JP2010027504A - Organic el device and electronic apparatus - Google Patents

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Shigemitsu Koike
繁光 小池
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure that achieves a reduction in frame width without impairing sealing performance of an organic EL device. <P>SOLUTION: An organic EL device includes a first auxiliary electrode 41 provided on a barrier rib 16 above a device substrate 11 so as to be electrically connected with a negative electrode 14, a negative electrode protecting layer 17 provided on the device substrate 11 so as to cover the barrier rib 16, the negative electrode 14, and the first auxiliary electrode 41, a conduction wiring 26 provided above the barrier rib 16 and arranged inside each contact hole penetrating through the negative electrode protecting layer 17 so as to be electrically connected with the first auxiliary electrode 41, each conductive conduction-connection part 42 provided on the upper surface of the conduction wiring 26, and a routing wiring 22 provided so as to be electrically connected with each conduction connection part 42. The routing wiring 22 is provided on a sealing substrate 21 so as to be partially overlapped with a region that faces a non-display region M while facing the barrier rib 16. The negative electrode 14 is electrically connected with the routing wiring 22 above the barrier rib 16, provided in the non-display region M, via the first auxiliary electrode 41, the conduction wiring 26, and each conduction connection part 42. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to an organic EL device and an electronic apparatus.

近年、次世代フラットディスプレイの一つとして、有機EL素子を画素として用いた表示装置(以下、有機EL装置と称する)が、低電圧駆動、軽量薄型、高視野角、高速応答などの長所によって注目されている。従来、有機EL装置は、陰極配線を配置する際に実装辺を除く表示領域の周りの非表示領域に陰極配線を引き回して表示領域の画素内部への陰極接続を行っている。そのため、非表示領域は容量確保も含め幅の広い陰極配線が必要となり、有機EL装置の狭額縁化が困難なことが問題となっている。   In recent years, as one of next-generation flat displays, a display device using an organic EL element as a pixel (hereinafter referred to as an organic EL device) has attracted attention due to advantages such as low-voltage driving, light weight and thinness, high viewing angle, and high-speed response. Has been. 2. Description of the Related Art Conventionally, an organic EL device connects a cathode wiring to a non-display area around a display area excluding a mounting side when arranging the cathode wiring to connect the cathode to the inside of a pixel in the display area. For this reason, the non-display area requires a wide cathode wiring including capacity securing, and it is difficult to narrow the frame of the organic EL device.

このような問題点を解決するための技術が各種検討されており、例えば特許文献1では、封止基板の透明基板に対向する表示領域に外部信号源から入力する表示データを駆動回路に供給する入力配線と、駆動回路から走査配線に走査信号を伝達すると共に信号配線に表示信号を伝達する引回し配線を配置している。これにより、表示領域が駆動回路や引回し配線の形成部分で制限されず、決められたサイズの透明基板での表示領域の拡大すなわち狭額縁化を実現することを可能にしている。   Various techniques for solving such problems have been studied. For example, in Patent Document 1, display data input from an external signal source is supplied to a drive circuit to a display region of a sealing substrate facing a transparent substrate. An input wiring and a lead wiring for transmitting a scanning signal from the driving circuit to the scanning wiring and transmitting a display signal to the signal wiring are arranged. Thereby, the display area is not limited by the formation portion of the drive circuit and the lead wiring, and it is possible to realize the enlargement of the display area, that is, the narrowing of the frame on the transparent substrate having a predetermined size.

特許文献2では、第1基板に対向して設ける第2基板側に補助電極となる低比抵抗のパターン化された導電性膜を設けることにより、陰極と補助配線のクリアランス幅が不要となり、開口率を大きくすることを可能にしている。   In Patent Document 2, by providing a patterned conductive film having a low specific resistance to be an auxiliary electrode on the second substrate side provided to face the first substrate, the clearance width between the cathode and the auxiliary wiring becomes unnecessary, and an opening is formed. It is possible to increase the rate.

特許文献3では、発光層上に形成されている共通電極と電気的に接続され、共通電圧が印加される補助電極を設けることにより、補助電極を通じて電圧の印加を円滑に行うこと可能にしている。
特開2004−253303号公報 特開2006−318776号公報 特開2007−141844号公報
In Patent Document 3, by providing an auxiliary electrode that is electrically connected to a common electrode formed on the light emitting layer and to which a common voltage is applied, it is possible to smoothly apply a voltage through the auxiliary electrode. .
JP 2004253303 A JP 2006-318776 A JP 2007-141844 A

ところで、これらの有機EL装置では、封止基板側に補助電極を形成しアレイ基板側の陰極と表示領域の全ての画素において一対一ごとに上下導通している。表示領域に有機EL素子を封止する薄膜封止層を設ける際に、表示領域の全ての画素ごとにおいて薄膜封止層にコンタクトホールを空けて導通しなければならないので、封止性能が損なわれる場合がある。   By the way, in these organic EL devices, an auxiliary electrode is formed on the sealing substrate side, and the cathode on the array substrate side and all the pixels in the display area are vertically connected one-on-one. When providing a thin film sealing layer for sealing the organic EL element in the display region, a contact hole must be opened in the thin film sealing layer for every pixel in the display region, so that the sealing performance is impaired. There is a case.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、有機EL装置の封止性能を損なうことなく狭額縁化を図る構造を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a situation, Comprising: It aims at providing the structure which aims at narrowing a frame, without impairing the sealing performance of an organic electroluminescent apparatus.

上記の課題を解決するため、本発明の有機EL装置は、素子基板と、前記素子基板上に陽極と有機発光層と陰極が順次積層されてなる有機EL素子と、平面視において前記有機EL素子の周囲を囲むように設けられた隔壁と、前記素子基板の前記隔壁が設けられた側に対向して透明接着層を介して設けられた封止基板と、を備える有機EL装置において、前記素子基板は前記有機EL素子をマトリクス状に複数配置した表示領域を有し、前記隔壁上に前記陰極と電気的に接続されるように設けられた第1補助電極と、前記素子基板上に前記隔壁と前記陰極と前記第1補助電極を覆うように設けられた陰極保護層と、前記素子基板上に前記陰極保護層を覆うように設けられた有機緩衝層と、前記素子基板上に前記有機緩衝層を覆うように設けられたガスバリア層と、前記隔壁上及び前記ガスバリア層と前記有機緩衝層と前記陰極保護層とを貫通するコンタクトホール内に配置され、前記第1補助電極と電気的に接続される導電配線と、前記導電配線の上面に設けられた導電性の導電接続部と、前記導電接続部と電気的に接続されるように設けられた引き回し配線とを備え、前記引き回し配線は、前記封止基板上に設けられるとともに、前記表示領域の外に相当する非表示領域に対向し、かつ前記隔壁と対向する領域と一部重なるように設けられ、
前記陰極は、前記第1補助電極と前記導電配線と前記導電接続部とを介して、前記引き回し配線と前記非表示領域に設けられた前記隔壁上で電気的に接続されていることを特徴とする。
この構成によれば、引き回し配線は、封止基板上の非表示領域に、かつ隔壁と対向する領域と一部重なるように設けられるので、狭額縁化を図ることができる。また、陰極と引き回し配線とを導通する際に、素子基板上の非表示領域に設けられた隔壁上の陰極保護層と有機緩衝層とガスバリア層を貫通すればよく、表示領域に導通するためのコンタクトホールを空ける必要がない。したがって、封止性能を損なうことなく狭額縁化を図った有機EL装置とすることができる。
In order to solve the above problems, an organic EL device of the present invention includes an element substrate, an organic EL element in which an anode, an organic light emitting layer, and a cathode are sequentially stacked on the element substrate, and the organic EL element in a plan view. In the organic EL device, comprising: a partition provided so as to surround the periphery of the element substrate; and a sealing substrate provided via a transparent adhesive layer facing the side of the element substrate on which the partition is provided The substrate has a display region in which a plurality of the organic EL elements are arranged in a matrix, a first auxiliary electrode provided on the partition to be electrically connected to the cathode, and the partition on the element substrate A cathode protective layer provided so as to cover the cathode and the first auxiliary electrode; an organic buffer layer provided on the element substrate so as to cover the cathode protective layer; and the organic buffer provided on the element substrate. Provided to cover the layer A gas barrier layer, a conductive wiring disposed on the partition and in a contact hole penetrating the gas barrier layer, the organic buffer layer, and the cathode protective layer, and electrically connected to the first auxiliary electrode; A conductive conductive connecting portion provided on an upper surface of the conductive wiring; and a lead wiring provided so as to be electrically connected to the conductive connecting portion, wherein the lead wiring is provided on the sealing substrate. And is provided so as to face the non-display area corresponding to the outside of the display area and partially overlap the area facing the partition.
The cathode is electrically connected to the lead-out wiring and the partition provided in the non-display area through the first auxiliary electrode, the conductive wiring, and the conductive connection portion. To do.
According to this configuration, the lead-out wiring is provided in the non-display area on the sealing substrate so as to partially overlap the area facing the partition wall, so that the frame can be narrowed. Further, when conducting the cathode and the lead-out wiring, it is sufficient to penetrate the cathode protective layer, the organic buffer layer, and the gas barrier layer on the partition provided in the non-display area on the element substrate. There is no need to open contact holes. Therefore, an organic EL device with a narrow frame can be obtained without impairing the sealing performance.

本発明においては、前記導電接続部はAgペーストからなることが望ましい。
この構成によれば、他の金属よりも導電性に優れるので、より低電圧駆動を図ることができる。また、少量の微細塗布が可能なので、より薄型の有機EL装置とすることができる。また、粘度が透明接着層の形成材料の接着剤よりも大きいので、接着剤に流されることなく効率良く成形することができる。
In the present invention, it is preferable that the conductive connection portion is made of an Ag paste.
According to this structure, since it is excellent in electroconductivity compared with another metal, a low voltage drive can be aimed at. Moreover, since a small amount of fine coating is possible, a thinner organic EL device can be obtained. Moreover, since the viscosity is larger than the adhesive of the material for forming the transparent adhesive layer, it can be efficiently molded without being poured by the adhesive.

本発明においては、前記導電配線は金属膜からなることが望ましい。
この構成によれば、引き回し配線と陰極を導通するためにガスバリア層と有機緩衝層と陰極保護層にコンタクトホールを空けた場合でも、金属封止をしているので封止性能の低下を防止することができる。
In the present invention, the conductive wiring is preferably made of a metal film.
According to this configuration, even when contact holes are opened in the gas barrier layer, the organic buffer layer, and the cathode protective layer in order to make the routing wiring and the cathode conductive, the sealing performance is prevented from being lowered because the metal is sealed. be able to.

本発明においては、前記引き回し配線と重なるように、且つ、前記第1補助電極と交差するように前記第1補助電極よりも幅広の第2補助電極が設けられ、前記第2補助電極は前記引き回し配線と前記素子基板上の前記非表示領域に設けられた前記隔壁上で電気的に接続されていることが望ましい。
この構成によれば、第2補助電極が第1補助電極よりも幅広なので引き回し配線と十分なコンタクト径を確保することができる。これにより、導通抵抗が小さくなり、より低電圧駆動を図った有機EL装置とすることができる。
In the present invention, a second auxiliary electrode wider than the first auxiliary electrode is provided so as to overlap the routing wiring and cross the first auxiliary electrode, and the second auxiliary electrode is provided in the routing. It is desirable that the wiring is electrically connected to the partition provided in the non-display area on the element substrate.
According to this configuration, since the second auxiliary electrode is wider than the first auxiliary electrode, it is possible to secure the lead wiring and a sufficient contact diameter. As a result, the conduction resistance is reduced, and the organic EL device can be driven at a lower voltage.

本発明の電子機器は、前述した本発明の有機EL装置を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、封止性能を損なうことなく狭額縁化を図った電子機器とすることができる。
An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described organic EL device according to the present invention.
According to this configuration, it is possible to provide an electronic device with a narrow frame without impairing the sealing performance.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.

(第1実施形態)
図1は本発明の第1実施形態に係る有機EL装置1と制御基板5の概略構成を示す斜視図である。有機EL装置1は、素子基板11と封止基板21とを備えている。素子基板11上には、複数の薄膜トランジスタ(TFT)(図示略)及び各種の配線(図示略)が形成されている。素子基板11の一辺には第1フレキシブル基板61が設けられている。制御基板5の第1の辺には第1端子51が設けられている。素子基板11上の各種配線は、第1フレキシブル基板61と第1端子51を介して制御基板5と電気的に接続されている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing a schematic configuration of an organic EL device 1 and a control board 5 according to the first embodiment of the present invention. The organic EL device 1 includes an element substrate 11 and a sealing substrate 21. A plurality of thin film transistors (TFTs) (not shown) and various wirings (not shown) are formed on the element substrate 11. A first flexible substrate 61 is provided on one side of the element substrate 11. A first terminal 51 is provided on the first side of the control board 5. Various wirings on the element substrate 11 are electrically connected to the control substrate 5 via the first flexible substrate 61 and the first terminals 51.

封止基板21の素子基板11と対向する側には引き回し配線22,23が設けられている。封止基板21の一辺には第2フレキシブル基板62が設けられている。制御基板5の第1の辺と対向する第2の辺には、第2端子52が設けられている。引き回し配線22,23は第2フレキシブル基板62と第2端子52を介して制御基板5と電気的に接続されている。なお、引き回し配線22,23は、封止基板21のフレキシブル基板62が設けられた一辺に隣接する2辺に沿うように延在して設けられている。   On the side of the sealing substrate 21 facing the element substrate 11, routing wirings 22 and 23 are provided. A second flexible substrate 62 is provided on one side of the sealing substrate 21. A second terminal 52 is provided on the second side facing the first side of the control board 5. The routing wirings 22 and 23 are electrically connected to the control board 5 via the second flexible board 62 and the second terminals 52. The routing wirings 22 and 23 are provided so as to extend along two sides adjacent to one side where the flexible substrate 62 of the sealing substrate 21 is provided.

図2は素子基板11の封止基板21と対向する側の平面概略図である。図示左右方向に長手を有する矩形状の素子基板11上には、隔壁16が設けられ、この隔壁16により複数の有機EL素子10が互いに区分されている。換言すると、平面視において隔壁16は有機EL素子10の周囲を囲むように形成されている。有機EL素子10は、単色の発光色の光を発生する、例えば白色の光を発生する有機発光素子を有している。素子基板11上では、これら複数の有機EL素子10がマトリクス状に規則的に配列され表示領域Lを成している。なお、有機EL素子10は、RGBの三つの有機材料を使い塗り分けて三種の有機発光素子、例えば赤色光を発生する有機発光素子、緑色光を発生する有機発光素子、青色光を発生する有機発光素子としても良い。なお、表示領域L外に相当する領域を非表示領域Mとする。   FIG. 2 is a schematic plan view of the element substrate 11 on the side facing the sealing substrate 21. A partition wall 16 is provided on a rectangular element substrate 11 having a length in the horizontal direction in the figure, and the plurality of organic EL elements 10 are separated from each other by the partition wall 16. In other words, the partition 16 is formed so as to surround the periphery of the organic EL element 10 in plan view. The organic EL element 10 includes an organic light emitting element that generates light of a single color, for example, white light. On the element substrate 11, the plurality of organic EL elements 10 are regularly arranged in a matrix to form a display region L. In addition, the organic EL element 10 is formed by using three organic materials of RGB, and is divided into three types of organic light emitting elements, for example, an organic light emitting element that generates red light, an organic light emitting element that generates green light, and an organic that generates blue light. A light emitting element may be used. Note that a region corresponding to the outside of the display region L is a non-display region M.

隔壁16と重なるように複数の第1補助電極41が図示左右方向に延在して上下方向に並設されている。素子基板11上には、複数の有機EL素子10、隔壁16、第1補助電極41を覆うように陰極保護層17が図示左右方向に長手を有する矩形状に設けられている。素子基板11上には、陰極保護層17を覆うように有機緩衝層18が図示左右方向に長手を有する矩形状に設けられている。素子基板11上には、有機緩衝層18を覆うようにガスバリア層19が図示左右方向に長手を有する矩形状に設けられている。   A plurality of first auxiliary electrodes 41 extend in the horizontal direction in the figure so as to overlap the partition wall 16 and are arranged in parallel in the vertical direction. On the element substrate 11, a cathode protective layer 17 is provided in a rectangular shape having a length in the horizontal direction in the figure so as to cover the plurality of organic EL elements 10, the partition walls 16, and the first auxiliary electrodes 41. On the element substrate 11, an organic buffer layer 18 is provided in a rectangular shape having a length in the horizontal direction in the figure so as to cover the cathode protective layer 17. On the element substrate 11, a gas barrier layer 19 is provided in a rectangular shape having a length in the horizontal direction in the figure so as to cover the organic buffer layer 18.

ガスバリア層19上には、非表示領域Mの隔壁16に重なるように、かつ複数の第1補助電極41に重なるように複数の導電接続部42が設けられている。素子基板11の一辺に沿うように一部重なるように、第1フレキシブル基板61が図示左右方向に長手を有する矩形状に設けられている。   On the gas barrier layer 19, a plurality of conductive connection portions 42 are provided so as to overlap the partition walls 16 in the non-display area M and to overlap the plurality of first auxiliary electrodes 41. The first flexible substrate 61 is provided in a rectangular shape having a length in the horizontal direction in the drawing so as to partially overlap along one side of the element substrate 11.

図3は封止基板21の素子基板11と対向する側の平面概略図である。図示左右方向に長手を有する矩形状の封止基板21上には、ブラックマトリクス層32が設けられ、このブラックマトリクス層32によりカラーフィルタ31が互いに区分されている。カラーフィルタ31は、例えば、赤色着色層31R、緑色着色層31G、青色着色層31Bを有している。封止基板21上では、これら3種類の着色層がマトリクス状に規則的に配列され表示領域Lを成している。なお、表示領域L外に相当する領域を非表示領域Mとする。   FIG. 3 is a schematic plan view of the sealing substrate 21 on the side facing the element substrate 11. A black matrix layer 32 is provided on a rectangular sealing substrate 21 having a length in the horizontal direction in the figure, and the color filters 31 are separated from each other by the black matrix layer 32. The color filter 31 includes, for example, a red colored layer 31R, a green colored layer 31G, and a blue colored layer 31B. On the sealing substrate 21, these three kinds of colored layers are regularly arranged in a matrix to form a display region L. Note that a region corresponding to the outside of the display region L is a non-display region M.

封止基板21の一辺に沿うように一部重なるように、第2フレキシブル基板62が図示左右方向に長手を有する矩形状に設けられている。封止基板21の第2フレキシブル基板62が設けられた一辺に隣接する2辺には、非表示領域Mに、かつブラックマトリクス層32と一部重なるように引き回し配線22,23が図示上下方向に延在するように設けられている。引き回し配線22の一方の端部は、第2フレキシブル基板62の一方の端部と一部重なるように設けられている。引き回し配線23の一方の端部は、第2フレキシブル基板62の他方の端部と一部重なるように設けられている。   The second flexible substrate 62 is provided in a rectangular shape having a length in the horizontal direction in the figure so as to partially overlap along one side of the sealing substrate 21. On two sides adjacent to one side of the sealing substrate 21 on which the second flexible substrate 62 is provided, the routing wirings 22 and 23 are arranged in the vertical direction in the drawing in the non-display area M so as to partially overlap the black matrix layer 32. It is provided to extend. One end of the routing wiring 22 is provided so as to partially overlap with one end of the second flexible substrate 62. One end of the routing wiring 23 is provided so as to partially overlap the other end of the second flexible substrate 62.

図4は、有機EL装置1の封止基板21を除いた平面概略拡大図である。素子基板11上には、隔壁16に互いに区分されるように複数の有機EL素子10が設けられている。複数の有機EL素子10がマトリクス状に規則的に配列され表示領域Lを成している。なお、表示領域L外に相当する領域を非表示領域Mとする。隔壁16に重なるように複数の第1補助電極41が図示左右方向に延在して上下方向に並設されている。非表示領域Mの隔壁16に重なるように、かつ複数の第1補助電極41と重なるように複数の導電接続部42が設けられている。   FIG. 4 is a plan schematic enlarged view of the organic EL device 1 excluding the sealing substrate 21. On the element substrate 11, a plurality of organic EL elements 10 are provided so as to be divided into partition walls 16. A plurality of organic EL elements 10 are regularly arranged in a matrix to form a display area L. Note that a region corresponding to the outside of the display region L is a non-display region M. A plurality of first auxiliary electrodes 41 extend in the horizontal direction in the figure so as to overlap the partition wall 16 and are arranged in parallel in the vertical direction. A plurality of conductive connection portions 42 are provided so as to overlap the partition walls 16 in the non-display area M and to overlap the plurality of first auxiliary electrodes 41.

非表示領域Mに、かつ隔壁16と導電接続部42と一部重なるように引き回し配線22が図示上下方向に延在して設けられている。引き回し配線22の一方の端部は、第2フレキシブル基板62の一方の端部に重なるように設けられている。素子基板11の額縁部には、第2フレキシブル基板62を除いて封止基板21と貼り合わせるための周辺接着層35が設けられている。なお、本図では引き回し配線22の周辺部のみを拡大して示しているが、引き回し配線23の周辺部についても同様な構成となっている。   In the non-display area M, the routing wiring 22 is provided so as to extend in the vertical direction in the figure so as to partially overlap the partition wall 16 and the conductive connection portion 42. One end of the routing wiring 22 is provided so as to overlap with one end of the second flexible substrate 62. A peripheral adhesive layer 35 for bonding to the sealing substrate 21 except for the second flexible substrate 62 is provided on the frame portion of the element substrate 11. In this figure, only the peripheral portion of the routing wiring 22 is shown in an enlarged manner, but the peripheral portion of the routing wiring 23 has the same configuration.

図5は、図4に示したA−A線に沿った断面部の概略構成図である。有機EL装置1は、平板状の素子基板11を備える。素子基板11は、ガラスやプラスチック等の絶縁材料から形成され、その上には複数の有機EL素子10が形成されている。有機EL素子10は、陽極12と陰極14の間に有機発光層13を有し、電気エネルギの供給を受けて有機発光層13を発光させる。   FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a cross-sectional portion along line AA shown in FIG. The organic EL device 1 includes a flat element substrate 11. The element substrate 11 is made of an insulating material such as glass or plastic, and a plurality of organic EL elements 10 are formed thereon. The organic EL element 10 has an organic light emitting layer 13 between an anode 12 and a cathode 14 and causes the organic light emitting layer 13 to emit light upon receiving electric energy.

素子基板11上には、複数の有機EL素子10に1対1で対応する複数の薄膜トランジスタ(TFT)(図示略)及び各種の配線(図示略)が形成されている。また、素子基板11上には、複数のTFTを覆うように無機絶縁層15が形成されている。無機絶縁層15は、複数のTFT及び各種の配線を絶縁するものであり、例えば珪素化合物から形成されている。   On the element substrate 11, a plurality of thin film transistors (TFT) (not shown) and various wirings (not shown) corresponding to the plurality of organic EL elements 10 on a one-to-one basis are formed. An inorganic insulating layer 15 is formed on the element substrate 11 so as to cover the plurality of TFTs. The inorganic insulating layer 15 insulates a plurality of TFTs and various wirings, and is made of, for example, a silicon compound.

無機絶縁層15上には、絶縁性の隔壁16が例えばアクリル樹脂から形成されている。無機絶縁層15及び隔壁16は凹部の一部を形成しており、この凹部の底部を有機EL素子10が占めている。   An insulating partition 16 is formed on the inorganic insulating layer 15 from, for example, an acrylic resin. The inorganic insulating layer 15 and the partition 16 form a part of a recess, and the organic EL element 10 occupies the bottom of the recess.

有機EL素子10は、有機発光層13を挟む陽極12及び陰極14を有する。陽極12及び陰極14は、有機発光層13に正孔及び電子を注入するための電極であり、供給された電気エネルギにより電界を発生させる。陽極12は、正孔注入性の高いITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)等からなる電極であり、上記の配線に対応するTFTに接続されている。陰極14は、有機発光層13及び隔壁16上に形成されて複数の有機EL素子10に跨る共通の電極として機能する層である。なお、陰極14は、例えば、有機発光層13へ電子を注入し易くするための電子注入バッファ層と、電子注入バッファ層上にITOやAl(アルミニウム)などの金属から形成された電気抵抗の小さい層とを有する。電子注入バッファ層は、例えば、LiF(フッ化リチウム)やCa(カルシウム)、MgAg(マグネシウム‐銀合金)から形成されている。   The organic EL element 10 includes an anode 12 and a cathode 14 that sandwich an organic light emitting layer 13. The anode 12 and the cathode 14 are electrodes for injecting holes and electrons into the organic light emitting layer 13 and generate an electric field by the supplied electric energy. The anode 12 is an electrode made of ITO (Indium Tin Oxide) or the like having a high hole injection property, and is connected to a TFT corresponding to the above wiring. The cathode 14 is a layer that is formed on the organic light emitting layer 13 and the partition wall 16 and functions as a common electrode straddling the plurality of organic EL elements 10. The cathode 14 has, for example, an electron injection buffer layer for facilitating injection of electrons into the organic light emitting layer 13 and a small electric resistance formed from a metal such as ITO or Al (aluminum) on the electron injection buffer layer. And having a layer. The electron injection buffer layer is made of, for example, LiF (lithium fluoride), Ca (calcium), or MgAg (magnesium-silver alloy).

有機発光層13は、電界により注入された正孔と電子との再結合により励起して発光する発光層を含む。なお、発光層以外の層をも含むように多層からなる有機発光層13を構成することも可能である。発光層以外の層としては、正孔を注入し易くするための正孔注入層や、注入された正孔を発光層へ輸送し易くするための正孔輸送層、電子を注入し易くするための電子注入層、注入された電子を発光層へ輸送し易くするための電子輸送層などの、上記の再結合に寄与する層がある。   The organic light emitting layer 13 includes a light emitting layer that emits light when excited by recombination of holes and electrons injected by an electric field. In addition, it is also possible to comprise the organic light emitting layer 13 which consists of a multilayer so that layers other than a light emitting layer may also be included. As a layer other than the light emitting layer, a hole injection layer for facilitating injection of holes, a hole transport layer for facilitating transport of injected holes to the light emitting layer, or for facilitating injection of electrons. There are layers that contribute to the above recombination, such as an electron injection layer and an electron transport layer for facilitating transport of injected electrons to the light emitting layer.

有機発光層13の発光層は高分子系有機EL材料から形成されている。高分子系有機EL材料は、正孔と電子との再結合により励起して発光する有機化合物のうち、分子量が比較的に高いものである。有機EL素子10を形成している高分子系有機EL材料は、有機EL素子10の種類(発光色)に応じた物質となっている。発光層における再結合に寄与する層の材料は、この層に接する層の材料に応じた物質となっている。   The light emitting layer of the organic light emitting layer 13 is formed from a polymer organic EL material. The high molecular weight organic EL material has a relatively high molecular weight among organic compounds that emit light when excited by recombination of holes and electrons. The polymer organic EL material forming the organic EL element 10 is a substance corresponding to the type (emission color) of the organic EL element 10. The material of the layer contributing to recombination in the light emitting layer is a substance corresponding to the material of the layer in contact with this layer.

隔壁16上に陰極14と一部重なるように第1補助電極41が形成されている。第1補助電極41は、陰極14を構成する材料よりも低比抵抗の材料、例えば陰極14がITOより構成されている場合はAlを用いることができる。   A first auxiliary electrode 41 is formed on the partition wall 16 so as to partially overlap the cathode 14. The first auxiliary electrode 41 can be made of a material having a specific resistance lower than that of the material constituting the cathode 14, for example, Al when the cathode 14 is made of ITO.

素子基板11上には、隔壁16、陰極14及び第1補助電極41を覆うように陰極保護層17が形成されている。陰極保護層17の形成材料は、例えばSiON(酸化窒化シリコン)などを用いることができる。素子基板11上には、陰極保護層17を覆うように隔壁16による凹凸を平坦化するように有機緩衝層18が形成されている。有機緩衝層18の形成材料は、例えばエポキシ樹脂などの有機化合物を用いることができる。素子基板11上には、有機緩衝層18を覆うようにガスバリア層19が形成されている。ガスバリア層19の形成材料は、例えばSiONなどの複数の有機EL素子10を外気から保護するガスバリア性を有する無機化合物を用いることができる。   On the element substrate 11, a cathode protective layer 17 is formed so as to cover the partition wall 16, the cathode 14, and the first auxiliary electrode 41. For example, SiON (silicon oxynitride) can be used as a material for forming the cathode protective layer 17. On the element substrate 11, an organic buffer layer 18 is formed so as to flatten the unevenness due to the partition wall 16 so as to cover the cathode protective layer 17. As a material for forming the organic buffer layer 18, for example, an organic compound such as an epoxy resin can be used. A gas barrier layer 19 is formed on the element substrate 11 so as to cover the organic buffer layer 18. As a material for forming the gas barrier layer 19, for example, an inorganic compound having a gas barrier property that protects the plurality of organic EL elements 10 such as SiON from the outside air can be used.

隔壁16上には、ガスバリア層19、有機緩衝層18、陰極保護層17を貫通して陰極14に電気的に接続された第1補助電極41と一部導通するように導電配線26が屈曲状に形成されている。導電配線26の形成材料は、例えばAlなどの金属膜からなる。   On the partition wall 16, the conductive wiring 26 is bent so as to partially communicate with the first auxiliary electrode 41 that penetrates the gas barrier layer 19, the organic buffer layer 18, and the cathode protective layer 17 and is electrically connected to the cathode 14. Is formed. The material for forming the conductive wiring 26 is made of a metal film such as Al.

導電配線26の上面には、複数の導電接続部42が形成されている。導電接続部42の形成材料は、例えばAg(銀)を用いることができ、特にAgペーストなどの導電性接着剤を用いることが望ましい。   A plurality of conductive connection portions 42 are formed on the upper surface of the conductive wiring 26. For example, Ag (silver) can be used as a material for forming the conductive connection portion 42, and it is particularly desirable to use a conductive adhesive such as an Ag paste.

素子基板11と封止基板21の間には、透明接着層34が設けられている。透明接着層34の形成材料は、公知の接着剤を用いることができるが、複数の有機EL素子10を封止するガスバリア層19の損傷を防ぐために、スペーサや無機フィラーなどの充填剤粒子を含まないことが望ましい。   A transparent adhesive layer 34 is provided between the element substrate 11 and the sealing substrate 21. A known adhesive can be used as a material for forming the transparent adhesive layer 34, but includes filler particles such as spacers and inorganic fillers in order to prevent damage to the gas barrier layer 19 that seals the plurality of organic EL elements 10. Desirably not.

素子基板11と封止基板21の間の額縁部には、周辺接着層35が設けられている。周辺接着層35の形成材料は、公知の接着剤を用いることができる。ただし、透明接着層34と同様に、スペーサや無機フィラーなどの充填剤粒子を含まない。   A peripheral adhesive layer 35 is provided on the frame portion between the element substrate 11 and the sealing substrate 21. A known adhesive can be used as the material for forming the peripheral adhesive layer 35. However, like the transparent adhesive layer 34, it does not include filler particles such as spacers and inorganic fillers.

素子基板11の隔壁16が設けられた側に対向して透明接着層34を介して封止基板21が設けられている。封止基板21上の素子基板11に対向する側には、隔壁16に対応する領域に光の反射を抑えるブラックマトリクス層32が形成されている。ブラックマトリクス層32の形成材料は、例えばCr(クロム)を用いることができる。   The sealing substrate 21 is provided through the transparent adhesive layer 34 so as to face the side of the element substrate 11 where the partition wall 16 is provided. On the side of the sealing substrate 21 facing the element substrate 11, a black matrix layer 32 that suppresses light reflection is formed in a region corresponding to the partition wall 16. As a material for forming the black matrix layer 32, for example, Cr (chromium) can be used.

封止基板21上の素子基板11に対向する側には、複数の有機EL素子10の有機発光層13に対応する領域に、カラーフィルタ31が形成されている。これにより、有機発光層13から発せられた光が、カラーフィルタ31を透過し、例えば赤色光、緑色光、青色光の各色光として観察者側に射出されるようになっている。   On the side facing the element substrate 11 on the sealing substrate 21, a color filter 31 is formed in a region corresponding to the organic light emitting layer 13 of the plurality of organic EL elements 10. As a result, the light emitted from the organic light emitting layer 13 passes through the color filter 31 and is emitted to the viewer as, for example, each color light of red light, green light, and blue light.

封止基板21上及びカラーフィルタ31上には、平坦化層33が形成されている。平坦化層33は、例えばアクリルやポリイミド等の樹脂材料を用いることができる。   A planarizing layer 33 is formed on the sealing substrate 21 and the color filter 31. For the planarization layer 33, for example, a resin material such as acrylic or polyimide can be used.

封止基板21上の素子基板11に対向する側には、平坦化層33を介して非表示領域Mに、かつブラックマトリクス層32と一部重なるように引き回し配線22が形成されている。引き回し配線22の形成材料は、例えばAlなどの金属からなる。なお、引き回し配線22は複数の導電接続部42と電気的に接続されている。   On the side facing the element substrate 11 on the sealing substrate 21, the routing wiring 22 is formed in the non-display region M through the planarization layer 33 so as to partially overlap the black matrix layer 32. The formation material of the routing wiring 22 is made of a metal such as Al. Note that the routing wiring 22 is electrically connected to the plurality of conductive connection portions 42.

(有機EL装置の製造方法)
次に、本実施形態における有機EL装置1の製造方法の一例を説明する。有機EL装置1の製造工程は素子基板11側の工程と、封止基板21側の工程と、素子基板11と封止基板21の固定の工程と、からなる。
(Method for manufacturing organic EL device)
Next, an example of a method for manufacturing the organic EL device 1 in the present embodiment will be described. The manufacturing process of the organic EL device 1 includes a process on the element substrate 11 side, a process on the sealing substrate 21 side, and a process of fixing the element substrate 11 and the sealing substrate 21.

素子基板11側の工程として、先ず、ガラス等の絶縁材料からなる素子基板11上に窒化珪素等からなる無機絶縁層15を熱酸化法、CVD法、スパッタリング法、スピンコート法等、を用いて形成する。次に、無機絶縁層15が形成された素子基板11上に、例えばアクリルやポリイミド等の樹脂材料を、スピンコート法等の液相法を用いて隔壁16の材料膜を成膜し、加熱焼成処理を行い隔壁16の材料膜を熱硬化させ、熱硬化した材料膜を公知のレジスト技術、フォトリソグラフィ技術、エッチング技術等を用いてパターニングし、隔壁16を形成する。   As a process on the element substrate 11 side, first, an inorganic insulating layer 15 made of silicon nitride or the like is formed on the element substrate 11 made of an insulating material such as glass by using a thermal oxidation method, a CVD method, a sputtering method, a spin coating method, or the like. Form. Next, a material film for the partition wall 16 is formed on the element substrate 11 on which the inorganic insulating layer 15 is formed using a resin material such as acrylic or polyimide, and a liquid phase method such as a spin coating method, and is heated and fired. Processing is performed to thermally cure the material film of the partition wall 16, and the thermally cured material film is patterned using a known resist technique, photolithography technique, etching technique, or the like to form the partition wall 16.

次に、隔壁16に囲まれた開口部に、例えば液滴吐出法、蒸着法により、先ず陽極12を成膜し、次いで有機発光層13を正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層の順に成膜し、そして陰極14を成膜し有機EL素子10を形成する。その後、隔壁16の上に陰極14と一部重なるように第1補助電極41を例えばCVD法やフォトリソグラフィ技術を用いて形成する。   Next, an anode 12 is first formed into an opening surrounded by the partition wall 16 by, for example, a droplet discharge method or a vapor deposition method, and then the organic light emitting layer 13 is formed into a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, The electron transport layer and the electron injection layer are formed in this order, and the cathode 14 is formed to form the organic EL element 10. Thereafter, the first auxiliary electrode 41 is formed on the partition 16 so as to partially overlap the cathode 14 by using, for example, a CVD method or a photolithography technique.

次に、素子基板11上の隔壁16、陰極14及び第1補助電極41を覆うように、例えばCVD法やスピンコート法等により、陰極保護膜17を形成する。次に素子基板11上に陰極保護膜17を覆うように、例えばスクリーン印刷法やスピンコート法などにより、減圧雰囲気で所定の粘度の液状の有機化合物を印刷し、窒素ガスを導入して大気圧に戻した後、加熱硬化させることにより、有機緩衝層18を形成する。次に、素子基板11上に有機緩衝層18を覆うように、例えばCVD法やスピンコート法等により、ガスバリア層19を形成する。   Next, the cathode protective film 17 is formed by, for example, a CVD method or a spin coating method so as to cover the partition wall 16, the cathode 14, and the first auxiliary electrode 41 on the element substrate 11. Next, a liquid organic compound having a predetermined viscosity is printed in a reduced-pressure atmosphere by, for example, a screen printing method or a spin coating method so as to cover the cathode protective film 17 on the element substrate 11, and nitrogen gas is introduced to atmospheric pressure. Then, the organic buffer layer 18 is formed by heating and curing. Next, a gas barrier layer 19 is formed on the element substrate 11 so as to cover the organic buffer layer 18 by, for example, a CVD method or a spin coating method.

次に、非表示領域Mの隔壁16上のガスバリア層19の所定の位置にコンタクトホールを形成する。コンタクトホールは、第1補助電極41に達するようにガスバリア層19、有機緩衝層18、陰極保護層17を貫通して形成される。次に、非表示領域Mの隔壁16上にコンタクトホールの開口部からガスバリア層19の上面を跨ぐように、かつ第1補助電極41に導通するように、例えばCVD法ややフォトリソグラフィ技術を用いて導電配線26を形成する。   Next, a contact hole is formed at a predetermined position of the gas barrier layer 19 on the partition wall 16 in the non-display area M. The contact hole is formed through the gas barrier layer 19, the organic buffer layer 18, and the cathode protective layer 17 so as to reach the first auxiliary electrode 41. Next, on the partition wall 16 in the non-display area M, for example, using a CVD method or a photolithography technique so as to straddle the upper surface of the gas barrier layer 19 from the contact hole opening and to the first auxiliary electrode 41. Conductive wiring 26 is formed.

次に、封止基板21側の工程として、ガラス等の絶縁材料からなる透明な封止基板21上に、例えば蒸着法やスパッタリング法でCrを成膜し、この膜を公知のレジスト技術、フォトリソグラフィ技術、エッチング技術等を用いてパターニングし、ブラックマトリクス層32を形成する。   Next, as a process on the sealing substrate 21 side, Cr is formed on the transparent sealing substrate 21 made of an insulating material such as glass by, for example, vapor deposition or sputtering, and this film is formed using a known resist technique, photo The black matrix layer 32 is formed by patterning using a lithography technique, an etching technique, or the like.

次に、液滴吐出法を用いて、封止基板21上におけるブラックマトリクス層32の間にカラーフィルタ31を形成する。具体的には、液滴吐出ヘッドから所定のブラックマトリクス層32の間に、例えば赤色着色層31R、緑色着色層31G、青色着色層31Bの液状の材料を選択的に配し、これを所定の温度で加熱乾燥させて、赤色着色層31R、緑色着色層31G、青色着色層31Bを形成する。このようにして、赤色着色層31R、緑色着色層31G、青色着色層31Bからなるカラーフィルタ31を形成することができる。   Next, the color filter 31 is formed between the black matrix layers 32 on the sealing substrate 21 by using a droplet discharge method. Specifically, for example, liquid materials such as a red coloring layer 31R, a green coloring layer 31G, and a blue coloring layer 31B are selectively disposed between the droplet discharge head and a predetermined black matrix layer 32. It heat-drys at temperature, and forms the red colored layer 31R, the green colored layer 31G, and the blue colored layer 31B. In this way, the color filter 31 including the red colored layer 31R, the green colored layer 31G, and the blue colored layer 31B can be formed.

次に、封止基板21上のブラックマトリクス層32及びカラーフィルタ31を覆うように、例えばCVD法やスピンコート法等により、平坦化層33を形成する。   Next, a planarization layer 33 is formed by, for example, a CVD method or a spin coating method so as to cover the black matrix layer 32 and the color filter 31 on the sealing substrate 21.

次に、平坦化層33を介して封止基板21上の非表示領域に、かつブラックマトリクス層32と一部重なるように、例えばCVD法ややフォトリソグラフィ技術を用いて、引き回し配線22,23を形成する。   Next, the routing wirings 22 and 23 are formed on the non-display area on the sealing substrate 21 through the planarizing layer 33 and partially overlap with the black matrix layer 32 by using, for example, a CVD method or a photolithography technique. Form.

素子基板11と封止基板21の固定の工程として、先ず、封止基板21上の額縁部に平坦化層33を介して周辺接着層35の形成材料を塗布する。同様に、周辺接着層35の内側に透明接着層34の形成材料を塗布する。ただし、透明接着層34の形成材料を塗布する際には、対向する素子基板11の導電接続部42を形成するところは塗布しないで空けておく。   As a process for fixing the element substrate 11 and the sealing substrate 21, first, a material for forming the peripheral adhesive layer 35 is applied to the frame portion on the sealing substrate 21 via the planarizing layer 33. Similarly, a material for forming the transparent adhesive layer 34 is applied to the inside of the peripheral adhesive layer 35. However, when the forming material of the transparent adhesive layer 34 is applied, the portion where the conductive connection portion 42 of the opposing element substrate 11 is formed is left without being applied.

次に、素子基板11側の導電配線26の上面に、導電性の導電接続部42のAgペーストを塗布する。なお、Agペーストは、素子基板11と封止基板21との貼り合わせ時のAgペーストの拡がり防止のために、コンタクトホールの開口部に設けられた導電配線26の凹部に多少頭が出るくらいに塗布することもできる。   Next, the Ag paste of the conductive conductive connection portion 42 is applied to the upper surface of the conductive wiring 26 on the element substrate 11 side. Note that the Ag paste has a slight head protruding in the concave portion of the conductive wiring 26 provided in the opening of the contact hole in order to prevent the Ag paste from spreading when the element substrate 11 and the sealing substrate 21 are bonded together. It can also be applied.

次に、封止基板21のカラーフィルタ31が形成された側の面を、素子基板11の隔壁16が形成された側に対向させて配置する。続いて、素子基板11と封止基板21を透明接着層34、周辺接着層35及び導電接続部42のAgペーストを介して全面にわたって貼り合わせる。このとき、複数の有機EL素子10とカラーフィルタ31の着色層31R,31G,31Bとの位置を整合させるように、かつ導電接続部42と引き回し配線22との位置を整合させるように貼り合わせる。これにより、有機EL装置1が形成される。   Next, the surface of the sealing substrate 21 on which the color filter 31 is formed is arranged to face the side of the element substrate 11 on which the partition wall 16 is formed. Subsequently, the element substrate 11 and the sealing substrate 21 are bonded together over the entire surface via the transparent adhesive layer 34, the peripheral adhesive layer 35, and the Ag paste of the conductive connection portion 42. At this time, the bonding is performed so that the positions of the plurality of organic EL elements 10 and the colored layers 31R, 31G, and 31B of the color filter 31 are aligned, and the positions of the conductive connection portion 42 and the routing wiring 22 are aligned. Thereby, the organic EL device 1 is formed.

本実施形態の有機EL装置1によれば、引き回し配線22,23は、封止基板21上の非表示領域Mに、かつ隔壁16と対向する領域と一部重なるように設けられるので、狭額縁化を図ることができる。また、陰極14と引き回し配線22,23とを導通する際に、素子基板11の非表示領域Mに設けられた隔壁16上の陰極保護層17と有機緩衝層18とガスバリア層19を貫通すればよく、表示領域Lに導通するためのコンタクトホールを空ける必要がないので、封止性能を損なうことがない。したがって、封止性能を損なうことなく狭額縁化を図った有機EL装置1とすることができる。   According to the organic EL device 1 of the present embodiment, the routing wirings 22 and 23 are provided in the non-display area M on the sealing substrate 21 so as to partially overlap with the area facing the partition wall 16. Can be achieved. Further, when the cathode 14 and the lead wirings 22 and 23 are electrically connected, the cathode protection layer 17, the organic buffer layer 18, and the gas barrier layer 19 on the partition wall 16 provided in the non-display area M of the element substrate 11 may be penetrated. Well, since it is not necessary to make a contact hole for conduction to the display region L, the sealing performance is not impaired. Therefore, the organic EL device 1 can be made narrower without impairing sealing performance.

また、この構成によれば、導電接続部42はAgペーストからなり他の金属よりも導電性に優れるので、より低電圧駆動を図ることができる。また、少量の微細塗布が可能なので、より薄型の有機EL装置1とすることができる。また、粘度が透明接着層34の形成材料の接着剤よりも大きいので、接着剤に流されることなく効率良く成形することができる。   In addition, according to this configuration, the conductive connection portion 42 is made of an Ag paste and is more conductive than other metals, and therefore, can be driven at a lower voltage. Moreover, since a small amount of fine coating can be performed, the thinner organic EL device 1 can be obtained. Moreover, since the viscosity is larger than the adhesive of the forming material of the transparent adhesive layer 34, it can be efficiently molded without being poured into the adhesive.

また、この構成によれば、導電配線26は金属膜からなるので、引き回し配線22,23と陰極14を導通するためにガスバリア層19と有機緩衝層18と陰極保護層17にコンタクトホールを空けた場合でも、金属封止をしているので封止性能の低下を防止することができる。   Further, according to this configuration, since the conductive wiring 26 is made of a metal film, contact holes are opened in the gas barrier layer 19, the organic buffer layer 18, and the cathode protective layer 17 in order to connect the routing wirings 22 and 23 and the cathode 14. Even in this case, since the metal is sealed, it is possible to prevent the sealing performance from being lowered.

(第2実施形態)
続いて、本発明の有機EL装置に係る第2実施形態について説明する。図6は本実施形態に係る有機EL装置2の封止基板21を除いた平面概略拡大図である。本実施形態に係る有機EL装置2は、引き回し配線22と重なるように第1補助電極41と交差するように第1補助電極41よりも幅広の第2補助電極43が設けられている。また、第2補助電極43は引き回し配線22と素子基板11の非表示領域Mの隔壁16上で導電接続部44を介して電気的に接続されている。なお、本実施形態の有機EL装置2は、図6に示される第2補助電極43及び導電接続部44を除いた構成は上記第1実施形態に係る構成と同一となっている。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment according to the organic EL device of the present invention will be described. FIG. 6 is a schematic plan view of the organic EL device 2 according to the present embodiment excluding the sealing substrate 21. In the organic EL device 2 according to the present embodiment, a second auxiliary electrode 43 wider than the first auxiliary electrode 41 is provided so as to intersect the first auxiliary electrode 41 so as to overlap the routing wiring 22. Further, the second auxiliary electrode 43 is electrically connected to the routing wiring 22 and the partition 16 in the non-display area M of the element substrate 11 through the conductive connection portion 44. The configuration of the organic EL device 2 of the present embodiment is the same as that of the first embodiment except for the second auxiliary electrode 43 and the conductive connection portion 44 shown in FIG.

図7は、図6に示したB−B線に沿った断面部の概略構成図である。有機EL装置2は、素子基板11上の非表示領域Mに設けられた隔壁16上に陰極14と一部重なるように第2補助電極43が形成されている。非表示領域Mの隔壁16上には、ガスバリア層19、有機緩衝層18、陰極保護層17を貫通して陰極14の第2補助電極43と一部導通するように導電配線27が屈曲状に形成されている。また、導電配線27の上面には、図5に示す導電接続部42よりもコンタクト径が大きい導電接続部44が形成されている。なお、本実施形態の有機EL装置2は、図7に示される第2補助電極43、導電配線27及び導電接続部44を除いた構成は上記第1実施形態に係る構成と同一となっている。   FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a cross section along the line BB shown in FIG. In the organic EL device 2, the second auxiliary electrode 43 is formed on the partition wall 16 provided in the non-display area M on the element substrate 11 so as to partially overlap the cathode 14. On the partition wall 16 in the non-display area M, the conductive wiring 27 is bent so as to penetrate the gas barrier layer 19, the organic buffer layer 18, and the cathode protective layer 17 and to be partially connected to the second auxiliary electrode 43 of the cathode 14. Is formed. Further, a conductive connection portion 44 having a contact diameter larger than that of the conductive connection portion 42 shown in FIG. The organic EL device 2 of the present embodiment has the same configuration as that of the first embodiment except for the second auxiliary electrode 43, the conductive wiring 27, and the conductive connection portion 44 shown in FIG. .

本実施形態の有機EL装置2によれば、第2補助電極43が第1補助電極41よりも幅広なので引き回し配線22,23と十分なコンタクト径を確保することができる。これにより、導通抵抗が小さくなり、より低電圧駆動を図った有機EL装置2とすることができる。   According to the organic EL device 2 of the present embodiment, since the second auxiliary electrode 43 is wider than the first auxiliary electrode 41, a sufficient contact diameter with the lead wirings 22 and 23 can be ensured. As a result, the conduction resistance is reduced, and the organic EL device 2 can be driven at a lower voltage.

(変形例1)
図8は本発明の有機EL装置1と制御基板5の他の概略構成例を示す斜視図である。有機EL装置1は、素子基板11と封止基板21とを備えている。素子基板11上には、複数の薄膜トランジスタ(TFT)(図示略)及び各種の配線(図示略)が形成されている。素子基板11の一方の端部には第1フレキシブル基板61が設けられている。制御基板5の一方の端部には第1端子51が設けられている。素子基板11上の各種配線は、第1フレキシブル基板61と第1端子51を介して制御基板5と電気的に接続されている。素子基板11上には、第1フレキシブル基板と電気的に接続された、くの字型の接続部55,56が設けられている。
(Modification 1)
FIG. 8 is a perspective view showing another schematic configuration example of the organic EL device 1 and the control substrate 5 of the present invention. The organic EL device 1 includes an element substrate 11 and a sealing substrate 21. A plurality of thin film transistors (TFTs) (not shown) and various wirings (not shown) are formed on the element substrate 11. A first flexible substrate 61 is provided at one end of the element substrate 11. A first terminal 51 is provided at one end of the control board 5. Various wirings on the element substrate 11 are electrically connected to the control substrate 5 via the first flexible substrate 61 and the first terminals 51. On the element substrate 11, the V-shaped connection portions 55 and 56 that are electrically connected to the first flexible substrate are provided.

封止基板21の素子基板11と対向する側にはL字型の引き回し配線24と逆L字方の引き回し配線25が設けられている。L字型の引き回し配線24は、くの字型の接続部55と第1フレキシブル基板61を介して制御基板5と電気的に接続されている。逆L字型の引き回し配線25は、くの字型の接続部56と第1フレキシブル基板61を介して制御基板5と電気的に接続されている。なお、引き回し配線24,25は、素子基板11の第1フレキシブル基板61が設けられた一辺に隣接する2辺に対向する封止基板21の2辺に沿うようにL字型の背を向けて延在して設けられている。   On the side of the sealing substrate 21 facing the element substrate 11, an L-shaped lead wire 24 and a reverse L-shaped lead wire 25 are provided. The L-shaped lead-out wiring 24 is electrically connected to the control board 5 via the dog-shaped connecting portion 55 and the first flexible board 61. The inverted L-shaped lead-out wiring 25 is electrically connected to the control board 5 via the dog-shaped connection portion 56 and the first flexible board 61. Note that the routing wirings 24 and 25 have their L-shaped backs along the two sides of the sealing substrate 21 facing two sides adjacent to one side of the element substrate 11 on which the first flexible substrate 61 is provided. It is extended and provided.

本変形例では、素子基板11の一方の端部の第1フレキシブル基板61に接続部55,56を設けている。これにより、封止基板21は、引き回し配線24,25と接続部55,56と第1フレキシブル基板61を介して制御基板5と電気的に接続される。したがって、封止基板21の一方の端部に第2フレキシブル基板62を設ける必要がないので、より狭額縁化を図った有機EL装置1とすることができる。   In this modification, connection portions 55 and 56 are provided on the first flexible substrate 61 at one end of the element substrate 11. As a result, the sealing substrate 21 is electrically connected to the control substrate 5 via the routing wirings 24 and 25, the connection portions 55 and 56, and the first flexible substrate 61. Therefore, since it is not necessary to provide the second flexible substrate 62 at one end of the sealing substrate 21, the organic EL device 1 with a narrower frame can be obtained.

(電子機器)
次に、本発明に係る電子機器について、携帯電話を例に挙げて説明する。図9は、携帯電話600の全体構成を示す斜視図である。携帯電話600は、筺体601、複数の操作ボタンが設けられた操作部602、画像や動画、文字等を表示する表示部603を有する。表示部603には、本発明に係る有機EL装置1が搭載される。
このように、封止性能を損なうことなく狭額縁化を図った有機EL装置1を備えているので、高信頼性かつコンパクトな電子機器(携帯電話)600を得ることができる。
(Electronics)
Next, an electronic apparatus according to the present invention will be described using a mobile phone as an example. FIG. 9 is a perspective view showing the overall configuration of the mobile phone 600. The mobile phone 600 includes a housing 601, an operation unit 602 provided with a plurality of operation buttons, and a display unit 603 that displays images, moving images, characters, and the like. The display unit 603 is equipped with the organic EL device 1 according to the present invention.
As described above, since the organic EL device 1 with a narrow frame is provided without impairing the sealing performance, a highly reliable and compact electronic device (mobile phone) 600 can be obtained.

なお、電子機器としては、上記携帯電話600以外にも、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ(PC)、およびエンジニアリング・ワークステーション(EWS)、ページャ、あるいは投射型液晶表示装置、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、POS端末、タッチパネルなどを挙げることができる。   In addition to the mobile phone 600, the electronic device includes a multimedia-compatible personal computer (PC), an engineering workstation (EWS), a pager, a projection type liquid crystal display device, a word processor, a television, and a viewfinder type. Or a monitor direct-view type video tape recorder, an electronic notebook, an electronic desk calculator, a car navigation device, a POS terminal, a touch panel, and the like.

本発明の有機EL装置と制御基板の概略構成斜視図である。It is a schematic structure perspective view of the organic EL device and control board of the present invention. 素子基板の封止基板と対向する側の平面概略図である。It is a plane schematic diagram of the side facing the sealing substrate of the element substrate. 封止基板の素子基板と対向する側の平面概略図である。It is a plane schematic diagram of the side facing the element substrate of the sealing substrate. 第1実施形態に係る有機EL装置の封止基板を除いた平面概略拡大図である。It is a plane schematic enlarged view except the sealing substrate of the organic EL device according to the first embodiment. 図4に示したA−A線に沿った断面概略図である。It is the cross-sectional schematic along the AA line shown in FIG. 第2実施形態に係る有機EL装置の封止基板を除いた平面概略拡大図である。It is a plane schematic enlarged view except a sealing substrate of an organic EL device concerning a 2nd embodiment. 図6に示したB−B線に沿った断面概略図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view along the line BB shown in FIG. 6. 本発明の有機EL装置と制御基板の他の概略構成例の斜視図である。It is a perspective view of the other schematic structural example of the organic electroluminescent apparatus of this invention, and a control board. 電子機器の一例である携帯電話の斜視図である。It is a perspective view of the mobile phone which is an example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

L…表示領域、M…非表示領域、1,2…有機EL装置、10…有機EL素子、11…素子基板、12…陽極、13…有機発光層、14…陰極、16…隔壁、17…陰極保護層、18…有機緩衝層、19…ガスバリア層、21…封止基板、22,23,24,25…引き回し配線、26,27…導電配線、34…透明接着層、41…第1補助電極、42,44…導電接続部、43…第2補助電極、600…携帯電話(電子機器) L ... display area, M ... non-display area, 1, 2 ... organic EL device, 10 ... organic EL element, 11 ... element substrate, 12 ... anode, 13 ... organic light emitting layer, 14 ... cathode, 16 ... partition, 17 ... Cathode protective layer, 18 ... organic buffer layer, 19 ... gas barrier layer, 21 ... sealing substrate, 22, 23, 24, 25 ... routing wiring, 26, 27 ... conductive wiring, 34 ... transparent adhesive layer, 41 ... first auxiliary Electrode, 42, 44 ... conductive connection part, 43 ... second auxiliary electrode, 600 ... mobile phone (electronic device)

Claims (5)

素子基板と、前記素子基板上に陽極と有機発光層と陰極が順次積層されてなる有機EL素子と、平面視において前記有機EL素子の周囲を囲むように設けられた隔壁と、前記素子基板の前記隔壁が設けられた側に対向して透明接着層を介して設けられた封止基板と、を備える有機EL装置において、
前記素子基板は前記有機EL素子をマトリクス状に複数配置した表示領域を有し、
前記隔壁上に前記陰極と電気的に接続されるように設けられた第1補助電極と、前記素子基板上に前記隔壁と前記陰極と前記第1補助電極を覆うように設けられた陰極保護層と、前記素子基板上に前記陰極保護層を覆うように設けられた有機緩衝層と、前記素子基板上に前記有機緩衝層を覆うように設けられたガスバリア層と、前記隔壁上及び前記ガスバリア層と前記有機緩衝層と前記陰極保護層とを貫通するコンタクトホール内に配置され、前記第1補助電極と電気的に接続される導電配線と、前記導電配線の上面に設けられた導電性の導電接続部と、前記導電接続部と電気的に接続されるように設けられた引き回し配線とを備え、
前記引き回し配線は、前記封止基板上に設けられるとともに、前記表示領域の外に相当する非表示領域に対向し、かつ前記隔壁と対向する領域と一部重なるように設けられ、
前記陰極は、前記第1補助電極と前記導電配線と前記導電接続部とを介して、前記引き回し配線と前記非表示領域に設けられた前記隔壁上で電気的に接続されていることを特徴とする有機EL装置。
An element substrate; an organic EL element in which an anode, an organic light emitting layer, and a cathode are sequentially stacked on the element substrate; a partition wall that surrounds the periphery of the organic EL element in a plan view; In an organic EL device provided with a sealing substrate provided through a transparent adhesive layer facing the side on which the partition wall is provided,
The element substrate has a display region in which a plurality of organic EL elements are arranged in a matrix.
A first auxiliary electrode provided on the partition so as to be electrically connected to the cathode; and a cathode protective layer provided on the element substrate so as to cover the partition, the cathode and the first auxiliary electrode. An organic buffer layer provided on the element substrate so as to cover the cathode protective layer, a gas barrier layer provided on the element substrate so as to cover the organic buffer layer, the partition walls, and the gas barrier layer And a conductive wire disposed in a contact hole that penetrates the organic buffer layer and the cathode protective layer and electrically connected to the first auxiliary electrode, and a conductive conductive layer provided on the upper surface of the conductive wire. A connection portion, and a routing wiring provided so as to be electrically connected to the conductive connection portion,
The routing wiring is provided on the sealing substrate, is provided so as to face a non-display area corresponding to the outside of the display area, and partially overlap a region facing the partition,
The cathode is electrically connected to the routing wiring and the partition provided in the non-display area via the first auxiliary electrode, the conductive wiring, and the conductive connection portion. Organic EL device.
請求項1に記載の有機EL装置において、
前記導電接続部はAgペーストからなることを特徴とする有機EL装置。
The organic EL device according to claim 1,
The organic EL device, wherein the conductive connection portion is made of an Ag paste.
請求項1又は2に記載の有機EL装置において、
前記導電配線は金属膜からなることを特徴とする有機EL装置。
The organic EL device according to claim 1 or 2,
The organic EL device, wherein the conductive wiring is made of a metal film.
請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL装置において、
前記引き回し配線と重なるように、且つ、前記第1補助電極と交差するように前記第1補助電極よりも幅広の第2補助電極が設けられ、前記第2補助電極は前記引き回し配線と前記素子基板上の前記非表示領域に設けられた前記隔壁上で電気的に接続されていることを特徴とする有機EL装置。
The organic EL device according to any one of claims 1 to 3,
A second auxiliary electrode wider than the first auxiliary electrode is provided so as to overlap the routing wiring and intersect the first auxiliary electrode, and the second auxiliary electrode includes the routing wiring and the element substrate. An organic EL device which is electrically connected on the partition provided in the non-display area.
請求項1〜4のいずれか1項に記載の有機EL装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic EL device according to claim 1.
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