KR102562091B1 - Light emitting device package - Google Patents

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쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드
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Abstract

실시 예의 발광 소자는 도전형 카본 블랙을 포함하는 블랙 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC)를 포함하는 몸체와, 몸체에 의해 서로 전기적으로 이격된 제1 및 제2 리드 프레임과, 제1 및 제2 리드 프레임 중 적어도 하나의 위에 배치된 발광 소자 및 발광 소자를 에워싸도록 몸체와 제1 및 제2 리드 프레임 위에 배치된 몰딩 부재를 포함한다.The light emitting device of the embodiment includes a body including a black epoxy molding compound (EMC) including conductive carbon black, first and second lead frames electrically spaced apart from each other by the body, and first and second lead frames. It includes a light emitting element disposed on at least one and a molding member disposed on the body and the first and second lead frames to surround the light emitting element.

Description

발광 소자 패키지{Light emitting device package}Light emitting device package {Light emitting device package}

실시 예는 발광 소자 패키지에 관한 것이다.The embodiment relates to a light emitting device package.

발광 다이오드(LED:Light Emitting Diode)는 화합물 반도체의 특성을 이용하여 전기를 적외선 또는 빛으로 변환시켜서 신호를 주고 받거나, 광원으로 사용되는 반도체 소자의 일종이다.A light emitting diode (LED) is a type of semiconductor device used as a light source or to transmit and receive signals by converting electricity into infrared rays or light using the characteristics of compound semiconductors.

Ⅲ-Ⅴ족 질화물 반도체(group Ⅲ-Ⅴ nitride semiconductor)는 물리적 및 화학적 특성으로 인해 발광 다이오드(LED) 또는 레이저 다이오드(LD:Laser Diode) 등 발광소자의 핵심 소재로 각광을 받고 있다.Group III-V nitride semiconductors are in the limelight as a key material for light emitting devices such as light emitting diodes (LEDs) or laser diodes (LDs) due to their physical and chemical properties.

이러한 발광 다이오드는 백열등과 형광등 등의 기존 조명기구에 사용되는 수은(Hg)과 같은 환경 유해물질이 포함되어 있지 않아 우수한 친환경성을 가지며, 긴 수명과 저전력 소비특성 등과 같은 장점이 있기 때문에 기존의 광원들을 대체하고 있다.Since these light emitting diodes do not contain environmentally harmful substances such as mercury (Hg) used in existing lighting fixtures such as incandescent and fluorescent lamps, they have excellent eco-friendliness, and have advantages such as long lifespan and low power consumption, so they are superior to conventional light sources. are replacing them

발광 다이오드를 포함하는 기존의 발광 소자 패키지의 기판은 세라믹 등으로 구현되므로 크랙을 야기시키며 높은 제조 비용을 갖는 문제점이 있다.Since the substrate of the existing light emitting device package including the light emitting diode is implemented with ceramic or the like, there is a problem of causing cracks and having a high manufacturing cost.

실시 예는 개선된 특성을 갖는 발광 소자 패키지를 제공한다.The embodiment provides a light emitting device package having improved characteristics.

일 실시 예에 의한 발광 소자 패키지는, 도전형 카본 블랙을 포함하는 블랙 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC)를 포함하는 몸체; 상기 몸체에 의해 서로 전기적으로 이격된 제1 및 제2 리드 프레임; 상기 제1 및 제2 리드 프레임 중 적어도 하나의 위에 배치된 발광 소자; 및 상기 발광 소자를 에워싸도록 상기 몸체와 상기 제1 및 제2 리드 프레임 위에 배치된 몰딩 부재를 포함할 수 있다.A light emitting device package according to an embodiment includes a body including a black epoxy molding compound (EMC) including conductive carbon black; first and second lead frames electrically spaced apart from each other by the body; a light emitting element disposed on at least one of the first and second lead frames; and a molding member disposed on the body and the first and second lead frames to surround the light emitting device.

예를 들어, 상기 몸체의 탑면과 상기 제1 및 제2 리드 프레임 각각의 탑면은 동일 수평면 상에 위치할 수 있다.For example, the top surface of the body and the top surface of each of the first and second lead frames may be located on the same horizontal plane.

예를 들어, 상기 몸체의 탑면과 상기 제1 및 제2 리드 프레임 각각의 탑면은 플랫한 형상을 가질 수 있다.For example, a top surface of the body and a top surface of each of the first and second lead frames may have a flat shape.

예를 들어, 상기 발광 소자로부터 상기 제1 및 제2 리드 프레임의 하단까지의 열 저항은 5 ℃/W일 수 있다.For example, thermal resistance from the light emitting device to lower ends of the first and second lead frames may be 5 °C/W.

예를 들어, 상기 발광 소자는 발광 구조물을 포함할 수 있다.For example, the light emitting device may include a light emitting structure.

예를 들어, 상기 발광 구조물은 제1 도전형 반도체층; 상기 제1 도전형 반도체층 위에 배치된 활성층; 및 상기 활성층 위에 배치된 제2 도전형 반도체층을 포함할 수 있다. 이때, 발광 소자 패키지는 상기 제2 도전형 반도체층을 상기 제2 리드 프레임에 전기적으로 연결하는 제1 와이어를 더 포함하고, 상기 제1 도전형 반도체층은 상기 제1 리드 프레임에 전기적으로 연결될 수 있다. 또는, 상기 발광 소자 패키지는 상기 제1 도전형 반도체층을 상기 제1 리드 프레임에 전기적으로 연결하는 제1 와이어; 및 상기 제2 도전형 반도체층을 상기 제2 리드 프레임에 전기적으로 연결하는 제2 와이어를 더 포함할 수 있다.For example, the light emitting structure may include a first conductivity type semiconductor layer; an active layer disposed on the first conductivity-type semiconductor layer; and a second conductivity-type semiconductor layer disposed on the active layer. In this case, the light emitting device package may further include a first wire electrically connecting the second conductivity type semiconductor layer to the second lead frame, and the first conductivity type semiconductor layer may be electrically connected to the first lead frame. there is. Alternatively, the light emitting device package may include a first wire electrically connecting the first conductivity type semiconductor layer to the first lead frame; and a second wire electrically connecting the second conductivity type semiconductor layer to the second lead frame.

또는, 예를 들어 상기 발광 구조물은 제1 도전형 반도체층; 상기 제1 도전형 반도체층 아래에 배치된 활성층; 및 상기 활성층 아래에 배치된 제2 도전형 반도체층을 포함하고, 상기 발광 소자는 상기 발광 구조물 위에 배치된 기판; 상기 제1 도전형 반도체층 아래에 배치된 제1 전극; 및 상기 제2 도전형 반도체층 아래에 배치된 제2 전극을 더 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 발광 소자 패키지는 상기 제1 전극과 상기 제1 리드 프레임 사이에 배치된 제1 솔더부; 및 상기 제2 전극과 상기 제2 리드 프레임 사이에 배치된 제2 솔더부를 더 포함할 수 있다.Alternatively, for example, the light emitting structure may include a first conductivity type semiconductor layer; an active layer disposed under the first conductivity-type semiconductor layer; and a second conductivity-type semiconductor layer disposed under the active layer, wherein the light emitting device includes a substrate disposed on the light emitting structure; a first electrode disposed under the first conductivity type semiconductor layer; and a second electrode disposed under the second conductivity-type semiconductor layer. In this case, the light emitting device package includes a first solder part disposed between the first electrode and the first lead frame; and a second solder part disposed between the second electrode and the second lead frame.

예를 들어, 상기 몰딩 부재는 상기 발광 소자의 측부를 감싸며 상기 제1 및 제2 리드 프레임 위에 배치된 제1 몰딩 부재; 및 상기 발광 소자의 상부를 감싸며 상기 제1 몰딩 부재 위에 배치된 제2 몰딩 부재를 포함할 수 있다.For example, the molding member may include a first molding member disposed on the first and second lead frames and surrounding the side of the light emitting device; and a second molding member disposed on the first molding member and surrounding an upper portion of the light emitting device.

예를 들어, 상기 제1 몰딩 부재의 두께는 상기 발광 소자의 두께와 동일할 수 있다. 상기 몸체의 두께와 상기 제1 및 제2 리드 프레임의 두께는 서로 동일할 수 있다.For example, the thickness of the first molding member may be the same as that of the light emitting device. A thickness of the body and a thickness of the first and second lead frames may be equal to each other.

예를 들어, 상기 제1 리드 프레임은 제1-1 층; 및 상기 제1-1 층 위에 배치되며, 상기 제1-1 층보다 넓은 제1-2 층을 포함하고, 상기 제2 리드 프레임은 제2-1 층; 및 상기 제2-1 층 위에 배치되며, 상기 제2-1 층보다 넓은 제2-2 층을 포함할 수 있다. 상기 몸체는 상기 제1-1 층이 수용되는 제1-1 수용 공간; 상기 제2-1 층이 수용되는 제2-1 수용 공간; 상기 제1-1 수용 공간과 상기 제2-1 수용 공간을 서로 이격시키며 배치된 격벽; 상기 제1-2 층이 수용되며 상기 제1-1 수용 공간 위에 제1-2 수용 공간; 및 상기 제2-2 층이 수용되며 상기 제2-1 수용 공간 위에 제2-2 수용 공간을 포함할 수 있다.For example, the first lead frame may include a 1-1 layer; and a 1-2 layer disposed on the 1-1 layer and wider than the 1-1 layer, wherein the second lead frame includes a 2-1 layer; and a 2-2 layer disposed on the 2-1 layer and wider than the 2-1 layer. The body includes a 1-1 accommodating space in which the 1-1 layer is accommodated; a 2-1 accommodating space in which the 2-1 layer is accommodated; partition walls disposed to separate the 1-1 accommodating space and the 2-1 accommodating space from each other; a 1-2 accommodating space in which the 1-2 layer is accommodated and above the 1-1 accommodating space; and a 2-2 accommodation space above the 2-1 accommodation space in which the 2-2 layer is accommodated.

예를 들어, 상기 제1-2 층은 상기 제1-2 수용 공간의 바깥쪽으로 돌출된 적어도 하나의 제1 돌출부를 포함하고, 상기 제2-2 층은 상기 제2-2 수용 공간의 바깥쪽으로 돌출된 적어도 하나의 제2 돌출부를 포함하고, 상기 몸체는 상기 제1 및 제2 돌출부를 수용하는 복수의 블라인드 홀을 포함할 수 있다.For example, the 1-2 layer includes at least one first protrusion protruding outward of the 1-2 accommodating space, and the 2-2 layer extends outward of the 2-2 accommodating space. At least one protruding second protrusion may be included, and the body may include a plurality of blind holes accommodating the first and second protrusions.

예를 들어, 상기 제1-1 층과 상기 제1-2 층은 일체형이고, 상기 제2-1 층과 상기인 제2-2 층은 일체형일 수 있다.For example, the 1-1 layer and the 1-2 layer may be integral, and the 2-1 layer and the 2-2 layer may be integral.

예를 들어, 상기 발광 소자 패키지는, 상기 제1 및 제2 리드 프레임과 함께 상기 몰딩 부재를 가두는 댐을 더 포함할 수 있다.For example, the light emitting device package may further include a dam confining the molding member together with the first and second lead frames.

예를 들어, 상기 발광 소자 패키지는 상기 제1 또는 제2 리드 프레임 중 다른 하나 위에 배치된 제너 다이오드; 및 상기 제너 다이오드와 상기 제2 리드 프레임을 서로 전기적으로 연결하는 제3 와이어를 더 포함할 수 있다.For example, the light emitting device package may include a Zener diode disposed on the other one of the first or second lead frame; and a third wire electrically connecting the Zener diode and the second lead frame to each other.

예를 들어, 상기 제1 및 제2 리드 프레임은 상기 몸체에 사출 성형 방식으로 결합될 수 있다.For example, the first and second lead frames may be coupled to the body by injection molding.

다른 실시 예에 의한 조명 장치는, 상기 발광 소자 패키지를 포함할 수 있다.A lighting device according to another embodiment may include the light emitting device package.

실시 예에 따른 발광 소자 패키지 및 이를 포함하는 조명 장치는 세라믹이나 AlN의 기판을 갖는 기존의 발광 소자 패키지보다 저렴한 비용으로 제조될 수 있고, 우수한 강성, 사출성, 공정성을 갖고, 단위 시간당 제조되는 더 많은 개수로 제조될 수 있고, 높은 설계의 자유도를 갖고, 우수한 방열 특성을 가지며, 크랙과 분진 발생을 방지할 수 있도록 한다.A light emitting device package and a lighting device including the same according to an embodiment can be manufactured at a lower cost than a conventional light emitting device package having a substrate of ceramic or AlN, has excellent rigidity, ejectability, processability, and can be manufactured per unit time. It can be manufactured in large numbers, has a high degree of freedom in design, has excellent heat dissipation characteristics, and can prevent cracks and dust generation.

도 1은 일 실시 예에 의한 발광 소자 패키지의 전체 분해 사시도를 나타낸다.
도 2는 도 1에 도시된 발광 소자 패키지의 부분 결합 사시도를 나타낸다.
도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 발광 소자 패키지의 중간을 절개한 단면도를 나타낸다.
도 4는 도 1 내지 도 3에 도시된 제1 및 제2 리드 프레임과 몸체의 분해 사시도를 나타낸다.
도 5는 제1 및 제2 리드 프레임과 몸체의 부분 결합 사시도를 나타낸다.
도 6은 도 1 및 제2 리드 프레임과 몸체의 전체 결합 사시도를 나타낸다.
도 7a 내지 도 7c는 실시 예에 의한 발광 소자 패키지에 포함되는 발광 소자의 다양한 실시 예의 단면도를 나타낸다.
도 8은 다른 실시 예에 의한 발광 소자 패키지의 단면도를 나타낸다.
도 9a 내지 도 9d는 실시 예에 의한 발광 소자 패키지의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도를 나타낸다.
1 shows an overall exploded perspective view of a light emitting device package according to an embodiment.
FIG. 2 shows a partially combined perspective view of the light emitting device package shown in FIG. 1 .
FIG. 3 shows a cross-sectional view cut in the middle of the light emitting device package shown in FIGS. 1 and 2 .
4 shows an exploded perspective view of the first and second lead frames and bodies shown in FIGS. 1 to 3;
Figure 5 shows a partially coupled perspective view of the first and second lead frames and the body.
Figure 6 shows a perspective view of the entire coupling of the first and second lead frames and the body.
7a to 7c show cross-sectional views of various embodiments of a light emitting device included in a light emitting device package according to an embodiment.
8 shows a cross-sectional view of a light emitting device package according to another embodiment.
9A to 9D show process cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a light emitting device package according to an embodiment.

이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시 예를 들어 설명하고, 발명에 대한 이해를 돕기 위해 첨부도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시 예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시 예들에 한정되는 것으로 해석되지 않아야 한다. 본 발명의 실시 예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다.Hereinafter, examples will be described in order to explain the present invention in detail, and will be described in detail with reference to the accompanying drawings to help understanding of the present invention. However, embodiments according to the present invention can be modified in many different forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the embodiments described below. Embodiments of the present invention are provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art.

본 발명에 따른 실시 예의 설명에 있어서, 각 element의 " 상(위)" 또는 "하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 “상(위)" 또는 "하(아래)(on or under)”로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of the embodiment according to the present invention, in the case of being described as being formed on the "upper (above)" or "under (on or under)" of each element, the upper (upper) or lower (lower) (on or under) includes both elements formed by directly contacting each other or by placing one or more other elements between the two elements (indirectly). In addition, when expressed as “up (up)” or “down (down) (on or under)”, it may include the meaning of not only the upward direction but also the downward direction based on one element.

또한, 이하에서 이용되는 "제1" 및 "제2," "상/상부/위" 및 "하/하부/아래" 등과 같은 관계적 용어들은, 그런 실체 또는 요소들 간의 어떠한 물리적 또는 논리적 관계 또는 순서를 반드시 요구하거나 내포하지는 않으면서, 어느 한 실체 또는 요소를 다른 실체 또는 요소와 구별하기 위해서만 이용될 수도 있다.In addition, relational terms such as "first" and "second", "upper/upper/upper" and "lower/lower/lower" used below refer to any physical or logical relationship or It may be used only to distinguish one entity or element from another, without necessarily requiring or implying an order.

이하, 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A, 100B)를 데카르트 좌표계를 이용하여 설명하지만, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 즉, 데카르트 좌표계에 의하면, x축, y축 및 z축은 서로 직교하지만, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 즉, x축, y축, z축은 직교하는 대신에 서로 교차할 수 있다.Hereinafter, light emitting device packages 100A and 100B according to embodiments will be described using a Cartesian coordinate system, but embodiments are not limited thereto. That is, according to the Cartesian coordinate system, the x-axis, y-axis, and z-axis are orthogonal to each other, but the embodiment is not limited thereto. That is, the x-axis, y-axis, and z-axis may intersect each other instead of being orthogonal.

도 1은 일 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A)의 전체 분해 사시도를 나타내고, 도 2는 도 1에 도시된 발광 소자 패키지(100A)의 부분 결합 사시도를 나타내고, 도 3은 도 1 및 도 2에 도시된 발광 소자 패키지(100A)의 중간을 절개한 단면도를 나타낸다.1 shows an overall exploded perspective view of a light emitting device package 100A according to an embodiment, FIG. 2 shows a partial perspective view of the light emitting device package 100A shown in FIG. 1, and FIG. 3 is FIGS. 1 and 2 Shows a cross-sectional view cut in the middle of the light emitting device package (100A) shown in.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 일 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A)는 몸체(110), 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124), 발광 소자(130), 몰딩 부재(140), 제너 다이오드(150), 접착층(152), 제1 및 제3 와이어(162, 164)를 포함한다.1 to 3, the light emitting device package 100A according to an embodiment includes a body 110, first and second lead frames 122 and 124, a light emitting device 130, and a molding member 140. , a Zener diode 150, an adhesive layer 152, and first and third wires 162 and 164.

몸체(110)는 도전형 카본 블랙(carbon black)을 포함하는 블랙 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC:Epoxy Molding Compound)를 포함할 수 있다. 몸체(110)는 발광 소자 패키지(100A)의 베이스에 해당하는 부분이다.The body 110 may include a black epoxy molding compound (EMC) including conductive carbon black. The body 110 is a portion corresponding to the base of the light emitting device package 100A.

제1 리드 프레임(122)과 제2 리드 프레임(124)은 몸체(110)에 의해 서로 전기적으로 이격될 수 있다. 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)은 발광 소자(130)에 전원을 제공하는 역할을 한다. 또한, 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)은 발광 소자(130)에서 발생된 빛을 반사시켜 광 효율을 증가시키는 역할을 할 수도 있으며, 발광 소자(130)에서 발생된 열을 외부로 배출시키는 역할을 할 수도 있다. 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124) 각각은 구리(Cu:Copper) 등과 같이 전기적 전도성을 갖는 물질로 구현될 수 있으나, 실시 예는 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)의 특정한 재질에 국한되지 않는다.The first lead frame 122 and the second lead frame 124 may be electrically spaced apart from each other by the body 110 . The first and second lead frames 122 and 124 serve to provide power to the light emitting element 130 . In addition, the first and second lead frames 122 and 124 may serve to increase light efficiency by reflecting light generated from the light emitting element 130, and may transfer heat generated from the light emitting element 130 to the outside. It may also play a role in excretion. Each of the first and second lead frames 122 and 124 may be implemented with a material having electrical conductivity, such as copper (Cu:Copper), but the embodiment is specific to the first and second lead frames 122 and 124. Not limited to material.

제1 리드 프레임(122)은 제1-1 층(122L) 및 제1-2 층(122H)을 포함할 수 있다. 제1-1 층(122L)은 제1 리드 프레임(122)의 하층에 해당하고, 제1-2 층(122H)은 제1 리드 프레임(122)의 상층에 해당한다. 제1-2 층(122H)은 제1-1 층(122L) 위에 배치되며, 제1-1 층(122L)보다 넓은 면적을 가질 수 있다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 제1-1 층(122L)과 제1-2 층(122H)은 별개의 층인 것으로 도시되어 있지만, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 다른 실시 예에 의하면 도 3에 도시된 바와 같이 제1-1 층(122L)과 제1-2 층(122H)은 일체형일 수도 있다.The first lead frame 122 may include a first-first layer 122L and a first-second layer 122H. The first-first layer 122L corresponds to a lower layer of the first lead frame 122 , and the first-second layer 122H corresponds to an upper layer of the first lead frame 122 . The 1-2nd layer 122H is disposed on the 1-1st layer 122L and may have a larger area than the 1-1st layer 122L. Referring to FIGS. 1 and 2 , the 1-1st layer 122L and the 1-2nd layer 122H are shown as separate layers, but the embodiment is not limited thereto. According to another embodiment, as shown in FIG. 3 , the 1-1st layer 122L and the 1-2nd layer 122H may be integrated.

제2 리드 프레임(124)은 제2-1 층(124L) 및 제2-2 층(124H)을 포함할 수 있다. 제2-1 층(124L)은 제2 리드 프레임(124)의 하층에 해당하고, 제2-2 층(124H)은 제2 리드 프레임(124)의 상층에 해당한다. 제2-2 층(124H)은 제2-1 층(124L) 위에 배치되며, 제2-1 층(124L)보다 넓은 면적을 가질 수 있다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 제2-1 층(124L)과 제2-2 층(124H)은 별개의 층인 것으로 도시되어 있지만, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 다른 실시 예에 의하면 도 3에 도시된 바와 같이 제2-1 층(124L)과 제2-2 층(124H)은 일체형일 수도 있다.The second lead frame 124 may include a 2-1 layer 124L and a 2-2 layer 124H. The 2-1st layer 124L corresponds to the lower layer of the second lead frame 124, and the 2-2nd layer 124H corresponds to the upper layer of the second lead frame 124. The 2-2nd layer 124H is disposed on the 2-1st layer 124L and may have a larger area than the 2-1st layer 124L. Referring to FIGS. 1 and 2 , the 2-1st layer 124L and the 2-2nd layer 124H are shown as separate layers, but the embodiment is not limited thereto. According to another embodiment, as shown in FIG. 3 , the 2-1st layer 124L and the 2-2nd layer 124H may be integrated.

도 4는 도 1 내지 도 3에 도시된 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)과 몸체(110)의 분해 사시도를 나타내고, 도 5는 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)과 몸체(110)의 부분 결합 사시도를 나타내고, 도 6은 도 1 및 제2 리드 프레임(122, 124)과 몸체(110)의 전체 결합 사시도를 나타낸다.4 shows an exploded perspective view of the first and second lead frames 122 and 124 and the body 110 shown in FIGS. 1 to 3, and FIG. 5 shows the first and second lead frames 122 and 124 and Shows a partially combined perspective view of the body 110, Figure 6 shows a perspective view of the entire coupling of the first and second lead frames 122 and 124 and the body 110.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 몸체(110)는 제1-1 및 제2-1 수용 공간(H11, H21), 제1-2 및 제2-2 수용 공간(H21, H22) 및 격벽(B)을 포함할 수 있다.4 to 6, the body 110 includes first-first and second-first accommodating spaces H11 and H21, first-second and second-second accommodating spaces H21 and H22, and partition walls ( B) can be included.

도 4를 참조하면, 제1-1 수용 공간(H11)은 제1 리드 프레임(122)의 제1-1 층(122L)이 수용되는 공간을 형성하며, 제2-1 수용 공간(H21)은 제2 리드 프레임(124)의 제2-1 층(124L)이 수용되는 공간을 형성한다. 여기서, 제1-1 수용 공간(H11)과 제2-1 수용 공간(H21)은 몸체(110)의 격벽(B)에 의해 서로 이격되어 배치될 수 있다. 따라서, 도 5에 도시된 바와 같이 제1-1 수용 공간(H11)에 수용된 제1 리드 프레임(122)의 제1-1 층(122L)과 제2-1 수용 공간(H21)에 수용된 제2 리드 프레임(124)의 제2-1 층(124L)은 몸체(110)의 격벽(B)에 의해 서로 전기적으로 이격될 수 있다.Referring to FIG. 4 , the 1-1 accommodation space H11 forms a space in which the 1-1 layer 122L of the first lead frame 122 is accommodated, and the 2-1 accommodation space H21 is A space in which the 2-1 layer 124L of the second lead frame 124 is accommodated is formed. Here, the 1-1 accommodating space H11 and the 2-1 accommodating space H21 may be spaced apart from each other by the partition wall B of the body 110 . Accordingly, as shown in FIG. 5 , the 1-1 layer 122L of the first lead frame 122 accommodated in the 1-1 accommodation space H11 and the second layer 122L accommodated in the 2-1 accommodation space H21 The 2-1 layer 124L of the lead frame 124 may be electrically spaced apart from each other by the barrier rib B of the body 110 .

도 5를 참조하면, 제1-2 수용 공간(H21)은 제1 리드 프레임(122)의 제1-2 층(122H)이 수용되는 공간을 형성하며, 제1-1 수용 공간(H11) 위에 위치한다. 제2-2 수용 공간(H22)은 제2 리드 프레임(124)의 제2-2 층(124H)이 수용되는 공간을 형성하며, 제2-1 수용 공간(H21) 위에 위치한다. 여기서, 제1-2 수용 공간(H12)과 제2-2 수용 공간(H22)은 몸체(110)의 격벽(B)에 의해 서로 이격되어 배치될 수 있다. 따라서, 도 6에 도시된 바와 같이, 제1-2 수용 공간(H12)에 수용된 제1 리드 프레임(122)의 제1-2 층(122H)과 제2-2 수용 공간(H22)에 수용된 제2 리드 프레임(124)의 제2-2 층(124H)은 격벽(B)에 의해 서로 전기적으로 이격될 수 있다.Referring to FIG. 5 , the 1-2 accommodation space H21 forms a space in which the 1-2 layers 122H of the first lead frame 122 are accommodated, and above the 1-1 accommodation space H11. Located. The 2-2 accommodation space H22 forms a space in which the 2-2 layer 124H of the second lead frame 124 is accommodated, and is located above the 2-1 accommodation space H21. Here, the first-second accommodating space H12 and the second-second accommodating space H22 may be spaced apart from each other by the partition wall B of the body 110 . Therefore, as shown in FIG. 6, the first-second layer 122H of the first lead frame 122 accommodated in the first-second accommodation space H12 and the second layer 122H accommodated in the second-second accommodation space H22. The 2-2nd layer 124H of the 2-lead frame 124 may be electrically spaced apart from each other by the barrier rib B.

또한, 제1 리드 프레임(122)의 제1-2 층(122H)은 제1-2 수용 공간(H12)의 바깥쪽으로 돌출된 적어도 하나의 제1 돌출부(P1)를 포함한다. 제2 리드 프레임(124)의 제2-2 층(124H)은 제2-2 수용 공간(H22)의 바깥쪽으로 돌출된 적어도 하나의 제2 돌출부(P2)를 포함할 수 있다.In addition, the first-second layer 122H of the first lead frame 122 includes at least one first protrusion P1 protruding outward from the first-second accommodating space H12. The 2-2nd layer 124H of the second lead frame 124 may include at least one second protrusion P2 protruding outward from the 2-2 accommodating space H22.

몸체(110)는 복수의 블라인드 홀(blind hole)(H31, H32)을 더 포함할 수 있다. 제1 블라인드 홀(H31)은 제1 돌출부(P1)를 수용하며, 제2 블라인드 홀(H32)은 제2 돌출부(P2)를 수용할 수 있는 형상을 갖는다.The body 110 may further include a plurality of blind holes H31 and H32. The first blind hole H31 accommodates the first protrusion P1, and the second blind hole H32 has a shape capable of accommodating the second protrusion P2.

제1 블라인드 홀(H31)과 제1 돌출부(P1) 간의 결합 및 제2 블라인드 홀(H32)과 제2 돌출부(P2) 간의 결합에 의해 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)은 몸체(110)에 안정적으로 지지되어 고정될 수 있으며, 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)과 몸체(110) 간의 접촉 면적이 넓어져서 방열이 더 우수해질 수 있다.The first and second lead frames 122 and 124 are formed by the coupling between the first blind hole H31 and the first protrusion P1 and the coupling between the second blind hole H32 and the second protrusion P2. 110), and the contact area between the first and second lead frames 122 and 124 and the body 110 is widened so that heat dissipation can be improved.

실시 예에 의하면, 몸체(110)가 블랙 EMC로 구현됨에 따라, 도 6에 도시된 바와 같이, 몸체(110)의 탑면(110T)은 플랫(flat)한 형상을 가질 수 있다.According to the embodiment, as the body 110 is implemented with black EMC, as shown in FIG. 6 , the top surface 110T of the body 110 may have a flat shape.

게다가, 제1 리드 프레임(122)의 탑면(122HT)과 제2 리드 프레임(124)의 탑면(124HT)도 플랫한 형상을 가질 수 있다. 이 경우, 몸체(110)의 탑면(110T)과 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)의 탑면(122HT, 124HT)은 서로 동일 수평면 상에 위치할 수 있다.In addition, the top surface 122HT of the first lead frame 122 and the top surface 124HT of the second lead frame 124 may also have a flat shape. In this case, the top surface 110T of the body 110 and the top surfaces 122HT and 124HT of the first and second lead frames 122 and 124 may be located on the same horizontal plane.

또한, 몸체(110)는 제1 두께(T1)를 가질 수 있고, 제1 리드 프레임(122)과 제2 리드 프레임(124) 각각은 제2 두께(T2)를 가질 수 있다. 도시된 바와 같이, 제1 리드 프레임(122)의 제2 두께(T2)는 제1-1 층(122L)과 제1-2 층(122H)의 각 두께를 합한 두께에 해당하고, 제2 리드 프레임(124)의 제2 두께(T2)는 제2-1 층(124L)과 제2-2 층(124H)의 각 두께를 합한 두께에 해당한다.In addition, the body 110 may have a first thickness T1, and each of the first lead frame 122 and the second lead frame 124 may have a second thickness T2. As shown, the second thickness T2 of the first lead frame 122 corresponds to the sum of the respective thicknesses of the 1-1st layer 122L and the 1-2nd layer 122H, and the second lead frame 122 The second thickness T2 of the frame 124 corresponds to the sum of the respective thicknesses of the 2-1st layer 124L and the 2-2nd layer 124H.

또한, 도시된 바와 같이, 제1 리드 프레임(122)의 제2 두께(T2)와 제2 리드 프레임(124)의 제2 두께(T2)는 서로 동일할 수 있다. 그러나, 다른 실시 예에 의하면, 제1 리드 프레임(122)의 제2 두께(T2)와 제2 리드 프레임(124)의 제2 두께(T2)는 서로 다를 수도 있다.Also, as shown, the second thickness T2 of the first lead frame 122 and the second thickness T2 of the second lead frame 124 may be the same. However, according to another embodiment, the second thickness T2 of the first lead frame 122 and the second thickness T2 of the second lead frame 124 may be different from each other.

또한, 몸체(110)의 제1 두께(T1)와 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124) 각각의 제2 두께(T2)는 서로 동일할 수도 있고 서로 다를 수도 있다.In addition, the first thickness T1 of the body 110 and the second thickness T2 of each of the first and second lead frames 122 and 124 may be the same as or different from each other.

또한, 제조 공정에서 후술되는 바와 같이, 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)은 몸체(110)에 사출 성형(injection molding) 방식으로 결합될 수 있다.In addition, as will be described later in the manufacturing process, the first and second lead frames 122 and 124 may be coupled to the body 110 by injection molding.

또한, 비록 도시되지는 않았지만, 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)의 양쪽면은 도금 처리될 수 있다. 즉, 제1 리드 프레임(122)에서 제1-1 층(122L)의 하부면과 제1-2 층(122H)의 상부면(122HT) 및 제2 리드 프레임(124)에서 제2-1 층(124L)의 하부면과 제2-2 층(124H)의 상부면(124HT) 각각은 은(Ag)이나 금(Au)으로 도금처리될 수 있다.Also, although not shown, both surfaces of the first and second lead frames 122 and 124 may be plated. That is, the lower surface of the 1-1 layer 122L in the first lead frame 122 and the upper surface 122HT of the 1-2 layer 122H and the 2-1 layer in the second lead frame 124 Each of the lower surface of the layer 124L and the upper surface 124HT of the second-second layer 124H may be plated with silver (Ag) or gold (Au).

한편, 다시 도 1 내지 도 3을 참조하면, 발광 소자(130)는 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124) 중 적어도 하나의 위에 배치될 수 있다.Meanwhile, referring back to FIGS. 1 to 3 , the light emitting device 130 may be disposed on at least one of the first and second lead frames 122 and 124 .

또한, 도 1 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 발광 소자(130)는 수직형 본딩 구조를 가질 수 있으나, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 즉, 다른 실시 예에 의하면, 발광 소자(130)는 수평형 본딩 구조 또는 플립칩형 본딩 구조를 가질 수 있다.In addition, as shown in FIGS. 1 to 3 , the light emitting device 130 may have a vertical bonding structure, but the embodiment is not limited thereto. That is, according to another embodiment, the light emitting device 130 may have a horizontal bonding structure or a flip chip bonding structure.

도 7a 내지 도 7c는 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A)에 포함되는 발광 소자(130)의 다양한 실시 예(130A, 130B, 130C)의 단면도를 나타낸다.7A to 7C show cross-sectional views of various embodiments 130A, 130B, and 130C of the light emitting device 130 included in the light emitting device package 100A according to the embodiment.

도 1 내지 도 3에 도시된 발광 소자(130)는 도 7a에 도시된 바와 같이 수직형 본딩 구조를 가질 수 있다. 그러나, 다른 실시 예에 의하면, 발광 소자(130)는 도 7b에 도시된 바와 같이 수평형 본딩 구조를 가질 수도 있고 도 7c에 도시된 바와 같이 플립칩형 본딩 구조를 가질 수도 있다.The light emitting device 130 shown in FIGS. 1 to 3 may have a vertical bonding structure as shown in FIG. 7A . However, according to another embodiment, the light emitting device 130 may have a horizontal bonding structure as shown in FIG. 7B or a flip chip bonding structure as shown in FIG. 7C.

도 7a 내지 도 7c에 도시된 발광 소자(130:130A 내지 130C)는 발광 구조물(134A, 134B, 134C)을 포함할 수 있다.The light emitting devices 130: 130A to 130C illustrated in FIGS. 7A to 7C may include light emitting structures 134A, 134B, and 134C.

본딩 구조의 상이함에 무관하게, 발광 구조물(134A, 134B, 134C)은 제1 도전형 반도체층(134A-1, 134B-1, 134C-1), 활성층(134A-2, 134B-2, 134C-2) 및 제2 도전형 반도체층(134A-3, 134B-3, 134C-3)을 포함할 수 있다. 발광 구조물(134A, 134B, 134C)은 서로 다른 구성 물질을 가질 수 있으며 이에 대해서는 다음과 같이 설명한다.Regardless of the difference in bonding structure, the light emitting structures 134A, 134B, and 134C include the first conductive semiconductor layers 134A-1, 134B-1, and 134C-1, and the active layers 134A-2, 134B-2, and 134C- 2) and second conductivity-type semiconductor layers 134A-3, 134B-3, and 134C-3. The light emitting structures 134A, 134B, and 134C may have different constituent materials, which will be described as follows.

먼저, 도 7a에 도시된 수직형 본딩 구조를 갖는 발광 소자(130A)는 지지 기판(132), 발광 구조물(134A) 및 오믹 접촉층(136)을 포함할 수 있다.First, the light emitting device 130A having the vertical bonding structure illustrated in FIG. 7A may include a support substrate 132 , a light emitting structure 134A, and an ohmic contact layer 136 .

지지 기판(132)은 발광 구조물(134A)를 지지하는 역할을 하며, 도전형 물질을 포함할 수 있다. 이는, 지지 기판(132) 위에 배치된 제1 도전형 반도체층(134A-1)이 지지 기판(132)을 통해 제1 리드 프레임(122)에 전기적으로 연결되도록 하기 위함이다.The support substrate 132 serves to support the light emitting structure 134A and may include a conductive material. This is to ensure that the first conductivity-type semiconductor layer 134A-1 disposed on the support substrate 132 is electrically connected to the first lead frame 122 through the support substrate 132.

예를 들어, 지지 기판(132)은 사파이어(Al203), GaN, SiC, ZnO, GaP, InP, Ga203, GaAs 및 Si 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 이에 국한되지 않는다. 만일, 지지 기판(132)이 도전형일 경우, 지지 기판(132)의 전체는 제1 전극의 역할을 할 수 있으므로 전기 전도도가 우수한 금속을 사용할 수 있고, 발광 소자(130A)의 작동시 발생하는 열을 충분히 발산시킬 수 있어야 하므로 열전도도가 높은 금속을 사용할 수 있다. 이를 위해, 지지 기판(132)은 몰리브덴(Mo), 실리콘(Si), 텅스텐(W), 구리(Cu) 및 알루미늄(Al)로 구성되는 군으로부터 선택되는 물질 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있으며, 또한, 금(Au), 구리합금(Cu Alloy), 니켈(Ni), 구리-텅스텐(Cu-W), 캐리어 웨이퍼(예: GaN, Si, Ge, GaAs, ZnO, SiGe, SiC, SiGe, Ga2O3 등) 등을 선택적으로 포함할 수 있다.For example, the support substrate 132 may include at least one of sapphire (Al 2 O 3 ), GaN, SiC, ZnO, GaP, InP, Ga 2 O 3 , GaAs, and Si, but is not limited thereto. If the support substrate 132 is conductive, the entire support substrate 132 can serve as a first electrode, so a metal having excellent electrical conductivity can be used, and heat generated during operation of the light emitting element 130A can be used. Since it must be able to sufficiently dissipate, a metal with high thermal conductivity can be used. To this end, the support substrate 132 may be made of a material selected from the group consisting of molybdenum (Mo), silicon (Si), tungsten (W), copper (Cu) and aluminum (Al) or an alloy thereof, In addition, gold (Au), copper alloy (Cu Alloy), nickel (Ni), copper-tungsten (Cu-W), carrier wafers (eg GaN, Si, Ge, GaAs, ZnO, SiGe, SiC, SiGe, Ga 2 O 3 , etc.) and the like may optionally be included.

