KR102581197B1 - Surface mount type semiconductor chip manual rework equipment - Google Patents
Surface mount type semiconductor chip manual rework equipment Download PDFInfo
- Publication number
- KR102581197B1 KR102581197B1 KR1020230040471A KR20230040471A KR102581197B1 KR 102581197 B1 KR102581197 B1 KR 102581197B1 KR 1020230040471 A KR1020230040471 A KR 1020230040471A KR 20230040471 A KR20230040471 A KR 20230040471A KR 102581197 B1 KR102581197 B1 KR 102581197B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- semiconductor chip
- main body
- rework
- rod
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 141
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000008602 contraction Effects 0.000 claims description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67248—Temperature monitoring
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/799—Apparatus for disconnecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/7525—Means for applying energy, e.g. heating means
- H01L2224/75251—Means for applying energy, e.g. heating means in the lower part of the bonding apparatus, e.g. in the apparatus chuck
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/757—Means for aligning
- H01L2224/75701—Means for aligning in the lower part of the bonding apparatus, e.g. in the apparatus chuck
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/757—Means for aligning
- H01L2224/75703—Mechanical holding means
- H01L2224/75705—Mechanical holding means in the upper part of the bonding apparatus, e.g. in the bonding head
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/758—Means for moving parts
- H01L2224/75801—Lower part of the bonding apparatus, e.g. XY table
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
- H01L2224/75—Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
- H01L2224/759—Means for monitoring the connection process
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
본 발명은 표면 실장형 반도체칩에 대한 리워크(rework) 기술에 관한 것으로, 보다 상세하게는 다양한 크기의 기판 고정이 가능하도록 하면서 기판 표면 실장된 반도체칩의 리워크 작업이 용이하게 이루어질 수 있도록 하는 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치에 관한 것이다.The present invention relates to rework technology for surface-mounted semiconductor chips, and more specifically, to enable fixation of substrates of various sizes and to facilitate rework of semiconductor chips mounted on the surface of a substrate. This relates to a surface-mounted semiconductor chip manual rework device.
일반적으로, 수백핀이 넘는 반도체칩은 기판 뒷면에 줄지어 납땜하는 구형의 실장 방식에는 한계가 있어 이를 대신하는 BGA(Ball Grid Array) 또는 SMD(Surface Mount Device)와 같은 표면 실장형 반도체칩을 사용하는 기판 제작 기술이 많이 사용되고 있다.In general, semiconductor chips with more than a few hundred pins have limitations in the old-fashioned mounting method of soldering them in rows on the back of the board, so surface-mounted semiconductor chips such as BGA (Ball Grid Array) or SMD (Surface Mount Device) are used instead. Substrate manufacturing technology is widely used.
그러나, 상기 BGA 또는 SMD와 같은 방식으로 반도체칩을 기판 표면에 실장하는 경우, 쇼트(shot), 역삽(거꾸로 삽입), 오삽(잘못된 위치에 실장), 미납(미실장) 등의 불량 문제가 발생하거나, 또는 제품의 오래된 사용으로 반도체칩의 기능적인 문제가 발생하는 경우, 문제가 발생한 반도체칩만을 교체하여 기판을 수리하는 것이 제작자나 제품 사용자에게 비용을 절감시킬 수 있어 매우 유리하다.However, when semiconductor chips are mounted on the surface of a substrate in the same manner as the BGA or SMD, defect problems such as short, reverse insertion, misinstallation (mounting in the wrong position), and non-delivery (non-mounting) occur. Alternatively, if a functional problem occurs in the semiconductor chip due to long-term use of the product, it is very advantageous to repair the board by replacing only the semiconductor chip in which the problem occurred, as it can reduce costs for the manufacturer or product user.
이에 종래에는 등록특허공보 제10-1702104호에서와 같이 문제가 발생하는 반도체칩만을 자동 교체시키는 자동 리워크 장치가 개시되기도 하였다.Accordingly, in the past, as in Patent Registration No. 10-1702104, an automatic rework device that automatically replaces only semiconductor chips with problems was disclosed.
그러나, 상기의 선등록특허는 기판 장착 테이블에 기판을 안착시킨 상태에서 상기 기판 장착 테이블이 X축 고정나사와 Y축 고정나사에 의해 X축 또는 Y축으로 이동하여 고정 위치가 미세 조정되는 것으로, 상기 기판 장착 테이블에서의 기판 장착 크기는 제한적일 수 밖에 없음은 물론, 상기 기판 장착 테이블에 기판이 안착시 그 안착에 따른 고정이 제대로 이루어지지 못하면서, 상기 기판에서의 반도체칩 교체 작업시 기판이 유동하는 문제가 있고 이는 새로운 반도체칩을 기판에 장착시 그 장착에 오류가 발생할 수 밖에 없는 것이다.However, the above-mentioned pre-registered patent states that with the substrate mounted on the substrate mounting table, the substrate mounting table is moved to the X-axis or Y-axis by the Not only is the size of the substrate mounted on the substrate mounting table inevitably limited, but when the substrate is placed on the substrate mounting table, it is not properly fixed, and the substrate moves when replacing a semiconductor chip on the substrate. There is a problem, and this is that errors are bound to occur when installing a new semiconductor chip on a board.
더불어, 상기와 같은 선행기술의 자동 리워크 장치는 고가의 장비로서 기판 크기 또는 기판에 부착되어 있는 기구 등에 제약을 받기 때문에 기판 크기에 따라 별도의 지그 제작 비용이 추가로 발생하며, 서로 다른 기판의 표면에 실장된 반도체칩의 리워크 작업시 리워크 기구를 교체해야만 반도체칩에 대한 자동 리워크 작업이 가능하다는 단점이 있다.In addition, the automatic rework device of the prior art as described above is an expensive equipment and is limited by the size of the board or the mechanism attached to the board, so additional costs for manufacturing a separate jig are incurred depending on the size of the board, and the cost of manufacturing a separate jig is incurred depending on the size of the board. When reworking a semiconductor chip mounted on the surface, there is a disadvantage that automatic reworking of the semiconductor chip is possible only when the rework mechanism is replaced.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 다양한 크기를 가지는 기판이 선택적으로 수용시 이를 견고하게 고정하도록 기판 크기에 대응하여 크기 변경이 가능한 테이블을 구성함으로써, 하나의 리워크 장비로 서로 다른 크기를 가지는 기판의 표면에 실장된 반도체칩의 리워크 작업이 용이하게 이루어질 수 있도록 하는 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치를 제공하려는 것이다.The problem that the present invention aims to solve is to construct a table that can change size in response to the size of the substrate so that it can be firmly fixed when selectively accepting substrates of various sizes, so that substrates of different sizes can be manufactured with a single rework equipment. The purpose is to provide a surface-mounted semiconductor chip manual rework device that allows rework of semiconductor chips mounted on the surface of the device to be easily performed.
본 발명의 과제 해결 수단인 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치는, 작업자에 의해 수동으로 반도체칩이 표면 실장된 기판이 안착될 수 있도록 하는 것으로, 마주하는 한 쌍의 X축 레일과 마주하는 한 쌍의 Y축 레일이 각각 형성되는 본체부; 상기 본체부의 상단에 형성되는 상기 X축 레일을 따라 직선 이동하는 것으로, 상기 기판이 안착되는 이동형의 기판 테이블; 상기 본체부의 상단에 형성되는 상기 Y축 레일을 따라 직선 이동하는 것으로, 상기 기판 테이블에 안착되어진 상기 기판을 가압 고정하는 기판 고정부; 및, 상기 본체부에서 상기 기판 테이블 저면측에 형성되고, 상기 기판에 표면 실장된 반도체칩을 분리 또는 결합시키도록 열을 가하는 히팅부; 를 포함하며, 상기 기판 테이블은 안착되는 상기 기판의 크기에 따라 상기 X축 레일을 따라 이동하여 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소된 기판 안착면을 제공하는 것으로 레일결합부를 가지는 복수로 이루어진 막대형의 이동블럭을 포함하고, 상기 기판 고정부는 상기 이동블럭이 이동하여 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소되는 상기 기판 안착면에 따라 길이가 가변되는 클램프 구조물인 것이다.The surface-mounted semiconductor chip manual rework device, which is a means of solving the problem of the present invention, allows a board on which a semiconductor chip is surface-mounted to be manually seated by an operator, as long as it faces a pair of opposing X-axis rails. a main body portion in which a pair of Y-axis rails are respectively formed; A movable substrate table on which the substrate is mounted, which moves linearly along the X-axis rail formed at the top of the main body; A substrate fixing part that moves linearly along the Y-axis rail formed at the top of the main body and pressurizes and fixes the substrate seated on the substrate table; and a heating part formed on the bottom side of the substrate table in the main body and applying heat to separate or combine semiconductor chips surface mounted on the substrate. It includes a substrate table that moves along the It includes a bar-shaped moving block, and the substrate fixing part is a clamp structure whose length is variable according to the substrate seating surface that expands or contracts as the moving block moves and maintains an adjacent or spaced apart distance.
또한, 상기 이동블럭의 상면에는 각각 상기 기판의 중심을 잡아주기 위한 복수의 고정핀이 일렬로 돌출 형성되는 것이다.In addition, a plurality of fixing pins are protruded in a row on the upper surface of the moving block to hold the center of the substrate.
또한, 상기 기판 고정부는, 상기 Y축 레일에 이동 가능하게 결합되는 이동프레임; 상기 이동프레임에 회전 가능하게 힌지 결합되는 작동레버; 상기 작동레버의 회전에 따라 신장 또는 수축되면서 상기 기판을 가압 고정하는 것으로 끝단에 완충부가 형성되는 가압로드; 및, 상기 작동레버와 상기 가압로드를 연결하도록 힌지 결합되면서 상기 작동레버의 회전시 상기 가압로드의 신장 또는 수축을 가이드하는 연결로드; 를 포함하되, 상기 가압로드는 상기 연결로드에 힌지 결합되는 고정로드; 상기 고정로드에 수납 또는 상기 고정로드로부터 인출되는 것으로 상기 완충부가 형성되는 이동로드; 및, 상기 고정로드에 수납되거나 또는 상기 고정로드로부터 인출되는 상기 이동로드를 고정시키는 고정부; 를 포함하는 것이다.In addition, the substrate fixing part includes a moving frame movably coupled to the Y-axis rail; An operating lever rotatably hinged to the moving frame; A pressure rod that presses and fixes the substrate while expanding or contracting as the operation lever rotates, forming a buffer at the end; and a connecting rod that is hinged to connect the operation lever and the pressure rod and guides expansion or contraction of the pressure rod when the operation lever rotates. Including, wherein the pressing rod is a fixed rod hinged to the connecting rod; a movable rod on which the buffer part is formed by being stored in or pulled out from the fixed rod; And, a fixing part for fixing the movable rod stored in the fixed rod or pulled out from the fixed rod; It includes.
또한, 상기 히팅부는, 상기 이동블럭이 이동하여 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소되는 상기 기판 안착면에 열을 선택적으로 가하도록 복수의 히팅블럭으로 분할 구성하고, 복수의 상기 히팅블럭은 1:1로 각각 매칭되는 컨트롤 스위치에 의해 온 또는 오프되는 것이다.In addition, the heating unit is divided into a plurality of heating blocks to selectively apply heat to the substrate seating surface that is enlarged or reduced while maintaining adjacent or spaced apart distances as the moving block moves, and the plurality of heating blocks are They are turned on or off by control switches that are matched 1:1.
또한, 상기 본체부에는 제어부에 의해 제어되는 것으로 상기 기판이 안착되는 상기 기판 테이블을 촬영하는 광학 카메라, 그리고 상기 광학 카메라에 의해 촬영된 영상 정보를 디스플레이하는 모니터가 형성되는 것이다.In addition, an optical camera controlled by a control unit to photograph the substrate table on which the substrate is mounted, and a monitor to display image information captured by the optical camera are formed in the main body.
또한, 상기 본체부에는 상기 히팅부의 가열 동작시 상기 반도체칩의 실시간 온도 변화를 감지한 후 이를 상기 제어부로 출력하는 온도센서를 더 포함하는 것이다.In addition, the main body further includes a temperature sensor that detects a real-time temperature change of the semiconductor chip during a heating operation of the heating unit and outputs the change to the control unit.
또한, 상기 본체부의 전면에는 리워크 작업의 명령 신호를 입력하면서 상기 모니터를 통해 작업 상태를 확인할 수 있도록 하는 조작부를 더 포함하는 것이다.In addition, the front of the main body further includes a control unit that allows checking the work status through the monitor while inputting a command signal for rework work.
이와 같이, 본 발명의 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치는 다양한 크기를 가지는 기판이 선택적으로 수용시 이를 견고하게 고정하도록 기판 크기에 대응하여 크기 변경이 가능한 테이블을 구성한 것이며, 이를 통해 하나의 리워크 장비로 서로 다른 크기를 가지는 기판 표면에서의 반도체칩 리워크 작업이 용이하게 이루어질 수 있도록 함은 물론, 서로 다른 기판의 표면에 실장된 반도체칩의 리워크 작업시 리워크 기구를 교체해야 하는 불편함을 개선하는 효과를 기대할 수 있는 것이다.In this way, the surface-mounted semiconductor chip manual rework device of the present invention is configured with a table whose size can be changed according to the size of the substrate to firmly fix substrates of various sizes when selectively receiving them, and through this, one rework device can be installed. Work equipment not only makes it easy to rework semiconductor chips on the surfaces of boards of different sizes, but also inconveniences the need to replace the rework equipment when reworking semiconductor chips mounted on the surfaces of different boards. The effect of improving performance can be expected.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.
도 1은 본 발명의 실시예로 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치의 구조를 보인 사시도.
도 2는 본 발명의 실시예로 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치의 개략적인 블럭 구성도.
도 3은 본 발명의 실시예로 기판 고정부의 길이가 축소된 상태를 보인 확대 단면 개략도.
도 4는 본 발명의 실시예로 기판 고정부의 길이가 확대된 상태를 보인 확대 단면 개략도.
도 5는 본 발명의 실시예로 하나의 이동블록으로 형성되는 제 1 기판 안착면에 제 1 크기의 기판이 안착된 상태를 보인 평면 개략도.
도 6은 본 발명의 실시예로 도 5에 대한 측면 개략도.
도 7은 본 발명의 실시예로 두개의 이동블럭으로 형성되는 제 2 기판 안착면에 제 1 크기보다 큰 제 2 크기의 기판이 안착된 상태를 보인 평면 개략도.
도 8은 본 발명의 실시예로 도 7에 대한 측면 개략도.
도 9는 본 발명의 실시예로 세개의 이동블럭으로 형성되는 제 3 기판 안착면에 제 2 크기보다 큰 제 3 크기의 기판이 안착된 상태를 보인 평면 개략도.
도 10은 본 발명의 실시예로 도 9에 대한 측면 개략도.
도 11은 본 발명의 실시예로 네개의 이동블럭으로 형성되는 제 4 기판 안착면에 제 3 크기보다 큰 제 4 크기의 기판이 안착된 상태를 보인 평면 개략도.
도 12는 본 발명의 실시예로 도 11에 대한 측면 개략도.Figure 1 is a perspective view showing the structure of a surface-mounted semiconductor chip manual rework device according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a schematic block diagram of a surface-mounted semiconductor chip manual rework device according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is an enlarged cross-sectional schematic diagram showing a state in which the length of the substrate fixing part is reduced in an embodiment of the present invention.
Figure 4 is an enlarged cross-sectional schematic diagram showing a state in which the length of the substrate fixing part is enlarged according to an embodiment of the present invention.
Figure 5 is a plan schematic diagram showing a state in which a substrate of a first size is seated on a first substrate seating surface formed of a single moving block according to an embodiment of the present invention.
Figure 6 is a side schematic view of Figure 5 in an embodiment of the present invention.
Figure 7 is a plan schematic diagram showing a state in which a substrate of a second size larger than the first size is seated on a second substrate seating surface formed of two moving blocks according to an embodiment of the present invention.
Figure 8 is a side schematic view of Figure 7 in an embodiment of the present invention.
Figure 9 is a plan schematic diagram showing a state in which a substrate of a third size larger than the second size is seated on a third substrate seating surface formed by three moving blocks according to an embodiment of the present invention.
Figure 10 is a side schematic view of Figure 9 in an embodiment of the present invention.
Figure 11 is a plan schematic diagram showing a state in which a substrate of a fourth size larger than the third size is seated on a fourth substrate seating surface formed by four moving blocks according to an embodiment of the present invention.
Figure 12 is a side schematic view of Figure 11 in an embodiment of the present invention.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명 기술적 사상의 실시예에 있어서 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명 기술적 사상의 실시예에 있어서 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.The advantages and features of the present invention and methods for achieving them will become clear by referring to the embodiments described in detail below along with the accompanying drawings. However, the embodiments of the technical idea of the present invention are not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, and the present embodiments are only provided to ensure that the disclosure of the present invention is complete, and to the technology to which the present invention pertains. It is provided to fully inform those skilled in the art of the scope of the invention, and is only defined by the scope of the claims in the embodiment of the technical idea of the present invention.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다.The terminology used herein is for describing embodiments and is not intended to limit the invention. As used herein, singular forms also include plural forms, unless specifically stated otherwise in the context.
본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In this specification, terms such as “comprise” or “have” are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but are not intended to indicate the presence of one or more other features. It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the existence or addition of elements, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
또한, 본 명세서에서 기술하는 실시예들은 본 발명의 이상적인 예시도인 단면도 및/또는 평면도들을 참고하여 설명될 것이다. 따라서, 본 발명의 실시예들은 도시된 특정 형태로 제한되는 것이 아니라 필요한 형태의 변화도 포함하는 것이다. 예를 들면, 직각으로 도시된 영역은 라운드 지거나 소정 곡률을 가지는 형태일 수 있다. 따라서, 도면에서 예시된 영역들은 개략적인 속성을 가지며, 도면에서 예시된 영역들의 모양은 장치의 영역의 특정 형태를 예시하기 위한 것이며 발명의 범주를 제한하기 위한 것이 아니다.Additionally, embodiments described in this specification will be described with reference to cross-sectional views and/or plan views, which are ideal illustrations of the present invention. Accordingly, embodiments of the present invention are not limited to the specific form shown, but also include changes in form as necessary. For example, an area shown as a right angle may be rounded or have a shape with a predetermined curvature. Accordingly, the regions illustrated in the drawings have schematic properties, and the shapes of the regions illustrated in the drawings are intended to illustrate specific shapes of regions of the device and are not intended to limit the scope of the invention.
명세서 전문에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 따라서, 동일한 참조 부호 또는 유사한 참조 부호들은 해당 도면에서 언급 또는 설명되지 않았더라도, 다른 도면을 참조하여 설명될 수 있다. 또한, 참조 부호가 표시되지 않았더라도, 다른 도면들을 참조하여 설명될 수 있다.The same reference numerals refer to the same elements throughout the specification. Accordingly, the same or similar reference signs may be described with reference to other drawings even if they are not mentioned or described in the corresponding drawings. Additionally, even if reference signs are not indicated, description may be made with reference to other drawings.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the attached drawings.
도 1은 본 발명의 실시예로 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치의 구조를 보인 사시도이고, 도 2는 본 발명의 실시예로 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치의 개략적인 블럭 구성도이며, 도 3은 본 발명의 실시예로 기판 고정부의 길이가 축소된 상태를 보인 확대 단면 개략도이고, 도 4는 본 발명의 실시예로 기판 고정부의 길이가 확대된 상태를 보인 확대 단면 개략도를 도시한 것이다.Figure 1 is a perspective view showing the structure of a surface-mounted semiconductor chip manual rework device as an embodiment of the present invention, and Figure 2 is a schematic block diagram of a surface-mounted semiconductor chip manual rework device as an embodiment of the present invention. , Figure 3 is an enlarged cross-sectional schematic diagram showing a state in which the length of the substrate fixing part is reduced in an embodiment of the present invention, and Figure 4 is an enlarged cross-sectional schematic diagram showing a state in which the length of the substrate fixing part is enlarged in an embodiment of the present invention. It is shown.
첨부된 도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치는 작업자에 의해 수동으로 반도체칩(미도시)이 표면 실장된 기판(100)이 안착되어 고정될 수 있도록 하는 것으로, 본체부(10)에 기판 테이블(20), 기판 고정부(30), 히팅부(40), 제어부(50), 조작부(60)를 포함하고, 및/또는 광학 카메라(70), 모니터(80), 온도센서(90)를 더 포함할 수 있는 것이다.Referring to the accompanying FIGS. 1 to 4, in the surface-mounted semiconductor chip manual rework device according to an embodiment of the present invention, a
상기 본체부(10)는 상면에 X축 방향으로 마주하는 한 쌍의 X축 레일(11)이 형성됨은 물론, Y축 방향으로는 마주하는 한 쌍의 Y축 레일(12)이 형성될 수 있도록 하는 것이다.The
즉, 상기 본체부(10)의 상면 좌측과 우측에 대칭 구조를 이루는 마주하는 한 쌍의 고정프레임(10a)을 형성시킨 상태에서, 마주하는 한 쌍의 상기 고정프레임(10a)에 봉 타입의 상기 X축 레일(11) 양단이 결합 고정되는 것이고, 상기 Y축 레일(12)은 플레이트 타입으로서 상기 고정프레임(10a)의 평면상에 형성될 수 있도록 하는 것이다.That is, in a state where a pair of facing fixed frames 10a forming a symmetrical structure are formed on the left and right sides of the upper surface of the
상기 기판 테이블(20)은 상기 본체부(10)의 상단에 형성되는 상기 X축 레일(11)을 따라 직선 이동하는 것으로, 서로 다른 크기를 가지는 상기 기판(100)이 안착되도록 레일결합부(21a, 22a, 23a, 24a)를 각각 가지는 복수로 이루어진 막대형의 이동블럭(21, 22, 23, 24)으로 이루어지는 것이다.The substrate table 20 moves linearly along the , 22a, 23a, and 24a), respectively, and consists of a plurality of bar-shaped moving blocks (21, 22, 23, 24).
여기서, 상기 막대형의 이동블럭(21, 22, 23, 24)은 안착 대상인 상기 기판(100)의 크기에 따라 상기 X축 레일(11)을 따라 이동하여 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소된 기판 안착면(S1, S2, S3, S4)을 제공할 수 있는 것이다.Here, the bar-shaped moving blocks 21, 22, 23, and 24 move along the It is possible to provide a reduced substrate seating surface (S1, S2, S3, S4).
일예로, 제 1 크기의 기판(100a), 상기 제 1 크기보다 큰 제 2 크기의 기판(100b), 상기 제 2 크기보다 큰 제 3 크기의 기판(100c), 상기 제 3 크기보다 큰 제 4 크기의 기판(100d)에 각각 반도체칩이 표면 실장되어 있고, 상기 제 1 크기에는 제 1의 기판 안착면(S1), 상기 제 2 크기에는 제 2의 기판 안착면(S2), 상기 제 3 크기에는 제 3의 기판 안착면(S3), 상기 제 4 크기에는 제 4의 기판 안착면(S4)이 필요로 하는 것으로 가정한다.For example, a
따라서, 상기 제 1 크기의 기판(100a)을 리워크 작업 위치로 안착하여 리워크 작업시 그 안착은 첨부된 도 5 및 도 6에서와 같이 제 1의 기판 안착면(S1)을 제공하는 하나의 이동블럭(21) 위에 안착될 수 있는 것이다.Therefore, when the
즉, 하나의 상기 이동블럭(21)만 리워크 작업 위치로 이동하고, 다른 이동블럭(22, 23, 24)들은 상기 리워크 작업 위치로부터 이격된 간격을 유지하면서 벗어나 있도록 하는 것이다.That is, only one moving
반면, 상기 제 2 크기의 기판(100b)을 리워크 작업 위치로 안착하여 리워크 작업시 그 안착은 첨부된 도 7 및 도 8에서와 같이 제 2의 기판 안착면(S2)을 제공하도록 두 개의 이동블럭(21, 22)이 인접하도록 나란하게 배치하면서 그 위에 안착될 수 있는 것이다.On the other hand, when the board 100b of the second size is seated at the rework work position and the rework work is performed, two boards are used to provide a second board seating surface S2 as shown in FIGS. 7 and 8 attached thereto. The moving blocks 21 and 22 can be placed side by side and placed adjacent to each other.
즉, 두 개의 상기 이동블럭(21, 22)만 리워크 작업 위치로 이동하고, 다른 이동블럭(23, 24)들은 상기 리워크 작업 위치로부터 이격된 간격을 유지하면서 벗어나 있도록 하는 것이다.That is, only the two moving
또한, 상기 제 3 크기의 기판(100c)을 리워크 작업 위치로 안착하여 리워크 작업시 그 안착은 첨부된 도 9 및 도 10에서와 같이 제 3의 기판 안착면(S3)을 제공하도록 세 개의 이동블럭(21, 22, 23)이 인접하도록 나란하게 배치하면서 그 위에 안착될 수 있는 것이다.In addition, when the substrate 100c of the third size is seated at the rework work position and the rework work is performed, the third size substrate 100c is seated on three surfaces to provide a third substrate seating surface S3 as shown in Figures 9 and 10 attached. The moving blocks 21, 22, and 23 can be placed side by side and placed adjacent to each other.
즉, 세 개의 상기 이동블럭(21, 22, 23)만 리워크 작업 위치로 이동하고, 다른 이동블럭(24)은 상기 리워크 작업 위치로부터 이격된 간격을 유지하면서 벗어나 있도록 하는 것이다.That is, only the three moving
또한, 상기 제 4 크기의 기판(100d)을 리워크 작업 위치로 안착하여 리워크 작업시 그 안착은 첨부된 도 11 및 도 12에서와 같이 제 4의 기판 안착면(S4)을 제공하도록 네 개의 이동블럭(21, 22, 23, 24)이 인접하도록 나란하게 배치하면서 그 위에 안착될 수 있는 것이다.In addition, when the fourth size substrate 100d is seated at the rework work position and the rework work is performed, the fourth size substrate 100d is seated on four surfaces to provide a fourth substrate seating surface S4 as shown in Figures 11 and 12 attached. The movable blocks (21, 22, 23, 24) can be placed side by side and seated on top of each other so that they are adjacent to each other.
여기서, 상기 이동블럭(21, 22, 23, 24)의 상면에는 각각 상기 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)의 중심을 잡아주기 위한 복수의 고정핀(21b, 22b, 23b, 24b)가 일렬로 돌출 형성될 수 있는 것이다.Here, a plurality of fixing pins (21b, 22b, 23b, 24b) are provided on the upper surfaces of the moving blocks (21, 22, 23, 24) to hold the center of the substrate (100; 100a, 100b, 100c, 100d), respectively. can be formed to protrude in a row.
즉, 상기 고정핀(21b, 22b, 23b, 24b)은 상기 이동블럭(21, 22, 23, 24)의 위에 상기 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)이 안착되었을 때 그 안착 위치를 잡아줄 수 있는 것이다.That is, the fixing pins (21b, 22b, 23b, 24b) are positioned at the seating position when the substrate (100; 100a, 100b, 100c, 100d) is placed on the moving block (21, 22, 23, 24). You can catch it.
상기 기판 고정부(30)는 상기 본체부(10)의 상단에 형성되는 상기 Y축 레일(12)을 따라 직선 이동하는 것으로, 상기 기판 테이블(20)에 안착되어진 상기 기판(100)을 가압 고정하는 것이며, 이는 상기 이동블럭(21, 22, 23, 24)이 이동하여 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소되는 상기 기판 안착면(S1, S2, S3, S4)에 따라 길이가 가변되는 클램프 구조물일 수 있는 것이다.The
즉, 상기 기판 고정부(30)는 통상적인 클램프 구조물로서 상기 Y축 레일(12)에 이동 가능하게 결합되는 이동프레임(31), 상기 이동프레임(31)에 회전 가능하게 힌지 결합되는 작동레버(32), 상기 작동레버(32)의 회전에 따라 신장 또는 수축되면서 상기 기판(100)을 가압 고정하는 것으로 끝단에 완충부(33a)가 형성되는 가압로드(33), 상기 작동레버(32)와 상기 가압로드(33)를 연결하도록 힌지 결합되면서 상기 작동레버(32)의 회전시 상기 가압로드(33)의 신장 또는 수축을 가이드하는 연결로드(34)를 포함하면서, 상기 가압로드(33)를 상기 연결로드(34)에 힌지 결합되는 고정로드(331)와, 상기 고정로드(331)에 수납 또는 상기 고정로드(331)로부터 인출되는 단수 또는 복수로 이루어지는 것으로 상기 완충부(33a)가 형성되는 이동로드(332, 332'), 그리고 상기 고정로드(331)에 수납되거나 또는 상기 고정로드(331)로부터 인출되는 상기 이동로드(332, 332')를 고정시키는 고정부(333)를 더 포함하여 구성될 수 있는 것이다.That is, the
따라서, 서로 다른 크기를 가지는 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)이 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소된 기판 안착면(S1, S2, S3, S4)을 제공하는 이동블럭(21, 22, 23, 24)에 안착시, 상기 기판 고정부(30)에 포함되는 상기 가압로드(33)는 이동로드(332, 332')의 직선 이동으로부터 상기 고정로드(331)로부터 인출 또는 상기 고정로드(331)에 수납되면서 길이를 길게 또는 ?E게 유지하는 것이다.Therefore, a moving block (100; 100a, 100b, 100c, 100d) having different sizes provides enlarged or reduced substrate seating surfaces (S1, S2, S3, S4) while maintaining adjacent or spaced apart intervals. When seated on 21, 22, 23, 24, the
일예로, 첨부된 도 5 및 도 6에서와 같이 하나의 이동블럭(21)에서 제공하는 기판 안착면(S1)에 제 1 크기를 가지는 기판(100a)이 안착시, 도면 기준으로 좌측의 기판 고정부(30)는 가압로드(33)를 통해 상기 기판(100a)의 좌측 모서리를 가압하여 고정할 수 있지만, 도면 기준으로 우측의 기판 고정부(30)는 가압로드(33)를 통해 상기 기판(100a)의 우측 모서리를 가압할 수는 없었다.For example, as shown in the attached FIGS. 5 and 6, when the
이에, 우측이 기판 고정부(30)에 포함되는 상기 가압로드(33)를 구성하는 이동로드(332, 332')를 인출하여 좌측으로 길이를 최대로 확장하면, 상기 이동로드(332, 332')에 형성되는 완충부(33a)가 상기 기판(100a)의 우측 모서리를 가압하여 고정시킬 수 있게 되는 것이다.Accordingly, when the
반대로, 첨부된 도 11 및 도 12에서와 같이 네 개의 이동블럭(21, 22, 23, 24)에서 제공하는 기판 안착면(S4)에 제 4 크기를 가지는 기판(100d)이 안착시, 도면 기준으로 좌측의 기판 고정부(30)와 우측의 기판 고정부(30)는 모두 가압로드(33)를 통해 상기 기판(100d)의 좌측 및 우측 모서리를 가압하여 고정할 수 있는 것이다.On the contrary, when the substrate 100d having the fourth size is seated on the substrate seating surface S4 provided by the four moving
즉, 상기 가압로드(33)에 포함되는 이동로드(332, 332')를 인출하지 않더라도 상기 기판(100d)의 각 모서리를 가압 고정할 수 있는 것이다.In other words, each corner of the substrate 100d can be pressed and fixed even without pulling out the moving
