KR102634878B1 - 양면 임프린팅 - Google Patents

Abstract

양면 임프린팅을 위한 시스템들, 장치 및 방법들이 제공된다. 예시적인 시스템은, 제1 임프린팅 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함하는 제1 웹을 이동시키기 위한 제1 롤러, 제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함하는 제2 웹을 이동시키기 위한 제2 롤러, 레지스트를 분배하기 위한 디스펜서, 제1 및 제2 템플릿들을 정렬하기 위해 제1 및 제2 웹들 상에서 참조 마크들을 로케이팅하기 위한 로케이팅 시스템, 경화된 제1 레지스트가 기판의 일 측 상에서 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 다른 측 상에서 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록 레지스트를 경화시키기 위한 광원, 및 제1 및 제2 템플릿들 사이에 기판을 공급하고 제1 및 제2 웹들로부터 이중-임프린트된 기판을 언로딩하기 위한 이동 시스템을 포함한다.

Description

양면 임프린팅{DOUBLE-SIDED IMPRINTING}

[0001] 본 출원은, 2017년 5월 25일에 출원된 미국 가출원 번호 제62/511,172호의 출원일의 이익을 주장한다. 미국 출원 번호 제62/511,172호의 내용들은 그 전문이 인용에 의해 본원에 포함된다.

[0002] 본 개시내용은 일반적으로 임프린팅 기술 특히, 양면 임프린팅(double-sided imprinting)에 관한 것이다.

[0003] 기판 상에 단면 임프린트(single sided imprint)들을 생성하는 것으로부터, 템플릿들로부터 양 측들에 대한 임프린트들로 전환하기 위한 프로세스 및/또는 툴을 개발할 때, 극복해야 할 많은 난제들이 존재한다. 난제들은, 기판과 템플릿들을 포지셔닝 및 정렬하는 것, 정렬을 보조하기 위한 참조 피처들을 로케이팅하는 것, 공기 포집(air entrapment) 및 결함들 없이 임프린트들을 생성하는 것, 손상 없이 기판을 홀딩하는 것을 포함할 수 있다.

[0004] 본 개시내용은 위에서 언급된 난제들을 해결한 양면 임프린팅을 위한 방법들, 디바이스들 및 시스템들을 설명한다.

[0005] 본 개시내용의 일 양상은 양면 임프린팅 방법을 특징으로 하며, 이 방법은, 제1 롤러들을 따라 제1 웹을 인출하고 제2 롤러들을 따라 제2 웹을 인출(draw)하는 단계 ― 제1 웹은 제1 템플릿을 포함하고 제2 웹은 제2 템플릿을 포함함 ― ; 제1 템플릿 및 제2 템플릿이 서로 정렬되도록 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하는 단계; 제1 템플릿을 제1 디스펜서에 노출시키기 위해 제1 방향에서 제1 롤러들을 따라 제1 웹을 인출하고 제2 템플릿을 제2 디스펜서에 노출시키기 위해 제2 방향에서 제2 롤러들을 따라 제2 웹을 인출하는 단계; 제1 디스펜서에 의해 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하고, 제2 디스펜서에 의해 제2 템플릿 상에 제2 레지스트를 분배하는 단계; 제1 레지스트를 갖는 제1 템플릿 및 제2 레지스트를 갖는 제2 템플릿이 서로 마주하도록 제1 방향과 반대 방향으로 제1 롤러들을 따라 제1 웹을 인출하고 제2 방향과 반대 방향으로 제2 롤러들을 따라 제2 웹을 인출하는 단계; 제1 레지스트를 갖는 제1 템플릿과 제2 레지스트를 갖는 제2 템플릿 사이에 기판을 삽입하는 단계; 경화된 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상에서 제1 템플릿과 연관된 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 템플릿과 연관된 제2 임프린트된 피처를 갖도록 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 경화시키는 단계; 및 제1 측 상의 제1 임프린트된 피처 및 제2 측 상의 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 언로딩(unloading)하는 단계를 포함한다.

[0006] 일부 구현들에서, 방법은, 정렬 후에, 클램핑된 제1 웹 및 제2 웹이 서로 정렬된 제1 템플릿 및 제2 템플릿과 함께 이동되도록, 참조 마크들에 인접한 위치에서 제1 웹 및 제2 웹을 클램핑하는 단계; 및 경화 후에, 경화된 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 갖는 기판이 제1 웹과 제2 웹 사이의 갭을 통과할 수 있도록, 제1 웹 및 제2 웹을 언클램핑(unclamping)하는 단계를 더 포함한다. 제1 웹 및 제2 웹을 클램핑하는 단계는 척이 제1 웹 상에 있고 클램프가 제2 웹 상에 있도록 클램프와 함께 척을 작동시키는 단계를 포함할 수 있다. 척은 진공으로 제1 웹 상에 척킹하도록 구성된 진공 척을 포함할 수 있다. 일부 예들에서, 척은 제1 롤러들에 의해 정의된 축에 평행한 레일을 따라 이동 가능하도록 구성되고, 척 및 클램프는 클램핑 후에 제1 웹 및 제2 웹과 함께 이동된다. 척은 한 쌍의 가이드들 상에 포지셔닝될 수 있고, 가이드들 각각은 프레임에 연결된 각각의 레일 상에서 이동 가능할 수 있다. 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하는 단계는 x, y 또는 θ 방향 중 적어도 하나에서 각각의 레일들 상의 가이드들의 상대적 포지션들을 조정하는 단계를 포함할 수 있다.

[0007] 제1 롤러들 및 제2 롤러들은, 삽입 후에, 기판이 제1 템플릿 및 제2 템플릿과 함께 이동하도록 배열될 수 있고, 제1 레지스트는 기판의 제1 측 상으로 가압되고 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되고, 제2 레지스트는 기판의 제2 측 상으로 가압되고 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처 내로 충전된다.

[0008] 이 방법은, 제1 레지스트가 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제1 레지스트 내로 제1 템플릿을 푸시하기 위해 제1 웹 상에서 제1 스퀴지 롤러(squeegee roller)를 이동시는 단계; 및 제2 레지스트가 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제2 레지스트 내로 제1 템플릿을 푸시하기 위해 제2 웹 상에서 제2 스퀴지 롤러를 이동시는 단계를 더 포함할 수 있다. 제1 스퀴지 롤러 및 제2 스퀴지 롤러는 제1 스퀴지 및 제2 스퀴지를 함께 이동시키는 동안 서로 대향하게 포지셔닝될 수 있다.

[0009] 일부 경우들에서, 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하는 단계는 제1 웹 상의 제1 참조 마크를 제2 웹 상의 제2 참조 마크와 정렬하고 제1 웹 상의 제3 참조 마크를 제2 웹 상의 제4 참조 마크와 정렬하는 단계를 포함한다. 제1 참조 마크 및 제3 참조 마크는 기판이 제1 템플릿으로 임프린트되도록 구성되는 범위를 정의할 수 있다. 일부 경우들에서, 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하는 단계는 x, y 또는 θ 방향 중 적어도 하나에서 제1 롤러들의 z-롤러를 이동시키는 단계를 포함한다. 일부 경우들에서, 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하는 단계는 카메라 시스템 또는 레이저 시스템 중 적어도 하나를 사용하여 참조 마크들을 로케이팅하는 단계를 포함한다.

[0010] 제1 방향은 반시계 방향일 수 있고, 제2 방향은 시계 방향일 수 있다. 일부 예들에서, 제1 롤러들은 기압(air pressure)에 의해 제1 웹을 부유시키도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러(air turn roller)를 포함한다. 일부 예들에서, 제1 롤러들은 진공에 의해 제1 웹을 척킹하도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러를 포함한다.

[0011] 일부 예들에서, 제1 롤러들은 수직 방향으로 배열된 2개의 제1 z-롤러들을 포함하고, 제2 롤러들은 수직 방향으로 배열된 2개의 제2 z-롤러들을 포함한다. 제1 디스펜서에 의해 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하는 단계는, 제1 템플릿이 수평 방향일 때 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하는 단계를 포함할 수 있고, 제2 디스펜서에 의해 제2 템플릿 상에 제2 레지스트를 분배하는 단계는, 제2 템플릿이 수평 방향일 때 제2 템플릿 상에 제2 레지스트를 분배하는 단계를 포함할 수 있다.

[0012] 일부 예들에서, 기판을 삽입하는 단계는 삽입 방향을 따라 제1 홀더에 의해 기판을 삽입하는 단계를 포함한다. 일부 경우들에서, 기판을 언로딩하는 단계는 삽입 방향과 반대 방향을 따라 제1 임프린트된 피처 및 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 이동시키고 제1 홀더에 의해 제1 임프린트된 피처 및 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 언로딩하는 단계를 포함한다. 일부 경우들에서, 기판을 언로딩하는 단계는 삽입 방향을 따라 제1 임프린트된 피처 및 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 이동시키고 제2의 상이한 홀더에 의해 제1 임프린트된 피처 및 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 언로딩하는 단계를 포함한다. 이 방법은 제1 텐션 센서에 의해 제1 웹의 제1 텐션을 측정하는 단계 및 제2 텐션 센서에 의해 제2 웹의 제2 텐션을 측정하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이 방법은 적어도 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 둘러싸는 챔버의 온도 또는 청결도 중 적어도 하나를 제어하는 단계를 더 포함할 수 있다.

[0013] 이 방법은 제1 템플릿을 임프린팅 구역 내로 인출하기 전에 그리고 제1 웹이 정적일 때, 제1 롤러들 중 하나의 상류에 포지셔닝된 검출 시스템을 사용하여 제1 웹 상에서 제1 참조 마크를 로케이팅하는 단계를 포함할 수 있다. 이 방법은 기판 상의 참조 마크와 함께 제1 웹 상에서 제1 참조 마크를 로케이팅하는 단계; 제1 웹 상의 제1 참조 마크를 기판 상의 참조 마크와 정렬하는 단계; 및 정렬 후에, 제1 템플릿이 기판의 임프린팅 시작 포지션과 동기하여 임프린팅 시작 포지션으로 이동되도록 제1 웹을 이동시키기 위해 제1 참조 마크를 클램핑하는 단계를 포함할 수 있다. 이 방법은 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하는 단계를 더 포함할 수 있으며, 이는 제1 웹의 에지 상에 배열된 하나 이상의 센서들에 의해 제1 웹의 각도를 측정하는 단계; 및 제1 웹의 측정된 각도에 기초하여 기판을 재포지셔닝하는 단계를 포함한다.

[0014] 본 개시내용의 다른 양상은 양면 임프린팅을 위한 시스템을 특징으로 하며, 이 시스템은, 제1 템플릿을 포함하는 제1 웹을 이동시키기 위한 제1 롤러들; 제2 템플릿을 포함하는 제2 웹을 이동시키기 위한 제2 롤러들; 제1 템플릿 및 제2 템플릿이 서로 정렬되도록 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하도록 구성된 정렬 시스템; 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하도록 구성된 제1 디스펜서; 제2 템플릿 상에 제2 레지스트를 분배하도록 구성된 제2 디스펜서; 제1 템플릿과 제2 템플릿 사이에 기판을 삽입하도록 구성된 로딩 시스템; 및 경화된 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상에서 제1 템플릿과 연관된 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 템플릿과 연관된 제2 임프린트된 피처를 갖도록 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 경화시키도록 구성된 광원을 포함한다. 동작 시에, 제1 웹은 제1 템플릿을 제1 디스펜서에 노출시키기 위해 제1 방향에서 제1 롤러들을 따라 인출되고 제2 웹은 제2 템플릿을 제2 디스펜서에 노출시키기 위해 제2 방향에서 제2 롤러들을 따라 인출되고, 그 후, 제1 레지스트를 갖는 제1 템플릿 및 제2 레지스트를 갖는 제2 템플릿이 서로 마주하도록 제1 방향과 반대 방향으로 제1 롤러들을 따라 제1 웹이 인출되고 제2 방향과 반대 방향으로 제2 롤러들을 따라 제2 웹이 인출된다.

[0015] 일부 구현들에서, 시스템은 제1 측 상의 제1 임프린트된 피처 및 제2 측 상의 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 언로딩하도록 구성된 언로딩 시스템을 더 포함한다. 일부 경우들에서, 로딩 시스템은 제1 및 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판이 로딩 시스템으로 역으로 다시 이동될 때 기판을 언로딩하도록 구성된다.

[0016] 일부 구현들에서, 시스템은 클램핑 시스템을 더 포함하며, 이 클램핑 시스템은, 정렬 후에, 클램핑된 제1 웹 및 제2 웹이 서로 정렬된 제1 템플릿 및 제2 템플릿과 함께 이동되도록, 참조 마크들에 인접한 위치에서 제1 웹 및 제2 웹을 클램핑하고, 경화된 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 갖는 기판이 제1 웹과 제2 웹 사이의 갭을 통과할 수 있도록, 제1 웹 및 제2 웹을 언클램핑(unclamping)하도록 구성된다. 클램핑 시스템은 제1 웹을 척킹하도록 구성된 척; 및 척으로 작동될 때 제2 웹을 클램핑하도록 구성된 클램프를 포함할 수 있다. 척은 진공으로 제1 웹 상에 척킹하도록 구성된 진공 척을 포함할 수 있다. 척은 제1 롤러들에 의해 정의된 축에 평행한 레일을 따라 이동 가능하도록 구성될 수 있고, 척 및 클램프는 제1 웹 및 제2 웹을 클램핑한 후 제1 웹 및 제2 웹과 함께 이동될 수 있다. 일부 예들에서, 척은 한 쌍의 가이드들 상에 포지셔닝되고, 가이드들 각각은 프레임에 연결된 각각의 레일 상에서 이동 가능하고, 정렬 시스템은, x, y 또는 θ 방향 중 적어도 하나에서 각각의 레일들 상의 가이드들의 상대적 포지션을 조정함으로써 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하도록 구성된다.

[0017] 제1 롤러들 및 제2 롤러들은 기판이 제1 템플릿 및 제2 템플릿과 함께 이동하도록 배열될 수 있고, 제1 레지스트는 기판의 제1 측 상으로 가압되고 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되고, 제2 레지스트는 기판의 제2 측 상으로 가압되고 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처 내로 충전된다. 정렬 시스템은 x, y 또는 θ 방향 중 적어도 하나에서 제1 롤러들의 z-롤러를 이동시킴으로써 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하도록 구성될 수 있다. 시스템은 정렬을 위해 제1 웹 및 제2 웹 상에서 참조 마크들을 로케이팅하도록 구성된 로케이팅 시스템을 더 포함할 수 있고, 로케이팅 시스템은 카메라 시스템 또는 레이저 시스템 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

[0018] 제1 방향은 반시계 방향일 수 있고, 제2 방향은 시계 방향일 수 있다. 일부 예들에서, 제1 롤러들은 기압(air pressure)에 의해 제1 웹을 부유시키도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러(air turn roller)를 포함한다. 일부 예들에서, 제1 롤러들은 진공에 의해 제1 웹을 척킹하도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러를 포함한다. 일부 예들에서, 제1 롤러들은 수직 방향으로 배열된 2개의 제1 z-롤러들을 포함하고, 제2 롤러들은 수직 방향으로 배열된 2개의 제2 z-롤러들을 포함하고, 제1 디스펜서는 제1 템플릿이 수평 방향일 때 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하도록 구성될 수 있고, 제2 디스펜서는 제2 템플릿이 수평 방향일 때 제2 템플릿 상에 제2 레지스트를 분배하도록 구성된다.

[0019] 시스템은 제1 웹 및 제2 웹의 텐션을 각각 측정하도록 구성된 제1 및 제2 장력 센서들을 더 포함할 수 있다. 시스템은 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 둘러싸도록 구성된 챔버 및 챔버의 온도 또는 청결도 중 적어도 하나를 제어하도록 구성된 제어기를 더 포함할 수 있다.

[0020] 본 개시내용의 제3 양상은 양면 임프린팅 방법을 특징으로 하며, 이 방법은, 제1 롤러들을 따라 제1 웹을 인출하는 단계 ― 제1 웹은 제1 임프린팅 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함함 ― ; 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하는 단계; 기판의 제1 측이 제1 템플릿 상의 제1 레지스트와 접촉하도록 기판을 제1 템플릿 상에 로딩하는 단계; 기판이 제1 템플릿과 함께 이동 가능하도록 기판을 제1 템플릿 상에 클램핑하는 단계; 기판의 제2 측 상에 제2 레지스트를 분배하는 단계; 제2 임프린팅 피처가 제1 임프린팅 피처와 정렬되도록, 제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함하는 제2 웹 상의 제2 참조 마크와 제1 웹 상의 제1 참조 마크를 정렬하는 단계; 정렬 후에, 동일한 레이트로 동시에, 제1 롤러들을 따라 제1 웹을 인출하고 제2 롤러들을 따라 제2 웹을 인출하는 단계; 경화된 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상에서 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 경화시키는 단계; 및 제1 측 상의 제1 임프린트된 피처 및 제2 측 상의 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 언로딩하는 단계를 포함한다.

[0021] 방법은 제1 레지스트가 제1 템플릿의 제1 임프린팅 피처로 확산될 때까지 대기하는 단계를 더 포함할 수 있다. 제1 임프린팅 피처는 격자 피처를 포함할 수 있고, 격자 피처는 제1 레지스트가 격자 피처에 균일하게 충전되도록 구성될 수 있다.

[0022] 제1 참조 마크는 제1 웹을 인출하는 방향을 따라 제1 웹 상의 제1 임프린팅 피처 앞에 포지셔닝될 수 있고, 제2 참조 마크는 방향을 따라 제2 웹 상의 제2 임프린팅 피처 앞에 포지셔닝될 수 있다. 일부 예들에서, 제1 템플릿은 하나 이상의 미리 패터닝된 관통 구멍들을 포함하고, 제1 웹 상으로 기판을 클램핑하는 단계는 하나 이상의 미리 패터닝된 관통 구멍들을 통해 진공 척에 의해 기판을 진공으로 홀딩하는 단계를 포함한다.

[0023] 일부 구현들에서, 제1 롤러들은 수평 방향으로 배열된 2개의 제1 z-롤러들을 포함하고, 제2 롤러들은 수평 방향으로 배열된 2개의 제2 z-롤러들을 포함한다. 2개의 제1 z-롤러들은 제1 웹에 대한 제1 이동 범위를 정의할 수 있고, 2개의 제2 z-롤러들은 제2 웹에 대한 제2 이동 범위를 정의할 수 있고, 제1 이동 범위는 제2 이동 범위보다 클 수 있고 제2 이동 범위를 둘러쌀 수 있다. 일부 경우들에서, 제1 롤러들 및 제2 롤러들은 제1 템플릿과 제2 템플릿 사이의 수직 거리를 정의하도록 배열되고, 수직 거리는 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상으로 가압되고 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 정의될 수 있다.

[0024] 이 방법은 경화 이전에, 제2 레지스트가 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제2 레지스트 내로 제2 템플릿을 푸시하기 위해 제2 웹 상에서 스퀴지 롤러를 이동시키는 단계를 더 포함할 수 있다. 방법은 정렬 후에, 제2 템플릿이 제2 레지스트 내로 가압되고 제2 레지스트가 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록, 기판의 제2 측 상의 제2 레지스트와 접촉하게 되도록 제2 웹과 함께 제2 롤러들을 이동시키는 단계를 더 포함할 수 있다.

[0025] 일부 예들에서, 기판을 언로딩하는 단계는, 기판으로부터 분리되도록 제2 롤러들 중 하나로부터 멀어지게 제2 웹을 풀링하는 단계; 및 기판을 언클램핑하고 제1 웹으로부터 기판을 취하는 단계를 포함한다.

