KR102445532B1 - Composite sheet for forming a protective film - Google Patents

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히로유키 요네야마
다이스케 야마모토
켄타 후루노
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린텍 가부시키가이샤
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Abstract

기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 적층되어 구성되고, 상기 보호막 형성용 필름으로부터 형성된 보호막에 대한 레이저 인자성이 우수하고, 또한 보호막의 인자의 시인성도 우수한 보호막 형성용 복합 시트를 제공한다. 보호막 형성용 복합 시트는 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 적층되어 이루어지며, 상기 기재 및 상기 점착제층의 적층물인 지지 시트의 헤이즈가 45%보다 높고, 상기 지지 시트의 투과 선명도가 100 이상이다.A substrate is provided, and a pressure-sensitive adhesive layer and a film for forming a protective film are laminated in this order on the substrate, and the laser printing property of the protective film formed from the film for forming a protective film is excellent, and the visibility of printing of the protective film is also excellent A composite sheet for forming a protective film is provided. The composite sheet for forming a protective film includes a substrate, and a pressure-sensitive adhesive layer and a film for forming a protective film are laminated in this order on the substrate, and the support sheet, which is a laminate of the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer, has a haze higher than 45%, Transmission clarity of the support sheet is 100 or more.

Description

보호막 형성용 복합 시트Composite sheet for forming a protective film

본 발명은 보호막 형성용 복합 시트에 관한 것이다.The present invention relates to a composite sheet for forming a protective film.

본원은 2017년 3월 30일에 일본에 출원된 일본 특허출원 2017-068187호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2017-068187 for which it applied to Japan on March 30, 2017, and uses the content here.

근래, 이른바 페이스 다운(face down) 방식으로 불리는 실장법을 적용한 반도체 장치의 제조가 행해지고 있다. 페이스 다운 방식에 있어서는 회로면 상에 범프 등의 전극을 갖는 반도체 칩이 사용되고, 상기 전극이 기판과 접합된다. 이 때문에, 반도체 칩의 회로면과는 반대측 이면은 노출될 수 있다.DESCRIPTION OF RELATED ART In recent years, manufacture of the semiconductor device to which the mounting method called a so-called face down method is applied is performed. In the face-down method, a semiconductor chip having electrodes such as bumps on the circuit surface is used, and the electrodes are joined to the substrate. For this reason, the back surface opposite to the circuit surface of the semiconductor chip can be exposed.

이 노출된 반도체 칩의 이면에는 유기 재료로 이루어지는 수지막이 보호막으로서 형성되고, 이와 같이 보호막을 형성하여 얻어진 보호막이 형성된 반도체 칩이 반도체 장치에 도입될 수 있다. 보호막은 다이싱 공정 이후의 공정에 있어서, 반도체 칩에 있어서 균열이나 결함이 발생하는, 이른바 치핑을 방지하기 위해 이용된다.On the exposed back surface of the semiconductor chip, a resin film made of an organic material is formed as a protective film, and the protective film-formed semiconductor chip obtained by forming the protective film in this way can be introduced into a semiconductor device. The protective film is used in the process after the dicing process to prevent so-called chipping, in which cracks and defects are generated in the semiconductor chip.

이러한 보호막의 형성에는 지지 시트 상에 보호막 형성용 필름을 구비하여 이루어지는 보호막 형성용 복합 시트가 사용된다. 상기 지지 시트로는 예를 들면, 수지제 기재 상에 점착제층 등이 적층되어 이루어지는 적층 시트가 사용된다. 상기 보호막 형성용 복합 시트는 보호막 형성용 필름이 보호막 형성능을 갖고 있는 것에 더하여, 지지 시트가 다이싱 시트로서 기능 가능하며, 보호막 형성용 필름과 다이싱 시트가 일체화된 것으로 할 수 있다.For formation of such a protective film, the composite sheet for protective film formation which equips the support sheet with the film for protective film formation is used. As the support sheet, for example, a laminated sheet in which an adhesive layer or the like is laminated on a resin substrate is used. In the composite sheet for forming a protective film, in addition to the film for forming a protective film having the ability to form a protective film, the support sheet can function as a dicing sheet, and the film for forming a protective film and the dicing sheet can be integrated.

한편, 반도체 장치의 제조 과정에서는, 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩에 첩부되어 있는 보호막의 지지 시트측 면에 레이저 광의 조사에 의해 인자(본 명세서에 있어서는, 「레이저 인자」로 칭하는 경우가 있다)가 행해지는 경우가 있다. 이 때, 레이저 광은 지지 시트(기재)의 보호막이 형성되어 있는 측과는 반대측으로부터 지지 시트를 개재하여 조사된다. 그리고, 인자는 지지 시트를 개재하여 관측된다.On the other hand, in the manufacturing process of a semiconductor device, printing (in this specification, it may be called "laser printing") is performed by irradiation of a laser beam to the surface of the support sheet side of the protective film affixed to a semiconductor wafer or a semiconductor chip. There are cases. At this time, the laser beam is irradiated through the support sheet from the side opposite to the side on which the protective film of the support sheet (base material) is formed. And the printing is observed through the support sheet.

또한, 반도체 장치의 제조 과정에서는, 보호막 형성용 필름 혹은 보호막을 구비한 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩 상태를 상기 지지 시트와 이들 보호막 형성용 필름 또는 보호막을 개재하여 적외선 카메라 등에 의해 검사하는 경우가 있다.Moreover, in the manufacturing process of a semiconductor device, the state of the semiconductor wafer or semiconductor chip provided with the film for forming a protective film or a protective film may be inspected by an infrared camera or the like through the support sheet and these films or protective films for forming a protective film.

이와 같이, 반도체 장치의 제조 과정에서는, 지지 시트를 개재하여 레이저 인자나 보호막 형성용 필름, 보호막, 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩의 관측이 행해지는 경우가 있다. 그리고, 지지 시트의 구성은 이들 인자나 관측의 정밀도에 큰 영향을 준다.Thus, in the manufacturing process of a semiconductor device, laser printing, the film for protective film formation, a protective film, a semiconductor wafer, or the observation of a semiconductor chip may be performed through a support sheet. And the structure of a support sheet has a big influence on these factors and the precision of observation.

예를 들면, 지금까지 다이싱 공정 후 반도체 칩의 검사에 있어서 광선 투과율이 높고, 반도체 칩의 화상의 시인성이 우수한 보호막 형성용 복합 시트가 개시되어 있다(특허문헌 1 참조). 보호막 형성용 복합 시트 중의 지지 시트를 구성하는 기재에서는, 롤상으로 권취되었을 때 기재끼리의 첩부, 이른바 블로킹을 방지하기 위해 통상 적어도 한쪽 표면이 요철면으로 되어 있다. 그리고, 이 요철면의 존재에 의해 지지 시트가 백탁하여, 보호막을 포함하는 반도체 칩을 선명히 관측하지 못하고, 반도체 칩의 시인성이 나쁘다는 문제점이 있었다. 이에 비해, 특허문헌 1에 개시되어 있는 수지막 형성용 복합 시트에서는, 기재의 요철면 상에 점착제층을 적층하고, 지지 시트의 헤이즈를 45% 이하로 함으로써, 지지 시트를 개재한 반도체 칩의 시인성을 향상시키고 있다.For example, the composite sheet for protective film formation which has high light transmittance and is excellent in the visibility of the image of a semiconductor chip in the test|inspection of a semiconductor chip after a dicing process is disclosed so far (refer patent document 1). In the base material constituting the support sheet in the composite sheet for forming a protective film, when it is wound into a roll, at least one surface is usually an uneven surface in order to prevent sticking of the base materials, so-called blocking. And the presence of this uneven|corrugated surface made a support sheet cloudy, and there existed a problem that the semiconductor chip containing a protective film could not be observed clearly, and the visibility of a semiconductor chip was bad. On the other hand, in the composite sheet for resin film formation disclosed by patent document 1, by laminating|stacking an adhesive layer on the uneven|corrugated surface of a base material, and making haze of a support sheet 45 % or less, the visibility of the semiconductor chip via a support sheet. is improving

일본 특허 제5432853호 공보Japanese Patent No. 5432853 Publication

그러나, 지지 시트를 개재한 반도체 칩의 시인성이 높아도 지지 시트를 개재한 보호막의 레이저 인자성이 반드시 우수하다고는 할 수 없다. 이는 지지 시트가 반도체 칩의 시인성 향상을 가능하게 하고 있어도, 이러한 지지 시트를 개재한 보호막의 레이저 인자와 인자의 시인이 반드시 양호하게 행해진다고는 할 수 없기 때문이다. 그리고, 특허문헌 1에 개시되어 있는 보호막 형성용 복합 시트도 레이저 인자성이 우수한지는 확실하지 않다.However, even if the visibility of the semiconductor chip via the support sheet is high, it cannot necessarily be said that the laser printing property of the protective film via the support sheet is excellent. This is because, even if the support sheet enables the improvement of the visibility of the semiconductor chip, the laser printing of the protective film through the support sheet and the visibility of printing cannot necessarily be performed satisfactorily. And it is not certain whether the composite sheet for protective film formation disclosed by patent document 1 is also excellent in laser printing property.

이에, 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 적층되어 구성되며, 상기 보호막 형성용 필름으로부터 형성된 보호막에 대한 레이저 인자성이 우수하고, 또한 보호막의 인자의 시인성도 우수한 보호막 형성용 복합 시트를 제공한다.Accordingly, a substrate is provided, and a pressure-sensitive adhesive layer and a film for forming a protective film are laminated in this order on the substrate, and the laser printing property of the protective film formed from the film for forming a protective film is excellent, and the visibility of printing of the protective film Also provides an excellent composite sheet for forming a protective film.

즉, 본 발명의 제1 양태에 따른 보호막 형성용 복합 시트는 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 적층되어 이루어지며, 상기 기재 및 상기 점착제층의 적층물인 지지 시트의 헤이즈가 45%보다 높고, 상기 지지 시트의 투과 선명도가 100 이상이다.That is, the composite sheet for forming a protective film according to the first aspect of the present invention includes a substrate, and a pressure-sensitive adhesive layer and a film for forming a protective film are laminated in this order on the substrate, and is a laminate of the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer. The haze of the support sheet is higher than 45%, and the transmission clarity of the support sheet is 100 or more.

상기 양태에 따른 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 상기 점착제층의 상기 보호막 형성용 필름을 구비하고 있는 측의 표면 중, 상기 보호막 형성용 필름이 적층되어 있지 않은 영역에 지그용 접착제층을 구비해도 된다.In the composite sheet for forming a protective film according to the above aspect, an adhesive layer for a jig may be provided in a region where the film for forming a protective film is not laminated among the surfaces of the pressure-sensitive adhesive layer on the side provided with the film for forming a protective film.

상기 보호막 형성용 필름이 에너지선 경화성이어도 된다.Energy-beam sclerosis|hardenability may be sufficient as the said film for protective film formation.

상기 보호막 형성용 필름이 열경화성이어도 된다.Thermosetting may be sufficient as the said film for protective film formation.

상기 보호막 형성용 필름이 비경화성이어도 된다.Non-hardening may be sufficient as the said film for protective film formation.

상기 점착제층이 에너지선 경화성 또는 비에너지선 경화성이어도 된다.Energy ray curability or non-energy ray curability may be sufficient as the said adhesive layer.

상기 점착제층의 두께가 3∼20㎛여도 된다.The thickness of the said adhesive layer may be 3-20 micrometers.

상기 기재의 한쪽 표면의 표면 조도(Ra)가 0.11㎛ 이상이며, 상기 표면 조도의 표면에 상기 점착제층이 직접 접촉하여 적층되어 있어도 된다.The surface roughness (Ra) of one surface of the said base material is 0.11 micrometer or more, and the said adhesive layer may directly contact and laminate|stack on the surface of the said surface roughness.

(1) 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 적층되어 이루어지며, 상기 기재 및 상기 점착제층의 적층물인 지지 시트의 헤이즈가 45%보다 높고, 상기 지지 시트의 투과 선명도가 100 이상인 보호막 형성용 복합 시트.(1) a substrate is provided, and a pressure-sensitive adhesive layer and a film for forming a protective film are laminated in this order on the substrate, wherein a haze of a support sheet that is a laminate of the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer is higher than 45%, and the support sheet A composite sheet for forming a protective film with a transmittance clarity of 100 or more.

(2) 상기 점착제층의 상기 보호막 형성용 필름을 구비하고 있는 측의 표면 중, 상기 보호막 형성용 필름이 적층되어 있지 않은 영역에 지그용 접착제층을 구비하는 (1)에 기재된 보호막 형성용 복합 시트.(2) The composite sheet for forming a protective film according to (1), wherein the adhesive layer for a jig is provided in a region where the film for forming a protective film is not laminated among the surfaces of the pressure-sensitive adhesive layer on the side provided with the film for forming a protective film. .

(3) 상기 보호막 형성용 필름이 에너지선 경화성인 (1) 또는 (2)에 기재된 보호막 형성용 복합 시트.(3) The composite sheet for protective film formation as described in (1) or (2) whose said film for protective film formation is energy-beam sclerosis|hardenability.

(4) 상기 보호막 형성용 필름이 열경화성인 (1) 또는 (2)에 기재된 보호막 형성용 복합 시트.(4) The composite sheet for protective film formation as described in (1) or (2) whose said film for protective film formation is thermosetting.

(5) 상기 보호막 형성용 필름이 비경화성인 (1) 또는 (2)에 기재된 보호막 형성용 복합 시트.(5) The composite sheet for forming a protective film according to (1) or (2), wherein the film for forming a protective film is non-curable.

(6) 상기 점착제층이 에너지선 경화성 또는 비에너지 경화성인 (1)∼(5) 중 어느 하나에 기재된 보호막 형성용 복합 시트.(6) The composite sheet for forming a protective film according to any one of (1) to (5), wherein the pressure-sensitive adhesive layer is energy ray-curable or non-energy-curable.

(7) 상기 점착제층의 두께가 3∼20㎛인 (1)∼(6) 중 어느 하나에 기재된 보호막 형성용 복합 시트.(7) The composite sheet for protective film formation in any one of (1)-(6) whose thickness of the said adhesive layer is 3-20 micrometers.

(8) 상기 기재의 한쪽 표면의 표면 조도(Ra)가 0.11㎛ 이상이며, 상기 표면 조도의 표면에 상기 점착제층이 직접 접촉하여 적층되어 있는 (1)∼(7) 중 어느 하나에 기재된 보호막 형성용 복합 시트.(8) Formation of a protective film according to any one of (1) to (7), wherein the surface roughness (Ra) of one surface of the substrate is 0.11 µm or more, and the pressure-sensitive adhesive layer is laminated in direct contact with the surface of the surface roughness for composite sheets.

상기 양태에 의하면, 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 적층되어 구성되며, 상기 보호막 형성용 필름으로부터 형성된 보호막에 대한 레이저 인자성이 우수하고, 또한 보호막의 인자의 시인성도 우수한 보호막 형성용 복합 시트가 제공된다.According to the above aspect, a substrate is provided, and a pressure-sensitive adhesive layer and a film for forming a protective film are laminated in this order on the substrate, and the laser printing property to the protective film formed from the film for forming a protective film is excellent, and the A composite sheet for forming a protective film having excellent print visibility is also provided.

도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제3 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제4 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 제5 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 1st Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 2nd Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 3rd Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 4th Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 5th Embodiment of this invention.

◇ 보호막 형성용 복합 시트◇ Composite sheet for forming a protective film

본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트는 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 적층되어 이루어진다. 즉, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트는 기재, 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 적층되어 이루어진다. 또한, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 상기 기재 및 점착제층의 적층물인 지지 시트의 헤이즈는 45%보다 높고, 상기 지지 시트의 투과 선명도가 100 이상이다.The composite sheet for protective film formation of this embodiment is provided with a base material, and an adhesive layer and the film for protective film formation are laminated|stacked in this order on the said base material. That is, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, a base material, an adhesive layer, and the film for protective film formation are laminated|stacked in this order. Moreover, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, the haze of the support sheet which is a laminated body of the said base material and an adhesive layer is higher than 45 %, and the transmission clarity of the said support sheet is 100 or more.

한편, 본 명세서에 있어서, 「보호막 형성용 필름」이란, 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩의 이면에 첩부 전인 것을 의미하고, 「보호막」이란, 보호막 형성용 필름을 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩의 이면에 첩부한 것을 의미한다. 또한, 보호막 형성용 필름이 경화성을 갖는 경우에는 보호막 형성용 필름을 경화시킨 것을 「보호막」이라고 칭한다.In addition, in this specification, "film for forming a protective film" means that it is before pasting on the back surface of a semiconductor wafer or semiconductor chip, and "protective film" means that the film for forming a protective film is pasted on the back surface of a semiconductor wafer or semiconductor chip. it means. In addition, when the film for protective film formation has sclerosis|hardenability, what hardened the film for protective film formation is called "a protective film."

또한, 본 명세서에 있어서는, 보호막 형성용 필름이 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩에 첩부한 후여도 지지 시트 및 보호막 형성용 필름의 적층 구조가 유지되고 있는 한, 이 적층 구조체를 「보호막 형성용 복합 시트」라고 칭한다.In addition, in this specification, even after the film for protective film formation is pasted on a semiconductor wafer or a semiconductor chip, as long as the laminated structure of a support sheet and the film for protective film formation is maintained, this laminated structure is called "composite sheet for protective film formation". call it

상기 보호막 형성용 필름은 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩의 이면(전극 형성면과는 반대측 면)을 보호하기 위한 보호막으로서 활용된다. 그리고, 지지 시트의 헤이즈가 45%보다 높고, 또한 투과 선명도가 100 이상임으로써, 본 실시형태의 보호막 형성용 필름은 레이저 인자성이 양호하고, 또한 보호막의 인자의 시인성을 양호하게 할 수 있다. 보다 구체적으로는, 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩의 이면에 상기 보호막 형성용 복합 시트를 첩부 후, 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩에 첩부되어 있는 보호막의 지지 시트측 면에 레이저 인자를 행한다. 이 때, 레이저 광은 지지 시트(기재)의 보호막이 형성되어 있는 측과는 반대측으로부터 지지 시트를 개재하여 조사된다. 그리고, 인자는 지지 시트를 개재하여 관측된다. 이 때, 지지 시트의 투과 선명도가 100 이상임으로써, 지지 시트의 외표면에 있어서의 광산란이 억제되고, 레이저 인자의 시인성을 향상시킬 수 있다.The film for forming a protective film is used as a protective film for protecting the back surface (the surface opposite to the electrode formation surface) of a semiconductor wafer or semiconductor chip. And when the haze of a support sheet is higher than 45 % and transmission clarity is 100 or more, the film for protective film formation of this embodiment can make favorable laser printing property and the visibility of printing of a protective film. More specifically, after affixing the composite sheet for forming a protective film on the back surface of a semiconductor wafer or semiconductor chip, laser printing is performed on the support sheet side surface of the protective film affixed to the semiconductor wafer or semiconductor chip. At this time, the laser beam is irradiated through the support sheet from the side opposite to the side on which the protective film of the support sheet (base material) is formed. And the printing is observed through the support sheet. At this time, when the transmission clarity of the support sheet is 100 or more, light scattering on the outer surface of the support sheet is suppressed, and the visibility of laser printing can be improved.

또한, 종래에는 레이저 인자를 굵게 하기 위해서는 고출력으로 레이저 인자를 할 필요가 있고 제조 비용이 든다는 과제가 있었다. 또한, 고출력으로 인자하는 경우에는 지지 시트를 개재하여 조사하면 보호막과 지지 시트 사이에 가스 축적이 발생할 우려가 있었다. 또한, 지지 시트의 점착력을 높임으로써, 가스 축적의 발생은 회피할 수 있지만, 한편, 픽업 적성이 저해된다는 과제가 있었다. 이 때문에, 지지 시트를 박리 후에 보호막에 직접 레이저 인자할 필요가 있었다. 이에 비해, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에서는, 헤이즈가 45%보다 높음으로써, 지지 시트 내부에 있어서 레이저 광이 적당히 산란된다. 이 때문에, 레이저 인자를 효과적으로 굵게 할 수 있고, 레이저 인자의 시인성을 향상시킬 수 있다. 또한, 레이저 출력을 크게 할 필요가 없기 때문에 가스 축적의 발생을 억제할 수 있고, 지지 시트와 보호막이 접착한 상태인 채 레이저 인자를 행할 수 있다. 또한, 지지 시트의 점착력도 적당하기 때문에 픽업 적성도 양호하다.In addition, in the prior art, in order to thicken laser printing, it is necessary to perform laser printing with high power, and there has been a problem that manufacturing cost is high. Moreover, when printing with high output, there existed a possibility that gas accumulation|storage may generate|occur|produce between a protective film and a support sheet when irradiated through a support sheet. Moreover, although generation|occurrence|production of gas accumulation|storage was avoidable by raising the adhesive force of a support sheet, on the other hand, there existed a subject that pickup aptitude was impaired. For this reason, it was necessary to laser-print a support sheet directly on a protective film after peeling. On the other hand, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, when a haze is higher than 45 %, in the inside of a support sheet, a laser beam is scattered moderately. For this reason, laser printing can be made thick effectively, and the visibility of laser printing can be improved. In addition, since it is not necessary to increase the laser output, generation of gas accumulation can be suppressed, and laser printing can be performed while the support sheet and the protective film are adhered. Moreover, since the adhesive force of a support sheet is also moderate, pick-up aptitude is also favorable.

또한, 종래에는 지그용 점착제층이 무색 투명인 보호막 형성용 복합 시트, 또는 지그용 점착제층을 갖지 않는 구성의 보호막 형성용 복합 시트인 경우, 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩의 이면에 상기 보호막 형성용 복합 시트를 마운터로 첩부시, 지지 시트가 45% 이하 등의 저헤이즈이며, 마운터에 탑재된 광학 센서를 이용한 얼라이먼트(이하, 「테이프 선단의 위치 조정」이라고 칭한다)를 할 수 없었다. 이에 비해, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에서는, 헤이즈가 45%보다 높음으로써, 마운터에 탑재된 광센서에 의해 검지되고, 테이프 선단의 위치 조정을 할 수 있다.Further, in the case of a composite sheet for forming a protective film in which the pressure-sensitive adhesive layer for a jig is colorless and transparent in the prior art, or a composite sheet for forming a protective film having a configuration that does not include an adhesive layer for a jig, the composite sheet for forming a protective film on the back surface of a semiconductor wafer or semiconductor chip When affixed with a mounter, the support sheet has a low haze such as 45% or less, and alignment using an optical sensor mounted on the mounter (hereinafter referred to as "adjustment of the position of the tape tip") was not possible. On the other hand, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, when a haze is higher than 45 %, it detects by the optical sensor mounted on the mounter, and can position a tape front-end|tip.

본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트의 사용 대상인 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 본 실시형태에 있어서의 효과가 보다 현저히 얻어지는 점에서, 30㎛ 이상 1000㎛ 이하인 것이 바람직하고, 100㎛ 이상 300㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.Although the thickness of the semiconductor wafer or semiconductor chip which is the object of use of the composite sheet for protective film formation of this embodiment is not specifically limited, It is preferable that it is 30 micrometers or more and 1000 micrometers or less from the point which the effect in this embodiment is obtained more remarkably, 100 It is more preferable that they are micrometer or more and 300 micrometers or less.

이하, 본 실시형태의 구성에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, the structure of this embodiment is demonstrated in detail.

◎ 지지 시트◎ Support sheet

상기 지지 시트는 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층을 구비하는 것이며, 2층 이상의 복수층으로 이루어지는 것이다. 이들 복수층의 구성 재료 및 두께는 서로 동일해도 상이해도 되고, 이들 복수층의 조합은 본 실시형태에 있어서의 효과를 저해하지 않는 한 특별히 한정되지 않는다.The said support sheet is provided with a base material, is provided with an adhesive layer on the said base material, and consists of multiple layers of two or more layers. The constituent material and thickness of these multiple layers may be mutually the same or different, and the combination of these multiple layers is not specifically limited unless the effect in this embodiment is impaired.

한편, 본 명세서에 있어서는, 지지 시트의 경우에 한정되지 않으며, 「복수층이 서로 동일해도 상이해도 된다」란, 「모든 층이 동일해도 되고, 모든 층이 상이해도 되며, 일부의 층만이 동일해도 된다」는 것을 의미하고, 또한 「복수층이 서로 상이하다」란, 「각 층의 구성 재료 및 두께의 적어도 한쪽이 서로 상이하다」는 것을 의미한다. In addition, in this specification, it is not limited to the case of a support sheet, "a plurality of layers may be the same or different from each other" means "all layers may be the same, all layers may be different, and only some layers may be the same. ' and "a plurality of layers are different from each other" means "at least one of the constituent materials and thickness of each layer is different from each other."

바람직한 지지 시트로는 예를 들면, 기재 상에 점착제층이 직접 접촉하여 적층되어 이루어지는 것, 기재 상에 중간층을 개재하여 점착제층이 적층되어 이루어지는 것 등을 들 수 있다. 보다 바람직한 지지 시트로는 기재 상에 점착제층이 직접 접촉하여 적층되어 이루어지는 것을 들 수 있다.Preferred support sheets include, for example, those in which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated in direct contact with the substrate, and those in which the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the substrate with an intermediate layer interposed therebetween. As a more preferable support sheet, what is laminated|stacked in direct contact with an adhesive layer on a base material is mentioned.

본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트의 예를 이러한 지지 시트의 종류별로, 이하, 도면을 참조하면서 설명한다. 한편, 이하의 설명에서 이용하는 도면은 본 실시형태의 특징을 알기 쉽게 하기 위해 편의상, 주요부가 되는 부분을 확대하여 나타내고 있는 경우가 있으며, 각 구성 요소의 치수 비율 등이 실제와 동일한 것으로 한정되지 않는다.An example of the composite sheet for protective film formation of this embodiment is demonstrated for each type of such a support sheet, referring drawings below. On the other hand, the drawings used in the following description may enlarge and show the main part for convenience in order to make the characteristics of the present embodiment easy to understand, and the dimensional ratio of each component is not limited to the same as in reality.

도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 1st Embodiment of this invention.

여기에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)는, 기재(11) 상에 점착제층(12)을 구비하고, 점착제층(12) 상에 보호막 형성용 필름(13)을 구비하여 이루어지는 것이다. 지지 시트(10)는, 기재(11) 및 점착제층(12)의 적층체이다. 보호막 형성용 복합 시트(1A)는 다시 말하면, 지지 시트(10)의 한쪽 표면(10a) 상에 보호막 형성용 필름(13)이 적층된 구성을 갖는다. 또한, 보호막 형성용 복합 시트(1A)는, 또한 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a)의 전체면(상면 및 측면)과 점착제층의 표면(12a)(상면)에 박리 필름(15)이 적층되어 있다.The composite sheet 1A for protective film formation shown here equips the adhesive layer 12 on the base material 11, and equips the adhesive layer 12 with the film 13 for protective film formation. The support sheet 10 is a laminate of the base material 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 12 . In other words, the composite sheet 1A for forming a protective film has a structure in which the film 13 for forming a protective film is laminated on one surface 10a of the support sheet 10 . In addition, the composite sheet 1A for forming a protective film further includes a release film 15 on the entire surface (upper surface and side surface) of the surface 13a of the film 13 for forming a protective film and the surface 12a (upper surface) of the pressure-sensitive adhesive layer. This is stacked.

한편, 본 명세서에 있어서, 「박리 필름」은 박리 기능을 갖는 필름으로서, 구체적으로는, 반도체 웨이퍼에 대한 첩부 전의 보호막 형성용 필름을 보호하기 위해, 보호막 형성용 필름의 표면에 첩부되어 있는 필름을 말하고, 작업시에는 이를 박리하여 사용되는 것이다.On the other hand, in the present specification, the "release film" is a film having a peeling function, specifically, in order to protect the film for forming a protective film before sticking to a semiconductor wafer, the film affixed on the surface of the film for forming a protective film. That is, it is used by peeling it during operation.

보호막 형성용 복합 시트(1A)에 있어서, 기재(11) 및 점착제층(12)의 적층물인 지지 시트(10)의 헤이즈는 45%보다 높고, 상기 지지 시트(10)의 투과 선명도가 100 이상이다.In the composite sheet 1A for forming a protective film, the haze of the support sheet 10, which is a laminate of the base material 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 12, is higher than 45%, and the transmission clarity of the support sheet 10 is 100 or more. .

도 1에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)는, 박리 필름(15)이 제거된 상태로 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a) 중, 중앙측의 일부 영역에 반도체 웨이퍼(도시 생략)의 이면이 첩부된다. 또한, 보호막 형성용 필름(13)의 주연부 근방의 영역이 링 프레임 등의 지그에 첩부되어 사용된다.The composite sheet 1A for protective film formation shown in FIG. 1 is a semiconductor wafer (not shown) in the central side partial area|region among the surface 13a of the film 13 for protective film formation in the state from which the peeling film 15 was removed. is pasted on the other side of Moreover, the area|region near the periphery of the film 13 for protective film formation is affixed to jigs, such as a ring frame, and is used.

도 2는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 한편, 도 2 이후의 도면에 있어서 이미 설명된 도면에 나타낸 것과 동일한 구성 요소에는, 그 설명된 도면의 경우와 동일한 부호를 부여하고, 그 상세한 설명은 생략한다.It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 2nd Embodiment of this invention. In addition, in the drawings after FIG. 2, the same code|symbol as the case of the case of the illustrated figure is attached|subjected to the same component as that shown in the figure already demonstrated, and the detailed description is abbreviate|omitted.

여기에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1B)는, 지그용 접착제층(16)을 구비하고 있는 점 이외에는, 도 1에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)와 동일한 것이다. 즉, 보호막 형성용 복합 시트(1B)에 있어서는, 기재(11)의 한쪽 표면(11a)에 점착제층(12)이 적층되어 있다. 점착제층(12)의 표면(12a)의 중앙측의 일부 영역, 즉, 반도체 웨이퍼 첩부 영역에 보호막 형성용 필름(13)이 적층되어 있다. 점착제층(12)의 표면(12a)의 일부, 즉, 주연부 근방의 영역에 지그용 접착제층(16)이 적층되어 있다. 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a)(상면)과 지그용 접착제층(16)의 표면(16a)(상면)에 박리 필름(15)이 적층되어 있다.The composite sheet 1B for protective film formation shown here is the same thing as 1 A of composite sheets for protective film formation shown in FIG. 1 except the point provided with the adhesive bond layer 16 for jig|tools. That is, in the composite sheet 1B for protective film formation, the adhesive layer 12 is laminated|stacked on the one surface 11a of the base material 11. The film 13 for protective film formation is laminated|stacked on the partial area|region of the central side of the surface 12a of the adhesive layer 12, ie, a semiconductor wafer pasting area. The adhesive layer 16 for a jig|tool is laminated|stacked on the part of the surface 12a of the adhesive layer 12, ie, in the area|region near the periphery. The release film 15 is laminated|stacked on the surface 13a (upper surface) of the film 13 for protective film formation, and the surface 16a (upper surface) of the adhesive bond layer 16 for jig|tools.

보호막 형성용 복합 시트(1B)에 있어서, 기재(11) 및 점착제층(12)의 적층물인 지지 시트(10)의 헤이즈는 45%보다 높고, 상기 지지 시트(10)의 투과 선명도가 100 이상이다.In the composite sheet for forming a protective film 1B, the haze of the support sheet 10, which is a laminate of the base material 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 12, is higher than 45%, and the transmission clarity of the support sheet 10 is 100 or more. .

지그용 접착제층(16)은 예를 들면, 접착제 성분을 함유하는 단층 구조인 것이어도 되며, 심재가 되는 시트의 양면에 접착제 성분을 함유하는 층이 적층된 복수층 구조인 것이어도 된다.The adhesive layer 16 for a jig may have a single-layer structure containing an adhesive component, for example, or may have a multi-layer structure in which layers containing an adhesive component are laminated on both surfaces of a sheet serving as a core material.

도 2에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1B)는, 박리 필름(15)이 제거된 상태로 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a)에 반도체 웨이퍼(도시 생략)의 이면이 첩부된다. 또한, 지그용 접착제층(16)의 표면(16a) 중 상면이 링 프레임 등의 지그에 첩부되어 사용된다.As for the composite sheet 1B for protective film formation shown in FIG. 2, the back surface of a semiconductor wafer (not shown) is affixed to the surface 13a of the film 13 for protective film formation in the state from which the peeling film 15 was removed. In addition, the upper surface of the surface 16a of the adhesive bond layer 16 for jigs is affixed to jigs, such as a ring frame, and is used.

도 3은 본 발명의 제3 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 3rd Embodiment of this invention.

여기에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1C)는, 점착제층(12)과 보호막 형성용 필름(13) 사이에 중간층(17)을 구비하고 있는 점 이외에는, 도 1에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)와 동일한 것이다. 보호막 형성용 복합 시트(1C)에 있어서는, 지지 시트(10)는 기재(11), 점착제층(12) 및 중간층(17)의 적층체이다. 보호막 형성용 복합 시트(1C)는 다시 말하면, 지지 시트(10)의 한쪽 표면(10a(17a)) 상에 보호막 형성용 필름(13)이 적층된 구성을 갖는다. 또한, 보호막 형성용 복합 시트(1C)는 추가로 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a)의 전체면(상면 및 측면)과 중간층(17a)의 표면(측면)과 점착제층의 표면(12a)(상면)에 박리 필름(15)이 적층되어 있다.The composite sheet 1A for protective film formation shown here 1 C of composite sheets for protective film formation shown here except the point provided with the intermediate|middle layer 17 between the adhesive layer 12 and the film 13 for protective film formation 1A for protective film formation shown in FIG. ) is the same as In 1 C of composite sheets for protective film formation, the support sheet 10 is the laminated body of the base material 11, the adhesive layer 12, and the intermediate|middle layer 17. As shown in FIG. In other words, 1 C of composite sheets for protective film formation have the structure in which the film 13 for protective film formation was laminated|stacked on one surface 10a (17a) of the support sheet 10. In addition, the composite sheet 1C for forming a protective film further comprises the entire surface (top and side) of the surface 13a of the film 13 for forming a protective film, the surface (side) of the intermediate layer 17a, and the surface 12a of the pressure-sensitive adhesive layer. ) (upper surface), a release film 15 is laminated.

보호막 형성용 복합 시트(1C)에 있어서, 기재(11), 점착제층(12) 및 중간층(17)의 적층물인 지지 시트(10)의 헤이즈는 45%보다 높고, 상기 지지 시트(10)의 투과 선명도가 100 이상이다.In the composite sheet 1C for forming a protective film, the haze of the support sheet 10, which is a laminate of the base material 11, the pressure-sensitive adhesive layer 12, and the intermediate layer 17, is higher than 45%, and the penetration of the support sheet 10 is higher than 45%. Sharpness is greater than 100.

도 3에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1C)는, 박리 필름(15)이 제거된 상태로 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a) 중, 중앙측의 일부 영역에 반도체 웨이퍼(도시 생략)의 이면이 첩부된다. 또한, 보호막 형성용 필름(13)의 주연부 근방의 영역이 링 프레임 등의 지그에 첩부되어 사용된다.The composite sheet 1C for protective film formation shown in FIG. 3 is a semiconductor wafer (not shown) in the central side partial area|region among the surface 13a of the film 13 for protective film formation in the state from which the peeling film 15 was removed. is pasted on the other side of Moreover, the area|region near the periphery of the film 13 for protective film formation is affixed to jigs, such as a ring frame, and is used.

도 4는 본 발명의 제4 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 4th Embodiment of this invention.

여기에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1D)는, 기재(11)와 점착제층(12) 사이에 중간층(17)을 구비하고 있는 점 이외에는, 도 1에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)와 동일한 것이다. 보호막 형성용 복합 시트(1D)에 있어서는, 지지 시트(10)는 기재(11), 중간층(17) 및 점착제층(12)의 적층체이다. 보호막 형성용 복합 시트(1D)는 다시 말하면, 지지 시트(10)의 한쪽 표면(10a(12a)) 상에 보호막 형성용 필름(13)이 적층된 구성을 갖는다. 또한, 보호막 형성용 복합 시트(1D)는, 추가로 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a)의 전체면(상면 및 측면)과 점착제층의 표면(12a)(상면)에 박리 필름(15)이 적층되어 있다.The composite sheet 1D for forming a protective film shown here is the same as that of the composite sheet 1A for forming a protective film shown in Fig. 1 , except that the intermediate layer 17 is provided between the base 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 12 . will be. In the composite sheet 1D for forming a protective film, the support sheet 10 is a laminate of the base material 11 , the intermediate layer 17 , and the pressure-sensitive adhesive layer 12 . In other words, the composite sheet 1D for forming a protective film has a structure in which the film 13 for forming a protective film is laminated on one surface 10a ( 12a ) of the support sheet 10 . Further, the composite sheet 1D for forming a protective film is further provided with a release film 15 on the entire surface (upper surface and side surface) of the surface 13a of the film 13 for forming a protective film and the surface 12a (upper surface) of the pressure-sensitive adhesive layer. ) are stacked.

보호막 형성용 복합 시트(1D)에 있어서, 기재(11), 중간층(17) 및 점착제층(12)의 적층물인 지지 시트(10)의 헤이즈는 45%보다 높고, 상기 지지 시트(10)의 투과 선명도가 100 이상이다.In the composite sheet 1D for forming a protective film, the haze of the support sheet 10, which is a laminate of the base material 11, the intermediate layer 17, and the pressure-sensitive adhesive layer 12, is higher than 45%, and the penetration of the support sheet 10 is higher than 45%. Sharpness is greater than 100.

도 4에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1D)는, 박리 필름(15)이 제거된 상태로 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a) 중, 중앙측의 일부 영역에 반도체 웨이퍼(도시 생략)의 이면이 첩부된다. 또한, 보호막 형성용 필름(13)의 주연부 근방의 영역이 링 프레임 등의 지그에 첩부되어 사용된다.The composite sheet 1D for protective film formation shown in FIG. 4 is a semiconductor wafer (not shown) in the central side partial area|region among the surface 13a of the film 13 for protective film formation in the state from which the peeling film 15 was removed. is pasted on the other side of Moreover, the area|region near the periphery of the film 13 for protective film formation is affixed to jigs, such as a ring frame, and is used.

도 5는 본 발명의 제5 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on 5th Embodiment of this invention.

여기에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1E)는, 점착제층의 표면의 전체면에 보호막 형성용 필름이 적층되어 있는 점 이외에는, 도 2에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1B)와 동일한 것이다. 즉, 보호막 형성용 복합 시트(1E)에 있어서는, 기재(11)의 한쪽 표면(11a)에 점착제층(12)이 적층되어 있다. 점착제층(12)의 표면(12a)의 전체면에 보호막 형성용 필름(13)이 적층되어 있다. 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a)의 일부, 즉, 주연부 근방의 영역에 지그용 접착제층(16)이 적층되어 있다. 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a)(상면)과 지그용 접착제층(16)의 표면(16a)(상면 및 측면)에 박리 필름(15)이 적층되어 있다.The composite sheet 1E for protective film formation shown here is the same thing as the composite sheet 1B for protective film formation shown in FIG. 2 except the point in which the film for protective film formation is laminated|stacked on the whole surface of the surface of an adhesive layer. That is, in the composite sheet 1E for protective film formation, the adhesive layer 12 is laminated|stacked on the one surface 11a of the base material 11. As shown in FIG. The film 13 for forming a protective film is laminated|stacked on the whole surface of the surface 12a of the adhesive layer 12. As shown in FIG. The adhesive bond layer 16 for jig|tools is laminated|stacked on a part of the surface 13a of the film 13 for protective film formation, ie, the area|region in the vicinity of a periphery. The release film 15 is laminated|stacked on the surface 13a (upper surface) of the film 13 for protective film formation, and the surface 16a (upper surface and side surface) of the adhesive bond layer 16 for jig|tools.

보호막 형성용 복합 시트(1E)에 있어서, 기재(11) 및 점착제층(12)의 적층물인 지지 시트(10)의 헤이즈는 45%보다 높고, 상기 지지 시트(10)의 투과 선명도가 100 이상이다.In the composite sheet 1E for forming a protective film, the haze of the support sheet 10, which is a laminate of the base material 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 12, is higher than 45%, and the transmission clarity of the support sheet 10 is 100 or more. .

도 5에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1E)는, 박리 필름(15)이 제거된 상태로 보호막 형성용 필름(13)의 표면(13a)에 반도체 웨이퍼(도시 생략)의 이면이 첩부된다. 또한, 지그용 접착제층(16)의 표면(16a) 중 상면이 링 프레임 등의 지그에 첩부되어 사용된다.As for the composite sheet 1E for protective film formation shown in FIG. 5, the back surface of a semiconductor wafer (not shown) is affixed to the surface 13a of the film 13 for protective film formation in the state from which the peeling film 15 was removed. In addition, the upper surface of the surface 16a of the adhesive bond layer 16 for jigs is affixed to jigs, such as a ring frame, and is used.

이와 같이, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트는, 지지 시트 및 보호막 형성용 필름이 어떠한 형태여도, 지그용 접착제층을 구비한 것이어도 된다. 단, 통상은 도 2 및 5에 나타내는 바와 같이, 지그용 접착제층을 구비한 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트로는 지지 시트(10) 또는 보호막 형성용 필름(13) 상에 지그용 접착제층(16)을 구비한 것이 바람직하다.Thus, the composite sheet for protective film formation of this embodiment may be equipped with the adhesive bond layer for jigs, no matter what form the support sheet and the film for protective film formation are. However, normally, as shown in FIGS. 2 and 5, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment provided with the adhesive bond layer for jigs, the adhesive bond layer for jigs on the support sheet 10 or the film 13 for protective film formation. (16) is preferably provided.

본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트는 도 1∼5에 나타내는 것에 한정되지 않고, 본 실시형태에 있어서의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서 도 1∼5에 나타내는 것의 일부 구성이 변경 또는 삭제된 것이나 지금까지 설명한 것에 또 다른 구성이 추가된 것이어도 된다.The composite sheet for forming a protective film of the present embodiment is not limited to that shown in Figs. 1 to 5, and within a range that does not impair the effect in the present embodiment, some configurations of those shown in Figs. 1 to 5 are changed or deleted, Another configuration may be added to what has been described so far.

예를 들면, 도 2 및 도 5에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 점착제층(12)과 보호막 형성용 필름(13) 사이에 중간층(17)이 형성되어 있어도 된다. 즉, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 지지 시트(10)는 기재(11), 점착제층(12) 및 중간층(17)이 이 순서로 적층되어 이루어지는 것이어도 된다. 여기서 중간층(17)이란, 도 3 및 4에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 형성되어 있어도 되는 중간층(17)과 동일한 것이다. 중간층(17)으로는 목적에 따라 임의의 것을 선택할 수 있다.For example, in the composite sheet for protective film formation shown in FIG.2 and FIG.5, the intermediate|middle layer 17 may be formed between the adhesive layer 12 and the film 13 for protective film formation. That is, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, as for the support sheet 10, the base material 11, the adhesive layer 12, and the intermediate|middle layer 17 may be laminated|stacked in this order. Here, the intermediate|middle layer 17 is the same as the intermediate|middle layer 17 which may be formed in the composite sheet for protective film formation shown in FIGS. As the intermediate layer 17, any one can be selected according to the purpose.

또한, 예를 들면, 도 2 및 도 5에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 기재(11)와 점착제층(12) 사이에 중간층(17)이 형성되어 있어도 된다. 즉, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 지지 시트(10)는 기재(11), 중간층(17) 및 점착제층(12)이 이 순서로 적층되어 이루어지는 것이어도 된다. 여기서 중간층(17)이란, 도 3 및 4에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 형성되어 있어도 되는 중간층(17)과 동일한 것이다. 중간층(17)으로는 목적에 따라 임의의 것을 선택할 수 있다.In addition, in the composite sheet for protective film formation shown in FIG. 2 and FIG. 5, the intermediate|middle layer 17 may be formed between the base material 11 and the adhesive layer 12, for example. That is, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, as for the support sheet 10, the base material 11, the intermediate|middle layer 17, and the adhesive layer 12 may be laminated|stacked in this order. Here, the intermediate|middle layer 17 is the same as the intermediate|middle layer 17 which may be formed in the composite sheet for protective film formation shown in FIGS. As the intermediate layer 17, any one can be selected according to the purpose.

또한, 도 1∼5에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 중간층(17)은 도 3 및 4에 나타내는 개소 이외의 다른 개소에 형성되어 있어도 된다.In addition, in the composite sheet for protective film formation shown in FIGS. 1-5, the intermediate|middle layer 17 may be formed in the location other than the location shown in FIGS.

또한, 도 1∼5에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트는 상기 중간층(17) 이외의 층이 임의의 개소에 형성되어 있어도 된다.In addition, layers other than the said intermediate|middle layer 17 may be formed in arbitrary locations in the composite sheet for protective film formation shown to FIGS.

또한, 도 3 및 4에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 지그용 접착제층(16)이 형성되어 있어도 된다.In addition, in the composite sheet for protective film formation shown in FIGS. 3 and 4, the adhesive bond layer 16 for jigs may be formed.

또한, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 박리 필름(15)과 이 박리 필름(15)과 직접 접촉하고 있는 층 사이에 일부 간극이 생겨 있어도 된다.In addition, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, a part of clearance gap may arise between the peeling film 15 and this peeling film 15 and the layer in direct contact.

또한, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 각 층의 크기나 형상은 목적에 따라 임의로 조절할 수 있다.In addition, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, the magnitude|size and shape of each layer can be adjusted arbitrarily according to the objective.

본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 지지 시트는 불투명해도 되며, 목적에 따라 착색되어 있어도 된다.In the composite sheet for protective film formation of this embodiment, the support sheet may be opaque and may be colored according to the objective.

구체적으로는, 지지 시트의 투과 선명도는 100 이상, 바람직하게는 150 이상, 보다 바람직하게는 200 이상 450 이하, 더 바람직하게는 300 이상 430 이하이다.Specifically, the transmission clarity of the supporting sheet is 100 or more, preferably 150 or more, more preferably 200 or more and 450 or less, and still more preferably 300 or more and 430 or less.

지지 시트의 투과 선명도가 상기 범위임으로써, 지지 시트의 외표면에 있어서의 광산란이 억제되고, 레이저 인자의 시인성을 향상시킬 수 있다.When the transmission clarity of a support sheet is the said range, the light scattering in the outer surface of a support sheet can be suppressed and the visibility of laser printing can be improved.

한편, 지지 시트의 투과 선명도는 스가 시험기사 제조의 사상성 측정기 「ICM-10P」 등을 사용하고, JIS K 7374-2007에 준거하여 측정할 수 있다.In addition, the transparency of transmission of a support sheet can be measured based on JISK7374-2007 using the image-measuring machine "ICM-10P" manufactured by Suga Test Co., Ltd. or the like.

또한, 지지 시트의 투과 선명도를 상기 범위로 하기 위해, 예를 들면, 지지 시트의 외표면의 표면 조도를 조정하면 된다.Moreover, in order to make the transmission clarity of a support sheet into the said range, what is necessary is just to adjust the surface roughness of the outer surface of a support sheet, for example.

또한, 지지 시트의 헤이즈가 45%보다 높고, 바람직하게는 46% 이상, 보다 바람직하게는 47% 이상 90% 이하, 더 바람직하게는 50% 이상 85% 이하이다.Moreover, the haze of a support sheet is higher than 45 %, Preferably they are 46 % or more, More preferably, they are 47 % or more and 90 % or less, More preferably, they are 50 % or more and 85 % or less.

종래에는 레이저 인자를 굵게 하기 위해서는 레이저 출력을 크게 할 필요가 있으며, 지지 시트를 개재하여 조사하면 보호막과 지지 시트 사이에 가스 축적이 발생한다. 이 때문에, 지지 시트를 박리 후에 보호막에 직접 레이저 인자할 필요가 있었다. 이에 비해, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에서는 지지 시트의 헤이즈가 상기 범위임으로써, 지지 시트 내부에 있어서 레이저 광이 적당히 산란된다. 이 때문에, 레이저 인자를 효과적으로 굵게 할 수 있고, 레이저 인자의 시인성을 향상시킬 수 있다. 또한, 레이저 출력을 크게 할 필요가 없다. 이 때문에, 가스 축적의 발생을 억제할 수 있고, 지지 시트와 보호막이 접착한 상태인 채 레이저 인자를 행할 수 있다.Conventionally, it is necessary to increase the laser output in order to increase the thickness of the laser printing, and when irradiated through the support sheet, gas accumulation occurs between the protective film and the support sheet. For this reason, it was necessary to laser-print a support sheet directly on a protective film after peeling. On the other hand, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, when the haze of a support sheet is the said range, a laser beam is scattered moderately in a support sheet inside. For this reason, laser printing can be made thick effectively, and the visibility of laser printing can be improved. Also, it is not necessary to increase the laser output. For this reason, generation|occurrence|production of gas accumulation|storage can be suppressed and laser printing can be performed with the support sheet and the state in which the protective film adhere|attached.

또한, 종래에는 지그용 점착제층이 무색 투명인 보호막 형성용 복합 시트, 또는 지그용 점착제층을 갖지 않는 구성의 보호막 형성용 복합 시트인 경우, 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩의 이면에 상기 보호막 형성용 복합 시트를 마운터로 첩부시, 지지 시트가 45% 이하 등의 저헤이즈이며, 마운터에 탑재된 광학 센서를 이용한 얼라이먼트(이하, 「테이프 선단의 위치 조정」이라고 칭한다)를 할 수 없었다. 이에 비해, 본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트에서는 지지 시트의 헤이즈가 상기 범위임으로써, 마운터에 탑재된 광센서에 의해 검지되고, 테이프 선단의 위치 조정을 할 수 있다.Further, in the case of a composite sheet for forming a protective film in which the pressure-sensitive adhesive layer for a jig is colorless and transparent in the prior art, or a composite sheet for forming a protective film having a configuration that does not include an adhesive layer for a jig, the composite sheet for forming a protective film on the back surface of a semiconductor wafer or semiconductor chip When affixed with a mounter, the support sheet has a low haze such as 45% or less, and alignment using an optical sensor mounted on the mounter (hereinafter referred to as "adjustment of the position of the tape tip") was not possible. On the other hand, in the composite sheet for protective film formation of this embodiment, when the haze of a support sheet is the said range, it is detected by the optical sensor mounted on the mounter, and the position of a tape front-end|tip can be adjusted.

한편, 지지 시트의 헤이즈는 일본전색공업사 제조의 NDH-5000 등을 사용하고, JIS K 7136-2000에 준거하여 측정할 수 있다. 또한, 지지 시트의 헤이즈를 상기 범위로 하기 위해, 예를 들면, 기재 또는 중간층에 충전재 또는 착색제를 함유시켜 조정하면 된다. 혹은 예를 들면, 점착제층의 견고함을 바꾸어 기재 또는 중간층과 점착제층 사이에 간극을 형성시켜서 조정하면 된다.In addition, the haze of a support sheet can be measured based on JISK7136-2000 using NDH-5000 etc. by the Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. product. Moreover, in order to make the haze of a support sheet into the said range, what is necessary is just to make a base material or an intermediate|middle layer contain a filler or a coloring agent, and to adjust, for example. Or, for example, what is necessary is just to change the firmness of an adhesive layer, to form a space|interval between a base material or an intermediate|middle layer, and an adhesive layer, and to adjust.

또한, 보호막 형성용 필름이 에너지선 경화성을 갖는 경우에는, 지지 시트는 에너지선을 투과시키는 것이 바람직하다.Moreover, when the film for protective film formation has energy-beam sclerosis|hardenability, it is preferable for a support sheet to permeate|transmit an energy-beam.

예를 들면, 지지 시트에 있어서 파장 375㎚인 광의 적분구를 사용하여 측정한 투과율은 30% 이상인 것이 바람직하고, 50% 이상인 것이 보다 바람직하고, 70% 이상인 것이 특히 바람직하다. 상기 광의 투과율이 이러한 범위임으로써, 지지 시트를 개재하여 보호막 형성용 필름에 에너지선(자외선)을 조사했을 때, 보호막 형성용 필름의 경화도가 보다 향상한다.For example, in the support sheet, the transmittance measured using an integrating sphere of light having a wavelength of 375 nm is preferably 30% or more, more preferably 50% or more, and particularly preferably 70% or more. When the transmittance|permeability of the said light is such a range and an energy ray (ultraviolet ray) is irradiated to the film for protective film formation through a support sheet, the hardening degree of the film for protective film formation improves more.

한편, 지지 시트에 있어서 파장 375㎚인 광의 투과율의 상한값은 특별히 한정되지 않지만 예를 들면, 95%로 하는 것이 가능하다.On the other hand, the upper limit of the transmittance|permeability of the light whose wavelength is 375 nm in a support sheet is although it does not specifically limit, For example, it is possible to set it as 95 %.

한편, 본 명세서에 있어서, 「에너지선 경화성」이란, 에너지선을 조사함으로써 경화하는 성질을 의미한다. 「비에너지선 경화성」이란, 에너지선을 조사해도 경화하지 않는 성질을 의미하고, 열경화성 및 비경화성을 포함한다. 「열경화성」이란, 가열함으로써 경화하는 성질을 의미한다. 「비경화성」이란, 가열 또는 에너지선의 조사 등에 의해 경화하지 않는 성질을 의미한다.In addition, in this specification, "energy-beam sclerosis|hardenability" means the property to harden|cure by irradiating an energy-beam. "Non-energy-ray-curable" means the property which does not harden even if it irradiates an energy-beam, and thermosetting and non-hardening are included. "Thermosetting" means the property to harden|cure by heating. "Non-hardening" means the property which does not harden|cure by heating, irradiation of an energy ray, etc.

본 명세서에 있어서, 「에너지선」이란, 전자파 또는 전하 입자선 중에서 에너지 양자를 갖는 것을 의미하고, 그 예로서 자외선, 방사선, 전자선 등을 들 수 있다.In this specification, an "energy beam" means having an energy proton in an electromagnetic wave or a charged particle beam, and an ultraviolet-ray, a radiation, an electron beam, etc. are mentioned as an example.

자외선은 예를 들면, 자외선원으로서 고압 수은 램프, 퓨전H 램프, 크세논 램프, 블랙라이트 또는 LED 램프 등을 이용함으로써 조사할 수 있다. 전자선은 전자선 가속기 등에 의해 발생시킨 것을 조사할 수 있다.Ultraviolet rays can be irradiated by using, for example, a high-pressure mercury lamp, a fusion H lamp, a xenon lamp, a black light, an LED lamp, etc. as an ultraviolet-ray source. The electron beam can irradiate what was generated by an electron beam accelerator etc.

다음으로, 지지 시트를 구성하는 각 층에 대해서 더 상세히 설명한다.Next, each layer constituting the support sheet will be described in more detail.

○ 기재○ Description

상기 기재는 시트상 또는 필름상이며, 그 구성 재료로는 예를 들면, 각종 수지를 들 수 있다.The said base material is a sheet form or a film form, and various resin is mentioned as the constituent material, for example.

상기 수지로는 예를 들면, 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 직쇄 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 고밀도 폴리에틸렌(HDPE) 등의 폴리에틸렌; 폴리프로필렌, 폴리부텐, 폴리부타디엔, 폴리메틸펜텐, 노르보르넨 수지 등의 폴리에틸렌 이외의 폴리올레핀; 에틸렌-초산비닐 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴산 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴산에스테르 공중합체, 에틸렌-노르보르넨 공중합체 등의 에틸렌계 공중합체(모노머로서 에틸렌을 사용하여 얻어진 공중합체); 폴리염화비닐, 염화비닐 공중합체 등의 염화비닐계 수지(모노머로서 염화비닐을 사용하여 얻어진 수지); 폴리스티렌; 폴리시클로올레핀; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복시레이트, 모든 구성 단위가 방향족 고리형기를 갖는 전방향족 폴리에스테르 등의 폴리에스테르; 2종 이상의 상기 폴리에스테르의 공중합체; 폴리(메타)아크릴산에스테르; 폴리우레탄; 폴리우레탄아크릴레이트; 폴리이미드; 폴리아미드; 폴리카보네이트; 불소 수지; 폴리아세탈; 변성 폴리페닐렌옥시드; 폴리페닐렌술피드; 폴리술폰; 폴리에테르케톤 등을 들 수 있다.Examples of the resin include polyethylene such as low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), and high density polyethylene (HDPE); polyolefins other than polyethylene, such as polypropylene, polybutene, polybutadiene, polymethylpentene, and norbornene resin; Ethylene-based copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer, ethylene-norbornene copolymer (copolymer obtained using ethylene as a monomer) ; vinyl chloride-based resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer (resin obtained using vinyl chloride as a monomer); polystyrene; polycycloolefin; polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate, and wholly aromatic polyester in which all structural units have aromatic cyclic groups; a copolymer of two or more of the above polyesters; poly(meth)acrylic acid ester; Polyurethane; polyurethane acrylate; polyimide; polyamide; polycarbonate; fluororesin; polyacetal; modified polyphenylene oxide; polyphenylene sulfide; polysulfone; Polyether ketone etc. are mentioned.

또한, 상기 수지로는 예를 들면, 상기 폴리에스테르와 그 이외의 수지의 혼합물 등의 폴리머 알로이도 들 수 있다. 상기 폴리에스테르와 그 이외의 수지의 폴리머 알로이는 폴리에스테르 이외의 수지의 양이 비교적 소량인 것이 바람직하다.Moreover, as said resin, polymer alloys, such as a mixture of the said polyester and other resin, are also mentioned, for example. In the polymer alloy of the polyester and other resins, it is preferable that the amount of the resin other than the polyester is relatively small.

또한, 상기 수지로는 예를 들면, 지금까지 예시한 상기 수지의 1종 또는 2종 이상이 가교한 가교 수지; 지금까지 예시한 상기 수지의 1종 또는 2종 이상을 사용한 아이오노머 등의 변성 수지도 들 수 있다.Moreover, as said resin, For example, 1 type(s) or 2 or more types of the said resin exemplified so far are crosslinked; Modified resins, such as an ionomer using 1 type(s) or 2 or more types of the said resin illustrated so far, are also mentioned.

한편, 본 명세서에 있어서, 「(메타)아크릴산」이란, 「아크릴산」 및 「메타크릴산」의 양쪽을 포함하는 개념으로 한다. (메타)아크릴산과 유사한 용어에 대해서도 동일하며, 예를 들면, 「(메타)아크릴로일기」란, 「아크릴로일기」 및 「메타크릴로일기」의 양쪽을 포함하는 개념이며, 「(메타)아크릴레이트」란, 「아크릴레이트」 및 「메타크릴레이트」의 양쪽을 포함하는 개념이다.In addition, in this specification, let "(meth)acrylic acid" be a concept including both "acrylic acid" and "methacrylic acid." The same applies to terms similar to (meth)acrylic acid, for example, "(meth)acryloyl group" is a concept including both "acryloyl group" and "methacryloyl group", "(meth) "Acrylate" is a concept including both "acrylate" and "methacrylate."

기재를 구성하는 수지는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of resins constituting the substrate may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

기재는 1층(단층)으로 이루어지는 것이어도 되며, 2층 이상의 복수층으로 이루어지는 것이어도 되고, 복수층으로 이루어지는 경우, 이들 복수층은 서로 동일해도 상이해도 되고, 이들 복수층의 조합은 특별히 한정되지 않는다.The base material may consist of one layer (single layer), may be composed of two or more layers, and when composed of multiple layers, these multiple layers may be the same or different from each other, and the combination of these multiple layers is not particularly limited. does not

기재의 두께는 40㎛ 이상 300㎛ 이하인 것이 바람직하고, 60㎛ 이상 150㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 기재의 두께가 이러한 범위임으로써, 상기 보호막 형성용 복합 시트의 가요성과 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩에 대한 첩부성이 보다 향상된다.It is preferable that they are 40 micrometers or more and 300 micrometers or less, and, as for the thickness of a base material, it is more preferable that they are 60 micrometers or more and 150 micrometers or less. When the thickness of a base material is such a range, the flexibility of the said composite sheet for protective film formation, and the sticking property with respect to a semiconductor wafer or a semiconductor chip improve more.

여기서, 「기재의 두께」란, 기재 전체의 두께를 의미하고, 예를 들면, 복수층으로 이루어지는 기재의 두께란, 기재를 구성하는 모든 층의 합계 두께를 의미한다. 한편, 기재의 두께의 측정 방법으로는 예를 들면, 임의의 5개소에 있어서 접촉식 두께계를 이용하여 두께를 측정하고, 측정값의 평균을 산출하는 방법 등을 들 수 있다.Here, the "thickness of a base material" means the thickness of the whole base material, for example, the thickness of the base material which consists of multiple layers means the total thickness of all the layers which comprise a base material. In addition, as a measuring method of the thickness of a base material, the method of measuring thickness using a contact thickness meter in arbitrary five places, and calculating the average of the measured values etc. are mentioned, for example.

기재는 두께 정밀도가 높은 것, 즉, 부위에 상관없이 두께의 불균일이 억제된 것이 바람직하다. 상술한 구성 재료 중, 이러한 두께 정밀도가 높은 기재를 구성하기 위해 사용 가능한 재료로는 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌 이외의 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 에틸렌-초산비닐 공중합체 등을 들 수 있다.It is preferable that a base material has high thickness precision, ie, that the nonuniformity of thickness was suppressed irrespective of a site|part. Among the constituent materials described above, examples of the material usable for constituting the substrate having such high thickness precision include polyethylene, polyolefins other than polyethylene, polyethylene terephthalate, and ethylene-vinyl acetate copolymer.

기재는 상기 수지 등의 주된 구성 재료 이외에 충전재, 착색제, 대전 방지제, 산화 방지제, 유기 윤활제, 촉매, 연화제(가소제) 등의 공지의 각종 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The base material may contain various known additives such as fillers, colorants, antistatic agents, antioxidants, organic lubricants, catalysts and softeners (plasticizers) in addition to the main constituent materials such as the resin.

예를 들면, 기재가 충전재 또는 착색제를 함유함으로써, 지지 시트의 헤이즈를 상기 범위 내로 할 수 있기 때문에, 레이저 인자의 시인성을 양호하게 할 수 있다.For example, since the haze of a support sheet can be made into the said range when a base material contains a filler or a coloring agent, the visibility of laser printing can be made favorable.

기재의 광학 특성은 앞서 설명한 지지 시트의 광학 특성을 만족하도록 되어 있으면 된다. 즉, 기재는 투명해도 되며, 불투명해도 되고, 목적에 따라 무색이어도 되며, 착색되어 있어도 되고, 다른 층이 가공(예를 들면, 증착)되어 있어도 된다.The optical properties of the substrate may satisfy the optical properties of the support sheet described above. That is, the base material may be transparent, may be opaque, may be colorless according to the objective, may be colored, and another layer may be processed (for example, vapor deposition).

그리고, 보호막 형성용 필름이 에너지선 경화성을 갖는 경우에 있어서는, 기재는 에너지선을 투과시키는 것이 바람직하다.And when the film for protective film formation has energy-beam sclerosis|hardenability, it is preferable for a base material to permeate|transmit an energy-beam.

기재는 그 위에 형성되는 점착제층 등의 다른 층과의 밀착성을 향상시키기 위해, 샌드 블라스트 처리, 용제 처리 등에 의한 요철화 처리나 코로나 방전 처리, 전자선 조사 처리, 플라스마 처리, 오존·자외선 조사 처리, 화염 처리, 크롬산 처리, 열풍 처리 등의 산화 처리 등이 표면에 실시된 것이어도 된다.In order to improve the adhesion of the substrate to other layers such as the pressure-sensitive adhesive layer formed thereon, concavo-convex treatment by sandblasting, solvent treatment, etc., corona discharge treatment, electron beam irradiation treatment, plasma treatment, ozone/ultraviolet irradiation treatment, flame A treatment, chromic acid treatment, or oxidation treatment such as hot air treatment may be applied to the surface.

또한, 기재는 표면이 프라이머 처리가 실시된 것이어도 된다.In addition, as for a base material, the thing to which the primer process was given may be sufficient as the surface.

또한, 기재는 대전 방지 코팅층, 보호막 형성용 복합 시트를 중첩하여 보존할 때, 기재가 다른 시트에 접착하는 것이나 기재가 흡착 테이블에 접착하는 것을 방지하는 층 등을 갖는 것이어도 된다.In addition, the base material may have an antistatic coating layer and a layer that prevents the base material from adhering to another sheet or from adhering the base material to the adsorption table when the composite sheet for forming a protective film is stacked and stored.

이들 중에서도 기재는 다이싱시 블레이드의 마찰에 의한 기재의 단편의 발생이 억제되는 점에서, 특히 표면이 전자선 조사 처리가 실시된 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the surface of the substrate has been subjected to electron beam irradiation treatment in particular from the viewpoint that generation of fragments of the substrate due to the friction of the blades during dicing is suppressed.

또한, 표면 처리된 기재에 있어서, 기재 중 지지 시트의 외면으로서 노출되는 면의 표면 조도(Ra)의 상한값은 0.60㎛ 이하, 바람직하게는 0.50㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.40㎛ 이하, 더 바람직하게는 0.30㎛ 이하이다. 기재의 표면 조도가 상기 상한값 이하임으로써, 기재의 외면에 있어서의 광산란을 저감시키고, 지지 시트의 투과 선명도를 상기 범위 내로 할 수 있기 때문에, 레이저 인자의 시인성을 양호하게 할 수 있다.Further, in the surface-treated substrate, the upper limit of the surface roughness (Ra) of the surface exposed as the outer surface of the support sheet among the substrate is 0.60 µm or less, preferably 0.50 µm or less, more preferably 0.40 µm or less, still more preferably is 0.30 μm or less. When the surface roughness of the substrate is equal to or less than the upper limit, light scattering on the outer surface of the substrate can be reduced and the transmission clarity of the support sheet can be within the above range, so that the visibility of laser printing can be improved.

한편, 표면 조도(Ra)의 하한값은 특별한 한정은 없고, 예를 들면 0.005㎛ 이상이어도 되며, 0.01㎛ 이상이어도 되고, 0.03㎛ 이상이어도 되며, 0.05㎛ 이상이어도 된다.In addition, the lower limit of surface roughness Ra is not specifically limited, For example, 0.005 micrometer or more may be sufficient, 0.01 micrometer or more may be sufficient, 0.03 micrometer or more may be sufficient, and 0.05 micrometer or more may be sufficient as it.

또한, 기재의 표면 조도가 상기 상한값 이하인 면과 표면 조도가 0.11㎛ 이상인 면을 가질 때, 표면 조도가 0.11㎛ 이상인 표면에 점착제층 등의 다른 층을 적층시키는 것이 바람직하다. 이에 의해, 기재 중 지지 시트의 외면으로서 노출되는 표면 조도가 상기 상한값 이하의 면이 되고, 기재의 외면에 있어서의 광산란을 저감시키고, 지지 시트의 투과 선명도를 상기 범위 내로 할 수 있기 때문에 레이저 인자의 시인성을 양호하게 할 수 있다.In addition, when the surface of the substrate has a surface having a surface roughness equal to or less than the upper limit and a surface having a surface roughness of 0.11 µm or more, it is preferable to laminate another layer such as an adhesive layer on the surface having a surface roughness of 0.11 µm or more. Thereby, the surface roughness exposed as the outer surface of the support sheet among the base materials is equal to or less than the upper limit, light scattering on the outer surface of the base material can be reduced, and the transmission clarity of the support sheet can be made within the above range. Visibility can be made favorable.

또한, 기재의 표면 조도가 양면 모두 상기 상한값 이하인 경우에는 보다 표면 조도가 큰 면에 점착제층 등의 다른 층을 적층시키고, 보다 표면 조도가 작은 면이 외면으로서 노출하도록 하면 된다.In addition, when the surface roughness of the substrate is equal to or less than the upper limit on both surfaces, another layer such as an adhesive layer is laminated on the surface having the larger surface roughness, and the surface having the smaller surface roughness is exposed as the outer surface.

한편, 본 명세서에 있어서, 「표면 조도」란, 특별히 언급하지 않는 한, JIS B0601:2001에 준거하여 구해지는, 이른바 산술 평균 조도를 의미하고, 「Ra」로 약기하는 경우가 있다.In addition, in this specification, unless otherwise indicated, "surface roughness" means so-called arithmetic mean roughness calculated based on JIS B0601:2001, and may be abbreviated as "Ra".

기재는 공지의 방법으로 제조할 수 있다. 예를 들면, 수지를 함유하는 기재는 상기 수지를 함유하는 수지 조성물을 성형함으로써 제조할 수 있다.The substrate can be prepared by a known method. For example, the base material containing a resin can be manufactured by shaping|molding the resin composition containing the said resin.

○ 점착제층○ Adhesive layer

상기 점착제층은 시트상 또는 필름상이며, 점착제를 함유한다.The pressure-sensitive adhesive layer is in the form of a sheet or a film, and contains an adhesive.

상기 점착제로는 예를 들면, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 고무계 수지, 실리콘계 수지, 에폭시계 수지, 폴리비닐에테르, 폴리카보네이트, 에스테르계 수지 등의 점착성 수지를 들 수 있고, 아크릴계 수지가 바람직하다.Examples of the adhesive include adhesive resins such as acrylic resins, urethane resins, rubber resins, silicone resins, epoxy resins, polyvinyl ethers, polycarbonates, and ester resins, and acrylic resins are preferable.

한편, 본 실시형태에 있어서 「점착성 수지」란, 점착성을 갖는 수지와 접착성을 갖는 수지의 양쪽을 포함하는 개념이며, 예를 들면, 수지 자체가 점착성을 가질 뿐만 아니라, 첨가제 등의 다른 성분과의 병용에 의해 점착성을 나타내는 수지나 열 또는 물 등의 트리거의 존재에 의해 접착성을 나타내는 수지 등도 포함한다.In addition, in this embodiment, "adhesive resin" is a concept including both the resin which has adhesiveness and the resin which has adhesiveness, For example, the resin itself not only has adhesiveness, but also other components, such as an additive, and Also includes resins exhibiting adhesiveness when combined with resins, resins exhibiting adhesiveness by the presence of triggers such as heat or water.

점착제층은 1층(단층)으로 이루어지는 것이어도 되며, 2층 이상의 복수층으로 이루어지는 것이어도 되고, 복수층으로 이루어지는 경우, 이들 복수층은 서로 동일해도 상이해도 되고, 이들 복수층의 조합은 특별히 한정되지 않는다.An adhesive layer may consist of one layer (single layer), may consist of two or more layers, and may consist of multiple layers. doesn't happen

점착제층의 두께는 3㎛ 이상 20㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5㎛ 이상 20㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 5㎛ 이상 17㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that they are 3 micrometers or more and 20 micrometers or less, as for the thickness of an adhesive layer, it is more preferable that they are 5 micrometers or more and 20 micrometers or less, It is especially preferable that they are 5 micrometers or more and 17 micrometers or less.

점착제층의 두께가 상기 하한값 이상임으로써, 점착력을 향상시킬 수 있다. 또한, 표면 조도가 0.11㎛ 이상의 기재인 경우, 기재의 표면을 매립하고, 기재 외면의 광산란이 저감된 평활한 면을 갖는 적층체로 할 수 있다. 한편, 점착제층의 두께가 상기 상한값 이하임으로써, 블레이드 다이싱 적성 및 픽업 적성을 양호하게 할 수 있다.When the thickness of an adhesive layer is more than the said lower limit, adhesive force can be improved. Moreover, when the surface roughness is 0.11 micrometer or more of a base material, it can be set as the laminated body which has a smooth surface in which the surface of a base material is buried and the light scattering of the base material outer surface was reduced. On the other hand, when the thickness of an adhesive layer is below the said upper limit, blade dicing aptitude and pick-up aptitude can be made favorable.

여기서, 「점착제층의 두께」란, 점착제층 전체의 두께를 의미하고, 예를 들면, 복수층으로 이루어지는 점착제층의 두께란, 점착제층을 구성하는 모든 층의 합계 두께를 의미한다. 한편, 점착제층의 두께의 측정 방법으로는 예를 들면, 임의의 5개소에 있어서 접촉식 두께계를 이용하여 두께를 측정하고, 측정값의 평균을 산출하는 방법 등을 들 수 있다.Here, the "thickness of an adhesive layer" means the thickness of the whole adhesive layer, for example, the thickness of the adhesive layer which consists of multiple layers means the total thickness of all the layers which comprise an adhesive layer. On the other hand, as a measuring method of the thickness of an adhesive layer, the method of measuring thickness using a contact-type thickness meter in arbitrary 5 places, and calculating the average of a measured value etc. are mentioned, for example.

점착제층의 견고함을 적절히 조정함으로써, 점착제층과 기재 또는 중간층 사이에 간극을 만들어서, 지지 시트의 헤이즈가 상기 범위 내가 되도록 조정할 수 있다.By appropriately adjusting the hardness of the pressure-sensitive adhesive layer, a gap can be formed between the pressure-sensitive adhesive layer and the base material or the intermediate layer, so that the haze of the support sheet can be adjusted within the above range.

점착제층의 광학 특성은 앞서 설명한 지지 시트의 광학 특성을 만족하도록 되어 있으면 된다. 즉, 점착제층은 불투명해도 되고, 목적에 따라 착색되어 있어도 된다.The optical properties of the pressure-sensitive adhesive layer should just satisfy the optical properties of the support sheet described above. That is, the adhesive layer may be opaque and may be colored according to the objective.

그리고, 보호막 형성용 필름이 에너지선 경화성을 갖는 경우에 있어서는, 점착제층은 에너지선을 투과시키는 것이 바람직하다.And when the film for protective film formation has energy-beam sclerosis|hardenability, it is preferable that an adhesive layer permeate|transmits an energy-beam.

점착제층은 에너지선 경화성 점착제를 사용하여 형성된 것이어도 되며, 비에너지선 경화성 점착제를 사용하여 형성된 것이어도 된다. 한편, 비에너지선 경화성 점착제에는 열경화성 점착제 및 비경화성 점착제가 포함된다. 에너지선 경화성 점착제를 사용하여 형성된 점착제층은 경화 전 및 경화 후에서의 물성을 용이하게 조절할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer may be formed using an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive or may be formed using a non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive. On the other hand, the non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive includes a thermosetting pressure-sensitive adhesive and a non-curable pressure-sensitive adhesive. The pressure-sensitive adhesive layer formed using the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive can easily control physical properties before and after curing.

<<점착제 조성물>><<Adhesive composition>>

점착제층은 점착제를 함유하는 점착제 조성물을 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 점착제층의 형성 대상면에 점착제 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 목적으로 하는 부위에 점착제층을 형성할 수 있다. 점착제층의 보다 구체적인 형성 방법은 다른 층의 형성 방법과 함께, 뒤에 상세히 설명한다. 점착제 조성물 중의 상온에서 기화하지 않는 성분끼리의 함유량의 비율은 통상 점착제층의 상기 성분끼리의 함유량의 비율과 동일해진다. 한편, 본 명세서에 있어서, 「상온」이란, 특별히 냉각하거나 가열하거나 하지 않은 온도, 즉 평상시 온도를 의미하고, 예를 들면, 15℃ 이상 25℃ 이하의 온도 등을 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer can be formed by using a pressure-sensitive adhesive composition containing a pressure-sensitive adhesive. For example, an adhesive layer can be formed in the target site|part by coating an adhesive composition on the formation target surface of an adhesive layer, and drying it as needed. A more specific method of forming the pressure-sensitive adhesive layer will be described later in detail along with a method of forming other layers. The ratio of content of components which do not vaporize at normal temperature in an adhesive composition becomes the same as the ratio of content of the said components of an adhesive layer normally. In addition, in this specification, "room temperature" means the temperature which is not specifically cooled or heated, ie, normal temperature, For example, the temperature of 15 degreeC or more and 25 degrees C or less is mentioned.

점착제 조성물의 도공은 공지의 방법으로 행하면 되고, 예를 들면, 에어 나이프 코터, 블레이드 코터, 바 코터, 그라비아 코터, 롤 코터, 롤 나이프 코터, 커튼 코터, 다이 코터, 나이프 코터, 스크린 코터, 마이어 바 코터, 키스 코터 등의 각종 코터를 이용하는 방법을 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition may be coated by a known method, for example, an air knife coater, a blade coater, a bar coater, a gravure coater, a roll coater, a roll knife coater, a curtain coater, a die coater, a knife coater, a screen coater, and a Meyer bar. The method using various coaters, such as a coater and a kiss coater, is mentioned.

점착제 조성물의 건조 조건은 특별히 한정되지 않지만, 점착제 조성물은 후술하는 용매를 함유하고 있는 경우, 가열 건조시키는 것이 바람직하고, 이 경우, 예를 들면, 70℃ 이상 130℃ 이하에서 10초 이상 5분 이하의 조건으로 건조시키는 것이 바람직하다.The drying conditions of the pressure-sensitive adhesive composition are not particularly limited, but when the pressure-sensitive adhesive composition contains a solvent to be described later, it is preferably heat-dried, and in this case, for example, at 70°C or more and 130°C or less for 10 seconds or more and 5 minutes or less It is preferable to dry under the conditions of

점착제층이 에너지선 경화성인 경우, 에너지선 경화성 점착제를 함유하는 점착제 조성물, 즉, 에너지선 경화성 점착제 조성물로는 예를 들면, 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)(이하, 「점착성 수지(I-1a)」로 약기하는 경우가 있다)와 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 점착제 조성물(I-1); 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)의 측쇄에 불포화기가 도입된 에너지선 경화성 점착성 수지(I-2a)(이하, 「점착성 수지(I-2a)」로 약기하는 경우가 있다)를 함유하는 점착제 조성물(I-2); 상기 점착성 수지(I-2a)와 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 점착제 조성물(I-3) 등을 들 수 있다.When the pressure-sensitive adhesive layer is energy-ray-curable, the pressure-sensitive adhesive composition containing the energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive, that is, the energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive composition, includes, for example, a non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-1a) (hereinafter referred to as "adhesive resin ( I-1a)") and a pressure-sensitive adhesive composition (I-1) containing an energy ray-curable compound; Energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-2a) in which an unsaturated group is introduced into the side chain of the non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-1a) (hereinafter sometimes abbreviated as "adhesive resin (I-2a)") containing pressure-sensitive adhesive composition (I-2); The adhesive composition (I-3) containing the said adhesive resin (I-2a) and an energy-beam curable compound, etc. are mentioned.

<점착제 조성물(I-1)><Adhesive composition (I-1)>

상기 점착제 조성물(I-1)은 상술한 바와 같이, 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)와 에너지선 경화성 화합물을 함유한다.As described above, the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) contains a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-1a) and an energy ray-curable compound.

[점착성 수지(I-1a)][Adhesive resin (I-1a)]

상기 점착성 수지(I-1a)는 아크릴계 수지인 것이 바람직하다.The adhesive resin (I-1a) is preferably an acrylic resin.

상기 아크릴계 수지로는 예를 들면, 적어도 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위를 갖는 아크릴계 중합체를 들 수 있다.As said acrylic resin, the acrylic polymer which has a structural unit derived from (meth)acrylic-acid alkylester at least is mentioned, for example.

상기 아크릴계 수지가 갖는 구성 단위는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of structural units which the said acrylic resin has may be 1 type, and 2 or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

상기 (메타)아크릴산알킬에스테르로는 예를 들면, 알킬에스테르를 구성하는 알킬기의 탄소수가 1∼20인 것을 들 수 있고, 상기 알킬기는 직쇄상 또는 분기쇄상인 것이 바람직하다.As said (meth)acrylic acid alkylester, C1-C20 of the alkyl group which comprises an alkylester is mentioned, for example, It is preferable that the said alkyl group is linear or branched.

(메타)아크릴산알킬에스테르로서 보다 구체적으로는, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산n-프로필, (메타)아크릴산이소프로필, (메타)아크릴산n-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산sec-부틸, (메타)아크릴산tert-부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산헵틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산n-노닐, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산운데실, (메타)아크릴산도데실((메타)아크릴산라우릴), (메타)아크릴산트리데실, (메타)아크릴산테트라데실((메타)아크릴산미리스틸), (메타)아크릴산펜타데실, (메타)아크릴산헥사데실((메타)아크릴산팔미틸), (메타)아크릴산헵타데실, (메타)아크릴산옥타데실((메타)아크릴산스테아릴), (메타)아크릴산노나데실, (메타)아크릴산이코실 등을 들 수 있다.More specifically, as (meth)acrylic acid alkylester, (meth) methyl acrylate, (meth) ethyl acrylate, (meth) acrylate n-propyl, (meth) acrylate isopropyl, (meth) acrylate n-butyl, (meth) Isobutyl acrylate, sec-butyl (meth)acrylate, tert-butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, (meth)acrylate Isooctyl acrylate, (meth)acrylic acid n-octyl, (meth)acrylic acid n-nonyl, (meth)acrylic acid isononyl, (meth)acrylic acid decyl, (meth)acrylic acid undecyl, (meth)acrylic acid dodecyl ((meth)acrylate ) acrylic acid lauryl), (meth)acrylic acid tridecyl, (meth)acrylic acid tetradecyl ((meth)acrylic acid myristyl), (meth)acrylic acid pentadecyl, (meth)acrylic acid hexadecyl ((meth)acrylic acid palmityl), (meth)acrylic acid heptadecyl, (meth)acrylic acid octadecyl ((meth)acrylic acid stearyl), (meth)acrylic acid nonadecyl, (meth)acrylic acid icosyl, etc. are mentioned.

점착제층의 점착력이 향상되는 점에서, 상기 아크릴계 중합체는 상기 알킬기의 탄소수가 2 이상인 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위를 갖는 것이 바람직하다. 그리고, 점착제층의 점착력이 보다 향상되는 점에서, 상기 알킬기의 탄소수는 2 이상 12 이하인 것이 바람직하고, 4 이상 8 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 알킬기의 탄소수가 4 이상인 (메타)아크릴산알킬에스테르는 아크릴산알킬에스테르인 것이 바람직하다.It is preferable that the said acrylic polymer has the structural unit derived from the C2 or more (meth)acrylic-acid alkylester of the said alkyl group from the point which the adhesive force of an adhesive layer improves. And it is preferable that carbon number of the said alkyl group is 2 or more and 12 or less, and, as for the point which the adhesive force of an adhesive layer improves more, it is more preferable that it is 4 or more and 8 or less. Moreover, it is preferable that carbon number of the said alkyl group is 4 or more (meth)acrylic-acid alkylesters are acrylic acid alkylesters.

상기 아크릴계 중합체는 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위 이외에 추가로 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the said acrylic polymer has the structural unit derived from a functional group containing monomer further in addition to the structural unit derived from the (meth)acrylic-acid alkylester.

상기 관능기 함유 모노머로는 예를 들면, 상기 관능기가 후술하는 가교제와 반응함으로써 가교의 기점이 되거나, 상기 관능기가 후술하는 불포화기 함유 화합물 중의 불포화기와 반응함으로써, 아크릴계 중합체의 측쇄에 불포화기의 도입을 가능하게 하는 것을 들 수 있다.As the functional group-containing monomer, for example, when the functional group reacts with a crosslinking agent described later, it becomes a starting point of crosslinking, or when the functional group reacts with an unsaturated group in an unsaturated group-containing compound described later, introduction of an unsaturated group into the side chain of the acrylic polymer. what makes it possible is

관능기 함유 모노머 중의 상기 관능기로는 예를 들면, 수산기, 카르복시기, 아미노기, 에폭시기 등을 들 수 있다.As said functional group in a functional group containing monomer, a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group, an epoxy group, etc. are mentioned, for example.

즉, 관능기 함유 모노머로는 예를 들면, 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머 등을 들 수 있다.That is, as a functional group containing monomer, a hydroxyl group containing monomer, a carboxy group containing monomer, an amino group containing monomer, an epoxy group containing monomer, etc. are mentioned, for example.

상기 수산기 함유 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산히드록시메틸, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산3-히드록시프로필, (메타)아크릴산2-히드록시부틸, (메타)아크릴산3-히드록시부틸, (메타)아크릴산4-히드록시부틸 등의 (메타)아크릴산히드록시알킬; 비닐알코올, 알릴알코올 등의 비(메타)아크릴계 불포화 알코올((메타)아크릴로일 골격을 갖지 않는 불포화 알코올) 등을 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing monomer, for example, (meth) acrylate hydroxymethyl, (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth) acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth) acrylic acid 3-hydroxypropyl, (meth) ) hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate; Non-(meth)acrylic-type unsaturated alcohols (unsaturated alcohol which does not have a (meth)acryloyl skeleton), such as vinyl alcohol and allyl alcohol, etc. are mentioned.

상기 카르복시기 함유 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산, 크로톤산 등의 에틸렌성 불포화 모노카르복실산(에틸렌성 불포화 결합을 갖는 모노카르복실산); 푸마르산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산 등의 에틸렌성 불포화 디카르복실산(에틸렌성 불포화 결합을 갖는 디카르복실산); 상기 에틸렌성 불포화 디카르복실산의 무수물; 2-카르복시에틸메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴산카르복시알킬에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing monomer include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids (monocarboxylic acids having an ethylenically unsaturated bond) such as (meth)acrylic acid and crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acids (dicarboxylic acids having an ethylenically unsaturated bond) such as fumaric acid, itaconic acid, maleic acid, and citraconic acid; anhydrides of the ethylenically unsaturated dicarboxylic acids; (meth)acrylic acid carboxyalkyl esters, such as 2-carboxyethyl methacrylate, etc. are mentioned.

관능기 함유 모노머는 수산기 함유 모노머 또는 카르복시기 함유 모노머가 바람직하고, 수산기 함유 모노머가 보다 바람직하다.The functional group-containing monomer is preferably a hydroxyl group-containing monomer or a carboxyl group-containing monomer, and more preferably a hydroxyl group-containing monomer.

상기 아크릴계 중합체를 구성하는 관능기 함유 모노머는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of functional group-containing monomers constituting the acrylic polymer may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 아크릴계 중합체에 있어서 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위의 함유량은 구성 단위의 전체량에 대해 1질량% 이상 29질량% 이하인 것이 바람직하고, 2질량% 이상 25질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 3질량% 이상 23질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.In the acrylic polymer, the content of the structural unit derived from the functional group-containing monomer is preferably 1% by mass or more and 29% by mass or less with respect to the total amount of the structural unit, more preferably 2% by mass or more and 25% by mass or less, 3% by mass It is especially preferable that it is more than 23 mass %.

상기 아크릴계 중합체는 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위 및 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위 이외에 추가로 다른 모노머 유래의 구성 단위를 갖고 있어도 된다.The said acrylic polymer may have the structural unit derived from another monomer other than the structural unit derived from the structural unit derived from (meth)acrylic-acid alkylester, and a functional group containing monomer further.

상기 다른 모노머는 (메타)아크릴산알킬에스테르 등과 공중합 가능한 모노머이면 특별히 한정되지 않는다.The said other monomer will not be specifically limited if it is a monomer copolymerizable with (meth)acrylic-acid alkylester etc.

상기 다른 모노머로는 예를 들면, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 포름산비닐, 초산비닐, 아크릴로니트릴, 아크릴아미드 등을 들 수 있다.Examples of the other monomer include styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, vinyl formate, vinyl acetate, acrylonitrile, and acrylamide.

상기 아크릴계 중합체를 구성하는 상기 다른 모노머는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the other monomers constituting the acrylic polymer may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 아크릴계 중합체는 상술한 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)로서 사용할 수 있다.The acrylic polymer can be used as the above-mentioned non-energy ray-curable adhesive resin (I-1a).

한편, 상기 아크릴계 중합체 중의 관능기에 에너지선 중합성 불포화기(에너지선 중합성기)를 갖는 불포화기 함유 화합물을 반응시킨 것은 상술한 에너지선 경화성 점착성 수지(I-2a)로서 사용할 수 있다.On the other hand, a compound obtained by reacting a functional group in the acrylic polymer with an unsaturated group-containing compound having an energy ray polymerizable unsaturated group (energy ray polymerizable group) can be used as the above-described energy ray curable adhesive resin (I-2a).

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 점착성 수지(I-1a)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of adhesive resins (I-1a) contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-1)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 점착성 수지(I-1a)의 함유량은 5질량% 이상 99질량% 이하인 것이 바람직하고, 10질량% 이상 95질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 15질량% 이상 90질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of the adhesive resin (I-1a) with respect to the total content of all components other than a solvent in an adhesive composition (I-1) is 5 mass % or more and 99 mass % or less, It is 10 mass % or more and 95 mass % or less It is more preferable, and it is especially preferable that they are 15 mass % or more and 90 mass % or less.

[에너지선 경화성 화합물][Energy-ray-curable compound]

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 상기 에너지선 경화성 화합물로는 에너지선 중합성 불포화기를 갖고, 에너지선의 조사에 의해 경화 가능한 모노머 또는 올리고머를 들 수 있다.As said energy-beam-curable compound which an adhesive composition (I-1) contains, it has an energy-beam polymerizable unsaturated group, and the monomer or oligomer which can be hardened by irradiation of an energy-beam is mentioned.

에너지선 경화성 화합물 중 모노머로는 예를 들면, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,4-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올(메타)아크릴레이트 등의 다가 (메타)아크릴레이트; 우레탄(메타)아크릴레이트; 폴리에스테르(메타)아크릴레이트; 폴리에테르(메타)아크릴레이트; 에폭시(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a monomer among the energy ray-curable compounds, for example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1 polyvalent (meth)acrylates such as ,4-butylene glycol di(meth)acrylate and 1,6-hexanediol (meth)acrylate; urethane (meth)acrylate; polyester (meth)acrylate; polyether (meth)acrylate; Epoxy (meth)acrylate etc. are mentioned.

에너지선 경화성 화합물 중 올리고머로는 예를 들면, 상기에서 예시한 모노머가 중합하여 이루어지는 올리고머 등을 들 수 있다.As an oligomer among energy-beam-curable compounds, the oligomer etc. which form by superposition|polymerization of the monomer illustrated above are mentioned, for example.

에너지선 경화성 화합물은 분자량이 비교적 크고, 점착제층의 저장 탄성률을 저하시키기 어렵다는 점에서는 우레탄(메타)아크릴레이트 또는 우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머가 바람직하다.The energy-beam-curable compound has a relatively large molecular weight, and a urethane (meth)acrylate or urethane (meth)acrylate oligomer is preferable in terms of difficulty in reducing the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer.

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 상기 에너지선 경화성 화합물은 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of said energy-beam curable compounds contained in an adhesive composition (I-1) may be one, and two or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

상기 점착제 조성물(I-1)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 상기 에너지선 경화성 화합물의 함유량은 1질량% 이상 95질량% 이하인 것이 바람직하고, 2질량% 이상 90질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 3질량% 이상 85질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 예를 들면, 3질량% 이상 80질량% 이하, 3질량% 이상 65질량% 이하, 3질량% 이상 50질량% 이하 및 3질량% 이상 35질량% 이하 등 어느 것이어도 된다.In the pressure-sensitive adhesive composition (I-1), the content of the energy ray-curable compound relative to the total content of all components other than the solvent is preferably 1% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 90% by mass or less It is preferable, and it is especially preferable that they are 3 mass % or more and 85 mass % or less. For example, any of 3 mass % or more and 80 mass % or less, 3 mass % or more and 65 mass % or less, 3 mass % or more and 50 mass % or less, and 3 mass % or more and 35 mass % or less may be sufficient.

[가교제][crosslinking agent]

점착성 수지(I-1a)로서 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위 이외에 추가로 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체를 사용하는 경우, 점착제 조성물(I-1)은 추가로 가교제를 함유하는 것이 바람직하다.When using the acrylic polymer having a structural unit derived from a functional group-containing monomer in addition to the structural unit derived from the (meth)acrylic acid alkylester as the adhesive resin (I-1a), the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) is additionally a crosslinking agent It is preferable to contain

상기 가교제는 예를 들면, 상기 관능기와 반응하여 점착성 수지(I-1a)끼리를 가교하는 것이다.The crosslinking agent reacts with the functional group to crosslink the adhesive resins (I-1a).

가교제로는 예를 들면, 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 이들 디이소시아네이트의 어덕트체 등의 이소시아네이트계 가교제(이소시아네이트기를 갖는 가교제); 에틸렌글리콜글리시딜에테르 등의 에폭시계 가교제(글리시딜기를 갖는 가교제); 헥사[1-(2-메틸)-아지리디닐]트리포스파트리아진 등의 아지리딘계 가교제(아지리디닐기를 갖는 가교제); 알루미늄 킬레이트 등의 금속 킬레이트계 가교제(금속 킬레이트 구조를 갖는 가교제); 이소시아누레이트계 가교제(이소시아눌산 골격을 갖는 가교제) 등을 들 수 있다.Examples of the crosslinking agent include isocyanate-based crosslinking agents (crosslinking agents having an isocyanate group) such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and adducts of these diisocyanates; Epoxy-based crosslinking agents (crosslinking agents having a glycidyl group) such as ethylene glycol glycidyl ether; aziridine-based crosslinking agents (crosslinking agents having an aziridinyl group) such as hexa[1-(2-methyl)-aziridinyl]triphosphatriazine; metal chelate-based crosslinking agents such as aluminum chelates (crosslinking agents having a metal chelate structure); isocyanurate-based crosslinking agent (crosslinking agent having isocyanuric acid skeleton); and the like.

점착제의 응집력을 향상시켜 점착제층의 점착력을 향상시키는 점 및 입수가 용이하다는 등의 점에서 가교제는 이소시아네이트계 가교제인 것이 바람직하다.The crosslinking agent is preferably an isocyanate-based crosslinking agent from the viewpoint of improving the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive to improve the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer and the ease of availability.

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 가교제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of crosslinking agents contained in the adhesive composition (I-1) may be one, or two or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

상기 점착제 조성물(I-1)에 있어서 가교제의 함유량은 점착성 수지(I-1a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.1질량부 이상 30질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.3질량부 이상 23질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.The content of the crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) is preferably 0.01 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, and 0.1 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the content of the adhesive resin (I-1a). It is preferable, and it is especially preferable that they are 0.3 mass part or more and 23 mass parts or less.

[광중합 개시제][Photoinitiator]

점착제 조성물(I-1)은 추가로 광중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 광중합 개시제를 함유하는 점착제 조성물(I-1)은 자외선 등의 비교적 저에너지의 에너지선을 조사해도 충분히 경화 반응이 진행된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may further contain a photoinitiator. The adhesive composition (I-1) containing a photoinitiator fully advances hardening reaction even if it irradiates comparatively low energy energy rays, such as an ultraviolet-ray.

상기 광중합 개시제로는 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인벤조산, 벤조인벤조산메틸, 벤조인디메틸케탈 등의 벤조인 화합물; 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등의 아세토페논 화합물; 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드 화합물; 벤질페닐술피드, 테트라메틸티우람모노술피드 등의 술피드 화합물; 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 등의 α-케톨 화합물; 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물; 티타노센 등의 티타노센 화합물; 티옥산톤 등의 티옥산톤 화합물; 퍼옥사이드 화합물; 디아세틸 등의 디케톤 화합물; 벤질; 디벤질; 벤조페논; 2,4-디에틸티옥산톤; 1,2-디페닐메탄; 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로파논; 2-클로로안트라퀴논 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, methyl benzoin benzoate, benzoin dimethyl ketal, etc. phosphorus compounds; acetophenone compounds such as acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one; acylphosphine oxide compounds such as bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; sulfide compounds such as benzylphenyl sulfide and tetramethylthiuram monosulfide; α-ketol compounds such as 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; titanocene compounds such as titanocene; thioxanthone compounds such as thioxanthone; peroxide compounds; diketone compounds such as diacetyl; benzyl; dibenzyl; benzophenone; 2,4-diethylthioxanthone; 1,2-diphenylmethane; 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone; 2-chloroanthraquinone etc. are mentioned.

또한, 상기 광중합 개시제로는 예를 들면, 1-클로로안트라퀴논 등의 퀴논 화합물; 아민 등의 광증감제 등을 사용할 수도 있다.Moreover, as said photoinitiator, For example, Quinone compounds, such as 1-chloroanthraquinone; Photosensitizers, such as an amine, etc. can also be used.

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 광중합 개시제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of photoinitiators contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-1)에 있어서 광중합 개시제의 함유량은 상기 에너지선 경화성 화합물의 함유량 100질량부에 대해 0.01질량부 이상 20질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.03질량부 이상 10질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.05질량부 이상 5질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.The content of the photoinitiator in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) is preferably 0.01 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, more preferably 0.03 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, with respect to 100 parts by mass of the content of the energy ray-curable compound. , It is especially preferable that they are 0.05 mass part or more and 5 mass parts or less.

[그 밖의 첨가제][Other additives]

점착제 조성물(I-1)은 본 실시형태에 있어서의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서 상술한 어느 성분에도 해당되지 않는 그 밖의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition (I-1) may contain the other additive which does not correspond to any component mentioned above within the range which does not impair the effect in this embodiment.

상기 그 밖의 첨가제로는 예를 들면, 대전 방지제, 산화 방지제, 연화제(가소제), 충전재(필러), 방청제, 착색제(안료, 염료), 증감제, 점착 부여제, 반응 지연제, 가교 촉진제(촉매) 등의 공지의 첨가제를 들 수 있다.Examples of the other additives include antistatic agents, antioxidants, softeners (plasticizers), fillers (fillers), rust inhibitors, colorants (pigments, dyes), sensitizers, tackifiers, reaction retarders, crosslinking accelerators (catalysts) ) and other known additives.

한편, 반응 지연제란 예를 들면, 점착제 조성물(I-1) 중에 혼입되어 있는 촉매의 작용에 의해 보존 중의 점착제 조성물(I-1)에 있어서 목적으로 하지 않는 가교 반응이 진행되는 것을 억제하는 것이다. 반응 지연제로는 예를 들면, 촉매에 대한 킬레이트에 의해 킬레이트 착체를 형성하는 것을 들 수 있고, 보다 구체적으로는, 1분자 중에 카르보닐기(-C(=O)-)를 2개 이상 갖는 것을 들 수 있다.On the other hand, a reaction retarder suppresses that the crosslinking reaction not intended in the adhesive composition (I-1) during storage advances by the action|action of the catalyst mixed in the adhesive composition (I-1), for example. . Examples of the reaction retardant include those that form a chelate complex by chelating with a catalyst, and more specifically, those having two or more carbonyl groups (-C(=O)-) in one molecule. have.

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 그 밖의 첨가제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the other additive which adhesive composition (I-1) contains, and 2 or more types may be sufficient as it, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-1)에 있어서 그 밖의 첨가제의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 그 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of another additive in adhesive composition (I-1) is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the kind.

[용매][menstruum]

점착제 조성물(I-1)은 용매를 함유하고 있어도 된다. 점착제 조성물(I-1)은 용매를 함유하고 있음으로써, 도공 대상면에 대한 도공 적성이 향상된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may contain a solvent. By containing the solvent, the adhesive composition (I-1) improves the coating aptitude with respect to the coating object surface.

상기 용매는 유기 용매인 것이 바람직하고, 상기 유기 용매로는 예를 들면, 메틸에틸케톤, 아세톤 등의 케톤; 초산에틸 등의 에스테르(카르복실산에스테르); 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 에테르; 시클로헥산, n-헥산 등의 지방족 탄화수소; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소; 1-프로판올, 2-프로판올 등의 알코올 등을 들 수 있다.The solvent is preferably an organic solvent, and examples of the organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and acetone; Esters, such as ethyl acetate (carboxylate ester); ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane and n-hexane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Alcohol, such as 1-propanol and 2-propanol, etc. are mentioned.

상기 용매로는 예를 들면, 점착성 수지(I-1a)의 제조시 사용한 것을 점착성 수지(I-1a)로부터 제거하지 않고 그대로 점착제 조성물(I-1)에 있어서 사용해도 되고, 점착성 수지(I-1a)의 제조시 사용한 것과 동일 또는 상이한 종류의 용매를 점착제 조성물(I-1)의 제조시 별도로 첨가해도 된다.As the solvent, for example, the solvent used in the preparation of the pressure-sensitive adhesive resin (I-1a) may be used as it is in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) without removing it from the pressure-sensitive adhesive resin (I-1a), or the pressure-sensitive adhesive resin (I-I-) A solvent of the same or different type as that used in the preparation of 1a) may be separately added during the preparation of the pressure-sensitive adhesive composition (I-1).

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-1)에 있어서 용매의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 적절히 조절하면 된다.The content of the solvent in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) is not particularly limited, and may be appropriately adjusted.

<점착제 조성물(I-2)><Adhesive composition (I-2)>

상기 점착제 조성물(I-2)은 상술한 바와 같이, 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)의 측쇄에 불포화기가 도입된 에너지선 경화성 점착성 수지(I-2a)를 함유한다.As described above, the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) contains the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-2a) in which an unsaturated group is introduced into the side chain of the non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-1a).

[점착성 수지(I-2a)][Adhesive resin (I-2a)]

상기 점착성 수지(I-2a)는 예를 들면, 점착성 수지(I-1a) 중의 관능기에 에너지선 중합성 불포화기를 갖는 불포화기 함유 화합물을 반응시킴으로써 얻어진다.The adhesive resin (I-2a) is obtained, for example, by reacting a functional group in the adhesive resin (I-1a) with an unsaturated group-containing compound having an energy ray polymerizable unsaturated group.

상기 불포화기 함유 화합물은 상기 에너지선 중합성 불포화기 이외에 추가로 점착성 수지(I-1a) 중의 관능기와 반응함으로써, 점착성 수지(I-1a)와 결합 가능한 기를 갖는 화합물이다.The unsaturated group-containing compound is a compound having a group capable of bonding to the adhesive resin (I-1a) by reacting with a functional group in the adhesive resin (I-1a) in addition to the energy ray polymerizable unsaturated group.

상기 에너지선 중합성 불포화기로는 예를 들면, (메타)아크릴로일기, 비닐기(에테닐기), 알릴기(2-프로페닐기) 등을 들 수 있고, (메타)아크릴로일기가 바람직하다.As said energy-beam polymerizable unsaturated group, a (meth)acryloyl group, a vinyl group (ethenyl group), an allyl group (2-propenyl group) etc. are mentioned, for example, A (meth)acryloyl group is preferable.

점착성 수지(I-1a) 중의 관능기와 결합 가능한 기로는 예를 들면, 수산기 또는 아미노기와 결합 가능한 이소시아네이트기 및 글리시딜기, 그리고 카르복시기 또는 에폭시기와 결합 가능한 수산기 및 아미노기 등을 들 수 있다.Examples of the group capable of bonding with a functional group in the adhesive resin (I-1a) include an isocyanate group and a glycidyl group capable of bonding with a hydroxyl group or an amino group, and a hydroxyl group and an amino group capable of bonding with a carboxy group or an epoxy group.

상기 불포화기 함유 화합물로는 예를 들면, (메타)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, (메타)아크릴로일이소시아네이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As said unsaturated group containing compound, (meth)acryloyloxyethyl isocyanate, (meth)acryloyl isocyanate, glycidyl (meth)acrylate, etc. are mentioned, for example.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 점착성 수지(I-2a)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of adhesive resins (I-2a) which the adhesive composition (I-2) contains may be one, and two or more types may be sufficient as them, and in the case of two or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-2)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 점착성 수지(I-2a)의 함유량은 5질량% 이상 99질량% 이하인 것이 바람직하고, 10질량% 이상 95질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10질량% 이상 90질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of the adhesive resin (I-2a) with respect to the total content of all components other than a solvent in an adhesive composition (I-2) is 5 mass % or more and 99 mass % or less, It is 10 mass % or more and 95 mass % or less It is more preferable, and it is especially preferable that they are 10 mass % or more and 90 mass % or less.

[가교제][crosslinking agent]

점착성 수지(I-2a)로서 예를 들면, 점착성 수지(I-1a)에 있어서의 것과 동일한 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체를 사용하는 경우, 점착제 조성물(I-2)은 추가로 가교제를 함유하고 있어도 된다.When using the acrylic polymer having a structural unit derived from the same functional group-containing monomer as in the adhesive resin (I-1a), for example, as the pressure-sensitive adhesive resin (I-2a), the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) is additionally and may contain a crosslinking agent.

점착제 조성물(I-2)에 있어서의 상기 가교제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 가교제와 동일한 것을 들 수 있다.As said crosslinking agent in an adhesive composition (I-2), the thing similar to the crosslinking agent in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 가교제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of crosslinking agents contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

상기 점착제 조성물(I-2)에 있어서 가교제의 함유량은 점착성 수지(I-2a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01질량부 이상 25질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.05질량부 이상 20질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.1질량부 이상 15질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.The content of the crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) is preferably 0.01 parts by mass or more and 25 parts by mass or less, and 0.05 parts by mass or more and 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the content of the adhesive resin (I-2a). It is preferable, and it is especially preferable that they are 0.1 mass part or more and 15 mass parts or less.

[광중합 개시제][Photoinitiator]

점착제 조성물(I-2)은 추가로 광중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 광중합 개시제를 함유하는 점착제 조성물(I-2)은 자외선 등의 비교적 저에너지인 에너지선을 조사해도 충분히 경화 반응이 진행된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-2) may further contain a photoinitiator. The adhesive composition (I-2) containing a photoinitiator fully advances hardening reaction even if it irradiates comparatively low energy energy rays, such as an ultraviolet-ray.

점착제 조성물(I-2)에 있어서의 상기 광중합 개시제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 광중합 개시제와 동일한 것을 들 수 있다.As said photoinitiator in adhesive composition (I-2), the thing similar to the photoinitiator in adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 광중합 개시제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the photoinitiator which adhesive composition (I-2) contains, and 2 or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-2)에 있어서 광중합 개시제의 함유량은 점착성 수지(I-2a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01질량부 이상 20질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.03질량부 이상 10질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.05질량부 이상 5질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.The content of the photoinitiator in the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) is preferably 0.01 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, and more preferably 0.03 parts by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the content of the adhesive resin (I-2a). It is preferable, and it is especially preferable that they are 0.05 mass part or more and 5 mass parts or less.

[그 밖의 첨가제][Other additives]

점착제 조성물(I-2)은 본 실시형태에 있어서의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서 상술한 어느 성분에도 해당되지 않는 그 밖의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition (I-2) may contain the other additive which does not correspond to any component mentioned above within the range which does not impair the effect in this embodiment.

점착제 조성물(I-2)에 있어서의 상기 그 밖의 첨가제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 그 밖의 첨가제와 동일한 것을 들 수 있다.As said other additive in an adhesive composition (I-2), the thing similar to the other additive in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 그 밖의 첨가제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the other additive which adhesive composition (I-2) contains, and 2 or more types may be sufficient as it, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-2)에 있어서 그 밖의 첨가제의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 그 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of another additive in adhesive composition (I-2) is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the kind.

[용매][menstruum]

점착제 조성물(I-2)은 점착제 조성물(I-1)의 경우와 동일한 목적으로 용매를 함유하고 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-2) may contain a solvent for the same purpose as in the case of the pressure-sensitive adhesive composition (I-1).

점착제 조성물(I-2)에 있어서의 상기 용매로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.As said solvent in adhesive composition (I-2), the thing similar to the solvent in adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents which the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) contains may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-2)에 있어서 용매의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 적절히 조절하면 된다.The content of the solvent in the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) is not particularly limited, and may be appropriately adjusted.

<점착제 조성물(I-3)><Adhesive composition (I-3)>

상기 점착제 조성물(I-3)은 상술한 바와 같이, 상기 점착성 수지(I-2a)와 에너지선 경화성 화합물을 함유한다.As described above, the pressure-sensitive adhesive composition (I-3) contains the pressure-sensitive adhesive resin (I-2a) and an energy ray-curable compound.

점착제 조성물(I-3)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 점착성 수지(I-2a)의 함유량은 5질량% 이상 99질량% 이하인 것이 바람직하고, 10질량% 이상 95질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 15질량% 이상 90질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of the adhesive resin (I-2a) with respect to the total content of all components other than a solvent in an adhesive composition (I-3) is 5 mass % or more and 99 mass % or less, It is 10 mass % or more and 95 mass % or less It is more preferable, and it is especially preferable that they are 15 mass % or more and 90 mass % or less.

[에너지선 경화성 화합물][Energy-ray-curable compound]

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 상기 에너지선 경화성 화합물로는 에너지선 중합성 불포화기를 갖고, 에너지선의 조사에 의해 경화 가능한 모노머 및 올리고머를 들 수 있고, 점착제 조성물(I-1)이 함유하는 에너지선 경화성 화합물과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the energy ray-curable compound contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-3) include monomers and oligomers having an energy-beam polymerizable unsaturated group and curable by irradiation with energy rays, and the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) contains The same thing as an energy-ray-curable compound is mentioned.

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 상기 에너지선 경화성 화합물은 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of said energy-beam curable compounds contained in an adhesive composition (I-3) may be one, and two or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

상기 점착제 조성물(I-3)에 있어서 상기 에너지선 경화성 화합물의 함유량은 점착성 수지(I-2a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01질량부 이상 300질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.03질량부 이상 200질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.05질량부 이상 100질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of the said energy-beam curable compound in the said adhesive composition (I-3) is 0.01 mass part or more and 300 mass parts or less with respect to content 100 mass parts of adhesive resin (I-2a), 0.03 mass part or more and 200 mass parts It is more preferable that they are parts or less, and it is especially preferable that they are 0.05 mass part or more and 100 mass parts or less.

[광중합 개시제][Photoinitiator]

점착제 조성물(I-3)은 추가로 광중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 광중합 개시제를 함유하는 점착제 조성물(I-3)은 자외선 등의 비교적 저에너지인 에너지선을 조사해도 충분히 경화 반응이 진행된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-3) may further contain a photoinitiator. The adhesive composition (I-3) containing a photoinitiator fully advances hardening reaction even if it irradiates comparatively low energy energy rays, such as an ultraviolet-ray.

점착제 조성물(I-3)에 있어서의 상기 광중합 개시제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 광중합 개시제와 동일한 것을 들 수 있다.As said photoinitiator in an adhesive composition (I-3), the thing similar to the photoinitiator in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 광중합 개시제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of photoinitiators which the pressure-sensitive adhesive composition (I-3) contains may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-3)에 있어서 광중합 개시제의 함유량은 점착성 수지(I-2a) 및 상기 에너지선 경화성 화합물의 총 함유량 100질량부에 대해 0.01질량부 이상 20질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.03질량부 이상 10질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.05질량부 이상 5질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.In the pressure-sensitive adhesive composition (I-3), the content of the photoinitiator is preferably 0.01 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, and 0.03 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total content of the adhesive resin (I-2a) and the energy ray-curable compound. It is more preferable that they are 10 mass parts or more, and it is especially preferable that they are 0.05 mass parts or more and 5 mass parts or less.

[그 밖의 첨가제][Other additives]

점착제 조성물(I-3)은 본 실시형태에 있어서의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서 상술한 어느 성분에도 해당되지 않는 그 밖의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition (I-3) may contain the other additive which does not correspond to any component mentioned above within the range which does not impair the effect in this embodiment.

상기 그 밖의 첨가제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 그 밖의 첨가제와 동일한 것을 들 수 있다.As said other additive, the thing similar to the other additive in adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 그 밖의 첨가제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the other additive which adhesive composition (I-3) contains, and 2 or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-3)에 있어서 그 밖의 첨가제의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 그 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of another additive in adhesive composition (I-3) is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the kind.

[용매][menstruum]

점착제 조성물(I-3)은 점착제 조성물(I-1)의 경우와 동일한 목적으로 용매를 함유하고 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-3) may contain a solvent for the same purpose as in the case of the pressure-sensitive adhesive composition (I-1).

점착제 조성물(I-3)에 있어서의 상기 용매로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.As said solvent in an adhesive composition (I-3), the thing similar to the solvent in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents which the pressure-sensitive adhesive composition (I-3) contains may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-3)에 있어서 용매의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 적절히 조절하면 된다.In the adhesive composition (I-3), content of a solvent is not specifically limited, What is necessary is just to adjust suitably.

<점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물><Adhesive compositions other than the pressure-sensitive adhesive compositions (I-1) to (I-3)>

지금까지는 점착제 조성물(I-1), 점착제 조성물(I-2) 및 점착제 조성물(I-3)에 대해서 주로 설명했지만, 이들의 함유 성분으로서 설명한 것은 이들 3종의 점착제 조성물 이외의 전반적인 점착제 조성물(본 명세서에 있어서는, 「점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물」이라고 칭한다)에서도 동일하게 사용할 수 있다.So far, the pressure-sensitive adhesive composition (I-1), the pressure-sensitive adhesive composition (I-2), and the pressure-sensitive adhesive composition (I-3) have been mainly described, but what has been described as the components contained therein is an overall pressure-sensitive adhesive composition ( In this specification, it can also be used similarly to "a pressure-sensitive adhesive composition other than the pressure-sensitive adhesive compositions (I-1) to (I-3)”).

점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물로는 에너지선 경화성 점착제 조성물 이외에 비에너지선 경화성 점착제 조성물도 들 수 있다.As an adhesive composition other than adhesive composition (I-1) - (I-3), a non-energy-ray-curable adhesive composition is also mentioned other than energy-beam curable adhesive composition.

비에너지선 경화성 점착제 조성물로는 예를 들면, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 고무계 수지, 실리콘계 수지, 에폭시계 수지, 폴리비닐에테르, 폴리카보네이트, 에스테르계 수지 등의 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)를 함유하는 점착제 조성물(I-4)을 들 수 있고, 아크릴계 수지를 함유하는 것이 바람직하다.Examples of the non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition include non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive resins such as acrylic resins, urethane resins, rubber resins, silicone resins, epoxy resins, polyvinyl ethers, polycarbonates, and ester resins (I-1a). ) containing the adhesive composition (I-4) is mentioned, and it is preferable to contain an acrylic resin.

점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물은 1종 또는 2종 이상의 가교제를 함유하는 것이 바람직하고, 그 함유량은 상술한 점착제 조성물(I-1) 등의 경우와 동일한 것으로 할 수 있다.It is preferable that the pressure-sensitive adhesive compositions other than the pressure-sensitive adhesive compositions (I-1) to (I-3) contain one or more crosslinking agents, and the content thereof is the same as that of the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) or the like described above. can do.

<점착제 조성물(I-4)><Adhesive composition (I-4)>

점착제 조성물(I-4)로 바람직한 것으로는 예를 들면, 상기 점착성 수지(I-1a)와 가교제를 함유하는 것을 들 수 있다.As a preferable adhesive composition (I-4), the thing containing the said adhesive resin (I-1a) and a crosslinking agent is mentioned, for example.

[점착성 수지(I-1a)][Adhesive resin (I-1a)]

점착제 조성물(I-4)에 있어서의 점착성 수지(I-1a)로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 점착성 수지(I-1a)와 동일한 것을 들 수 있다.As adhesive resin (I-1a) in adhesive composition (I-4), the thing similar to adhesive resin (I-1a) in adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-4)이 함유하는 점착성 수지(I-1a)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of adhesive resins (I-1a) contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-4) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-4)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 점착성 수지(I-1a)의 함유량은 5질량% 이상 99질량% 이하인 것이 바람직하고, 10질량% 이상 95질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 15질량% 이상 90질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 예를 들면, 3질량% 이상 85질량% 이하, 40질량% 이상 85질량% 이하 및 50질량% 이상 85질량% 이하 등 어느 것이어도 된다.It is preferable that content of the adhesive resin (I-1a) with respect to the total content of all components other than a solvent in an adhesive composition (I-4) is 5 mass % or more and 99 mass % or less, It is 10 mass % or more and 95 mass % or less It is more preferable, and it is especially preferable that they are 15 mass % or more and 90 mass % or less. For example, any, such as 3 mass % or more and 85 mass % or less, 40 mass % or more and 85 mass % or less, and 50 mass % or more and 85 mass % or less, may be sufficient.

[가교제][crosslinking agent]

점착성 수지(I-1a)로서, (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위 이외에 추가로 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체를 사용하는 경우, 점착제 조성물(I-4)은 추가로 가교제를 함유하는 것이 바람직하다.When using the above acrylic polymer having a structural unit derived from a functional group-containing monomer in addition to the structural unit derived from the (meth)acrylic acid alkylester as the adhesive resin (I-1a), the adhesive composition (I-4) is additionally a crosslinking agent It is preferable to contain

점착제 조성물(I-4)에 있어서의 가교제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 가교제와 동일한 것을 들 수 있다.As a crosslinking agent in an adhesive composition (I-4), the thing similar to the crosslinking agent in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-4)이 함유하는 가교제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of crosslinking agents contained in the adhesive composition (I-4) may be one, or two or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

상기 점착제 조성물(I-4)에 있어서 가교제의 함유량은 점착성 수지(I-1a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01질량부 이상 50질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.1질량부 이상 50질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 1질량부 이상 50질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.The content of the crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition (I-4) is preferably 0.01 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, and more preferably 0.1 parts by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the content of the adhesive resin (I-1a). It is preferable, and it is especially preferable that they are 1 mass part or more and 50 mass parts or less.

[그 밖의 첨가제][Other additives]

점착제 조성물(I-4)은 본 실시형태에 있어서의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서 상술한 어느 성분에도 해당되지 않는 그 밖의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition (I-4) may contain the other additive which does not correspond to any component mentioned above within the range which does not impair the effect in this embodiment.

상기 그 밖의 첨가제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 그 밖의 첨가제와 동일한 것을 들 수 있다.As said other additive, the thing similar to the other additive in adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-4)이 함유하는 그 밖의 첨가제는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the other additive which adhesive composition (I-4) contains, and 2 or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-4)에 있어서 그 밖의 첨가제의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 그 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of other additives in an adhesive composition (I-4) is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the kind.

[용매][menstruum]

점착제 조성물(I-4)은 점착제 조성물(I-1)의 경우와 동일한 목적으로 용매를 함유하고 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-4) may contain a solvent for the same purpose as in the case of the pressure-sensitive adhesive composition (I-1).

점착제 조성물(I-4)에 있어서의 상기 용매로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.As said solvent in an adhesive composition (I-4), the thing similar to the solvent in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-4)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents which the pressure-sensitive adhesive composition (I-4) contains may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-4)에 있어서 용매의 함유량은 특별히 한정되지 않으며, 적절히 조절하면 된다.The content of the solvent in the pressure-sensitive adhesive composition (I-4) is not particularly limited, and may be appropriately adjusted.

<<점착제 조성물의 제조 방법>><<The manufacturing method of an adhesive composition>>

점착제 조성물(I-1)∼(I-3)이나, 점착제 조성물(I-4) 등의 점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물은 상기 점착제와 필요에 따라 상기 점착제 이외의 성분 등의 점착제 조성물을 구성하기 위한 각 성분을 배합함으로써 얻어진다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-1) to (I-3) or the pressure-sensitive adhesive composition (I-4) other than the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) to (I-3), such as the pressure-sensitive adhesive composition (I-4), the above-mentioned pressure-sensitive adhesive and if necessary It is obtained by mix|blending each component for comprising adhesive compositions, such as a component other than it.

각 성분의 배합시에 있어서의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않으며, 2종 이상의 성분을 동시에 첨가해도 된다.The order of addition at the time of mixing|blending each component is not specifically limited, You may add 2 or more types of components simultaneously.

용매를 사용하는 경우에는 용매를 용매 이외의 어느 배합 성분과 혼합하여 이 배합 성분을 미리 희석해 둠으로써 사용해도 되고, 용매 이외의 어느 배합 성분을 미리 희석해 두지 않고, 용매를 이들 배합 성분과 혼합함으로써 사용해도 된다.When a solvent is used, the solvent may be mixed with any compounding component other than the solvent and this compounding component may be used by diluting in advance, and the solvent may be mixed with these compounding components without diluting any compounding component other than the solvent in advance. You may use it by

배합시 각 성분을 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 교반자 또는 교반 날개 등을 회전시켜 혼합하는 방법; 믹서를 이용하여 혼합하는 방법; 초음파를 가하여 혼합하는 방법 등, 공지의 방법으로부터 적절히 선택하면 된다.A method of mixing each component at the time of mixing is not particularly limited, and a method of mixing by rotating a stirrer or a stirring blade; a method of mixing using a mixer; What is necessary is just to select suitably from well-known methods, such as the method of adding ultrasonic waves and mixing.

각 성분의 첨가 및 혼합시의 온도 및 시간은 각 배합 성분이 열화되지 않는 한 특별히 한정되지 않으며, 적절히 조절하면 되지만, 온도는 15∼30℃인 것이 바람직하다.The temperature and time at the time of addition and mixing of each component are not particularly limited as long as each compounding component does not deteriorate, and may be appropriately adjusted, but the temperature is preferably 15 to 30°C.

○ 중간층○ middle floor

중간층은 시트상 또는 필름상이며, 그 구성 재료는 목적에 따라 적절히 선택하면 되며, 특별히 한정되지 않는다.The intermediate layer is in the form of a sheet or a film, and the constituent material thereof may be appropriately selected according to the purpose, and is not particularly limited.

또한, 중간층의 헤이즈를 적절히 조정함으로써, 보호막 형성용 복합 시트의 헤이즈를 상기 범위로 조정할 수 있다.Moreover, the haze of the composite sheet for protective film formation can be adjusted to the said range by adjusting the haze of an intermediate|middle layer suitably.

중간층은 경화성을 갖고 있어도 되며, 비경화성을 갖고 있어도 된다. 또한, 중간층이 경화성을 갖는 경우, 열경화성 및 에너지선 경화성 중 어느 하나여도 된다.An intermediate layer may have sclerosis|hardenability and may have non-hardening property. Moreover, when an intermediate|middle layer has sclerosis|hardenability, any one of thermosetting and energy-beam sclerosis|hardenability may be sufficient.

중간층은 1층(단층)만이어도 되며, 2층 이상의 복수층이어도 되고, 복수층인 경우, 이들 복수층은 서로 동일해도 상이해도 되고, 이들 복수층의 조합은 특별히 한정되지 않는다.One layer (single layer) may be sufficient as an intermediate|middle layer, and two or more layers may be sufficient as multiple layers, In the case of multiple layers, these multiple layers may mutually be same or different, and the combination of these multiple layers is not specifically limited.

중간층의 두께는 예를 들면 0.1㎛ 이상 200㎛ 이하이면 되며, 1㎛ 이상 150㎛ 이하이면 되며, 3㎛ 이상 120㎛ 이하이면 된다.The thickness of the intermediate layer may be, for example, 0.1 µm or more and 200 µm or less, 1 µm or more and 150 µm or less, and may be 3 µm or more and 120 µm or less.

여기서, 「중간층의 두께」란, 중간층 전체의 두께를 의미하고, 중간층을 구성하는 모든 층의 합계의 두께를 의미한다. 한편, 중간층의 두께의 측정 방법으로는 예를 들면, 임의의 5개소에 있어서 접촉식 두께계를 이용하여 두께를 측정하고, 측정값의 평균을 산출하는 방법 등을 들 수 있다.Here, the "thickness of an intermediate|middle layer" means the thickness of the whole intermediate|middle layer, and means the thickness of the sum total of all the layers which comprise an intermediate|middle layer. On the other hand, as a measuring method of the thickness of an intermediate|middle layer, the method of measuring thickness using a contact thickness meter in arbitrary five places, and calculating the average of the measured values etc. are mentioned, for example.

<<중간층 형성용 조성물>><<Composition for Interlayer Formation>>

중간층은 그 구성 재료를 함유하는 중간층 형성용 조성물을 사용하여 형성할 수 있다.An intermediate|middle layer can be formed using the composition for intermediate|middle layer formation containing the constituent material.

예를 들면, 중간층의 형성 대상면에 중간층 형성용 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시키거나 에너지선의 조사에 의해 경화시킴으로써, 목적으로 하는 부위에 중간층을 형성할 수 있다.For example, an intermediate|middle layer can be formed in the target site|part by coating the composition for intermediate|middle layer formation on the formation target surface of an intermediate|middle layer, drying as needed, or hardening by irradiation of an energy-beam.

중간층 형성용 조성물의 도공은 공지의 방법으로 행하면 되며, 예를 들면, 상술한 점착제 조성물의 도공의 경우와 동일한 방법으로 행할 수 있다.Coating of the composition for intermediate|middle layer formation may just be performed by a well-known method, For example, it can perform by the method similar to the case of coating of the above-mentioned adhesive composition.

중간층 형성용 조성물의 건조 조건은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 용매를 함유하고 있는 중간층 형성용 조성물은 가열 건조시키는 것이 바람직하고, 이 경우, 예를 들면, 70∼130℃에서 10초∼5분의 조건으로 건조시키는 것이 바람직하다.The drying conditions of the composition for intermediate|middle layer formation are not specifically limited. For example, it is preferable to heat-dry the composition for intermediate|middle layer formation containing a solvent, and in this case, it is preferable to dry under conditions for 10 second - 5 minutes at 70-130 degreeC, for example.

중간층 형성용 조성물은 에너지선 경화성을 갖는 경우, 건조 후에 추가로 에너지선의 조사에 의해 경화시키는 것이 바람직하다.When the composition for intermediate|middle layer formation has energy-beam sclerosis|hardenability, it is preferable to harden by irradiation of an energy-beam after drying.

중간층 형성용 조성물로는 특별한 한정은 없고, 예를 들면, 상술한 점착제 조성물에 있어서 예시된 것과 동일한 것 등을 들 수 있다.There is no limitation in particular as a composition for intermediate|middle layer formation, For example, the thing similar to what was illustrated in the above-mentioned adhesive composition, etc. are mentioned.

중간층 형성용 조성물은 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서 상술한 어느 성분에도 해당되지 않는 그 밖의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The composition for intermediate|middle layer formation may contain the other additive which does not correspond to any component mentioned above within the range which does not impair the effect of invention.

상기 그 밖의 첨가제로는 예를 들면, 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 그 밖의 첨가제와 동일한 것을 들 수 있다.As said other additive, the thing similar to the other additive in adhesive composition (I-1) is mentioned, for example.

예를 들면, 중간층 형성용 조성물이 충전재 또는 착색제를 함유함으로써, 보호막 형성용 복합 시트의 헤이즈를 상기 범위로 조정할 수 있다.For example, when the composition for intermediate|middle layer formation contains a filler or a coloring agent, the haze of the composite sheet for protective film formation can be adjusted to the said range.

◎ 보호막 형성용 필름◎ Film for forming protective film

보호막 형성용 필름은 경화성을 갖고 있어도 되며, 비경화성을 갖고 있어도 된다.The film for protective film formation may have sclerosis|hardenability and may have non-hardening property.

또한, 보호막 형성용 필름이 경화성을 갖는 경우, 열경화성 및 에너지선 경화성 중 어느 하나여도 된다.Moreover, when the film for protective film formation has sclerosis|hardenability, either thermosetting and energy-beam sclerosis|hardenability may be sufficient.

○ 열경화성 보호막 형성용 필름○ Film for thermosetting protective film formation

바람직한 열경화성 보호막 형성용 필름으로는 예를 들면, 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)을 함유하는 것을 들 수 있다. 중합체 성분(A)은 중합성 화합물이 중합 반응하여 형성되었다고 간주할 수 있는 성분이다. 또한, 열경화성 성분(B)은 열을 반응의 트리거로서 경화(중합) 반응할 수 있는 성분이다. 한편, 본 실시형태에 있어서 중합 반응에는 중축합 반응도 포함된다.As a preferable film for thermosetting protective film formation, the thing containing a polymer component (A) and a thermosetting component (B) is mentioned, for example. The polymer component (A) is a component that can be considered to be formed by a polymerization reaction of a polymerizable compound. Further, the thermosetting component (B) is a component capable of curing (polymerization) reaction with heat as a trigger of the reaction. In addition, in this embodiment, a polycondensation reaction is also included in the polymerization reaction.

열경화성 보호막 형성용 필름은 1층(단층)으로 이루어지는 것이어도 되며, 2층 이상의 복수층으로 이루어지는 것이어도 된다. 열경화성 보호막 형성용 필름이 복수층으로 이루어지는 경우, 이들 복수층은 서로 동일해도 상이해도 된다. 여기서, 「복수층이 서로 동일해도 상이해도 된다」란, 상술한 기재의 경우와 동일한 것을 의미한다. 그리고, 복수층이 서로 상이한 경우, 이들 복수층의 조합은 특별히 한정되지 않는다.The film for thermosetting protective film formation may consist of one layer (single layer), and may consist of multiple layers of two or more layers. When the film for thermosetting protective film formation consists of multiple layers, these multiple layers may mutually be same or different. Here, "a plurality of layers may be the same or different from each other" means the same as in the case of the above description. In addition, when multiple layers differ from each other, the combination of these multiple layers is not specifically limited.

열경화성 보호막 형성용 필름의 두께는 1㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5㎛ 이상 75㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 5㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 열경화성 보호막 형성용 필름의 두께가 상기 하한값 이상임으로써, 보호능이 보다 높은 보호막을 형성할 수 있다. 또한, 열경화성 보호막 형성용 필름의 두께가 상기 상한값 이하임으로써, 과잉 두께가 되는 것이 억제된다.It is preferable that they are 1 micrometer or more and 100 micrometers or less, as for the thickness of the film for thermosetting protective film formation, it is more preferable that they are 5 micrometers or more and 75 micrometers or less, It is especially preferable that they are 5 micrometers or more and 50 micrometers or less. When the thickness of the film for thermosetting protective film formation is more than the said lower limit, a protective film with a higher protective ability can be formed. Moreover, becoming excessive thickness is suppressed because the thickness of the film for thermosetting protective film formation is below the said upper limit.

여기서, 「열경화성 보호막 형성용 필름의 두께」란, 열경화성 보호막 형성용 필름 전체의 두께를 의미하고, 예를 들면, 복수층으로 이루어지는 열경화성 보호막 형성용 필름의 두께란, 열경화성 보호막 형성용 필름을 구성하는 모든 층의 합계의 두께를 의미한다. 한편, 열경화성 보호막 형성용 필름의 두께의 측정 방법으로는 예를 들면, 임의의 5개소에 있어서 접촉식 두께계를 이용하여 두께를 측정하고, 측정값의 평균을 산출하는 방법 등을 들 수 있다.Here, the "thickness of the film for forming a thermosetting protective film" means the thickness of the entire film for forming a thermosetting protective film, for example, the thickness of the film for forming a thermosetting protective film comprising a plurality of layers, constituting the film for forming a thermosetting protective film Means the thickness of the sum of all layers. In addition, as a measuring method of the thickness of the film for thermosetting protective film formation, the method of measuring thickness using a contact-type thickness meter in arbitrary five places, and calculating the average of a measured value etc. are mentioned, for example.

열경화성 보호막 형성용 필름을 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부하여, 경화시킬 때의 경화 조건은 보호막이 충분히 그 기능을 발휘하는 정도의 경화도가 되는 한 특별히 한정되지 않고, 열경화성 보호막 형성용 필름의 종류에 따라, 적절히 선택하면 된다.The curing conditions when the film for forming a thermosetting protective film is affixed to the back surface of the semiconductor wafer and cured is not particularly limited as long as the degree of curing is such that the protective film sufficiently exhibits its function. Depending on the type of the film for forming a thermosetting protective film, Just choose appropriately.

예를 들면, 열경화성 보호막 형성용 필름의 경화시 가열 온도는 100℃ 이상 200℃ 이하인 것이 바람직하고, 110℃ 이상 180℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 120℃ 이상 170℃ 이하인 것이 특히 바람직하다. 그리고, 상기 경화시 가열 시간은 0.5시간 이상 5시간 이하인 것이 바람직하고, 0.5시간 이상 3시간 이하인 것이 보다 바람직하고, 1시간 이상 2시간 이하인 것이 특히 바람직하다.For example, the heating temperature at the time of curing the film for forming a thermosetting protective film is preferably 100°C or more and 200°C or less, more preferably 110°C or more and 180°C or less, and particularly preferably 120°C or more and 170°C or less. And, the heating time during curing is preferably 0.5 hours or more and 5 hours or less, more preferably 0.5 hours or more and 3 hours or less, and particularly preferably 1 hour or more and 2 hours or less.

<<열경화성 보호막 형성용 조성물>><<The composition for forming a thermosetting protective film>>

열경화성 보호막 형성용 필름은 그 구성 재료를 함유하는 열경화성 보호막 형성용 조성물을 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 보호막 형성용 필름의 형성 대상면에 열경화성 보호막 형성용 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 목적으로 하는 부위에 열경화성 보호막 형성용 필름을 형성할 수 있다. 열경화성 보호막 형성용 조성물 중의 상온에서 기화하지 않는 성분끼리의 함유량의 비율은 통상 열경화성 보호막 형성용 필름의 상기 성분끼리의 함유량의 비율과 동일해진다. 여기서, 「상온」이란, 앞서 설명한 바와 같다.The film for thermosetting protective film formation can be formed using the composition for thermosetting protective film formation containing the constituent material. For example, the film for thermosetting protective film formation can be formed in the target site|part by coating the composition for thermosetting protective film formation on the formation target surface of the film for thermosetting protective film formation, and drying as needed. The ratio of content of components which do not vaporize at normal temperature in the composition for thermosetting protective film formation becomes the same as the ratio of content of the said components of the film for thermosetting protective film formation normally. Here, "room temperature" is as described above.

열경화성 보호막 형성용 조성물의 도공은 예를 들면, 상술한 점착제 조성물의 도공의 경우와 동일한 방법으로 행할 수 있다.Coating of the composition for thermosetting protective film formation can be performed by the method similar to the case of coating of the above-mentioned adhesive composition, for example.

열경화성 보호막 형성용 조성물의 건조 조건은 특별히 한정되지 않지만, 열경화성 보호막 형성용 조성물은 후술하는 용매를 함유하고 있는 경우, 가열 건조시키는 것이 바람직하고, 이 경우, 예를 들면, 70℃ 이상 130℃ 이하에서 10초 이상 5분 이하의 조건으로 건조시키는 것이 바람직하다.Although the drying conditions of the composition for forming a thermosetting protective film are not particularly limited, the composition for forming a thermosetting protective film is preferably heat-dried when it contains a solvent to be described later. In this case, for example, at 70°C or more and 130°C or less. It is preferable to dry under the conditions of 10 second or more and 5 minutes or less.

<열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)><Composition for thermosetting protective film formation (III-1)>

열경화성 보호막 형성용 조성물로는 예를 들면, 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)을 함유하는 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)(본 명세서에 있어서는, 단순히 「조성물(III-1)」로 약기하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.As the composition for forming a thermosetting protective film, for example, a composition (III-1) for forming a thermosetting protective film containing a polymer component (A) and a thermosetting component (B) (in this specification, simply “composition (III-1)” may be abbreviated as ) and the like.

[중합체 성분(A)][Polymer component (A)]

중합체 성분(A)은 열경화성 보호막 형성용 필름에 조막성이나 가요성 등을 부여하기 위한 중합체 화합물이다.A polymer component (A) is a polymer compound for providing film formability, flexibility, etc. to the film for thermosetting protective film formation.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 중합체 성분(A)은 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of polymer components (A) which the composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation contain may be one, or two or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and ratio can be selected arbitrarily.

중합체 성분(A)으로는 예를 들면, 아크릴계 수지((메타)아크릴로일기를 갖는 수지), 폴리에스테르, 우레탄계 수지(우레탄 결합을 갖는 수지), 아크릴우레탄 수지, 실리콘계 수지(실록산 결합을 갖는 수지), 고무계 수지(고무 구조를 갖는 수지), 페녹시 수지, 열경화성 폴리이미드 등을 들 수 있고, 아크릴계 수지가 바람직하다.As the polymer component (A), for example, an acrylic resin (resin having a (meth)acryloyl group), polyester, a urethane resin (resin having a urethane bond), an acrylic urethane resin, a silicone resin (resin having a siloxane bond) ), a rubber-based resin (resin having a rubber structure), a phenoxy resin, and a thermosetting polyimide, and an acrylic resin is preferable.

중합체 성분(A)에 있어서의 상기 아크릴계 수지로는 공지의 아크릴 중합체를 들 수 있다.A well-known acrylic polymer is mentioned as said acrylic resin in a polymer component (A).

아크릴계 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은 10000 이상 2000000 이하인 것이 바람직하고, 100000 이상 1500000 이하인 것이 보다 바람직하다. 아크릴계 수지의 중량 평균 분자량이 상기 하한값 이상임으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 형상 안정성(보관시 경시 안정성)이 향상한다. 또한, 아크릴계 수지의 중량 평균 분자량이 상기 상한값 이하임으로써, 피착체의 요철면에 열경화성 보호막 형성용 필름이 추종하기 쉬워지고, 피착체와 열경화성 보호막 형성용 필름 사이에 보이드 등의 발생이 보다 억제된다.It is preferable that they are 10000 or more and 2000000 or less, and, as for the weight average molecular weight (Mw) of acrylic resin, it is more preferable that they are 100000 or more and 1500000 or less. When the weight average molecular weight of acrylic resin is more than the said lower limit, the shape stability (temporal stability at the time of storage) of the film for thermosetting protective film formation improves. In addition, when the weight average molecular weight of the acrylic resin is below the above upper limit, the film for forming a thermosetting protective film on the uneven surface of the adherend easily follows, and the occurrence of voids between the adherend and the film for forming a thermosetting protective film is more suppressed. .

한편, 본 명세서에 있어서, 중량 평균 분자량이란, 특별히 언급하지 않는 한, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정되는 폴리스티렌 환산값이다.In addition, in this specification, unless otherwise indicated, a weight average molecular weight is a polystyrene conversion value measured by the gel permeation chromatography (GPC) method.

아크릴계 수지의 유리 전이 온도(Tg)는 -60℃ 이상 70℃ 이하인 것이 바람직하고, -30℃ 이상 50℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 아크릴계 수지의 Tg가 상기 하한값 이상임으로써, 보호막과 지지 시트(점착제층)의 접착력이 억제되어 지지 시트의 박리성이 향상된다. 또한, 아크릴계 수지의 Tg가 상기 상한값 이하임으로써, 보호막의 피착체와의 접착력이 향상된다.It is preferable that they are -60 degreeC or more and 70 degrees C or less, and, as for the glass transition temperature (Tg) of acrylic resin, it is more preferable that they are -30 degreeC or more and 50 degrees C or less. When Tg of acrylic resin is more than the said lower limit, the adhesive force of a protective film and a support sheet (adhesive layer) is suppressed, and the peelability of a support sheet improves. Moreover, when Tg of acrylic resin is below the said upper limit, the adhesive force of a protective film with a to-be-adhered body improves.

한편, 본 명세서에 있어서, 유리 전이 온도(Tg)란, JIS K7121에 준거하여 「시차 주사 열량 측정(DSC) 측정기」로 측정한 값으로 나타낸다.In addition, in this specification, a glass transition temperature (Tg) is represented by the value measured with "differential scanning calorimetry (DSC) measuring device" based on JISK7121.

아크릴계 수지로는 예를 들면, 1종 또는 2종 이상의 (메타)아크릴산에스테르의 중합체; (메타)아크릴산, 이타콘산, 초산비닐, 아크릴로니트릴, 스티렌 및 N-메틸올아크릴아미드 등으로부터 선택되는 2종 이상의 모노머의 공중합체 등을 들 수 있다.As acrylic resin, For example, the polymer of 1 type(s) or 2 or more types of (meth)acrylic acid ester; and copolymers of two or more monomers selected from (meth)acrylic acid, itaconic acid, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, and N-methylolacrylamide.

아크릴계 수지를 구성하는 상기 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산n-프로필, (메타)아크릴산이소프로필, (메타)아크릴산n-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산sec-부틸, (메타)아크릴산tert-부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산헵틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산n-노닐, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산운데실, (메타)아크릴산도데실((메타)아크릴산라우릴), (메타)아크릴산트리데실, (메타)아크릴산테트라데실((메타)아크릴산미리스틸), (메타)아크릴산펜타데실, (메타)아크릴산헥사데실((메타)아크릴산팔미틸), (메타)아크릴산헵타데실, (메타)아크릴산옥타데실((메타)아크릴산스테아릴) 등의 알킬에스테르를 구성하는 알킬기가, 탄소수가 1∼18의 사슬형 구조인 (메타)아크릴산알킬에스테르;As the (meth)acrylic acid ester constituting the acrylic resin, for example, (meth)methyl acrylate, (meth)ethyl acrylate, (meth)acrylic acid n-propyl, (meth)acrylate isopropyl, (meth)acrylic acid n- Butyl, (meth) acrylate isobutyl, (meth) acrylate sec-butyl, (meth) acrylate tert-butyl, (meth) acrylate pentyl, (meth) acrylate hexyl, (meth) acrylate heptyl, (meth) acrylate 2-ethyl Hexyl, (meth)acrylic acid isooctyl, (meth)acrylic acid n-octyl, (meth)acrylic acid n-nonyl, (meth)acrylic acid isononyl, (meth)acrylic acid decyl, (meth)acrylic acid undecyl, (meth)acrylic acid Dodecyl ((meth) acrylate lauryl), (meth) acrylate tridecyl, (meth) acrylate tetradecyl ((meth) acrylate myristyl), (meth) acrylate pentadecyl, (meth) acrylate hexadecyl ((meth) Palmityl acrylate), (meth) acrylic acid heptadecyl, (meth) acrylic acid octadecyl (meth) acrylic acid (meth) acrylic acid in which the alkyl group constituting the alkyl ester (stearyl (meth) acrylate) has a chain structure having 1 to 18 carbon atoms alkyl esters;

(메타)아크릴산이소보르닐, (메타)아크릴산디시클로펜타닐 등의 (메타)아크릴산시클로알킬에스테르;(meth)acrylic acid cycloalkyl esters, such as (meth)acrylic acid isobornyl and (meth)acrylic acid dicyclopentanyl;

(메타)아크릴산벤질 등의 (메타)아크릴산아랄킬에스테르;(meth)acrylic acid aralkyl esters, such as (meth)acrylic acid benzyl;

(메타)아크릴산디시클로펜테닐에스테르 등의 (메타)아크릴산시클로알케닐에스테르;(meth)acrylic acid cycloalkenyl esters such as (meth)acrylic acid dicyclopentenyl ester;

(메타)아크릴산디시클로펜테닐옥시에틸에스테르 등의 (메타)아크릴산시클로알케닐옥시알킬에스테르;(meth)acrylic acid cycloalkenyloxyalkyl esters such as (meth)acrylic acid dicyclopentenyloxyethyl ester;

(메타)아크릴산이미드;(meth)acrylic acid imide;

(메타)아크릴산글리시딜 등의 글리시딜기 함유 (메타)아크릴산에스테르;glycidyl group-containing (meth)acrylic acid esters such as (meth)acrylic acid glycidyl;

(메타)아크릴산히드록시메틸, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산3-히드록시프로필, (메타)아크릴산2-히드록시부틸, (메타)아크릴산3-히드록시부틸, (메타)아크릴산4-히드록시부틸 등의 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르;(meth)acrylic acid hydroxymethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxybutyl, (meth)acrylate ) hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid esters such as 3-hydroxybutyl acrylic acid and 4-hydroxybutyl (meth)acrylic acid;

(메타)아크릴산N-메틸아미노에틸 등의 치환 아미노기 함유 (메타)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다. 여기서, 「치환 아미노기」란, 아미노기의 1개 또는 2개의 수소 원자가 수소 원자 이외의 기로 치환되어 이루어지는 기를 의미한다.Substituted amino group-containing (meth)acrylic acid esters, such as (meth)acrylic-acid N-methylaminoethyl, etc. are mentioned. Here, the "substituted amino group" means a group in which one or two hydrogen atoms of the amino group are substituted with groups other than hydrogen atoms.

아크릴계 수지는 예를 들면, 상기 (메타)아크릴산에스테르 이외에 (메타)아크릴산, 이타콘산, 초산비닐, 아크릴로니트릴, 스티렌 및 N-메틸올아크릴아미드 등으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머가 공중합하여 이루어지는 것이어도 된다.The acrylic resin is, for example, in addition to the (meth)acrylic acid ester, (meth)acrylic acid, itaconic acid, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, and N-methylolacrylamide one or more monomers selected from the copolymer copolymer It may be done by

아크릴계 수지를 구성하는 모노머는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of monomers constituting the acrylic resin may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

아크릴계 수지는 비닐기, (메타)아크릴로일기, 아미노기, 수산기, 카르복시기, 이소시아네이트기 등의 다른 화합물과 결합 가능한 관능기를 갖고 있어도 된다. 아크릴계 수지의 상기 관능기는 후술하는 가교제(F)를 개재하여 다른 화합물과 결합해도 되고, 가교제(F)를 개재하지 않고 다른 화합물과 직접 결합하고 있어도 된다. 아크릴계 수지가 상기 관능기에 의해 다른 화합물과 결합함으로써, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 패키지의 신뢰성이 향상하는 경향이 있다.Acrylic resin may have a functional group which can be couple|bonded with other compounds, such as a vinyl group, a (meth)acryloyl group, an amino group, a hydroxyl group, a carboxy group, and an isocyanate group. The said functional group of an acrylic resin may couple|bond with another compound through the crosslinking agent (F) mentioned later, and may couple|bond directly with another compound without interposing a crosslinking agent (F). When the acrylic resin is bonded to another compound by the functional group, the reliability of the package obtained by using the composite sheet for forming a protective film tends to improve.

본 명세서에 있어서는, 중합체 성분(A)으로서 아크릴계 수지 이외의 열가소성 수지(이하, 단순히 「열가소성 수지」라고 약기하는 경우가 있다)를 아크릴계 수지를 사용하지 않고 단독으로 사용해도 되고, 아크릴계 수지와 병용해도 된다. 상기 열가소성 수지를 사용함으로써, 보호막의 지지 시트로부터의 박리성이 향상하거나 피착체의 요철면에 열경화성 보호막 형성용 필름이 추종하기 쉬워지고, 피착체와 열경화성 보호막 형성용 필름 사이에 보이드 등의 발생이 보다 억제되는 경우가 있다.In the present specification, as the polymer component (A), a thermoplastic resin other than the acrylic resin (hereinafter, it may simply be abbreviated as “thermoplastic resin”) may be used alone without using the acrylic resin, or may be used in combination with the acrylic resin. do. By using the above-mentioned thermoplastic resin, the peelability of the protective film from the supporting sheet is improved, or the film for forming a thermosetting protective film on the uneven surface of the adherend is easily followed, and the occurrence of voids between the adherend and the film for forming a thermosetting protective film is reduced. It may be more restrained.

상기 열가소성 수지의 중량 평균 분자량은 1000 이상 100000 이하인 것이 바람직하고, 3000 이상 80000 이하인 것이 보다 바람직하다. 여기서, 「중량 평균 분자량」이란, 앞서 설명한 바와 같다.It is preferable that they are 1000 or more and 100000 or less, and, as for the weight average molecular weight of the said thermoplastic resin, it is more preferable that they are 3000 or more and 80000 or less. Here, "weight average molecular weight" is as having demonstrated previously.

상기 열가소성 수지의 유리 전이 온도(Tg)는 -30 이상 150℃ 이하인 것이 바람직하고, -20 이상 120℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that they are -30 or more and 150 degrees C or less, and, as for the glass transition temperature (Tg) of the said thermoplastic resin, it is more preferable that they are -20 or more and 120 degrees C or less.

상기 열가소성 수지로는 예를 들면, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 페녹시 수지, 폴리부텐, 폴리부타디엔, 폴리스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin include polyester, polyurethane, phenoxy resin, polybutene, polybutadiene, and polystyrene.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 상기 열가소성 수지는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the thermoplastic resins contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

조성물(III-1)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 중합체 성분(A)의 함유량의 비율(즉, 열경화성 보호막 형성용 필름의 중합체 성분(A)의 함유량)은 중합체 성분(A)의 종류에 상관없이, 5질량% 이상 85질량% 이하인 것이 바람직하고, 5질량% 이상 80질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들면, 5질량% 이상 65질량% 이하, 5질량% 이상 50질량% 이하 및 10질량% 이상 35질량% 이하 등 어느 것이어도 된다.The ratio of the content of the polymer component (A) to the total content of all components other than the solvent in the composition (III-1) (that is, the content of the polymer component (A) in the film for forming a thermosetting protective film) is the polymer component (A) Regardless of the kind of , it is preferable that they are 5 mass % or more and 85 mass % or less, and it is more preferable that they are 5 mass % or more and 80 mass % or less. For example, any of 5 mass % or more and 65 mass % or less, 5 mass % or more and 50 mass % or less, and 10 mass % or more and 35 mass % or less may be sufficient.

중합체 성분(A)은 열경화성 성분(B)에도 해당하는 경우가 있다. 본 실시형태에 있어서는, 조성물(III-1)이 이러한 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)의 양쪽에 해당하는 성분을 함유하는 경우, 조성물(III-1)은 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)을 함유한다고 간주한다.A polymer component (A) may correspond also to a thermosetting component (B). In the present embodiment, when the composition (III-1) contains a component corresponding to both of such a polymer component (A) and a thermosetting component (B), the composition (III-1) is a polymer component (A) and a thermosetting component (B). It is considered to contain component (B).

[열경화성 성분(B)][thermosetting component (B)]

열경화성 성분(B)은 열경화성 보호막 형성용 필름을 경화시키고, 경질의 보호막을 형성하기 위한 성분이다.A thermosetting component (B) is a component for hardening the film for thermosetting protective film formation, and forming a hard protective film.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 열경화성 성분(B)은 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of thermosetting components (B) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

열경화성 성분(B)으로는 예를 들면, 에폭시계 열경화성 수지, 열경화성 폴리이미드, 폴리우레탄, 불포화 폴리에스테르, 실리콘 수지 등을 들 수 있고, 에폭시계 열경화성 수지가 바람직하다.As a thermosetting component (B), an epoxy type thermosetting resin, a thermosetting polyimide, a polyurethane, unsaturated polyester, a silicone resin etc. are mentioned, for example, An epoxy type thermosetting resin is preferable.

(에폭시계 열경화성 수지)(epoxy thermosetting resin)

에폭시계 열경화성 수지는 에폭시 수지(B1) 및 열경화제(B2)로 이루어진다.The epoxy-based thermosetting resin is composed of an epoxy resin (B1) and a thermosetting agent (B2).

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 에폭시계 열경화성 수지는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The composition (III-1) and the epoxy-based thermosetting resin contained in the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

·에폭시 수지(B1)・Epoxy resin (B1)

에폭시 수지(B1)로는 공지의 것을 들 수 있고, 예를 들면, 다관능계 에폭시 수지, 비페닐 화합물, 비스페놀A 디글리시딜에테르 및 그 수첨물, 오쏘크레졸노볼락에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F형 에폭시 수지, 페닐렌 골격형 에폭시 수지 등, 2관능 이상의 에폭시 화합물을 들 수 있다.A well-known thing is mentioned as an epoxy resin (B1), For example, polyfunctional epoxy resin, a biphenyl compound, bisphenol A diglycidyl ether and its hydrogenated product, ortho cresol novolac epoxy resin, dicyclopentadiene. Bifunctional or more than bifunctional epoxy compounds, such as a type|mold epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, a bisphenol A type|mold epoxy resin, a bisphenol F type|mold epoxy resin, and a phenylene skeleton type|mold epoxy resin, are mentioned.

에폭시 수지(B1)로는 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지를 사용해도 된다. 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지는 불포화 탄화수소기를 갖지 않는 에폭시 수지보다 아크릴계 수지와의 상용성이 높다. 이 때문에, 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지를 사용함으로써, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 보호막이 형성된 반도체 칩의 신뢰성이 향상된다.As the epoxy resin (B1), an epoxy resin having an unsaturated hydrocarbon group may be used. The epoxy resin having an unsaturated hydrocarbon group has higher compatibility with the acrylic resin than the epoxy resin having no unsaturated hydrocarbon group. For this reason, the reliability of the semiconductor chip with a protective film obtained using the composite sheet for protective film formation improves by using the epoxy resin which has an unsaturated hydrocarbon group.

불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지로는 예를 들면, 다관능계 에폭시 수지의 에폭시기의 일부가 불포화 탄화수소기를 갖는 기로 변환되어 이루어지는 화합물을 들 수 있다. 이러한 화합물은 예를 들면, 에폭시기에 (메타)아크릴산 또는 그 유도체를 부가 반응시킴으로써 얻어진다.As the epoxy resin having an unsaturated hydrocarbon group, for example, a compound in which a part of the epoxy groups of the polyfunctional epoxy resin is converted into a group having an unsaturated hydrocarbon group is exemplified. Such a compound is obtained, for example, by addition-reacting (meth)acrylic acid or its derivative(s) to an epoxy group.

또한, 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지로는 예를 들면, 에폭시 수지를 구성하는 방향 고리 등에 불포화 탄화수소기를 갖는 기가 직접 결합한 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, as an epoxy resin which has an unsaturated hydrocarbon group, the compound etc. which the group which has an unsaturated hydrocarbon group directly couple|bonded with the aromatic ring which comprises an epoxy resin etc. are mentioned, for example.

불포화 탄화수소기는 중합성을 갖는 불포화기이며, 그 구체적인 예로는 에테닐기(비닐기), 2-프로페닐기(알릴기), (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴아미드기 등을 들 수 있고, 아크릴로일기가 바람직하다.The unsaturated hydrocarbon group is an unsaturated group having polymerizability, and specific examples thereof include an ethenyl group (vinyl group), 2-propenyl group (allyl group), (meth)acryloyl group, (meth)acrylamide group, etc. An acryloyl group is preferable.

에폭시 수지(B1)의 수평균 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 열경화성 보호막 형성용 필름의 경화성 및 경화 후의 보호막의 강도 및 내열성의 점에서 300 이상 30000 이하인 것이 바람직하고, 300 이상 10000 이하인 것이 보다 바람직하고, 300 이상 3000 이하인 것이 특히 바람직하다.Although the number average molecular weight of the epoxy resin (B1) is not particularly limited, it is preferably 300 or more and 30000 or less, more preferably 300 or more and 10000 or less, from the viewpoint of curability of the film for forming a thermosetting protective film and the strength and heat resistance of the protective film after curing, It is especially preferable that they are 300 or more and 3000 or less.

본 명세서에 있어서, 「수평균 분자량」이란, 특별히 언급하지 않는 한, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정되는 표준 폴리스티렌 환산의 값으로 나타내는 수평균 분자량을 의미한다.In this specification, the "number average molecular weight" means the number average molecular weight represented by the value of standard polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC) method, unless otherwise indicated.

에폭시 수지(B1)의 에폭시 당량은 100g/eq 이상 1000g/eq 이하인 것이 바람직하고, 150g/eq 이상 950g/eq 이하인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that they are 100 g/eq or more and 1000 g/eq or less, and, as for the epoxy equivalent of an epoxy resin (B1), it is more preferable that they are 150 g/eq or more and 950 g/eq or less.

본 명세서에 있어서, 「에폭시 당량」이란, 1그램 당량의 에폭시기를 포함하는 에폭시 화합물의 그램 수(g/eq)를 의미하고, JIS K 7236:2001의 방법에 따라 측정할 수 있다.In this specification, "epoxy equivalent" means the number of grams (g/eq) of an epoxy compound containing an epoxy group of 1 gram equivalent, and can be measured according to the method of JISK7236:2001.

에폭시 수지(B1)는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 되며, 2종 이상을 병용하는 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.An epoxy resin (B1) may be used individually by 1 type, may use 2 or more types together, and when using 2 or more types together, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

·열경화제(B2)· Thermosetting agent (B2)

열경화제(B2)는 에폭시 수지(B1)에 대한 경화제로서 기능한다.The thermosetting agent (B2) functions as a curing agent for the epoxy resin (B1).

열경화제(B2)로는 예를 들면, 1분자 중에 에폭시기와 반응할 수 있는 관능기를 2개 이상 갖는 화합물을 들 수 있다. 상기 관능기로는 예를 들면, 페놀성 수산기, 알코올성 수산기, 아미노기, 카르복시기, 산기가 무수물화된 기 등을 들 수 있고, 페놀성 수산기, 아미노기 또는 산기가 무수물화된 기인 것이 바람직하고, 페놀성 수산기 또는 아미노기인 것이 보다 바람직하다.As a thermosetting agent (B2), the compound which has two or more functional groups which can react with an epoxy group in 1 molecule is mentioned, for example. Examples of the functional group include a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, a carboxy group, and a group in which an acid group is anhydrideized, and a phenolic hydroxyl group, an amino group or an acid group is preferably a group obtained by anhydride, and a phenolic hydroxyl group Or it is more preferable that it is an amino group.

열경화제(B2) 중, 페놀성 수산기를 갖는 페놀계 경화제로는 예를 들면, 다관능 페놀 수지, 비페놀, 노볼락형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 아랄킬형 페놀 수지 등을 들 수 있다.Among the thermosetting agents (B2), examples of the phenolic curing agent having a phenolic hydroxyl group include polyfunctional phenol resins, biphenols, novolac-type phenol resins, dicyclopentadiene-type phenol resins, and aralkyl-type phenol resins. can

열경화제(B2) 중, 아미노기를 갖는 아민계 경화제로는 예를 들면, 디시안디아미드(이하, 「DICY」로 약기하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.Among the thermosetting agents (B2), examples of the amine-based curing agent having an amino group include dicyandiamide (hereinafter, sometimes abbreviated as “DICY”).

열경화제(B2)는 불포화 탄화수소기를 갖는 것이어도 된다.The thermosetting agent (B2) may have an unsaturated hydrocarbon group.

불포화 탄화수소기를 갖는 열경화제(B2)로는 예를 들면, 페놀 수지의 수산기의 일부가 불포화 탄화수소기를 갖는 기로 치환되어 이루어지는 화합물, 페놀 수지의 방향 고리에 불포화 탄화수소기를 갖는 기가 직접 결합되어 이루어지는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the thermosetting agent (B2) having an unsaturated hydrocarbon group include a compound in which a part of the hydroxyl group of the phenol resin is substituted with a group having an unsaturated hydrocarbon group, a compound in which a group having an unsaturated hydrocarbon group is directly bonded to the aromatic ring of the phenol resin, etc. can

열경화제(B2)에 있어서의 상기 불포화 탄화수소기는 상술한 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지에 있어서의 불포화 탄화수소기와 동일한 것이다.The said unsaturated hydrocarbon group in a thermosetting agent (B2) is the same thing as the unsaturated hydrocarbon group in the epoxy resin which has the above-mentioned unsaturated hydrocarbon group.

열경화제(B2)로서 페놀계 경화제를 사용하는 경우에는, 보호막의 지지 시트로부터의 박리성이 향상되는 점에서 열경화제(B2)는 연화점 또는 유리 전이 온도가 높은 것이 바람직하다.When using a phenol-type hardening|curing agent as a thermosetting agent (B2), it is preferable that the softening point or glass transition temperature of a thermosetting agent (B2) is high at the point which the peelability from the support sheet of a protective film improves.

열경화제(B2) 중, 예를 들면, 다관능 페놀 수지, 노볼락형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 아랄킬형 페놀 수지 등의 수지 성분의 수평균 분자량은 300 이상 30000 이하인 것이 바람직하고, 400 이상 10000 이하인 것이 보다 바람직하고, 500 이상 3000 이하인 것이 특히 바람직하다.Among the thermosetting agents (B2), for example, the number average molecular weight of a resin component such as a polyfunctional phenol resin, a novolak type phenol resin, a dicyclopentadiene type phenol resin, and an aralkyl type phenol resin is preferably 300 or more and 30000 or less. , more preferably 400 or more and 10000 or less, and particularly preferably 500 or more and 3000 or less.

열경화제(B2) 중, 예를 들면, 비페놀, 디시안디아미드 등의 비수지 성분의 분자량은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 60 이상 500 이하인 것이 바람직하다.Although the molecular weight of non-resin components, such as a biphenol and dicyandiamide, is not specifically limited among thermosetting agents (B2), For example, it is preferable that they are 60 or more and 500 or less.

열경화제(B2)는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 되며, 2종 이상을 병용하는 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.A thermosetting agent (B2) may be used individually by 1 type, may use 2 or more types together, and when using 2 or more types together, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름에 있어서, 열경화제(B2)의 함유량은 에폭시 수지(B1)의 함유량 100질량부에 대해 0.1질량부 이상 500질량부 이하인 것이 바람직하고, 1질량부 이상 200질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 예를 들면, 1질량부 이상 100질량부 이하, 1질량부 이상 50질량부 이하 및 1질량부 이상 10질량부 이하 등 어느 것이어도 된다. 열경화제(B2)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 경화가 보다 진행되기 쉬워진다. 또한, 열경화제(B2)의 상기 함유량이 상기 상한값 이하임으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 흡습률이 저감되고, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 패키지의 신뢰성이 보다 향상된다.Composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film WHEREIN: It is preferable that content of thermosetting agent (B2) is 0.1 mass part or more and 500 mass parts or less with respect to content 100 mass parts of epoxy resin (B1), 1 mass part It is more preferable that it is more than 200 mass parts. For example, any, such as 1 mass part or more and 100 mass parts or less, 1 mass part or more and 50 mass parts or less, and 1 mass part or more and 10 mass parts or less, may be sufficient. When the said content of a thermosetting agent (B2) is more than the said lower limit, hardening of the film for thermosetting protective film formation advances more easily. Moreover, when the said content of a thermosetting agent (B2) is below the said upper limit, the moisture absorption of the film for thermosetting protective film formation is reduced, and the reliability of the package obtained using the composite sheet for protective film formation improves more.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름에 있어서, 열경화성 성분(B)의 함유량(예를 들면, 에폭시 수지(B1) 및 열경화제(B2)의 총 함유량)은 중합체 성분(A)의 함유량 100질량부에 대해 20질량부 이상 500질량부 이하인 것이 바람직하고, 30질량부 이상 300질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 40질량부 이상 150질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 열경화성 성분(B)의 상기 함유량이 이러한 범위임으로써, 보호막과 지지 시트의 접착력이 억제되고, 지지 시트의 박리성이 향상된다.In the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film, the content of the thermosetting component (B) (for example, the total content of the epoxy resin (B1) and the thermosetting agent (B2)) is the content of the polymer component (A) It is preferable that they are 20 mass parts or more and 500 mass parts or less with respect to 100 mass parts, It is more preferable that they are 30 mass parts or more and 300 mass parts or less, It is especially preferable that they are 40 mass parts or more and 150 mass parts or less. When the said content of a thermosetting component (B) is such a range, the adhesive force of a protective film and a support sheet is suppressed, and the peelability of a support sheet improves.

[경화 촉진제(C)][curing accelerator (C)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 경화 촉진제(C)를 함유하고 있어도 된다. 경화 촉진제(C)는 조성물(III-1)의 경화 속도를 조정하기 위한 성분이다.The composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the hardening accelerator (C). The curing accelerator (C) is a component for adjusting the curing rate of the composition (III-1).

바람직한 경화 촉진제(C)로는 예를 들면, 트리에틸렌디아민, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 제3급 아민; 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸 등의 이미다졸류(1개 이상의 수소 원자가 수소 원자 이외의 기로 치환된 이미다졸); 트리부틸포스핀, 디페닐포스핀, 트리페닐포스핀 등의 유기 포스핀류(1개 이상의 수소 원자가 유기기로 치환된 포스핀); 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트, 트리페닐포스핀테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐붕소염 등을 들 수 있다.Preferable examples of the curing accelerator (C) include tertiary amines such as triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol and tris(dimethylaminomethyl)phenol; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5 -imidazoles such as hydroxymethylimidazole (imidazole in which one or more hydrogen atoms are substituted with groups other than hydrogen atoms); organic phosphines (phosphines in which one or more hydrogen atoms are substituted with organic groups) such as tributylphosphine, diphenylphosphine, and triphenylphosphine; Tetraphenyl boron salts, such as tetraphenyl phosphonium tetraphenyl borate and a triphenyl phosphine tetraphenyl borate, etc. are mentioned.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 경화 촉진제(C)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of curing accelerators (C) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

경화 촉진제(C)를 사용하는 경우, 조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름에 있어서, 경화 촉진제(C)의 함유량은 열경화성 성분(B)의 함유량 100질량부에 대해 0.01질량부 이상 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.1질량부 이상 7질량부 이하인 것이 보다 바람직하다. 경화 촉진제(C)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 경화 촉진제(C)를 사용한 것에 의한 효과가 보다 현저히 얻어진다. 또한, 경화 촉진제(C)의 함유량이 상기 상한값 이하임으로써, 예를 들면, 고극성 경화 촉진제(C)가 고온·고습도 조건하에서 열경화성 보호막 형성용 필름 중에 있어서 피착체와의 접착 계면측으로 이동하여 편석하는 것을 억제하는 효과가 높아지고, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 보호막이 형성된 반도체 칩의 신뢰성이 보다 향상한다.When using a hardening accelerator (C), composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation WHEREIN: Content of a hardening accelerator (C) is 0.01 mass part or more with respect to content of 100 mass parts of thermosetting component (B) 10 It is preferable that it is a mass part or less, and it is more preferable that they are 0.1 mass part or more and 7 mass parts or less. When the said content of a hardening accelerator (C) is more than the said lower limit, the effect by using a hardening accelerator (C) is acquired more remarkably. In addition, since the content of the curing accelerator (C) is below the upper limit, for example, the high polar curing accelerator (C) moves to the adhesive interface side with the adherend in the film for forming a thermosetting protective film under high temperature and high humidity conditions and segregates The effect which suppresses doing becomes high, and the reliability of the semiconductor chip with a protective film obtained using the composite sheet for protective film formation improves more.

[충전재(D)][Filling material (D)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 충전재(D)를 함유하고 있어도 된다. 열경화성 보호막 형성용 필름이 충전재(D)를 함유함으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름을 경화하여 얻어진 보호막은 열팽창 계수의 조정이 용이해지고, 이 열팽창 계수를 보호막의 형성 대상물에 대해 최적화함으로써, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 보호막이 형성된 반도체 칩의 신뢰성이 보다 향상된다. 또한, 열경화성 보호막 형성용 필름이 충전재(D)를 함유함으로써, 보호막의 흡습률을 저감하거나 방열성을 향상시킬 수도 있다.The composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the filler (D). When the film for forming a thermosetting protective film contains the filler (D), the protective film obtained by curing the film for forming a thermosetting protective film is easy to adjust the thermal expansion coefficient, and by optimizing this coefficient of thermal expansion for the object to be formed of the protective film, the composite for forming a protective film The reliability of the semiconductor chip with the protective film obtained using the sheet|seat improves more. Moreover, when the film for thermosetting protective film formation contains a filler (D), the moisture absorption of a protective film can also be reduced or heat dissipation property can also be improved.

충전재(D)는 유기 충전재 및 무기 충전재 중 어느 것이어도 되지만, 무기 충전재인 것이 바람직하다.Although any of an organic filler and an inorganic filler may be sufficient as a filler (D), it is preferable that it is an inorganic filler.

바람직한 무기 충전재로는 예를 들면, 실리카, 알루미나, 탤크, 탄산칼슘, 티탄 화이트, 벵갈라, 탄화규소, 질화붕소 등의 분말; 이들 무기 충전재를 구형화한 비즈; 이들 무기 충전재의 표면 개질품; 이들 무기 충전재의 단결정 섬유; 유리 섬유 등을 들 수 있다.Preferred inorganic fillers include, for example, powders such as silica, alumina, talc, calcium carbonate, titanium white, bengala, silicon carbide, and boron nitride; beads obtained by spheroidizing these inorganic fillers; surface-modified products of these inorganic fillers; single crystal fibers of these inorganic fillers; Glass fiber etc. are mentioned.

이들 중에서도, 무기 충전재는 실리카 또는 알루미나인 것이 바람직하다.Among these, the inorganic filler is preferably silica or alumina.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 충전재(D)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of fillers (D) which the composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation contain may be one, or two or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

충전재(D)를 사용하는 경우, 조성물(III-1)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 충전재(D)의 함유량의 비율(즉, 열경화성 보호막 형성용 필름의 충전재(D)의 함유량)은 5질량% 이상 80질량% 이하인 것이 바람직하고, 7질량% 이상 60질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 충전재(D)의 함유량이 이러한 범위임으로써, 상기 열팽창 계수의 조정이 보다 용이해진다.When a filler (D) is used, the ratio of the content of the filler (D) to the total content of all components other than the solvent in the composition (III-1) (that is, the content of the filler (D) in the film for forming a thermosetting protective film) It is preferable that they are 5 mass % or more and 80 mass % or less, and, as for ), it is more preferable that they are 7 mass % or more and 60 mass % or less. When content of a filler (D) is such a range, adjustment of the said thermal expansion coefficient becomes easier.

[커플링제(E)][Coupling agent (E)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 커플링제(E)를 함유하고 있어도 된다. 커플링제(E)로서 무기 화합물 또는 유기 화합물과 반응 가능한 관능기를 갖는 것을 사용함으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 피착체에 대한 접착성 및 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 커플링제(E)를 사용함으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름을 경화하여 얻어진 막은 내열성을 저해하지 않고, 내수성이 향상된다.The composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the coupling agent (E). By using what has a functional group which can react with an inorganic compound or an organic compound as a coupling agent (E), the adhesiveness and adhesiveness with respect to the to-be-adhered body of the film for thermosetting protective film formation can be improved. Moreover, water resistance improves the film|membrane obtained by hardening|curing the film for thermosetting protective film formation by using a coupling agent (E), without impairing heat resistance.

커플링제(E)는 중합체 성분(A), 열경화성 성분(B) 등이 갖는 관능기와 반응 가능한 관능기를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 실란 커플링제인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is a compound which has a functional group which can react with the functional group which a polymer component (A), a thermosetting component (B), etc. have, and, as for a coupling agent (E), it is more preferable that it is a silane coupling agent.

바람직한 상기 실란 커플링제로는 예를 들면, 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 3-글리시딜옥시메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란, 3-(2-아미노에틸아미노)프로필메틸디에톡시실란, 3-(페닐아미노)프로필트리메톡시실란, 3-아닐리노프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)테트라술판, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 이미다졸실란 등을 들 수 있다.Preferred silane coupling agents include, for example, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane. Cydyloxymethyldiethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-( 2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane, 3-(2-aminoethylamino)propylmethyldiethoxysilane, 3-(phenylamino)propyltrimethoxysilane, 3-anilinopropyltrimethoxysilane, 3 -Ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis(3-triethoxysilylpropyl)tetrasulfane, methyltrimethoxysilane, methyltri Ethoxysilane, vinyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, imidazole silane, etc. are mentioned.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 커플링제(E)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of coupling agents (E) which the composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation contain may be one, or two or more types may be sufficient as them, and in the case of two or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

커플링제(E)를 사용하는 경우, 조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름에 있어서, 커플링제(E)의 함유량은 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)의 총 함유량 100질량부에 대해 0.03질량부 이상 20질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.05질량부 이상 10질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.1질량부 이상 5질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 커플링제(E)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 충전재(D)의 수지에 대한 분산성의 향상이나 열경화성 보호막 형성용 필름의 피착체와의 접착성의 향상 등, 커플링제(E)를 사용한 것에 의한 효과가 보다 현저히 얻어진다. 또한, 커플링제(E)의 상기 함유량이 상기 상한값 이하임으로써, 아웃 가스의 발생이 보다 억제된다.When using a coupling agent (E), composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation WHEREIN: Content of a coupling agent (E) is 100 mass parts of total content of a polymer component (A) and a thermosetting component (B) It is preferable that they are 0.03 mass parts or more and 20 mass parts or less with respect to it, It is more preferable that they are 0.05 mass parts or more and 10 mass parts or less, It is especially preferable that they are 0.1 mass parts or more and 5 mass parts or less. When the said content of a coupling agent (E) is more than the said lower limit, the improvement of the dispersibility with respect to resin of a filler (D), improvement of adhesiveness with the to-be-adhered body of the film for thermosetting protective film formation, etc. By using the coupling agent (E) The effect is obtained more conspicuously. Moreover, generation|occurrence|production of an outgas is suppressed more because the said content of a coupling agent (E) is below the said upper limit.

[가교제(F)][Crosslinking agent (F)]

중합체 성분(A)으로서 상술한 아크릴계 수지 등의 다른 화합물과 결합 가능한 비닐기, (메타)아크릴로일기, 아미노기, 수산기, 카르복시기, 이소시아네이트기 등의 관능기를 갖는 것을 사용하는 경우, 조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 상기 관능기를 다른 화합물과 결합시켜 가교하기 위한 가교제(F)를 함유하고 있어도 된다. 가교제(F)를 사용하여 가교함으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 초기 접착력 및 응집력을 조절할 수 있다.As the polymer component (A), when using a polymer component (A) having a functional group such as a vinyl group, (meth)acryloyl group, amino group, hydroxyl group, carboxyl group, and isocyanate group capable of bonding to other compounds such as the above-mentioned acrylic resin, composition (III-1) ) and the film for forming a thermosetting protective film may contain a crosslinking agent (F) for crosslinking by bonding the functional group with another compound. By crosslinking using the crosslinking agent (F), the initial adhesive force and cohesive force of the film for forming a thermosetting protective film can be adjusted.

가교제(F)로는 예를 들면, 유기 다가 이소시아네이트 화합물, 유기 다가 이민 화합물, 금속 킬레이트계 가교제(금속 킬레이트 구조를 갖는 가교제), 아지리딘계 가교제(아지리디닐기를 갖는 가교제) 등을 들 수 있다.Examples of the crosslinking agent (F) include an organic polyvalent isocyanate compound, an organic polyvalent imine compound, a metal chelate crosslinking agent (crosslinking agent having a metal chelate structure), and an aziridine crosslinking agent (crosslinking agent having an aziridinyl group).

상기 유기 다가 이소시아네이트 화합물로는 예를 들면, 방향족 다가 이소시아네이트 화합물, 지방족 다가 이소시아네이트 화합물 및 지환족 다가 이소시아네이트 화합물(이하, 이들 화합물을 포괄하여 「방향족 다가 이소시아네이트 화합물 등」으로 약기하는 경우가 있다); 상기 방향족 다가 이소시아네이트 화합물 등의 삼량체, 이소시아누레이트체 및 어덕트체; 상기 방향족 다가 이소시아네이트 화합물 등과 폴리올 화합물을 반응시켜 얻어지는 말단 이소시아네이트 우레탄 프리폴리머 등을 들 수 있다. 상기 「어덕트체」는 상기 방향족 다가 이소시아네이트 화합물, 지방족 다가 이소시아네이트 화합물 또는 지환족 다가 이소시아네이트 화합물과 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판 또는 피마자유 등의 저분자 활성 수소 함유 화합물의 반응물을 의미하고, 그 예로는 후술하는 바와 같은 트리메틸올프로판의 자일릴렌디이소시아네이트 부가물 등을 들 수 있다. 또한, 「말단 이소시아네이트 우레탄 프리폴리머」란, 앞서 설명한 바와 같다.As said organic polyhydric isocyanate compound, For example, an aromatic polyhydric isocyanate compound, an aliphatic polyhydric isocyanate compound, and an alicyclic polyvalent isocyanate compound (Hereinafter, these compounds are collectively abbreviated as "aromatic polyvalent isocyanate compound etc."); a trimer, an isocyanurate body, and an adduct body, such as the said aromatic polyhydric isocyanate compound; The terminal isocyanate urethane prepolymer etc. which are obtained by making the said aromatic polyhydric isocyanate compound etc. react with a polyol compound are mentioned. The "adduct body" is a reaction product of the aromatic polyvalent isocyanate compound, aliphatic polyvalent isocyanate compound, or alicyclic polyvalent isocyanate compound, and a low-molecular active hydrogen-containing compound such as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane or castor oil. means, and examples thereof include xylylene diisocyanate adducts of trimethylolpropane which will be described later. In addition, "terminal isocyanate urethane prepolymer" is as having demonstrated previously.

상기 유기 다가 이소시아네이트 화합물로서 보다 구체적으로는, 예를 들면, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트; 2,6-톨릴렌디이소시아네이트; 1,3-자일릴렌디이소시아네이트; 1,4-자일릴렌디이소시아네이트; 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트; 디페닐메탄-2,4'-디이소시아네이트; 3-메틸디페닐메탄디이소시아네이트; 헥사메틸렌디이소시아네이트; 이소포론디이소시아네이트; 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트; 디시클로헥실메탄-2,4'-디이소시아네이트; 트리메틸올프로판 등의 폴리올의 전부 또는 일부의 수산기에 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 및 자일릴렌디이소시아네이트 중 어느 1종 또는 2종 이상이 부가된 화합물; 리신디이소시아네이트 등을 들 수 있다.More specifically, as said organic polyhydric isocyanate compound, For example, 2, 4- tolylene diisocyanate; 2,6-tolylene diisocyanate; 1,3-xylylene diisocyanate; 1,4-xylylene diisocyanate; diphenylmethane-4,4'-diisocyanate; diphenylmethane-2,4'-diisocyanate; 3-methyldiphenylmethane diisocyanate; hexamethylene diisocyanate; isophorone diisocyanate; dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate; dicyclohexylmethane-2,4'-diisocyanate; Compounds in which any one or two or more of tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and xylylene diisocyanate were added to all or some hydroxyl groups of polyols such as trimethylolpropane; Lysine diisocyanate etc. are mentioned.

상기 유기 다가 이민 화합물로는 예를 들면, N,N'-디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복시아미드), 트리메틸올프로판-트리-β-아지리디닐프로피오네이트, 테트라메틸올메탄-트리-β-아지리디닐프로피오네이트, N,N'-톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복시아미드)트리에틸렌멜라민 등을 들 수 있다.Examples of the organic polyvalent imine compound include N,N'-diphenylmethane-4,4'-bis(1-aziridinecarboxamide), trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, N,N'-toluene-2,4-bis(1-aziridinecarboxamide)triethylenemelamine, etc. are mentioned.

가교제(F)로서 유기 다가 이소시아네이트 화합물을 사용하는 경우, 중합체 성분(A)으로는 수산기 함유 중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 가교제(F)가 이소시아네이트기를 갖고, 중합체 성분(A)이 수산기를 갖는 경우, 가교제(F)와 중합체 성분(A)의 반응에 의해 열경화성 보호막 형성용 필름에 가교 구조를 간편하게 도입할 수 있다.When using an organic polyvalent isocyanate compound as a crosslinking agent (F), it is preferable to use a hydroxyl-containing polymer as a polymer component (A). When the crosslinking agent (F) has an isocyanate group and the polymer component (A) has a hydroxyl group, the crosslinking structure can be easily introduced into the film for forming a thermosetting protective film by reaction of the crosslinking agent (F) with the polymer component (A).

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 가교제(F)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of crosslinking agents (F) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

가교제(F)를 사용하는 경우, 조성물(III-1)에 있어서 가교제(F)의 함유량은 중합체 성분(A)의 함유량 100질량부에 대해 0.01질량부 이상 20질량부 이하인 것이 바람직하고, 0.1질량부 이상 10질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.5질량부 이상 5질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 가교제(F)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 가교제(F)를 사용한 것에 의한 효과가 보다 현저히 얻어진다. 또한, 가교제(F)의 상기 함유량이 상기 상한값 이하임으로써, 가교제(F)의 과잉 사용이 억제된다.When using a crosslinking agent (F), it is preferable that content of a crosslinking agent (F) in composition (III-1) is 0.01 mass part or more and 20 mass parts or less with respect to content 100 mass parts of a polymer component (A), 0.1 mass It is more preferable that they are a part or more and 10 mass parts or less, and it is especially preferable that they are 0.5 mass part or more and 5 mass parts or less. When the said content of a crosslinking agent (F) is more than the said lower limit, the effect by using a crosslinking agent (F) is acquired more remarkably. Moreover, excessive use of a crosslinking agent (F) is suppressed because the said content of a crosslinking agent (F) is below the said upper limit.

[에너지선 경화성 수지(G)][Energy-ray-curable resin (G)]

조성물(III-1)은 에너지선 경화성 수지(G)를 함유하고 있어도 된다. 열경화성 보호막 형성용 필름은 에너지선 경화성 수지(G)를 함유하고 있음으로써, 에너지선의 조사에 의해 특성을 변화시킬 수 있다.Composition (III-1) may contain energy-beam curable resin (G). Since the film for thermosetting protective film formation contains energy-beam curable resin (G), a characteristic can be changed by irradiation of an energy-beam.

에너지선 경화성 수지(G)는 에너지선 경화성 화합물을 중합(경화)하여 얻어진 것이다.Energy-beam curable resin (G) is obtained by superposing|polymerizing (hardening) an energy-beam curable compound.

상기 에너지선 경화성 화합물로는 예를 들면, 분자 내에 적어도 1개의 중합성 이중 결합을 갖는 화합물을 들 수 있고, (메타)아크릴로일기를 갖는 아크릴레이트계 화합물이 바람직하다.As said energy ray-curable compound, the compound which has at least 1 polymerizable double bond is mentioned in a molecule|numerator, for example, The acrylate type compound which has a (meth)acryloyl group is preferable.

상기 아크릴레이트계 화합물로는 예를 들면, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨모노히드록시펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,4-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트 등의 사슬형 지방족 골격 함유 (메타)아크릴레이트; 디시클로펜타닐디(메타)아크릴레이트 등의 고리형 지방족 골격 함유 (메타)아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트; 올리고에스테르(메타)아크릴레이트; 우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머; 에폭시 변성 (메타)아크릴레이트; 상기 폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 이외의 폴리에테르(메타)아크릴레이트; 이타콘산 올리고머 등을 들 수 있다.Examples of the acrylate-based compound include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethanetetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, Dipentaerythritol monohydroxypenta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, 1,4-butylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, etc. of (meth)acrylate containing a chain aliphatic skeleton; cyclic aliphatic skeleton-containing (meth)acrylates such as dicyclopentanyl di(meth)acrylate; polyalkylene glycol (meth)acrylates such as polyethylene glycol di(meth)acrylate; oligoester (meth)acrylate; urethane (meth)acrylate oligomers; epoxy-modified (meth)acrylate; polyether (meth)acrylates other than the polyalkylene glycol (meth)acrylate; Itaconic acid oligomer etc. are mentioned.

상기 에너지선 경화성 화합물의 중량 평균 분자량은 100 이상 30000 이하인 것이 바람직하고, 300 이상 10000 이하인 것이 보다 바람직하다. 여기서, 「중량 평균 분자량」이란, 앞서 설명한 바와 같다.It is preferable that they are 100 or more and 30000 or less, and, as for the weight average molecular weight of the said energy ray-curable compound, it is more preferable that they are 300 or more and 10000 or less. Here, "weight average molecular weight" is as having demonstrated previously.

중합에 사용하는 상기 에너지선 경화성 화합물은 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the said energy ray-curable compound used for superposition|polymerization may be 1 type, and 2 or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

조성물(III-1)이 함유하는 에너지선 경화성 수지(G)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of energy ray-curable resins (G) contained in the composition (III-1) may be one, or two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be selected arbitrarily.

조성물(III-1)에 있어서 에너지선 경화성 수지(G)의 함유량은 1질량% 이상 95질량% 이하인 것이 바람직하고, 5질량% 이상 90질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10질량% 이상 85질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.In composition (III-1), it is preferable that content of energy-beam-curable resin (G) is 1 mass % or more and 95 mass % or less, It is more preferable that they are 5 mass % or more and 90 mass % or less, 10 mass % or more and 85 mass % or less It is especially preferable that it is the following.

[광중합 개시제(H)][Photoinitiator (H)]

조성물(III-1)은 에너지선 경화성 수지(G)를 함유하는 경우, 에너지선 경화성 수지(G)의 중합 반응을 효율적으로 진행하기 위해, 광중합 개시제(H)를 함유하고 있어도 된다.When composition (III-1) contains energy-beam curable resin (G), in order to advance the polymerization reaction of energy-beam curable resin (G) efficiently, you may contain the photoinitiator (H).

조성물(III-1)에 있어서의 광중합 개시제(H)로는 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인벤조산, 벤조인벤조산메틸, 벤조인디메틸케탈 등의 벤조인 화합물; 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등의 아세토페논 화합물; 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드 화합물; 벤질페닐술피드, 테트라메틸티우람모노술피드 등의 술피드 화합물; 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 등의 α-케톨 화합물; 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물; 티타노센 등의 티타노센 화합물; 티옥산톤 등의 티옥산톤 화합물; 퍼옥사이드 화합물; 디아세틸 등의 디케톤 화합물; 벤질; 디벤질; 벤조페논; 2,4-디에틸티옥산톤; 1,2-디페닐메탄; 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로파논; 2-클로로안트라퀴논 등을 들 수 있다.As the photoinitiator (H) in the composition (III-1), for example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin benzoin compounds such as methyl benzoate and benzoin dimethyl ketal; acetophenone compounds such as acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one; acylphosphine oxide compounds such as bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; sulfide compounds such as benzylphenyl sulfide and tetramethylthiuram monosulfide; α-ketol compounds such as 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; titanocene compounds such as titanocene; thioxanthone compounds such as thioxanthone; peroxide compounds; diketone compounds such as diacetyl; benzyl; dibenzyl; benzophenone; 2,4-diethylthioxanthone; 1,2-diphenylmethane; 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone; 2-chloroanthraquinone etc. are mentioned.

또한, 상기 광중합 개시제로는 예를 들면, 1-클로로안트라퀴논 등의 퀴논 화합물; 아민 등의 광증감제 등도 들 수 있다.Moreover, as said photoinitiator, For example, Quinone compounds, such as 1-chloroanthraquinone; Photosensitizers, such as an amine, etc. are mentioned.

조성물(III-1)이 함유하는 광중합 개시제(H)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of photoinitiators (H) contained in the composition (III-1) may be one, or two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be selected arbitrarily.

조성물(III-1)에 있어서 광중합 개시제(H)의 함유량은 에너지선 경화성 수지(G)의 함유량 100질량부에 대해 0.1질량부 이상 20질량부 이하인 것이 바람직하고, 1질량부 이상 10질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 2질량부 이상 5질량부 이하인 것이 특히 바람직하다.In the composition (III-1), the content of the photoinitiator (H) is preferably 0.1 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, and 1 part by mass or more and 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the energy ray-curable resin (G) content. It is more preferable, and it is especially preferable that they are 2 mass parts or more and 5 mass parts or less.

[착색제(I)][Colorant (I)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 착색제(I)를 함유하고 있어도 된다.The composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the coloring agent (I).

착색제(I)로는 예를 들면, 무기계 안료, 유기계 안료, 유기계 염료 등, 공지의 것을 들 수 있다.As a coloring agent (I), well-known things, such as an inorganic type pigment, an organic type pigment, and organic type dye, are mentioned, for example.

상기 유기계 안료 및 유기계 염료로는 예를 들면, 아미늄계 색소, 시아닌계 색소, 메로시아닌계 색소, 크로코늄계 색소, 스쿠아릴륨계 색소, 아즈레늄계 색소, 폴리메틴계 색소, 나프토퀴논계 색소, 피릴륨계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 나프탈로시아닌계 색소, 나프토락탐계 색소, 아조계 색소, 축합 아조계 색소, 인디고계 색소, 페리논계 색소, 페릴렌계 색소, 디옥사진계 색소, 퀴나크리돈계 색소, 이소인돌리논계 색소, 퀴노프탈론계 색소, 피롤계 색소, 티오인디고계 색소, 금속 착체계 색소(금속 착염 염료), 디티올 금속 착체계 색소, 인돌페놀계 색소, 트리아릴메탄계 색소, 안트라퀴논계 색소, 나프톨계 색소, 아조메틴계 색소, 벤즈이미다졸론계 색소, 피란트론계 색소 및 스렌계 색소 등을 들 수 있다.The organic pigments and organic dyes include, for example, aminium pigments, cyanine pigments, merocyanine pigments, croconium pigments, squarylium pigments, azrenium pigments, polymethine pigments, and naphthoquinone pigments. , pyrylium pigment, phthalocyanine pigment, naphthalocyanine pigment, naphtholactam pigment, azo pigment, condensed azo pigment, indigo pigment, perinone pigment, perylene pigment, dioxazine pigment, quinacridone pigment, Isoindolinone pigment, quinophthalone pigment, pyrrole pigment, thioindigo pigment, metal complex pigment (metal complex dye), dithiol metal complex pigment, indole phenol pigment, triarylmethane pigment, anthra A quinone type pigment|dye, a naphthol type pigment|dye, an azomethine type pigment|dye, a benzimidazolone type pigment|dye, a pyranthrone type pigment|dye, a srene type pigment|dye, etc. are mentioned.

상기 무기계 안료로는 예를 들면, 카본 블랙, 코발트계 색소, 철계 색소, 크롬계 색소, 티탄계 색소, 바나듐계 색소, 지르코늄계 색소, 몰리브덴계 색소, 루테늄계 색소, 백금계 색소, ITO(인듐주석옥사이드)계 색소, ATO(안티몬주석옥사이드)계 색소 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic pigments include carbon black, cobalt pigments, iron pigments, chromium pigments, titanium pigments, vanadium pigments, zirconium pigments, molybdenum pigments, ruthenium pigments, platinum pigments, ITO (indium pigments). A tin oxide) type pigment|dye, ATO (antimony tin oxide) type pigment|dye, etc. are mentioned.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 착색제(I)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of colorants (I) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

착색제(I)를 사용하는 경우, 열경화성 보호막 형성용 필름의 착색제(I)의 함유량은 목적에 따라 적절히 조절하면 된다. 예를 들면, 열경화성 보호막 형성용 필름의 착색제(I)의 함유량을 조절하고, 보호막의 광투과성을 조절함으로써, 보호막에 대해 레이저 인자를 행한 경우의 인자 시인성을 조절할 수 있다. 또한, 열경화성 보호막 형성용 필름의 착색제(I)의 함유량을 조절함으로써, 보호막의 의장성을 향상시키거나 반도체 웨이퍼의 이면의 연삭 흔적을 보이기 어렵게 할 수도 있다. 이 점을 고려하면, 조성물(III-1)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 착색제(I)의 함유량의 비율(즉, 열경화성 보호막 형성용 필름의 착색제(I)의 함유량)은 0.1질량% 이상 10질량% 이하인 것이 바람직하고, 0.1질량% 이상 7.5질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.1질량% 이상 5질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 착색제(I)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 착색제(I)를 사용한 것에 의한 효과가 보다 현저히 얻어진다. 또한, 착색제(I)의 상기 함유량이 상기 상한값 이하임으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 광투과성의 과도한 저하가 억제된다.When using a coloring agent (I), what is necessary is just to adjust content of the coloring agent (I) of the film for thermosetting protective film formation suitably according to the objective. For example, by adjusting content of the coloring agent (I) of the film for thermosetting protective film formation and adjusting the light transmittance of a protective film, printing visibility at the time of laser printing with respect to a protective film can be adjusted. Moreover, by adjusting content of the coloring agent (I) of the film for thermosetting protective film formation, the designability of a protective film can be improved, or it can also make it difficult to show the grinding traces on the back surface of a semiconductor wafer. In consideration of this point, in the composition (III-1), the ratio of the content of the colorant (I) to the total content of all components other than the solvent (that is, the content of the colorant (I) in the film for forming a thermosetting protective film) is 0.1 It is preferable that they are mass % or more and 10 mass % or less, It is more preferable that they are 0.1 mass % or more and 7.5 mass % or less, It is especially preferable that they are 0.1 mass % or more and 5 mass % or less. When the said content of a coloring agent (I) is more than the said lower limit, the effect by using a coloring agent (I) is acquired more remarkably. Moreover, when the said content of a coloring agent (I) is below the said upper limit, the excessive fall of the light transmittance of the film for thermosetting protective film formation is suppressed.

[범용 첨가제(J)][Universal Additive (J)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 본 실시형태에 있어서의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서 범용 첨가제(J)를 함유하고 있어도 된다.Composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the general-purpose additive (J) within the range which does not impair the effect in this embodiment.

범용 첨가제(J)는 공지의 것이어도 되며, 목적에 따라 임의로 선택할 수 있고, 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 것으로는 예를 들면, 가소제, 대전 방지제, 산화 방지제, 게터링제 등을 들 수 있다.The general-purpose additive (J) may be a well-known one, can be arbitrarily selected according to the purpose, and is not particularly limited, and preferable examples thereof include a plasticizer, an antistatic agent, an antioxidant, a gettering agent, and the like.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 범용 첨가제(J)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of general-purpose additives (J) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름의 범용 첨가제(J)의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of the composition (III-1) and the general-purpose additive (J) of the film for thermosetting protective film formation is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the objective.

[용매][menstruum]

조성물(III-1)은 추가로 용매를 함유하는 것이 바람직하다. 용매를 함유하는 조성물(III-1)은 취급성이 양호해진다.It is preferable that the composition (III-1) further contains a solvent. The composition (III-1) containing a solvent becomes favorable in handling property.

상기 용매는 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 것으로는 예를 들면, 톨루엔, 자일렌 등의 탄화수소; 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 이소부틸알코올(2-메틸프로판-1-올), 1-부탄올 등의 알코올; 초산에틸 등의 에스테르; 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤; 테트라히드로푸란 등의 에테르; 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드(아미드 결합을 갖는 화합물) 등을 들 수 있다.Although the said solvent is not specifically limited, As a preferable thing, For example, Hydrocarbons, such as toluene and xylene; alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, isobutyl alcohol (2-methylpropan-1-ol), and 1-butanol; esters such as ethyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as tetrahydrofuran; and amides (compounds having an amide bond) such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone.

조성물(III-1)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents contained in the composition (III-1) may be one, or two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

조성물(III-1)이 함유하는 용매는 조성물(III-1) 중의 함유 성분을 보다 균일하게 혼합할 수 있는 점에서, 메틸에틸케톤 등인 것이 바람직하다.The solvent contained in the composition (III-1) is preferably methyl ethyl ketone or the like from the viewpoint of more uniformly mixing the components contained in the composition (III-1).

<<열경화성 보호막 형성용 조성물의 제조 방법>><<The manufacturing method of the composition for thermosetting protective film formation>>

조성물(III-1) 등의 열경화성 보호막 형성용 조성물은 이를 구성하기 위한 각 성분을 배합함으로써 얻어진다.The composition for forming a thermosetting protective film, such as composition (III-1), is obtained by mix|blending each component for constituting this.

각 성분의 배합시에 있어서의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않으며, 2종 이상의 성분을 동시에 첨가해도 된다.The order of addition at the time of mixing|blending each component is not specifically limited, You may add 2 or more types of components simultaneously.

용매를 사용하는 경우에는 용매를 용매 이외의 어느 배합 성분과 혼합하여 이 배합 성분을 미리 희석해 둠으로써 사용해도 되고, 용매 이외의 어느 배합 성분을 미리 희석해 두지 않고, 용매를 이들 배합 성분과 혼합함으로써 사용해도 된다.When a solvent is used, the solvent may be mixed with any compounding component other than the solvent and this compounding component may be used by diluting in advance, and the solvent may be mixed with these compounding components without diluting any compounding component other than the solvent in advance. You may use it by

배합시 각 성분을 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 교반자 또는 교반 날개 등을 회전시켜 혼합하는 방법; 믹서를 이용하여 혼합하는 방법; 초음파를 가하여 혼합하는 방법 등, 공지의 방법으로부터 적절히 선택하면 된다.A method of mixing each component at the time of mixing is not particularly limited, and a method of mixing by rotating a stirrer or a stirring blade; a method of mixing using a mixer; What is necessary is just to select suitably from well-known methods, such as the method of adding ultrasonic waves and mixing.

각 성분의 첨가 및 혼합시의 온도 및 시간은 각 배합 성분이 열화되지 않는 한 특별히 한정되지 않으며, 적절히 조절하면 되지만, 온도는 15℃ 이상 30℃ 이하인 것이 바람직하다.The temperature and time at the time of addition and mixing of each component are not particularly limited as long as each compounding component does not deteriorate, and may be appropriately adjusted, but the temperature is preferably 15°C or more and 30°C or less.

○ 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름○ Film for forming energy ray-curable protective film

에너지선 경화성 보호막 형성용 필름은 에너지선 경화성 성분(a)을 함유한다.The film for energy ray-curable protective film formation contains an energy-beam curable component (a).

에너지선 경화성 보호막 형성용 필름에 있어서, 에너지선 경화성 성분(a)은 미경화인 것이 바람직하고, 점착성을 갖는 것이 바람직하고, 미경화이며 또한 점착성을 갖는 것이 보다 바람직하다. 여기서, 「에너지선」 및 「에너지선 경화성」이란, 앞서 설명한 바와 같다.The film for energy ray-curable protective film formation WHEREIN: It is preferable that it is non-hardened, and, as for the energy ray-curable component (a), it is preferable to have adhesiveness, and it is more preferable that it is non-hardened and has adhesiveness. Here, "energy-beam" and "energy-beam sclerosis|hardenability" are as having demonstrated previously.

에너지선 경화성 보호막 형성용 필름은 1층(단층)만이어도 되며, 2층 이상의 복수층이어도 되고, 복수층인 경우, 이들 복수층은 서로 동일해도 상이해도 되고, 이들 복수층의 조합은 특별히 한정되지 않는다.The film for forming an energy ray-curable protective film may be only one layer (single layer), or may be a plurality of layers of two or more layers. does not

에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 두께는 1㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5㎛ 이상 75㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 5㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 두께가 상기 하한값 이상임으로써, 보호능이 보다 높은 보호막을 형성할 수 있다. 또한, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 두께가 상기 상한값 이하임으로써, 과잉 두께가 되는 것이 억제된다.It is preferable that they are 1 micrometer or more and 100 micrometers or less, as for the thickness of the film for energy ray-curable protective film formation, it is more preferable that they are 5 micrometers or more and 75 micrometers or less, It is especially preferable that they are 5 micrometers or more and 50 micrometers or less. When the thickness of the film for energy ray-curable protective film formation is more than the said lower limit, a protective film with a higher protective ability can be formed. Moreover, when the thickness of the film for energy ray-curable protective film formation is below the said upper limit, becoming excessive thickness is suppressed.

여기서, 「에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 두께」란, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름 전체의 두께를 의미하고, 예를 들면, 복수층으로 이루어지는 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 두께란, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름을 구성하는 모든 층의 합계의 두께를 의미한다. 한편, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 두께의 측정 방법으로는 예를 들면, 임의의 5개소에 있어서 접촉식 두께계를 이용하여 두께를 측정하고, 측정값의 평균을 산출하는 방법 등을 들 수 있다.Here, the "thickness of the film for energy ray-curable protective film formation" means the thickness of the whole film for energy ray-curable protective film formation, For example, the thickness of the film for energy ray-curable protective film formation which consists of multiple layers is an energy ray It means the thickness of the sum total of all the layers which comprise the film for curable protective film formation. On the other hand, as a method for measuring the thickness of the film for forming an energy ray-curable protective film, for example, a method of measuring the thickness using a contact thickness gauge at five arbitrary places, and calculating the average of the measured values, etc. are mentioned. have.

에너지선 경화성 보호막 형성용 필름을 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부하고 경화시켜 보호막을 형성할 때의 경화 조건은 보호막이 충분히 그 기능을 발휘하는 정도의 경화도가 되는 한 특별히 한정되지 않고, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 종류에 따라, 적절히 선택하면 된다.The curing conditions at the time of forming the protective film by affixing and curing the film for forming an energy ray-curable protective film on the back surface of the semiconductor wafer are not particularly limited as long as the protective film has a degree of hardening to the extent that the protective film sufficiently exhibits its function. What is necessary is just to select suitably according to the kind of film for use.

예를 들면, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 경화시에 있어서의 에너지선의 조도는 120mW/㎠ 이상 280mW/㎠ 이하인 것이 바람직하다. 그리고, 상기 경화시에 있어서의 에너지선의 광량은 200mJ/㎠ 이상 1000mJ/㎠ 이하인 것이 바람직하다.For example, it is preferable that the illuminances of the energy-beam at the time of hardening of the film for energy-beam curable protective film formation are 120 mW/cm<2> or more and 280 mW/cm<2> or less. And it is preferable that the light quantity of the energy ray at the time of the said hardening is 200 mJ/cm<2> or more and 1000 mJ/cm<2> or less.

<<에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물>><<A composition for forming an energy ray-curable protective film>>

에너지선 경화성 보호막 형성용 필름은 그 구성 재료를 함유하는 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물을 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 형성 대상면에 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 목적으로 하는 부위에 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름을 형성할 수 있다. 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물 중의 상온에서 기화하지 않는 성분끼리의 함유량의 비율은 통상 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 상기 성분끼리의 함유량의 비율과 동일해진다. 여기서, 「상온」이란, 앞서 설명한 바와 같다.The film for energy ray-curable protective film formation can be formed using the composition for energy ray-curable protective film formation containing the constituent material. For example, by coating the composition for forming an energy ray-curable protective film on the surface to be formed of the film for forming an energy ray-curable protective film, and drying if necessary, a film for forming an energy ray-curable protective film can be formed on the target site. . The ratio of content of components which do not vaporize at normal temperature in the composition for energy-beam curable protective film formation becomes the same as the ratio of content of the said components of the film for energy-beam curable protective film formation normally. Here, "room temperature" is as described above.

에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물의 도공은 예를 들면, 상술한 점착제 조성물의 도공의 경우와 동일한 방법으로 행할 수 있다.Coating of the composition for energy ray-curable protective film formation can be performed by the method similar to the case of coating of the above-mentioned adhesive composition, for example.

에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물의 건조 조건은 특별히 한정되지 않지만, 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물은 후술하는 용매를 함유하고 있는 경우, 가열 건조시키는 것이 바람직하고, 이 경우, 예를 들면, 70℃ 이상 130℃ 이하에서 10초 이상 5분 이하의 조건으로 건조시키는 것이 바람직하다.The drying conditions of the composition for forming an energy ray-curable protective film are not particularly limited, but when the composition for forming an energy ray-curable protective film contains a solvent to be described later, it is preferably heat-dried, and in this case, for example, 70° C. or higher It is preferable to dry under the conditions of 10 seconds or more and 5 minutes or less at 130° C. or less.

<에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물(IV-1)><Composition for energy ray-curable protective film formation (IV-1)>

에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물로는 예를 들면, 상기 에너지선 경화성 성분(a)을 함유하는 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물(IV-1)(본 명세서에 있어서는, 단순히 「조성물(IV-1)」로 약기하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.As the composition for forming an energy ray-curable protective film, for example, a composition (IV-1) for forming an energy ray-curable protective film containing the energy ray-curable component (a) (in this specification, simply “composition (IV-1)” ' may be abbreviated) and the like.

[에너지선 경화성 성분(a)][Energy-ray-curable component (a)]

에너지선 경화성 성분(a)은 에너지선의 조사에 의해 경화하는 성분이며, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름에 조막성이나 가요성 등을 부여함과 함께, 경화 후에 경질의 보호막을 형성하기 위한 성분이기도 하다.The energy ray-curable component (a) is a component that is cured by irradiation with an energy ray, and while imparting film formability and flexibility to the film for forming an energy ray-curable protective film, it is also a component for forming a hard protective film after curing. .

에너지선 경화성 성분(a)으로는 예를 들면, 에너지선 경화성기를 갖는 중량 평균 분자량이 80000 이상 2000000 이하의 중합체(a1) 및 에너지선 경화성기를 갖는 분자량이 100 이상 80000 이하의 화합물(a2)을 들 수 있다. 상기 중합체(a1)는 그 적어도 일부가 가교제에 의해 가교된 것이어도 되며, 가교되어 있지 않은 것이어도 된다.Examples of the energy ray-curable component (a) include a polymer (a1) having an energy ray-curable group and a weight average molecular weight of 80000 or more and 2000000 or less, and a compound (a2) having an energy ray-curable group and a molecular weight of 100 or more and 80000 or less. can The polymer (a1) may be one in which at least a part thereof is crosslinked with a crosslinking agent, or may not be crosslinked.

(에너지선 경화성기를 갖는 중량 평균 분자량이 80000 이상 2000000 이하의 중합체(a1))(Polymer (a1) having an energy ray-curable group and having a weight average molecular weight of 80000 or more and 2000000 or less)

에너지선 경화성기를 갖는 중량 평균 분자량이 80000 이상 2000000 이하의 중합체(a1)로는 예를 들면, 다른 화합물이 갖는 기와 반응 가능한 관능기를 갖는 아크릴계 중합체(a11)와, 상기 관능기와 반응하는 기 및 에너지선 경화성 이중 결합 등의 에너지선 경화성기를 갖는 에너지선 경화성 화합물(a12)이 반응하여 이루어지는 아크릴계 수지(a1-1)를 들 수 있다.Examples of the polymer (a1) having an energy ray-curable group and having a weight average molecular weight of 80000 or more and 2000000 or less include an acrylic polymer (a11) having a functional group capable of reacting with a group of other compounds, and a group reactive with the functional group and energy ray curability The acrylic resin (a1-1) formed by the energy-beam curable compound (a12) which has energy-beam curable groups, such as a double bond, reacts is mentioned.

다른 화합물이 갖는 기와 반응 가능한 상기 관능기로는 예를 들면, 수산기, 카르복시기, 아미노기, 치환 아미노기(아미노기의 1개 또는 2개의 수소 원자가 수소 원자 이외의 기로 치환되어 이루어지는 기), 에폭시기 등을 들 수 있다. 단, 반도체 웨이퍼나 반도체 칩 등의 회로의 부식을 방지한다는 점에서는 상기 관능기는 카르복시기 이외의 기인 것이 바람직하다.The functional group capable of reacting with the group of other compounds includes, for example, a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group, a substituted amino group (a group in which one or two hydrogen atoms of the amino group are substituted with groups other than hydrogen atoms), an epoxy group, and the like. . However, it is preferable that the said functional group is groups other than a carboxy group from the point of preventing corrosion of circuits, such as a semiconductor wafer and a semiconductor chip.

이들 중에서도, 상기 관능기는 수산기인 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the said functional group is a hydroxyl group.

·관능기를 갖는 아크릴계 중합체(a11)- Acrylic polymer having a functional group (a11)

상기 관능기를 갖는 아크릴계 중합체(a11)로는 예를 들면, 상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머와, 상기 관능기를 갖지 않는 아크릴계 모노머가 공중합하여 이루어지는 것을 들 수 있고, 이들 모노머 이외에 추가로 아크릴계 모노머 이외의 모노머(비아크릴계 모노머)가 공중합한 것이어도 된다.Examples of the acrylic polymer (a11) having the functional group include those obtained by copolymerization of an acrylic monomer having the functional group and an acrylic monomer not having the functional group, and in addition to these monomers, monomers other than the acrylic monomer (ratio acrylic monomer) may be copolymerized.

또한, 상기 아크릴계 중합체(a11)는 랜덤 공중합체여도 되며, 블록 공중합체여도 되며, 중합 방법에 대해서도 공지의 방법을 채용할 수 있다.In addition, the said acrylic polymer (a11) may be a random copolymer or a block copolymer may be sufficient as it, and a well-known method is employable also about the polymerization method.

상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머로는 예를 들면, 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 치환 아미노기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머 등을 들 수 있다.Examples of the acrylic monomer having a functional group include a hydroxyl group-containing monomer, a carboxyl group-containing monomer, an amino group-containing monomer, a substituted amino group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer.

상기 수산기 함유 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산히드록시메틸, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산3-히드록시프로필, (메타)아크릴산2-히드록시부틸, (메타)아크릴산3-히드록시부틸, (메타)아크릴산4-히드록시부틸 등의 (메타)아크릴산히드록시알킬; 비닐알코올, 알릴알코올 등의 비(메타)아크릴계 불포화 알코올((메타)아크릴로일 골격을 갖지 않는 불포화 알코올) 등을 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing monomer, for example, (meth) acrylate hydroxymethyl, (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth) acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth) acrylic acid 3-hydroxypropyl, (meth) ) hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate; Non-(meth)acrylic-type unsaturated alcohols (unsaturated alcohol which does not have a (meth)acryloyl skeleton), such as vinyl alcohol and allyl alcohol, etc. are mentioned.

상기 카르복시기 함유 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산, 크로톤산 등의 에틸렌성 불포화 모노카르복실산(에틸렌성 불포화 결합을 갖는 모노카르복실산); 푸마르산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산 등의 에틸렌성 불포화 디카르복실산(에틸렌성 불포화 결합을 갖는 디카르복실산); 상기 에틸렌성 불포화 디카르복실산의 무수물; 2-카르복시에틸메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴산카르복시알킬에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing monomer include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids (monocarboxylic acids having an ethylenically unsaturated bond) such as (meth)acrylic acid and crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acids (dicarboxylic acids having an ethylenically unsaturated bond) such as fumaric acid, itaconic acid, maleic acid, and citraconic acid; anhydrides of the ethylenically unsaturated dicarboxylic acids; (meth)acrylic acid carboxyalkyl esters, such as 2-carboxyethyl methacrylate, etc. are mentioned.

상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머는 수산기 함유 모노머가 바람직하다.As for the acryl-type monomer which has the said functional group, a hydroxyl-containing monomer is preferable.

상기 아크릴계 중합체(a11)를 구성하는 상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the acrylic monomers having the functional group constituting the acrylic polymer (a11) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 관능기를 갖지 않는 아크릴계 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산n-프로필, (메타)아크릴산이소프로필, (메타)아크릴산n-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산sec-부틸, (메타)아크릴산tert-부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산헵틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산n-노닐, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산운데실, (메타)아크릴산도데실((메타)아크릴산라우릴), (메타)아크릴산트리데실, (메타)아크릴산테트라데실((메타)아크릴산미리스틸), (메타)아크릴산펜타데실, (메타)아크릴산헥사데실((메타)아크릴산팔미틸), (메타)아크릴산헵타데실, (메타)아크릴산옥타데실((메타)아크릴산스테아릴) 등의 알킬에스테르를 구성하는 알킬기가, 탄소수가 1∼18의 사슬형 구조인 (메타)아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.As the acrylic monomer having no functional group, for example, (meth) methyl acrylate, (meth) ethyl acrylate, (meth) acrylate n-propyl, (meth) acrylate isopropyl, (meth) acrylate n-butyl, (meth) acrylate ) isobutyl acrylate, (meth) acrylate sec-butyl, (meth) acrylate tert-butyl, (meth) acrylate pentyl, (meth) acrylate hexyl, (meth) acrylate heptyl, (meth) acrylate 2-ethylhexyl, (meth) acrylate ) acrylate isooctyl, (meth) acrylic acid n-octyl, (meth) acrylic acid n-nonyl, (meth) acrylate isononyl, (meth) acrylate decyl, (meth) acrylate undecyl, (meth) acrylate dodecyl (( Lauryl (meth) acrylate), tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate (myristyl ((meth) acrylate), pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl acrylate (palmityl (meth) acrylate) , (meth)acrylic acid heptadecyl, (meth)acrylic acid octadecyl ((meth)acrylic acid stearyl (meth)acrylic acid alkyl ester, etc., in which the alkyl group constituting the alkyl ester has a chain structure having 1 to 18 carbon atoms can be heard

또한, 상기 관능기를 갖지 않는 아크릴계 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산메톡시메틸, (메타)아크릴산메톡시에틸, (메타)아크릴산에톡시메틸, (메타)아크릴산에톡시에틸 등의 알콕시알킬기 함유 (메타)아크릴산에스테르; (메타)아크릴산페닐 등의 (메타)아크릴산아릴에스테르 등을 포함하는 방향족기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르; 비가교성 (메타)아크릴아미드 및 그 유도체; (메타)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메타)아크릴산N,N-디메틸아미노프로필 등의 비가교성 3급 아미노기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 등도 들 수 있다.In addition, as an acryl-type monomer which does not have the said functional group, For example, alkoxyalkyl groups, such as (meth)acrylate methoxymethyl, (meth)acrylate methoxyethyl, (meth)acrylate ethoxymethyl, (meth)acrylate ethoxyethyl containing (meth)acrylic acid ester; (meth)acrylic acid esters having an aromatic group including (meth)acrylic acid aryl esters such as (meth)acrylic acid phenyl; non-crosslinkable (meth)acrylamide and its derivatives; (meth)acrylic acid ester etc. which have non-crosslinkable tertiary amino groups, such as (meth)acrylic-acid N,N- dimethylaminoethyl, (meth)acrylic-acid N,N- dimethylaminopropyl, etc. are mentioned.

상기 아크릴계 중합체(a11)를 구성하는 상기 관능기를 갖지 않는 아크릴계 모노머는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the acrylic monomers having no functional group constituting the acrylic polymer (a11) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 비아크릴계 모노머로는 예를 들면, 에틸렌, 노르보르넨 등의 올레핀; 초산비닐; 스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the non-acrylic monomer include olefins such as ethylene and norbornene; vinyl acetate; Styrene etc. are mentioned.

상기 아크릴계 중합체(a11)를 구성하는 상기 비아크릴계 모노머는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the non-acrylic monomers constituting the acrylic polymer (a11) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 아크릴계 중합체(a11)에 있어서 이를 구성하는 구성 단위의 전체량에 대한 상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머로부터 유도된 구성 단위의 양의 비율(함유량)은 0.1질량% 이상 50질량% 이하인 것이 바람직하고, 1질량% 이상 40질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 3질량% 이상 30질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 비율이 이러한 범위임으로써, 상기 아크릴계 중합체(a11)와 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)의 공중합에 의해 얻어진 상기 아크릴계 수지(a1-1)에 있어서 에너지선 경화성기의 함유량은 보호막의 경화의 정도를 바람직한 범위로 용이하게 조절 가능해진다.In the acrylic polymer (a11), the ratio (content) of the amount of the structural units derived from the acrylic monomer having the functional group to the total amount of the structural units constituting the acrylic polymer (a11) is preferably 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, 1 It is more preferable that they are mass % or more and 40 mass % or less, and it is especially preferable that they are 3 mass % or more and 30 mass % or less. When the ratio is within this range, the content of the energy ray curable group in the acrylic resin (a1-1) obtained by copolymerization of the acrylic polymer (a11) and the energy ray curable compound (a12) is the degree of curing of the protective film. can be easily adjusted to a desired range.

상기 아크릴계 수지(a1-1)를 구성하는 상기 아크릴계 중합체(a11)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the acrylic polymers (a11) constituting the acrylic resin (a1-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

조성물(IV-1)에 있어서 용매 이외의 성분의 총 함유량에 대한 아크릴계 수지(a1-1)의 함유량의 비율(즉, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 아크릴계 수지(a1-1)의 함유량)은 1질량% 이상 70질량% 이하인 것이 바람직하고, 5질량% 이상 60질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 10질량% 이상 50질량% 이하인 것이 특히 바람직하다.The ratio of the content of the acrylic resin (a1-1) to the total content of components other than the solvent in the composition (IV-1) (that is, the content of the acrylic resin (a1-1) in the film for forming an energy ray-curable protective film) is It is preferable that they are 1 mass % or more and 70 mass % or less, It is more preferable that they are 5 mass % or more and 60 mass % or less, It is especially preferable that they are 10 mass % or more and 50 mass % or less.

·에너지선 경화성 화합물(a12)・Energy-ray-curable compound (a12)

상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 상기 아크릴계 중합체(a11)가 갖는 관능기와 반응 가능한 기로서 이소시아네이트기, 에폭시기 및 카르복시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 갖는 것이 바람직하고, 상기 기로서 이소시아네이트기를 갖는 것이 보다 바람직하다. 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 예를 들면, 상기 기로서 이소시아네이트기를 갖는 경우, 이 이소시아네이트기가 상기 관능기로서 수산기를 갖는 아크릴계 중합체(a11)의 이 수산기와 용이하게 반응한다.The energy ray-curable compound (a12) preferably has one or more selected from the group consisting of an isocyanate group, an epoxy group and a carboxyl group as a group capable of reacting with the functional group of the acrylic polymer (a11), and as the group It is more preferable to have an isocyanate group. When the energy ray-curable compound (a12) has an isocyanate group as the group, the isocyanate group easily reacts with the hydroxyl group of the acrylic polymer (a11) having a hydroxyl group as the functional group.

상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 1분자 중에 상기 에너지선 경화성기를 1개 이상 5개 이하 갖는 것이 바람직하고, 1개 이상 3개 이하 갖는 것이 보다 바람직하다.It is preferable to have 1 or more and 5 or less of the said energy ray-curable group in 1 molecule, and, as for the said energy-beam curable compound (a12), it is more preferable to have 1 or more and 3 or less.

상기 에너지선 경화성 화합물(a12)로는 예를 들면, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 메타-이소프로페닐-α,α-디메틸벤질이소시아네이트, 메타크릴로일이소시아네이트, 알릴이소시아네이트, 1,1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트;Examples of the energy ray-curable compound (a12) include 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate, methacryloyl isocyanate, allyl isocyanate, 1,1- (bisacryloyloxymethyl)ethyl isocyanate;

디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물;Acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction of a diisocyanate compound or a polyisocyanate compound, and hydroxyethyl (meth)acrylate;

디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 폴리올 화합물과 히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.The acryloyl monoisocyanate compound etc. which are obtained by reaction of a diisocyanate compound or a polyisocyanate compound, a polyol compound, and hydroxyethyl (meth)acrylate are mentioned.

이들 중에서도, 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트인 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the said energy-beam-curable compound (a12) is 2-methacryloyloxyethyl isocyanate.

상기 아크릴계 수지(a1-1)를 구성하는 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the energy ray-curable compounds (a12) constituting the acrylic resin (a1-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 아크릴계 수지(a1-1)에 있어서 상기 아크릴계 중합체(a11)에서 유래하는 상기 관능기의 함유량에 대한 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)에서 유래하는 에너지선 경화성기의 함유량의 비율은 20몰% 이상 120몰% 이하인 것이 바람직하고, 35몰% 이상 100몰% 이하인 것이 보다 바람직하고, 50몰% 이상 100몰% 이하인 것이 특히 바람직하다. 상기 함유량의 비율이 이러한 범위임으로써, 경화 후의 보호막의 접착력이 보다 커진다. 한편, 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)이 1관능(상기 기를 1분자 중에 1개 갖는) 화합물인 경우에는 상기 함유량의 비율의 상한값은 100몰%가 되지만, 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)이 다관능(상기 기를 1분자 중에 2개 이상 갖는) 화합물인 경우에는 상기 함유량의 비율의 상한값은 100몰%를 초과할 수 있다.In the acrylic resin (a1-1), the ratio of the content of the energy ray curable group derived from the energy ray curable compound (a12) to the content of the functional group derived from the acrylic polymer (a11) is 20 mol% or more 120 It is preferable that they are mol% or less, It is more preferable that they are 35 mol% or more and 100 mol% or less, It is especially preferable that they are 50 mol% or more and 100 mol% or less. When the ratio of the content is within such a range, the adhesive force of the protective film after curing becomes larger. On the other hand, when the energy ray-curable compound (a12) is a monofunctional compound (having one group in one molecule), the upper limit of the content ratio is 100 mol%, but the energy ray-curable compound (a12) is In the case of a functional compound (having two or more groups in one molecule), the upper limit of the content ratio may exceed 100 mol%.

상기 중합체(a1)의 중량 평균 분자량(Mw)은 100000 이상 2000000 이하인 것이 바람직하고, 300000 이상 1500000 이하인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that they are 100000 or more and 2000000 or less, and, as for the weight average molecular weight (Mw) of the said polymer (a1), it is more preferable that they are 300000 or more and 1500000 or less.

여기서, 「중량 평균 분자량」이란, 앞서 설명한 바와 같다.Here, "weight average molecular weight" is as having demonstrated previously.

상기 중합체(a1)가 그 적어도 일부가 가교제(f)에 의해 가교된 것인 경우, 상기 중합체(a1)는 상기 아크릴계 중합체(a11)를 구성하는 것으로서 설명한, 상술한 모노머의 어느 것에도 해당되지 않고, 또한 가교제와 반응하는 기를 갖는 모노머가 중합하여 상기 가교제와 반응하는 기에 있어서 가교된 것이어도 되고, 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)에서 유래하는 상기 관능기와 반응하는 기에 있어서 가교된 것이어도 된다.When the polymer (a1) is at least partly crosslinked with the crosslinking agent (f), the polymer (a1) does not correspond to any of the above-mentioned monomers described as constituting the acrylic polymer (a11). Further, a monomer having a group reactive with the crosslinking agent is polymerized and may be crosslinked in a group reactive with the crosslinking agent, or may be crosslinked in a group reactive with the functional group derived from the energy ray-curable compound (a12).

조성물(IV-1) 및 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 상기 중합체(a1)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the polymer (a1) contained in the composition (IV-1) and the film for forming an energy ray-curable protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

(에너지선 경화성기를 갖는 분자량이 100 이상 80000 이하의 화합물(a2))(Molecular weight 100 or more and 80000 or less compound (a2) which has an energy ray-curable group)

에너지선 경화성기를 갖는 분자량이 100 이상 80000 이하의 화합물(a2)이 갖는 에너지선 경화성기로는 에너지선 경화성 이중 결합을 포함하는 기를 들 수 있고, 바람직한 것으로는 (메타)아크릴로일기, 비닐기 등을 들 수 있다.Examples of the energy-ray-curable group that the compound (a2) having a molecular weight of 100 or more and 80000 or less has an energy-ray-curable group includes a group containing an energy-ray-curable double bond, and preferably a (meth)acryloyl group, a vinyl group, etc. can be heard

상기 화합물(a2)은 상기 조건을 만족하는 것이면, 특별히 한정되지 않지만, 에너지선 경화성기를 갖는 저분자량 화합물, 에너지선 경화성기를 갖는 에폭시 수지, 에너지선 경화성기를 갖는 페놀 수지 등을 들 수 있다.The compound (a2) is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions. Examples of the compound (a2) include a low molecular weight compound having an energy ray curable group, an epoxy resin having an energy ray curable group, and a phenol resin having an energy ray curable group.

상기 화합물(a2) 중 에너지선 경화성기를 갖는 저분자량 화합물로는 예를 들면, 다관능 모노머 또는 올리고머 등을 들 수 있고, (메타)아크릴로일기를 갖는 아크릴레이트계 화합물이 바람직하다.Examples of the low molecular weight compound having an energy ray-curable group among the compound (a2) include a polyfunctional monomer or an oligomer, and an acrylate-based compound having a (meth)acryloyl group is preferable.

상기 아크릴레이트계 화합물로는 예를 들면, 2-히드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로폭시화 에톡시화 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스[4-((메타)아크릴옥시폴리에톡시)페닐]프로판, 에톡시화 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스[4-((메타)아크릴옥시디에톡시)페닐]프로판, 9,9-비스[4-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌, 2,2-비스[4-((메타)아크릴옥시폴리프로폭시)페닐]프로판, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스[4-((메타)아크릴옥시에톡시)페닐]프로판, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 에톡시화 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-1,3-디(메타)아크릴옥시프로판 등의 2관능 (메타)아크릴레이트;Examples of the acrylate-based compound include 2-hydroxy-3-(meth)acryloyloxypropyl methacrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A di(meth). Acrylate, 2,2-bis[4-((meth)acryloxypolyethoxy)phenyl]propane, ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, 2,2-bis[4-((meth)acryloxy diethoxy)phenyl]propane, 9,9-bis[4-(2-(meth)acryloyloxyethoxy)phenyl]fluorene, 2,2-bis[4-((meth)acryloxypolypropoxy) ) Phenyl] propane, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, polytetramethylene glycol di(meth)acrylate, ethylene glycol di (meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, 2,2-bis[4-((meth)acryloxyethoxy)phenyl]propane, neopentylglycol bifunctional (meth)acrylates such as di(meth)acrylate, ethoxylated polypropylene glycol di(meth)acrylate, and 2-hydroxy-1,3-di(meth)acryloxypropane;

트리스(2-(메타)아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, ε-카프로락톤 변성 트리스-(2-(메타)아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 에톡시화 글리세린트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 에톡시화 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨폴리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 다관능 (메타)아크릴레이트;Tris(2-(meth)acryloxyethyl)isocyanurate, ε-caprolactone-modified tris-(2-(meth)acryloxyethyl)isocyanurate, ethoxylated glycerin tri(meth)acrylate, pentaerythritol Tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, ethoxylated pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipenta polyfunctional (meth)acrylates such as erythritol poly(meth)acrylate and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate;

우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머 등의 다관능 (메타)아크릴레이트 올리고머 등을 들 수 있다.Polyfunctional (meth)acrylate oligomers, such as a urethane (meth)acrylate oligomer, etc. are mentioned.

상기 화합물(a2) 중 에너지선 경화성기를 갖는 에폭시 수지, 에너지선 경화성기를 갖는 페놀 수지로는 예를 들면, 「일본 공개특허공보 2013-194102호」의 단락 0043 등에 기재되어 있는 것을 사용할 수 있다. 이러한 수지는 후술하는 열경화성 성분을 구성하는 수지에도 해당되지만, 본 실시형태에 있어서는 상기 화합물(a2)로서 취급한다.As an epoxy resin which has an energy-beam curable group among the said compound (a2), and a phenol resin which has an energy-beam curable group, what is described in Paragraph 0043 of "Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-194102" etc. can be used, for example. Although this resin also corresponds to resin which comprises the thermosetting component mentioned later, it handles as said compound (a2) in this embodiment.

상기 화합물(a2)은 중량 평균 분자량이 100 이상 30000 이하인 것이 바람직하고, 300 이상 10000 이하인 것이 보다 바람직하다. 여기서, 「중량 평균 분자량」이란, 앞서 설명한 바와 같다.It is preferable that weight average molecular weights are 100 or more and 30000 or less, and, as for the said compound (a2), it is more preferable that they are 300 or more and 10000 or less. Here, "weight average molecular weight" is as having demonstrated previously.

조성물(IV-1) 및 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 상기 화합물(a2)은 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the compound (a2) contained in the composition (IV-1) and the film for forming an energy ray-curable protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

[에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)][Polymer (b) having no energy ray-curable group]

조성물(IV-1) 및 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름은 상기 에너지선 경화성 성분(a)으로서 상기 화합물(a2)을 함유하는 경우, 추가로 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)도 함유하는 것이 바람직하다.When the composition (IV-1) and the film for forming an energy ray-curable protective film contain the compound (a2) as the energy ray-curable component (a), the composition (IV-1) also contains a polymer (b) having no energy ray-curable group. desirable.

상기 중합체(b)는 그 적어도 일부가 가교제에 의해 가교된 것이어도 되고, 가교되어 있지 않은 것이어도 된다.The polymer (b) may be crosslinked at least partially by a crosslinking agent, or may not be crosslinked.

에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)로는 예를 들면, 아크릴계 중합체, 페녹시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르, 고무계 수지, 아크릴우레탄 수지 등을 들 수 있다.As a polymer (b) which does not have an energy-ray-curable group, an acrylic polymer, a phenoxy resin, a urethane resin, polyester, a rubber-type resin, an acrylic urethane resin etc. are mentioned, for example.

이들 중에서도, 상기 중합체(b)는 아크릴계 중합체(이하, 「아크릴계 중합체(b-1)」로 약기하는 경우가 있다)인 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the said polymer (b) is an acrylic polymer (Hereinafter, it may abbreviate as "acrylic polymer (b-1)").

아크릴계 중합체(b-1)는 공지의 것이어도 되며, 예를 들면, 1종의 아크릴계 모노머의 단독 중합체여도 되고, 2종 이상의 아크릴계 모노머의 공중합체여도 되며, 1종 또는 2종 이상의 아크릴계 모노머와 1종 또는 2종 이상의 아크릴계 모노머 이외의 모노머(비아크릴계 모노머)의 공중합체여도 된다.The acrylic polymer (b-1) may be a known one, for example, may be a homopolymer of one type of acrylic monomer, may be a copolymer of two or more types of acrylic monomers, or may be one type or two or more types of acrylic monomer and one type. The type or copolymer of monomers (non-acrylic monomers) other than 2 or more types of acryl-type monomers may be sufficient.

아크릴계 중합체(b-1)를 구성하는 상기 아크릴계 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산알킬에스테르, 고리형 골격을 갖는 (메타)아크릴산에스테르, 글리시딜기 함유 (메타)아크릴산에스테르, 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르, 치환 아미노기 함유 (메타)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다. 여기서, 「치환 아미노기」란, 앞서 설명한 바와 같다.As the acrylic monomer constituting the acrylic polymer (b-1), for example, (meth)acrylic acid alkyl ester, (meth)acrylic acid ester having a cyclic skeleton, glycidyl group-containing (meth)acrylic acid ester, hydroxyl group-containing ( and meth)acrylic acid esters and substituted amino group-containing (meth)acrylic acid esters. Here, the "substituted amino group" is as described above.

상기 (메타)아크릴산알킬에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산n-프로필, (메타)아크릴산이소프로필, (메타)아크릴산n-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산sec-부틸, (메타)아크릴산tert-부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산헵틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산n-노닐, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산운데실, (메타)아크릴산도데실((메타)아크릴산라우릴), (메타)아크릴산트리데실, (메타)아크릴산테트라데실((메타)아크릴산미리스틸), (메타)아크릴산펜타데실, (메타)아크릴산헥사데실((메타)아크릴산팔미틸), (메타)아크릴산헵타데실, (메타)아크릴산옥타데실((메타)아크릴산스테아릴) 등의 알킬에스테르를 구성하는 알킬기가, 탄소수가 1∼18의 사슬형 구조인 (메타)아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester include (meth)methyl acrylate, (meth)ethyl acrylate, (meth)acrylate n-propyl, (meth)acrylate isopropyl, (meth)acrylate n-butyl, (meth)acrylate ) isobutyl acrylate, (meth) acrylate sec-butyl, (meth) acrylate tert-butyl, (meth) acrylate pentyl, (meth) acrylate hexyl, (meth) acrylate heptyl, (meth) acrylate 2-ethylhexyl, (meth) acrylate ) acrylate isooctyl, (meth) acrylic acid n-octyl, (meth) acrylic acid n-nonyl, (meth) acrylate isononyl, (meth) acrylate decyl, (meth) acrylate undecyl, (meth) acrylate dodecyl (( Lauryl (meth) acrylate), tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate (myristyl ((meth) acrylate), pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl acrylate (palmityl (meth) acrylate) , (meth)acrylic acid heptadecyl, (meth)acrylic acid octadecyl ((meth)acrylic acid stearyl (meth)acrylic acid alkyl ester, etc., in which the alkyl group constituting the alkyl ester has a chain structure having 1 to 18 carbon atoms can be heard

상기 고리형 골격을 갖는 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산이소보르닐, (메타)아크릴산디시클로펜타닐 등의 (메타)아크릴산시클로알킬에스테르;Examples of the (meth)acrylic acid ester having a cyclic skeleton include (meth)acrylic acid cycloalkyl esters such as (meth)acrylic acid isobornyl and (meth)acrylic acid dicyclopentanyl;

(메타)아크릴산벤질 등의 (메타)아크릴산아랄킬에스테르;(meth)acrylic acid aralkyl esters, such as (meth)acrylic acid benzyl;

(메타)아크릴산디시클로펜테닐에스테르 등의 (메타)아크릴산시클로알케닐에스테르;(meth)acrylic acid cycloalkenyl esters such as (meth)acrylic acid dicyclopentenyl ester;

(메타)아크릴산디시클로펜테닐옥시에틸에스테르 등의 (메타)아크릴산시클로알케닐옥시알킬에스테르 등을 들 수 있다.(meth)acrylic acid cycloalkenyloxyalkyl esters, such as (meth)acrylic-acid dicyclopentenyloxyethyl ester, etc. are mentioned.

상기 글리시딜기 함유 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산글리시딜 등을 들 수 있다.As said glycidyl group containing (meth)acrylic acid ester, (meth)acrylic acid glycidyl etc. are mentioned, for example.

상기 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산히드록시메틸, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산3-히드록시프로필, (메타)아크릴산2-히드록시부틸, (메타)아크릴산3-히드록시부틸, (메타)아크릴산4-히드록시부틸 등을 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester, for example, (meth)acrylic acid hydroxymethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxy propyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxybutyl, etc. are mentioned.

상기 치환 아미노기 함유 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산N-메틸아미노에틸 등을 들 수 있다.As said substituted amino-group containing (meth)acrylic acid ester, (meth)acrylic-acid N-methylaminoethyl etc. are mentioned, for example.

아크릴계 중합체(b-1)를 구성하는 상기 비아크릴계 모노머로는 예를 들면, 에틸렌, 노르보르넨 등의 올레핀; 초산비닐; 스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the non-acrylic monomer constituting the acrylic polymer (b-1) include olefins such as ethylene and norbornene; vinyl acetate; Styrene etc. are mentioned.

적어도 일부가 가교제에 의해 가교된 상기 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)로는 예를 들면, 상기 중합체(b) 중의 반응성 관능기가 가교제와 반응한 것을 들 수 있다.Examples of the polymer (b) that do not have the energy ray-curable group at least partially crosslinked with the crosslinking agent include those in which the reactive functional group in the polymer (b) reacted with the crosslinking agent.

상기 반응성 관능기는 가교제의 종류 등에 따라 적절히 선택하면 되며, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 가교제가 폴리이소시아네이트 화합물인 경우에는 상기 반응성 관능기로는 수산기, 카르복시기, 아미노기 등을 들 수 있으며, 이들 중에서도, 이소시아네이트기와의 반응성이 높은 수산기가 바람직하다. 또한, 가교제가 에폭시계 화합물인 경우에는 상기 반응성 관능기로는 카르복시기, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있으며, 이들 중에서도 에폭시기와의 반응성이 높은 카르복시기가 바람직하다. 단, 반도체 웨이퍼나 반도체 칩의 회로의 부식을 방지한다는 점에서는 상기 반응성 관능기는 카르복시기 이외의 기인 것이 바람직하다.The reactive functional group may be appropriately selected according to the type of the crosslinking agent and the like, and is not particularly limited. For example, when a crosslinking agent is a polyisocyanate compound, a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group etc. are mentioned as said reactive functional group, Among these, a hydroxyl group with high reactivity with an isocyanate group is preferable. In addition, when the crosslinking agent is an epoxy compound, the reactive functional group includes a carboxy group, an amino group, an amide group, and the like, and among these, a carboxy group having high reactivity with an epoxy group is preferable. However, it is preferable that the said reactive functional group is a group other than a carboxy group from the point of preventing corrosion of the circuit of a semiconductor wafer or a semiconductor chip.

상기 반응성 관능기를 갖는 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)로는 예를 들면, 적어도 상기 반응성 관능기를 갖는 모노머를 중합시켜 얻어진 것을 들 수 있다. 아크릴계 중합체(b-1)의 경우이면, 이를 구성하는 모노머로서 든, 상기 아크릴계 모노머 및 비아크릴계 모노머 중 어느 한쪽 또는 양쪽으로서 상기 반응성 관능기를 갖는 것을 사용하면 된다. 예를 들면, 반응성 관능기로서 수산기를 갖는 상기 중합체(b)로는 예를 들면, 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르를 중합하여 얻어진 것을 들 수 있고, 이 이외에도 앞서 든 상기 아크릴계 모노머 또는 비아크릴계 모노머에 있어서 1개 또는 2개 이상의 수소 원자가 상기 반응성 관능기로 치환되어 이루어지는 모노머를 중합하여 얻어진 것을 들 수 있다.As a polymer (b) which does not have an energy-beam curable group which has the said reactive functional group, what was obtained by polymerizing the monomer which has at least the said reactive functional group is mentioned, for example. In the case of the acrylic polymer (b-1), one or both of the acrylic monomer and the non-acrylic monomer may be used as a monomer constituting the acrylic polymer (b-1) having the reactive functional group. For example, the polymer (b) having a hydroxyl group as a reactive functional group includes, for example, one obtained by polymerization of a hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester. and those obtained by polymerizing a monomer in which one or two or more hydrogen atoms are substituted with the above-mentioned reactive functional groups.

반응성 관능기를 갖는 상기 중합체(b)에 있어서 이를 구성하는 구성 단위의 전체량에 대한 반응성 관능기를 갖는 모노머로부터 유도된 구성 단위의 양의 비율(함유량)은 1질량% 이상 20질량% 이하인 것이 바람직하고, 2질량% 이상 10질량% 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기 비율이 이러한 범위임으로써, 상기 중합체(b)에 있어서 가교의 정도가 보다 바람직한 범위가 된다.In the polymer (b) having a reactive functional group, the ratio (content) of the amount of structural units derived from a monomer having a reactive functional group to the total amount of structural units constituting the same is preferably 1% by mass or more and 20% by mass or less, , it is more preferable that they are 2 mass % or more and 10 mass % or less. When the ratio is in such a range, the degree of crosslinking in the polymer (b) becomes a more preferable range.

에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)의 중량 평균 분자량(Mw)은 조성물(IV-1)의 조막성이 보다 양호해지는 점에서, 10000 이상 2000000 이하인 것이 바람직하고, 100000 이상 1500000 이하인 것이 보다 바람직하다. 여기서, 「중량 평균 분자량」이란, 앞서 설명한 바와 같다.The weight average molecular weight (Mw) of the polymer (b) having no energy ray-curable group is preferably 10000 or more and 2000000 or less, and more preferably 100000 or more and 1500000 or less, from the viewpoint of more favorable film-forming properties of the composition (IV-1). . Here, "weight average molecular weight" is as having demonstrated previously.

조성물(IV-1) 및 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)는 1종만이어도 되고, 2종 이상이어도 되며, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The composition (IV-1) and the polymer (b) having no energy ray-curable group contained in the film for forming an energy ray-curable protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, the combinations and ratios thereof can be chosen arbitrarily.

조성물(IV-1)로는 상기 중합체(a1) 및 상기 화합물(a2) 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하는 것을 들 수 있다. 그리고, 조성물(IV-1)은 상기 화합물(a2)을 함유하는 경우, 추가로 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)도 함유하는 것이 바람직하고, 이 경우, 추가로 상기 (a1)을 함유하는 것도 바람직하다. 또한, 조성물(IV-1)은 상기 화합물(a2)을 함유하지 않고, 상기 중합체(a1) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)를 함께 함유하고 있어도 된다.Examples of the composition (IV-1) include those containing either or both of the polymer (a1) and the compound (a2). In addition, when the composition (IV-1) contains the compound (a2), it is preferable to further contain the polymer (b) having no energy ray-curable group. In this case, the composition (a1) is further contained. It is also preferable Moreover, the composition (IV-1) does not contain the said compound (a2), and may contain the said polymer (a1) and the polymer (b) which does not have an energy-ray-curable group together.

조성물(IV-1)이 상기 중합체(a1), 상기 화합물(a2) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)를 함유하는 경우, 조성물(IV-1)에 있어서 상기 화합물(a2)의 함유량은 상기 중합체(a1) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)의 총 함유량 100질량부에 대해 10질량부 이상 400질량부 이하인 것이 바람직하고, 30질량부 이상 350질량부 이하인 것이 보다 바람직하다.When the composition (IV-1) contains the polymer (a1), the compound (a2), and the polymer (b) having no energy ray-curable group, the content of the compound (a2) in the composition (IV-1) is It is preferable that they are 10 mass parts or more and 400 mass parts or less with respect to 100 mass parts of total content of the said polymer (a1) and the polymer (b) which does not have an energy-beam curable group, It is more preferable that they are 30 mass parts or more and 350 mass parts or less.

조성물(IV-1)에 있어서 용매 이외의 성분의 총 함유량에 대한 상기 에너지선 경화성 성분(a) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)의 합계 함유량의 비율(즉, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 상기 에너지선 경화성 성분(a) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)의 합계 함유량)은 5질량% 이상 90질량% 이하인 것이 바람직하고, 10질량% 이상 80질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 20질량% 이상 70질량% 이하인 것이 특히 바람직하다. 에너지선 경화성 성분의 함유량의 상기 비율이 이러한 범위임으로써, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 에너지선 경화성이 보다 양호해진다.The ratio of the total content of the energy ray-curable component (a) and the polymer (b) having no energy ray-curable group to the total content of components other than the solvent in the composition (IV-1) (that is, for energy ray-curable protective film formation) The total content of the energy ray-curable component (a) and the polymer (b) not having an energy ray-curable group) of the film is preferably 5% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, It is especially preferable that they are 20 mass % or more and 70 mass % or less. When the said ratio of content of an energy-beam sclerosing|hardenable component is such a range, the energy-beam sclerosis|hardenability of the film for energy-beam curable protective film formation becomes more favorable.

조성물(IV-1)은 상기 에너지선 경화성 성분 이외에 목적에 따라 열경화성 성분, 충전재, 커플링제, 가교제, 광중합 개시제, 착색제 및 범용 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 함유하고 있어도 된다. 예를 들면, 상기 에너지선 경화성 성분 및 열경화성 성분을 함유하는 조성물(IV-1)을 사용함으로써, 형성되는 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름은 가열에 의해 피착체에 대한 접착력이 향상되고, 이 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름으로부터 형성된 보호막의 강도도 향상된다.The composition (IV-1) may contain one or two or more selected from the group consisting of a thermosetting component, a filler, a coupling agent, a crosslinking agent, a photoinitiator, a colorant, and a general-purpose additive, depending on the purpose in addition to the above energy ray-curable component. . For example, by using the composition (IV-1) containing the energy ray-curable component and the thermosetting component, the film for forming an energy ray-curable protective film has improved adhesion to an adherend by heating, and this energy ray The strength of the protective film formed from the film for curable protective film formation also improves.

조성물(IV-1)에 있어서의 상기 열경화성 성분, 충전재, 커플링제, 가교제, 광중합 개시제, 착색제 및 범용 첨가제로는 각각 조성물(III-1)에 있어서의 열경화성 성분(B), 충전재(D), 커플링제(E), 가교제(F), 광중합 개시제(H), 착색제(I) 및 범용 첨가제(J)와 동일한 것을 들 수 있다.As the thermosetting component, filler, coupling agent, crosslinking agent, photoinitiator, colorant and general-purpose additive in the composition (IV-1), the thermosetting component (B) in the composition (III-1), the filler (D), The same thing as a coupling agent (E), a crosslinking agent (F), a photoinitiator (H), a coloring agent (I), and a general-purpose additive (J) is mentioned.

조성물(IV-1)에 있어서 상기 열경화성 성분, 충전재, 커플링제, 가교제, 광중합 개시제, 착색제 및 범용 첨가제는 각각 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 되며, 2종 이상을 병용하는 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.In the composition (IV-1), the thermosetting component, the filler, the coupling agent, the crosslinking agent, the photopolymerization initiator, the colorant, and the general-purpose additive may each be used alone, or in combination of two or more, or in combination of two or more. In this case, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected.

조성물(IV-1)에 있어서의 상기 열경화성 성분, 충전재, 커플링제, 가교제, 광중합 개시제, 착색제 및 범용 첨가제의 함유량은 목적에 따라 적절히 조절하면 되며, 특별히 한정되지 않는다.Content of the said thermosetting component, a filler, a coupling agent, a crosslinking agent, a photoinitiator, a coloring agent, and a general-purpose additive in composition (IV-1) may just adjust suitably according to the objective, and is not specifically limited.

조성물(IV-1)은 희석에 의해 그 취급성이 향상하는 점에서, 추가로 용매를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the composition (IV-1) further contains a solvent from the viewpoint of improving the handleability by dilution.

조성물(IV-1)이 함유하는 용매로는 예를 들면, 조성물(III-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the solvent contained in the composition (IV-1) include the same solvent as the solvent in the composition (III-1).

조성물(IV-1)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 된다.The number of solvents which the composition (IV-1) contains may be one, and 2 or more types may be sufficient as them.

<<에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물의 제조 방법>><<The manufacturing method of the composition for energy-beam-curable protective film formation>>

조성물(IV-1) 등의 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물은 이를 구성하기 위한 각 성분을 배합함으로써 얻어진다.The composition for forming an energy ray-curable protective film, such as composition (IV-1), is obtained by mix|blending each component for constituting this.

각 성분의 배합시에 있어서의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않으며, 2종 이상의 성분을 동시에 첨가해도 된다.The order of addition at the time of mixing|blending each component is not specifically limited, You may add 2 or more types of components simultaneously.

용매를 사용하는 경우에는 용매를 용매 이외의 어느 배합 성분과 혼합하여 이 배합 성분을 미리 희석해 둠으로써 사용해도 되고, 용매 이외의 어느 배합 성분을 미리 희석해 두지 않고, 용매를 이들 배합 성분과 혼합함으로써 사용해도 된다.When a solvent is used, the solvent may be mixed with any compounding component other than the solvent and this compounding component may be used by diluting in advance, and the solvent may be mixed with these compounding components without diluting any compounding component other than the solvent in advance. You may use it by

배합시 각 성분을 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 교반자 또는 교반 날개 등을 회전시켜 혼합하는 방법; 믹서를 이용하여 혼합하는 방법; 초음파를 가하여 혼합하는 방법 등, 공지의 방법으로부터 적절히 선택하면 된다.A method of mixing each component at the time of mixing is not particularly limited, and a method of mixing by rotating a stirrer or a stirring blade; a method of mixing using a mixer; What is necessary is just to select suitably from well-known methods, such as the method of adding ultrasonic waves and mixing.

각 성분의 첨가 및 혼합시의 온도 및 시간은 각 배합 성분이 열화되지 않는 한 특별히 한정되지 않으며, 적절히 조절하면 되지만, 온도는 15℃ 이상 30℃인 것이 바람직하다.The temperature and time at the time of addition and mixing of each component are not particularly limited as long as each compounding component does not deteriorate, and may be appropriately adjusted, but the temperature is preferably 15°C or more and 30°C.

○ 비경화성 보호막 형성용 필름○ Film for forming non-curable protective film

바람직한 비경화성 보호막 형성용 필름으로는 예를 들면, 비경화성 성분(c)을 함유한다. 비경화성 보호막 형성용 필름에 있어서, 비경화성 성분(c)은 경화성을 갖지 않고, 지지 시트에 대한 점착성 및 반도체 웨이퍼 또는 칩을 보호하기 위해 적당한 경도를 갖는 것이 바람직하다. 여기서, 「비경화성」이란, 앞서 설명한 바와 같다.A non-hardening|hardenable component (c) is contained as a preferable film for non-hardening protective film formation, for example. In the film for forming a non-curable protective film, it is preferable that the non-curable component (c) has no curability and has an appropriate hardness in order to protect the adhesion to the support sheet and the semiconductor wafer or chip. Here, "non-hardening" is as described above.

비경화성 보호막 형성용 필름은 1층(단층)만이어도 되며, 2층 이상의 복수층이어도 되고, 복수층인 경우, 이들 복수층은 서로 동일해도 상이해도 되고, 이들 복수층의 조합은 특별히 한정되지 않는다.One layer (single layer) may be sufficient as the film for non-curable protective film formation, and two or more layers may be sufficient as multiple layers, In the case of multiple layers, these multiple layers may be mutually the same or different, and the combination of these multiple layers is not specifically limited. .

비경화성 보호막 형성용 필름의 두께는 1㎛ 이상 100㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5㎛ 이상 75㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 5㎛ 이상 50㎛ 이하인 것이 특히 바람직하다. 비경화성 보호막 형성용 필름의 두께가 상기 하한값 이상임으로써, 보호능이 보다 높은 보호막을 형성할 수 있다. 또한, 비경화성 보호막 형성용 필름의 두께가 상기 상한값 이하임으로써, 과잉 두께가 되는 것이 억제된다.It is preferable that they are 1 micrometer or more and 100 micrometers or less, as for the thickness of the film for non-hardening protective film formation, it is more preferable that they are 5 micrometers or more and 75 micrometers or less, It is especially preferable that they are 5 micrometers or more and 50 micrometers or less. When the thickness of the film for non-hardening protective film formation is more than the said lower limit, a protective film with a higher protective ability can be formed. Moreover, becoming excessive thickness is suppressed because the thickness of the film for non-hardening protective film formation is below the said upper limit.

여기서, 「비경화성 보호막 형성용 필름의 두께」란, 비경화성 보호막 형성용 필름 전체의 두께를 의미하고, 예를 들면, 복수층으로 이루어지는 비경화성 보호막 형성용 필름의 두께란, 비경화성 보호막 형성용 필름을 구성하는 모든 층의 합계의 두께를 의미한다. 한편, 비경화성 보호막 형성용 필름의 두께의 측정 방법으로는 예를 들면, 임의의 5개소에 있어서 접촉식 두께계를 이용하여 두께를 측정하고, 측정값의 평균을 산출하는 방법 등을 들 수 있다.Here, the "thickness of the film for non-curable protective film formation" means the thickness of the whole film for non-curable protective film formation, For example, the thickness of the non-curable protective film formation film which consists of multiple layers is for non-curable protective film formation It means the thickness of the sum of all the layers constituting the film. On the other hand, as a measuring method of the thickness of the film for non-curable protective film formation, the method of measuring thickness using a contact thickness meter in arbitrary 5 places, and calculating the average of the measured values etc. are mentioned, for example. .

<<비경화성 보호막 형성용 조성물>><<Composition for Forming a Non-Curable Protective Film>>

비경화성 보호막 형성용 필름은 그 구성 재료를 함유하는 비경화성 보호막 형성용 조성물을 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 비경화성 보호막 형성용 필름의 형성 대상면에 비경화성 보호막 형성용 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 목적으로 하는 부위에 비경화성 보호막 형성용 필름을 형성할 수 있다. 비경화성 보호막 형성용 조성물 중의 상온에서 기화하지 않는 성분끼리의 함유량의 비율은 통상 비경화성 보호막 형성용 필름의 상기 성분끼리의 함유량의 비율과 동일해진다. 여기서, 「상온」이란, 앞서 설명한 바와 같다.The film for non-curable protective film formation can be formed using the composition for non-curable protective film formation containing the constituent material. For example, the film for non-curable protective film formation can be formed in the target site|part by coating the composition for non-curable protective film formation on the formation target surface of the film for non-curable protective film formation, and drying as needed. The ratio of content of components which do not vaporize at normal temperature in the composition for non-curable protective film formation becomes the same as the ratio of content of the said components of the film for non-curable protective film formation normally. Here, "room temperature" is as described above.

비경화성 보호막 형성용 조성물의 도공은 예를 들면, 상술한 점착제 조성물의 도공의 경우와 동일한 방법으로 행할 수 있다.Coating of the composition for non-curable protective film formation can be performed by the method similar to the case of coating of the above-mentioned adhesive composition, for example.

비경화성 보호막 형성용 조성물의 건조 조건은 특별히 한정되지 않지만, 비경화성 보호막 형성용 조성물은 후술하는 용매를 함유하고 있는 경우, 가열 건조시키는 것이 바람직하고, 이 경우, 예를 들면, 70℃ 이상 130℃ 이하에서 10초 이상 5분 이하의 조건으로 건조시키는 것이 바람직하다.Although the drying conditions of the composition for non-curable protective film formation are not specifically limited, When the composition for non-curable protective film formation contains the solvent mentioned later, it is preferable to heat-dry, In this case, for example, 70 degreeC or more and 130 degreeC. It is preferable to dry under the conditions of 10 second or more and 5 minutes or less below.

<비경화성 보호막 형성용 조성물(V-1)><Composition for non-curable protective film formation (V-1)>

비경화성 보호막 형성용 조성물로는 예를 들면, 비경화성 성분(c)을 함유하는 비경화성 보호막 형성용 조성물(V-1)(본 명세서에 있어서는, 단순히 「조성물(V-1)」로 약기하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.As the composition for forming a non-curable protective film, for example, a composition (V-1) for forming a non-curable protective film containing a non-curable component (c) (in this specification, simply abbreviated as “composition (V-1)” in some cases) and the like.

비경화성 성분(c)은 열가소성 수지이며, 예를 들면, 아크릴계 중합체 등을 들 수 있고, 이들에 한정되지 않는다. 상기 아크릴계 중합체로는 상기 아크릴계 중합체(b-1)로서 예시된 것과 동일한 것을 들 수 있다.The non-hardening component (c) is a thermoplastic resin, for example, an acrylic polymer etc. are mentioned, It is not limited to these. As said acrylic polymer, the thing similar to what was illustrated as said acrylic polymer (b-1) is mentioned.

조성물(V-1)은 상기 비경화성 성분(c) 이외에 목적에 따라 충전재, 커플링제, 가교제, 착색제 및 범용 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 함유하고 있어도 된다.Composition (V-1) may contain 1 type(s) or 2 or more types selected from the group which consists of a filler, a coupling agent, a crosslinking agent, a coloring agent, and a general-purpose additive according to the objective other than the said non-curable component (c).

조성물(V-1)에 있어서의 상기 충전재, 커플링제, 가교제, 착색제 및 범용 첨가제로는 각각 조성물(III-1)에 있어서의 충전재(D), 커플링제(E), 가교제(F), 착색제(I) 및 범용 첨가제(J)와 동일한 것을 들 수 있다.As the filler, coupling agent, crosslinking agent, colorant and general-purpose additive in the composition (V-1), the filler (D), coupling agent (E), crosslinking agent (F), and colorant in composition (III-1), respectively (I) and the same as general-purpose additive (J) are mentioned.

조성물(V-1)에 있어서 상기 충전재, 커플링제, 가교제, 착색제 및 범용 첨가제는 각각, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 되며, 2종 이상을 병용하는 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.In the composition (V-1), the filler, the coupling agent, the crosslinking agent, the colorant, and the general-purpose additive may each be used individually by 1 type, may use 2 or more types together, When using 2 or more types, these Combinations and ratios can be arbitrarily selected.

조성물(V-1)에 있어서의 상기 충전재, 커플링제, 가교제, 착색제 및 범용 첨가제의 함유량은 목적에 따라 적절히 조절하면 되며, 특별히 한정되지 않는다.Content of the said filler, a coupling agent, a crosslinking agent, a coloring agent, and a general-purpose additive in a composition (V-1) may just adjust suitably according to the objective, and is not specifically limited.

조성물(V-1)은 희석에 의해 그 취급성이 향상하는 점에서, 추가로 용매를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the composition (V-1) further contains a solvent from the point which the handleability improves by dilution.

조성물(V-1)이 함유하는 용매로는 예를 들면, 조성물(III-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the solvent contained in the composition (V-1) include the same solvent as the solvent in the composition (III-1).

조성물(V-1)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 된다.The number of solvents which the composition (V-1) contains may be one, and 2 or more types may be sufficient as them.

<<비경화성 보호막 형성용 조성물의 제조 방법>><<The manufacturing method of the composition for non-curable protective film formation>>

조성물(V-1) 등의 비경화성 보호막 형성용 조성물은 이를 구성하기 위한 각 성분을 배합함으로써 얻어진다.The composition for forming a non-curable protective film, such as composition (V-1), is obtained by mix|blending each component for constituting this.

각 성분의 배합시에 있어서의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않으며, 2종 이상의 성분을 동시에 첨가해도 된다.The order of addition at the time of mixing|blending each component is not specifically limited, You may add 2 or more types of components simultaneously.

용매를 사용하는 경우에는 용매를 용매 이외의 어느 배합 성분과 혼합하여 이 배합 성분을 미리 희석해 둠으로써 사용해도 되고, 용매 이외의 어느 배합 성분을 미리 희석해 두지 않고, 용매를 이들 배합 성분과 혼합함으로써 사용해도 된다.When a solvent is used, the solvent may be mixed with any compounding component other than the solvent and this compounding component may be used by diluting in advance, and the solvent may be mixed with these compounding components without diluting any compounding component other than the solvent in advance. You may use it by

배합시 각 성분을 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 교반자 또는 교반 날개 등을 회전시켜 혼합하는 방법; 믹서를 이용하여 혼합하는 방법; 초음파를 가하여 혼합하는 방법 등, 공지의 방법으로부터 적절히 선택하면 된다.A method of mixing each component at the time of mixing is not particularly limited, and a method of mixing by rotating a stirrer or a stirring blade; a method of mixing using a mixer; What is necessary is just to select suitably from well-known methods, such as the method of adding ultrasonic waves and mixing.

각 성분의 첨가 및 혼합시의 온도 및 시간은 각 배합 성분이 열화되지 않는 한 특별히 한정되지 않으며, 적절히 조절하면 되지만, 온도는 15℃ 이상 30℃인 것이 바람직하다.The temperature and time at the time of addition and mixing of each component are not particularly limited as long as each compounding component does not deteriorate, and may be appropriately adjusted, but the temperature is preferably 15°C or more and 30°C.

본 발명의 하나의 측면에 있어서, 보호막 형성용 복합 시트는 이하에 나타내는 성분을 함유하는 보호막 형성용 필름, 이하에 나타내는 성분을 함유하는 점착제층 및 이하에 나타내는 구성의 기재가 이 순서로 적층되어 있다.In one aspect of the present invention, in the composite sheet for forming a protective film, a film for forming a protective film containing the components shown below, a pressure-sensitive adhesive layer containing the components shown below, and a substrate having the configuration shown below are laminated in this order. .

보호막 형성용 필름은 구체적으로는,The film for forming a protective film is specifically,

중합체 성분((A)-1)으로서 메틸아크릴레이트 85질량부 및 2-히드록시에틸아크릴레이트 15질량부를 공중합하여 이루어지는 아크릴계 중합체(중량 평균 분자량: 35∼40만, 바람직하게는 37만, 유리 전이 온도: 3∼9℃, 바람직하게는 6℃)를 100∼200질량부, 바람직하게는 150질량부와;An acrylic polymer obtained by copolymerizing 85 parts by mass of methyl acrylate and 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate as the polymer component ((A)-1) (weight average molecular weight: 350,000 to 400,000, preferably 370,000, glass transition temperature: 3 to 9° C., preferably 6° C.) 100 to 200 parts by mass, preferably 150 parts by mass;

에폭시 수지((B1)-1)로서 비스페놀A형 에폭시 수지(에폭시 당량: 180∼200g/eq, 바람직하게는 184∼194g/eq)를 50∼70질량부, 바람직하게는 60질량부와;50 to 70 parts by mass, preferably 60 parts by mass, of a bisphenol A epoxy resin (epoxy equivalent: 180 to 200 g/eq, preferably 184 to 194 g/eq) as the epoxy resin ((B1)-1);

에폭시 수지((B1)-2)로서 비스페놀A형 에폭시 수지(에폭시 당량: 750∼950g/eq, 바람직하게는 800∼900g/eq)를 5∼15질량부, 바람직하게는 10질량부와;5 to 15 parts by mass, preferably 10 parts by mass, of a bisphenol A epoxy resin (epoxy equivalent: 750 to 950 g/eq, preferably 800 to 900 g/eq) as the epoxy resin ((B1)-2);

에폭시 수지((B1)-3)로서 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지(에폭시 당량: 250∼270g/eq, 바람직하게는 255∼260g/eq)를 20∼40질량부, 바람직하게는 30질량부와;20 to 40 parts by mass, preferably 30 parts by mass, of a dicyclopentadiene type epoxy resin (epoxy equivalent: 250 to 270 g/eq, preferably 255 to 260 g/eq) as the epoxy resin ((B1)-3); ;

열경화제(B2)로서 열활성 잠재성 에폭시 수지 경화제(디시안디아미드, 활성 수소량: 20∼25g/eq, 바람직하게는 21g/eq)를 1∼3질량부, 바람직하게는 2질량부와;1 to 3 parts by mass, preferably 2 parts by mass, of a thermoactive latent epoxy resin curing agent (dicyandiamide, active hydrogen amount: 20 to 25 g/eq, preferably 21 g/eq) as the thermosetting agent (B2);

경화 촉진제(C)로서 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸을 1∼3질량부, 바람직하게는 2질량부와;1 to 3 parts by mass of 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole as the curing accelerator (C), preferably 2 parts by mass;

충전제(D)로서 실리카 필러(평균 입자 직경: 0.1∼1㎛, 바람직하게는 0.5㎛)를 300∼340질량부, 바람직하게는 320질량부와;300-340 parts by mass, preferably 320 parts by mass, of a silica filler (average particle diameter: 0.1 to 1 µm, preferably 0.5 µm) as the filler (D);

커플링제(E)로서 실란 커플링제를 1∼3질량부, 바람직하게는 2질량부와;1 to 3 parts by mass of a silane coupling agent as the coupling agent (E), preferably 2 parts by mass;

착색제(I)로서 흑색 안료를 16∼20질량부, 바람직하게는 18질량부를 함유한다.As a coloring agent (I), 16-20 mass parts of black pigments are contained, Preferably 18 mass parts is contained.

점착제층은 구체적으로는,The pressure-sensitive adhesive layer is specifically,

아크릴계 중합체로서 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA)(80질량부) 및 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA)(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체를 90∼110질량부, 바람직하게는 100질량부와;90 to 110 mass of a precopolymer having a weight average molecular weight of 800000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) (80 parts by mass) and 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) (20 parts by mass) as an acrylic polymer parts, preferably 100 parts by mass;

3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제를 35∼60질량부, 바람직하게는 40∼50질량부를 함유한다.35-60 mass parts of trifunctional xylylene diisocyanate type crosslinking agent, Preferably it contains 40-50 mass parts.

기재는 구체적으로는, 두께가 70∼90㎛, 바람직하게는 80㎛의 폴리프로필렌제 필름이다. 또한, 기재는 매트면(표면 조도(Ra): 0.20∼1.30㎛, 바람직하게는 0.20∼1.20㎛) 및 광택면, 또는 미매트면(표면 조도(Ra): 0.05∼0.15㎛, 바람직하게는 0.10∼0.15㎛)을 갖는다.The substrate is specifically a polypropylene film having a thickness of 70 to 90 µm, preferably 80 µm. Further, the substrate has a matte surface (surface roughness (Ra): 0.20 to 1.30 µm, preferably 0.20 to 1.20 µm) and a glossy surface, or a non-matte surface (surface roughness (Ra): 0.05 to 0.15 µm, preferably 0.10). -0.15 μm).

한편, 상기 점착제층은 기재의 매트면 상에 적층되어 있다.On the other hand, the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the mat surface of the substrate.

혹은 상기 기재가 매트면의 표면 조도(Ra)(표면 조도(Ra): 0.30㎛ 이하, 바람직하게는 0.20㎛) 및 광택면, 또는 미매트면(표면 조도(Ra): 0.05∼0.15㎛, 바람직하게는 0.10∼0.15㎛)을 갖는 경우, 상기 점착제층은 기재의 광택면 또는 미매트면 상에 적층되어 있다.Alternatively, the substrate has a matte surface roughness (Ra) (surface roughness (Ra): 0.30 µm or less, preferably 0.20 µm) and a glossy surface, or a matte surface (surface roughness (Ra): 0.05 to 0.15 µm, preferably preferably 0.10 to 0.15 μm), the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the glossy or matte surface of the substrate.

또한, 본 발명의 하나의 측면에 있어서, 보호막 형성용 복합 시트는 상기 성분을 함유하는 보호막 형성용 필름, 이하에 나타내는 성분을 함유하는 점착제층 및 상기 구성의 기재를 갖는다.Moreover, one aspect of this invention WHEREIN: The composite sheet for protective film formation has the film for protective film formation containing the said component, the adhesive layer containing the component shown below, and the base material of the said structure.

점착제층은 구체적으로는,The pressure-sensitive adhesive layer is specifically,

아크릴계 중합체로서 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA)(80질량부) 및 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA)(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체를 90∼110질량부, 바람직하게는 100질량부와;90 to 110 mass of a precopolymer having a weight average molecular weight of 800000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) (80 parts by mass) and 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) (20 parts by mass) as an acrylic polymer parts, preferably 100 parts by mass;

3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제를 15∼25질량부, 바람직하게는 20질량부와;15-25 mass parts of trifunctional xylylene diisocyanate type crosslinking agent, Preferably 20 mass parts;

실리콘 수지 미립자를 5∼15질량부, 바람직하게는 10질량부를 함유한다.It is 5-15 mass parts of silicone resin microparticles|fine-particles, Preferably it contains 10 mass parts.

또한, 본 발명의 하나의 측면에 있어서, 보호막 형성용 복합 시트는 상기 성분을 함유하는 보호막 형성용 필름, 이하에 나타내는 성분을 함유하는 점착제층 및 상기 구성의 기재를 갖는다.Moreover, one aspect of this invention WHEREIN: The composite sheet for protective film formation has the film for protective film formation containing the said component, the adhesive layer containing the component shown below, and the base material of the said structure.

점착제층은 구체적으로는,The pressure-sensitive adhesive layer is specifically,

아크릴계 중합체로서 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA)(80질량부) 및 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA)(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체를 90∼110질량부, 바람직하게는 100질량부와;90 to 110 mass of a precopolymer having a weight average molecular weight of 800000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) (80 parts by mass) and 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) (20 parts by mass) as an acrylic polymer parts, preferably 100 parts by mass;

3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제를 15∼25질량부, 바람직하게는 20질량부와;15-25 mass parts of trifunctional xylylene diisocyanate type crosslinking agent, Preferably 20 mass parts;

에폭시 수지를 3∼30질량부, 바람직하게는 5∼25질량부를 함유한다.It is 3-30 mass parts of epoxy resins, Preferably 5-25 mass parts is contained.

또한, 본 발명의 하나의 측면에 있어서, 보호막 형성용 복합 시트는 상기 성분을 함유하는 보호막 형성용 필름, 이하에 나타내는 성분을 함유하는 점착제층 및 상기 구성의 기재를 갖는다.Moreover, one aspect of this invention WHEREIN: The composite sheet for protective film formation has the film for protective film formation containing the said component, the adhesive layer containing the component shown below, and the base material of the said structure.

점착제층은 구체적으로는,The pressure-sensitive adhesive layer is specifically,

아크릴계 중합체로서 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA)(80질량부) 및 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA)(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체를 90∼110질량부, 바람직하게는 100질량부와;90 to 110 mass of a precopolymer having a weight average molecular weight of 800000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) (80 parts by mass) and 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) (20 parts by mass) as an acrylic polymer parts, preferably 100 parts by mass;

3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제를 15∼25질량부, 바람직하게는 20질량부와;15-25 mass parts of trifunctional xylylene diisocyanate type crosslinking agent, Preferably 20 mass parts;

산화티탄계 백색 안료를 3∼7질량부, 바람직하게는 5질량부를 함유한다.3-7 mass parts of a titanium oxide type white pigment, Preferably it contains 5 mass parts.

또한, 본 발명의 하나의 측면에 있어서, 보호막 형성용 복합 시트는 상기 성분을 함유하는 보호막 형성용 필름, 이하에 나타내는 성분을 함유하는 점착제층 및 상기 구성의 기재를 갖는다.Moreover, one aspect of this invention WHEREIN: The composite sheet for protective film formation has the film for protective film formation containing the said component, the adhesive layer containing the component shown below, and the base material of the said structure.

점착제층은 구체적으로는,The pressure-sensitive adhesive layer is specifically,

아크릴계 중합체로서 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA)(80질량부) 및 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA)(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체를 90∼110질량부, 바람직하게는 100질량부와;90 to 110 mass of a precopolymer having a weight average molecular weight of 800000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) (80 parts by mass) and 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) (20 parts by mass) as an acrylic polymer parts, preferably 100 parts by mass;

3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제를 15∼25질량부, 바람직하게는 20질량부와;15-25 mass parts of trifunctional xylylene diisocyanate type crosslinking agent, Preferably 20 mass parts;

아크릴계 폴리머 미립자를 5∼15질량부, 바람직하게는 10질량부를 함유한다.5-15 mass parts of acrylic polymer microparticles|fine-particles, Preferably it contains 10 mass parts.

◇ 보호막 형성용 복합 시트의 제조 방법◇ Manufacturing method of composite sheet for forming protective film

상기 보호막 형성용 복합 시트는 상술한 각 층을 대응하는 위치 관계가 되도록 순차 적층함으로써 제조할 수 있다. 각 층의 형성 방법은 앞서 설명한 바와 같다.The said composite sheet for forming a protective film can be manufactured by laminating|stacking each layer mentioned above one by one so that it may become a corresponding positional relationship. A method of forming each layer is the same as described above.

예를 들면, 보호막 형성용 복합 시트를 제조하는 경우에, 기재 상에 적층된 점착제층 상에 추가로 보호막 형성용 필름을 적층하는 경우에는 점착제층 상에 열경화성 보호막 형성용 조성물, 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물, 또는 비경화성 보호막 형성용 조성물을 도공하고, 보호막 형성용 필름을 직접 형성하는 것이 가능하다. 이와 같이, 몇 개의 조성물을 사용하여, 연속하는 2층의 적층 구조를 형성하는 경우에는 상기 조성물로부터 형성된 층 상에 추가로 조성물을 도공하여 새롭게 층을 형성하는 것이 가능하다. 단, 이들 2층 중 나중에 적층하는 층은 다른 박리 필름 상에 상기 조성물을 사용하여 미리 형성해 두고, 이 형성된 층의 상기 박리 필름과 접촉하고 있는 측과는 반대측 노출면을 이미 형성된 나머지의 층의 노출면과 첩합함으로써, 연속하는 2층의 적층 구조를 형성하는 것이 바람직하다. 이 때, 상기 조성물은 박리 필름의 박리 처리면에 도공하는 것이 바람직하다. 박리 필름은 적층 구조의 형성 후, 필요에 따라 제거하면 된다.For example, in the case of manufacturing a composite sheet for forming a protective film, in the case of further laminating a film for forming a protective film on the pressure-sensitive adhesive layer laminated on the substrate, a composition for forming a thermosetting protective film and an energy ray-curable protective film are formed on the pressure-sensitive adhesive layer It is possible to directly form the film for protective film formation by coating the composition for use in the composition or the composition for forming a non-curable protective film. In this way, when a laminated structure of two consecutive layers is formed using several compositions, it is possible to form a new layer by further coating the composition on the layer formed from the composition. However, the layer to be laminated later among these two layers is previously formed using the composition on another release film, and the exposed surface of the formed layer opposite to the side in contact with the release film is exposed to the remaining layers already formed. It is preferable to form the laminated structure of two continuous layers by bonding together with a surface. At this time, it is preferable to apply the said composition to the peeling process surface of a peeling film. What is necessary is just to remove a peeling film after formation of a laminated structure as needed.

즉, 보호막 형성용 복합 시트를 제조하는 경우에는 기재 상에 점착제 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 기재 상에 점착제층을 적층해 두고, 별도로 박리 필름 상에 열경화성 보호막 형성용 조성물, 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물, 또는 비경화성 보호막 형성용 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 박리 필름 상에 보호막 형성용 필름을 형성해 두고, 이 보호막 형성용 필름의 노출면을 기재 상에 적층된 점착제층의 노출면과 첩합하여, 보호막 형성용 필름을 점착제층 상에 적층함으로써, 보호막 형성용 복합 시트가 얻어진다.That is, in the case of manufacturing the composite sheet for forming a protective film, the pressure-sensitive adhesive composition is coated on the base material and dried if necessary, the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the base material, and separately the composition for forming a thermosetting protective film on the release film, energy rays By coating the composition for forming a curable protective film or the composition for forming a non-curable protective film and drying if necessary, a film for forming a protective film is formed on the release film, and the exposed surface of the film for forming a protective film is laminated on a substrate. The composite sheet for protective film formation is obtained by bonding together with the exposed surface of a layer and laminating|stacking the film for protective film formation on an adhesive layer.

한편, 기재 상에 점착제층을 적층하는 경우에는 상술한 바와 같이, 기재 상에 점착제 조성물을 도공하는 방법 대신에, 박리 필름 상에 점착제 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 박리 필름 상에 점착제층을 형성해 두고, 이 점착제층의 노출면을 기재의 한쪽 표면과 첩합함으로써, 점착제층을 기재 상에 적층해도 된다.On the other hand, in the case of laminating the pressure-sensitive adhesive layer on the substrate, as described above, instead of the method of coating the pressure-sensitive adhesive composition on the substrate, the pressure-sensitive adhesive composition is coated on the release film and dried as necessary, thereby forming the pressure-sensitive adhesive on the release film. You may laminate|stack an adhesive layer on a base material by forming a layer and bonding the exposed surface of this adhesive layer with one surface of a base material.

어느 방법에 있어서도, 박리 필름은 목적으로 하는 적층 구조를 형성 후의 임의의 타이밍에 제거하면 된다.In any method, what is necessary is just to remove the peeling film at arbitrary timings after formation of the target laminated structure.

이와 같이, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하는 기재 이외의 층(점착제층, 보호막 형성용 필름)은 모두, 박리 필름 상에 미리 형성해 두고, 목적으로 하는 층의 표면에 첩합하는 방법으로 적층할 수 있기 때문에, 필요에 따라 이러한 공정을 채용하는 층을 적절히 선택하여 보호막 형성용 복합 시트를 제조하면 된다.In this way, all layers (adhesive layer, film for forming a protective film) other than the base material constituting the composite sheet for forming a protective film are formed in advance on the release film and laminated by a method of bonding to the surface of the target layer. Therefore, what is necessary is just to select suitably the layer which employ|adopts such a process as needed, and just to manufacture the composite sheet for protective film formation.

한편, 보호막 형성용 복합 시트는 통상 그 지지 시트와는 반대측 최표층(예를 들면, 보호막 형성용 필름)의 표면에 박리 필름이 첩합된 상태로 보관된다. 따라서, 이 박리 필름(바람직하게는 그 박리 처리면) 상에 열경화성 보호막 형성용 조성물, 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물, 또는 비경화성 보호막 형성용 조성물 등의 최표층을 구성하는 층을 형성하기 위한 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 박리 필름 상에 최표층을 구성하는 층을 형성해 두고, 이 층의 박리 필름과 접촉하고 있는 측과는 반대측 노출면 상에 나머지의 각 층을 상술한 몇가지 방법으로 적층하고, 박리 필름을 제거하지 않고 첩합한 상태인 채로 함으로써도, 보호막 형성용 복합 시트가 얻어진다.On the other hand, the composite sheet for protective film formation is normally stored in the state by which the peeling film was pasted on the surface of the outermost layer (for example, film for protective film formation) on the opposite side to the support sheet. Therefore, a composition for forming a layer constituting the outermost layer, such as a composition for forming a thermosetting protective film, a composition for forming an energy ray-curable protective film, or a composition for forming a non-curable protective film, on this release film (preferably the release-treated surface thereof) Coating and drying if necessary, a layer constituting the outermost layer is formed on the release film, and the remaining layers are placed on the exposed surface opposite to the side in contact with the release film of this layer by several methods described above. The composite sheet for protective film formation is obtained also by laminating|stacking with and setting it as the state bonded together without removing a peeling film.

한편, 본 명세서에 있어서, 「박리 필름」은 박리 기능을 갖는 필름으로서, 구체적으로는, 반도체 웨이퍼 또는 지지 시트에 대한 첩부 전의 보호막 형성용 필름을 보호하기 위해, 보호막 형성용 필름의 양쪽 표면에 첩부되어 있는 필름을 말하고, 작업시에는 이를 박리하여 사용하는 것이다.In addition, in this specification, a "release film" is a film having a peeling function, and specifically, in order to protect the film for forming a protective film before sticking to a semiconductor wafer or a support sheet, it is affixed on both surfaces of the film for forming a protective film. It refers to a film that has been made, and it is used by peeling it during work.

박리 필름으로는 예를 들면, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌초산비닐 공중합체 필름, 아이오노머 수지 필름, 에틸렌·(메타)아크릴산 공중합체 필름, 에틸렌·(메타)아크릴산에스테르 공중합체 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리이미드 필름, 불소 수지 필름 등의 투명 필름이 사용된다. 또한, 이들의 가교 필름도 사용된다. 또한, 이들의 적층 필름이어도 된다. 또한, 이들을 착색한 필름, 불투명 필름 등을 사용할 수 있다. 박리제로는 예를 들면, 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬기 함유 카르바메이트 등의 박리제를 들 수 있다.Examples of the release film include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, poly Butylene terephthalate film, polyurethane film, ethylene vinyl acetate copolymer film, ionomer resin film, ethylene/(meth)acrylic acid copolymer film, ethylene/(meth)acrylic acid ester copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, Transparent films, such as a polyimide film and a fluororesin film, are used. Moreover, these crosslinked films are also used. Moreover, these laminated|multilayer films may be sufficient. Moreover, the film which colored these, an opaque film, etc. can be used. As a release agent, release agents, such as silicone type, a fluorine type, and a long-chain alkyl group containing carbamate, are mentioned, for example.

박리 필름의 두께는 통상은 10㎛ 이상 500㎛ 이하, 바람직하게는 15㎛ 이상 300㎛ 이하, 특히 바람직하게는 20㎛ 이상 250㎛ 이하 정도이다.The thickness of a peeling film is 10 micrometers or more and 500 micrometers or less normally, Preferably they are 15 micrometers or more and 300 micrometers or less, Especially preferably, they are about 20 micrometers or more and 250 micrometers or less.

여기서, 「박리 필름의 두께」란, 박리 필름 전체의 두께를 의미하고, 예를 들면, 복수층으로 이루어지는 박리 필름의 두께란, 박리 필름을 구성하는 모든 층의 합계의 두께를 의미한다. 한편, 박리 필름의 두께의 측정 방법으로는 예를 들면, 임의의 5개소에 있어서 접촉식 두께계를 이용하여 두께를 측정하고, 측정값의 평균을 산출하는 방법 등을 들 수 있다.Here, the "thickness of a peeling film" means the thickness of the whole peeling film, for example, the thickness of the peeling film which consists of multiple layers means the thickness of the sum total of all the layers which comprise a peeling film. On the other hand, as a measuring method of the thickness of a peeling film, the method of measuring thickness using a contact-type thickness meter in 5 arbitrary places, and calculating the average of a measured value etc. are mentioned, for example.

◇ 보호막 형성용 복합 시트의 사용 방법◇ How to use the composite sheet for forming a protective film

본 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트는 예를 들면, 이하에 나타내는 방법으로 사용할 수 있다.The composite sheet for protective film formation of this embodiment can be used by the method shown below, for example.

즉, 반도체 웨이퍼의 이면(전극 형성면과는 반대측 면)에 보호막 형성용 복합 시트를 그 보호막 형성용 필름에 의해 첩부된다. 이어서, 보호막 형성용 필름에 필요에 따라 가열 또는 에너지선을 조사하고, 보호막 형성용 필름을 경화시켜 보호막으로 한다. 혹은 보호막 형성용 필름에 포함되는 비경화성 보호막 형성용 조성물인 경우에는, 미경화인 채 보호막으로서 사용해도 된다. 이어서, 다이싱에 의해 반도체 웨이퍼를 보호막째 분할하여 반도체 칩으로 한다. 그리고, 반도체 칩을 이 보호막이 첩부된 상태인 채(즉, 보호막이 형성된 반도체 칩으로서), 지지 시트로부터 분리하여 픽업한다.That is, the composite sheet for protective film formation is affixed with the film for protective film formation on the back surface (surface opposite to an electrode formation surface) of a semiconductor wafer. Next, a heating or an energy ray is irradiated to the film for protective film formation as needed, the film for protective film formation is hardened, and it is set as a protective film. Or, in the case of the composition for non-hardening protective film formation contained in the film for protective film formation, you may use as a protective film with non-hardening. Next, the semiconductor wafer is divided into a protective film by dicing to obtain a semiconductor chip. Then, the semiconductor chip is separated from the support sheet and picked up while the protective film is affixed (that is, as a semiconductor chip on which the protective film is formed).

이후는 종래법과 동일한 방법으로, 얻어진 보호막이 형성된 반도체 칩의 반도체 칩을 기판의 회로면에 플립 칩 접속한 후, 반도체 패키지로 한다. 그리고, 이 반도체 패키지를 사용하여, 목적으로 하는 반도체 장치를 제작하면 된다.Thereafter, in the same manner as in the conventional method, the obtained semiconductor chip of the semiconductor chip provided with the protective film is flip-chip connected to the circuit surface of the substrate, and then, a semiconductor package is obtained. And what is necessary is just to produce the target semiconductor device using this semiconductor package.

한편, 보호막 형성용 필름을 가열 또는 에너지선을 조사하여 경화시키는 경우, 그 타이밍은 상술과 같이 다이싱 전이어도 되며, 다이싱 후여도 된다. 그 중에서도, 보호막 형성용 필름을 가열 또는 에너지선을 조사하여 경화시키는 타이밍은 다이싱 전인 것이 바람직하다.On the other hand, when curing the film for protective film formation by irradiating a heating or an energy ray, the timing may be before dicing as mentioned above, and may be after dicing. Especially, it is preferable that the timing which irradiates a heating or an energy ray to harden the film for protective film formation is before dicing.

또한, 보호막 형성용 필름을 가열 또는 에너지선을 조사하여 경화시키는 경우, 레이저 인자의 타이밍은 경화 전이어도 되며, 경화 후여도 된다. 그 중에서도, 보호막 형성용 필름을 가열하여 경화시키는 경우, 레이저 인자의 타이밍은 경화 후인 것이 바람직하다.In addition, when curing the film for protective film formation by irradiating a heating or an energy ray, the timing of laser printing may be before hardening, and may be after hardening. Especially, when heating and hardening the film for protective film formation, it is preferable that the timing of laser printing is after hardening.

실시예Example

이하, 구체적 실시예에 의해 본 발명에 대해서 보다 상세히 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예에 한정되는 것은 전혀 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of specific examples. However, this invention is not limited at all to the Example shown below.

보호막 형성용 조성물의 제조에 사용한 성분을 이하에 나타낸다.The component used for manufacture of the composition for protective film formation is shown below.

·중합체 성분・Polymer component

(A)-1: 메틸아크릴레이트 85질량부 및 2-히드록시에틸아크릴레이트 15질량부를 공중합하여 이루어지는 아크릴계 중합체(중량 평균 분자량: 37만, 유리 전이 온도: 6℃)(A)-1: acrylic polymer obtained by copolymerizing 85 parts by mass of methyl acrylate and 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate (weight average molecular weight: 370,000, glass transition temperature: 6°C)

·열경화성 성분· Thermosetting ingredients

(B1)-1: 비스페놀A형 에폭시 수지(미츠비시 화학사 제조 jER828, 에폭시 당량 184∼194g/eq)(B1)-1: Bisphenol A type epoxy resin (JER828 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent of 184 to 194 g/eq)

(B1)-2: 비스페놀A형 에폭시 수지(미츠비시 화학사 제조 jER1055, 에폭시 당량 800∼900g/eq)(B1)-2: Bisphenol A epoxy resin (JER1055 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent 800 to 900 g/eq)

(B1)-3: 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지(다이니혼 잉크화학공업(주) 제조 에피클론 HP-7200HH, 에폭시 당량 255∼260g/eq)(B1)-3: dicyclopentadiene type epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. Epiclone HP-7200HH, epoxy equivalent 255 to 260 g/eq)

(B2)-1: 열활성 잠재성 에폭시 수지 경화제(디시안디아미드(ADEKA 제조 아데카하드너 EH-3636AS, 활성 수소량 21g/eq))(B2)-1: thermally active latent epoxy resin curing agent (dicyandiamide (Adeka Hardner EH-3636AS manufactured by ADEKA, active hydrogen amount 21 g/eq))

·경화 촉진제・Cure accelerator

(C)-1: 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸(시코쿠 화성공업사 제조 큐어졸 2PHZ)(C)-1: 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole (Curesol 2PHZ manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.)

·충전제・Fillers

(D)-1: 실리카 필러(아드마텍스 제조 SC2050MA, 평균 입자 직경 0.5㎛)(D)-1: Silica filler (SC2050MA manufactured by Admatex, average particle diameter of 0.5 µm)

·커플링제・Coupling agent

(E)-1: 실란 커플링제(일본 유니카 제조 A-1110)(E)-1: Silane coupling agent (A-1110 manufactured by Unica Japan)

·착색제·coloring agent

(I)-1: 흑색 안료(다이니치 세이카사 제조)(I)-1: black pigment (manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.)

[실시예 1][Example 1]

<보호막 형성용 복합 시트의 제조><Production of the composite sheet for forming a protective film>

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

고형 중량비로, 중합체 성분((A)-1(150질량부)), 열경화성 성분((B1)-1(60질량부), (B1)-2(10질량부), (B1)-3(30질량부), (B2)-1(2질량부)), 경화 촉진제((C)-1(2질량부)), 충전제((D)-1(320질량부)), 커플링제((E)-1(2질량부)) 및 착색제((I)-1(18질량부))를 메틸에틸케톤, 톨루엔 및 초산에틸의 혼합 용매에 용해 또는 분산시키고 23℃에서 교반함으로써, 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.By solid weight ratio, a polymer component ((A)-1 (150 mass parts)), a thermosetting component ((B1)-1 (60 mass parts), (B1)-2 (10 mass parts), (B1)-3 ( 30 parts by mass), (B2)-1 (2 parts by mass)), curing accelerator ((C)-1 (2 parts by mass)), filler ((D)-1 (320 parts by mass)), coupling agent (( E)-1 (2 parts by mass)) and the colorant ((I)-1 (18 parts by mass)) are dissolved or dispersed in a mixed solvent of methyl ethyl ketone, toluene and ethyl acetate and stirred at 23° C. to form a thermosetting protective film A composition (III-1) was obtained.

(점착제 조성물((I-4)-1)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-1))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분) 및 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(40질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤, 톨루엔 및 초산에틸의 혼합 용매를 함유하는 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-1)을 조제했다. 상기 아크릴계 중합체는 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA)(80질량부) 및 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA)(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체이다.It contains an acrylic polymer (100 parts by mass, solid content) and a trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent ("Takenate D110N" manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (40 parts by mass (solid content)), and further as a solvent, methyl ethyl ketone; The solid content concentration containing the mixed solvent of toluene and ethyl acetate prepared the non-energy-ray-curable adhesive composition ((I-4)-1) whose solid content concentration is 30 mass %. The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) (80 parts by mass) and 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

폴리에틸렌테레프탈레이트제 필름의 편면이 실리콘 처리에 의해 박리 처리되어 이루어지는 박리 필름의 상기 박리 처리면에 상기에서 얻어진 점착제 조성물((I-4)-1)을 도공하고, 120℃에서 2분 가열 건조시킴으로써, 두께 15㎛의 비에너지선 경화성 점착제층을 형성했다.By coating the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1) obtained above on the release treatment surface of a release film in which one side of a film made of polyethylene terephthalate is subjected to a release treatment by silicone treatment, and heat drying at 120° C. for 2 minutes , a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 µm was formed.

이어서, 이 점착제층의 노출면에 두께 80㎛의 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 매트면(표면 조도(Ra): 1.20㎛)/광택면(표면 조도(Ra): 0.10㎛) 기재)의 매트면을 첩합함으로써, 지지 시트((10)-1)를 제조했다.Next, on the exposed surface of this pressure-sensitive adhesive layer, a polypropylene film having a thickness of 80 µm (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., matte surface (surface roughness (Ra): 1.20 µm)/glossy surface (surface roughness (Ra): 0.10 µm) substrate) A support sheet ((10)-1) was produced by bonding the mat surfaces of

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

폴리에틸렌테레프탈레이트제 필름의 편면이 실리콘 처리에 의해 박리 처리된 박리 필름(린텍사 제조 「SP-PET381031」, 두께 38㎛)의 상기 박리 처리면에 상기에서 얻어진 보호막 형성용 조성물(III-1)을 나이프 코터에 의해 도공하고, 100℃에서 2분 건조시킴으로써, 두께 25㎛의 열경화성 보호막 형성용 필름((13)-1)을 제작했다.The composition for forming a protective film (III-1) obtained above on the release-treated surface of a release film (“SP-PET381031” manufactured by Lintec, 38 µm thick) in which one side of the polyethylene terephthalate film has been peeled off by silicone treatment. The 25-micrometer-thick film ((13)-1) for thermosetting protective film formation was produced by coating with a knife coater and drying at 100 degreeC for 2 minutes.

이어서, 상기에서 얻어진 지지 시트((10)-1)의 점착제층에 상기에서 얻어진 보호막 형성용 필름((13)-1)의 노출면을 첩합하여, 기재, 점착제층 및 보호막 형성용 필름((13)-1)이 이들의 두께 방향에 있어서 이 순서로 적층되어 이루어지는 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다. 한편, 제작한 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 지지 시트의 폭은 270㎜이며, 보호막 형성용 필름의 외경은 210㎜였다.Next, the exposed surface of the film for forming a protective film ((13)-1) obtained above is bonded to the pressure-sensitive adhesive layer of the supporting sheet ((10)-1) obtained above, and the base material, the pressure-sensitive adhesive layer and the film for forming a protective film (( 13)-1) produced the composite sheet for protective film formation which laminated|stacked in this order in these thickness direction. On the other hand, in the produced composite sheet for protective film formation, the width|variety of the support sheet was 270 mm, and the outer diameter of the film for protective film formation was 210 mm.

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

(헤이즈 평가)(Haze evaluation)

일본전색공업 제조 「NDH-5000」을 사용하고, JIS K 7136-2000에 준거하여 측정했다. 한편, 지지 시트((10)-1)로부터 박리 필름을 박리한 「기재+점착제층」의 구성으로 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.It measured based on JISK7136-2000 using "NDH-5000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. On the other hand, it measured by the structure of the "base material + adhesive layer" which peeled the peeling film from the support sheet ((10)-1). A result is shown in Table 1.

(투과 선명도의 평가)(Evaluation of Transmission Sharpness)

스가시험기(주) 제조 사상성 측정기 「ICM-10P」를 사용하고, JIS K 7374-2007에 준거하여 측정했다. 5종류의 슬릿(슬릿폭: 0.125㎜, 0.25㎜, 0.5㎜, 1㎜ 및 2㎜)의 합계값을 투과 선명도로 나타냈다. 한편, 지지 시트((10)-1)로부터 박리 필름을 박리한 「기재+점착제층」의 구성으로 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.It measured based on JISK7374-2007 using Suga Test Instruments Co., Ltd. product finish measuring machine "ICM-10P". The total value of five types of slits (slit width: 0.125 mm, 0.25 mm, 0.5 mm, 1 mm, and 2 mm) was shown as transmission clarity. On the other hand, it measured by the structure of the "base material + adhesive layer" which peeled the peeling film from the support sheet ((10)-1). A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

(마운터 적성(얼라이먼트(테이프 선단 위치 조정)의 평가)(Evaluation of mounter aptitude (alignment (adjustment of tape tip position))

제작한 보호막 형성용 복합 시트 및 링 프레임에 대해서 8인치의 반도체 웨이퍼(두께: 200㎛)에 대해 린텍제 테이프마운터 RAD2700을 이용하여, 테이프 선단 위치 조정이 가능한지를 확인했다. 결과를 표 1에 나타낸다.With respect to the composite sheet for forming a protective film and the ring frame, it was checked whether the tape tip position could be adjusted using a tape mounter RAD2700 manufactured by Lintec for an 8-inch semiconductor wafer (thickness: 200 µm). A result is shown in Table 1.

한편, 마운터 적성의 평가 기준은 이하와 같이 설정했다.In addition, the evaluation criteria of mounter aptitude were set as follows.

A…얼라이먼트 가능A… Alignment possible

B…얼라이먼트 불가능B… alignment not possible

(레이저 인자 시인성의 평가)(Evaluation of laser print visibility)

8인치의 반도체 웨이퍼에 첩부된 보호막 형성용 필름에 대해서, EO테크닉스 제조 레이저 인자 장치 CSM300M을 이용하여, 지지 시트 넘어로 보호막층에 인자를 행하고 육안으로 관찰했을 때, 문자를 시인할 수 있는지 여부를 판정했다. 인자는 미경화 보호막층에 대해 행했다. 문자 사이즈는 0.3㎜×0.2㎜로 했다. 결과를 표 1에 나타낸다.With respect to the film for forming a protective film affixed on an 8-inch semiconductor wafer, using a laser printing apparatus CSM300M manufactured by EO Technics, the protective film layer is printed over the support sheet, and when visually observed, whether or not characters can be visually recognized judged Printing was performed with respect to the uncured protective film layer. The character size was 0.3 mm x 0.2 mm. A result is shown in Table 1.

한편, 레이저 인자 시인성의 평가 기준은 이하와 같이 설정했다.In addition, the evaluation criteria of laser printing visibility were set as follows.

A…시인 가능A… able to admit

B…약간 흐릿하지만 시인 가능B… Slightly blurry but visible

C…시인 불가능C… poet impossible

(인자 문자 굵기의 평가)(evaluation of character thickness for printing)

8인치의 반도체 웨이퍼에 첩부된 보호막 형성용 필름에 대해서, 자외선 조사 장치(린텍사 제조, RAD2000m/8, 조사 조건: 조도 195mW/㎠, 광량 170mJ/㎠)를 이용하여 지지 시트측으로부터 자외선을 조사했다. 이어서, 보호막으로부터 지지 시트를 박리한 후, 보호막 상의 인자를 키엔스 제조 광학 현미경으로 관찰하여 문자의 굵기를 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.The film for forming a protective film affixed on an 8-inch semiconductor wafer was irradiated with ultraviolet rays from the supporting sheet side using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Lintec, RAD2000m/8, irradiation conditions: illuminance: 195 mW/cm 2 , light quantity 170 mJ/cm 2 ). did. Next, after peeling a support sheet from a protective film, the printing on a protective film was observed with the optical microscope manufactured by Keyence, and the thickness of a character was measured. A result is shown in Table 1.

[실시예 2][Example 2]

<보호막 형성용 복합 시트의 제조><Production of the composite sheet for forming a protective film>

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-2)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-2))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분) 및 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(50질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤을 함유하는 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-2)을 조제했다. 상기 아크릴계 중합체는 2EHA(80질량부) 및 HEA(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체이다.Contains an acrylic polymer (100 parts by mass, solid content) and a trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent ("Takenate D110N" manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (50 parts by mass (solid content)), and further, methyl ethyl ketone as a solvent The non-energy-ray-curable adhesive composition ((I-4)-2) whose solid content concentration to contain is 30 mass % was prepared. The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2EHA (80 parts by mass) and HEA (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-4)-2)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-2)를 얻었다.A support sheet ((10)-2) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-2) was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1).

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-2)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-2) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 3][Example 3]

<보호막 형성용 복합 시트의 제조><Production of the composite sheet for forming a protective film>

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-1)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-1))

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 점착제 조성물((I-4)-1)을 얻었다.A pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1) was obtained in the same manner as in Example 1.

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제층의 노출면에 두께 80㎛의 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 매트면(표면 조도(Ra): 1.20㎛)/광택면(표면 조도(Ra): 0.10㎛) 기재)의 매트면 대신에, 두께 80㎛의 폴리프로필렌제 필름(군제사 제조, 매트면(표면 조도(Ra): 0.20㎛)/미매트면(표면 조도(Ra): 0.15㎛) 기재)의 매트면을 첩합한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-3)를 제조했다.On the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a polypropylene film having a thickness of 80 µm (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., matte surface (surface roughness (Ra): 1.20 µm)/glossy surface (surface roughness (Ra): 0.10 µm) base) Instead, the mat side of a 80 μm thick polypropylene film (manufactured by Gunze Co., Ltd., matte surface (surface roughness (Ra): 0.20 μm)/unmatte surface (surface roughness (Ra): 0.15 μm) base material) was bonded. Except that, the support sheet (10)-3 was manufactured using the same method as in Example 1.

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-3)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-3) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 4][Example 4]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-3)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-3))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분), 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(20질량부(고형분)) 및 실리콘 수지 미립자(타낙사 제조 「토스펄 145」)(10질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤을 함유하는 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-3)을 조제했다. 상기 아크릴계 중합체는 2EHA(80질량부) 및 HEA(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체이다.Acrylic polymer (100 parts by mass, solid content), trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent ("Takenate D110N" manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (20 parts by mass (solid content)), and silicone resin microparticles ("Tospearl 145" manufactured by Tanak Corporation) ') (10 parts by mass (solid content)), and a solid content concentration of 30 mass % containing methyl ethyl ketone as a solvent prepared a specific energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-3). The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2EHA (80 parts by mass) and HEA (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-4)-3)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-4)를 얻었다.A support sheet ((10)-4) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-3) was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1).

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-4)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-4) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 5][Example 5]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-1)-1)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-1)-1))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분), 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(20질량부(고형분)) 및 에폭시 수지(미츠비시 화학사 제조 「JER834」)(25질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤을 함유하는 고형분 농도가 30질량%인 에너지선 경화성 점착제 조성물((I-1)-1)을 조제했다. 상기 아크릴계 중합체는 2EHA(80질량부) 및 HEA(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체이다.Acrylic polymer (100 parts by mass, solid content), a trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent (“Takenate D110N” manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (20 parts by mass (solid content)) and an epoxy resin (“JER834” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) ( 25 mass parts (solid content)), and solid content concentration further containing methyl ethyl ketone as a solvent prepared the energy-beam curable adhesive composition ((I-1)-1) whose solid content concentration is 30 mass %. The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2EHA (80 parts by mass) and HEA (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-1)-1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-5)를 얻었다.A support sheet ((10)-5) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition ((I-1)-1) was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1).

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-5)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-5) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 6][Example 6]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-1)-2)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-1)-2))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분), 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(20질량부(고형분)) 및 에폭시 수지(미츠비시 화학사 제조 「JER1055」)(5질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤을 함유하는 고형분 농도가 30질량%인 에너지선 경화성 점착제 조성물((I-1)-2)을 조제했다. 상기 아크릴계 중합체는 2EHA(80질량부) 및 HEA(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체이다.Acrylic polymer (100 parts by mass, solid content), trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent (“Takenate D110N” manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (20 parts by mass (solid content)) and epoxy resin (“JER1055” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) ( 5 mass parts (solid content)), and solid content concentration containing methyl ethyl ketone as a solvent prepared the energy-beam curable adhesive composition ((I-1)-2) whose solid content concentration is 30 mass %. The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2EHA (80 parts by mass) and HEA (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-1)-2)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-6)를 얻었다.A support sheet ((10)-6) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition ((I-1)-2) was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1).

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-6) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 7][Example 7]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-4)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-4))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분), 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(20질량부(고형분)) 및 산화티탄계 백색 안료(다이니치 세이카사 제조 「N-DYM8054」)(5질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤을 함유하는 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-4)을 조제했다. 상기 아크릴계 중합체는 2EHA(80질량부) 및 HEA(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체이다.Acrylic polymer (100 parts by mass, solid content), a trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent (“Takenate D110N” manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (20 parts by mass (solid content)), and a titanium oxide white pigment (manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.) "N-DYM8054") (5 parts by mass (solid content)), and a solid content concentration of 30 mass % containing methyl ethyl ketone as a solvent ((I-4)-4) was prepared The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2EHA (80 parts by mass) and HEA (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-4)-4)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-7)를 얻었다.A support sheet ((10)-7) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-4) was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1).

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-7)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-7) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 8][Example 8]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-5)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-5))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분), 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(20질량부(고형분)) 및 아크릴계 폴리머 미립자(다이니치 세이카사 제조 「215(MD) 화이트」)(10질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤을 함유하는 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-5)을 조제했다. 상기 아크릴계 중합체는 2EHA(80질량부) 및 HEA(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체이다.Acrylic polymer (100 parts by mass, solid content), trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent (“Takenate D110N” manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (20 parts by mass (solid content)), and acrylic polymer fine particles (“215 manufactured by Dainichi Seika Corporation”) (MD) White") (10 parts by mass (solid content)), and further containing methyl ethyl ketone as a solvent, a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-5) having a solid content concentration of 30 mass% was prepared The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2EHA (80 parts by mass) and HEA (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-4)-5)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-8)를 얻었다.A support sheet ((10)-8) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-5) was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1).

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-8)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-8) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 9][Example 9]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-2)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-2))

실시예 2와 동일한 방법을 이용하여 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-2)을 조제했다.Using the method similar to Example 2, solid content concentration prepared the non-energy-ray-curable adhesive composition ((I-4)-2) whose solid content concentration is 30 mass %.

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-4)-2)을 사용하여 점착제층의 노출면에 두께 80㎛의 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 매트면(표면 조도(Ra): 1.20㎛)/광택면(표면 조도(Ra): 0.10㎛) 기재)의 매트면 대신에, 두께 80㎛의 폴리프로필렌제 필름(군제사 제조, 매트면(표면 조도(Ra): 0.20㎛)/미매트면(표면 조도(Ra): 0.15㎛) 기재)의 매트면을 첩합한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-9)를 얻었다.Using the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-2) instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1), on the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer, a polypropylene film having a thickness of 80 µm (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., matte surface ( Instead of the mat surface of the surface roughness (Ra): 1.20 µm)/glossy surface (surface roughness (Ra: 0.10 µm) base), a polypropylene film (manufactured by Gunze Corporation, matte surface (surface roughness (Ra)) having a thickness of 80 µm ): 0.20 µm)/non-matte surface (surface roughness (Ra): 0.15 µm) A support sheet ((10)-9) was obtained in the same manner as in Example 1, except that the mat surface was bonded together. .

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-9)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-9) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[실시예 10][Example 10]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-2)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-2))

실시예 2와 동일한 방법을 이용하여 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-2)을 조제했다.Using the method similar to Example 2, solid content concentration prepared the non-energy-ray-curable adhesive composition ((I-4)-2) whose solid content concentration is 30 mass %.

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-4)-2)을 사용하고, 점착제층의 노출면에 두께 80㎛의 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 매트면(표면 조도(Ra): 1.20㎛)/광택면(표면 조도(Ra): 0.10㎛) 기재)의 매트면 대신에, 두께 80㎛의 폴리프로필렌제 필름(군제사 제조, 매트면(표면 조도(Ra): 0.20㎛)/미매트면(표면 조도(Ra): 0.15㎛) 기재)의 미매트면을 첩합한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-10)를 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-2) was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1), and a polypropylene film having a thickness of 80 μm on the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., matte surface) Instead of the mat surface of (surface roughness (Ra): 1.20 µm)/glossy surface (surface roughness (Ra): 0.10 µm) substrate), a polypropylene film having a thickness of 80 µm (manufactured by Gunze Corporation, matte surface (surface roughness ( A support sheet ((10)-10) was used in the same manner as in Example 1, except that Ra): 0.20 µm)/un-matte surface (surface roughness (Ra: 0.15 µm) substrate) was pasted together. got

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-10)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-10) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[비교예 1][Comparative Example 1]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-1)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-1))

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 점착제 조성물((I-4)-1)을 얻었다.A pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1) was obtained in the same manner as in Example 1.

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

두께 15㎛ 대신에 두께 10㎛의 비에너지선 경화성 점착제층을 형성한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-9)를 제조했다.A support sheet (10)-9 was produced in the same manner as in Example 1 except that a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 10 µm was formed instead of a thickness of 15 µm.

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-9)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-9) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[비교예 2][Comparative Example 2]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-6)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-6))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분) 및 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(30질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤을 함유하는 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-6)을 조제했다. 상기 아크릴계 중합체는 2EHA(80질량부) 및 HEA(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체이다.It contains an acrylic polymer (100 parts by mass, solid content) and a trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent ("Takenate D110N" manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (30 parts by mass (solid content)), and further, methyl ethyl ketone as a solvent The non-energy-ray-curable adhesive composition ((I-4)-6) whose solid content concentration to contain is 30 mass % was prepared. The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2EHA (80 parts by mass) and HEA (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-4)-6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-10)를 얻었다.A support sheet ((10)-10) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-6) was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1).

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-10)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-10) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[비교예 3][Comparative Example 3]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-7)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-7))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분) 및 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(5질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤을 함유하는 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-7)을 조제했다. 상기 아크릴계 중합체는 2EHA(80질량부) 및 HEA(20질량부)를 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량 800000의 예비 공중합체이다.Contains an acrylic polymer (100 parts by mass, solid content) and a trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent ("Takenate D110N" manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (5 parts by mass (solid content)), and further, methyl ethyl ketone as a solvent The non-energy-ray-curable adhesive composition ((I-4)-7) whose solid content concentration to contain is 30 mass % was prepared. The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2EHA (80 parts by mass) and HEA (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

폴리에틸렌테레프탈레이트제 필름의 편면이 실리콘 처리에 의해 박리 처리되어 이루어지는 박리 필름의 상기 박리 처리면에 상기에서 얻어진 점착제 조성물((I-4)-7)을 도공하고, 120℃에서 2분 가열 건조시킴으로써, 두께 5㎛의 비에너지선 경화성 점착제층을 형성했다.By coating the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-7) obtained above on the release-treated surface of a release film in which one side of a film made of polyethylene terephthalate is subjected to a release treatment by silicone treatment, and heat-drying at 120°C for 2 minutes , a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 5 µm was formed.

이어서, 이 점착제층의 노출면에 두께 80㎛의 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 매트면(표면 조도(Ra): 0.50㎛)/광택면(표면 조도(Ra): 0.10㎛) 기재)의 광택면을 첩합함으로써, 지지 시트((10)-11)를 제조했다.Next, on the exposed surface of this pressure-sensitive adhesive layer, a polypropylene film having a thickness of 80 µm (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., matte surface (surface roughness (Ra): 0.50 µm)/glossy surface (surface roughness (Ra): 0.10 µm) substrate) A support sheet ((10)-11) was manufactured by bonding the glossy surfaces of

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-11)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-11) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[비교예 4][Comparative Example 4]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-7)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-7))

비교예 3과 동일한 방법을 이용하여 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-7)을 조제했다.A non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-7) was prepared using the same method as in Comparative Example 3.

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

점착제 조성물((I-4)-1) 대신에 점착제 조성물((I-4)-7)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 지지 시트((10)-12)를 얻었다.A support sheet ((10)-12) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-7) was used instead of the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-1).

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-12)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-12) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

[비교예 5][Comparative Example 5]

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다.A composition (III-1) for forming a thermosetting protective film was obtained in the same manner as in Example 1.

(점착제 조성물((I-4)-7)의 제조)(Preparation of adhesive composition ((I-4)-7))

비교예 3과 동일한 방법을 이용하여 비에너지선 경화성 점착제 조성물((I-4)-7)을 조제했다.A non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-7) was prepared using the same method as in Comparative Example 3.

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

폴리에틸렌테레프탈레이트제 필름의 편면이 실리콘 처리에 의해 박리 처리되어 이루어지는 박리 필름의 상기 박리 처리면에 상기에서 얻어진 점착제 조성물((I-4)-7)을 도공하고, 120℃에서 2분 가열 건조시킴으로써, 두께 5㎛의 비에너지선 경화성 점착제층을 형성했다.By coating the pressure-sensitive adhesive composition ((I-4)-7) obtained above on the release-treated surface of a release film in which one side of a film made of polyethylene terephthalate is subjected to a release treatment by silicone treatment, and heat-drying at 120°C for 2 minutes , a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 5 µm was formed.

이어서, 이 점착제층의 노출면에 두께 60㎛의 폴리프로필렌제 필름(리켄 테크노스사 제조, 매트면(표면 조도(Ra): 0.50㎛)/광택면(표면 조도(Ra): 0.10㎛) 기재)의 광택면을 첩합함으로써, 지지 시트((10)-13)를 제조했다.Next, on the exposed surface of this pressure-sensitive adhesive layer, a polypropylene film having a thickness of 60 µm (manufactured by Riken Technos, matte surface (surface roughness (Ra): 0.50 µm)/glossy surface (surface roughness (Ra): 0.10 µm) substrate) A support sheet ((10)-13) was manufactured by bonding the glossy surfaces of

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of a composite sheet for forming a protective film)

지지 시트 ((10)-1) 대신에 ((10)-13)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 보호막 형성용 복합 시트를 제작했다.A composite sheet for forming a protective film was produced in the same manner as in Example 1 except that ((10)-13) was used instead of the supporting sheet ((10)-1).

<지지 시트의 평가><Evaluation of the support sheet>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 헤이즈 및 투과 선명도를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Haze and transmission clarity were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

<보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a protective film>

실시예 1과 동일한 방법을 이용하여 마운터 적성, 레이저 인자 시인성 및 인자 문자 굵기를 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다.Mounter aptitude, laser printing visibility, and printing character thickness were evaluated using the same method as in Example 1. A result is shown in Table 1.

Figure 112019019917405-pct00001
Figure 112019019917405-pct00001

표 1에 있어서 합격 여부 판정에 대해서는 마운터 적성이 A평가이며, 레이저 인자 시인성이 A 또는 B평가인 것을 「합격」으로 하고, 그 이외를 「불합격」으로 했다.In Table 1, about pass judgment, mounter aptitude was A evaluation, and the thing of laser printing visibility A or B evaluation was made into "pass", and other than that was made into "failure".

표 1로부터 지지 시트의 헤이즈가 46% 이상일 때, 마운터 적성이 A평가로 되어 있다. 이는 지지 시트의 헤이즈가 46% 이상으로 어느 정도의 탁도(담도)를 가짐으로써, 테이프 선단의 위치 조정을 행하는 광센서에 있어서 레이저 조사에 의해 지지 시트의 선단 위치를 검지할 수 있었기 때문이라고 추측되었다.From Table 1, when the haze of a support sheet is 46 % or more, mounter aptitude becomes A evaluation. It was speculated that this was because the haze of the support sheet was 46% or more and had a certain degree of turbidity (biliary duct), so that the position of the tip of the support sheet could be detected by laser irradiation in the optical sensor for adjusting the position of the tip of the tape. .

또한, 표 1로부터 지지 시트의 헤이즈가 46% 이상이며, 또한 투과 선명도가 100 이상일 때 레이저 인자 시인성이 B평가 이상, 200 이상일 때 레이저 인자 시인성이 A평가로 되어 있다. 이는 지지 시트의 저면에 위치하는 기재의 외표면에 있어서의 광산란이 억제되고 있음으로써, 레이저 인자의 시인성이 향상했기 때문이라고 추측되었다. 또한, 지지 시트의 헤이즈가 46% 이상으로 어느 정도의 탁도(담도)를 가짐으로써, 지지 시트 내부에 있어서 레이저 광을 적당히 산란시켜 인자 문자 굵기를 굵게 할 수 있고, 레이저 인자의 시인성의 향상에 기여했기 때문이라고 추측되었다.In addition, from Table 1, when the haze of a support sheet is 46 % or more, and when the transmission clarity is 100 or more, laser printing visibility becomes B evaluation or more, when it is 200 or more, laser printing visibility becomes A evaluation. It was estimated that this was because the visibility of laser printing improved because the light scattering in the outer surface of the base material located in the bottom face of a support sheet was suppressed. In addition, when the haze of the support sheet is 46% or more and has a certain degree of turbidity (phlegm), it is possible to appropriately scatter laser light in the inside of the support sheet to increase the thickness of printed text, contributing to the improvement of the visibility of laser printing It was assumed that it was because

이상으로부터 지지 시트의 헤이즈 및 투과 선명도를 적당한 범위로 함으로써, 보호막에 대한 레이저 인자성이 우수하고, 또한 보호막의 인자의 시인성도 우수한 보호막 형성용 복합 시트가 얻어지는 것이 명백해졌다.From the above, it became clear that the composite sheet for protective film formation which was excellent in the laser printing property with respect to a protective film and also excellent in the visibility of printing of a protective film by making the haze and transmission clarity of a support sheet into an appropriate range is obtained.

본 발명은 반도체 장치의 제조에 이용 가능하다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is applicable to the manufacture of semiconductor devices.

1A, 1B, 1C, 1D, 1E…보호막 형성용 복합 시트, 10…지지 시트, 10a…지지 시트의 표면, 11…기재, 11a…기재의 표면, 12…점착제층, 12a…점착제층의 표면, 13…보호막 형성용 필름, 13a…보호막 형성용 필름의 표면, 15…박리 필름, 16…지그용 접착제층, 16a…지그용 접착제층의 표면, 17…중간층, 17a…중간층의 표면1A, 1B, 1C, 1D, 1E… A composite sheet for forming a protective film, 10 ... support sheet, 10a... The surface of the support sheet, 11... Subscription, 11a... The surface of the substrate, 12 ... pressure-sensitive adhesive layer, 12a... The surface of the adhesive layer, 13... Film for forming a protective film, 13a... The surface of the film for protective film formation, 15... release film, 16... Adhesive layer for a jig, 16a... The surface of the adhesive layer for a jig, 17... middle layer, 17a... the surface of the intermediate layer

Claims (9)

기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 적층되어 이루어지며,
상기 기재 및 상기 점착제층의 적층물인 지지 시트의 헤이즈가 45% 초과 90% 이하이고,
상기 지지 시트의 투과 선명도가 100 이상인 보호막 형성용 복합 시트.
A substrate is provided, and a pressure-sensitive adhesive layer and a film for forming a protective film are laminated in this order on the substrate,
The haze of the support sheet, which is a laminate of the base material and the pressure-sensitive adhesive layer, is more than 45% and 90% or less,
A composite sheet for forming a protective film in which the transparency of the support sheet is 100 or more.
제 1 항에 있어서,
상기 점착제층의 상기 보호막 형성용 필름을 구비하고 있는 측의 표면 중, 상기 보호막 형성용 필름이 적층되어 있지 않은 영역에 지그용 접착제층을 구비하는 보호막 형성용 복합 시트.
The method of claim 1,
The composite sheet for protective film formation provided with the adhesive bond layer for jig|tools in the area|region where the said protective film formation film is not laminated|stacked among the surface of the said adhesive layer on the side provided with the said protective film formation film.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 보호막 형성용 필름이 에너지선 경화성인 보호막 형성용 복합 시트.
3. The method according to claim 1 or 2,
The composite sheet for forming a protective film, wherein the film for forming a protective film is energy ray-curable.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 보호막 형성용 필름이 열경화성인 보호막 형성용 복합 시트.
3. The method according to claim 1 or 2,
The composite sheet for forming a protective film, wherein the film for forming a protective film is thermosetting.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 보호막 형성용 필름이 비경화성인 보호막 형성용 복합 시트.
3. The method according to claim 1 or 2,
The composite sheet for forming a protective film, wherein the film for forming a protective film is non-curable.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 점착제층이 에너지선 경화성 또는 비에너지 경화성인 보호막 형성용 복합 시트.
3. The method according to claim 1 or 2,
A composite sheet for forming a protective film wherein the pressure-sensitive adhesive layer is energy ray-curable or non-energy-curable.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 점착제층의 두께가 3∼20㎛인 보호막 형성용 복합 시트.
3. The method according to claim 1 or 2,
A composite sheet for forming a protective film, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 3 to 20 μm.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 기재의 한쪽 표면의 표면 조도(Ra)가 0.11㎛ 이상이며, 상기 표면 조도의 표면에 상기 점착제층이 직접 접촉하여 적층되어 있는 보호막 형성용 복합 시트.
3. The method according to claim 1 or 2,
A composite sheet for forming a protective film, wherein the surface roughness (Ra) of one surface of the substrate is 0.11 µm or more, and the pressure-sensitive adhesive layer is laminated in direct contact with the surface of the surface roughness.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 기재 중 상기 지지 시트의 외면으로서 노출되는 면의 표면 조도(Ra)가 0.15㎛ 이하인 보호막 형성용 복합 시트.
3. The method according to claim 1 or 2,
A composite sheet for forming a protective film, wherein a surface of the substrate exposed as an outer surface of the support sheet has a surface roughness (Ra) of 0.15 µm or less.
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