KR102534892B1 - 이산 기판들을 텍스처링하기 위한 방법 - Google Patents

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Abstract

임프린팅 래커를 공급하는 단계, 개구들 및 융기부들에 의해 형성되어, 임프린팅된 래커를 얻도록 임프린트 텍스처에서의 체적들을 생성하는 임프린트 텍스처에 임프린팅 래커를 텍스처링 또는 패턴화하는 단계, 및 선택적으로 응고된 텍스처링 또는 패턴화된 층을 얻도록 임프린팅된 래커를 경화시키는 단계를 포함하는, 디스플레이, 조명 또는 태양 전지판과 같은 이산 기판들을 텍스처링하거나 또는 패턴화하기 위한 롤 대 플레이트 공정에 있어서, 텍스처링하거나 패턴화하는 단계는, 그 가장자리에 더욱 큰 체적들의 도메인들을 포함하는 임프린트 텍스처, 및 0.1 기가 파스칼(GPa) 내지 10 기가 파스칼(GPa)의 종탄성계수(Young's Modules)를 가지는 가요성 스탬프에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 롤 대 플레이트 공정이 개시된다.

Description

이산 기판들을 텍스처링하기 위한 방법
본 발명은, 임프린트 텍스처(imprint texture)를 래커(lacquer)에 임프린팅하고, 그런 다음 임프린팅된 래커의 경화에 의해, 디스플레이들, 조명 또는 태양 전지판들과 같은 이산 기판들 또는 패널들을 텍스처링하거나(texturing) 또는 패턴화하여, 이산 기판 또는 패널 상에 추가의 기능성 텍스처링된 층(additional functional textured layer)을 유발하기 위한 공정에 관한 것이다. 상기 기능은 특히 광 관리층(light management layer)으로부터 소수성 층(hydrophobic layer), 장식용 용도 또는 바이오 센서(biosensor)에서의 사용으로 변할 수 있다. 본 발명은 또한 이산 기판들 또는 패널들을 텍스처링 또는 패턴화하도록 래커를 임프린팅하는 스탬프, 및 텍스처링된 기판 또는 패널에 관한 것이다.
디바이스들에서 기능성 텍스처링된 층의 사용은 중요한 화제이다. 이러한 층들의 스마트한 사용은 제품의 성능을 향상시키고, 비용을 감축하거나, 또는 시각적 외관을 개선할 수 있다. 예를 들어, 확산층들은 디스플레이에 사용되며, 보다 얇은 LED 백라이트 개념의 사용을 가능하게 하고 측면들로부터 디스플레이를 조명할 수 있다. 다른 새로운 하이테크 가능성은 더욱 많은 광을 추출하도록 유기 발광 다이오드 (OLED)에서 그 효율 또는 통합을 개선하는 태양 전지판들 내로 기능성 텍스처링된 층들의 통합이다.
기능성 텍스처링된 층들은 임프린트 리소그래피(imprint lithography)의 사용에 의해 만들어질 수 있다. 이러한 경우에, 기판, 또는 몰드, 또는 양면은 래커(수지 또는 레지스트(resist))로 코팅된다. 그 사이에 래커와 함께 기판 상의 몰드를 가압한 후에, 텍스처링된 래커는 고체상으로 경화된다. 경화 방법은 열 또는 UV 광을 사용하여 이루어질 수 있다. 이미 1978년에, 이러한 기술은 미국 특허 제4,128,369호에서 언급되어 있다. 추가의 선구자적 업적은 1995년에 Chou에 의해 행해졌다. 그는 25 nm 이하의 더 엄격한 스탬프를 사용하여, 텍스처들이 높은 처리량의 대량 생산(미국 특허 제5,772,905호) 또는 Stephen Y. Chou, Peter R. Krauss, Preston J. Renstrom(Appl. Phys. Lett. 67(1995) 3114-311 6)의 논문에서 복제될 수 있다는 것을 설명하였다. 텍스처를 복제하도록 강성 몰드 또는 굽은 얇은 금속 시트에 압력을 인가하도록 추후의 롤러의 사용이 설명되었다(Hua Tan, Andrew Gilbertson, Stephen Y. Chou, J. Vac. Sci. Technol., B16(1998) 3926-3928).
많은 연구소와 회사가 이러한 작업을 계속하여, 다른 기술을 유발하였다.
반도체 산업에서, 플레이트 대 플레이트 임프린팅(plate-to-plate imprinting)은 미국 특허 제6,334,960호, 미국 특허 출원 제2004/0065976호 및 미국 특허 제8,432,548호에 기술된 바와 같은 전사 공정, 물질 및 정밀 위치 설정과 조합하여 강성 스탬프를 사용하는 것에 의해 적용된다.
미국 특허 공개 제2006/0177532 A1호는 기판에 포함된 몰드와 이와 중첩하는 기판의 영역 사이에 한정된 체적성 갭으로부터 압출되는 액체의 양을 제어하는 플레이트 대 플레이트 임프린팅 방법을 기술하며, 이러한 것은 액체와 형판(template) 및 기판 중 하나 사이에서 모세관 힘을 변화시키는 것을 특징으로 한다. 이를 위해, 상기 방법은 액체와 형판 및 기판 중 하나 사이의 모세관 힘을 발생시키는 단계와, 힘의 증감을 생성하도록 힘의 크기를 변화시키는 단계를 포함한다.
미국 특허 공개 제2006/0266244 A1호는 기판을 홀딩하도록 구성된 기판 테이블, 임프린트 형판을 홀딩하도록 구성된 형판 홀더로서, 임프린트 형판 또는 형판 홀더는 임프린팅된 정렬 마크를 형성하도록 기판 테이블 또는 기판에 임프린팅되도록 구성된 형판 정렬 마크를 가지며, 임프린트 형판은 공지된 공간적 관계를 가지는 기능성 패턴을 가지는, 상기 형판 홀더, 및 임프린팅된 정렬 마크의 위치를 결정하도록 구성된 정렬 센서를 가지는 플레이트 대 플레이트 임프린팅 장치를 기술한다.
미국 특허 공개 제2011/0097827 A1호는 플레이트 대 플레이트 임프린팅 공정(imprint process)에서의 패턴 형성 방법을 기술한다. 상기 방법은 작업 기판에 액상 수지 물질을 배치하고, 수지 물질을 향해 형판을 가압하고, 형판의 돌출부의 하부 표면과 작업 기판의 상부 표면 사이의 거리를 측정한다. 형판은 패턴 형성 영역, 및 패턴 형성 영역 주위의 원주 영역을 포함한다. 회로 패턴 형성을 위한 패턴은 패턴 형성 영역에 형성되고, 돌출부는 원주 영역에 형성된다. 상기 방법은 형판을 가압한 상태에서 수지 물질을 경화시키는 것에 의해 수지 패턴을 형성하고, 형판을 수지 패턴으로부터 분리할 수 있다.
WO2014/175134 A1은 플레이트 대 플레이트 임프린팅을 위한 임프린트 몰드(imprint mold)를 기술한다. 임프린트 몰드는, 베이스의 주 표면 상의 패턴 영역에, 오목 및 돌출 구조를 포함하는 주 패턴과, 주 패턴의 전사를 지원하기 위한 오목 및 돌출 구조를 포함하는 더미 패턴(dummy pattern)을 가진다. 더미 패턴의 오목 구조 또는 돌출 구조의 적어도 한쪽 단부 부분은 패턴 영역의 최외측 주변에 도달하고, 하나 이상의 더미 패턴의 오목 구조 또는 돌출 구조에 의해 둘러싸인 폐쇄 영역은 임프린트 몰드가 평면도로 보일 때 패턴 영역 내에 없다.
다른 기술은 롤 대 플레이트 임프린트 공정이다. 이러한 롤 대 롤 임프린트 기술은 예를 들어 미국 특허 제8,027,086호에 기술된 바와 같은 연속 공정으로 포일 또는 필름들을 텍스처링하도록 가요성 기판과 결합된 텍스처링된 롤러들을 사용한다.
먼저 언급된 플레이트 대 플레이트 기술은 높은 위치 정확도로 균일한 평탄 웨이퍼들에 작은 텍스처(100nm 이하의 해상도)의 정밀한 웨이퍼 스케일의 임프린팅을 위해 설계되었다. 그러나 중국 특허 출원 CN 103235483에 기술된 바와 같이, 이러한 기술은 더욱 큰 영역으로 조정하는 것이 어렵다.
롤 대 롤 기술을 사용하는 것에 의해, 텍스처링된 포일들은 높은 생산 속도로 연속적으로 만들어질 수 있다. 이러한 포일들은 유연한 적용을 위한 기판으로서 사용될 수 있거나, 또는 강성 기판에 적층될 수 있다. 그러나, 후자는 강성 기판 또는 제품에 텍스처링된 포일을 접착하도록 중간 접착제 층의 추가 비용이 든다. 그러므로, 직접 롤 대 플레이트 임프린팅의 제3의 신기술이 개발되고 있다. 이에 의해, 기능성 텍스처링된 층은 수십 내지 수백 미크론 두께의 중간 두께의 접착층없이 이산 기판 패널 상에 직접 도포된다. 이러한 공정에서, 프랑스 특허 제2,893,610호에 예시된 바와 같은 텍스처링된 롤러, 또는 미국 특허 제7,824,516호에 개시된 바와 같은 제거 가능한 가요성 스탬프가 사용된다.
연속 롤 대 롤 공정과 대조적으로, 불연속 롤 대 플레이트 공정의 문제는 기동-정지 효과이다. 롤 대 롤 공정뿐만 아니라 플레이트 대 플레이트 공정에 비해 추가적인 문제는, 텍스처링된 표면이 전형적으로 롤 대 플레이트 공정에서 더욱 작은 샘플들로 절단되지 않는다는 사실이다. 그러므로, 샘플의 가장자리를 포함한 전체 샘플은 이러한 후 처리 공정없이 롤 대 플레이트 공정에서 잘 제어되도록 만들어져야만 한다.
도입의 단락에서 이미 언급된 바와 같이, 임프린팅은 기판(패널)이나 몰드 위에 래커를 코팅하고, 그 사이에 래커와 몰드 및 기판을 접촉시키는 것에 의해 기판 또는 몰드를 임프린팅(텍스처링화)하는 것에 의해 달성된다. 몰드로서, 가요성 스탬프, 강성 스탬프 또는 텍스처링된 롤러가 사용될 수 있다. 코팅은 분배, 잉크젯 인쇄, 스크린 인쇄, 분사, 분무, 슬롯 다이 코팅 또는 기판 또는 스탬프 상에 래커를 롤 코팅하는 것과 같은 그러나 이에 한정되지 않는 다양한 방식으로 행해질 수 있다.
본 발명의 과정에서, 용어 "래커"와 함께, 물질은 당업자에게 공지된 방법에 의해 기판 상에 코팅되거나 또는 텍스처링(임프린팅)되는 물질을 의미한다. 래커는 통상적으로 포토 개시제(photo-initiator) 및 가교 결합 아크릴레이트 그룹이 가능하게 첨가된 모노머, 올리고머를 포함한다. 다른 가능한 물질들은 경화성 졸겔 및 에폭시가 있으나 이에 한정되지 않는다. 래커는 임프린팅된 패턴을 유지하도록 경화될 수 있다. 이러한 경화 공정은 또한 공지되어 있고, 열 경화, UV 광에 의한 경화, 화학적으로 유도된 경화 및 그 자체로 공지된 다른 방법을 포함한다. 이러한 래커는 코팅, 수지, 레지스트 등으로서 지칭된다.
또한, 본 발명의 과정에서, 래커가 임프린팅된 아이템은 기판 또는 패널들로서 지칭된다. 이러한 기판 또는 패널들은 유리, 플라스틱 또는 금속 기판, 서브 조립체들일 수 있거나, 또는 디스플레이, 조명 또는 태양 전지판과 같은 마감 디바이스들일 수 있다.
이러한 임프린팅 기술에 기인하는 문제는 기판에 대한 가요성 스탬프 또는 롤러의 상대적 움직임으로 인하여, 잉여 래커가 임프린트 방향과 반대 방향으로 보내지거나 옆으로 또는 심지어 뒤로 가압될 수 있다는 것이다. 어느 정도의 잉여 래커가 보내지고 궁극적으로 지정된 임프린팅 영역을 오버 플로우하는지는 특히 몇 가지 특성에 의존한다:
- 예를 들어 기판에서의 불규칙성 또는 두께 변화에 의해 유발되는 기판 대 기판 표면 높이 변화
- 코팅 공정 또는 래커 자체의 레올로지 특성(rheological property)에서의 변화에 의한 수지층 두께 변화
- 가요성 스탬프 또는 몰드에서의 결함 및/또는 높이 변화
- 롤러의 압력(임프린팅 힘).
거의 0의 압력(힘)으로, 래커의 잉여는 앞으로 밀리지 않을 것이지만, 텍스처들이 래커에 의해 완전히 충전되지 않기 때문에, 텍스처 복제는 충분하지 않을 것이다. 충분한 래커가 사용되지 않으면, 이러한 것은 결국에는 부분적인 임프린팅만을 제공하며, 즉, 텍스처가 완전히 복제되지 않거나, 또는 기판의 부분들은 텍스처를 전혀 갖지 않을 것이다. 잉여 래커가 사용될 때, 이러한 것은 처음에는 측면들에서, 결국에는 임프린팅 영역에서 래커의 오버 플로우를 유발할 수 있다. 그러므로, 패널의 측면들이 기능성을 상실할 수 있으며, 시각적으로 덜 매력적으로 보일 수 있다. 또한, 오버 플로우 영역은 기판 상에서 추가적인 공간을 요구할 것이다. 대부분의 적용에 대하여, 최소한의 오버 플로우 영역과 함께, 시각적인 직선 가장자리가 요구된다.
종래 기술은 예를 들어, 가장 큰 평면 영역의 선택 및 미국 특허 제8,349,241호 및 제8,066,930호에 제안된 바와 같이 이러한 영역에 따라서 특징들을 정렬하는 것에 의해, 또는 미국 특허 출원 제2005/270312호에서 제안된 바와 같이 정확한 양의 래커의 적용에 의해 오버 플로우 문제를 해결하려고 한다. 그러나, 서브 조립체 또는 완성된 패널에 기능성 텍스처링된 층들을 부가하는 적용을 위하여, 임프린팅 영역의 선택은 가능하지 않다. 전형적으로, 가장자리까지의 거의 전체 영역이 덮여져야 한다. 그러나, 대부분의 대면적 기판(및 예를 들어, 웨이퍼와 대조적으로)은 그 표면 프로파일에서 큰(종종 무작위적인) 변화를 가진다. 그러므로, 적은 래커 잉여가 항상 요구될 것이다. 이러한 잉여는 한정된 가장자리들 대신 불규칙한 가장자리로 이어질 것이다.
미국 특허 제7,802,978호에서, 국부 인쇄는 임프린팅 래커(imprinting lacquer)들로 전체 다이를 그리고 이소프로파놀과 같은 비반응성 액체로 부분 다이를 인쇄하는 것에 의해 수율 최적화를 위해 제안된다. 또한, 이러한 종래 기술은 가장자리에 인가된 압력의 최적화 뿐만 아니라, 조절 가능한 코팅 방법에 대한 피드백 루프에 의한 정교한 막 두께 측정을 제안한다. 제안된 해결책의 각각은 시스템을 비싸고 느리게 만든다.
미국 특허 제8,361,371호는 매우 제한된 과잉 유출 및 정밀 투여를 갖는 웨이퍼 기반 공정을 개시한다. 이러한 문헌은 가장자리를 응고시키기 위해 임프린팅 동안 UV 예비 경화(UV pre-curing)에 의한 과잉 유출을 해결하도록 시도한다.
또한, 도 11로부터, 앞으로 미국 특허 제8,361,371호는 모세관 힘을 사용하여 전파를 늦추도록 사용하며, 이러한 것은 단지 100nm 이하의 높이와 2㎛ 이하의 폭을 갖는 작은 텍스처로만 작업한다.
대한민국 특허 출원 KR 2012/048393호는 몰드에서 텍스처 높이 차이를 기술한다. 이러한 변화는 임프린팅 표면의 외부로의 화학 액체의 누설을 방지하여 나중에 텍스처링된 표면에 추가되는데 필요하다. 이 변화는 블로킹 돌출부로서 사용되며, 이는 사용중인 텍스처링된 표면의 기능성에서 액체 누설을 차단할 것이다.
대만 특허 출원 TW 201036799호는 잉여의 래커를 모으도록 큰 트렌치를 제안한다. 이러한 트렌치에서 잉여의 래커의 유동 및 수집은 제어되지 않고 불규칙하다. 반도체 적용을 위하여, 이러한 것은 웨이퍼 기판이 더욱 작은 조각으로 절단되기 때문에 영향을 미치지 않을 것이다. 트렌치는 존재하지 않고, 그러므로 최종 제품에는 보이지 않는다. 본 발명은 한정된 텍스처링된 영역 가장자리를 가능하게 하고 임프린팅된 텍스처 표면을 갖는 최종 제품의 시각적 외관을 개선하는 것이다.
본 발명의 기본 과제는 종래 기술의 단점이 없는 임프린팅된 텍스처링 표면을 달성하는 것이다.
이러한 과제는, 임프린팅 래커를 공급하는 단계, 임프린트 텍스처가 개구들 및 융기부들에 의해 형성되어, 임프린팅된 래커를 얻도록 임프린트 텍스처에서의 체적들을 생성하는 임프린트 패턴(imprint pattern)으로 임프린팅 래커를 텍스처링하거나 또는 패턴화하는 단계, 및 응고된 텍스처링되거나 또는 패턴화된 층을 얻도록 임프린팅된 래커를 선택적으로 경화시키는 단계를 포함하는, 디스플레이, 조명 또는 태양 전지판과 같은 이산 기판들을 텍스처링하거나 또는 패턴화하기 위한 롤 대 플레이트 공정에 있어서, 상기 텍스처링하거나 패턴화하는 단계는, 가장자리에 더욱 큰 체적들의 도메인(domain)들을 포함하는 임프린트 텍스처에 의해, 및 0.1 기가 파스칼(GPa) 내지 10 기가 파스칼(GPa), 바람직하게 0.5 기가 파스칼(GPa) 내지 5 기가 파스칼(GPa)의 종탄성계수(Young's Modules)를 가지는 가요성 스탬프에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 공정에 의해 달성된다. 상기 종탄성계수는 ASTM E111에 따라서 측정된다.
더욱 큰 체적의 도메인들은 이후에 저장조에 관하여 언급된다.
그러므로, 본 발명은 롤 대 플레이트 공정에서의 임프린팅 래커의 제어된 층류 유동의 사용 및 더욱 큰 체적의 도메인들의 사용에 의해 오버 플로우를 모으는 것에 관한 것이다.
본 발명은 지금 이하의 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명된다:
도 1은 임프린팅 공정을 개략적으로 도시한 도면.
도 1b는 응고된 층에 의해 부분적으로 덮이고 텍스처링된 표면을 가지는 기판을 개략적으로 도시한 도면.
도 2는 잉여의 임프린팅 래커의 전개를 개략적으로 도시한 도면.
도 3은 기판의 단부에서의 오버 플로우의 나머지를 개략적으로 도시한 도면.
도 4는 가요성 스탬프의 해제 후에 기판 및 가요성 스탬프 상의 오버 플로우의 나머지를 개략적으로 도시한 도면.
도 5a, 도 5b 및 도 5c는 임프린팅 패턴의 저장조들을 구비한 본 발명에 따른 가요성 스탬프를 개략적으로 도시한 도면.
도 5d와 도 5e는 플레이트 대 플레이트 임프린팅과 롤 대 플레이트 임프린팅 사이의 공정에서의 차이를 개략적으로 설명하며, 우측 도면은 롤 대 플레이트 임프린팅 공정을 도시하며, 좌측 도면은 플레이트 대 플레이트 임프린팅 공정을 도시한 도면.
도 6은 응고된 층에 의해 부분적으로 덮이고, 저장조의 역 패턴을 갖는 텍스처링된 표면을 가지는 본 발명에 따른 기판을 개략적으로 도시한 도면.
도 7은 본 발명에 따른 가요성 스탬프를 개략적으로 도시한 도면.
도 8은 상이한 광학적 외관을 가지는 저장조들을 구비한 본 발명에 따른 가요성 스탬프를 개략적으로 도시한 도면.
용어 "임프린트 텍스처" 및 "임프린트 패턴"은 본 발명 전반에 걸쳐 동의어로 사용된다.
지금 도 1을 참조하면, 개략적인 롤 대 플레이트 임프린트 공정이 도시되어 있다. 이 경우에, 기능성 임프린트 층은 기판(104)의 상부에 적용될 것이다. 기판(104)은 임의의 물질일 수 있으며: 바람직하게 기판(104)은 유리, 금속 시트, 폴리카보네이트, PEN, PET 또는 PMMA를 포함하거나 또는 이러한 것으로 만들어진다. 기판(104)은 예를 들어 접착 촉진층 및/또는 투명 전도체 층(예를 들어, 인듐 산화 주석 화합물(indiumtinoxide), 알루미늄 도핑된 산화 아연 또는 플루오로 도핑된 산화 주석)으로서 표면의 상부에 코팅된 하나 이상의 추가 층(들)을 지닐 수 있다. 필요한 기능성 임프린트 층은 임프린팅 공정의 사용에 의해 기판(104)의 상부에 추가될 수 있다. 이러한 복제 공정에서, 기판(104) 또는 텍스처링된 몰드 또는 기판(104)과 몰드 모두는 성형 가능한 임프린팅 래커(103)로 코팅된다. 도 1에 도시된 예에서, 기판(104)은 코팅된다. 기판(104)은 안내 및 역압(counter pressure)을 위해 플랫폼(110) 상에 배치된다. 이러한 플랫폼(110)은 롤러, 고정 테이블, 이동 테이블 또는 충분한 역압을 제공하는 임의의 다른 플랫폼일 수 있다. 도 1에서, 몰드는 가요성 스탬프(100)이다. 가요성 스탬프(100)는 지지 가요성 스탬프 베이스(101A), 및 "임프린트 텍스처" 또는 "임프린트 패턴"으로서 또한 지칭되는 패턴화된 외부면(101B)을 가진다. 이러한 임프린트 텍스처는 개구들 및 융기부들을 가지며, 이러한 것은 당업자에게 릴리프 패턴(relief pattern)으로서 공지되어 있다. 이러한 릴리프 패턴화된 외부면(101B)은 기판 상에서 필요한 텍스처의 네거티브(또는 역) 텍스처이다. 패턴화된 외부면(101B)은 전형적으로 두께가 변화될 수 있는 잔류층(101C)을 가진다. 가요성 스탬프 베이스(101A) 및 패턴화된 외부면은 예를 들어 밀링 또는 핫 엠보싱(hot embossing) 공정에 의해 만들어진 얇은 금속 시트들 또는 플라스틱 시트들 중 하나로 만들어지고 이러한 것과(그러나 이에 한정되지 않는) 동일한 물질로 만들어질 수 있다. 가요성 스탬프는 예를 들어 PET 포일, PC 포일, PEN 포일 또는 얇은 금속 시트들과 같은 그러나 이에 한정되지 않는 베이스(101A), 및 예를 들어 아크릴레이트 물질, 졸-겔 물질, 에폭시 또는 제2 텍스처링된 플라스틱 포일과 같은 그러나 이에 한정되지 않는 접착된 텍스처링된 유기물층(101B)으로서 가요성 시트를 가진다. 예를 들어, 점착 방지층으로서 가요성 스탬프의 견고성 또는 기능성을 향상시키도록 더욱 많은 층들이 추가될 수 있다. 가요성 스탬프 베이스(101A)의 종탄성계수는 0.1 기가 파스칼(GPa) 내지 10 기가 파스칼(GPa)이다. 가요성 스탬프(100)는 임프린트 롤러(102)들 위에서 안내된다. 간략화를 위해, 시작 임프린팅 롤러(102A) 및 해제 롤러(102B)의 2개의 롤러가 도시되었다는 것에 유의한다. 하나의 롤러가 충분하거나 또는 더욱 많은 롤러들이 가요성 스탬프(100)를 안내하도록 추가될 수 있다.
롤러들은 예를 들어 스테인리스강과 같은 그러나 이에 한정되지 않는 강성 물질로 만들어질 수 있지만, 바람직하게 롤러들은 전형적인 쇼어-A 경도 15 내지 60의 폴리카보네이트, 폴리우레탄 또는 EPDM과 같은 그러나 이에 한정되지 않는 더욱 탄성이 있는 물질로 만들어진다. 롤러(102)들의 회전은 화살표로 도시된 임프린트 방향을 나타내며, 기판(108)의 시작부에서 임프린팅을 시작하고 기판(109)의 단부에서 종료한다. 임프린팅 래커(103)는 기판(104)의 표면으로 공급된다. 그 외부면으로 가요성 스탬프(100)에 기능성 텍스처링된 텍스처를 전사하도록, 필요한 기능성 테스처의 반전 텍스처를 가지는 임프린트 텍스처(101B)는 그 사이에 임프린팅 래커(103)와 함께 기판(104) 상에 가압된다. 이어서, 성형 가능한 임프린팅 래커(103)는 응고된 층(107)을 유발하도록 열적으로 또는 UV 광(106)의 사용에 의해(부분적) 경화된다. 도 1에서, 성형 가능한 래커는 UV 광원(105)으로부터의 UV 광(106)의 사용에 의해 응고된다. UV 광원(105)은 투명 가요성 스탬프(100) 위에 배치될 수 있다. 또는 기판(104)이 투명한 경우에, UV 광원(105)은 가요성 기판(104) 밑에서 가요성 스탬프(100)의 반대편에 배치될 수 있다. 도 1에서, UV 광원(105)은 롤러(102)들 사이에 있다. 롤러(102)들에 대한 UV 광원(105)의 위치 및 각도는 임프린팅과 경화 사이의 지연 시간을 변경하도록 변경될 수 있다. UV 광원(105)은 또한 2개의 롤러(102) 중 하나 또는 롤러(102)에 마주하여 배치될 수 있다. 임프린팅 래커(103)의 응고 후에, 가요성 스탬프는 응고층(107)을 구비한 기판이 외부면 패턴(101B)의 반대 형태로 몰드로부터 이격되도록 기판(104) 상의 응고층(107)으로부터 분리된다.
임프린트 텍스처(101B)를 구비한 가요성 스탬프(100)의 해제 후에, 응고층(107)을 갖는 기판(104)은 텍스처링된 표면을 가질 것이다. 대부분의 적용을 위하여, 기판의 일부만이 텍스처링된 표면을 가져야 한다. 그 이유는 아래의 도전 층에 접점을 추가하거나 또는 밀봉을 추가하는 것일 수 있다. 도 1b에 도시된 예로서, 기판(104)의 기판 가장자리(111)는 임프린팅 래커 및 임프린트 텍스처가 없이 유지된다. 응고층(107)은 기판(104)의 중간에 있는 특정 영역(112)을 덮는다. 이러한 필요한 텍스처링된 표면 영역(112)은 본 발명에서 기능 영역으로서 지칭된다.
롤 대 플레이트 복제 공정에서, 가요성 스탬프(100)는 성형 가능한 임프린팅 래커(103) 내로 가압된다. 이러한 압력으로 인해, 성형 가능한 임프린팅 래커(103)는 경화 후에 필요한 텍스처 형상으로 형성될 것이다. 임프린트 텍스처(101B)의 충전율이 공지되고 일정하면, 임프린팅 래커(103)의 두께는 임프린트 텍스처(패턴)(101B)의 개구들 및 융기부들의 체적과 정확히 동일한 체적을 가질 수 있다. 그러나, 결함, 스탬프(100)의 불완전성, 기판(104)의 높이 차이로 인해서 뿐만 아니라 임프린팅 래커(103)와 (가요성) 스탬프(100) 사이의 어떠한 공기 함유를 피하도록, 임프린팅 래커(103)의 체적은 바람직하게 임프린트 텍스처(101B)의 개구들의 체적과 비교하여 작은 잉여를 가질 것이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 임프린팅 래커(103)의 잉여(201)는 제1 롤러(102A)의 전방에 축적될 것이다. 잉여(201)의 양은 예를 들어 결함, 불규칙 또는 높이 변화로 인하여 감소될 때까지 임프린트 공정 동안 증가할 것이다.
임프린트 텍스처(101B)를 구비한 가요성 스탬프(100)에 인가되는 압력으로 인하여, 임프린팅 래커(201)의 잉여는 도 3에 도시된 바와 같이 기판(109)의 가장자리 및 외측 단부로 유동하거나, 또는 안내되거나 또는 밀려질 것이다. 이러한 도 3에서, 잉여(201)는 기판(109)의 단부에서 모일 것이다. 유동 분포는 기판(104)의 상이한 가장자리들에 대해 상이할 수 있으며; 그럼에도 불구하고, 가장 큰 잉여는 전형적으로 단부(가장 늦게 임프린팅될 기판의 측면)로 갈 것이다.
도 4에 추가로 도시된 바와 같이, UV 광(106)에 의한 응고된(임프린팅된) 층(107)이 되는 임프린팅 래커의 응고 및 기판(109)의 단부로부터 가요성 스탬프(100)의 분리 후에, 잉여(401)의 부분은 기판(109)의 가장자리에 남을 수 있으며, 다른 부분(402)은 임프린트 텍스처(101B)의 상부에서 가요성 스탬프(100) 상에 남을 수 있다. 두 경우 모두 기판의 덜 매력적인 시각적 외관 또는 스탬프 상에서 경화된 래커의 증가, 및 가요성 스탬프(100)의 제한된 재사용의 유발 때문에 바람직하지 않다. 도 3이 기판의 단부에서의 오버 플로우를 도시한다는 것에 유의한다. 일부 오버 플로우는 측면에서 또한 일어날 것이다. 더욱이, 부분 코팅된 표면 및 임프린팅 래커의 제한된 잉여에 대하여, 오버 플로우는 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 기판의 측면들 위에서 유동하지 않지만, 오버 플로우는 기판의 상부에 남을 것이다. 래커의 잉여의 이러한 유동이 불규칙하기 때문에, 스탬프의 경화 및 해제 후에 기판 상에서 불규칙한 가장자리를 유발할 것이다.
기판 가장자리 오염 및/또는 가요성 스탬프(100)의 오염을 방지하도록, 잉여는 기능 영역의 가장자리들 상의 저장조에서 축적될 수 있다. 저장조는 유동을 차단하지 않을 것이다. 이러한 저장조의 체적과 형상은 기능 영역의 가장자리들에서 임프린팅 래커 잉여 유동의 경로 길이를 결정할 것이다.
