CN113934110A - 一种可双面压印的纳米压印设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提出一种可双面压印的纳米压印设备,包括:工作台,工作台上设置有透明板a,在工作台上表面设置有真空槽a,真空槽a与真空泵连接,以在真空槽a内产生负压固定模板,在工作台上方设置有滑轨,与滑轨连接有可竖向移动的吸盘,吸盘上设置有透明板b,在吸盘的下表面设置有真空槽b,真空槽b与真空泵连接,以在真空槽b内产生负压固定模板或基片,还包括紫外固化装置,紫外固化装置可发出紫外灯光穿过透明板a和透明板b照射模板或基片。本发明通过一台设备就能实现双面压印,不仅制造过程比较简单,且造价成本低廉,简单经济的引入双面有序排列的微结构。
Description
技术领域
本发明属于纳米压印技术领域,尤其涉及一种可双面压印的纳米压印设备。
背景技术
纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到了超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重要加工手段。目前,双面纳米压印的应用范围越来越广,例如仿生蛾眼的减反射玻璃,有机电致发光器件,可穿戴电子设备中的柔性压力传感器等。尽管这种方式存在一定优势,但现有的光刻技术的制造过程比较复杂,费时且成本高,且不能简便且经济地引入双面有序排列的微结构。
发明内容
本发明针对上述的技术问题,提出一种可双面压印的纳米压印设备,通过一台设备就能实现双面压印,不仅制造过程比较简单,且造价成本低廉,简单经济的引入双面有序排列的微结构。
为了达到上述目的,本发明采用的技术方案为:一种可双面压印的纳米压印设备,包括:工作台,所述工作台上设置有透明板a,在所述工作台上表面设置有真空槽a,所述真空槽a与真空泵连接,以在所述真空槽a内产生负压固定模板,在工作台上方设置有滑轨,与滑轨连接有可竖向移动的吸盘,所述吸盘上设置有透明板b,在吸盘的下表面设置有真空槽b,真空槽b与真空泵连接,以在真空槽b内产生负压固定模板或基片,还包括紫外固化装置,所述紫外固化装置可发出紫外灯光穿过透明板a和透明板b照射模板或基片。
在本发明的一些实施例中,所述真空槽a位于透明板a的外侧,且在所述真空槽a外侧设置有定位槽a,以定位模板。
在本发明的一些实施例中,在所述真空槽b外侧设置有定位槽b,以定位模板。
在本发明的一些实施例中,所述真空槽b包括模板真空槽b,以及基片真空槽,所述基片真空槽位于所述透明板b上,且所述模板真空槽b位于所述基片真空槽外侧。
在本发明的一些实施例中,在所述吸盘上方,与所述滑轨连接有对位装置,模板及基片上分别设置对位标记,以通过对位装置观察模板与基片对位标记,控制吸盘微调,使模板与基片对正。
在本发明的一些实施例中,所述对位装置包括电机、伸缩杆,连接板,以及显示单元,所述电机与所述滑轨连接,所述伸缩杆竖向连接于所述电机上,所述连接板连接于所述伸缩杆的底端,显示单元安装于所述连接板上,且显示单元活动范围与透明板b对应,以通过显示单元观察对位标记。
在本发明的一些实施例中,所述滑轨与所述吸盘连接有伸缩柱,所述伸缩柱与所述滑轨之间通过电机连接。
在本发明的一些实施例中,所述紫外固化装置为紫外灯,紫外灯设置有两个,分别与透明板a及透明板b相对应。
在本发明的一些实施例中,还包括外壳。
与现有技术相比,本发明的优点和积极效果在于:
工作台上固定模板,吸盘上固定基片,模板上滴压印胶,通过吸盘下压,使基片与模板上的压印胶相接触直至完全填充,吸盘释放基片并复位至初始位置,并通过吸盘固定另一模板,在基片的上表面滴压印胶,再次通过吸盘下压,使模板与基片上的压印胶相接触直至完全填充,工作台释放模板,吸盘释放另一模板,完成压印,通过一台设备就能实现双面压印,不仅制造过程比较简单,且造价成本低廉,简单经济的引入双面有序排列的微结构。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的结构示意图;
图2为本发明中吸盘的仰视图;
图3为本发明中工作台的俯视图;
图4为本发明中吸盘固定基片的结构示意图;
图5为本发明中吸盘固定模板b的结构示意图;
图6为本发明中工作台固定模板a的结构示意图;
图7为本发明中基片与模板b的对位图;
图8为本发明中基片的结构示意图;
图9为本发明压印过程图。
以上各图中:1、工作台;11、透明板a;12、真空槽a;13、真空孔;14、定位槽a;2、支撑板;21、外壳;3、真空泵;4、模板a;41、对位标记;5、滑轨;6、吸盘;61、伸缩柱;62、伺服电机;63、透明板b;64、真空槽b;641、模板真空槽b;642、基片真空槽;65、真空孔;66、定位槽b;7、基片;71、对位标记;8、模板b;81、对位标记;9、紫外固化装置;91、紫外灯;92、紫外灯;10、对位装置;101、电机;102、伸缩杆;103、连接板;104、显示单元。
具体实施方式
下面,通过示例性的实施方式对本发明进行具体描述。然而应当理解,在没有进一步叙述的情况下,一个实施方式中的元件、结构和特征也可以有益地结合到其他实施方式中。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
一种可双面压印的纳米压印设备,参见图1至9,包括:矩形的工作台1,工作台1通过支撑板2支撑,且在工作台1上设置有透明板a11,在工作台1上表面设置有真空槽a12,真空槽a12设置为矩形槽,真空槽a12位于透明板a11的外侧,在真空槽a12内设置有真空孔13,通过真空槽a12内的真空孔13与真空泵3连接,以在真空槽a12内产生负压固定模板a4,在真空槽a12外侧设置有四个定位槽a14,定位槽a14设置为直角,模板a4的四角对应四个定位槽a14,以定位模板a4;
在工作台1上方设置有滑轨5,与滑轨5连接有可竖向移动的吸盘6,具体的:滑轨5与吸盘6之间连接有伸缩柱61,伸缩柱61与滑轨5之间通过伺服电机62连接,吸盘6上设置有透明板b63,在吸盘6的下表面设置有真空槽b64,真空槽b64内设置有真空孔65,真空孔65与真空泵3连接,以在真空槽b64内产生负压固定模板b8或基片7,在真空槽b64外侧设置有四个定位槽b66,定位槽b66设置为直角,模板b8的四角对应四个定位槽b66,以定位模板b8,还包括紫外固化装置9,紫外固化装置9可发出紫外灯光穿过透明板a11和透明板b63照射模板a4、模板b8或基片7。
工作台1上固定模板a4,吸盘6上固定基片7,模板a4上滴压印胶,通过吸盘6下压,使基片7与模板a4上的压印胶相接触直至完全填充,吸盘6释放基片7并复位至初始位置,并通过吸盘6固定另一模板b8,在基片7的上表面滴压印胶,再次通过吸盘6下压,使模板b8与基片7上的压印胶相接触直至完全填充,工作台1释放模板a4,吸盘6释放另一模板b8,完成压印,通过一台设备就能实现双面压印,不仅制造过程比较简单,且造价成本低廉,简单经济的引入双面有序排列的微结构。
进一步的,为了实现吸盘6吸附基片7以及模板b8,真空槽b64设置包括模板真空槽b641,以及基片真空槽642,基片真空槽642位于透明板b63上,且模板真空槽b641位于基片真空槽642外侧。
为了使基片7与模板的精准定位,在吸盘6上方,与滑轨5连接有对位装置10,模板a4设置对位标记41,模板b8设置对位标记81,及基片7设置对位标记71,以通过对位装置10观察模板a4与基片7对位标记41与71,或模板b8与基片7对位标记81与71,控制吸盘6微调,使模板a4或模板b8与基片7对正。
进一步的,对位装置10包括电机101、伸缩杆102,连接板103,以及显示单元104,显示单元104为显微镜,且设置有两个,电机101与滑轨5连接,伸缩杆102竖向连接于电机101上,连接板103连接于伸缩杆102的底端,显示单元104安装于连接板103上,且显示单元104活动范围与透明板b63对应,以通过显示单元104观察对位标记41与71或81与71。
在本实施例中,紫外固化装置9为紫外灯91、92,紫外灯设置有两个,分别与透明板a11及透明板b63相对应。
为了保证工作环境的洁净,还包括外壳21。
压印既可以是单面压印,也可以是多面压印。
参见图9,双面压印过程包括以下步骤:
S1、复位:
吸盘6、对位装置10回到原点位置;
S2、上料:
1)、将基片7固定在吸盘6上:
将基片7放置在吸盘6上透明板b63的位置,并与基片真空槽642对应,通过基片真空槽642的真空孔13与真空泵3连接,在基片真空槽642内形成负压固定基片7;
2)、将模板a4在工作台1上:
将模板a4四角与定位槽a14对齐,打开真空槽a12,通过真空槽a12内的真空孔65与真空泵3连通,在真空槽a12内形成负压固定模板a4。
S3、点胶:
将纳米压印胶点滴在模板a4的中心处;
S4、对准:
电机带驱动伸缩杆102向下伸出,带动连接板103向下移动至吸盘6的上方,连接板103上的显示单元104透过透明板b63观察基片7和模板a4上对位标记71与41的相对位置,若对位标记71与41不对应,伺服电机62驱动吸盘6沿导轨左、右微调,直至使基片7和模板a4上对位标记71与41相对应,完成对准动作,对准动作完成后,对位装置10复位,吸盘6仅可以上、下移动;
S5、压印:
伸缩柱61向下缓慢伸出,使吸盘6慢慢向下移动至设定位置,基片7与模板a4中心处的纳米压印胶体接触并从其中心处慢慢向外摊开,直至模板a4上的纳米结构都填充有纳米压印胶体,并到得到相应的胶层厚度,吸盘6释放基片7,并向上移动至原点位置;
S6、上料:
将模板b8四角与定位槽b66对齐,打开真空槽b64,通过真空槽b64内的真空孔65与真空泵3连通,在真空槽b64内形成负压固定模板b8;
S7、点胶:
将纳米压印胶点滴在基片7上表面的中心处。
S8、对准:
电机带驱动伸缩杆102向下伸出,带动连接板103向下移动至吸盘6的上方,连接板103上的显示单元104透过透明板b63观察基片7和模板b8上对位标记71与81的相对位置,若对位标记71与81不对应,伺服电机62驱动吸盘6沿导轨左、右微调,直至使基片7和模板b8上对位标记71与81相对应,完成对准动作,对准动作完成后,对位装置10复位,吸盘6仅可以上、下移动;
S9、压印:
伸缩柱61向下缓慢伸出,使吸盘6慢慢向下移动至设定位置,模板b8与基片7中心处的纳米压印胶体接触并从其中心处慢慢向外摊开,直至模板b8上的纳米结构都填充有纳米压印胶体,并到得到相应的胶层厚度,吸盘6释放模板b8,并向上移动至原点位置;
S10、胶体固化:
两个紫外灯,可以单独开,也可以同时开,在本步骤中采用同时打开分别透过透明板a11和透明板b63,对纳米压印胶体固化;
S11、分离:
工作台1释放模板a4,吸盘6释放模板b8,将基片7、模板a4、模板b8分离,完成双面压印;
双面压印所使用的模板a4、模板b8可以是相同的也可以是不同的,双面压印两面的胶体可以是相同的也可以是不同的。
单面压印过程包括以下步骤:
上述步骤S1至S5步,再进行步骤S10:在本步骤中采用单独开对胶体固化,然后将基片7和模板a4分离,完成单面压印过程。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (9)
1.一种可双面压印的纳米压印设备,其特征在于,包括:工作台,所述工作台上设置有透明板a,在所述工作台上表面设置有真空槽a,所述真空槽a与真空泵连接,以在所述真空槽a内产生负压固定模板,在工作台上方设置有滑轨,与滑轨连接有可竖向移动的吸盘,所述吸盘上设置有透明板b,在吸盘的下表面设置有真空槽b,真空槽b与真空泵连接,以在真空槽b内产生负压固定模板或基片,还包括紫外固化装置,所述紫外固化装置可发出紫外灯光穿过透明板a和透明板b照射模板或基片。
2.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备,其特征在于:所述真空槽a位于透明板a的外侧,且在所述真空槽a外侧设置有定位槽a,以定位模板。
3.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备,其特征在于:在所述真空槽b外侧设置有定位槽b,以定位模板。
4.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备,其特征在于:所述真空槽b包括模板真空槽b,以及基片真空槽,所述基片真空槽位于所述透明板b上,且所述模板真空槽b位于所述基片真空槽外侧。
5.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备,其特征在于:在所述吸盘上方,与所述滑轨连接有对位装置,模板及基片上分别设置对位标记,以通过对位装置观察模板与基片对位标记,控制吸盘微调,使模板与基片对正。
6.根据权利要求2所述的可双面压印的纳米压印设备,其特征在于:所述对位装置包括电机、伸缩杆,连接板,以及显示单元,所述电机与所述滑轨连接,所述伸缩杆竖向连接于所述电机上,所述连接板连接于所述伸缩杆的底端,显示单元安装于所述连接板上,且显示单元活动范围与透明板b对应,以通过显示单元观察对位标记。
7.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备,其特征在于:所述滑轨与所述吸盘连接有伸缩柱,所述伸缩柱与所述滑轨之间通过电机连接。
8.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备,其特征在于:所述紫外固化装置为紫外灯,紫外灯设置有两个,分别与透明板a及透明板b相对应。
9.根据权利要求1所述的可双面压印的纳米压印设备,其特征在于:还包括外壳。
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