KR102560421B1 - 마스크 지지 템플릿, 프레임 일체형 마스크 및 이의 제조 방법 - Google Patents
마스크 지지 템플릿, 프레임 일체형 마스크 및 이의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102560421B1 KR102560421B1 KR1020210040155A KR20210040155A KR102560421B1 KR 102560421 B1 KR102560421 B1 KR 102560421B1 KR 1020210040155 A KR1020210040155 A KR 1020210040155A KR 20210040155 A KR20210040155 A KR 20210040155A KR 102560421 B1 KR102560421 B1 KR 102560421B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mask
- template
- frame
- temperature
- tensile force
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 95
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 56
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 56
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 85
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 30
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 30
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 17
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 7
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 5
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크가 템플릿에 접착된 마스크 지지 템플릿을 나타내는 개략도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿을 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착한 후 마스크와 템플릿을 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 8은 마스크가 프레임이 장력없이 부착된 경우의 문제점을 나타내는 개략도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿의 열팽창계수가 마스크보다 낮은 경우의 마스크와 템플릿의 계면 상태 및 마스크가 프레임에 부착된 상태를 나타내는 개략도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 온도의 변화에 대한 마스크, 템플릿의 신장 상태를 나타내는 개략도이다.
도 11 및 도 12는 비교예에 따른 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 13 및 도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
20: 프레임
50: 템플릿(template)
51: 레이저 통과공
55: 임시접착부
100: 마스크
110: 마스크 막, 마스크 금속막
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
C: 셀, 마스크 셀
CF: 카운터 포스
CR: 마스크 셀 영역
DM: 더미, 마스크 더미
IT: 내부 인장력
L: 레이저
P: 마스크 패턴
TS: 장력
Claims (20)
- 삭제
- OLED 화소 형성용 마스크를 지지하여 프레임에 대응시키는 마스크 지지 템플릿(template)의 제조 방법으로서,
(a) 일면에 임시접착부가 형성된 템플릿을 준비하는 단계;
(b) 바깥 측면 방향으로 인장력이 작용한 상태로, 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크를 템플릿 상에 접착하는 단계;
를 포함하고,
마스크에 작용하는 인장력은 원래 마스크의 일측의 길이보다 2㎛ 내지 15㎛ 신장된 일측을 가지는 크기이며,
(b) 단계는,
(b1) 공정 온도를 적어도 임시접착부의 접착 강도(push-pull strength)가 0 내지 5kgf/cm2가 되는 온도만큼 상승시키고 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크를 템플릿 상에 접촉하는 단계;
(b2) 공정 온도를 적어도 임시접착부의 접착 강도가 적어도 5kgf/cm2보다 커지는 온도만큼 하강시켜, 바깥 측면 방향으로 인장력이 작용한 상태로 마스크를 템플릿 상에 접착하는 단계;
(b3) 공정 온도를 상온으로 하강시키는 단계;
를 포함하고,
(b1) 단계에서 마스크와 템플릿 사이에 접착력이 없는 상태로 마스크가 템플릿보다 측면으로 더 신장되고,
(b2) 단계에서 마스크가 신장된 상태로 템플릿 상에 접착되는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법. - 삭제
- 삭제
- 제2항에 있어서,
템플릿은 마스크보다 열팽창계수가 낮은, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법. - 제2항에 있어서,
(b3) 단계는,
(b3-1) 공정 온도를 상온보다 낮은 온도로 하강시키는 단계;
(b3-2) 공정 온도를 상온으로 상승시키는 단계;
를 포함하는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법. - 제2항에 있어서,
(b1) 단계에서, 공정 온도를 110℃ 내지 200℃로 상승시키고,
(b2) 단계에서, 공정 온도를 (b1) 단계의 공정온도보다는 낮고, 상온보다는 높은 온도로 하강시키는, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법. - 삭제
- 제2항에 있어서,
마스크는 복수의 마스크 패턴이 형성된 하나의 마스크 셀, 및 마스크 셀 주변의 더미를 포함하고,
마스크의 장변의 길이는 130mm 내지 170mm, 단변의 길이는 65mm 내지 75mm인, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법. - 제2항에 있어서,
마스크에 작용하는 인장력은 원래 마스크의 일측의 길이보다 0.0026% 내지 0.0115% 신장된 일측을 가지는 크기인, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 적어도 하나의 마스크와 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 일면에 임시접착부가 형성된 템플릿을 준비하는 단계;
(b) 바깥 측면 방향으로 인장력이 작용한 상태로, 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크를 템플릿 상에 접착하는 단계;
(c) 적어도 하나의 마스크 셀 영역을 구비한 프레임 상에 템플릿을 로딩하여 마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응하는 단계; 및
(d) 마스크를 프레임에 부착하는 단계;
를 포함하고,
마스크에 작용하는 인장력은 원래 마스크의 일측의 길이보다 2㎛ 내지 15㎛ 신장된 일측을 가지는 크기이며,
(b) 단계는,
(b1) 공정 온도를 적어도 임시접착부의 접착 강도(push-pull strength)가 0 내지 5kgf/cm2가 되는 온도만큼 상승시키고 복수의 마스크 패턴이 형성된 마스크를 템플릿 상에 접촉하는 단계;
(b2) 공정 온도를 적어도 임시접착부의 접착 강도가 적어도 5kgf/cm2보다 커지는 온도만큼 하강시켜, 바깥 측면 방향으로 인장력이 작용한 상태로 마스크를 템플릿 상에 접착하는 단계;
(b3) 공정 온도를 상온으로 하강시키는 단계;
를 포함하고,
(b1) 단계에서 마스크와 템플릿 사이에 접착력이 없는 상태로 마스크가 템플릿보다 측면으로 더 신장되고,
(b2) 단계에서 마스크가 신장된 상태로 템플릿 상에 접착되는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 삭제
- 제14항에 있어서,
마스크를 프레임의 마스크 셀 영역에 대응할 때, 프레임의 적어도 두측 상에 내측 방향으로 카운터 포스를 인가하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 제16항에 있어서,
각각의 마스크 셀 영역 상에 각각의 마스크를 부착하고,
