KR102548294B1 - 액 공급 유닛, 기판 처리 장치 및 액 처리 방법 - Google Patents

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KR102548294B1
KR102548294B1 KR1020200050038A KR20200050038A KR102548294B1 KR 102548294 B1 KR102548294 B1 KR 102548294B1 KR 1020200050038 A KR1020200050038 A KR 1020200050038A KR 20200050038 A KR20200050038 A KR 20200050038A KR 102548294 B1 KR102548294 B1 KR 102548294B1
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이영훈
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Abstract

본 발명은 액 공급 유닛을 제공한다. 일 실시 예에 있어서, 액 공급 유닛은, 액을 저장하고, 상기 액이 닿는 내벽에 홈이 형성된 저장 용기와; 상기 저장 용기에 저장된 액을 상기 저장 용기의 외부로 공급하는 액 공급 라인과; 상기 저장 용기에 상기 액을 가압하는 가압 기체를 공급하는 가압 기체 공급 라인과; 상기 저장 용기 내부의 기체를 상기 저장 용기의 외부로 배출하는 벤트 라인을 포함한다.

Description

액 공급 유닛, 기판 처리 장치 및 액 처리 방법{UNIT FOR SUPPLYING LIQUID, APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE}
본 발명은 액 공급 유닛, 기판 처리 장치 및 액 처리 방법에 관한 것이다.
반도체 제조 공정에 사용되는 매엽식의 액 처리 장치는, 예를 들어, 스핀 척에 보유 지지되어 있는 피처리체의 표면에 노즐로부터 약액을 토출하도록 구성되어 있다. 약액으로서는 레지스트 패턴을 형성하기 위한 레지스트 액, 노광 후의 기판을 현상하기 위한 현상액, 실리콘 산화막의 전구 물질을 포함하는 도포액, 기판을 린스하기 위한 린스액 혹은 기판을 세정하기 위한 세정액 등을 들 수 있다. 이와 같은 약액은, 약액 공급원으로부터 도중에 밸브, 필터, 펌프 등의 기기를 설치한 약액 유로에 의해 노즐을 통하여 피처리체인 기판에 공급된다.
최근 회로의 미세화에 수반하여, 한층 더 결함수의 저감이 요구되고 있고, 약액의 높은 청정도가 요구되고 있다. 약액으로부터 파티클이나 기포 등의 이물질을 제거하기 위한 방법으로, 약액 유로에 다수의 필터를 제공하는 방법이 있으나, 약액의 청정도를 높게 하기 위하여, 필터 개수를 늘려 여과 횟수를 증가시키고자 하면, 약액을 장시간 순환시킬 필요성이 있으며, 작업시간이 증가되는 문제가 있고, 약액의 토출 계통이 복잡화되어 약액의 제어가 번잡해지는 뿐더러, 약액에 존재하는 아주 미세한 파티클은 필터에 포집되지 않는 문제가 있다.
본 발명은 기판을 효율적으로 처리할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명은 약액에 존재하는 미세 파티클을 효과적으로 제거할 수 있는 액 공급 유닛 및 액 처리 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명은 장치가 간소화 되면서도 약액에 존재하는 파티클 제거 효율을 높일 수 있는 액 공급 유닛, 기판 처리 장치 및 액 처리 방법을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 액 공급 유닛을 제공한다. 일 실시 예에 있어서, 액 공급 유닛은, 액을 저장하고, 상기 액이 닿는 내벽에 홈이 형성된 저장 용기와; 상기 저장 용기에 저장된 액을 상기 저장 용기의 외부로 공급하는 액 공급 라인과; 상기 저장 용기에 상기 액을 가압하는 가압 기체를 공급하는 가압 기체 공급 라인과; 상기 저장 용기 내부의 기체를 상기 저장 용기의 외부로 배출하는 벤트 라인을 포함한다.
일 실시 예에 있어서, 상기 액 공급 라인에 제공되는 필터를 더 포함할 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 액 공급 라인에 제공되는 제1 밸브와; 상기 가압 기체 공급 라인에 제공되는 제2 밸브와; 상기 벤트 라인에 제공되는 제3 밸브와; 제어기를 더 포함하고, 상기 제어기는, 상기 제1 밸브, 상기 제2 밸브 및 상기 제3 밸브의 개폐를 제어할 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 제어기는, 상기 소정량의 액이 상기 저장 용기에 채워진 상태에서, 상기 제1 밸브 및 상기 제3 밸브의 폐쇄 상태에서, 상기 제2 밸브를 개방하여 상기 저장 용기에 저장된 액을 가압하고, 상기 액이 설정된 가압 상태에 도달한 이후, 상기 제3 밸브를 개방시켜 상기 저장 용기의 내부를 감압할 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 제3 밸브는 상기 저장 용기의 내부가 대기압에 도달할 때까지 개방 상태로 계속될 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 홈의 깊이는 1㎛ 내지 100㎛인 액 공급 유닛.
일 실시 예에 있어서, 상기 가압 기체는 비활성기체 또는 이산화탄소일 수 있다.
본 발명은 기판을 처리하는 장치를 제공한다. 일 실시 예에 있어서, 기판 처리 장치는, 처리 용기와; 상기 처리 용기의 내부 공간에 제공되고 기판을 지지하고 회전시키는 지지 부재와; 상기 지지 부재에 지지된 기판에 액을 공급하는 노즐과; 상기 액을 저장하고, 상기 액이 닿는 내벽에 홈이 형성된 저장 용기와; 상기 저장 용기에 저장된 액을 상기 노즐로 전달하는 액 공급 라인과; 상기 저장 용기에 상기 액을 가압하는 가압 기체를 공급하는 가압 기체 공급 라인과; 상기 저장 용기 내부의 기체를 상기 저장 용기의 외부로 배출하는 벤트 라인을 포함한다.
일 실시 예에 있어서, 상기 액 공급 라인에 제공되는 필터를 더 포함할 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 액 공급 라인에 제공되는 제1 밸브와; 상기 가압 기체 공급 라인에 제공되는 제2 밸브와; 상기 벤트 라인에 제공되는 제3 밸브와; 제어기를 더 포함하고, 상기 제어기는, 상기 제1 밸브, 상기 제2 밸브 및 상기 제3 밸브의 개폐를 제어할 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 제어기는, 상기 소정량의 액이 상기 저장 용기에 채워지면, 상기 제1 밸브 및 상기 제3 밸브의 폐쇄 상태에서, 상기 제2 밸브를 개방하여 상기 저장 용기에 저장된 액을 가압하고, 상기 액이 설정된 가압 상태에 도달한 이후, 상기 제3 밸브를 개방시켜 상기 저장 용기의 내부를 감압하고, 이후, 상기 제1 밸브를 개방하여 상기 액이 기판으로 공급되도록 제어할 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 제3 밸브는 상기 저장 용기의 내부가 대기압에 도달할 때까지 개방 상태로 계속될 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 홈의 깊이는 1㎛ 내지 100㎛인 액 공급 유닛.
본 발명은 기판을 처리하는 액을 처리하는 방법을 제공한다. 일 실시 예에 있어서, 액 처리 방법은, 액이 닿는 내벽에 홈이 형성된 저장 용기에 액 저장하는 단계와; 상기 저장 용기에 저장된 액을 가압하는 단계와; 상기 가압을 해제하고, 상기 저장 용기 내부의 기체를 배출하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 저장 용기에 저장된 액을 가압하는 단계는, 상기 저장 용기에 가압 기체를 공급함으로써 이루어질 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 가압 기체는 비활성기체 또는 이산화탄소일 수 있다.
일 실시 예에 있어서, 상기 홈의 깊이는 1㎛ 내지 100㎛일 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판을 효율적으로 처리할 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 약액에 존재하는 미세 파티클을 효과적으로 제거할 수 있다.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 장치가 간소화 되면서도 약액에 존재하는 파티클 제거 효율을 높일 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 않은 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 도시하는 전체 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 약액 공급 유닛을 도시하면서, 약액 공급 유닛의 저장 용기는 단면 사시도로 나타내 도면이다.
도 3은 도 2에 도시된 본 발명의 제1 실시 예에 따른 저장 용기의 A부분 단면을 확대한 도면이다.
도 4 내지 도 8은 제1 실시 예에 따른 약액 공급 유닛에서 약액에서 파티클이 응집되는 과정을 순서대로 나열한 것이다.
도 9는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 약액 공급 유닛을 도시하면서, 약액 공급 유닛의 저장 용기는 단면 사시도로 나타내 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치를 도시하는 전체 구성도이다.
기판 처리 장치는, 액 저장 탱크(10)과, 액 공급 유닛(20)과, 처리 유닛(30)을 포함한다.
액 저장 탱크(10)는 기판의 처리에 사용되는 약액을 저장한다. 액 저장 탱크(10)는 약액 공급원으로 기능한다.
액 공급 유닛(20)은 약액을 처리하여 처리 유닛(30)으로 공급한다. 액 공급 유닛(20)은 저장 용기(21)와 액 유입 라인(71)과 액 공급 라인(72)과, 가압 기체 공급 라인(73)과, 벤트 라인(74)을 포함한다.
저장 용기(21)는 약액을 저장한다.
액 유입 라인(71)은 액 저장 탱크(10)와 저장 용기(21)를 유통 가능하도록 연결한다. 액 유입 유입 라인(71)은 액 저장 탱크(10)에 저장된 약액을 저장 용개(21)로 유입시킨다.
액 공급 라인(72)은 저장 용기(21)와 연결되어, 액 공급 라인(72)은 저장 용기(21)에 저장된 약액을 처리 유닛(30)으로 공급한다. 액 공급 라인(72)에는 필터(80)가 설치된다. 필터(80)는 약액에 포함된 파티클을 여과한다.
가압 기체 공급 라인(73)의 일단은 저장 용기(21)의 상부에 연결된다. 가압 기체 공급 라인(73)의 타단은 가압 기체가 저장된 가압 기체 공급원(50)에 연결된다. 가압 기체 공급 라인(73)은 저장 용기(21)에 저장된 약액을 가압하기 위하여 가압 기체를 저장 용기(21)로 공급한다. 가압 기체는 비활성기체 또는 이산화탄소인 것이 바람직하지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 저장된 약액과 반응하지 않고 가압 상태에서 안정적인 기체이면 충분하다.
벤트 라인(74)은 저장 용기(21)의 상부에 연결된다. 가압 기체 공급 라인(73)은 저장 용기(21)의 기체를 저장 용기(21)의 외부로 배출시킨다.
액 유입 라인(71)애는 액 유입 밸브(71a)가 설치된다. 액 공급 라인(72)에는 제1 액 공급 밸브(72a) 및 제2 액 공급 밸브(72b)가 설치된다(제1 액 공급 밸브(72a) 또는 제2 액 공급 밸브(72b)는 제1 밸브에 해당한다). 가압 기체 공급 라인(73)에는 가압 기체 공급 밸브(73a)가 설치된다(가압 기체 공급 밸브(73a)는 제2 밸브에 해당한다). 벤트 라인(74)에는 벤트 밸브(74a)가 설치된다(벤트 밸브(74a)는 제3 밸브에 해당한다).
도 2는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 약액 공급 유닛을 도시하면서, 약액 공급 유닛의 저장 용기(21)는 단면 사시도로 나타내 도면이다. 도 2를 더 참조하여 액 공급 유닛(20)을 상세하게 설명한다.
저장 용기(21)는 약액을 저장한다. 저장 용기(21)는 약액이 저장되는 내부 공간을 제공한다. 저장 용기(21)의 내벽에는 홈(22)이 형성된다. 홈(22)은 선형의 홈으로 제공될 수 있다. 일 예로 도 2에는 링 형상의 홈이 복수개 제공되는 것을 도시하였으나, 빗살 무늬, 물결 무늬, 나선 무늬 등의 형태로 형성될 수 있다.
도 3은 도 2에 도시된 본 발명의 제1 실시 예에 따른 저장 용기의 A부분 단면을 확대한 도면이다. 도 3을 참조하여 저장 용기(21)의 내벽에 형성된 홈(22)에 대해 보다 상세히 설명한다.
홈(22)은 소정의 깊이(d)와 소정 너비(W)와 각 홈(22) 사이의 간격(p)과 각도(Ψ)를 갖는다. 소정의 깊이(d)와 소정 너비(W)와 각 홈(22) 사이의 간격(p)과 각도(Ψ)가 특별히 어느 수치에 한정되는 것은 아니며, 후술하여 설명하는 원리에 따라 버블이 생성되기에 충분한 크기로 형성되면 충분하다.
일 예에 있어서, 홈(22)의 깊이(d)는 1㎛ 내지 100㎛일 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 홈(22)의 너비(W)는 1㎛ 내지 100㎛일 수 있다. 일 실시 예에 있어서, 홈의 각도(Ψ)는 45도 이하이다. 일 실시 예에 있어서, 각 홈(22) 사이의 간격(p)은 버블을 생성하는데 중요한 인자(factor)는 아니나, 버블의 양에 관한 인자(factor)가 될 수 있다.
도 4 내지 도 8은 제1 실시 예에 따른 약액 공급 유닛에서 약액에서 파티클이 응집되는 과정을 순서대로 나열한 것이다. 도 4 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 일 실시 예에 따라 파티클을 성장시켜 응집시키는 과정을 설명한다.
액 저장 탱크(10)에 저장된 액은 액 유입 밸브(71a)의 개방에 따라, 저장 용기(21)로 유입된다. 참고로, 액의 원활한 이송을 위해 액 유입 라인(71)에는 펌프가 더 제공될 수 있다. 약액은 저장 용기(21)에 소정량이 이송되어 저장 용기(21)에 저장될 수 있다.
도 4는 저장 용기(21)에 저장된 소정량의 액이 가압되어 있는 상태를 도시한다. 저장된 약액은 제1 압력(예컨대, 대기압보다 높은 압력)의 상태로 가압된다. 약액의 가압은 액 유입 밸브(71a), 제1 액 공급 밸브(72a) 및/또는 제2 액 공급 밸브(72b), 그리고 벤트 밸브(74a)의 폐쇄 상태에서 가압 기체 공급 밸브(73a)가 개방 상태로 됨에 따라, 가압 기체가 저장 용기(21)의 내부로 공급됨으로써 이루어진다. 가압 기체의 공급은 액이 설정된 가압 상태에 도달할 때까지 이루어진다. 설정된 가압 상태는 약액이 제1 압력으로 가압된 상태일 수 있다. 약액이 제1 압력으로 가압된 이후 벤트 라인(74)의 벤트 밸브(74a)를 개방한다.
도 5는 벤트 밸브(74a)의 개방에 따라 약액에 가해지는 압력이 제1 압력에서 제1 압력보다 낮은 제2 압력으로 강하될 때, 홈(22)에서 버블이 형성되기 시작하는 상태를 도시한다. 제2 압력 상태 아래에서 홈(22)에서는 버블(B)이 성장된다. 제2 압력은 제1 압력보다는 낮고, 대기압보다는 높은 압력일 수 있다. 제1 압력에서 제2 압력으로의 전환은 벤트 라인(74)의 벤트 밸브(74a)를 개방함으로써 이루어질 수 있다.
도 6은 약액이 제3 압력의 상태로 될 때, 홈(22)에서 버블(B)이 성장한 상태를 도시한다. 제3 압력은 제2 압력보다 낮다. 예컨대 제3 압력은 대기압일 수 있다. 제3 압력 상태 아래에서 홈(22)에서 버블(B)은 충분히 성장한 상태일 수 있다.
도 4 내지 도 5에서 제1 압력에서 제3 압력으로의 감압을 순차적으로 설명하였으나, 제1 압력에서 제3 압력으로의 감압은 순간적으로 이루어진다.
도 7은 성장한 버블에 파티클이 들러붙은 상태를 도시한다. 성장하는 상태에 있는 버블 또는 성장한 버블에는 크고 작은 파티클들(P)(바람직하게는 미세한 파티클)이 들러 붙을 수 있다. 크고 작은 파티클들(P)이 버블(B)에 들러 붙으면서, 또한 파티클끼리 서로 응집됨에 따라 도 8에서 도시하는 바와 같이 성장된 크기의 파티클(P)이 생성된다. 성장된 파티클(P)은 버블(B)과 분리된다. 또한 버블(B)은 그 크기가 임계 크기 이상으로 성장되었을 때 홈(22)과 분리된다.
버블(B)은 약액의 상부로 상승하여 벤트 라인을 통해 벤트된다. 성장된 파티클(P)은 약액 공급 라인(72)을 통해 흐르면서 필터(80)에 포집되어 제거된다.
만약 미세한 파티클을 응집시켜 성장시키지 않았다면, 미세한 파티클들은 필터(80)를 통과하여 기판(W)에 공급됨으로써 결함을 일으킬 수 있으나, 본 발명의 실시 예에 따르면, 미세한 파티클을 응집시킴으로써 그 크기를 성장시켜 필터(80)에 포집되게 할 수 있다.
도 9는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 약액 공급 유닛을 도시하면서, 약액 공급 유닛의 저장 용기는 단면 사시도로 나타내 도면이다. 도 9를 참조하여, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 약액 공급 유닛의 저장 용기(121)를 설명한다. 저장 용기(121)의 내벽에는 홈(122)이 형성된다. 홈(122)은 원뿔형상으로 형성될 수 있다. 본 명세서에서 홈(122)의 크기를 다소 과장되게 도시하였으나, 홈(122)의 깊이와 너비는 ㎛단위의 것으로 형성된다.
다시 도 1을 참조하여, 기판 처리 장치를 이루는 구성을 설명한다. 처리 유닛(30)은 처리 용기(33)와, 지지 부재(31)와, 노즐(35)을 포함한다.
처리 용기(33)는 내부 공간이 형성된 컵 형상으로 제공된다. 지지 부재(31)는 처리 용기(22)의 내부 공간에 제공되고 기판(W)을 지지하며, 지지된 기판(W)을 회전시킬 수 있다. 처리 용기(33)는 기판(W)으로부터 비산되는 약액이 외부 환경으로 튀는 것을 방지하는 가드로서 기능한다. 노즐(35)는 기판(W)의 상부 영역에 대응되도록 제공되며, 기판에 약액을 공급한다. 노즐(35)은 약액 공급 라인(72)의 단부에 제공된다.
제어기(미도시)는 일 예에 의하면, 기판 처리 장치의 시스템 전체를 제어할 수 있다. 구체적으로, 제어기(미도시)는 상술하여 설명한 기판 처리 장치의 구동 방법에 따라, 액 유입 밸브(71a), 제1 액 공급 밸브(72a), 제2 액 공급 밸브(72b), 가압 기체 공급 밸브(73a), 벤트 밸브(74a)의 개폐를 제어한다.
상술하여, 액 공급 유닛의 예로 레저버 탱크 또는 버퍼 탱크 또는 중간 탱크에 해당하는 저장 용기(21)와 그에 부대하는 구성을 대응시켜 설명하였으나, 액 공급 유닛은 약액을 저장할 수 있는 저장 용기에 해당하는 액 저장 구성과, 저장된 액을 가압할 수 있는 가압 가스 공급 라인에 해당하는 구성과, 저장 용기 내부의 기체를 외부로 배출하는 밴트 라인에 해당하는 구성과, 저장된 액을 외부로 전달할 수 있는 액 공급 라인에 해당하는 구성이 있으면 충분한 것이지, 도시된 실시 예가 권리범위를 한정하는 것으로 해석되어서는 안된다.

Claims (17)

  1. 액을 저장하고, 상기 액이 닿는 내벽에 홈이 형성된 저장 용기와;
    상기 저장 용기에 저장된 액을 상기 저장 용기의 외부로 공급하는 액 공급 라인과;
    상기 저장 용기에 상기 액을 가압하는 가압 기체를 공급하는 가압 기체 공급 라인과;
    상기 저장 용기 내부의 기체를 상기 저장 용기의 외부로 배출하는 벤트 라인을 포함하며;
    상기 홈의 깊이는 1㎛ 내지 100㎛인 액 공급 유닛.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 액 공급 라인에 제공되는 필터를 더 포함하는 액 공급 유닛.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 액 공급 라인에 제공되는 제1 밸브와;
    상기 가압 기체 공급 라인에 제공되는 제2 밸브와;
    상기 벤트 라인에 제공되는 제3 밸브와;
    제어기를 더 포함하고,
    상기 제어기는,
    상기 제1 밸브, 상기 제2 밸브 및 상기 제3 밸브의 개폐를 제어하는 액 공급 유닛.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 제어기는,
    소정량의 상기 액이 상기 저장 용기에 채워진 상태에서,
    상기 제1 밸브 및 상기 제3 밸브의 폐쇄 상태에서, 상기 제2 밸브를 개방하여 상기 저장 용기에 저장된 액을 가압하고,
    상기 액이 설정된 가압 상태에 도달한 이후, 상기 제3 밸브를 개방시켜 상기 저장 용기의 내부를 감압하는 액 공급 유닛.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 제3 밸브는 상기 저장 용기의 내부가 대기압에 도달할 때까지 개방 상태로 계속되는 액 공급 유닛.
  6. 삭제
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 가압 기체는 비활성기체 또는 이산화탄소인 액 공급 유닛.
  8. 처리 용기와;
    상기 처리 용기의 내부 공간에 제공되고 기판을 지지하고 회전시키는 지지 부재와;
    상기 지지 부재에 지지된 기판에 액을 공급하는 노즐과;
    상기 액을 저장하고, 상기 액이 닿는 내벽에 홈이 형성된 저장 용기와;
    상기 저장 용기에 저장된 액을 상기 노즐로 전달하는 액 공급 라인과;
    상기 저장 용기에 상기 액을 가압하는 가압 기체를 공급하는 가압 기체 공급 라인과;
    상기 저장 용기 내부의 기체를 상기 저장 용기의 외부로 배출하는 벤트 라인을 포함하며;
    상기 홈의 깊이는 1㎛ 내지 100㎛인 기판 처리 장치.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 액 공급 라인에 제공되는 필터를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제8 항에 있어서,
    상기 액 공급 라인에 제공되는 제1 밸브와;
    상기 가압 기체 공급 라인에 제공되는 제2 밸브와;
    상기 벤트 라인에 제공되는 제3 밸브와;
    제어기를 더 포함하고,
    상기 제어기는,
    상기 제1 밸브, 상기 제2 밸브 및 상기 제3 밸브의 개폐를 제어하는 기판 처리 장치.
  11. 제10 항에 있어서,
    상기 제어기는,
    소정량의 상기 액이 상기 저장 용기에 채워지면,
    상기 제1 밸브 및 상기 제3 밸브의 폐쇄 상태에서, 상기 제2 밸브를 개방하여 상기 저장 용기에 저장된 액을 가압하고,
    상기 액이 설정된 가압 상태에 도달한 이후, 상기 제3 밸브를 개방시켜 상기 저장 용기의 내부를 감압하고,
    이후, 상기 제1 밸브를 개방하여 상기 액이 기판으로 공급되도록 제어하는 기판 처리 장치.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 제3 밸브는 상기 저장 용기의 내부가 대기압에 도달할 때까지 개방 상태로 계속되는 기판 처리 장치.
  13. 삭제
  14. 액이 닿는 내벽에 홈이 형성된 저장 용기에 액 저장하는 단계와;
    상기 저장 용기에 저장된 액을 가압하는 단계와;
    상기 가압을 해제하고, 상기 저장 용기 내부의 기체를 배출하는 단계를 포함하며;
    상기 홈의 깊이는 1㎛ 내지 100㎛인 액 처리 방법.
  15. 제14 항에 있어서,
    상기 저장 용기에 저장된 액을 가압하는 단계는,
    상기 저장 용기에 가압 기체를 공급함으로써 이루어지는 액 처리 방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 가압 기체는 비활성기체 또는 이산화탄소인 액 처리 방법.
  17. 삭제
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