또한, 지지 기판(132)이 반사성 물질로 구현될 경우, 발광 구조물(134A)에서 방출되어 상부나 측부로 향하지 않고 지지 기판(134A)을 향하는 광을 반사시켜 광 추출 효율을 증가시킬 수 있다.In addition, when the support substrate 132 is made of a reflective material, light emitted from the light emitting structure 134A and directed toward the support substrate 134A instead of toward the top or side may be reflected, thereby increasing light extraction efficiency.

또는, 지지 기판(132)과 발광 구조물(134A) 사이에 반사층(미도시)이 별도로 더 배치될 수도 있다.Alternatively, a reflective layer (not shown) may be additionally disposed between the support substrate 132 and the light emitting structure 134A.

반사층은 활성층(134A-2)에서 방출된 빛을 상부로 반사시키는 역할을 하며, 지지 기판(132) 위에 배치되며, 약 2500 옹스르통(Å)의 두께를 가질 수 있다. 예를 들어, 반사층은 알루미늄(Al), 은(Ag), 니켈(Ni), 백금(Pt), 로듐(Rh), 혹은 Al이나 Ag이나 Pt나 Rh를 포함하는 합금을 포함하는 금속층으로 이루어질 수 있다. 알루미늄이나 은 등은 활성층(134A-2)에서 발생된 빛을 효과적으로 반사하여 발광 소자(130A)의 광 추출 효율을 크게 개선시킬 수 있다. 또한, 이러한 반사층은 다양한 광 반사 패턴을 가질 수 있다. 광 반사 패턴은 반구형 양각 형태를 가질 수도 있지만, 음각 형태나 그 밖의 다양한 형태를 가질 수 있다.The reflective layer serves to reflect light emitted from the active layer 134A-2 upward, is disposed on the support substrate 132, and may have a thickness of about 2500 Angstroms (Å). For example, the reflective layer may be formed of a metal layer including aluminum (Al), silver (Ag), nickel (Ni), platinum (Pt), rhodium (Rh), or an alloy including Al or Ag or Pt or Rh. there is. Aluminum, silver, or the like can effectively reflect light generated in the active layer 134A- 2 to greatly improve the light extraction efficiency of the light emitting device 130A. In addition, this reflective layer may have various light reflection patterns. The light reflection pattern may have a hemispherical embossed shape, but may have a negative shape or other various shapes.

제1 도전형 반도체층(134A-1)은 지지 기판(132) 위에 배치된다. 제1 도전형 반도체층(134A-1)은 제1 도전형 도펀트가 도핑된 3족-5족 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제1 도전형이 n형일 경우 n형 도펀트로서, Si, Ge, Sn, Se, Te를 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The first conductivity type semiconductor layer 134A-1 is disposed on the support substrate 132. The first conductivity-type semiconductor layer 134A-1 may be implemented as a Group 3-5 compound semiconductor doped with a first conductivity-type dopant. When the first conductivity-type is n-type, the n-type dopant includes Si, Ge, It may include Sn, Se, and Te, but is not limited thereto.

제1 도전형 반도체층(134A-1)은 예를 들어, AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 제1 도전형 반도체층(134A-1)은 GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP 중 어느 하나 이상으로 형성될 수 있다.The first conductivity type semiconductor layer 134A-1 has, for example, a composition formula of Al x In y Ga (1-xy) N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1) It may include a semiconductor material having. The first conductive semiconductor layer 134A-1 may be formed of one or more of GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, and InP. .

활성층(134A-2)은 제1 도전형 반도체층(134A-1) 위에 배치된다. 활성층(134A-2)은 제1 도전형 반도체층(134A-1)을 통해서 주입되는 전자와 제2 도전형 반도체층(134A-3)을 통해서 주입되는 정공이 서로 만나서, 활성층(134A-2)을 이루는 물질 고유의 에너지 밴드에 의해서 결정되는 에너지를 갖는 빛을 방출하는 층이다.The active layer 134A-2 is disposed on the first conductive semiconductor layer 134A-1. In the active layer 134A-2, electrons injected through the first conductivity-type semiconductor layer 134A-1 and holes injected through the second conductivity-type semiconductor layer 134A-3 meet each other to form the active layer 134A-2. It is a layer that emits light with an energy determined by the energy band of the material that makes up the material.

활성층(134A-2)은 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 단일 양자 우물 구조, 다중 양자 우물 구조(MQW: Multi Quantum Well), 양자 선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.The active layer 134A-2 may be a single well structure, a multi well structure, a single quantum well structure, a multi quantum well (MQW) structure, a quantum wire structure, or a quantum dot structure. At least one can be formed.

활성층(134A-2)의 우물층/장벽층은 InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 우물층은 장벽층의 밴드 갭보다 작은 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.The well layer/barrier layer of the active layer 134A-2 is formed in a pair structure of one or more of InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, and GaP(InGaP)/AlGaP. It can be, but is not limited to. The well layer may be formed of a material having a band gap smaller than that of the barrier layer.

활성층(134A-2)의 위 또는/및 아래에는 도전형 클래드층(미도시)이 형성될 수 있다. 도전형 클래드층은 활성층(134A-2)의 장벽층의 밴드 갭보다 더 넓은 밴드 갭을 가지는 반도체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도전형 클래드층은 GaN, AlGaN, InAlGaN 또는 초격자 구조 등을 포함할 수 있다. 또한, 도전형 클래드층은 n형 또는 p형으로 도핑될 수 있다.A conductive cladding layer (not shown) may be formed above or/and below the active layer 134A-2. The conductive cladding layer may be formed of a semiconductor having a band gap wider than that of the barrier layer of the active layer 134A-2. For example, the conductive cladding layer may include GaN, AlGaN, InAlGaN, or a superlattice structure. Also, the conductive cladding layer may be doped with n-type or p-type.

제2 도전형 반도체층(134A-3)은 활성층(134A-2) 위에 배치된다. 제2 도전형 반도체층(134A-3)은 반도체 화합물로 형성될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(134A-3)은 3족-5족, 2족-6족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 예를 들어 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 만일, 제2 도전형이 p형 일 경우, 제2 도전형 반도체층(134A-3)은 p형 도펀트로서, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있다.The second conductivity type semiconductor layer 134A-3 is disposed on the active layer 134A-2. The second conductivity type semiconductor layer 134A-3 may be formed of a semiconductor compound. The second conductive semiconductor layer 134A-3 may be implemented with a compound semiconductor of group 3-5, group 2-6, etc., for example, In x Al y Ga 1 -x- y N (0≤ It may include a semiconductor material having a composition formula of x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1). If the second conductivity type is p-type, the second conductivity-type semiconductor layer 134A-3 may include Mg, Zn, Ca, Sr, Ba, or the like as a p-type dopant.

오믹 접촉층(136)은 제2 도전형 반도체층(134A-3) 위에 배치된다. 제2 도전형 반도체층(134A-3)이 p형 반도체층일 경우 불순물 도핑 농도가 낮아 접촉 저항이 높으며 그로 인해 오믹 특성이 좋지 못할 수 있으므로 이러한 오믹 특성을 개선하기 위해, 발광 소자(130A)는 오믹 접촉층(136)을 더 포함할 수 있다. 제2 도전형 반도체층(134A-3)의 위에 배치되는 오믹 접촉층(136)은 금속 및 투명 전도 산화막(TCO:Transparent Conductive Oxide) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 오믹 접촉층(136)은 약 200 옹스트롱(Å)의 두께일 수 있으며, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IZON(IZO Nitride), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, 및 Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으며, 이러한 재료에 한정되는 않는다.The ohmic contact layer 136 is disposed on the second conductivity type semiconductor layer 134A-3. When the second conductivity-type semiconductor layer 134A-3 is a p-type semiconductor layer, the impurity doping concentration is low and the contact resistance is high. As a result, the ohmic characteristics may be poor. To improve such ohmic characteristics, the light emitting element 130A is A contact layer 136 may be further included. The ohmic contact layer 136 disposed on the second conductive semiconductor layer 134A-3 may include at least one of a metal and a transparent conductive oxide (TCO). For example, the ohmic contact layer 136 may be about 200 Angstroms (Å) thick, and may include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium zinc tin oxide (IZTO), or indium aluminum (IAZO). zinc oxide), indium gallium zinc oxide (IGZO), indium gallium tin oxide (IGTO), aluminum zinc oxide (AZO), antimony tin oxide (ATO), gallium zinc oxide (GZO), IZO Nitride (IZON), Al -Ga ZnO), IGZO (In-Ga ZnO), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au, and Ni/IrOx/Au/ITO, Ag, Ni, Cr, Ti, Al, It may be formed including at least one of Rh, Pd, Ir, Sn, In, Ru, Mg, Zn, Pt, Au, and Hf, but is not limited to these materials.

도 1 내지 도 3의 경우 발광 소자(130A)가 제1 리드 프레임(122) 위에 배치된 것으로 도시되어 있지만, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 즉, 다른 실시 예에 의하면, 발광 소자(130A)는 제2 리드 프레임(124) 위에 배치될 수도 있다.In the case of FIGS. 1 to 3 , the light emitting device 130A is illustrated as being disposed on the first lead frame 122 , but the embodiment is not limited thereto. That is, according to another embodiment, the light emitting device 130A may be disposed on the second lead frame 124 .

또한, 전술한 바와 같이, 제1 도전형 반도체층(134A-1)은 지지 기판(132)을 통해 제1 리드 프레임(122)에 전기적으로 연결되므로, 와이어가 필요하지 않다. 즉, 지지 기판(132)은 제1 전극의 역할을 수행할 수 있다. 반면에, 제2 도전형 반도체층(134A-3)은 제1 와이어(162)에 의해 제2 리드 프레임(124)에 전기적으로 연결될 수 있다.Also, as described above, since the first conductivity type semiconductor layer 134A-1 is electrically connected to the first lead frame 122 through the supporting substrate 132, no wire is required. That is, the support substrate 132 may serve as a first electrode. On the other hand, the second conductivity type semiconductor layer 134A-3 may be electrically connected to the second lead frame 124 through the first wire 162.

도 1 내지 도 3 및 도 7a에 도시된 제1 와이어(162)는 제2 도전형 반도체층(134A-3)에 직접 연결된 것으로 도시되어 있지만, 실시 예는 이에 국한되지 않는다. 즉, 다른 실시 예에 의하면, 제1 와이어(162)는 오믹 접촉층(136)을 통해 제2 도전형 반도체층(134A-3)에 전기적으로 연결될 수도 있다. 이 경우, 오믹 접촉층(136)은 제2 전극의 역할을 수행할 수 있다.Although the first wire 162 illustrated in FIGS. 1 to 3 and 7A is directly connected to the second conductive semiconductor layer 134A-3, the embodiment is not limited thereto. That is, according to another embodiment, the first wire 162 may be electrically connected to the second conductivity type semiconductor layer 134A-3 through the ohmic contact layer 136. In this case, the ohmic contact layer 136 may serve as a second electrode.

다음으로, 도 7b에 도시된 수평형 본딩 구조를 갖는 발광 소자(130B)는 기판(131), 발광 구조물(134B), 제1 및 제2 전극(135, 137)을 포함할 수 있다.Next, the light emitting device 130B having the horizontal bonding structure shown in FIG. 7B may include a substrate 131 , a light emitting structure 134B, and first and second electrodes 135 and 137 .

기판(131)은 도전형 물질 또는 비도전형 물질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 기판(131)은 사파이어(Al203), GaN, SiC, ZnO, GaP, InP, Ga203, GaAs 및 Si 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The substrate 131 may include a conductive material or a non-conductive material. For example, the substrate 131 may include at least one of sapphire (Al 2 0 3 ), GaN, SiC, ZnO, GaP, InP, Ga 2 0 3 , GaAs, and Si.

예를 들어, 기판(131)이 실리콘 기판일 경우, (111) 결정면을 주면으로서 가질 수 있다. 실리콘 기판일 경우, 대구경이 용이하며 열전도도가 우수하지만, 실리콘과 질화물계 발광 구조물(134B) 간의 열 팽창 계수의 차이 및 격자 부정합에 의해 발광 구조물(134B)에 크랙(crack)이 발생하는 등의 문제점이 발생할 수도 있다.For example, when the substrate 131 is a silicon substrate, it may have a (111) crystal plane as a main surface. In the case of a silicon substrate, a large diameter is easy and the thermal conductivity is excellent, but cracks occur in the light emitting structure 134B due to the difference in thermal expansion coefficient and lattice mismatch between the silicon and the nitride-based light emitting structure 134B. Problems may arise.

이를 방지하기 위해, 기판(131)과 발광 구조물(134B)의 사이에 버퍼층(또는, 전이층)(미도시)이 배치될 수 있다. 버퍼층은 예를 들어 Al, In, N 및 Ga로 구성되는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 물질을 포함할 수 있으나, 이에 국한되지 않는다. 또한, 버퍼층은 단층 또는 다층 구조를 가질 수도 있다.To prevent this, a buffer layer (or transition layer) (not shown) may be disposed between the substrate 131 and the light emitting structure 134B. The buffer layer may include, for example, at least one material selected from the group consisting of Al, In, N, and Ga, but is not limited thereto. Also, the buffer layer may have a single layer or multilayer structure.

제1 도전형 반도체층(134B-1)은 기판(131) 위에 배치된다. 제1 도전형 반도체층(134B-1)은 제1 도전형 도펀트가 도핑된 Ⅲ-Ⅴ 족 또는 Ⅱ-Ⅵ 족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 제1 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제1 도전형 반도체층(134B-1)이 n형 반도체층인 경우, 제1 도전형 도펀트는 n형 도펀트로서, Si, Ge, Sn, Se, Te를 포함할 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The first conductivity-type semiconductor layer 134B-1 is disposed on the substrate 131. The first conductivity type semiconductor layer 134B-1 may be implemented with a compound semiconductor such as a group III-V or group II-VI doped with a first conductivity type dopant, and may be doped with a first conductivity type dopant. When the first conductivity-type semiconductor layer 134B-1 is an n-type semiconductor layer, the first conductivity-type dopant is an n-type dopant and may include Si, Ge, Sn, Se, or Te, but is not limited thereto.

예를 들어, 제1 도전형 반도체층(134B-1)은 AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 제1 도전형 반도체층(134B-1)은 GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, InP 중 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.For example, the first conductivity-type semiconductor layer 134B-1 has a composition formula of Al x In y Ga (1-xy) N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1) It may include a semiconductor material having. The first conductive semiconductor layer 134B-1 may include one or more of GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN, AlGaAs, InGaAs, AlInGaAs, GaP, AlGaP, InGaP, AlInGaP, and InP. .

활성층(134B-2)은 제1 도전형 반도체층(134B-1) 위에 배치된다. 활성층(134B-2)은 제1 도전형 반도체층(134B-1)을 통해서 주입되는 전자(또는, 정공)와 제2 도전형 반도체층(134B-3)을 통해서 주입되는 정공(또는, 전자)이 서로 만나서, 활성층(134B-2)을 이루는 물질 고유의 에너지 밴드에 의해서 결정되는 에너지를 갖는 빛을 방출하는 층이다.The active layer 134B-2 is disposed on the first conductive semiconductor layer 134B-1. The active layer 134B-2 includes electrons (or holes) injected through the first conductivity-type semiconductor layer 134B-1 and holes (or electrons) injected through the second conductivity-type semiconductor layer 134B-3. These layers meet each other and emit light having an energy determined by an energy band specific to the material constituting the active layer 134B-2.

활성층(134B-2)은 단일 우물 구조, 다중 우물 구조, 단일 양자 우물 구조, 다중 양자 우물 구조(MQW: Multi Quantum Well), 양자 선(Quantum-Wire) 구조, 또는 양자 점(Quantum Dot) 구조 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.The active layer 134B-2 may be a single well structure, a multi well structure, a single quantum well structure, a multi quantum well (MQW) structure, a quantum-wire structure, or a quantum dot structure. At least one can be formed.

활성층(134B-2)의 우물층/장벽층은 InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나 이상의 페어 구조로 형성될 수 있으나 이에 한정되지 않는다. 우물층은 장벽층의 밴드갭 에너지보다 낮은 밴드갭 에너지를 갖는 물질로 형성될 수 있다.The well layer/barrier layer of the active layer 134B-2 is formed in a pair structure of one or more of InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, and GaP(InGaP)/AlGaP. It can be, but is not limited to. The well layer may be formed of a material having a lower band gap energy than that of the barrier layer.

활성층(134B-2)의 위 또는/및 아래에는 도전형 클래드층(미도시)이 형성될 수 있다. 도전형 클래드층은 활성층(134B-2)의 장벽층의 밴드갭 에너지보다 더 높은 밴드갭 에너지를 갖는 반도체로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도전형 클래드층은 GaN, AlGaN, InAlGaN 또는 초격자 구조 등을 포함할 수 있다. 또한, 도전형 클래드층은 n형 또는 p형으로 도핑될 수 있다.A conductive cladding layer (not shown) may be formed above or/and below the active layer 134B-2. The conductive cladding layer may be formed of a semiconductor having a bandgap energy higher than that of the barrier layer of the active layer 134B-2. For example, the conductive cladding layer may include GaN, AlGaN, InAlGaN, or a superlattice structure. Also, the conductive cladding layer may be doped with n-type or p-type.

제2 도전형 반도체층(134B-3)은 활성층(134B-2) 위에 배치된다. 제2 도전형 반도체층(134B-3)은 반도체 화합물로 형성될 수 있으며, Ⅲ-Ⅴ 족 또는 Ⅱ-Ⅵ 족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있다. 예컨대, 제2 도전형 반도체층(134B-3)은 InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 제2 도전형 반도체층(134B-3)에는 제2 도전형 도펀트가 도핑될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(134B-3)이 p형 반도체층인 경우, 제2 도전형 도펀트는 p형 도펀트로서, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등을 포함할 수 있다.The second conductivity type semiconductor layer 134B-3 is disposed on the active layer 134B-2. The second conductivity-type semiconductor layer 134B-3 may be formed of a semiconductor compound, and may be implemented with a compound semiconductor such as a III-V group or II-VI group. For example, the second conductive semiconductor layer 134B-3 is a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1-xy N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1) can include A second conductivity type dopant may be doped in the second conductivity type semiconductor layer 134B-3. When the second conductivity type semiconductor layer 134B-3 is a p-type semiconductor layer, the second conductivity type dopant is a p-type dopant and may include Mg, Zn, Ca, Sr, Ba, or the like.

제1 전극(135)은 제2 도전형 반도체층(134B-3)과 활성층(134B-2)과 제1 도전형 반도체층(134B-1)의 일부를 메사 식각하여 노출된 제1 도전형 반도체층(134B-1) 위에 배치된다. 제2 전극(137)은 제2 도전형 반도체층(134B-3) 위에 배치된다. 예를 들어, 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 구리(Cu), 금(Au) 중 적어도 하나를 포함하여 단층 또는 다층 구조로 제1 및 제2 전극(135, 137)을 형성할 수 있다.The first electrode 135 is a first conductivity type semiconductor exposed by mesa-etching portions of the second conductivity type semiconductor layer 134B-3, the active layer 134B-2, and the first conductivity type semiconductor layer 134B-1. It is disposed above layer 134B-1. The second electrode 137 is disposed on the second conductivity type semiconductor layer 134B-3. For example, the first and second electrodes have a single-layer or multi-layer structure including at least one of aluminum (Al), titanium (Ti), chromium (Cr), nickel (Ni), copper (Cu), and gold (Au). (135, 137) can be formed.

제1 전극(135)이 제1 와이어(166)에 의해 제1 리드 프레임(122)에 전기적으로 연결됨으로써, 제1 도전형 반도체층(134B-1)은 제1 리드 프레임(122)에 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 제2 전극(137)이 제2 와이어(168)에 의해 제2 리드 프레임(124)에 전기적으로 연결됨으로써 제2 도전형 반도체층(134B-3)은 제2 리드 프레임(124)에 전기적으로 연결될 수 있다.Since the first electrode 135 is electrically connected to the first lead frame 122 through the first wire 166, the first conductive semiconductor layer 134B-1 is electrically connected to the first lead frame 122. can be connected In addition, since the second electrode 137 is electrically connected to the second lead frame 124 through the second wire 168, the second conductivity type semiconductor layer 134B-3 is electrically connected to the second lead frame 124. can be connected to

다음으로, 도 7c에 도시된 플립칩형 본딩 구조를 갖는 발광 소자(130C)는 기판(131), 발광 구조물(134C), 제1 전극(135) 및 제2 전극(137)을 포함할 수 있다.Next, the light emitting device 130C having the flip-chip bonding structure shown in FIG. 7C may include a substrate 131, a light emitting structure 134C, a first electrode 135, and a second electrode 137.

기판(131) 아래에 발광 구조물(134C)이 배치될 수 있다. 제1 도전형 반도체층(134C-1)은 기판(131) 아래에 배치된다. 활성층(134C-2)은 제1 도전형 반도체층(134C-1) 아래에 배치된다. 제2 도전형 반도체층(134C-3)은 활성층(134C-2) 아래에 배치된다. 제1 전극(135)은 제1 도전형 반도체층(134C-1) 아래에 배치된다. 제2 전극(137)은 제2 도전형 반도체층(134C-3) 아래에 배치된다.A light emitting structure 134C may be disposed under the substrate 131 . The first conductivity-type semiconductor layer 134C-1 is disposed under the substrate 131. The active layer 134C-2 is disposed under the first conductivity-type semiconductor layer 134C-1. The second conductivity type semiconductor layer 134C-3 is disposed under the active layer 134C-2. The first electrode 135 is disposed below the first conductivity type semiconductor layer 134C-1. The second electrode 137 is disposed below the second conductivity type semiconductor layer 134C-3.

도 7c에 도시된 기판(131), 제1 도전형 반도체층(134C-1), 활성층(134C-2), 제2 도전형 반도체층(134C-3), 제1 전극(135) 및 제2 전극(137)은 도 7b에 도시된 기판(131), 제1 도전형 반도체층(134B-1), 활성층(134B-2), 제2 도전형 반도체층(134B-3), 제1 전극(135) 및 제2 전극(137) 각각과 동일한 역할을 수행할 수 있으며 동일한 물질로 구현될 수 있다. 다만, 도 7b에 도시된 발광 소자(130B)의 경우 광이 상부와 측부 방향으로 방출되므로, 제2 도전형 반도체층(134B-3)과 제2 전극(137) 각각은 광 투과성 물질로 구현될 수 있다. 이와 달리, 도 7c에 도시된 발광 소자(130C)의 경우 광이 상부와 측부 방향으로 방출되므로 제1 도전형 반도체층(134C-1), 기판(131) 및 제1 전극(135) 각각은 광 투과성 물질로 구현될 수 있다.The substrate 131, the first conductivity type semiconductor layer 134C-1, the active layer 134C-2, the second conductivity type semiconductor layer 134C-3, the first electrode 135 and the second conductivity type semiconductor layer 134C-3 shown in FIG. 7C. The electrode 137 includes the substrate 131 shown in FIG. 7B, the first conductive semiconductor layer 134B-1, the active layer 134B-2, the second conductive semiconductor layer 134B-3, and the first electrode ( 135) and the second electrode 137 may perform the same role and may be implemented with the same material. However, in the case of the light emitting device 130B shown in FIG. 7B, since light is emitted in the upper and side directions, the second conductivity type semiconductor layer 134B-3 and the second electrode 137 are each made of a light-transmitting material. can Unlike this, in the case of the light emitting device 130C shown in FIG. 7C, since light is emitted in the top and side directions, each of the first conductivity type semiconductor layer 134C-1, the substrate 131, and the first electrode 135 emits light. It can be implemented as a permeable material.

도 7c에 도시된 바와 같이 발광 소자(130C)가 플립칩형 본딩 구조를 가질 경우, 발광 소자 패키지(100A)는 제1 및 제2 솔더부(139A, 139B)를 더 포함할 수 있다.As shown in FIG. 7C , when the light emitting device 130C has a flip chip type bonding structure, the light emitting device package 100A may further include first and second solder parts 139A and 139B.