도 5a는 측면에서 임프린트 텍스처(101B)를 변경하고 저장조 텍스처(505)에 의해 그 일부를 대체하는 것에 의한 롤 대 플레이트 임프린팅을 위한 가요성 스탬프(100)의 개선을 도시한다. 이러한 저장조 텍스처(505)는 가요성 스탬프 상에서 텍스처를 변경하는 것에 의해 생성된다. 저장조 텍스처(505)는 저장조 개구(501)들 및/또는 저장조 융기부(502)들에 의해 결정된다. 저장조 텍스처의 개구들 및 융기부들은 저장조 텍스처의 밑에서 더욱 큰 체적의 도메인이 달성되는 방식으로 기능 영역의 릴리프 패턴에 비교하여 다르다. 더욱 큰 체적의 도메인은 감소된 오버 플로우 영역을 유발할 것이다. 제한된 오버 플로우 영역으로 인하여, 기능 영역은 증가 될 수 있거나, 또는 기판의 가장자리에 더욱 가깝게 배치될 수 있다. 전형적으로, 더욱 큰 체적의 도메인 내에서, 개구들 및 융기부들에 의해 결정되는 릴리프 텍스처의 체적은 기능 영역의 체적에 비해 1.5 내지 20배 클 것이다(그러나 이에 한정되지 않는다). 이러한 것은 바람직하게 임프린트 텍스처가 가장자리들에서 1.5 내지 20배 더 큰 체적의 도메인들을 포함한다는 것을 의미한다. 국부적으로, 더욱 큰 체적의 도메인 내의 체적은 장식용 또는 유익한 용도를 위해 다를 수 있다.
저장조 텍스처(505)의 체적은 가요성 스탬프(100)의 임프린트 텍스처(101B)의 잔류층 두께(101C)를 증가시키는 것에 의해 증가될 수 있다. 이 경우에, 기능 텍스처에 이웃하는 저장조 개구(501)는 증가된다. 이러한 것은 도 5b에 도시된 바와 같이 가요성 스탬프 베이스(101A) 상의 임프린트 텍스처(101B)의 잔류층 두께(101C)를 증가시키는 것에 의해 또는 가요성 스탬프 베이스(101)와 도 5c에 도시된 바와 같은 임프린트 텍스처(101B) 사이에 있는 임프린트 텍스처 물질을 위한 베이스로서 대안적인 물질(508)을 사용하는 것에 의해 달성될 수 있다. 예를 들어, 텍스처 물질의 보다 두꺼운 잔류층(101C)이 가요성 스탬프의 두께 균일성 또는 가요성 요건(즉, 크랙킹 또는 박리로 인해)과 함께 조합하여 사용될 수 없으면, 더욱 두꺼운 베이스는 이러한 요건과 양립할 수 있는 충전재 물질(508)에 의해 생성될 수 있다. 이러한 대안적인 물질(508)은 임프린트 텍스처 물질을 위한 균일하고 가요성의 베이스를 생성하는 충전재로서 작용할 수 있다. 또한, (부분적 또는 패턴화된) 불투명과 같은 다른 특성은 이러한 대안적인 베이스 물질에 첨가될 수 있다. 임프린트 텍스처(101B)가 이러한 베이스 상에 적용되기 때문에, 이러한 것은 둥글게 될 수 있는 가장자리를 포함하는 베이스를 둘러쌀 수 있다. 가장자리들은 또한 그런 다음 한정된 단차, 각도 또는 (이중) 곡률과 같은 임의의 특정 형상으로 형성될 수 있다. 충전재의 예는 폴리카보네이트 포일이지만, 요구되는 두께를 가지는 임의의 다른 가요성 포일일 수 있다.
잔류층 두께(101C)에서의 이러한 증가는 몰드 홀더의 오염뿐만 아니라 몰드 측면의 오염을 제한하는 미국 특허 제8,361,371호에 언급된 바와 같이 몰드 두께 또는 메사 높이(mesa height)를 증가시키는 것과 다르다. 이러한 특허 출원에서 논의된 몰드 내에서의 잔류층 두께(101C)의 제안된 증가는 몰드의 밑에서 래커를 모아서, 최종 제품에 잘 한정된 가장자리들을 유발할 것이다.
저장조 텍스처(505)의 체적은, 저장조 융기부(502)들의 높이를 증가시키고 저장조 융기부(502)들의 밀도 및 체적을 포함하는 융기부(502)들의 충전비를 최적화하는 것에 의해 또한 증가될 수 있다. 저장조 융기부(502)의 수는 0일 수 있다. 도 5a에서, 저장조들은 기판(109)의 단부에 도시되어 있다. 그러나, 저장조 텍스처(505)는 가요성 스탬프의 모든 측면에 추가될 수 있어서, 모든 측면에 대하여 또는 또한 기능 영역들의 내측면 상에서 기판 상의 개구 또는 다수의 기능 영역들의 경우에 잉여의 임프린팅 래커의 오버 플로우를 제어할 수 있다. 저장조들로 인하여, 임프린팅 래커(103)의 잉여(504)의 체적은 저장조 텍스처(505)에서 모아질 것이며, 스탬프(100)의 상이한 측면들까지의 잉여의 임프린팅 래커(103)의 유동의 경로 길이는 감소된다. 도 5a에서, 저장조의 높이가 직선으로 그려졌지만, 마찬가지로 곡선 또는 임의의 다른 형상일 수 있다는 것에 유의한다.
도 5d는 롤러(102B) 및 가요성 몰드(100)가 가요성 몰드(100)와 기판(104) 사이에서 래커(103)와 함께 기판(104)에 대해 가압되는 공지된 롤 대 플레이트 임프린팅 공정을 우측 도면에 개략적으로 도시한다. 공지된 롤 대 플레이트 공정에서, 가요성 몰드(100)의 가장자리에 텍스처가 존재하지 않기 때문에, 가요성 몰드(100)가 굽어져서, 잉여의 임프린트 래커(504)를 모으도록 저장조 갭이 존재하지 않게 된다.
대조적으로, 도 5d의 좌측의 도면에 도시된 공지된 플레이트 대 플레이트 임프린팅 공정에서, 플레이트(001)가 몰드(100)와 기판(104) 사이에서 래커(103)와 함께 기판(104)를 향해 몰드(100)를 가압하면 잉여 래커(504)를 모으는 갭이 남는다.
