KR20230158805A - 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법 - Google Patents

마스크에 가하는 인장력의 감축 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20230158805A
KR20230158805A KR1020220058372A KR20220058372A KR20230158805A KR 20230158805 A KR20230158805 A KR 20230158805A KR 1020220058372 A KR1020220058372 A KR 1020220058372A KR 20220058372 A KR20220058372 A KR 20220058372A KR 20230158805 A KR20230158805 A KR 20230158805A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
frame
sides
sheet portion
tensile force
Prior art date
Application number
KR1020220058372A
Other languages
English (en)
Inventor
장택용
이영호
Original Assignee
주식회사 오럼머티리얼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 오럼머티리얼 filed Critical 주식회사 오럼머티리얼
Priority to KR1020220058372A priority Critical patent/KR20230158805A/ko
Priority to CN202310279702.7A priority patent/CN117051356A/zh
Publication of KR20230158805A publication Critical patent/KR20230158805A/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/16Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
    • H10K71/166Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C16/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법에 관한 것이다. 본 발명은 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법은, 복수의 마스크와 상기 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크에서 상기 마스크를 프레임에 부착하는 과정에서 상기 마스크의 측면에 가하는 인장력을 감축하는 방법으로서, 상기 프레임은, 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부; 및 복수의 마스크 셀 영역을 구비하며, 상기 테두리 프레임부에 연결되는 마스크 셀 시트부;를 포함하고, 상기 마스크 셀 시트부는, 테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 상기 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 상기 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 상기 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부;를 포함하며, 상기 마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고, 상기 마스크를 상기 마스크 셀 시트부의 상기 마스크 셀 영역에 대응하고 부착하는 과정에서 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 것을 특징으로 한다.

Description

마스크에 가하는 인장력의 감축 방법 {REDUCING METHOD OF TENSILE FORCE APPLIED TO THE MASK}
본 발명은 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법에 관한 것이다.
OLED 제조 공정에서 화소를 형성하는 기술로, 박막의 금속 마스크(Shadow Mask)를 기판에 밀착시켜서 원하는 위치에 유기물을 증착하는 FMM(Fine Metal Mask) 법이 주로 사용된다.
기존의 OLED 제조 공정에서는 마스크를 스틱 형태, 플레이트 형태 등으로 제조한 후, 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용한다. 마스크 하나에는 디스플레이 하나에 대응하는 셀이 여러개 구비될 수 있다. 또한, 대면적 OLED 제조를 위해서 여러 개의 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 고정시킬 수 있는데, 프레임에 고정하는 과정에서 각 마스크가 평평하게 되도록 인장을 하게 된다. 마스크의 전체 부분이 평평하게 되도록 인장력을 조절하는 것은 매우 어려운 작업이다. 특히, 각 셀들을 모두 평평하게 하면서, 크기가 수 내지 수십 ㎛에 불과한 마스크 패턴을 정렬하기 위해서는, 마스크의 각 측에 가하는 인장력을 미세하게 조절하면서, 정렬 상태를 실시간으로 확인하는 고도의 작업이 요구된다.
그럼에도 불구하고, 여러 개의 마스크를 하나의 프레임에 고정시키는 과정에서 마스크 상호간에, 그리고 마스크 셀들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 있었다. 또한, 마스크를 프레임에 용접 고정하는 과정에서 마스크 막의 두께가 너무 얇고 대면적이기 때문에 하중에 의해 마스크가 쳐지거나 뒤틀어지는 문제점, 용접 과정에서 용접 부분에 발생하는 주름, 번짐(burr) 등에 의해 마스크 셀의 정렬이 엇갈리게 되는 문제점 등이 있었다.
초고화질의 OLED의 경우, 현재 QHD 화질은 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질은 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. 이렇듯 초고화질의 OLED의 화소 크기를 고려하여 각 셀들간의 정렬 오차를 수 ㎛ 정도로 감축시켜야 하며, 이를 벗어나는 오차는 제품의 실패로 이어지게 되므로 수율이 매우 낮아지게 될 수 있다. 그러므로, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고, 정렬을 명확하게 할 수 있는 기술, 마스크를 프레임에 고정하는 기술 등의 개발이 필요한 실정이다.
따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 마스크가 주름지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지할 수 있는 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크가 프레임에 부착되는 방식을 변경하여 마스크를 프레임에 부착하는 과정에서 가해지는 인장력을 감축하는 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 마스크가 프레임에 가하는 인장력을 줄임에 따라 해당 인장력을 버틸 수 있는 프레임의 사이즈를 줄일 수 있는 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 상기의 목적은, 복수의 마스크와 상기 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크에서 상기 마스크를 프레임에 부착하는 과정에서 상기 마스크의 측면에 가하는 인장력을 감축하는 방법으로서, 상기 프레임은, 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부; 및 복수의 마스크 셀 영역을 구비하며, 상기 테두리 프레임부에 연결되는 마스크 셀 시트부;를 포함하고, 상기 마스크 셀 시트부는, 테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 상기 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 상기 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 상기 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부;를 포함하며, 상기 마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고, 상기 마스크를 상기 마스크 셀 시트부의 상기 마스크 셀 영역에 대응하고 부착하는 과정에서 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는, 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법에 의해 달성된다.
상기 마스크는 사각 형상을 가지고, 상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우에 상기 마스크의 측면에 가하는 인장력을 감축할 수 있다.
상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우가, 상기 마스크가 상기 마스크 셀 시트부에 부착된 후 상기 마스크의 자중에 의한 처짐량이 적을 수 있다.
동일한 두께의 마스크를 기준으로, 상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우의 상기 마스크의 자중에 의한 처짐량보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우의 상기 마스크의 자중에 의한 처짐량이 70% 이하(0 초과)일 수 있다.
동일한 두께의 마스크를 기준으로, 상기 마스크 상에 60g의 추를 올려놓았을때, 상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우의 상기 마스크의 처짐량보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우의 상기 마스크의 처짐량이 50% 내지 80%일 수 있다.
상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우에 상기 테두리 프레임부, 상기 마스크 셀 시트부 중 적어도 어느 하나의 크기 또는 중량을 낮출 수 있다.
상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 마스크를 변형없이 안정적으로 지지 및 이동이 가능하고, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 마스크가 프레임에 부착되는 방식을 변경하여 마스크를 프레임에 부착하는 과정에서 가해지는 인장력을 감축할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따르면, 마스크가 프레임에 가하는 인장력을 줄임에 따라 해당 인장력을 버틸 수 있는 프레임의 사이즈를 줄일 수 있는 효과가 있다.
물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 종래의 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 4 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿 상에 마스크 금속막을 접착하고 마스크를 형성하여 마스크 지지 템플릿을 제조하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿을 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착한 후 마스크와 템플릿을 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 자중에 의한 마스크의 Z축 변위량, 무게추에 의한 마스크의 Z축 변위량을 나타내는 개략 측단면도이다.
도 10은 본 발명의 여러 실험예에 따른 자중에 의한 마스크의 Z축 변위량을 나타내는 그래프이다.
도 11은 본 발명의 여러 실험예에 따른 무게추에 의한 마스크의 Z축 변위량을 나타내는 그래프이다.
도 12는 본 발명의 비교예에 따른 마스크의 두측을 용접하는 경우의 마스크에 가하는 인장력, 마스크의 처짐량 및 프레임의 크기를 나타내는 개략도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 네측을 용접하는 경우의 마스크에 가하는 인장력, 마스크의 처짐량 및 프레임의 크기를 나타내는 개략도이다.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.
이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 종래의 마스크(10)를 프레임(20)에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
종래의 마스크(10)는 스틱형(Stick-Type) 또는 판형(Plate-Type)이며, 도 1의 스틱형 마스크(10)는 스틱의 양측을 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용할 수 있다. 마스크(10)의 바디(Body)[또는, 마스크 막(11)]에는 복수의 디스플레이 셀(C)이 구비된다. 하나의 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 셀(C)에는 디스플레이의 각 화소에 대응하도록 화소 패턴(P)이 형성된다.
도 1의 (a)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 장축 방향으로 인장력(F1~F2)을 가하여 편 상태로 사각틀 형태의 프레임(20) 상에 스틱 마스크(10)를 로딩한다. 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들은 프레임(20)의 틀 내부 빈 영역 부분에 위치하게 된다.
도 1의 (b)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절하면서 정렬을 시킨 후, 스틱 마스크(10) 측면의 일부를 용접(W)함에 따라 스틱 마스크(10)와 프레임(20)을 상호 연결한다. 도 1의 (c)는 상호 연결된 스틱 마스크(10)와 프레임의 측단면을 나타낸다.
스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F1~F2)을 미세하게 조절함에도 불구하고, 마스크 셀(C1~C3)들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 나타난다. 가령, 셀(C1~C6)들의 패턴 간에 거리가 상호 다르게 되거나, 패턴(P)들이 비뚤어지는 것이 그 예이다. 스틱 마스크(10)는 복수의 셀(C1~C6)을 포함하는 대면적이고, 수십 ㎛ 수준의 매우 얇은 두께를 가지기 때문에, 하중에 의해 쉽게 쳐지거나 뒤틀어지게 된다. 또한, 각 셀(C1~C6)들을 모두 평평하게 하도록 인장력(F1~F2)을 조절하면서, 각 셀(C1~C6)들간의 정렬 상태를 현미경을 통해 실시간으로 확인하는 것은 매우 어려운 작업이다. 크기가 수 내지 수십 ㎛인 마스크 패턴(P)이 초고화질 OLED의 화소 공정에 악영향을 미치지 않도록 하기 위해서는, 정렬 오차가 3㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 이렇게 인접하는 셀 사이의 정렬 오차를 PPA(pixel position accuracy)라 지칭한다.
이에 더하여, 복수의 스틱 마스크(10)들을 프레임(20) 하나에 각각 연결하면서, 복수의 스틱 마스크(10)들간에, 그리고 스틱 마스크(10)의 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태를 명확히 하는 것도 매우 어려운 작업이고, 정렬에 따른 공정 시간이 증가할 수밖에 없게 되어 생산성을 감축시키는 중대한 이유가 된다.
한편, 스틱 마스크(10)를 프레임(20)에 연결 고정시킨 후에는, 스틱 마스크(10)에 가해졌던 인장력(F1~F2)이 프레임(20)에 역으로 장력(tension)을 작용할 수 있다. 이러한 장력이 프레임(20)을 미세하게 변형시킬 수 있고, 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태가 틀어지는 문제가 발생할 수 있다.
이에, 본 발명은 마스크(100)가 프레임(200)과 일체형 구조를 이룰 수 있게 하는 프레임(200) 및 프레임 일체형 마스크를 제안한다. 프레임(200)에 일체로 형성되는 마스크(100)는 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형이 방지되고, 프레임(200)에 명확히 정렬될 수 있다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도[도 2의 (a)] 및 측단면도[도 2의 (b)]이다.
본 명세서에서는 아래에서 프레임 일체형 마스크의 구성을 간단히 설명하나, 프레임 일체형 마스크의 구조, 제조 과정은 한국특허출원 제2018-0016186호의 내용이 전체로서 산입된 것으로 이해될 수 있다.
도 2를 참조하면, 프레임 일체형 마스크는, 복수의 마스크(100) 및 하나의 프레임(200)을 포함할 수 있다. 다시 말해, 복수의 마스크(100)들을 각각 하나씩 프레임(200)에 부착한 형태이다. 이하에서는, 설명의 편의상 사각 형태의 마스크(100)를 예로 들어 설명하나, 마스크(100)들은 프레임(200)에 부착되기 전에는 양측에 클램핑되는 돌출부를 구비한 스틱 마스크 형태일 수 있으며, 프레임(200)에 부착된 후에 돌출부가 제거될 수 있다.
각각의 마스크(100)에는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성되며, 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응할 수 있다.
마스크(100)는 인바(invar), 슈퍼 인바(super invar), 니켈(Ni), 니켈-코발트(Ni-Co) 등의 재질일 수도 있다. 마스크(100)는 압연(rolling) 공정 또는 전주 도금(electroforming)으로 생성한 금속 시트(sheet)를 사용할 수 있다. 도 9 및 도 10을 통해 구체적으로 후술한다.
프레임(200)은 복수의 마스크(100)를 부착시킬 수 있도록 형성된다. 프레임(200)은 열변형을 고려하여 마스크와 동일한 열팽창계수를 가지는 인바, 슈퍼 인바, 니켈, 니켈-코발트 등의 재질로 구성되는 것이 바람직하다. 프레임(200)은 대략 사각 형상, 사각틀 형상의 테두리 프레임부(210)를 포함할 수 있다. 테두리 프레임부(210)의 내부는 중공 형태일 수 있다.
이에 더하여, 프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하며, 테두리 프레임부(210)에 연결되는 마스크 셀 시트부(220)를 포함할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)로 구성될 수 있다. 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)는 동일한 시트에서 구획된 각 부분을 지칭하며, 이들은 상호간에 일체로 형성된다.
테두리 프레임부(210)의 두께는 마스크 셀 시트부(220)의 두께보다 두꺼운 수mm 내지 수cm의 두께로 형성될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)의 두께보다는 얇지만, 마스크(100)보다는 두꺼운 약 0.1mm 내지 1mm 정도로 두께일 수 있다. 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 폭은 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있다.
평면의 시트에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외하여, 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)이 제공될 수 있다.
프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하고, 각각의 마스크(100)는 각각 하나의 마스크 셀(C)이 마스크 셀 영역(CR)에 대응되도록 부착될 수 있다. 마스크 셀(C)은 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고, 더미의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)와 프레임(200)이 일체형 구조를 이룰 수 있게 된다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 나타내는 개략도이다.
마스크(100)는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 및 마스크 셀(C) 주변의 더미(DM)를 포함할 수 있다. 압연 공정, 전주 도금 등으로 생성한 금속 시트로 마스크(100)를 제조할 수 있고, 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 더미(DM)는 셀(C)을 제외한 마스크 막(110)[마스크 금속막(110)] 부분에 대응하고, 마스크 막(110)만을 포함하거나, 마스크 패턴(P)과 유사한 형태의 소정의 더미 패턴이 형성된 마스크 막(110)을 포함할 수 있다. 더미(DM)는 마스크(100)의 테두리에 대응하여 더미(DM)의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다.
마스크 패턴(P)의 폭은 40㎛보다 작게 형성될 수 있고, 마스크(100)의 두께는 약 5~20㎛로 형성될 수 있다. 프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다.
마스크(100)는 용접을 수행할 영역에 대응하는 복수의 용접부(WP)를 포함한다. 용접부(WP) 마스크(100)의 테두리 또는 더미(DM) 부분에서 소정 간격을 따라 복수개 배치되어 있다.
도 1을 참조하면, 종래에는 긴 스틱 마스크(10)를 인장한 후 프레임(20)에 부착하기 위해 스틱 마스크(10)의 두측(좌/우측)에만 용접(W)을 수행한다. 스틱 마스크(10)의 두측만 프레임(20)에 대응하며, 나머지 두측(상/하측)은 프레임(20)에 대응하기 어렵기 때문에 두측에서만 용접(W)을 수행할 수 밖에 없다. 따라서, 용접(W)되어 고정되는 두측(좌/우측)과 나머지 두측(상/하측) 간에는 가해지는 장력에서 차이가 발생할 수 있다. 두측(좌/우측)은 팽팽하게 부착되는 반면, 나머지 두측(상/하측) 부분은 쳐지거나 주름이 생기는 등 변형이 발생하는 문제점이 생긴다.
따라서, 본 발명은 마스크(100)를 프레임(200)에 부착할때, 두측이 아닌 모든 측(일 예로 네측, 상하좌우측)을 용접하는 것을 특징으로 한다. 도 3과 같이, 사각형 마스크(100)에서, 용접이 수행될 영역인 용접부(WP: WP1)가 마스크(100)의 네측을 따라 소정 간격을 이루며 배치될 수 있다. 마스크(100)의 네측을 따라 용접을 수행[도 7 참조]하면, 마스크의 네측 모두가 프레임(200)에 부착되기 때문에 네측에서 프레임(200)에 인가하는 또는 인가받는 장력의 크기가 균일해질 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)의 모든 측에서 변형이 발생하는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 이에 더하여, 본 발명은 마스크(100)의 네측 중 꼭지점 부분에 용접을 더 수행할 수 있다. 도 3을 참조하면, 용접이 수행될 영역인 용접부(WP)는 전체적으로 사각 형태로 배치된다. 따라서, 마스크(100)를 프레임(200)에 용접한 후에 용접된 사각의 꼭지점 부분에 스트레스가 집중될 위험이 있다. 꼭지점 부분에 응력이 집중되어 주름이 발생함에 따라 마스크 패턴(P)들이 전체적으로 정렬오차가 발생할 수 있다. 따라서, 마스크(100)의 꼭지점 부분에 대해서는 용접부(WP2)를 더 배치하여 용접을 수행할 수 있다.
용접부(WP2)의 간격은 용접부(WP1)들의 간격보다 더 좁게 형성될 수 있다. 예를 들어, 용접부(WP1)간의 간격이 2mm이면, 용접부(WP2)들의 간격은 1mm로 설정할 수 있다. 또는, 간격은 용접부(WP1)과 동일하여도 단위 면적당 용접부(WP2)의 개수를 더 많도록 배치할 수 있다. 도 3에서는 용접부(WP2)가 가로 3개 세로 3개의 배열을 이루는 것이 도시되나, 용접부(WP2)들이 배치되는 형태에 있어서는 제한이 없다. 용접부(WP2)가 용접부(WP1)보다 촘촘하게 배치되므로, 마스크(100)의 꼭지점 부분에서 용접에 의한 용접비드(WB)가 더 많이 생성되고, 마스크(100)와 프레임(200)을 안정적으로 고정 부착하기 때문에, 나머지 용접부(WP1)에 대한 용접이 수행되어도 마스크(100)의 주름, 쳐짐 등의 변형이 발생하는 것을 더욱 방지할 수 있는 효과가 있다.
한편, 용접부(WP: WP1, WP2)에 레이저를 조사하여 용접을 수행할때, 용접비드(WB)가 충분히 형성되면서 용접이 안정적으로 진행될 수 있도록, 용접부(WP)의 두께는 나머지 영역보다 두껍게 형성할 수도 있다.
도 4 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿 상에 마스크 금속막을 접착하고 마스크를 형성하여 마스크 지지 템플릿을 제조하는 과정을 나타내는 개략도이다. 도 4 및 도 5에서는 마스크 금속막(110)을 템플릿(50)에 접착한 후에 마스크 패턴(P)을 형성하는 과정을 설명하나, 마스크 패턴(P)이 미리 형성된 마스크(100)[도 3 참조]를 템플릿(50)에 접착하여 마스크(100)를 지지하는 템플릿(50)의 제조를 완료할 수도 있다. 마스크(100)를 바로 템플릿(50)에 접착하는 경우, 도 4의 (b) 내지 도 5의 (d) 공정이 생략될 수 있다.
도 4의 (a)를 참조하면, 템플릿(template; 50)을 제공할 수 있다. 템플릿(50)은 마스크(100)가 일면 상에 부착되어 지지된 상태로 이동시킬 수 있는 매개체이다. 템플릿(50)의 일면은 평평한 마스크(100)를 지지하여 이동시킬 수 있도록 평평한 것이 바람직하다. 중심부(50a)는 마스크 금속막(110)의 마스크 셀(C)에 대응하고, 테두리부(50b)는 마스크 금속막(110)의 더미(DM)에 대응할 수 있다. 마스크 금속막(110)이 전체적으로 지지될 수 있도록 템플릿(50)의 크기는 마스크 금속막(110)보다 면적이 큰 평판 형상일 수 있다.
템플릿(50)은 템플릿(50)의 상부에서 조사하는 레이저(L)가 마스크(100)의 용접부(용접을 수행할 영역; WP)에까지 도달할 수 있도록, 템플릿(50)에는 레이저 통과공(51)이 형성될 수 있다. 레이저 통과공(51)은 용접부(WP)의 위치 및 개수에 대응하도록 템플릿(50)에 형성될 수 있다. 용접부(WP)는 마스크(100)의 테두리 또는 더미(DM) 부분에서 소정 간격을 따라 복수개 배치되어 있으므로, 레이저 통과공(51)도 이에 대응하도록 소정 간격을 따라 복수개 형성될 수 있다. 일 예로, 용접부(WP)는 마스크(100)의 네측(상하좌우측) 더미(DM) 부분에 소정 간격을 따라 복수개 배치되어 있으므로, 레이저 통과공(51)도 템플릿(50)의 네측(상하좌우측)에 소정 간격을 따라 복수개 형성될 수 있다. 또한, 이에 더하여, 용접부(WP2)는 마스크(100)의 꼭지점 부분에 더 형성될 수 있으므로, 이에 대응하도록 레이저 통과공(51)도 템플릿(50)의 꼭지점 부분에 더 형성될 수 있다.
레이저 통과공(51)은 반드시 용접부의 위치 및 개수에 대응될 필요는 없다. 예를 들어, 레이저 통과공(51) 중 일부에 대해서만 레이저(L)를 조사하여 용접을 수행할 수도 있다. 또한, 용접부에 대응되지 않는 레이저 통과공(51) 중 일부는 마스크(100)와 템플릿(50)을 정렬할 때 얼라인 마크를 대신하여 사용할 수도 있다. 만약, 템플릿(50)의 재질이 레이저(L) 광에 투명하다면 레이저 통과공(51)을 형성하지 않을 수도 있다.
템플릿(50)의 일면에는 임시접착부(55)가 형성될 수 있다. 임시접착부(55)는 마스크(100)가 프레임(200)에 부착되기 전까지 마스크(100)[또는, 마스크 금속막(110)]이 임시로 템플릿(50)의 일면에 접착되어 템플릿(50) 상에 지지되도록 할 수 있다.
임시접착부(55)는 열을 가함에 따라 분리가 가능한 접착제, UV 조사에 의해 분리가 가능한 접착제를 사용할 수 있다.
일 예로, 임시접착부(55)는 액체 왁스(liquid wax)를 사용할 수 있다. 액체 왁스는 반도체 웨이퍼의 폴리싱 단계 등에서 이용되는 왁스와 동일한 것을 사용할 수 있고, 그 유형이 특별히 한정되지는 않는다. 액체 왁스는 주로 유지력에 관한 접착력, 내충격성 등을 제어하기 위한 수지 성분으로 아크릴, 비닐아세테이트, 나일론 및 다양한 폴리머와 같은 물질 및 용매를 포함할 수 있다. 일 예로, 임시접착부(55)는 수지 성분으로 아크릴로나이트릴 뷰타디엔 고무(ABR, Acrylonitrile butadiene rubber), 용매 성분으로 n-프로필알코올을 포함하는 SKYLIQUID ABR-4016을 사용할 수 있다. 액체 왁스는 스핀 코팅을 사용하여 임시접착부(55) 상에 형성할 수 있다.
액체 왁스인 임시접착부(55)는 85℃~100℃보다 높은 온도에서는 점성이 낮아지고, 85℃보다 낮은 온도에서 점성이 커지고 고체처럼 일부 굳을 수 있어, 마스크 금속막(110')과 템플릿(50)을 고정 접착할 수 있다.
다음으로, 도 4의 (b)를 참조하면, 템플릿(50) 상에 마스크 금속막(110')[또는, 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)]을 접착할 수 있다. 액체 왁스를 85℃이상으로 가열하고 마스크 금속막(110')을 템플릿(50)에 접촉시킨 후, 마스크 금속막(110') 및 템플릿(50)을 롤러 사이에 통과시켜 접착을 수행할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 템플릿(50)에 약 120℃, 60초 동안 베이킹(baking)을 수행하여 임시접착부(55)의 솔벤트를 기화시키고, 곧바로, 마스크 금속막 라미네이션(lamination) 공정을 진행할 수 있다. 라미네이션은 임시접착부(55)가 일면에 형성된 템플릿(50) 상에 마스크 금속막(110')을 로딩하고, 약 100℃의 상부 롤(roll)과 약 0℃의 하부 롤 사이에 통과시켜 수행할 수 있다. 그 결과로, 마스크 금속막(110')이 템플릿(50) 상에서 임시접착부(55)를 개재하여 접촉될 수 있다.
한편, 마스크 금속막(110) 또는 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)를 템플릿(50) 상에 접착할 때, 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)의 적어도 두 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로 템플릿(50)에 접착할 수 있다. 이후, 마스크 금속막(110)의 경우는 인장력이 가해진 상태로 템플릿(50) 상에 접착되어 마스크 패턴(P) 형성 공정이 추가로 수행될 수 있다. 이에 따라, 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)는 그 자체에 인장력을 보유한 상태로 템플릿(50) 상에 접착 고정될 수 있다. 이 잔존 인장력은 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)가 템플릿(50)과 분리되기 전까지 유지될 수 있다.
이어서, 도 4의 (b)를 더 참조하면, 마스크 금속막(110')의 일면을 평탄화(PS) 할 수도 있다. 압연 공정으로 제조된 마스크 금속막(110')은 평탄화(PS) 공정으로 두께를 감축(110' -> 110)시킬 수 있다. 그리고, 전주 도금 공정으로 제조된 마스크 금속막(110)도 표면 특성, 두께의 제어를 위해 평탄화(PS) 공정이 수행될 수 있다.
이에 따라, 도 4의 (c)와 같이, 마스크 금속막(110')의 두께가 감축(110' -> 110)됨에 따라, 마스크 금속막(110)은 두께가 약 5㎛ 내지 20㎛가 될 수 있다.
다음으로, 도 5의 (d)를 참조하면, 마스크 금속막(110) 상에 패턴화된 절연부(25)를 형성할 수 있다. 절연부(25)는 프린팅 법 등을 이용하여 포토레지스트 재질로 형성될 수 있다.
이어서, 마스크 금속막(110)의 식각을 수행할 수 있다. 건식 식각, 습식 식각 등의 방법을 제한없이 사용할 수 있고, 식각 결과 절연부(25) 사이의 빈 공간(26)으로 노출된 마스크 금속막(110)의 부분이 식각될 수 있다. 마스크 금속막(110)의 식각된 부분은 마스크 패턴(P)을 구성하고, 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)가 제조될 수 있다.
다음으로, 도 5의 (e)를 참조하면, 절연부(25)를 제거하여 마스크(100)를 지지하는 템플릿(50)의 제조를 완료할 수 있다.
프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다. 또한, 복수개의 마스크(100)의 각각을 지지하는 복수의 템플릿(50)을 구비할 수 있다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿(50)을 프레임(200) 상에 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다. 도 6에는 하나의 마스크(100)를 셀 영역(CR)에 대응/부착하는 것이 예시되나, 복수의 마스크(100)를 동시에 각각 모든 셀 영역(CR)에 대응시켜서 마스크(100)를 프레임(200)에 부착하는 과정을 수행할 수도 있다. 이 경우, 복수개의 마스크(100)의 각각을 지지하는 복수의 템플릿(50)을 구비할 수 있다.
템플릿(50)은 진공 척(90)에 의해 이송될 수 있다. 진공 척(90)으로 마스크(100)가 접착된 템플릿(50) 면의 반대 면을 흡착하여 이송할 수 있다. 진공 척(90)이 템플릿(50)을 흡착하여 플립한 후, 프레임(200) 상으로 템플릿(50)을 이송하는 과정에서도, 마스크(100)의 접착 상태 및 정렬 상태에는 영향이 없게 된다.
다음으로, 도 6을 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 템플릿(50)을 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩하는 것으로 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수 있다. 템플릿(50)/진공 척(90)의 위치를 제어하면서, 현미경을 통해 마스크(100)가 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는지 살펴볼 수 있다. 템플릿(50)이 마스크(100)를 압착하므로, 마스크(100)와 프레임(200)은 긴밀히 맞닿을 수 있다.
한편, 하부 지지체(70)를 프레임(200) 하부에 더 배치할 수도 있다. 하부 지지체(70)는 마스크(100)가 접촉하는 마스크 셀 영역(CR)의 반대면을 압착할 수 있다. 동시에, 하부 지지체(70)와 템플릿(50)이 상호 반대되는 방향으로 마스크(100)의 테두리 및 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]를 압착하게 되므로, 마스크(100)의 정렬 상태가 흐트러지지 않고 유지될 수 있게 된다.
이어서, 마스크(100)에 레이저(L)를 조사하여 레이저 용접에 의해 마스크(100)를 프레임(200)에 부착할 수 있다. 레이저 용접된 마스크의 용접부 부분에는 용접 비드(WB)가 생성되고, 용접 비드(WB)는 마스크(100)/프레임(200)과 동일한 재질을 가지고 일체로 연결될 수 있다.
한편, 일 실시예에 따르면, 레이저(L)는 용접부(WP2)에 먼저 조사하여 마스크(100)의 꼭지점을 프레임(200)에 팽팽하게 고정 부착한 후, 용접부(WP1)에 조사하여 부착 공정을 완료할 수 있다. 또는, 레이저(L)는 마스크(100)의 모든 측면에 동일한 간격, 즉, 용접부(WP1)의 간격에 따라 먼저 조사하여 1차 부착 후, 용접부(WP2)에 추가적으로 레이저(L)를 조사하여 2차로 부착을 견고하게 할 수도 있다. 또는, 레이저(L) 조사 과정에서 마스크(100)와 프레임(200) 사이에서의 변형 상태를 실시간으로 살펴보면서 용접부(WP1)나 용접부(WP2)에 조사하는 것을 제어할 수도 있다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 후 마스크(100)와 템플릿(50)을 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 7을 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 후, 마스크(100)와 템플릿(50)을 분리(debonding)할 수 있다. 마스크(100)와 템플릿(50)의 분리는 임시접착부(55)에 열 인가(ET), 화학적 처리(CM), 초음파 인가(US), UV 인가(UV) 중 적어도 어느 하나를 통해 수행할 수 있다. 마스크(100)는 프레임(200)에 부착된 상태를 유지하므로, 템플릿(50)만을 들어올릴 수 있다. 일 예로, 85℃~100℃보다 높은 온도의 열을 인가(ET)하면 임시접착부(55)의 점성이 낮아지게 되고, 마스크(100)와 템플릿(50)의 접착력이 약해지게 되어, 마스크(100)와 템플릿(50)이 분리될 수 있다. 다른 예로, IPA, 아세톤, 에탄올 등의 화학 물질에 임시접착부(55)를 침지(CM)함으로서 임시접착부(55)를 용해, 제거 등의 방식으로 마스크(100)와 템플릿(50)이 분리될 수 있다. 다른 예로, 초음파를 인가(US)하거나, UV를 인가(UV)하면 마스크(100)와 템플릿(50)의 접착력이 약해지게 되어, 마스크(100)와 템플릿(50)이 분리될 수 있다.
한편, 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)를 템플릿(50) 상에 접착할 때, 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)의 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로 템플릿(50)에 접착한 경우라면, 마스크(100)로부터 템플릿(50)이 분리될 때 마스크(100)에 작용하던 인장력이 해제되면서 마스크(100)의 양측을 팽팽하게 하는 장력으로 전환될 수 있다. 이에 따라, 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 장력을 인가하여 마스크(100)가 팽팽한 상태로 부착될 수 있다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다. 도 8에서는 모든 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 부착한 상태를 나타낸다. 하나씩 마스크(100)를 부착한 후 템플릿(50)을 분리할 수 있지만, 모든 마스크(100)를 부착한 후 모든 템플릿(50)을 분리할 수 있다.
종래의 도 1의 마스크(10)는 셀 6개(C1~C6)를 포함하므로 긴 길이를 가지는데 반해, 본 발명의 마스크(100)는 셀 1개(C)를 포함하여 짧은 길이를 가지므로 PPA(pixel position accuracy)가 틀어지는 정도가 작아질 수 있다. 또한, 본 발명은 마스크(100)의 하나의 셀(C)을 대응시키고 정렬 상태를 확인하기만 하면 되므로, 복수의 셀(C: C1~C6)을 동시에 대응시키고 정렬 상태를 모두 확인하여야 하는 종래의 방법[도 1 참조]보다, 제조시간을 현저하게 감축시킬 수 있다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 자중에 의한 마스크의 Z축 변위량, 무게추에 의한 마스크의 Z축 변위량을 나타내는 개략 측단면도이다.
프레임 일체형 마스크(100, 200), 특히, 마스크(100) 부분은 OLED 화소 형성이 되는 대상 기판에 밀착되거나 매우 근접하게 배치되는 것이 요구된다. 마스크(100)를 통과한 유기물 소스가 대상 기판 상에 OLED 화소를 형성할때, 마스크(100)와 대상 기판과의 간격이 멀어질수록 명확한 품질의 OLED 화소를 형성하기 어렵게 된다.
따라서, 대상 기판과의 밀착성이 향상되도록, 마스크(100)는 플랫(flat)한 상태, 또는 적어도 처짐이 없거나 상부로 볼록한 상태로 마스크 셀 시트부(220)에 부착되는 것이 가장 바람직하다. 하지만, 마스크 셀 시트부(220) 및 마스크(100)가 대면적화 되면서 하중에 의해 완벽하게 플랫한 상태를 유지하기는 쉽지 않다. 이에 따라, Z축 기준 - 방향으로 처짐(H1, H2)[또는, 변위]이 발생할 수 있다.
도 9의 (a)는 마스크 셀 시트부(220)에 부착된 마스크(100)가 자중에 의해 Z축에서 - 방향으로 처짐(H1)이 발생한 상태, 도 9의 (b)는 마스크 셀 시트부(220)에 부착된 마스크(100)의 중앙 상에 무게추(M)를 올려놓았을때 마스크(100)의 Z축에서 - 방향으로 처짐(H2)이 발생한 상태를 나타낸다. 무게추(M)의 무게에 의해 처짐량(H2)이 처짐량(H1)보다 더 큰 것은 물론이다.
도 10은 본 발명의 여러 실험예에 따른 자중에 의한 마스크의 Z축 변위량을 나타내는 그래프이다. 본 발명의 실험예에서는 마스크(100)에 대해 두측 및 네측에 대해서 용접을 수행하였다.
샘플 A는 두께 15㎛의 마스크의 단축변 및 장축변인 네측에 대해 용접을 수행한 것, 샘플 B는 두께 15㎛의 마스크의 단축변인 두측에 대해 용접을 수행한 것, 샘플 C는 두께 25㎛의 마스크의 단축변 및 장축변인 네측에 대해 용접을 수행한 것, 샘플 D는 두께 25㎛의 마스크의 단축변인 두측에 대해 용접을 수행한 것이다. 용접은 용접부(WP1)만 형성하고 용접부(WP2)는 형성하지 않았다. 3mm 간격으로 Z축 값의 최대(max)/최소(min) 값을 측정하였다. 그리고, 도 9의 (a)에 대응하는 처짐량(H1)을 산출하여 아래 표 1과 같이 나타내었다.
샘플 A 샘플 B 샘플 C 샘플 D
처짐량(㎛) 21.2 30.6 20.5 73.2
도 10 및 표 1을 참조하면, 동일한 15㎛ 두께의 마스크에서도 네측을 용접한 샘플 A 가 두측을 용접한 샘플 B보다 처짐량(H1)이 개선됨을 확인할 수 있다. 또한, 동일한 25㎛ 두께의 마스크에서도 네측을 용접한 샘플 C 가 두측을 용접한 샘플 D보다 처짐량이 개선됨을 확인할 수 있다. 한편, 도 10에서 최대(max) 값이 양의 수치로 나온 것은 마스크(100)가 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)에 용접된 주변에서의 버(burr)에 의한 것으로서, 상기 표 1에는 Z축의 음의 수치에 대한 절대값을 처짐량(H1)으로 나타내었다.
마스크의 네측을 용접한 경우, 두측을 용접한 경우보다 마스크(100)의 자중에 의한 처짐량이 약 70% 이하(0 초과)로 개선될 수 있다. 실험예를 살펴보면, 샘플 B와 대비해서 샘플 A는 약 69.3%로 처짐량(H1)이 개선되고, 샘플 D와 대비해서 샘플 C는 약 28.0%로 처짐량(H1)이 개선됨을 확인할 수 있다.
도 11은 본 발명의 여러 실험예에 따른 무게추에 의한 마스크의 Z축 변위량을 나타내는 그래프이다.
샘플 A 내지 샘플 D는 도 10과 동일하다. 그리고, 도 9의 (b)와 같이 마스크(100)의 중앙 상에 60g 무게추(M)를 올려놓은 상태에서 Z축 변위량을 측정하였다. 3mm 간격으로 Z축 값의 최대(max)/최소(min) 값을 획측정하였다. 그리고, 도 9의 (b)에 대응하는 처짐량(H2)을 산출하여 아래 표 2와 같이 나타내었다.
샘플 A 샘플 B 샘플 C 샘플 D
처짐량(mm) 1.174 1.583 1.022 1.284
도 11 및 표 2를 참조하면, 동일한 15㎛ 두께의 마스크에서도 네측을 용접한 샘플 A 가 두측을 용접한 샘플 B보다 처짐량(H2)이 개선됨을 확인할 수 있다. 또한, 동일한 25㎛ 두께의 마스크에서도 네측을 용접한 샘플 C 가 두측을 용접한 샘플 D보다 처짐량이 개선됨을 확인할 수 있다.
마스크의 네측을 용접한 경우, 두측을 용접한 경우보다 마스크(100)의 무게추(M)에 의한 처짐량이 약 50% ~ 80%로 개선될 수 있다. 실험예를 살펴보면, 샘플 B와 대비해서 샘플 A는 약 74.2%로 처짐량(H1)이 개선되고, 샘플 D와 대비해서 샘플 C는 약 79.6%로 처짐량(H1)이 개선됨을 확인할 수 있다.
도 10 및 도 11의 결과를 보면, 마스크(100)의 네측을 용접하는 경우, 즉, 마스크(100)의 네측에 용접부(WP1)를 형성하는 경우 처짐량(H1)이 개선될 수 있다. 다시 말해, 본 발명은 마스크(100)를 마스크 셀 시트부(220)에 부착할 때, 네측을 용접함에 따라서 처짐량(H1)이 적어지고 마스크(100)를 더욱 팽팽한 상태로 프레임(200)에 부착할 수 있는 것을 특징으로 한다.
도 7에서 상술한 바와 같이, 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)를 템플릿(50) 상에 접착할 때, 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)의 측면 방향으로 인장력이 가해진 상태로 템플릿(50)에 접착하면, 마스크(100)가 프레임(200)에 부착된 후[도 6 참조], 마스크(100)로부터 템플릿(50)이 분리될 때[도 7 참조], 마스크(100)에 작용하던 인장력이 해제되면서 마스크(100)의 양측을 팽팽하게 하는 장력으로 전환될 수 있다. 이에 따라, 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 장력을 인가하여 마스크(100)가 팽팽한 상태로 부착된다.
도 10 및 도 11과 같이 마스크(100)의 네측을 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 용접하여 부착하면, 마스크(100)의 두측을 용접 부착하는 것보다 마스크(100)의 처짐량(H1)이 개선되므로, 상대적으로 마스크(100) 자체에서 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 가하는 인장력을 줄일 수 있게 된다. 즉, 템플릿(50) 상에서 마스크(100)의 측면 방향으로 가해지는 인장력을 감축할 수 있는 효과가 있다. 종전에 마스크(100)의 두측만을 용접 부착한 경우에 비교하여, 마스크(100)의 측면 방향으로 적은 인장력을 가한 상태로 프레임(200)에 부착하더라도 마스크(100)의 네측을 용접 부착한 것이 처짐량(H1)이 개선되는 것이다.
또한, 마스크(100)의 두측을 용접 부착하는 경우보다, 마스크(100)의 네측을 용접 부착하는 경우에 프레임(200)의 크기, 중량 등을 낮출 수 있는 효과가 있다. 이에 대해서는, 도 12 및 도 13을 참조하여 설명한다.
도 12는 본 발명의 비교예에 따른 마스크의 두측을 용접하는 경우의 마스크에 가하는 인장력, 마스크의 처짐량 및 프레임의 크기를 나타내는 개략도이다. 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크의 네측을 용접하는 경우의 마스크에 가하는 인장력, 마스크의 처짐량 및 프레임의 크기를 나타내는 개략도이다.
도 12를 참조하면, 스틱형 마스크(10)는 좌우측만 용접(W)을 수행하여 프레임(20)에 부착하게 된다. 스틱형 마스크(10)는 긴 형태를 가지므로 가운데 부분의 처짐량(H')이 본원발명의 하나의 셀(C)을 가지는 마스크(100)보다 클 수밖에 없다. 여기에 더하여 최근에 8G처럼 더 스틱형 마스크(10)가 길어지는 경우 처짐량(H')은 더 커지게 마련이다. 처짐량(H')을 줄이기 위해서는 훨씬 큰 인장력(F1, F2)을 스틱형 마스크(10)의 측면 방향으로 가해줘야한다. 또한, 더 커진 인장력을 지지하고 버틸 수 있도록 프레임(20)의 강성도 커져야한다. 이에 따라, 스틱형 마스크(10)가 커질수록 프레임(20)의 폭(T1'), 두께(T2')가 커져야하며, 프레임(20)의 전체 중량도 늘어날 수 밖에 없는 문제점이 있다. 또한, 커지고 무거워진 프레임(20)을 이동시키는 로봇의 가반하중이 커지므로 로봇도 커지게 설계해야하며, 로봇의 운동반경도 커지게 되므로 전체적인 증착 설비가 커질 수 밖에 없는 문제점이 있다.
반면에, 도 13을 참조하면, 본원발명의 마스크(100)는 네측에 용접(W)을 수행하여 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220: 221, 223, 225)]에 부착하게 된다. 마스크(100)의 두측에 용접(W)을 수행하는 경우보다 네측에 용접(W)을 수행하는 경우가 마스크(100)의 처짐량(H)이 적어지므로, 마스크(100)의 측면 방향으로 가하는 인장력(F)이 감소될 수 있음은 상술한 바 있다. 따라서, 줄어든 인장력(F)을 지지하고 버틸 수 있도록 프레임(200) [또는, 마스크 셀 시트부(220: 221, 223, 225)]의 설계가 가능한 이점이 있다. 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220: 221, 223, 225)]의 폭(T1), 두께(T2)를 더 감축시킬 수 있고, 프레임(200)의 전체 중량도 감소할 수 있게 된다. 이에 따라, 프레임(200)을 이동시키는 로봇의 가반하중 및 운동반경이 낮아져 전체적인 증착 설비의 크기도 감축할 수 있는 효과가 있다.
본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.
50: 템플릿(template)
51: 레이저 통과공
55: 임시접착부
100: 마스크
110: 마스크 막, 마스크 금속막
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
221: 테두리 시트부
223: 제1 그리드 시트부
225: 제2 그리드 시트부
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
DM: 더미, 마스크 더미
P: 마스크 패턴
WB: 용접 비드
WP, WP1, WP2: 용접부

Claims (6)

  1. 복수의 마스크와 상기 마스크를 지지하는 프레임이 일체로 형성된 프레임 일체형 마스크에서 상기 마스크를 프레임에 부착하는 과정에서 상기 마스크의 측면에 가하는 인장력을 감축하는 방법으로서,
    상기 프레임은, 중공 영역을 포함하는 테두리 프레임부; 및 복수의 마스크 셀 영역을 구비하며, 상기 테두리 프레임부에 연결되는 마스크 셀 시트부;를 포함하고,
    상기 마스크 셀 시트부는, 테두리 시트부; 제1 방향으로 연장 형성되고, 양단이 상기 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제1 그리드 시트부; 및 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 연장 형성되어 상기 제1 그리드 시트부와 교차되고, 양단이 상기 테두리 시트부에 연결되는 적어도 하나의 제2 그리드 시트부;를 포함하며,
    상기 마스크 셀 시트부는, 제1 방향, 제1 방향에 수직인 제2 방향 중 적어도 하나의 방향을 따라 복수의 마스크 셀 영역을 구비하고,
    상기 마스크를 상기 마스크 셀 시트부의 상기 마스크 셀 영역에 대응하고 부착하는 과정에서 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는, 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 마스크는 사각 형상을 가지고,
    상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우에 상기 마스크의 측면에 가하는 인장력을 감축할 수 있는, 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우가, 상기 마스크가 상기 마스크 셀 시트부에 부착된 후 상기 마스크의 자중에 의한 처짐량이 적은, 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법.
  4. 제3항에 있어서,
    동일한 두께의 마스크를 기준으로, 상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우의 상기 마스크의 자중에 의한 처짐량보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우의 상기 마스크의 자중에 의한 처짐량이 70% 이하(0 초과)인, 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    동일한 두께의 마스크를 기준으로, 상기 마스크 상에 60g의 추를 올려놓았을때, 상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우의 상기 마스크의 처짐량보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우의 상기 마스크의 처짐량이 50% 내지 80%인, 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 마스크의 두측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우보다, 상기 마스크의 네측 상에 소정 간격을 따라 복수의 용접부를 형성하는 경우에 상기 테두리 프레임부, 상기 마스크 셀 시트부 중 적어도 어느 하나의 크기 또는 중량을 낮출 수 있는, 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법.
KR1020220058372A 2022-05-12 2022-05-12 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법 KR20230158805A (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220058372A KR20230158805A (ko) 2022-05-12 2022-05-12 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법
CN202310279702.7A CN117051356A (zh) 2022-05-12 2023-03-20 用于缩减施加于掩模的拉伸力的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220058372A KR20230158805A (ko) 2022-05-12 2022-05-12 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230158805A true KR20230158805A (ko) 2023-11-21

Family

ID=88663290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220058372A KR20230158805A (ko) 2022-05-12 2022-05-12 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR20230158805A (ko)
CN (1) CN117051356A (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
CN117051356A (zh) 2023-11-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102236542B1 (ko) 마스크 지지 템플릿, 마스크 금속막 지지 템플릿, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102314852B1 (ko) 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크
KR102236538B1 (ko) 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102202529B1 (ko) 프레임 일체형 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 마스크 분리/교체 방법
KR101986528B1 (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102358268B1 (ko) 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법
KR102101257B1 (ko) 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102196797B1 (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR20200065576A (ko) 마스크 지지 템플릿, 마스크 금속막 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102130081B1 (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR20210131226A (ko) 마스크의 부착 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR20230158805A (ko) 마스크에 가하는 인장력의 감축 방법
KR102242813B1 (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크와 그의 제조 방법
KR20210103445A (ko) 마스크 지지 템플릿, 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR20220071891A (ko) Oled 화소 형성용 마스크 및 프레임 일체형 마스크
KR102618776B1 (ko) 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102404746B1 (ko) 마스크 지지 템플릿의 제조 방법, 마스크 인장력 작용 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102252005B1 (ko) 마스크 지지 템플릿과 그의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크와 그의 제조 방법
KR102657424B1 (ko) 마스크 지지 템플릿의 제조 방법, 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102637523B1 (ko) 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법, 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법
KR102188948B1 (ko) 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102301332B1 (ko) 마스크 지지 템플릿의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR102560422B1 (ko) 프레임 일체형 마스크에 사용되는 프레임의 크기 설정 방법, 변형량 감소 방법 및 프레임
KR102637522B1 (ko) 마스크 셀 시트부의 변형량 감축 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
KR20210143520A (ko) Oled 화소 형성용 마스크, 마스크 지지 템플릿 및 프레임 일체형 마스크