KR102578848B1 - 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법 - Google Patents

이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법이 제공된다. 상기 방법은 기판의 상면이 텍스처링 표면을 갖도록 표면 처리하는 단계; 및 상기 텍스처링 표면 위에 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 코팅층은, 티타늄 테트라이 소프로폭사이드(titanium tetraisopropoxide, TTIP)와 유기용매를 1 : 9 ~ 5 : 5 비율로 혼합하여 이산화티탄 화합물을 형성하는 단계; 상기 이산화티탄 화합물에 물과 35% 농도의 산용액을 투입하고 80℃ 온도에서 100rpm ~ 200rpm 속도로 교반하여 졸 상태의 이산화티탄 광촉매 조성물을 생성하는 단계;를 포함할 수 있다.

Description

이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법 {METHOD FOR PRODUCING COATING FILM USING TITANIUM DIOXIDE PHOTOCATALYST COMPOSITION}
본 발명은 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법에 관한 발명으로써, 보다 구체적으로 기판의 텍스처링 표면에 졸 상태의 이산화티탄 광촉매를 코팅하여 코팅층과 기판 사이의 접착력을 향상시키고, 자외선으로 코팅층을 경화하여 코팅층의 변형 및 박리를 방지할 수 있는 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법에 관한 것이다.
광촉매 작용은 여러 가지의 반도체 물질에서 확인되고 있으며, 현재 가장 널리 사용되는 있는 것은 이산화티탄(TiO2)이다. 이산화티탄은 태양과 또는 적당한 인공광에 함유되어 있는 자외선에 의해서 충분히 촉매 활성을 나타내고, 화화적으로 안정하며, 환경 및 인체에 무해하고, 가격이 저렴하여 경제적이다라는 이유로 널리 사용되고 있다.
이러한 이산화티탄에는 아나타제형(ANATASE TYPE), 루틸형(RUTILE TYPE), 부루카이트형(BROOKITE TYPE)의 3가지 종류의 결정 구조가 있다. 상기 루틸형 이산화티탄은 공업용 도료 및 화장품 등에 널리 사용되고 있으며, 광 촉매로서 적합한 것은 상기 아나타제형 결정 구조를 갖는 이산화티탄이다.
상기 아나타제형 이산화티탄은 찌든 때의 분해, 탈취, 수중 또는 공기 중의 오염물질의 분해 및 제거 등의 기능을 가지고 있어 주로 환경 정화 분야에 사용되고 있다.
상기와 같은 이산화티탄 광촉매를 제조하는 대표적인 방법으로는 염화티탄이나 황산티탄 등의 무기티탄을 가수 분해하여 염기로 중화한 다음, 수용성 금속염을 일정 중량비로 첨가하고 고온 소성하여 입도가 작고 비표면적이 큰 아나타제형 산화티탄을 얻어내는 방법을 예로 들 수 있다.
광촉매 활성의 측면에서 보면 비표면적이 큰 분말이 우수하지만 이를 효과적으로 활용할 수 있는 방법은 그리 많지 않다. 기존의 졸겔법에 의한 가수분해 방법으로 제조한 광촉매는 광활성과 안정성을 높이는데 한계가 있고, 결정 성장 및 분산성을 유지시키는데도 한계가 있다.
대한민국 공개특허공보 제10-2013-0000667호
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급된 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상술한 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일실시예에 따른 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법은, 기판의 상면이 텍스처링 표면을 갖도록 표면 처리하는 단계; 및 상기 텍스처링 표면 위에 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하되, 상기 코팅층은, 티타늄 테트라이 소프로폭사이드(titanium tetraisopropoxide, TTIP)와 유기용매를 1 : 9 ~ 5 : 5 비율로 혼합하여 이산화티탄 화합물을 형성하는 단계; 상기 이산화티탄 화합물에 물과 35% 농도의 산용액을 투입하고 80℃ 온도에서 100rpm ~ 200rpm 속도로 교반하여 졸 상태의 이산화티탄 광촉매 조성물을 생성하는 단계;를 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 졸 상태의 이산화티탄 화합물을 형성하는 단계는, 상기 졸 상태의 이산화티탄 화합물을 10분 ~ 60분 동안 숙성하여 백색의 이산화티탄 광촉매 조성물을 생성할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 투명한 이산화티탄 광촉매 조성물을 자외선에서 10분 ~ 8시간 조사하는 단계;를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 버퍼층 위에 코팅층을 형성하는 단계는, 상기 졸 상태의 이산화티탄 화합물을 습식코팅법을 이용하여 상기 버퍼층 위에 1~5회 반복 코팅할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 버퍼층 위에 코팅층을 형성하는 단계 이후에, 상기 코팅층을 50℃ ~ 100℃ 온도에서 30분 ~120분 건조하는 단계;를 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 기판을 건조하는 단계는, 300watt ~ 500watt 광원의 자외선이 조사되는 챔버내에서 상기 코팅층을 건조할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 유기용매는 이소프로필 알콜(IPA), 메틸 알콜(methanol) 및 에틸 알코올(ethanol) 중 적어도 하나를 포함하고, 상기 산용액은 염산(HCL)을 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 텍스처링 표면은 0.5micron 조도를 갖는 요철구조로 형성될 수 있다.
본 발명의 일실시예에 있어서, 상기 기판과 상기 코팅층 사이에 버퍼층을 형성하는 단계;를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일실시예에 조성물은 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법에 의해 제조될 수 있다.
본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명에 따르면, 텍스처링 표면에 졸 상태의 이산화티탄 광촉매를 코팅하여 코팅층과 기판 사이의 접착력을 향상시키고, 자외선으로 코팅층을 경화하여 코팅층의 변형 및 박리를 방지할 수 있는 할 수 있다.
본 발명에 따르면, 가시광선 하에서도 광분해 효율이 우수하며, 높은 균일도를 갖는 이산화티타늄 광촉매를 제공할 수 있다.
본 발명에 따르면, 의료기기 분야, 자동차 분야, 생활용품 분야 및 가전제품 분야에 적용가능함으로써, 고분자, 세라믹 및 금속등의 다양한 분야에 광촉매 코팅층을 형성하여 바이러스 및 세균감염에 더욱 안전한 제품을 제공할 수 있다.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급된 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층을 형성하는 방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 3은 도 2에 도시된 코팅층의 형성하는 이산화티탄 광촉매 조성물을 제조하는 방법을 설명하기 위한 상세흐름도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 이산화티타늄 광촉매 조성물이 균일하게 코팅된 표면을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 이산화티타늄 광촉매 조성물의 균일도를 설명하기 위한 도면이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 제한되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술 분야의 통상의 기술자에게 본 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 명세서 전체에 걸쳐 동일한 도면 부호는 동일한 구성 요소를 지칭하며, "및/또는"은 언급된 구성요소들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. 비록 "제1", "제2" 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또한, 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층을 설명하기 위한 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명은 기판(100)과, 기판(100)의 상면에 형성되는 버퍼층(200) 및 버퍼층(200)의 상면에 형성되는 코팅층(300)이 형성될 수 있다. 여기서 버퍼층(200)은 생략될 수 있다.
구체적으로, 기판(100)은 텍스처링 처리공정이 행해져 기판(100)의 전면은 주변보다 위로 튀어 올라온 복수의 돌출부(110)를 구비한 요철면인 텍스처링 표면(textured surface)으로 형성될 수 있다.
이때, 복수의 돌출부(110)는 요철구조로써, 피라미드 형상을 갖도록 형성될 수 있지만, 이에 한정하지 않고 오목 렌즈, 볼록 렌즈 등 렌즈 형상을 갖는 돌기에 따른 요철 구조의 다양한 돌기 형상으로 변형 가능하다. 여기서, 돌출부(110)의 조도는 0.5micron로써, 크기, 즉 최대 폭과 최대 높이는 각각 약 5㎛ ~ 15㎛일 수 있고, 돌출부(110)의 종횡비(aspect ratio) 는 약 1.0 ~ 1.5일 수 있지만, 이에 한정하는 것은 아니다.
이와 같은 기판(100)은 소정의 두께를 가지며, 고온/저온에서 형태유지가 가능하며 크랙이나, 갈라짐 방지에 효과적인 재질로 이루어질 수 있다. 즉, 기판(100)은 플라스틱, 금속, 섬유 또는 표면이 도금된 부재 등 다양한 재질로 이루어질 수 있지만, 이에 한정하지 않는다. 예를 들어, 마스크, 의료 섬유, 또는 카테터, 기관절개술 튜브(Tracheostomy tube), 수술실의 메스, 가위, 고정용 핀 등의 의료기기 등을 포함하는 부재일 수 있다. 즉, 관절개술 이후 카테터 튜브의 표면에 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물이 코팅된 경우, 기관절개 튜브의 체외로 노출된 부분은 분비물에 의해 세균과 바이러스의 확산 또는 세균 및 바이러스에 의한 합병증을 방지할 수 있다.
버퍼층(200)은 기판(100)과 코팅층(300) 사이에 형성되는 층으로써, 기판(100)의 상면과 접하는 하부면은 기판(100)의 상면의 텍스처링 표면에 대응하여 텍스처링 표면으로 형성되고, 코팅층(300)과 접하는 상부면은 평탄한 면을 갖도록 형성될 수 있다.
실시예에 따라, 코팅층(300)과 접하는 상부면은 요철구조 또는 오목구조를 갖는 텍스처링 표면을 갖도록 형성될 수도 있다.
버퍼층(200)은 Zn, Mn, Cu, Fe 중 적어도 하나의 재질로 형성될 수 있지만, 이에 한정하지 않는다.
실시예에 따라, 버퍼층(200)은 접착성을 갖는 접착물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 접착 물질은 도전성 페이스트, 절연성 페이스트, 폴리머 접착제 등 다양하게 선택가능하며, 특별히 제한되지는 않는다.
코팅층(300)은 습식 코팅법을 이용하여 버퍼층(200)의 상면에 졸 상태의 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물을 코팅하여 형성될 수 있다.
실시예에 따라, 코팅층(300)은 기판(100)의 텍스처링 표면에 졸 상태의 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물을 코팅하여 형성될 수 있다.
본 실시예에서, 코팅층(300)이 습식 코팅법 중 딥 코팅을 이용하여 코팅되는 것으로 개시하였지만, 이에 한정하지 않고 롤 코팅, 스프레이 코팅, 스핀 코팅 등을 이용하여 코팅될 수 있다.
이와 같이, 코팅층(300)은 기판(100)의 텍스처링 표면 또는 버퍼층(200)의 평탄면에 형성됨으로써, 코팅층(300)과, 기판(100)의 텍스처링 표면 또는 버퍼층(200)의 평탄면 사이에 불순물이 존재하지 않아 기판(100) 또는 버퍼층(200)과의 접촉력이 향상될 수 있다.
또한, 기판(100)의 텍스처링 표면과 버퍼층(200) 사이에 불순물이 존재하지 않아 기판(100) 또는 버퍼층(200)과의 접촉력이 향상되어, 기판(100)과 코팅층(300) 사이의 접촉력이 더욱 향상될 수 있다.
이와 같은 구조를 갖는 본 실시예에 따른 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층의 제조 및 형성방법은 다음과 같다. 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층을 형성하는 방법을 설명하기 위한 흐름도이고, 도 3은 도 2에 도시된 코팅층의 형성하는 이산화티탄 광촉매 조성물을 제조하는 방법을 설명하기 위한 상세흐름도이며, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 이산화티타늄 광촉매 조성물이 균일하게 코팅된 표면을 설명하기 위한 도면이고, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 이산화티타늄 광촉매 조성물의 균일도를 설명하기 위한 도면이다.
본 실시예에서, 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물의 생성 및 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 생성이 챔버에서 수행하는 것으로 개시하였지만, 이에 한정하지 않는다.
우선, 도 2에 도시된 바와 같이, 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층을 형성하는 방법은, 기판(100)의 상면을 텍스처링 처리하여 텍스처링 표면으로 형성할 수 있다(S10).
본 실시예에서, 텍스처링 표면이 요철구조의 복수의 돌출부(110)를 구비하고, 돌출부(110)의 조도는 0.5micron로써, 크기, 즉 최대 폭과 최대 높이는 각각 약 5㎛ ~ 15㎛일 수 있고, 돌출부(110)의 종횡비(aspect ratio) 는 약 1.0 ~ 1.5일 수 있지만, 이에 한정하는 것은 아니다
구체적으로, 기판(100)의 일면을 이방성 식각할 수 있다. 이와 같은 이방성 식각은 알칼리(alkaline) 식각액을 이용한 습식 식각으로 실시되며, 알칼리 식각액으로는 수산화 칼륨(KOH)이나 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol, IPA)을 사용할 수 있다. 이와 달리, 반응성 이온 식각법(reaction ion etching, RIE) 등과 같은 건식 식각법을 이용하여 텍스처링 공정을 수행할 수 있다.
이와 같이 이방성 식각이 이루어지면, 기판(100)의 표면이 텍스처링 처리되어 복수의 돌출부(110)를 포함하는 텍스처링 표면이 형성될 수 있다. 여기서, 알칼리 식각액의 물질 및 식각 시간 등은 다양하게 결정될 수 있다.
실시예에 따라, 복수의 돌출부(110)를 에치백(etch back) 하는 습식 식각을 추가로 실시할 수도 있다.
다음으로, 텍스처링 공정을 수행한 기판(100)을 이소프로필 알콜(IPA), 에틸 알콜(ethanol) 및 아세톤(acetone) 중 적어도 하나를 이용하여 세척 한 후 건조공정을 수행할 수 있지만, 생략될 수도 있다. 이때, 기판(100)을 이소프로필 알콜(IPA), 에틸 알콜(ethanol) 및 아세톤(acetone) 중 적어도 하나를 이용하여 세척함으로써, 텍스처링 공정시 발생한 기판(1)의 불순물을 완벽히 제거하여 후술되는 버퍼층(200)과의 접촉력을 향상시킬 수 있다.
다음으로, 기판(100)의 텍스처링 표면에 금속물질을 도포하여 버퍼층(200)을 형성할 수 있다(S12).
버퍼층(200)은 소정의 두께를 갖도록 형성될 수 있지만, 이에 한정하지 않는다. 이때, 버퍼층(200)은 기판(100)의 두께보다 작게 형성되는 것이 바람직하다.
다음으로, 버퍼층(200)의 상면에 딥코팅 방법을 이용하여 반복 코팅하여 졸 상태의 이산화티탄 광촉매 조성물을 코팅하여 코팅층(300)을 형성될 수 있다(S14). 이때, 졸 상태의 이산화티탄 광촉매 조성물을 버퍼층(200)에 코팅함으로써, 버퍼층(200)과의 접촉력이 더욱 향상될 수 있다.
구체적으로, 도 3을 참조하면, 티타늄 테트라이 소프로폭사이드(titanium tetraisopropoxide, TTIP)와 유기용매를 1 : 9 ~ 5 : 5 비율로 혼합하여 이산화티탄(TIO2) 화합물을 형성할 수 있다(S100). 여기서, 유기용매는 이소프로필 알콜(IPA), 메틸 알콜(methanol) 및 에틸 알코올(ethanol) 중 적어도 하나를 포함할 수 있지만, 이에 한정하지 않는다.
다음, 이산화티탄(TIO2) 화합물에 물과 35% 농도의 산용액을 투입할 수 있다(S120).
35% 농도의 염산(HCL)으로 이루어지는 산용액을 투입함으로써, 뭉쳐지는 분말을 제거하기 위해 추가적인 열처리 공정을 필요로 하지 않아 공정시간 및 비용절감을 할 수 있다.
다음, 80℃ 온도에서 100rpm ~ 200rpm 속도로 교반하여 졸 상태의 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물을 생성할 수 있다(S140).
본 실시예에서, 혼합물을 80℃ 온도 이상 또는 이하에서 교반하는 경우, 입자가 뭉쳐서 탁해진 졸 상태의 생성되는 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물이 생성될 수 있다.
다음, 졸 상태의 이산화티탄(TIO2) 화합물을 10분 ~ 60분 동안 숙성하여 백색의 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물을 생성할 수 있다(S160).
다음, 백색의 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물에 자외선을 10분 ~ 8시간 동안 조사하여 색상변화를 확인할 수 있다(S180).
이와 같이 생성된 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물은 균일도를 가질 수 잇다. 예를 들어, 도 4를 참조하면, 이산화티탄(TIO2) 광촉매 조성물이 코팅되는 경우 표면이 균일하게 코팅될 수 있다.
마지막으로, 300watt ~ 500watt 광원의 자외선이 조사되는 챔버내에서 코팅층(300)을 건조할 수 있다(S16).
구체적으로, 50℃ ~ 100℃ 온도 및 30분 ~ 120분 동안 코팅층(300)을 건조할 수 있다.
즉, 코팅층(300)을 50℃ 온도 이하 및 100℃ 이상 온도, 30분 이하 및 120분 이상 건조하는 경우 코팅층(300)이 변형되어 기판(100) 및/또는 버퍼층(200)으로부터 박리될 수 있다.
이에 따라, 300watt ~ 500watt 광원의 자외선이 조사되는 챔버 코팅층(300)이 최적화된 온도로 건조됨으로써, 균일도가 더욱 향상될 수 있다. 즉, 도 5를 참고하면, 코팅층(300)이 균일하게 형성되어 외부의 충격 또는 기판(100)의 파손에 의해 크랙이 발생하더라도 균일도가 높아서 광분해 효율에 영향을 미치지 않을 수 있다.
이상, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 기술자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며, 제한적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
100 : 기판
200 : 버퍼층
300 : 코팅층

Claims (10)

  1. 기판의 상면이 텍스처링 표면을 갖도록 표면 처리하는 단계;
    상기 텍스처링 표면 위에 코팅층을 형성하는 단계; 및
    상기 코팅층을 50℃ ~ 100℃ 온도에서 30분 ~ 120분 동안 건조하는 단계;를 포함하되,
    상기 코팅층을 형성하는 단계는,
    티타늄 테트라이 소프로폭사이드(titanium tetraisopropoxide, TTIP)와 유기용매를 1 : 9 ~ 5 : 5 비율로 혼합하여 이산화티탄 화합물을 형성하는 단계;
    상기 이산화티탄 화합물에 물과 35% 농도의 산용액을 투입하여 혼합물을 형성하는 단계;
    상기 혼합물을 80℃ 온도에서 100rpm ~ 200rpm 속도로 교반하여 졸 상태의 이산화티탄 화합물을 생성하는 단계;
    상기 졸 상태의 이산화티탄 화합물을 10분 ~ 60분 동안 숙성하여 백색의이산화티탄 광촉매 조성물을 생성하는 단계; 및
    상기 백색의 이산화티탄 광촉매 조성물을 자외선에서 10분 ~ 8시간 조사하여 경화하는 단계;를 포함하는, 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서,
    상기 코팅층을 형성하는 단계는,
    상기 졸 상태의 이산화티탄 화합물을 습식코팅법을 이용하여 1~5회 반복 코팅하는, 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 기판을 건조하는 단계는,
    300watt ~ 500watt 광원의 자외선이 조사되는 챔버내에서 상기 코팅층을 건조하는, 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 유기용매는 이소프로필 알콜(IPA), 메틸 알콜(methanol) 및 에틸 알코올(ethanol) 중 적어도 하나를 포함할 수 있고, 상기 산용액은 염산(HCL)을 포함하는, 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 텍스처링 표면은 0.5micron 조도를 갖는 요철구조로 형성되는, 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 기판과 상기 코팅층 사이에 버퍼층을 형성하는 단계;를 더 포함하는, 이산화티탄 광촉매 조성물을 이용한 코팅층 제조방법.
  10. 제1항, 제4항, 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 따라 제조된, 이산화티탄 광촉매 조성물.
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