제1 솔더부(139A)는 제1 전극(135)과 제1 리드 프레임(122) 사이에 배치된다. 따라서, 제1 도전형 반도체층(134C-1)은 제1 전극(135)과 제1 솔더부(139A)를 통해 제1 리드 프레임(122)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제2 솔더부(139B)는 제2 전극(137)과 제2 리드 프레임(124) 사이에 배치된다. 따라서, 제2 도전형 반도체층(134C-2)은 제2 전극(137)과 제2 솔더부(139B)를 통해 제2 리드 프레임(124)과 전기적으로 연결될 수 있다.The first solder part 139A is disposed between the first electrode 135 and the first lead frame 122 . Accordingly, the first conductive semiconductor layer 134C-1 may be electrically connected to the first lead frame 122 through the first electrode 135 and the first solder portion 139A. The second solder portion 139B is disposed between the second electrode 137 and the second lead frame 124 . Accordingly, the second conductive semiconductor layer 134C-2 may be electrically connected to the second lead frame 124 through the second electrode 137 and the second solder portion 139B.

도 7a 내지 도 7c에 도시된 발광 구조물(134A, 134B, 134C) 각각에서 제1 도전형 반도체층(134A-1, 134B-1, 134C-1)은 p형 반도체층으로, 제2 도전형 반도체층(134A-3, 134B-3, 134C-3)은 n형 반도체층으로 구현할 수 있다. 또는, 제1 도전형 반도체층(134A-1, 134B-1, 134C-1)은 n형 반도체층으로, 제2 도전형 반도체층(134A-3, 134B-3, 134C-3)은 p형 반도체층으로 구현할 수도 있다.In each of the light emitting structures 134A, 134B, and 134C shown in FIGS. 7A to 7C, the first conductivity-type semiconductor layers 134A-1, 134B-1, and 134C-1 are p-type semiconductor layers, and the second conductivity-type semiconductor layers Layers 134A-3, 134B-3, and 134C-3 may be implemented as n-type semiconductor layers. Alternatively, the first conductivity-type semiconductor layers 134A-1, 134B-1, and 134C-1 are n-type semiconductor layers, and the second conductivity-type semiconductor layers 134A-3, 134B-3, and 134C-3 are p-type semiconductor layers. It can also be implemented as a semiconductor layer.

발광 구조물(134A, 134B, 134C)은 n-p 접합 구조, p-n 접합 구조, n-p-n 접합 구조, p-n-p 접합 구조 중 어느 한 구조로 구현할 수 있다.The light emitting structures 134A, 134B, and 134C may be implemented with any one of a n-p junction structure, a p-n junction structure, an n-p-n junction structure, and a p-n-p junction structure.

한편, 도 1 내지 도 3을 다시 참조하면, 몰딩 부재(140)는 발광 소자(130)를 에워싸도록 몸체(110)와 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124) 위에 배치될 수 있다. 몰딩 부재(140)는 발광 소자(130)를 포위하여 보호할 수 있다. 또한, 몰딩 부재(140)는 형광체를 포함하여, 발광 소자(130)에서 방출된 광의 파장을 변화시킬 수 있다.Meanwhile, referring back to FIGS. 1 to 3 , the molding member 140 may be disposed on the body 110 and the first and second lead frames 122 and 124 to surround the light emitting device 130 . The molding member 140 may surround and protect the light emitting device 130 . In addition, the molding member 140 may include a phosphor to change the wavelength of light emitted from the light emitting device 130 .

몰딩 부재(140)는 제1 및 제2 몰딩 부재(142, 144)를 포함할 수 있다.The molding member 140 may include first and second molding members 142 and 144 .

제1 몰딩 부재(142)는 발광 소자(130)의 측부를 감싸며 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124) 위에 배치될 수 있다. 제1 몰딩 부재(142)는 발광 소자(130)로부터 방출되는 광의 광속을 향상시키며 외부의 환경으로부터 발광 소자(130)가 손상(damage)을 입는 것을 방지하는 역할을 한다.The first molding member 142 surrounds the side of the light emitting device 130 and may be disposed on the first and second lead frames 122 and 124 . The first molding member 142 improves the luminous flux of light emitted from the light emitting element 130 and serves to prevent the light emitting element 130 from being damaged by an external environment.

제2 몰딩 부재(144)는 발광 소자(130)의 상부를 감싸며 제1 몰딩 부재(142) 위에 배치될 수 있다. 제2 몰딩 부재(144)는 발광 소자(130)로부터 방출되는 광의 광속을 2차로 향상시키는 역할을 한다. 또한, 도 1 내지 도 3에 도시된 제1 및 제3 와이어(162, 164)는 제2 몰딩 부재(144)까지 배치되지 않고 제1 몰딩 부재(142)의 내부에만 배치된 것으로 예시되어 있다. 그러나, 설계에 따라, 제1 와이어(162, 166), 제2 와이어(168) 및 제3 와이어(164) 각각은 제1 몰딩 부재(142) 뿐만 아니라 제2 몰딩 부재(144)의 내부까지 연장되어 배치될 수 있다. 이 경우, 제2 몰딩 부재(144)는 제1 와이어(162, 166), 제2 와이어(168) 및 제3 와이어(164) 각각을 보호하는 역할을 수행할 수 있다.The second molding member 144 may surround an upper portion of the light emitting device 130 and may be disposed on the first molding member 142 . The second molding member 144 serves to secondarily increase the luminous flux of light emitted from the light emitting element 130 . In addition, the first and third wires 162 and 164 shown in FIGS. 1 to 3 are illustrated as being disposed only inside the first molding member 142 without being disposed up to the second molding member 144 . However, depending on the design, each of the first wires 162 and 166, the second wire 168, and the third wire 164 extends not only to the first molding member 142 but also to the inside of the second molding member 144. and can be placed. In this case, the second molding member 144 may serve to protect each of the first wires 162 and 166 , the second wire 168 , and the third wire 164 .

몰딩 부재(140)는 실리콘으로 구현될 수 있다. 이 경우, 제1 몰딩 부재(142)는 화이트 실리콘(white silicone)으로 구현되고, 제2 몰딩 부재(144)는 클리어 실리콘(clear silicone)으로 구현될 수 있으나, 실시 예는 몰딩 부재(140)의 특정한 재질에 국한되지 않는다.The molding member 140 may be made of silicon. In this case, the first molding member 142 may be implemented with white silicone, and the second molding member 144 may be implemented with clear silicone. It is not limited to a specific material.

제1 몰딩 부재(142)의 제3 두께(T3)와 발광 소자(130)의 제4 두께(T4)는 서로 동일할 수도 있고 다를 수도 있다. 예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이 제3 두께(T3)는 제4 두께(T4)와 동일할 수 있다.The third thickness T3 of the first molding member 142 and the fourth thickness T4 of the light emitting element 130 may be the same or different. For example, as shown in FIG. 3 , the third thickness T3 may be the same as the fourth thickness T4.

한편, 제너 다이오드(150)는 제1 또는 제2 리드 프레임(122, 124) 중 다른 하나 위에 배치될 수 있다. 예를 들어, 도 1 내지 도 3에 예시된 바와 같이, 발광 소자(130)가 수직형 본딩 구조를 갖고 제1 리드 프레임(122) 위에 배치될 경우 제너 다이오드(150)는 제2 리드 프레임(124) 위에 배치될 수 있다. 이때, 제너 다이오드(150)와 제2 리드 프레임(124)은 제3 와이어(164)에 의해 서로 전기적으로 연결될 수 있다.Meanwhile, the Zener diode 150 may be disposed on the other one of the first or second lead frames 122 and 124 . For example, as illustrated in FIGS. 1 to 3 , when the light emitting element 130 has a vertical bonding structure and is disposed on the first lead frame 122, the Zener diode 150 is the second lead frame 124 ) can be placed on top. In this case, the Zener diode 150 and the second lead frame 124 may be electrically connected to each other through the third wire 164 .

전술한 제1 와이어(162, 166), 제2 와이어(168) 및 제3 와이어(164) 각각은 금(Au)으로 구현될 수 있다.Each of the aforementioned first wires 162 and 166, second wire 168, and third wire 164 may be implemented with gold (Au).

제너 다이오드(150)는 발광 소자 패키지(100A)에 흐르는 과전류나 인가되는 전압 ESD(ElectroStatic Discharge)를 방지하는 역할을 한다.The Zener diode 150 serves to prevent an overcurrent flowing in the light emitting device package 100A or an applied voltage ESD (ElectroStatic Discharge).

또한, 접착층(152)은 제너 다이오드(150)와 제2 리드 프레임(124) 사이에 배치될 수 있다. 접착층(152)은 제너 다이오드(150)를 제2 리드 프레임(124)에 본딩시키는 역할을 하며, 일종의 페이스트(paste) 형태를 가지며, 은(Ag)과 에폭시(epoxy)를 포함할 수 있다.Also, the adhesive layer 152 may be disposed between the Zener diode 150 and the second lead frame 124 . The adhesive layer 152 serves to bond the Zener diode 150 to the second lead frame 124, has a paste form, and may include silver (Ag) and epoxy.

경우에 따라, 발광 소자 패키지(100A)는 제너 다이오드(150) 및 접착층(152)을 포함하지 않을 수도 있으며, 실시 예는 이들(150, 152)의 형태나 존재 여부에 국한되지 않는다.In some cases, the light emitting device package 100A may not include the Zener diode 150 and the adhesive layer 152, and the embodiment is not limited to the shape or existence of these 150 and 152.

도 8은 다른 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100B)의 단면도를 나타낸다.8 shows a cross-sectional view of a light emitting device package 100B according to another embodiment.

도 8에 도시된 발광 소자 패키지(100B)는 몸체(110), 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124), 발광 소자(130), 몰딩 부재(140), 제너 다이오드(150), 접착층(152), 제1 및 제3 와이어(162, 164) 및 댐(dam)(170)을 포함할 수 있다.The light emitting device package 100B shown in FIG. 8 includes a body 110, first and second lead frames 122 and 124, a light emitting device 130, a molding member 140, a Zener diode 150, an adhesive layer ( 152), first and third wires 162 and 164, and a dam 170.

도 8에 도시된 발광 소자 패키지(100B)는 댐(170)을 더 포함하는 것을 제외하면, 도 3에 도시된 발광 소자 패키지(100A)와 동일하다. 따라서, 도 8에 도시된 발광 소자 패키지(100B)에서 도 3에 도시된 발광 소자 패키지(100A)와 동일한 부분에 대해서는 동일한 참조부호를 사용하였으며, 중복되는 설명을 생략한다.The light emitting device package 100B shown in FIG. 8 is the same as the light emitting device package 100A shown in FIG. 3 except that a dam 170 is further included. Therefore, the same reference numerals are used for the same parts as the light emitting device package 100A shown in FIG. 3 in the light emitting device package 100B shown in FIG. 8, and overlapping descriptions are omitted.

도 8에 도시된 댐(170)은 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124) 위에 배치된 몰딩 부재(140)를 가두는 역할을 한다. 즉, 댐(170)과 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)의 상부면(122HT, 124HT)이 형성하는 캐비티에 몰딩 부재(140)가 배치될 수 있다.The dam 170 shown in FIG. 8 serves to confine the molding member 140 disposed on the first and second lead frames 122 and 124 . That is, the molding member 140 may be disposed in a cavity formed by the dam 170 and the upper surfaces 122HT and 124HT of the first and second lead frames 122 and 124 .

이하, 도 3에 도시된 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A)의 제조 방법을 도 9a 내지 도 9d를 참조하여 다음과 같이 살펴본다. 그러나, 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A)는 도 9a 내지 도 9d에 도시된 바와 다른 제조 방법에 의해서도 제조될 수 있음은 물론이다. 또한, 도 8에 도시된 발광 소자 패키지(100B)의 경우에도 댐(170)이 더 형성됨을 제외하면 도 9a 내지 도 9d에 도시된 방법에 의해서 제조될 수 있음은 물론이다.Hereinafter, a method of manufacturing the light emitting device package 100A according to the embodiment shown in FIG. 3 will be described as follows with reference to FIGS. 9A to 9D. However, it goes without saying that the light emitting device package 100A according to the embodiment may be manufactured by a manufacturing method different from that shown in FIGS. 9A to 9D . In addition, even in the case of the light emitting device package 100B shown in FIG. 8, it can be manufactured by the method shown in FIGS. 9A to 9D except that the dam 170 is further formed.

도 9a 내지 도 9d는 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A)의 제조 방법을 설명하기 위한 공정 단면도를 나타낸다.9A to 9D show process cross-sectional views for explaining a method of manufacturing a light emitting device package 100A according to an embodiment.

도 9a를 참조하면, 몸체(110)와 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)을 형성한다. 여기서, 몸체(110)는 블랙 EMC에 의해 제조되며, 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124) 각각은 구리(Cu)에 의해 제조될 수 있다.Referring to FIG. 9A , a body 110 and first and second lead frames 122 and 124 are formed. Here, the body 110 is made of black EMC, and each of the first and second lead frames 122 and 124 may be made of copper (Cu).

예를 들어, 구리를 에칭(etching) 및 스탬핑(stamping)하여 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)의 패턴을 먼저 형성한다. 이후, 패터닝된 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)에 블랙 EMC를 사출 성형(injection molding)함으로써, 몸체(110)를 형성할 수 있다.For example, patterns of the first and second lead frames 122 and 124 are first formed by etching and stamping copper. Thereafter, the body 110 may be formed by injection molding black EMC on the patterned first and second lead frames 122 and 124 .

이후, 제1 리드 프레임(122) 위에 발광 소자(130)를 다이 본딩(die bonding)한다. 예를 들어, 발광 소자(130)는 도 7a에 도시된 바와 같은 구조로 다음과 같이 형성될 수 있다.Thereafter, the light emitting device 130 is die bonded on the first lead frame 122 . For example, the light emitting device 130 may have a structure as shown in FIG. 7A as follows.

제1 리드 프레임(122) 위에 지지 기판(132)을 형성하고, 지지 기판(132) 위에 발광 구조물(134A)을 형성한다. 제1 도전형 반도체층(134A-1)을 위한 제1 물질층, 활성층(134A-2)을 위한 제2 물질층, 제2 도전형 반도체층(134A-3)을 위한 제3 물질층을 지지 기판(132) 위에 순차적으로 형성한다.A support substrate 132 is formed on the first lead frame 122 , and a light emitting structure 134A is formed on the support substrate 132 . A first material layer for the first conductivity type semiconductor layer 134A-1, a second material layer for the active layer 134A-2, and a third material layer for the second conductivity type semiconductor layer 134A-3 are supported. It is sequentially formed on the substrate 132 .

제1 물질층은 3족-5족, 2족-6족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 예를 들어, AlxInyGa(1-x-y)N (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다. 제2 물질층은 페어 구조로 반복되는 우물층/장벽층을 포함할 수 있으며, 우물층/장벽층은 InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs(InGaAs)/AlGaAs, GaP(InGaP)/AlGaP 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 제3 물질층은 3족-5족, 2족-6족 등의 화합물 반도체로 구현될 수 있으며, 예를 들어 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 물질을 포함할 수 있다.The first material layer may be implemented with a compound semiconductor of group 3-5, group 2-6, etc., for example, Al x In y Ga (1-xy) N (0≤x≤1, 0≤ It may include a semiconductor material having a composition formula of y≤1, 0≤x+y≤1). The second material layer may include a well layer/barrier layer repeated in a pair structure, and the well layer/barrier layer may include InGaN/GaN, InGaN/InGaN, GaN/AlGaN, InAlGaN/GaN, GaAs (InGaAs)/AlGaAs, It may include any one of GaP (InGaP) / AlGaP. The third material layer may be implemented with compound semiconductors of group 3-5, group 2-6, etc., for example, In x Al y Ga 1 -x- y N (0≤x≤1, 0≤y ≤1, 0≤x+y≤1) may include a semiconductor material having a composition formula.

이후, 제1 내지 제3 물질층을 통상의 사진 식각 공정에 의해 패터닝하여 발광 구조물(134A)을 형성할 수 있다. 이후, 발광 구조물(134) 위에 오믹 접촉층(136)을 형성한다.Then, the light emitting structure 134A may be formed by patterning the first to third material layers by a conventional photolithography process. After that, an ohmic contact layer 136 is formed on the light emitting structure 134 .

이때, 발광 소자(130)가 형성되는 동안 접착층(152)과 제너 다이오드(150)를 제2 리드 프레임(124) 위에 형성할 수 있다.In this case, while the light emitting device 130 is being formed, the adhesive layer 152 and the Zener diode 150 may be formed on the second lead frame 124 .

이후, 도 9b를 참조하면, 발광 소자(130)를 와이어 본딩(Wire bonding)한다. 즉, 발광 소자(130)의 제2 도전형 반도체층(134A-3)과 제2 리드 프레임(124)을 전기적으로 연결하는 제1 와이어(162)를 형성하고, 제너 다이오드(150)를 제1 리드 프레임(122)과 전기적으로 연결하는 제3 와이어(164)를 형성한다.Subsequently, referring to FIG. 9B , the light emitting element 130 is wire bonded. That is, a first wire 162 electrically connecting the second conductive semiconductor layer 134A-3 of the light emitting element 130 and the second lead frame 124 is formed, and the Zener diode 150 is first A third wire 164 electrically connected to the lead frame 122 is formed.

이후, 도 9c를 참조하면, 몸체(110)와 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)의 측부에 댐(210)을 형성하여 몰딩 부재(140)가 수용될 캐비티를 형성하는 댐 공정을 진행한다. 이와 같이, 댐 공정을 수행하는 이유는, 흐름성(또는, 점성)을 갖는 제1 및 제2 몰딩 부재(142, 144)가 경화되기 이전에 흘러내리지 않도록 하기 위함이다.Then, referring to FIG. 9C, a dam 210 is formed on the side of the body 110 and the first and second lead frames 122 and 124 to form a cavity in which the molding member 140 is accommodated. proceed As such, the reason for performing the dam process is to prevent the first and second molding members 142 and 144 having flowability (or viscosity) from flowing down before hardening.

이후, 도 9d에 도시된 바와 같이, 댐(210), 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124) 및 몸체(110)에 의해 형성되는 공간에 몰딩 부재(140)를 채우는 디스펜싱(dispensing) 공정을 진행한다. 이때, 제1 몰딩 부재(142)를 발광 소자(130)의 높이까지 형성한 후, 제2 몰딩 부재(144)를 발광 소자(130)의 상부면과 제1 몰딩 부재(142) 위에 형성한다. 전술한 바와 같이, 댐(210)이 배치됨으로 인해, 디스펜싱된 몰딩 부재(140)가 경화되기 이전에 흘러내리지 않을 수 있다.Subsequently, as shown in FIG. 9D, dispensing of filling the molding member 140 in the space formed by the dam 210, the first and second lead frames 122 and 124, and the body 110 proceed with the process At this time, after forming the first molding member 142 to the height of the light emitting element 130 , the second molding member 144 is formed on the top surface of the light emitting element 130 and the first molding member 142 . As described above, due to the arrangement of the dam 210, the dispensed molding member 140 may not flow down before curing.

이후, 도 9d에 도시된 댐(210)을 제거하면 도 3에 도시된 발광 소자 패키지(100A)가 완성될 수 있다. 도 9a 내지 도 9d는 하나의 발광 소자 패키지(100A)를 제조하는 공정 단면도이지만, 복수의 발광 소자 패키지(100A)가 도 9a 내지 도 9d에 도시된 공정을 통해 동시에 형성될 수 있다. 이 경우, 도 9d에 도시된 바와 같은 공정 이후에, 다이싱(dicing) 공정을 수행하여 단일 발광 소자 패키지(100A)로 분리될 수 있다.Thereafter, when the dam 210 shown in FIG. 9D is removed, the light emitting device package 100A shown in FIG. 3 may be completed. 9A to 9D are cross-sectional views of a process of manufacturing one light emitting device package 100A, but a plurality of light emitting device packages 100A may be simultaneously formed through the process shown in FIGS. 9A to 9D . In this case, after the process shown in FIG. 9D , a dicing process may be performed to separate the light emitting device packages 100A.

이하, 블랙 EMC로 구현된 몸체(110)를 갖는 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A, 100B)와 화이트(white) EMC, PCT(polycyclohexylene-dimethylene terephthalates) 같은 세라믹, 또는 AlN으로 구현된 기판을 갖는 비교 예에 의한 발광 소자 패키지를 다음과 같이 비교한다. 또한, 비교 예에 의한 발광 소자 패키지는 비록 도시되지는 않았지만, 설명의 편의상, 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A, 100B)에서 몸체(110) 대신에 기판을 포함하는 것으로 가정한다.Hereinafter, light emitting device packages 100A and 100B according to an embodiment having a body 110 implemented with black EMC and white EMC, ceramics such as PCT (polycyclohexylene-dimethylene terephthalates), or having a substrate implemented with AlN Light emitting device packages according to comparative examples are compared as follows. In addition, although not shown, the light emitting device package according to the comparative example is assumed to include a substrate instead of the body 110 in the light emitting device packages 100A and 100B according to the embodiment for convenience of description.

비교 예에 의한 발광 소자 패키지에서와 같이 기판을 화이트 EMC, 세라믹 또는 AlN으로 구현할 경우 다양한 문제가 야기될 수 있다.As in the light emitting device package according to the comparative example, various problems may occur when the substrate is implemented with white EMC, ceramic, or AlN.

예를 들어, 비교 예에 의한 발광 소자 패키지의 제조 비용보다 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A, 100B)의 제조 비용이 훨씬 더 저렴하다. 왜냐하면 세라믹이나 AlN의 가격은 블랙 EMC보다 10배 내지 30배 정도 더 비싸기 때문이다.For example, the manufacturing cost of the light emitting device packages 100A and 100B according to the embodiment is much cheaper than the manufacturing cost of the light emitting device package according to the comparative example. This is because the price of ceramic or AlN is 10 to 30 times more expensive than black EMC.

또한, 비교 예에 의한 발광 소자 패키지가 PCT나 화이트 EMC로 구현된 기판을 가질 경우, 발광 소자 패키지의 강성, 사출성, 공정성이 불안해질 수 있다. 반면에, 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A, 100B)는 몸체(110)를 블랙 EMC로 구현하여 이러한 불안한 문제가 해소될 수 있다.In addition, when the light emitting device package according to the comparative example has a substrate made of PCT or white EMC, rigidity, ejectability, and processability of the light emitting device package may become unstable. On the other hand, in the light emitting device packages 100A and 100B according to the embodiment, the body 110 is implemented with black EMC, so that this uneasy problem can be solved.

또한, 블랙 EMC나 화이트 EMC는 입자를 포함하며, 블랙 EMC에 포함된 입자는 화이트 EMC에 포함된 입자보다 크기가 더 작다. 따라서, 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A, 100B)에서와 같이 몸체(110)를 블랙 EMC로 제조할 경우, 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)의 집적도가 증가하여, 단위 시간 당 제조 가능한 발광 소자 패키지의 개수를 증가시킬 수 있다. 더욱이, 입자의 크기가 작아질 경우, 발광 소자 패키지(100A, 100B)를 다양한 모습으로 설계할 수 있는 등, 설계의 자유도가 증가할 수 있다.In addition, the black EMC or white EMC includes particles, and the particles included in the black EMC have a smaller size than the particles included in the white EMC. Therefore, when the body 110 is made of black EMC as in the light emitting device packages 100A and 100B according to the embodiment, the degree of integration of the first and second lead frames 122 and 124 increases, per unit time The number of light emitting device packages that can be manufactured can be increased. Moreover, when the particle size is reduced, the degree of freedom in design may increase, such as designing the light emitting device packages 100A and 100B in various shapes.

또한, 비교 예에 의한 발광 소자 패키지는 발광 소자(130)로부터 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)까지의 열 저항(thermal resistance)은 7.5℃/W이다. 반면에, 몸체(110)를 블랙 EMC로 구현할 경우, 발광 소자(130)로부터 제1 및 제2 리드 프레임(122, 124)의 하단(122L의 저면 또는 124L의 저면)까지의 열 저항은 5℃/W로서 상대적으로 더 작다. 따라서, 동일 전력에서, 블랙 EMC로 구현된 몸체(110)를 갖는 발광 소자 패키지(100A, 100B)는 세라믹이나 AlN 등으로 구현된 기판을 갖는 비교 예에 의한 발광 소자 패키지보다 상대적으로 열 전도가 빨라 우수한 방열 특성을 갖는다.In addition, the light emitting device package according to the comparative example has a thermal resistance from the light emitting device 130 to the first and second lead frames 122 and 124 of 7.5°C/W. On the other hand, when the body 110 is implemented with black EMC, the thermal resistance from the light emitting element 130 to the lower ends (lower surface of 122L or lower surface of 124L) of the first and second lead frames 122 and 124 is 5 ° C. /W, which is relatively smaller. Therefore, at the same power, the light emitting device packages 100A and 100B having the body 110 made of black EMC have relatively faster heat conduction than the light emitting device packages according to the comparative example having the substrate made of ceramic or AlN. It has excellent heat dissipation properties.

또한, 비교 예에 의한 발광 소자 패키지에서와 같이 기판을 화이트 EMC나 세라믹으로 구현할 경우 기판에 크랙(crack)이 발생할 수 있을 뿐만 아니라 제조 공정상 분진이 발생하여 발광 소자 패키지의 성능에 악영향을 미칠 수 있다. 그러나, 실시 예에 의한 발광 소자 패키지에서와 같이 몸체(110)를 블랙 EMC로 구현할 경우 이러한 크랙과 분진 발생을 방지할 수 있다.In addition, when the substrate is implemented with white EMC or ceramic, as in the light emitting device package according to the comparative example, cracks may occur on the substrate and dust may be generated during the manufacturing process, which may adversely affect the performance of the light emitting device package. there is. However, when the body 110 is implemented with black EMC as in the light emitting device package according to the embodiment, such cracks and dust generation can be prevented.

또한, 비교 예에 의한 발광 소자 패키지의 기판은 수지 등으로 구현되므로 컵 형태를 가지며 그의 상부면이 플랫한 단면 형상을 가질 수 없다. 그러나, 기판을 세라믹으로 구현할 경우 기판의 상부면은 플랫한 단면 형상을 가질 수 있으나, 세라믹은 전술한 바와 같이 블랙 EMC와 비교할 때 다양한 문제점이 있다. 반면에, 실시 예에 의한 발광 소자 패키지(100A, 100B)의 경우 세라믹보다 저렴한 블랙 EMC를 사용하여 가격을 줄이면서도 몸체(110)의 상부면(110T)을 도 6에 예시된 바와 같이 플랫하게 형성할 수 있다.In addition, since the substrate of the light emitting device package according to the comparative example is made of resin or the like, it has a cup shape and cannot have a flat top surface. However, when the substrate is implemented with ceramic, the upper surface of the substrate may have a flat cross-sectional shape, but ceramic has various problems compared to black EMC as described above. On the other hand, in the case of the light emitting device packages 100A and 100B according to the embodiment, the upper surface 110T of the body 110 is formed flat as illustrated in FIG. 6 while reducing the price by using black EMC, which is cheaper than ceramic. can do.

실시 예에 따른 발광 소자 패키지(100A, 100B)는 복수 개가 기판 상에 어레이될 수 있고, 발광 소자 패키지(100A, 100B)의 광 경로 상에 광학 부재인 도광판, 프리즘 시트, 확산 시트 등이 배치될 수 있다. 이러한 발광 소자 패키지(100A, 100B), 기판, 광학 부재는 백라이트 유닛으로 기능할 수 있다.A plurality of light emitting device packages 100A and 100B according to the embodiment may be arrayed on a substrate, and optical members such as a light guide plate, a prism sheet, a diffusion sheet, and the like may be disposed on a light path of the light emitting device packages 100A and 100B. can The light emitting device packages 100A and 100B, the substrate, and the optical member may function as a backlight unit.

또한, 실시 예에 따른 발광 소자 패키지(100A, 100B)는 표시 장치, 지시 장치, 조명 장치에 적용될 수 있다.In addition, the light emitting device packages 100A and 100B according to embodiments may be applied to display devices, pointing devices, and lighting devices.

여기서, 표시 장치는 바텀 커버와, 바텀 커버 상에 배치되는 반사판과, 광을 방출하는 발광 모듈과, 반사판의 전방에 배치되며 발광 모듈에서 발산되는 빛을 전방으로 안내하는 도광판과, 도광판의 전방에 배치되는 프리즘 시트들을 포함하는 광학 시트와, 광학 시트 전방에 배치되는 디스플레이 패널과, 디스플레이 패널과 연결되고 디스플레이 패널에 화상 신호를 공급하는 화상 신호 출력 회로와, 디스플레이 패널의 전방에 배치되는 컬러 필터를 포함할 수 있다. 여기서 바텀 커버, 반사판, 발광 모듈, 도광판, 및 광학 시트는 백라이트 유닛(Backlight Unit)을 이룰 수 있다.Here, the display device includes a bottom cover, a reflector disposed on the bottom cover, a light emitting module emitting light, a light guide plate disposed in front of the reflector and guiding light emitted from the light emitting module forward, and a light guiding plate disposed in front of the light guide plate. An optical sheet including prism sheets disposed thereon, a display panel disposed in front of the optical sheet, an image signal output circuit connected to the display panel and supplying image signals to the display panel, and a color filter disposed in front of the display panel. can include Here, the bottom cover, the reflector, the light emitting module, the light guide plate, and the optical sheet may form a backlight unit.

또한, 조명 장치는 기판과 실시 예에 따른 발광 소자 패키지(100A, 100B)를 포함하는 광원 모듈, 광원 모듈의 열을 발산시키는 방열체, 및 외부로부터 제공받은 전기적 신호를 처리 또는 변환하여 광원 모듈로 제공하는 전원 제공부를 포함할 수 있다. 예를 들어, 조명 장치는, 램프, 헤드 램프, 또는 가로등을 포함할 수 있다.In addition, the lighting device includes a light source module including a substrate and light emitting device packages 100A and 100B according to embodiments, a radiator for dissipating heat from the light source module, and a light source module by processing or converting an electrical signal provided from the outside. It may include a power supply unit that provides. For example, the lighting device may include a lamp, a head lamp, or a street light.

헤드 램프는 기판 상에 배치되는 발광 소자 패키지(100A, 100B)들을 포함하는 발광 모듈, 발광 모듈로부터 조사되는 빛을 일정 방향, 예컨대, 전방으로 반사시키는 리플렉터(reflector), 리플렉터에 의하여 반사되는 빛을 전방으로 굴절시키는 렌즈, 및 리플렉터에 의하여 반사되어 렌즈로 향하는 빛의 일부분을 차단 또는 반사하여 설계자가 원하는 배광 패턴을 이루도록 하는 쉐이드(shade)를 포함할 수 있다. 이상에서 실시 예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시 예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시 예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The headlamp includes a light emitting module including light emitting device packages 100A and 100B disposed on a substrate, a reflector that reflects light emitted from the light emitting module in a predetermined direction, for example, forward, and the light reflected by the reflector. It may include a lens that refracts forward, and a shade that blocks or reflects a portion of light reflected by the reflector and directed toward the lens to form a light distribution pattern desired by a designer. Although the above has been described with reference to the embodiments, these are only examples and do not limit the present invention, and those skilled in the art to which the present invention belongs will not deviate from the essential characteristics of the present embodiment. It will be appreciated that various variations and applications are possible. For example, each component specifically shown in the embodiment can be modified and implemented. And differences related to these modifications and applications should be construed as being included in the scope of the present invention as defined in the appended claims.

100A, 100B: 발광 소자 패키지 110: 몸체
122, 124: 리드 프레임 130, 130A, 130B, 130C: 발광 소자
140, 142, 144: 몰딩 부재 150: 제너 다이오드
152: 접착층 162, 164, 166, 168: 와이어
170: 댐
100A, 100B: light emitting device package 110: body
122, 124: lead frame 130, 130A, 130B, 130C: light emitting element
140, 142, 144: molding member 150: Zener diode
152: adhesive layer 162, 164, 166, 168: wire
170: dam

Claims (21)

도전형 카본 블랙을 포함하는 블랙 에폭시 몰딩 컴파운드(EMC)를 포함하는 몸체;
상기 몸체에 의해 서로 전기적으로 이격된 제1 및 제2 리드 프레임;
상기 제1 및 제2 리드 프레임 중 하나의 위에 배치된 발광 소자; 및
상기 발광 소자를 에워싸도록 상기 몸체와 상기 제1 및 제2 리드 프레임 위에 배치된 몰딩 부재를 포함하고,
상기 몰딩 부재는
상기 발광 소자의 측부와 접촉하며 상기 제1 및 제2 리드 프레임 위에 배치되고 화이트 실리콘으로 구성된 제1 몰딩 부재; 및
상기 발광 소자와 상기 제1 몰딩 부재 위에 배치된 제2 몰딩 부재를 포함하며,
상기 제1 리드 프레임은
제1-1 층; 및
상기 제1-1 층 위에 배치되며, 상기 제1-1 층보다 넓은 제1-2 층을 포함하고,
상기 제2 리드 프레임은
제2-1 층; 및
상기 제2-1 층 위에 배치되며, 상기 제2-1 층보다 넓은 제2-2 층을 포함하고,
상기 몸체는
상기 제1-1 층이 수용되는 제1-1 수용 공간;
상기 제2-1 층이 수용되는 제2-1 수용 공간;
상기 제1-1 수용 공간과 상기 제2-1 수용 공간을 서로 이격시키며 배치된 격벽;
상기 제1-2 층이 수용되며 상기 제1-1 수용 공간 위에 제1-2 수용 공간; 및
상기 제2-2 층이 수용되며 상기 제2-1 수용 공간 위에 제2-2 수용 공간을 포함하고,
상기 제1-2 층은 상기 제1-2 수용 공간의 바깥쪽으로 돌출된 적어도 하나의 제1 돌출부를 포함하고,
상기 제2-2 층은 상기 제2-2 수용 공간의 바깥쪽으로 돌출된 적어도 하나의 제2 돌출부를 포함하고,
상기 몸체는 상기 제1 및 제2 돌출부를 수용하는 복수의 블라인드 홀을 포함
하며,
상기 제1 몰딩 부재의 두께는 상기 발광소자의 두께와 동일한 것을 특징으로 하는 발광 소자 패키지.
A body including a black epoxy molding compound (EMC) including conductive carbon black;
first and second lead frames electrically spaced apart from each other by the body;
a light emitting element disposed on one of the first and second lead frames; and
A molding member disposed on the body and the first and second lead frames to surround the light emitting element,
The molding member is
a first molding member made of white silicon and disposed on the first and second lead frames and in contact with the side of the light emitting element; and
It includes a second molding member disposed on the light emitting element and the first molding member,
The first lead frame is
Layer 1-1; and
It is disposed on the 1-1 layer and includes a 1-2 layer wider than the 1-1 layer,
The second lead frame is
Layer 2-1; and
It is disposed on the 2-1 layer and includes a 2-2 layer wider than the 2-1 layer,
the body
a 1-1 accommodating space in which the 1-1 layer is accommodated;
a 2-1 accommodating space in which the 2-1 layer is accommodated;
partition walls disposed to separate the 1-1 accommodating space and the 2-1 accommodating space from each other;
a 1-2 accommodating space in which the 1-2 layer is accommodated and above the 1-1 accommodating space; and
The 2-2 layer is accommodated and includes a 2-2 accommodation space above the 2-1 accommodation space,
The 1-2 layer includes at least one first protrusion protruding outward of the 1-2 accommodating space,
The 2-2 layer includes at least one second protrusion protruding outward of the 2-2 accommodating space,
The body includes a plurality of blind holes accommodating the first and second protrusions.
and
Characterized in that the thickness of the first molding member is the same as the thickness of the light emitting element light emitting device package.
제1 항에 있어서, 상기 몸체의 탑면과 상기 제1 및 제2 리드 프레임 각각의 탑면은 동일 수평면 상에 위치하고,
상기 몸체의 탑면과 상기 제1 및 제2 리드 프레임 각각의 탑면은 플랫한 형상을 갖는 발광 소자 패키지.
The method of claim 1, wherein the top surface of the body and the top surface of each of the first and second lead frames are located on the same horizontal plane,
A light emitting device package having a top surface of the body and a top surface of each of the first and second lead frames having a flat shape.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 제1 몰딩 부재의 두께는 상기 발광 소자의 두께와 동일하고,
상기 몸체의 두께와 상기 제1 및 제2 리드 프레임의 두께는 서로 동일한 발광 소자 패키지.
According to claim 1,
The thickness of the first molding member is the same as the thickness of the light emitting element,
The thickness of the body and the thickness of the first and second lead frames are the same light emitting device package.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 리드 프레임과 함께 상기 몰딩 부재를 가두는 댐을 더 포함하는 발광 소자 패키지.The light emitting device package of claim 1 , further comprising a dam confining the molding member together with the first and second lead frames. 제1 항에 있어서, 상기 발광 소자 패키지는
상기 제1 또는 제2 리드 프레임 중 다른 하나 위에 배치된 제너 다이오드; 및
상기 제너 다이오드와 상기 제2 리드 프레임을 서로 전기적으로 연결하는 제3 와이어를 더 포함하는 발광 소자 패키지.
The method of claim 1, wherein the light emitting device package
a Zener diode disposed on the other one of the first or second lead frame; and
The light emitting device package further includes a third wire electrically connecting the Zener diode and the second lead frame to each other.
삭제delete 삭제delete
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