카운터 포스는 마스크를 마스크 셀 영역 상에 모두 부착할 때까지 인가하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 삭제
- 제16항에 있어서,
마스크는 제1 방향 또는 제2 방향을 기준으로 가운데 마스크 셀 영역 라인에 먼저 부착하고, 다음으로 가운데 마스크 셀 영역 라인에 인접하는 마스크 셀 영역 라인에 부착하는, 프레임 일체형 마스크의 제조 방법. - 삭제
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210040155A KR102560421B1 (ko) | 2021-03-29 | 2021-03-29 | 마스크 지지 템플릿, 프레임 일체형 마스크 및 이의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210040155A KR102560421B1 (ko) | 2021-03-29 | 2021-03-29 | 마스크 지지 템플릿, 프레임 일체형 마스크 및 이의 제조 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20220134896A KR20220134896A (ko) | 2022-10-06 |
| KR102560421B1 true KR102560421B1 (ko) | 2023-07-28 |
Family
ID=83597168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020210040155A Active KR102560421B1 (ko) | 2021-03-29 | 2021-03-29 | 마스크 지지 템플릿, 프레임 일체형 마스크 및 이의 제조 방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102560421B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102935006B1 (ko) * | 2024-03-08 | 2026-03-09 | 주식회사 오럼머티리얼 | 프레임의 제조 방법 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015127441A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク装置の製造方法 |
| KR101898612B1 (ko) * | 2017-11-30 | 2018-09-13 | 주식회사 한송네오텍 | Amoled 모바일 마스크프레임 어셈블리 제조용 듀얼 텐션 용접 장치와 이를 이용한 amoled 모바일 마스크 프레임 어셈블리 제조방법 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102236542B1 (ko) * | 2018-12-03 | 2021-04-06 | 주식회사 오럼머티리얼 | 마스크 지지 템플릿, 마스크 금속막 지지 템플릿, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
| KR20210026168A (ko) * | 2019-08-29 | 2021-03-10 | 주식회사 오럼머티리얼 | 마스크 지지 템플릿, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 |
-
2021
- 2021-03-29 KR KR1020210040155A patent/KR102560421B1/ko active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015127441A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク装置の製造方法 |
| KR101898612B1 (ko) * | 2017-11-30 | 2018-09-13 | 주식회사 한송네오텍 | Amoled 모바일 마스크프레임 어셈블리 제조용 듀얼 텐션 용접 장치와 이를 이용한 amoled 모바일 마스크 프레임 어셈블리 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20220134896A (ko) | 2022-10-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102236542B1 (ko) | 마스크 지지 템플릿, 마스크 금속막 지지 템플릿, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102101257B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102202529B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 마스크 분리/교체 방법 | |
| KR102358268B1 (ko) | 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 | |
| KR102458728B1 (ko) | 템플릿 분리 방법 | |
| KR20220134896A (ko) | 마스크 지지 템플릿, 프레임 일체형 마스크 및 이의 제조 방법 | |
| KR102501250B1 (ko) | Oled 화소 형성용 마스크, 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102371178B1 (ko) | 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법, 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR20210131226A (ko) | 마스크의 부착 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR20230045560A (ko) | 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 | |
| KR102618776B1 (ko) | 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR20230045561A (ko) | 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 | |
| KR102404746B1 (ko) | 마스크 지지 템플릿의 제조 방법, 마스크 인장력 작용 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR20210103445A (ko) | 마스크 지지 템플릿, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102236540B1 (ko) | 마스크의 이송 시스템 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102404745B1 (ko) | 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102697128B1 (ko) | 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 | |
| CN113529081A (zh) | 掩模支撑模板及其制造方法、掩模制造方法及框架一体型掩模的制造方法 | |
| KR20220033310A (ko) | 마스크의 제조 방법, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102301332B1 (ko) | 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR102854300B1 (ko) | 마스크의 인장력 제어 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR20220151976A (ko) | 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| TWI830051B (zh) | 掩模支撐模板的製造方法、掩模支撐模板及框架一體型掩模的製造方法 | |
| KR20220165973A (ko) | 마스크 부착 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 | |
| KR20230158805A (ko) | 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20210329 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20220912 Patent event code: PE09021S01D |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20230523 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20230724 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20230725 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |