및 전자 부품(60)의 상면(603)으로부터 박리하기 쉽게 하기 위해서, 평탄면(130a)의 표면에 요철을 형성하거나, 조면화하거나 해도 좋다. 또한, 평탄면(130a)에 박리 시트와 같이, 박리하기 쉬운 재료를 붙여도 좋다.The present invention is not limited to the above-described embodiments, and also includes the following aspects. For example, the part-side elastic body 131 may be omitted. In this case, the flat surface 130a of the component pressing body 130 functions as the component opposing surface 131a. In this case as well, in order to facilitate peeling from the adhesive surface 611 of the protective sheet 61 and the upper surface 603 of the electronic component 60, the surface of the flat surface 130a may be uneven or roughened. good night. Additionally, a material that is easy to peel, such as a release sheet, may be attached to the flat surface 130a.

커버부(11)의 구동 기구 및 부품 가압체(130)의 구동 기구(132)는, 공지의 기구를 적용할 수 있고, 상기한 기구에 한정되는 것이 아니다. 예컨대, 볼나사의 회전에 따라, 슬라이더가 레일을 따라 이동하는 리니어 가이드를 적용해도 좋다. 또한, 시트 가압체(120)와 부품 가압체(130)는, 상대 이동에 의해 전자 부품(60)과 보호 시트(61)를 서로 압박하게 할 수 있으면 된다. 이 때문에, 구동 기구(132)는, 시트 가압체(120)와 부품 가압체(130) 중 적어도 한쪽에 설치되어 있어도, 양쪽에 설치되어 있어도 좋다. 즉, 시트 가압체(120)와 부품 가압체(130)는, 가압 대상에 대해 이동함으로써 가압하는 부재뿐만이 아니라, 가압 대상에 대해 정지한 상태에서, 반작용에 의해 가압하는 부재도 포함된다.The driving mechanism of the cover portion 11 and the driving mechanism 132 of the component pressing body 130 can be any known mechanism and are not limited to the above-described mechanisms. For example, a linear guide in which a slider moves along a rail according to the rotation of the ball screw may be applied. Additionally, the sheet press body 120 and the component press body 130 just need to be able to press the electronic component 60 and the protection sheet 61 against each other by relative movement. For this reason, the drive mechanism 132 may be installed on at least one of the sheet press body 120 and the component press body 130, or may be installed on both sides. That is, the sheet press body 120 and the component press body 130 include not only members that press by moving with respect to the press target, but also members that press by reaction while stationary with respect to the press target.

플레이트 장착부(2), 성막 처리부(3), 플레이트 해제부(4) 및 박리 처리부(5)의 구성은, 상기한 양태에는 한정되지 않는다. 즉, 이들은 플레이트 장착, 성막, 플레이트 해제, 부품 박리를 행할 수 있는 장치이면 된다. 예컨대, 플레이트 장착부(2)는, 매립 처리부(1)와 같이, 가압체에 의해 가압함으로써, 보호 시트(61)에 냉각 플레이트(63)를 장착하는 장치여도 좋다. 박리 처리부(5)는, 핀에 의해 보호 시트(61)를 통해 전자 부품(60)을 밀어 올리고, 노즐 등에 의한 픽업 수단에 의해, 전자 부품(60)을 보호 시트(61)로부터 이탈시키는 기구여도 좋다. 또한, 성막 장치(7)는, 부품 배치 공정을 담당하는 이송부를 구비하도록 해도 좋다. 이송부는, 부품 배치 공정을 담당하고,성막 처리 전의 전자 부품(60)이 배치된 트레이로부터 부품 미배치 시트(65)에 전자 부품(60)을 바꿔 옮긴다.The configuration of the plate mounting portion 2, the film forming portion 3, the plate releasing portion 4, and the peeling portion 5 are not limited to the above-mentioned embodiments. In other words, these can be devices that can perform plate mounting, film forming, plate release, and component peeling. For example, the plate mounting unit 2, like the embedding processing unit 1, may be a device that mounts the cooling plate 63 on the protection sheet 61 by pressing it with a pressurizing body. The peeling processing unit 5 may be a mechanism that pushes the electronic component 60 through the protective sheet 61 with a pin and removes the electronic component 60 from the protective sheet 61 with a pickup means such as a nozzle. good night. Additionally, the film forming apparatus 7 may be provided with a transfer unit responsible for the component placement process. The transfer unit is responsible for the component placement process and transfers the electronic components 60 from the tray on which the electronic components 60 before film forming processing are placed to the component non-placement sheet 65.

또한, 성막 장치(7)는, 매립 처리부(1), 플레이트 장착부(2), 성막 처리부(3), 플레이트 해제부(4) 및 박리 처리부(5)를 구비하는 장치로 하였으나, 이들 각부를 독립된 장치로서 구성하고, 시스템화해도 좋다. 즉, 매립 처리부(1)는 독립된 매립 처리 장치여도 좋고, 플레이트 장착부(2)는 독립된 플레이트 장착 장치여도 좋으며, 성막 처리부(3)는 독립된 성막 처리 장치여도 좋고, 플레이트 해제부(4)는 독립된 플레이트 해제 장치여도 좋으며, 박리 처리부(5)는 독립된 박리 처리 장치여도 좋다.In addition, the film forming apparatus 7 is a device provided with an embedding processing unit 1, a plate mounting unit 2, a film forming processing unit 3, a plate release unit 4, and a peeling processing unit 5, but each of these units is independent. It may be configured as a device and systemized. That is, the embedding processing unit 1 may be an independent embedding processing device, the plate mounting portion 2 may be an independent plate mounting device, the film forming processing section 3 may be an independent film forming processing device, and the plate release portion 4 may be an independent plate. A release device may be sufficient, and the peeling processing unit 5 may be an independent peeling processing device.

이상, 본 발명의 실시형태 및 각부의 변형예를 설명하였으나, 이 실시형태나 각부의 변형예는, 일례로서 제시한 것이며, 발명의 범위를 한정하는 것은 의도하고 있지 않다. 전술한 이들 신규의 실시형태는, 그 외의 여러 가지 형태로 실시되는 것이 가능하고, 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서, 여러 가지 생략, 치환, 변경을 행할 수 있다. 이들 실시형태나 그 변형은, 발명의 범위나 요지에 포함되고, 특허청구의 범위에 기재된 발명에 포함된다.Above, the embodiment of the present invention and the modified examples of each part have been described. However, this embodiment and the modified example of each part are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments described above can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and changes can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention and are included in the invention described in the claims.

1: 매립 처리부 2: 플레이트 장착부
3: 성막 처리부 4: 플레이트 해제부
5: 박리 처리부 7: 성막 장치
10, 31: 챔버 11: 커버부
11a, 12a: 대향면 12: 배치부
12b, 120b, 121b, 224, 424, 631: 푸셔 삽입 관통 구멍
12c, 115, 132b, 215, 415: 밀봉 부재
12d: 배기 구멍 13, 23, 43: 푸셔
21, 41: 천장부 22, 42, 51: 배치대
24b, 45: 밀폐 공간 32: 로드록실
33: 구획부 34: 회전 테이블
35: 표면 처리부 36: 스퍼터원
44: 협지 블록 52: 척
53: 안내부 54: 시트 스토퍼
55: 부품 스토퍼 60: 전자 부품
61: 보호 시트 62: 프레임
63: 냉각 플레이트 64: 점착 시트
65: 부품 미배치 시트 66: 부품 배치 완료 시트
67: 부품 매립 완료 시트 68: 부품 탑재 플레이트
73: 반송부 74: 제어부
75: 공기압 회로 111, 512, 211, 411: 내부 공간
120: 시트 가압체
120a, 130a, 212, 412, 511: 평탄면 121: 시트측 탄성체
121a: 시트 대향면 130: 부품 가압체
131: 부품측 탄성체 131a: 부품 대향면
132: 구동 기구 132a: 구동축
213, 413, 513, 632: 공기 구멍
214, 223, 414, 423, 514: 공기압 공급 구멍
221, 421: 개구 222, 422: 가장자리부
311: 처리 포지션 312: 성막 포지션
361: 타겟 601: 전극 노출면
602: 전극 603: 상면
604: 측면 605: 전자파 실드막
611: 점착면 612: 비점착면
613: 외측 틀 영역 614: 중간 틀 영역
615: 부품 배열 영역 621: 안내부 삽입 관통 구멍
1: Landfill processing section 2: Plate mounting section
3: Film forming section 4: Plate release section
5: Stripping processing unit 7: Film forming device
10, 31: Chamber 11: Cover part
11a, 12a: opposing surface 12: placement portion
12b, 120b, 121b, 224, 424, 631: Pusher insertion through hole
12c, 115, 132b, 215, 415: sealing member
12d: exhaust hole 13, 23, 43: pusher
21, 41: ceiling part 22, 42, 51: placement table
24b, 45: closed space 32: load lock room
33: compartment 34: rotary table
35: Surface treatment unit 36: Sputter source
44: support block 52: chuck
53: Guide 54: Seat stopper
55: component stopper 60: electronic component
61: Protective sheet 62: Frame
63: cooling plate 64: adhesive sheet
65: Parts not placed sheet 66: Parts placed sheet
67: Parts embedded completion sheet 68: Parts mounting plate
73: transfer unit 74: control unit
75: Pneumatic circuit 111, 512, 211, 411: Internal space
120: Sheet press body
120a, 130a, 212, 412, 511: Flat surface 121: Sheet side elastic body
121a: Sheet opposing surface 130: Part press body
131: Part side elastic body 131a: Part opposing surface
132: Drive mechanism 132a: Drive shaft
213, 413, 513, 632: air hole
214, 223, 414, 423, 514: Air pressure supply hole
221, 421: opening 222, 422: edge portion
311: Processing position 312: Tabernacle position
361: Target 601: Electrode exposed surface
602: electrode 603: upper surface
604: side 605: electromagnetic wave shield
611: Adhesive side 612: Non-adhesive side
613: Outer frame area 614: Middle frame area
615: Part arrangement area 621: Guide insertion through hole

Claims (12)

보호 시트의 점착면에, 전극이 형성된 전극 노출면이 접착된 전자 부품에 대한 성막(成膜) 장치로서,
상기 보호 시트의 점착면에 상기 전극을 매립하는 매립 처리부와,
상기 전극이 상기 보호 시트에 매립된 상기 전자 부품에 대해, 성막 재료를 성막하는 성막 처리부
를 구비하고,
상기 매립 처리부는,
내부를 진공으로 하는 것이 가능한 챔버와,
상기 챔버 내에 설치되고, 상기 보호 시트를 사이에 두고 상기 전자 부품과는 반대측에 위치하는 시트 가압체와,
상기 챔버 내에 설치되고, 상기 전자 부품을 사이에 두고 상기 보호 시트와는 반대측에 위치하는 부품 가압체와,
상기 시트 가압체에 설치되고, 상기 보호 시트에 대향하는 평탄한 시트 대향면을 갖고, 경도가 쇼어(Shore) A15 이상, 쇼어 A50 이하인 시트측 탄성체와,
상기 부품 가압체에 설치되고, 상기 전자 부품에 대향하는 평탄한 부품 대향면과,
상기 시트 가압체 및 상기 부품 가압체를 상대 이동시킴으로써, 상기 시트 대향면과 상기 부품 대향면 사이에서, 상기 전자 부품과 상기 보호 시트를 서로 압박하게 하는 구동 기구
를 갖는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
A film forming device for an electronic component in which an electrode exposed surface on which an electrode is formed is adhered to the adhesive surface of a protective sheet, comprising:
an embedding processing unit that embeds the electrode in the adhesive surface of the protective sheet;
A film forming processing unit that forms a film forming material onto the electronic component in which the electrode is embedded in the protective sheet.
Equipped with
The landfill processing unit,
A chamber whose interior can be vacuumed,
a sheet press body installed in the chamber and positioned on an opposite side from the electronic component with the protection sheet interposed therebetween;
a component press body installed in the chamber and located on an opposite side of the protection sheet with the electronic component interposed therebetween;
a sheet side elastic body installed on the sheet press body, having a flat sheet opposing surface facing the protective sheet, and having a hardness of Shore A15 or more and Shore A50 or less;
a flat component opposing surface provided on the component pressing body and facing the electronic component;
A drive mechanism that presses the electronic component and the protection sheet against each other between the sheet opposing surface and the component opposing surface by relatively moving the sheet pressing body and the component pressing body.
A film forming device characterized by having a.
보호 시트의 점착면에, 전극이 형성된 전극 노출면이 접착된 전자 부품에 대한 성막 장치로서,
상기 보호 시트의 점착면에 상기 전극을 매립하는 매립 처리부와,
상기 전극이 상기 보호 시트에 매립된 상기 전자 부품에 대해, 성막 재료를 성막하는 성막 처리부
를 구비하고,
상기 매립 처리부는,
내부를 진공으로 하는 것이 가능한 챔버와,
상기 챔버 내에 설치되고, 상기 보호 시트를 사이에 두고 상기 전자 부품과는 반대측에 위치하는 시트 가압체와,
상기 챔버 내에 설치되고, 상기 전자 부품을 사이에 두고 상기 보호 시트와는 반대측에 위치하는 부품 가압체와,
상기 시트 가압체에 설치되고, 상기 보호 시트에 대향하는 평탄한 시트 대향면을 갖는 시트측 탄성체와,
상기 부품 가압체에 설치되고, 상기 전자 부품에 대향하는 평탄한 부품 대향면과,
상기 시트 가압체 및 상기 부품 가압체를 상대 이동시킴으로써, 상기 시트 대향면과 상기 부품 대향면 사이에서, 상기 보호 시트에 놓인 상태의 상기 전자 부품과 상기 보호 시트를 서로 압박하여, 상기 보호 시트와 함께 상기 시트측 탄성체를 탄성 변형시키고, 각각의 상기 전자 부품의 주위의 상기 보호 시트의 점착면을 융기시켜 상기 전자 부품의 상기 전극 노출면을 덮도록 하는 구동 기구를 갖고,
상기 시트측 탄성체는, 상기 전자 부품과 상기 보호 시트를 압박할 때, 상기 보호 시트가 상기 전자 부품의 전극의 표면 및 전극 노출면을 따르도록 변형하고, 또한 원래의 형상으로 복귀하여 상기 전자 부품의 측면으로부터 박리될 수 있는 경도를 갖는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
A film forming device for an electronic component in which an electrode exposed surface on which an electrode is formed is adhered to the adhesive surface of a protective sheet, comprising:
an embedding processing unit that embeds the electrode in the adhesive surface of the protective sheet;
A film forming processing unit that forms a film forming material onto the electronic component in which the electrode is embedded in the protective sheet.
Equipped with
The landfill processing unit,
A chamber whose interior can be vacuumed,
a sheet press body installed in the chamber and positioned on an opposite side from the electronic component with the protection sheet interposed therebetween;
a component press body installed in the chamber and positioned on an opposite side of the protection sheet with the electronic component interposed therebetween;
a sheet side elastic body provided on the sheet pressing body and having a flat sheet opposing surface facing the protective sheet;
a flat component opposing surface provided on the component pressing body and facing the electronic component;
By moving the sheet press body and the component press body relative to each other, the electronic component placed on the protection sheet and the protection sheet are pressed against each other between the sheet opposing surface and the component opposing surface, so that the electronic component and the protective sheet are pressed together with the protective sheet. a drive mechanism that elastically deforms the sheet-side elastic body and raises the adhesive surface of the protective sheet around each of the electronic components to cover the exposed surface of the electrode of the electronic component;
The sheet-side elastic body, when pressing the electronic component and the protective sheet, deforms the protective sheet so that it follows the surface of the electrode and the exposed surface of the electrode of the electronic component, and returns to its original shape to protect the electronic component. A film forming device characterized by having a hardness that can be peeled off from the side.
제2항에 있어서, 상기 시트측 탄성체의 경도는, 쇼어 A15 이상, 쇼어 A50 이하인 것을 특징으로 하는, 성막 장치.The film forming apparatus according to claim 2, wherein the sheet side elastic body has a hardness of Shore A15 or more and Shore A50 or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 시트측 탄성체의 두께는, 상기 전극의 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 하는, 성막 장치.The film forming apparatus according to claim 1 or 2, wherein the thickness of the sheet side elastic body is thicker than the thickness of the electrode. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부품 대향면과 상기 보호 시트의 상기 점착면과의 점착력을 Fa라고 하고,
상기 전극 노출면과 상기 보호 시트의 상기 점착면과의 점착력을 Fb라고 하면,
Fa<Fb
인 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the adhesive force between the opposing surface of the component and the adhesive surface of the protective sheet is Fa,
If the adhesive force between the exposed surface of the electrode and the adhesive surface of the protective sheet is Fb,
Fa<Fb
A tabernacle device, characterized in that.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부품 대향면은, 표면 거칠기(Ra)가 1.6 이상, 25 이하인 것을 특징으로 하는, 성막 장치.The film forming apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the component opposing surface has a surface roughness (Ra) of 1.6 or more and 25 or less. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부품 대향면에는, 상기 부품 대향면을 갖는 부품측 탄성체가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.The film forming apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein a component-side elastic body having the component opposing surface is provided on the component opposing surface. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부품 가압체는, 상기 부품 대향면을 바닥면으로 하는 추체(錐體)인 것을 특징으로 하는, 성막 장치.The film forming apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the component pressing body is a vertebral body whose bottom surface is an opposing surface of the component. 보호 시트의 점착면에, 전극이 형성된 전극 노출면이 접착된 전자 부품에 대한 성막 장치로서,
상기 보호 시트의 점착면에 상기 전극을 매립하는 매립 처리부와,
상기 전극이 상기 보호 시트에 매립된 상기 전자 부품에 대해, 성막 재료를 성막하는 성막 처리부
를 구비하고,
상기 매립 처리부는,
내부를 진공으로 하는 것이 가능한 챔버와,
상기 챔버 내에 설치되고, 상기 보호 시트를 사이에 두고 상기 전자 부품과는 반대측에 위치하는 시트 가압체와,
상기 챔버 내에 설치되고, 상기 전자 부품을 사이에 두고 상기 보호 시트와는 반대측에 위치하는 부품 가압체와,
상기 시트 가압체에 설치되고, 상기 보호 시트에 대향하는 평탄한 시트 대향면을 갖는 시트측 탄성체와,
상기 부품 가압체에 설치되고, 상기 전자 부품에 대향하고, 표면 거칠기가 1.6 이상, 25 이하인 평탄한 부품 대향면을 갖는 부품측 탄성체와,
상기 시트 가압체 및 상기 부품 가압체를 상대 이동시킴으로써, 상기 시트 대향면과 상기 부품 대향면 사이에서, 상기 보호 시트에 놓인 상태의 상기 전자 부품과 상기 보호 시트를 서로 압박하여, 상기 보호 시트와 함께 상기 시트측 탄성체 및 상기 부품측 탄성체를 탄성 변형시키고, 각각의 상기 전자 부품의 주위의 상기 보호 시트의 점착면을 상기 부품 대항면을 향해 융기시켜 상기 전자 부품의 상기 전극 노출면을 덮도록 하는 구동 기구
를 갖는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
A film forming device for an electronic component in which an electrode exposed surface on which an electrode is formed is adhered to the adhesive surface of a protective sheet, comprising:
an embedding processing unit that embeds the electrode in the adhesive surface of the protective sheet;
A film forming processing unit that forms a film forming material onto the electronic component in which the electrode is embedded in the protective sheet.
Equipped with
The landfill processing unit,
A chamber whose interior can be vacuumed,
a sheet press body installed in the chamber and positioned on an opposite side from the electronic component with the protection sheet interposed therebetween;
a component press body installed in the chamber and located on an opposite side of the protection sheet with the electronic component interposed therebetween;
a sheet side elastic body provided on the sheet pressing body and having a flat sheet opposing surface facing the protective sheet;
a component-side elastic body installed on the component pressing body, facing the electronic component, and having a flat component opposing surface having a surface roughness of 1.6 or more and 25 or less;
By moving the sheet press body and the component press body relative to each other, the electronic component placed on the protection sheet and the protection sheet are pressed against each other between the sheet opposing surface and the component opposing surface, so that the electronic component and the protective sheet are pressed together with the protective sheet. A driving mechanism that elastically deforms the sheet-side elastic body and the component-side elastic body and causes the adhesive surface of the protective sheet around each of the electronic components to rise toward the component opposing surface to cover the electrode-exposed surface of the electronic component.
A film forming device characterized by having a.
제9항에 있어서, 상기 시트측 탄성체는, 상기 보호 시트가 상기 전자 부품의 전극의 표면 및 전극 노출면을 따르도록 변형하고, 또한 원래의 형상으로 복귀하여 상기 전자 부품의 측면으로부터 박리될 수 있는 경도를 갖는 것을 특징으로 하는, 성막 장치.The method of claim 9, wherein the sheet-side elastic body is capable of being deformed so that the protective sheet follows the surface of the electrode and the exposed surface of the electrode of the electronic component, and can be peeled off from the side of the electronic component by returning to its original shape. A film forming device characterized by having hardness. 제9항에 있어서, 상기 시트측 탄성체의 경도는, 쇼어 A15 이상, 쇼어 A50 이하인 것을 특징으로 하는, 성막 장치.The film forming apparatus according to claim 9, wherein the sheet side elastic body has a hardness of Shore A15 or more and Shore A50 or less. 제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부품 대향면과 상기 보호 시트의 상기 점착면과의 점착력을 Fa라고 하고,
상기 전극 노출면과 상기 보호 시트의 상기 점착면과의 점착력을 Fb라고 하면,
Fa<Fb
인 것을 특징으로 하는, 성막 장치.
The method according to any one of claims 9 to 11, wherein the adhesive force between the opposing surface of the component and the adhesive surface of the protective sheet is Fa,
If the adhesive force between the exposed surface of the electrode and the adhesive surface of the protective sheet is Fb,
Fa<Fb
A tabernacle device, characterized in that.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022154398A (en) 2021-03-30 2022-10-13 セイコーエプソン株式会社 White ink jet ink composition and ink jet recording method

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW226406B (en) * 1991-04-12 1994-07-11 Minnesota Mining & Mfg
JPH0697268A (en) 1992-09-11 1994-04-08 Nitto Denko Corp Sticking device for adhesive tape on wafer
JP3397743B2 (en) * 1996-07-12 2003-04-21 富士通株式会社 Semiconductor device
JPH10321634A (en) * 1997-05-22 1998-12-04 Citizen Watch Co Ltd Manufacture of bump electrode
JPH11145345A (en) * 1997-11-12 1999-05-28 Hitachi Ltd Semiconductor device and its manufacture
JP3811567B2 (en) * 1998-03-12 2006-08-23 株式会社日立製作所 Manufacturing method of semiconductor device
JPH11330149A (en) * 1998-03-18 1999-11-30 Hitachi Cable Ltd Semiconductor device, wiring substrate, electronic device and manufacture thereof
JP3114710B2 (en) * 1998-11-30 2000-12-04 日本電気株式会社 Ferroelectric memory and method of manufacturing the same
KR100697268B1 (en) 2000-08-07 2007-03-21 삼성전자주식회사 A exposure apparatus for a semiconductor device fabrication installation
JP2004055628A (en) * 2002-07-17 2004-02-19 Dainippon Printing Co Ltd Semiconductor device of wafer level and its manufacturing method
JP3905032B2 (en) * 2002-12-20 2007-04-18 シャープ株式会社 Semiconductor device and manufacturing method thereof
US7646095B2 (en) * 2003-09-30 2010-01-12 Panasonic Corporation Semiconductor device
JP4221271B2 (en) * 2003-10-28 2009-02-12 Necエンジニアリング株式会社 Tape applicator
JP4657840B2 (en) * 2005-07-14 2011-03-23 新藤電子工業株式会社 Semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2008016751A (en) * 2006-07-10 2008-01-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for sticking semiconductor chip to protection tape
JPWO2010116654A1 (en) * 2009-03-30 2012-10-18 芝浦メカトロニクス株式会社 Thin film forming apparatus and thin film forming method
JP2011153292A (en) * 2009-12-29 2011-08-11 Shibaura Mechatronics Corp Method and apparatus for laminating substrate
JP5741274B2 (en) * 2011-07-22 2015-07-01 セイコーエプソン株式会社 Organic EL device and electronic device
WO2013035819A1 (en) 2011-09-08 2013-03-14 株式会社村田製作所 Electronic component module and method for producing same
CN103165474A (en) * 2011-12-16 2013-06-19 日东电工株式会社 Method for producing semiconductor device
JP5589045B2 (en) * 2012-10-23 2014-09-10 日東電工株式会社 Semiconductor wafer mounting method and semiconductor wafer mounting apparatus
JP6096017B2 (en) * 2013-03-19 2017-03-15 リンテック株式会社 Sheet sticking device and sticking method
JP6439054B2 (en) * 2015-09-02 2018-12-19 株式会社アルバック Work holder and film forming apparatus
JP6736902B2 (en) * 2016-02-12 2020-08-05 三菱電機株式会社 Method of manufacturing semiconductor device
JP6745136B2 (en) * 2016-05-16 2020-08-26 株式会社アルバック Electronic component manufacturing method and processing system
JP6665047B2 (en) * 2016-06-29 2020-03-13 株式会社ディスコ Device packaging method
WO2018199507A1 (en) * 2017-04-25 2018-11-01 (주) 씨앤아이테크놀로지 Electronic component carrier sheet, and adhesion device and thin film forming apparatus using same
JP7000129B2 (en) * 2017-11-15 2022-01-19 芝浦メカトロニクス株式会社 Film forming equipment
JP7051379B2 (en) * 2017-11-15 2022-04-11 芝浦メカトロニクス株式会社 Film forming equipment and embedding processing equipment
JP6935306B2 (en) * 2017-11-16 2021-09-15 芝浦メカトロニクス株式会社 Film deposition equipment

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