텍스처(506)가 없는 내부 영역들의 경우에, 도 5e에 도시된 바와 같이, 예를 들어 거터(gutter)를 사용하는 것과 같이, 래커는 유동하고 플레이트 대 플레이트 공정(좌측)의 경우에 이러한 텍스처링되지 않은 영역 밑에 남으며, 롤 대 플레이트 임프린팅 공정의 경우에, 이러한 평탄 영역은 측면들 상에서 래커(504)의 추가적인 유출을 유발할 것이다. 가요성 몰드가 더욱 탄성적인 롤러와 조합하여 사용되는 경우 유출량은 증가할 것이다. 저장조 텍스처들은 가요성 스탬프가 굽어지는 것을 방지하는데 필요할 것이다.
지금 도 6을 참조하여, 응고된 층(107)이 되도록 임프린팅 래커의 경화 및 기판(104)의 해제 후에, 저장조 텍스처(505)의 역 패턴(601)뿐만 아니라 기능 임프린트 텍스처(604)는 기판(104)으로 전사된다. 도 1b에 도시된 바와 같은 기능 영역(112)은 필요에 따라 임프린팅될 것이다. 기능 영역(112)이 또한 기판의 중앙에 내부 개구들을 가질 수 있고, 이는 내부 측면들에서 유사한 저장조 텍스처를 요구할 것이라는 것에 유의한다. 외부 패턴화된 저장조 영역(602)은 별개의 영역을 가질 것이다. 응고된 임프린팅 래커가 없는 영역(603)은 도 1b에 도시된 가장자리 영역(111)과 비교하여 크기가 감소될 것이다. 저장조가 광학적으로 투명한 경우에, 영역(602 및 603)은 시각적으로 유사할 것이며, 도 1b에서 도시된 바와 같이 가장자리 영역(111)과 동일한 크기를 가질 것이다.
본 발명에 따른 가요성 스탬프의 예가 도 7에 도시되어 있다. 도 7에 예시된 바와 같이, 저장조 융기부(502)들은 블록들, 원뿔들 또는 둥근 필라(pillar)(701)들, 삼각 필라(704)들, 바(703)들, 평탄부(702)들 또는 임의의 다른 형상으로 형성될 수 있다. 상기 블록들, 원뿔들 또는 둥근 필라(701)들, 삼각 필라(704)들, 바(703)들, 평탄 형상(702) 또는 기판(104)과 지지 굽힘 스탬프 베이스(101A) 사이에 일정한 높이를 유지하는데 적합한 임의의 다른 형상의 존재는 가요성 몰드(100)와 기판(104) 사이에서 래커(103)가 롤(102B)에 의해 기판(104) 상에 가압되면 가요성 몰드(100)가 굽어지는 것을 방지한다. 결과적으로, 저장조 갭은 잉여의 임프린트 래커(504)를 모으도록 존재한다. 융기부들의 폭은 전형적으로 미크론 내지 센티미터 범위에 있다. 임프린팅 래커를 모으도록, 저장조 융기부들 사이의 거리는 마이크론 내지 센티미터 범위에 있을 것이다. 저장조 융기(502)의 높이는 미크론 내지 밀리미터 범위에 있을 것이다. 저장조 융기부들의 최적화된 거리 및/또는 저장조 융기부 높이는 롤러의 경도, 인가된 압력뿐만 아니라 가요성 스탬프의 강성에 의존할 것이다. 예로서, 도 5e에서 기능 및 측면 저장조(506)들 사이의 거리는, 25 미크론 융기부 높이, 1 N/cm의 인가된 압력 및 롤러 경도 쇼어 30을 가지는, 기능 텍스처 및 동일한 추가 저장조 텍스처를 갖는 250 미크론 두께의 폴리카보네이트 가요성 스탬프의 경우 3mm를 초과하지 않아야 한다. 저장조 융기부들은 주기적인 굴절 텍스처에 위치될 수 있다.
저장조 텍스처는 기능 영역과 동일한 텍스처를 가질 수 있다. 융기부들과, 융기부들 사이의 영역을 가지는 도 6에 도시된 바와 같은 저장조 영역(602)이 기능 영역(112)과 비교하여 명확한 다른 광학 외관을 가질 것이 또한 제안된다. 이러한 외관에서의 차이로 인하여, 기능 텍스처의 독특한 가장자리가 나타나며, 이는 시각적으로 더욱 매력적이다. 이러한 독특한 가장자리는 한정된 직선이거나 한정된 곡률을 가질 수도 있거나, 또는 양자의 조합일 수 있다. 도 6의 외부 패턴화된 저장조 영역(602)의 외관을 변경하도록, 텍스처의 조합이 사용될 수 있다. 도 8은 가요성 스탬프(100)의 가능한 저장조 텍스처(505)를 도시한다. 외관을 변경하도록, 저장조 개구(801)들의 표면 또는 저장조 융기부(802)들의 표면은 변경될 수 있다. 양 표면들은 투명, 회절, 확산 또는 굴절되도록 개별적으로 선택될 수 있지만 이에 한정되지 않는다.
저장조 영역의 최종 외관은 저장조 융기부(502)들의 밀도와 조합하여 텍스처링된 표면(801 및 802)의 조합합일 수 있다. 각각의 경우에, 저장조 융기부(502)들의 밀도는 0일 수 있으며, 도 7에 도시된 바와 같이 평탄 저장조 영역(702)을 유발하거나, 또는 밀도 또는 소정 분포에서의 가능한 변화도를 포함하는 100 %에 가까울 수 있다. 저장조 개구(801)들 및 저장조 융기부(802)들 상에 추가적인 표면 텍스처를 가능하게 포함하는 저장조 텍스처가 장식용 또는 유익한 방식으로 위치될 수 있다는 것에 유의한다. 예를 들어, 상이한 저장조 형상을 결합하는 것에 의해, 예를 들어 텍스트, 바코드, 로고, 그림 또는 임의의 한정된 패턴이 시각화될 수 있다.
저장조들에 축적될 수 있는 체적은 계산될 수 있다. 예를 들어, 40 ㎛ 높이의 텍스처 형태와 50% 충전 인자를 가정한다. 2% 잉여의 임프린트 래커(103)가 1×1 ㎡ 기능 영역(112)의 하나의 외부 가장자리에 텍스처링된 가요성 스탬프의 사용에 의해 전방으로 밀리고 저장조 융기부들이 적용되지 않으면, 1000 mm × 20 mm의 임프린팅 래커의 오버 플로우 영역이 존재할 것이다. 도 6의 이러한 오버 플로우 영역(602)은 도 5a에 도시된 바와 같이 15% 스페이서 충전 인자 및 200 ㎛ 잔류층 두께(101C)가 저장조에 추가되면 2mm까지 감소될 것이다.
원칙적으로, 저장조 융기부들은 마찬가지로 가요성 스탬프 대신에 기판에 배치될 수 있다.
본 발명의 또 다른 부분은 그 외부 표면층으로서 임프린트 텍스처를 포함하는 이산 기판들을 텍스처링하거나 또는 패턴화하여, 임프린트 텍스처가 개구들과 융기부들에 의해 형성되므로, 임프린트 텍스처에 체적을 생성하는, 롤 투 플레이트를 위한 스탬프에 있어서, 임프린트 텍스처는 저장조 영역을 형성하도록 가장자리들에서 더욱 큰 체적의 영역들을 포함하고, 스탬프는 0.1 기가 파스칼(GPa) 내지 10 기가 파스칼(GPa), 바람직하게 0.5 기가 파스칼(GPa) 내지 5 기가 파스칼(GPa)의 종탄성계수를 가지는 가요성 스탬프인 것을 특징으로 한다.

Claims (16)

  1. 임프린팅 래커를 공급하는 단계, 개구들 및 융기부들에 의해 형성되어, 임프린팅된 래커를 얻도록 임프린트 텍스처에서의 공극 체적들을 생성하는 임프린트 텍스처에 의해 상기 임프린팅 래커를 텍스처링하거나 패턴화하는 단계, 및 이어서 선택적으로 응고된 텍스처링 또는 패턴화된 층을 얻도록 상기 임프린팅된 래커를 경화시키는 단계를 구비하는, 디스플레이, 조명 또는 태양 전지판과 같은 이산 기판들을 텍스처링하거나 또는 패턴화하기 위한 롤 대 플레이트 방법에 있어서,
    상기 텍스처링하거나 패턴화하는 단계는, 가장자리들 중 적어도 하나에서 상기 가장자리들이 아닌 영역들에서의 공극 체적들 보다 더욱 큰 공극 체적들의 도메인들을 형성하는 다수의 개구들 및 융기부들을 구비하는 임프린트 텍스처, 및 0.1 기가 파스칼(GPa) 내지 10 기가 파스칼(GPa)의 종탄성계수(Young's Modules)를 가지는 가요성 스탬프에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 경화는 열적으로 및/또는 UV 광을 적용하는 것에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 더욱 큰 공극 체적들은 상기 임프린트 텍스처에 있는 개구들의 깊이 및/또는 융기부들의 높이를 증가시키는 것에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 더욱 큰 공극 체적들의 도메인들은 내부 기능 영역들과 시각적으로 다른 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 텍스처링하거나 또는 패턴화하는 단계는 외부면으로서 상기 임프린트 텍스처를 가지는 스탬프에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 스탬프는 압연되거나 또는 롤러들에 의해 안내되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 개구들 및 융기부들에 의해 형성되어, 임프린트 텍스처에서 공극 체적들을 생성하는 상기 임프린트 텍스처를 외부면층으로서 구비하는 이산 기판들을 롤 대 플레이트 텍스처링 또는 패턴화하기 위한 스탬프에 있어서,
    상기 임프린트 텍스처는 가장자리들 중 적어도 하나에서 상기 가장자리들이 아닌 영역들에서의 공극 체적들보다 더욱 큰 공극 체적들의 도메인들을 형성하는 다수의 개구들 및 융기부들을 구비하며, 상기 스탬프는 0.1 기가 파스칼(GPa) 내지 10 기가 파스칼(GPa)의 종탄성계수를 가지는 가요성 스탬프인 것을 특징으로 하는 스탬프.
  8. 제7항에 있어서, 상기 더욱 큰 공극 체적들은 상기 임프린트 텍스처에 있는 개구들의 깊이 및/또는 융기부들의 높이를 증가시키는 것에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는 스탬프.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 임프린트 텍스처는 잔류층 두께를 가지며, 상기 더욱 큰 공극 체적들은 상기 잔류층 두께를 증가시키는 것에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는 스탬프.
  10. 제9항에 있어서, 가요성 스탬프 베이스와 상기 임프린트 텍스처 사이에서 임프린트 텍스처 물질을 위한 베이스로서 충전재 물질인 대안적인 물질이 사용되며, 상기 더욱 큰 공급 체적들은 상기 충전재 물질에 의해 생성되는 것을 특징으로 하는 스탬프.
  11. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 더욱 큰 공극 체적들을 구비한 도메인들 내의 저장소 영역에 있는 융기부들은 블록들, 바들, 둥근 필라(pillar)들, 삼각 필라들, 또는 원뿔들로서 형상화되는 것을 특징으로 하는 스탬프.
  12. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 더욱 큰 공극 체적들을 구비한 도메인들 내의 저장소 영역에 있는 개구들 및/또는 융기부들은 회절, 확산 또는 굴절 텍스처로 텍스처링되는 것을 특징으로 하는 스탬프.
  13. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 더욱 큰 공극 체적들을 구비한 도메인들에 있는 상기 융기부들 및 개구들의 밀도 분포 및 표면 텍스처는 장식용 또는 유익한 목적을 위해 사용될 수 있는 방식으로 정렬되는 것을 특징으로 하는 스탬프.
  14. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 더욱 큰 공극 체적들을 구비한 도메인들 내의 저장소 영역에 있는 상기 융기부들은 기능 영역과 동일한 텍스처를 가지는 것을 특징으로 하는 스탬프.
  15. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 임프린트 텍스처는 가장자리들에서 1.5 내지 20배 더 큰 공극 체적들의 도메인들을 구비하는 것을 특징으로 하는 스탬프.
  16. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 스탬프는 15 내지 60의 쇼어 A 경도를 가지는 가요성 롤러와 조합하여 사용되는 것을 특징으로 하는 스탬프.
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