KR102618776B1 - 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크가 템플릿에 접착된 마스크 지지 템플릿을 나타내는 개략도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿을 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착한 후 마스크와 템플릿을 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 8 및 도 9는 비교예에 따른 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 10 및 도 11은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
20: 프레임
50: 템플릿(template)
51: 레이저 통과공
55: 임시접착부
100: 마스크
110: 마스크 막, 마스크 금속막
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
C: 셀, 마스크 셀
CF: 카운터 포스
CR: 마스크 셀 영역
DM: 더미, 마스크 더미
L: 레이저
P: 마스크 패턴
TS: 장력
Claims (17)
- 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 마스크가 템플릿 상에 접착된 마스크 지지 템플릿을 준비하는 단계;
(b) 제1 방향, 및 제1 방향에 수직인 제2 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임 상에 템플릿을 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계;
(c) 마스크를 프레임에 부착하는 단계;
(d) 마스크와 템플릿을 분리하는 단계;
(e) 카운터 포스의 인가를 해제하는 단계;
를 포함하고,
(a) 단계에서, 마스크 지지 템플릿은,
템플릿; 템플릿 상에 형성된 임시접착부; 및 임시접착부를 개재하여 템플릿 상에 접착되고, 마스크 패턴이 형성된 마스크;를 포함하며,
마스크는 측면 방향으로 인장력이 가해진 상태에서 템플릿 상에 접착되고,
(b) 단계에서, 프레임의 적어도 두측 상에 내측 방향으로 카운터 포스를 인가하며,
(b) 단계 내지 (c) 단계를 반복하여, 각각의 마스크 셀 영역 상에 각각의 마스크를 부착하고,
카운터 포스는 마스크를 마스크 셀 영역 상에 모두 부착할 때까지 인가하되, 동일한 세기를 유지하며,
(e) 단계에서, 마스크로부터 템플릿이 분리되어 마스크가 프레임에 가하는 장력과, 카운터 포스의 인가 해제로 인해 프레임의 외측 방향으로 복원력이 평행을 이루어 마스크 및 프레임의 위치 정렬이 유지되는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 삭제
- 제1항에 있어서,
프레임은, 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부; 및 복수의 마스크 셀 영역을 구비하며, 테두리 프레임부에 연결되는 마스크 셀 시트부
를 포함하고,
마스크 셀 시트부는,
테두리 시트부;
제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및
제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부
를 포함하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
마스크는 제1 방향 또는 제2 방향을 기준으로 가운데 마스크 셀 영역 라인에 먼저 부착하고, 다음으로 가운데 마스크 셀 영역 라인에 인접하는 마스크 셀 영역 라인에 부착하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
임시접착부는 열을 가함에 따라 분리가 가능한 접착제, UV 조사에 의해 분리가 가능한 접착제인, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
(d) 단계는, 마스크와 템플릿 사이의 임시접착부에 열 인가, 화학적 처리, 초음파 인가, UV 인가 중 적어도 어느 하나를 수행하여, 임시접착부의 접착력을 약화시켜 마스크와 템플릿을 분리하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 삭제
- 삭제
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210025798A KR102618776B1 (ko) | 2021-02-25 | 2021-02-25 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
| CN202210032338.XA CN114959562A (zh) | 2021-02-25 | 2022-01-12 | 框架一体型掩模的制造方法 |
| TW111105468A TW202234147A (zh) | 2021-02-25 | 2022-02-15 | 框架一體型掩模的製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210025798A KR102618776B1 (ko) | 2021-02-25 | 2021-02-25 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20220121564A KR20220121564A (ko) | 2022-09-01 |
| KR102618776B1 true KR102618776B1 (ko) | 2023-12-29 |
Family
ID=82974918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020210025798A Active KR102618776B1 (ko) | 2021-02-25 | 2021-02-25 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102618776B1 (ko) |
| CN (1) | CN114959562A (ko) |
| TW (1) | TW202234147A (ko) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100647576B1 (ko) * | 2002-03-16 | 2006-11-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 텐션 마스크 프레임 조립체의 제조방법 및 그 제조장치 |
| KR101174879B1 (ko) * | 2010-03-09 | 2012-08-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 조립방법 |
| KR20190096577A (ko) * | 2018-02-09 | 2019-08-20 | 주식회사 티지오테크 | 프레임 일체형 마스크 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
| KR102202529B1 (ko) * | 2018-11-27 | 2021-01-13 | 주식회사 오럼머티리얼 | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 마스크 분리/교체 방법 |
| KR102236542B1 (ko) * | 2018-12-03 | 2021-04-06 | 주식회사 오럼머티리얼 | 마스크 지지 템플릿, 마스크 금속막 지지 템플릿, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
-
2021
- 2021-02-25 KR KR1020210025798A patent/KR102618776B1/ko active Active
-
2022
- 2022-01-12 CN CN202210032338.XA patent/CN114959562A/zh active Pending
- 2022-02-15 TW TW111105468A patent/TW202234147A/zh unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114959562A (zh) | 2022-08-30 |
| TW202234147A (zh) | 2022-09-01 |
| KR20220121564A (ko) | 2022-09-01 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D14-srh-X000 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| P22-X000 | Classification modified |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000 |
|
| AMND | Amendment | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
St.27 status event code: N-2-6-B10-B15-exm-PE0601 |
|
| X091 | Application refused [patent] | ||
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| T13-X000 | Administrative time limit extension granted |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T13-oth-X000 |
|
| AMND | Amendment | ||
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| PX0901 | Re-examination |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E12-rex-PX0901 |
|
| PX0701 | Decision of registration after re-examination |
St.27 status event code: A-3-4-F10-F13-rex-PX0701 |
|
| X701 | Decision to grant (after re-examination) | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
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|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |