KR102612737B1 - Display device - Google Patents

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KR102612737B1
KR102612737B1 KR1020170182152A KR20170182152A KR102612737B1 KR 102612737 B1 KR102612737 B1 KR 102612737B1 KR 1020170182152 A KR1020170182152 A KR 1020170182152A KR 20170182152 A KR20170182152 A KR 20170182152A KR 102612737 B1 KR102612737 B1 KR 102612737B1
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조광남
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Abstract

본 발명은 전원 라인의 저항이 감소되지 않으면서 봉지막을 이루는 무기막에 심이 발생하는 것을 방지할 수 있는 표시장치를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 화소들이 배치된 표시 영역, 및 복수의 패드들이 배치된 비표시 영역을 포함하는 제1 기판, 제1 기판 상에 형성되고, 복수의 패드들 중 적어도 하나로부터 공급된 전원 전압을 상기 화소로 공급하는 전원 라인, 및 전원 라인의 일단을 덮도록 형성된 댐을 포함한다.The present invention provides a display device that can prevent seams from forming in the inorganic film forming the encapsulation film without reducing the resistance of the power line. A display device according to an embodiment of the present invention includes a first substrate including a display area on which pixels are arranged and a non-display area on which a plurality of pads are arranged, and at least one of the plurality of pads. It includes a power line that supplies a power voltage supplied from the pixel to the pixel, and a dam formed to cover one end of the power line.

Description

표시장치{DISPLAY DEVICE}Display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device.

정보화 사회가 발전함에 따라 영상을 표시하기 위한 표시장치에 관한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있다. 이에 따라, 최근에는 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(PDP: Plasma Display Panel)와 같은 비자발광 표시 장치 및 유기발광표시장치(OLED: Organic Light Emitting Display), 퀀텀닷발광표시장치 (QLED: Quantum dot Light Emitting Display)와 같은 전계발광표시장치 (Electroluminescence Display)등 여러가지 표시장치가 활용되고 있다.As the information society develops, the demand for display devices for displaying images is increasing in various forms. Accordingly, recently, non-light emitting displays such as liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), organic light emitting displays (OLEDs), and quantum dot emitting displays have been developed. Various display devices, such as electroluminescence displays (QLED: Quantum dot Light Emitting Display), are being used.

표시장치들 중에서 유기발광표시장치 및 퀀텀닷발광표시장치는 자체발광형으로서, 액정표시장치(LCD)에 비해 시야각, 대조비 등이 우수하며, 별도의 백라이트가 필요하지 않아 경량 박형이 가능하며, 소비전력이 유리한 장점이 있다. 또한, 유기발광표시장치는 직류저전압 구동이 가능하고, 응답속도가 빠르며, 특히 제조비용이 저렴한 장점이 있다.Among display devices, organic light emitting displays and quantum dot light emitting displays are self-emitting types and have superior viewing angles and contrast ratios compared to liquid crystal displays (LCDs). They do not require a separate backlight, allowing for lightweight and thin design, and are expected to increase consumption. Power is an advantage. In addition, organic light emitting display devices have the advantage of being capable of driving at low direct current voltages, having a fast response speed, and especially low manufacturing costs.

유기발광표시장치는 표시 영역에 발광소자를 포함하는 화소들을 포함한다. 뱅크는 화소 정의막으로 역할을 할 수 있다. 발광소자는 애노드 전극, 정공 수송층(hole transporting layer), 발광층(organic light emitting layer), 전자 수송층(electron transporting layer), 및 캐소드 전극을 포함한다. 이 경우, 애노드 전극에 고전위 전압이 인가되고 캐소드 전극에 저전위 전압이 인가되면 정공과 전자가 각각 정공 수송층과 전자 수송층을 통해 발광층으로 이동되며, 발광층에서 서로 결합하여 발광하게 된다.An organic light emitting display device includes pixels including light emitting elements in a display area. The bank can serve as a pixel defining layer. The light emitting device includes an anode electrode, a hole transporting layer, an organic light emitting layer, an electron transporting layer, and a cathode electrode. In this case, when a high potential voltage is applied to the anode electrode and a low potential voltage is applied to the cathode electrode, holes and electrons move to the light-emitting layer through the hole transport layer and electron transport layer, respectively, and combine with each other in the light-emitting layer to emit light.

발광소자는 외부의 수분, 산소와 같은 외적 요인에 의해 쉽게 열화가 일어나는 단점이 있다. 이를 방지하기 위하여, 유기발광표시장치는 외부의 수분, 산소가 발광소자에 침투되지 않도록 봉지막을 형성한다. 일반적으로, 봉지막은 무기막 및 유기막을 포함함으로써 유기발광소자에 산소 또는 수분이 침투하는 것을 방지한다.Light-emitting devices have the disadvantage of being easily deteriorated by external factors such as external moisture and oxygen. To prevent this, the organic light emitting display device forms an encapsulation film to prevent external moisture and oxygen from penetrating the light emitting device. Generally, the encapsulation film includes an inorganic film and an organic film to prevent oxygen or moisture from penetrating into the organic light emitting device.

화소들 각각의 애노드 전극 및 캐소드 전극은 비표시 영역에 배치된 전원 라인들을 통하여 전압이 인가된다. 전원 라인들은 패드로부터 공급되는 전원 전압을 화소들 각각의 애노드 전극 및 캐소드 전극에 인가한다. 이러한 전원 라인들은 비표시 영역에 배치되어 단차를 발생시킨다. 전원 라인들 상에 봉지막을 형성할 때, 봉지막을 구성하는 무기막은 전원 라인들에 의하여 발생한 단차로 인하여 심(seam)이 발생할 수 있다. 이와 같은 경우에는 심(seam)을 통해 수분 또는 산소가 침투할 수 있다. 이로 인하여, 발광소자는 열화가 일어날 수 있다.Voltage is applied to the anode electrode and cathode electrode of each pixel through power lines disposed in the non-display area. The power lines apply the power voltage supplied from the pad to the anode electrode and cathode electrode of each pixel. These power lines are placed in non-display areas to create a step difference. When forming an encapsulation film on power lines, seams may occur in the inorganic film constituting the encapsulation film due to steps generated by the power lines. In this case, moisture or oxygen may penetrate through the seam. Because of this, deterioration of the light emitting device may occur.

본 발명은 봉지막을 이루는 무기막에 심이 발생하는 것을 방지할 수 있는 표시장치를 제공한다.The present invention provides a display device that can prevent seams from forming in the inorganic film forming the encapsulation film.

또한, 본 발명은 전원 라인의 저항이 감소되는 것을 방지할 수 있는 표시장치를 제공한다.Additionally, the present invention provides a display device that can prevent the resistance of a power line from decreasing.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 화소들이 배치된 표시 영역, 및 복수의 패드들이 배치된 비표시 영역을 포함하는 제1 기판, 제1 기판 상에 형성되고, 복수의 패드들 중 적어도 하나로부터 공급된 전원 전압을 상기 화소로 공급하는 전원 라인, 및 전원 라인의 일단을 덮도록 형성된 댐을 포함한다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a first substrate including a display area on which pixels are arranged and a non-display area on which a plurality of pads are arranged, and at least one of the plurality of pads. It includes a power line that supplies a power voltage supplied from the pixel to the pixel, and a dam formed to cover one end of the power line.

본 발명의 따르면, 제2 전원 라인의 가장자리를 제1 댐 또는 제2 댐에 의하여 덮도록 형성할 수 있다. 이에 따라, 본 발명은 제2 전원 라인에 의하여 봉지막을 이루는 제1 무기막 또는 제2 무기막에 심이 발생하는 것을 방지할 수 있다.According to the present invention, the edge of the second power line can be formed to be covered by the first dam or the second dam. Accordingly, the present invention can prevent seams from occurring in the first inorganic film or the second inorganic film forming the encapsulation film by the second power line.

또한, 본 발명은 제2 기판에 상부 보조 라인을 형성하고 상부 보조 라인을 제1 기판에 형성된 제2 전원 라인과 전기적으로 연결시킬 수 있다. 본 발명은 제2 전원 라인의 형성 면적이 줄어들더라도 제2 전원 라인을 상부 보조 라인과 전기적으로 연결함으로써 제2 전원 전압이 저항의 영향을 받지 않고 제2 전극에 안정적으로 공급될 수 있도록 한다.Additionally, the present invention can form an upper auxiliary line on a second substrate and electrically connect the upper auxiliary line to a second power line formed on the first substrate. The present invention allows the second power voltage to be stably supplied to the second electrode without being affected by resistance by electrically connecting the second power line to the upper auxiliary line even if the formation area of the second power line is reduced.

또한, 본 발명은 제2 전원 라인의 폭을 줄일 수 있다. 결과적으로, 본 발명은 네로우 베젤(narrow bezel)을 구현할 수 있다.Additionally, the present invention can reduce the width of the second power line. As a result, the present invention can implement a narrow bezel.

본 발명에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects that can be obtained from the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the description below. .

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치를 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 제1 기판, 소스 드라이브 IC, 연성필름, 회로보드, 및 타이밍 제어부를 보여주는 평면도이다.
도 3은 제1 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 4는 도 3의 표시영역의 화소의 일 예를 보여주는 단면도이다.
도 5는 도 3에 도시된 Ⅱ-Ⅱ' 선의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 6은 도 3에 도시된 Ⅲ-Ⅲ'선의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 7은 도 5의 변형된 실시예를 나타내는 단면도이다.
도 8은 제1 기판 및 제2 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다.
도 9는 도 8에 도시된 Ⅳ-Ⅳ' 선의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 10은 도 8에 도시된 Ⅴ-Ⅴ' 선의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
1 is a perspective view showing a display device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing the first substrate, source drive IC, flexible film, circuit board, and timing control unit of FIG. 1.
Figure 3 is a plan view schematically showing the first substrate.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a pixel in the display area of FIG. 3.
Figure 5 is a cross-sectional view schematically showing a cross-section taken along line II-II' shown in Figure 3.
FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a cross section taken along line III-III' shown in FIG. 3.
Figure 7 is a cross-sectional view showing a modified embodiment of Figure 5.
Figure 8 is a plan view schematically showing the first and second substrates.
FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a cross section taken along line IV-IV' shown in FIG. 8.
FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a cross section taken along line V-V' shown in FIG. 8.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. The advantages and features of the present invention and methods for achieving them will become clear by referring to the embodiments described in detail below along with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and will be implemented in various different forms. These embodiments only serve to ensure that the disclosure of the present invention is complete, and those skilled in the art It is provided to fully inform the person of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시 예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining embodiments of the present invention are illustrative, and the present invention is not limited to the matters shown. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. Additionally, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.

본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다. When 'includes', 'has', 'consists of', etc. mentioned in this specification are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, the plural is included unless specifically stated otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.When interpreting a component, it is interpreted to include the margin of error even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of a positional relationship, for example, if the positional relationship of two parts is described as 'on top', 'on the top', 'on the bottom', 'next to', etc., 'immediately' Alternatively, there may be one or more other parts placed between the two parts, unless 'directly' is used.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if a temporal relationship is described as 'after', 'successfully after', 'after', 'before', etc., 'immediately' or 'directly' Unless used, non-consecutive cases may also be included.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.Although first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are merely used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may also be the second component within the technical spirit of the present invention.

"X축 방향", "Y축 방향" 및 "Z축 방향"은 서로 간의 관계가 수직으로 이루어진 기하학적인 관계만으로 해석되어서는 아니 되며, 본 발명의 구성이 기능적으로 작용할 수 있는 범위 내에서보다 넓은 방향성을 가지는 것을 의미할 수 있다. “X-axis direction,” “Y-axis direction,” and “Z-axis direction” should not be interpreted as only geometrical relationships in which the relationship between each other is vertical, and should not be interpreted as a wider range within which the configuration of the present invention can function functionally. It can mean having direction.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제 1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다. The term “at least one” should be understood to include all possible combinations from one or more related items. For example, “at least one of the first, second, and third items” means each of the first, second, or third items, as well as two of the first, second, and third items. It can mean a combination of all items that can be presented from more than one.

본 발명의 여러 실시 예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시 예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention can be partially or fully combined or combined with each other, various technical interconnections and operations are possible, and each embodiment can be implemented independently of each other or together in a related relationship. It may be possible.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.

도 1는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치를 보여주는 사시도이다. 도 2은 도 1의 제1 기판, 소스 드라이브 IC, 연성필름, 회로보드, 및 타이밍 제어부를 보여주는 평면도이다. 1 is a perspective view showing a display device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a plan view showing the first substrate, source drive IC, flexible film, circuit board, and timing control unit of FIG. 1.

이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치가 유기발광표시장치(Organic Light Emitting Display)인 것을 중심으로 설명하였으나, 이에 한정되지 않는다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 유기발광표시장치뿐만 아니라, 액정표시장치(Liquid Crystal Display), 전계 방출 표시장치(Field Emission Display), 퀀텀닷발광표시장치 (Quantum dot Lighting Emitting Diode) 및 전기영동 표시장치(Electrophoresis display) 중 어느 하나로 구현될 수도 있다.Below, the description focuses on the fact that the display device according to an embodiment of the present invention is an organic light emitting display, but the present invention is not limited thereto. That is, the display device according to an embodiment of the present invention is not only an organic light emitting display device, but also a liquid crystal display device, a field emission display device, and a quantum dot light emitting diode display device. ) and an electrophoresis display.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(100)는 표시패널(110), 소스 드라이브 집적회로(integrated circuit, 이하 "IC"라 칭함)(140), 연성필름(150), 회로보드(160), 및 타이밍 제어부(170)를 포함한다.1 and 2, a display device 100 according to an embodiment of the present invention includes a display panel 110, a source drive integrated circuit (hereinafter referred to as “IC”) 140, and a flexible film. It includes 150, a circuit board 160, and a timing control unit 170.

표시패널(110)은 제1 기판(111)과 제2 기판(112)을 포함한다. 제2 기판(112)은 봉지 기판일 수 있다. 제1 기판(111)은 플라스틱 필름(plastic film) 또는 유리 기판(glass substrate)일 수 있다. 제2 기판(112)은 플라스틱 필름, 유리 기판, 또는 봉지 필름일 수 있다.The display panel 110 includes a first substrate 111 and a second substrate 112. The second substrate 112 may be an encapsulation substrate. The first substrate 111 may be a plastic film or a glass substrate. The second substrate 112 may be a plastic film, a glass substrate, or an encapsulation film.

제2 기판(112)과 마주보는 제1 기판(111)의 일면 상에는 게이트 라인들, 데이터 라인들, 및 화소들이 형성된다. 화소들은 게이트 라인들과 데이터 라인들의 교차 구조에 의해 정의되는 영역에 마련된다.Gate lines, data lines, and pixels are formed on one side of the first substrate 111 facing the second substrate 112. Pixels are provided in an area defined by the intersection structure of gate lines and data lines.

화소들 각각은 박막 트랜지스터와 제1 전극, 유기발광층, 및 제2 전극을 구비하는 유기발광소자를 포함할 수 있다. 화소들 각각은 박막 트랜지스터를 이용하여 게이트 라인으로부터 게이트 신호가 입력되는 경우 데이터 라인의 데이터 전압에 따라 유기발광소자에 소정의 전류를 공급한다. 이로 인해, 화소들 각각의 유기발광소자는 소정의 전류에 따라 소정의 밝기로 발광할 수 있다. 화소들 각각의 구조에 대한 설명은 도 4를 결부하여 후술한다.Each of the pixels may include an organic light emitting device including a thin film transistor, a first electrode, an organic light emitting layer, and a second electrode. Each of the pixels uses a thin film transistor to supply a predetermined current to the organic light emitting device according to the data voltage of the data line when a gate signal is input from the gate line. Because of this, the organic light emitting element of each pixel can emit light with a predetermined brightness according to a predetermined current. A description of the structure of each pixel will be described later in conjunction with FIG. 4.

표시패널(110)은 화소들이 형성되어 화상을 표시하는 표시영역(DA)과 화상을 표시하지 않는 비표시 영역(NDA)으로 구분될 수 있다. 표시영역(DA)에는 게이트 라인들, 데이터 라인들, 및 화소들이 형성될 수 있다. 비표시 영역(NDA)에는 게이트 구동부 및 패드들이 형성될 수 있다.The display panel 110 can be divided into a display area (DA) in which pixels are formed to display images, and a non-display area (NDA) in which images are not displayed. Gate lines, data lines, and pixels may be formed in the display area DA. A gate driver and pads may be formed in the non-display area NDA.

게이트 구동부는 타이밍 제어부(170)로부터 입력되는 게이트 제어신호에 따라 게이트 라인들에 게이트 신호들을 공급한다. 게이트 구동부는 표시패널(110)의 표시영역(DA)의 일측 또는 양측 바깥쪽의 비표시 영역(DA)에 GIP(gate driver in panel) 방식으로 형성될 수 있다. 또는, 게이트 구동부는 구동 칩으로 제작되어 연성필름에 실장되고 TAB(tape automated bonding) 방식으로 표시패널(110)의 표시영역(DA)의 일측 또는 양측 바깥쪽의 비표시영역(DA)에 부착될 수도 있다.The gate driver supplies gate signals to the gate lines according to the gate control signal input from the timing control unit 170. The gate driver may be formed in the non-display area (DA) outside the display area (DA) on one or both sides of the display panel 110 using a gate driver in panel (GIP) method. Alternatively, the gate driver may be manufactured as a driving chip, mounted on a flexible film, and attached to the non-display area (DA) outside one or both sides of the display area (DA) of the display panel 110 using a TAB (tape automated bonding) method. It may be possible.

소스 드라이브 IC(140)는 타이밍 제어부(170)로부터 디지털 비디오 데이터와 소스 제어신호를 입력받는다. 소스 드라이브 IC(140)는 소스 제어신호에 따라 디지털 비디오 데이터를 아날로그 데이터전압들로 변환하여 데이터 라인들에 공급한다. 소스 드라이브 IC(140)가 구동 칩으로 제작되는 경우, COF(chip on film) 또는 COP(chip on plastic) 방식으로 연성필름(150)에 실장될 수 있다.The source drive IC 140 receives digital video data and source control signals from the timing control unit 170. The source drive IC 140 converts digital video data into analog data voltages according to the source control signal and supplies them to the data lines. When the source drive IC 140 is manufactured as a driving chip, it may be mounted on the flexible film 150 using a chip on film (COF) or chip on plastic (COP) method.

표시패널(110)의 비표시 영역(NDA)에는 데이터 패드들과 같은 패드들이 형성될 수 있다. 연성필름(150)에는 패드들과 소스 드라이브 IC(140)를 연결하는 배선들, 패드들과 회로보드(160)의 배선들을 연결하는 배선들이 형성될 수 있다. 연성필름(150)은 이방성 도전 필름(antisotropic conducting film)을 이용하여 패드들 상에 부착되며, 이로 인해 패드들과 연성필름(150)의 배선들이 연결될 수 있다.Pads such as data pads may be formed in the non-display area NDA of the display panel 110. Wires connecting the pads and the source drive IC 140 and wires connecting the pads and the wires of the circuit board 160 may be formed in the flexible film 150. The flexible film 150 is attached to the pads using an anisotropic conducting film, so that the pads and the wiring of the flexible film 150 can be connected.

회로보드(160)는 연성필름(150)들에 부착될 수 있다. 회로보드(160)는 구동 칩들로 구현된 다수의 회로들이 실장될 수 있다. 예를 들어, 회로보드(160)에는 타이밍 제어부(170)가 실장될 수 있다. 회로보드(160)는 인쇄회로보드(printed circuit board) 또는 연성 인쇄회로보드(flexible printed circuit board)일 수 있다.The circuit board 160 may be attached to the flexible films 150. The circuit board 160 may be equipped with multiple circuits implemented with driving chips. For example, the timing control unit 170 may be mounted on the circuit board 160. The circuit board 160 may be a printed circuit board or a flexible printed circuit board.

타이밍 제어부(170)는 회로보드(160)의 케이블을 통해 외부의 시스템 보드로부터 디지털 비디오 데이터와 타이밍 신호를 입력받는다. 타이밍 제어부(170)는 타이밍 신호에 기초하여 게이트 구동부의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 제어신호와 소스 드라이브 IC(140)들을 제어하기 위한 소스 제어신호를 발생한다. 타이밍 제어부(170)는 게이트 제어신호를 게이트 구동부에 공급하고, 소스 제어신호를 소스 드라이브 IC(140)들에 공급한다.The timing control unit 170 receives digital video data and timing signals from an external system board through a cable of the circuit board 160. The timing control unit 170 generates a gate control signal for controlling the operation timing of the gate driver and a source control signal for controlling the source drive ICs 140 based on the timing signal. The timing control unit 170 supplies a gate control signal to the gate driver and a source control signal to the source drive ICs 140.

도 3은 제1 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다.Figure 3 is a plan view schematically showing the first substrate.

도 3을 참조하면, 제1 기판(111)은 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)으로 구분되며, 비표시 영역(NDA)에는 패드들이 형성되는 패드 영역(PA), 댐(310), 제1 전원 라인(320), 및 제2 전원 라인(330)이 형성될 수 있다.Referring to FIG. 3, the first substrate 111 is divided into a display area (DA) and a non-display area (NDA), and the non-display area (NDA) has a pad area (PA) where pads are formed, and a dam 310. , a first power line 320, and a second power line 330 may be formed.

표시 영역(DA)에는 데이터 라인들, 데이터 라인들과 교차되는 게이트 라인들이 형성된다. 또한, 표시 영역(DA)에는 데이터 라인들과 게이트 라인들의 교차 영역에 매트릭스 형태로 화상을 표시하는 화소(P)들이 형성된다. 화소(P)들 각각은 게이트 라인의 게이트 신호가 입력되면 데이터 라인의 데이터 전압에 따라 발광소자에 소정의 전류를 공급한다. 이로 인해, 화소(P)들 각각의 발광소자는 소정의 전류에 따라 소정의 밝기로 발광할 수 있다. 또한, 제1 전원 라인(320)은 화소(P)들 각각에 제1 전원 전압을 공급하고, 제2 전원 라인(330)은 화소(P)들 각각에 제2 전원 전압을 공급한다.Data lines and gate lines that intersect the data lines are formed in the display area DA. Additionally, in the display area DA, pixels P that display an image in a matrix form are formed in the intersection area of the data lines and the gate lines. When the gate signal of the gate line is input, each of the pixels P supplies a predetermined current to the light emitting device according to the data voltage of the data line. Because of this, each light emitting element of the pixels P can emit light with a predetermined brightness according to a predetermined current. Additionally, the first power line 320 supplies a first power voltage to each of the pixels (P), and the second power line 330 supplies a second power voltage to each of the pixels (P).

이하에서는 도 4를 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 표시 영역(DA)의 화소(P)의 구조를 상세히 살펴본다.Hereinafter, the structure of the pixel P of the display area DA according to embodiments of the present invention will be examined in detail with reference to FIG. 4.

도 4는 도 3의 표시영역의 화소의 일 예를 보여주는 단면도이다.FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a pixel in the display area of FIG. 3.

도 4를 참조하면, 제1 기판(111)의 일면 상에는 박막 트랜지스터(210)들 및 커패시터(220)들이 형성된다.Referring to FIG. 4, thin film transistors 210 and capacitors 220 are formed on one surface of the first substrate 111.

투습에 취약한 제1 기판(111)을 통해 침투하는 수분으로부터 박막 트랜지스터(210)들을 보호하기 위해 제1 기판(111) 상에는 버퍼막(미도시)이 형성될 수 있다.A buffer film (not shown) may be formed on the first substrate 111 to protect the thin film transistors 210 from moisture penetrating through the first substrate 111, which is vulnerable to moisture permeation.

박막 트랜지스터(210)들 각각은 액티브층(211), 게이트 전극(212), 소스 전극(213) 및 드레인 전극(214)을 포함한다. 도 4에서는 박막 트랜지스터(210)들의 게이트 전극(212)이 액티브층(211)의 상부에 위치하는 상부 게이트(탑 게이트, top gate) 방식으로 형성된 것을 예시하였으나, 이에 한정되지 않음에 주의하여야 한다. 즉, 박막 트랜지스터(210)들은 게이트 전극(212)이 액티브층(211)의 하부에 위치하는 하부 게이트(보텀 게이트, bottom gate) 방식 또는 게이트 전극(212)이 액티브층(211)의 상부와 하부에 모두 위치하는 더블 게이트(double gate) 방식으로 형성될 수 있다.Each of the thin film transistors 210 includes an active layer 211, a gate electrode 212, a source electrode 213, and a drain electrode 214. Although FIG. 4 illustrates that the gate electrodes 212 of the thin film transistors 210 are formed in a top gate manner located on top of the active layer 211, it should be noted that the present invention is not limited thereto. That is, the thin film transistors 210 are of the bottom gate type in which the gate electrode 212 is located below the active layer 211, or the gate electrode 212 is located at the top and bottom of the active layer 211. It can be formed as a double gate method located in both.

제1 기판(111)의 버퍼막 상에는 액티브층(211)이 형성된다. 액티브층(211)은 실리콘계 반도체 물질 또는 산화물계 반도체 물질로 형성될 수 있다. 제1 기판(111) 상에는 액티브층(211)으로 입사되는 외부광을 차단하기 위한 차광층이 형성될 수 있다.An active layer 211 is formed on the buffer film of the first substrate 111. The active layer 211 may be formed of a silicon-based semiconductor material or an oxide-based semiconductor material. A light blocking layer may be formed on the first substrate 111 to block external light incident on the active layer 211.

액티브층(211) 상에는 게이트 절연막(230)이 형성될 수 있다. 게이트 절연막(230)은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.A gate insulating layer 230 may be formed on the active layer 211. The gate insulating layer 230 may be formed of an inorganic layer, for example, a silicon oxide layer, a silicon nitride layer, or a multilayer thereof.

게이트 절연막(230) 상에는 게이트 전극(212)이 형성될 수 있다. 게이트 전극(212)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.A gate electrode 212 may be formed on the gate insulating film 230. The gate electrode 212 is made of any one of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). It may be a single layer or a multi-layer made of an alloy, but is not limited thereto.

게이트 전극(212) 상에는 층간 절연막(240)이 형성될 수 있다. 층간 절연막(240)은 무기막, 예를 들어 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 또는 이들의 다중막으로 형성될 수 있다.An interlayer insulating film 240 may be formed on the gate electrode 212. The interlayer insulating film 240 may be formed of an inorganic film, for example, a silicon oxide film, a silicon nitride film, or a multilayer thereof.

층간 절연막(240) 상에는 소스 전극(213)과 드레인 전극(214)이 형성될 수 있다. 소스 전극(213)과 드레인 전극(214) 각각은 게이트 절연막(230)과 층간 절연막(240)을 관통하는 콘택홀(CH1, CH2)을 통해 액티브층(211)에 접속될 수 있다. 소스 전극(213)과 드레인 전극(214) 각각은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있으나, 이에 한정되지 않는다.A source electrode 213 and a drain electrode 214 may be formed on the interlayer insulating film 240. Each of the source electrode 213 and the drain electrode 214 may be connected to the active layer 211 through contact holes CH1 and CH2 penetrating the gate insulating film 230 and the interlayer insulating film 240. The source electrode 213 and the drain electrode 214 each include molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper ( It may be a single layer or a multi-layer made of any one of (Cu) or an alloy thereof, but is not limited thereto.

커패시터(220)들 각각은 하부 전극(221)과 상부 전극(222)을 포함한다. 하부 전극(221)은 게이트 절연막(230) 상에 형성되며, 게이트 전극(212)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 상부 전극(222)은 층간 절연막(240) 상에 형성되며, 소스 전극(223) 및 드레인 전극(224)과 동일한 물질로 형성될 수 있다.Each of the capacitors 220 includes a lower electrode 221 and an upper electrode 222. The lower electrode 221 is formed on the gate insulating film 230 and may be formed of the same material as the gate electrode 212. The upper electrode 222 is formed on the interlayer insulating film 240 and may be formed of the same material as the source electrode 223 and the drain electrode 224.

박막 트랜지스터(210) 및 커패시터(220) 상에는 박막 트랜지스터(210)와 커패시터(220)로 인한 단차를 평탄하게 하기 위한 평탄화막(260)이 형성될 수 있다. 평탄화막(260)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다.A planarization film 260 may be formed on the thin film transistor 210 and the capacitor 220 to flatten the step caused by the thin film transistor 210 and the capacitor 220. The planarization film 260 may be formed of an organic film such as acryl resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamide resin, or polyimide resin. there is.

평탄화막(260) 상에는 유기발광소자(280), 뱅크(284) 및 스페이서(285)가 형성된다. 유기발광소자(280)는 제2 전극(282), 유기발광층(283), 및 제1 전극(281)을 포함한다. 제2 전극(282)은 캐소드 전극이고, 제1 전극(281)은 애노드 전극일 수 있다. 제2 전극(282), 유기발광층(283) 및 제1 전극(281)이 적층된 영역은 발광부(EA)로 정의될 수 있다.An organic light emitting device 280, a bank 284, and a spacer 285 are formed on the planarization film 260. The organic light emitting device 280 includes a second electrode 282, an organic light emitting layer 283, and a first electrode 281. The second electrode 282 may be a cathode electrode, and the first electrode 281 may be an anode electrode. The area where the second electrode 282, the organic light emitting layer 283, and the first electrode 281 are stacked may be defined as the light emitting area (EA).

제1 전극(281)은 평탄화막(260) 상에 형성될 수 있다. 제1 전극(281)은 보호막(250)과 평탄화막(260)을 관통하는 콘택홀(CH3)을 통해 박막 트랜지스터(210)의 소스 전극(213) 또는 드레인 전극(214)에 접속된다. 제1 전극(281)은 알루미늄과 티타늄의 적층 구조(Ti/Al/Ti), 알루미늄과 ITO의 적층 구조(ITO/Al/ITO), APC 합금, 및 APC 합금과 ITO의 적층 구조(ITO/APC/ITO)과 같은 반사율이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. APC 합금은 은(Ag), 팔라듐(Pd), 및 구리(Cu)의 합금이다.The first electrode 281 may be formed on the planarization film 260. The first electrode 281 is connected to the source electrode 213 or the drain electrode 214 of the thin film transistor 210 through a contact hole (CH3) penetrating the protective film 250 and the planarization film 260. The first electrode 281 has a stacked structure of aluminum and titanium (Ti/Al/Ti), a stacked structure of aluminum and ITO (ITO/Al/ITO), an APC alloy, and a stacked structure of APC alloy and ITO (ITO/APC /ITO) can be made of a highly reflective metal material. APC alloy is an alloy of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu).

뱅크(284)은 발광부들(EA)을 구획하기 위해 평탄화막(260) 상에서 제1 전극(281)의 가장자리를 덮도록 형성될 수 있다. 뱅크(284)는 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다.The bank 284 may be formed to cover the edge of the first electrode 281 on the planarization film 260 to partition the light emitting units EA. The bank 284 may be formed of an organic film such as acryl resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamide resin, or polyimide resin. .

스페이서(285)는 뱅크(284) 상에 형성될 수 있다. 스페이서(285)는 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기막으로 형성될 수 있다. 스페이서(285)는 생략될 수 있다.Spacers 285 may be formed on the banks 284. The spacer 285 may be formed of an organic film such as acrylic resin, epoxy resin, phenolic resin, polyamide resin, or polyimide resin. . Spacer 285 may be omitted.

제1 전극(281), 뱅크(284) 및 스페이서(285) 상에는 유기발광층(283)이 형성된다. 유기발광층(283)은 정공 수송층(hole transporting layer), 적어도 하나의 발광층(light emitting layer), 및 전자 수송층(electron transporting layer)을 포함할 수 있다. 이 경우, 제1 전극(281)과 제2 전극(282)에 전압이 인가되면 정공과 전자가 각각 정공 수송층과 전자 수송층을 통해 발광층으로 이동하게 되며, 발광층에서 서로 결합하여 발광하게 된다.An organic light-emitting layer 283 is formed on the first electrode 281, the bank 284, and the spacer 285. The organic light emitting layer 283 may include a hole transporting layer, at least one light emitting layer, and an electron transporting layer. In this case, when voltage is applied to the first electrode 281 and the second electrode 282, holes and electrons move to the light-emitting layer through the hole transport layer and electron transport layer, respectively, and combine with each other in the light-emitting layer to emit light.

유기발광층(283)은 백색 광을 발광하는 백색 발광층으로 이루어질 수 있다. 이 경우, 제1 전극(281)과 뱅크(284)를 덮도록 형성될 수 있다. 이 경우, 제2 기판(112) 상에는 컬러필터(미도시)가 형성될 수 있다.The organic light-emitting layer 283 may be made of a white light-emitting layer that emits white light. In this case, it may be formed to cover the first electrode 281 and the bank 284. In this case, a color filter (not shown) may be formed on the second substrate 112.

또는, 유기발광층(283)은 적색 광을 발광하는 적색 발광층, 녹색 광을 발광하는 녹색 발광층, 또는 청색 광을 발광하는 청색 발광층으로 이루어질 수 있다. 이 경우, 유기발광층(283)는 제1 전극(281)에 대응되는 영역에 형성될 수 있으며, 제2 기판(112) 상에는 컬러필터가 형성되지 않을 수 있다.Alternatively, the organic light-emitting layer 283 may be made of a red light-emitting layer that emits red light, a green light-emitting layer that emits green light, or a blue light-emitting layer that emits blue light. In this case, the organic light emitting layer 283 may be formed in an area corresponding to the first electrode 281, and the color filter may not be formed on the second substrate 112.

제2 전극(282)은 유기발광층(283) 상에 형성된다. 유기발광표시장치가 상부 발광(top emission) 구조로 형성되는 경우, 제2 전극(282)은 광을 투과시킬 수 있는 ITO, IZO와 같은 투명한 금속물질(TCO, Transparent Conductive Material), 또는 마그네슘(Mg), 은(Ag), 또는 마그네슘(Mg)과 은(Ag)의 합금과 같은 반투과 금속물질(Semi-transmissive Conductive Material)로 형성될 수 있다. 제2 전극(282) 상에는 캡핑층(capping layer)이 형성될 수 있다.The second electrode 282 is formed on the organic light emitting layer 283. When the organic light emitting display device is formed with a top emission structure, the second electrode 282 is made of a transparent conductive material (TCO) such as ITO or IZO that can transmit light, or magnesium (Mg). ), silver (Ag), or an alloy of magnesium (Mg) and silver (Ag). A capping layer may be formed on the second electrode 282.

유기발광소자(280) 상에는 봉지막(290)이 형성된다. 봉지막(290)은 유기발광층(283)과 제2 전극(282)에 산소 또는 수분이 침투되는 것을 방지하는 역할을 한다. 이를 위해, 봉지막(290)은 적어도 하나의 무기막과 적어도 하나의 유기막을 포함할 수 있다.An encapsulation film 290 is formed on the organic light emitting device 280. The encapsulation film 290 serves to prevent oxygen or moisture from penetrating into the organic light emitting layer 283 and the second electrode 282. To this end, the encapsulation film 290 may include at least one inorganic film and at least one organic film.

예를 들어, 봉지막(290)은 제1 무기막(291), 유기막(292), 및 제2 무기막(293)을 포함할 수 있다. 이 경우, 제1 무기막(291)은 제2 전극(282)을 덮도록 형성된다. 유기막(292)은 제1 무기막(291) 상에 형성된다. 유기막(292)은 이물들(particles)이 제1 무기막(291)을 뚫고 유기발광층(283)과 제2 전극(282)에 투입되는 것을 방지하기 위해 충분한 두께로 형성되는 것이 바람직하다. 제2 무기막(293)은 유기막(292)을 덮도록 형성된다.For example, the encapsulation film 290 may include a first inorganic film 291, an organic film 292, and a second inorganic film 293. In this case, the first inorganic film 291 is formed to cover the second electrode 282. The organic layer 292 is formed on the first inorganic layer 291. The organic layer 292 is preferably formed to have a sufficient thickness to prevent particles from penetrating the first inorganic layer 291 and entering the organic light-emitting layer 283 and the second electrode 282. The second inorganic layer 293 is formed to cover the organic layer 292.

봉지막(290) 상에는 제1 내지 제3 컬러필터들(미도시)과 블랙 매트릭스(미도시)이 형성될 수 있다. 적색 발광부에는 적색 컬러필터가 형성되고, 청색 발광부에는 청색 컬러필터가 형성되며, 녹색 발광부에는 녹색 컬러필터가 형성될 수 있다.First to third color filters (not shown) and a black matrix (not shown) may be formed on the encapsulation film 290. A red color filter may be formed in the red light-emitting part, a blue color filter may be formed in the blue light-emitting part, and a green color filter may be formed in the green light-emitting part.

제1 기판(111)의 봉지막(290)과 제2 기판(112)의 컬러필터들(미도시)은 접착층(미도시)을 이용하여 접착되며, 이로 인해 제1 기판(111)과 제2 기판(112)은 합착될 수 있다. 접착층은 투명한 접착 레진일 수 있다.The encapsulation film 290 of the first substrate 111 and the color filters (not shown) of the second substrate 112 are bonded using an adhesive layer (not shown), thereby bonding the first substrate 111 and the second substrate 112 to each other. Substrate 112 may be cemented. The adhesive layer may be a transparent adhesive resin.

다시 도 3을 참조하면, 비표시 영역(NDA)은 패드 영역(PA)을 포함하는 제1 측 비표시 영역(NDA1), 제1 측 비표시 영역(NDA1)과 마주보는 제2 측 비표시 영역(NDA2), 제1 측 비표시 영역(NDA1)의 일단과 제2 비표시 영역(NDA2)의 일단을 연결하는 제3 비표시 영역(NDA3), 및 제3 비표시 영역(NDA3)과 마주보고 제1 측 비표시 영역(NDA1)의 타단과 제2 비표시 영역(NDA2)의 타단을 연결하는 제4 비표시 영역(NDA4)을 포함한다.Referring again to FIG. 3, the non-display area NDA includes a first side non-display area NDA1 including a pad area PA, and a second side non-display area facing the first side non-display area NDA1. (NDA2), a third non-display area (NDA3) connecting one end of the first non-display area (NDA1) and one end of the second non-display area (NDA2), and facing the third non-display area (NDA3) It includes a fourth non-display area (NDA4) connecting the other end of the first non-display area (NDA1) and the other end of the second non-display area (NDA2).

패드 영역(PA)은 복수의 패드(PAD1, PAD2, DPAD)들을 포함하며, 복수의 패드(PAD1, PAD2, DPAD)들 중 일부는 이방성 도전 필름(antisotropic conducting film)을 이용하여 연성 필름(150)의 배선들과 전기적으로 연결될 수 있다.The pad area PA includes a plurality of pads (PAD1, PAD2, DPAD), and some of the plurality of pads (PAD1, PAD2, DPAD) are formed by forming a flexible film 150 using an anisotropic conducting film. It can be electrically connected to the wiring of

댐(310)은 표시 영역(DA)과 패드 영역(PA) 사이에 배치되어 화소(P)의 봉지막(290)을 구성하는 유기막(292)이 패드 영역(PA)을 침범하지 못하도록 유기막(292)의 흐름을 차단한다. 댐(310)은 제2 댐(312) 및 제1 댐(311)을 포함할 수 있다.The dam 310 is disposed between the display area DA and the pad area PA to prevent the organic layer 292 constituting the encapsulation film 290 of the pixel P from invading the pad area PA. Block the flow of (292). The dam 310 may include a second dam 312 and a first dam 311.

제1 전원 라인(320)은 비표시 영역(NDA)에 배치되어 표시 영역(DA)에 배치된 화소(P)로 제1 전원 전압을 인가한다. 제2 전원 라인(330)은 비표시 영역(NDA)에 배치되어 표시 영역(DA)에 배치된 화소(P)로 제2 전원 전압을 인가한다.The first power line 320 is disposed in the non-display area NDA and applies the first power voltage to the pixel P disposed in the display area DA. The second power line 330 is disposed in the non-display area NDA and applies the second power voltage to the pixel P disposed in the display area DA.

이하에서는 도 5 및 도 6을 참조하여 복수의 패드(PAD1, PAD2, DPAD)들, 댐(310), 제1 전원 라인(320) 및 제2 전원 라인(330)을 상세히 살펴본다.Hereinafter, a plurality of pads (PAD1, PAD2, DPAD), dam 310, first power line 320, and second power line 330 will be examined in detail with reference to FIGS. 5 and 6.

도 5는 도 3에 도시된 Ⅱ-Ⅱ' 선의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이고, 도 6은 도 3에 도시된 Ⅲ-Ⅲ'선의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 도 7은 도 5의 변형된 실시예를 나타내는 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a cross section along line II-II' shown in FIG. 3, and FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a cross section along line III-III' shown in FIG. 3. Figure 7 is a cross-sectional view showing a modified embodiment of Figure 5.

도 5 및 도 6을 참조하면, 표시장치는 제1 기판(111) 상에 형성된 봉지막(290), 댐(310), 제1 전원 라인(320), 제2 전원 라인(330) 및 복수의 패드(PAD1, PAD2, DPAD)들을 포함한다. 일 실시예에 있어서, 표시장치는 제1 기판(111) 상에 형성된 크랙 방지홈(340)을 더 포함할 수 있다.Referring to FIGS. 5 and 6 , the display device includes an encapsulation film 290, a dam 310, a first power line 320, a second power line 330, and a plurality of Includes pads (PAD1, PAD2, DPAD). In one embodiment, the display device may further include a crack prevention groove 340 formed on the first substrate 111.

봉지막(290)은 표시 영역(DA)에 형성된 유기발광소자(280)을 덮도록 형성되어 유기발광소자(280)에 산소 또는 수분이 침투되는 것을 방지한다. 이때, 봉지막(290)은 적어도 하나의 무기막 및 적어도 하나의 유기막을 포함한다. 예를 들어, 봉지막(290)은 제1 무기막(291), 유기막(292), 및 제2 무기막(293)을 포함할 수 있다. 이 경우, 제1 무기막(291)은 제2 전극(282)을 덮도록 형성된다. 유기막(292)은 제1 무기막(291) 상에 형성되고, 제2 무기막(293)은 유기막(292) 및 댐(120)을 덮도록 형성된다.The encapsulation film 290 is formed to cover the organic light emitting device 280 formed in the display area DA and prevents oxygen or moisture from penetrating into the organic light emitting device 280. At this time, the encapsulation film 290 includes at least one inorganic film and at least one organic film. For example, the encapsulation film 290 may include a first inorganic film 291, an organic film 292, and a second inorganic film 293. In this case, the first inorganic film 291 is formed to cover the second electrode 282. The organic layer 292 is formed on the first inorganic layer 291, and the second inorganic layer 293 is formed to cover the organic layer 292 and the dam 120.

제1 및 제2 무기막들(291, 293) 각각은 실리콘 질화물, 알루미늄 질화물, 지르코늄 질화물, 티타늄 질화물, 하프늄 질화물, 탄탈륨 질화물, 실리콘 산화물, 알루미늄 산화물 또는 티타늄 산화물로 형성될 수 있다. 제1 및 제2 무기막들(291, 293)은 CVD(Chemical Vapor Deposition) 기법 또는 ALD(Atomic Layer Deposition) 기법으로 증착될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Each of the first and second inorganic layers 291 and 293 may be formed of silicon nitride, aluminum nitride, zirconium nitride, titanium nitride, hafnium nitride, tantalum nitride, silicon oxide, aluminum oxide, or titanium oxide. The first and second inorganic layers 291 and 293 may be deposited using a CVD (Chemical Vapor Deposition) technique or an ALD (Atomic Layer Deposition) technique, but are not limited thereto.

유기막(292)은 유기발광층(283)에서 발광된 광을 통과시키기 위해 투명하게 형성될 수 있다. 유기막(292)은 유기발광층(283)에서 발광된 광을 99% 이상 통과시킬 수 있는 유기물질 예컨대, 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin) 또는 폴리이미드 수지(polyimide resin)로 형성될 수 있다. 유기막(292)은 유기물을 사용하는 기상 증착(vapour deposition), 프린팅(printing), 슬릿 코팅(slit coating) 기법으로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않으며, 유기막(292)은 잉크젯(ink-jet) 공정으로 형성될 수도 있다.The organic layer 292 may be transparent to allow light emitted from the organic emission layer 283 to pass through. The organic film 292 is made of an organic material that can pass more than 99% of the light emitted from the organic light-emitting layer 283, such as acrylic resin, epoxy resin, phenolic resin, and polyamide. It may be formed of polyamide resin or polyimide resin. The organic film 292 may be formed using vapor deposition, printing, or slit coating techniques using organic materials, but is not limited thereto. The organic film 292 may be formed using an inkjet (ink-jet) technique. It can also be formed by the jet process.

댐(310)은 표시 영역(DA)의 외곽을 둘러싸도록 형성되어 봉지막(290)을 구성하는 유기막(292)의 흐름을 차단한다. 댐(310)은 표시 영역(DA)과 패드 영역(PA) 사이에 배치되어 봉지막(290)을 구성하는 유기막(292)이 패드 영역(PA)을 침범하지 못하도록 유기막(292)의 흐름을 차단한다. 이를 통해, 댐(310)은 유기막(292)이 표시장치의 외부로 노출되거나 유기막(292)이 패드 영역(PA)을 침범하는 것을 방지할 수 있다.The dam 310 is formed to surround the outside of the display area DA and blocks the flow of the organic layer 292 constituting the encapsulation layer 290. The dam 310 is disposed between the display area DA and the pad area PA to prevent the flow of the organic film 292 constituting the encapsulation film 290 from invading the pad area PA. Block. Through this, the dam 310 can prevent the organic layer 292 from being exposed to the outside of the display device or from invading the pad area PA.

이러한 댐(310)은 제1 댐(311) 및 제2 댐(312)을 포함할 수 있다. 제1 댐(311)은 표시 영역(DA)의 외곽을 둘러싸도록 형성되어 봉지막(290)을 구성하는 유기막(292)의 흐름을 1차적으로 차단할 수 있다. 또한, 제1 댐(311)은 표시 영역(DA)와 패드 영역(PA) 사이에 배치되어 봉지막(290)을 구성하는 유기막(292)이 패드 영역(PA)을 침범하지 못하도록 유기막(292)의 흐름을 1차적으로 차단할 수 있다.This dam 310 may include a first dam 311 and a second dam 312. The first dam 311 is formed to surround the outside of the display area DA and can primarily block the flow of the organic layer 292 constituting the encapsulation layer 290. In addition, the first dam 311 is disposed between the display area DA and the pad area PA to prevent the organic layer 292 constituting the encapsulation film 290 from invading the pad area PA. 292) can primarily block the flow.

제1 댐(311)은 유기막(292)이 제1 기판(111) 상에 형성된 유기발광소자(280)를 충분히 덮을 수 있도록 유기발광소자(280)가 형성된 영역과 이격하여 형성되는 것이 바람직하다. 또한, 제1 댐(311)은 외부 환경에 취약한 유기 물질로 이루어진 평탄화막(260) 및 뱅크(284)와 같은 구성과 이격하여 형성되는 것이 바람직하다. The first dam 311 is preferably formed to be spaced apart from the area where the organic light emitting device 280 is formed so that the organic film 292 sufficiently covers the organic light emitting device 280 formed on the first substrate 111. . In addition, the first dam 311 is preferably formed separately from components such as the planarization film 260 and the bank 284 made of an organic material vulnerable to the external environment.

이러한 제1 댐(311)은 화소(P)들 각각에 전원 전압을 공급하는 제1 전원 라인(320) 상에 형성될 수 있다. 구체적으로, 제1 댐(311)은 제2 측 비표시 영역(NDA2), 제3 측 비표시 영역(NDA3) 및 제4 측 비표시 영역(NDA4)에서 제2 전원 라인(330) 상에 형성될 수 있다. 이때, 제1 댐(311)은 제2 전원 라인(330)의 가장자리를 덮도록 형성될 수 있다.This first dam 311 may be formed on the first power line 320 that supplies power voltage to each of the pixels (P). Specifically, the first dam 311 is formed on the second power line 330 in the second side non-display area NDA2, the third side non-display area NDA3, and the fourth side non-display area NDA4. It can be. At this time, the first dam 311 may be formed to cover the edge of the second power line 330.

한편, 제1 댐(311)은 제1 측 비표시 영역(NDA)에서 제1 전원 라인(320) 및 제2 전원 라인(330) 상에 형성될 수 있다. 이때, 제1 댐(311)은 패드 영역(PA)으로 연장되는 제1 전원 라인(320) 및 제2 전원 라인(330) 각각의 가장자리를 일부만 덮을 수 있다.Meanwhile, the first dam 311 may be formed on the first power line 320 and the second power line 330 in the first side non-display area NDA. At this time, the first dam 311 may only partially cover the edges of each of the first power line 320 and the second power line 330 extending to the pad area PA.

제1 댐(311)은 제1 하부층(311a) 및 제1 상부층(311b)을 포함할 수 있다. 제1 하부층(311a)은 제1 전원 라인(320) 및 제2 전원 라인(330) 상에 형성될 수 있다.The first dam 311 may include a first lower layer 311a and a first upper layer 311b. The first lower layer 311a may be formed on the first power line 320 and the second power line 330.

제1 댐(311)의 제1 하부층(311a) 및 제1 상부층(311b)은 화소(P)의 평탄화막(260), 뱅크(284) 및 스페이서(285) 중 적어도 하나와 동시에 형성될 수 있으며, 평탄화막(260), 뱅크(284) 및 스페이서(285) 중 적어도 하나와 같은 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 제1 댐(311)의 제1 하부층(311a)은 평탄화막(260)과 동일 물질로 동시에 형성될 수 있고, 제1 댐(311)의 제1 상부층(311b)은 뱅크(284)와 동일 물질로 동시에 형성될 수 있다. 다른 예를 들어, 제1 댐(311)의 제1 하부층(311a)은 뱅크(284)와 동일 물질로 동시에 형성될 수 있고, 제1 댐(311)의 제1 상부층(312b)은 스페이서(285)와 동일 물질로 동시에 형성될 수 있다. 이와 같은 경우, 제1 댐(312)의 제1 하부층(311a) 및 제1 상부층(311b)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기 물질로 형성될 수 있다.The first lower layer 311a and the first upper layer 311b of the first dam 311 may be formed simultaneously with at least one of the planarization film 260, the bank 284, and the spacer 285 of the pixel P, , may be made of the same material as at least one of the planarization film 260, the bank 284, and the spacer 285. For example, the first lower layer 311a of the first dam 311 may be formed simultaneously with the planarization film 260 and the same material, and the first upper layer 311b of the first dam 311 may be formed of the bank 284. ) can be formed simultaneously with the same material. For another example, the first lower layer 311a of the first dam 311 may be formed simultaneously with the bank 284 of the same material, and the first upper layer 312b of the first dam 311 may be formed of the spacer 285. ) can be formed simultaneously with the same material. In this case, the first lower layer 311a and the first upper layer 311b of the first dam 312 are made of acryl resin, epoxy resin, phenolic resin, or polyamide resin ( It can be formed of organic materials such as polyamide resin and polyimide resin.

도 5 및 도 6에서는 제1 댐(311)이 제1 하부층(311a) 및 제1 상부층(311b)을 포함하는 것으로 설명하고 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 다른 실시예에 있어서, 제1 댐(311)은 하부층, 중간층 및 상부층으로 3층 구조로 형성될 수도 있다. 또 다른 실시예에 있어서, 제1 댐(311)은 하부층만으로 단층 구조로 형성될 수도 있다.In FIGS. 5 and 6, the first dam 311 is described as including a first lower layer 311a and a first upper layer 311b, but is not limited thereto. In another embodiment, the first dam 311 may be formed in a three-layer structure including a lower layer, a middle layer, and an upper layer. In another embodiment, the first dam 311 may be formed as a single-layer structure with only the lower layer.

제2 댐(312)은 제1 댐(311)의 외곽에 형성되어 제1 댐(311)의 외곽으로 흘러 넘치는 유기막(292)을 2차적으로 차단할 수 있다. 이를 통해, 제2 댐(312) 및 제1 댐(311)은 유기막(292)이 표시장치의 외부로 노출되거나 패드 영역(PA)을 침범하는 것을 보다 효과적으로 차단할 수 있다.The second dam 312 is formed on the outside of the first dam 311 and can secondarily block the organic film 292 overflowing into the outside of the first dam 311. Through this, the second dam 312 and the first dam 311 can more effectively block the organic layer 292 from being exposed to the outside of the display device or from invading the pad area PA.

이러한 제2 댐(312)은 층간 절연막(240) 상에 형성될 수 있다. 구체적으로, 제2 댐(312)은 제2 측 비표시 영역(NDA2), 제3 측 비표시 영역(NDA3) 및 제4 측 비표시 영역(NDA4)에서 층간 절연막(240) 상에 형성될 수 있다.This second dam 312 may be formed on the interlayer insulating film 240 . Specifically, the second dam 312 may be formed on the interlayer insulating film 240 in the second side non-display area NDA2, the third side non-display area NDA3, and the fourth side non-display area NDA4. there is.

또한, 제2 댐(312)은 제1 측 비표시 영역(NDA1)에서 제1 전원 라인(320) 및 제2 전원 라인(330) 상에 형성될 수 있다. 이때, 제2 댐(312)은 패드 영역(PA)으로 연장되는 제1 전원 라인(320) 및 제2 전원 라인(330) 각각의 가장자리를 일부만 덮을 수 있다.Additionally, the second dam 312 may be formed on the first power line 320 and the second power line 330 in the first side non-display area NDA1. At this time, the second dam 312 may only partially cover the edges of each of the first power line 320 and the second power line 330 extending to the pad area PA.

제2 댐(312)은 제2 하부층(312a), 중간층(312b) 및 제1 상부층(312c)을 포함할 수 있다. 제2 하부층(312a)은 제1 전원 라인(320) 및 제2 전원 라인(330) 상에 형성될 수 있고, 중간층(312b)은 제1 하부층(312a) 상에 형성될 수 있으며, 제1 상부층(312c)은 중간층(312b) 상에 형성될 수 있다.The second dam 312 may include a second lower layer 312a, a middle layer 312b, and a first upper layer 312c. The second lower layer 312a may be formed on the first power line 320 and the second power line 330, the middle layer 312b may be formed on the first lower layer 312a, and the first upper layer (312c) may be formed on the intermediate layer (312b).

제2 댐(311)의 제2 하부층(312a), 중간층(312b) 및 제2 상부층(312c)은 화소(P)의 평탄화막(260), 뱅크(284) 및 스페이서(285) 중 적어도 하나와 동시에 형성될 수 있으며, 평탄화막(260), 뱅크(284) 및 스페이서(285) 중 적어도 하나와 같은 물질로 이루어질 수 있다. 예컨대, 제2 댐(312)의 제2 하부층(312a)은 평탄화막(260)과 동일 물질로 동시에 형성될 수 있다. 제2 댐(312)의 중간층(312b)은 뱅크(284)와 동일 물질로 동시에 형성될 수 있다. 제2 댐(312)의 제2 상부층(312c)은 스페이서(285)와 동일 물질로 동시에 형성될 수 있다. 이와 같은 경우, 제2 댐(312)의 제2 하부층(312a), 중간층(312b) 및 제2 상부층(312c)은 아크릴 수지(acryl resin), 에폭시 수지(epoxy resin), 페놀 수지(phenolic resin), 폴리아미드 수지(polyamide resin), 폴리이미드 수지(polyimide resin) 등의 유기 물질로 형성될 수 있다.The second lower layer 312a, the middle layer 312b, and the second upper layer 312c of the second dam 311 include at least one of the planarization film 260, the bank 284, and the spacer 285 of the pixel P. They may be formed simultaneously and may be made of the same material as at least one of the planarization film 260, the bank 284, and the spacer 285. For example, the second lower layer 312a of the second dam 312 may be formed simultaneously with the planarization film 260 and the same material. The middle layer 312b of the second dam 312 may be formed simultaneously with the bank 284 of the same material. The second upper layer 312c of the second dam 312 may be formed of the same material as the spacer 285. In this case, the second lower layer 312a, middle layer 312b, and second upper layer 312c of the second dam 312 are made of acrylic resin, epoxy resin, or phenolic resin. , may be formed of organic materials such as polyamide resin and polyimide resin.

도 5 및 도 6에서는 제2 댐(312)이 제2 하부층(312a), 중간층(312b) 및 제2 상부층(312c)을 포함하는 것으로 설명하고 있으나, 이에 한정되지는 않는다. 다른 실시예에 있어서, 제2 댐(312)은 하부층으로 단층 구조로 형성될 수도 있다. 또 다른 실시예에 있어서, 제2 댐(312)은 하부층 및 상부층으로 2층 구조로 형성될 수도 있다.5 and 6, the second dam 312 is described as including a second lower layer 312a, a middle layer 312b, and a second upper layer 312c, but is not limited thereto. In another embodiment, the second dam 312 may be formed as a single-layer structure as the lower layer. In another embodiment, the second dam 312 may be formed in a two-layer structure with a lower layer and an upper layer.

제1 전원 라인(320)은 외부의 전원 공급부로부터 공급되는 제1 전원 전압을 표시 영역(DA)에 배치된 각 화소(P)에 인가한다. 제1 전원 라인(320)은 패드 영역(PA)으로부터 표시 영역(DA)까지 연장될 수 있다. 제1 전원 라인(320)은 패드 영역(PA)으로부터 연장되어 제1 비표시 영역(NDA1)에 배치될 수 있다. 제1 전원 라인(320)은 제1 비표시 영역(NDA1)으로부터 표시 영역(DA)으로 연장될 수 있다. 도 3에 구체적으로 도시하고 있지는 않지만, 제1 전원 라인(320)은 제1 비표시 영역(NDA1)에 형성된 제1 전원 라인(320)으로부터 표시 영역(DA)으로 연장된 복수의 제1 전압 라인(미도시)들을 포함할 수 있다. 제1 전압 라인(미도시)들은 제1 비표시 영역(NDA1)에 형성된 제1 전원 라인(320)과 동일층에 배치되어 일체로 형성되거나, 다른층에 배치되어 콘택홀을 통해 전기적으로 접속될 수 있다.The first power line 320 applies the first power voltage supplied from an external power supply to each pixel P disposed in the display area DA. The first power line 320 may extend from the pad area PA to the display area DA. The first power line 320 may extend from the pad area PA and be disposed in the first non-display area NDA1. The first power line 320 may extend from the first non-display area NDA1 to the display area DA. Although not specifically shown in FIG. 3, the first power line 320 is a plurality of first voltage lines extending from the first power line 320 formed in the first non-display area NDA1 to the display area DA. (not shown) may be included. The first voltage lines (not shown) may be disposed on the same layer and formed integrally with the first power line 320 formed in the first non-display area NDA1, or may be disposed on a different layer and electrically connected through a contact hole. You can.

제1 전원 라인(320)은 패드 영역(PA)에서 제1 패드(PAD1)와 접속하여, 제1 패드(PAD1)를 통해 제1 전원 전압을 공급받는다. 제1 전원 라인(320)은 표시 영역(DA)에서 화소(P)와 접속되어, 화소(P)에 제1 전원 전압을 인가할 수 있다. 제1 전원 라인(320)은 표시 영역(DA)에서 유기발광소자(280)의 제1 전극(281)과 연결되어, 제1 전극(281)에 제1 전원 전압을 인가할 수 있다. 이때, 제1 전원 전압은 고전위 전압일 수 있다.The first power line 320 is connected to the first pad PAD1 in the pad area PA and receives the first power voltage through the first pad PAD1. The first power line 320 is connected to the pixel P in the display area DA and can apply the first power voltage to the pixel P. The first power line 320 is connected to the first electrode 281 of the organic light emitting device 280 in the display area DA, and can apply the first power voltage to the first electrode 281. At this time, the first power voltage may be a high potential voltage.

제1 전원 라인(320)은 소스 전극(213) 및 드레인 전극(214)과 동일한 층에 형성될 수 있다. 제1 전원 라인(320)은 소스 전극(213) 및 드레인 전극(214)과 동일한 물질로 동시에 형성될 수 있다. 제1 전원 라인(320)은 예컨대, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있다.The first power line 320 may be formed on the same layer as the source electrode 213 and the drain electrode 214. The first power line 320 may be formed of the same material as the source electrode 213 and the drain electrode 214. The first power line 320 is made of, for example, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). It may be a single layer or multiple layers made of any one or an alloy thereof.

제2 전원 라인(330)은 외부의 전원 공급부로부터 공급되는 제2 전원 전압을 표시 영역(DA)에 배치된 각 화소(P)에 인가한다. 제2 전원 라인(330)은 패드 영역(PA)으로부터 표시 영역(DA)까지 연장될 수 있다. 제2 전원 라인(330)은 패드 영역(PA)으로부터 제3 측 비표시 영역(NDA3), 제4 측 비표시 영역(NDA4) 및 제2 측 비표시 영역(NDA2)까지 연장되어 배치될 수 있다. 제2 전원 라인(330)은 제3 측 비표시 영역(NDA3), 제4 측 비표시 영역(NDA4) 및 제2 측 비표시 영역(NDA2) 각각으로부터 표시 영역(DA)으로 연장될 수 있다.The second power line 330 applies the second power voltage supplied from an external power supply to each pixel P arranged in the display area DA. The second power line 330 may extend from the pad area PA to the display area DA. The second power line 330 may be arranged to extend from the pad area PA to the third side non-display area NDA3, the fourth side non-display area NDA4, and the second side non-display area NDA2. . The second power line 330 may extend from each of the third side non-display area NDA3, the fourth side non-display area NDA4, and the second side non-display area NDA2 to the display area DA.

도 3에 구체적으로 도시하고 있지는 않지만, 제2 전원 라인(330)은 제3 측 비표시 영역(NDA3), 제4 측 비표시 영역(NDA4) 및 제2 측 비표시 영역(NDA2) 각각에 형성된 제2 전원 라인(330)으로부터 표시 영역(DA)으로 연장된 복수의 제2 전압 라인(미도시)들을 포함할 수 있다. 제2 전압 라인(미도시)들은 제3 측 비표시 영역(NDA3), 제4 측 비표시 영역(NDA4) 및 제2 측 비표시 영역(NDA2) 각각에 형성된 제2 전원 라인(330)과 동일층에 배치되어 일체로 형성되거나, 다른층에 배치되어 콘택홀을 통해 전기적으로 접속될 수 있다.Although not specifically shown in FIG. 3, the second power line 330 is formed in each of the third side non-display area NDA3, the fourth side non-display area NDA4, and the second side non-display area NDA2. It may include a plurality of second voltage lines (not shown) extending from the second power line 330 to the display area DA. The second voltage lines (not shown) are the same as the second power line 330 formed in each of the third side non-display area (NDA3), the fourth side non-display area (NDA4), and the second side non-display area (NDA2). It may be placed on a layer and formed integrally, or may be placed on another layer and electrically connected through a contact hole.

제2 전원 라인(330)은 패드 영역(PA)에서 제2 패드(PAD2)와 접속하여, 제2 패드(PAD2)를 통해 제2 전원 전압을 공급받는다. 제2 전원 라인(330)은 표시 영역(DA)에서 화소(P)와 접속되어, 화소(P)에 제2 전원 전압을 인가할 수 있다. 제2 전원 라인(330)은 표시 영역(DA)에서 유기발광소자(280)의 제2 전극(282)과 연결되어, 제2 전극(282)에 제2 전원 전압을 인가할 수 있다. 이때, 제2 전원 전압은 제1 전원 전압보다 낮은 저전위 전압일 수 있다. 저전위 전압은 그라운드 전압일 수 있다.The second power line 330 is connected to the second pad PAD2 in the pad area PA and receives the second power voltage through the second pad PAD2. The second power line 330 is connected to the pixel P in the display area DA and can apply the second power voltage to the pixel P. The second power line 330 is connected to the second electrode 282 of the organic light emitting device 280 in the display area DA, and can apply a second power voltage to the second electrode 282. At this time, the second power voltage may be a low-potential voltage lower than the first power voltage. The low potential voltage may be ground voltage.

제2 전원 라인(330)은 소스 전극(213) 및 드레인 전극(214)과 동일한 층에 형성될 수 있다. 제2 전원 라인(330)은 소스 전극(213) 및 드레인 전극(214)과 동일한 물질로 동시에 형성될 수 있다. 제2 전원 라인(330)은 예컨대, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있다.The second power line 330 may be formed on the same layer as the source electrode 213 and the drain electrode 214. The second power line 330 may be formed of the same material as the source electrode 213 and the drain electrode 214. The second power line 330 is made of, for example, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). It may be a single layer or multiple layers made of any one or an alloy thereof.

본 발명의 실시예에 따른 제2 전원 라인(330)은 제2 측 비표시 영역(NDA2), 제3 측 비표시 영역(NDA3), 및 제4 측 비표시 영역(NDA4)에서 제1 댐(311) 또는 제2 댐(312)의 외곽으로 형성되지 않는 것을 특징으로 한다. 제2 전원 라인(330)은 제2 측 비표시 영역(NDA2), 제3 측 비표시 영역(NDA3), 및 제4 측 비표시 영역(NDA4)에서 제1 댐(311)이 형성된 영역에서 표시 영역(DA)까지 형성될 수 있다. 이때, 제2 전원 라인(330)은 도 5와 같이 일단이 제1 댐(311)에 의하여 덮이고, 타단이 평탄화막(260)에 의하여 덮일 수 있다.The second power line 330 according to an embodiment of the present invention has a first dam ( 311) or the second dam 312. The second power line 330 is displayed in the area where the first dam 311 is formed in the second side non-display area NDA2, the third side non-display area NDA3, and the fourth side non-display area NDA4. Up to an area (DA) can be formed. At this time, one end of the second power line 330 may be covered by the first dam 311 and the other end may be covered by the planarization film 260, as shown in FIG. 5 .

도 5에서는 제2 전원 라인(330)의 일단이 제1 댐(311)에 의하여 덮이는 것으로 도시하고 있으나, 이에 한정되지 않는다. 다른 일 실시예에 있어서, 제2 전원 라인(330)은 도 7과 같이 제2 댐(312)이 형성된 영역에서 표시 영역(DA)까지 형성될 수 있다. 이때, 제2 전원 라인(330)은 일단이 제2 댐(312)에 의하여 덮이고, 타단이 평탄화막(260)에 의하여 덮일 수 있다.In Figure 5, one end of the second power line 330 is shown covered by the first dam 311, but the present invention is not limited to this. In another embodiment, the second power line 330 may be formed from the area where the second dam 312 is formed to the display area DA, as shown in FIG. 7 . At this time, one end of the second power line 330 may be covered by the second dam 312 and the other end may be covered by the planarization film 260 .

이에 따라, 제2 전원 라인(330)은 봉지막(290)을 이루는 제1 무기막(291) 또는 제2 무기막(293)을 형성할 때 노출되지 않을 수 있다. 제2 전원 라인(330)은 제2 전원 전압이 인가되므로, 제2 전원 전압이 저항의 영향을 받지 않고 안정적으로 공급되기 위해서는 충분한 면적을 갖는 것이 바람직하다. 종래의 제2 전원 라인(330)은 충분한 면적을 가지기 위하여 제2 댐(312)의 외곽까지 형성된다. 이러한 종래의 제2 전원 라인(330)은 제2 댐(312)의 외곽에서 가장자리가 노출될 수 있다. 이와 같은 경우, 제2 전원 라인(330) 상에 봉지막(290)을 이루는 제1 무기막(291) 또는 제2 무기막(293)을 형성하게 되면, 제2 전원 라인(330)의 가장자리에서는 제1 무기막(291) 또는 제2 무기막(293)이 끊어진 심(seam)이 발생할 수 있다.Accordingly, the second power line 330 may not be exposed when forming the first inorganic layer 291 or the second inorganic layer 293 forming the encapsulation layer 290. Since the second power voltage is applied to the second power line 330, it is desirable to have a sufficient area in order to stably supply the second power voltage without being affected by resistance. The conventional second power line 330 is formed to the outside of the second dam 312 in order to have a sufficient area. The edge of the conventional second power line 330 may be exposed outside the second dam 312. In this case, when the first inorganic film 291 or the second inorganic film 293 forming the encapsulation film 290 is formed on the second power line 330, the edge of the second power line 330 A broken seam may occur in the first inorganic film 291 or the second inorganic film 293.

본 발명의 실시예에 따른 제2 전원 라인(330)은 제1 무기막(291) 또는 제2 무기막(293) 형성시 심이 발생하는 것을 방지하기 위하여 제1 댐(311) 또는 제2 댐(312)의 외곽까지 형성되지 않는다. 결과적으로, 본 발명의 실시예에 따른 제2 전원 라인(330)은 가장자리가 제1 댐(311) 또는 제2 댐(312)에 의하여 덮이므로, 제1 무기막(291) 또는 제2 무기막(293)에 심이 발생하는 것을 방지할 수 있다.The second power line 330 according to an embodiment of the present invention includes a first dam 311 or a second dam ( 312) is not formed until the outskirts. As a result, the edge of the second power line 330 according to an embodiment of the present invention is covered by the first dam 311 or the second dam 312, and thus the first inorganic film 291 or the second inorganic film You can prevent seams from occurring at (293).

한편, 상술한 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 제2 전원 라인(330)은 제1 댐(311) 또는 제2 댐(312)의 외곽에 형성되지 않기 때문에 형성 면적이 감소하게 된다. 제2 전원 라인(330)은 형성 면적이 감소하게 되면 저항이 증가하므로, 제2 전극(282)에 제2 전원 전압을 안정적으로 공급할 수 없다.Meanwhile, as described above, since the second power line 330 according to the embodiment of the present invention is not formed outside the first dam 311 or the second dam 312, the formation area is reduced. Since the resistance of the second power line 330 increases as the formation area decreases, the second power voltage cannot be stably supplied to the second electrode 282.

본 발명의 실시예는 제2 전원 라인(330)의 저항을 감소시키기 위한 보조 라인(286)을 더 포함할 수 있다. 제1 보조 라인(286)은 평탄화막(260) 상에서 제1 전극(281)과 이격 배치되어 제1 댐(311) 아래까지 연장될 수 있다. 이러한 제1 보조라인(286)은 도 5와 같이 제2 전원 라인(330)과 접속될 수 있다. 이에 따라, 제2 전원 라인(330)은 제1 보조 라인(286)에 의하여 형성 면적이 증가된 효과가 있으므로, 저항을 감소시킬 수 있다.An embodiment of the present invention may further include an auxiliary line 286 to reduce the resistance of the second power line 330. The first auxiliary line 286 may be spaced apart from the first electrode 281 on the planarization film 260 and extend below the first dam 311 . This first auxiliary line 286 may be connected to the second power line 330 as shown in FIG. 5. Accordingly, the formation area of the second power line 330 has the effect of being increased by the first auxiliary line 286, and thus the resistance can be reduced.

보조 라인(286)은 표시 영역(DA)에 배치된 제1 전극(281)과 동일한 층에 형성될 수 있다. 보조 라인(286)은 제1 전극(281)과 동일한 물질로 동시에 형성될 수 있다. 보조 라인(286)은 예를 들어, 알루미늄과 티타늄의 적층 구조(Ti/Al/Ti), 알루미늄과 ITO의 적층 구조(ITO/Al/ITO), APC 합금, 및 APC 합금과 ITO의 적층 구조(ITO/APC/ITO)과 같은 반사율이 높은 금속물질로 형성될 수 있다. APC 합금은 은(Ag), 팔라듐(Pd), 및 구리(Cu)의 합금이다.The auxiliary line 286 may be formed on the same layer as the first electrode 281 disposed in the display area DA. The auxiliary line 286 may be formed of the same material as the first electrode 281. The auxiliary line 286 is, for example, a laminated structure of aluminum and titanium (Ti/Al/Ti), a laminated structure of aluminum and ITO (ITO/Al/ITO), an APC alloy, and a laminated structure of APC alloy and ITO ( It can be formed of a highly reflective metal material such as ITO/APC/ITO). APC alloy is an alloy of silver (Ag), palladium (Pd), and copper (Cu).

또한, 본 발명의 실시예는 제2 전원 라인(330)의 저항을 감소시키기 위하여 제2 기판(112)에 형성된 상부 보조 라인(340)을 더 포함할 수 있다. 상부 보조 라인(340)에 관한 설명은 도 8 내지 10을 결부하여 후술하도록 한다.Additionally, the embodiment of the present invention may further include an upper auxiliary line 340 formed on the second substrate 112 to reduce the resistance of the second power line 330. A description of the upper auxiliary line 340 will be provided later in conjunction with FIGS. 8 to 10.

제1 패드(PAD1)는 패드 영역(PA)에 배치되어 제1 전원 라인(320)과 접속되며, 이방성 도전 필름(antisotropic conducting film)을 이용하여 연성 필름(150)의 배선들과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 제1 패드(PAD1)는 연성 필름(150)을 통해 외부의 전원 공급부로부터 제1 전원 전압을 공급받는다. 그리고 제1 패드(PAD1)는 제1 전원 전압을 접속된 제1 전원 라인(320)으로 공급한다.The first pad PAD1 is disposed in the pad area PA and connected to the first power line 320, and can be electrically connected to the wires of the flexible film 150 using an anisotropic conducting film. there is. This first pad (PAD1) receives the first power voltage from an external power supply through the flexible film 150. And the first pad (PAD1) supplies the first power voltage to the connected first power line 320.

제2 패드(PAD2)는 패드 영역(PA)에 배치되어 제2 전원 라인(330)과 접속되며, 이방성 도전 필름(antisotropic conducting film)을 이용하여 연성 필름(150)의 배선들과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 제2 패드(PAD2)는 연성 필름(150)을 통해 외부의 전원 공급부로부터 제2 전원 전압을 공급받는다. 그리고 제2 패드(PAD2)는 제2 전원 전압을 접속된 제2 전원 라인(330)으로 공급한다.The second pad PAD2 is disposed in the pad area PA and connected to the second power line 330, and can be electrically connected to the wires of the flexible film 150 using an anisotropic conducting film. there is. This second pad (PAD2) receives a second power voltage from an external power supply through the flexible film 150. And the second pad PAD2 supplies the second power voltage to the connected second power line 330.

더미 패드(DPAD)는 패드 영역(PAD)에 배치되어 제2 패드(PAD2)와 접속되며, 제2 기판(112)에 형성된 상부 보조 라인(340)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 더미 패드(DPAD)는 도 6과 같이 제2 패드(PAD2)으로부터 연장되어 일체로 형성될 수 있다.The dummy pad DPAD is disposed in the pad area PAD and connected to the second pad PAD2, and may be electrically connected to the upper auxiliary line 340 formed on the second substrate 112. This dummy pad DPAD may be integrally formed by extending from the second pad PAD2 as shown in FIG. 6 .

이하에서는 도 8 내지 도 10을 참조하여 상부 보조 라인(340)에 대하여 보다 구체적으로 설명하도록 한다.Hereinafter, the upper auxiliary line 340 will be described in more detail with reference to FIGS. 8 to 10.

도 8은 제1 기판 및 제2 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 9는 도 8에 도시된 Ⅳ-Ⅳ' 선의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이고, 도 10은 도 8에 도시된 Ⅴ-Ⅴ' 선의 단면을 개략적으로 나타내는 단면도이다.Figure 8 is a plan view schematically showing the first and second substrates. FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing a cross-section along line IV-IV' shown in FIG. 8, and FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a cross-section along line V-V' shown in FIG. 8.

도 8 내지 도 10을 참조하면, 제1 기판(111)은 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)으로 구분되며, 비표시 영역(NDA)에는 패드(PAD1, PAD2, DPAD)들이 형성되는 패드 영역(PA), 댐(310), 제1 전원 라인(320), 및 제2 전원 라인(330)이 형성될 수 있다. 제2 기판(112)은 제1 기판(111)과 같이 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)으로 구분되며, 비표시 영역(NDA)에는 상부 보조 라인(340)이 형성될 수 있다. 제2 기판(112)의 비표시 영역(NDA)은 제1 측 비표시 영역(NDA1), 제1 측 비표시 영역(NDA1)과 마주보는 제2 측 비표시 영역(NDA2), 제1 측 비표시 영역(NDA1)의 일단과 제2 측 비표시 영역(NDA2)의 일단을 연결하는 제3 측 비표시 영역(NDA3), 및 제1 측 비표시 영역(NDA1)의 타단과 제2 측 비표시 영역(NDA2)의 타단을 연결하는 제4 측 비표시 영역(NDA4)을 포함한다.8 to 10, the first substrate 111 is divided into a display area (DA) and a non-display area (NDA), and pads (PAD1, PAD2, and DPAD) are formed in the non-display area (NDA). A pad area PA, a dam 310, a first power line 320, and a second power line 330 may be formed. Like the first substrate 111, the second substrate 112 is divided into a display area DA and a non-display area NDA, and an upper auxiliary line 340 may be formed in the non-display area NDA. The non-display area NDA of the second substrate 112 includes a first side non-display area NDA1, a second side non-display area NDA2 facing the first side non-display area NDA1, and a first side non-display area NDA1. A third side non-display area NDA3 connecting one end of the display area NDA1 and one end of the second side non-display area NDA2, and the other end of the first side non-display area NDA1 and the second side non-display area It includes a fourth side non-display area NDA4 connecting the other end of the area NDA2.

도 9 및 도 10에 도시된 패드(PAD1, PAD2, DPAD)들, 댐(310), 제1 전원 라인(320), 및 제2 전원 라인(330)은 도 3 내지 도 7에 도시된 패드(PAD1, PAD2, DPAD)들, 댐(310), 제1 전원 라인(320), 및 제2 전원 라인(330)과 실질적으로 동일하므로, 이에 관한 설명은 생략하도록 한다.The pads PAD1, PAD2, and DPAD shown in FIGS. 9 and 10, the dam 310, the first power line 320, and the second power line 330 are the pads shown in FIGS. 3 to 7 ( Since they are substantially the same as the PAD1, PAD2, and DPAD), the dam 310, the first power line 320, and the second power line 330, description thereof will be omitted.

제2 전원 라인(330)은 제2 기판과 마주보는 제1 기판(111)의 일면 상에 형성된다. 제2 전원 라인(330)은 패드 영역(PA)에서 제2 패드(PAD2)와 접속하며, 제2 패드(PAD2)로부터 공급되는 제2 전원 전압을 화소(P)들에 인가한다.The second power line 330 is formed on one side of the first substrate 111 facing the second substrate. The second power line 330 is connected to the second pad PAD2 in the pad area PA, and applies the second power voltage supplied from the second pad PAD2 to the pixels P.

제2 패드(PAD2)는 패드 영역(PA)에 배치되어 제2 전원 라인(330)과 접속되며, 도전볼(360a)을 포함하는 이방성 도전 필름(360)을 이용하여 연성 필름(150)의 배선(152)들과 전기적으로 연결될 수 있다. 이때, 연성 필름(150)의 배선(152)들은 보호 필름(154)에 의하여 보호된다.The second pad PAD2 is disposed in the pad area PA and connected to the second power line 330, and is used for wiring of the flexible film 150 using the anisotropic conductive film 360 including the conductive ball 360a. (152) can be electrically connected to them. At this time, the wiring 152 of the flexible film 150 is protected by the protective film 154.

이러한 제2 패드(PAD2)는 연성 필름(150)을 통해 외부의 전원 공급부로부터 제2 전원 전압을 공급받고, 제2 전원 전압을 접속된 제2 전원 라인(330)으로 공급한다.This second pad (PAD2) receives the second power voltage from an external power supply through the flexible film 150 and supplies the second power voltage to the connected second power line 330.

더미 패드(DPAD)는 패드 영역(PAD)에 배치되어 제2 패드(PAD2)와 접속되며, 제2 기판(112)에 형성된 상부 보조 라인(340)과 전기적으로 연결될 수 있다. 이러한 더미 패드(DPAD)는 제2 패드(PAD2)으로부터 연장되어 일체로 형성될 수 있다.The dummy pad DPAD is disposed in the pad area PAD and connected to the second pad PAD2, and may be electrically connected to the upper auxiliary line 340 formed on the second substrate 112. This dummy pad DPAD may extend from the second pad PAD2 and be integrally formed.

상부 보조 라인(340)은 제1 기판(111)과 마주보는 제2 기판(112)의 일면 상에 형성되어, 제1 기판(111)에 형성된 제2 전원 라인(330)과 전기적으로 접속된다. 상부 보조 라인(340)은 제1 측 비표시 영역(NDA1)에서 제1 기판(111)에 형성된 더미 패드(DPAD)와 대응되도록 형성된 패드 접속부(342), 및 패드 접속부(342)로부터 연장되어 표시 영역(DA)을 둘러싸도록 라인이 형성된 라인부(344)를 포함한다.The upper auxiliary line 340 is formed on one side of the second substrate 112 facing the first substrate 111 and is electrically connected to the second power line 330 formed on the first substrate 111. The upper auxiliary line 340 extends from the pad connection portion 342 and the pad connection portion 342 formed to correspond to the dummy pad DPAD formed on the first substrate 111 in the first side non-display area NDA1. It includes a line portion 344 in which a line is formed to surround the area DA.

상부 보조 라인(340)의 패드 접속부(342)는 도전볼(370a)을 포함하는 접착 부재(370)를 이용하여 제1 기판(111)의 패드 영역(PAD)에 형성된 더미 패드(DPAD)와 접속된다.The pad connection portion 342 of the upper auxiliary line 340 is connected to the dummy pad DPAD formed in the pad area PAD of the first substrate 111 using an adhesive member 370 including a conductive ball 370a. do.

이에 따라, 상부 보조 라인(340)은 더미 패드(DPAD)와 제2 패드(PAD2)가 전기적으로 연결되어 있으므로, 외부의 전압 공급부로부터 제2 패드(PAD2)로 공급되는 제2 전원 전압이 더미 패드(DPAD)를 통해 인가될 수 있다.Accordingly, since the upper auxiliary line 340 is electrically connected to the dummy pad DPAD and the second pad PAD2, the second power voltage supplied to the second pad PAD2 from the external voltage supply is applied to the dummy pad. It can be approved through (DPAD).

상부 보조 라인(340)은 제2 전원 라인(330)과 동일한 물질로 형성될 수 있다. 상부 보조 라인(340)은 예컨대, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu) 중 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 단일층 또는 다중층일 수 있다.The upper auxiliary line 340 may be formed of the same material as the second power line 330. The upper auxiliary line 340 is made of, for example, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). It may be a single layer or multiple layers made of one or an alloy thereof.

한편, 제1 기판(111)의 봉지막(290)과 제2 기판(112)의 상부 보조 라인(340)은 접착층(350)을 이용하여 접착되며, 이로 인해 제1 기판(111)과 제2 기판(112)은 합착될 수 있다. 접착층(350)은 투명한 접착 레진일 수 있다.Meanwhile, the encapsulation film 290 of the first substrate 111 and the upper auxiliary line 340 of the second substrate 112 are bonded using the adhesive layer 350, thereby bonding the first substrate 111 and the second substrate 112 to each other. Substrate 112 may be cemented. The adhesive layer 350 may be a transparent adhesive resin.

본 발명의 실시예에 따른 표시장치는 제2 전원 라인(330)의 가장자리를 제1 댐(311) 또는 제2 댐(312)에 의하여 덮도록 하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 본 발명의 실시예에 따른 표시장치는 제2 전원 라인(330)에 의하여 제1 무기막(291) 또는 제2 무기막(293)에 심이 발생하는 것을 방지할 수 있다.The display device according to an embodiment of the present invention is characterized in that the edge of the second power line 330 is covered by the first dam 311 or the second dam 312. Accordingly, the display device according to an embodiment of the present invention can prevent seams from occurring in the first inorganic layer 291 or the second inorganic layer 293 by the second power line 330.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시장치는 제2 기판(112)에 상부 보조 라인(340)을 형성하고 상부 보조 라인(340)을 제1 기판(111)에 형성된 제2 전원 라인(330)과 전기적으로 연결시키는 것을 특징으로 한다. 본 발명의 실시예에 따른 표시장치는 제2 전원 라인(330)을 제1 댐(311) 또는 제2 댐(312) 외곽에 형성하지 않기 때문에 제2 전원 라인(330)의 형성 면적이 줄어들 수 있다. 본 발명의 실시예에 따른 표시장치는 제2 전원 라인(330)의 형성 면적이 줄어들더라도 제2 전원 라인(330)을 상부 보조 라인(340)과 전기적으로 연결함으로써 제2 전원 전압이 저항의 영향을 받지않고 제2 전극(282)에 안정적으로 공급될 수 있도록 한다.In addition, the display device according to an embodiment of the present invention forms an upper auxiliary line 340 on the second substrate 112, and the upper auxiliary line 340 is connected to the second power line 330 formed on the first substrate 111. It is characterized by being electrically connected to. Since the display device according to an embodiment of the present invention does not form the second power line 330 outside the first dam 311 or the second dam 312, the formation area of the second power line 330 may be reduced. there is. The display device according to the embodiment of the present invention electrically connects the second power line 330 to the upper auxiliary line 340 even though the formation area of the second power line 330 is reduced, so that the second power voltage is affected by resistance. This ensures that it can be stably supplied to the second electrode 282 without receiving any damage.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 표시장치는 제2 전원 라인(330)의 폭을 줄일 수 있다. 결과적으로, 본 발명의 실시예에 따른 표시장치는 네로우 베젤(narrow bezel)을 구현할 수 있다.Additionally, the display device according to an embodiment of the present invention can reduce the width of the second power line 330. As a result, the display device according to an embodiment of the present invention can implement a narrow bezel.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made without departing from the technical spirit of the present invention. . Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but are for illustrative purposes, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, the embodiments described above should be understood in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of protection of the present invention should be interpreted in accordance with the claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of rights of the present invention.

100: 표시장치 110: 표시패널
111: 제1 기판 112: 제2 기판
140: 소스 드라이브 IC 150: 연성필름
160: 회로보드 170: 타이밍 제어부
210: 박막 트랜지스터 211: 액티브층
212: 게이트전극 213: 소스전극
214: 드레인전극 220: 커패시터
221: 하부 전극 222: 상부 전극
230: 게이트 절연막 240: 층간 절연막
260: 평탄화막 280: 유기발광소자
281: 제1 전극 283: 유기발광층
282: 제2 전극 284: 뱅크
285: 스페이서 290: 봉지막
291: 제1 무기막 292: 유기막
293: 제2 무기막 310: 댐
320: 제1 전원 라인 330: 제2 전원 라인
340: 상부 보조 라인
100: display device 110: display panel
111: first substrate 112: second substrate
140: Source drive IC 150: Flexible film
160: circuit board 170: timing control unit
210: thin film transistor 211: active layer
212: gate electrode 213: source electrode
214: drain electrode 220: capacitor
221: lower electrode 222: upper electrode
230: gate insulating film 240: interlayer insulating film
260: Planarization film 280: Organic light emitting device
281: first electrode 283: organic light emitting layer
282: second electrode 284: bank
285: spacer 290: encapsulation film
291: first inorganic layer 292: organic layer
293: second inorganic membrane 310: dam
320: first power line 330: second power line
340: Upper auxiliary line

Claims (13)

화소들이 배치된 표시 영역, 및 복수의 패드들이 배치된 비표시 영역을 포함하는 제1 기판;
상기 제1 기판 상에 형성되고, 상기 복수의 패드들 중 적어도 하나로부터 공급된 전원 전압을 상기 화소로 공급하는 전원 라인; 및
상기 전원 라인의 일단을 덮도록 형성된 댐을 포함하고,
상기 제1 기판과 마주보도록 배치된 제2 기판, 및
상기 제1 기판과 마주보는 상기 제2 기판의 일면 상에 형성된 상부 보조 라인을 더 포함하고,
상기 복수의 패드들은 상기 전원 라인과 직접 접속하는 패드, 및 상기 패드와 직접 연결되고 상기 상부 보조 라인과 두께 방향에서 중첩하는 더미 패드를 포함하고,
상기 상부 보조 라인은 상기 더미 패드와 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 표시장치.
A first substrate including a display area where pixels are arranged and a non-display area where a plurality of pads are arranged;
a power line formed on the first substrate and supplying a power voltage supplied from at least one of the plurality of pads to the pixel; and
It includes a dam formed to cover one end of the power line,
a second substrate disposed to face the first substrate, and
Further comprising an upper auxiliary line formed on one side of the second substrate facing the first substrate,
The plurality of pads include a pad directly connected to the power line, and a dummy pad that is directly connected to the pad and overlaps the upper auxiliary line in the thickness direction,
The display device wherein the upper auxiliary line is electrically connected to the dummy pad.
제1항에 있어서,
상기 화소는 상기 제1 기판 상에 형성된 제1 전극, 상기 제1 전극 상에 형성된 유기발광층, 및 상기 유기발광층 상에 형성된 제2 전극을 포함하고,
상기 전원 라인은 상기 제2 전극에 전원 전압을 공급하는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to paragraph 1,
The pixel includes a first electrode formed on the first substrate, an organic emission layer formed on the first electrode, and a second electrode formed on the organic emission layer,
The display device is characterized in that the power line supplies a power voltage to the second electrode.
제1항에 있어서,
상기 비표시 영역은 상기 복수의 패드들이 배치된 제1 측 비표시 영역, 상기 제1 측 비표시 영역과 마주보는 제2 측 비표시 영역, 상기 제1 측 비표시 영역의 일단과 상기 제2 측 비표시 영역의 일단을 연결하는 제3 측 비표시 영역, 및 상기 제1 측 비표시 영역의 타단과 상기 제2 측 비표시 영역의 타단을 연결하는 제4 측 비표시 영역을 포함하고,
상기 전원 라인은 상기 복수의 패드들로부터 상기 제2 측 비표시 영역, 상기 제3 측 비표시 영역, 및 상기 제4 측 비표시 영역으로 연장되는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to paragraph 1,
The non-display area includes a first side non-display area where the plurality of pads are disposed, a second side non-display area facing the first side non-display area, one end of the first side non-display area and the second side. a third side non-display area connecting one end of the non-display area, and a fourth side non-display area connecting the other end of the first side non-display area and the other end of the second side non-display area,
The power line extends from the plurality of pads to the second side non-display area, the third side non-display area, and the fourth side non-display area.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 상부 보조 라인은 상기 전원 라인과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to paragraph 1,
The display device is characterized in that the upper auxiliary line is electrically connected to the power line.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 더미 패드는 상기 패드로부터 연장 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to paragraph 1,
The display device wherein the dummy pad extends from the pad.
제1항에 있어서,
상기 상부 보조 라인은 상기 더미 패드에 접속되어 상기 전원 라인과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to paragraph 1,
The display device is characterized in that the upper auxiliary line is connected to the dummy pad and electrically connected to the power line.
제8항에 있어서,
상기 상부 보조 라인은 도전볼을 포함하는 접착 부재를 이용하여 상기 더미 패드와 접속하는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to clause 8,
The display device wherein the upper auxiliary line is connected to the dummy pad using an adhesive member including a conductive ball.
제1항에 있어서,
상기 화소는,
상기 제1 기판 상에 형성된 액티브층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 박막 트랜지스터를 더 포함하고,
상기 전원 라인은 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극과 동일층에 동일한 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to paragraph 1,
The pixel is,
Further comprising a thin film transistor including an active layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode formed on the first substrate,
The display device, wherein the power line is formed of the same material on the same layer as the source electrode and the drain electrode.
제10항에 있어서,
상기 복수의 패드들은 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극과 동일층에 동일한 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to clause 10,
The display device, wherein the plurality of pads are formed of the same material on the same layer as the source electrode and the drain electrode.
제10항에 있어서,
상기 화소는,
상기 박막 트랜지스터 상에 형성된 평탄화막을 더 포함하고,
상기 평탄화막은 상기 전원 라인의 타단을 덮는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to clause 10,
The pixel is,
Further comprising a planarization film formed on the thin film transistor,
The display device is characterized in that the planarization film covers the other end of the power line.
제1항에 있어서,
상기 댐은,
상기 표시 영역을 둘러싸도록 형성된 제1 댐; 및
상기 제1 댐을 둘러싸도록 형성된 제2 댐을 포함하고,
상기 전원 라인의 일단은 상기 제1 댐 및 상기 제2 댐 중 어느 하나에 의하여 덮이는 것을 특징으로 하는 표시장치.
According to paragraph 1,
The dam,
a first dam formed to surround the display area; and
It includes a second dam formed to surround the first dam,
A display device, characterized in that one end of the power line is covered by one of the first dam and the second dam.
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