KR102491879B1 - 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치 - Google Patents

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    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세정 장치는, 제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐을 세정하는 장치로써, 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로, 상기 노즐을 향해 세정 가스를 분사하는 복수 개의 분사부; 및 상기 복수 개의 분사부 중 적어도 하나의 분사부와 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치되며, 상기 세정 가스를 흡입하는, 적어도 하나의 흡입부;를 포함할 수 있다.

Description

노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치{NOZZLE CLEANING APPARATUS AND DISPENSING APPARATUS INCLUDING THE SAME}
본 발명의 실시예들은 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치에 관한 것이다.
최근 들어, 액정디스플레이(liquid crystal display, LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP), 유기발광다이오드(organic light emitting diodes, OLED)와 같이 가볍고 얇은 평판디스플레이(flat panel display, FPD)가 널리 보급되어 많이 사용되고 있다.
여기에서, 액정디스플레이(LCD)에 적용되는 액정패널은 두 기판 사이의 간격을 유지하고 액정이 누출되는 것을 방지하기 위하여 두 기판 중 적어도 어느 한 기판에 페이스트 상태의 도포 물질을 도포하여 소정의 패턴을 형성한 다음, 두 기판 사이에 액정층을 형성하는 과정을 통하여 제조된다. 이 때, 기판 상에 패턴을 형성하는 과정에는 디스펜싱 장치가 이용된다.
디스펜싱 장치는, 기판이 로딩되는 스테이지 및 스테이지에 로딩된 기판 상에 페이스트 상태의 도포 물질을 도포하는 노즐을 포함할 수 있다. 노즐은 기판과 일정한 갭(gap)을 유지한 상태에서 수평 방향으로 이동하면서 기판 상에 소정의 패턴을 형성한다.
이와 같은 디스펜싱 장치를 이용하여 기판 상에 소정의 패턴을 형성하는 공정에서, 노즐의 토출구 주변에 도포 물질이 묻을 수 있다. 노즐의 토출구 주변에 도포 물질이 묻으면, 노즐의 토출구가 그 주변에 묻은 도포 물질에 의하여 부분적 또는 전체적으로 폐색되어 도포 물질의 토출이 원활하지 않을 수 있다. 또한, 노즐의 토출구 주변에는 이물질이 묻을 수도 있는데, 이러한 경우에는 기판 상에 도포되는 도포 물질에 이물질이 혼입될 수 있다. 이에 따라, 소정의 패턴을 형성하는 과정은 노즐의 토출구 주변에 도포 물질이나 이물질이 묻었는지를 주기적으로 확인하고 노즐의 토출구 주변에 묻은 도포 물질이나 이물질을 제거하는 작업이 요구된다.
본 발명의 실시예들은 도포 물질을 분사하는 노즐을 세정 가스로 세정하는 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 노즐 세정 장치는,
제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐을 세정하는 장치로써,
상기 제1 방향과 교차하는 방향으로, 상기 노즐을 향해 세정 가스를 분사하는 복수 개의 분사부; 및
상기 복수 개의 분사부 중 적어도 하나의 분사부와 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치되며, 상기 세정 가스를 흡입하는, 적어도 하나의 흡입부;를 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부는 분사 방향이 서로 다르도록 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 링 형상을 가지는 제1 지지 프레임;을 더 포함하며, 상기 복수 개의 분사부는 상기 제1 지지 프레임의 제1 영역에 배치되며, 상기 흡입부는 상기 제1 지지 프레임의 제2 영역에 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부는, 상기 제1 영역에 일정 간격으로 이격 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부의 작동 여부 및 분사 압력 중 적어도 하나를 개별적으로 제어하는 제어부;를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부의 일부 분사부는 제1 압력으로 세정 가스를 분사하며, 상기 복수 개의 분사부의 다른 일부 분사부는 상기 제1 압력과 다른 제2 압력으로 세정 가스를 분사할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 지지 프레임은 상기 제1 방향과 평행한 방향으로 이동 가능할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 지지 프레임은 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 이동 가능할 수 있다.
일 실시예에 있어서, 링 형상을 가지는 복수의 제1 지지 프레임;을 더 포함하며, 상기 복수 개의 분사부 및 상기 적어도 하나의 흡입부는 상기 복수의 지지 프레임 각각에 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 장공을 가지는 제2 지지 프레임;을 더 포함하며, 상기 복수 개의 분사부 및 상기 적어도 하나의 흡입부는 상기 제2 지지 프레임에 배치될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 복수 개의 분사부는 홀수 개일 수 있다.
일 실시예에 있어서, 상기 제1 방향은 중력 방향일 수 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따른 디스펜싱 장치는,
제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐; 및
상기 노즐을 세정하며, 상술한 실시예에 따른 노즐 세정 장치;를 포함할 수 있다.
전술한 것 외의 다른 측면, 특징, 이점이 이하의 도면, 특허청구범위 및 발명의 상세한 설명으로부터 명확해질 것이다.
이러한 일반적이고 구체적인 측면이 시스템, 방법, 컴퓨터 프로그램, 또는 어떠한 시스템, 방법, 컴퓨터 프로그램의 조합을 사용하여 실시될 수 있다.
상술한 노즐 세정 장치 및 이를 포함하는 디스펜싱 장치는, 노즐과 도포면 간의 간격 유지가 용이하며, 노즐의 주변으로 코안다 효과(coanda effect)에 따른 기류가 형성되게 함으로써 노즐의 세정 과정에서 이물질 등이 비산하는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 따른 디스펜싱 장치를 예시적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 실시예에 따른 디스펜싱 장치의 노즐 세정 장치를 나타낸 사시도이며,
도 3a는 실시예에 따른 디스펜싱 장치의 노즐 세정 장치를 나타낸 단면도이며, 도 3b는 실시예에 따른 디스펜싱 장치의 노즐 세정 장치를 나타낸 평면도이다.
도 4는 도 3b의 노즐의 외부 표면 주변에 나타나는 코안다 효과를 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 도 3a의 복수 개의 분사부를 설명하기 위한 도면이며,
도 6은 실시예에 따른 노즐 세정 장치의 작동 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 실시예에 따른 노즐 세정 장치의 일 예를 나타낸 평면도이다.
도 8은 복수의 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치의 일 예를 설명하는 도면이며,
도 9는 복수의 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치의 다른 예를 설명하는 도면이며,
도 10은 복수의 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치의 또 다른 예를 설명하는 도면이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 본 발명의 효과 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 구현될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 도면을 참조하여 설명할 때 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
이하의 실시예에서, 제1, 제2 등의 용어는 한정적인 의미가 아니라 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하는 목적으로 사용되었다.
이하의 실시예에서, 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
이하의 실시예에서, 포함하다 또는 가지다 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 또는 구성요소가 존재함을 의미하는 것이고, 하나 이상의 다른 특징들 또는 구성요소가 부가될 가능성을 미리 배제하는 것은 아니다.
도 1은 일 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)를 예시적으로 나타낸 도면이다. 도 1을 참조하면, 디스펜싱 장치(1)는 노즐(10)을 포함한다. 도면상 도시되지 않았지만, 디스펜싱 장치(1)는 기판을 지지하는 지지 장치(미도시)를 더 포함할 수 있다.
노즐(10)은 제1 방향, 예를 들어, 중력 방향(-Z 방향)으로 도포 물질(m)을 분사 또는 토출한다. 노즐(10)에서 분사된 도포 물질(m)은 기판(S) 상에 도포된다.
노즐(10)은 제1 방향과 교차하는 방향으로 이동할 수 있다. 그에 따라, 노즐(10)에서 분사된 도포 물질(m)이 기판(S) 상에 소정의 패턴을 가지도록 형성될 수 있다.
노즐(10)은 수평 방향, 예를 들어 전후 방향(X 방향)으로 이동할 수 있다. 그에 따라, 기판(S) 상에 도포 물질(m)이 전후 방향(X 방향)으로 형성될 수 있다. 다만, 노즐(10)의 이동 방향은 전후 방향(X 방향)에 한정되지 않으며, 원하는 형상에 따라, 달라질 수 있음은 물론이다.
상기와 같이, 노즐(10)에서 도포 물질(m)이 분사되는 과정에서 도포 물질(m)에 의해 노즐(10)의 토출구(11) 주변 또는 노즐(10)의 외부 표면이 오염될 수 있다. 또한, 노즐(10)에서 도포 물질(m)이 분사된 이후, 노즐(10)의 토출구(11) 주변에 맺힌 도포 물질(m)에 의해 노즐(10)의 단부가 오염될 수 있다. 그로 인해, 노즐(10)의 토출구(11)가 부분적 또는 전체적으로 폐색되어 도포 물질(m)의 분사가 원활하지 않을 수 있다. 또한, 노즐(10)의 토출구(11) 주변에는 이물질이 묻을 수도 있는데, 이러한 경우에는 기판(S) 상에 도포되는 도포 물질(m)에 이물질이 혼입될 수 있다.
이러한 점을 고려하여, 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)는 노즐(10)의 내외부를 세정하기 위한 노즐 세정 장치(20)를 포함할 수 있다.
도 2는 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)의 노즐 세정 장치(20)를 나타낸 사시도이며, 도 3a는 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)의 노즐 세정 장치(20)를 나타낸 단면도이며, 도 3b는 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)의 노즐 세정 장치(20)를 나타낸 평면도이다.
도 2 및 도 3a를 참조하면, 실시예에 따른 디스펜싱 장치(1)는 노즐(10)을 세정하는 노즐 세정 장치(20)를 포함한다. 노즐 세정 장치(20)는 제1 지지 프레임(210), 제1 지지 프레임(210)에 배치된 복수 개의 분사부(230) 및 흡입부(250)를 포함한다.
제1 지지 프레임(210)은 노즐(10)의 단부가 삽입 가능한 제1 삽입 구멍(2100)을 가진다. 예를 들어, 제1 지지 프레임(210)은 링 형상을 가지며, 제1 삽입 구멍(2100)은 원형일 수 있다.
복수 개의 분사부(230) 각각은 제1 방향과 교차하는 방향으로 노즐(10)을 향해 세정 가스를 분사할 수 있다. 여기서, 교차하는 방향이란 수직인 방향으로 제한되지 않으며, 평행하지 않은 방향으로 정의한다. 복수 개의 분사부(230) 각각은 제1 방향과 80도 ~ 100도를 이루는 방향으로 세정 가스를 분사할 수 있다.
세정 가스는 공기, 비활성 가스, 및 도포 물질(m)에 반응하여 도포 물질(m)을 녹일 수 있는 반응 가스 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 여기서, 비활성 가스는 질소 가스, 아르곤 가스 등일 수 있다.
실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)는, 세정 가스를 분사하여 노즐(10)을 세정하는 비접촉 방식이기 때문에, 세정 테이프를 이용하여 세정하는 접촉 방식에 비해 균일한 세정이 가능하다. 세정액을 이용하는 세정 방식은 세정액 분사 후 세정액을 건조시키는 건조 공정이 필요한 반면, 실시예와 같이 세정 가스를 이용하는 세정 방식은 별도의 건조 공정이 불필요하기 때문에, 바로 다음 공정을 진행할 수 있다.
도 2 및 도 3b를 참조하면, 복수 개의 분사부(230)는, 세정 가스의 분사 방향이 서로 다르도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 복수 개의 분사부(230)의 분사 방향은 서로 교차하도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 복수 개의 분사부(230)는 링 형상의 제1 지지 프레임(210)의 제1 영역(211)에 배치될 수 있다. 복수 개의 분사부(230)는 제1 영역(211)에 일정 간격으로 이격 배치될 수 있다.
복수 개의 분사부(230)는 홀수 개일 수 있다. 실시예에서는, 복수 개의 분사부(230)가 5개인 예를 설명하였으나, 이에 한정되지 아니하며, 3개 또는 7개 이상의 홀수일 수 있다. 도면상 도시하지 않았으나, 각각의 분사부(230)에는 세정 가스를 분사하는 한 개 또는 복수 개의 분사 구멍(미도시)이 형성된다.
흡입부(250)는 복수 개의 분사부(230)에서 분사된 세정 가스를 흡입한다. 흡입부(250)는 복수 개의 분사부(230) 중 적어도 하나의 분사부(230)와 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치될 수 있다. 예를 들어, 흡입부(250)는 복수 개의 분사부(230) 중 가운데에 위치한 분사부(230A)에 전후 방향으로 대향하도록 배치될 수 있다.
흡입부(250)는 제1 지지 프레임(210)의 제2 영역(212)에 배치될 수 있다. 제2 영역(212)은 제1 영역(211)과 다른 영역이다. 제2 영역(212)은 제1 삽입 구멍(2100)에 삽입된 노즐(10)을 기준으로 제1 영역(211)의 적어도 일부 영역과 반대 방향에 배치될 수 있다.
다시 도 2 및 도 3a를 참조하면, 분사부(230)와 흡입부(250)가 제1 방향과 교차하는 방향으로 배치되기 때문에, 노즐 세정 장치(20)의 두께(T)를 작게 할 수 있다. 예를 들어, 노즐 세정 장치(20)의 두께(T)는 50 mm 이하일 수 있다. 바람직하게는, 노즐 세정 장치(20)의 두께(T)는 30 mm 이하일 수 있다. 다만, 노즐 세정 장치(20)의 두께(T)는 분사부(230)의 분사 구멍의 크기를 고려하여 1 mm 이상일 수 있다.
노즐 세정 장치(20)의 두께(T)를 작게 함으로써, 세정을 위한 노즐(10)의 이동을 방지하거나, 세정을 위한 노즐(10)의 이동 시간을 줄일 수 있다. 또한, 중력 방향과 수직인 방향으로 흡입부(250)가 배치되기 때문에, 이물질 또는 도포 물질(m)이 의도치 않게 흡입부(250)에 침투하여, 흡입부(250)가 막히는 현상을 방지할 수 있다.
다시 도 3b를 참조하면, 복수 개의 분사부(230)가 노즐(10)을 향해 세정 가스를 분사한다. 흡입부(250)는 노즐(10)을 사이에 두고 복수 개의 분사부(230)의 적어도 하나의 분사부(230A)와 반대 방향에 위치되어 있기 때문에, 노즐(10)에 부딪힌 세정 가스가 흡입부(250)를 향해 이동하도록 유도할 수 있다. 이러한 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)에 의해, 세정 가스는 노즐(10)의 외부 표면에 밀착하여 흐르는 현상, 이른바 코안다 효과(coanda effect)가 발생할 수 있다.
도 4는 도 3b의 노즐(10)의 외부 표면의 주변에 나타나는 코안다 효과를 설명하기 위한 도면이다. 도 4를 참조하면, 노즐(10)을 향해 분사된 세정 가스는 노즐(10)의 외부 표면에 밀착하여 흐르는 기류를 형성할 수 있다.
만일, 본 실시예와 달리, 노즐(10)의 외부 표면의 주변으로 난류(turbulence)가 우세하게 나타날 경우, 제거하고자 하는 도포 물질(m)이나 이물질이 주변으로 비산하게 되며, 이는 노즐 세정 장치(20)의 품질 저하로 이어질 수 있다. 경우에 따라, 비산된 도포 물질(m)이나 이물질에 의해 노즐(10)이 막히거나 고착화될 수 있다.
그러나, 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)에서는, 세정 가스가 노즐(10)의 외부 표면에 밀착하여 흐르는 기류를 형성하도록 함으로써, 제거 대상인 도포 물질(m)이나 이물질이 비산되지 않고 흡입부(250)로 흡입되며, 그에 따라 노즐 세정 장치(20)의 품질 저하를 방지할 수 있다.
도 3a를 다시 참조하면, 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)는 이동부(260)를 더 포함할 수 있다.
이동부(260)는 제1 지지 프레임(210)을 제1 방향과 평행한 방향, 예를 들어, 상하 방향(Z 방향)으로 이동시킬 수 있다. 그에 따라, 제1 지지 프레임(210)에 배치된 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)가 상하 방향(Z 방향)으로 이동될 수 있다.
일 예로써, 복수 개의 분사부(230) 및 흡입부(250)가 하강하여, 세정 가스가 노즐(10)의 토출구(11) 주변에 밀착하여 흐르는 기류를 형성할 수 있다. 그에 따라, 노즐(10)의 토출구(11) 밖으로 맺힌 도포 물질(m)을 제거할 수 있다. 또한, 노즐(10)의 내부에 맺힌 도포 물질(m)의 일부를 제거할 수 있다.
다른 예로써, 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)가 상승하여, 세정 가스가 노즐(10)의 토출구(11)보다 상부 영역의 외부 표면에 밀착하여 흐르는 기류를 형성할 수 있다. 그에 따라, 노즐(10)의 외부 표면에 묻은 도포 물질(m)을 제거할 수 있다.
도 5는 도 3a의 복수 개의 분사부(230)를 설명하기 위한 도면이며, 도 6은 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)의 작동 예를 설명하기 위한 도면이다.
도 5를 참조하면, 분사부(230)는 제1 지지 프레임(210; 도 6 참조)에 지지되는 지지 부분(231)과 세정 가스를 분사하는 분사 부분(233)을 포함한다. 지지 부분(231)은 제1 지지 프레임(210)에 고정되며, 분사 부분(233)을 힌지 축(A)을 기준으로 회전 가능하게 지지할 수 있다. 그에 따라, 분사 부분(233)은 힌지 축(A)을 기준으로 소정 각도만큼 회전이 가능하다.
도 6을 참조하면, 분사부(230)는 분사 부분(233)이 힌지 축(A)을 기준으로 회전하여 노즐(10)의 토출구(11)를 향하여 세정 가스를 분사할 수 있다. 이 때, 분사부(230)의 분사 부분(233)은 노즐(10)의 토출구(11)보다 아래에 위치할 수 있다. 그에 따라, 노즐(10)의 내부에 맺힌 도포 물질(m)의 일부를 제거할 수 있다.
한편, 도 5 및 도 6에서는 분사부(230)의 각도를 조정 가능한 실시예를 중심으로 설명하였다. 다만, 분사부(230)의 각도 조정을 위한 구조는 선택적인 것이므로, 필요에 따라 분사부(230)의 각도가 고정될 수 있다. 이 경우, 분사부(230)는 제1 지지 프레임(210)에 별도의 부재로 설치되지 않고 하나의 부재로 형성될 수도 있다.
도 7은 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20)의 일 예를 나타낸 평면도이다. 도 7을 참조하면, 노즐 세정 장치(20)는 복수 개의 분사부(230)에 연결된 제어부(270)를 더 포함할 수 있다.
제어부(270)는 복수 개의 분사부(230)의 작동 및 분사 압력 중 적어도 하나를 개별적으로 제어할 수 있다. 예를 들어, 복수 개의 분사부(230)의 일부 분사부(230)는 제1 압력으로 세정 가스를 분사하고, 복수 개의 분사부(230)의 다른 분사부(230)는 제1 압력과 다른 제2 압력으로 세정 가스를 분사할 수 있다. 이와 같이, 복수 개의 분사부(230)에서 분사된 세정 가스의 분사 압력을 개별적으로 제어함으로써, 코안다 효과 및 그에 따른 세정 효과를 극대화할 수 있는 기류를 형성할 수 있다.
또한, 제어부(270)는 노즐(10)의 오염 상태에 따라 복수 개의 분사부(230)의 작동 및 분사 압력을 제어할 수 있다. 예를 들어, 노즐(10)의 외부 표면 중 일부 영역에만 도포 물질(m) 또는 이물질이 붙어있을 경우, 해당 일부 영역에 근접한 위치에 위치한 분사부(230)의 압력을 다른 분사부(230)의 압력보다 크게 할 수 있다. 그에 따라, 효율적인 세정 작업이 가능할 수 있다.
상술한 실시예들에서는, 노즐 세정 장치(20)가 원통 형상의 하나의 노즐(10)을 세정하는 예를 중심으로 설명하였다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 아니하며, 복수의 노즐(10) 또는 슬릿 형상의 노즐(10)을 세정하는 데 사용될 수 있다.
도 8은 복수의 노즐(10, 10a, 10b)을 세정하는 노즐 세정 장치(20a)의 일 예를 설명하는 도면이며, 도 9는 복수의 노즐(10, 10a, 10b)을 세정하는 노즐 세정 장치(20b)의 다른 예를 설명하는 도면이며, 도 10은 복수의 노즐(10, 10a, 10b)을 세정하는 노즐 세정 장치(20c)의 또 다른 예를 설명하는 도면이다. 설명의 편의상, 도 8 내지 도 10에서는 상술한 실시예들과 다른 점을 중심으로 도시하였다.
도 8을 참조하면, 일 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20a)는 복수의 제1 지지 프레임(210, 210a, 210b) 및 복수의 제1 지지 프레임(210, 210a, 210b) 각각에 배치된 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)를 포함할 수 있다. 분사부(230)와 흡입부(250)는 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치될 수 있다. 일 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20a)에서는, 복수 개의 노즐(10, 10a, 10b)에 대한 세정 작업이 동시에 진행될 수 있다.
도 9를 참조하면, 다른 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20b)는 제1 지지 프레임(210) 및 제1 지지 프레임(210)에 배치된 복수 개의 분사부(230)와 흡입부(250)를 포함할 수 있다. 제1 지지 프레임(210)은 제1 방향과 교차하는 방향으로 이동할 수 있다. 다른 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20b)에서는, 복수 개의 노즐(10, 10a, 10b)에 대한 세정 작업이 순차적으로 진행될 수 있다.
도 10을 참조하면, 또 다른 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20c)는 제2 지지 프레임(220) 및 제2 지지 프레임(220)에 배치된 복수 개의 분사부(230)와 복수 개의 흡입부(250)를 포함할 수 있다. 제2 지지 프레임(220)은 제1 방향과 교차하는 방향, 예를 들어, 좌우 방향으로 연장된 장공(2200)을 가진다.
또 다른 실시예에 따른 노즐 세정 장치(20c)의 제2 지지 프레임(220)은 장공(2200)이 제1 지지 프레임(210)의 제1 삽입 구멍(2100)에 비해 크기 때문에, 다양한 노즐(10)의 세정 작업이 가능하다. 도 10에 개시된 것처럼, 복수 개의 노즐(10)에 대한 세정 작업이 가능할 뿐만 아니라, 슬릿 형상을 가지는 노즐(10)에 대한 세정 작업도 가능하다.
한편, 이와 같이 본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
1 : 디스펜싱 장치
10, 10a, 10b : 노즐
11 : 토출구
20, 20a, 20b, 20c : 노즐 세정 장치
210 : 제1 지지 프레임
2100 : 제1 삽입 구멍
211 : 제1 영역
212 : 제2 영역
220 : 제2 지지 프레임
2200 : 장공
230 : 분사부
231 : 지지 부분
233 : 분사 부분
250 : 흡입부
260 : 이동부
270 : 제어부

Claims (13)

  1. 제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치로써,
    상기 제1 방향과 교차하는 방향으로, 상기 노즐을 향해 세정 가스를 분사하는 복수 개의 분사부;
    상기 복수 개의 분사부 중 적어도 하나의 분사부와 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 대향하도록 배치되며, 상기 세정 가스를 흡입하는, 적어도 하나의 흡입부; 및
    상기 복수 개의 분사부의 작동 여부 및 분사 압력 중 적어도 하나를 개별적으로 제어하는 제어부;를 포함하되,
    상기 복수 개의 분사부의 일부 분사부는 제1 압력으로 세정 가스를 분사하며, 상기 복수 개의 분사부의 다른 일부 분사부는 상기 제1 압력과 다른 제2 압력으로 세정 가스를 분사하며,
    상기 복수 개의 분사부는 분사 방향이 서로 다르도록 배치된, 노즐 세정 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    링 형상을 가지는 제1 지지 프레임;을 더 포함하며,
    상기 복수 개의 분사부는 상기 제1 지지 프레임의 제1 영역에 배치되며,
    상기 흡입부는 상기 제1 지지 프레임의 제2 영역에 배치되는, 노즐 세정 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 복수 개의 분사부는, 상기 제1 영역에 일정 간격으로 이격 배치된, 노즐 세정 장치.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제3항에 있어서,
    상기 제1 지지 프레임은 상기 제1 방향과 평행한 방향으로 이동 가능한, 노즐 세정 장치.
  8. 제3항에 있어서,
    상기 제1 지지 프레임은 상기 제1 방향과 교차하는 방향으로 이동 가능한, 노즐 세정 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    링 형상을 가지는 복수의 제1 지지 프레임;을 더 포함하며,
    상기 복수 개의 분사부 및 상기 적어도 하나의 흡입부는 상기 복수의 제1 지지 프레임 각각에 배치된, 노즐 세정 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    장공을 가지는 제2 지지 프레임;을 더 포함하며,
    상기 복수 개의 분사부 및 상기 적어도 하나의 흡입부는 상기 제2 지지 프레임에 배치된, 노즐 세정 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 복수 개의 분사부는 홀수 개인, 노즐 세정 장치.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 제1 방향은 중력 방향인, 노즐 세정 장치.
  13. 제1 방향으로 도포 물질을 분사하는 노즐; 및
    상기 노즐을 세정하며, 제1항, 제3항, 제4항, 제7항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 노즐 세정 장치;를 포함하는, 디스펜싱 장치.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003260423A (ja) * 2002-03-12 2003-09-16 Tatsumo Kk ノズル先端部の洗浄装置及び洗浄方法
JP2007216191A (ja) 2006-02-20 2007-08-30 Canon Machinery Inc 塗布ノズル清掃装置
JP2013251409A (ja) * 2012-05-31 2013-12-12 Tokyo Electron Ltd ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法および基板処理装置
JP2015024392A (ja) 2013-07-29 2015-02-05 キヤノン株式会社 塗布装置システムおよびニードル洗浄方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003260423A (ja) * 2002-03-12 2003-09-16 Tatsumo Kk ノズル先端部の洗浄装置及び洗浄方法
JP2007216191A (ja) 2006-02-20 2007-08-30 Canon Machinery Inc 塗布ノズル清掃装置
JP2013251409A (ja) * 2012-05-31 2013-12-12 Tokyo Electron Ltd ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法および基板処理装置
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