[0026] 본 개시내용의 제4 양상은 양면 임프린팅을 위한 시스템을 특징으로 하며, 이 시스템은, 제1 임프린팅 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함하는 제1 웹을 이동시키기 위한 제1 롤러들; 제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함하는 제2 웹을 이동시키기 위한 제2 롤러들; 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하도록 구성된 제1 디스펜서; 기판의 제1 측이 제1 템플릿 상의 제1 레지스트와 접촉하도록 기판을 제1 템플릿 상에 로딩하도록 구성된 로딩 시스템; 기판이 제1 웹과 함께 이동 가능하도록 기판을 제1 웹 상에 클램핑하도록 구성된 클램핑 시스템; 기판의 제2 측 상에 제2 레지스트를 분배하도록 구성된 제2 디스펜서; 제1 참조 마크를 제2 참조 마크와 정렬하기 위해 제2 웹 상의 제2 참조 마크와 함께 제1 웹 상에서 제1 참조 마크를 로케이팅하도록 구성된 로케이팅 시스템; 경화된 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상에서 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 경화시키도록 구성된 광원; 및 제1 측 상의 제1 임프린트된 피처 및 제2 측 상의 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 언로딩하도록 구성된 언로딩 시스템을 포함한다. 제1 참조 마크 및 제2 참조 마크가 서로 정렬된 후, 제1 웹 및 제2 웹은 동일한 레이트로 동시에 인출된다.

[0027] 제1 템플릿의 제1 임프린팅 피처는 격자 피처를 포함할 수 있고, 격자 피처는 제1 레지스트가 격자 피처에 균일하게 충전되도록 구성될 수 있다. 제1 참조 마크는 제1 웹을 인출하는 방향을 따라 제1 웹 상의 제1 임프린팅 피처 앞에 포지셔닝될 수 있고, 제2 참조 마크는 방향을 따라 제2 웹 상의 제2 임프린팅 피처 앞에 포지셔닝될 수 있다. 제1 템플릿은 하나 이상의 미리 패터닝된 관통 구멍들을 포함할 수 있고, 클램핑 시스템은 하나 이상의 미리 패터닝된 관통 구멍들을 통해 기판을 진공으로 홀딩하도록 구성된 진공 척을 포함한다.

[0028] 일부 구현들에서, 제1 롤러들은 수평 방향으로 배열된 2개의 제1 z-롤러들을 포함하고, 제2 롤러들은 수평 방향으로 배열된 2개의 제2 z-롤러들을 포함한다. 2개의 제1 z-롤러들은 제1 웹에 대한 제1 이동 범위를 정의할 수 있고, 2개의 제2 z-롤러들은 제2 웹에 대한 제2 이동 범위를 정의할 수 있고, 제1 이동 범위는 제2 이동 범위보다 크고 제2 이동 범위를 둘러싼다. 제1 롤러들 및 제2 롤러들은 제1 템플릿과 제2 템플릿 사이의 수직 거리를 정의하도록 배열될 수 있고, 수직 거리는 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상으로 가압되고 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 정의될 수 있다.

[0029] 제1 디스펜서, 로딩 시스템, 제2 디스펜서, 로케이팅 시스템, 광원 및 언로딩 시스템은 제1 롤러들을 따라 제1 웹을 인출하는 방향을 따라 순차적으로 배열될 수 있다. 시스템은 제2 레지스트가 제2 템플릿의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제2 레지스트 내로 제2 템플릿을 푸시하기 위해 제2 웹 상에 압력을 인가하도록 구성된 스퀴지 롤러를 더 포함할 수 있다.

[0030] 제1 롤러들은 기압(air pressure)에 의해 제1 웹을 부유시키도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러(air turn roller)를 포함할 수 있다. 제2 롤러들은, 정렬 후에, 제2 템플릿이 제2 레지스트 내로 가압되고 제2 레지스트가 제2 임프린팅 피처 내로 채워지도록, 기판의 제2 측 상의 제2 레지스트와 접촉하게 되도록 제2 웹과 함께 이동 가능하게 되도록 구성될 수 있다. 일부 예들에서, 로딩 시스템은 EFEM(equipment front end module)을 포함할 수 있고, 언로딩 시스템은 제2 EFEM을 포함할 수 있다. 일부 예들에서, 로케이팅 시스템은 카메라 시스템 또는 레이저 시스템 중 적어도 하나를 포함한다. 시스템은 제1 웹 상의 제1 참조 마크를 제2 웹 상의 제2 참조 마크와 정렬시키도록 구성된 정렬 시스템을 더 포함할 수 있다.

[0031] 본 개시내용의 제5 양상은 양면 임프린팅 방법을 특징으로 하며, 이 방법은, 제1 웹의 제1 템플릿 및 제2 웹의 제2 템플릿이 임프린팅 존 내로 모일때까지 제1 롤러들을 따라 제1 웹을 인출하고 제2 롤러들을 따라 제2 웹을 인출하는 단계; 제1 템플릿 및 제2 템플릿에 대한 참조 마크들을 정렬하는 단계; 기판의 제1 측 상에 제1 레지스트를 분배하고 기판의 제2 측 상에 제2 레지스트를 분배하는 단계; 제1 템플릿과 제2 템플릿 사이의 임프린팅 존 내로 기판을 공급하는 단계; 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상의 제1 템플릿의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되고 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상의 제2 템플릿의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 기판 상으로 가압하는 단계; 경화된 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상에서 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 경화시키는 단계; 및 제1 측 상의 제1 임프린트된 피처 및 제2 측 상의 임프린트된 피처를 갖는 기판을 언로딩하는 단계를 포함한다.

[0032] 일부 경우에, 기판 상으로 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 가압하는 단계는 제1 템플릿 상에 제1 프레스 돔(press dome)을 적용하는 단계를 포함할 수 있다. 일부 경우에, 기판 상으로 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 가압하는 단계는 제2 템플릿 상에 제2 프레스 돔을 적용하는 단계를 포함할 수 있다.

[0033] 일부 구현들에서, 기판 상으로 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 가압하는 단계는, 제1 레지스트가 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제1 레지스트 내로 제1 템플릿을 푸시하기 위해 제1 웹 상에서 제1 스퀴지 롤러를 이동시키는 단계; 및 제2 레지스트가 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제2 레지스트 내로 제2 템플릿을 푸시하기 위해 제2 웹 상에서 제2 스퀴지 롤러를 이동시키는 단계를 포함한다. 제1 스퀴지 롤러 및 제2 스퀴지 롤러는 제1 스퀴지 및 제2 스퀴지를 함께 이동시키는 동안 서로 대향하게 포지셔닝될 수 있다.

[0034] 이 방법은 제1 프레스 돔을 제1 템플릿과 접촉시키고 제2 프레스 돔을 제2 템플릿과 접촉시키는 단계; 및 제1 템플릿 및 제2 템플릿의 정렬에 대해 보정을 행하는 단계를 더 포함할 수 있다. 제2 프레스 돔은 유리 돔 또는 환형 링 진공 척을 포함할 수 있다. 제1 프레스 돔은 유리 돔 또는 환형 링 진공 척을 포함할 수 있다. 기판을 언로딩하는 단계는, 기판으로부터 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 분리하기 위해 제1 웹을 제1 롤러들 중 하나로부터 멀어지게 풀링하고 제2 웹을 제2 롤러들 중 하나로부터 멀어지게 풀링하는 단계를 포함할 수 있다.

[0035] 일부 경우들에서, 기판은 강성이며, 기판을 공급하는 단계는 홀더를 사용하여 기판의 에지를 파지함으로써 기판을 제공하는 단계를 포함한다. 일부 경우들에서, 기판은 가요성이며, 기판을 공급하는 단계는 블랭크 기판의 롤로부터 기판을 인출하는 단계를 포함한다. 이 방법은, 기판이 제1 템플릿으로부터 분리된 후, 기판의 제1 측 상의 경화된 제1 레지스트 상에 제1 보호 필름을 도포하는 단계; 및 기판이 제2 템플릿으로부터 분리된 후, 기판의 제2 측 상의 경화된 제2 레지스트 상에 제2 보호 필름을 도포하는 단계를 더 포함할 수 있다. 이 방법은 롤러 위에서, 제1 측 상의 경화된 제1 레지스트 및 제2 측 상의 경화된 제2 레지스트를 갖는 기판을 롤링하는 단계를 더 포함할 수 있다.

[0036] 본 개시내용의 제6 양상은 양면 임프린팅 방법을 특징으로 하며, 이 방법은, 제1 롤러 및 제2 롤러를 따라 제1 웹을 인출하는 단계 ― 제1 웹은 제1 임프린팅 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함함 ― ; 제3 롤러 및 제4 롤러를 따라 제2 웹을 인출하는 단계 ― 제2 웹은 제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함하며, 제1 롤러 및 제3 롤러는 서로 대향하게 포지셔닝되고 닙(nip)을 형성함 ― ; 제1 템플릿 및 제2 템플릿에 대한 참조 마크들을 정렬하는 단계; 기판의 제1 측 및 제1 템플릿 중 하나 상에 제1 레지스트를 분배하는 단계; 기판의 제2 측 및 제2 템플릿 중 하나 상에 제2 레지스트를 분배하는 단계; 제1 레지스트가 제1 롤러에 의해 기판의 제1 측 상의 제1 임프린팅 피처 내로 가압되고 제2 레지스트가 제3 롤러에 의해 기판의 제2 측 상의 제2 임프린팅 피처 내로 가압되도록, 제1 임프린팅 피처가 기판의 제1 측을 향하고 제2 임프린팅 피처가 기판의 제2 측을 향하는 상태로, 닙 내로 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 동시에 인출하고 닙 내로 기판을 공급하는 단계; 경화된 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상에서 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 경화시키는 단계; 및 제1 측 상의 제1 임프린트된 피처 및 제2 측 상의 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 언로딩하는 단계를 포함한다.

[0037] 일부 경우들에서, 기판을 언로딩하는 단계는 기판으로부터 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 분리하기 위해 제1 웹을 제2 롤러부터 멀어지게 풀링하고 제2 웹을 제4 롤러로부터 멀어지게 풀링하는 단계를 포함한다. 일부 경우들에서, 기판을 언로딩하는 단계는 제1 롤러로부터 제1 웹 및 제3 롤러로부터 제2 웹을 반대로 인출하고 기판으로부터 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 분리하기 위해 기판을 후퇴시키는 단계를 포함한다.

[0038] 본 개시내용의 제7 양상은 양면 임프린팅을 위한 시스템을 특징으로 하며, 이 시스템은, 제1 임프린팅 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함하는 제1 웹을 이동시키도록 구성된 제1 롤러; 제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함하는 제2 웹을 이동시키도록 구성된 제2 롤러; 레지스트를 분배하도록 구성된 하나 이상의 디스펜서들; 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 정렬하기 위해 제1 웹 및 제2 웹 상에서 참조 마크들을 로케이팅하도록 구성된 로케이팅 시스템; 경화된 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상에서 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록 레지스트를 경화시키도록 구성된 광원; 및 제1 템플릿과 제2 템플릿 사이에서 기판을 공급하고 제1 측 상의 제1 임프린트된 피처 및 제2 측 상의 제2 임프린트된 피처를 갖는 기판을 언로딩하도록 구성된 이동 시스템을 포함한다. 디스펜서는 기판의 제1 측 및 제1 템플릿 중 하나 상에 제1 레지스트를 그리고 기판의 제2 측 및 제2 템플릿 중 하나 상에 제2 레지스트를 분배하도록 구성될 수 있다.

[0039] 일부 구현들에서, 제1 롤러들 중 하나 및 제2 롤러들 중 하나는 서로 대향하게 포지셔닝되고 닙을 정의하고, 이동 시스템은, 제1 레지스트가 제1 롤러에 의해 기판의 제1 측 상의 제1 임프린팅 피처 내로 가압되고 제2 레지스트가 제3 롤러에 의해 기판의 제2 측 상의 제2 임프린팅 피처 내로 가압되도록, 제1 임프린팅 피처가 기판의 제1 측을 향하고 제2 임프린팅 피처가 기판의 제2 측을 향하는 상태로, 닙 내로 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 인출될 대 닙 내로 기판을 공급하도록 구성된다.

[0040] 일부 경우들에서, 제1 웹은 제1 롤러들 중 다른 하나로부터 멀어지게 풀링되고, 제2 웹은 제1 롤러들 중 하나와 대향하게 포지셔닝된 제2 롤러들 중 다른 하나로부터 멀어지게 풀링되어서, 기판이 제1 템플릿 및 제2 템플릿으로부터 분리되게 한다. 일부 경우들에서, 이동 시스템은 제1 웹 및 제2 웹이 각각 제1 롤러 중 하나 및 제2 롤러들 중 하나로부터 멀어지게 반대로 인출될 때, 제1 템플릿 및 제2 템플릿으로부터 분리되도록 기판을 후퇴시키게 구성된다.

[0041] 일부 구현들에서, 시스템은 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상의 제1 템플릿의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되고 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상의 제2 템플릿의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 기판 상으로 가압하도록 구성되는 가압 시스템을 더 포함한다.

[0042] 일부 예들에서, 가압 시스템은 제1 템플릿 상에 적용되도록 구성된 제1 프레스 돔을 포함한다. 제1 프레스 돔은 유리 돔 또는 환형 링 진공 척을 포함할 수 있다. 일부 예들에서, 가압 시스템은 제2 템플릿 상에 적용되도록 구성된 제2 프레스 돔을 포함한다. 제2 프레스 돔은 유리 돔 또는 환형 링 진공 척을 포함할 수 있다. 시스템은 제1 프레스 돔이 제1 템플릿과 접촉하도록 가압되고 제2 프레스 돔이 제2 템플릿과 접촉하도록 가압될 때 제1 템플릿 및 제2 템플릿의 정렬에 대한 보정을 행하도록 구성된 보정 시스템을 더 포함할 수 있다.

[0043] 일부 구현들에서, 시스템은, 제1 레지스트가 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제1 레지스트 내로 제1 템플릿을 푸시하기 위해 제1 웹 상에서 이동되도록 구성된 제1 스퀴지 롤러; 및 제2 레지스트가 제2 템플릿의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제2 레지스트 내로 제2 템플릿을 푸시하기 위해 제2 웹 상으로 이동되도록 구성된 제2 스퀴지 롤러를 포함한다. 제1 스퀴지 롤러 및 제2 스퀴지 롤러는 제1 스퀴지 및 제2 스퀴지를 함께 이동시키는 동안 서로 대향하게 포지셔닝될 수 있다.

[0044] 일부 경우들에서, 이동 시스템은 기판의 에지를 파지하도록 구성된 홀더를 포함한다. 일부 경우들에서, 시스템은 블랭크 기판들의 롤러들을 포함하고, 이동 시스템은 기판을 공급하기 위해 롤러들을 회전시키도록 구성된다.

[0045] 일부 구현들에서, 시스템은 기판의 제1 측 상의 경화된 제1 레지스트 상에 도포되도록 구성된 제1 보호 필름의 제1 롤러 및 기판의 제2 측 상의 경화된 제2 레지스트 상에 도포되도록 구성된 제2 보호 필름의 제2 롤러를 더 포함한다. 시스템은 제1 측 상의 경화된 제1 레지스트 및 제2 측 상의 경화된 제2 레지스트를 갖는 기판을 수용하도록 회전하게 구성된 롤러를 더 포함할 수 있다.

[0046] 하나 이상의 개시된 구현들의 세부사항들은 첨부한 도면들 및 아래의 설명에서 기재된다. 다른 특징들, 양상들, 및 이점들은 설명, 도면들, 및 청구항들로부터 명백해질 것이다.

[0047] 도 1은 웹 돔을 통한 직접 환형 템플릿 척킹을 갖는 예시적인 임프린팅 툴의 개략도를 도시한다.
[0048] 도 2는 유리 돔을 통한 간접 템플릿 척킹을 갖는 예시적인 임프린팅 툴의 개략도를 도시한다.
[0049] 도 3a는 예시적인 템플릿 진공 척킹의 개략도를 도시한다.
[0050] 도 3b는 예시적인 공기/진공 바 척킹의 개략도를 도시한다.
[0051] 도 4a는 압력 및 진공의 예시적인 교번 구역들의 개략도를 도시한다.
[0052] 도 4b는 기판 압력 돔을 갖는 유리 돔 템플릿 백킹 플레이트의 예의 개략도를 도시한다.
[0053] 도 5a 및 도 5b는 템플릿들 상에서 참조 마크들을 로케이팅하는 예들의 개략도들을 도시한다.
[0054] 도 5c 및 도 5d는 기판들 상에서 참조 마크들을 로케이팅하는 예들의 개략도들을 도시한다.
[0055] 도 5e 및 도 5f는 템플릿들 상에서 참조 마크들을 로케이팅하는 예들의 개략도들을 도시한다.
[0056] 도 5g 및 도 5h는 진공 척과의 측면간 임프린팅 정렬의 예의 개략도들을 도시한다.
[0057] 도 6a는 임프린팅 동안 스퀴지 롤러들을 사용하는 예의 개략도를 도시한다.
[0058] 도 6b는 임프린팅 동안 스퀴지 롤러들을 사용하는 다른 예의 개략도를 도시한다.
[0059] 도 7a는 θ 조정 방법을 구현하는 예의 개략도를 도시한다.
[0060] 도 7b는 웹 각도 측정 방법을 구현하는 예의 개략도를 도시한다.
[0061] 도 8은 기판 상에 양면 임프린트를 행하는 예시적인 시스템의 개략도를 도시한다.
[0062] 도 9는 기판의 양 측들 상에서 한 번에 임프린트를 형성하는 다른 예시적인 시스템의 개략도를 도시한다.
[0063] 도 10은 이중 유리 돔 임프린팅을 갖는 롤 포맷에서 저비용의 가요성 기판들을 사용하는 예시적인 시스템의 개략도를 도시한다.
[0064] 도 11a는 양면 임프린팅을 위한 예시적인 툴의 개략도를 도시한다.
[0065] 도 11b는 양면 임프린팅을 위한 다른 예시적인 툴의 개략도를 도시한다.
[0066] 도 12a-1 내지 12i는 양면 임프린팅을 위해 도 11a의 툴을 사용하는 예시적인 절차의 개략도들을 도시한다.
[0067] 도 13a 내지 13f는 양면 임프린팅을 위해 도 11a의 툴의 예시적인 피처 구성들의 개략도들을 도시한다.
[0068] 도 14는 양면 임프린팅을 위한 다른 예시적인 툴의 개략도를 도시한다.
[0069] 도 15a 내지 15h는 양면 임프린팅을 위해 도 14의 툴을 사용하는 예시적인 절차의 개략도들을 도시한다.
[0070] 도 16은 기판 상에 양면 임프린트들을 제조하는 예시적인 프로세스의 흐름도이다.
[0071] 도 17은 기판 상에 양면 임프린트들을 제조하는 다른 예시적인 프로세스의 흐름도이다.
[0072] 도 18은 기판 상에 양면 임프린트들을 제조하는 제3 예시적인 프로세스의 흐름도이다.
[0073] 도 19는 기판 상에 양면 임프린트들을 제조하는 제4 예시적인 프로세스의 흐름도이다.

[0074] 양면 임프린팅의 경우, 한 측으로부터 다른 측으로의 임프린트된 피처의 포지션 정렬은 일부 디바이스들의 제조에 있어 매우 중요하다. 일부 구현들에서, 기판의 하부 측 상의 패턴에 대한 상부 템플릿의 정렬은 템플릿 및 기판 둘 모두 상에서 참조 마크들을 발견하는 것을 요구하고, 그 후 고해상도 포지셔닝 시스템을 사용하여 서로에 대해 템플릿 및 기판을 등록한다. 정렬 후에, 포집된 공기의 포켓을 생성하지 않고 템플릿의 상세 피처들이 완전히 충전되도록 보장하기 위해 템플릿이 기판에 대해 조심스럽게 가압될 수 있다. 템플릿과 기판 사이의 조명 광, 예컨대, 자외선(UV) 광이 레지스트, 예컨대 UV 경화성 레지스트를 경화시키면, 템플릿은 분리될 수 있고 패턴이 기판의 양 측들 상에 기립할 수 있다.

[0075] 임프린팅 프로세스는 템플릿 웹이 롤러 아래로 이동함에 따라 UV 경화성 레지스트를 갖는 기판을 템플릿 웹과 접촉시키는 것을 수반한다. 롤링 액션은 UV 레지스트가 템플릿으로 공간들을 충전하고 모든 공기를 밀어내게 할 수 있다. 이 시점에서 UV 레지스트가 경화되고, 웹 경로가 선회하고 진공 척 상에서 기판의 선형 모션으로부터 멀어지게 이동함에 따라 롤러 아래의 기판으로부터 템플릿이 분리된다.

[0076] 템플릿이 가요성의 움직이는 웹에 의해 운반되기 때문에, 높은 정도의 정확도로 템플릿의 포지션을 결정하는 것은 어렵다. 웹이 툴의 롤러 위에서 전진함에 따라 웹은 소량씩 좌우로 이동할 수 있다. 웹은 모터들에 연결된 롤러들에 의해 전진할 수 있다. 이들 롤러들은 직경들에 변동들이 있고 회전식 인코더들은 제한된 해상도들을 갖는다. 웹은 또한 가요성이어서, 텐션 변동들은, 웹 및 템플릿으로 하여금 펼쳐지게 할 뿐만 아니라 수직 방향으로 이동하게 한다.

[0077] 일부 구현들에서, 웹은 기판 상에 임프린팅하기 위해 템플릿이 이용 가능한 존(zone) 내로 전진되고 카메라 시스템은 템플릿 상에 등록 마크들을 로케이팅하는 데 사용된다. 참조 마크들의 포지션들이 발견되면, 웹을 이동시키지 않고 기판 상에 임프린트를 생성하기 위해 템플릿이 사용될 수 있다. 이러한 방식으로, 기판을 로케이팅한 후의 이동이 제거될 수 있으며, 이는 템플릿의 더 뛰어난 포지션 정확도 및 기판의 대향하는 측 상의 임프린트에 대한 더 나은 정렬을 보장한다. 일부 구현들에서, 임프린트 피처들은 선행 롤러들 위의 웹의 전진에 의존하지 않고 기판으로 전사된다.

[0078] 본 개시내용은 위에서 언급된 난제들을 해결한 양면 임프린팅을 위한 방법들, 디바이스들 및 시스템들을 설명한다. 도 1 내지 도 4b는 예시적인 템플릿 척킹 방법을 도시한다. 도 5a 내지 도 5h는 좌우 임프린트 정렬을 위해 템플릿들 및 기판들 상에서 참조 마크들을 로케이팅하는 예들을 도시한다. 도 6a 내지 6b는 임프린팅 동안 템플릿을 기판을 따라 레지스트 내로 푸시하기 위한 예시적인 스퀴지 롤러들을 도시한다. 도 7a 내지 도 7b는 웹 각도 측정 및 롤러들의 각도 오정렬을 보정하기 위한 θ 조정의 예들을 도시한다. 도 8 내지 도 10은 양면 임프린팅의 예시적인 구현들을 도시한다. 도 11a 내지 도 13f는 연관된 절차 및 구성들을 갖는 정렬된 양면 임프린트들을 위한 예시적인 툴들을 도시한다. 도 14 내지 도 15h는 연관된 절차들에 따른 동시성 양면 임프린트를 위한 예시적인 툴을 도시한다. 도 16 내지 도 19는 예컨대, 위에서 설명된 디바이스들, 시스템들 또는 툴들을 사용하여 기판 상에 양면 임프린트들을 제조하기 위한 예시적인 프로세스들을 도시한다.

[0079] 본 개시내용에 설명된 이들 기술들은 예컨대 임의의 적합한 기판들(예컨대, 강성 또는 가요성 재료들)의 단일 측 또는 양 측들 상에 임의의 적합한 마이크로 또는 나노구조들 또는 임의의 양면 패터닝 구조들, 예컨대, 회절 격자들을 제조하는데 적용될 수 있다. 일 예에서, 기술들은 본 명세서와 함께, 2015년 5월 29일에 출원되고 발명의 명칭이 "Methods and systems for generating virtual content display with a virtual or augmented reality apparatus"인 미국 특허 출원 번호 제14/726,424호에서 설명된 바와 같은 접안렌즈용 DOE(diffractive optical element)를 제조하는데 활용될 수 있으며, 이로써 이 문헌의 내용들은 그 전문이 인용에 의해 포함된다. DOE는 하나 이상의 층들을 가질 수 있고, 각각의 층은 OPE(orthogonal pupil expansion) 회절 엘리먼트 및 EPE(exit pupil expansion) 회절 엘리먼트를 포함할 수 있다. 일부 경우들에서, OPE 회절 엘리먼트 및 EPE 회절 엘리먼트는 도파관 기판의 대향하는 측들 상에 제조될 수 있다. 일부 경우들에서, OPE 회절 엘리먼트 및 EPE 회절 엘리먼트는 도파관 기판의 일 측 상에 제조될 수 있고 다른 컴포넌트들은 도파관 기판의 다른 측 상에 제조될 수 있다. 다른 예에서, 기술들은 2017년 1월 18일 출원되고 발명의 명칭이 "Manipulating optical phase variations in diffractive structures"인 미국 가특허 출원 번호 제62/447,608호의 도 7e에 설명된 바와 같이, 기판의 다른 측 상의 변동 구조와 함께 기판의 일 측 상에 회절 격자를 제조하는데 활용될 수 있으며, 이로써, 이 문헌의 내용은 그 전문이 인용에 의해 포함된다.

예시적인 템플릿 척킹 방법들

I. 웹 돔을 통한 직접 환형 템플릿 척킹

[0080] 템플릿이 가요성의 움직이는 웹에 의해 운반되기 때문에, 높은 정도의 정확도로 템플릿의 포지션을 결정하는 것은 어렵다. 가요성 템플릿(예컨대, CRT(coated resist template))이 임프린팅 툴의 롤러들 위에서 전진함에 따라 웹은 소량씩 좌우로 이동할 수 있다. 템플릿이 모터들에 연결된 롤러들에 의해 전진될 때, 이 롤러들은 그의 직경들에서의 변동들을 갖고 회전식 인코더들은 제한된 해상도를 갖기 때문에 모션 에러가 누적된다. 웹은 또한 가요성이어서, 텐션 변동들은, 웹 및 템플릿으로 하여금 펼쳐지게 할 뿐만 아니라 수직 방향으로 이동하게 한다. 일부 구현들에서, 환형 링은 진공으로 템플릿을 파지하고, 따라서 웹이 광학 피드백을 통해 접촉 지점까지 안내되는 동안 웹은 기판 상의 참조 마크에 정렬되도록 한 세트의 정밀 스테이지들로 이동될 수 있다.

[0081] 도 1은 웹 돔을 통한 직접 환형 템플릿 척킹을 갖는 예시적인 임프린팅 툴(100)을 도시한다. 웹(102)은, 웹(102) 위에 그리고 임프린팅 툴(100)에서 z-롤러들(106a, 106b) 사이에 로케이팅되는 환형 링 진공 척(104)에 대해 인출된다. 링 진공 척(104)은 진공 구역 내부에, 유리창(110)으로 커버되고 밀봉될 수 있는 캐비티(108)를 갖는다. 유리창(110)은 비전 시스템(112)이 웹(102) 상의 템플릿(120) 상에서 참조 마크들을 정확히 로케이팅하고, UV 경화 광(114)이 UV 레지스트(116)를 경화시키고, 압력 또는 진공이 링 진공 척(104) 내부의 구역 내의 웹(102)에 적용되도록 허용한다.

[0082] 환형 링 진공 척(104) 내부의 구역에 압력이 인가될 때, 템플릿(120)을 갖는 웹(102)은 링의 중심의 영역이, 수직으로(예컨대, Z 방향을 따라) 및 수평으로 (예컨대, X 방향을 따라) 이동될 수 있는 스테이지(130) 상의 기판(118)을 향해 약간 아래로 푸시되는 풍선처럼 외향으로 구부러질 수 있다. (템플릿(120)을 아래로 또는 기판(118)을 위로 이동시킴으로써) 템플릿(120) 및 기판(118)이 임프린팅을 위해 모여질 때, 템플릿(120)의 중심 부분은 작은 원형 영역에서 먼저 기판(118)을 터치할 수 있고, 템플릿(120) 및 기판(118)이 더 가까워짐에 따라, 공기가 밀어내지고 레지스트가 템플릿(120) 내를 상세하게 충전하기 때문에 접촉 영역이 계속 증가할 것이다. 이 시점에서, 레지스트(116)는 광(114)에 의해 경화되고, 링 진공 척(104)은 템플릿(120)을 릴리즈하고, 스테이지(130) 및 웹(102)은, z-롤러(106a 또는 106b)에서 분리가 발생할 때까지 함께 전진된다.

[0083] 환형 링 진공 척, 예컨대 링 진공 척(104)을 갖는 가요성 템플릿, 예컨대, 템플릿(120)의 홀딩은 몇 가지 이점들을 제공한다. 첫째로, 이 기술은 정확한 포지셔닝을 위해 템플릿을 고정한다. 둘째로, 템플릿이 맑은 재료인 경우, 이 기술은 비전 시스템이 아래의 기판 상의 정렬 마크들을 인식하고 정밀한 정렬을 수행할 수 있게 한다. 이 기술은 또한, 템플릿을 구부리도록 압력이 템플릿 후방에 가해질 수 있어서, 기판과의 접촉이 이루어질 때, 터치 지점은 중앙에 있을 수 있고 템플릿과 기판 사이에 공기가 배출(forced out)될 수 있다. 맑은 템플릿은 UV 경화 단계가 피처들을 경화시킬 수 있게 한다. 피처들로부터 템플릿을 분리하기 위해, 진공이 릴리즈되고 기판을 갖는 웹이 전방으로 구동되고 웹의 경로가 기판의 선형 경로를 벗어남에 따라 롤러에서 분리가 발생한다.

II. 유리 돔을 통한 간접 템플릿 척킹

[0084] 도 2는 유리 돔을 통한 간접 환형 템플릿 척킹을 갖는 예시적인 임프린팅 툴(200)을 도시한다. 임프린팅 력(imprinting force)들은 템플릿(220) 위의 웹(202)의 후방 측으로 낮춰질 수 있는 별개의 가압 돔 조립체(204)를 통해 인가될 수 있다. 유리 돔(204)은 유리(210) 뒤에 폐쇄된 볼륨(208)이 가압될 때 돔 형상을 취하는 얇은 투명 유리 조각(210)을 포함할 수 있다. 유리 후방 표면은 비전 시스템(212)에 의한 광학 템플릿 참조 마크 위치 및 UV 광(214)에 의한 UV 경화를 허용한다. 돔 형상 유리(204)가 웹(202)의 후방으로 낮춰지면, 이들 사이의 마찰은 웹(202)을 제 자리에 로킹(lock)할 수 있다. 이 시점에서, 비전 시스템(212), 예컨대 카메라는 템플릿(220) 및 아래의 기판(218) 상에서 참조 마크를 발견할 수 있다. 기판을 홀딩하는 스테이지 조립체(230)는 광학 피드백과 정렬되도록, 예컨대 X 방향을 따라 수평으로 참조 마크들을 이동시킬 수 있다.

[0085] 정렬 후, 기판(218)은 템플릿(220) 아래로부터 꺼내지고 UV 경화성 레지스트(216)가 도포되고 그 후 기판(218)은 임프린팅을 위해 정렬된 위치로 되돌려진다. 돔(204) 및 템플릿(220)이 예컨대, 수직으로 기판(218) 내로 이동함에 따라, 템플릿(220)은 먼저 중앙에서 기판(218)과 접촉할 것이고 접촉 패치는 외향으로 성장하여 공기를 밀어낼 것이다. 이 시점에서, 임프린트는 UV로 경화될 수 있고, 돔(204)은 가요성 템플릿(220)의 후방 측으로부터 상승 및 분리될 수 있다. 웹(202)은 진공 척(204) 상의 기판(218)과 함께 전진될 수 있고, 템플릿(220)은 z-롤러(206a 또는 206b)에서 기판(218)으로부터 분리될 수 있다.

III. 템플릿 진공 척킹 및 공기/진공 바 척킹

[0086] 도 3a는 예시적인 템플릿 진공 척킹(300)의 개략도를 도시한다. 웹(302)은 2개의 z-롤러(306a, 306b)를 따라 인출된다. 웹(302)은, 웹(302)이 z-롤러(306a, 306b) 주위에서 미끄러지는 것을 방지하기 위해 또는 장력 변동들이 웹(302)의 포지션에서 에러들을 유도하는 것을 방지하기 위해 템플릿(320)을 포함하는 템플릿 구역 주위의 소정의 위치들에서 진공 척들(308, 310)에 의해 진공으로 척킹될 수 있다. 도 3a에 예시된 바와 같이, 2개의 진공 척들(308, 310)은 각각 고 마찰 z-롤러(306b) 전후에 배열될 수 있다. 진공 척(308)은 템플릿(320)에 인접하지만 떨어져 있다. 웹(302)은 브레이크들(304)로 고 마찰 z-롤러(306a 및/또는 306b)를 로킹하고 임프린팅 존의 상류 및 하류의 구동 모터들로 텐션을 유지함으로써 정지될 수 있다. 비전 시스템(312)은 웹(302) 상의 템플릿(320) 상에서 참조 마크들을 직접 로케이팅할 수 있다. UV 경화 광(314)은 또한 템플릿(320) 상의 UV 레지스트를 직접 경화시킬 수 있다.

[0087] 도 3b는 예시적인 공기/진공 바 척킹(350)의 개략도를 도시한다. 선행 z-롤러, 예컨대, 도 3a의 z-롤러(406b) 대신에, 도 3b에서 에어 베어링 턴 바(354)가 사용된다. 웹(352)은 에어 베어링 턴 바(354) 및 z-롤러(356)를 따라 인출된다. 일부 경우들에서, 에어 베어링 턴 바(354)는 진공으로의 공기 압력 스위치를 가질 수 있고, 템플릿(370)에 대한 템플릿 참조 마크들이 정확히 로케이팅될 수 있는 구역에서 웹(352)이 정지된 후에 웹(352)을 클램핑하도록 작용할 수 있다. 추가의 세부사항들과 함께 도 13b에서 논의된 바와 같이, 에어 베어링 턴 바(354)는 웹(352)을 부유시킬 수 있고 웹(352) 상의 임의의 측방향 또는 각도 제한을 두지 않을 수 있다.

IV. 기판 압력 돔을 갖는 유리 돔 템플릿 백킹 플레이트

[0088] 한 번에 한일 측을 임프린팅함으로써 기판의 양 측들을 임프린팅하기 위한 중요한 기술적 난제는 후방 측 상의 패턴을 손상시키지 않으면서 임프린트를 위한 기판의 홀딩이다. 후방 측 상의 패턴이 진공 척 또는 웨이퍼 핸들링 엔드 이펙터와 접촉하게 되는 경우, 3개 이상의 모드들로부터 손상이 발생할 수 있는데: 제1 손상 모드는 임프린트된 패턴의 스크래치일 수 있고; 제2 손상 모드는, 기판으로 이송되는 진공 척 상에 임의의 파편이 떨어지는 경우 발생할 수 있고; 제3 손상 모드는 진공 척이, 어떻게든 기판으로 이송되어 결함으로서 경화되는 경화되지 않은 레지스트로 오염되는 것일 수 있다. 일부 경우들에서, 기판이 에지를 따라 로봇에 의해 파지되는 양면 프로세스는 이러한 결함 이슈들을 대부분 제거할 수 있지만 로봇은 복잡성을 추가할 수 있다.

[0089] 일부 구현들에서, 진공 척에는 임프린트된 패턴들에 대한 영역들을 완화하기 위해 포켓들이 생성된다. 이는 스크래치 이슈를 완화하는 데 도움이 될 수 있고 다른 결함 모드를 방지하지 않을 수 있다.

[0090] 도 4a는 압력 및 진공의 예시적인 교번 구역들(400)의 개략도를 도시한다. 예시된 바와 같이, 기판(402)은 기판(402)의 주변부 주위에 2개의 작은 구역들(404a, 404b)에서 진공 척에 의해 진공으로 홀딩된다. 임프린팅을 위한 영역(406)은 기판(402)의 주변부에 의해 둘러싸이고 중심에 있다. 광학 참조 마크들(408)은 영역(406)의 주변부 주위에 그리고 외부에 있다. 기판(402)은 기판(402)이 진공 척에 터치하는 것을 방지하면서, 기판(402)의 왜곡을 최소화하도록 진공 및 압력 구역(410)의 타이트한 어레이를 갖는다. 이 웨이퍼 척킹은 스크래칭 및 입자 오염을 제거할 수 있다. 일부 경우들에서, 이러한 웨이퍼 척킹은 압력 및 진공 구역들 하에서 척킹하는 동안 로컬 탄성 변형들을 갖는다. 왜곡들의 진폭은 기판 두께의 감소에 의해 악화될 수 있다. 그러나, 이러한 왜곡된 영역들은 임프린팅 프로세스 동안 평탄화될 수 있다.

[0091] 도 4b는 기판 압력 돔을 갖는 유리 돔 템플릿 백킹 플레이트의 예(450)의 개략도를 도시한다. 웹(452)은 수직으로 상하로 이동될 수 있는 2개의 z-롤러들(456a, 456b)을 따라 인출된다. 유리 돔(454)의 기계적 굽힘 성질들에 매칭되는 기판(458)은 에지를 따라 환형 진공 구역에서 스테이지(480) 상에 진공 척(460)에 의해 홀딩될 수 있다. 진공 척(460)의 중심은 임의의 중요 피처들을 터치하지 않도록 또는 어떠한 파편들도 전달하지 않도록 깊은 리세스를 가질 수 있다. 기판(458) 및 템플릿(470)의 정렬 후에, 유리 돔(454)은 템플릿(470)을 기판(458) 내로 가압하도록 하향으로 푸시하여, 중앙에서 작은 원형 접촉을 먼저 형성하고 전체 접촉이 달성됨에 따라 기판(458)의 에지로 성장할 수 있다. 경화 및 분리가 발생할 수 있고 웹(452)은 z-롤러(456a) 주위에서 통상적인 방식으로 기판(458)으로부터 박리될 수 있다.

참조 마크들의 로케이팅 및 임프린팅 정렬의 예들

[0092] 기판의 양면들을 임프린팅하는 다른 중요한 기술적 난제는 템플릿 상의 참조 마크 및 기판의 후방 측 상의 참조 마크를 정확히 로케이팅하는 것이다.

[0093] 도 5a 및 도 5b는 템플릿들 상에서 참조 마크들을 로케이팅하는 예들(500, 530)의 개략도들을 도시한다. 웹(502)은 2개의 z-롤러(506a, 506b)를 따라 인출된다. 도 5a에 도시된 바와 같이, 템플릿(510) 상의 참조 마크(512), 예컨대 회절 패턴은 보호 층이 제거될 때 웹(502)의 대향하는 측으로부터 레이저(504)로부터의 레이저 광으로 로케이팅된다. 레이저 센서(508)는 이동 가능 스테이지(520) 상에 포지셔닝되고 웹(502)을 통해 레이저 광(504)을 검출하도록 구성된다. 템플릿(510) 상의 참조 마크(512)가 레이저(504)와 레이저 센서(508) 사이에서 이동되는 경우, 레이저 광은 참조 마크(512)에 의해 회절되거나 차단되고, 결과적으로 레이저 센서(508)에 의해 검출된 레이저 광의 강도가 변할 것이다. 검출된 레이저 광 강도의 변화에 기초하여, 참조 마크(512)의 위치가 결정될 수 있다.

[0094] 일부 경우들에서, 도 5b에 도시된 바와 같이, 템플릿(510)이 진공 척의 에지에 장착되고 룩 업될 때 레이저(504)는 또한 템플릿(510)의 에지 상의 참조 마크(514)를 검출하는 데 사용될 수 있다. 진공 척은 x-스테이지 에어 베어링 진공 척, 예컨대, 도 3b의 공기/진공 바 진공 척(354)일 수 있다. 카메라 시스템은 또한, 진공 척을 향하게 장착되거나 템플릿(510)의 상부로부터 참조 마크(512 또는 514)를 로케이팅하는 데 사용될 수 있다.

[0095] 도 5c 및 도 5d는 기판들 상에서 참조 마크들을 로케이팅하는 예들(550, 570)의 개략도들을 도시한다. 별개의 레이저(554)(도 5c) 또는 카메라 시스템(572)(도 5d)은, 기판(560)이 예컨대 진공 척 스테이지에 의해 획득된 후 기판(560) 상에서 참조 마크(562)를 발견할 수 있다. 이 카메라 시스템(572) 또는 레이저(554)는 기판(560)을 체크하기 위해 하향을 가리키고 고정될 수 있다. 기판(560)은 참조 마크(562)의 중심을 발견하기 위해 진공 척 스테이지에 의해 x 및 y로 이동될 수 있다.

[0096] 카메라 시스템이 템플릿(510) 상에서 참조 마크(512 또는 514)를 내려다 보고 기판(560) 상의 참조 마크(562)를 발견하기 위해 하향 보기 카메라(572)가 사용되는 경우, 카메라들 둘 모두에 의해 가시적이고 측정 가능한 별개의 참조 타겟을 진공 척 스테이지 상에 배치하는 것이 가능할 수 있다. 카메라들 둘 모두에서 이러한 참조 마크의 x-y 스테이지 포지션을 아는 것은 초기에 두 비전 시스템들을 정렬하는 간단한 방법을 가능하게 할 수 있다.

[0097] 도 5e 및 도 5f는 템플릿들 상에서 참조 마크들을 로케이팅하는 예들(580, 585)의 개략도들을 도시한다. 템플릿(510)이 임프린팅을 위해 이동되기 전에, 템플릿(510)은 수평 방향에 대해 일정 각도로 z-롤러(506b) 앞에 포지셔닝된다. 레이저(582)(도 5e) 또는 카메라 시스템(586)(도 5f)은 z-롤러(506b) 앞에(또는 상류에) 배열되고 수평 방향에 대해 유사한 각도로 템플릿(510)과 정렬될 수 있다. 제1-측 임프린트는 예컨대 기판(560) 상의 참조 마크와 정렬함으로써 기판(560)의 제1 측 상에 형성될 수 있다. 경사진 레이저(582) 또는 경사진 카메라 시스템(586)은, 웹(502)이 움직일 필요가 없을 때 그리고 기판(560)의 제2의 대향하는 측 상에 형성될 제2-측 임프린트가 시작하기 전에 템플릿(510) 상에서 기준 참조 마크(512)를 로케이팅할 수 있다. 기준 참조 마크(512)는 예컨대, 도 5c 및 도 5d에 도시된 레이저(554) 또는 카메라 시스템(572)을 사용하여, 제2-측 임프린트를 위해 기판(560) 상의 참조 마크(562)와 정렬될 수 있다. 이러한 방식으로, 가요성 템플릿(510), 예컨대 CRT의 부정확한 템플릿 이동이 제거됨으로써 기판(560)의 제1 측 상에 형성된 제1-측 임프린트에 대한 제2-측 임프린트의 정렬 정확도(오버레이)를 증가시킬 수 있다.

[0098] 도 5g 및 도 5h는 진공 척과의 측면간 임프린팅 정렬의 예(590)의 개략도들을 도시한다. 제1 웹(502a) 상의 제1 임프린트 템플릿(510a)은 처짐을 제거하기 위해 텐션 상태에 있을 수 있고, 예컨대 카메라(592)를 포함하는 한 세트의 카메라는 제1 임프린트 템플릿(510a) 상에서 제1 참조 마크(512a)를, 선택적으로 제2 웹(502b)의 제2 임프린트 템플릿(510b) 상에서 제2 참조 마크(512b)를 그리고 동일한 뷰에서 기판(560)의 일 측 상에서 기준 마크(562)를 로케이팅하는 데 사용될 수 있다. 기판(560)을 홀딩하는 스테이지는 참조 마크들(512a, 512b 및 562)을 정렬시킬 수 있다. 정렬 후, 도 5g에 예시된 바와 같이, 제1 웹(502a) 위의 진공 척(594)은 제1 임프린트 템플릿(510a)을 위에서 잡을 수 있다. 진공 척(594)은 도 5h에 예시된 바와 같이, 제1 임프린트 템플릿(510a)을, 기판(560)의 임프린트-시작 포지션과 동기되는 임프린트-시작 포지션으로 이동시킬 수 있는 정밀한 이동 메커니즘에 연결될 수 있다. 이는 제1 임프린트 템플릿(510a)의 부정확한 움직임을 제거할 수 있고, 좌우 임프린트 정렬을 허용하는데 예컨대, 기판(560)의 제1 측 상의 제1 임프린트 템플릿(510a)으로부터 형성되는 제1 임프린트가 기판(560)의 제2의 대향하는 측 상의 제2 임프린트 템플릿(510b)으로부터 형성되는 제2 임프린트와 정렬될 수 있게 한다.

예시적인 스퀴지 롤러들

[0099] 도 6a는 임프린팅 동안 스퀴지 롤러들을 사용하는 예(600)의 개략도를 도시한다. 웹(602)은 2개의 z-롤러(606a, 606b)를 따라 인출된다. 웹(602)이 정지되고 비전 시스템(612)에 의해 템플릿(610) 및 기판(616)의 참조 마크들(도시되지 않음)이 로케이팅된 후에, 부가적인 롤러(608)(스퀴지 롤러라 칭함)는 예컨대, Z 방향을 따라 웹(602)의 후방으로 낮춰지고 템플릿(610)을, 스테이지(620) 상의 기판(616)을 따른 레지스트(618) 내로 푸시하도록 구성된다. 스퀴지 롤러(608)는 롤러(608)가 X 방향을 따라 앞뒤로 이동할 때 공기를 배출하도록 z-롤러들(606a, 606b) 사이를 트레버싱할 수 있을 수 있고, 템플릿(610)의 세부사항들을 충전하는 것을 도울 수 있다. 스퀴지 롤러(608)는 통로 밖으로 이동될 수 있고, 레지스트(618)는 UV 광(614)에 의해 경화될 수 있고, 템플릿(610)은 z-롤러(606a)에서 기판(616)으로부터 분리될 수 있다.

[00100] 도 6b는 스퀴지 롤러들을 사용하는 다른 예(650)의 개략도를 도시한다. 웹(652)은 2개의 z-롤러(656a, 656b)를 따라 인출된다. 웹(652)이 z-롤러(656b)에서 로킹된 후, 카메라는 템플릿(660) 상에서 참조 마크들(또는 패턴들)을 로케이팅할 수 있고, 스퀴지 롤러(658)는 로킹된 z-롤러(656b) 근처에 파킹될 수 있다. 비-로킹 z-롤러(656a)는 Z 방향을 따라 통로(way)로부터 약간 위로 상승될 수 있는 반면, 인접한 구동 롤러, 즉 스퀴지 롤러(658)는 웹 경로가 단축됨에 따라 텐션을 유지하고 X 방향을 따라 웹(652)의 일부 부분으로 당겨질 수 있다. 일부 경우들에서, 기판(666)이 스퀴지 롤러(658) 및 로킹된 z-롤러(656b)에 터치할 때까지 기판(666)을 상승시키도록 z-축 진공 척이 기판(666) 상에 있을 수 있다. 스퀴지 롤러(658)는 템플릿(660)를 기판(666) 상의 레지스트(668) 내로 푸시하고 공기를 배출하면서 로킹 z-롤러(656b)로부터 멀어지게 이동될 수 있다. 스퀴지 롤러(658)는 템플릿(660)이 기판(666)과 완전히 접촉하고 레지스트(668)가 경화된 후에 정지될 수 있다. 경화 후, 웹(652) 및 기판(666)은 함께 전진할 수 있고 템플릿 분리는 z-롤러(656a)에서 발생할 수 있다.

예시적인 θ 조정 및 웹 각도 측정

[00101] θ-z 방향으로 각도 오정렬을 소량으로 보정하는 고유한 방법은 z-롤러들 중 하나를 그의 축을 따라 서로에 대해 이동시키는 것입니다. 도 7a는 이 방법을 구현하는 예(700)의 개략도를 도시한다. 웹(702)은 높은 마찰, 랩 각도 및/또는 텐션으로 인해 z-롤러들(706a, 706b)과 함께 이동할 수 있다. 일부 경우들에서, 회전 및 축 방향에서 낮은 마찰을 허용하는 롤러 베어링 대신 에어 베어링 부싱(air bearing bushing)이 사용될 수 있다. 스러스팅 액추에이터(thrusting actuator)(도시되지 않음)는 z-롤러 샤프트의 한 단부를 푸시하고 스프링이 다른 단부를 푸시하여 백래시(backlash)를 제거할 수 있다. 웹(702)이 너무 많이 변위된 경우 이 정렬은 웹(702)에서 작은 웨이브들을 야기할 수 있지만, 이는 작은 각도들에 대해 충분히 잘 작동할 수 있다. 이러한 방식으로 포지션을 조정하는 것은, 단일 유닛으로서 모든 웹 경로 및 그의 지지 롤러들 또는 x-스테이지 또는 회전 부분에 장착된 크고 거대한 고가의 회전 스테이지들에 대한 필요성을 제거할 수 있다.

[00102] 웹 각도 변화는 양면 임프린팅을 행할 때 웹 정렬 에러에 대한 큰 컴포넌트이다. 도 7b는 피드-포워드 임프린팅 정렬을 보정하기 위한 웹 각도를 측정하는 예시적인 방법(750)의 개략도를 도시한다. 방법(750)은 예컨대, 각각의 임프린팅 직전에 웹 각도를 직접 측정할 수 있고, 임프린팅을 시작하기 이전에 측정된 웹 각도에 기초하여 예컨대, 기판 척 아래의 스테이지에 의해 기판이 재포지셔닝될 수 있다. 예컨대, 도 7b에 예시된 바와 같이, 2개의 비-접촉 센서들(710a, 710b)이 웹(702)의 에지 상에서 z-롤러(706b)의 상류에 포지셔닝될 수 있고 웹(702)의 정확한 각도를 측정하기 위해 함께 사용될 수 있다. 센서들(710a, 710b)은 정지식이고 웹(702)과 함께 이동하지 않는다.

양면 임프린팅의 예들

I. 1 단계 양면 임프린트; 기판 닙 공급

[00103] 도 8은 기판 상에 양면 임프린트들을 행하는 예시적인 시스템(800)의 개략도를 도시한다. 시스템(800)은 하나는 위에 그리고 하나는 아래에 있는 2개의 웹들(802a, 802b)을 사용하도록 구성된다. 웹(802a)은 2개의 z-롤러들(804a 및 804b)을 따라 인출되고, 웹(802b)은 2개의 z-롤러들(804c, 804d)을 따라 인출된다. 웹들(802a, 802b)은 각각의 템플릿들(806a, 806b)을 포함한다. 상부 및 하부 템플릿들(806a, 806b)은 비전 시스템으로 로케이팅될 수 있고, 웹들(802a, 802b)이 서로 정렬될 수 있도록 정밀 조정 축이 상부 및 하부 웹 지지부들 사이에 분배될 수 있다.

[00104] 일부 경우들에서, 도 8에 도시된 바와 같이, 기판(810)은 레지스트(808a)로 코팅되고, 템플릿(806b)은, 템플릿(806b)이 예컨대, X 방향을 따라 임프린팅 존 내로 롤링하기 전에 기판(810)의 하부 측 아래에서 레지스트(808b)로 코팅된다. 일부 경우들에서, 기판(810)은 임프린팅 존 내로 롤링되기 전에 상부 및 하부 측들 둘 모두가 레지스트로 코팅될 수 있다. 로딩 로봇은 에지들 상에서 기판(810)을 홀딩하고, 웹들(802a, 802b)이 전진함에 따라, 상부 및 하부 z-롤러들(804b, 804d)이 레지스트들(808a, 808b)을 템플릿들(806a, 806b)의 세부사항으로 강제하면서 롤러들(804b, 804d) 사이의 닙들 내로 기판(810)을 공급하고, 공기를 제거하도록 구성될 수 있다. 기판(810)이 템플릿들(806a, 806b)과 완전히 접촉하게 되면, 웹들(802a, 802b) 및 로봇은 정지할 수 있고 UV 광이 레지스트들(808a, 808b)을 경화시킬 수 있다. 일부 구현들에서, 웹들(802a, 802b) 및 로봇들은 반전되고 템플릿들(806a, 806b)은 기판(810)으로부터 분리된다. 일부 구현들에서, 웹들(802a, 802b)은 전진되고 기판(810)으로부터 분리되도록 롤러들(804a, 804c)로부터 멀어지게 풀링된다. 기판(810)은 롤러들(804a, 804c)의 좌측 상에서 다른 로봇에 의해 홀딩될 수 있다. 이 프로세스는 임프린팅 쓰루풋을 개선할 수 있지만, 이는 임프린트들을 정확히 포지셔닝하지 못할 수 있다.

II. 이중 유리 돔을 통한 1 단계 양면 임프린트

[00105] 도 9는 기판(950)의 양 측들 상에서 한 번에 임프린트들을 형성하는 다른 예시적인 시스템(900)의 개략도를 도시한다. 시스템(900)은 도 8에 설명된 이중 임프린팅 방법을, 도 2에 설명된 바와 같이 별개의 유리 돔을 사용하는 각각의 측 임프린팅과 결합하도록 구성된다. 웹(902)은 2개의 z-롤러들(906a 및 906b)을 따라 인출되고, 웹(952)은 2개의 z-롤러들(956a, 956b)을 따라 인출된다. 웹들(902, 952)은 각각의 템플릿들(920, 970)을 포함한다. 시스템(900)은 상하로 예컨대, 수 밀리미터 만큼 분리된 이중 템플릿 롤들(920, 970)을 가질 수 있다. 시스템(900)은 Z 방향을 따라 상부 및 하부 템플릿들(920, 970)의 적절한 상대적 정렬을 위해 시스템 컴포넌트들 사이에 분배된, 상하로 2개의 가압 유리 돔(904 및 954), 비전 정렬 시스템들(912, 962) 및 정밀 조정 축(도시되지 않음)을 포함한다. 시스템(900)은 또한 템플릿(920) 및/또는 템플릿(970) 그 자체 상에 또는 기판(950)의 상부 및 하부 표면들 상에 레지스트(930)를 분배하도록 구성된다.

[00106] 임프린팅의 시퀀스는 다음과 같을 수 있는데: 웹들(902 및 952)이 전진되어서 새로운 상부 템플릿(920) 및 새로운 하부 템플릿(970)이 임프린팅 존으로 모이게 된다. 비전 시스템들(912 및 962)은 템플릿들(920, 970) 상에서 참조 마크들을 로케이팅하고, 다양한 조정 축이 상부 및 하부 템플릿들(920, 970)을 정렬한다. 유리 압력 돔들(904 및 954)은 상부 및 하부 측들 상에서 웹들(902, 952)과 접촉하게 된다. 유리 돔(904 또는 954)이 웹(902 또는 952)과 접촉한 후 최적의 템플릿 정렬을 위해 소량의 수정을 행하도록 구성된 유리 돔(904 또는 954)의 미세 조정 축이 존재할 수 있다. 기판(950)의 상부 및 하부 표면들 상에 레지스트(930)가 도포된다. 예컨대, 특수 로우 프로파일 엔드-이펙터(end-effector)를 갖는 로봇은 에지들 상에서 기판(950)을 파지함으로써 상부 및 하부 템플릿들(920, 970) 사이에 기판(950)을 제공할 수 있다. 상부 및 하부 유리 돔들(904 및 954)은 균등하게 모여질 수 있어서, 기판(950)의 z 포지션은 압력 돔들이 모여짐에 따라 압력 돔들(904 및 954)의 포지션들에 의해 결정된다. 돔들(904, 954)이 완전히 평평해지고 템플릿들(920, 970)이 완전히 충전될 때, 레지스트(930)는 UV 램프(914)에 의해 경화된다. 그 후, 압력 돔들(904, 954)이 상부 및 하부 웹들(902, 952)로부터 후퇴된다. 웹들(902, 952) 및 로봇은 함께 반전될 수 있고, 템플릿들(920 및 970)은 z-롤러들(906a, 956a)에서 기판(950)으로부터 박리된다.

[00107] 위에서 설명한 기술들은 양면 임프린팅에 대한 난제를 해결할 수 있는데, 즉 하나의 툴 아키텍처 내에서 모든 프로세스 요건들을 성공적으로 구체화하기 위한 것이다. 이 기술들은 UV 경화를 용이하게 하고 정렬, 균일한 힘 인가, UV 레지스트 흐름, 나노-피처 형성, 템플릿 및 피처 분리를 허용한다.

III. 롤 상의 기판

[00108] 광학 성질들을 갖고 롤 상에 감길 정도로 가요성인 적합한 저가의 기판 재료를 사용하는 것이 바람직하며, 이는 대량의 상당한 제조 비용 감소를 허용한다. 위에서 설명된 임프린팅 방법들 대부분은 롤 형태로 공급된 기판들, 특히 도 9에 설명된 바와 같은 이중 유리 돔 임프린팅 프로세스를 사용하도록 적응 가능할 수 있다. 기판의 핸들링은 에지 파지 방법보다 간단할 수 있다.

[00109] 도 10은 이중 유리 돔 임프린팅을 갖는 롤 포맷에서 저비용의 가요성 기판(1030)을 사용하는 예시적인 시스템(1000)의 개략도를 도시한다. 시스템(1000)의 이중 유리 돔 프린팅 어레인지먼트는 도 9의 시스템(900)과 유사하다. 제1 웹(1002)은 2개의 z-롤러들(1006a 및 1006b)을 따라 롤러(1008a)로부터 롤러(1008b)로 인출된다. 웹(1002)은 롤러(1008b)로부터 롤러(1008a)로 역으로 회전될 수 있다. 웹(1002)은 기판(1030)의 상부 측 상에 임프린트될 임프린팅 피처들을 포함하는 제1 템플릿(1010)을 포함한다. 제2 웹(1052)은 2개의 z-롤러들(1056a 및 1056b)을 따라 롤러(1058a)로부터 롤러(1058b)로 인출된다. 웹(1052)은 롤러(1058b)로부터 롤러(1058a)로 역으로 회전될 수 있다. 제2 웹(1052)은 기판(1030)의 하부 측 상에 임프린트될 임프린팅 피처들을 포함하는 제2 템플릿(1060)을 포함한다. 시스템(1000)은 Z 방향을 따라 상부 및 하부 템플릿들(1010, 1060)의 적절한 상대적 정렬을 위해 시스템 컴포넌트들 사이에 분배된, 상하로 2개의 가압 유리 돔(1004 및 1054), 비전 정렬 시스템들(1012, 1062) 및 정밀 조정 축(도시되지 않음)을 포함할 수 있다. 시스템(1000)은 또한 템플릿(1010) 및/또는 템플릿(1060) 그 자체 상에 또는 기판(1030)의 상부 및 하부 표면들 상에 레지스트 예컨대, UV 경화성 레지스트를 분배하도록 구성될 수 있다.

[00110] 기판(1030)은 롤러(1032)로부터 롤러(1034)로 인출된다. 일부 경우들에서, 기판(1030)은 도 10에 예시된 바와 같이 롤러(1032) 상에 롤업되는(rolled up) 블랭크 기판이다. 일부 경우들에서, 블랭크 기판의 롤은 기판(1030)이 되는 블랭크 기판과 함께 롤업되는 필름 층에 의해 보호된다. 기판(1030)이 시스템(1000)의 임프린팅 구역으로 진입함에 따라, 보호 커버 필름이 제거될 수 있다. 템플릿들(1010 및 1060)은 각각 가압 돔들(1004 및 1054)에 의해 기판(1030)과 접촉하게 될 수 있다. 템플릿들(1010 및 1060)이 기판(1030)과 완전히 접촉할 때까지 공기가 밀어내질 수 있고, 그 후 웹들(1002, 1052)이 정지될 때 UV 광(1014)은 레지스트를 경화시킬 수 있다. 따라서, 블랭크 기판(1030)은 템플릿들(1010 및 1060)의 대응하는 피처들로 임프린팅된 양 측들을 갖는 기판(1040)이 된다. 돔들(1004 및 1054)은, 예컨대, 템플릿들(1010 및 1060)의 후방들로부터 진공 척들에 의해 후퇴될 수 있고, 웹들(1002, 1052)이 전진함에 따라 템플릿들(1010, 1060) 및 기판(1040)의 분리가 발생할 것이며, 여기서 기판(1030) 경로의 경로는 템플릿들(1010, 1060)의 경로로부터 분기된다. 이 시점에서, 임프린트된 피처들이 기판(1040) 상에 완전히 형성된다.

[00111] 일부 구현들에서, 도 10이 예시하는 바와 같이, 기판(1040)은 후방 측 상의 제1 보호 필름 층(1070) 및 전방 측 상의 제2 보호 필름 층(도시되지 않음)과 함께, 롤러(1034) 상에 롤링된 기판(1042)으로 권취된다. 제1 보호 필름 층(1070)은 z-롤러(1072b)를 통해 롤러(1072a)로부터 기판(1040)의 후방 측 상으로 인출될 수 있다. 제2 보호 필름 층은 다른 z-롤러(도시되지 않음)를 통해 다른 롤러(도시되지 않음)로부터 기판(1040)의 전방 측 상으로 인출될 수 있다. 스퀴지 롤러(1036), 예컨대, 도 6a의 스퀴지 롤러(608)는 기판(1040) 상에 보호 필름들을 가압하기 위해 사용될 수 있다. 일부 경우들에서, 보호 필름들을 권취하기 전에 다른 프로세스가 임프린트된 기판(1040)에 도포될 수 있거나 양 측들 상에 임프린트된 피처들을 갖는 기판(1042)이 롤로부터 절단될 수 있다.

[00112] 위에서 설명된 이 기술은 기판의 단면 패터닝뿐만 아니라 재료 핸들링을 단순화하기 위해 롤 포멧으로 기판들을 유지함으로써 타이트한 전방 측-후방 측간 정렬이 이루어지게 하는 기판들 상의 패터닝을 허용한다. 롤-포멧으로 저가 기판들을 공급함으로써, 이 기술은 기판들의 양 측들 상에 패턴들을 임프린팅하고 개별 부분들이 싱귤레이팅될 때까지 이 포맷으로 기판들을 유지하는데 경제적일 수 있다.

정렬된 양면 임프린트들을 위한 예시적인 툴들

[00113] 나노제조 장비는 통상적으로 한 번에 한 측 상에 피처들을 형성한다. 단면 프로세스가 양 측들 상에 피처들을 생성하는 데 사용되는 경우, 본질적으로 2배 이상의 시간 및 2배의 장비가 소요될 수 있지만, 기판 피처를 템플릿 피처에 정렬하기 위한 정렬 단계를 여전히 갖는다. 또한, 형성 후 임프린트된 피처들은 깨지기 쉽고 핸들링 손상에 취약하다. 이러한 유형들의 기판들은 통상적으로 후방 측에 접촉하여 핸들링되지만, 양 측들 상에 피처들을 갖는 경우에, 기판의 후방 측을 터치하는 것은 이러한 피처들을 손상시킬 수 있다.

[00114] 도 11a는 기판들 상에 정렬된 양면 임프린트들을 위한 예시적인 툴(1100)의 개략도를 도시한다. 이 툴은, 서로에 대해 포지션들이 타이트하게 제어되는 기판의 양 측들 상에 임프린트된 피처들을 제조하도록 구성된다. 전방 측 및 후방 측 템플릿들은 임프린팅 전에 서로 광학적으로 사전-정렬될 수 있고, 측들 둘 모두 상의 피처들이 동시에 생성될 수 있다. 이 툴은 또한 기판의 양 측들 상에 임프린트된 피처들의 손상 없이 기판을 핸들링하도록 구성된다.

[00115] 일부 구현들에서, 임프린팅 툴(1100)은 3개의 존들 : (a) 기판 입력; (b) 임프린트 엔진; 및 (c) 임프린트된 기판 출력을 포함한다. 2개의 웹들(1102a, 1102b)은 각각 z-롤러들(1104a, 1104c)을 통해 z-롤러(1104b, 1104d)로 인출된다. 웹들(1102a, 1102b)은 기판(1112)이 삽입되는 구역에서 함께 인출되는 각각의 가요성 템플릿들, 예컨대 CRT들을 갖는다. 기판(1112)은 웨이퍼 기판일 수 있고 다수의 블랭크 기판들을 저장하는 기판 컨테이너(1110)로부터 꺼내질 수 있다. 로봇(1106)은 로봇 홀더(1108)를 통해 컨테이너(1110)로부터 기판(1112)을 가져오고 가요성 템플릿들 사이의 구역들 내로 삽입하도록 구성된다.

[00116] 기판(1112)이 삽입되기 전에, 각각의 웹(1102a, 1102b)의 템플릿들 상의 참조 마크들은 웹들(1102a, 1102b)의 상대적인 포지셔닝을 허용하는 카메라 시스템 및 작동을 통해 서로 광학적으로 정렬될 수 있다. 아래에서 추가로 상세히 논의된 바와 같이, 도 11a의 툴(1100)은 2개의 웹들(1102a 및 1102b)을 클램핑하기 위한 클램핑 시스템을 포함할 수 있다. 참조 마크들이 정렬된 후, 웹들(1102a, 1102b)은 템플릿들의 상대적 모션을 제거하기 위해 서로 클램핑될 수 있다. 웹들(1102a, 1102b)은 기판(1112)의 삽입을 허용하도록 반전될 수 있고, 레지스트 주입 헤드들(1114a, 1114b)로부터의 UV 경화성 레지스트가 템플릿들에 도포될 수 있고, 그 후 템플릿은 템플릿들 사이의 기판 및 레지스트 정렬되게 함께 되돌려질 수 있다. 기판(1112)이 존(b)에서 프로세스 존을 통해 이동함에 따라, UV 광원(1116)은 레지스트를 경화시킬 수 있다. 경화 후에, 클램핑 시스템은 아래의 도 12h에 예시된 바와 같이 임프린트된 기판(1118)이 통과할 수 있도록 웹들(1102a, 1102b)을 분리하기 위해 언클램핑될 수 있다. 기판(1112)으로부터 완전히 임프린트된 기판(1118)은 그 후 퇴장하고 다른 로봇(1122)의 다른 로봇 홀더(1120)에 의해 취해지고 임프린트된 기판 컨테이너(1124)에 저장될 수 있다. 컨테이너(1124) 내의 임프린트된 기판들(1118)은 소프트 쿠션들에 저장되고 서로 분리될 수 있다.

[00117] 도 11b는 기판들 상에 정렬된 양면 임프린트들을 위한 예시적인 툴(1150)의 개략도를 도시한다. 도 11a의 툴(1100)과 비교하여, 툴(1150)은 존(c) 내의 로봇(1122) 및 컨테이너(1124)를 갖는 언로딩 자동화를 포함하지 않는다. 대신에, 임프린트된 기판(1118)은 존(a)으로 역으로 반전되고 컨테이너(1110)에 저장될 수 있다. 이러한 방식으로, 툴(1150)은 임프린트된 기판(1118)에 대한 언로딩 자동화를 제거하고 언로딩 자동화와 기판 로딩 자동화를 결합할 수 있다. 툴(1100)과 유사하게, 툴(1150)은 또한 웹(1102a)에 대한 진공 척(1208) 및 웹(1102b)에 대한 클램프(1210)를 갖는 클램핑 시스템을 포함할 수 있다. 웹(1102a) 상의 참조 마크들이 웹(1102b) 상의 참조 마크들과 정렬된 후, 웹들(1102a, 1102b)은 템플릿들의 상대적인 모션을 제거하기 위해 클램핑 시스템에 의해 서로 함께 클램핑될 수 있다.

[00118] 예시적인 프로세싱 시퀀스에서, 기판(1112)은 양면 임프린팅을 위해 웹들(1102a 및 1102b) 상의 2개의 템플릿들 사이 맨 위로 하강된다. 임프린팅이 완료되고 UV 광원(1116)으로 완전히 경화된 후, z-롤러들(1104a 및 1104c)은 역으로 회전될 수 있어서, 완전히 임프린트된 기판(1118)은 동일한 로봇 핸들러(1108) 및 로봇(1106)에 의해 맨 위로부터 리트리브된다. 이러한 방식으로, 진공 척(1208) 및 클램프(1210)는 임프린트된 기판(1118)이 하부로부터 빠져나갈 수 있도록 언클램핑될 필요가 없고, 템플릿들이 정렬된 채로 유지될 수 있다. 따라서, 툴(1150)(및 프로세싱 시퀀스)의 구성은 템플릿 정렬이 각각의 순차적인 기판에 대해 유지될 수 있게 할 수 있으며, 이는 시간 소모적인 정렬 프로세스가 템플릿들의 각각의 세트에 대해 한 번만 행해지기 때문에 프로세스 시간의 상당한 감소를 산출할 수 있다.

[00119] 도 12a-1 내지 도 12i는 도 11a의 임프린팅 툴(1100)의 예시적인 동작 절차들의 개략도들을 도시한다. 단지 예시를 위해, 동작 절차들은 기판이 위에서 아래로 수직 방향으로 이동하는 개념을 보여준다. 다른 구성들, 예컨대, 기판들이 아래에서 위로 또는 심지어 수평으로 이동할 수 있도록 반전되는 툴이 또한 구현될 수 있다. 또한, 도 12a-1 내지 도 12i에 도시된 하나 이상의 동작 절차들은 또한 도 11b의 임프린팅 툴(1150)에 대해 사용될 수 있다는 것에 주의한다.

[00120] 도 12a-1 내지 12a-5는 웹들(1102a, 1102b)의 템플릿들(1214a, 1214b) 상의 참조 마크들(1204a, 1204b, 1204c, 1204d)의 정렬을 도시한다. 임프린팅 툴(1100)은 웹(1102a)에 대한 진공 척(1208) 및 웹(1102b)에 대한 클램프(1210)를 포함하는 클램핑 시스템을 포함할 수 있다. 진공 척(1208)은 도 3a의 진공 척(308 또는 310)일 수 있다. 진공 척(1208)은 선형 축(또는 레일)(1206)을 따라 선형 가이드(1207) 상에 포지셔닝된다. 임프린팅 툴(1100)은 또한 후퇴 가능하고 임프린팅 동안 웹들(1102a, 1102b)의 통로 밖으로 이동할 수 있는 한 쌍의 닙 롤러들(1212a, 1212b)을 포함할 수 있다. 추가 세부 사항으로도 13f에서 논의된 바와 같이, 닙 롤러(1212a, 1212b)는 임프린트된 기판(1118)의 언로딩을 용이하게 하기 위해 서로 근접하게 이동될 수 있다.

[00121] 도 12a-3은 웹(1102a) 상의 예시적인 템플릿(1214a)을 도시한다. 템플릿(1214a)은 영역 내에 배열된 다수의 피처들(1215)을 포함한다. 특정 예에서, 임프린팅되는 기판(1112)은 웨이퍼이고, 영역은 웨이퍼의 것들과 유사한 형상 및 크기를 가질 수 있다. 예컨대, 영역은 직경 D, 예컨대 약 200 mm를 가질 수 있다. 템플릿(1214a)은 임프린팅 동안 기판(1112)의 선행 및 후행(trailing) 에지들과 정렬되도록 설계된 2개의 참조 마크들(또는 정렬 마크들)(1204a, 1204b)을 갖는다. 유사하게, 웹(1102b) 상의 템플릿(1214b)은 또한 임프린팅 동안 기판(1112)의 선행 및 후행 에지들과 또한 정렬되도록 설계된 2개의 참조 마크들(1204c, 1204d)을 갖는다. 따라서, 참조 마크(1204a)는 참조 마크(1204c)와 매칭될 필요가 있고 참조 마크(1204b)는 참조 마크(1204d)와 매칭될 필요가 있어서, 템플릿들(1214a, 1214b) 상의 피처들은 기판(1112)과 정렬되고 기판(1112)의 양면에 임프린트될 수 있다.

[00122] 템플릿들(1214a, 1214b)의 제1 단부 상에서 참조 마크들(1204a, 1204c)을 정렬시키기 위해 제1 정렬 카메라(1202a)가 사용될 수 있다. 템플릿들(1214a, 1214b)의 제2 단부 상에서 참조 마크들(1204b, 1204d)을 정렬시키기 위해 제2 정렬 카메라(1202b)가 사용될 수 있다. 도 12a-4의 상위 다이어그램은 템플릿들(1214a, 1214b) 사이의 오정렬을 도시하며, 여기서 참조 마크들(1204a 및 1204c)은 서로 매칭되지 않고 참조 마크들(1204b 및 1204d)은 서로 매칭되지 않는다. 템플릿들(1214a, 1214b)은 도 12a-4의 하위 다이어그램이 도시하는 바와 같이, 템플릿들(1214a, 1214b) 상의 참조 마크들이 서로 예컨대, 1204a와 1204c가 그리고 1204b와 1204d가 중첩할 때까지 x, y 및/또는 θ 방향에서 조정될 수 있다. 일부 경우들에서, 템플릿들(1214b, 1214b)에 대한 θ 조정은 도 7에 예시된 바와 같이 z-롤러들 중 적어도 하나를 그의 축을 따라 서로에 대해 조정함으로써 구현될 수 있다. 일부 경우들에서, 진공 척(1208)은 먼저 웹(1102a)을 척킹하고 x, y 및/또는 θ 방향들에서 웹(1102a)의 포지션을 조정한다. 도 12a-2는 조정 이전의 도 12a-1의 저면도를 도시하고, 도 12a-5는, 클램프(1210)가 또한 회전되고 선형 가이드들(1207)이 선형 축(1206)을 따라 클램프(1210)의 일 단부 상에서 위로 그리고 클램프(1210)의 다른 단부 상에서 아래로 이동하는 θ 조정을 한 도 12a-1의 저면도를 도시한다.

[00123] 템플릿들(1214a, 1214b), 예컨대 CRT들은 X, Y, θ 방향들에서 조정될 수 있다. 도 12a-4에 예시된 바와 같이, X 방향은 CRT 전진 방향을 도시하고, Y 방향은 CRT의 폭을 가로지른다. 카메라 시스템(1202a 및 1202b)은 CRT 참조 마크들(1204a, 1204b, 1204c, 1204d)를 인식하거나 보고 상대적 포지셔닝을 위한 피드백으로서 참조 마크들을 사용할 수 있다. X 방향에서의 웹들(1102a, 1102b)의 상대적 포지션은 웹 구동 롤러들을 통해 일 측 상에서 웹들 중 하나를 웹들 중 남은 하나에 대해 전진시킴으로써 제어될 수 있거나, 또는 선형 가이드들 또는 액추에이터들(1207)을 이용하여 진공 척(1208)을 통해 이동될 수 있다. 에어 턴 바들(1104a ― 1104d)은 웹들이, 최소의 마찰로 X, Y, θ 방향으로 미끄러질 수 있게 하여, 이에 따라 정확한 상대 보정이 참조 마크들을 정렬될 수 있게 한다. 도 13a에 예시된 바와 같이, 롤러 조립체들(1300)은 상대적 모션을 제공하기 위해 Y 방향으로 이동할 수 있다. 또한, 선형 액추에이터(1207)가 진공 척(1208) 내에 배치되어 Y 방향에서 웹들을 제어할 수 있다. θ 방향 조정은 진공 척(1208)을 통해 모션을 전달하는 선형 액추에이터들(1207)의 차동 모션에 의해 달성될 수 있다.

[00124] 웹(1102a) 상의 참조 마크들(1204a, 1204b)이 웹(1102b) 상의 참조 마크들(1204c, 1204d)과 정렬된 후, 웹들(1102a, 1102b)은 템플릿들(1214a, 1214b)의 상대적 모션을 제거하기 위해 클램핑 시스템, 예컨대 진공 척(1208) 및 클램프(1210)에 의해 서로 클램핑될 수 있다. 클램핑 시스템은 선행 참조 마크들(1204a, 1204c)의 하류에 포지셔닝될 수 있다. 도 12b-1 내지 12b-3은 웹들(1102a, 1102b)을 클램핑하기 위한 구성들의 개략도들을 도시한다.

[00125] 도 12b-3은 클램핑 구성을 도시하는 도 12b-2의 단면도이다. 진공 척(1208)은 카운터 밸런스를 위한 한 쌍의 클램핑 액추에이터들(및 가이드들)(1218)에 의해 지지되며, 이는 상부에 고무 패드(1222)를 갖는 클램프 바(1210)에 의해 추가로 지지된다. 선형 가이드(1207)는 커넥터들(1209)을 통해 일 단부 상에서 진공 척(1208)에 연결되고, 다른 단부 상에서, 기계 프레임(1220)에 추가로 연결되는 선형 레일(1206)에 연결된다. 클램핑 구성은 클램핑된 웹들(1102a, 1102b)이 클램프(1210)에서 또는 그 근처에서 상대적 모션을 가질 수 없도록 구성된다. 템플릿들(1214a, 1214b)(예컨대, CRT들)이 기판을 포함할 정도로 큰 구역에서 양호한 정렬을 가질 수 있도록 차동력들이 최소화되거나 제거될 수 있다. 수직 선형 레일(1206)은 일정한 속도로 정확한 경로를 따라 템플릿들(1214a, 1214b)을 풀링하고 안내하도록 구성된다.

[00126] 도 12c 내지 도 12d는 템플릿들(1214a, 1214b) 상에 UV 레지스트(1224)를 분배하는 예의 개략도들을 도시한다. 웹들(1102a, 1120b)은 템플릿들(1214a, 1214b)을 레지스트 주입 헤드들(1114a, 1114b)에 노출시키도록 역으로 상향으로 이동된다. 진공 척(1208) 및 클램프(1210)를 포함하는 클램핑 시스템은 웹들(1102a, 1102b)과 함께 이동된다. 참조 마크들(1204c, 1204d)이 레지스트 주입 헤드들(1114a, 1114b)을 역으로 통과할 때, 레지스트 주입 헤드들(1114a, 1114b)은 템플릿들(1214a, 1214b) 상에 UV 레지스트(1224)를 분배하기 시작할 수 있다. 참조 마크들(1204a, 1204b)이 레지스트 주입 헤드들(1114a, 1114b)에 도달할 때, 템플릿들(1214a, 1214b) 상의 UV 레지스트(1224)의 분배가 완료되고 리버스 움직임이 또한 완료된다. 움직임 동안, 템플릿들(1214a, 1214b) 둘 모드에서 텐션들이 매칭된다.

[00127] UV 레지스트(1224)의 분배가 완료된 후, 웹들(1102a, 1120b)은 하향으로 전진된다. 소정의 지점에서, 도 12e에 도시된 바와 같이, 기판(1112)은 템플릿들(1214a, 1214b) 사이의 갭 내로 삽입된다. 갭은 도 12f에 예시된 바와 같이, 기판(1112) 및 UV 레지스트(1224)가 웹들(1102a, 1102b) 사이에서 모두 하향으로 이동될 때 폐쇄된다. 클램핑 시스템은 또한 클램핑된 웹들(1102a, 1102b)과 함께 하향으로 이동된다.

[00128] UV 레지스트(1224)를 갖는 기판(1112) 및 템플릿들(1214a, 1214b)이 프로세스 존(b)을 통해 이동함에 따라, 도 12g에 도시된 바와 같이, UV 소스(1116)는 기판(1112) 상의 UV 레지스트(1224)를 경화시켜 양 측들 상에 피처들을 갖는 완전히 임프린트된 기판(1118)이 된다. 도 12h에 예시된 바와 같이, 완전히 임프린트된 기판(1118)은 프로세스 존(b)을 빠져나가도록 풀링 다운되고, 진공 척(1208) 및 클램프(1210)는 웹들(1102a, 1102b)을 분리하도록 언클램핑된다. 임프린트된 기판(1118)은 그 후 이동되고 로봇(1122)의 로봇 홀더(1120)에 의해 취해지고 임프린트된 기판 컨테이너(1124) 내에 저장될 수 있다.

[00129] 그 후, 툴(1100)은 도 12i에 예시된 바와 같이 다음 기판(1112)을 임프린팅하기 위해 리셋될 수 있다. 리셋 단계는 닙 롤러들(1212a, 1212b)의 분리하는 것, 선형 가이드들(1207)을 후퇴시키는 것, 웹들(1102a, 1102b)에 텐션을 가하는 것, 웹들(1102a, 1102b)을 전진시키는 것, 템플릿들(1214a, 1214b) 상에서 참조 마크들을 발견하는 것, 공기-턴들을 확산시키는 것, 임프린트된 기판(1118)을 (예컨대, 컨테이너(1124) 내로) 이송하는 것, 그리고 블랭크 기판(1112)을 준비하는 것을 포함할 수 있다.

[00130] 이 임프린팅 툴(1100)은 수직 구성을 채택하며, 여기서 레지스트 주입 헤드들은 대칭 및 수평 방향으로 UV 레지스트를 분배할 수 있다. 그것은 또한, 대칭적인 힘의 중력, 확산 및 분리, 입자 격리 임프린팅 챔버를 제공하며 초박형 기판들을 보다 쉽고 신뢰할 수 있게 공급하는 것을 허용한다.

[00131] 도 13a 내지 13f는 양면 임프린팅을 위해 도 11a 내지 도 12i의 툴(1100)의 예시적인 피처 구성들의 개략도들을 도시한다. 또한, 도 13a 내지 도 13e에 도시된 하나 이상의 피처 구성들은 도 11b의 임프린팅 툴(1150)에 대해 또한 사용될 수 있다는 것에 주의한다.

[00132] 도 13a는 웹 경로에 대한 예시적인 구성(1300)의 개략도를 도시한다. 웹(1102a)은 공급 롤러(1302a)로부터 공급되고 구동기 롤러들(1304a, 1306a), z-롤러들(1104a, 1104b) 및 구동기 롤러들(1308a, 1310a)을 통해 롤러(1312a)로 시계 방향으로 전진될 수 있는 반면, 롤러들(1306a, 1308a)은 반시계 방향으로 회전한다. 일부 경우들에서, 공급 롤러(1302a)로부터의 웹(1102a)은 보호 필름을 포함한다. 구동기 롤러(1304a)는 시계 방향으로 회전할 수 있고 롤러(1306a)는 반시계 방향으로 회전하여 웹(1102a)으로부터 보호 필름을 제거하여서, 웹(1102a) 상의 템플릿(1214a)이 노출될 수 있게 한다. 유사하게, 웹(1102b)은 공급 롤러(1302b)로부터 공급되고 구동기 롤러들(1304b, 1306b), z-롤러들(1104c, 1104d) 및 구동기 롤러들(1308b, 1310b)을 통해 롤러(1312b)로 반시계 방향으로 전진될 수 있는 반면, 롤러들(1306b, 1308b)은 시계 방향으로 회전한다. 일부 경우들에서, 공급 롤러(1302b)로부터의 웹(1102b)은 보호 필름을 포함한다. 구동기 롤러(1304b)는 반시계 방향으로 회전할 수 있고 롤러(1306b)는 시계 방향으로 회전하여 웹(1102b)으로부터 보호 필름을 제거하여서, 웹(1102b) 상의 템플릿(1214b)이 노출될 수 있게 한다. 일부 경우들에서, 구동기 롤러(1306b)는 별개의 닙 롤러이고 구동기 롤러(1306b')에 의해 구동된다.

[00133] 일부 구현에서, 구성(1300)은 z-롤러(1104b, 1104d)에 커플링되고 웹들(1102a, 1102b)의 텐션들을 각각 측정하도록 구성된 텐션 센서들(1314a, 1314b)을 포함한다.

[00134] 일부 구현들에서, z-롤러들(1104a, 1104b, 1104c, 1104d)는 적은 마찰을 갖는 롤러들이다. 일부 구현들에서, z-롤러들(1104a, 1104b, 1104c, 1104d)은 에어-턴 롤러들이다. 도 13b에 예시된 바와 같이, 에어-턴 롤러(1104a)는 공기(1315)를 통해 웹(1102a)을 부유시킬 수 있고 웹(1104a)에 대한 측방향 또는 각도 제약을 두지 않는다. 일부 예들에서, 에어-턴 롤러(1104a)는 중앙 샤프트(1320), 및 중앙 샤프트(1320)에 의해 지지되는 다공성 재료로 제조된 커버(1318)를 포함한다. 중앙 샤프트(1320) 및 커버(1318) 사이에는 빈 공간이 존재한다. 공기 압력(1315)은 입구(1316)를 통해 공간 상으로 가압될 수 있고 커버(1318)를 탈출하여 커버(1318)를 지지하여서, 커버(1318)의 오리지널 포지션과 커버(1318)의 현재 포지션 사이에 공기(1315)의 플레넘(plenum)이 생성되게 한다. 에어-턴 롤러는 몇 가지 이점들을 제공하는데: 1) 통상적인 z-롤러가 사용되는 경우, 소량의 오정렬 또는 θ 보정이 측방향 응력들을 야기하고 상부-하부 패턴 정렬을 변위시킬 수 있고; 2) z-롤러와 웹 사이의 입자 이송의 위험이 낮고; 3) 에어 턴 주위의 템플릿 부유로 인해, 큰 입자들이 임프린트 영역에 덜 영향을 줄 수 있고; 4) 스큐 웹이 롤러에서 직선으로 트래킹하지 않을 수 있고; 그리고 5) 에어 턴은 선형 축(1206)의 모션에 저항하지 않을 수 있다. 도 13c는 z-롤러들(1104a, 1104b)이 에어-턴 롤러들 도 12a-5의 구현을 도시한다.

[00135] 도 13d는 임프린팅 프로세스에 대한 예시적인 구성(1330)의 개략도를 도시한다. 툴(1100)은 외부 환경으로부터 임프린트 엔진 프로세스 존, 예컨대 도 11a의 존(b)을 격리시키도록 구성된 챔버(1332)를 포함한다. 챔버(1332)는 일정한 온도, 예컨대 25 ℃ 및/또는 임프린팅을 위한 청결도를 갖도록 제어될 수 있다.

[00136] 도 13e는 예시적인 기판 로딩 구성(1350)의 개략도를 도시한다. 웹(1102a)은 롤러(1306a)를 감도록 롤러들(1302a, 1304a, 1306a, 1104a, 1104b)을 반시계 방향으로 회전시킴으로써 역으로 풀링, 예컨대 역으로 이동될 수 있다. 유사하게, 웹(1102b)은 롤러(1306b)를 감도록 롤러들(1302b, 1304b, 1306b) 및 롤러들(1104c, 1104d)을 시계 방향으로 회전시킴으로써 역으로 풀링, 예컨대, 역으로 이동될 수 있다. 로봇(1106)은 로봇 홀더(1108)를 통해 컨테이너(1110)로부터 블랭크 기판(1112)을 가져오고 가요성 템플릿들 사이의 구역들 내로 삽입하도록 구성된다. 기판(1112)은 웨이퍼 기판일 수 있고, 컨테이너(1110)는 웨이퍼 컨테이너(1110')일 수 있다.

[00137] 도 13f는 예시적인 기판 언로딩 구성(1370)의 개략도를 도시한다. 롤러들(1104b, 1308a, 1310a, 1312a)를 회전시킴으로써, 웹(1102a)은 롤러(1312a)를 감도록 시계 방향으로 하향으로 풀링, 예컨대 전진될 수 있다. 유사하게, 웹(1102b)은 롤러들(1104d, 1308b, 1310b, 1312b)를 회전시킴으로써 롤러(1312b)를 감도록 반시계 방향으로 하향으로 풀링, 예컨대 전진될 수 있다. 웹들(1102a, 1102b)이 하향으로 풀링될 때, 클램핑 시스템이 릴리즈되고 웹들(1102a, 1102b)이 분리된다. 완전히 임프린트된 기판(1118)이 닙 롤러들(1212a, 1212b)의 포지션을 통과한 후, 닙 롤러들(1212a, 1212b)은 웹들(1102a, 1102b)을 타이트하게 홀딩하도록 서로 근접해질 수 있다. 완전히 임프린트된 기판(1118)은 그 후 퇴장하고 로봇(1122)의 로봇 홀더(1120)에 의해 취해지고 임프린트된 기판 컨테이너(1124)에 저장될 수 있다. 기판(1112)은 웨이퍼 기판일 수 있고, 컨테이너(1124)는 양면 임프린트된 기판(1118)을 저장하기 위한 웨이퍼 컨테이너(1124')일 수 있다.

[00138] 도면들에서 표시된 둥근 기판들 이외에도, 상이한 형상들 및 크기들의 기판들이 이 양면 프로세스 장비를 통해 임프린트될 수 있다는 것에 주의한다. 더 높은 부품 쓰루풋은 더 많은 조각들로 절단될 수 있는 더 큰 기판들을 실행될 때 달성할 수 있다. 또한, CRT의 폭은 가요성이고 더 넓은 웹은 더 큰 기판들을 임프린팅하여 더 높은 부품 쓰루풋으로 이어질 수 있다.

동시성 양면 임프린트들에 대한 예시적인 방식

[00139] 도 14는 기판, 예컨대 웨이퍼 기판 상에서 양면 임프린팅을 위한 다른 예시적인 툴(1400)의 개략도를 도시한다. 단지 예시를 위해, 기판은 우측에서 좌측으로 수평 방향으로 이동한다. 다른 구성들, 예컨대, 기판들이 좌측에서 우측으로 또는 심지어 수직으로 이동할 수 있도록 반전되는 툴이 또한 구현될 수 있다.

[00140] 하부 웹(1402a)은 2개의 z-롤러(1404a, 1404b)를 따라 인출된다. 웹(1402a)은 템플릿(1406a), 예컨대 CRT를 포함한다. 템플릿(1406a)은 도 14에 예시된 바와 같이 격자 피처들을 포함할 수 있다. 템플릿(1406a)은 기판(1414)이 상부 로드 EFEM(Equipment Front End Module)(1408a)에 의해 릴리즈될 때, 템플릿(1406a) 아래의 진공 척(1416)이 기판(1414), 예컨대 웨이퍼와 진공으로 부드럽게 홀딩될 수 있도록 미리 패터닝된 관통 구멍들을 갖게 구성된다. 진공 척(1416)은 템플릿(1406a)과 함께 이동 가능할 수 있다. 상부 로드 EFEM(1408a)은 한 쌍의 디스펜서 헤드(1410a, 1410b) 사이에 포지셔닝될 수 있어서, 제1 디스펜서 헤드(1410a)는 기판(1414)이 템플릿(1406a) 상에 배치되기 전에 템플릿(1406a)의 격자 피처들 상에 레지스트를 분배할 수 있고, 제2 디스펜서 헤드(1410b)는 기판(1414)이 진공 척(1416)에 의해 템플릿(1406a) 상에 홀딩된 후에 기판(1414) 상에 레지스트를 분배할 수 있다.

[00141] 다른 상부 웹(1402b)은 2개의 z-롤러들(1404c, 1404d)을 따라 인출된다. 웹(1402b)은 피처들, 예컨대 격자 피처들 또는 다른 피처들을 포함할 수 있는 템플릿(1406b)(예컨대, CRT)을 포함한다. UV 광원(1412)은 템플릿(1406b) 위에 포지셔닝될 수 있다. 제2 디스펜서 헤드(1410b)는, 기판(1414)이 템플릿(1406b) 아래로 이동될 때, 제2 디스펜서 헤드(1410b)가 이미 기판(1414)의 상부에 레지스트를 분배했도록 z-롤러(1404c) 전에 배열될 수 있다. 툴(1400)은 또한 z-롤러(1404b)에 인접하여 포지셔닝된 다른 상부 로드 EFEM(1408b)을 포함한다. 아래에서 추가로 상세히 논의되는 바와 같이, 상부 로드 EFEM(1408b)은 템플릿(1406a)으로부터의 임프린트들을 갖는 기판(1414)을 취하도록 구성된다.

[00142] 도 15a 내지 15h는 양면 임프린팅을 위해 도 14의 툴을 사용하는 예시적인 절차의 개략도들을 도시한다.

[00143] 도 15a는 하부 템플릿(1406a) 상에 레지스트(1504a)를 분배하는 개략도를 도시한다. 제1 디스펜서 헤드(1410a)는, 레지스트(1504a)가 정렬 마크(1502a) 후에, 예컨대 정렬 마크(1502a) 바로 다음에 템플릿(1406a)의 피처들 상에 드롭되도록 정렬 마크(1502a)가 제1 디스펜서 헤드(1410a)를 통과한 후 레지스트(1504a)를 분배하기 시작할 수 있다. 소정량의 레지스트(1504a)가 템플릿(1406a)의 피처들 상에 드롭된 후, 웹(1402a)은 이동을 멈추고 레지스트(1504a)가 템플릿(1406a)의 피처들 상에서 15b에 도시된 바와 같이 확산될 때까지 시간 기간 동안 대기할 수 있다. 일부 예들에서, 템플릿(1406a)은 레지스트(1504a)가 템플릿(1406a) 내에 상세하게 충전되도록, 공기를 밀어내기 위해 레지스트 드롭이 정확히 예컨대, 균일하게 확산되는 것을 가능하게 하도록 구성된 격자 피처를 포함한다. 격자 피처들의 격자 기간은 수십 나노미터(nm) 내지 수십 마이크로미터(μm)일 수 있다.

[00144] 레지스트(1504a)가 템플릿(1406a)의 피처들 상에서 확산된 후에, 웹(1402a)은 재차 이동될 수 있다. 레지스트(1504a)가 상부 로드 EFEM(1408a) 아래로 이동할 때, 웹(1402a)은 정지될 수 있고, 기판(1414)은 도 15c에 도시된 바와 같이 상부 로드 EFEM(1408a)에 의해 레지스트(1504a) 상에 로딩되고 진공 척(1416)에 의해 홀딩될 수 있다. 따라서, 기판(1414)의 하부 표면은 레지스트(1504a)와 접촉한다.

[00145] 그 후, 웹(1402a)이 재차 이동될 수 있다. 기판(1414)이 제2 디스펜서 헤드(1410b) 아래에 도달할 때, 제2 디스펜서 헤드(1410b)는 도 15d에 도시된 바와 같이 기판(1414)의 상부 표면 상에 레지스트(1504b)를 분배하기 시작한다. 일부 경우들에서, 웹(1402a)은 레지스트(1504b)가 기판(1414)의 상부 표면 상에서 확산될 때까지 대기하도록 정지될 수 있다. 일부 경우들에서, 웹(1402a)은 레지스트(1504b)가 기판(1414)의 상부 표면 상에서 확산되는 동안 계속 이동된다. 툴(1400)은 제2 디스펜스 헤드(1410b)와 z-롤러(1404c) 사이의 거리가, 레지스트(1540b)가 기판(1414)의 상부 표면 상에서 양호하게 확산할 정도로 길게 되도록 구성될 수 있다.

[00146] 하부 표면 상의 레지스트(1504a) 및 상부 표면 상의 레지스트(1504b)를 갖는 기판(1414)이 템플릿(1406b) 아래로 이동될 때, 템플릿(1406b) 상의 피처들은 레지스트(1504b)와 접촉하기 시작하고 레지스트(1504b)는 템플릿(1406b) 상의 피처들을 충전한다. 또한, 정렬 마크(1502a)가 예컨대, 카메라 시스템을 통해 템플릿(1406b) 상의 다른 정렬 마크(1502b)와 정렬되도록 이동될 때, 상부 웹(1402b)은 하부 웹(1402a)과 동일한 레이트로 이동되기 시작할 수 있다. 또한, 상부 템플릿(1406b)과 하부 템플릿(1406a) 사이의 거리는 레지스트(1504b)가 템플릿(1406a)의 피처들을 충전하는 것을 가능하게 하도록 구성되거나 제어될 수 있지만, 피처들은 기판(1414)의 상부 표면과 접촉하지 않는다. 도 15e는 양면 임프린팅, 예컨대 상부 템플릿(1406b)과 접촉하는 상부 레지스트(1504b) 및 하부 템플릿(1406a)과 접촉하는 하부 레지스트(1504a)를 갖는 기판(1414)의 개략도를 도시한다.

[00147] 상부 레지스트(1504b) 및 하부 레지스트(1504a)를 갖는 기판(1414) 및 템플릿들(1406b 및 1406a)이 UV 광원(1412) 아래로 이동될 때, UV 광원(1412)은 템플릿들(1406a 및 1406b) 상의 피처들이 기판(1414)의 상부 및 하부 표면들 상의 레지스트들 상에 임프린트될 수 있도록 레지스트들(1504a 및 1504b)을 경화시키기 위해 턴 온될 수 있다. 임프린트된 레지스트들을 갖는 기판(1414)은 임프린트된 기판(1414')으로 언급된다.

[00148] 레지스트들(1504a, 1504b)이 기판(1414) 상에서 경화된 후, 상부 웹(1402b)은 도 15f에 예시된 바와 같이 템플릿(1406b)이 임프린트된 기판(1414')으로부터 분리되도록 z-롤러(1404d) 주위로 상향으로 풀링된다. 이를 달성하기 위해, z-롤러(1404b)는 z-롤러(1404d)로부터 거리를 두고 포지셔닝될 수 있다.

[00149] 웹(1402a)은 상부 로드 EFEM(1408b) 아래까지 추가로 이동된다. 진공 척(1416)은 기판(1414')을 릴리즈할 수 있고, 상부 로드 EFEM(1408b)은 도 15g에 도시된 바와 같이 임프린트된 기판(1414')을 취할 수 있다. 임프린트된 기판(1414')을 홀딩하는 상부 로드 EFEM(1408b)은 도 15h에 예시된 바와 같이 임프린트된 기판(1414')이 하부 템플릿(1406a)으로부터 분리되도록, 순방향으로 예컨대 z-롤러(1404b)의 좌측으로 이동할 수 있다.

[00150] 위에서 설명된 바와 같이 양면 임프린팅을 위해 툴(1400)을 사용하는 것은 몇 가지 이점들을 제공할 수 있다. 첫째로, 기판 맞춤(substrate registration)이 필요하지 않다. 둘째로, 임프린트 관련 어려움을 제거하기 위해 상부 템플릿과 하단 템플릿의 정렬이 구현된다. 셋째로, 하부 템플릿은 기판의 부드러운 진공 홀드를 가능하게 하고 상부 템플릿으로부터 분리 동안 기판이 홀딩되는 것을 보장하기 위해 미리 패터닝된 관통 구멍들을 가질 수 있다. 넷째로, 이 툴은 낮은 분리력을 통한 부드러운 분리 방식을 가능하게 하며, 이는 상부 및 하부 임프린트들 둘 모두에서 기판 손실 또는 분리 장애를 야기하는 높은 분리력을 회피할 수 있다. 다섯 번째로, 하부 템플릿은 하부 임프린트들의 충전 문제를 제거하기 위해 하부 템플릿 상의 레지스트 확산을 허용하도록 구성되는 격자 피처들을 갖는다.

예시적인 양면 임프린팅 프로세스들

[00151] 도 16은 기판 상에 양면 임프린트들을 제조하는 예시적인 프로세스(1600)의 흐름도이다. 프로세스(1600)는 위에서 설명된 디바이스들, 시스템들 및/또는 툴들, 예컨대 도 11 내지 도 13f의 임프린팅 툴(1100)에 의해 수행될 수 있다.

[00152] 제1 웹은 제1 롤러들을 따라 인출되고 제2 웹은 제2 롤러들을 따라 인출된다(1602). 제1 웹은 제1 임프린팅 피처, 예컨대 격자 피처를 포함하는 제1 템플릿을 포함한다. 제2 웹은 제2 임프린팅 피처, 예컨대 격자 피처를 포함하는 제2 템플릿을 포함한다.

[00153] 일부 구현들에서, 제1 롤러들은 수직 방향으로 배열된 2개의 제1 z-롤러들을 포함하고, 제2 롤러들은 수직 방향으로 배열된 2개의 제2 z-롤러들을 포함한다. 제1 z-롤러들은 거리를 두고 제2 z-롤러들에 대 향하여 포지셔닝될 수 있다. 제1 웹은 반시계 방향으로 제1 z-롤러들을 따라 인출될 수 있고, 제2 웹은 시계 방향으로 제2 z-롤러들을 따라 인출될 수 있다.

[00154] 일부 예들에서, 제1 롤러들은 기압(air pressure)에 의해 제1 웹을 부유시키도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러(air turn roller)를 포함한다. 에어-턴 롤러는 도 13a 및 13b의 롤러(1104a)일 수 있다. 제2 롤러들은 또한 기압에 의해 제2 웹을 부유시키도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러를 포함할 수 있다. 일부 예들에서. 제1 롤러들은 진공에 의해 제1 웹을 척킹하도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러 예컨대, 도 3b의 에어 베어링 턴 바(354)를 포함한다.

[00155] 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들이 정렬된다(1604). 카메라 시스템(예컨대, 도 12a-1의 정렬 카메라들(1202a, 1202b)) 또는 레이저 시스템(예컨대, 도 5a의 레이저(504) 및 센서(508))은 정렬을 위해 제1 웹 및 제2 웹 상에서 참조 마크들을 로케이팅(또는 검출)하기 위해 사용될 수 있다. 제1 템플릿 및 제2 템플릿이 서로 정렬되도록 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하기 위해 정렬 시스템이 사용될 수 있고, 예컨대, 제1 임프린팅 피처는 제2 임프린팅 피처와 정렬된다.

[00156] 일부 예들에서, 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하는 것은 제1 웹 상의 제1 참조 마크를 제2 웹 상의 제2 참조 마크와 정렬하고 제1 웹 상의 제3 참조 마크를 제2 웹 상의 제4 참조 마크와 정렬하는 것을 포함한다. 제1 참조 마크 및 제3 참조 마크는 기판이 제1 템플릿으로 임프린트되도록 구성되는 범위를 정의할 수 있다. 제2 참조 마크 및 제4 참조 마크는 기판이 제2 템플릿으로 임프린트되도록 구성되는 범위를 정의할 수 있다.

[00157] 일부 구현들에서, 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하는 것은 도 12a-1 내지 12a-5에서 위에서 논의된 바와 같이 x, y 또는 θ 방향 중 적어도 하나에서 제1 롤러들의 z-롤러를 이동시키는 것을 포함한다.

[00158] 일부 구현들에서, 정렬 후에, 클램핑된 제1 웹 및 제2 웹이 서로 정렬된 제1 템플릿 및 제2 템플릿과 함께 이동되도록, 참조 마크들에 인접한 위치에서 제1 웹 및 제2 웹이 클램핑된다. 예컨대, 도 12b-1에 예시된 바와 같이, 클램핑 위치는 제1 참조 마크 하류에 있다.

[00159] 제1 웹 및 제2 웹은 클램핑 시스템에 의해 서로 클램핑될 수 있다. 클램핑 시스템은 척 및 클램프를 포함할 수 있다. 척은 진공 척, 예컨대, 도 12a-1의 진공 척(1208)일 수 있고 진공으로 제1 웹 상에서 척킹하도록 구성된다. 클램프는 도 12a-1의 클램프(1210)일 수 있다. 척은, 척이 제1 웹 상에 있고 클램프는 제2 웹 상에 있도록 클램프와 척킹하도록 작동될 수 있다.

[00160] 일부 경우들에서, 척은 제1 롤러들에 의해 정의된 축에 평행한 레일을 따라 이동 가능하도록 구성되고, 척 및 클램프는 클램핑 후에 제1 웹 및 제2 웹과 함께 이동된다. 도 12b-3에 예시된 바와 같이, 척은 한 쌍의 가이드들 상에 포지셔닝될 수 있고, 가이드들 각각은 프레임에 연결된 각각의 레일 상에서 이동 가능하다. 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하는 것은 x, y 또는 θ 방향 중 적어도 하나에서 각각의 레일들 상의 가이드들의 상대적 포지션들을 조정하는 것을 포함할 수 있다. 텐션 센서는 제1 웹의 텐션을 측정하기 위해 제1 롤러들 중 하나에 커플링될 수 있다. 다른 텐션 센서가 제2 웹의 텐션을 측정하기 위해 제2 롤러들 중 하나에 커플링될 수 있다.

[00161] 일부 구현들에서, 챔버는 적어도 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 둘러싸는 데 사용된다. 챔버는 도 13d의 챔버(1332)일 수 있다. 제어기는 챔버의 온도 및/또는 청결도를 제어하도록 구성될 수 있다.

[00162] 제1 웹은 제1 템플릿을 제1 디스펜서에 노출시키기 위해 제1 방향에서 제1 롤러들을 따라 인출되고 제2 웹은 제2 템플릿을 제2 디스펜서에 노출시키기 위해 제2 방향에서 제2 롤러들을 따라 인출된다(1606). 제1 템플릿은 수평 방향으로 그리고 제1 디스펜서 아래에 있도록 인출될 수 있다. 제2 템플릿은 수평 방향으로 그리고 제2 디스펜서 아래에 있도록 인출될 수 있다.

[00163] 제1 디스펜서는 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하고, 제2 디스펜서는 제2 템플릿 상에 제2 레지스트를 분배한다(1608). 제1 디스펜서는 제1 템플릿이 제1 디스펜서를 통과하는 동안 제1 레지스트를 분배할 수 있다. 제2 디스펜서는 제2 템플릿이 제2 디스펜서를 통과하는 동안 제2 레지스트를 분배할 수 있다.

[00164] 제1 템플릿이 제1 레지스트로 완전히 커버되고 제2 템플릿이 제2 레지스트로 완전히 커버될 때, 제1 웹과 제2 웹은, 제1 레지스트를 갖는 제1 템플릿 및 제2 레지스트를 갖는 제2 템플릿은 서로 마주하도록 반대로 인출된다(1610). 예컨대, 제1 웹은 레지스트에 대한 제1 템플릿을 노출시키도록 반시계 반대 방향으로 상향으로 인출될 수 있고, 제1 웹은 그 후 제1 템플릿을 풀링 다운하도록 시계 방향으로 하향으로 인출될 수 있다. 유사하게, 제2 웹은 레지스트에 대한 제2 템플릿을 노출시키도록 시계 반대 방향으로 상향으로 인출될 수 있고, 제2 웹은 그 후 제2 템플릿을 풀링 다운하도록 반시계 방향으로 하향으로 인출될 수 있다.

[00165] 제1 레지스트를 갖는 제1 템플릿과 제2 레지스트를 갖는 제2 템플릿 사이에 기판이 삽입된다(1612). 기판은 강성 기판, 예컨대 실리콘 웨이퍼와 같은 웨이퍼 기판일 수 있다. 로봇은 기판을 제1 템플릿과 제2 템플릿 사이의 갭 내로 공급하기 위해 기판의 에지를 파지하도록 제어될 수 있다. 일부 구현들에서, 제1 롤러들 및 제2 롤러들은, 삽입 후에, 기판이 제1 템플릿 및 제2 템플릿과 함께 이동하도록 배열될 수 있고, 제1 레지스트는 예컨대, 제1 롤러들 중 하나에 의해 기판의 제1 측 상으로 가압되고 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되고, 제2 레지스트는 예컨대, 제2 롤러들 중 하나에 의해 기판의 제2 측 상으로 가압되고 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처 내로 충전된다.

[00166] 일부 구현들에서, 제1 스퀴지 롤러는, 제1 레지스트가 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제1 레지스트 내로 제1 템플릿을 푸시하기 위해 제1 웹 상에서 이동되고, 제2 스퀴지 롤러는 제2 레지스트가 제2 템플릿의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제2 레지스트 내로 제2 템플릿을 푸시하기 위해 제2 웹 상으로 이동된다. 제1 스퀴지 롤러 및 제2 스퀴지 롤러는 제1 스퀴지 및 제2 스퀴지를 함께 이동시키는 동안 서로 대향하게 포지셔닝될 수 있다. 제1 스퀴지 롤러 또는 제2 스퀴지 롤러는 도 6a의 스퀴지 롤러(608)일 수 있다.

[00167] 기판 및 제1 템플릿, 제2 템플릿이 임프린팅 존 내로 진입할 때, 광원, 예컨대 UV 광원은 경화된 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상의 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상의 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록, 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 경화(1614)시키게 조명될 수 있다. 이러한 방식으로, 기판은 양면 임프린트 피처들로 임프린트된다.

[00168] 일부 구현들에서, 경화 후에, 경화된 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 갖는 기판이 제1 웹과 제2 웹 사이의 갭을 통과할 수 있도록, 제1 웹 및 제2 웹이 언클램핑(unclamping)된다.

[00169] 이중-임프린트된 기판은 언로딩된다(1616). 기판은 다른 로봇에 의해 언로딩되고 컨테이너, 예컨대, 도 11a의 컨테이너(1124)에 저장될 수 있다.

[00170] 도 17은 기판 상에 양면 임프린트들을 제조하는 다른 예시적인 프로세스(1700)의 흐름도이다. 프로세스(1700)는 위에서 설명된 디바이스들, 시스템들 및/또는 툴들, 예컨대 도 14 내지 도 15h의 임프린팅 툴(1400)에 의해 수행될 수 있다.

[00171] 제1 웹은 제1 롤러들을 따라 인출된다(1702). 제1 웹은 제1 임프린팅 피처, 예컨대 격자 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함한다. 제1 롤러는 수평 방향으로 배열된 2개의 z-롤러들을 포함할 수 있고 우측에서 좌측으로 인출될 수 있다. 일부 구현들에서, 제1 롤러들은 기압에 의해 제1 웹을 부유시키도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러를 포함한다. 제1 롤러들은 진공에 의해 제1 웹을 척킹하도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러를 포함할 수 있다.

[00172] 제1 레지스트가 제1 템플릿 상에 분배된다(1704). 제1 디스펜서는, 제1 템플릿의 선두가 제1 디스펜서 아래로 이동될 때 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하기 시작하고, 제1 템플릿의 말미가 제1 디스펜서를 떠날 때 종료될 수 있다. 제1 레지스트가 제1 템플릿 상에 분배된 후, 툴은 제1 레지스트가 제1 템플릿의 제1 임프린팅 피처 내로 확산될 때까지 일정 시간 기간 동안 대기할 수 있다. 일부 구현들에서, 제1 임프린팅 피처는 격자 피처를 포함하고, 격자 피처는 제1 레지스트가 격자 피처에 균일하게 충전되도록 구성된다. 제1 레지스트를 균일하게 확산시키기 위해 다른 임프린팅 피처들 또한 사용되고 구성될 수 있다.

[00173] 기판은 제1 템플릿 상에 로딩된다(1706). 기판의 제1 측, 예컨대 하부 측은 제1 템플릿 상의 제1 레지스트와 접촉한다. 특히, 기판의 제1 측은 제1 템플릿의 제1 임프린팅 피처와 대향하게 로딩된다. 기판은 강성 기판, 예컨대 실리콘 웨이퍼일 수 있다. 홀더, 예컨대, 도 14의 상부 로드 EFEM(1408a)은 제1 템플릿 상에 기판을 홀딩 및 릴리즈하는 데 사용될 수 있다. 홀더는 제1 웹의 이동 방향을 따라 제1 디스펜서 옆에 배열될 수 있다.

[00174] 기판은 기판이 제1 템플릿과 함께 이동 가능하도록 제1 템플릿 상에 클램핑된다(1708). 척, 예컨대, 도 14의 진공 척(1416)은 기판을 제1 템플릿 상에 척킹하는 데 사용될 수 있다. 일부 구현들에서, 제1 템플릿은 하나 이상의 미리 패터닝된 관통 구멍들을 포함하고, 기판은 하나 이상의 미리 패터닝된 관통 구멍들을 통해 진공 척에 의해 진공으로 홀딩될 수 있다. 진공 척은 이동 가능하고 클램핑 후에 제1 웹 및 기판과 함께 이동될 수 있다.

[00175] 제2 레지스트는 기판의 제2 측, 예컨대 기판의 상부 측 상에 분배된다(1710). 제2 디스펜서는 홀더 옆에 배열될 수 있고, 기판이 제2 디스펜서 아래로 이동될 때 기판 상에 제2 레지스트를 분배하기 시작할 수 있다.

[00176] 제2 웹은 제2 롤러들을 따라 인출된다. 제2 웹은 기판 상에 임프린트될 제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함한다. 제2 롤러들은 수평 방향으로 배열된 2개의 제2 z-롤러들을 포함할 수 있다. 도 14에 예시된 바와 같이, 2개의 제1 z-롤러들은 제1 웹에 대한 제1 이동 범위를 정의하고, 2개의 제2 z-롤러들은 제2 웹에 대한 제2 이동 범위를 정의한다. 제1 이동 범위는 제2 이동 범위보다 크고 제2 이동 범위를 둘러싼다. 제1 롤러들 및 제2 롤러들은 제1 웹과 제2 웹 사이의 갭을 형성하도록 배열될 수 있다. 갭은 수직 거리를 갖는다.

[00177] 제1 웹 및 제2 웹 상의 참조 마크들이 정렬된다(1712). 도 15d에 예시된 바와 같이, 제1 웹 상의 제1 참조 마크는 제1 웹을 인출하는 방향을 따라, 예컨대 기판이 클램핑되는 포지션 좌측으로 제1 임프린팅 피처 앞에 배열될 수 있다. 제2 웹 상의 제2 참조 마크는 또한 이 방향을 따라, 예컨대 제2 임프린팅 피처가 기판의 제2 측에 상에서 임프린팅되는 포지션 좌측으로 제2 임프린팅 피처 앞에 배열될 수 있다.

[00178] 정렬을 위해, 제2 웹은 정적일 수 있고 제1 웹 상의 제1 참조 마크가 제2 참조 마크에 근접하게 이동할 때까지 대기할 수 있다. 비전 시스템은 제2 참조 마크 및/또는 제1 참조 마크를 로케이팅하는 데 사용될 수 있다. 제1 참조 마크가 제2 참조 마크와 매칭하도록 이동될 때, 제1 템플릿은 제2 템플릿과 정렬되는데, 예컨대, 제1 임프린트 피처는 제2 임프린팅 피처과 정렬된다.

[00179] 정렬 후에, 제1 웹 및 제2 웹은 동일한 레이트로 동시에 인출된다(1714). 일부 구현들에서, 제2 참조 마크는 제2 z-롤러 중 하나에 인접하게 배열된다. 제1 웹 상의 제1 참조 마크가 제2 참조 마크와 매칭하도록 이동될 때, 제2 웹은 제2 z- 롤러들을 따라 인출되기 시작하고, 제2 템플릿은 기판의 제2 측 상의 제2 레지스트 내로 예컨대, 제2 z- 롤러들 중 하나에 의해 가압되기 시작한다. 제1 웹과 제2 웹 사이의 갭의 수직 거리는, 제2 템플릿이 제2 레지스트 내로 가압되고 제2 레지스트가 제2 템플릿의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 구성될 수 있다.

[00180] 일부 구현들에서, 기판이 갭 내로 이동될 때 제2 레지스트가 제2 템플릿과 접촉하지 않도록 갭의 수직 거리가 높다. 제1 웹 상의 제1 참조 마크 및 제2 웹 상의 제2 참조 마크가 정렬될 때, 제2 웹과 함께 제2 z-롤러들이 수직으로 하향으로 이동될 수 있어서, 제2 템플릿은 기판의 제2 측 상의 제2 레지스트 내로 가압되게 한다.

[00181] 일부 구현들에서, 스퀴지 롤러, 예컨대, 도 6a의 스퀴지 롤러(608)는 제2 레지스트가 제2 임프린팅 피처 내에 충전되도록 제2 템플릿을 제2 레지스트 내로 푸시하기 위해 2개의 제2 z-롤러들 사이의 제2 웹상에서 이동된다. 일부 경우들에서, 제1 레지스트는 또한 스퀴지 롤러에 의해 제1 임프린팅 피처 내로 가압될 수 있다.

[00182] 제1 레지스트 및 제2 레지스트는 경화된다(1716). 기판이 제1 템플릿과 제2 템플릿 사이에 있고 제1 레지스트 및 제2 레지스트 둘 모두가 각각 제1 임프린팅 피처 및 제2 임프린팅 피처 내로 가압될 때, 광원, 예컨대 UV 광원은 2개의 제2 z-롤러들 사이에 포지셔닝되고 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 경화시킬 수 있다. 따라서, 경화된 제1 레지스트는 기판의 제1 측 상에서 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 가질 수 있고, 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 가질 수 있다.

[00183] 양면 임프린트된 기판은 언로딩된다(1718). 일부 구현 예에서, 경화 후, 제2 웹이 인출되고 제2 z-롤러들 중 하나를 따라 상향으로 풀링되어 기판으로부터 분리되고, 그 후 홀더, 예컨대 도 14의 상부 로드 EFEM(1408b)은 제1 템플릿 아래의 진공 척이 기판을 릴리즈하는 동안 기판을 취하는 데 사용된다.

[00184] 도 18은 기판 상에 양면 임프린트들을 제조하는 제3 예시적인 프로세스(1800)의 흐름도이다. 프로세스(1800)는 위에서 설명된 디바이스들, 시스템들 및/또는 툴들, 예컨대, 도 9의 임프린팅 툴(900) 또는 도 10의 임프린팅 툴(1000)에 의해 수행될 수 있다.

[00185] 제1 웹은 제1 롤러들을 따라 인출되고 제2 웹은 제2 롤러들을 따라 인출된다(1802). 제1 웹은 기판의 일 측 상 임프린트될 제1 임프린팅 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함하고, 제2 웹은 기판의 다른 측 상에 임프린트될 제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함한다. 제1 템플릿 및 제2 템플릿은 임프린팅 존 내로 모이게 된다.

[00186] 제1 템플릿 및 제2 템플릿에 대한 참조 마크들이 정렬된다(1804). 카메라 시스템 또는 레이저 시스템은 제1 템플릿 및 제2 템플릿의 정렬을 위해 제1 웹 및 제2 웹 상에서 참조 마크들을 검출하는 데 사용될 수 있다. 예컨대, 제1 웹 상의 제1 참조 마크를 제2 웹 상의 제2 참조 마크와 정렬함으로써, 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처는 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처과 정렬될 수 있다.

[00187] 제1 레지스트는 기판의 제1 측 상에 분배되고 제2 레지스트는 기판의 제2 측에 분산된다(1806). 제1 레지스트 및 제2 레지스트는 표면 텐션에 의해 기판의 측들 상에 홀딩될 수 있다.

[00188] 기판이 임프린팅 존 내로 그리고 제1 템플릿과 제2 템플릿 사이에 공급된다(1808). 일부 경우들에서, 기판은 강성, 예컨대 실리콘 웨이퍼이며, 기판은 홀더를 사용하여 기판의 에지를 파지함으로써 제공될 수 있다. 일부 경우들에서, 도 10에 예시된 바와 같이, 기판은 가요성이며, 기판은 롤러들을 따라 블랭크 기판의 롤로부터 풀링함으로써 제공될 수 있다.

[00189] 일부 구현들에서, 제1 롤러들은 수평 방향으로 배열된 2개의 제1 z-롤러들을 포함하고, 제2 롤러들은 수평 방향으로 배열된 2개의 제2 z-롤러들을 포함한다. 제1 롤러들 및/또는 제2 롤러들은 제1 웹과 제2 웹 사이의 수직 거리를 증가 또는 감소시키기 위해 수직으로 이동될 수 있다.

[00190] 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상의 제1 템플릿의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되고 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상의 제2 템플릿의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제1 템플릿 및 제2 템플릿이 기판 상으로 가압된다(1810).

[00191] 일부 구현들에서, 제1 프레스 돔은 예컨대, 제1 템플릿의 후방으로부터 제1 템플릿에 적용된다. 제1 프레스 돔은 유리 돔, 예컨대, 도 2의 유리 돔(204) 또는 도 4b의 454일 수 있다. 제1 프레스 돔은 환형 링 진공 척, 예컨대 도 1의 진공 척(104)일 수 있다. 일부 구현들에서, 제2 웹은 평면 지지부, 예컨대 도 1의 스테이지(130) 또는 도 2의 스테이지 조립체(230)에 의해 지지된다. 일부 구현들에서, 제2 프레스 돔은 예컨대, 제2 웹의 후방으로부터 제2 템플릿에 적용된다. 제2 프레스 돔은 유리 돔, 예컨대, 도 2의 유리 돔(204) 또는 도 4b의 454일 수 있다. 제2 프레스 돔은 환형 링 진공 척, 예컨대 도 1의 진공 척(104)일 수 있다.

[00192] 일부 구현들에서, 참조 마크들의 정렬 후에, 제1 프레스 돔 및 제2 프레스 돔은 제1 웹 및 제2 웹과 접촉하게 된다. 제1 프레스 돔 또는 제2 프레스 돔이 제1 웹 또는 제2 웹과 접촉한 후에, 최적의 템플릿 정렬을 위해 작은 보정을 행하도록 구성된 제1 프레스 돔 또는 제2 프레스 돔의 미세 조정 축이 존재할 수 있다. 제1 및 제2 프레스 돔들은, 제1 및 제2 프레스 돔들이 모여질 때 제1 및 제2 프레스 돔들의 포지션들에 의해 기판의 z 포지션이 결정되도록 균등하게 모여질 수 있다. 제1 및 제2 프레스 돔들이 완전히 평탄화될 때, 제1 및 제2 템플릿은 제1 레지스트 및 제2 레지스트로 완전히 충전될 수 있다.

[00193] 일부 구현들에서, 기판 상으로 제1 템플릿 및 제2 템플릿을 가압하는 단계는, 제1 레지스트가 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제1 레지스트 내로 제1 템플릿을 푸시하기 위해 제1 웹 상에서 제1 스퀴지 롤러를 이동시키는 단계, 및/또는 제2 레지스트가 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되도록 제2 레지스트 내로 제2 템플릿을 푸시하기 위해 제2 웹 상에서 제2 스퀴지 롤러를 이동시키는 단계를 포함한다. 제1 스퀴지 롤러 및 제2 스퀴지 롤러는 제1 스퀴지 및 제2 스퀴지를 함께 이동시키는 동안 서로 대향하게 포지셔닝될 수 있다.

[00194] 제1 레지스트 및 제2 레지스트는 예컨대, UV 광원에 의해 경화된다(1812). 경화된 제1 레지스트는 기판의 제1 측 상에서 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 가질 수 있고, 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 가질 수 있다.

[00195] 양면 임프린트된 기판은 언로딩된다(1814). 예컨대, 제1 웹은 제1 템플릿을 기판으로부터 분리하기 위해 제1 롤러 중 하나로부터 멀어지게 풀링될 수 있다. 제2 웹은 제2 템플릿을 기판으로부터 분리하기 위해 제2 롤러 중 하나로부터 멀어지게 풀링될 수 있다. 일부 구현들에서, 제1 프레스 돔 및/또는 제2 프레스 돔은 먼저, 제1 웹 및/또는 제2 웹으로부터 후퇴된다.

[00196] 일부 구현들에서, 기판이 제1 템플릿으로부터 분리된 후, 제1 보호 필름이 기판의 제1 측 상의 경화된 제1 레지스트 상에 도포된다. 기판이 제2 템플릿으로부터 분리된 후, 제2 보호 필름이 기판의 제2 측 상의 경화된 제2 레지스트 상에 도포될 수 있다. 특히 제1 및/또는 제2 보호 필름들을 갖는 양면 임프린트 기판이 롤러 위의 롤러로 롤링될 수 있다.

[00197] 도 19는 기판 상에 양면 임프린트들을 제조하는 제4 예시적인 프로세스(1900)의 흐름도이다. 프로세스(1900)는 위에서 설명된 디바이스들, 시스템들 및/또는 툴들, 예컨대 도 8의 임프린팅 툴(800)에 의해 수행될 수 있다.

[00198] 제1 웹은 제1 롤러 및 제2 롤러를 따라 인출된다(1902). 제1 웹은 제1 임프린팅 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함한다. 제1 롤러 및 제2 롤러는 제1 방향, 예컨대 수평 방향 또는 수직 방향으로 포지셔닝될 수 있다.

[00199] 제2 웹은 제3 롤러 및 제4 롤러를 따라 인출된다(1904). 제2 웹은 제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함한다. 제3 롤러 및 제4 롤러는 제1 방향과 동일한 제2 방향, 예컨대 수평 방향 또는 수직 방향으로 포지셔닝될 수 있다. 제1 롤러와 제3 롤러는 서로 대향하게 포지셔닝되며 닙을 형성한다. 단계(1902) 및 단계(1904)는 동시에 실행될 수 있다는 것에 주의한다.

[00200] 제1 템플릿 및 제2 템플릿에 대한 참조 마크들은 제1 템플릿이 제2 템플릿과 정렬되도록 정렬된다(1906). 위에서 언급된 바와 같이, 카메라 시스템 또는 레이저 시스템은 정렬을 위해 제1 웹 및 제2 웹 상에서 참조 마크들을 로케이팅하는 데 사용될 수 있다. 부가적으로, 정렬 시스템은 제1 템플릿 및 제2 템플릿에 대한 참조 마크들을 정렬하는 데 사용될 수 있다. 예컨대, 제1 템플릿 및 제2 템플릿이 서로 정렬될 수 있도록 제1 웹 및 제2 웹에 대한 웹 지지부들 사이에 정밀 조정 축이 분배될 수 있다.

[00201] 제1 레지스트가 제1 템플릿 또는 기판의 제1 측 상에 분배되고, 제2 레지스트는 제2 템플릿 또는 기판의 제2 측 상에 분배된다(1908). 일부 경우들에서, 제1 레지스트 및 제2 레지스트는 기판의 양 측들 상에 분배될 수 있다. 일부 경우들에서, 도 8에 예시된 바와 같이, 제1 레지스트는 기판의 제1 측 상에 증착되고, 제2 레지스트는 제2 템플릿 상에 증착된다.

[00202] 제1 템플릿 및 제2 템플릿은 동시에 닙 내로 인출되고 기판은 동시에 닙 내로 공급된다(1910). 제1 임프린팅 피처가 기판의 제1 측을 향하고 제2 임프린팅 피처가 기판의 제2 측을 향하고 제1 레지스트는 제1 롤러에 의해 기판의 제1 측 상의 제1 임프린팅 피처 내로 가압될 수 있고 제2 레지스트가 제3 롤러에 의해 기판의 제2 측 상의 제2 임프린팅 피처 내로 가압될 수 있다. 기판은 기판의 에지를 파지하는 홀더를 사용함으로써 닙 내로 공급될 수 있다. 기판은 강성 기판, 예컨대 웨이퍼일 수 있다.

[00203] 기판이 제1 템플릿 및 제2 템플릿과 완전히 접촉하면, 제1 웹, 제2 웹 및 기판은 이동을 멈출 수 있다. 경화된 제1 레지스트가 기판의 제1 측 상에서 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 기판의 제2 측 상에서 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록 제1 레지스트 및 제2 레지스트가 예컨대 UV 광에 의해 경화된다(1912).

[00204] 양면 임프린트된 기판은 언로딩된다(1914). 일부 구현들에서, 단계(1914)는 도 18의 단계(1814)와 유사할 수 있다. 기판이 제1 템플릿 및 제2 템플릿으로부터 분리되도록, 제1 웹은 제2 롤러로부터 멀어지게 풀링되고 제2 웹은 제4 롤러로부터 멀어지게 풀링될 수 있다. 기판은 다른 홀더에 의해 파지될 수 있다. 일부 구현들에서, 제1 웹은 제1 롤러로부터 멀어지게 풀링되도록 반대로 인출되고 제2 웹은 제3 롤러로부터 멀어지게 풀링되도록 반대로 인출된다. 기판은 공급을 위해 동일한 홀더에 의해 뒤로 후퇴된다. 이러한 방식으로, 기판은 제1 템플릿 및 제2 템플릿으로부터 분리될 수 있다.

[00205] 다수의 구현들이 설명되었다. 그럼에도 불구하고, 본원에서 설명된 기술들 및 디바이스들의 사상 및 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정들이 이루어질 수 있다는 것이 이해될 것이다. 구현들 각각에 도시된 특징들은 독립적으로 또는 서로 조합하여 사용될 수 있다. 부가적인 특징들 및 변동들이 또한 구현들에 포함될 수 있다. 따라서, 다른 구현들은 다음의 청구항들의 범위 내에 있다.

Claims (20)

1. 양면 임프린팅을 위한 시스템으로서,
   제1 템플릿을 포함하는 제1 웹을 이동시키기 위한 제1 롤러들;
   제2 템플릿을 포함하는 제2 웹을 이동시키기 위한 제2 롤러들;
   상기 제1 템플릿 및 상기 제2 템플릿이 서로 정렬되도록 상기 제1 웹 및 상기 제2 웹 상의 참조 마크들을 정렬하도록 구성된 정렬 시스템;
   상기 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하도록 구성된 제1 디스펜서;
   상기 제2 템플릿 상에 제2 레지스트를 분배하도록 구성된 제2 디스펜서;
   상기 제1 템플릿과 상기 제2 템플릿 사이에 기판을 삽입하도록 구성된 로딩(loading) 시스템; 및
   경화된 제1 레지스트가 상기 기판의 제1 측 상에서 상기 제1 템플릿과 연관된 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 상기 기판의 제2 측 상에서 상기 제2 템플릿과 연관된 제2 임프린트된 피처를 갖도록 상기 제1 레지스트 및 상기 제2 레지스트를 경화시키도록 구성된 광원을 포함하고,
   동작 시에, 상기 제1 웹은 상기 제1 템플릿을 상기 제1 디스펜서에 노출시키기 위해 제1 방향에서 상기 제1 롤러들을 따라 인출되고 상기 제2 웹은 상기 제2 템플릿을 상기 제2 디스펜서에 노출시키기 위해 제2 방향에서 상기 제2 롤러들을 따라 인출되고, 그 후, 상기 제1 레지스트를 갖는 상기 제1 템플릿 및 상기 제2 레지스트를 갖는 상기 제2 템플릿이 서로 정렬되도록 상기 제1 방향과 반대 방향으로 상기 제1 롤러들을 따라 상기 제1 웹이 인출되고 상기 제2 방향과 반대 방향으로 상기 제2 롤러들을 따라 상기 제2 웹이 인출되는,
   양면 임프린팅을 위한 시스템.
2. 제1 항에 있어서,
   언로딩(unloading) 시스템을 더 포함하고,
   상기 언로딩 시스템은 상기 제1 측 상의 제1 임프린트된 피처 및 상기 제2 측 상의 제2 임프린트된 피처를 갖는 상기 기판을 언로딩하도록 구성되는,
   양면 임프린팅을 위한 시스템.
3. 제1 항에 이어서,
   클램핑 시스템을 더 포함하고,
   상기 클램핑 시스템은,
   클램핑된 제1 웹 및 제2 웹이 서로 정렬된 상기 제1 템플릿 및 상기 제2 템플릿과 함께 이동되도록, 상기 참조 마크들에 인접한 위치에서 상기 제1 웹 및 상기 제2 웹을 클램핑하고; 그리고
   상기 경화된 제1 레지스트 및 제2 레지스트를 갖는 기판이 상기 제1 웹과 상기 제2 웹 사이의 갭을 통과할 수 있도록, 상기 제1 웹 및 상기 제2 웹을 언클램핑(unclamping)하도록 구성되는,
   양면 임프린팅을 위한 시스템.
4. 제3 항에 있어서,
   상기 클램핑 시스템은,
   상기 제1 웹을 척킹하도록 구성되는 척; 및
   상기 척과 함께 작동될 때 상기 제2 웹을 클램핑하도록 구성되는 클램프를 포함하는,
   양면 임프린팅을 위한 시스템.
5. 제4 항에 있어서,
   상기 척은 진공으로 상기 제1 웹 상에 척킹하도록 구성된 진공 척을 포함하는,
   양면 임프린팅을 위한 시스템.
6. 제4 항에 있어서,
   상기 척은 이동 가능하고,
   상기 척 및 상기 클램프는 상기 클램핑 후에 상기 제1 웹 및 상기 제2 웹과 함께 이동되는,
   양면 임프린팅을 위한 시스템.
7. 제4 항에 있어서,
   상기 척은 한 쌍의 가이드들 상에 배치(positioning)되고, 상기 한 쌍의 가이드들 중 각각의 가이드는 프레임에 연결된 각각의 레일 상에서 이동 가능하고, 그리고
   상기 정렬 시스템은 x, y 또는 θ 방향 중 적어도 하나에서 상기 각각의 레일들 상의 상기 가이드들의 상대적 포지션을 조정함으로써 상기 제1 웹 및 상기 제2 웹 상의 상기 참조 마크들을 정렬하도록 구성되는,
   양면 임프린팅을 위한 시스템.
8. 제1 항에 있어서,
   상기 제1 롤러들 및 상기 제2 롤러들은, 상기 기판이 상기 제1 템플릿과 상기 제2 템플릿 사이에 삽입된 후에, 상기 기판이 상기 제1 템플릿 및 상기 제2 템플릿과 함께 이동되도록 배열되고, 상기 제1 레지스트는 상기 기판의 상기 제1 측 상으로 가압되고 상기 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처 내로 충전되고, 상기 제2 레지스트는 상기 기판의 상기 제2 측 상으로 가압되고 상기 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처 내로 충전되고, 그리고
   상기 기판의 상기 제1 측 상의 상기 제1 임프린트된 피처는 상기 제1 템플릿 상의 상기 제1 임프린팅 피처에 대응하고, 상기 기판의 상기 제2 측 상의 상기 제2 임프린트된 피처는 상기 제2 템플릿 상의 상기 제2 임프린팅 피처에 대응하는,
   양면 임프린팅을 위한 시스템.
9. 제1 항에 있어서,
   상기 정렬 시스템은 x, y 또는 θ 방향 중 적어도 하나에서 상기 제1 롤러들의 z-롤러를 이동시킴으로써 상기 제1 웹 및 상기 제2 웹 상의 상기 참조 마크들을 정렬하도록 구성되는,
   양면 임프린팅을 위한 시스템.
10. 제1 항에 있어서,
    정렬을 위해 상기 제1 웹 및 상기 제2 웹 상의 상기 참조 마크들을 로케이팅하도록 구성된 로케이팅 시스템을 더 포함하고,
    상기 로케이팅 시스템은 카메라 시스템 또는 레이저 시스템 중 적어도 하나를 포함하는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
11. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 롤러들은 기압(air pressure)에 의해 상기 제1 웹을 부유시키도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러(air turn roller)를 포함하는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
12. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 롤러들은 진공으로 상기 제1 웹을 척킹하도록 구성된 적어도 하나의 에어 턴 롤러를 포함하는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
13. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 방향은 상기 제1 롤러들에 대하여 반시계 방향이고, 상기 제2 방향은 상기 제2 롤러들에 대하여 시계 방향인,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
14. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 롤러들은 수직 방향으로 배열된 2개의 제1 z-롤러들을 포함하고, 상기 제2 롤러들은 상기 수직 방향으로 배열된 2개의 제2 z-롤러들을 포함하고,
    상기 제1 디스펜서는, 상기 제1 템플릿이 상기 2개의 제1 z-롤러들에 관하여 수평 방향일 때 상기 제1 템플릿 상에 상기 제1 레지스트를 분배하도록 구성되고, 그리고
    상기 제2 디스펜서는, 상기 제2 템플릿이 상기 수평 방향일 때 상기 제2 템플릿 상에 상기 제2 레지스트를 분배하도록 구성되는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
15. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 웹 및 상기 제2 웹의 텐션들을 각각 측정하도록 구성된 제1 및 제2 텐션 센서들을 더 포함하는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
16. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 템플릿 및 상기 제2 템플릿을 둘러싸도록 구성된 챔버; 및
    상기 챔버의 온도 또는 청결도 중 적어도 하나를 제어하도록 구성된 제어기를 더 포함하는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
17. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 롤러들 중 하나 이전에 정렬된 검출 시스템을 더 포함하고,
    상기 검출 시스템은 적어도 카메라 시스템 또는 레이저 시스템을 포함하고, 상기 검출 시스템은 상기 제1 웹 상의 참조 마크들 중 제1 참조 마크를 로케이팅하도록 구성되는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
18. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 레지스트가 상기 제1 템플릿 상의 제1 임프린팅 피처를 충전하도록 상기 제1 레지스트 내로 상기 제1 템플릿을 푸시하기 위해 이동되도록 구성되는, 상기 제1 웹 상에서 정렬된 제1 스퀴지 롤러; 및
    상기 제2 레지스트가 상기 제2 템플릿 상의 제2 임프린팅 피처를 충전하도록 상기 제2 레지스트 내로 상기 제2 템플릿을 푸시하기 위해 이동되도록 구성되는, 상기 제2 웹 상에서 정렬된 제2 스퀴지 롤러를 더 포함하는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
19. 양면 임프린팅을 위한 시스템으로서,
    제1 임프린팅 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함하는 제1 웹을 이동시키기 위한 제1 롤러들;
    제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함하는 제2 웹을 이동시키기 위한 제2 롤러들;
    상기 제1 템플릿 상에 제1 레지스트를 분배하도록 구성된 제1 디스펜서;
    기판의 제1 측이 상기 제1 템플릿 상의 상기 제1 레지스트와 접촉하도록 상기 제1 템플릿 상에 상기 기판을 로딩하도록 구성된 로딩 시스템;
    상기 기판이 상기 제1 웹과 함께 이동 가능하도록 상기 제1 웹 상에 상기 기판을 클램핑하도록 구성된 클램핑 시스템;
    상기 기판의 제2 측 상에 제2 레지스트를 분배하도록 구성된 제2 디스펜서;
    제1 참조 마크를 제2 참조 마크와 정렬하기 위해 상기 제2 웹 상의 제2 참조 마크와 함께 상기 제1 웹 상의 제1 참조 마크를 로케이팅하도록 구성된 로케이팅 시스템;
    경화된 제1 레지스트가 상기 기판의 상기 제1 측 상에서 상기 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 제2 레지스트가 상기 기판의 상기 제2 측 상에서 상기 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록 상기 제1 레지스트 및 상기 제2 레지스트를 경화시키도록 구성된 광원; 및
    상기 제1 측 상의 상기 제1 임프린트된 피처 및 상기 제2 측 상의 상기 제2 임프린트된 피처를 갖는 상기 기판을 언로딩하도록 구성되는 언로딩 시스템을 포함하고,
    상기 제1 참조 마크 및 상기 제2 참조 마크가 서로 정렬된 이후에, 상기 제1 웹 및 상기 제2 웹은 동일한 레이트로 동시에 인출되는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.
20. 양면 임프린팅을 위한 시스템으로서,
    제1 임프린팅 피처를 갖는 제1 템플릿을 포함하는 제1 웹을 이동시키도록 구성되는 제1 롤러들;
    제2 임프린팅 피처를 갖는 제2 템플릿을 포함하는 제2 웹을 이동시키도록 구성되는 제2 롤러들;
    레지스트를 분배하도록 구성된 하나 이상의 디스펜서들;
    상기 제1 템플릿 및 상기 제2 템플릿을 정렬하기 위해 상기 제1 웹 및 상기 제2 웹 상에서 참조 마크들을 로케이팅하도록 구성된 로케이팅 시스템;
    경화된 레지스트의 제1 부분이 기판의 제1 측 상에서 상기 제1 임프린팅 피처에 대응하는 제1 임프린트된 피처를 갖고 경화된 레지스트의 제2 부분이 상기 기판의 제2 측 상에서 상기 제2 임프린팅 피처에 대응하는 제2 임프린트된 피처를 갖도록 상기 레지스트를 경화시키도록 구성된 광원; 및
    상기 제1 템플릿과 상기 제2 템플릿 사이에서 상기 기판을 공급하고 그리고 상기 제1 측 상의 상기 제1 임프린트된 피처 및 상기 제2 측 상의 상기 제2 임프린트된 피처를 갖는 상기 기판을 언로딩하도록 구성되는 이동 시스템을 포함하는,
    양면 임프린팅을 위한 시스템.