한편, 첨부된 도 7과 도 8, 그리고 첨부된 도 9와 도 10에서와 같이 두 개 또는 세 개의 이동블럭(21, 22 또는 21, 22, 23)에서 제공하는 기판 안착면(S2, S3)에 각각 제 2 크기의 기판(100b) 또는 제 3 크기의 기판(100c)이 안착시, 도면 기준으로 도면 기준으로 좌측의 기판 고정부(30)는 이동로드(332, 332')의 인출없이 가압로드(33)를 통해 상기 기판(100b 또는 100c)의 좌측 모서리를 가압하여 고정할 수 있지만, 도면 기준으로 우측의 기판 고정부(30)는 가압로드(33)를 통해 상기 기판(100b 또는 100c)의 우측 모서리를 가압할 수는 없었다.Meanwhile, the substrate seating surfaces (S2, S3) provided by two or three moving blocks (21, 22 or 21, 22, 23) as shown in Figures 7 and 8, and Figures 9 and 10, respectively. When the second size substrate 100b or the third size substrate 100c is seated on the left side based on the drawing, the
이에, 우측이 기판 고정부(30)에 포함되는 상기 가압로드(33)를 구성하는 이동로드(332, 332')의 인출 길이를 조절하면, 상기 이동로드(332, 332')에 형성되는 완충부(33a)가 상기 기판(100b 또는 100c)의 우측 모서리를 가압하여 고정시킬 수 있다.Accordingly, when the pull-out length of the
한편, 상기의 기판 고정부(30)를 통해 상기 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)의 상면 각 모서리를 가압 고정시, 상기 이동블럭(21, 22, 23, 24)에 돌출 형성되는 고정핀(21b, 22b, 23b, 24b)은 상기 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)의 하면을 가압하게 되면서, 상기 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)은 리워크 작업 위치에서 상기 히팅부(40)의 가열동작에 따른 열이 가해지더라도 안정적인 고정상태를 유지할 수 있는 것이다.On the other hand, when each corner of the upper surface of the substrate 100 (100a, 100b, 100c, 100d) is pressurized and fixed through the
상기 히팅부(40)는 상기 본체부(10)에서 상기 기판 테이블(20; 21, 22, 23, 24) 저면측에 형성되고, 상기 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)에 표면 실장된 반도체칩을 분리 또는 결합시키도록 열을 가하는 것이며, 이는 복수의 히팅블럭(41, 42, 43)으로 분할 형성되면서, 상기 이동블럭(21, 22, 23, 24)이 이동하여 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소되는 상기 기판 안착면(S1, S2, S3, S4)에 열을 선택적으로 가하는 것이다.The
즉, 복수로 이루어진 상기 히팅블럭(41, 42, 43)은 1:1로 각각 매칭되는 컨트롤 스위치(41a, 42a, 43a)에 의해 온 또는 오프가 선택 제어될 수 있는 것이다.That is, the plurality of heating blocks 41, 42, and 43 can be selectively controlled on or off by control switches 41a, 42a, and 43a that are matched 1:1.
일예로, 기판 안착면이 축소되면 하나 또는 두 개의 히팅블럭(41 및/또는 42)만 온 작동될 수 있고, 기판 안착면이 확대되면 히팅블럭(42, 42, 43) 모두가 온 작동될 수 있으며, 이는 상기 컨트롤 스위치(41a, 42a, 43a)의 선택적인 조작으로부터 이루어질 수 있는 것이다.For example, when the substrate seating surface is reduced, only one or two heating blocks (41 and/or 42) may be turned on, and when the substrate seating surface is enlarged, all of the heating blocks (42, 42, and 43) may be turned on. This can be achieved through selective manipulation of the control switches 41a, 42a, and 43a.
여기서, 상기 컨트롤 스위치(41a, 42a, 43a)는 상기 본체부(10)의 전면에 형성되는 조작부(60)에 구성될 수 있는 것이다.Here, the control switches 41a, 42a, and 43a may be configured on the operating
상기 제어부(50)는 상기 컨트롤 스위치(41a, 42a, 43a)의 조작신호에 따라 상기 히팅블럭(41, 42, 43)을 제어함은 물론, 상기 광학 카메라(70)와 상기 모니터(80)를 제어할 수 있는 것이다.The
상기 광학 카메라(70)는 상기 본체부(10)의 상단 일단에 형성되는 지지프레임(10b)에 설치되면서 리워크 작업 위치를 촬영하는 비젼 카메라이고, 상기 모니터(80)는 상기 광학 카메라(70)에 의해 촬영된 영상 정보를 디스플레이하도록 구성될 수 있는 것으로, 이는 리워크 장비에서 공지의 기술에 해당하는 것이므로 이하에는 그 구체적인 설명은 생략하기로 한다.The
한편, 상기 본체부(10)는 상기 온도센서(90)가 구성될 수 있으며, 상기 온도센서(90)는 상기 히팅부(40; 41, 42, 43)의 가열 동작시 상기 반도체칩의 실시간 온도 변화를 감지한 후 이를 상기 제어부(50)로 출력하는 것이며, 이에 따라 상기 제어부(50)는 상기 온도센서(90)에 의해 감지되는 온도 변화량에 따라 상기 히팅부(40; 41, 42, 43)의 가열 동작을 제어하면서 상기 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)에 가해지는 열의 온도를 조절할 수 있는 것이다.Meanwhile, the
즉, 본 발명의 실시예에 따른 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치는 첨부된 도 1 내지 도 12에서와 같이, 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)의 크기에 따라 분할 구성되는 기판 테이블(20; 21, 22, 23, 24)을 선택적으로 X축 레일(11)을 따라 이동시키면서 인접 또는 소정의 이격거리가 유지되도록 하여 상기 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)의 크기에 대응하는 축소 또는 확대된 기판 안착면(S1 및/또는 S2 및/또는 S3 및/또는 S4)을 제공하는 한편, 축소 또는 확대된 기판 안착면(S1 및/또는 S2 및/또는 S3 및/또는 S4)에 안착되는 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)의 저면과 상면 각 모서리를 고정핀(21b, 22b, 23b, 24b)과 Y축 레일(12)을 따라 직선 이동하는 가압로드(33)의 완충부(33a)를 이용하여 안정적으로 가압 고정하는 것이다.That is, the surface-mounted semiconductor chip manual rework device according to an embodiment of the present invention is divided according to the size of the substrate 100 (100a, 100b, 100c, 100d), as shown in FIGS. 1 to 12 attached. The size of the substrate (100; 100a, 100b, 100c, 100d) is adjusted by selectively moving the table (20; 21, 22, 23, 24) along the Provides a correspondingly reduced or enlarged substrate seating surface (S1 and/or S2 and/or S3 and/or S4), while reducing or enlarging the substrate seating surface (S1 and/or S2 and/or S3 and/or A pressure rod (100; 100a, 100b, 100c, 100d) that moves linearly along the fixing pins (21b, 22b, 23b, 24b) and the Y-axis rail (12) at each corner of the bottom and top surfaces of the substrate (100; 100a, 100b, 100c, 100d) seated on S4) It is stably pressurized and fixed using the
그러면, 분할 구성되는 히팅부(40; 41, 42, 43)로부터 동시 또는 선택적으로 열을 가하면서, 상기 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)에 표면 실장된 반도체칩의 분리 또는 재장착이 용이하게 이루어질 수 있는 것이다.Then, the semiconductor chip surface-mounted on the substrate (100; 100a, 100b, 100c, 100d) is separated or remounted while simultaneously or selectively applying heat from the divided heating units (40; 41, 42, 43). This can be easily accomplished.
즉, 본 발명의 실시예는 하나의 리워크 장비로 서로 다른 크기를 가지는 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d) 표면에서의 반도체칩 리워크 작업이 용이하게 이루어질 수 있음은 물론, 서로 다른 기판(100; 100a, 100b, 100c, 100d)의 표면에 실장된 반도체칩의 리워크 작업시 리워크 기구(예; 지그 등)를 교체해야 하는 불편함을 개선할 수 있는 것이다.That is, in the embodiment of the present invention, semiconductor chip rework work can be easily performed on the surfaces of substrates 100 (100; 100a, 100b, 100c, 100d) having different sizes with a single rework equipment, as well as different This can improve the inconvenience of having to replace the rework mechanism (e.g. jig, etc.) when reworking the semiconductor chip mounted on the surface of the substrate 100 (100a, 100b, 100c, 100d).
이상에서 본 발명의 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치에 대한 기술사상을 첨부도면과 함께 서술하였지만, 이는 본 발명의 가장 양호한 실시예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다.In the above, the technical idea of the surface-mounted semiconductor chip manual rework device of the present invention has been described along with the accompanying drawings, but this is an exemplary description of the best embodiment of the present invention and does not limit the present invention.
따라서, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와같은 변경은 청구범위 기재의 범위내에 있게 된다.Accordingly, the present invention is not limited to the specific preferred embodiments described above, and various modifications may be made by anyone skilled in the art without departing from the gist of the present invention as claimed in the claims. Of course, such changes are possible and fall within the scope of the claims.
10; 본체부 11; X축 레일
12; Y축 레일 20; 기판 테이블
21, 22, 23, 24; 이동블럭 21a, 22a, 23a, 24a; 레일 결합부
21b, 22b, 23b, 24b; 고정핀 30; 기판 고정부
31; 이동프레임 32; 작동레버
33; 가압로드 33a; 완충부
331; 고정로드 332, 332'; 이동로드
333; 고정부 34; 연결로드
40; 히팅부 41, 42, 43; 히팅블럭
41a, 42a, 43a; 컨트롤 스위치 50; 제어부
60; 조작부 70; 광학 카메라
80; 모니터 90; 온도센서
100,100a,100b,100c,100d; 기판 S1, S2, S3, S4; 기판 안착면10;
12; Y-
21, 22, 23, 24; Moving
21b, 22b, 23b, 24b; fixing
31; moving
33;
331; fixed
333; Fixing
40;
41a, 42a, 43a;
60;
80; monitor 90; temperature Senser
100,100a,100b,100c,100d; Substrates S1, S2, S3, S4; Board seating surface
Claims (5)
상기 기판 테이블은 안착되는 상기 기판의 크기에 따라 상기 X축 레일을 따라 이동하여 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소된 기판 안착면을 제공하는 것으로 레일결합부를 가지는 복수로 이루어진 막대형의 이동블럭을 포함하고,
상기 기판 고정부는 상기 이동블럭이 이동하여 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소되는 상기 기판 안착면에 따라 길이가 가변되는 클램프 구조물인 것을 특징으로 하는 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치.A main body portion in which a pair of opposing A movable substrate table on which the substrate is mounted, which moves linearly along the X-axis rail formed at the top of the main body; A substrate fixing part that moves linearly along the Y-axis rail formed at the top of the main body and pressurizes and fixes the substrate seated on the substrate table; and a heating part formed on the bottom side of the substrate table in the main body and applying heat to separate or combine semiconductor chips surface mounted on the substrate. Includes,
The substrate table moves along the Contains blocks,
A surface-mounted semiconductor chip manual rework device, characterized in that the substrate fixing part is a clamp structure whose length is variable according to the substrate seating surface that expands or contracts as the moving blocks move and maintain adjacent or spaced apart intervals.
상기 이동블럭의 상면에는 각각 상기 기판의 중심을 잡아주기 위한 복수의 고정핀이 일렬로 돌출 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치.According to claim 1,
A surface-mounted semiconductor chip manual rework device, characterized in that a plurality of fixing pins are protruded in a row on the upper surface of the moving block to hold the center of the substrate.
상기 기판 고정부는, 상기 Y축 레일에 이동 가능하게 결합되는 이동프레임; 상기 이동프레임에 회전 가능하게 힌지 결합되는 작동레버; 상기 작동레버의 회전에 따라 신장 또는 수축되면서 상기 기판을 가압 고정하는 것으로 끝단에 완충부가 형성되는 가압로드; 및, 상기 작동레버와 상기 가압로드를 연결하도록 힌지 결합되면서 상기 작동레버의 회전시 상기 가압로드의 신장 또는 수축을 가이드하는 연결로드; 를 포함하되,
상기 가압로드는 상기 연결로드에 힌지 결합되는 고정로드; 상기 고정로드에 수납 또는 상기 고정로드로부터 인출되는 것으로 상기 완충부가 형성되는 이동로드; 및, 상기 고정로드에 수납되거나 또는 상기 고정로드로부터 인출되는 상기 이동로드를 고정시키는 고정부; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치.According to claim 1,
The substrate fixing unit includes a moving frame movably coupled to the Y-axis rail; An operating lever rotatably hinged to the moving frame; A pressure rod that presses and fixes the substrate while expanding or contracting as the operation lever rotates, forming a buffer at the end; and a connecting rod that is hinged to connect the operation lever and the pressure rod and guides expansion or contraction of the pressure rod when the operation lever rotates. Including,
The pressure rod includes a fixed rod hinged to the connecting rod; a movable rod on which the buffer part is formed by being stored in or pulled out from the fixed rod; And, a fixing part for fixing the movable rod stored in the fixed rod or pulled out from the fixed rod; A surface-mounted semiconductor chip manual rework device comprising a.
상기 히팅부는 상기 이동블럭이 이동하여 인접 또는 이격된 간격을 유지하면서 확대 또는 축소되는 상기 기판 안착면에 열을 선택적으로 가하도록 복수의 히팅블럭으로 분할 구성하고,
복수의 상기 히팅블럭은 1:1로 각각 매칭되는 컨트롤 스위치에 의해 온 또는 오프되는 것을 특징으로 하는 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치.According to claim 1,
The heating unit is divided into a plurality of heating blocks to selectively apply heat to the substrate seating surface, which is enlarged or reduced while maintaining adjacent or spaced apart distances as the moving blocks move,
A surface-mounted semiconductor chip manual rework device, characterized in that the plurality of heating blocks are turned on or off by control switches that are matched 1:1.
상기 본체부에는 제어부에 의해 제어되는 것으로 상기 기판이 안착되는 상기 기판 테이블을 촬영하는 광학 카메라와, 상기 광학 카메라에 의해 촬영된 영상 정보를 디스플레이하는 모니터를 형성하되,
상기 본체부에는 상기 히팅부의 가열 동작시 상기 반도체칩의 실시간 온도 변화를 감지하여 상기 제어부로 출력하는 온도센서를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 실장형 반도체칩 수동 리워크 장치.According to claim 4,
The main body portion is formed with an optical camera controlled by a control unit that photographs the substrate table on which the substrate is mounted, and a monitor that displays image information captured by the optical camera,
A surface-mounted semiconductor chip manual rework device, characterized in that the main body further includes a temperature sensor that detects real-time temperature changes of the semiconductor chip during a heating operation of the heating unit and outputs the output to the control unit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020230040471A KR102581197B1 (en) | 2023-03-28 | 2023-03-28 | Surface mount type semiconductor chip manual rework equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020230040471A KR102581197B1 (en) | 2023-03-28 | 2023-03-28 | Surface mount type semiconductor chip manual rework equipment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR102581197B1 true KR102581197B1 (en) | 2023-09-21 |
Family
ID=88189165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020230040471A KR102581197B1 (en) | 2023-03-28 | 2023-03-28 | Surface mount type semiconductor chip manual rework equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102581197B1 (en) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011129647A (en) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Shinapex Co Ltd | Reworking device for chip component, and set pin used for the same |
KR20150020229A (en) * | 2012-04-25 | 2015-02-25 | 임채열 | Rework system for bga |
KR101702104B1 (en) | 2015-11-20 | 2017-02-02 | 세교 (주) | Rework station for reworking electronic device including semiconductor device |
KR20210039159A (en) * | 2019-10-01 | 2021-04-09 | 레이저쎌 주식회사 | Clamping apparatus |
-
2023
- 2023-03-28 KR KR1020230040471A patent/KR102581197B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011129647A (en) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Shinapex Co Ltd | Reworking device for chip component, and set pin used for the same |
KR20150020229A (en) * | 2012-04-25 | 2015-02-25 | 임채열 | Rework system for bga |
KR101702104B1 (en) | 2015-11-20 | 2017-02-02 | 세교 (주) | Rework station for reworking electronic device including semiconductor device |
KR20210039159A (en) * | 2019-10-01 | 2021-04-09 | 레이저쎌 주식회사 | Clamping apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100923658B1 (en) | Probe Positioning Method, Movable Probe Unit Mechanism, and Inspection Apparatus | |
US11007768B2 (en) | Board work device having support member conveyance section for conveying board support member | |
TWI559271B (en) | Apparatus for testing display panel and model changing method of thereof | |
US9398696B2 (en) | Screen printing machine | |
JP4718258B2 (en) | Substrate support method and component mounting method using the method | |
KR100848854B1 (en) | Scribing apparatus of fragile substrate and method thereof | |
JP2008188727A (en) | Alignment method and its apparatus | |
TWI680019B (en) | Wafer adhesive cleaning method and device | |
KR100289426B1 (en) | Thermocompression bonding apparatus, thermocompression bonding method and production method of liquid crystal display device | |
JP2005537684A (en) | Replacement device and replacement method for defective PCB panel | |
KR20070007049A (en) | Screen printer | |
JP2007160692A (en) | Screen printing apparatus | |
KR101346952B1 (en) | Display panel testing apparatus and method for testing amoled panel | |
TWI676782B (en) | Alignment system for a workpiece printing machine, printing machine and method for printing a planar workpiece with a conductive medium | |
KR102581197B1 (en) | Surface mount type semiconductor chip manual rework equipment | |
CN1326674C (en) | Perforating apparatus and method for slab workpiece | |
KR102149703B1 (en) | Variable width inspection apparatus according to size of display panel | |
JP2008101938A (en) | Inspection device | |
JP2008085275A (en) | Method and device for alignment | |
JP3904429B2 (en) | Backup pin positioning device | |
JP2007040831A (en) | Circuit board holder | |
JP7113989B2 (en) | Working device for board | |
DE4105875C1 (en) | ||
KR20160039487A (en) | NFC Automatic soldering apparatus | |
CN111965782B (en) | Automatic reflection light path adjusting component, adjusting device and using method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A302 | Request for accelerated examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |