KR102459013B1 - Electromagnetic wave absorber and preparing method thereof - Google Patents

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KR102459013B1
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이종훈
이현재
박용범
정연준
박윤선
조용우
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(주)이녹스첨단소재
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Abstract

The present invention provides an electromagnetic wave absorber and a preparing method thereof, wherein the electromagnetic wave absorber includes a protective layer for protecting a metal magnetic powder (MMP) layer included in the electromagnetic wave absorber so as to improve resistance to physical and chemical impact applied to an exposed surface of the MMP layer.

Description

전자파 흡수체 및 그 제조 방법{ELECTROMAGNETIC WAVE ABSORBER AND PREPARING METHOD THEREOF}Electromagnetic wave absorber and manufacturing method thereof

본 발명은 연성회로기판(flexible printed circuits board; FPCB) 공정에 사용되는 커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체에 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 전자파 흡수체에 포함되는 전자파 흡수층을 보호하기 위한 보호층을 추가로 적층시킴으로써, 물리적·화학적 충격에 저항성을 향상시킨 커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to an electromagnetic wave absorber having a cover-lay-integrated structure used in a flexible printed circuit board (FPCB) process, and more specifically, a protective layer for protecting the electromagnetic wave absorption layer included in the electromagnetic wave absorber. By laminating, it relates to an electromagnetic wave absorber having a coverlay-integrated structure having improved resistance to physical and chemical shocks, and a method for manufacturing the same.

최근, 전자제품의 소형화 및 경량화가 되면서 개발된 전자부품으로 작업성이 뛰어나고, 내열성 및 내곡성, 내약품성이 강하며, 열에 강한 연성회로기판(FPCB)가 다양한 전자부품에 널리 사용되고 있다. Recently, as electronic components developed as electronic products become smaller and lighter, flexible circuit boards (FPCBs) that have excellent workability, have strong heat resistance, bending resistance, and chemical resistance, and are resistant to heat are widely used in various electronic components.

한편, 전자·통신 기술의 발달에 따라 전자파의 상호 간섭으로 인하여 기기의 오작동 등을 일으키는 등의 전자파 장애(EMI: Electromagnetic Interference) 문제가 심각해지고 있다. 아울러, 전자 기기로부터 발생하는 전자파의 경우 인체에 악영향을 미치고 있음이 계속해서 보고됨에 따라, 전자파의 영향을 방지하기 위하여, 전자부품에 전자파 흡수체를 적용하고 있다. On the other hand, with the development of electronic and communication technologies, electromagnetic interference (EMI) problems such as causing malfunctions of devices due to mutual interference of electromagnetic waves are becoming more serious. In addition, as it is continuously reported that electromagnetic waves generated from electronic devices adversely affect the human body, in order to prevent the effects of electromagnetic waves, electromagnetic wave absorbers are applied to electronic components.

상기 전자파 흡수체는 커버레이 필름(회로보호용 절연필름) 상에 전자파를 흡수하기 위한 재료로서 사용하는 금속 자성 입자(metal magnetic powder; MMP)을 포함하는 조액을 도포하여 전자파 흡수층(metal magnetic powder layer; MMP층)을 형성함으로써 커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체를 제조하는 것이 알려져 있다. The electromagnetic wave absorber is formed by coating a liquid containing metal magnetic powder (MMP) used as a material for absorbing electromagnetic waves on a coverlay film (insulation film for circuit protection) to form a metal magnetic powder layer (MMP). It is known to manufacture an electromagnetic wave absorber of a coverlay-integrated structure by forming a layer).

FPCB 공정 중 핫프레스 적층 공정 및 표면처리 공정(솔더링 도금 또는 금도금 등) 등에서 MMP층이 노출되는 경우가 발생하게 되는데, MMP층은 금속 자성 입자가 고함량으로 포함되므로 노출시 물리적·화학적 충격에 취약하다는 문제점이 있다. 이에 따라, 전자파 흡수체의 MMP층의 노출면에 가해지는 물리적·화학적 충격에 대한 저항성을 향상시키는 것에 대한 기술 개발의 필요성이 존재한다. During the FPCB process, the MMP layer is exposed in the hot press lamination process and surface treatment process (solder plating or gold plating, etc.) There is a problem that Accordingly, there is a need for technology development for improving resistance to physical and chemical shocks applied to the exposed surface of the MMP layer of the electromagnetic wave absorber.

본 발명은 종래의 전자파 흡수체에 비하여, MMP층(Metal Magnetic Powder layer)의 노출면에 가해지는 물리적 및 화학적 충격에 대한 저항성을 향상시킬 수 있는 전자파 흡수체 및 이의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave absorber capable of improving resistance to physical and chemical shocks applied to an exposed surface of an MMP layer (Metal Magnetic Powder layer), and a method for manufacturing the same, compared to a conventional electromagnetic wave absorber.

본 발명의 목적은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있고, 본 발명의 실시예에 의해 보다 분명하게 이해될 것이다. 또한, 본 발명의 목적 및 장점들은 특허 청구범위에 나타낸 수단 및 그 조합에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 알 수 있을 것이다.The object of the present invention is not limited to the above-mentioned object, and other objects and advantages of the present invention not mentioned may be understood by the following description, and will be more clearly understood by the examples of the present invention. Moreover, it will be readily apparent that the objects and advantages of the present invention may be realized by the means and combinations thereof indicated in the claims.

상술한 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명의 일 양태에 따르면, 제1 피도포부재층; 상기 제1 피도포부재층 하부에 형성되는 금속박층; 상기 금속박층의 하부에, 내열성 수지를 포함하는 제1 액상 조액이 도포되어 형성되는 제1 접착층; 상기 제1 접착층의 하부에 금속 자성 입자 및 바인더 수지를 포함하는 조성물로 형성되는 MMP층(Magnetic Metal Powder Layer); 상기 MMP층의 하부에 형성되는 제2 피도포부재층; 및 상기 제2 피도포부재층의 하부에, 내열성 및 절연성의 수지를 포함하는 제2 액상 조액이 도포되어 형성되는 제2 접착층;을 포함하고, 상기 MMP층 및 제1 접착층 사이에 상기 MMP층을 보호하기 위한 보호층이 추가로 배치되는 것을 특징으로 하는, 커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체를 제공할 수 있다. In order to solve the above technical problem, according to an aspect of the present invention, a first to-be-coated member layer; a metal foil layer formed under the first to-be-coated member layer; a first adhesive layer formed by coating a first liquid crude liquid containing a heat-resistant resin on a lower portion of the metal foil layer; an MMP layer (Magnetic Metal Powder Layer) formed of a composition including magnetic metal particles and a binder resin under the first adhesive layer; a second to-be-coated member layer formed under the MMP layer; and a second adhesive layer formed by coating a second liquid crude liquid containing a heat-resistant and insulating resin under the second to-be-coated member layer, wherein the MMP layer is disposed between the MMP layer and the first adhesive layer. It is possible to provide an electromagnetic wave absorber of a coverlay-integrated structure, characterized in that a protective layer for protection is additionally disposed.

이 때, 상기 MMP층을 보호하기 위한 보호층은 PI(Polyimide) 필름, PET(Polyethylene terephthalate) 필름 및 PEN(Polyethylene naphthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택된 1종으로 형성될 수 있다.In this case, the protective layer for protecting the MMP layer may be formed of one selected from the group consisting of a polyimide (PI) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, and a polyethylene naphthalate (PEN) film.

본 발명의 다른 일 양태에 따르면, (a) 제1 피도포부재층의 하부에 감압 점착제를 도포 후 금속박층을 배치시킨 다음, 라미네이션(lamination)하여 제1 코팅 제품을 제조하는 단계; (b) 제2 피도포부재층 상에 내열성 및 절연성 수지를 포함하는 제2 액상 조액을 도포한 후 코팅하여 10~30㎛ 두께의 제2 접착층을 형성한 다음, 이형기재층과 라미네이션하여 제2 코팅 제품을 제조하는 단계; (c) 2~7㎛ 두께의 보호층의 일면에 금속 자성 입자 및 바인더 수지를 포함하는 조성물을 도포한 후 코팅하여 MMP층(Magnetic Metal Powder Layer)을 형성하는 단계; (d) 상기 (c) 단계에서 보호층의 일면에 형성된 MMP층 하부에, 상기 제2 코팅 제품의 제2 피도포부재층을 맞닿도록 배치한 후 라미네이션하여 제3 코팅 제품을 제조하는 단계; 및 (e) 상기 (a) 단계의 제1 코팅 제품 중 금속박층의 하부에 내열성 수지를 포함하는 제1 액상 조액을 도포한 후 코팅하여 3~10㎛ 두께의 제1 접착층을 형성한 다음, 상기 제1 접착층의 하부에 상기 (d) 단계에서 제조된 제3 코팅 제품 의 보호층을 맞닿도록 배치한 후 라미네이션하여 제4 코팅 제품을 제조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는, 전자파 흡수체의 제조 방법을 제공할 수 있다.According to another aspect of the present invention, (a) applying a pressure-sensitive adhesive to the lower portion of the first to-be-coated member layer, and then disposing a metal foil layer, and then lamination (lamination) to prepare a first coating product; (b) a second liquid crude liquid containing heat-resistant and insulating resin is applied on the second to-be-coated member layer, coated to form a second adhesive layer with a thickness of 10 to 30 μm, and then laminated with a release base layer to obtain a second preparing a coated product; (c) forming an MMP layer (Magnetic Metal Powder Layer) by coating a composition containing magnetic metal particles and a binder resin on one surface of the protective layer having a thickness of 2 to 7 μm; (d) preparing a third coated product by arranging the second coated member layer of the second coated product in contact with the lower MMP layer formed on one surface of the protective layer in step (c), and then laminating; and (e) coating a first liquid crude liquid containing a heat-resistant resin on the lower portion of the metal foil layer of the first coating product of step (a) to form a first adhesive layer having a thickness of 3 to 10 μm, and then After arranging the protective layer of the third coating product prepared in step (d) in contact with the lower portion of the first adhesive layer, lamination to prepare a fourth coating product; Manufacturing of an electromagnetic wave absorber comprising a method can be provided.

본 발명에 따른 전자파 흡수체는, 전자파 흡수 효과가 우수한 MMP층(Metal Magnetic Powder layer)을 구비하면서도, MMP층의 노출면에 가해지는 물리적 및 화학적 충격에 대한 저항성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. The electromagnetic wave absorber according to the present invention has an effect of improving resistance to physical and chemical shocks applied to the exposed surface of the MMP layer while having an MMP layer (Metal Magnetic Powder layer) having excellent electromagnetic wave absorption effect.

또한, 본 발명에 따른 전자파 흡수체의 제조 방법은 커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체를 제조할 수 있으며, 전자파 흡수체의 박막화 및 생산효율성 증가를 달성할 수 있는 효과가 있다. In addition, the method for manufacturing an electromagnetic wave absorber according to the present invention can manufacture an electromagnetic wave absorber having an integrated coverlay structure, and has the effect of achieving a thin film of the electromagnetic wave absorber and increased production efficiency.

본 명세서의 효과는 이상에서 언급한 효과에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과는 아래의 기재로부터 본 기술분야의 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. 상술한 효과와 더불어 본 발명의 구체적인 효과는 이하 발명을 실시하기 위한 구체적인 사항을 설명하면서 함께 기술한다.The effect of the present specification is not limited to the above-mentioned effects, and another effect not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description. In addition to the above-described effects, the specific effects of the present invention will be described together while describing specific details for carrying out the invention below.

도 1 및 도 2는 본 발명의 일 양태에 따른 커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체의 단면도를 도시한 것이다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 비교예 1 및 실시예 1 각각에 대하여 실험예 2에 따라 실험한 금도금 평가 결과를 나타낸 것이다.
1 and 2 are cross-sectional views of an electromagnetic wave absorber having a coverlay-integrated structure according to an embodiment of the present invention.
3 and 4 show the gold plating evaluation results performed according to Experimental Example 2 for Comparative Examples 1 and 1, respectively, of the present invention.

전술한 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 후술되며, 이에 따라 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 것이다. 본 발명을 설명함에 있어서 본 발명과 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 상세한 설명을 생략한다. 이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 도면에서 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 구성요소를 가리키는 것으로 사용된다.The above-described objects, features and advantages will be described below in detail with reference to the accompanying drawings, and accordingly, those skilled in the art to which the present invention pertains will be able to easily implement the technical idea of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a known technology related to the present invention may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted. Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals are used to indicate the same or similar components.

본 명세서에서 기재되지 않은 내용 중 이 기술 분야의 통상의 기술자라면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것은 그 설명을 생략하기로 한다.Among the contents not described in the present specification, those skilled in the art that can be technically inferred will be omitted.

본 명세서에서 구성요소의 "상부 (또는 하부)" 또는 구성요소의 "상 (또는 하)"에 임의의 구성이 배치된다는 것은, 임의의 구성이 상기 구성요소의 상면 (또는 하면)에 접하여 배치되는 것뿐만 아니라, 상기 구성요소와 상기 구성요소 상에 (또는 하에) 배치된 임의의 구성 사이에 다른 구성이 개재될 수 있음을 의미할 수 있다. In the present specification, that any component is disposed on the "upper (or lower)" of the component or "upper (or below)" of the component means that any component is disposed in contact with the upper surface (or lower surface) of the component. In addition, it may mean that other components may be interposed between the component and any component disposed on (or under) the component.

본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "구성된다" 또는 "포함한다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 여러 구성 요소들을 반드시 모두 포함하는 것으로 해석되지 않아야 하며, 그 중 일부 구성 요소들은 포함되지 않을 수도 있고, 또는 추가적인 구성 요소들을 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다.As used herein, the singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, terms such as "consisting of" or "comprising" should not be construed as necessarily including all of the various components described in the specification, and some components may not be included, or additional components. It should be construed as being able to include more elements.

본 발명에 사용하는 용어 중 "커버레이(coverlay)"는 피도포부재층(주로, 폴리이미드)에 접착제가 코팅된 복합 필름을 일컫는데, 주로 에칭된 FPCB(Flexible Printed Circuit Board) 회로의 노출면을 보호하고 절연하기 위한 용도로 사용되며, "커버레이 일체형 전자파 흡수체"는 전자파 흡수 효과가 있는 층(필름)과 커버레이가 일체화된 상태로 제공될 수 있는 전자파 흡수체를 의미한다.Among the terms used in the present invention, "coverlay" refers to a composite film in which an adhesive is coated on a member layer (mainly, polyimide) to be coated, mainly on the exposed surface of the etched FPCB (Flexible Printed Circuit Board) circuit. It is used to protect and insulate, and "coverlay-integrated electromagnetic wave absorber" refers to an electromagnetic wave absorber that can be provided in an integrated state with a layer (film) having an electromagnetic wave absorption effect.

본 발명의 전자파 흡수체는 도 1에 개략적인 단면도로 나타낸 바와 같이, 순차적으로 적층된 제1 피도포부재층(10); 상기 제1 피도포부재층(10) 하부에 형성되는 금속박층(20); 상기 금속박층의 하부에, 내열성 수지를 포함하는 제1 액상 조액이 도포되어 형성되는 제1 접착층(30); 상기 제1 접착층(30)의 하부에 금속 자성 입자 및 바인더 수지를 포함하는 조성물로 형성되는 MMP층(Magnetic Metal Powder Layer)(50); 상기 MMP층의 하부에 형성되는 제2 피도포부재층(60); 및 상기 제2 피도포부재층의 하부에, 내열성 및 절연성의 수지를 포함하는 제2 액상 조액이 도포되어 형성되는 제2 접착층(70);을 포함하고, 상기 MMP층(50) 및 제1 접착층(30) 사이에 상기 MMP층(50)을 보호하기 위한 보호층(40)이 추가로 배치될 수 있다. As shown in a schematic cross-sectional view in FIG. 1, the electromagnetic wave absorber of the present invention includes: a first to-be-coated member layer 10 sequentially stacked; a metal foil layer 20 formed under the first to-be-coated member layer 10; a first adhesive layer 30 formed by coating a first liquid crude liquid containing a heat-resistant resin on a lower portion of the metal foil layer; An MMP layer (Magnetic Metal Powder Layer) 50 formed of a composition including magnetic metal particles and a binder resin under the first adhesive layer 30; a second to-be-coated member layer 60 formed under the MMP layer; and a second adhesive layer 70 formed by coating a second liquid crude liquid containing a heat-resistant and insulating resin on a lower portion of the second to-be-coated member layer, wherein the MMP layer 50 and the first adhesive layer A protective layer 40 for protecting the MMP layer 50 may be additionally disposed between the 30 .

< 보호층 >< Protective layer >

상기와 같이, 본 발명의 전자파 흡수체에는, MMP층(50) 및 제1 접착층(30) 사이에 상기 MMP층(50)을 보호하기 위한 보호층(40)이 추가로 배치되어 있기 때문에, 공정 중에서 MMP층이 노출되는 경우가 발생하더라도 물리적·화학적 충격에 대한 저항성이 향상될 수 있다. 상기 보호층(40)은 PI(Polyimide) 필름, PET(Polyethylene terephthalate) 필름 및 PEN(Polyethylene naphthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택된 1종으로 형성될 수 있다. 상기 보호층(40)의 두께는 2~7㎛인 것이 바람직하다. MMP층을 보호하기 위한 보호층의 두께가 2㎛ 미만이면, MMP층의 보호 효과가 발휘되기 어렵고, 7㎛를 초과하면 전자파 흡수체로서의 성능 저하가 발생할 수 있다. 또한, 전자파 흡수 효과를 발휘하면서도 전자파 흡수체가 적정한 두께를 가지기 위한 관점에서, 상기 보호층(40) 및 MMP층(50)의 두께의 합은 15~150㎛인 것이 바람직하고, 25~100㎛인 것이 더욱 바람직하다.As described above, in the electromagnetic wave absorber of the present invention, a protective layer 40 for protecting the MMP layer 50 is additionally disposed between the MMP layer 50 and the first adhesive layer 30, so that in the process Even if the MMP layer is exposed, the resistance to physical and chemical impact may be improved. The protective layer 40 may be formed of one selected from the group consisting of a polyimide (PI) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, and a polyethylene naphthalate (PEN) film. The thickness of the protective layer 40 is preferably 2 ~ 7㎛. When the thickness of the protective layer for protecting the MMP layer is less than 2 μm, the protective effect of the MMP layer is difficult to be exhibited, and when it exceeds 7 μm, performance degradation as an electromagnetic wave absorber may occur. In addition, from the viewpoint of exhibiting the electromagnetic wave absorption effect and the electromagnetic wave absorber having an appropriate thickness, the sum of the thicknesses of the protective layer 40 and the MMP layer 50 is preferably 15 to 150 μm, and 25 to 100 μm. more preferably.

< 제1 및 제2 피도포부재층 ><1st and 2nd to-be-coated member layer>

본 발명의 제1 피도포부재층(10) 및 제2 피도포부재층(60)은 각각 독립적으로, PI(Polyimide) 필름, PET(Polyethylene terephthalate) 필름 및 PEN(Polyethylene naphthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택된 1종으로 형성되는 것일 수 있다.The first member layer 10 and the second member layer 60 of the present invention are each independently formed from the group consisting of a PI (Polyimide) film, a PET (Polyethylene terephthalate) film, and a PEN (Polyethylene naphthalate) film. It may be formed of one selected type.

< 금속박층 >< Metal foil layer >

본 발명의 금속박층(20)은 전자파 차폐 및 방열 특성 구현을 위해 도입되는 층으로서, 이에 제한되는 것은 아니지만 20㎛의 두께로 형성되는 것이 바람직하다. 상기 금속박층(20)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 납(Pb), 니켈(Ni) 및 철(Fe)로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있고, 인바(INVAR), 서스(SUS)와 같은 합금을 포함할 수 있다. The metal foil layer 20 of the present invention is a layer introduced to implement electromagnetic wave shielding and heat dissipation characteristics, and is not limited thereto, but is preferably formed to a thickness of 20 μm. The metal foil layer 20 may include at least one selected from the group consisting of aluminum (Al), copper (Cu), lead (Pb), nickel (Ni) and iron (Fe), and INVAR , and may include an alloy such as SUS.

< MMP층 >< MMP layer >

본 발명의 MMP층(50)은 전자파 흡수 성능을 발휘하기 위해 도입되는 층으로서, 금속 자성 입자 및 바인더 수지를 포함하는 조성물로 형성되는 것일 수 있다. 보다 구체적으로는 바인더 수지에 금속 자성 입자가 분산되어 형성된 층이며, 전자파 흡수/차폐 기능의 정도에 따라. 상기 조성물 전체 중량을 기준으로, 금속 자성 입자는 30~90 중량%의 범위 내에서 함량을 조절할 수 있다. 상기 금속 자성 입자는, 철(Fe), 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 망간(Mn) 및 아연(Zn)로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있고, 바람직하게는 Fe-Si-Al계 합금(Sendust), Fe-Si-Cr계 합금, 하이플럭스(Highflux), 퍼멀로이(Permalloy) 합금, Ni-Zn 페라이트(Ferrite) 및 Mn-Zn 페라이트(Ferrite)로 구성된 군으로부터 선택된 1종일 수 있다. The MMP layer 50 of the present invention is a layer introduced to exhibit electromagnetic wave absorption performance, and may be formed of a composition including magnetic metal particles and a binder resin. More specifically, it is a layer formed by dispersing magnetic metal particles in a binder resin, depending on the degree of electromagnetic wave absorption/shielding function. Based on the total weight of the composition, the content of the magnetic metal particles may be controlled within the range of 30 to 90% by weight. The magnetic metal particles include at least one selected from the group consisting of iron (Fe), silicon (Si), aluminum (Al), chromium (Cr), nickel (Ni), manganese (Mn), and zinc (Zn). and preferably Fe-Si-Al-based alloy (Sendust), Fe-Si-Cr-based alloy, high flux (Highflux), permalloy (Permalloy) alloy, Ni-Zn ferrite (Ferrite) and Mn-Zn ferrite (Ferrite) may be one selected from the group consisting of.

또한, 상기 바인더 수지는, 에폭시계 수지, 페녹시계 수지, 아크릴계 수지, 멜라민계 수지, 합성 고무 수지, 실리콘계 수지, 불소계 수지, 폴리아마이드계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 및 폴리염화비닐계 수지 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상일 수 있다. 이때, MMP층(50)의 두께는 필요에 따라 조절될 수 있고, 10~100㎛의 범위 이내로 형성될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, the binder resin is an epoxy resin, a phenoxy resin, an acrylic resin, a melamine resin, a synthetic rubber resin, a silicone resin, a fluorine resin, a polyamide resin, a polyester resin, a polyethylene resin, a polypropylene resin , and may be at least one selected from the group consisting of polyvinyl chloride-based resins. In this case, the thickness of the MMP layer 50 may be adjusted as needed, and may be formed within a range of 10 to 100 μm, but is not limited thereto.

< 제1 접착층 >< First adhesive layer >

본 발명의 제1 접착층(30)은 금속박층(20)의 하부에 배치되며, 내열성을 가진 수지를 포함하는 제1 액상 조액을 도포하여 형성시킬 수 있다. 상기 제1 접착층(30)의 두께는 3~10㎛인 것이 바람직하다. 상기 제1 접착층(30)의 두께가 3㎛ 미만이면 금속박층(20)과 보호층(40)간 접착력이 저하되어 층간 박리가 발생할 수 있고, 10㎛ 초과이면 전파파 흡수 효과가 저하될 수 있다.The first adhesive layer 30 of the present invention is disposed under the metal foil layer 20 and may be formed by applying a first liquid crude liquid containing a resin having heat resistance. The thickness of the first adhesive layer 30 is preferably 3 to 10 μm. If the thickness of the first adhesive layer 30 is less than 3 μm, the adhesive force between the metal foil layer 20 and the protective layer 40 may be lowered to cause delamination between layers, and if it exceeds 10 μm, the radio wave absorption effect may be reduced. .

상기 제1 액상 조액에 포함되는 내열성 수지는, 열경화성 수지 또는 열가소성 수지 중 선택되는 1종일 수 있다. 예컨대, 제1 접착층(30)을 형성하기 위해 제1 액상 조액에 포함되는 열경화성 수지로는 합성 고무 수지 10~40 중량%에 에폭시계 수지 및/또는 페녹시계 수지를 60~90 중량%로 혼합한 것일 수 있고, 열가소성 수지로는 우레탄계 수지 및 아크릴계 수지 중 1종 이상을 혼합한 것을 사용할 수 있다. The heat-resistant resin included in the first liquid crude liquid may be one selected from a thermosetting resin or a thermoplastic resin. For example, as a thermosetting resin included in the first liquid crude liquid to form the first adhesive layer 30, 10 to 40% by weight of a synthetic rubber resin and 60 to 90% by weight of an epoxy resin and/or a phenoxy resin are mixed. may be used, and a mixture of at least one of a urethane-based resin and an acrylic resin may be used as the thermoplastic resin.

< 제2 접착층 ><Second adhesive layer>

본 발명의 제2 접착층(70)은 MMP층(50)의 하부에 배치되며, 내열성 및 절연성을 가진 수지를 포함하는 제2 액상 조액을 도포하여 형성시킬 수 있다. 상기 제2 접착층(70)의 두께는 10~30㎛일 수 있다. 제2 접착층(70)의 두께가 10㎛ 미만일 경우 FPCB와 접착력이 저하되어 박리 발생의 문제가 있을 수 있고, 30㎛ 초과일 경우 완제품의 두께가 높아 설계상 문제가 있을 수 있다. The second adhesive layer 70 of the present invention is disposed under the MMP layer 50 and may be formed by applying a second liquid crude liquid containing a resin having heat resistance and insulation properties. The thickness of the second adhesive layer 70 may be 10 to 30 μm. When the thickness of the second adhesive layer 70 is less than 10 μm, there may be a problem of peeling due to reduced adhesive strength with the FPCB, and if it is more than 30 μm, there may be a design problem due to the high thickness of the finished product.

상기 제2 액상 조액에 포함되는 내열성 및 절연성의 수지는 열경화성 수지일 수 있다. 예컨대, 제2 접착층(70)을 형성하기 위한 제2 액상 조액에 포함되는 열경화성 수지로는 합성 고무 수지 10~40 중량%에, 에폭시계 수지 및/또는 페녹시계 수지를 60~90 중량%로 혼합한 것일 수 있다. 제2 접착층이 우수한 내열성을 갖도록 하기 위하여, 제2 액상 조액은 난연제를 더 포함할 수 있으며, 난연제로는 산화 알루미나(Al2O3)를 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 열경화성 수지 100 중량부에 대하여 10~30 중량부의 함량으로 혼합될 수 있다.The heat-resistant and insulating resin included in the second liquid crude liquid may be a thermosetting resin. For example, as the thermosetting resin included in the second liquid crude liquid for forming the second adhesive layer 70, 10 to 40% by weight of a synthetic rubber resin, and 60 to 90% by weight of an epoxy resin and/or a phenoxy resin are mixed. may have been In order for the second adhesive layer to have excellent heat resistance, the second liquid crude liquid may further include a flame retardant, and as the flame retardant, alumina oxide (Al 2 O 3 ) may be used, but is not limited thereto, and thermosetting resin 100 weight It may be mixed in an amount of 10 to 30 parts by weight based on parts.

< 이형기재층 >< Release substrate layer >

도 2의 개략적인 단면도로 나타낸 바와 같이, 상기 제2 접착층(70) 하부에 배치되는 이형기재층(80)을 더 포함할 수 있다. 상기 이형기재층(80)은 이형지(release paper) 및 이형처리된 PET(Polyethylene terephthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종으로 형성되는 것일 수 있고, 상기 이형필름은 전자파 흡수체를 보호하는 역할을 한다.As shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 2 , a release substrate layer 80 disposed under the second adhesive layer 70 may be further included. The release base layer 80 may be formed of one selected from the group consisting of a release paper and a release-treated polyethylene terephthalate (PET) film, and the release film serves to protect the electromagnetic wave absorber. .

본 발명의 도 1의 구조를 가진 전자파 흡수체의 제조 방법은 다음과 같은 단계를 포함할 수 있다.The method for manufacturing an electromagnetic wave absorber having the structure of FIG. 1 of the present invention may include the following steps.

(a) 제1 피도포부재층의 하부에 감압 점착제를 도포 후 금속박층을 배치시킨 다음, 라미네이션(lamination)하여 제1 코팅 제품을 제조하는 단계;(a) preparing a first coated product by applying a pressure-sensitive adhesive on the lower portion of the first to-be-coated member layer and then disposing a metal foil layer, followed by lamination;

(b) 제2 피도포부재층 상에 내열성 및 절연성 수지를 포함하는 제2 액상 조액을 도포한 후 코팅하여 10~30㎛ 두께의 제2 접착층을 형성한 다음, 이형기재층과 라미네이션하여 제2 코팅 제품을 제조하는 단계;(b) a second liquid crude liquid containing heat-resistant and insulating resin is applied on the second to-be-coated member layer, coated to form a second adhesive layer with a thickness of 10 to 30 μm, and then laminated with a release base layer to obtain a second preparing a coated product;

(c) 2~7㎛ 두께의 보호층의 일면에 금속 자성 입자 및 바인더 수지를 포함하는 조성물을 도포한 후 코팅하여 MMP층(Magnetic Metal Powder Layer)을 형성하는 단계;(c) forming an MMP layer (Magnetic Metal Powder Layer) by coating a composition containing magnetic metal particles and a binder resin on one surface of the protective layer having a thickness of 2 to 7 μm;

(d) 상기 (c) 단계에서 보호층의 일면에 형성된 MMP층 하부에, 상기 (b) 단계에서 형성된 제2 코팅 제품의 제2 피도포부재층이 맞닿도록 배치한 후 라미네이션하여 제3 코팅 제품을 제조하는 단계; 및(d) The second coated member layer of the second coated product formed in (b) is placed under the MMP layer formed on one surface of the protective layer in step (c) so that it abuts, and then laminated to form a third coated product preparing a; and

(e) 상기 (a) 단계의 제1 코팅 제품 중 금속박층의 하부에 내열성 수지를 포함하는 제1 액상 조액을 도포한 후 코팅하여 3~10㎛ 두께의 제1 접착층을 형성한 다음, 상기 제1 접착층의 하부에 상기 (d) 단계에서 제조된 제3 코팅 제품의 보호층이 맞닿도록 배치한 후 을 라미네이션하여 제4 코팅 제품을 제조하는 단계.(e) of the first coating product of step (a), a first liquid crude liquid containing a heat-resistant resin is applied to the lower portion of the metal foil layer and coated to form a first adhesive layer with a thickness of 3 to 10 μm, and then 1 After disposing the protective layer of the third coating product prepared in step (d) to contact the lower portion of the adhesive layer, laminating to prepare a fourth coating product.

< (a) 단계 >< Step (a) >

상기 (a) 단계의 제조 대상인 제1 코팅 제품은, 이른바 보호필름으로서, 제1 피도포부재층에 금속박층이 배치시켜 제조된다. 제1 피도포부재층에 금속박층을 부착시키기 위한 방법이라면 본 기술분야에서 알려진 다양한 방법을 사용할 수 있으나, 예컨대, 제1 피도포부재층의 일면에 감압 점착제를 도포하거나 코팅한 후, 금속박층을 배치시킨 뒤 라미네이션하여 생성하는 방안이 바람직하게 채택될 수 있다. 이 때, 상기 감압 점착제는 제1 피도포부재층 및 금속박층을 부착 또는 접착시키기 위한 것으로서, 본 기술분야에서 사용하는 일반적인 접착 조성물을 사용할 수 있고, 예컨대, 실록산계 폴리머 감압 점착제 또는 아크릴계 폴리머 감압 점착제를 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기와 같은 감압 점착제의 포뮬레이션(formulation)에 압력을 가하여, 감압 점착제를 제1 피도포부재층에 금속박층을 점착시키기 위한 적절한 두께로 도포하거나 코팅할 수 있다. 상기 감압 점착 조성제를 도포 또는 코팅하는 두께는 제1 피도포부재층에 금속박층을 부착하기 위해 필요한 충분한 점착력을 부여할 수 있으면서, 금속박층 및 전체 구조의 외관에 영향을 주지 않는 범위 내에서 적절히 조절될 수 있으며, 바람직하게는 5~20㎛일 수 있고, 보다 바람직하게는 5~10㎛의 범위에서 조절될 수 있다. The first coated product to be manufactured in step (a) is a so-called protective film, and is manufactured by disposing a metal foil layer on the first to-be-coated member layer. If it is a method for attaching the metal foil layer to the first to-be-coated member layer, various methods known in the art can be used. For example, after applying or coating a pressure-sensitive adhesive on one surface of the first to-be-coated member layer, the metal foil layer is applied. A method of producing by lamination after placing may be preferably adopted. In this case, the pressure-sensitive adhesive is for attaching or bonding the first to-be-coated member layer and the metal foil layer, and a general adhesive composition used in the art may be used, for example, a siloxane-based polymer pressure-sensitive adhesive or an acrylic polymer pressure-sensitive adhesive. can be used, but is not limited thereto. By applying pressure to the formulation of the pressure-sensitive adhesive as described above, the pressure-sensitive adhesive may be applied or coated to an appropriate thickness for adhering the metal foil layer to the first to-be-coated member layer. The thickness of applying or coating the pressure-sensitive adhesive composition is appropriately adjusted within a range that does not affect the appearance of the metal foil layer and the overall structure while providing sufficient adhesive force necessary for attaching the metal foil layer to the first coated member layer. may be, preferably 5 to 20㎛, more preferably it may be adjusted in the range of 5 ~ 10㎛.

상기 제1 피도포부재층은 PI(Polyimide) 필름, PET(Polyethylene terephthalate) 필름 및 PEN(Polyethylene naphthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택된 1종일 수 있다. 상기 금속박층은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 납(Pb), 니켈(Ni) 및 철(Fe)로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있고, 바람직하게는 인바(INVAR), 서스(SUS)와 같은 합금을 포함할 수 있다. The first to-be-coated member layer may be one selected from the group consisting of a polyimide (PI) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, and a polyethylene naphthalate (PEN) film. The metal foil layer may include at least one selected from the group consisting of aluminum (Al), copper (Cu), lead (Pb), nickel (Ni) and iron (Fe), preferably INVAR , and may include an alloy such as SUS.

< (b) 단계 >< Step (b) >

상기 (b) 단계의 제조 대상인 제2 코팅 제품은, 이른바 커버레이(coveraly)로서, 제2 피도포부재층에 제2 접착층을 배치시켜 제조된다. 또한, 제2 접착층의 하부에는 이형기재층이 추가로 배치될 수 있는데, (b) 단계에서 이형기재층을 함께 배치시킬 수도 있고, 또는, 상기 (e) 단계의 제4 코팅 제품의 하부에 이형기재층을 형성하는 단계인 (f) 단계를 더 포함하여 이형기재층을 형성할 수도 있다.The second coating product to be manufactured in step (b) is a so-called coverlay, and is manufactured by disposing a second adhesive layer on the second coated member layer. In addition, the release base layer may be additionally disposed under the second adhesive layer, the release base layer may be disposed together in step (b), or the release base layer may be disposed on the lower portion of the fourth coated product in step (e). The release base layer may be formed by further comprising the step (f) of forming the base layer.

상기 제2 피도포부재층은 PI(Polyimide) 필름, PET(Polyethylene terephthalate) 필름 및 PEN(Polyethylene naphthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택된 1종일 수 있다. 상기 제2 접착층은 내열성 및 절연성을 가진 열경화성 수지를 포함하는 제2 액상 조액으로 형성될 수 있으며, 예컨대, 상기 열경화성 수지로는 합성 고무 수지 10~40 중량%에, 에폭시계 수지 및/또는 페녹시계 수지를 60~90 중량%로 혼합한 것일 수 있다. 상기 제2 액상 조액은 난연제를 더 포함할 수 있다. The second member layer to be coated may be one selected from the group consisting of a polyimide (PI) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, and a polyethylene naphthalate (PEN) film. The second adhesive layer may be formed of a second liquid crude liquid containing a thermosetting resin having heat resistance and insulation properties. For example, the thermosetting resin is 10 to 40 wt% of a synthetic rubber resin, an epoxy resin and/or a phenoxy resin. It may be a mixture of 60 to 90% by weight of the resin. The second liquid crude liquid may further include a flame retardant.

상기와 같은 제2 액상 조액 포뮬레이션(formulation)에 압력을 가하여, 제2 액상 조액을 제2 피도포부재층에 적절한 두께로 도포하거나 코팅할 수 있다. 상기 제2 액상 조액이 도포되는 두께는 바람직하게는 10~30㎛일 수 있으며, 10㎛ 미만일 경우 FPCB와 접착력이 저하되어 박리 발생의 문제가 있을 수 있고, 30㎛ 초과일 경우 완제품의 두께가 높아 설계상 문제가 있을 수 있다. By applying pressure to the second liquid crude liquid formulation as described above, the second liquid crude liquid may be applied to or coated with an appropriate thickness on the second to-be-coated member layer. The thickness to which the second liquid crude liquid is applied may be preferably 10 to 30 µm, and if it is less than 10 µm, there may be a problem of peeling due to reduced adhesion with the FPCB, and if it is more than 30 µm, the thickness of the finished product is high There may be design issues.

< (c) 단계 및 (d) 단계 > < Steps (c) and (d) >

상기 (c) 단계의 제조 대상은 전자파 흡수 기능을 가진 MMP층(Magnetic Metal Powder Layer) 및 MMP층을 보호하기 위한 보호층의 합지품이다. 구체적으로는, 두께가 20~70㎛인 캐리어 필름(carrier film)이 부착된 두께가 2~7㎛인 박막 보호층의 일면에 MMP층을 형성하기 위한 조성물을 도포 또는 코팅하여 라미네이션하여 형성할 수 있다. 상기 캐리어 필름은 MMP층에 보호층이 형성된 후 제거된다. 상기 도포 또는 코팅된 MMP층은 B-stage(반경화) 또는 C-stage(완전경화) 상태 중 하나일 수 있으며, 적용 대상의 공정에 따라 선택할 수 있다.The manufacturing target of step (c) is a laminate of a magnetic metal powder layer (MMP) having an electromagnetic wave absorption function and a protective layer for protecting the MMP layer. Specifically, it can be formed by applying or coating a composition for forming an MMP layer on one surface of a thin film protective layer having a thickness of 2 to 7 μm to which a carrier film having a thickness of 20 to 70 μm is attached and lamination. have. The carrier film is removed after the protective layer is formed on the MMP layer. The applied or coated MMP layer may be in either a B-stage (semi-cured) or C-stage (completely cured) state, and may be selected according to the process of the target.

상기 (c) 단계에서 제조된 MMP층의 두께는 10~100㎛일 수 있고, 보호층의 두께는 2~7㎛일 수 있으며, 상기 MMP층 및 보호층 두께의 합은 15~150㎛인 것이 바람직하다.The thickness of the MMP layer prepared in step (c) may be 10 ~ 100㎛, the thickness of the protective layer may be 2 ~ 7㎛, the sum of the thickness of the MMP layer and the protective layer is 15 ~ 150㎛ desirable.

상기 MMP층은 금속 자성 입자 및 바인더 수지를 포함하는 조성물에 의해 형성될 수 있고, 상기 금속 자성 입자 및 바인더 수지에 관하여는 < MMP층 >에서 설명한 것과 동일하다. 상기 보호층은 PI(Polyimide) 필름, PET(Polyethylene terephthalate) 필름 및 PEN(Polyethylene naphthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택된 1종으로 형성될 수 있으며, 그 외의 설명은 < 보호층 >에서 설명한 것과 동일하다.The MMP layer may be formed of a composition including magnetic metal particles and a binder resin, and the magnetic metal particles and the binder resin are the same as those described in <MMP layer> . The protective layer may be formed of one selected from the group consisting of a polyimide (PI) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, and a polyethylene naphthalate (PEN) film.

상기 (d) 단계의 제조 대상인 제3 코팅 제품은, 상기 (c) 단계에서 형성된 MMP층 하부에 상기 (b) 단계에서 형성된 제2 코팅 제품의 제2 피도포부재층을 맞닿도록 배치한 후 라미네이션하여 제조된다.The third coated product to be manufactured in step (d) is placed in contact with the second coated member layer of the second coated product formed in step (b) under the MMP layer formed in step (c), followed by lamination is manufactured by

< (e) 단계 >< Step (e) >

상기 (e) 단계의 제조 대상인 제4 코팅 제품은 본 발명의 최종 제조 대상인 전자파 흡수체로서, 전자 제품의 디지타이저(digitizer)의 전자파 차폐 시트로서 적용될 수 있다. The fourth coating product to be manufactured in step (e) is an electromagnetic wave absorber that is the final manufacturing target of the present invention, and may be applied as an electromagnetic wave shielding sheet of a digitizer of an electronic product.

구체적으로, 상기 (a) 단계에서 제조된 제1 코팅 제품(코팅필름)에서 금속박층의 하부에 내열성 수지를 포함하는 제1 액상 조액을 도포 또는 코팅하여 3~10㎛ 두께의 제1 접착층을 형성한 다음, 상기 제1 접착층의 하부에 상기 (d) 단계에서 제조된 제3 코팅 제품을 라미네이션하여 제4 코팅 제품을 제조한다. Specifically, in the first coating product (coating film) prepared in step (a), a first liquid crude liquid containing a heat-resistant resin is applied or coated on the lower portion of the metal foil layer to form a first adhesive layer with a thickness of 3 to 10 μm. Then, the third coating product prepared in step (d) is laminated on the lower portion of the first adhesive layer to prepare a fourth coating product.

상기 제1 액상 조액에 포함되는 내열성 수지는, 열경화성 수지 또는 열가소성 수지 중 선택되는 1종일 수 있다. 예컨대, 제1 액상 조액에 포함되는 열경화성 수지로는 합성 고무 수지 10~40 중량%에 에폭시계 수지 및/또는 페녹시계 수지를 60~90 중량%로 혼합한 것일 수 있고, 열가소성 수지로는 우레탄계 수지 및 아크릴계 수지 중 1종 이상을 혼합한 것을 사용할 수 있다. The heat-resistant resin included in the first liquid crude liquid may be one selected from a thermosetting resin or a thermoplastic resin. For example, the thermosetting resin included in the first liquid crude liquid may be a mixture of 10 to 40 wt% of a synthetic rubber resin and 60 to 90 wt% of an epoxy-based resin and/or a phenoxy-based resin, and a urethane-based resin as the thermoplastic resin and a mixture of one or more of acrylic resins may be used.

< (f) 단계 >< Step (f) >

(b)단계에서 이형기재층을 형성시키지 않는 경우에, 본 발명의 도 2의 구조에 따른 전자파 흡수체를 제조하기 위해서는, (f) 상기 (e) 단계의 제4 코팅 제품의 하부에 이형기재층(80)을 형성하는 단계;를 더 포함할 수 있다.In the case where the release base layer is not formed in step (b), in order to manufacture the electromagnetic wave absorber according to the structure of FIG. 2 of the present invention, (f) the release base layer under the fourth coated product in step (e) Forming (80); may further include.

상기 (a) 내지 (f) 단계에서 설명하고 있는 대상은, 도 1과 관련하여 상세히 설명한 전자파 흡수체의 구성에 대한 설명과 동일하며, 상기 전자파 흡수체의 전체 제조 방법은 롤투롤 공정(roll to roll process)를 통해 수행될 수 있다. The object described in steps (a) to (f) is the same as the description of the configuration of the electromagnetic wave absorber described in detail with reference to FIG. 1 , and the entire manufacturing method of the electromagnetic wave absorber is a roll to roll process ) can be done through

이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention will be described in more detail through preferred embodiments of the present invention. However, these are presented as preferred examples of the present invention and cannot be construed as limiting the present invention in any sense.

[실시예][Example]

실시예 1Example 1

(1) 단계 : 25㎛ PI 필름(제1 피도포부재층)을 준비하여, 그 하부에 폴리실록산 수지의 감압 점착제를 10㎛ 두께로 도포한 후 알루미늄(Al) 성분인 20㎛ 금속박층을 배치하여 함께 롤 라미네이션시켜 제1 코팅 제품을 형성하였다. (1) Step: Prepare a 25㎛ PI film (first member to be coated), apply a pressure-sensitive adhesive of polysiloxane resin to the lower portion to a thickness of 10㎛, and then place a 20㎛ metal foil layer of aluminum (Al) component Roll laminated together to form a first coated article.

(2) 단계 : 상기 (1) 단계와는 별도로, 12.5㎛ PI 필름(제2 피도포부재층)을 준비하여, 합성 고무 수지와 에폭시 성분이 3:7 비율로 혼합된 액상 조액(제2 접착층)을 15㎛ 두께로 도포한 다음, 그 위에 PET에 실리콘 처리한 이형기재층을 배치한 후, 함께 롤 라미네이션시켜 제2 코팅 제품을 형성하였다. Step (2): Separately from step (1), prepare a 12.5 μm PI film (second coating member layer), and a liquid crude liquid (second adhesive layer) in which a synthetic rubber resin and an epoxy component are mixed in a 3:7 ratio ) was applied to a thickness of 15 μm, and then a silicone-treated release base layer was placed on PET thereon, and then roll-laminated together to form a second coated product.

(3) 단계 : 상기 (1) 및 (2) 단계와는 별도로, 50㎛의 캐리어 필름이 부착된 3㎛의 PET 필름(보호층)에 Fe-Si-Al계 금속 자성입자 및 아크릴계 바인더 수지와 에폭시 성분이 7:3 비율로 혼합된 액상 조액을 도포하여 35㎛의 MMP층을 도포하였다. 그런 다음, 상기 (2) 단계에서 제조한 PI 필름(제2 피도포부재층) 중 제2 접착층이 형성되지 않은 일면에, 상기 (3) 단계에서 제조한 MMP층이 위치하도록 하여, 함께 롤 라미네이션한 다음, 상기 보호층에 부착된 캐리어 필름을 제거하여, 제3 코팅 제품을 형성하였다. Step (3): Separately from the steps (1) and (2), Fe-Si-Al-based magnetic metal particles and acrylic binder resin were added to a 3 μm PET film (protective layer) to which a 50 μm carrier film was attached. An MMP layer of 35 μm was applied by applying a liquid crude solution in which the epoxy component was mixed in a ratio of 7:3. Then, the MMP layer prepared in step (3) is positioned on one side of the PI film (second member to be coated layer) prepared in step (2) on which the second adhesive layer is not formed, and roll lamination is performed together. Then, the carrier film attached to the protective layer was removed to form a third coated product.

(4) 단계 : 상기 (1) 단계에서 제조한 제1 코팅 제품에서 금속박층의 하부에 아크릴계 바인더 수지 성분의 액상 조액(제1 접착층)을 5㎛ 두께로 도포한 다음, 상기 제1 접착층의 하부에 상기 (3) 단계에서 제조된 제3 코팅 제품의 보호층이 맞닿도록 배치하여 함께 롤 라미네이션하여, 제4 코팅 제품을 형성하여 실시예 1의 최종 전자파 흡수체를 제조하였다.Step (4): In the first coating product prepared in step (1), a liquid crude liquid (first adhesive layer) of an acrylic binder resin component is applied to the lower portion of the metal foil layer to a thickness of 5 μm, and then the lower portion of the first adhesive layer The protective layer of the third coated product prepared in step (3) was placed in contact with each other and roll-laminated together to form a fourth coated product, thereby preparing a final electromagnetic wave absorber of Example 1.

비교예 1Comparative Example 1

상기 실시예 1과 동일하게 실시하되, 단, 상기 (3) 단계 및 (4) 단계는 하기 (3)' 단계 및 (4)' 단계로 대체하여, MMP층을 보호하기 위한 보호층이 구비되지 않은 전자파 흡수체를 제조하였다. Performed in the same manner as in Example 1, except that the steps (3) and (4) are replaced with the following steps (3)' and (4)', and a protective layer for protecting the MMP layer is not provided. A non-electromagnetic wave absorber was prepared.

(3)' 단계 : 상기 실시예 1의 (2) 단계에서 제조한 PI 필름(제2 피도포부재층) 중 제2 접착층이 형성되지 않은 일면에, Fe-Si-Al계 금속 자성입자 및 아크릴계 바인더 수지와 에폭시 성분이 7:3 비율로 혼합된 액상 조액을 도포하여 35㎛의 MMP층을 도포한 다음, 함께 롤 라미네이션시켜 제3 코팅 제품을 형성하였다. Step (3)': Fe-Si-Al-based metal magnetic particles and acrylic particles on one side of the PI film (second coated member layer) prepared in step (2) of Example 1, on which the second adhesive layer is not formed. A liquid crude liquid in which a binder resin and an epoxy component were mixed in a 7:3 ratio was applied to apply an MMP layer of 35 μm, and then roll lamination was performed to form a third coating product.

(4)' 단계 : 상기 실시예 1의 (1) 단계에서 제조한 제1 코팅 제품에서 금속박층의 하부에 아크릴계 바인더 수지 성분의 액상 조액(제1 접착층)을 5㎛ 두께로 도포한 다음, 상기 제1 접착층의 하부에 상기 (3)' 단계에서 제조된 제3 코팅 제품의 'MMP층'이 맞닿도록 배치하여 함께 롤라미네이션하여, 제4 코팅 제품을 형성하여 비교예 1의 최종 전자파 흡수체를 제조하였다.Step (4)': In the first coating product prepared in step (1) of Example 1, a liquid crude liquid (first adhesive layer) of an acrylic binder resin component was applied to the lower portion of the metal foil layer to a thickness of 5 μm, and then The 'MMP layer' of the third coating product prepared in step (3)' is placed in contact with the lower portion of the first adhesive layer and roll-laminated together to form a fourth coated product to prepare the final electromagnetic wave absorber of Comparative Example 1 did.

[실험예][Experimental example]

실험예 1: 성능계수 평가Experimental Example 1: Evaluation of the coefficient of performance

1) 상판 및 하판의 온도가 180℃인 Hot Press에서 면압기준 50kgf으로 경화된 제품을 시편 절단기를 사용하여, 실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 전자파 흡수체에 대한 샘플(크기: 100mm × 100mm , 두께: 35㎛ )을 각각 제작하였다. 1) Samples for the electromagnetic wave absorber prepared in Example 1 and Comparative Example 1 (size: 100 mm × 100 mm , using a specimen cutter for a product cured at a surface pressure of 50 kgf in a hot press having a temperature of 180 ° C.) Thickness: 35 μm) were prepared, respectively.

2) 임피던스 측정기를 Permeability mode로 장착 후 Calibration하였다.2) After installing the impedance measuring instrument in Permeability mode, it was calibrated.

3) 3 MHz의 주파수에서 3 Cycle 스캔 후 투자율(μ')값을 확인 후 하기 식 (1)의 성능계수 환산 공식에 대입하여 성능계수 값으로 환산하였고, 이를 3회 반복하여 평균값을 도출하여, 하기 표 1에 나타냈다.3) After checking the magnetic permeability (μ') value after scanning for 3 cycles at a frequency of 3 MHz, it was converted into a coefficient of performance value by substituting it into the coefficient of performance conversion formula of Equation (1) below, and repeating this three times to derive the average value, It is shown in Table 1 below.

식 (1) : 성능계수 = (μ'-1) × 두께Equation (1): coefficient of performance = (μ'-1) × thickness

성능계수Coefficient of performance 1회1 time 2회Episode 2 3회3rd time 평균값medium 비교예 1Comparative Example 1 78807880 79507950 78407840 78907890 실시예 1Example 1 81058105 78677867 80038003 79927992

전자파 차폐 흡수체가 적용되는 전자제품마다 요구되는 성능계수는 값이 상이한데, 실험예 1에서는 PC 모델을 기준으로 한 것이며, 이러한 경우에는 성능계수가 6325~8645 범위의 값을 가질 것이 요구된다.The coefficient of performance required for each electronic product to which the electromagnetic wave shielding absorber is applied has different values. In Experimental Example 1, the PC model is the standard, and in this case, the coefficient of performance is required to have a value in the range of 6325 to 8645.

상기 표 1에서 알 수 있는 것처럼, 비교예 1 및 실시예 1 모두 성능계수 값이 유사하여 요구되는 값을 만족하여, 실시예 1처럼 보호층을 구비하더라도 전자파 흡수체로서의 물성에 편차가 발생하지 않음을 알 수 있었다.As can be seen from Table 1, Comparative Example 1 and Example 1 both satisfy the required value because the coefficient of performance value is similar. Could know.

실험예 2: 금도금 평가Experimental Example 2: Gold plating evaluation

1) 실시예 1 및 비교예 1에서 제조된 전자파 흡수체의 커버레이의 접착층(제2 접착층) 면과 FPCB 회로부 모사 Pattern 적용품을 상판 및 하판의 온도가 180℃인 Hot Press에서 면압기준 50kgf으로 경화시켰다.1) The adhesive layer (second adhesive layer) side of the coverlay of the electromagnetic wave absorber manufactured in Example 1 and Comparative Example 1 and the FPCB circuit part simulating pattern application were cured at a surface pressure of 50 kgf in a hot press with a temperature of 180 ° C. did it

2) 경화 완료된 실시예 1 및 비교예 1의 제품을 하기의 금도금 공정을 하기 흐름도에 따라 진행하였다.2) The cured products of Example 1 and Comparative Example 1 were subjected to the following gold plating process according to the following flowchart.

[금도금 공정 흐름도][Gold plating process flow chart]

① 전처리 공정① Pretreatment process

①-1. Soft Etching 공정 : 전기 도금 시 Ni/Au 성분이 균일하게 밀착할 수 있도록 FPCB 내부의 Cu 층에 미세한 요철을 부여해주는 공정 ①-1. Soft Etching Process: A process that gives fine irregularities to the Cu layer inside the FPCB so that Ni/Au components can adhere uniformly during electroplating.

①-2. 황산세 공정 : 도금 약품의 오염 방지 및 Cu 산화를 방지하기 위한 공정 (증류수1ℓ당 5g NiSO4 사용)①-2. Sulfuric acid washing process: A process to prevent contamination of plating chemicals and Cu oxidation (use 5g NiSO 4 per 1 liter of distilled water)

② 도금 공정② Plating process

무전해 Ni & Au 도금 : Ni, Au 성분을 FPCB 내 Cu층 표면에 치환 반응하여 Ni(1~3㎛)와 Au(0.03~0.05㎛)를 순차적으로 도금하는 공정Electroless Ni & Au Plating: A process of sequentially plating Ni (1~3㎛) and Au (0.03~0.05㎛) by substitution reaction of Ni and Au components on the surface of Cu layer in FPCB

3) 금도금 완료 후 육안으로 제품 전면의 액침투 여부를 확인하였으며, 비교예 1의 결과는 도 3에, 실시예 1의 결과는 도 4에 나타냈다.3) After completion of the gold plating, it was visually checked whether the liquid penetrated the front of the product, and the results of Comparative Example 1 are shown in FIG. 3 and the results of Example 1 are shown in FIG. 4 .

도 3에서 알 수 있는 것처럼, 보호층이 구비되지 않은 비교예 1의 전자파 흡수체는 금도금 평가시 제품 전면에 산성액이 침투한 결과, 산화가 발생하여 화학적 충격에 약하였고, 들뜸이 있는 것을 확인할 수 있었다. 반면, 도 4에서 알 수 있는 것처럼, 보호층을 구비한 실시예 1의 전자파 흡수체는 제품 전면에 산화가 발생하지 않고 매끈한 면이 관찰되었는바, 산성액 침투가 방지되어 화학적 충격에 내성이 있음을 확인할 수 있었다.As can be seen in FIG. 3 , the electromagnetic wave absorber of Comparative Example 1 without a protective layer was oxidized as a result of penetrating the front of the product during gold plating evaluation, and was weak to chemical shock, and it was confirmed that there was a lift. there was. On the other hand, as can be seen from FIG. 4 , the electromagnetic wave absorber of Example 1 having a protective layer did not oxidize on the front surface of the product and a smooth surface was observed. could check

실험예 3: 진동 이물탈락(MMP층의 금속 자성 입자 탈락) 평가 Experimental Example 3: Vibration foreign matter drop-off (Metal magnetic particle drop-off of MMP layer) evaluation

1) 실시예 1 및 비교예 1의 전자파 흡수체의 일부분을 80 × 80mm로 재단 후 재단면을 봉인하여 자체 제작한 100 × 100mm 규격의 틀에 위치 시킨 후 덮개를 덮은 다음, 각각 Vortex Mixer로 진동시켰다. (Vortex Mixer 조건 : 1,000rpm / 30min)1) A part of the electromagnetic wave absorber of Example 1 and Comparative Example 1 was cut to 80 × 80 mm, the cut surface was sealed, placed in a self-made 100 × 100 mm frame, covered with a cover, and each vibrated with a Vortex Mixer . (Vortex Mixer conditions: 1,000rpm / 30min)

2) ×10배율의 루페(Lupe)를 이용하여 상기 틀 안에 존재하는 탈락된 금속 자성 입자의 수를 확인하였다. 이를 3회 반복하여 평균값을 도출하여, 하기 표 2에 나타냈다.2) Using a loupe of ×10 magnification, the number of dropped magnetic metal particles existing in the frame was checked. This was repeated three times to derive an average value, and is shown in Table 2 below.

진동 이물 탈락 평가 (ea)Vibration foreign material dropout evaluation (ea) 1회1 time 2회Episode 2 3회3rd time 평균값medium 비교예 1Comparative Example 1 99 66 1313 9.39.3 실시예 1Example 1 1One 00 00 0.70.7

상기 표 2에서 알 수 있는 것처럼, MMP층을 보호하기 위한 보호층을 구비하지 않은 비교예 1은 진동이라는 물리적 충격에 취약하여 많은 자성 입자가 탈락되었으나, 보호층을 구비한 실시예 1은 MMP층에 대한 물리적 충격으로부터 보호되어 자성 입자가 거의 탈락되지 않았음을 알 수 있었다.As can be seen from Table 2, Comparative Example 1 without a protective layer for protecting the MMP layer was vulnerable to a physical shock such as vibration, and many magnetic particles were dropped, but Example 1 having a protective layer had an MMP layer It was found that the magnetic particles were hardly dropped off because they were protected from physical impact.

이상과 같이 본 발명에 대해서 예시한 도면을 참조로 하여 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사상의 범위 내에서 통상의 기술자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 자명하다. 아울러 앞서 본 발명의 실시예를 설명하면서 본 발명의 구성에 따른 작용 효과를 명시적으로 기재하여 설명하지 않았을 지라도, 해당 구성에 의해 예측 가능한 효과 또한 인정되어야 함은 당연하다.As described above, the present invention has been described with reference to the illustrated drawings, but the present invention is not limited by the embodiments and drawings disclosed in the present specification. It is obvious that variations can be made. In addition, even if the effects of the configuration of the present invention are not explicitly described and described while describing the embodiments of the present invention, it is natural that the effects predictable by the configuration should also be recognized.

10 : 제1 피도포부재층
20 : 금속박층
30 : 제1 접착층
40 : 보호층
50 : MMP층
60 : 제2 피도포부재층
70 : 제2 접착층
80 : 이형기재층
10: first to-be-coated member layer
20: metal foil layer
30: first adhesive layer
40: protective layer
50: MMP layer
60: second to-be-coated member layer
70: second adhesive layer
80: release base layer

Claims (16)

제1 피도포부재층;
상기 제1 피도포부재층 하부에 형성되는 금속박층;
상기 금속박층의 하부에, 내열성 수지를 포함하는 제1 액상 조액이 도포되어 형성되는 제1 접착층;
상기 제1 접착층의 하부에 금속 자성 입자 및 바인더 수지를 포함하는 조성물로 형성되는 MMP층(Magnetic Metal Powder Layer);
상기 MMP층의 하부에 형성되는 제2 피도포부재층; 및
상기 제2 피도포부재층의 하부에, 내열성 및 절연성의 수지를 포함하는 제2 액상 조액이 도포되어 형성되는 제2 접착층;
을 포함하고,
상기 MMP층 및 제1 접착층 사이에 상기 MMP층을 보호하기 위한 보호층이 추가로 배치되고,
상기 보호층의 두께는 2~7㎛인 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
a first to-be-coated member layer;
a metal foil layer formed under the first to-be-coated member layer;
a first adhesive layer formed by coating a first liquid crude liquid containing a heat-resistant resin on a lower portion of the metal foil layer;
an MMP layer (Magnetic Metal Powder Layer) formed of a composition including magnetic metal particles and a binder resin under the first adhesive layer;
a second to-be-coated member layer formed under the MMP layer; and
a second adhesive layer formed by coating a second liquid crude liquid containing a heat-resistant and insulating resin on a lower portion of the second to-be-coated member layer;
including,
A protective layer for protecting the MMP layer is further disposed between the MMP layer and the first adhesive layer,
The thickness of the protective layer is characterized in that 2 ~ 7㎛,
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
제1항에 있어서,
상기 보호층은 PI(Polyimide) 필름, PET(Polyethylene terephthalate) 필름 및 PEN(Polyethylene naphthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택된 1종으로 형성되는 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
According to claim 1,
The protective layer is characterized in that it is formed of one selected from the group consisting of a PI (Polyimide) film, a PET (Polyethylene terephthalate) film, and a PEN (Polyethylene naphthalate) film,
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 보호층 및 MMP층의 두께의 합은 15~150㎛인 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
According to claim 1,
The sum of the thickness of the protective layer and the MMP layer is characterized in that 15 ~ 150㎛,
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
제1항에 있어서,
상기 제1 피도포부재층 및 제2 피도포부재층은 각각 독립적으로, PI(Polyimide) 필름, PET(Polyethylene terephthalate) 필름 및 PEN(Polyethylene naphthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택된 1종으로 형성되는 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
According to claim 1,
The first member layer to be coated and the second member layer to be coated are each independently formed of one selected from the group consisting of a PI (Polyimide) film, a PET (Polyethylene terephthalate) film, and a PEN (Polyethylene naphthalate) film. to do,
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
제1항에 있어서,
상기 금속 자성 입자는, 철(Fe), 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 망간(Mn) 및 아연(Zn)로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
According to claim 1,
The magnetic metal particles include at least one selected from the group consisting of iron (Fe), silicon (Si), aluminum (Al), chromium (Cr), nickel (Ni), manganese (Mn), and zinc (Zn). characterized in that
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
제6항에 있어서,
상기 금속 자성 입자는, Fe-Si-Al계 합금(Sendust), Fe-Si-Cr계 합금, 하이플럭스(Highflux), 퍼멀로이(Permalloy) 합금, Ni-Zn 페라이트(Ferrite), 및 Mn-Zn 페라이트(Ferrite)로 구성된 군으로부터 선택된 1종인 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
7. The method of claim 6,
The magnetic metal particles are Fe-Si-Al-based alloy (Sendust), Fe-Si-Cr-based alloy, high flux (Highflux), permalloy (Permalloy) alloy, Ni-Zn ferrite (Ferrite), and Mn-Zn ferrite (Ferrite) characterized in that one selected from the group consisting of,
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
제1항에 있어서,
상기 바인더 수지는, 에폭시계 수지, 페녹시계 수지, 아크릴계 수지, 멜라민계 수지, 합성 고무 수지, 실리콘계 수지, 불소계 수지, 폴리아마이드계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 및 폴리염화비닐계 수지 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
According to claim 1,
The binder resin is an epoxy-based resin, a phenoxy-based resin, an acrylic resin, a melamine-based resin, a synthetic rubber resin, a silicone-based resin, a fluorine-based resin, a polyamide-based resin, a polyester-based resin, a polyethylene-based resin, a polypropylene-based resin, and Characterized in that at least one selected from the group consisting of polyvinyl chloride-based resins,
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
제1항에 있어서,
상기 금속박층은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 납(Pb), 니켈(Ni) 및 철(Fe)로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
According to claim 1,
The metal foil layer is characterized in that it comprises at least one selected from the group consisting of aluminum (Al), copper (Cu), lead (Pb), nickel (Ni) and iron (Fe),
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
제1항에 있어서,
상기 제1 액상 조액에 포함되는 내열성 수지는, 열경화성 수지 및 열가소성 수지로 구성된 군에서 선택되는 1종인 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
According to claim 1,
The heat-resistant resin contained in the first liquid crude liquid is characterized in that one selected from the group consisting of a thermosetting resin and a thermoplastic resin,
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
제1항에 있어서,
상기 제2 액상 조액에 포함되는 내열성 및 절연성의 수지는, 열경화성 수지인 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
According to claim 1,
The heat-resistant and insulating resin contained in the second liquid crude liquid is a thermosetting resin,
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
제1항에 있어서,
상기 제2 접착층 하부에 배치되는 이형기재층을 더 포함하고,
상기 이형기재층은 이형지(release paper) 및 이형처리된 PET(Polyethylene terephthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종으로 형성하는 것을 특징으로 하는,
커버레이 일체형 구조의 전자파 흡수체.
According to claim 1,
Further comprising a release base layer disposed under the second adhesive layer,
The release base layer is characterized in that it is formed of one selected from the group consisting of a release paper and a release-treated PET (Polyethylene terephthalate) film,
Electromagnetic wave absorber with integrated coverlay structure.
(a) 제1 피도포부재층의 하부에 감압 점착제를 도포 후 금속박층을 배치시킨 다음, 라미네이션(lamination)하여 제1 코팅 제품을 제조하는 단계;
(b) 제2 피도포부재층 상에 내열성 및 절연성 수지를 포함하는 제2 액상 조액을 도포한 후 코팅하여 10~30㎛ 두께의 제2 접착층을 형성한 다음, 이형기재층과 라미네이션하여 제2 코팅 제품을 제조하는 단계;
(c) 2~7㎛ 두께의 보호층의 일면에 금속 자성 입자 및 바인더 수지를 포함하는 조성물을 도포한 후 코팅하여 MMP층(Magnetic Metal Powder Layer)을 형성하는 단계;
(d) 상기 (c) 단계에서 보호층의 일면에 형성된 MMP층 하부에, 상기 제2 코팅 제품의 제2 피도포부재층이 맞닿도록 배치한 후 라미네이션하여 제3 코팅 제품을 제조하는 단계; 및
(e) 상기 (a) 단계의 제1 코팅 제품 중 금속박층의 하부에 내열성 수지를 포함하는 제1 액상 조액을 도포한 후 코팅하여 3~10㎛ 두께의 제1 접착층을 형성한 다음, 상기 제1 접착층의 하부에 상기 (d) 단계에서 제조된 제3 코팅 제품의 보호층이 맞닿도록 배치한 후 라미네이션하여 제4 코팅 제품을 제조하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는,
전자파 흡수체의 제조 방법.
(a) preparing a first coated product by applying a pressure-sensitive adhesive on the lower portion of the first to-be-coated member layer and then disposing a metal foil layer, followed by lamination;
(b) a second liquid crude liquid containing heat-resistant and insulating resin is applied on the second to-be-coated member layer, coated to form a second adhesive layer with a thickness of 10 to 30 μm, and then laminated with a release base layer to obtain a second preparing a coated product;
(c) forming an MMP layer (Magnetic Metal Powder Layer) by coating a composition containing magnetic metal particles and a binder resin on one surface of the protective layer having a thickness of 2 to 7 μm;
(d) preparing a third coated product by arranging the second coated member layer of the second coated product in contact with the MMP layer formed on one surface of the protective layer in step (c), and then laminating; and
(e) of the first coating product of step (a), a first liquid crude liquid containing a heat-resistant resin is applied to the lower portion of the metal foil layer and coated to form a first adhesive layer with a thickness of 3 to 10 μm, and then 1 step of laminating the protective layer of the third coating product prepared in step (d) on the lower portion of the adhesive layer and then laminating to prepare a fourth coating product;
characterized in that it comprises,
A method for manufacturing an electromagnetic wave absorber.
제13항에 있어서,
상기 (c) 단계에서 제조된 보호층 및 MMP층의 두께의 합은 15~150㎛인 것을 특징으로 하는,
전자파 흡수체의 제조 방법.
14. The method of claim 13,
The sum of the thickness of the protective layer and the MMP layer prepared in step (c) is characterized in that 15 ~ 150㎛,
A method for manufacturing an electromagnetic wave absorber.
제13항에 있어서,
상기 보호층은, PI(Polyimide) 필름, PET(Polyethylene terephthalate) 필름 및 PEN(Polyethylene naphthalate) 필름으로 구성된 군으로부터 선택된 1종으로 형성되는 것을 특징으로 하는,
전자파 흡수체의 제조 방법.
14. The method of claim 13,
The protective layer is characterized in that it is formed of one selected from the group consisting of a PI (Polyimide) film, a PET (Polyethylene terephthalate) film, and a PEN (Polyethylene naphthalate) film,
A method for manufacturing an electromagnetic wave absorber.
제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전자파 흡수체의 제조 방법은 롤투롤 공정(roll to roll process)으로 수행되는 것을 특징으로 하는,
전자파 흡수체의 제조 방법.
16. The method according to any one of claims 13 to 15,
The method of manufacturing the electromagnetic wave absorber is characterized in that it is performed in a roll to roll process (roll to roll process),
A method for manufacturing an electromagnetic wave absorber.
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