KR102388900B1 - Composite sheet for forming support sheet and protective film - Google Patents

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Abstract

이 지지 시트는 기재를 구비하고, 기재 상에 점착제층을 구비하고 있으며, 기재의 점착제층측 면이 요철면이며, 지지 시트의 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서 점착제층의 단면을 관찰했을 때, (인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계)/(점착제층에 수평 방향의 직선 거리)의 비의 평균값(R값)이 1.5 이상 5.0 미만이다. 보호막 형성용 복합 시트는 이 지지 시트 중의 점착제층 상에 보호막 형성용 필름을 구비하고 있다.This support sheet has a base material, the pressure-sensitive adhesive layer is provided on the base material, the pressure-sensitive adhesive layer side surface of the base material is an uneven surface, and a test piece is cut out from five points of the support sheet, and the cross section of the pressure-sensitive adhesive layer in these five test pieces , the average value (R value) of the ratio of (the sum of the linear distances between adjacent significant vertices)/(the linear distance in the horizontal direction to the pressure-sensitive adhesive layer) is 1.5 or more and less than 5.0. The composite sheet for protective film formation is equipped with the film for protective film formation on the adhesive layer in this support sheet.

Description

지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트Composite sheet for forming support sheet and protective film

본 발명은 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트에 관한 것이다.The present invention relates to a composite sheet for forming a support sheet and a protective film.

근래, 이른바 페이스 다운(face down) 방식으로 불리는 실장법을 적용한 반도체 장치의 제조가 행해지고 있다. 페이스 다운 방식에 있어서는, 회로면 상에 범프 등의 전극을 갖는 반도체 칩이 사용되고, 상기 전극이 기판과 접합된다. 이 때문에 반도체 칩의 회로면과는 반대측의 이면은 노출되는 경우가 있다.DESCRIPTION OF RELATED ART In recent years, manufacture of the semiconductor device to which the mounting method called a so-called face down method is applied is performed. In the face-down method, a semiconductor chip having electrodes such as bumps on the circuit surface is used, and the electrodes are joined to the substrate. For this reason, the back surface on the opposite side to the circuit surface of a semiconductor chip may be exposed.

이 노출된 반도체 칩의 이면에는, 보호막으로서 유기 재료를 함유하는 수지막이 형성되고, 보호막이 형성된 반도체 칩으로서 반도체 장치에 도입되는 경우가 있다. 보호막은 다이싱 공정이나 패키징 후, 반도체 칩에 있어서 크랙이 발생하는 것을 방지하기 위해 이용된다.On the exposed back surface of the semiconductor chip, a resin film containing an organic material is formed as a protective film, and is introduced into a semiconductor device as a semiconductor chip with a protective film in some cases. The protective film is used to prevent cracks from occurring in the semiconductor chip after the dicing process or packaging.

이러한 보호막은 예를 들면, 경화성을 갖는 보호막 형성용 필름을 경화시킴으로써 형성된다. 또한, 물성이 조절된 비경화성 보호막 형성용 필름이 그대로 보호막으로서 이용되기도 한다. 그리고, 보호막 형성용 필름은 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부되어 사용된다. 보호막 형성용 필름은 예를 들면, 반도체 웨이퍼의 가공시에 사용하는 지지 시트와 일체화된 보호막 형성용 복합 시트 상태에서 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부되기도 하고, 지지 시트와는 일체화되어 있지 않은 상태에서 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부되기도 한다.Such a protective film is formed by hardening the film for protective film formation which has sclerosis|hardenability, for example. In addition, a film for forming a non-curable protective film with controlled physical properties may be used as a protective film as it is. And the film for protective film formation is affixed on the back surface of a semiconductor wafer, and is used. The film for forming a protective film may be affixed to the back surface of a semiconductor wafer in the state of the composite sheet for protective film formation integrated with the support sheet used at the time of processing of a semiconductor wafer, for example, or a semiconductor wafer in the state which is not integrated with a support sheet. It is also affixed to the back of the

보호막 형성용 복합 시트가 그 중의 보호막 형성용 필름에 의해 반도체 칩의 이면에 첩부된 후에는, 각각 적합한 타이밍에 보호막 형성용 필름의 경화에 의한 보호막의 형성, 보호막 형성용 필름 또는 보호막의 절단, 반도체 웨이퍼의 반도체 칩에 대한 분할(다이싱), 절단 후의 보호막 형성용 필름 또는 보호막을 이면에 구비한 반도체 칩(보호막 형성용 필름이 형성된 반도체 칩 또는 보호막이 형성된 반도체 칩)의 지지 시트로부터의 픽업 등이 적절히 행해진다. 그리고, 보호막 형성용 필름이 형성된 반도체 칩을 픽업했을 경우에는, 이는 보호막 형성용 필름의 경화에 의해 보호막이 형성된 반도체 칩이 되고, 최종적으로 보호막이 형성된 반도체 칩을 사용하여 반도체 장치가 제조된다. 이와 같이 보호막 형성용 복합 시트 중의 지지 시트는 다이싱 시트로서 이용 가능하다. 한편, 보호막 형성용 필름이 비경화성인 경우에는, 이들의 각 공정에 있어서 보호막 형성용 필름은 그대로 보호막으로서 취급된다.After the composite sheet for forming a protective film is affixed on the back surface of the semiconductor chip by the film for forming a protective film therein, the formation of a protective film by curing the film for forming a protective film at appropriate timings, cutting of the film or protective film for forming a protective film, semiconductor Division (dicing) of the wafer to the semiconductor chip, the film for forming a protective film after cutting, or pickup from the supporting sheet of a semiconductor chip having a protective film on the back surface (a semiconductor chip with a film for forming a protective film or a semiconductor chip with a protective film), etc. This is done appropriately. And when the semiconductor chip with the protective film formation film is picked up, this becomes a semiconductor chip with a protective film formed by hardening of the protective film formation film, and a semiconductor device is manufactured using the semiconductor chip with a protective film finally formed. Thus, the support sheet in the composite sheet for protective film formation can be utilized as a dicing sheet. On the other hand, when the film for protective film formation is non-hardening, in these each process, the film for protective film formation is handled as a protective film as it is.

한편, 보호막 형성용 필름이 지지 시트와는 일체화되어 있지 않은 상태에서 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부된 후에는, 이 보호막 형성용 필름의 반도체 웨이퍼의 첩부면과는 반대측의 노출면에 지지 시트가 첩부된다. 이후에는, 상술한 보호막 형성용 복합 시트를 사용한 경우와 동일한 방법으로 보호막이 형성된 반도체 칩 또는 보호막 형성용 필름이 형성된 반도체 칩이 얻어져 반도체 장치가 제조된다. 이 경우, 보호막 형성용 필름은 지지 시트와는 일체화되어 있지 않은 상태에서 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부되지만, 첩부 후 지지 시트와의 일체화에 의해 보호막 형성용 복합 시트를 구성한다.On the other hand, after the film for forming a protective film is affixed to the back surface of the semiconductor wafer in a state not integrated with the support sheet, the support sheet is affixed to the exposed surface on the opposite side to the affixing surface of the semiconductor wafer of this film for forming a protective film. . Thereafter, in the same manner as in the case of using the composite sheet for forming a protective film, a semiconductor chip with a protective film or a semiconductor chip with a film for forming a protective film is obtained, and a semiconductor device is manufactured. In this case, although the film for protective film formation is affixed on the back surface of a semiconductor wafer in the state which is not integrated with a support sheet, the composite sheet for protective film formation is comprised by integration with a support sheet after sticking.

이러한 보호막 형성용 복합 시트로는 예를 들면, 요철 가공면을 갖는 기재 및 이 기재의 상기 요철 가공면측에 적층된 점착제층을 갖는 다이싱 테이프(지지 시트)와, 이 다이싱 테이프의 점착제층 상에 적층된 반도체 이면 보호용 필름(보호막 형성용 필름)을 구비하는 다이싱 테이프 일체형 반도체 이면 보호용 필름(보호막 형성용 복합 시트)으로서, 상기 다이싱 테이프의 헤이즈가 45% 이하인 다이싱 테이프 일체형 반도체 이면 보호용 필름이 개시되어 있다(특허문헌 1 참조).As such a composite sheet for forming a protective film, for example, a dicing tape (support sheet) having a substrate having an uneven surface and an adhesive layer laminated on the uneven processing surface side of the substrate, and on the adhesive layer of the dicing tape. A dicing tape-integrated semiconductor back surface protective film (composite sheet for protective film formation) having a semiconductor back surface protective film (protective film formation film) laminated on the dicing tape, wherein the dicing tape has a haze of 45% or less. A film is disclosed (refer to patent document 1).

그러나, 특허문헌 1에 개시되어 있는 보호막 형성용 복합 시트(다이싱 테이프 일체형 반도체 이면 보호용 필름)에 있어서는, 기재의 요철 가공면측에 점착제층이 적층되어 있음으로써, 기재의 요철에 점착제가 충분히 추종하지 않고, 기재와 점착제 사이에 이들이 첩합되어 있지 않은 영역(비첩합 영역)이 생기는 경우가 있다. 또한, 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 점착제층측 면에는, 레이저 조사에 의해 인자가 행해지는 경우가 있지만, 점착제층의 요철의 형상에 따라서는, 기재 및 점착제층을 개재한 인자의 시인성이 저하되는 경우가 있다.However, in the composite sheet for forming a protective film disclosed in Patent Document 1 (dicing tape-integrated semiconductor back surface protective film), since the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the uneven surface side of the substrate, the pressure-sensitive adhesive does not sufficiently follow the unevenness of the substrate. It does not, and the area|region (non-bonding area|region) by which these are not bonded may arise between a base material and an adhesive. In addition, although printing may be performed by laser irradiation on the surface of the adhesive layer side of a protective film or a protective film formation film, depending on the shape of the unevenness|corrugation of an adhesive layer, the visibility of printing through a base material and an adhesive layer decreases. there is

일본 특허 제5432853호 공보Japanese Patent No. 5432853 Publication

본 발명은 기재의 요철면측에 점착제층을 구비하여 구성된 지지 시트로서, 그 점착제층 상에 보호막 형성용 필름을 구비한 보호막 형성용 복합 시트에 있어서, 기재와 점착제의 양호한 밀착성과, 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 양호한 인자 시인성을 실현 가능한 지지 시트, 및 상기 지지 시트를 구비한 보호막 형성용 복합 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is a support sheet constituted by providing a pressure-sensitive adhesive layer on the concave-convex surface side of a substrate, and in a composite sheet for forming a protective film having a film for forming a protective film on the pressure-sensitive adhesive layer, good adhesion between the substrate and the pressure-sensitive adhesive, and formation of a protective film or protective film It aims at providing the support sheet which can implement|achieve favorable printing visibility through the support sheet of the film for use, and the composite sheet for protective film formation provided with the said support sheet.

본 발명은 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층을 구비한 지지 시트로서, 상기 기재의 상기 점착제층측 면이 요철면이며, 상기 지지 시트의 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서 상기 점착제층의 단면을 관찰했을 때, (인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계)/(점착제층에 수평 방향의 직선 거리)의 비의 평균값이 1.5 이상 5.0 미만인 지지 시트를 제공한다.The present invention is a support sheet having a substrate and having a pressure-sensitive adhesive layer on the substrate, wherein the pressure-sensitive adhesive layer side surface of the substrate is an uneven surface, and a test piece is cut out from five places of the support sheet, and these five test pieces are When the cross section of the pressure-sensitive adhesive layer is observed, the average value of the ratio of (the sum of the linear distances between adjacent significant vertices)/(the linear distance in the horizontal direction to the pressure-sensitive adhesive layer) is 1.5 or more and less than 5.0.

본 발명의 지지 시트에 있어서는, 상기 점착제층이 상기 기재의 요철면에 직접 접촉하고 있어도 된다.In the support sheet of this invention, the said adhesive layer may be in direct contact with the uneven|corrugated surface of the said base material.

또한, 본 발명은 상기 지지 시트 중의 점착제층 상에 보호막 형성용 필름을 구비한 보호막 형성용 복합 시트를 제공한다.Moreover, this invention provides the composite sheet for protective film formation provided with the film for protective film formation on the adhesive layer in the said support sheet.

본 발명의 지지 시트를 사용하여 보호막 형성용 복합 시트를 구성함으로써, 기재와 점착제의 양호한 밀착성과, 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 양호한 인자 시인성을 실현할 수 있다.By forming the composite sheet for protective film formation using the support sheet of this invention, favorable adhesiveness of a base material and an adhesive, and favorable printing visibility through the support sheet of a protective film or film for protective film formation can be implement|achieved.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 지지 시트와 함께 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 지지 시트와 함께 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 4는 도 1에 나타내는 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 확대 단면도이다.
도 5는 도 1에 나타내는 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 확대 단면도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for forming a support sheet and a protective film which concerns on one Embodiment of this invention.
It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on one Embodiment of this invention with a support sheet.
It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on one Embodiment of this invention with a support sheet.
Fig. 4 is an enlarged cross-sectional view of the support sheet and the composite sheet for forming a protective film shown in Fig. 1 .
It is an enlarged cross-sectional view of the composite sheet for protective film formation and the support sheet shown in FIG.

◇지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트◇Composite sheet for forming support sheet and protective film

본 발명의 일 실시형태에 따른 지지 시트는 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층을 구비한 지지 시트로서, 상기 기재의 상기 점착제층측 면이 요철면이며, 상기 지지 시트의 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서, 상기 점착제층의 단면을 관찰했을 때, (인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계)/(점착제층에 수평 방향의 직선 거리)의 비의 평균값(본 명세서에 있어서는, 「R값」이라고 칭하는 경우가 있다)이 1.5 이상 5.0 미만이다.A support sheet according to an embodiment of the present invention is a support sheet having a base material and having a pressure-sensitive adhesive layer on the base material, wherein the pressure-sensitive adhesive layer side surface of the base material is an uneven surface, and a test piece is removed from five locations of the support sheet. Cut out, in these 5 test pieces, when the cross section of the adhesive layer is observed, the average value of the ratio (the sum of the linear distances between adjacent significant vertices) / (the linear distance in the horizontal direction to the adhesive layer) (this specification) In some cases, "R value") is 1.5 or more and less than 5.0.

한편, 본 명세서에 있어서는, 점착제층의 단면을 관찰했을 때, 점착제층의 기재측 면이 하강으로부터 상승으로 전환되는 볼록부의 꼭대기부와, 점착제층의 기재측 면이 상승으로부터 하강으로 전환되는 오목부의 최심부 사이의 단차가 1㎛ 이상이면, 이 단차를 유의미한 것으로 간주하고, 이 유의미한 단차를 갖는 상기 꼭대기부를 볼록부의 유의미한 정점으로 특정하며, 이 유의미한 단차를 갖는 상기 최심부를 오목부의 유의미한 정점으로 특정하고, 이들 볼록부의 유의미한 정점 및 오목부의 유의미한 정점 중, 인접하는 유의미한 정점끼리를 직선으로 이은 거리를 「인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리」로 정의하여 관찰 대상의 인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계를 「인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계」로 정의한다. 또한, 관찰 대상의 유의미한 정점을 점착제층에 수평 방향의 평면에 투영한 점의 시점으로부터 종점까지의 거리를 「점착제층에 수평 방향의 직선 거리」로 정의한다.On the other hand, in the present specification, when the cross-section of the pressure-sensitive adhesive layer is observed, the top of the convex portion where the substrate-side surface of the pressure-sensitive adhesive layer is switched from descending to rising, and the concave portion in which the substrate-side surface of the pressure-sensitive adhesive layer is switched from rising to descending If the step between the deepest portions is 1 μm or more, the step is considered significant, the apex having this significant step is specified as a significant apex of the convex portion, and the deepest portion having this significant step is specified as a significant apex of the concave portion, , of the significant vertices of the convex portion and the significant vertices of the concave portion, the distance between adjacent significant vertices is defined as the “linear distance between adjacent significant vertices”, and the sum of the linear distances between the adjacent significant vertices of the object to be observed is defined as "the sum of the linear distances between significant adjacent vertices". In addition, the distance from the starting point of the point which projected the meaningful vertex of an observation object on the plane of a horizontal direction to an adhesive layer is defined as "a linear distance in a horizontal direction to an adhesive layer".

상기 점착제층의 단면을 관찰했을 때, (인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계)/(점착제층에 수평 방향의 직선 거리)의 비의 평균값(R값)이 1.5 이상임으로써, 기재와 점착제의 밀착성이 양호해진다. R값이 5.0 미만임으로써, 투과광의 점착제-기재 계면에서의 산란이 억제되어 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 양호한 인자 시인성을 실현할 수 있다.When the cross section of the pressure-sensitive adhesive layer is observed, the average value (R value) of the ratio of (the sum of the linear distances between adjacent significant vertices)/(the linear distance in the horizontal direction to the pressure-sensitive adhesive layer) is 1.5 or more, Adhesion becomes good. When the R value is less than 5.0, scattering of transmitted light at the pressure-sensitive adhesive-base interface is suppressed, and good print visibility through the support sheet of the protective film or the film for forming a protective film can be realized.

본 발명의 일 실시형태에 따른 지지 시트는 기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층을 구비한 지지 시트로서, 상기 기재의 상기 점착제층측 면이 요철면이며, 상기 지지 시트의 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서 각각 점착제층의 두께의 최소값 및 최대값을 구했을 때, 상기 최소값의 평균값(본 명세서에 있어서는, 「S값」이라고 칭하는 경우가 있다)이 1.5㎛ 이상이 되고, 상기 최대값의 평균값(본 명세서에 있어서는, 「L값」이라고 칭하는 경우가 있다)이 9㎛ 이하가 되는 것이 바람직하다.A support sheet according to an embodiment of the present invention is a support sheet having a base material and having a pressure-sensitive adhesive layer on the base material, wherein the pressure-sensitive adhesive layer side surface of the base material is an uneven surface, and a test piece is removed from five locations of the support sheet. cut out, and when the minimum and maximum values of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer are obtained in each of these five test pieces, the average value of the minimum values (in this specification, may be referred to as “S value”) is 1.5 μm or more, It is preferable that the average value of the said maximum value (in this specification, it may be called "L value") becomes 9 micrometers or less.

또한, 본 발명의 일 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트는 상기 지지 시트 중의 점착제층 상에 보호막 형성용 필름을 구비하고 있다.Moreover, the composite sheet for protective film formation which concerns on one Embodiment of this invention is equipped with the film for protective film formation on the adhesive layer in the said support sheet.

또한, 상기 점착제층의 S값이 1.5㎛ 이상임으로써, 점착제층과 보호막 형성용 필름의 적층성이 양호해지기 쉽다. 본 명세서에 있어서 「적층성」이란, 특별히 언급되지 않는 한, 대상이 되는 2층의 적층 상태의 정상도를 의미한다. 「적층성이 양호하다」란, 예를 들면, 대상이 되는 인접하는 2층 사이에 비첩합 영역(공극부)이 전혀 없거나, 또는 비첩합 영역의 수가 적고 또한 비첩합 영역의 층간 거리가 작은 것을 의미한다.Moreover, when the S value of the said adhesive layer is 1.5 micrometers or more, the lamination|stacking property of an adhesive layer and the film for protective film formation becomes favorable easily. In this specification, "stackability" means the normality of the laminated state of the target two-layer unless otherwise stated. "Good lamination property" means, for example, that there is no non-bonding region (void portion) between two adjacent layers to be subjected to, or the number of non-bonding regions is small and the interlayer distance of the non-bonding region is small. it means.

한편, 상기 점착제층의 L값이 9㎛ 이하임으로써, 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 인자 시인성이 양호해지기 쉽다.On the other hand, when L value of the said adhesive layer is 9 micrometers or less, printing visibility through the support sheet of a protective film or the film for protective film formation becomes favorable easily.

상기 시험편은 지지 시트의 5개소로부터 잘라낸 것이며, 지지 시트를 그 두께 방향의 전역에 있어서 절단하여 얻어진 것이다. 시험편은 지지 시트를 구성하는 전체 층을 구비한 작은 조각이다.The said test piece cuts out from 5 places of a support sheet, and is obtained by cutting|disconnecting a support sheet in the whole area of the thickness direction. The test piece is a small piece with the entire layer constituting the support sheet.

시험편의 크기는 특별히 한정되지 않으나, 시험편을 구성하는 각 층(기재, 점착제층 등)의 적층면 또는 노출면의 1변의 길이는, 2㎜ 이상인 것이 바람직하다. 이러한 크기의 시험편을 사용함으로써, 보다 고정밀하게 점착제층의 R값, S값 및 L값이 구해진다.Although the size of the test piece is not particularly limited, the length of one side of the lamination surface or the exposed surface of each layer (base material, pressure-sensitive adhesive layer, etc.) constituting the test piece is preferably 2 mm or more. By using the test piece of such a size, the R value, S value, and L value of an adhesive layer are calculated|required more precisely.

상기 1변의 길이의 최대값은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 시험편의 제작이 보다 용이한 점에서는 상기 1변의 길이는 10㎜ 이하인 것이 바람직하다.The maximum value of the length of one side is not particularly limited. For example, it is preferable that the length of the said one side is 10 mm or less from the point which preparation of a test piece is easier.

시험편의 평면 형상, 즉, 시험편을 구성하는 각 층(기재, 점착제층 등)의 적층면 또는 노출면의 형상은 다각 형상인 것이 바람직하고, 시험편의 잘라냄이 보다 용이한 점에서는 사각 형상인 것이 보다 바람직하다.The planar shape of the test piece, that is, the shape of the lamination surface or the exposed surface of each layer (base material, pressure-sensitive adhesive layer, etc.) constituting the test piece, is preferably a polygonal shape, and a rectangular shape in terms of easier cutting of the test piece more preferably.

시험편으로 바람직한 것으로는 예를 들면, 시험편을 구성하는 각 층(기재, 점착제층 등)의 적층면 또는 노출면이 크기가 3㎜×3㎜인 사각 형상인 것을 들 수 있다. 단, 이는 바람직한 시험편의 일례이다.As a preferable thing as a test piece, the lamination|stacking surface or exposed surface of each layer (base material, adhesive layer, etc.) constituting the test piece is a rectangular shape with a size of 3 mm x 3 mm, for example. However, this is an example of a preferable test piece.

지지 시트에 있어서의 시험편의 5개소의 잘라내는 위치는 특별히 한정되지 않으나, 점착제층의 R값, S값 및 L값을 보다 고정밀하게 구해지도록, 후술하는 보호막 형성용 필름의 적층 예정 위치를 고려하여 선택할 수 있다.In the support sheet, the cut position of the five points of the test piece is not particularly limited, but in consideration of the planned lamination position of the film for forming a protective film, which will be described later, so that the R value, S value, and L value of the pressure-sensitive adhesive layer can be obtained more precisely. You can choose.

예를 들면, 지지 시트에 있어서의 1장의 보호막 형성용 필름의 적층 예정 위치 중, 보호막 형성용 필름의 중심(무게 중심)부가 배치 예정인 1개소와, 보호막 형성용 필름의 주연부 근방의 부위이며, 또한 이 중심(무게 중심)부에 대해 대략 점 대상의 위치가 배치 예정인 4개소의 5개소를 들 수 있다.For example, among the predetermined positions for lamination of one film for forming a protective film in the support sheet, the center (center of gravity) portion of the film for forming a protective film is scheduled to be arranged, and a portion near the periphery of the film for forming a protective film, and About this center (center of gravity) part, the position of the point target is roughly 4 places 5 places where the position is planned to be arrange|positioned is mentioned.

지지 시트에 있어서 시험편의 잘라내는 위치의 중심(무게 중심)간 거리는 50∼200㎜인 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 점착제층의 R값, S값 및 L값을 보다 고정밀하게 구할 수 있다.It is preferable that the distance between the centers (centers of gravity) of the cut position of the test piece in a support sheet is 50-200 mm. By doing in this way, the R value, S value, and L value of an adhesive layer can be calculated|required more precisely.

시험편으로부터 점착제층의 R값을 구하기 위해서는, 시험편에 있어서 단면을 새로 형성하고, 이 형성한 단면에 있어서, 각 시험편마다 인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계 및 점착제층에 수평 방향의 직선 거리를 측정한다.In order to obtain the R value of the pressure-sensitive adhesive layer from the test piece, a new cross section is formed in the test piece, and in the formed cross section, the sum of the linear distances between significant vertices adjacent to each test piece and the horizontal straight line distance to the pressure-sensitive adhesive layer measure

새로 형성하는 단면은 1장의 시험편당, 1면만이어도 되며, 2면 이상이어도 되나, 통상은 1면만이어도 충분하다.The cross section to be newly formed may be only one side per specimen, or may be two or more, but usually only one side is sufficient.

그리고, 이들 적어도 5개의 인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계 및 점착제층에 수평 방향의 직선 거리로부터 R값을 산출하면 된다.And what is necessary is just to calculate the R value from the sum of the linear distances of these at least five adjacent significant vertices, and the linear distance in a horizontal direction to an adhesive layer.

시험편으로부터 점착제층의 S값 및 L값을 구하기 위해서는, 시험편에 있어서 단면을 새로 형성하고, 이 형성한 단면에 있어서, 각 시험편마다 점착제층의 두께의 최소값 및 최대값을 측정한다.In order to obtain the S value and L value of the pressure-sensitive adhesive layer from the test piece, a new cross section is formed in the test piece, and in the formed cross section, the minimum and maximum values of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer are measured for each test piece.

새로 형성하는 단면은 1장의 시험편당, 1면만이어도 되며, 2면 이상이어도 되나, 통상은 1면만이어도 충분하다.The cross section to be newly formed may be only one side per specimen, or may be two or more, but usually only one side is sufficient.

그리고, 이들 적어도 5개의 최소값 및 최대값으로부터 S값 및 L값을 산출하면 된다.And what is necessary is just to calculate the S value and the L value from these at least five minimum and maximum values.

시험편에 있어서는, 공지의 방법으로 단면을 형성할 수 있다. 예를 들면, 공지의 단면 시료 제작 장치(크로스 섹션 폴리셔)를 이용함으로써, 편차를 억제하여 높은 재현성으로, 시험편에 있어서 단면을 형성할 수 있다.In the test piece, the cross section can be formed by a well-known method. For example, by using a known cross-section sample preparation apparatus (cross-section polisher), a cross-section can be formed in a test piece with high reproducibility by suppressing variation.

점착제층의 인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계 및 점착제층에 수평 방향의 직선 거리는 예를 들면, 주사 전자 현미경(SEM)을 이용하여 시험편의 상기 단면을 화상 처리함으로써 측정할 수 있다.The sum of the linear distances of adjacent significant vertices of the adhesive layer and the linear distance in the horizontal direction to the adhesive layer can be measured by, for example, image processing the cross section of the test piece using a scanning electron microscope (SEM).

점착제층의 두께의 최소값 및 최대값은 예를 들면, 주사 전자 현미경(SEM)을 이용하여 시험편의 상기 단면을 관찰함으로써 측정할 수 있다.The minimum value and maximum value of the thickness of an adhesive layer can be measured by observing the said cross section of a test piece using a scanning electron microscope (SEM), for example.

각 시험편의 상기 단면에 있어서 인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계 및 점착제층에 수평 방향의 직선 거리를 측정하는 영역은, 시험편을 구성하는 각 층(기재, 점착제층 등)의 적층 방향에 대해 직교하는 방향(대략 각 층의 적층면 또는 노출면에 대해 평행한 방향)에 있어서의 50∼1500㎛의 영역인 것이 바람직하다. 또한, 장척의 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트로부터 시험편을 잘라내는 경우에는, 장척의 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 폭 방향으로 상기 단면을 잘라내는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 고효율이며 고정밀하게 인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계 및 점착제층에 수평 방향의 직선 거리를 측정할 수 있다. 점착제층의 두께의 최소값 및 최대값의 측정도 동일하다.The area in which the sum of the linear distances between adjacent significant vertices in the cross section of each test piece and the linear distance in the horizontal direction to the pressure-sensitive adhesive layer are measured is, with respect to the lamination direction of each layer (substrate, pressure-sensitive adhesive layer, etc.) constituting the test piece. It is preferable that it is 50-1500 micrometers in the direction orthogonal (a direction substantially parallel to the lamination|stacking surface or exposed surface of each layer). Moreover, when cutting out a test piece from a long support sheet and the composite sheet for protective film formation, it is preferable to cut out the said cross section in the width direction of a long support sheet and the composite sheet for protective film formation. By doing in this way, the sum total of the linear distances between significant vertices adjacent to each other with high efficiency and high precision, and the linear distance in a horizontal direction to an adhesive layer can be measured. The measurement of the minimum value and maximum value of the thickness of an adhesive layer is also the same.

한편, R값의 산출에 있어서, 「인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계」로서, 시험편의 단면의 관찰 영역에 유의미한 정점끼리가 몇 조 존재하는지는 일정하지 않다. 예를 들면, 시험편의 단면의 관찰 영역을 1㎜의 영역으로 했을 경우, 유의미한 정점끼리는 50∼500조이어도 되며, 75∼250조이어도 되고, 100∼200조이어도 된다.On the other hand, in the calculation of the R value, as "the sum of the linear distances between adjacent significant vertices", it is not constant how many sets of significant vertices exist in the observation area of the cross section of the test piece. For example, when the observation area|region of the cross section of a test piece is made into the area|region of 1 mm, 50-500 sets of significant vertices may be sufficient, 75-250 sets may be sufficient, and 100-200 sets may be sufficient as them.

보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있지 않는 단계에서의 지지 시트와, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있는 지지 시트 사이에서 시험편을 잘라내고, 점착제층의 기재측 면의 (인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계)/(점착제층에 수평 방향의 직선 거리)의 비의 평균값(R값)을 비교했을 경우, 이들의 R값은 서로 동일하거나, 또는, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있는 지지 시트에서의 상기 R값이 약간 작아지는 정도이며, 이와 같이 작아지는 경우에도, 그 차이는 무시할 수 있는 정도이다.A test piece is cut out between the support sheet in the step not forming the composite sheet for forming a protective film and the support sheet constituting the composite sheet for forming a protective film, When the average value (R value) of the ratio of the sum of the distances) / (the linear distance in the horizontal direction to the pressure-sensitive adhesive layer) is compared, these R values are the same or the support sheet constituting the composite sheet for forming a protective film The R value in is a degree to which the value of R is slightly decreased, and even when it becomes small in this way, the difference is negligible.

보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있지 않는 단계에서의 지지 시트와, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있는 지지 시트 사이에서, 점착제층의 두께의 최소값을 비교했을 경우, 이들 최소값은 서로 동일하거나, 또는, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있는 지지 시트에서의 상기 최소값이 약간 작아지는 정도이며, 이와 같이 작아지는 경우에도, 그 차이는 무시할 수 있는 정도이다.When the minimum value of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is compared between the support sheet in the step not forming the composite sheet for forming a protective film and the support sheet constituting the composite sheet for forming a protective film, these minimum values are the same or , is a degree to which the minimum value in the support sheet constituting the composite sheet for forming a protective film becomes slightly smaller, and even when it becomes smaller in this way, the difference is negligible.

점착제층의 두께의 최대값에 대해서도 동일하다. 즉, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있지 않는 단계에서의 지지 시트와, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있는 지지 시트 사이에서, 점착제층의 두께의 최대값을 비교했을 경우, 이들 최대값은 서로 동일하거나, 또는, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있는 지지 시트에서의 상기 최대값이 약간 작아지는 정도이며, 이와 같이 작아지는 경우에도, 그 차이는 무시할 수 있는 정도이다.It is the same also about the maximum value of the thickness of an adhesive layer. That is, when the maximum value of the thickness of an adhesive layer is compared between the support sheet in the step which does not comprise the composite sheet for protective film formation, and the support sheet which comprises the composite sheet for protective film formation, these maximum values are mutually It is the same or the said maximum value in the support sheet which comprises the composite sheet for protective film formation is a grade which becomes small, and even when it becomes small in this way, the difference is a negligible degree.

따라서, 지지 시트가 아닌 보호막 형성용 복합 시트로부터 잘라낸 시험편을 사용하여, 지지 시트로부터 잘라낸 시험편을 사용한 경우와 동일한 방법으로 R값을 구해도 되며, 점착제층의 S값 및 L값을 구해도 된다. 이와 같이 보호막 형성용 복합 시트로부터 잘라낸 시험편을 사용했을 때, R값이 1.5 이상 5.0 미만이 되는 경우, 이 보호막 형성용 복합 시트는 상술한 본 발명의 효과가 반영된 것이다.Therefore, using a test piece cut out from the composite sheet for forming a protective film instead of the support sheet, the R value may be obtained in the same manner as in the case of using the test piece cut out from the support sheet, or the S value and L value of the pressure-sensitive adhesive layer may be obtained. Thus, when the test piece cut out from the composite sheet for protective film formation is used and R value becomes 1.5 or more and less than 5.0, this composite sheet for protective film formation reflects the effect of this invention mentioned above.

즉, 본 발명의 일 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트는 상기 지지 시트 중의 점착제층 상에 보호막 형성용 필름을 구비한 보호막 형성용 복합 시트로서, 상기 보호막 형성용 복합 시트의 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서, 점착제층의 단면을 관찰했을 때, (인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계)/(점착제층에 수평 방향의 직선 거리)의 비의 평균값(R값)이 1.5 이상 5.0 미만이 된다.That is, the composite sheet for forming a protective film according to an embodiment of the present invention is a composite sheet for forming a protective film having a film for forming a protective film on the pressure-sensitive adhesive layer in the support sheet, and a test piece is prepared from five places of the composite sheet for forming a protective film. Cut out, in these 5 test pieces, when the cross section of the adhesive layer is observed, the average value (R value) of the ratio (the sum of the linear distances between adjacent significant vertices) / (the linear distance in the horizontal direction to the adhesive layer) 1.5 or more and less than 5.0.

마찬가지로, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있지 않는 단계에서의 지지 시트가 아닌 보호막 형성용 복합 시트로부터 잘라낸 시험편을 사용하여, 지지 시트로부터 잘라낸 시험편을 사용한 경우와 동일한 방법으로 점착제층의 S값 및 L값을 구해도 된다. 이와 같이 보호막 형성용 복합 시트로부터 잘라낸 시험편을 사용했을 때, 점착제층의 S값이 1.5㎛ 이상이 되고, 점착제층의 L값이 9㎛ 이하가 되는 경우, 이 보호막 형성용 복합 시트는 상술한 본 발명의 효과가 반영된 것이 되기 쉽다.Similarly, using a test piece cut out from the composite sheet for forming a protective film instead of the support sheet in the step where the composite sheet for forming a protective film is not constituted, the S value and L of the pressure-sensitive adhesive layer are used in the same manner as when the test piece cut out from the support sheet is used. You can get the value. When the test piece cut out from the composite sheet for forming a protective film in this way is used, when the S value of the pressure-sensitive adhesive layer is 1.5 µm or more and the L value of the pressure-sensitive adhesive layer is 9 µm or less, this composite sheet for forming a protective film is The effect of the invention is likely to be reflected.

즉, 본 발명의 일 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트는 상기 지지 시트 중의 점착제층 상에 보호막 형성용 필름을 구비한 보호막 형성용 복합 시트로서, 상기 보호막 형성용 복합 시트의 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서 각각 점착제층의 두께의 최소값 및 최대값을 구했을 때, 상기 최소값의 평균값(S값)이 1.5㎛ 이상이 되고, 상기 최대값의 평균값(L값)이 9㎛ 이하가 되는 것이 바람직하다.That is, the composite sheet for forming a protective film according to an embodiment of the present invention is a composite sheet for forming a protective film having a film for forming a protective film on the pressure-sensitive adhesive layer in the support sheet, and a test piece is prepared from five places of the composite sheet for forming a protective film. cut out, and when the minimum value and the maximum value of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer are respectively obtained in these five test pieces, the average value (S value) of the minimum value is 1.5 µm or more, and the average value (L value) of the maximum value is 9 µm It is preferable to become the following.

한편, 보호막 형성용 복합 시트로부터 잘라낸 시험편은, 보호막 형성용 복합 시트를 그 두께 방향의 전역에 있어서 절단하여 얻어진 것이며, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하는 전체 층을 구비한 작은 조각이다.On the other hand, the test piece cut out from the composite sheet for protective film formation was obtained by cutting|disconnecting the composite sheet for protective film formation in the whole thickness direction, It is a small piece provided with all the layers which comprise the composite sheet for protective film formation.

이하, 도면을 참조하면서, 본 발명의 보호막 형성용 복합 시트의 전체의 구성에 대해 설명한다. 한편, 이하의 설명에서 사용하는 도면은, 본 발명의 특징을 알기 쉽게 하기 위해 편의상, 주요부가 되는 부분을 확대하여 나타내고 있는 경우가 있으며, 각 구성 요소의 치수 비율 등이 실제와 동일한 것으로는 한정되지 않는다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the structure of the whole of the composite sheet for protective film formation of this invention is demonstrated, referring drawings. On the other hand, in the drawings used in the following description, in order to make the characteristics of the present invention easy to understand, there are cases where the main parts are enlarged and shown, and the dimensional ratio of each component is not limited to the same as in reality. does not

도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 따른 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 단면도이다.1 : is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on one Embodiment of this invention.

여기에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)는, 기재(11)를 구비하고, 기재(11) 상에 점착제층(12)을 구비하며, 점착제층(12) 상에 보호막 형성용 필름(13)을 구비하고 있다. 지지 시트(10)는 기재(11) 및 점착제층(12)의 적층체이며, 보호막 형성용 복합 시트(1A)는, 다시 말하면, 지지 시트(10)의 한쪽 면(본 명세서에 있어서는, 「제1 면」이라고 칭하는 경우가 있다)(10a) 상에 보호막 형성용 필름(13)이 적층된 구성을 갖는다. 또한, 보호막 형성용 복합 시트(1A)는 추가로 보호막 형성용 필름(13) 상에 박리 필름(15)을 구비하고 있다.The composite sheet 1A for protective film formation shown here is equipped with the base material 11, The adhesive layer 12 is provided on the base material 11, The film 13 for protective film formation on the adhesive layer 12 is provided. is provided. The support sheet 10 is a laminate of the base material 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 12, and the composite sheet 1A for forming a protective film is, in other words, one side of the support sheet 10 (in this specification, the It has a structure in which the film 13 for protective film formation was laminated|stacked on 10a (sometimes referred to as "one side"). Moreover, 1 A of composite sheet|seats for protective film formation are equipped with the peeling film 15 on the film 13 for protective film formation further.

보호막 형성용 복합 시트(1A)에 있어서는, 기재(11)의 한쪽 면(본 명세서에 있어서는, 「제1 면」이라고 칭하는 경우가 있다)(11a)에 점착제층(12)이 적층되고, 점착제층(12)의 기재(11)측과는 반대측 면(본 명세서에 있어서는, 「제1 면」이라고 칭하는 경우가 있다)(12a)의 전체 면에 보호막 형성용 필름(13)이 적층되며, 보호막 형성용 필름(13)의 점착제층(12)측과는 반대측 면(본 명세서에 있어서는, 「제1 면」이라고 칭하는 경우가 있다)(13a)의 일부, 즉, 주연부 근방의 영역에 지그용 접착제층(16)이 적층되고, 보호막 형성용 필름(13)의 제1 면(13a) 중, 지그용 접착제층(16)이 적층되어 있지 않은 면과, 지그용 접착제층(16)의 보호막 형성용 필름(13)과 접촉하고 있지 않은 면(16a)(상면 및 측면)에 박리 필름(15)이 적층되어 있다.In 1A of composite sheet for protective film formation, the adhesive layer 12 is laminated|stacked on one side (in this specification, it may call a "first surface") 11a of the base material 11, The adhesive layer In (12), the protective film 13 is laminated on the entire surface of the surface (in this specification, referred to as "first surface") 12a opposite to the substrate 11 side, and the protective film is formed. Adhesive layer for jigs in a part of the surface (in this specification, it may be called "the 1st surface") 13a on the opposite side to the adhesive layer 12 side of the film 13, ie, the area|region near the periphery for a jig|tool (16) is laminated|stacked, the surface on which the adhesive bond layer 16 for jig|tools is not laminated|stacked among the 1st surface 13a of the film 13 for protective film formation, and the film for protective film formation of the adhesive bond layer 16 for jig|tools. The release film 15 is laminated|stacked on the surface 16a (upper surface and side surface) which is not in contact with (13).

한편, 도 1 중, 부호 13b는, 보호막 형성용 필름(13)의 점착제층(12)측 면(본 명세서에 있어서는, 「제2 면」이라고 칭하는 경우가 있다)을 나타내고 있다.In addition, in FIG. 1, the code|symbol 13b has shown the adhesive layer 12 side surface (in this specification, a "2nd surface" may be called) of the film 13 for protective film formation.

지그용 접착제층(16)은 예를 들면, 접착제 성분을 함유하는 단층 구조인 것이어도 되며, 심재가 되는 시트의 양면에 접착제 성분을 함유하는 층이 적층된 복수층 구조인 것이어도 된다.The adhesive layer 16 for a jig may have, for example, a single-layer structure containing an adhesive component, or may have a multi-layer structure in which layers containing an adhesive component are laminated on both surfaces of a sheet serving as a core material.

보호막 형성용 복합 시트(1A)에 있어서 기재(11)의 제1 면(11a)은 요철면이다.In 1 A of composite sheet|seats for protective film formation, the 1st surface 11a of the base material 11 is an uneven|corrugated surface.

또한, 점착제층(12)은 기재(11)의 제1 면(요철면)(11a)에 직접 접촉하여 형성되어 있다. 이 때문에 점착제층(12)의 기재(11)측 면(본 명세서에 있어서는, 「제2 면」이라고 칭하는 경우가 있다)(12b)은 요철면이다.Further, the pressure-sensitive adhesive layer 12 is formed in direct contact with the first surface (concave-convex surface) 11a of the base material 11 . For this reason, the surface (in this specification, it may call a "second surface") 12b of the base material 11 side of the adhesive layer 12 is an uneven surface.

보호막 형성용 복합 시트(1A)에 있어서 기재(11)의 점착제층(12)측과는 반대측 면(본 명세서에 있어서는, 「제2 면」이라고 칭하는 경우가 있다)(11b)은, 요철면 및 평활면(비요철면, 광택면) 중 어느 것이어도 되지만, 평활면인 것이 바람직하다. 기재(11)의 제2 면(11b)은, 지지 시트(10)의 보호막 형성용 필름(13)측과는 반대측 면(본 명세서에 있어서는, 「제2 면」이라고 칭하는 경우가 있다)(10b)이라고도 말할 수 있다.In the composite sheet 1A for forming a protective film, the surface on the opposite side to the pressure-sensitive adhesive layer 12 side of the substrate 11 (in this specification, it may be referred to as a "second surface") 11b is an uneven surface and Although any of a smooth surface (a non-irregular surface, a glossy surface) may be sufficient, it is preferable that it is a smooth surface. The 2nd surface 11b of the base material 11 is the surface on the opposite side to the film 13 side for protective film formation of the support sheet 10 (in this specification, it may call a "second surface") 10b ) can also be said.

「요철면」, 「평활면」에 대해서는, 나중에 상세하게 설명한다."Concave-convex surface" and "smooth surface" will be described in detail later.

도 1에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)는, 박리 필름(15)이 제거된 상태에서 보호막 형성용 필름(13)의 제1 면(13a)에 반도체 웨이퍼(도시 생략)의 이면이 첩부되고 또한, 지그용 접착제층(16)의 면(16a) 중 상면이 링 프레임 등의 지그에 첩부되어 사용된다.In the composite sheet 1A for forming a protective film shown in Fig. 1, the back surface of a semiconductor wafer (not shown) is affixed to the first surface 13a of the film 13 for forming a protective film in a state in which the release film 15 is removed. Moreover, the upper surface among the surfaces 16a of the adhesive bond layer 16 for jig|tools is affixed to jigs, such as a ring frame, and is used.

도 2는, 본 발명의 다른 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 지지 시트와 함께 모식적으로 나타내는 단면도이다.It is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on another embodiment of this invention with a support sheet.

한편, 도 2 이후의 도면에 있어서, 이미 설명한 도면에 나타낸 것과 동일한 구성 요소에는, 그 설명한 도면의 경우와 동일한 부호를 부여하고, 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, in the drawings after FIG. 2, the same code|symbol as the case of the case of the illustrated figure is attached|subjected to the component same as that shown in the figure previously demonstrated, and the detailed description is abbreviate|omitted.

여기에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1B)는, 지그용 접착제층(16)을 구비하고 있지 않은 점 이외에는, 도 1에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)와 동일하다. 즉, 보호막 형성용 복합 시트(1B)에 있어서는, 기재(11)의 제1 면(11a)에 점착제층(12)이 적층되고, 점착제층(12)의 제1 면(12a)의 전체 면에 보호막 형성용 필름(13)이 적층되고, 보호막 형성용 필름(13)의 제1 면(13a)의 전체 면에 박리 필름(15)이 적층되어 있다.The composite sheet 1B for protective film formation shown here is the same as that of 1 A of composite sheets for protective film formation shown in FIG. 1 except the point which is not equipped with the adhesive bond layer 16 for jig|tools. That is, in the composite sheet 1B for forming a protective film, the pressure-sensitive adhesive layer 12 is laminated on the first surface 11a of the base material 11 , and on the entire surface of the first surface 12a of the pressure-sensitive adhesive layer 12 . The film 13 for protective film formation is laminated|stacked, and the peeling film 15 is laminated|stacked on the whole surface of the 1st surface 13a of the film 13 for protective film formation.

보호막 형성용 복합 시트(1B)에 있어서도, 기재(11)의 제1 면(11a)은 요철면이다.Also in the composite sheet 1B for protective film formation, the 1st surface 11a of the base material 11 is an uneven surface.

또한, 점착제층(12)은 기재(11)의 제1 면(요철면)(11a)에 직접 접촉하여 형성되어 있다. 이 때문에 점착제층(12)의 기재(11)측 면(제2 면)(12b)은 요철면이다.Further, the pressure-sensitive adhesive layer 12 is formed in direct contact with the first surface (concave-convex surface) 11a of the base material 11 . For this reason, the surface (2nd surface) 12b of the base material 11 side of the adhesive layer 12 is an uneven surface.

보호막 형성용 복합 시트(1B)에 있어서도, 기재(11)의 제2 면(11b)(다시 말하면, 지지 시트(10)의 제2 면(10b))은 요철면 및 평활면(비요철면) 중 어느 것이어도 되지만, 평활면인 것이 바람직하다.Also in the composite sheet 1B for forming a protective film, the second surface 11b of the base material 11 (that is, the second surface 10b of the support sheet 10) is one of a concave-convex surface and a smooth surface (non-convex surface). Although any may be sufficient, it is preferable that it is a smooth surface.

도 2에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1B)는, 박리 필름(15)이 제거된 상태에서 보호막 형성용 필름(13)의 제1 면(13a) 중, 중앙측의 일부 영역에 반도체 웨이퍼(도시 생략)의 이면이 첩부되고 또한, 주연부 근방의 영역이 링 프레임 등의 지그에 첩부되어 사용된다.The composite sheet 1B for protective film formation shown in FIG. 2 is a semiconductor wafer (shown in figure) in the central part of the 1st surface 13a of the film 13 for protective film formation in the state from which the peeling film 15 was removed. abbreviation) is pasted, and the area|region in the vicinity of a periphery is pasted to jigs, such as a ring frame, and is used.

도 3은, 본 발명의 또 다른 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 지지 시트와 함께 모식적으로 나타내는 단면도이다.3 : is sectional drawing which shows typically the composite sheet for protective film formation which concerns on another embodiment of this invention together with a support sheet.

여기에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1C)는, 보호막 형성용 필름의 형상이 상이한 점 이외에는, 도 2에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1B)와 동일하다. 즉, 보호막 형성용 복합 시트(1C)는, 기재(11)를 구비하고, 기재(11) 상에 점착제층(12)을 구비하며, 점착제층(12) 상에 보호막 형성용 필름(23)을 구비하고 있다. 지지 시트(10)는 기재(11) 및 점착제층(12)의 적층체이며, 보호막 형성용 복합 시트(1C)는, 다시 말하면, 지지 시트(10)의 제1 면(보호막 형성용 필름(23)측 면)(10a) 상에 보호막 형성용 필름(23)이 적층된 구성을 갖는다. 또한, 보호막 형성용 복합 시트(1C)는, 또한 보호막 형성용 필름(23) 상에 박리 필름(15)을 구비하고 있다.The composite sheet 1C for protective film formation shown here is the same as that of the composite sheet 1B for protective film formation shown in FIG. 2 except the point from which the shape of the film for protective film formation differs. That is, the composite sheet 1C for forming a protective film includes a base 11 , a pressure-sensitive adhesive layer 12 on the base 11 , and a film 23 for forming a protective film on the pressure-sensitive adhesive layer 12 . are being prepared The support sheet 10 is a laminate of the base material 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 12 , and the composite sheet 1C for forming a protective film is, in other words, the first surface of the support sheet 10 (film 23 for forming a protective film). ) has a configuration in which a film 23 for forming a protective film is laminated on the side) 10a. Moreover, 1 C of composite sheets for protective film formation are further equipped with the peeling film 15 on the film 23 for protective film formation.

보호막 형성용 복합 시트(1C)에 있어서는, 기재(11)의 제1 면(11a)에 점착제층(12)이 적층되고, 점착제층(12)의 제1 면(12a)의 일부, 즉, 중앙측의 영역에 보호막 형성용 필름(23)이 적층되어 있다. 그리고, 점착제층(12)의 제1 면(12a) 중, 보호막 형성용 필름(23)이 적층되어 있지 않은 영역과, 보호막 형성용 필름(23)의 점착제층(12)과 접촉하고 있지 않은 면(23a)(상면 및 측면) 상에 박리 필름(15)이 적층되어 있다.In 1 C of composite sheets for protective film formation, the adhesive layer 12 is laminated|stacked on the 1st surface 11a of the base material 11, A part of 1st surface 12a of the adhesive layer 12, ie, the center The film 23 for protective film formation is laminated|stacked in the area|region on the side. And the area|region on which the film 23 for protective film formation is not laminated|stacked among the 1st surface 12a of the adhesive layer 12, and the surface which is not in contact with the adhesive layer 12 of the film 23 for protective film formation. A release film 15 is laminated on 23a (top and side surfaces).

한편, 도 3 중, 부호 23b는 보호막 형성용 필름(23)의 점착제층(12)측 면(본 명세서에 있어서는, 「제2 면」이라고 칭하는 경우가 있다)을 나타내고 있다.In addition, in FIG. 3, the code|symbol 23b has shown the adhesive layer 12 side surface (in this specification, a "2nd surface" may be called) of the film 23 for protective film formation.

보호막 형성용 복합 시트(1C)를 상방으로부터 내려다 보아 평면에서 볼 때, 보호막 형성용 필름(23)은 점착제층(12)보다 표면적이 작고, 예를 들면, 원 형상 등의 형상을 갖는다.When 1 C of composite sheets for protective film formation are looked down from upper direction and planar view, the film 23 for protective film formation has a smaller surface area than the adhesive layer 12, For example, it has shapes, such as a circular shape.

보호막 형성용 복합 시트(1C)에 있어서도, 기재(11)의 제1 면(11a)은 요철면이다.Also in 1 C of composite sheets for protective film formation, the 1st surface 11a of the base material 11 is an uneven surface.

또한, 점착제층(12)은 기재(11)의 제1 면(요철면)(11a)에 직접 접촉하여 형성되어 있다. 이 때문에 점착제층(12)의 기재(11)측 면(제2 면)(12b)은 요철면이다.Further, the pressure-sensitive adhesive layer 12 is formed in direct contact with the first surface (concave-convex surface) 11a of the base material 11 . For this reason, the surface (2nd surface) 12b of the base material 11 side of the adhesive layer 12 is an uneven surface.

보호막 형성용 복합 시트(1C)에 있어서도, 기재(11)의 제2 면(11b)(다시 말하면, 지지 시트(10)의 제2 면(10b))은 요철면 및 평활면(비요철면) 중 어느 것이어도 되지만, 평활면인 것이 바람직하다.Also in 1C of composite sheet for protective film formation, the 2nd surface 11b of the base material 11 (in other words, the 2nd surface 10b of the support sheet 10) is one of an uneven surface and a smooth surface (non-convex surface). Although any may be sufficient, it is preferable that it is a smooth surface.

도 3에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1C)는, 박리 필름(15)이 제거된 상태에서 보호막 형성용 필름(23)의 면(23a)에 반도체 웨이퍼(도시 생략)의 이면이 첩부되고 또한, 점착제층(12)의 제1 면(12a) 중, 보호막 형성용 필름(23)이 적층되어 있지 않은 영역이 링 프레임 등의 지그에 첩부되어 사용된다.In the composite sheet 1C for forming a protective film shown in Fig. 3, the back surface of a semiconductor wafer (not shown) is affixed to the surface 23a of the film 23 for forming a protective film in a state in which the release film 15 is removed, The area|region on which the film 23 for protective film formation is not laminated|stacked among the 1st surface 12a of the adhesive layer 12 is affixed to jigs, such as a ring frame, and is used.

한편, 도 3에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1C)에 있어서는, 점착제층(12)의 제1 면(12a) 중, 보호막 형성용 필름(23)이 적층되어 있지 않은 영역에 도 1에 나타내는 것과 동일하게 지그용 접착제층이 적층되어 있어도 된다(도시 생략). 이러한 지그용 접착제층을 구비한 보호막 형성용 복합 시트(1C)는, 도 1에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트와 동일하게 지그용 접착제층의 상면이 링 프레임 등의 지그에 첩부되어 사용된다.On the other hand, in 1C of composite sheet for protective film formation shown in FIG. 3, among the 1st surface 12a of the adhesive layer 12, in the area|region where the film 23 for protective film formation is not laminated|stacked, what is shown in FIG. Similarly, the adhesive bond layer for jig|tools may be laminated|stacked (not shown). As for the composite sheet 1C for protective film formation provided with such an adhesive bond layer for jigs, the upper surface of the adhesive bond layer for jigs is stuck to jigs, such as a ring frame, similarly to the composite sheet for protective film formation shown in FIG.

이와 같이 보호막 형성용 복합 시트는 지지 시트 및 보호막 형성용 필름이 어떠한 형태여도, 지그용 접착제층을 구비한 것이어도 된다. 단, 통상은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 지그용 접착제층을 구비한 보호막 형성용 복합 시트로는 보호막 형성용 필름 상에 지그용 접착제층을 구비한 것이 바람직하다.Thus, whatever form the support sheet and the film for protective film formation may be provided with the adhesive bond layer for jigs, the composite sheet for protective film formation may be sufficient as it. However, normally, as shown in FIG. 1, as a composite sheet for protective film formation provided with the adhesive bond layer for jigs, it is preferable that what was equipped with the adhesive bond layer for jigs on the film for protective film formation.

본 발명의 일 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트는 도 1∼도 3에 나타내는 것으로 한정되지 않고, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서, 도 1∼도 3에 나타내는 것의 일부의 구성이 변경 또는 삭제된 것이나, 지금까지 설명한 것에 또 다른 구성이 추가된 것이어도 된다.The composite sheet for forming a protective film according to an embodiment of the present invention is not limited to that shown in Figs. What has been changed or deleted, or what has been described so far may be one in which another configuration is added.

예를 들면, 도 1∼도 3에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 기재(11)와 점착제층(12) 사이에 중간층이 형성되어 있어도 된다. 즉, 본 발명의 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 지지 시트는 기재, 중간층 및 점착제층이 이 순서로 이들의 두께 방향에 있어서 적층되어 구성되어 있어도 된다. 중간층으로는 목적에 따라 임의의 것을 선택할 수 있다.For example, in the composite sheet for protective film formation shown in FIGS. 1-3, the intermediate|middle layer may be formed between the base material 11 and the adhesive layer 12. As shown in FIG. That is, in the composite sheet for forming a protective film of the present invention, the support sheet may be constituted by laminating the base material, the intermediate layer, and the pressure-sensitive adhesive layer in this order in the thickness direction thereof. As the intermediate layer, any one can be selected depending on the purpose.

또한, 도 1∼도 3에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트는 상기 중간층 이외의 층이 임의의 개소에 형성되어 있어도 된다.In addition, as for the composite sheet for protective film formation shown to FIGS. 1-3, layers other than the said intermediate|middle layer may be formed in arbitrary locations.

또한, 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 박리 필름과, 이 박리 필름과 직접 접촉하고 있는 층 사이에 일부 간극이 생겨 있어도 된다.Moreover, in the composite sheet for protective film formation, a part of clearance gap may arise between the peeling film and the layer in direct contact with this peeling film.

또한, 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 각 층의 크기나 형상은 목적에 따라 임의로 조절할 수 있다.In addition, in the composite sheet for protective film formation, the magnitude|size and shape of each layer can be adjusted arbitrarily according to the objective.

단, 도 1∼도 3에 나타내는 바와 같이, 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 점착제층이 기재의 요철면(제1 면)에 직접 접촉하고 있는 것, 다시 말하면, 기재와 점착제층 사이에 중간층을 구비하고 있지 않고, 기재 상에 점착제층이 직접 접촉하여 적층되어 있는 것이 바람직하다.However, as shown in Figs. 1 to 3, in the composite sheet for forming a protective film, the pressure-sensitive adhesive layer is in direct contact with the uneven surface (first surface) of the substrate, that is, an intermediate layer is formed between the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer. It is not provided, and it is preferable that the adhesive layer is directly contacted and laminated|stacked on a base material.

또한, 보호막 형성용 복합 시트에 있어서는, 보호막 형성용 필름이 점착제층의 제1 면에 직접 접촉하고 있는 것, 다시 말하면, 점착제층과 보호막 형성용 필름 사이에 다른 층을 구비하고 있지 않고, 점착제층 상에 보호막 형성용 필름이 직접 접촉하여 적층되어 있는 것이 바람직하다.Further, in the composite sheet for forming a protective film, the film for forming a protective film is in direct contact with the first surface of the pressure-sensitive adhesive layer, that is, no other layer is provided between the pressure-sensitive adhesive layer and the film for forming a protective film, the pressure-sensitive adhesive layer It is preferable that the film for protective film formation directly contacts and laminates|stacks on it.

그리고, 보호막 형성용 복합 시트는 이들의 조건을 함께 만족하는 것, 즉, 기재, 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 이들의 두께 방향에 있어서 서로 직접 접촉하고 적층되어, 구성되어 있는 것이 보다 바람직하다.In addition, the composite sheet for forming a protective film satisfies these conditions together, that is, it is preferable that the base material, the pressure-sensitive adhesive layer, and the film for forming a protective film are in direct contact with each other in this order in the thickness direction and are laminated and configured desirable.

상기 지지 시트는 투명인 것이 바람직하다.The support sheet is preferably transparent.

지지 시트는 목적에 따라 착색되어 있어도 되고, 다른 층이 증착되어 있어도 된다.The support sheet may be colored according to the purpose, and another layer may be vapor-deposited.

예를 들면, 보호막 형성용 필름이 에너지선 경화성인 경우에는, 지지 시트는 에너지선을 투과시키는 것이 바람직하다.For example, when the film for protective film formation is energy-beam sclerosis|hardenability, it is preferable for a support sheet to permeate|transmit an energy-beam.

본 명세서에 있어서 「에너지선」이란, 전자파 또는 하전 입자선 중에서 에너지 양자를 갖는 것을 의미하고, 그 예로서 자외선, 방사선, 전자선 등을 들 수 있다. 자외선은 예를 들면, 자외선원으로서 고압 수은 램프, 퓨전 램프, 크세논 램프, 블랙 라이트 또는 LED 램프 등을 사용함으로써 조사할 수 있다. 전자선은 전자선 가속기 등에 의해 발생시킨 것을 조사할 수 있다.In this specification, an "energy beam" means having an energy proton in an electromagnetic wave or a charged particle beam, and an ultraviolet-ray, a radiation, an electron beam, etc. are mentioned as an example. Ultraviolet rays can be irradiated by using, for example, a high-pressure mercury lamp, a fusion lamp, a xenon lamp, a black light, an LED lamp, etc. as an ultraviolet-ray source. The electron beam can irradiate what was generated by an electron beam accelerator etc.

본 명세서에 있어서 「에너지선 경화성」이란, 에너지선을 조사함으로써 경화하는 성질을 의미하고, 「비에너지선 경화성」이란, 에너지선을 조사해도 경화하지 않는 성질을 의미한다.In this specification, "energy-beam sclerosis|hardenability" means the property to harden|cure by irradiating an energy beam, and "non-energy-beam sclerosis|hardenability" means the property which does not harden even if it irradiates an energy beam.

지지 시트에 있어서 파장 375㎚의 광의 투과율은 30% 이상인 것이 바람직하고, 50% 이상인 것이 보다 바람직하며, 70% 이상인 것이 특히 바람직하다. 상기 광의 투과율이 이러한 범위임으로써, 지지 시트를 개재하여 보호막 형성용 필름에 에너지선(자외선)을 조사했을 때, 보호막 형성용 필름의 경화도가 보다 향상된다.In the support sheet, the transmittance of light having a wavelength of 375 nm is preferably 30% or more, more preferably 50% or more, and particularly preferably 70% or more. When the transmittance|permeability of the said light is such a range and an energy ray (ultraviolet ray) is irradiated to the film for protective film formation through a support sheet, the hardening degree of the film for protective film formation improves more.

지지 시트에 있어서 파장 375㎚의 광의 투과율의 상한값은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 광의 투과율은 95% 이하여도 된다.The upper limit of the transmittance|permeability of the light of wavelength 375nm in a support sheet is not specifically limited. For example, the transmittance of the light may be 95% or less.

지지 시트에 있어서 파장 532㎚의 광의 투과율은 30% 이상인 것이 바람직하고, 50% 이상인 것이 보다 바람직하며, 70% 이상인 것이 특히 바람직하다. 상기 광의 투과율이 이러한 범위임으로써, 지지 시트를 개재하여 보호막 형성용 필름 또는 보호막에 레이저 광을 조사하고, 이들에 인자했을 때, 보다 명료하게 인자할 수 있다.In the support sheet, the transmittance of light having a wavelength of 532 nm is preferably 30% or more, more preferably 50% or more, and particularly preferably 70% or more. When a laser beam is irradiated to the film for protective film formation or a protective film through the support sheet, and the transmittance|permeability of the said light is this range, and printing on these, it can print more clearly.

지지 시트에 있어서 파장 532㎚의 광의 투과율의 상한값은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 광의 투과율은 95% 이하여도 된다.The upper limit of the transmittance|permeability of the light of wavelength 532nm in a support sheet is not specifically limited. For example, the transmittance of the light may be 95% or less.

지지 시트에 있어서 파장 1064㎚의 광의 투과율은 30% 이상인 것이 바람직하고, 50% 이상인 것이 보다 바람직하며, 70% 이상인 것이 특히 바람직하다. 상기 광의 투과율이 이러한 범위임으로써, 지지 시트를 개재하여 보호막 형성용 필름 또는 보호막에 레이저 광을 조사하고, 이들에 인자했을 때, 보다 명료하게 인자할 수 있다.In the support sheet, the transmittance of light having a wavelength of 1064 nm is preferably 30% or more, more preferably 50% or more, and particularly preferably 70% or more. When a laser beam is irradiated to the film for protective film formation or a protective film through the support sheet, and the transmittance|permeability of the said light is this range, and printing on these, it can print more clearly.

지지 시트에 있어서 파장 1064㎚의 광의 투과율의 상한값은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 광의 투과율은 95% 이하여도 된다.The upper limit of the transmittance|permeability of the light of wavelength 1064 nm in a support sheet is not specifically limited. For example, the transmittance of the light may be 95% or less.

지지 시트의 투과 선명도는 30 이상인 것이 바람직하고, 100 이상인 것이 보다 바람직하며, 200 이상인 것이 특히 바람직하다. 상기 투과 선명도가 이러한 범위임으로써, 지지 시트를 개재하여 보호막 형성용 필름의 들뜸 박리, 인자의 문제, 및 결함 등의 확인이 보다 용이해진다.It is preferable that the transmission clarity of a support sheet is 30 or more, It is more preferable that it is 100 or more, It is especially preferable that it is 200 or more. When the said transmission clarity is such a range, confirmation of the float peeling of the film for protective film formation through a support sheet, the problem of printing, a defect, etc. becomes easier.

지지 시트의 투과 선명도는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 투과 선명도는 430 이하여도 된다.The transmission clarity of the support sheet is not particularly limited. For example, the transmission clarity may be 430 or less.

지지 시트의 투과 선명도는 JIS K 7374-2007에 준거하여 측정할 수 있다.The transmission clarity of the supporting sheet can be measured in accordance with JIS K7374-2007.

이어서, 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트를 구성하는 각 층에 대해, 상세하게 설명한다.Next, each layer which comprises a support sheet and the composite sheet for protective film formation is demonstrated in detail.

○기재○ Mention

상기 기재는 시트상 또는 필름상이며 요철면을 갖는다.The substrate is in the form of a sheet or a film and has an uneven surface.

본 명세서에 있어서 「요철면」이란, JIS B 0601:2013에 규정되는 최대 높이 조도(Rz)가 0.01㎛ 이상인 면을 의미한다.In this specification, the "iron surface" means the surface whose maximum height roughness Rz prescribed|regulated to JISB0601:2013 is 0.01 micrometer or more.

또한, 「평활면」이란, 요철면이 아니며, 평활도가 높은 면을 의미하고, 「비요철면」 또는 「광택면」이라고 칭하는 경우도 있다. 예를 들면, 평활면에는, 상기 요철면에 해당하지 않는 정도의 극히 작은 요철도의 면이 포함된다.In addition, a "smooth surface" is not an uneven surface, but a surface with high smoothness is meant, and a "non-irregular surface" or a "glossy surface" may be called. For example, the smooth surface includes a surface with an extremely small degree of unevenness that does not correspond to the uneven surface.

기재에 있어서는, 한쪽 면만이 요철면이어도 되며, 양면이 함께 요철면이어도 되지만, 한쪽 면만이 요철면인 것이 바람직하다. 다시 말하면, 상기 기재에 있어서는, 한쪽 면만이 평활면인 것이 바람직하다. 지지 시트에 있어서는, 기재의 요철면이 점착제층을 구비하는 측의 면이 된다.In the base material, only one surface may be an uneven surface, and both surfaces may be uneven surfaces, but it is preferable that only one surface is an uneven surface. In other words, in the above substrate, it is preferable that only one surface is a smooth surface. In a support sheet, the uneven|corrugated surface of a base material turns into the surface on the side provided with an adhesive layer.

기재는 1층(단층)으로 이루어지는 것이어도 되며, 2층 이상의 복수층으로 이루어지는 것이어도 되고, 복수층으로 이루어지는 경우, 이들 복수층은 서로 동일해도 상이해도 되고, 이들 복수층의 조합은 특별히 한정되지 않는다.The substrate may be composed of one layer (single layer), may be composed of two or more layers, or if composed of multiple layers, these multiple layers may be the same or different from each other, and the combination of these multiple layers is not particularly limited. does not

기재가 복수층으로 이루어지는 경우에는, 이들 복수층 중의 최외층의 면(점착제층에 가장 가까운 면, 또는, 점착제층에 가장 가까운 면 및 가장 먼 면의 양면)이 상기 요철면이 된다.When a base material consists of multiple layers, the surface (the surface closest to an adhesive layer, or both surfaces of the surface closest to an adhesive layer, and a farthest surface) of the outermost layer among these multiple layers becomes the said uneven|corrugated surface.

본 명세서에 있어서는, 기재의 경우에 한정되지 않고, 「복수층이 서로 동일해도 상이해도 된다」란, 「모든 층이 동일해도 되고, 모든 층이 상이해도 되며, 일부의 층만이 동일해도 된다」는 것을 의미하고, 또한 「복수층이 서로 상이하다」란, 「각 층의 구성 재료 및 두께의 적어도 한쪽이 서로 상이하다」는 것을 의미한다.In this specification, it is not limited to the case of a description, "a plurality of layers may be the same or different from each other" means "all layers may be the same, all layers may be different, and only some layers may be the same" means, and "a plurality of layers are different from each other" means that "at least one of the constituent materials and thickness of each layer is different from each other."

기재의 점착제층을 구비하는 측의 요철면(제1 면)에 있어서, 기재의 R값은 1.3 이상 4.8 미만인 것이 바람직하다. 1.5 이상인 것이 바람직하고, 1.7 이상인 것이 보다 바람직하며, 예를 들면, 2.1 이상, 2.5 이상, 2.8 이상, 및 3.3 이상 중 어느 것이어도 된다. 상기 기재의 R값이 상기 하한값 이상임으로써 점착제의 R값을 양호하게 조정할 수 있다. 여기서, 기재의 R값이란, 기재의 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서, 상기 기재의 단면을 관찰했을 때, (인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계)/(기재에 수평 방향의 직선 거리)의 비의 평균값을 말한다.In the uneven surface (first surface) on the side provided with the pressure-sensitive adhesive layer of the substrate, the R value of the substrate is preferably 1.3 or more and less than 4.8. It is preferable that it is 1.5 or more, and it is more preferable that it is 1.7 or more, For example, any of 2.1 or more, 2.5 or more, 2.8 or more, and 3.3 or more may be sufficient. When R value of the said base material is more than the said lower limit, R value of an adhesive can be adjusted favorably. Here, the R value of the substrate is when a test piece is cut out from 5 places on the substrate, and the cross section of the substrate is observed in these five specimens, (sum of the linear distances between adjacent significant vertices)/(to the substrate It refers to the average value of the ratio of straight-line distances in the horizontal direction).

또한, 기재의 점착제층을 구비하는 측의 요철면(제1 면)에 있어서 JIS B 0601:2013에 준거하여 측정된 최대 높이 조도(Rz)는 0.01∼8㎛인 것이 바람직하고, 0.1∼7㎛인 것이 보다 바람직하며, 0.5∼6㎛인 것이 특히 바람직하다. 기재의 상기 Rz가 상기 하한값 이상임으로써, 기재를 단독으로 롤상으로 권취하고 풀어낼 때의 문제의 발생이 억제된다. 또한, 지지 시트 또는 보호막 형성용 복합 시트의 제조 과정에 있어서 기재를 포함하는 적층물에 대해서도, 동일하게 권취하고 풀어낼 때의 문제의 발생이 억제된다. 한편, 기재의 상기 Rz가 상기 상한값 이하임으로써, 점착제층과 보호막 형성용 필름의 적층성, 그리고 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 인자 시인성이 모두 양호해진다.Moreover, it is preferable that the maximum height roughness (Rz) measured based on JISB0601:2013 in the uneven|corrugated surface (1st surface) of the side provided with the adhesive layer of a base material is 0.01-8 micrometers, and 0.1-7 micrometers It is more preferable, and it is especially preferable that it is 0.5-6 micrometers. When the said Rz of a base material is more than the said lower limit, generation|occurrence|production of the problem at the time of winding up and unwinding a base material independently in roll shape is suppressed. Moreover, generation|occurrence|production of the problem at the time of winding up and unwinding similarly also about the laminated body containing a base material in the manufacturing process of a support sheet or the composite sheet for protective film formation is suppressed. On the other hand, when said Rz of a base material is below the said upper limit, both the lamination|stacking property of an adhesive layer and the film for protective film formation, and the printing visibility through the support sheet of a protective film or the film for protective film formation become favorable.

기재의 양면이 모두 요철면인 경우에는, 이들 양면의 요철도는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.When both surfaces of a base material are uneven|corrugated surfaces, the unevenness|corrugation degree of these both surfaces may mutually be same or different.

상기 기재의 구성 재료로는 예를 들면, 각종 수지를 들 수 있다.As a constituent material of the said base material, various resin is mentioned, for example.

상기 수지로는 예를 들면, 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 직쇄 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 고밀도 폴리에틸렌(HDPE) 등의 폴리에틸렌; 폴리프로필렌, 폴리부텐, 폴리부타디엔, 폴리메틸펜텐, 노르보르넨 수지 등의 폴리에틸렌 이외의 폴리올레핀; 에틸렌-초산비닐 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴산 공중합체, 에틸렌-(메타)아크릴산에스테르 공중합체, 에틸렌-노르보르넨 공중합체 등의 에틸렌계 공중합체(모노머로서 에틸렌을 사용하여 얻어진 공중합체); 폴리염화비닐, 염화비닐 공중합체 등의 염화비닐계 수지(모노머로서 염화비닐을 사용하여 얻어진 수지); 폴리스티렌; 폴리시클로올레핀; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈렌디카르복시레이트, 모든 구성 단위가 방향족 고리형기를 갖는 전방향족 폴리에스테르 등의 폴리에스테르; 2종 이상의 상기 폴리에스테르의 공중합체; 폴리(메타)아크릴산에스테르; 폴리우레탄; 폴리우레탄아크릴레이트; 폴리이미드; 폴리아미드; 폴리카보네이트; 불소 수지; 폴리아세탈; 변성 폴리페닐렌옥시드; 폴리페닐렌설파이드; 폴리술폰; 폴리에테르케톤 등을 들 수 있다.Examples of the resin include polyethylene such as low-density polyethylene (LDPE), linear low-density polyethylene (LLDPE), and high-density polyethylene (HDPE); polyolefins other than polyethylene, such as polypropylene, polybutene, polybutadiene, polymethylpentene, and norbornene resin; Ethylene-based copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer, ethylene-norbornene copolymer (copolymer obtained using ethylene as a monomer) ; vinyl chloride-based resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer (resin obtained using vinyl chloride as a monomer); polystyrene; polycycloolefin; polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate, and wholly aromatic polyester in which all structural units have aromatic cyclic groups; a copolymer of two or more of the above polyesters; poly(meth)acrylic acid ester; Polyurethane; polyurethane acrylate; polyimide; polyamide; polycarbonate; fluororesin; polyacetal; modified polyphenylene oxide; polyphenylene sulfide; polysulfone; Polyether ketone etc. are mentioned.

또한, 상기 수지로는 예를 들면, 상기 폴리에스테르와 그 이외의 수지의 혼합물 등의 폴리머 알로이도 들 수 있다. 상기 폴리에스테르와 그 이외의 수지의 폴리머 알로이는, 폴리에스테르 이외의 수지의 양이 비교적 소량인 것이 바람직하다.Moreover, as said resin, polymer alloys, such as a mixture of the said polyester and other resin, are also mentioned, for example. In the polymer alloy of the polyester and the resin other than that, it is preferable that the amount of the resin other than the polyester is relatively small.

또한, 상기 수지로는 예를 들면, 지금까지 예시한 상기 수지의 1종 또는 2종 이상이 가교한 가교 수지; 지금까지 예시한 상기 수지의 1종 또는 2종 이상을 사용한 아이오노머 등의 변성 수지도 들 수 있다.Moreover, as said resin, For example, 1 type(s) or 2 or more types of the said resin illustrated so far are bridge|crosslinking resin; Modified resins, such as an ionomer using 1 type(s) or 2 or more types of the said resin illustrated so far, are also mentioned.

본 명세서에 있어서 「(메타)아크릴산」이란, 「아크릴산」 및 「메타크릴산」의 양쪽을 포함하는 개념으로 한다. (메타)아크릴산과 유사한 용어에 대해서도 동일하며, 예를 들면, 「(메타)아크릴로일기」란, 「아크릴로일기」 및 「메타크릴로일기」의 양쪽을 포함하는 개념이며, 「(메타)아크릴레이트」란, 「아크릴레이트」 및 「메타크릴레이트」의 양쪽을 포함하는 개념이다.In the present specification, "(meth)acrylic acid" is a concept including both "acrylic acid" and "methacrylic acid". The same applies to terms similar to (meth)acrylic acid. For example, "(meth)acryloyl group" is a concept including both "acryloyl group" and "methacryloyl group", and "(meth) "Acrylate" is a concept including both "acrylate" and "methacrylate."

기재를 구성하는 수지는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of resins constituting the substrate may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

기재의 두께는 50∼300㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 60∼150㎛의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 기재의 두께가 이러한 범위 내임으로써, 상기 보호막 형성용 복합 시트의 가요성과 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩에 대한 첩부성이 보다 향상된다.It is preferable to exist in the range of 50-300 micrometers, and, as for the thickness of a base material, it is more preferable to exist in the range of 60-150 micrometers. When the thickness of a base material exists in such a range, the flexibility of the said composite sheet for protective film formation, and the sticking property to a semiconductor wafer or a semiconductor chip improve more.

기재는 상술한 바와 같이 요철면을 갖고 있기 때문에, 그 두께는 기재의 부위에 의해 변동하고 있다. 따라서, 기재의 두께의 최소값이 상기 하한값 이상이어도 되며, 기재의 두께의 최대값이 상기 상한값 이하여도 된다.Since the base material has an uneven surface as described above, its thickness fluctuates depending on the site of the base material. Therefore, the minimum value of the thickness of a base material may be more than the said lower limit, and the maximum value of the thickness of a base material may be less than the said upper limit.

한편, 「기재의 두께」란, 기재 전체의 두께를 의미하고, 예를 들면, 복수층으로 이루어지는 기재의 두께란, 기재를 구성하는 모든 층의 합계의 두께를 의미한다.In addition, the "thickness of a base material" means the thickness of the whole base material, for example, the thickness of the base material which consists of multiple layers means the thickness of the sum total of all the layers which comprise a base material.

기재의 두께는 예를 들면, 주사 전자 현미경(SEM)을 이용하여 기재의 측면 또는 단면을 관찰함으로써 측정할 수 있다.The thickness of the substrate can be measured, for example, by observing the side or cross-section of the substrate using a scanning electron microscope (SEM).

기재의 단면은 예를 들면, 상술한 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 시험편에 있어서의 단면의 경우와 동일한 방법으로 형성할 수 있다.The cross section of the substrate can be formed, for example, in the same manner as in the case of the cross section in the test piece of the support sheet and the composite sheet for forming a protective film described above.

예를 들면, 앞서 설명한 방법과 마찬가지로, 지지 시트 또는 보호막 형성용 복합 시트의 복수 개소(예를 들면, 5개소)로부터 시험편을 잘라내어, 이 시험편에 있어서 기재의 두께의 최소값 및 최대값을 구하고, 이들의 값으로부터 또한, 이들 최소값의 평균값 및 최대값의 평균값을 구했을 때, 상기 최소값의 평균값이 상술한 기재의 두께의 하한값 이상이어도 되며, 상기 최대값의 평균값이 상술한 기재의 두께의 상한값 이하여도 된다. For example, similarly to the method described above, a test piece is cut out from a plurality of locations (for example, five locations) of a support sheet or a composite sheet for forming a protective film, and the minimum and maximum values of the thickness of the substrate in this test piece are obtained, and these Further, when the average value of these minimum values and the average value of the maximum values is obtained from the value of .

기재는 상기 수지 등의 주된 구성 재료 이외에, 충전재, 착색제, 대전 방지제, 산화 방지제, 유기 윤활제, 촉매, 연화제(가소제) 등의 공지의 각종 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The base material may contain various known additives such as fillers, colorants, antistatic agents, antioxidants, organic lubricants, catalysts, and softeners (plasticizers) in addition to the main constituent materials such as the resin.

기재는 투명인 것이 바람직하다.The substrate is preferably transparent.

기재는 목적에 따라 착색되어 있어도 되고, 다른 층이 증착되어 있어도 된다.The base material may be colored according to the purpose, and another layer may be vapor-deposited.

예를 들면, 보호막 형성용 필름이 에너지선 경화성인 경우에는, 기재는 에너지선을 투과시키는 것이 바람직하다.For example, when the film for protective film formation is energy-beam sclerosis|hardenability, it is preferable for a base material to permeate|transmit an energy-beam.

기재는 그 위에 형성되는 점착제층 등의 직접 접촉하는 층과의 밀착성을 향상시키기 위해, 코로나 방전 처리, 전자선 조사 처리, 플라즈마 처리, 오존·자외선 조사 처리, 화염 처리, 크롬산 처리, 열풍 처리 등의 산화 처리 등이 표면에 실시된 것이어도 된다.The substrate is oxidized by corona discharge treatment, electron beam irradiation treatment, plasma treatment, ozone/ultraviolet irradiation treatment, flame treatment, chromic acid treatment, hot air treatment, etc. in order to improve adhesion with a layer in direct contact such as an adhesive layer formed thereon A treatment or the like may be applied to the surface.

또한, 기재는 표면이 프라이머 처리를 실시한 것이어도 된다.In addition, the surface to which the primer process was given may be sufficient as a base material.

또한, 기재는 대전 방지 코팅층; 보호막 형성용 복합 시트를 중첩시켜 보존할 때, 기재가 다른 시트에 접착하는 것이나, 기재가 흡착 테이블에 접착하는 것을 방지하는 층 등을 갖는 것이어도 된다.In addition, the substrate may include an antistatic coating layer; When the composite sheet for forming a protective film is stacked and stored, the substrate may have a layer or the like that prevents the substrate from adhering to another sheet or from adhering the substrate to the adsorption table.

기재는 공지의 방법으로 제조할 수 있다. 예를 들면, 수지를 함유하는 기재는 상기 수지를 함유하는 수지 조성물을 성형함으로써 제조할 수 있다.The substrate can be prepared by a known method. For example, the base material containing a resin can be manufactured by shaping|molding the resin composition containing the said resin.

요철면을 갖지 않는 기재(다시 말하면, 양면이 평활면인 기재)를 사용하는 경우에는, 기재의 평활면을 요철화 처리하면 된다.In the case of using a substrate having no concavo-convex surface (that is, a substrate having smooth surfaces on both sides), the smooth surface of the substrate may be subjected to concavo-convex treatment.

요철화 처리는 공지의 방법으로 행할 수 있다. 예를 들면, 요철면을 갖는 금속롤 또는 금속판을 사용하여, 그 상기 요철면을 기재의 평활면에 가압함으로써, 기재의 평활면을 요철화 처리할 수 있다. 이 때, 가열된 상태의 금속롤 또는 금속판을 기재의 평활면에 가압하는 것이 바람직하다.The unevenness treatment can be performed by a known method. For example, by using a metal roll or a metal plate having an uneven surface, and pressing the uneven surface to the smooth surface of the substrate, the smooth surface of the substrate can be treated to be uneven. At this time, it is preferable to press the heated metal roll or metal plate to the smooth surface of the substrate.

예를 들면, 상이한 요철을 갖는 금속롤을 사용하여 원하는 요철면을 갖는 기재를 제작할 수 있는 것 외에, 동일한 요철을 갖는 금속롤을 사용해도, 금속롤의 온도를 변화시키거나 금속롤 사이의 간극 간격을 변화시켜 가압력을 변경함으로써, 원하는 요철면을 갖는 기재를 제작할 수 있다. 또한, 기재의 평활면은 샌드 블라스트 처리 또는 용제 처리 등에 의해 요철화 처리할 수 있다. 어느 방법으로 요철을 제작한 것이어도, 발명의 효과에는 영향은 없다.For example, in addition to being able to manufacture a substrate having a desired uneven surface by using metal rolls having different unevenness, even if metal rolls having the same unevenness are used, the temperature of the metal rolls is changed or the gap between the metal rolls is By changing the pressing force, it is possible to manufacture a substrate having a desired uneven surface. In addition, the smooth surface of the substrate may be roughened by sand blasting or solvent treatment. Even if the unevenness|corrugation is produced by any method, the effect of invention is not affected.

○점착제층○Adhesive layer

상기 점착제층은 시트상 또는 필름상이다.The pressure-sensitive adhesive layer is in the form of a sheet or a film.

점착제층에 있어서는, 통상은, 기재와 점착제층 사이의 중간층의 유무에 상관없이 기재의 상기 요철면의 영향을 받아, 적어도 기재측 면이 요철면으로 되어 있다.In the pressure-sensitive adhesive layer, in general, regardless of the presence or absence of an intermediate layer between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer, the surface of the base material is affected by the concave-convex surface, and at least the surface on the side of the base material is the concave-convex surface.

점착제층은 1층(단층)으로 이루어지는 것이어도 되며, 2층 이상의 복수층으로 이루어지는 것이어도 되고, 복수층으로 이루어지는 경우, 이들 복수층은 서로 동일해도 상이해도 되고, 이들 복수층의 조합은 특별히 한정되지 않는다.The pressure-sensitive adhesive layer may consist of one layer (single layer), may be composed of multiple layers of two or more layers, and when composed of multiple layers, these multiple layers may be the same or different from each other, and the combination of these multiple layers is particularly limited doesn't happen

점착제층이 복수층으로 이루어지는 경우에는, 이들 복수층 중 최외층의 면(기재에 가장 가까운 면)이 상기 요철면이 된다.When an adhesive layer consists of multiple layers, the surface (surface closest to a base material) of an outermost layer among these multiple layers turns into the said uneven|corrugated surface.

여기서, 도면을 참조하면서, 기재 및 점착제층에 대해 더욱 상세하게 설명한다.Here, the base material and the pressure-sensitive adhesive layer will be described in more detail with reference to the drawings.

도 4는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 확대 단면도이다. 여기에서는, 도 1에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)를 예로 들어 설명한다. 한편, 도 4에 있어서는, 박리 필름의 도시를 생략하고 있다.4 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a composite sheet for forming a protective film according to an embodiment of the present invention. Here, 1 A of composite sheets for protective film formation shown in FIG. 1 are mentioned as an example and demonstrated. In addition, in FIG. 4, illustration of a peeling film is abbreviate|omitted.

앞서 설명한 바와 같이, 기재(11)의 제1 면(11a)은 요철면이다. 그리고, 점착제층(12)은 기재(11)의 제1 면(요철면)(11a)에 직접 접촉하여 형성되어 있으며, 점착제층(12)의 제2 면(12b)은 기재(11)의 제1 면(11a)에 추종하기 쉽게 되어 있다. 따라서, 점착제층(12)의 제2 면(12b)도 요철면이 된다. As described above, the first surface 11a of the substrate 11 is an uneven surface. In addition, the pressure-sensitive adhesive layer 12 is formed in direct contact with the first surface (concave-convex surface) 11a of the substrate 11, and the second surface 12b of the pressure-sensitive adhesive layer 12 is made of the substrate 11 It is made easy to follow one surface 11a. Accordingly, the second surface 12b of the pressure-sensitive adhesive layer 12 also becomes an uneven surface.

인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리는 일정하지 않으며, 점착제층(12)의 부위에 의해 변동한다. 여기에서는, 인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리를 부호 La1, Lb1, La2, Lb2…로 나타내고 있다. 또한, 부호 La1, Lb1, La2, Lb2…로 나타내는 선분 중, 부호 La1 및 Lb1로 나타내는 선분을 점착제층에 수평 방향의 평면에 투영한 선분을 L1로 나타내고, 부호 La2 및 Lb2로 나타내는 선분을 점착제층에 수평 방향의 평면에 투영한 선분을 L2로 나타내고 있다.The linear distance between adjacent significant vertices is not constant, and fluctuates depending on the portion of the pressure-sensitive adhesive layer 12 . Here, the linear distances between significant adjacent vertices are denoted by symbols L a1 , L b1 , L a2 , L b2 ... is indicated by In addition, symbols L a1 , L b1 , L a2 , L b2 ... Among the line segments indicated by , the line segments indicated by the symbols L a1 and L b1 are projected onto the pressure-sensitive adhesive layer on a horizontal plane, the line segments are indicated by L 1 , and the line segments indicated by the symbols L a2 and L b2 are placed on the pressure-sensitive adhesive layer on the horizontal plane. The projected line segment is indicated by L 2 .

보호막 형성용 복합 시트(1A)에 있어서는, 그 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서 단면을 형성하여, 이 새로 형성된 단면에 있어서 각각 점착제층의 모든 인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리(상기 부호 La1, Lb1, La2, Lb2…) 및 그 사이의 점착제층에 수평 방향의 직선 거리가 구해진다. 그리고, (모든 인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리(상기 부호 La1, Lb1, La2, Lb2…)의 합계)/(점착제층에 수평 방향의 직선 거리(상기 부호 L1, L2…로 나타내는 선분의 길이의 합계))의 비를 산출하고, 적어도 5개의 비의 값으로부터 그 평균값(상기 R값)을 구하면 1.5 이상 5.0 미만이 된다.In 1A of composite sheet for protective film formation, a test piece is cut out from the five places, a cross section is formed in these five test pieces, In this newly formed cross section, all adjacent significant vertices of each adhesive layer are linear distances between each other. (The code|symbol L a1 , L b1 , L a2 , L b2 ...) and the linear distance in a horizontal direction are calculated|required for the adhesive layer in between. And (sum of the linear distances between all adjacent significant vertices (the above symbols L a1 , L b1 , L a2 , L b2 …)) / (the horizontal linear distance to the pressure-sensitive adhesive layer (the above symbols L 1 , L 2 …) The sum of the lengths of the line segments represented by ))) is calculated, and the average value (the R value) is calculated from the values of at least five ratios to be 1.5 or more and less than 5.0.

도 5는, 본 발명의 일 실시형태에 따른 보호막 형성용 복합 시트를 모식적으로 나타내는 확대 단면도이다. 여기에서는, 도 1에 나타내는 보호막 형성용 복합 시트(1A)를 예로 들어 설명한다. 한편, 도 5에 있어서는, 박리 필름의 도시를 생략하고 있다.5 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a composite sheet for forming a protective film according to an embodiment of the present invention. Here, 1 A of composite sheets for protective film formation shown in FIG. 1 are mentioned as an example and demonstrated. In addition, in FIG. 5, illustration of a peeling film is abbreviate|omitted.

점착제층(12)의 두께(Ta)는 일정하지 않고, 점착제층(12)의 부위에 의해 변동한다. 여기에서는, 점착제층(12)의 두께의 최소값을 부호 Ta1로 나타내고, 점착제층(12)의 두께의 최대값을 부호 Ta2로 나타내고 있다.The thickness Ta of the pressure-sensitive adhesive layer 12 is not constant and fluctuates depending on the portion of the pressure-sensitive adhesive layer 12 . Here, the minimum value of the thickness of the adhesive layer 12 is shown by code|symbol T a1 , and the maximum value of the thickness of the adhesive layer 12 is shown by code|symbol T a2 .

보호막 형성용 복합 시트(1A)에 있어서는, 그 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서 단면을 형성하여, 이 새로 형성된 단면에 있어서 각각 점착제층의 두께의 최소값(Ta1) 및 최대값(Ta2)이 구해진다. 그리고, 적어도 5개의 Ta1의 값으로부터 그 평균값(상기 S값)을 구하면 1.5㎛ 이상이 되는 것이 바람직하고, 적어도 5개의 Ta2의 값으로부터 그 평균값(상기 L값)을 구하면 9㎛ 이하가 되는 것이 바람직하다.In 1A of composite sheet for protective film formation, a test piece is cut out from the five places, a cross section is formed in these five test pieces, In this newly formed cross section, the minimum value ( Ta1 ) and the maximum of the thickness of an adhesive layer, respectively. A value T a2 is found. And, when the average value (the S value) is obtained from at least five values of Ta1 , it is preferably 1.5 µm or more, and when the average value (the L value) is obtained from the values of at least five Ta2 values, it is 9 µm or less it is preferable

보호막 형성용 복합 시트(1A)로부터의 시험편의 잘라냄과, 시험편에 있어서의 단면의 형성과, 상기 단면에 있어서의 점착제층의 R값의 측정과, 점착제층의 두께의 최소값(Ta1) 및 최대값(Ta2)의 측정은, 앞서 설명한 바와 같이, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있지 않은 지지 시트로부터 시험편을 잘라냈을 경우와 동일하게 행할 수 있다. Cutting of the test piece from the composite sheet 1A for forming a protective film, formation of a cross section in the test piece, measurement of the R value of the pressure-sensitive adhesive layer in the cross section, and the minimum value ( Ta1 ) of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer and The measurement of maximum value Ta2 can be performed similarly to the case where a test piece is cut out from the support sheet which does not comprise the composite sheet for protective film formation as mentioned above.

한편, 보호막 형성용 복합 시트를 구성하고 있지 않은 지지 시트의 확대 단면도는, 도 4 및 도 5에 있어서 보호막 형성용 필름(13)의 도시를 생략한 것과 동일하다.In addition, the enlarged sectional view of the support sheet which does not comprise the composite sheet for protective film formation is the same as that which abbreviate|omitted illustration of the film 13 for protective film formation in FIG.4 and FIG.5.

보호막 형성용 복합 시트(1A)로서 여기에서는, 기재(11)와 점착제층(12) 사이에 이들이 첩합되어 있지 않은 영역(본 명세서에 있어서는, 「비첩합 영역」이라고 칭하는 경우가 있다)(91)이 존재하는 것을 나타내고 있다. 단, 보호막 형성용 복합 시트(1A)가 이러한 비첩합 영역(91)을 갖고 있어도 보호막 형성용 복합 시트(1A)의 두께 방향에 있어서의 비첩합 영역(91)의 크기가 예를 들면, 0.5㎛ 이하인 보호막 형성용 복합 시트(1A)는, 기재(11)와 점착제층(12)의 적층성이 양호하여, 양호한 특성을 갖고 있다고 할 수 있다.As 1A of composite sheet for protective film formation, here, between the base material 11 and the adhesive layer 12, these are not bonded area|region (in this specification, it may call a "non-bonding area|region") (91) indicates that it exists. However, even if 1A of composite sheet|seat for protective film formation has such non-bonding area|region 91, the magnitude|size of the non-bonding area|region 91 in the thickness direction of 1 A of composite sheet|seats for protective film formation is 0.5 micrometer, for example. The following composite sheet|seat 1A for protective film formation has favorable lamination|stacking property of the base material 11 and the adhesive layer 12, and it can be said that it has favorable characteristics.

한편, 본 명세서에 있어서 「보호막 형성용 복합 시트의 두께 방향에 있어서의 비첩합 영역의 크기」란, 「보호막 형성용 복합 시트에 있어서 인접하는 2층의 상기 시트의 두께 방향에 있어서의 층간 거리」를 의미하며, 단순히 「층간 거리」라고 칭하는 경우가 있다. 예를 들면, 상술한 「보호막 형성용 복합 시트(1A)의 두께 방향에 있어서의 비첩합 영역(91)의 크기」란, 「상기 시트(1A)의 두께 방향에 있어서의 기재(11)와 점착제층(12) 사이의 층간 거리」를 의미한다.In addition, in this specification, "the size of the non-bonding area|region in the thickness direction of the composite sheet for protective film formation" means "the interlayer distance in the thickness direction of the said sheet of two adjacent layers in the composite sheet for protective film formation" , and is sometimes referred to simply as an “interlayer distance”. For example, the "size of the non-bonding area|region 91 in the thickness direction of 1 A of composite sheets for protective film formation" mentioned above" is "the base material 11 and the adhesive in the thickness direction of 1 A of said sheets." interlayer distance between the layers 12 .

1개소의 비첩합 영역의 크기(층간 거리)가 변동하고 있는 경우에는, 그 최대값을 비첩합 영역의 크기(층간 거리)로서 채용한다.When the size (interlayer distance) of one non-bonding area|region fluctuates, the maximum value is employ|adopted as the magnitude|size (interlayer distance) of a non-bonding area|region.

비첩합 영역의 크기(층간 거리)는 예를 들면, 상술한 점착제층의 R값의 경우와 동일한 방법으로 측정할 수 있다. 즉, 점착제층의 R값을 구할 때와 동일한 방법으로 보호막 형성용 복합 시트의 시험편에 있어서 단면을 형성하고, 이 단면에 있어서 비첩합 영역의 크기를 구할 수 있다. 혹은, 시험편을 제작하지 않고, 보호막 형성용 복합 시트 자체로 단면을 형성하여, 이 단면에 있어서 비첩합 영역의 크기를 구해도 된다.The magnitude|size (interlayer distance) of a non-bonding area|region can be measured by the method similar to the case of R value of the above-mentioned adhesive layer, for example. That is, a cross section is formed in the test piece of the composite sheet for protective film formation by the method similar to when calculating|requiring the R value of an adhesive layer, and the magnitude|size of a non-bonding area|region can be calculated|required in this cross section. Or a cross section may be formed with composite sheet itself for protective film formation, without producing a test piece, and the magnitude|size of a non-bonding area|region may be calculated|required in this cross section.

비첩합 영역(91)의 크기(상기 층간 거리)는 예를 들면, 0.4㎛ 이하, 0.3㎛ 이하, 0.2㎛ 이하 및 0.1㎛ 이하 중 어느 하나여도 된다.The size (the interlayer distance) of the non-bonding region 91 may be, for example, any one of 0.4 µm or less, 0.3 µm or less, 0.2 µm or less, and 0.1 µm or less.

보호막 형성용 복합 시트(1A)에 있어서는, 비첩합 영역(91)이 전혀 존재하지 않는 경우도 있다. 본 명세서에 있어서 비첩합 영역(91)이 전혀 존재하지 않을 때, 비첩합 영역(91)의 크기(층간 거리)를 0㎛로 표기하는 경우가 있다.In 1 A of composite sheets for protective film formation, the non-bonding area|region 91 does not exist at all in some cases. In this specification, when the non-bonding area|region 91 does not exist at all, the magnitude|size (interlayer distance) of the non-bonding area|region 91 may be expressed by 0 micrometer.

여기에서는, 보호막 형성용 복합 시트(1A)를 예로 들어 기재 및 점착제층에 대해 설명했지만, 보호막 형성용 복합 시트(1B), 보호막 형성용 복합 시트(1C) 등의 다른 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트의 경우에도, 기재 및 점착제층은 동일하다.Here, although the base material and adhesive layer were demonstrated taking 1 A of composite sheets for protective film formation as an example, the composite sheet for protective film formation of other embodiment, such as the composite sheet 1B for protective film formation, and the composite sheet 1C for protective film formation. Also in the case of the sheet, the base material and the pressure-sensitive adhesive layer are the same.

점착제층의 R값은 1.5 이상이며, 또한 5.0 미만이면, 특별히 한정되지 않으나, 1.7 이상인 것이 바람직하고, 1.9 이상인 것이 보다 바람직하며, 예를 들면, 2.3 이상, 2.7 이상, 3.1 이상, 및 3.5 이상 중 어느 하나여도 된다. 상기 R값이 상기 하한값 이상임으로써, 기재와 점착제의 밀착성이 보다 양호해진다.The R value of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as it is 1.5 or more and less than 5.0, but is preferably 1.7 or more, more preferably 1.9 or more, for example, out of 2.3 or more, 2.7 or more, 3.1 or more, and 3.5 or more. Any one may be sufficient. When the said R value is more than the said lower limit, the adhesiveness of a base material and an adhesive becomes more favorable.

한편, 점착제층의 R값은 예를 들면, 4.5 이하여도 되며, 4.0 이하여도 된다. 이러한 점착제층은 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 인자 시인성이 양호해진다.On the other hand, the R value of the pressure-sensitive adhesive layer may be, for example, 4.5 or less, or 4.0 or less. Such an adhesive layer becomes favorable in printing visibility through the support sheet of a protective film or the film for protective film formation.

점착제층의 R값은 상술한 바람직한 하한값 및 상한값을 임의로 조합하여 설정되는 범위 내로 적절히 조절할 수 있다. 예를 들면, 점착제층의 R값은 바람직하게는 1.5∼4, 보다 바람직하게는 1.7∼4, 더욱 바람직하게는 1.9∼4이며, 예를 들면, 2.3∼4, 2.7∼4, 3.1∼4, 및 3.5∼4 중 어느 하나여도 된다. 단, 이들은 점착제층의 R값의 일례이다.The R value of the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately adjusted within a range set by arbitrarily combining the above-described preferred lower limit and upper limit values. For example, R value of an adhesive layer becomes like this. Preferably it is 1.5-4, More preferably, it is 1.7-4, More preferably, it is 1.9-4, for example, 2.3-4, 2.7-4, 3.1-4, And any one of 3.5-4 may be sufficient. However, these are examples of the R value of an adhesive layer.

점착제층의 S값은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 특별히 한정되지 않으나, 1.5㎛ 이상이며, 또한 9㎛ 미만인 것이 바람직하다. 1.7㎛ 이상인 것이 보다 바람직하며, 1.9㎛ 이상인 것이 특히 바람직하고, 예를 들면, 2.3㎛ 이상, 2.7㎛ 이상, 3.1㎛ 이상, 및 3.5㎛ 이상 중 어느 하나여도 된다. 상기 S값이 상기 하한값 이상임으로써, 점착제층과 보호막 형성용 필름의 적층성이 보다 양호해진다.Although the S value of an adhesive layer is not specifically limited unless the effect of this invention is impaired, It is 1.5 micrometers or more, and it is preferable that it is less than 9 micrometers. It is more preferable that it is 1.7 micrometers or more, and it is especially preferable that it is 1.9 micrometers or more, For example, any one of 2.3 micrometers or more, 2.7 micrometers or more, 3.1 micrometers or more, and 3.5 micrometers or more may be sufficient. When the said S value is more than the said lower limit, the lamination|stacking property of an adhesive layer and the film for protective film formation becomes more favorable.

한편, 점착제층의 S값은 예를 들면, 8㎛ 이하여도 된다. 이러한 점착제층은 보다 용이하게 형성할 수 있다.In addition, the S value of an adhesive layer may be 8 micrometers or less, for example. Such a pressure-sensitive adhesive layer can be formed more easily.

점착제층의 S값은 상술한 바람직한 하한값 및 상한값을 임의로 조합하여 설정되는 범위 내로 적절히 조절할 수 있다. 예를 들면, 점착제층의 S값은 바람직하게는 1.5∼8㎛, 보다 바람직하게는 1.7∼8㎛, 더욱 바람직하게는 1.9∼8㎛이며, 예를 들면, 2.3∼8㎛, 2.7∼8㎛, 3.1∼8㎛, 및 3.5∼8㎛ 중 어느 하나여도 된다. 단, 이들은 점착제층의 S값의 일례이다.The S value of the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately adjusted within the range set by arbitrarily combining the above-described preferred lower limit and upper limit values. For example, the S value of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1.5 to 8 µm, more preferably 1.7 to 8 µm, still more preferably 1.9 to 8 µm, for example, 2.3 to 8 µm and 2.7 to 8 µm. , 3.1 to 8 µm, and any one of 3.5 to 8 µm may be sufficient. However, these are examples of the S value of an adhesive layer.

점착제층의 L값은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 특별히 한정되지 않으나, 9㎛ 이하이며, 또한 1.5㎛보다 큰 경우가 바람직하다. 8.6㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 8.3㎛ 이하인 것이 특히 바람직하며, 예를 들면, 7.7㎛ 이하, 7.3㎛ 이하, 6.9㎛ 이하, 및 6.5㎛ 이하 중 어느 하나여도 된다. 상기 L값이 상기 상한값 이하임으로써, 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 인자 시인성이 보다 양호해진다.Although the L value of an adhesive layer is not specifically limited unless the effect of this invention is impaired, The case where it is 9 micrometers or less, and larger than 1.5 micrometers is preferable. It is more preferable that it is 8.6 micrometers or less, It is especially preferable that it is 8.3 micrometers or less, For example, any one of 7.7 micrometers or less, 7.3 micrometers or less, 6.9 micrometers or less, and 6.5 micrometers or less may be sufficient. When the said L value is below the said upper limit, the printing visibility through the support sheet of a protective film or the film for protective film formation becomes more favorable.

한편, 점착제층의 L값은 예를 들면, 2.5㎛ 이상이어도 된다. 이러한 점착제층은 보다 용이하게 형성할 수 있다.In addition, 2.5 micrometers or more may be sufficient as L value of an adhesive layer, for example. Such a pressure-sensitive adhesive layer can be formed more easily.

점착제층의 L값은 상술한 바람직한 하한값 및 상한값을 임의로 조합하여 설정되는 범위 내로 적절히 조절할 수 있다. 예를 들면, 점착제층의 L값은 바람직하게는 2.5∼9㎛, 보다 바람직하게는 2.5∼8.6㎛, 더욱 바람직하게는 2.5∼8.3㎛이며, 예를 들면, 2.5∼7.7㎛, 2.5∼7.3㎛, 2.5∼6.9㎛, 및 2.5∼6.5㎛ 중 어느 하나여도 된다.The L value of the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately adjusted within the range set by arbitrarily combining the preferable lower limit and upper limit described above. For example, L value of an adhesive layer becomes like this. Preferably it is 2.5-9 micrometers, More preferably, it is 2.5-8.6 micrometers, More preferably, it is 2.5-8.3 micrometers, for example, 2.5-7.7 micrometers, 2.5-7.3 micrometers. , 2.5 to 6.9 µm, and any one of 2.5 to 6.5 µm may be sufficient.

점착제층의 두께(예를 들면, Ta)는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 특별히 한정되지 않으나, 상술한 S값 및 L값의 조건을 만족하는 것이 바람직하다.The thickness (eg, T a ) of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, but it is preferable to satisfy the conditions of the S value and the L value described above.

예를 들면, 점착제층의 두께는 1.5∼9㎛여도 된다.For example, the thickness of an adhesive layer may be 1.5-9 micrometers.

한편, 「점착제층의 두께」란, 점착제층 전체의 두께를 의미하며, 예를 들면, 복수층으로 이루어지는 점착제층의 두께란, 점착제층을 구성하는 모든 층의 합계의 두께를 의미한다. 이러한 관점에서 상술한 점착제층의 두께의 최소값 및 최대값을 규정한다.In addition, the "thickness of an adhesive layer" means the thickness of the whole adhesive layer, for example, the thickness of the adhesive layer which consists of multiple layers means the thickness of the sum total of all the layers which comprise an adhesive layer. From this point of view, the minimum and maximum values of the thickness of the above-described pressure-sensitive adhesive layer are defined.

점착제층은 점착제를 함유한다.The pressure-sensitive adhesive layer contains a pressure-sensitive adhesive.

상기 점착제로는 예를 들면, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 고무계 수지, 실리콘계 수지, 에폭시계 수지, 폴리비닐에테르, 폴리카보네이트, 에스테르계 수지 등의 점착성 수지를 들 수 있고, 아크릴계 수지가 바람직하다.Examples of the adhesive include adhesive resins such as acrylic resins, urethane resins, rubber resins, silicone resins, epoxy resins, polyvinyl ethers, polycarbonates, and ester resins, and acrylic resins are preferable.

본 명세서에 있어서 「점착성 수지」란, 점착성을 갖는 수지와 접착성을 갖는 수지의 양쪽을 포함하는 개념이며, 예를 들면, 수지 자체가 점착성을 가질 뿐만 아니라, 첨가제 등의 다른 성분과의 병용에 의해 점착성을 나타내는 수지나, 열 또는 물 등의 트리거의 존재에 의해 접착성을 나타내는 수지 등도 포함한다.As used herein, the term "adhesive resin" is a concept including both a resin having adhesiveness and a resin having adhesiveness, for example, not only the resin itself has adhesiveness, but also in combination with other components such as additives. Resin which shows adhesiveness by this, resin etc. which show adhesiveness by presence of triggers, such as heat or water, are also included.

점착제층은 투명인 것이 바람직하다.It is preferable that an adhesive layer is transparent.

점착제층은 목적에 따라 착색되어 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive layer may be colored according to the purpose.

예를 들면, 보호막 형성용 필름이 에너지선 경화성인 경우에는, 점착제층은 에너지선을 투과시키는 것이 바람직하다.For example, when the film for protective film formation is energy-beam sclerosis|hardenability, it is preferable that an adhesive layer permeate|transmits an energy-beam.

점착제층은 에너지선 경화성 점착제를 사용하여 형성된 것이어도 되며, 비에너지선 경화성 점착제를 사용하여 형성된 것이어도 된다. 에너지선 경화성 점착제를 사용하여 형성된 점착제층은 경화 전 및 경화 후에서의 물성을 용이하게 조절할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer may be formed using an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive or may be formed using a non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive. The pressure-sensitive adhesive layer formed using the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive can easily control physical properties before and after curing.

<<점착제 조성물>><<Adhesive composition>>

점착제층은 점착제를 함유하는 점착제 조성물을 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 점착제층의 형성 대상면에 점착제 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 목적으로 하는 부위에 점착제층을 형성할 수 있다. 점착제층의 보다 구체적인 형성 방법은, 그 이외의 층의 형성 방법과 함께, 나중에 상세하게 설명한다. 점착제 조성물 중의 상온에서 기화하지 않는 성분끼리의 함유량의 비율은 통상, 점착제층의 상기 성분끼리의 함유량의 비율과 동일해진다.The pressure-sensitive adhesive layer can be formed by using a pressure-sensitive adhesive composition containing a pressure-sensitive adhesive. For example, an adhesive layer can be formed in the target site|part by coating an adhesive composition on the formation target surface of an adhesive layer, and drying as needed. The more specific formation method of an adhesive layer is demonstrated in detail later with the formation method of other layers. The ratio of content of the components which do not vaporize at normal temperature in an adhesive composition becomes the same as the ratio of content of the said components of an adhesive layer normally.

본 명세서에 있어서 「상온」이란, 특별히 냉각하거나 가열하지 않은 온도, 즉 평상시 온도를 의미하며, 예를 들면, 15∼25℃의 온도 등을 들 수 있다.In the present specification, "room temperature" means a temperature that is not particularly cooled or heated, that is, a normal temperature, and for example, a temperature of 15 to 25°C and the like.

점착제 조성물의 도공은 공지의 방법으로 행하면 되며, 예를 들면, 에어 나이프 코터, 블레이드 코터, 바 코터, 그라비아 코터, 롤 코터, 롤 나이프 코터, 커튼 코터, 다이 코터, 나이프 코터, 스크린 코터, 메이어 바 코터, 키스 코터 등의 각종 코터를 이용하는 방법을 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition may be coated by a known method, for example, an air knife coater, a blade coater, a bar coater, a gravure coater, a roll coater, a roll knife coater, a curtain coater, a die coater, a knife coater, a screen coater, and a Mayer bar. The method using various coaters, such as a coater and a kiss coater, is mentioned.

점착제 조성물의 건조 조건은 특별히 한정되지 않으나, 점착제 조성물은 후술하는 용매를 함유하고 있는 경우, 가열 건조시키는 것이 바람직하다. 용매를 함유하는 점착제 조성물은 예를 들면, 70∼130℃에서 10초∼5분의 조건으로 건조시키는 것이 바람직하다.Although the drying conditions of an adhesive composition are not specifically limited, When the adhesive composition contains the solvent mentioned later, it is preferable to heat-dry. It is preferable to dry the adhesive composition containing a solvent on conditions for 10 second - 5 minutes at 70-130 degreeC, for example.

점착제층이 에너지선 경화성인 경우, 에너지선 경화성 점착제를 함유하는 점착제 조성물, 즉, 에너지선 경화성 점착제 조성물로는 예를 들면, 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)(이하, 「점착성 수지(I-1a)」라고 약기하는 경우가 있다)와, 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 점착제 조성물(I-1); 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)의 측쇄에 불포화기가 도입된 에너지선 경화성 점착성 수지(I-2a)(이하, 「점착성 수지(I-2a)」라고 약기하는 경우가 있다)를 함유하는 점착제 조성물(I-2); 상기 점착성 수지(I-2a)와 에너지선 경화성 화합물을 함유하는 점착제 조성물(I-3) 등을 들 수 있다.When the pressure-sensitive adhesive layer is energy ray-curable, the pressure-sensitive adhesive composition containing the energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive, that is, the energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive composition, includes, for example, a non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-1a) (hereinafter referred to as “adhesive resin ( I-1a)") and a pressure-sensitive adhesive composition (I-1) containing an energy ray-curable compound; Energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-2a) in which an unsaturated group is introduced into the side chain of the non-energy-ray-curable adhesive resin (I-1a) (hereinafter sometimes abbreviated as "adhesive resin (I-2a)") containing pressure-sensitive adhesive composition (I-2); The adhesive composition (I-3) containing the said adhesive resin (I-2a) and an energy-beam curable compound, etc. are mentioned.

<점착제 조성물(I-1)><Adhesive composition (I-1)>

상기 점착제 조성물(I-1)은 상술한 바와 같이, 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)와 에너지선 경화성 화합물을 함유한다.As described above, the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) contains a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-1a) and an energy ray-curable compound.

[점착성 수지(I-1a)][Adhesive resin (I-1a)]

상기 점착성 수지(I-1a)는 아크릴계 수지인 것이 바람직하다.The adhesive resin (I-1a) is preferably an acrylic resin.

상기 아크릴계 수지로는 예를 들면, 적어도 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위를 갖는 아크릴계 중합체를 들 수 있다.As said acrylic resin, the acrylic polymer which has a structural unit derived from at least (meth)acrylic-acid alkylester is mentioned, for example.

상기 아크릴계 수지가 갖는 구성 단위는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of structural units which the said acrylic resin has may be 1 type, and 2 or more types may be sufficient as it, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

상기 (메타)아크릴산알킬에스테르로는 예를 들면, 알킬에스테르를 구성하는 알킬기의 탄소수가 1∼20인 것을 들 수 있고, 상기 알킬기는 직쇄형 또는 분기쇄형인 것이 바람직하다.Examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester include those having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group constituting the alkyl ester, and the alkyl group is preferably linear or branched.

(메타)아크릴산알킬에스테르로서 보다 구체적으로는, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산n-프로필, (메타)아크릴산이소프로필, (메타)아크릴산n-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산sec-부틸, (메타)아크릴산tert-부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산헵틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산n-노닐, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산운데실, (메타)아크릴산도데실((메타)아크릴산라우릴), (메타)아크릴산트리데실, (메타)아크릴산테트라데실((메타)아크릴산미리스틸), (메타)아크릴산펜타데실, (메타)아크릴산헥사데실((메타)아크릴산팔미틸), (메타)아크릴산헵타데실, (메타)아크릴산옥타데실((메타)아크릴산스테아릴), (메타)아크릴산노나데실, (메타)아크릴산이코실 등을 들 수 있다.More specifically, as (meth)acrylic acid alkyl ester, (meth) methyl acrylate, (meth) ethyl acrylate, (meth) acrylate n-propyl, (meth) acrylate isopropyl, (meth) acrylate n-butyl, (meth) Isobutyl acrylate, (meth)acrylate sec-butyl, (meth)acrylate tert-butyl, (meth)acrylate pentyl, (meth)acrylate hexyl, (meth)acrylate heptyl, (meth)acrylic acid 2-ethylhexyl, (meth) Isooctyl acrylate, (meth)acrylic acid n-octyl, (meth)acrylic acid n-nonyl, (meth)acrylic acid isononyl, (meth)acrylic acid decyl, (meth)acrylic acid undecyl, (meth)acrylic acid dodecyl ((meth)acrylic acid ) acrylic acid lauryl), (meth)acrylic acid tridecyl, (meth)acrylic acid tetradecyl ((meth)acrylic acid myristyl), (meth)acrylic acid pentadecyl, (meth)acrylic acid hexadecyl ((meth)acrylic acid palmityl), (meth)acrylic acid heptadecyl, (meth)acrylic acid octadecyl ((meth)acrylic acid stearyl), (meth)acrylic acid nonadecyl, (meth)acrylic acid icosyl, etc. are mentioned.

점착제층의 점착력이 향상하는 점에서 상기 아크릴계 중합체는, 상기 알킬기의 탄소수가 4 이상인 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위를 갖는 것이 바람직하다. 그리고, 점착제층의 점착력이 보다 향상하는 점에서, 상기 알킬기의 탄소수는, 4∼12인 것이 바람직하고, 4∼8인 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 알킬기의 탄소수가 4 이상인 (메타)아크릴산알킬에스테르는, 아크릴산알킬에스테르인 것이 바람직하다.It is preferable that the said acrylic polymer has the structural unit derived from the (meth)acrylic-acid alkylester whose carbon number of the said alkyl group is 4 or more at the point which the adhesive force of an adhesive layer improves. And it is preferable that it is 4-12, and, as for carbon number of the said alkyl group, it is more preferable that it is 4-8 at the point which the adhesive force of an adhesive layer improves more. Moreover, it is preferable that C4 or more of the said alkyl group (meth)acrylic-acid alkylester is an acrylic acid alkylester.

상기 아크릴계 중합체는, (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위 이외에, 추가로 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖는 것이 바람직하다.It is preferable that the said acrylic polymer has the structural unit derived from a functional group containing monomer further other than the structural unit derived from the (meth)acrylic-acid alkylester.

상기 관능기 함유 모노머로는 예를 들면, 상기 관능기가 후술하는 가교제와 반응함으로써 가교의 기점이 되거나 상기 관능기가 후술하는 불포화기 함유 화합물 중의 불포화기와 반응함으로써, 아크릴계 중합체의 측쇄에 불포화기의 도입을 가능하게 하는 것을 들 수 있다.As the functional group-containing monomer, for example, when the functional group reacts with a crosslinking agent described later, it becomes a starting point of crosslinking, or when the functional group reacts with an unsaturated group in an unsaturated group-containing compound described later, it is possible to introduce an unsaturated group into the side chain of the acrylic polymer. can be heard to do

관능기 함유 모노머 중의 상기 관능기로는 예를 들면, 수산기, 카르복시기, 아미노기, 에폭시기 등을 들 수 있다.As said functional group in a functional group containing monomer, a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group, an epoxy group, etc. are mentioned, for example.

즉, 관능기 함유 모노머로는 예를 들면, 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머 등을 들 수 있다.That is, as a functional group containing monomer, a hydroxyl group containing monomer, a carboxy group containing monomer, an amino group containing monomer, an epoxy group containing monomer, etc. are mentioned, for example.

상기 수산기 함유 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산히드록시메틸, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산3-히드록시프로필, (메타)아크릴산2-히드록시부틸, (메타)아크릴산3-히드록시부틸, (메타)아크릴산4-히드록시부틸 등의 (메타)아크릴산히드록시알킬; 비닐알코올, 알릴알코올 등의 비(메타)아크릴계 불포화 알코올((메타)아크릴로일 골격을 갖지 않는 불포화 알코올) 등을 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing monomer, for example, (meth) acrylic acid hydroxymethyl, (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth) acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth) acrylic acid 3-hydroxypropyl, (meth) ) hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate; Non-(meth)acrylic-type unsaturated alcohols (unsaturated alcohol which does not have a (meth)acryloyl skeleton), such as vinyl alcohol and allyl alcohol, etc. are mentioned.

상기 카르복시기 함유 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산, 크로톤산 등의 에틸렌성 불포화 모노카르복실산(에틸렌성 불포화 결합을 갖는 모노카르복실산); 푸마르산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산 등의 에틸렌성 불포화 디카르복실산(에틸렌성 불포화 결합을 갖는 디카르복실산); 상기 에틸렌성 불포화 디카르복실산의 무수물; 2-카르복시에틸메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴산카르복시알킬에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing monomer include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids (monocarboxylic acids having an ethylenically unsaturated bond) such as (meth)acrylic acid and crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acids (dicarboxylic acids having an ethylenically unsaturated bond) such as fumaric acid, itaconic acid, maleic acid, and citraconic acid; anhydrides of the ethylenically unsaturated dicarboxylic acids; (meth)acrylic acid carboxyalkyl esters, such as 2-carboxyethyl methacrylate, etc. are mentioned.

관능기 함유 모노머는 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머가 바람직하고, 수산기 함유 모노머가 보다 바람직하다.The functional group-containing monomer is preferably a hydroxyl group-containing monomer or a carboxyl group-containing monomer, and more preferably a hydroxyl group-containing monomer.

상기 아크릴계 중합체를 구성하는 관능기 함유 모노머는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of functional group-containing monomers constituting the acrylic polymer may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 아크릴계 중합체에 있어서 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위의 함유량은 구성 단위의 전체량에 대해 1∼35질량%인 것이 바람직하고, 2∼30질량%인 것이 보다 바람직하며, 3∼27질량%인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of the structural unit derived from a functional group containing monomer in the said acrylic polymer is 1-35 mass % with respect to the total amount of structural units, It is more preferable that it is 2-30 mass %, It is 3-27 mass % Especially preferred.

상기 아크릴계 중합체는, (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위, 및 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위 이외에, 추가로 다른 모노머 유래의 구성 단위를 갖고 있어도 된다.The said acrylic polymer may have the structural unit derived from another monomer other than the structural unit derived from the (meth)acrylic-acid alkylester, and the structural unit derived from a functional group containing monomer further.

상기 다른 모노머는 (메타)아크릴산알킬에스테르 등과 공중합 가능한 것이면 특별히 한정되지 않는다.The other monomer is not particularly limited as long as it can be copolymerized with (meth)acrylic acid alkylester or the like.

상기 다른 모노머로는 예를 들면, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 포름산비닐, 초산비닐, 아크릴로니트릴, 아크릴아미드 등을 들 수 있다.Examples of the other monomer include styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, vinyl formate, vinyl acetate, acrylonitrile, and acrylamide.

상기 아크릴계 중합체를 구성하는 상기 다른 모노머는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the other monomers constituting the acrylic polymer may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 아크릴계 중합체는, 상술한 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)로서 사용할 수 있다.The acrylic polymer can be used as the above-mentioned non-energy ray-curable adhesive resin (I-1a).

한편, 상기 아크릴계 중합체 중의 관능기에 에너지선 중합성 불포화기(에너지선 중합성기)를 갖는 불포화기 함유 화합물을 반응시킨 것은, 상술한 에너지선 경화성 점착성 수지(I-2a)로서 사용할 수 있다.On the other hand, what made the functional group in the said acrylic polymer react the unsaturated-group containing compound which has an energy-beam polymerizable unsaturated group (energy-beam polymeric group) can be used as the above-mentioned energy-beam curable adhesive resin (I-2a).

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 점착성 수지(I-1a)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of adhesive resins (I-1a) contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-1)에 있어서 점착성 수지(I-1a)의 함유량은 5∼99질량%인 것이 바람직하고, 10∼95질량%인 것이 보다 바람직하며, 15∼90질량%인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of adhesive resin (I-1a) in an adhesive composition (I-1) is 5-99 mass %, It is more preferable that it is 10-95 mass %, It is especially preferable that it is 15-90 mass % .

[에너지선 경화성 화합물][Energy-ray-curable compound]

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 상기 에너지선 경화성 화합물로는 에너지선 중합성 불포화기를 갖고, 에너지선의 조사에 의해 경화 가능한 모노머 또는 올리고머를 들 수 있다.As said energy-beam-curable compound which adhesive composition (I-1) contains, it has an energy-beam polymerizable unsaturated group, and the monomer or oligomer which can be hardened|cured by irradiation of an energy-beam is mentioned.

에너지선 경화성 화합물 중, 모노머로는 예를 들면, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,4-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올(메타)아크릴레이트 등의 다가 (메타)아크릴레이트; 우레탄(메타)아크릴레이트; 폴리에스테르(메타)아크릴레이트; 폴리에테르(메타)아크릴레이트; 에폭시(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Among the energy ray-curable compounds, examples of the monomer include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol (meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth). polyvalent (meth)acrylates such as acrylate, 1,4-butylene glycol di(meth)acrylate, and 1,6-hexanediol (meth)acrylate; urethane (meth)acrylate; polyester (meth)acrylate; polyether (meth)acrylate; Epoxy (meth)acrylate, etc. are mentioned.

에너지선 경화성 화합물 중, 올리고머로는 예를 들면, 상기에서 예시한 모노머가 중합하여 이루어지는 올리고머 등을 들 수 있다.Among the energy ray-curable compounds, examples of the oligomer include an oligomer obtained by polymerization of the monomers exemplified above.

에너지선 경화성 화합물은 분자량이 비교적 크고, 점착제층의 저장 탄성률을 저하시키기 어렵다는 점에서는 우레탄(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머가 바람직하다.An energy ray-curable compound has a comparatively large molecular weight, and urethane (meth)acrylate and a urethane (meth)acrylate oligomer are preferable at the point that it is hard to reduce the storage elastic modulus of an adhesive layer.

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 상기 에너지선 경화성 화합물은 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the said energy-beam curable compound contained in an adhesive composition (I-1) may be one, and two or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

상기 점착제 조성물(I-1)에 있어서 상기 에너지선 경화성 화합물의 함유량은 1∼95질량%인 것이 바람직하고, 5∼90질량%인 것이 보다 바람직하며, 10∼85질량%인 것이 특히 바람직하다.In the said adhesive composition (I-1), it is preferable that content of the said energy-beam sclerosing|hardenable compound is 1-95 mass %, It is more preferable that it is 5-90 mass %, It is especially preferable that it is 10-85 mass %.

[가교제][Crosslinking agent]

점착성 수지(I-1a)로서 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위 이외에, 추가로 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체를 사용하는 경우, 점착제 조성물(I-1)은 추가로 가교제를 함유하는 것이 바람직하다.When using the acrylic polymer having a structural unit derived from a functional group-containing monomer in addition to the structural unit derived from the (meth)acrylic acid alkylester as the adhesive resin (I-1a), the adhesive composition (I-1) is additionally a crosslinking agent It is preferable to contain

상기 가교제는 예를 들면, 상기 관능기와 반응하여 점착성 수지(I-1a)끼리를 가교하는 것이다.The crosslinking agent reacts with the functional group to crosslink the adhesive resins (I-1a).

가교제로는 예를 들면, 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 이들 디이소시아네이트의 어덕트체 등의 이소시아네이트계 가교제(이소시아네이트기를 갖는 가교제); 에틸렌글리콜글리시딜에테르 등의 에폭시계 가교제(글리시딜기를 갖는 가교제); 헥사[1-(2-메틸)-아지리디닐]트리포스파트리아진 등의 아지리딘계 가교제(아지리디닐기를 갖는 가교제); 알루미늄 킬레이트 등의 금속 킬레이트계 가교제(금속 킬레이트 구조를 갖는 가교제); 이소시아누레이트계 가교제(이소시아눌산 골격을 갖는 가교제) 등을 들 수 있다.Examples of the crosslinking agent include isocyanate-based crosslinking agents (crosslinking agents having an isocyanate group) such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and adducts of these diisocyanates; Epoxy-based crosslinking agents (crosslinking agents having a glycidyl group) such as ethylene glycol glycidyl ether; aziridine-based crosslinking agents (crosslinking agents having an aziridinyl group) such as hexa[1-(2-methyl)-aziridinyl]triphosphatriazine; metal chelate-based crosslinking agents such as aluminum chelates (crosslinking agents having a metal chelate structure); isocyanurate-based crosslinking agent (crosslinking agent having isocyanuric acid skeleton); and the like.

점착제의 응집력을 향상시켜 점착제층의 점착력을 향상시키는 점, 및 입수가 용이한 등의 점에서, 가교제는 이소시아네이트계 가교제인 것이 바람직하다.It is preferable that the crosslinking agent is an isocyanate type crosslinking agent from points, such as the point which improves the cohesive force of an adhesive, and improves the adhesive force of an adhesive layer, and an acquisition is easy.

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 가교제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of crosslinking agents contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 점착제 조성물(I-1)에 있어서 가교제의 함유량은 점착성 수지(I-1a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01∼50질량부인 것이 바람직하고, 0.1∼20질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.3∼15질량부인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of a crosslinking agent in the said adhesive composition (I-1) is 0.01-50 mass parts with respect to content of 100 mass parts of adhesive resin (I-1a), It is more preferable that it is 0.1-20 mass parts, It is 0.3-15 mass parts It is especially preferable that it is a mass part.

[광중합 개시제][Photoinitiator]

점착제 조성물(I-1)은 추가로 광중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 광중합 개시제를 함유하는 점착제 조성물(I-1)은 자외선 등의 비교적 저에너지의 에너지선을 조사해도 충분히 경화 반응이 진행한다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may further contain a photoinitiator. The adhesive composition (I-1) containing a photoinitiator fully advances hardening reaction even if it irradiates comparatively low energy energy rays, such as an ultraviolet-ray.

상기 광중합 개시제로는 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인벤조산, 벤조인벤조산메틸, 벤조인디메틸케탈 등의 벤조인 화합물; 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등의 아세토페논 화합물; 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드 화합물; 벤질페닐설파이드, 테트라메틸티우람모노설파이드 등의 설파이드 화합물; 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 등의 α-케톨 화합물; 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물; 티타노센 등의 티타노센 화합물; 티옥산톤 등의 티옥산톤 화합물; 퍼옥사이드 화합물; 디아세틸 등의 디케톤 화합물; 벤질; 디벤질; 벤조페논; 2,4-디에틸티옥산톤; 1,2-디페닐메탄; 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로파논; 2-클로로안트라퀴논 등을 들 수 있다.Examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, methyl benzoin benzoate, benzoin dimethyl ketal, etc. phosphorus compounds; acetophenone compounds such as acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one; acylphosphine oxide compounds such as bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; sulfide compounds such as benzylphenyl sulfide and tetramethylthiuram monosulfide; α-ketol compounds such as 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; titanocene compounds such as titanocene; thioxanthone compounds such as thioxanthone; peroxide compounds; diketone compounds such as diacetyl; benzyl; dibenzyl; benzophenone; 2,4-diethylthioxanthone; 1,2-diphenylmethane; 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone; 2-chloroanthraquinone etc. are mentioned.

또한, 상기 광중합 개시제로는 예를 들면, 1-클로로안트라퀴논 등의 퀴논 화합물; 아민 등의 광증감제 등을 사용할 수도 있다.Moreover, as said photoinitiator, For example, quinone compounds, such as 1-chloroanthraquinone; Photosensitizers, such as an amine, etc. can also be used.

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 광중합 개시제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the photoinitiator which adhesive composition (I-1) contains, and 2 or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-1)에 있어서 광중합 개시제의 함유량은 상기 에너지선 경화성 화합물의 함유량 100질량부에 대해 0.01∼20질량부인 것이 바람직하고, 0.03∼10질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.05∼5질량부인 것이 특히 바람직하다.The content of the photoinitiator in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.03 to 10 parts by mass, and 0.05 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the content of the energy ray-curable compound. It is particularly preferred.

[그 외의 첨가제][Other additives]

점착제 조성물(I-1)은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서, 상술한 어느 성분에도 해당하지 않는 그 외의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition (I-1) may contain the other additive which does not correspond to any component mentioned above within the range which does not impair the effect of this invention.

상기 그 외의 첨가제로는 예를 들면, 대전 방지제, 산화 방지제, 연화제(가소제), 충전재(필러), 방청제, 착색제(안료, 염료), 증감제, 점착 부여제, 반응 지연제, 가교 촉진제(촉매) 등의 공지의 첨가제를 들 수 있다.Examples of the above other additives include antistatic agents, antioxidants, softeners (plasticizers), fillers (fillers), rust inhibitors, colorants (pigments, dyes), sensitizers, tackifiers, reaction retarders, crosslinking accelerators (catalysts) ) and other known additives.

한편, 반응 지연제란 예를 들면, 점착제 조성물(I-1) 중에 혼입되어 있는 촉매의 작용에 의해 보존 중의 점착제 조성물(I-1)에 있어서 목적으로 하지 않는 가교 반응이 진행되는 것을 억제하는 것이다. 반응 지연제로는 예를 들면, 촉매에 대한 킬레이트에 의해 킬레이트 착체를 형성하는 것을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 1분자 중에 카르보닐기(-C(=O)-)를 2개 이상 갖는 것을 들 수 있다.On the other hand, a reaction retarder suppresses that the crosslinking reaction not intended in the adhesive composition (I-1) during storage advances by the action|action of the catalyst mixed in the adhesive composition (I-1), for example. . Examples of the reaction retardant include those that form a chelate complex by chelating with a catalyst, and more specifically, those having two or more carbonyl groups (-C(=O)-) in one molecule. .

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 그 외의 첨가제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the other additive which adhesive composition (I-1) contains, and 2 or more types may be sufficient, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-1)에 있어서 그 외의 첨가제의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 그 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of other additives in an adhesive composition (I-1) is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the kind.

[용매][menstruum]

점착제 조성물(I-1)은 용매를 함유하고 있어도 된다. 점착제 조성물(I-1)은 용매를 함유하고 있음으로써, 도공 대상면에 대한 도공 적성이 향상된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may contain a solvent. By containing the solvent, the adhesive composition (I-1) improves the coating aptitude with respect to the surface to be coated.

상기 용매는 유기 용매인 것이 바람직하고, 상기 유기 용매로는 예를 들면, 메틸에틸케톤, 아세톤 등의 케톤; 초산에틸 등의 에스테르(카르복실산에스테르); 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 에테르; 시클로헥산, n-헥산 등의 지방족 탄화수소; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소; 1-프로판올, 2-프로판올 등의 알코올 등을 들 수 있다.The solvent is preferably an organic solvent, and examples of the organic solvent include ketones such as methyl ethyl ketone and acetone; Esters, such as ethyl acetate (carboxylate ester); ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane and n-hexane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Alcohol, such as 1-propanol and 2-propanol, etc. are mentioned.

상기 용매로는 예를 들면, 점착성 수지(I-1a)의 제조시에 사용한 것을 점착성 수지(I-1a)로부터 제거하지 않고, 그대로 점착제 조성물(I-1)에 있어서 사용해도 되며, 점착성 수지(I-1a)의 제조시에 사용한 것과 동일 또는 상이한 종류의 용매를 점착제 조성물(I-1)의 제조시에 별도 첨가해도 된다.The solvent may be used as it is in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) without removing it from the pressure-sensitive adhesive resin (I-1a), for example, the solvent used in the production of the pressure-sensitive adhesive resin (I-1a), or the pressure-sensitive adhesive resin (I-1a) A solvent of the same or different type as that used in the preparation of I-1a) may be separately added during the preparation of the pressure-sensitive adhesive composition (I-1).

점착제 조성물(I-1)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-1)에 있어서 용매의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 적절히 조절하면 된다.In the adhesive composition (I-1), content of a solvent is not specifically limited, What is necessary is just to adjust suitably.

<점착제 조성물(I-2)><Adhesive composition (I-2)>

상기 점착제 조성물(I-2)은 상술한 바와 같이, 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)의 측쇄에 불포화기가 도입된 에너지선 경화성 점착성 수지(I-2a)를 함유한다.As described above, the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) contains the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-2a) in which an unsaturated group is introduced into the side chain of the non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive resin (I-1a).

[점착성 수지(I-2a)][Adhesive resin (I-2a)]

상기 점착성 수지(I-2a)는 예를 들면, 점착성 수지(I-1a) 중의 관능기에 에너지선 중합성 불포화기를 갖는 불포화기 함유 화합물을 반응시킴으로써 얻어진다.The adhesive resin (I-2a) is obtained, for example, by reacting a functional group in the adhesive resin (I-1a) with an unsaturated group-containing compound having an energy ray polymerizable unsaturated group.

상기 불포화기 함유 화합물은 상기 에너지선 중합성 불포화기 이외에, 추가로 점착성 수지(I-1a) 중의 관능기와 반응함으로써, 점착성 수지(I-1a)와 결합 가능한 기를 갖는 화합물이다.The unsaturated group-containing compound is a compound having a group capable of bonding to the adhesive resin (I-1a) by reacting with a functional group in the adhesive resin (I-1a) in addition to the energy ray polymerizable unsaturated group.

상기 에너지선 중합성 불포화기로는 예를 들면, (메타)아크릴로일기, 비닐기(에테닐기라고도 한다), 알릴기(2-프로페닐기라고도 한다) 등을 들 수 있고, (메타)아크릴로일기가 바람직하다.Examples of the energy ray polymerizable unsaturated group include a (meth)acryloyl group, a vinyl group (also called an ethenyl group), an allyl group (also called a 2-propenyl group), and the like, and a (meth)acryloyl group is preferable

점착성 수지(I-1a) 중의 관능기와 결합 가능한 기로는 예를 들면, 수산기 또는 아미노기와 결합 가능한 이소시아네이트기 및 글리시딜기, 그리고 카르복시기 또는 에폭시기와 결합 가능한 수산기 및 아미노기 등을 들 수 있다.Examples of the group capable of bonding with a functional group in the adhesive resin (I-1a) include an isocyanate group and a glycidyl group capable of bonding with a hydroxyl group or an amino group, and a hydroxyl group and an amino group capable of bonding with a carboxy group or an epoxy group.

상기 불포화기 함유 화합물로는 예를 들면, (메타)아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, (메타)아크릴로일이소시아네이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As said unsaturated group containing compound, (meth)acryloyloxyethyl isocyanate, (meth)acryloyl isocyanate, glycidyl (meth)acrylate etc. are mentioned, for example.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 점착성 수지(I-2a)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of adhesive resins (I-2a) contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-2)에 있어서 점착성 수지(I-2a)의 함유량은 점착제 조성물(I-2)의 총 질량에 대해 5∼99질량%인 것이 바람직하고, 10∼95질량%인 것이 보다 바람직하며, 10∼90질량%인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that it is 5-99 mass % with respect to the gross mass of an adhesive composition (I-2), and, as for content of adhesive resin (I-2a) in an adhesive composition (I-2), it is more preferable that it is 10-95 mass % and it is especially preferable that it is 10-90 mass %.

[가교제][Crosslinking agent]

점착성 수지(I-2a)로서 예를 들면, 점착성 수지(I-1a)에 있어서의 것과 동일한 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체를 사용하는 경우, 점착제 조성물(I-2)은 추가로 가교제를 함유하고 있어도 된다.When using, for example, the above-mentioned acrylic polymer having structural units derived from the same functional group-containing monomer as in the adhesive resin (I-1a) as the adhesive resin (I-2a), the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) is additionally and may contain a crosslinking agent.

점착제 조성물(I-2)에 있어서의 상기 가교제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 가교제와 동일한 것을 들 수 있다.As said crosslinking agent in an adhesive composition (I-2), the thing similar to the crosslinking agent in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 가교제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of crosslinking agents contained in the adhesive composition (I-2) may be one, two or more types may be sufficient, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

상기 점착제 조성물(I-2)에 있어서 가교제의 함유량은 점착성 수지(I-2a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01∼50질량부인 것이 바람직하고, 0.1∼20질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.3∼15질량부인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of a crosslinking agent in the said adhesive composition (I-2) is 0.01-50 mass parts with respect to content 100 mass parts of adhesive resin (I-2a), It is more preferable that it is 0.1-20 mass parts, It is 0.3-15 mass parts It is especially preferable that it is a mass part.

[광중합 개시제][Photoinitiator]

점착제 조성물(I-2)은 추가로 광중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 광중합 개시제를 함유하는 점착제 조성물(I-2)은 자외선 등의 비교적 저에너지의 에너지선을 조사해도 충분히 경화 반응이 진행된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-2) may further contain a photoinitiator. The adhesive composition (I-2) containing a photoinitiator fully advances hardening reaction even if it irradiates comparatively low energy energy rays, such as an ultraviolet-ray.

점착제 조성물(I-2)에 있어서의 상기 광중합 개시제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 광중합 개시제와 동일한 것을 들 수 있다.As said photoinitiator in an adhesive composition (I-2), the thing similar to the photoinitiator in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 광중합 개시제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the photoinitiator which adhesive composition (I-2) contains, and 2 or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-2)에 있어서 광중합 개시제의 함유량은 점착성 수지(I-2a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01∼20질량부인 것이 바람직하고, 0.03∼10질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.05∼5질량부인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of a photoinitiator in an adhesive composition (I-2) is 0.01-20 mass parts with respect to content 100 mass parts of adhesive resin (I-2a), It is more preferable that it is 0.03-10 mass parts, 0.05-5 It is especially preferable that it is a mass part.

[그 외의 첨가제][Other additives]

점착제 조성물(I-2)은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서, 상술한 어느 성분에도 해당하지 않는 그 외의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition (I-2) may contain the other additive which does not correspond to any component mentioned above within the range which does not impair the effect of this invention.

점착제 조성물(I-2)에 있어서의 상기 그 외의 첨가제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 그 외의 첨가제와 동일한 것을 들 수 있다.As said other additive in an adhesive composition (I-2), the thing similar to the other additive in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 그 외의 첨가제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the other additive which adhesive composition (I-2) contains, and 2 or more types may be sufficient as it, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-2)에 있어서 그 외의 첨가제의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 그 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of another additive in adhesive composition (I-2) is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the kind.

[용매][menstruum]

점착제 조성물(I-2)은 점착제 조성물(I-1)의 경우와 동일한 목적으로 용매를 함유하고 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-2) may contain a solvent for the same purpose as in the case of the pressure-sensitive adhesive composition (I-1).

점착제 조성물(I-2)에 있어서의 상기 용매로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.As said solvent in an adhesive composition (I-2), the thing similar to the solvent in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-2)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents which the pressure-sensitive adhesive composition (I-2) contains may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-2)에 있어서 용매의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 적절히 조절하면 된다.In the pressure-sensitive adhesive composition (I-2), the content of the solvent is not particularly limited, and may be appropriately adjusted.

<점착제 조성물(I-3)><Adhesive composition (I-3)>

상기 점착제 조성물(I-3)은 상술한 바와 같이, 상기 점착성 수지(I-2a)와 에너지선 경화성 화합물을 함유한다.As described above, the pressure-sensitive adhesive composition (I-3) contains the pressure-sensitive adhesive resin (I-2a) and an energy ray-curable compound.

점착제 조성물(I-3)에 있어서 점착성 수지(I-2a)의 함유량은 점착제 조성물(I-3)의 총 질량에 대해 5∼99질량%인 것이 바람직하고, 10∼95질량%인 것이 보다 바람직하며, 15∼90질량%인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that it is 5-99 mass % with respect to the gross mass of an adhesive composition (I-3), and, as for content of adhesive resin (I-2a) in an adhesive composition (I-3), it is more preferable that it is 10-95 mass % and 15-90 mass % is especially preferable.

[에너지선 경화성 화합물][Energy-ray-curable compound]

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 상기 에너지선 경화성 화합물로는 에너지선 중합성 불포화기를 갖고, 에너지선의 조사에 의해 경화 가능한 모노머 및 올리고머를 들 수 있으며, 점착제 조성물(I-1)이 함유하는 에너지선 경화성 화합물과 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the energy ray-curable compound contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-3) include monomers and oligomers having an energy-beam polymerizable unsaturated group and curable by irradiation with energy rays, and the pressure-sensitive adhesive composition (I-1) contains The same thing as an energy-ray-curable compound is mentioned.

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 상기 에너지선 경화성 화합물은 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of said energy-beam curable compounds contained in an adhesive composition (I-3) may be one, and two or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and ratios can be selected arbitrarily.

상기 점착제 조성물(I-3)에 있어서 상기 에너지선 경화성 화합물의 함유량은 점착성 수지(I-2a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01∼300질량부인 것이 바람직하고, 0.03∼200질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.05∼100질량부인 것이 특히 바람직하다.In the pressure-sensitive adhesive composition (I-3), the content of the energy ray-curable compound is preferably 0.01 to 300 parts by mass, more preferably 0.03 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pressure-sensitive adhesive resin (I-2a). , It is especially preferable that it is 0.05-100 mass parts.

[광중합 개시제][Photoinitiator]

점착제 조성물(I-3)은 추가로 광중합 개시제를 함유하고 있어도 된다. 광중합 개시제를 함유하는 점착제 조성물(I-3)은 자외선 등의 비교적 저에너지의 에너지선을 조사해도 충분히 경화 반응이 진행된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-3) may further contain a photoinitiator. The adhesive composition (I-3) containing a photoinitiator fully advances hardening reaction even if it irradiates comparatively low energy energy rays, such as an ultraviolet-ray.

점착제 조성물(I-3)에 있어서의 상기 광중합 개시제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 광중합 개시제와 동일한 것을 들 수 있다.As said photoinitiator in an adhesive composition (I-3), the thing similar to the photoinitiator in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 광중합 개시제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the photoinitiator which adhesive composition (I-3) contains, and 2 or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-3)에 있어서 광중합 개시제의 함유량은 점착성 수지(I-2a) 및 상기 에너지선 경화성 화합물의 총 함유량 100질량부에 대해 0.01∼20질량부인 것이 바람직하고, 0.03∼10질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.05∼5질량부인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that content of a photoinitiator in adhesive composition (I-3) is 0.01-20 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of adhesive resin (I-2a) and the said energy-beam curable compound, It is 0.03-10 mass parts More preferably, it is especially preferable that it is 0.05-5 mass parts.

[그 외의 첨가제][Other additives]

점착제 조성물(I-3)은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서, 상술한 어느 성분에도 해당하지 않는 그 외의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition (I-3) may contain the other additive which does not correspond to any component mentioned above within the range which does not impair the effect of this invention.

상기 그 외의 첨가제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 그 외의 첨가제와 동일한 것을 들 수 있다.As said other additive, the thing similar to the other additive in adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 그 외의 첨가제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the other additive which adhesive composition (I-3) contains, and 2 or more types may be sufficient, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-3)에 있어서 그 외의 첨가제의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 그 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of other additives in an adhesive composition (I-3) is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the kind.

[용매][menstruum]

점착제 조성물(I-3)은 점착제 조성물(I-1)의 경우와 동일한 목적으로 용매를 함유하고 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-3) may contain a solvent for the same purpose as in the case of the pressure-sensitive adhesive composition (I-1).

점착제 조성물(I-3)에 있어서의 상기 용매로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.As said solvent in an adhesive composition (I-3), the thing similar to the solvent in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-3)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents which the pressure-sensitive adhesive composition (I-3) contains may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-3)에 있어서 용매의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 적절히 조절하면 된다.In the pressure-sensitive adhesive composition (I-3), the content of the solvent is not particularly limited, and may be appropriately adjusted.

<점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물><Adhesive compositions other than the pressure-sensitive adhesive compositions (I-1) to (I-3)>

여기까지는 점착제 조성물(I-1), 점착제 조성물(I-2) 및 점착제 조성물(I-3)에 대해 주로 설명했지만, 이들의 함유 성분으로서 설명한 것은, 이들 3종의 점착제 조성물 이외의 전반적인 점착제 조성물(본 명세서에 있어서는, 「점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물」이라고 칭한다)에서도 동일하게 사용할 수 있다.So far, the pressure-sensitive adhesive composition (I-1), the pressure-sensitive adhesive composition (I-2), and the pressure-sensitive adhesive composition (I-3) have been mainly described, but what has been described as these contained components is an overall pressure-sensitive adhesive composition other than these three types of pressure-sensitive adhesive compositions. (In this specification, "Adhesive compositions other than adhesive compositions (I-1) to (I-3)" are called) and can be used similarly.

점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물로는 에너지선 경화성 점착제 조성물 이외에, 비에너지선 경화성 점착제 조성물도 들 수 있다.As an adhesive composition other than adhesive composition (I-1) - (I-3), a non-energy-ray-curable adhesive composition is also mentioned other than an energy-beam curable adhesive composition.

비에너지선 경화성 점착제 조성물로는 예를 들면, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 고무계 수지, 실리콘계 수지, 에폭시계 수지, 폴리비닐에테르, 폴리카보네이트, 에스테르계 수지 등의 비에너지선 경화성 점착성 수지(I-1a)를 함유하는 점착제 조성물(I-4)을 들 수 있고, 아크릴계 수지를 함유하는 것이 바람직하다.Examples of the non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition include non-energy-ray-curable pressure-sensitive adhesive resins such as acrylic resins, urethane resins, rubber resins, silicone resins, epoxy resins, polyvinyl ethers, polycarbonates, and ester resins (I-1a). ) containing the adhesive composition (I-4) is mentioned, and it is preferable to contain an acrylic resin.

점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물은 1종 또는 2종 이상의 가교제를 함유하는 것이 바람직하고, 그 함유량은 상술한 점착제 조성물(I-1) 등의 경우와 동일하게 할 수 있다.It is preferable that the pressure-sensitive adhesive compositions other than the pressure-sensitive adhesive compositions (I-1) to (I-3) contain one or two or more types of crosslinking agents, and the content thereof is the same as in the above-described pressure-sensitive adhesive composition (I-1) and the like. can do.

<점착제 조성물(I-4)><Adhesive composition (I-4)>

점착제 조성물(I-4)로 바람직한 것으로는 예를 들면, 상기 점착성 수지(I-1a)와 가교제를 함유하는 것을 들 수 있다.As a preferable adhesive composition (I-4), the thing containing the said adhesive resin (I-1a) and a crosslinking agent is mentioned, for example.

[점착성 수지(I-1a)][Adhesive resin (I-1a)]

점착제 조성물(I-4)에 있어서의 점착성 수지(I-1a)로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 점착성 수지(I-1a)와 동일한 것을 들 수 있다.As adhesive resin (I-1a) in adhesive composition (I-4), the thing similar to adhesive resin (I-1a) in adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-4)이 함유하는 점착성 수지(I-1a)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of adhesive resins (I-1a) contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-4) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-4)에 있어서 점착성 수지(I-1a)의 함유량은 점착제 조성물(I-4)의 총 질량에 대해 5∼99질량%인 것이 바람직하고, 10∼95질량%인 것이 보다 바람직하며, 15∼90질량%인 것이 특히 바람직하다.It is preferable that it is 5-99 mass % with respect to the gross mass of an adhesive composition (I-4), and, as for content of adhesive resin (I-1a) in an adhesive composition (I-4), it is more preferable that it is 10-95 mass % and 15-90 mass % is especially preferable.

점착제 조성물(I-4)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 점착성 수지(I-1a)의 함유량의 비율(즉, 점착제층의 점착성 수지(I-1a)의 함유량)은 30∼90질량%인 것이 바람직하고, 40∼85질량%인 것이 보다 바람직하며, 50∼80질량%인 것이 특히 바람직하다.In the pressure-sensitive adhesive composition (I-4), the ratio of the content of the pressure-sensitive adhesive resin (I-1a) to the total content of all components other than the solvent (that is, the content of the pressure-sensitive adhesive resin (I-1a) in the pressure-sensitive adhesive layer) is 30 to 90 It is preferable that it is mass %, It is more preferable that it is 40-85 mass %, It is especially preferable that it is 50-80 mass %.

[가교제][Crosslinking agent]

점착성 수지(I-1a)로서 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위 이외에, 추가로 관능기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체를 사용하는 경우, 점착제 조성물(I-4)은 추가로 가교제를 함유하는 것이 바람직하다.When using the above acrylic polymer having a structural unit derived from a functional group-containing monomer in addition to the structural unit derived from the (meth)acrylic acid alkylester as the adhesive resin (I-1a), the adhesive composition (I-4) is additionally a crosslinking agent It is preferable to contain

점착제 조성물(I-4)에 있어서의 가교제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 가교제와 동일한 것을 들 수 있다.As a crosslinking agent in an adhesive composition (I-4), the thing similar to the crosslinking agent in an adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-4)이 함유하는 가교제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of crosslinking agents contained in the adhesive composition (I-4) may be one, two or more types may be sufficient, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

상기 점착제 조성물(I-4)에 있어서 가교제의 함유량은 점착성 수지(I-1a)의 함유량 100질량부에 대해 0.01∼50질량부인 것이 바람직하고, 0.3∼50질량부인 것이 보다 바람직하며, 1∼50질량부인 것이 더욱 바람직하고, 예를 들면, 10∼50질량부, 15∼50질량부, 및 20∼50질량부 등 중 어느 하나여도 된다.It is preferable that content of a crosslinking agent in the said adhesive composition (I-4) is 0.01-50 mass parts with respect to content of 100 mass parts of adhesive resin (I-1a), It is more preferable that it is 0.3-50 mass parts, It is more preferable, It is 1-50 It is more preferable that it is a mass part, for example, any one of 10-50 mass parts, 15-50 mass parts, 20-50 mass parts, etc. may be sufficient.

[그 외의 첨가제][Other additives]

점착제 조성물(I-4)은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서, 상술한 어느 성분에도 해당하지 않는 그 외의 첨가제를 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition (I-4) may contain the other additive which does not correspond to any component mentioned above within the range which does not impair the effect of this invention.

상기 그 외의 첨가제로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 그 외의 첨가제와 동일한 것을 들 수 있다.As said other additive, the thing similar to the other additive in adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-4)이 함유하는 그 외의 첨가제는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.One type may be sufficient as the other additive which adhesive composition (I-4) contains, and 2 or more types may be sufficient as it, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

점착제 조성물(I-4)에 있어서 그 외의 첨가제의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 그 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of other additives in an adhesive composition (I-4) is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the kind.

[용매][menstruum]

점착제 조성물(I-4)은 점착제 조성물(I-1)의 경우와 동일한 목적으로 용매를 함유하고 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-4) may contain a solvent for the same purpose as in the case of the pressure-sensitive adhesive composition (I-1).

점착제 조성물(I-4)에 있어서의 상기 용매로는 점착제 조성물(I-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.As said solvent in adhesive composition (I-4), the thing similar to the solvent in adhesive composition (I-1) is mentioned.

점착제 조성물(I-4)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents contained in the pressure-sensitive adhesive composition (I-4) may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

점착제 조성물(I-4)에 있어서 용매의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 적절히 조절하면 된다.Content of a solvent in adhesive composition (I-4) is not specifically limited, What is necessary is just to adjust suitably.

상기 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 점착제층은 비에너지선 경화성인 것이 바람직하다. 이는 점착제층이 에너지선 경화성이면, 에너지선의 조사에 의해 보호막 형성용 필름을 경화시킬 때, 점착제층도 동시에 경화하는 것을 억제할 수 없는 경우가 있기 때문이다. 점착제층이 보호막 형성용 필름과 동시에 경화하면, 경화 후의 보호막 형성용 필름(즉, 보호막) 및 점착제층이 이들의 계면에 있어서 박리 불능인 정도로 첩부되는 경우가 있다. 그 경우, 경화 후의 보호막 형성용 필름, 즉 보호막을 이면에 구비한 반도체 칩(보호막이 형성된 반도체 칩)을 경화 후의 점착제층을 구비한 지지 시트로부터 박리시키는 것이 곤란해져, 보호막이 형성된 반도체 칩을 정상적으로 픽업할 수 없게 된다. 상기 지지 시트에 있어서 점착제층을 비에너지선 경화성인 것으로 함으로써, 이러한 문제를 확실히 회피할 수 있으며, 보호막이 형성된 반도체 칩을 보다 용이하게 픽업할 수 있다.In the composite sheet for forming a protective film, the pressure-sensitive adhesive layer is preferably non-energy ray-curable. This is because if an adhesive layer is energy-beam sclerosis|hardenability, when hardening the film for protective film formation by irradiation of an energy-beam, it may not be able to suppress that an adhesive layer also hardens simultaneously. When an adhesive layer hardens|cures simultaneously with the film for protective film formation, the film for protective film formation after hardening (namely, a protective film) and an adhesive layer may stick to the extent that peeling is impossible in these interfaces. In that case, it becomes difficult to peel the cured film for forming a protective film, that is, a semiconductor chip having a protective film on its back surface (semiconductor chip with a protective film formed thereon) from the supporting sheet provided with the cured adhesive layer, and the semiconductor chip with a protective film is normally removed cannot be picked up. By making the adhesive layer non-energy-ray-curable in the said support sheet, such a problem can be avoided reliably, and the semiconductor chip with a protective film can be picked up more easily.

여기에서는, 점착제층이 비에너지선 경화성인 경우의 효과에 대해 설명했지만, 지지 시트의 보호막 형성용 필름과 직접 접촉하고 있는 층이 점착제층 이외의 층이어도, 이 층이 비에너지선 경화성이면, 동일한 효과를 나타낸다.Here, although the effect in the case where an adhesive layer is non-energy-ray-curable was demonstrated, even if the layer which is in direct contact with the film for protective film formation of a support sheet is a layer other than an adhesive layer, if this layer is non-energy-ray-curable, the same show the effect.

<<점착제 조성물의 제조 방법>><<The manufacturing method of an adhesive composition>>

점착제 조성물(I-1)∼(I-3)이나, 점착제 조성물(I-4) 등의 점착제 조성물(I-1)∼(I-3) 이외의 점착제 조성물은, 상기 점착제와, 필요에 따라 상기 점착제 이외의 성분 등의 점착제 조성물을 구성하기 위한 각 성분을 배합함으로써 얻어진다.The pressure-sensitive adhesive composition (I-1) to (I-3) and the pressure-sensitive adhesive composition (I-4), such as pressure-sensitive adhesive compositions (I-1) to (I-3) other than the pressure-sensitive adhesive composition (I-3), the pressure-sensitive adhesive and, if necessary It is obtained by mix|blending each component for comprising adhesive compositions, such as components other than the said adhesive.

각 성분의 배합시에 있어서의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않고, 2종 이상의 성분을 동시에 첨가해도 된다.The order of addition at the time of mixing|blending each component is not specifically limited, You may add 2 or more types of components simultaneously.

용매를 사용하는 경우에는, 용매를 용매 이외 중 어느 하나의 배합 성분과 혼합하여 이 배합 성분을 미리 희석해 둠으로써 사용해도 되며, 용매 이외 중 어느 하나의 배합 성분을 미리 희석해 두지 않고, 용매를 이들 배합 성분과 혼합함으로써 사용해도 된다.In the case of using a solvent, the solvent may be mixed with any compounding component other than the solvent and the compounding component may be used by diluting this compounding component in advance. You may use by mixing with these compounding components.

배합시에 각 성분을 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 교반자 또는 교반 날개 등을 회전시켜 혼합하는 방법; 믹서를 이용하여 혼합하는 방법; 초음파를 가하여 혼합하는 방법 등, 공지의 방법으로부터 적절히 선택하면 된다.The method of mixing each component at the time of mixing|blending is not specifically limited, The method of rotating a stirrer, a stirring blade, etc. and mixing; a method of mixing using a mixer; What is necessary is just to select suitably from well-known methods, such as a method of adding ultrasonic waves and mixing.

각 성분의 첨가 및 혼합시의 온도 그리고 시간은 각 배합 성분이 열화하지 않는 한 특별히 한정되지 않고, 적절히 조절하면 되나, 온도는 15∼30℃인 것이 바람직하다.The temperature and time at the time of addition and mixing of each component are not particularly limited as long as each compounding component does not deteriorate, and may be appropriately adjusted, but the temperature is preferably 15 to 30°C.

◎보호막 형성용 필름◎Film for forming a protective film

상기 보호막 형성용 필름은 경화에 의해 또는 경화하지 않고 그대로의 상태로 보호막이 된다. 이 보호막은 반도체 웨이퍼 또는 반도체 칩의 이면(전극 형성면과는 반대측 면)을 보호하기 위한 것이다. 보호막 형성용 필름은 연질이며, 첩부 대상물에 용이하게 첩부할 수 있다.The film for forming a protective film becomes a protective film with or without curing as it is. This protective film is for protecting the back surface (the surface opposite to the electrode formation surface) of a semiconductor wafer or a semiconductor chip. The film for protective film formation is soft and can be affixed to a sticking target object easily.

상기 보호막 형성용 필름은 경화성이어도 되며, 비경화성이어도 된다.Sclerosis|hardenability may be sufficient as the said film for protective film formation, and non-hardening may be sufficient as it.

경화성 보호막 형성용 필름은 열경화성 및 에너지선 경화성 중 어느 것이어도 되며, 열경화성 및 에너지선 경화성의 양쪽 특성을 갖고 있어도 된다.Any of thermosetting and energy-beam sclerosis|hardenability may be sufficient as the film for curable protective film formation, and may have the characteristic of both thermosetting and energy-beam sclerosis|hardenability.

보호막 형성용 필름은 그 구성 재료를 함유하는 보호막 형성용 조성물을 사용하여 형성할 수 있다.The film for protective film formation can be formed using the composition for protective film formation containing the constituent material.

본 명세서에 있어서 「비경화성」이란, 가열이나 에너지선의 조사 등, 어떠한 수단에 의해서도 경화하지 않는 성질을 의미한다.In this specification, "non-curable" means the property which does not harden|cure by any means, such as a heating and irradiation of an energy ray.

본 발명에 있어서는, 보호막 형성용 필름이 경화한 후여도, 지지 시트 및 보호막 형성용 필름의 경화물(다시 말하면, 지지 시트 및 보호막)의 적층 구조가 유지되고 있는 한, 이 적층체를 「보호막 형성용 복합 시트」라고 칭한다.In the present invention, even after the film for forming a protective film is cured, as long as the laminate structure of the support sheet and the cured product of the film for forming a protective film (in other words, the support sheet and the protective film) is maintained, this laminate is referred to as "forming a protective film". Composite sheet for use".

보호막 형성용 필름은 그 종류에 상관없이 1층(단층)으로 이루어지는 것이어도 되며, 2층 이상의 복수층으로 이루어지는 것이어도 된다. 보호막 형성용 필름이 복수층으로 이루어지는 경우, 이들 복수층은 서로 동일해도 상이해도 된다.Regardless of the kind, the film for protective film formation may consist of one layer (single layer), and may consist of multiple layers of two or more layers. When the film for protective film formation consists of multiple layers, these multiple layers may mutually be same or different.

여기서 다시, 도 4를 참조하면서, 점착제층 및 보호막 형성용 필름에 대해 더욱 상세하게 설명한다. Here again, the film for forming the pressure-sensitive adhesive layer and the protective film will be described in more detail with reference to FIG. 4 .

앞서 설명한 바와 같이, 기재(11)의 제1 면(11a)은 요철면이다. 단, 점착제층(12)에 있어서는, 그 R값이 5.0 미만임으로써, 이 요철면의 영향이 억제되고 있으며, 점착제층(12)의 제1 면(12a)에 있어서의 요철도는 작아지기 쉽다. 이 때문에 점착제층(12)과 보호막 형성용 필름(13)의 적층성이 양호해지기 쉽다. 또한, 상기 S값이 1.5㎛ 이상임으로써, 이 요철면의 영향이 억제되고, 점착제층(12)의 제1 면(12a)에 있어서의 요철도는 작아진다. 예를 들면, 점착제층(12)과 보호막 형성용 필름(13) 사이에 이들이 첩합되어 있지 않은 영역(비첩합 영역)(92)이 존재하고 있어도, 그 수는, 보호막 형성용 복합 시트(1A) 중의 보호막 형성용 필름(13)의 형성 영역 전역에 걸쳐, 3개소 이하가 되는 등, 매우 적어진다. 상기 비첩합 영역(92)은 예를 들면, 보호막 형성용 복합 시트(1A)를 기재(11)측으로부터 관찰함으로써, 용이하게 확인할 수 있다.As described above, the first surface 11a of the substrate 11 is an uneven surface. However, in the adhesive layer 12, when the R value is less than 5.0, the influence of this uneven surface is suppressed, and the unevenness degree in the 1st surface 12a of the adhesive layer 12 becomes small easily. . For this reason, the lamination|stacking property of the adhesive layer 12 and the film 13 for protective film formation tends to become favorable. Moreover, when the said S value is 1.5 micrometers or more, the influence of this uneven|corrugated surface is suppressed, and the unevenness|corrugation degree in the 1st surface 12a of the adhesive layer 12 becomes small. For example, even if the area|region (non-bonding area|region) 92 in which these are not bonded exists between the adhesive layer 12 and the film 13 for protective film formation, the number is 1 A of composite sheets for protective film formation. Over the whole formation area of the film 13 for protective film formation in inside, it becomes 3 places or less, etc., and it becomes very few. The said non-bonding area|region 92 can be confirmed easily by observing 1 A of composite sheets for protective film formation from the base material 11 side, for example.

또한, 보호막 형성용 복합 시트(1A)가 이러한 비첩합 영역(92)을 갖고 있어도, 보호막 형성용 복합 시트(1A)의 두께 방향에 있어서의 비첩합 영역(92)의 크기(층간 거리)가 예를 들면, 0.5㎛ 이하인 보호막 형성용 복합 시트(1A)는 점착제층(12)과 보호막 형성용 필름(13)의 적층성이 보다 양호하다. 여기서, 「비첩합 영역(92)의 크기(층간 거리)」란, 「보호막 형성용 복합 시트(1A)의 두께 방향에 있어서의 점착제층(12)과 보호막 형성용 필름(13) 사이의 층간 거리」를 의미한다.Moreover, even if 1 A of composite sheet|seat for protective film formation has such non-bonding area|region 92, the magnitude|size (interlayer distance) of the non-bonding area|region 92 in the thickness direction of 1 A of composite sheets for protective film formation (interlayer distance) is yes For example, the composite sheet 1A for protective film formation of 0.5 micrometer or less has more favorable lamination|stacking property of the adhesive layer 12 and the film 13 for protective film formation. Here, the "size (interlayer distance) of the non-bonding area|region 92" is "interlayer distance between the adhesive layer 12 in the thickness direction of 1 A of composite sheets for protective film formation, and the film 13 for protective film formation" ' means.

비첩합 영역(92)의 크기(상기 층간 거리)는 상술한 비첩합 영역(91)의 상기 층간 거리(크기)와 동일하게 0.5㎛ 이하인 것이 바람직하고, 예를 들면, 0.4㎛ 이하, 0.3㎛ 이하, 0.2㎛ 이하 및 0.1㎛ 이하 중 어느 하나여도 된다.The size (the interlayer distance) of the non-bonded region 92 is preferably 0.5 μm or less, similar to the interlayer distance (size) of the non-bonded region 91 described above, for example, 0.4 μm or less, 0.3 μm or less. , 0.2 µm or less and 0.1 µm or less may be sufficient.

비첩합 영역(92)의 크기(층간 거리)는 예를 들면, 대상이 되는 2층의 조합이 상이한 점 이외에는, 상술한 비첩합 영역(91)의 크기(층간 거리)의 경우와 동일한 방법으로 구할 수 있다.The size (interlayer distance) of the non-bonding region 92 is obtained in the same manner as in the case of the above-described non-bonding region 91 size (interlayer distance), except that, for example, the target two-layer combination is different. can

보호막 형성용 복합 시트(1A)에 있어서는, 비첩합 영역(92)이 전혀 존재하지 않는 경우도 있다. 본 명세서에 있어서 비첩합 영역(92)이 전혀 존재하지 않을 때, 비첩합 영역(92)의 크기(층간 거리)를 0㎛로 표기하는 경우가 있다.In 1 A of composite sheets for protective film formation, the non-bonding area|region 92 does not exist at all in some cases. In this specification, when the non-bonding area|region 92 does not exist at all, the magnitude|size (interlayer distance) of the non-bonding area|region 92 may be expressed by 0 micrometer.

한편, 상술한 바와 같이 점착제층(12)의 제1 면(12a)에 있어서의 요철도가 작아지기 쉽다. 이 때문에 보호막 형성용 필름(13)의 두께(Tp)는, 일정하지 않고, 보호막 형성용 필름(13)(점착제층(12))의 부위에 의해 변동하지만 그 변동폭은 매우 작다.On the other hand, as mentioned above, the unevenness|corrugation in the 1st surface 12a of the adhesive layer 12 becomes small easily. For this reason, although thickness T p of the film 13 for protective film formation is not constant and fluctuates with the site|part of the film 13 for protective film formation (adhesive layer 12), the fluctuation range is very small.

또한, 상술한 바와 같이 점착제층(12)의 제1 면(12a)에 있어서의 요철도가 작아지기 쉽기 때문에, 보호막 형성용 필름(13)의 점착제층(12)측 면(제2 면)(13b)은 평활하거나 또는 요철도가 작아지기 쉽다. 따라서, 보호막 형성용 필름(13)의 외관이 저해되기 어렵다.Moreover, since the unevenness|corrugation in the 1st surface 12a of the adhesive layer 12 tends to become small as mentioned above, the adhesive layer 12 side surface (2nd surface) of the film 13 for protective film formation ( 13b) is smooth or tends to have small irregularities. Therefore, the external appearance of the film 13 for protective film formation is hard to be inhibited.

그리고, 보호막 형성용 필름(13)으로부터 형성된 보호막에 있어서도, 그 점착제층(12)측 면(제2 면)은 평활하거나 또는 요철도가 작아지고, 보호막의 외관은 저해되지 않은 채로 되기 쉽다.And also in the protective film formed from the film 13 for protective film formation, the surface (2nd surface) on the side (2nd surface) of the adhesive layer 12 is smooth, or unevenness|corrugation becomes small, and the external appearance of a protective film is easy to remain unimpeded.

이와 같이 보호막 형성용 복합 시트(1A)에 있어서 보호막 형성용 필름(13) 및 보호막은, 모두 의장성이 우수한 것으로 하는 것이 가능하다.Thus, in 1 A of composite sheet|seats for protective film formation, the film 13 for protective film formation and a protective film can make both into the thing excellent in designability.

보호막 형성용 필름(13)의 제2 면(13b)에 있어서는, 볼록부의 최고 부위와 오목부의 최심 부위 사이의 최대 고저 차이가 2㎛ 이하인 것이 바람직하고, 예를 들면, 1.5㎛ 이하 및 1㎛ 이하 중 어느 하나여도 된다. 이러한 보호막 형성용 필름(13) 및 보호막은 의장성이 특히 우수하다.In the 2nd surface 13b of the film 13 for protective film formation, it is preferable that the largest height difference between the highest part of a convex part and the deepest part of a recessed part is 2 micrometers or less, for example, 1.5 micrometers or less and 1 micrometer or less Either one may be sufficient. The film 13 for forming a protective film and the protective film are particularly excellent in designability.

보호막 형성용 필름(13)의 제2 면(13b)에 있어서의 상기 최대 고저 차이는 예를 들면, 앞서 설명한 방법에 의해, 보호막 형성용 복합 시트의 시험편 또는 보호막 형성용 복합 시트 자체에 있어서 단면을 형성하고, 주사 전자 현미경(SEM)을 이용하여 이 단면을 관찰함으로써 구할 수 있다.The said maximum height difference in the 2nd surface 13b of the film 13 for protective film formation is cross-section in the test piece of the composite sheet for protective film formation or the composite sheet itself for protective film formation by the method described above, for example. It can be calculated|required by forming and observing this cross section using a scanning electron microscope (SEM).

여기에서는, 보호막 형성용 복합 시트(1A)를 예로 들어 점착제층 및 보호막 형성용 필름에 대해 설명했지만, 보호막 형성용 복합 시트(1B), 보호막 형성용 복합 시트(1C) 등의 다른 실시형태의 보호막 형성용 복합 시트의 경우에도, 점착제층 및 보호막 형성용 필름은 동일하다.Here, although 1 A of composite sheet for protective film formation was taken as an example and the film for adhesive layer and protective film formation was demonstrated, the protective film of other embodiment, such as the composite sheet 1B for protective film formation, and the composite sheet 1C for protective film formation Also in the case of the composite sheet for formation, the film for adhesive layer and protective film formation is the same.

본 발명의 보호막 형성용 복합 시트에 있어서 보호막 형성용 필름의 두께(예를 들면, Tp)는 1∼100㎛인 것이 바람직하고, 3∼75㎛인 것이 보다 바람직하며, 5∼50㎛인 것이 특히 바람직하다. 보호막 형성용 필름의 두께가 상기 하한값 이상임으로써, 보호능이 보다 높은 보호막을 형성할 수 있다. 보호막 형성용 필름의 두께가 상기 상한값 이하임으로써, 과잉한 두께가 되는 것이 억제된다.In the composite sheet for forming a protective film of the present invention, the thickness (for example, T p ) of the film for forming a protective film is preferably 1 to 100 µm, more preferably 3 to 75 µm, and 5 to 50 µm Especially preferred. When the thickness of the film for protective film formation is more than the said lower limit, a protective film with a higher protective ability can be formed. When the thickness of the film for protective film formation is below the said upper limit, becoming excessive thickness is suppressed.

보호막 형성용 필름의 두께가 보호막 형성용 필름의 부위에 의해 변동하고 있는 경우에는, 보호막 형성용 필름의 두께의 최소값이 상기 하한값 이상이어도 되며, 보호막 형성용 필름의 두께의 최대값이 상기 상한값 이하여도 된다.When the thickness of the film for protective film formation fluctuates with the site|part of the film for protective film formation, the minimum value of the thickness of the film for protective film formation may be more than the said lower limit, Even if the maximum value of the thickness of the film for protective film formation is less than the said upper limit do.

한편, 「보호막 형성용 필름의 두께」란, 보호막 형성용 필름 전체의 두께를 의미하며, 예를 들면, 복수층으로 이루어지는 보호막 형성용 필름의 두께란, 보호막 형성용 필름을 구성하는 모든 층의 합계의 두께를 의미한다.In addition, the "thickness of the film for protective film formation" means the thickness of the whole film for protective film formation, For example, the thickness of the film for protective film formation which consists of multiple layers is the sum total of all the layers which comprise the film for protective film formation. means the thickness of

보호막 형성용 필름의 두께는 예를 들면, 주사 전자 현미경(SEM)을 이용하여 보호막 형성용 필름의 측면 또는 단면을 관찰함으로써 측정할 수 있다.The thickness of the film for protective film formation can be measured, for example by observing the side surface or cross section of the film for protective film formation using a scanning electron microscope (SEM).

보호막 형성용 필름의 단면은 예를 들면, 상술한 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 시험편에 있어서의 단면의 경우와 동일한 방법으로 형성할 수 있다.The cross section of the film for protective film formation can be formed by the method similar to the case of the cross section in the test piece of the support sheet and the composite sheet for protective film formation mentioned above, for example.

예를 들면, 앞서 설명한 방법에 의해, 보호막 형성용 복합 시트의 복수 개소(예를 들면, 5개소)로부터 시험편을 잘라내어, 이 시험편에 있어서 보호막 형성용 필름의 두께의 최소값 및 최대값을 구하고, 이들의 값으로부터 추가로 이들 최소값의 평균값 및 최대값의 평균값을 구했을 때, 상기 최소값의 평균값이 상술한 보호막 형성용 필름의 두께의 하한값 이상이어도 되며, 상기 최대값의 평균값이 상술한 보호막 형성용 필름의 두께의 상한값 이하여도 된다.For example, by the method described above, a test piece is cut out from a plurality of places (for example, five places) of the composite sheet for forming a protective film, and the minimum and maximum values of the thickness of the film for forming a protective film in this test piece are obtained, and these Further, when the average value of these minimum values and the average value of the maximum values is obtained from the value of It may be below the upper limit of thickness.

보호막 형성용 필름은 그 구성 재료를 함유하는 보호막 형성용 조성물을 사용하여 형성할 수 있다. 예를 들면, 보호막 형성용 필름의 형성 대상면에 보호막 형성용 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 목적으로 하는 부위에 보호막 형성용 필름을 형성할 수 있다. 보호막 형성용 조성물 중의 상온에서 기화하지 않는 성분끼리의 함유량의 비율은 통상, 보호막 형성용 필름의 상기 성분끼리의 함유량의 비율과 동일해진다.The film for protective film formation can be formed using the composition for protective film formation containing the constituent material. For example, the film for protective film formation can be formed in the target site|part by coating the composition for protective film formation on the formation target surface of the film for protective film formation, and drying as needed. The ratio of content of the components which do not vaporize at normal temperature in the composition for protective film formation becomes the same as the ratio of content of the said components of the film for protective film formation normally.

보호 형성용 조성물의 도공은 공지의 방법으로 행하면 되며, 예를 들면, 에어 나이프 코터, 블레이드 코터, 바 코터, 그라비아 코터, 롤 코터, 롤 나이프 코터, 커튼 코터, 다이 코터, 나이프 코터, 스크린 코터, 메이어 바 코터, 키스 코터 등의 각종 코터를 이용하는 방법을 들 수 있다.Coating of the composition for protective formation may be performed by a known method, for example, an air knife coater, a blade coater, a bar coater, a gravure coater, a roll coater, a roll knife coater, a curtain coater, a die coater, a knife coater, a screen coater, The method of using various coaters, such as a Mayer bar coater and a kiss coater, is mentioned.

보호막 형성용 조성물의 건조 조건은 특별히 한정되지 않으나, 보호막 형성용 조성물은 후술하는 용매를 함유하고 있는 경우, 가열 건조시키는 것이 바람직하다. 그리고, 용매를 함유하는 보호막 형성용 조성물은 예를 들면, 70∼130℃에서 10초∼5분의 조건으로 건조시키는 것이 바람직하다. 단, 보호막 형성용 조성물이 열경화성인 경우에는, 형성되는 보호막 형성용 필름이 열경화하지 않도록 보호막 형성용 조성물을 건조시키는 것이 바람직하다.Although the drying conditions of the composition for protective film formation are not specifically limited, When the composition for protective film formation contains the solvent mentioned later, it is preferable to heat-dry. And, it is preferable to dry the composition for protective film formation containing a solvent under conditions for 10 second - 5 minutes at 70-130 degreeC, for example. However, when the composition for protective film formation is thermosetting, it is preferable to dry the composition for protective film formation so that the film for protective film formation formed may not thermoset.

이하, 보호막 형성용 필름 및 보호막 형성용 조성물에 대해 그 종류마다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the film for protective film formation and the composition for protective film formation are demonstrated in detail for each type.

○열경화성 보호막 형성용 필름○Film for thermosetting protective film formation

바람직한 열경화성 보호막 형성용 필름으로는 예를 들면, 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)을 함유하는 것을 들 수 있다.As a preferable film for thermosetting protective film formation, the thing containing a polymer component (A) and a thermosetting component (B) is mentioned, for example.

중합체 성분(A)은 중합성 화합물이 중합 반응하여 형성되었다고 간주할 수 있는 성분이다.The polymer component (A) is a component that can be considered to be formed by a polymerization reaction of a polymerizable compound.

열경화성 성분(B)은 열을 반응의 트리거로 하여 경화(중합) 반응할 수 있는 성분이다. 한편, 본 발명에 있어서 중합 반응에는 중축합 반응도 포함된다.The thermosetting component (B) is a component capable of curing (polymerization) reaction by using heat as a trigger of the reaction. On the other hand, in the present invention, the polymerization reaction also includes a polycondensation reaction.

열경화성 보호막 형성용 필름을 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부한 후, 열경화시킬 때의 경화 조건은 경화물이 충분히 그 기능을 발휘하는 정도의 경화도가 되는 한 특별히 한정되지 않고, 열경화성 보호막 형성용 필름의 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.After affixing the film for forming a thermosetting protective film on the back surface of the semiconductor wafer, curing conditions at the time of thermosetting are not particularly limited as long as the cured product has a degree of hardening to the extent that it sufficiently exhibits its function, Types of the film for forming a thermosetting protective film It should be selected appropriately.

예를 들면, 열경화성 보호막 형성용 필름의 열경화시 가열 온도는 100∼200℃인 것이 바람직하고, 110∼180℃인 것이 보다 바람직하며, 120∼170℃인 것이 특히 바람직하다. 그리고, 상기 경화시 가열 시간은 0.5∼5시간인 것이 바람직하고, 0.5∼3시간인 것이 보다 바람직하며, 1∼2시간인 것이 특히 바람직하다.For example, it is preferable that it is 100-200 degreeC, as for the heating temperature at the time of thermosetting of the film for thermosetting protective film formation, it is more preferable that it is 110-180 degreeC, It is especially preferable that it is 120-170 degreeC. The curing time is preferably 0.5 to 5 hours, more preferably 0.5 to 3 hours, and particularly preferably 1 to 2 hours.

<열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)><Composition for thermosetting protective film formation (III-1)>

바람직한 열경화성 보호막 형성용 조성물로는 예를 들면, 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)을 함유하는 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)(본 명세서에 있어서는, 단순히 「조성물(III-1)」이라고 약기하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.Preferred compositions for forming a thermosetting protective film include, for example, a composition (III-1) for forming a thermosetting protective film containing a polymer component (A) and a thermosetting component (B) (in this specification, simply “composition (III-1)” ' is sometimes abbreviated) and the like.

[중합체 성분(A)][Polymer component (A)]

중합체 성분(A)은 열경화성 보호막 형성용 필름에 조막성이나 가요성 등을 부여하기 위한 성분이다.A polymer component (A) is a component for providing film formability, flexibility, etc. to the film for thermosetting protective film formation.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 중합체 성분(A)은 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of polymer components (A) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

중합체 성분(A)으로는 예를 들면, 아크릴계 수지, 폴리에스테르, 우레탄계 수지, 아크릴우레탄 수지, 실리콘계 수지, 고무계 수지, 페녹시 수지, 열경화성 폴리이미드 등을 들 수 있고, 아크릴계 수지가 바람직하다.Examples of the polymer component (A) include acrylic resins, polyesters, urethane resins, acrylic urethane resins, silicone resins, rubber resins, phenoxy resins, and thermosetting polyimides, and acrylic resins are preferred.

중합체 성분(A)에 있어서의 상기 아크릴계 수지로는 공지의 아크릴 중합체를 들 수 있다.A well-known acrylic polymer is mentioned as said acrylic resin in a polymer component (A).

아크릴계 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은 10000∼2000000인 것이 바람직하고, 100000∼1500000인 것이 보다 바람직하다. 아크릴계 수지의 중량 평균 분자량이 상기 하한값 이상임으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 형상 안정성(보관시의 경시 안정성)이 향상된다. 또한, 아크릴계 수지의 중량 평균 분자량이 상기 상한값 이하임으로써, 피착체의 요철면에 열경화성 보호막 형성용 필름이 추종하기 쉬워지고, 피착체와 열경화성 보호막 형성용 필름 사이에서 보이드 등의 발생이 보다 억제된다.It is preferable that it is 10000-2000000, and, as for the weight average molecular weight (Mw) of acrylic resin, it is more preferable that it is 100000-1500000. When the weight average molecular weight of acrylic resin is more than the said lower limit, the shape stability (temporal stability at the time of storage) of the film for thermosetting protective film formation improves. In addition, when the weight average molecular weight of the acrylic resin is below the above upper limit, the film for forming a thermosetting protective film on the uneven surface of the adherend easily follows, and the occurrence of voids between the adherend and the film for forming a thermosetting protective film is more suppressed. .

본 명세서에 있어서 중량 평균 분자량이란, 특별히 언급되지 않는 한, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정되는 폴리스티렌 환산값이다.In this specification, unless otherwise indicated, a weight average molecular weight is a polystyrene conversion value measured by the gel permeation chromatography (GPC) method.

아크릴계 수지의 유리 전이 온도(Tg)는 -60∼70℃인 것이 바람직하고, -30∼50℃인 것이 보다 바람직하다. 아크릴계 수지의 Tg가 상기 하한값 이상임으로써 예를 들면, 보호막 형성용 필름의 경화물(즉, 보호막)과 지지 시트의 접착력이 억제되어 지지 시트의 박리성이 적절히 향상된다. 또한, 아크릴계 수지의 Tg가 상기 상한값 이하임으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름 및 보호막의 피착체와의 접착력이 향상된다.It is preferable that it is -60-70 degreeC, and, as for the glass transition temperature (Tg) of acrylic resin, it is more preferable that it is -30-50 degreeC. When Tg of acrylic resin is more than the said lower limit, the adhesive force of the hardened|cured material of the film for protective film formation (namely, protective film) and a support sheet is suppressed, for example, and the peelability of a support sheet improves suitably. Moreover, when Tg of acrylic resin is below the said upper limit, the adhesive force with the to-be-adhered body of the film for thermosetting protective film formation and a protective film improves.

한편, 아크릴계 수지로 한정되지 않고, 본 명세서 중의 수지의 Tg는 예를 들면, 시차 주사 열량계(DSC)를 이용하여 승온 속도 또는 강온 속도를 10℃/min로 하고, -70℃∼150℃ 사이에서 측정 대상물의 온도를 변화시켜, 변곡점을 확인함으로써 구할 수 있다.On the other hand, it is not limited to an acrylic resin, and Tg of the resin in the present specification is, for example, using a differential scanning calorimeter (DSC) at a temperature increase rate or temperature decrease rate of 10°C/min, and is between -70°C and 150°C. It can be calculated|required by changing the temperature of a measurement object and confirming an inflection point.

아크릴계 수지로는 예를 들면, 1종 또는 2종 이상의 (메타)아크릴산에스테르의 중합체; (메타)아크릴산, 이타콘산, 초산비닐, 아크릴로니트릴, 스티렌 및 N-메틸올아크릴아미드 등으로부터 선택되는 2종 이상의 모노머의 공중합체 등을 들 수 있다.As acrylic resin, For example, 1 type(s) or the polymer of 2 or more types of (meth)acrylic acid ester; and copolymers of two or more monomers selected from (meth)acrylic acid, itaconic acid, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, and N-methylolacrylamide.

아크릴계 수지를 구성하는 상기 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산n-프로필, (메타)아크릴산이소프로필, (메타)아크릴산n-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산sec-부틸, (메타)아크릴산tert-부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산헵틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산n-노닐, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산운데실, (메타)아크릴산도데실((메타)아크릴산라우릴), (메타)아크릴산트리데실, (메타)아크릴산테트라데실((메타)아크릴산미리스틸), (메타)아크릴산펜타데실, (메타)아크릴산헥사데실((메타)아크릴산팔미틸), (메타)아크릴산헵타데실, (메타)아크릴산옥타데실((메타)아크릴산스테아릴) 등의 알킬에스테르를 구성하는 알킬기가 탄소수 1∼18의 사슬형 구조인 (메타)아크릴산알킬에스테르;The (meth)acrylic acid ester constituting the acrylic resin includes, for example, (meth)methyl acrylate, (meth)ethyl acrylate, (meth)acrylic acid n-propyl, (meth)acrylate isopropyl, (meth)acrylic acid n- Butyl, (meth) acrylate isobutyl, (meth) acrylate sec-butyl, (meth) acrylate tert-butyl, (meth) acrylate pentyl, (meth) acrylate hexyl, (meth) acrylate heptyl, (meth) acrylate 2-ethyl Hexyl, (meth)acrylic acid isooctyl, (meth)acrylic acid n-octyl, (meth)acrylic acid n-nonyl, (meth)acrylic acid isononyl, (meth)acrylic acid decyl, (meth)acrylic acid undecyl, (meth)acrylic acid Dodecyl ((meth) acrylate lauryl), (meth) acrylic acid tridecyl, (meth) acrylic acid tetradecyl ((meth) acrylate myristyl), (meth) acrylic acid pentadecyl, (meth) acrylate hexadecyl ((meth) Palmityl acrylate), (meth)acrylic acid heptadecyl, (meth)acrylic acid octadecyl ((meth)acrylic acid stearyl (meth)acrylic acid alkyl ester, in which the alkyl group constituting the alkyl ester has a chain structure having 1 to 18 carbon atoms. ;

(메타)아크릴산이소보르닐, (메타)아크릴산디시클로펜타닐 등의 (메타)아크릴산시클로알킬에스테르;(meth)acrylic acid cycloalkyl esters, such as (meth)acrylic acid isobornyl and (meth)acrylic acid dicyclopentanyl;

(메타)아크릴산벤질 등의 (메타)아크릴산아랄킬에스테르;(meth)acrylic acid aralkyl esters, such as (meth)acrylic acid benzyl;

(메타)아크릴산디시클로펜테닐에스테르 등의 (메타)아크릴산시클로알케닐에스테르;(meth)acrylic acid cycloalkenyl esters, such as (meth)acrylic acid dicyclopentenyl ester;

(메타)아크릴산디시클로펜테닐옥시에틸에스테르 등의 (메타)아크릴산시클로알케닐옥시알킬에스테르;(meth)acrylic acid cycloalkenyloxyalkyl esters such as (meth)acrylic acid dicyclopentenyloxyethyl ester;

(메타)아크릴산이미드;(meth)acrylic acid imide;

(메타)아크릴산글리시딜 등의 글리시딜기 함유 (메타)아크릴산에스테르;glycidyl group-containing (meth)acrylic acid esters such as (meth)acrylic acid glycidyl;

(메타)아크릴산히드록시메틸, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산3-히드록시프로필, (메타)아크릴산2-히드록시부틸, (메타)아크릴산3-히드록시부틸, (메타)아크릴산4-히드록시부틸 등의 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르;(meth)acrylic acid hydroxymethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxybutyl, (meth)acrylate ) hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid esters such as 3-hydroxybutyl acrylic acid and 4-hydroxybutyl (meth)acrylic acid;

(메타)아크릴산N-메틸아미노에틸 등의 치환 아미노기 함유 (메타)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다. 여기서, 「치환 아미노기」란, 아미노기의 1개 또는 2개의 수소 원자가 수소 원자 이외의 기로 치환되어 이루어지는 기를 의미한다.Substituted amino group-containing (meth)acrylic acid esters, such as (meth)acrylic-acid N-methylaminoethyl, etc. are mentioned. Here, the "substituted amino group" means a group in which one or two hydrogen atoms of the amino group are substituted with groups other than hydrogen atoms.

아크릴계 수지는 예를 들면, 상기 (메타)아크릴산에스테르 이외에, (메타)아크릴산, 이타콘산, 초산비닐, 아크릴로니트릴, 스티렌 및 N-메틸올아크릴아미드 등으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 모노머가 공중합하여 이루어지는 것이어도 된다.The acrylic resin, for example, in addition to the (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylic acid, itaconic acid, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, and N-methylolacrylamide one or two or more types of monomers selected from What is formed by copolymerization may be sufficient.

아크릴계 수지를 구성하는 모노머는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of monomers constituting the acrylic resin may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

아크릴계 수지는 비닐기, (메타)아크릴로일기, 아미노기, 수산기, 카르복시기, 이소시아네이트기 등의 다른 화합물과 결합 가능한 관능기를 갖고 있어도 된다. 아크릴계 수지의 상기 관능기는 후술하는 가교제(F)를 개재하여 다른 화합물과 결합해도 되고, 가교제(F)를 개재하지 않고 다른 화합물과 직접 결합하고 있어도 된다. 아크릴계 수지가 상기 관능기에 의해 다른 화합물과 결합함으로써, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 패키지의 신뢰성이 향상하는 경향이 있다.Acrylic resin may have a functional group which can couple|bond with other compounds, such as a vinyl group, a (meth)acryloyl group, an amino group, a hydroxyl group, a carboxy group, and an isocyanate group. The said functional group of an acrylic resin may couple|bond with another compound through the crosslinking agent (F) mentioned later, and may couple|bond with another compound directly without interposing a crosslinking agent (F). When the acrylic resin is bonded to another compound by the functional group, the reliability of the package obtained by using the composite sheet for forming a protective film tends to improve.

본 발명에 있어서는, 중합체 성분(A)으로서 아크릴계 수지 이외의 열가소성 수지(이하, 단순히 「열가소성 수지」라고 약기하는 경우가 있다)를, 아크릴계 수지를 사용하지 않고 단독으로 사용해도 되고, 아크릴계 수지와 병용해도 된다. 상기 열가소성 수지를 사용함으로써, 보호막의 지지 시트로부터의 박리성이 향상하거나 피착체의 요철면에 열경화성 보호막 형성용 필름이 추종하기 쉬워지고, 피착체와 열경화성 보호막 형성용 필름 사이에서 보이드 등의 발생이 보다 억제되는 경우가 있다.In the present invention, as the polymer component (A), a thermoplastic resin other than the acrylic resin (hereinafter, it may simply be abbreviated as “thermoplastic resin”) may be used alone without using the acrylic resin, or in combination with the acrylic resin. You can do it. By using the above-mentioned thermoplastic resin, the peelability of the protective film from the supporting sheet is improved, the film for forming a thermosetting protective film on the uneven surface of the adherend is easily followed, and the occurrence of voids between the adherend and the film for forming a thermosetting protective film is reduced. It may be more restrained.

상기 열가소성 수지의 중량 평균 분자량은 1000∼100000인 것이 바람직하고, 3000∼80000인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 1000-100000, and, as for the weight average molecular weight of the said thermoplastic resin, it is more preferable that it is 3000-80000.

상기 열가소성 수지의 유리 전이 온도(Tg)는 -30∼150℃인 것이 바람직하고, -20∼120℃인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is -30-150 degreeC, and, as for the glass transition temperature (Tg) of the said thermoplastic resin, it is more preferable that it is -20-120 degreeC.

상기 열가소성 수지로는 예를 들면, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 페녹시 수지, 폴리부텐, 폴리부타디엔, 폴리스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the thermoplastic resin include polyester, polyurethane, phenoxy resin, polybutene, polybutadiene, and polystyrene.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 상기 열가소성 수지는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the thermoplastic resins contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

조성물(III-1)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 중합체 성분(A)의 함유량의 비율(즉, 열경화성 보호막 형성용 필름의 중합체 성분(A)의 함유량)은, 중합체 성분(A)의 종류에 상관없이 5∼85질량%인 것이 바람직하고, 5∼75질량%인 것이 보다 바람직하며, 예를 들면, 5∼65질량%, 5∼50질량%, 및 10∼35질량% 등 중 어느 하나여도 된다.The ratio of the content of the polymer component (A) to the total content of all components other than the solvent in the composition (III-1) (that is, the content of the polymer component (A) in the film for forming a thermosetting protective film) is the polymer component (A) ) is preferably 5-85 mass%, more preferably 5-75 mass%, for example, 5-65 mass%, 5-50 mass%, 10-35 mass%, etc. Either one may be sufficient.

중합체 성분(A)은 열경화성 성분(B)에도 해당하는 경우가 있다. 본 발명에 있어서는, 조성물(III-1)이 이러한 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)의 양쪽에 해당하는 성분을 함유하는 경우, 조성물(III-1)은 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)을 함유한다고 간주한다.A polymer component (A) may correspond also to a thermosetting component (B). In the present invention, when the composition (III-1) contains a component corresponding to both the polymer component (A) and the thermosetting component (B), the composition (III-1) is the polymer component (A) and the thermosetting component (B) is considered to contain.

[열경화성 성분(B)][thermosetting component (B)]

열경화성 성분(B)은 열경화성 보호막 형성용 필름을 경화시키기 위한 성분이다.A thermosetting component (B) is a component for hardening the film for thermosetting protective film formation.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 열경화성 성분(B)은 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of thermosetting components (B) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

열경화성 성분(B)으로는 예를 들면, 에폭시계 열경화성 수지, 열경화성 폴리이미드, 폴리우레탄, 불포화 폴리에스테르, 실리콘 수지 등을 들 수 있고, 에폭시계 열경화성 수지가 바람직하다.As a thermosetting component (B), an epoxy type thermosetting resin, a thermosetting polyimide, a polyurethane, unsaturated polyester, a silicone resin etc. are mentioned, for example, An epoxy type thermosetting resin is preferable.

(에폭시계 열경화성 수지)(epoxy thermosetting resin)

에폭시계 열경화성 수지는 에폭시 수지(B1) 및 열경화제(B2)로 이루어진다.The epoxy-based thermosetting resin is composed of an epoxy resin (B1) and a thermosetting agent (B2).

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 에폭시계 열경화성 수지는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The composition (III-1) and the epoxy-based thermosetting resin contained in the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

·에폭시 수지(B1)・Epoxy resin (B1)

에폭시 수지(B1)로는 공지의 것을 들 수 있고, 예를 들면, 다관능계 에폭시 수지, 비페닐 화합물, 비스페놀A 디글리시딜에테르 및 그 수첨물, 오쏘크레졸노볼락에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀F형 에폭시 수지, 페닐렌 골격형 에폭시 수지 등, 2관능 이상의 에폭시 화합물을 들 수 있다.A well-known thing is mentioned as an epoxy resin (B1), For example, polyfunctional epoxy resin, a biphenyl compound, bisphenol A diglycidyl ether and its hydrogenated product, ortho cresol novolac epoxy resin, dicyclopentadiene. Bifunctional or more than bifunctional epoxy compounds, such as a type|mold epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, a bisphenol A type|mold epoxy resin, a bisphenol F type|mold epoxy resin, and a phenylene skeleton type|mold epoxy resin, are mentioned.

에폭시 수지(B1)로는 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지를 사용해도 된다. 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지는 불포화 탄화수소기를 갖지 않는 에폭시 수지보다 아크릴계 수지와의 상용성이 높다. 이 때문에 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지를 사용함으로써, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 보호막이 형성된 반도체 칩의 신뢰성이 향상된다.As the epoxy resin (B1), an epoxy resin having an unsaturated hydrocarbon group may be used. The epoxy resin having an unsaturated hydrocarbon group has higher compatibility with the acrylic resin than the epoxy resin having no unsaturated hydrocarbon group. For this reason, the reliability of the semiconductor chip with a protective film obtained using the composite sheet for protective film formation improves by using the epoxy resin which has an unsaturated hydrocarbon group.

불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지로는 예를 들면, 다관능계 에폭시 수지의 에폭시기의 일부가 불포화 탄화수소기를 갖는 기로 변환되어 이루어지는 화합물을 들 수 있다. 이러한 화합물은 예를 들면, 에폭시기에 (메타)아크릴산 또는 그 유도체를 부가 반응시킴으로써 얻어진다.As the epoxy resin having an unsaturated hydrocarbon group, for example, a compound in which a part of the epoxy groups of the polyfunctional epoxy resin is converted into a group having an unsaturated hydrocarbon group is exemplified. Such a compound is obtained, for example, by addition-reacting (meth)acrylic acid or its derivative(s) to an epoxy group.

또한, 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지로는 예를 들면, 에폭시 수지를 구성하는 방향 고리 등에 불포화 탄화수소기를 갖는 기가 직접 결합한 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, as an epoxy resin which has an unsaturated hydrocarbon group, the compound etc. which the group which has an unsaturated hydrocarbon group directly couple|bonded with the aromatic ring which comprises an epoxy resin etc. are mentioned, for example.

불포화 탄화수소기는 중합성을 갖는 불포화기이며, 그 구체적인 예로는 에테닐기(비닐기), 2-프로페닐기(알릴기), (메타)아크릴로일기, (메타)아크릴아미드기 등을 들 수 있고, 아크릴로일기가 바람직하다.The unsaturated hydrocarbon group is an unsaturated group having polymerizability, and specific examples thereof include an ethenyl group (vinyl group), 2-propenyl group (allyl group), (meth)acryloyl group, (meth)acrylamide group, etc. An acryloyl group is preferable.

에폭시 수지(B1)의 수평균 분자량은 특별히 한정되지 않으나, 열경화성 보호막 형성용 필름의 경화성, 그리고 경화 후의 보호막의 강도 및 내열성의 점에서, 300∼30000인 것이 바람직하고, 300∼10000인 것이 보다 바람직하며, 300∼3000인 것이 특히 바람직하다.Although the number average molecular weight of the epoxy resin (B1) is not particularly limited, it is preferably 300 to 30000, more preferably 300 to 10000, from the viewpoint of the curability of the film for forming a thermosetting protective film and the strength and heat resistance of the protective film after curing. And it is especially preferable that it is 300-3000.

본 명세서에 있어서 수평균 분자량이란, 특별히 언급되지 않는 한, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정되는 폴리스티렌 환산값이다.In this specification, unless otherwise indicated, a number average molecular weight is a polystyrene conversion value measured by the gel permeation chromatography (GPC) method.

에폭시 수지(B1)의 에폭시 당량은 100∼1000g/eq인 것이 바람직하고, 150∼950g/eq인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 100-1000 g/eq, and, as for the epoxy equivalent of an epoxy resin (B1), it is more preferable that it is 150-950 g/eq.

본 명세서에 있어서 「에폭시 당량」이란 1그램당량의 에폭시기를 포함하는 에폭시 화합물의 그램수(g/eq)를 의미하고, JIS K 7236:2001의 방법에 따라 측정할 수 있다.In this specification, "epoxy equivalent" means the number of grams (g/eq) of an epoxy compound containing 1 gram equivalent of an epoxy group, and can be measured according to the method of JISK7236:2001.

에폭시 수지(B1)는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 되며, 2종 이상을 병용하는 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.An epoxy resin (B1) may be used individually by 1 type, may use 2 or more types together, and when using 2 or more types together, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

·열경화제(B2)· Thermosetting agent (B2)

열경화제(B2)는 에폭시 수지(B1)에 대한 경화제로서 기능한다.The thermosetting agent (B2) functions as a curing agent for the epoxy resin (B1).

열경화제(B2)로는 예를 들면, 1분자 중에 에폭시기와 반응할 수 있는 관능기를 2개 이상 갖는 화합물을 들 수 있다. 상기 관능기로는 예를 들면, 페놀성 수산기, 알코올성 수산기, 아미노기, 카르복시기, 산기가 무수물화된 기 등을 들 수 있고, 페놀성 수산기, 아미노기, 또는 산기가 무수물화된 기인 것이 바람직하고, 페놀성 수산기 또는 아미노기인 것이 보다 바람직하다.As a thermosetting agent (B2), the compound which has two or more functional groups which can react with an epoxy group in 1 molecule is mentioned, for example. Examples of the functional group include a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and a group in which an acid group is anhydrideized, and a phenolic hydroxyl group, an amino group, or a group in which an acid group is anhydrideized is preferable, and a phenolic hydroxyl group, an amino group, or an acid group is an anhydride group. It is more preferable that it is a hydroxyl group or an amino group.

열경화제(B2) 중, 페놀성 수산기를 갖는 페놀계 경화제로는 예를 들면, 다관능 페놀 수지, 비페놀, 노볼락형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 아랄킬형 페놀 수지 등을 들 수 있다.Among the thermosetting agents (B2), examples of the phenolic curing agent having a phenolic hydroxyl group include polyfunctional phenol resins, biphenols, novolac-type phenol resins, dicyclopentadiene-type phenol resins, and aralkyl-type phenol resins. can

열경화제(B2) 중, 아미노기를 갖는 아민계 경화제로는 예를 들면, 디시안디아미드 등을 들 수 있다.Among the thermosetting agents (B2), examples of the amine-based curing agent having an amino group include dicyandiamide.

열경화제(B2)는 불포화 탄화수소기를 갖고 있어도 된다.The thermosetting agent (B2) may have an unsaturated hydrocarbon group.

불포화 탄화수소기를 갖는 열경화제(B2)로는 예를 들면, 페놀 수지의 수산기의 일부가 불포화 탄화수소기를 갖는 기로 치환되어 이루어지는 화합물, 페놀 수지의 방향 고리에 불포화 탄화수소기를 갖는 기가 직접 결합하여 이루어지는 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the thermosetting agent (B2) having an unsaturated hydrocarbon group include a compound in which a part of the hydroxyl group of the phenol resin is substituted with a group having an unsaturated hydrocarbon group, a compound in which a group having an unsaturated hydrocarbon group is directly bonded to the aromatic ring of the phenol resin, etc. can

열경화제(B2)에 있어서의 상기 불포화 탄화수소기는 상술한 불포화 탄화수소기를 갖는 에폭시 수지에 있어서의 불포화 탄화수소기와 동일한 것이다.The said unsaturated hydrocarbon group in a thermosetting agent (B2) is the same thing as the unsaturated hydrocarbon group in the epoxy resin which has the above-mentioned unsaturated hydrocarbon group.

열경화제(B2)로서 페놀계 경화제를 사용하는 경우에는, 보호막의 지지 시트로부터의 박리성이 향상하는 점에서, 열경화제(B2)는 연화점 또는 유리 전이 온도가 높은 것이 바람직하다.When using a phenolic hardening|curing agent as a thermosetting agent (B2), it is preferable that the softening point or glass transition temperature of a thermosetting agent (B2) is high at the point which the peelability from the support sheet of a protective film improves.

열경화제(B2) 중 예를 들면, 다관능 페놀 수지, 노볼락형 페놀 수지, 디시클로펜타디엔형 페놀 수지, 아랄킬형 페놀 수지 등의 수지 성분의 수평균 분자량은 300∼30000인 것이 바람직하고, 400∼10000인 것이 보다 바람직하며, 500∼3000인 것이 특히 바람직하다.Among the thermosetting agents (B2), for example, the number average molecular weight of resin components such as polyfunctional phenol resins, novolak-type phenol resins, dicyclopentadiene-type phenol resins, and aralkyl-type phenol resins is preferably 300 to 30000, It is more preferable that it is 400-10000, and it is especially preferable that it is 500-3000.

열경화제(B2) 중 예를 들면, 비페놀, 디시안디아미드 등의 비수지 성분의 분자량은 특별히 한정되지 않지만 예를 들면, 60∼500인 것이 바람직하다.Although the molecular weight of non-resin components, such as a biphenol and dicyandiamide, among thermosetting agents (B2) is not specifically limited, For example, it is preferable that it is 60-500.

열경화제(B2)는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 되며, 2종 이상을 병용하는 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.A thermosetting agent (B2) may be used individually by 1 type, may use 2 or more types together, and when using 2 or more types together, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름에 있어서 열경화제(B2)의 함유량은 에폭시 수지(B1)의 함유량 100질량부에 대해 0.1∼500질량부인 것이 바람직하고, 1∼200질량부인 것이 보다 바람직하며, 예를 들면, 1∼100질량부, 1∼50질량부, 1∼25질량부, 및 1∼10질량부 등 중 어느 하나여도 된다. 열경화제(B2)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 경화가 보다 진행되기 쉬워진다. 또한, 열경화제(B2)의 상기 함유량이 상기 상한값 이하임으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 흡습률이 저감되고, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 패키지의 신뢰성이 보다 향상된다.In the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film, the content of the thermosetting agent (B2) is preferably 0.1 to 500 parts by mass, more preferably 1 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the content of the epoxy resin (B1). Preferably, any one of 1-100 mass parts, 1-50 mass parts, 1-25 mass parts, and 1-10 mass parts etc. may be sufficient, for example. When the said content of a thermosetting agent (B2) is more than the said lower limit, hardening of the film for thermosetting protective film formation advances more easily. Moreover, when the said content of a thermosetting agent (B2) is below the said upper limit, the moisture absorption of the film for thermosetting protective film formation is reduced, and the reliability of the package obtained using the composite sheet for protective film formation improves more.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름에 있어서 열경화성 성분(B)의 함유량(예를 들면, 에폭시 수지(B1) 및 열경화제(B2)의 총 함유량)은 중합체 성분(A)의 함유량 100질량부에 대해 20∼500질량부인 것이 바람직하고, 30∼300질량부인 것이 보다 바람직하며, 40∼150질량부인 것이 더욱 바람직하고, 예를 들면, 45∼100질량부, 및 50∼80질량부 등 중 어느 하나여도 된다. 열경화성 성분(B)의 상기 함유량이 이러한 범위임으로써 예를 들면, 보호막 형성용 필름의 경화물과 지지 시트의 접착력이 억제되어 지지 시트의 박리성이 향상된다.In the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film, the content of the thermosetting component (B) (for example, the total content of the epoxy resin (B1) and the thermosetting agent (B2)) is 100 content of the polymer component (A) It is preferable that it is 20-500 mass parts with respect to mass part, It is more preferable that it is 30-300 mass parts, It is still more preferable that it is 40-150 mass parts, For example, 45-100 mass parts, 50-80 mass parts, etc. Either one may be sufficient. When the said content of a thermosetting component (B) is such a range, the adhesive force of the hardened|cured material of the film for protective film formation, and a support sheet is suppressed, for example, and the peelability of a support sheet improves.

[경화 촉진제(C)][curing accelerator (C)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 경화 촉진제(C)를 함유하고 있어도 된다. 경화 촉진제(C)는 조성물(III-1)의 경화 속도를 조정하기 위한 성분이다.The composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the hardening accelerator (C). The curing accelerator (C) is a component for adjusting the curing rate of the composition (III-1).

바람직한 경화 촉진제(C)로는 예를 들면, 트리에틸렌디아민, 벤질디메틸아민, 트리에탄올아민, 디메틸아미노에탄올, 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등의 3차 아민; 2-메틸이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸 등의 이미다졸류(1개 이상의 수소 원자가 수소 원자 이외의 기로 치환된 이미다졸); 트리부틸포스핀, 디페닐포스핀, 트리페닐포스핀 등의 유기 포스핀류(1개 이상의 수소 원자가 유기기로 치환된 포스핀); 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트, 트리페닐포스핀테트라페닐보레이트 등의 테트라페닐보론염 등을 들 수 있다.Preferred curing accelerators (C) include, for example, tertiary amines such as triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol and tris(dimethylaminomethyl)phenol; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5 -imidazoles such as hydroxymethylimidazole (imidazole in which one or more hydrogen atoms are substituted with groups other than hydrogen atoms); organic phosphines (phosphines in which one or more hydrogen atoms are substituted with organic groups) such as tributylphosphine, diphenylphosphine, and triphenylphosphine; Tetraphenyl boron salts, such as tetraphenyl phosphonium tetraphenyl borate and a triphenyl phosphine tetraphenyl borate, etc. are mentioned.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 경화 촉진제(C)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of curing accelerators (C) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

경화 촉진제(C)를 사용하는 경우, 조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름에 있어서 경화 촉진제(C)의 함유량은 열경화성 성분(B)의 함유량 100질량부에 대해 0.01∼10질량부인 것이 바람직하고, 0.1∼7질량부인 것이 보다 바람직하다. 경화 촉진제(C)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 경화 촉진제(C)를 사용함에 의한 효과가 보다 현저히 얻어진다. 또한, 경화 촉진제(C)의 함유량이 상기 상한값 이하임으로써 예를 들면, 고극성 경화 촉진제(C)가 고온·고습도 조건하에서 열경화성 보호막 형성용 필름 중에 있어서 피착체와의 접착 계면측으로 이동하여 편석되는 것을 억제하는 효과가 높아지고, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 보호막이 형성된 반도체 칩의 신뢰성이 보다 향상된다.When a curing accelerator (C) is used, the content of the curing accelerator (C) in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film is 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the content of the thermosetting component (B) It is preferable, and it is more preferable that it is 0.1-7 mass parts. When the said content of a hardening accelerator (C) is more than the said lower limit, the effect by using a hardening accelerator (C) is acquired more remarkably. In addition, since the content of the curing accelerator (C) is below the upper limit, for example, the high polar curing accelerator (C) moves to the adhesive interface side with the adherend and segregates in the film for forming a thermosetting protective film under high temperature and high humidity conditions The effect of suppressing a thing increases, and the reliability of the semiconductor chip with a protective film obtained using the composite sheet for protective film formation improves more.

[충전재(D)][Filling material (D)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 충전재(D)를 함유하고 있어도 된다. 열경화성 보호막 형성용 필름은 충전재(D)를 함유함으로써, 상기 흡수율 및 점착력 변화율을 목적으로 하는 범위 내로 조절하는 것이 보다 용이해진다. 또한, 열경화성 보호막 형성용 필름 및 보호막은 충전재(D)를 함유함으로써, 열팽창 계수의 조절이 보다 용이해지며, 이 열팽창 계수를 열경화성 보호막 형성용 필름 또는 보호막의 형성 대상물에 대해 최적화함으로써, 보호막 형성용 복합 시트를 사용하여 얻어진 보호막이 형성된 반도체 칩의 신뢰성이 보다 향상된다. 또한, 열경화성 보호막 형성용 필름은 충전재(D)를 함유함으로써, 보호막의 흡습률을 저감하거나 방열성을 향상시킬 수도 있다.The composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the filler (D). When the film for forming a thermosetting protective film contains the filler (D), it becomes easier to control the water absorption rate and the change rate of the adhesive force within the target ranges. In addition, the film for forming a thermosetting protective film and the protective film contain the filler (D), so that the control of the coefficient of thermal expansion becomes easier, and by optimizing this coefficient of thermal expansion for the film for forming a thermosetting protective film or the object to be formed, the protective film is formed The reliability of the semiconductor chip with a protective film obtained using the composite sheet improves more. Moreover, the film for thermosetting protective film formation can reduce the moisture absorption of a protective film, or can also improve heat dissipation by containing a filler (D).

충전재(D)는 유기 충전재 및 무기 충전재 중 어느 것이어도 되지만, 무기 충전재인 것이 바람직하다.Although any of an organic filler and an inorganic filler may be sufficient as a filler (D), it is preferable that it is an inorganic filler.

바람직한 무기 충전재로는 예를 들면, 실리카, 알루미나, 탤크, 탄산칼슘, 티탄 화이트, 벵갈라, 탄화규소, 질화붕소 등의 분말; 이들 무기 충전재를 구형화한 비즈; 이들 무기 충전재의 표면 개질품; 이들 무기 충전재의 단결정 섬유; 유리 섬유 등을 들 수 있다.Preferred inorganic fillers include, for example, powders such as silica, alumina, talc, calcium carbonate, titanium white, bengala, silicon carbide and boron nitride; beads obtained by spheroidizing these inorganic fillers; surface-modified products of these inorganic fillers; single crystal fibers of these inorganic fillers; Glass fiber etc. are mentioned.

이들 중에서도 무기 충전재는, 실리카 또는 알루미나인 것이 바람직하고, 실리카인 것이 보다 바람직하다.Among these, it is preferable that it is a silica or an alumina, and, as for an inorganic filler, it is more preferable that it is a silica.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 충전재(D)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of fillers (D) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, these combinations and ratios can be arbitrarily selected.

충전재(D)를 사용하는 경우, 조성물(III-1)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 충전재(D)의 함유량의 비율(즉, 열경화성 보호막 형성용 필름의 충전재(D)의 함유량)은 5∼80질량%인 것이 바람직하고, 10∼70질량%인 것이 보다 바람직하며, 예를 들면, 20∼65질량%, 30∼65질량%, 및 40∼65질량% 등 중 어느 하나여도 된다. 충전재(D)의 함유량이 이러한 범위임으로써, 상기 열팽창 계수의 조정이 보다 용이해지며, 또한, 보호막 형성용 필름 및 보호막의 강도가 보다 향상된다.When a filler (D) is used, the ratio of the content of the filler (D) to the total content of all components other than the solvent in the composition (III-1) (that is, the content of the filler (D) in the film for forming a thermosetting protective film) ) is preferably 5 to 80 mass%, more preferably 10 to 70 mass%, for example, any one of 20 to 65 mass%, 30 to 65 mass%, and 40 to 65 mass%. do. When content of a filler (D) is such a range, adjustment of the said thermal expansion coefficient becomes easier, and the intensity|strength of the film for protective film formation and a protective film improves more.

[커플링제(E)][Coupling agent (E)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 커플링제(E)를 함유하고 있어도 된다. 커플링제(E)로서 무기 화합물 또는 유기 화합물과 반응 가능한 관능기를 갖는 것을 사용함으로써 열경화성 보호막 형성용 필름의 피착체에 대한 접착성 및 밀착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 커플링제(E)를 사용함으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 경화물(보호막)은 내열성을 저해하지 않고 내수성이 향상된다.Composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the coupling agent (E). By using what has a functional group which can react with an inorganic compound or an organic compound as a coupling agent (E), the adhesiveness and adhesiveness with respect to the to-be-adhered body of the film for thermosetting protective film formation can be improved. Moreover, water resistance improves without impairing heat resistance of the hardened|cured material (protective film) of the film for thermosetting protective film formation by using a coupling agent (E).

커플링제(E)는 중합체 성분(A), 열경화성 성분(B) 등이 갖는 관능기와 반응 가능한 관능기를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 실란 커플링제인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is a compound which has a functional group which can react with the functional group which a polymer component (A), a thermosetting component (B), etc. have, and, as for a coupling agent (E), it is more preferable that it is a silane coupling agent.

바람직한 상기 실란 커플링제로는 예를 들면, 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 3-글리시딜옥시메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-(2-아미노에틸아미노)프로필트리메톡시실란, 3-(2-아미노에틸아미노)프로필메틸디에톡시실란, 3-(페닐아미노)프로필트리메톡시실란, 3-아닐리노프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 비스(3-트리에톡시실릴프로필)테트라술판, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 이미다졸실란 등을 들 수 있다.Preferred silane coupling agents include, for example, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, and 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane. Cydyloxymethyldiethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-( 2-aminoethylamino)propyltrimethoxysilane, 3-(2-aminoethylamino)propylmethyldiethoxysilane, 3-(phenylamino)propyltrimethoxysilane, 3-anilinopropyltrimethoxysilane, 3 -Ureidopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis(3-triethoxysilylpropyl)tetrasulfane, methyltrimethoxysilane, methyltri Ethoxysilane, vinyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, imidazole silane, etc. are mentioned.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 커플링제(E)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of coupling agents (E) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

커플링제(E)를 사용하는 경우, 조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름에 있어서 커플링제(E)의 함유량은 중합체 성분(A) 및 열경화성 성분(B)의 총 함유량 100질량부에 대해 0.03∼20질량부인 것이 바람직하고, 0.05∼10질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.1∼5질량부인 것이 특히 바람직하다. 커플링제(E)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 충전재(D)의 수지에 대한 분산성의 향상이나, 열경화성 보호막 형성용 필름의 피착체와의 접착성의 향상 등, 커플링제(E)를 사용함에 의한 효과가 보다 현저히 얻어진다. 또한, 커플링제(E)의 상기 함유량이 상기 상한값 이하임으로써, 아웃 가스의 발생이 보다 억제된다.When using a coupling agent (E), content of a coupling agent (E) in composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation is 100 mass parts of total content of a polymer component (A) and a thermosetting component (B) It is preferable that it is 0.03-20 mass parts with respect to it, It is more preferable that it is 0.05-10 mass parts, It is especially preferable that it is 0.1-5 mass parts. When the content of the coupling agent (E) is equal to or greater than the lower limit, the improvement of the dispersibility of the filler (D) to the resin, the improvement of the adhesion of the film for forming a thermosetting protective film to the adherend, etc., when using the coupling agent (E) effect is obtained more significantly. Moreover, generation|occurrence|production of an outgas is suppressed more because the said content of a coupling agent (E) is below the said upper limit.

[가교제(F)][Crosslinking agent (F)]

중합체 성분(A)으로서 상술한 아크릴계 수지 등의 다른 화합물과 결합 가능한 비닐기, (메타)아크릴로일기, 아미노기, 수산기, 카르복시기, 이소시아네이트기 등의 관능기를 갖는 것을 사용하는 경우, 조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 가교제(F)를 함유하고 있어도 된다. 가교제(F)는 중합체 성분(A) 중의 상기 관능기를 다른 화합물과 결합시켜 가교하기 위한 성분이며, 이와 같이 가교함으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 초기 접착력 및 응집력을 조절할 수 있다.When a polymer component (A) having a functional group such as a vinyl group, (meth)acryloyl group, amino group, hydroxyl group, carboxyl group, and isocyanate group capable of bonding with other compounds such as the above-mentioned acrylic resin is used, composition (III-1) ) and the film for thermosetting protective film formation may contain the crosslinking agent (F). The crosslinking agent (F) is a component for crosslinking by bonding the functional group in the polymer component (A) with other compounds, and by crosslinking in this way, the initial adhesive force and cohesive force of the film for forming a thermosetting protective film can be adjusted.

가교제(F)로는 예를 들면, 유기 다가 이소시아네이트 화합물, 유기 다가 이민 화합물, 금속 킬레이트계 가교제(금속 킬레이트 구조를 갖는 가교제), 아지리딘계 가교제(아지리디닐기를 갖는 가교제) 등을 들 수 있다.Examples of the crosslinking agent (F) include an organic polyvalent isocyanate compound, an organic polyvalent imine compound, a metal chelate crosslinking agent (crosslinking agent having a metal chelate structure), and an aziridine crosslinking agent (crosslinking agent having an aziridinyl group).

상기 유기 다가 이소시아네이트 화합물로는 예를 들면, 방향족 다가 이소시아네이트 화합물, 지방족 다가 이소시아네이트 화합물 및 지환족 다가 이소시아네이트 화합물(이하, 이들 화합물을 포괄하여 「방향족 다가 이소시아네이트 화합물 등」이라고 약기하는 경우가 있다); 상기 방향족 다가 이소시아네이트 화합물 등의 3량체, 이소시아누레이트체 및 어덕트체; 상기 방향족 다가 이소시아네이트 화합물 등과 폴리올 화합물을 반응시켜 얻어지는 말단 이소시아네이트우레탄 프리폴리머 등을 들 수 있다. 상기 「어덕트체」는, 상기 방향족 다가 이소시아네이트 화합물, 지방족 다가 이소시아네이트 화합물 또는 지환족 다가 이소시아네이트 화합물과, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판 또는 피마자유 등의 저분자 활성 수소 함유 화합물의 반응물을 의미한다. 상기 어덕트체의 예로는 후술하는 바와 같은 트리메틸올프로판의 자일릴렌디이소시아네이트 부가물 등을 들 수 있다. 또한, 「말단 이소시아네이트우레탄 프리폴리머」란, 앞서 설명한 바와 같다.As said organic polyhydric isocyanate compound, For example, an aromatic polyhydric isocyanate compound, an aliphatic polyvalent isocyanate compound, and an alicyclic polyhydric isocyanate compound (Hereinafter, these compounds are collectively abbreviated as "aromatic polyvalent isocyanate compound etc."); a trimer, an isocyanurate body, and an adduct body, such as the said aromatic polyhydric isocyanate compound; The terminal isocyanate urethane prepolymer etc. which are obtained by making the said aromatic polyhydric isocyanate compound etc. react with a polyol compound are mentioned. The "adduct body" refers to the aromatic polyvalent isocyanate compound, the aliphatic polyvalent isocyanate compound or the alicyclic polyvalent isocyanate compound, and a low molecular weight active hydrogen-containing compound such as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane or castor oil. means the reactant. As an example of the said adduct body, the xylylene diisocyanate adduct of trimethylol propane as mentioned later, etc. are mentioned. In addition, "terminal isocyanate urethane prepolymer" is as having demonstrated previously.

상기 유기 다가 이소시아네이트 화합물로서 보다 구체적으로는, 예를 들면, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트; 2,6-톨릴렌디이소시아네이트; 1,3-자일릴렌디이소시아네이트; 1,4-자일렌디이소시아네이트; 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트; 디페닐메탄-2,4'-디이소시아네이트; 3-메틸디페닐메탄디이소시아네이트; 헥사메틸렌디이소시아네이트; 이소포론디이소시아네이트; 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트; 디시클로헥실메탄-2,4'-디이소시아네이트; 트리메틸올프로판 등의 폴리올의 전부 또는 일부의 수산기에 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 및 자일릴렌디이소시아네이트 중 어느 1종 또는 2종 이상이 부가한 화합물; 리신디이소시아네이트 등을 들 수 있다.More specifically, as said organic polyhydric isocyanate compound, For example, 2, 4- tolylene diisocyanate; 2,6-tolylene diisocyanate; 1,3-xylylene diisocyanate; 1,4-xylene diisocyanate; diphenylmethane-4,4'-diisocyanate; diphenylmethane-2,4'-diisocyanate; 3-methyldiphenylmethane diisocyanate; hexamethylene diisocyanate; isophorone diisocyanate; dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate; dicyclohexylmethane-2,4'-diisocyanate; Compounds in which any one or two or more of tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and xylylene diisocyanate were added to all or some hydroxyl groups of polyols such as trimethylolpropane; Lysine diisocyanate etc. are mentioned.

상기 유기 다가 이민 화합물로는 예를 들면, N,N'-디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복시아미드), 트리메틸올프로판-트리-β-아지리디닐프로피오네이트, 테트라메틸올메탄-트리-β-아지리디닐프로피오네이트, N,N'-톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복시아미드)트리에틸렌멜라민 등을 들 수 있다.Examples of the organic polyvalent imine compound include N,N'-diphenylmethane-4,4'-bis(1-aziridinecarboxamide), trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, N,N'-toluene-2,4-bis(1-aziridinecarboxamide)triethylenemelamine, etc. are mentioned.

가교제(F)로서 유기 다가 이소시아네이트 화합물을 사용하는 경우, 중합체 성분(A)으로는 수산기 함유 중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 가교제(F)가 이소시아네이트기를 갖고, 중합체 성분(A)이 수산기를 갖는 경우, 가교제(F)와 중합체 성분(A)의 반응에 의해 열경화성 보호막 형성용 필름에 가교 구조를 간편하게 도입할 수 있다.When using an organic polyvalent isocyanate compound as a crosslinking agent (F), it is preferable to use a hydroxyl-containing polymer as a polymer component (A). When the crosslinking agent (F) has an isocyanate group and the polymer component (A) has a hydroxyl group, the crosslinking structure can be easily introduced into the film for forming a thermosetting protective film by reaction of the crosslinking agent (F) with the polymer component (A).

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 가교제(F)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of crosslinking agents (F) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

가교제(F)를 사용하는 경우, 조성물(III-1)의 가교제(F)의 함유량은 중합체 성분(A)의 함유량 100질량부에 대해 0.01∼20질량부인 것이 바람직하고, 0.1∼10질량부인 것이 보다 바람직하며, 0.5∼5질량부인 것이 특히 바람직하다. 가교제(F)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 가교제(F)를 사용함에 의한 효과가 보다 현저히 얻어진다. 또한, 가교제(F)의 상기 함유량이 상기 상한값 이하임으로써, 가교제(F)의 과잉 사용이 억제된다.When using a crosslinking agent (F), it is preferable that content of the crosslinking agent (F) of composition (III-1) is 0.01-20 mass parts with respect to 100 mass parts of content of a polymer component (A), It is 0.1-10 mass parts It is more preferable, and it is especially preferable that it is 0.5-5 mass parts. When the said content of a crosslinking agent (F) is more than the said lower limit, the effect by using a crosslinking agent (F) is acquired more remarkably. Moreover, excessive use of a crosslinking agent (F) is suppressed because the said content of a crosslinking agent (F) is below the said upper limit.

[에너지선 경화성 수지(G)][Energy-ray-curable resin (G)]

조성물(III-1)은 에너지선 경화성 수지(G)를 함유하고 있어도 된다. 열경화성 보호막 형성용 필름은 에너지선 경화성 수지(G)를 함유하고 있음으로써, 에너지선의 조사에 의해 특성을 변화시킬 수 있다.Composition (III-1) may contain energy-beam curable resin (G). Since the film for thermosetting protective film formation contains energy-beam curable resin (G), a characteristic can be changed by irradiation of an energy-beam.

에너지선 경화성 수지(G)는 에너지선 경화성 화합물을 중합(경화)하여 얻어진 것이다.Energy ray-curable resin (G) is obtained by superposing|polymerizing (hardening) an energy-beam curable compound.

상기 에너지선 경화성 화합물로는 예를 들면, 분자 내에 적어도 1개의 중합성 이중 결합을 갖는 화합물을 들 수 있고, (메타)아크릴로일기를 갖는 아크릴레이트계 화합물이 바람직하다.As said energy-beam-curable compound, the compound which has at least 1 polymerizable double bond in a molecule|numerator is mentioned, for example, The acrylate type compound which has a (meth)acryloyl group is preferable.

상기 아크릴레이트계 화합물로는 예를 들면, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노히드록시펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 1,4-부틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트 등의 사슬형 지방족 골격 함유 (메타)아크릴레이트; 디시클로펜타닐디(메타)아크릴레이트 등의 고리형 지방족 골격 함유 (메타)아크릴레이트; 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트 등의 폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트; 올리고에스테르(메타)아크릴레이트; 우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머; 에폭시 변성 (메타)아크릴레이트; 상기 폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 이외의 폴리에테르(메타)아크릴레이트; 이타콘산 올리고머 등을 들 수 있다.Examples of the acrylate-based compound include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, tetramethylolmethanetetra(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acryl Rate, dipentaerythritol monohydroxypenta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,4-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) (meth)acrylates containing a chain aliphatic skeleton such as acrylates; cyclic aliphatic skeleton-containing (meth)acrylates such as dicyclopentanyl di(meth)acrylate; polyalkylene glycol (meth)acrylates such as polyethylene glycol di(meth)acrylate; oligoester (meth)acrylate; urethane (meth)acrylate oligomers; epoxy-modified (meth)acrylate; polyether (meth)acrylates other than the polyalkylene glycol (meth)acrylate; Itaconic acid oligomer etc. are mentioned.

상기 에너지선 경화성 화합물의 중량 평균 분자량은 100∼30000인 것이 바람직하고, 300∼10000인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 100-30000, and, as for the weight average molecular weight of the said energy-beam curable compound, it is more preferable that it is 300-10000.

중합에 사용하는 상기 에너지선 경화성 화합물은 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the said energy-ray-curable compound used for superposition|polymerization may be only 1 type, and 2 or more types may be sufficient as them, and when 2 or more types, these combinations and ratio can be selected arbitrarily.

조성물(III-1)이 함유하는 에너지선 경화성 수지(G)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of energy ray-curable resin (G) contained in the composition (III-1) may be one, two or more types may be sufficient, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

에너지선 경화성 수지(G)를 사용하는 경우, 조성물(III-1)의 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 에너지선 경화성 수지(G)의 함유량은 1∼95질량%인 것이 바람직하고, 5∼90질량%인 것이 보다 바람직하며, 10∼85질량%인 것이 특히 바람직하다.When using energy-beam curable resin (G), it is preferable that content of energy-beam curable resin (G) with respect to the total content of all components other than the solvent of composition (III-1) is 1-95 mass %, 5 It is more preferable that it is -90 mass %, and it is especially preferable that it is 10-85 mass %.

[광중합 개시제(H)][Photoinitiator (H)]

조성물(III-1)은 에너지선 경화성 수지(G)를 함유하는 경우, 에너지선 경화성 수지(G)의 중합 반응을 효율적으로 진행하기 위해 광중합 개시제(H)를 함유하고 있어도 된다.When composition (III-1) contains energy-beam curable resin (G), in order to advance the polymerization reaction of energy-beam curable resin (G) efficiently, you may contain the photoinitiator (H).

조성물(III-1)에 있어서의 광중합 개시제(H)로는 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인벤조산, 벤조인벤조산메틸, 벤조인디메틸케탈 등의 벤조인 화합물; 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등의 아세토페논 화합물; 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등의 아실포스핀옥사이드 화합물; 벤질페닐설파이드, 테트라메틸티우람모노설파이드 등의 설파이드 화합물; 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 등의 α-케톨 화합물; 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물; 티타노센 등의 티타노센 화합물; 티옥산톤 등의 티옥산톤 화합물; 퍼옥사이드 화합물; 디아세틸 등의 디케톤 화합물; 벤질; 디벤질; 벤조페논; 2,4-디에틸티옥산톤; 1,2-디페닐메탄; 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로파논; 2-클로로안트라퀴논 등을 들 수 있다.As the photoinitiator (H) in the composition (III-1), for example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin benzoin compounds such as methyl benzoate and benzoin dimethyl ketal; acetophenone compounds such as acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one and 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one; acylphosphine oxide compounds such as bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; sulfide compounds such as benzylphenyl sulfide and tetramethylthiuram monosulfide; α-ketol compounds such as 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; titanocene compounds such as titanocene; thioxanthone compounds such as thioxanthone; peroxide compounds; diketone compounds such as diacetyl; benzyl; dibenzyl; benzophenone; 2,4-diethylthioxanthone; 1,2-diphenylmethane; 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propanone; 2-chloroanthraquinone etc. are mentioned.

또한, 상기 광중합 개시제로는 예를 들면, 1-클로로안트라퀴논 등의 퀴논 화합물; 아민 등의 광증감제 등도 들 수 있다.Moreover, as said photoinitiator, For example, quinone compounds, such as 1-chloroanthraquinone; Photosensitizers, such as an amine, etc. are mentioned.

조성물(III-1)이 함유하는 광중합 개시제(H)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of photoinitiators (H) contained in the composition (III-1) may be one, two or more types may be sufficient, and when 2 or more types, these combinations and ratio can be selected arbitrarily.

광중합 개시제(H)를 사용하는 경우, 조성물(III-1)의 광중합 개시제(H)의 함유량은 에너지선 경화성 수지(G)의 함유량 100질량부에 대해 0.1∼20질량부인 것이 바람직하고, 1∼10질량부인 것이 보다 바람직하며, 2∼5질량부인 것이 특히 바람직하다.When using a photoinitiator (H), it is preferable that content of the photoinitiator (H) of composition (III-1) is 0.1-20 mass parts with respect to content of 100 mass parts of energy ray-curable resin (G), 1 to It is more preferable that it is 10 mass parts, and it is especially preferable that it is 2-5 mass parts.

[착색제(I)][Colorant (I)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 착색제(I)를 함유하고 있어도 된다.Composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the coloring agent (I).

착색제(I)로는 예를 들면, 무기계 안료, 유기계 안료, 유기계 염료 등, 공지의 것을 들 수 있다.As a coloring agent (I), well-known things, such as an inorganic type pigment, an organic type pigment, and organic type dye, are mentioned, for example.

상기 유기계 안료 및 유기계 염료로는 예를 들면, 아미늄계 색소, 시아닌계 색소, 메로시아닌계 색소, 크로코늄계 색소, 스쿠아릴륨계 색소, 아즈레늄계 색소, 폴리메틴계 색소, 나프토퀴논계 색소, 피릴륨계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 나프탈로시아닌계 색소, 나프토락탐계 색소, 아조계 색소, 축합 아조계 색소, 인디고계 색소, 페리논계 색소, 페릴렌계 색소, 디옥사진계 색소, 퀴나크리돈계 색소, 이소인돌리논계 색소, 퀴노프탈론계 색소, 피롤계 색소, 티오인디고계 색소, 금속 착체계 색소(금속 착염 염료), 디티올 금속 착체계 색소, 인돌페놀계 색소, 트리아릴메탄계 색소, 안트라퀴논계 색소, 디옥사진계 색소, 나프톨계 색소, 아조메틴계 색소, 벤즈이미다졸론계 색소, 피란트론계 색소 및 스렌계 색소 등을 들 수 있다.The organic pigments and organic dyes include, for example, aminium pigments, cyanine pigments, merocyanine pigments, croconium pigments, squarylium pigments, azrenium pigments, polymethine pigments, and naphthoquinone pigments. , pyrylium pigment, phthalocyanine pigment, naphthalocyanine pigment, naphtholactam pigment, azo pigment, condensed azo pigment, indigo pigment, perinone pigment, perylene pigment, dioxazine pigment, quinacridone pigment, Isoindolinone pigment, quinophthalone pigment, pyrrole pigment, thioindigo pigment, metal complex pigment (metal complex dye), dithiol metal complex pigment, indole phenol pigment, triarylmethane pigment, anthra A quinone type pigment|dye, a dioxazine type pigment|dye, a naphthol type pigment|dye, an azomethine type pigment|dye, a benzimidazolone type pigment|dye, a pyranthrone type pigment|dye, a srene type pigment|dye, etc. are mentioned.

상기 무기계 안료로는 예를 들면, 카본 블랙, 코발트계 색소, 철계 색소, 크롬계 색소, 티탄계 색소, 바나듐계 색소, 지르코늄계 색소, 몰리브덴계 색소, 루테늄계 색소, 백금계 색소, ITO(인듐 주석 옥사이드)계 색소, ATO(안티몬 주석 옥사이드)계 색소 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic pigments include carbon black, cobalt pigments, iron pigments, chromium pigments, titanium pigments, vanadium pigments, zirconium pigments, molybdenum pigments, ruthenium pigments, platinum pigments, ITO (indium pigments). A tin oxide) type pigment|dye, ATO (antimony tin oxide) type pigment|dye, etc. are mentioned.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 착색제(I)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The colorant (I) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

착색제(I)를 사용하는 경우, 열경화성 보호막 형성용 필름의 착색제(I)의 함유량은 목적에 따라 적절히 조절하면 된다. 예를 들면, 열경화성 보호막 형성용 필름의 착색제(I)의 함유량을 조절하고, 보호막의 광투과성을 조절함으로써, 보호막에 대해 레이저 인자를 행한 경우의 인자 시인성을 조절할 수 있다. 또한, 열경화성 보호막 형성용 필름의 착색제(I)의 함유량을 조절함으로써, 보호막의 의장성을 향상시키거나 반도체 웨이퍼의 이면의 연삭 흔적을 보이기 어렵게 할 수도 있다. 이 점을 고려하면, 조성물(III-1)에 있어서 용매 이외의 모든 성분의 총 함유량에 대한 착색제(I)의 함유량의 비율(즉, 열경화성 보호막 형성용 필름의 착색제(I)의 함유량)은 0.1∼10질량%인 것이 바람직하고, 0.1∼7.5질량%인 것이 보다 바람직하며, 0.1∼5질량%인 것이 특히 바람직하다. 착색제(I)의 상기 함유량이 상기 하한값 이상임으로써, 착색제(I)를 사용함에 의한 효과가 보다 현저히 얻어진다. 또한, 착색제(I)의 상기 함유량이 상기 상한값 이하임으로써, 열경화성 보호막 형성용 필름의 광투과성의 과도한 저하가 억제된다.When using a coloring agent (I), what is necessary is just to adjust content of the coloring agent (I) of the film for thermosetting protective film formation suitably according to the objective. For example, by adjusting content of the coloring agent (I) of the film for thermosetting protective film formation and adjusting the light transmittance of a protective film, printing visibility at the time of laser printing with respect to a protective film can be adjusted. Moreover, by adjusting content of the coloring agent (I) of the film for thermosetting protective film formation, the designability of a protective film can be improved, or it can also make it difficult to show the grinding mark of the back surface of a semiconductor wafer. Taking this point into consideration, in the composition (III-1), the ratio of the content of the colorant (I) to the total content of all components other than the solvent (that is, the content of the colorant (I) in the film for forming a thermosetting protective film) is 0.1 It is preferable that it is -10 mass %, It is more preferable that it is 0.1-7.5 mass %, It is especially preferable that it is 0.1-5 mass %. When the said content of a coloring agent (I) is more than the said lower limit, the effect by using a coloring agent (I) is acquired more remarkably. Moreover, when the said content of a coloring agent (I) is below the said upper limit, the excessive fall of the light transmittance of the film for thermosetting protective film formation is suppressed.

[범용 첨가제(J)][Universal Additive (J)]

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서, 범용 첨가제(J)를 함유하고 있어도 된다.Composition (III-1) and the film for thermosetting protective film formation may contain the general-purpose additive (J) within the range which does not impair the effect of this invention.

범용 첨가제(J)는 공지의 것이어도 되고, 목적에 따라 임의로 선택할 수 있으며, 특별히 한정되지 않으나, 바람직한 것으로는 예를 들면, 가소제, 대전 방지제, 산화 방지제, 게터링제 등을 들 수 있다.The general-purpose additive (J) may be a well-known one, can be arbitrarily selected according to the purpose, and is not particularly limited, and preferable examples include a plasticizer, an antistatic agent, an antioxidant, a gettering agent, and the like.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 범용 첨가제(J)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of general-purpose additives (J) contained in the composition (III-1) and the film for forming a thermosetting protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

조성물(III-1) 및 열경화성 보호막 형성용 필름의 범용 첨가제(J)의 함유량은 특별히 한정되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택하면 된다.Content of the composition (III-1) and the general-purpose additive (J) of the film for thermosetting protective film formation is not specifically limited, What is necessary is just to select suitably according to the objective.

[용매][menstruum]

조성물(III-1)은 추가로 용매를 함유하는 것이 바람직하다. 용매를 함유하는 조성물(III-1)은 취급성이 양호해진다.The composition (III-1) preferably further contains a solvent. The composition (III-1) containing a solvent becomes favorable in handling property.

상기 용매는 특별히 한정되지 않으나, 바람직한 것으로는 예를 들면, 톨루엔, 자일렌 등의 탄화수소; 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 이소부틸알코올(2-메틸프로판-1-올), 1-부탄올 등의 알코올; 초산에틸 등의 에스테르; 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤; 테트라히드로푸란 등의 에테르; 디메틸포름아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드(아미드 결합을 갖는 화합물) 등을 들 수 있다.The solvent is not particularly limited, but preferably, for example, hydrocarbons such as toluene and xylene; alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, isobutyl alcohol (2-methylpropan-1-ol), and 1-butanol; esters such as ethyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as tetrahydrofuran; and amides (compounds having an amide bond) such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone.

조성물(III-1)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of solvents contained in the composition (III-1) may be one, two or more types may be sufficient, and when 2 or more types, these combinations and a ratio can be selected arbitrarily.

조성물(III-1)이 함유하는 용매는 조성물(III-1) 중의 함유 성분을 보다 균일하게 혼합할 수 있는 점에서, 메틸에틸케톤 등인 것이 바람직하다.The solvent contained in the composition (III-1) is preferably methyl ethyl ketone or the like from the viewpoint of more uniformly mixing the components contained in the composition (III-1).

<<열경화성 보호막 형성용 조성물의 제조 방법>><<The manufacturing method of the composition for thermosetting protective film formation>>

조성물(III-1) 등의 열경화성 보호막 형성용 조성물은 이를 구성하기 위한 각 성분을 배합함으로써 얻어진다.The composition for forming a thermosetting protective film, such as composition (III-1), is obtained by mix|blending each component for constituting this.

각 성분의 배합시에 있어서의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않고, 2종 이상의 성분을 동시에 첨가해도 된다.The order of addition at the time of mixing|blending each component is not specifically limited, You may add 2 or more types of components simultaneously.

용매를 사용하는 경우에는, 용매를 용매 이외 중 어느 하나의 배합 성분과 혼합하여 이 배합 성분을 미리 희석해 둠으로써 사용해도 되며, 용매 이외 중 어느 하나의 배합 성분을 미리 희석해 두지 않고, 용매를 이들 배합 성분과 혼합함으로써 사용해도 된다.In the case of using a solvent, the solvent may be mixed with any compounding component other than the solvent and the compounding component may be used by diluting this compounding component in advance. You may use by mixing with these compounding components.

배합시에 각 성분을 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 교반자 또는 교반 날개 등을 회전시켜 혼합하는 방법; 믹서를 이용하여 혼합하는 방법; 초음파를 가하여 혼합하는 방법 등, 공지의 방법으로부터 적절히 선택하면 된다.The method of mixing each component at the time of mixing|blending is not specifically limited, The method of rotating a stirrer, a stirring blade, etc. and mixing; a method of mixing using a mixer; What is necessary is just to select suitably from well-known methods, such as a method of adding ultrasonic waves and mixing.

각 성분의 첨가 및 혼합시의 온도 그리고 시간은 각 배합 성분이 열화하지 않는 한 특별히 한정되지 않고, 적절히 조절하면 되나, 온도는 15∼30℃인 것이 바람직하다.The temperature and time at the time of addition and mixing of each component are not particularly limited as long as each compounding component does not deteriorate, and may be appropriately adjusted, but the temperature is preferably 15 to 30°C.

○에너지선 경화성 보호막 형성용 필름○Film for energy ray-curable protective film formation

에너지선 경화성 보호막 형성용 필름으로는 에너지선 경화성 성분(a)을 함유하는 것을 들 수 있고, 에너지선 경화성 성분(a) 및 충전재를 함유하는 것이 바람직하다.What contains an energy-beam curable component (a) is mentioned as a film for energy-beam curable protective film formation, It is preferable to contain an energy-beam curable component (a) and a filler.

에너지선 경화성 보호막 형성용 필름에 있어서 에너지선 경화성 성분(a)은 미경화인 것이 바람직하고, 점착성을 갖는 것이 바람직하며, 미경화이며 또한 점착성을 갖는 것이 보다 바람직하다. 여기서, 「에너지선」 및 「에너지선 경화성」이란, 앞서 설명한 바와 같다.In the film for energy ray-curable protective film formation, it is preferable that the energy ray-curable component (a) is non-hardened, it is preferable to have adhesiveness, and it is more preferable that it is non-hardened and has adhesiveness. Here, "energy-beam" and "energy-beam sclerosis|hardenability" are as having previously demonstrated.

에너지선 경화성 보호막 형성용 필름을 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부한 후, 경화시킬 때의 경화 조건은 경화물이 충분히 그 기능을 발휘하는 정도의 경화도가 되는 한 특별히 한정되지 않고, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 종류에 따라 적절히 선택하면 된다.After affixing the film for forming an energy ray-curable protective film on the back surface of a semiconductor wafer, curing conditions at the time of curing are not particularly limited as long as the cured product has a degree of hardening to the extent that the cured product sufficiently exhibits its function. What is necessary is just to select suitably according to the kind of film.

예를 들면, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 경화시에 있어서의 에너지선의 조도는, 120∼280mW/㎠인 것이 바람직하다. 그리고, 상기 경화시에 있어서의 에너지선의 광량은 100∼1000mJ/㎠인 것이 바람직하다.For example, it is preferable that the illuminance of the energy ray at the time of hardening of the film for energy ray-curable protective film formation is 120-280 mW/cm<2>. And it is preferable that the light quantity of the energy ray at the time of the said hardening is 100-1000 mJ/cm<2>.

<에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물(IV-1)><Composition for energy ray-curable protective film formation (IV-1)>

바람직한 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물로는 예를 들면, 상기 에너지선 경화성 성분(a)을 함유하는 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물(IV-1)(본 명세서에 있어서는, 단순히 「조성물(IV-1)」이라고 약기하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.As a preferable composition for energy-ray-curable protective film formation, for example, the composition (IV-1) for energy-beam-curable protective film formation containing the said energy-beam curable component (a) (in this specification, simply "composition (IV-1) )"), etc. are mentioned.

[에너지선 경화성 성분(a)][Energy-ray-curable component (a)]

에너지선 경화성 성분(a)은 에너지선의 조사에 의해 경화하는 성분이며, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름에 조막성이나 가요성 등을 부여함과 함께, 경화 후에 경질의 보호막을 형성하기 위한 성분이기도 하다.The energy ray-curable component (a) is a component that is cured by irradiation with an energy ray, and while imparting film formability and flexibility to the film for forming an energy ray-curable protective film, it is also a component for forming a hard protective film after curing. .

에너지선 경화성 성분(a)으로는 예를 들면, 에너지선 경화성기를 갖는 중량 평균 분자량이 80000∼2000000인 중합체(a1) 및 에너지선 경화성기를 갖는 분자량이 100∼80000인 화합물(a2)을 들 수 있다. 상기 중합체(a1)는 그 적어도 일부가 가교제에 의해 가교된 것이어도 되며, 가교되어 있지 않은 것이어도 된다.Examples of the energy ray-curable component (a) include a polymer (a1) having an energy ray-curable group and a weight average molecular weight of 80000 to 2000000, and a compound (a2) having an energy ray-curable group and a molecular weight of 100 to 80000. . As for the said polymer (a1), at least one part may be crosslinked by the crosslinking agent, and the thing which is not crosslinked may be sufficient as it.

(에너지선 경화성기를 갖는 중량 평균 분자량이 80000∼2000000인 중합체(a1))(Polymer (a1) having an energy ray-curable group and having a weight average molecular weight of 80000 to 2000000)

에너지선 경화성기를 갖는 중량 평균 분자량이 80000∼2000000인 중합체(a1)로는 예를 들면, 다른 화합물이 갖는 기와 반응 가능한 관능기를 갖는 아크릴계 중합체(a11)와, 상기 관능기와 반응하는 기, 및 에너지선 경화성 이중 결합 등의 에너지선 경화성기를 갖는 에너지선 경화성 화합물(a12)이 반응하여 이루어지는 아크릴계 수지(a1-1)를 들 수 있다.As the polymer (a1) having an energy ray-curable group and having a weight average molecular weight of 80000 to 2000000, for example, an acrylic polymer (a11) having a functional group capable of reacting with a group of other compounds, a group reactive with the functional group, and energy ray curability The acrylic resin (a1-1) formed by the energy-beam curable compound (a12) which has energy-beam curable groups, such as a double bond, reacts is mentioned.

다른 화합물이 갖는 기와 반응 가능한 상기 관능기로는 예를 들면, 수산기, 카르복시기, 아미노기, 치환 아미노기(아미노기의 1개 또는 2개의 수소 원자가 수소 원자 이외의 기로 치환되어 이루어지는 기), 에폭시기 등을 들 수 있다. 단, 반도체 웨이퍼나 반도체 칩 등의 회로의 부식을 방지한다는 점에서는 상기 관능기는 카르복시기 이외의 기인 것이 바람직하다.The functional group capable of reacting with the group of other compounds includes, for example, a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group, a substituted amino group (a group in which one or two hydrogen atoms of the amino group are substituted with groups other than hydrogen atoms), an epoxy group, and the like. . However, it is preferable that the said functional group is a group other than a carboxy group from the point of preventing corrosion of circuits, such as a semiconductor wafer and a semiconductor chip.

이들 중에서도 상기 관능기는 수산기인 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the said functional group is a hydroxyl group.

·관능기를 갖는 아크릴계 중합체(a11)-Acrylic polymer having a functional group (a11)

상기 관능기를 갖는 아크릴계 중합체(a11)로는 예를 들면, 상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머와, 상기 관능기를 갖지 않는 아크릴계 모노머가 공중합하여 이루어지는 것을 들 수 있고, 이들 모노머 이외에, 추가로 아크릴계 모노머 이외의 모노머(비아크릴계 모노머)가 공중합한 것이어도 된다.Examples of the acrylic polymer having the functional group (a11) include those obtained by copolymerization of an acrylic monomer having the functional group and an acrylic monomer not having the functional group. In addition to these monomers, monomers other than the acrylic monomer ( Non-acrylic monomer) may be copolymerized.

또한, 상기 아크릴계 중합체(a11)는 랜덤 공중합체여도 되며, 블록 공중합체여도 되며, 중합 방법에 대해서도 공지의 방법을 채용할 수 있다.In addition, a random copolymer may be sufficient as the said acrylic polymer (a11), and a block copolymer may be sufficient as it, and a well-known method is employable also about the polymerization method.

상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머로는 예를 들면, 수산기 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 치환 아미노기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머 등을 들 수 있다.Examples of the acrylic monomer having a functional group include a hydroxyl group-containing monomer, a carboxyl group-containing monomer, an amino group-containing monomer, a substituted amino group-containing monomer, and an epoxy group-containing monomer.

상기 수산기 함유 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산히드록시메틸, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산3-히드록시프로필, (메타)아크릴산2-히드록시부틸, (메타)아크릴산3-히드록시부틸, (메타)아크릴산4-히드록시부틸 등의 (메타)아크릴산히드록시알킬; 비닐알코올, 알릴알코올 등의 비(메타)아크릴계 불포화 알코올((메타)아크릴로일 골격을 갖지 않는 불포화 알코올) 등을 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing monomer, for example, (meth) acrylic acid hydroxymethyl, (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth) acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth) acrylic acid 3-hydroxypropyl, (meth) ) hydroxyalkyl (meth)acrylates such as 2-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate; Non-(meth)acrylic-type unsaturated alcohols (unsaturated alcohol which does not have a (meth)acryloyl skeleton), such as vinyl alcohol and allyl alcohol, etc. are mentioned.

상기 카르복시기 함유 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산, 크로톤산 등의 에틸렌성 불포화 모노카르복실산(에틸렌성 불포화 결합을 갖는 모노카르복실산); 푸마르산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산 등의 에틸렌성 불포화 디카르복실산(에틸렌성 불포화 결합을 갖는 디카르복실산); 상기 에틸렌성 불포화 디카르복실산의 무수물; 2-카르복시에틸메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴산카르복시알킬에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the carboxyl group-containing monomer include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids (monocarboxylic acids having an ethylenically unsaturated bond) such as (meth)acrylic acid and crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acids (dicarboxylic acids having an ethylenically unsaturated bond) such as fumaric acid, itaconic acid, maleic acid, and citraconic acid; anhydrides of the ethylenically unsaturated dicarboxylic acids; (meth)acrylic acid carboxyalkyl esters, such as 2-carboxyethyl methacrylate, etc. are mentioned.

상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머는 수산기 함유 모노머가 바람직하다.As for the acryl-type monomer which has the said functional group, a hydroxyl-containing monomer is preferable.

상기 아크릴계 중합체(a11)를 구성하는, 상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the acrylic monomers having the functional group constituting the acrylic polymer (a11) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

상기 관능기를 갖지 않는 아크릴계 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산n-프로필, (메타)아크릴산이소프로필, (메타)아크릴산n-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산sec-부틸, (메타)아크릴산tert-부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산헵틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산n-노닐, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산운데실, (메타)아크릴산도데실((메타)아크릴산라우릴이라고도 한다), (메타)아크릴산트리데실, (메타)아크릴산테트라데실((메타)아크릴산미리스틸이라고도 한다), (메타)아크릴산펜타데실, (메타)아크릴산헥사데실((메타)아크릴산팔미틸이라고도 한다), (메타)아크릴산헵타데실, (메타)아크릴산옥타데실((메타)아크릴산스테아릴이라고도 한다) 등의 알킬에스테르를 구성하는 알킬기가 탄소수 1∼18의 사슬형 구조인 (메타)아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.The acrylic monomer having no functional group includes, for example, (meth) methyl acrylate, (meth) ethyl acrylate, (meth) acrylate n-propyl, (meth) acrylate isopropyl, (meth) acrylate n-butyl, (meth) acrylate ) isobutyl acrylate, (meth) acrylate sec-butyl, (meth) acrylate tert-butyl, (meth) acrylate pentyl, (meth) acrylate hexyl, (meth) acrylate heptyl, (meth) acrylate 2-ethylhexyl, (meth) acrylate ) acrylate isooctyl, (meth) acrylic acid n-octyl, (meth) acrylic acid n-nonyl, (meth) acrylate isononyl, (meth) acrylate decyl, (meth) acrylate undecyl, (meth) acrylate dodecyl (( Also called lauryl (meth)acrylate), tridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate (also called myristyl (meth)acrylate), pentadecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate ((meth) (also called palmityl acrylate), (meth) acrylate heptadecyl, (meth) acrylate octadecyl (also called (meth) stearyl (meth) acrylate), wherein the alkyl group constituting the alkyl ester has a chain structure having 1 to 18 carbon atoms (meth) ) acrylic acid alkyl ester;

또한, 상기 관능기를 갖지 않는 아크릴계 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산메톡시메틸, (메타)아크릴산메톡시에틸, (메타)아크릴산에톡시메틸, (메타)아크릴산에톡시에틸 등의 알콕시알킬기 함유 (메타)아크릴산에스테르; (메타)아크릴산페닐 등의 (메타)아크릴산아릴에스테르 등을 포함하는, 방향족기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르; 비가교성 (메타)아크릴아미드 및 그 유도체; (메타)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메타)아크릴산N,N-디메틸아미노프로필 등의 비가교성 3차 아미노기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르 등도 들 수 있다.In addition, as an acryl-type monomer which does not have the said functional group, For example, alkoxyalkyl groups, such as (meth)acrylate methoxymethyl, (meth)acrylate methoxyethyl, (meth)acrylate ethoxymethyl, (meth)acrylate ethoxyethyl containing (meth)acrylic acid ester; (meth)acrylic acid esters having an aromatic group, including (meth)acrylic acid aryl esters such as (meth)acrylic acid phenyl; non-crosslinkable (meth)acrylamide and its derivatives; (meth)acrylic acid ester which has non-crosslinkable tertiary amino groups, such as (meth)acrylic-acid N,N- dimethylaminoethyl, (meth)acrylic-acid N,N- dimethylaminopropyl, etc. are mentioned.

상기 아크릴계 중합체(a11)를 구성하는, 상기 관능기를 갖지 않는 아크릴계 모노머는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the acrylic monomers having no functional group constituting the acrylic polymer (a11) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 비아크릴계 모노머로는 예를 들면, 에틸렌, 노르보르넨 등의 올레핀; 초산비닐; 스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the non-acrylic monomer include olefins such as ethylene and norbornene; vinyl acetate; Styrene etc. are mentioned.

상기 아크릴계 중합체(a11)를 구성하는 상기 비아크릴계 모노머는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the non-acrylic monomers constituting the acrylic polymer (a11) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 아크릴계 중합체(a11)에 있어서 이를 구성하는 구성 단위의 전체량에 대한 상기 관능기를 갖는 아크릴계 모노머로부터 유도된 구성 단위의 양의 비율(함유량)은 0.1∼50질량%인 것이 바람직하고, 1∼40질량%인 것이 보다 바람직하며, 3∼30질량%인 것이 특히 바람직하다. 상기 비율이 이러한 범위임으로써, 상기 아크릴계 중합체(a11)와 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)의 공중합에 의해 얻어진 상기 아크릴계 수지(a1-1)에 있어서, 에너지선 경화성기의 함유량은 보호막의 경화의 정도를 바람직한 범위로 용이하게 조절 가능하게 된다.In the acrylic polymer (a11), the ratio (content) of the amount of the structural units derived from the acrylic monomer having the functional group to the total amount of the structural units constituting the acrylic polymer (a11) is preferably 0.1 to 50% by mass, and 1 to 40 It is more preferable that it is mass %, and it is especially preferable that it is 3-30 mass %. When the ratio is within this range, in the acrylic resin (a1-1) obtained by copolymerization of the acrylic polymer (a11) and the energy ray-curable compound (a12), the content of the energy ray-curable group depends on the curing of the protective film. The degree can be easily adjusted to a desired range.

상기 아크릴계 수지(a1-1)를 구성하는 상기 아크릴계 중합체(a11)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the acrylic polymer (a11) constituting the acrylic resin (a1-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

조성물(IV-1)에 있어서 용매 이외의 성분의 총 함유량에 대한 아크릴계 수지(a1-1)의 함유량의 비율(즉, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 아크릴계 수지(a1-1)의 함유량)은 1∼70질량%인 것이 바람직하고, 5∼60질량%인 것이 보다 바람직하며, 10∼50질량%인 것이 특히 바람직하다.The ratio of the content of the acrylic resin (a1-1) to the total content of components other than the solvent in the composition (IV-1) (that is, the content of the acrylic resin (a1-1) in the film for forming an energy ray-curable protective film) is It is preferable that it is 1-70 mass %, It is more preferable that it is 5-60 mass %, It is especially preferable that it is 10-50 mass %.

·에너지선 경화성 화합물(a12)・Energy-ray-curable compound (a12)

상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 상기 아크릴계 중합체(a11)가 갖는 관능기와 반응 가능한 기로서 이소시아네이트기, 에폭시기 및 카르복시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 갖는 것이 바람직하고, 상기 기로서 이소시아네이트기를 갖는 것이 보다 바람직하다. 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 예를 들면, 상기 기로서 이소시아네이트기를 갖는 경우, 이 이소시아네이트기가 상기 관능기로서 수산기를 갖는 아크릴계 중합체(a11)의 이 수산기와 용이하게 반응한다.The energy ray-curable compound (a12) preferably has one or more selected from the group consisting of an isocyanate group, an epoxy group and a carboxyl group as a group capable of reacting with the functional group of the acrylic polymer (a11), and as the group It is more preferable to have an isocyanate group. When the energy ray-curable compound (a12) has an isocyanate group as the group, the isocyanate group easily reacts with the hydroxyl group of the acrylic polymer (a11) having a hydroxyl group as the functional group.

상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 1분자 중에 상기 에너지선 경화성기를 1∼5개 갖는 것이 바람직하고, 1∼3개 갖는 것이 보다 바람직하다.It is preferable to have 1-5 pieces of the said energy-beam curable groups in 1 molecule, and, as for the said energy-beam-curable compound (a12), it is more preferable to have 1-3 pieces.

상기 에너지선 경화성 화합물(a12)로는 예를 들면, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 메타-이소프로페닐-α,α-디메틸벤질이소시아네이트, 메타크릴로일이소시아네이트, 알릴이소시아네이트, 1,1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트;Examples of the energy ray-curable compound (a12) include 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl isocyanate, methacryloyl isocyanate, allyl isocyanate, 1,1- (bisacryloyloxymethyl)ethyl isocyanate;

디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물;Acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction of a diisocyanate compound or a polyisocyanate compound, and hydroxyethyl (meth)acrylate;

디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과, 폴리올 화합물과, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.The acryloyl monoisocyanate compound etc. which are obtained by reaction of a diisocyanate compound or a polyisocyanate compound, a polyol compound, and hydroxyethyl (meth)acrylate are mentioned.

이들 중에서도 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트인 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the said energy-beam-curable compound (a12) is 2-methacryloyloxyethyl isocyanate.

상기 아크릴계 수지(a1-1)를 구성하는 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)은 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the energy ray-curable compounds (a12) constituting the acrylic resin (a1-1) may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof may be arbitrarily selected.

상기 아크릴계 수지(a1-1)에 있어서 상기 아크릴계 중합체(a11)에서 유래하는 상기 관능기의 함유량에 대한 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)에서 유래하는 에너지선 경화성기의 함유량의 비율은 20∼120몰%인 것이 바람직하고, 35∼100몰%인 것이 보다 바람직하며, 50∼100몰%인 것이 특히 바람직하다. 상기 함유량의 비율이 이러한 범위임으로써, 경화 후의 보호막의 접착력이 보다 커진다. 한편, 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)이 1관능(상기 기를 1분자 중에 1개 갖는) 화합물인 경우에는, 상기 함유량의 비율의 상한값은 100몰%가 되지만, 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)이 다관능(상기 기를 1분자 중에 2개 이상 갖는) 화합물인 경우에는, 상기 함유량의 비율의 상한값은 100몰%를 초과하는 경우가 있다.The ratio of the content of the energy ray-curable group derived from the energy ray-curable compound (a12) to the content of the functional group derived from the acrylic polymer (a11) in the acrylic resin (a1-1) is 20 to 120 mol% It is preferable that it is 35-100 mol%, It is more preferable, It is especially preferable that it is 50-100 mol%. When the ratio of the content is within such a range, the adhesive force of the protective film after curing becomes larger. On the other hand, when the energy ray-curable compound (a12) is a monofunctional compound (having one group per molecule), the upper limit of the content ratio is 100 mol%, but the energy ray-curable compound (a12) In the case of a polyfunctional (having two or more groups in one molecule) compound, the upper limit of the content ratio may exceed 100 mol%.

상기 중합체(a1)의 중량 평균 분자량(Mw)은 100000∼2000000인 것이 바람직하고, 300000∼1500000인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 100000-200000, and, as for the weight average molecular weight (Mw) of the said polymer (a1), it is more preferable that it is 300000-150000.

상기 중합체(a1)가, 그 적어도 일부가 가교제에 의해 가교된 것인 경우, 상기 중합체(a1)는 상기 아크릴계 중합체(a11)를 구성하는 것으로서 설명한, 상술한 모노머의 어느 것에도 해당되지 않고, 또한 가교제와 반응하는 기를 갖는 모노머가 중합하여 상기 가교제와 반응하는 기에 있어서 가교된 것이어도 되며, 상기 에너지선 경화성 화합물(a12)에서 유래하는 상기 관능기와 반응하는 기에 있어서 가교된 것이어도 된다.When the polymer (a1) is at least partially crosslinked with a crosslinking agent, the polymer (a1) does not correspond to any of the above-mentioned monomers described as constituting the acrylic polymer (a11), and A monomer having a group reactive with the crosslinking agent may be crosslinked at a group reactive with the crosslinking agent by polymerization, or may be crosslinked at a group reactive with the functional group derived from the energy ray-curable compound (a12).

조성물(IV-1) 및 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 상기 중합체(a1)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The composition (IV-1) and the above-mentioned polymer (a1) contained in the film for forming an energy ray-curable protective film may be of one type, or two or more types, and in the case of two or more types, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

(에너지선 경화성기를 갖는 분자량이 100∼80000인 화합물(a2))(Compound (a2) having an energy ray-curable group and having a molecular weight of 100 to 80000)

에너지선 경화성기를 갖는 분자량이 100∼80000인 화합물(a2) 중의 상기 에너지선 경화성기로는 에너지선 경화성 이중 결합을 포함하는 기를 들 수 있고, 바람직한 것으로는 (메타)아크릴로일기, 비닐기 등을 들 수 있다.Examples of the energy-ray-curable group in the compound (a2) having an energy-ray-curable group and a molecular weight of 100 to 80000 include a group containing an energy-ray-curable double bond, and preferable examples include a (meth)acryloyl group, a vinyl group, and the like. can

상기 화합물(a2)은 상기 조건을 만족하는 것이면, 특별히 한정되지 않으나, 에너지선 경화성기를 갖는 저분자량 화합물, 에너지선 경화성기를 갖는 에폭시 수지, 에너지선 경화성기를 갖는 페놀 수지 등을 들 수 있다.The compound (a2) is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions. Examples of the compound (a2) include a low molecular weight compound having an energy ray curable group, an epoxy resin having an energy ray curable group, and a phenol resin having an energy ray curable group.

상기 화합물(a2) 중, 에너지선 경화성기를 갖는 저분자량 화합물로는 예를 들면, 다관능의 모노머 또는 올리고머 등을 들 수 있고, (메타)아크릴로일기를 갖는 아크릴레이트계 화합물이 바람직하다.Among the compounds (a2), examples of the low molecular weight compound having an energy ray-curable group include a polyfunctional monomer or oligomer, and an acrylate-based compound having a (meth)acryloyl group is preferable.

상기 아크릴레이트계 화합물로는 예를 들면, 2-히드록시-3-(메타)아크릴로일옥시프로필메타크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로폭시화 에톡시화 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스[4-((메타)아크릴옥시폴리에톡시)페닐]프로판, 에톡시화 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스[4-((메타)아크릴옥시디에톡시)페닐]프로판, 9,9-비스[4-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌, 2,2-비스[4-((메타)아크릴옥시폴리프로폭시)페닐]프로판, 트리시클로데칸디메탄올디(메타)아크릴레이트, 1,10-데칸디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리테트라메틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 2,2-비스[4-((메타)아크릴옥시에톡시)페닐]프로판, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 에톡시화 폴리프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-1,3-디(메타)아크릴옥시프로판 등의 2관능 (메타)아크릴레이트;As the acrylate-based compound, for example, 2-hydroxy-3-(meth)acryloyloxypropyl methacrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A di(meth) Acrylate, 2,2-bis[4-((meth)acryloxypolyethoxy)phenyl]propane, ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, 2,2-bis[4-((meth)acryloxy diethoxy)phenyl]propane, 9,9-bis[4-(2-(meth)acryloyloxyethoxy)phenyl]fluorene, 2,2-bis[4-((meth)acryloxypolypropoxy ) Phenyl] propane, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth)acrylate, dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, polytetramethylene glycol di(meth)acrylate, ethylene glycol di (meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, 2,2-bis[4-((meth)acryloxyethoxy)phenyl]propane, neopentylglycol bifunctional (meth)acrylates such as di(meth)acrylate, ethoxylated polypropylene glycol di(meth)acrylate, and 2-hydroxy-1,3-di(meth)acryloxypropane;

트리스(2-(메타)아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, ε-카프로락톤 변성 트리스(2-(메타)아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 에톡시화 글리세린트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 에톡시화 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨폴리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트 등의 다관능 (메타)아크릴레이트;Tris(2-(meth)acryloxyethyl)isocyanurate, ε-caprolactone-modified tris(2-(meth)acryloxyethyl)isocyanurate, ethoxylated glycerin tri(meth)acrylate, pentaerythritol Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylol propane tetra (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, polyfunctional (meth)acrylates such as dipentaerythritol poly(meth)acrylate and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate;

우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머 등의 다관능 (메타)아크릴레이트 올리고머 등을 들 수 있다.Polyfunctional (meth)acrylate oligomers, such as a urethane (meth)acrylate oligomer, etc. are mentioned.

상기 화합물(a2) 중, 에너지선 경화성기를 갖는 에폭시 수지, 에너지선 경화성기를 갖는 페놀 수지로는 예를 들면, 「일본 공개특허공보 2013-194102호」의 단락 0043 등에 기재되어 있는 것을 사용할 수 있다. 이러한 수지는 후술하는 열경화성 성분을 구성하는 수지에도 해당하지만, 본 발명에 있어서는 상기 화합물(a2)로서 취급한다.Among the compounds (a2), as an epoxy resin having an energy ray-curable group and a phenol resin having an energy ray-curable group, those described in Paragraph 0043 of “Unexamined Patent Application Publication No. 2013-194102” can be used. Although such a resin also corresponds to resin which comprises the thermosetting component mentioned later, in this invention, it handles as said compound (a2).

상기 화합물(a2)의 중량 평균 분자량은 100∼30000인 것이 바람직하고, 300∼10000인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 100-30000, and, as for the weight average molecular weight of the said compound (a2), it is more preferable that it is 300-10000.

조성물(IV-1) 및 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 상기 화합물(a2)은 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the compound (a2) contained in the composition (IV-1) and the film for forming an energy ray-curable protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

[에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)][Polymer (b) having no energy ray-curable group]

조성물(IV-1) 및 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름은 상기 에너지선 경화성 성분(a)으로서 상기 화합물(a2)을 함유하는 경우, 추가로 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)도 함유하는 것이 바람직하다.When the composition (IV-1) and the film for forming an energy ray-curable protective film contain the compound (a2) as the energy ray-curable component (a), the composition (IV-1) also contains a polymer (b) having no energy ray-curable group. desirable.

상기 중합체(b)는 그 적어도 일부가 가교제에 의해 가교된 것이어도 되며, 가교되어 있지 않은 것이어도 된다.The polymer (b) may be one in which at least a part thereof is crosslinked by a crosslinking agent, or may not be crosslinked.

에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)로는 예를 들면, 아크릴계 중합체, 페녹시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르, 고무계 수지, 아크릴우레탄 수지 등을 들 수 있다.As a polymer (b) which does not have an energy-ray-curable group, an acrylic polymer, a phenoxy resin, a urethane resin, polyester, a rubber-type resin, an acrylic urethane resin etc. are mentioned, for example.

이들 중에서도 상기 중합체(b)는 아크릴계 중합체(이하, 「아크릴계 중합체(b-1)」라고 약기하는 경우가 있다)인 것이 바람직하다.Among these, it is preferable that the said polymer (b) is an acrylic polymer (Hereinafter, it may abbreviate as "acrylic polymer (b-1)").

아크릴계 중합체(b-1)는 공지의 것이어도 되고, 예를 들면, 1종의 아크릴계 모노머의 단독 중합체여도 되며, 2종 이상의 아크릴계 모노머의 공중합체여도 되고, 1종 또는 2종 이상의 아크릴계 모노머와 1종 또는 2종 이상의 아크릴계 모노머 이외의 모노머(비아크릴계 모노머)의 공중합체여도 된다.The acrylic polymer (b-1) may be a known one, for example, may be a homopolymer of one type of acrylic monomer, may be a copolymer of two or more types of acrylic monomers, or may be one type or two or more types of acrylic monomer and one type. The type or copolymer of monomers (non-acrylic monomers) other than 2 or more types of acryl-type monomers may be sufficient.

아크릴계 중합체(b-1)를 구성하는 상기 아크릴계 모노머로는 예를 들면, (메타)아크릴산알킬에스테르, 고리형 골격을 갖는 (메타)아크릴산에스테르, 글리시딜기 함유 (메타)아크릴산에스테르, 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르, 치환 아미노기 함유 (메타)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다. 여기서, 「치환 아미노기」란, 앞서 설명한 바와 같다.As the acrylic monomer constituting the acrylic polymer (b-1), for example, (meth)acrylic acid alkyl ester, (meth)acrylic acid ester having a cyclic skeleton, glycidyl group-containing (meth)acrylic acid ester, hydroxyl group-containing ( and meth)acrylic acid esters and (meth)acrylic acid esters containing a substituted amino group. Here, the "substituted amino group" is as described above.

상기 (메타)아크릴산알킬에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산n-프로필, (메타)아크릴산이소프로필, (메타)아크릴산n-부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산sec-부틸, (메타)아크릴산tert-부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산헵틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산n-노닐, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산운데실, (메타)아크릴산도데실((메타)아크릴산라우릴), (메타)아크릴산트리데실, (메타)아크릴산테트라데실((메타)아크릴산미리스틸), (메타)아크릴산펜타데실, (메타)아크릴산헥사데실((메타)아크릴산팔미틸), (메타)아크릴산헵타데실, (메타)아크릴산옥타데실((메타)아크릴산스테아릴) 등의 알킬에스테르를 구성하는 알킬기가 탄소수 1∼18의 사슬형 구조인 (메타)아크릴산알킬에스테르 등을 들 수 있다.Examples of the (meth)acrylic acid alkyl ester include (meth)methyl acrylate, (meth)ethyl acrylate, (meth)acrylate n-propyl, (meth)acrylate isopropyl, (meth)acrylate n-butyl, (meth)acrylate ) isobutyl acrylate, (meth) acrylate sec-butyl, (meth) acrylate tert-butyl, (meth) acrylate pentyl, (meth) acrylate hexyl, (meth) acrylate heptyl, (meth) acrylate 2-ethylhexyl, (meth) acrylate ) acrylate isooctyl, (meth) acrylic acid n-octyl, (meth) acrylic acid n-nonyl, (meth) acrylate isononyl, (meth) acrylate decyl, (meth) acrylate undecyl, (meth) acrylate dodecyl (( (meth) acrylic acid lauryl), (meth) acrylic acid tridecyl, (meth) acrylic acid tetradecyl ((meth) acrylate myristyl), (meth) acrylic acid pentadecyl, (meth) acrylic acid hexadecyl ((meth) acrylate palmityl) , (meth)acrylic acid alkyl ester, wherein the alkyl group constituting the alkyl ester such as heptadecyl (meth)acrylate and octadecyl (meth)acrylate (stearyl (meth)acrylate) has a chain structure having 1 to 18 carbon atoms. there is.

상기 고리형 골격을 갖는 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산이소보르닐, (메타)아크릴산디시클로펜타닐 등의 (메타)아크릴산시클로알킬에스테르;Examples of the (meth)acrylic acid ester having a cyclic skeleton include (meth)acrylic acid cycloalkyl esters such as (meth)acrylic acid isobornyl and (meth)acrylic acid dicyclopentanyl;

(메타)아크릴산벤질 등의 (메타)아크릴산아랄킬에스테르;(meth)acrylic acid aralkyl esters, such as (meth)acrylic acid benzyl;

(메타)아크릴산디시클로펜테닐에스테르 등의 (메타)아크릴산시클로알케닐에스테르;(meth)acrylic acid cycloalkenyl esters, such as (meth)acrylic acid dicyclopentenyl ester;

(메타)아크릴산디시클로펜테닐옥시에틸에스테르 등의 (메타)아크릴산시클로알케닐옥시알킬에스테르 등을 들 수 있다.(meth)acrylic acid cycloalkenyloxyalkyl esters, such as (meth)acrylic-acid dicyclopentenyloxyethyl ester, etc. are mentioned.

상기 글리시딜기 함유 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산글리시딜 등을 들 수 있다.As said glycidyl group containing (meth)acrylic acid ester, (meth)acrylic acid glycidyl etc. are mentioned, for example.

상기 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산히드록시메틸, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산3-히드록시프로필, (메타)아크릴산2-히드록시부틸, (메타)아크릴산3-히드록시부틸, (메타)아크릴산4-히드록시부틸 등을 들 수 있다.As the hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester, for example, (meth)acrylic acid hydroxymethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxy propyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxybutyl, (meth)acrylic acid 4-hydroxybutyl, etc. are mentioned.

상기 치환 아미노기 함유 (메타)아크릴산에스테르로는 예를 들면, (메타)아크릴산N-메틸아미노에틸 등을 들 수 있다.As said substituted amino-group containing (meth)acrylic acid ester, (meth)acrylic-acid N-methylaminoethyl etc. are mentioned, for example.

아크릴계 중합체(b-1)를 구성하는 상기 비아크릴계 모노머로는 예를 들면, 에틸렌, 노르보르넨 등의 올레핀; 초산비닐; 스티렌 등을 들 수 있다.Examples of the non-acrylic monomer constituting the acrylic polymer (b-1) include olefins such as ethylene and norbornene; vinyl acetate; Styrene etc. are mentioned.

적어도 일부가 가교제에 의해 가교된 상기 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)로는 예를 들면, 상기 중합체(b) 중의 반응성 관능기가 가교제와 반응한 것을 들 수 있다.Examples of the polymer (b) having no energy ray-curable group at least partially crosslinked with the crosslinking agent include those in which the reactive functional group in the polymer (b) reacted with the crosslinking agent.

상기 반응성 관능기는 가교제의 종류 등에 따라 적절히 선택하면 되며, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 가교제가 폴리이소시아네이트 화합물인 경우에는, 상기 반응성 관능기로는 수산기, 카르복시기, 아미노기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 이소시아네이트기와의 반응성이 높은 수산기가 바람직하다. 또한, 가교제가 에폭시계 화합물인 경우에는, 상기 반응성 관능기로는 카르복시기, 아미노기, 아미드기 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 에폭시기와의 반응성이 높은 카르복시기가 바람직하다. 단, 반도체 웨이퍼나 반도체 칩의 회로의 부식을 방지한다는 점에서는 상기 반응성 관능기는 카르복시기 이외의 기인 것이 바람직하다.The reactive functional group may be appropriately selected according to the type of the crosslinking agent and the like, and is not particularly limited. For example, when a crosslinking agent is a polyisocyanate compound, a hydroxyl group, a carboxy group, an amino group etc. are mentioned as said reactive functional group, Among these, a hydroxyl group with high reactivity with an isocyanate group is preferable. In the case where the crosslinking agent is an epoxy compound, the reactive functional group includes a carboxy group, an amino group, and an amide group, and among these, a carboxy group having high reactivity with an epoxy group is preferable. However, it is preferable that the said reactive functional group is a group other than a carboxy group from the point of preventing corrosion of the circuit of a semiconductor wafer or a semiconductor chip.

상기 반응성 관능기를 갖는 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)로는 예를 들면, 적어도 상기 반응성 관능기를 갖는 모노머를 중합시켜 얻어진 것을 들 수 있다. 아크릴계 중합체(b-1)의 경우이면, 이를 구성하는 모노머로서 든 상기 아크릴계 모노머 및 비아크릴계 모노머 중 어느 한쪽 또는 양쪽으로서 상기 반응성 관능기를 갖는 것을 사용하면 된다. 반응성 관능기로서 수산기를 갖는 상기 중합체(b)로는 예를 들면, 수산기 함유 (메타)아크릴산에스테르를 중합하여 얻어진 것을 들 수 있고, 이 이외에도 앞서 든 상기 아크릴계 모노머 또는 비아크릴계 모노머에 있어서 1개 또는 2개 이상의 수소 원자가 상기 반응성 관능기로 치환되어 이루어지는 모노머를 중합하여 얻어진 것을 들 수 있다.As a polymer (b) which does not have an energy ray-curable group which has the said reactive functional group, what was obtained by polymerizing the monomer which has at least the said reactive functional group is mentioned, for example. In the case of the acrylic polymer (b-1), one or both of the acrylic and non-acrylic monomers used as monomers constituting the acrylic polymer (b-1) may be those having the reactive functional group. Examples of the polymer (b) having a hydroxyl group as a reactive functional group include those obtained by polymerization of a hydroxyl group-containing (meth)acrylic acid ester. What was obtained by superposing|polymerizing the monomer which consists of the above hydrogen atoms substituted with the said reactive functional group is mentioned.

반응성 관능기를 갖는 상기 중합체(b)에 있어서 이를 구성하는 구성 단위의 전체량에 대한 반응성 관능기를 갖는 모노머로부터 유도된 구성 단위의 양의 비율(함유량)은 1∼20질량%인 것이 바람직하고, 2∼10질량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 비율이 이러한 범위임으로써, 상기 중합체(b)에 있어서 가교의 정도가 보다 바람직한 범위가 된다.In the polymer (b) having a reactive functional group, the ratio (content) of the amount of the structural unit derived from the monomer having the reactive functional group to the total amount of the structural unit constituting it is preferably 1 to 20 mass%, 2 It is more preferable that it is -10 mass %. When the ratio is within such a range, the degree of crosslinking in the polymer (b) becomes a more preferable range.

에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)의 중량 평균 분자량(Mw)은 조성물(IV-1)의 조막성이 보다 양호해지는 점에서, 10000∼2000000인 것이 바람직하고, 100000∼1500000인 것이 보다 바람직하다. 여기서, 「중량 평균 분자량」이란, 앞서 설명한 바와 같다.Since the film-forming property of a composition (IV-1) becomes more favorable, it is preferable that it is 10000-200000, and, as for the weight average molecular weight (Mw) of the polymer (b) which does not have an energy-ray-curable group, it is more preferable that it is 100000-1500000 . Here, the "weight average molecular weight" is as described above.

조성물(IV-1) 및 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는, 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of polymers (b) which does not contain an energy-ray-curable group which the composition (IV-1) and the film for energy-ray-curable protective film formation contain may be one, or two or more types may be sufficient, and when 2 or more types, these combinations and ratio can be arbitrarily selected.

조성물(IV-1)로는 상기 중합체(a1) 및 상기 화합물(a2) 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 함유하는 것을 들 수 있다. 그리고, 조성물(IV-1)은 상기 화합물(a2)을 함유하는 경우, 추가로 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)도 함유하는 것이 바람직하고, 이 경우, 추가로 상기 (a1)을 함유하는 것도 바람직하다. 또한, 조성물(IV-1)은 상기 화합물(a2)을 함유하지 않고, 상기 중합체(a1) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)를 함께 함유하고 있어도 된다.Examples of the composition (IV-1) include those containing either or both of the polymer (a1) and the compound (a2). In addition, when the composition (IV-1) contains the compound (a2), it is preferable to further contain the polymer (b) having no energy ray-curable group, and in this case, further containing (a1) It is also desirable Moreover, the composition (IV-1) does not contain the said compound (a2), and may contain the said polymer (a1) and the polymer (b) which does not have an energy-ray-curable group together.

조성물(IV-1)이 상기 중합체(a1), 상기 화합물(a2) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)를 함유하는 경우, 조성물(IV-1)에 있어서 상기 화합물(a2)의 함유량은 상기 중합체(a1) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)의 총 함유량 100질량부에 대해 10∼400질량부인 것이 바람직하고, 30∼350질량부인 것이 보다 바람직하다.When the composition (IV-1) contains the polymer (a1), the compound (a2), and the polymer (b) having no energy ray-curable group, the content of the compound (a2) in the composition (IV-1) is It is preferable that it is 10-400 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of the said polymer (a1) and the polymer (b) which does not have an energy-beam curable group, and it is more preferable that it is 30-350 mass parts.

조성물(IV-1)에 있어서 용매 이외의 성분의 총 함유량에 대한 상기 에너지선 경화성 성분(a) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)의 합계 함유량의 비율(즉, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 상기 에너지선 경화성 성분(a) 및 에너지선 경화성기를 갖지 않는 중합체(b)의 합계 함유량)은 5∼90질량%인 것이 바람직하고, 10∼80질량%인 것이 보다 바람직하며, 20∼70질량%인 것이 특히 바람직하다. 에너지선 경화성 성분의 함유량의 상기 비율이 이러한 범위임으로써, 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름의 에너지선 경화성이 보다 양호해진다.In the composition (IV-1), the ratio of the total content of the energy ray-curable component (a) and the polymer (b) having no energy ray-curable group to the total content of components other than the solvent (that is, for energy ray-curable protective film formation) It is preferable that it is 5-90 mass %, and, as for the total content of the said energy-beam curable component (a) and the polymer (b) which does not have an energy-beam curable group of a film), it is more preferable that it is 10-80 mass %, It is 20-70 It is especially preferable that it is mass %. When the said ratio of content of an energy-beam sclerosing|hardenable component is such a range, the energy-beam sclerosis|hardenability of the film for energy-beam curable protective film formation becomes more favorable.

조성물(IV-1)은 상기 에너지선 경화성 성분 이외에, 목적에 따라 열경화성 성분, 충전재, 커플링제, 가교제, 광중합 개시제, 착색제 및 범용 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 함유하고 있어도 된다.Composition (IV-1) may contain one or two or more selected from the group consisting of a thermosetting component, a filler, a coupling agent, a crosslinking agent, a photoinitiator, a colorant, and a general-purpose additive, depending on the purpose, in addition to the energy ray-curable component. do.

예를 들면, 상기 에너지선 경화성 성분 및 열경화성 성분을 함유하는 조성물(IV-1)을 사용함으로써 형성되는 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름은, 가열에 의해 피착체에 대한 접착력이 향상되고, 이 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름으로부터 형성된 보호막의 강도도 향상된다.For example, in the film for forming an energy ray-curable protective film formed by using the composition (IV-1) containing the energy ray-curable component and the thermosetting component, the adhesive force to the adherend is improved by heating, and this energy ray The strength of the protective film formed from the film for curable protective film formation also improves.

또한, 상기 에너지선 경화성 성분 및 착색제를 함유하는 조성물(IV-1)을 사용함으로써 형성되는 에너지선 경화성 보호막 형성용 필름은 앞서 설명한 열경화성 보호막 형성용 필름이 착색제(I)를 함유하는 경우와 동일한 효과를 발현한다.In addition, the film for forming an energy ray-curable protective film formed by using the composition (IV-1) containing the energy ray-curable component and the colorant has the same effect as when the above-described film for forming a thermosetting protective film contains the colorant (I) to express

조성물(IV-1)에 있어서의 상기 열경화성 성분, 충전재, 커플링제, 가교제, 광중합 개시제, 착색제 및 범용 첨가제로는 각각 조성물(III-1)에 있어서의 열경화성 성분(B), 충전재(D), 커플링제(E), 가교제(F), 광중합 개시제(H), 착색제(I) 및 범용 첨가제(J)와 동일한 것을 들 수 있다.As the thermosetting component, filler, coupling agent, crosslinking agent, photoinitiator, colorant and general-purpose additive in the composition (IV-1), the thermosetting component (B) in the composition (III-1), the filler (D), The same thing as a coupling agent (E), a crosslinking agent (F), a photoinitiator (H), a coloring agent (I), and a general-purpose additive (J) is mentioned.

조성물(IV-1)에 있어서 상기 열경화성 성분, 충전재, 커플링제, 가교제, 광중합 개시제, 착색제 및 범용 첨가제는 각각 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 되며, 2종 이상을 병용하는 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.In the composition (IV-1), the thermosetting component, the filler, the coupling agent, the crosslinking agent, the photoinitiator, the colorant and the general-purpose additive may each be used alone, or in combination of two or more, or in combination of two or more. In this case, the combination and ratio thereof can be arbitrarily selected.

조성물(IV-1)에 있어서의 상기 열경화성 성분, 충전재, 커플링제, 가교제, 광중합 개시제, 착색제 및 범용 첨가제의 함유량은 목적에 따라 적절히 조절하면 되며, 특별히 한정되지 않는다.Contents of the said thermosetting component, a filler, a coupling agent, a crosslinking agent, a photoinitiator, a coloring agent, and a general-purpose additive in composition (IV-1) may just adjust suitably according to the objective, and are not specifically limited.

조성물(IV-1)은 희석에 의해 그 취급성이 향상하는 점에서, 추가로 용매를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the composition (IV-1) further contains a solvent from the viewpoint of improving the handleability by dilution.

조성물(IV-1)이 함유하는 용매로는 예를 들면, 상술한 조성물(III-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the solvent contained in the composition (IV-1) include the same solvent as the solvent in the composition (III-1) described above.

조성물(IV-1)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 된다.The number of solvents which the composition (IV-1) contains may be one, and 2 or more types may be sufficient as them.

<<에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물의 제조 방법>><<The manufacturing method of the composition for energy-beam-curable protective film formation>>

조성물(IV-1) 등의 에너지선 경화성 보호막 형성용 조성물은 이를 구성하기 위한 각 성분을 배합함으로써 얻어진다.The composition for forming an energy ray-curable protective film, such as composition (IV-1), is obtained by mix|blending each component for constituting this.

각 성분의 배합시에 있어서의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않고, 2종 이상의 성분을 동시에 첨가해도 된다.The order of addition at the time of mixing|blending each component is not specifically limited, You may add 2 or more types of components simultaneously.

용매를 사용하는 경우에는, 용매를 용매 이외 중 어느 하나의 배합 성분과 혼합하여 이 배합 성분을 미리 희석해 둠으로써 사용해도 되며, 용매 이외 중 어느 하나의 배합 성분을 미리 희석해 두지 않고, 용매를 이들 배합 성분과 혼합함으로써 사용해도 된다.In the case of using a solvent, the solvent may be mixed with any compounding component other than the solvent and the compounding component may be used by diluting this compounding component in advance. You may use by mixing with these compounding components.

배합시에 각 성분을 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 교반자 또는 교반 날개 등을 회전시켜 혼합하는 방법; 믹서를 이용하여 혼합하는 방법; 초음파를 가하여 혼합하는 방법 등, 공지의 방법으로부터 적절히 선택하면 된다.The method of mixing each component at the time of mixing|blending is not specifically limited, The method of rotating a stirrer, a stirring blade, etc. and mixing; a method of mixing using a mixer; What is necessary is just to select suitably from well-known methods, such as a method of adding ultrasonic waves and mixing.

각 성분의 첨가 및 혼합시의 온도 그리고 시간은 각 배합 성분이 열화하지 않는 한 특별히 한정되지 않고, 적절히 조절하면 되나, 온도는 15∼30℃인 것이 바람직하다.The temperature and time at the time of addition and mixing of each component are not particularly limited as long as each compounding component does not deteriorate, and may be appropriately adjusted, but the temperature is preferably 15 to 30°C.

○비경화성 보호막 형성용 필름○Film for non-curable protective film formation

상기 비경화성 보호막 형성용 필름은 경화에 의한 특성의 변화를 나타내지 않으나, 본 발명에 있어서는, 반도체 웨이퍼의 상기 이면 등, 목적으로 하는 개소에 첩부된 단계에서 보호막을 형성했다고 간주한다.Although the said film for non-curable protective film formation does not show the change of the characteristic by hardening, in this invention, it is considered that the protective film was formed in the step of sticking to the target location, such as the said back surface of a semiconductor wafer.

바람직한 비경화성 보호막 형성용 필름으로는 예를 들면, 열가소성 수지를 함유하는 것을 들 수 있다.As a preferable film for non-hardening protective film formation, the thing containing a thermoplastic resin is mentioned, for example.

<비경화성 보호막 형성용 조성물(V-1)><Composition for non-curable protective film formation (V-1)>

비경화성 보호막 형성용 조성물로는 예를 들면, 상기 열가소성 수지를 함유하는 비경화성 보호막 형성용 조성물(V-1)(본 명세서에 있어서는, 단순히 「조성물(V-1)」이라고 약기하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.As the composition for forming a non-curable protective film, for example, the composition (V-1) for forming a non-curable protective film containing the above-mentioned thermoplastic resin (in this specification, it may be simply abbreviated as "composition (V-1)" ) and the like.

[열가소성 수지][Thermoplastic resin]

상기 열가소성 수지는 특별히 한정되지 않는다.The said thermoplastic resin is not specifically limited.

상기 열가소성 수지로서 보다 구체적으로는, 예를 들면, 상술한 조성물(III-1)의 함유 성분으로서 든 아크릴계 수지, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 페녹시 수지, 폴리부텐, 폴리부타디엔, 폴리스티렌 등의 경화성이 아닌 수지와 동일한 것을 들 수 있다.More specifically, as the thermoplastic resin, for example, curability of acrylic resin, polyester, polyurethane, phenoxy resin, polybutene, polybutadiene, polystyrene, etc. and the same resin as the other resins.

조성물(V-1) 및 비경화성 보호막 형성용 필름이 함유하는 상기 열가소성 수지는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 되고, 2종 이상인 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.The number of the thermoplastic resins contained in the composition (V-1) and the film for forming a non-curable protective film may be one, two or more, and in the case of two or more, combinations and ratios thereof can be arbitrarily selected.

조성물(V-1)에 있어서 용매 이외의 성분의 총 함유량에 대한 상기 열가소성 수지의 함유량의 비율(즉, 비경화성 보호막 형성용 필름의 상기 열가소성 수지의 함유량)은 5∼90질량%인 것이 바람직하고, 예를 들면, 10∼80질량% 및 20∼70질량% 등 중 어느 하나여도 된다.It is preferable that the ratio of the content of the thermoplastic resin to the total content of components other than the solvent in the composition (V-1) (that is, the content of the thermoplastic resin in the film for forming a non-curable protective film) is 5 to 90% by mass, , For example, any one of 10-80 mass %, 20-70 mass %, etc. may be sufficient.

조성물(V-1)은 상기 열가소성 수지 이외에, 목적에 따라 충전재, 커플링제, 가교제, 착색제 및 범용 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 함유하고 있어도 된다.Composition (V-1) may contain 1 type(s) or 2 or more types chosen from the group which consists of a filler, a coupling agent, a crosslinking agent, a coloring agent, and a general-purpose additive according to the objective other than the said thermoplastic resin.

예를 들면, 상기 열가소성 수지 및 착색제를 함유하는 조성물(V-1)을 사용함으로써 형성되는 비경화성 보호막 형성용 필름은 앞서 설명한 열경화성 보호막 형성용 필름이 착색제(I)를 함유하는 경우와 동일한 효과를 발현한다.For example, the film for forming a non-curable protective film formed by using the composition (V-1) containing the thermoplastic resin and the colorant has the same effect as when the above-described film for forming a thermosetting protective film contains the colorant (I). to manifest

조성물(V-1)에 있어서의 상기 충전재, 커플링제, 가교제, 착색제 및 범용 첨가제로는 각각 조성물(III-1)에 있어서의 충전재(D), 커플링제(E), 가교제(F), 착색제(I) 및 범용 첨가제(J)와 동일한 것을 들 수 있다.As the filler, coupling agent, crosslinking agent, colorant and general-purpose additive in composition (V-1), the filler (D), coupling agent (E), crosslinking agent (F), and colorant in composition (III-1), respectively (I) and the same thing as general-purpose additive (J) are mentioned.

조성물(V-1)에 있어서 상기 충전재, 커플링제, 가교제, 착색제 및 범용 첨가제는 각각 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 되며, 2종 이상을 병용하는 경우, 이들의 조합 및 비율은 임의로 선택할 수 있다.In the composition (V-1), each of the filler, coupling agent, crosslinking agent, colorant and general-purpose additive may be used alone, in combination of two or more, or in combination of two or more. and the ratio can be arbitrarily selected.

조성물(V-1)에 있어서의 상기 충전재, 커플링제, 가교제, 착색제 및 범용 첨가제의 함유량은 목적에 따라 적절히 조절하면 되며, 특별히 한정되지 않는다.Content of the said filler in a composition (V-1), a coupling agent, a crosslinking agent, a coloring agent, and a general-purpose additive may just adjust suitably according to the objective, and is not specifically limited.

조성물(V-1)은 희석에 의해 그 취급성이 향상하는 점에서, 추가로 용매를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the composition (V-1) further contains a solvent from the point which the handleability improves by dilution.

조성물(V-1)이 함유하는 용매로는 예를 들면, 상술한 조성물(III-1)에 있어서의 용매와 동일한 것을 들 수 있다.Examples of the solvent contained in the composition (V-1) include the same solvent as the solvent in the composition (III-1) described above.

조성물(V-1)이 함유하는 용매는 1종만이어도 되며, 2종 이상이어도 된다.The number of solvents which the composition (V-1) contains may be one, and 2 or more types may be sufficient as them.

<<비경화성 보호막 형성용 조성물의 제조 방법>><<The manufacturing method of the composition for non-curable protective film formation>>

조성물(V-1) 등의 비경화성 보호막 형성용 조성물은 이를 구성하기 위한 각 성분을 배합함으로써 얻어진다.A composition for forming a non-hardening protective film, such as composition (V-1), is obtained by mix|blending each component for constituting this.

각 성분의 배합시에 있어서의 첨가 순서는 특별히 한정되지 않고, 2종 이상의 성분을 동시에 첨가해도 된다.The order of addition at the time of mixing|blending each component is not specifically limited, You may add 2 or more types of components simultaneously.

용매를 사용하는 경우에는, 용매를 용매 이외 중 어느 하나의 배합 성분과 혼합하여 이 배합 성분을 미리 희석해 둠으로써 사용해도 되며, 용매 이외 중 어느 하나의 배합 성분을 미리 희석해 두지 않고, 용매를 이들 배합 성분과 혼합함으로써 사용해도 된다.In the case of using a solvent, the solvent may be mixed with any compounding component other than the solvent and the compounding component may be used by diluting this compounding component in advance. You may use by mixing with these compounding components.

배합시에 각 성분을 혼합하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 교반자 또는 교반 날개 등을 회전시켜 혼합하는 방법; 믹서를 이용하여 혼합하는 방법; 초음파를 가하여 혼합하는 방법 등, 공지의 방법으로부터 적절히 선택하면 된다.The method of mixing each component at the time of mixing|blending is not specifically limited, The method of rotating a stirrer, a stirring blade, etc. and mixing; a method of mixing using a mixer; What is necessary is just to select suitably from well-known methods, such as a method of adding ultrasonic waves and mixing.

각 성분의 첨가 및 혼합시의 온도 그리고 시간은 각 배합 성분이 열화하지 않는 한 특별히 한정되지 않고, 적절히 조절하면 되나, 온도는 15∼30℃인 것이 바람직하다.The temperature and time at the time of addition and mixing of each component are not particularly limited as long as each compounding component does not deteriorate, and may be appropriately adjusted, but the temperature is preferably 15 to 30°C.

◎다른 층◎Other floors

상기 지지 시트는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서, 기재 및 점착제층 이외에, 상기 중간층 등의 다른 층을 구비하고 있어도 된다.The said support sheet may be equipped with other layers, such as the said intermediate|middle layer, in addition to a base material and an adhesive layer within the range which does not impair the effect of this invention.

또한, 상기 보호막 형성용 복합 시트는 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위 내에 있어서, 기재, 점착제층 및 보호막 형성용 필름 이외에, 다른 층을 구비하고 있어도 되며, 이 경우의 상기 다른 층은 지지 시트가 구비하고 있는 상기 다른 층이어도 되며, 지지 시트와는 직접 접촉하지 않고 배치되어 있어도 된다.In addition, the composite sheet for forming a protective film may include other layers other than the base material, the pressure-sensitive adhesive layer and the film for forming a protective film within the range that does not impair the effects of the present invention, and in this case, the other layer is a support sheet The other layer provided may be sufficient, and it may be arrange|positioned, without direct contact with a support sheet.

상기 다른 층은 목적에 따라 임의로 선택할 수 있으며, 그 종류는 특별히 한정되지 않는다.The other layer may be arbitrarily selected according to the purpose, and the type thereof is not particularly limited.

상기 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 일 실시형태로는 예를 들면, 점착제층이 비에너지선 경화성이며, 점착제층이 적어도 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체와 가교제를 함유하고, 점착제층에 있어서 상기 아크릴계 중합체의 함유량 100질량부에 대한 가교제의 함유량이 0.3∼50질량부이며, 또한, 기재의 제1 면의 상기 최대 높이 조도(Rz)가 0.01∼8㎛인 것을 들 수 있다.In one embodiment of the support sheet and the composite sheet for forming a protective film, for example, the pressure-sensitive adhesive layer is non-energy ray-curable, and the pressure-sensitive adhesive layer includes at least the acrylic polymer having a structural unit derived from (meth)acrylic acid alkylester and a crosslinking agent. The content of the crosslinking agent with respect to 100 parts by mass of the content of the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive layer is 0.3 to 50 parts by mass, and the maximum height roughness (Rz) of the first surface of the substrate is 0.01 to 8 μm. can be heard

상기 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 일 실시형태로는 예를 들면, 점착제층이 비에너지선 경화성이며, 점착제층이 적어도 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체와 가교제를 함유하고, 점착제층에 있어서 상기 아크릴계 중합체의 함유량 100질량부에 대한 가교제의 함유량이 0.3∼50질량부이며, 상기 아크릴계 중합체가 알킬기의 탄소수가 4 이상인 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위와 수산기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖고, 또한, 기재의 제1 면의 상기 최대 높이 조도(Rz)가 0.01∼8㎛인 것을 들 수 있다.In one embodiment of the support sheet and the composite sheet for forming a protective film, for example, the pressure-sensitive adhesive layer is non-energy ray-curable, and the pressure-sensitive adhesive layer includes at least the acrylic polymer having a structural unit derived from (meth)acrylic acid alkylester and a crosslinking agent. The content of the crosslinking agent with respect to 100 parts by mass of the content of the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive layer is 0.3 to 50 parts by mass, and the acrylic polymer has a structural unit and a hydroxyl group derived from (meth)acrylic acid alkylester having 4 or more carbon atoms in the alkyl group. What has a structural unit derived from a containing monomer and the said maximum height roughness (Rz) of the 1st surface of a base material is 0.01-8 micrometers is mentioned.

상기 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 일 실시형태로는 예를 들면, 점착제층이 비에너지선 경화성이며, 점착제층이 적어도 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체와 가교제를 함유하고, 점착제층에 있어서 상기 아크릴계 중합체의 함유량 100질량부에 대한 가교제의 함유량이 0.3∼50질량부이며, 상기 아크릴계 중합체가 알킬기의 탄소수가 4 이상인 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위와 수산기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖고, 상기 아크릴계 중합체에 있어서 수산기 함유 모노머 유래의 구성 단위의 함유량이 구성 단위의 전체량에 대해 1∼35질량%이며, 또한, 기재의 제1 면의 상기 최대 높이 조도(Rz)가 0.01∼8㎛인 것을 들 수 있다.In one embodiment of the support sheet and the composite sheet for forming a protective film, for example, the pressure-sensitive adhesive layer is non-energy ray-curable, and the pressure-sensitive adhesive layer includes at least the acrylic polymer having a structural unit derived from (meth)acrylic acid alkylester and a crosslinking agent. The content of the crosslinking agent with respect to 100 parts by mass of the content of the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive layer is 0.3 to 50 parts by mass, and the acrylic polymer has a structural unit and a hydroxyl group derived from (meth)acrylic acid alkylester having 4 or more carbon atoms in the alkyl group. It has a structural unit derived from a containing monomer, and in the said acrylic polymer, content of the structural unit derived from a hydroxyl-containing monomer is 1-35 mass % with respect to the total amount of a structural unit, and the said maximum height roughness of the 1st surface of a base material (Rz) of 0.01-8 micrometers is mentioned.

상기 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 일 실시형태로는 예를 들면, 점착제층이 비에너지선 경화성이며, 점착제층이 적어도 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위를 갖는 상기 아크릴계 중합체와 가교제를 함유하고, 점착제층에 있어서 상기 아크릴계 중합체의 함유량 100질량부에 대한 가교제의 함유량이 0.3∼50질량부이며, 상기 아크릴계 중합체가 알킬기의 탄소수가 4 이상인 (메타)아크릴산알킬에스테르 유래의 구성 단위와 수산기 함유 모노머 유래의 구성 단위를 갖고, 상기 아크릴계 중합체에 있어서 수산기 함유 모노머 유래의 구성 단위의 함유량이 구성 단위의 전체량에 대해 1∼35질량%이며, 상기 가교제가 이소시아네이트계 가교제이고, 또한, 기재의 제1 면의 상기 최대 높이 조도(Rz)가 0.01∼8㎛인 것을 들 수 있다.In one embodiment of the support sheet and the composite sheet for forming a protective film, for example, the pressure-sensitive adhesive layer is non-energy ray-curable, and the pressure-sensitive adhesive layer includes at least the acrylic polymer having a structural unit derived from (meth)acrylic acid alkylester and a crosslinking agent. The content of the crosslinking agent with respect to 100 parts by mass of the content of the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive layer is 0.3 to 50 parts by mass, and the acrylic polymer has a structural unit and a hydroxyl group derived from (meth)acrylic acid alkylester having 4 or more carbon atoms in the alkyl group. It has a structural unit derived from a containing monomer, and in the acrylic polymer, the content of the structural unit derived from the hydroxyl group-containing monomer is 1-35 mass % with respect to the total amount of the structural unit, the crosslinking agent is an isocyanate-based crosslinking agent, and It is mentioned that the said maximum height roughness (Rz) of a 1st surface is 0.01-8 micrometers.

◇보호막 형성용 복합 시트의 제조 방법◇Manufacturing method of composite sheet for protective film formation

상기 보호막 형성용 복합 시트는 예를 들면, 기재, 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 이들의 두께 방향에 있어서 적층되어 구성된 적층 시트를 제작하는 공정(본 명세서에 있어서는, 「적층 시트 제작 공정(1)」이라고 칭하는 경우가 있다)과, 상기 적층 시트를 그 두께 방향에 있어서 가압하면서 보존하는 공정(본 명세서에 있어서는, 「적층 시트 보존 공정」이라고 칭하는 경우가 있다)을 갖는 제조 방법(본 명세서에 있어서는, 「제조 방법(S1)」이라고 칭하는 경우가 있다)에 의해 제조할 수 있다.The composite sheet for forming a protective film is, for example, a step of producing a laminated sheet in which a base material, a pressure-sensitive adhesive layer, and a film for forming a protective film are laminated in this order in their thickness direction (in this specification, “laminated sheet production process”) (1)"), and a process of preserving the laminated sheet while pressurizing in its thickness direction (in this specification, it may be referred to as a "laminated sheet storage process"); In the specification, it may be referred to as "manufacturing method (S1)").

각 층(기재, 점착제층 및 보호막 형성용 필름)의 형성 방법은 앞서 설명한 바와 같다.The formation method of each layer (the base material, the adhesive layer, and the film for protective film formation) is as described above.

이하, 상기 제조 방법(S1)에 대해 각 공정마다 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method (S1) will be described in more detail for each step.

◎제조 방법(S1)◎Manufacturing method (S1)

<<적층 시트 제작 공정(1)>><<Laminated sheet manufacturing process (1)>>

상기 적층 시트 제작 공정(1)에 있어서는, 기재, 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 이들의 두께 방향에 있어서 적층되어 구성된 적층 시트를 제작한다.In the said laminated sheet manufacturing process (1), the laminated sheet comprised by laminating|stacking a base material, an adhesive layer, and the film for protective film formation in these thickness direction in these order is produced.

본 공정에 있어서는 예를 들면, 상술한 각 층(기재, 점착제층, 보호막 형성용 필름 등)을 대응하는 위치 관계가 되도록 적층함으로써, 목적으로 하는 보호막 형성용 복합 시트와 동일한 적층 구조를 갖는 적층 시트를 제작한다.In this step, for example, by laminating each of the above-described layers (base material, pressure-sensitive adhesive layer, film for forming a protective film, etc.) in a corresponding positional relationship, a laminate sheet having the same laminate structure as the target composite sheet for forming a protective film to produce

한편, 본 명세서에 있어서 「적층 시트」란, 특별히 언급되지 않는 한, 상기와 같은 목적으로 하는 보호막 형성용 복합 시트와 동일한 적층 구조를 갖고, 또한, 상기 적층 시트 보존 공정을 행하고 있지 않은 것을 의미한다.In the present specification, the term "laminated sheet" means that, unless otherwise specified, it has the same laminated structure as that of the composite sheet for forming a protective film for the same purpose as described above, and the laminated sheet storage step is not performed. .

예를 들면, 지지 시트를 제조할 때, 기재 상에 점착제층을 적층하는 경우에는, 기재 상에 상술한 점착제 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시키면 된다.For example, when manufacturing a support sheet and laminating|stacking an adhesive layer on a base material, what is necessary is just to coat the adhesive composition mentioned above on a base material, and to dry as needed.

한편, 예를 들면, 기재 상에 적층된 점착제층 상에 추가로 보호막 형성용 필름을 적층하는 경우에는, 점착제층 상에 보호막 형성용 조성물을 도공하여 보호막 형성용 필름을 직접 형성하는 것이 가능하다. 보호막 형성용 필름 이외의 층도, 이 층을 형성하기 위한 조성물을 사용하여 동일한 방법으로 점착제층 상에 이 층을 적층할 수 있다. 이와 같이 어느 하나의 조성물을 사용하여, 연속하는 2층의 적층 구조를 형성하는 경우에는, 상기 조성물로부터 형성된 층 상에 추가로 조성물을 도공하여 새로 층을 형성하는 것이 가능하다. 단, 이들 2층 중 나중에 적층하는 층은 다른 박리 필름 상에 상기 조성물을 사용하여 미리 형성해 두고, 이 형성된 층의 상기 박리 필름과 접촉하고 있는 측과는 반대측의 노출면을 이미 형성된 나머지 층의 노출면과 첩합시킴으로써, 연속하는 2층의 적층 구조를 형성하는 것이 바람직하다. 이 때, 상기 조성물은 박리 필름의 박리 처리면에 도공하는 것이 바람직하다. 박리 필름은 적층 구조의 형성 후, 필요에 따라 제거하면 된다.On the other hand, for example, in the case of further laminating the film for forming a protective film on the pressure-sensitive adhesive layer laminated on the substrate, it is possible to directly form the film for forming the protective film by coating the composition for forming a protective film on the pressure-sensitive adhesive layer. Layers other than the film for forming a protective film can also be laminated on the pressure-sensitive adhesive layer in the same manner using the composition for forming the layer. In this way, when any one composition is used to form a laminated structure of two consecutive layers, it is possible to form a new layer by further coating the composition on the layer formed from the composition. However, the layer to be laminated later among these two layers is previously formed using the composition on another release film, and the exposed surface of the formed layer on the opposite side to the side in contact with the release film is exposed to the remaining layers already formed. It is preferable to form the laminated structure of two continuous layers by bonding together with a surface. At this time, it is preferable to apply the said composition to the peeling process surface of a peeling film. What is necessary is just to remove a peeling film as needed after formation of a laminated structure.

예를 들면, 기재 상에 점착제층이 적층되고, 상기 점착제층 상에 보호막 형성용 필름이 적층되어 이루어지는 보호막 형성용 복합 시트(지지 시트가 기재 및 점착제층의 적층물인 보호막 형성용 복합 시트)를 제조하는 경우에는, 기재 상에 점착제 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 기재 상에 점착제층을 적층해 두고, 별도로 박리 필름 상에 보호막 형성용 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 박리 필름 상에 보호막 형성용 필름을 형성해 둔다. 그리고, 이 보호막 형성용 필름의 노출면을 기재 상에 적층된 점착제층의 노출면과 첩합하여, 보호막 형성용 필름을 점착제층 상에 적층함으로써, 상기 적층 시트가 얻어진다.For example, a composite sheet for forming a protective film in which a pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a substrate and a film for forming a protective film is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer (a composite sheet for forming a protective film in which the support sheet is a laminate of a substrate and an adhesive layer) In the case of doing, by coating the pressure-sensitive adhesive composition on the substrate and drying as necessary, the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on the substrate, and separately coating the composition for forming a protective film on the release film, and drying as necessary, the release film A film for forming a protective film is formed thereon. And the said lamination sheet is obtained by bonding the exposed surface of this film for protective film formation together with the exposed surface of the adhesive layer laminated|stacked on the base material, and laminating|stacking the film for protective film formation on the adhesive layer.

한편, 기재 상에 점착제층을 적층하는 경우에는, 상술한 바와 같이 기재 상에 점착제 조성물을 도공하는 방법 대신에 박리 필름 상에 점착제 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 박리 필름 상에 점착제층을 형성해 두고, 이 층의 노출면을 기재의 한쪽 표면과 첩합시킴으로써, 점착제층을 기재 상에 적층해도 된다.On the other hand, in the case of laminating the pressure-sensitive adhesive layer on the substrate, as described above, instead of the method of coating the pressure-sensitive adhesive composition on the substrate, the pressure-sensitive adhesive composition is applied on the release film and dried as necessary, thereby forming the pressure-sensitive adhesive layer on the release film. may be formed and the pressure-sensitive adhesive layer may be laminated on the substrate by bonding the exposed surface of this layer to one surface of the substrate.

어느 방법에 있어서도, 박리 필름은 목적으로 하는 적층 구조를 형성 후 임의의 타이밍에서 제거하면 된다.In any method, what is necessary is just to remove a peeling film at arbitrary timings after formation of the target laminated structure.

이와 같이 보호막 형성용 복합 시트를 구성하는 기재 이외의 층은 모두, 박리 필름 상에 미리 형성해 두고, 목적으로 하는 층의 표면에 첩합하는 방법으로 적층할 수 있기 때문에, 필요에 따라 이러한 공정을 채용하는 층을 적절히 선택하여, 상기 적층 시트를 제조하면 된다.In this way, all layers other than the base material constituting the composite sheet for forming a protective film can be laminated by a method of forming in advance on the release film and bonding to the surface of the target layer. What is necessary is just to select a layer suitably and to manufacture the said lamination|stacking sheet.

예를 들면, 보호막 형성용 복합 시트는 통상, 그 지지 시트와는 반대측의 최표층(예를 들면, 보호막 형성용 필름)의 표면에 박리 필름이 첩합된 상태로 보관된다. 따라서, 이 박리 필름(바람직하게는, 그 박리 처리면) 상에 보호막 형성용 조성물 등의 최표층을 구성하는 층을 형성하기 위한 조성물을 도공하고, 필요에 따라 건조시킴으로써, 박리 필름 상에 최표층을 구성하는 층을 형성해 두고, 이 층의 박리 필름과 접촉하고 있는 측과는 반대측의 노출면 상에 나머지 각 층을 상술한 어느 하나의 방법으로 적층하여, 박리 필름을 제거하지 않고 첩합한 상태인 채로 함으로써도, 상기 적층 시트가 얻어진다.For example, the composite sheet for protective film formation is normally stored in the state by which the peeling film was pasted by the surface of the outermost layer (for example, film for protective film formation) on the opposite side to the support sheet. Therefore, on this peeling film (preferably, the peeling process surface), the composition for forming layers which comprise outermost layers, such as a composition for protective film formation, is coated, and by drying as needed, the outermost layer on a peeling film. A state in which a layer constituting a release film is formed, and the remaining respective layers are laminated on the exposed surface opposite to the side in contact with the release film of this layer by any one of the methods described above, and are bonded without removing the release film. Also by setting it as it is, the said lamination|stacking sheet is obtained.

보호막 형성용 복합 시트가 상기 다른 층을 구비하고 있는 경우, 상술한 적층 시트 제작 공정(1)의 적합한 타이밍에 적합한 배치 위치가 되도록, 상기 다른 층을 형성하는 공정을 적절히 추가하여 행하면 된다.In the case where the composite sheet for forming a protective film includes the other layer, the step of forming the other layer may be appropriately added so that an arrangement position suitable for a suitable timing of the above-described laminated sheet production step (1) may be obtained.

적층 시트 제작 공정(1)에 있어서 제작하는 상기 적층 시트의 형상은, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 롤상으로서 권취하기 위해 바람직한 장척의 적층 시트를 제작해도 되나, 장척이 아닌 다른 형상의 적층 시트를 제작해도 된다.The shape of the said lamination sheet produced in the lamination sheet preparation process (1) is not specifically limited. For example, in order to wind up as a roll shape, although a preferable long lamination sheet may be produced, you may produce the lamination sheet of a shape other than elongate.

<<적층 시트 보존 공정>><<Lamination sheet preservation process>>

상기 적층 시트 보존 공정에 있어서는, 상기 적층 시트를 그 두께 방향에 있어서 가압하면서 보존한다.In the said lamination sheet storage process, it preserve|saves, pressurizing the said lamination sheet in the thickness direction.

본 공정에 있어서 상기 적층 시트를 가압하면서 보존하는 방법으로는, 예를 들면, 장척의 상기 적층 시트를 롤상으로 권취하고, 이 권취한 적층 시트를 그대로의 상태로 하여 권취에 의해 생긴 압력을 적층 시트의 편면 또는 양면에 가하면서 보존하는 방법; 장척의 상기 적층 시트를 롤상으로 권취하지 않고, 전개한 상태의 적층 시트, 또는, 장척이 아닌 상기 적층 시트의 편면 혹은 양면에 압력을 가하면서 보관하는 방법 등을 들 수 있다.As a method of preserving the laminated sheet while pressurized in this step, for example, the long laminated sheet is wound in a roll shape, the wound laminated sheet is left as it is, and the pressure generated by winding is applied to the laminated sheet. method of preserving while applying to one or both sides of A method of storing the long laminated sheet in an expanded state without winding it up in a roll shape, or a method of storing the long laminated sheet while applying pressure to one side or both surfaces of the non-long laminated sheet.

장척의 적층 시트를 롤상으로 권취하는 경우, 적층 시트는 그 길이 방향으로 권취하는 것이 바람직하다.When winding up a long lamination sheet in roll shape, it is preferable to wind up a lamination sheet in the longitudinal direction.

적층 시트를 권취할 때 예를 들면, 권취 장력은 150∼170N/m인 것이 바람직하고, 권취 속도는 45∼55m/min인 것이 바람직하고, 권취 장력의 테이퍼율(저감률)은 85∼95%인 것이 바람직하다. 이러한 권취 조건을 채용함으로써, 보다 적합한 압력으로 적층 시트를 가압 보존할 수 있다. 이러한 권취 조건은 예를 들면, 두께가 100∼300㎛, 폭이 300∼500㎜이며, 길이가 40∼60m인 적층 시트에 대해 적용하기에 특히 바람직하나, 적층 시트의 크기는 이에 한정되지 않는다.When winding the laminated sheet, for example, the winding tension is preferably 150 to 170 N/m, the winding speed is preferably 45 to 55 m/min, and the taper ratio (reduction rate) of the winding tension is 85 to 95%. It is preferable to be By employing such winding conditions, the laminated sheet can be stored under pressure at a more suitable pressure. Such winding conditions are particularly preferable to be applied to, for example, a laminated sheet having a thickness of 100 to 300 μm, a width of 300 to 500 mm, and a length of 40 to 60 m, but the size of the laminated sheet is not limited thereto.

적층 시트는 예를 들면, 상온하 또는 실온하에서 권취해도 되고, 후술하는 바와 같이, 권취한 적층 시트를 가열 가압 보존할 때와 동일한 온도 조건하에서 권취해도 된다.The lamination sheet may be wound under normal temperature or room temperature, for example, and as will be described later, the laminated sheet may be wound under the same temperature conditions as when the wound lamination sheet is stored under heat and pressure.

롤상으로 권취한 적층 시트는 상온하 또는 실온하에서 보존해도 되지만, 가열하면서 보존하는 것이 바람직하다. 이와 같이 가열 가압 보존함으로써, 점착제층과 보호막 형성용 필름의 적층성과, 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 인자 시인성이 보다 우수한 보호막 형성용 복합 시트가 얻어진다.Although the lamination sheet wound up in roll shape may be stored under normal temperature or room temperature, it is preferable to preserve|save, heating. Thus, by heat-pressing preservation|save, the composite sheet for protective film formation more excellent in the lamination property of an adhesive layer and the film for protective film formation, and printing visibility through the support sheet of a protective film or the film for protective film formation is obtained.

적층 시트를 롤상으로 권취했을 경우, 보존시의 가열 온도는 특별히 한정되지 않으나, 53∼75℃인 것이 바람직하고, 55∼70℃인 것이 보다 바람직하며, 57∼65℃인 것이 특히 바람직하다.When a lamination sheet is wound up in roll shape, although the heating temperature at the time of storage is not specifically limited, It is preferable that it is 53-75 degreeC, It is more preferable that it is 55-70 degreeC, It is especially preferable that it is 57-65 degreeC.

적층 시트를 롤상으로 권취했을 경우의 보존 시간은 특별히 한정되지 않으나, 24∼720시간(1∼30일)인 것이 바람직하고, 48∼480시간(2∼20일)인 것이 보다 바람직하며, 72∼240시간(3∼10일)인 것이 특히 바람직하다.The storage time when the laminated sheet is wound into a roll is not particularly limited, but it is preferably 24 to 720 hours (1 to 30 days), more preferably 48 to 480 hours (2 to 20 days), and 72 to It is especially preferable that it is 240 hours (3-10 days).

롤상으로 권취하는 적층 시트는 예를 들면, 보호막 형성용 필름 및 지지 시트가 특정의 형상으로 가공되고, 이와 같이 가공된 지지 시트 및 보호막 형성용 필름의 복수장의 적층물이 이들의 보호막 형성용 필름 측에 있어서, 장척의 박리 필름에 첩합됨과 함께, 이 박리 필름의 길이 방향에 있어서 정렬하여 배치되어 있는 것이어도 된다. 이 경우의 보호막 형성용 필름은 반도체 웨이퍼와 동일 또는 대략 동일한 평면 형상(통상은 원 형상)을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이 경우의 지지 시트는 다이싱 장치 중의 지지 시트를 고정하기 위한 지그와 동일 또는 대략 동일한 외주의 형상을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 이 경우, 박리 필름의 상기 적층물의 첩합면 중, 폭 방향의 주연부 근방에는, 상기 적층물에 겹쳐지지 않도록 띠상의 시트가 형성되어 있는 것이 바람직하다. 이 시트는 적층 시트를 롤상으로 권취했을 때, 상기 적층물의 표면에 있어서의 단차(본 명세서에 있어서는, 「적층 흔적」이라고 칭하는 경우가 있다)의 발생을 억제하기 위한 것이다. 상기 적층 흔적은, 적층 시트의 롤 중에서 상기 적층물(가공된 지지 시트 및 보호막 형성용 필름의 적층물)의 적층 위치가 롤의 직경 방향에 있어서 일치하지 않음으로써 상기 적층물의 표면에 높은 압력이 가해짐으로써 생긴다. 상기 시트가 상기 주연부 근방에 형성되어 있으면, 상기 적층물의 표면에 이러한 높은 압력이 가해지지 않고, 상기 적층 흔적의 발생이 억제된다.In a laminated sheet wound in roll shape, for example, a film for forming a protective film and a support sheet are processed into a specific shape, and a plurality of laminates of the support sheet and film for forming a protective film processed in this way are formed on the film side for forming a protective film. WHEREIN: While bonding to the elongate peeling film, in the longitudinal direction of this peeling film, it may arrange and arrange|position. It is preferable that the film for protective film formation in this case has the same or substantially the same planar shape (normally circular shape) as a semiconductor wafer. In addition, it is preferable that the support sheet in this case has the same or substantially the same outer peripheral shape as the jig for fixing the support sheet in a dicing apparatus. Moreover, in this case, it is preferable that the strip|belt-shaped sheet|seat is formed in the vicinity of the periphery of the width direction among the bonding surfaces of the said laminated body of a peeling film so that it may not overlap with the said laminated body in this case. This sheet is for suppressing the occurrence of a level difference (in this specification, sometimes referred to as a "lamination trace") on the surface of the laminate when the laminated sheet is wound into a roll. The lamination traces indicate that the lamination positions of the laminates (the laminate of the processed support sheet and the film for forming a protective film) among the rolls of the laminated sheet do not coincide in the radial direction of the roll, so that a high pressure is applied to the surface of the laminate. arises as a burden. When the sheet is formed in the vicinity of the periphery, such a high pressure is not applied to the surface of the laminate, and the generation of traces of the lamination is suppressed.

장척의 적층 시트를 롤상으로 권취하지 않고, 전개한 상태로 하는 경우, 및 적층 시트가 장척이 아닌 경우에는, 복수장의 이들 적층 시트를 추가로 적층하여 보존하는 것이 바람직하다. 그리고, 이와 같이 적층 시트를 적층하는 경우에는, 복수장의 이들 적층 시트의 방향과 주연부의 위치를 서로 맞춘 상태로 하는 것이 바람직하다.In the case where the elongated lamination sheet is not wound in a roll shape and is in an expanded state, and when the lamination sheet is not long, it is preferable to further laminate and store a plurality of these lamination sheets. In addition, when laminating|stacking a lamination sheet in this way, it is preferable to make into the state which matched the direction of these lamination|stacking sheets and the position of a periphery of a plurality of sheets with each other.

장척이 아닌 적층 시트(다시 말하면, 매엽의 적층 시트)의 형상 및 크기는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 다이싱 장치를 이용하여 1장의 반도체 웨이퍼를 가공하기에 적합하도록, 반도체 웨이퍼의 형상 및 크기와 다이싱 장치 중의 지지 시트를 고정하기 위한 지그의 형상 및 크기에 맞춰, 적층 시트의 형상 및 크기가 조절되어 있는 것이 바람직하다.The shape and size of the non-long laminated sheet (that is, the sheet laminated sheet) are not particularly limited. For example, in accordance with the shape and size of the semiconductor wafer and the shape and size of a jig for fixing the support sheet in the dicing apparatus, the shape of the laminated sheet is suitable for processing one semiconductor wafer using the dicing apparatus. And it is preferable that the size is adjusted.

적층한 상태의 상기 적층 시트는 상온하 또는 실온하에서 보존해도 되지만, 가열하면서 보존하는 것이 바람직하다. 이와 같이 가열 가압 보존함으로써, 점착제층과 보호막 형성용 필름의 적층성과, 보호막 또는 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 인자 시인성이 보다 우수한 보호막 형성용 복합 시트가 얻어진다.The laminated sheet in the laminated state may be stored at room temperature or at room temperature, but is preferably stored while heating. Thus, by heat-pressing preservation|save, the composite sheet for protective film formation more excellent in the lamination property of an adhesive layer and the film for protective film formation, and printing visibility through the support sheet of a protective film or the film for protective film formation is obtained.

또한 적층한 상태의 상기 적층 시트를 가압 보존하는 경우의 가열 온도 및 보존 시간은 모두 상술한 적층 시트를 롤상으로 권취했을 경우와 동일하게 할 수 있다.In addition, both the heating temperature and storage time in the case of pressurizing the said laminated sheet in a laminated state can be made the same as that when the above-mentioned laminated sheet is wound up in roll shape.

제조 방법(S1)에 있어서는, 적층 시트 보존 공정의 종료 후, 적층 시트의 가압과 필요에 따라 가열을 해제함으로써, 목적으로 하는 보호막 형성용 복합 시트가 얻어진다.In manufacturing method (S1), after completion|finish of a laminated sheet preservation|save process, the target composite sheet for protective film formation is obtained by canceling|releasing the pressurization of a laminated sheet and heating as needed.

제조 방법(S1)의 적층 시트 제작 공정(1)에 있어서는, 기재, 점착제층 및 보호막 형성용 필름의 적층(첩합)의 순서를 특별히 한정하고 있지 않으나, 지지 시트를 미리 제작(기재 상에 미리 점착제층을 적층)하여, 별도로 보호막 형성용 필름을 미리 제작하고, 지지 시트 상에 보호막 형성용 필름을 적층하는 경우에는, 지지 시트 및 보호막 형성용 필름 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 단독으로, 이들을 적층하기 전에 상술한 적층 시트의 경우와 동일한 방법으로 가압 보존해도 된다. 적층하기 전의 지지 시트를 단독으로 가압 보존함으로써, 기재와 점착제층 사이의 상기 비첩합 영역의 발생을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 적층하기 전의 보호막 형성용 필름을 단독으로 가압 보존함으로써, 보호막 형성용 필름 및 보호막의 점착제층측 면(제2 면)의 요철도가 작아져(평활도가 커져), 보호막 형성용 필름 및 보호막의 의장성이 향상된다.In the lamination sheet preparation step (1) of the manufacturing method (S1), the order of lamination (bonding) of the base material, the pressure-sensitive adhesive layer, and the film for forming a protective film is not particularly limited, but the support sheet is prepared in advance (adhesive in advance on the base material) layers) to separately prepare a film for forming a protective film in advance, and when laminating the film for forming a protective film on a support sheet, either one or both of the support sheet and the film for forming a protective film alone, before laminating them You may pressurize and preserve|save by the method similar to the case of the laminated sheet mentioned above. By pressure-preserving independently the support sheet before lamination|stacking, generation|occurrence|production of the said non-bonding area|region between a base material and an adhesive layer can be suppressed more effectively. In addition, by pressure-preserving the film for forming a protective film before lamination alone, the unevenness of the pressure-sensitive adhesive layer side surface (second surface) of the film for forming a protective film and the protective film becomes small (smoothness increases), and the film for forming a protective film and the protective film Designability is improved.

즉, 상기 보호막 형성용 복합 시트는 예를 들면, 기재 및 점착제층이 적층된 지지 시트의 상기 점착제층 상에 보호막 형성용 필름을 적층함으로써, 기재, 점착제층 및 보호막 형성용 필름이 이 순서로 이들의 두께 방향에 있어서 적층되어 구성된 적층 시트를 제작하는 공정(본 명세서에 있어서는, 「적층 시트 제작 공정(2)」이라고 칭하는 경우가 있다)과, 상기 적층 시트를 그 두께 방향에 있어서 가압하면서 보존하는 공정(보존 공정)을 갖고, 상기 적층 시트 제작 공정(2) 전(즉, 상기 지지 시트 및 보호막 형성용 필름을 적층하기 전)에 상기 지지 시트 및 보호막 형성용 필름 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 각각, 그 두께 방향에 있어서 가압하면서 보존하는 공정(본 명세서에 있어서는, 지지 시트를 보존하는 공정을 「지지 시트 보존 공정」이라고 칭하고, 보호막 형성용 필름을 보존하는 공정을 「보호막 형성용 필름 보존 공정」이라고 칭하는 경우가 있다)을 추가로 갖는 제조 방법(본 명세서에 있어서는, 「제조 방법(S2)」이라고 칭하는 경우가 있다)에 의해 제조할 수 있다.That is, the composite sheet for forming a protective film is, for example, by laminating the film for forming a protective film on the pressure-sensitive adhesive layer of the support sheet on which the base material and the pressure-sensitive adhesive layer are laminated, so that the substrate, the pressure-sensitive adhesive layer and the film for forming the protective film are formed in this order. A step of producing a laminated sheet configured to be laminated in the thickness direction of having a step (preservation step), and before the lamination sheet production step (2) (that is, before laminating the support sheet and the film for forming a protective film), either or both of the support sheet and the film for forming a protective film, respectively; The process of preserving while pressurizing in the thickness direction (In this specification, the process of preserving a support sheet is called "support sheet preservation process", and the process of preserving the film for protective film formation is called "film preservation process for protective film formation." It can manufacture by the manufacturing method (in this specification, it may call "manufacturing method (S2)") further having).

◎제조 방법(S2)◎Manufacturing method (S2)

상기 제조 방법(S2)은 상술한 적층 시트 제작 공정(1)으로서 적층 시트 제작 공정(2)을 행하고, 또한, 상기 지지 시트 보존 공정 및 보호막 형성용 필름 보존 공정 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 추가하여 행하는 점 이외에는, 상술한 제조 방법(S1)과 동일하다.The manufacturing method (S2) performs the laminated sheet manufacturing process (2) as the above-described laminated sheet manufacturing process (1), and further performs either or both of the support sheet preservation process and the film preservation process for forming a protective film. Except for the point, it is the same as the above-mentioned manufacturing method (S1).

<<적층 시트 제작 공정(2)>><<Laminated sheet manufacturing process (2)>>

상기 적층 시트 제작 공정(2)은 상술한 바와 같이 지지 시트를 미리 제작하여, 별도로 보호막 형성용 필름을 미리 제작해 두고, 지지 시트 상에 보호막 형성용 필름을 적층한다는 바와 같이, 각 층의 적층 순서가 한정되어 있는 점 이외에는, 제조 방법(S1)에 있어서의 적층 시트 제작 공정(1)과 동일하다.In the lamination sheet production step (2), as described above, a support sheet is prepared in advance, a film for forming a protective film is separately prepared in advance, and a film for forming a protective film is laminated on the support sheet, so the lamination order of each layer It is the same as that of the lamination sheet preparation process (1) in manufacturing method (S1) except the point where is limited.

<<지지 시트 보존 공정, 보호막 형성용 필름 보존 공정>><<support sheet preservation process, film preservation process for protective film formation>>

상기 지지 시트 보존 공정 및 보호막 형성용 필름 보존 공정은, 각각 보존 대상물이 적층 시트가 아닌 지지 시트 또는 보호막 형성용 필름인 점 이외에는, 제조 방법(S1)에 있어서의 적층 시트 보존 공정과 동일하게 행할 수 있다.The support sheet preservation step and the film storage step for forming a protective film can be performed in the same manner as the stacked sheet preservation step in the manufacturing method (S1), except that the storage object is a support sheet or a film for forming a protective film, rather than a laminated sheet, respectively. there is.

이 경우 예를 들면, 지지 시트 및 보호막 형성용 필름의 보존 시간은 적층 시트의 경우와 마찬가지로, 각각 독립적으로 24∼720시간(1∼30일), 48∼480시간(2∼20일), 및 72∼240시간(3∼10일) 중 어느 하나여도 된다.In this case, for example, the storage time of the support sheet and the film for forming a protective film is, as in the case of the laminated sheet, each independently 24-720 hours (1-30 days), 48-480 hours (2-20 days), and Any of 72 to 240 hours (3 to 10 days) may be sufficient.

한편, 상기 지지 시트 보존 공정 및 보호막 형성용 필름 보존 공정은, 각각 상기와 같이 보존 대상물을 변경하기 위해 첨가하고, 또한, 보존 대상물(지지 시트 또는 보호막 형성용 필름)의 보존 시간을 변경하며, 이들 변경점 이외에는, 제조 방법(S1)에 있어서의 적층 시트 보존 공정과 동일하게 행해도 된다.On the other hand, the support sheet preservation step and the film preservation step for forming a protective film are added to change the storage object as described above, respectively, and also change the storage time of the storage object (support sheet or film for forming a protective film), and these You may perform similarly to the lamination sheet preservation|save process in manufacturing method S1 except a change point.

이 경우 예를 들면, 지지 시트 및 보호막 형성용 필름의 보존 시간은 각각 독립적으로 12∼720시간(0.5∼30일), 12∼480시간(0.5∼20일), 및 12∼240시간(0.5∼10일) 중 어느 하나여도 된다. 단, 이는 상기 보존 시간의 일례이다.In this case, for example, the storage times of the support sheet and the film for forming a protective film are each independently 12 to 720 hours (0.5 to 30 days), 12 to 480 hours (0.5 to 20 days), and 12 to 240 hours (0.5 to 10 days) may be used. However, this is an example of the said retention time.

실시예Example

이하, 구체적 실시예에 의해, 본 발명에 대해 보다 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이하에 나타내는 실시예로 한정되는 것은 전혀 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of specific examples. However, this invention is not limited to the Example shown below at all.

<보호막 형성용 조성물의 제조 원료><The raw material for manufacturing the composition for forming a protective film>

보호막 형성용 조성물의 제조에 사용한 원료를 이하에 나타낸다.The raw material used for manufacture of the composition for protective film formation is shown below.

·중합체 성분(A)・Polymer component (A)

(A)-1:아크릴산메틸(85질량부) 및 아크릴산2-히드록시에틸(15질량부)을 공중합하여 이루어지는 아크릴계 중합체(중량 평균 분자량 370000, 유리 전이 온도 6℃)(A)-1: Acrylic polymer obtained by copolymerizing methyl acrylate (85 parts by mass) and 2-hydroxyethyl acrylate (15 parts by mass) (weight average molecular weight 370000, glass transition temperature 6°C)

·열경화성 성분(B1)· Thermosetting component (B1)

(B1)-1:비스페놀A형 에폭시 수지(미츠비시 화학사 제조 「jER828」, 에폭시 당량 184∼194g/eq)(B1)-1: Bisphenol A epoxy resin ("jER828" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent of 184 to 194 g/eq)

(B1)-2:비스페놀A형 에폭시 수지(미츠비시 화학사 제조 「jER1055」, 에폭시 당량 800∼900g/eq)(B1)-2: Bisphenol A epoxy resin ("jER1055" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent 800 to 900 g/eq)

(B1)-3:디시클로펜타디엔형 에폭시 수지(DIC사 제조 「에피클론 HP-7200HH」, 에폭시 당량 255∼260g/eq)(B1)-3: dicyclopentadiene type epoxy resin (“Epiclon HP-7200HH” manufactured by DIC, epoxy equivalent 255 to 260 g/eq)

·열경화제(B2)· Thermosetting agent (B2)

(B2)-1:디시안디아미드(ADEKA사 제조 「아데카하드너 EH-3636AS」, 열활성 잠재성 에폭시 수지 경화제, 활성 수소량 21g/eq)(B2)-1: dicyandiamide (Adeka Hardner EH-3636AS manufactured by ADEKA, thermally active latent epoxy resin curing agent, active hydrogen content 21 g/eq)

·경화 촉진제(C)・Cure accelerator (C)

(C)-1:2-페닐-4,5-디히드록시메틸이미다졸(시코쿠 화성 공업사 제조 「큐아졸 2PHZ-PW」)(C)-1:2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole ("Qazole 2PHZ-PW" manufactured by Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.)

·충전재(D)·Filling material (D)

(D)-1:실리카 필러(아드마텍스사 제조 「SC2050MA」, 에폭시계 화합물로 표면 수식된 실리카 필러, 평균 입자 직경 0.5㎛)(D)-1: Silica filler ("SC2050MA" manufactured by Admatex, silica filler surface-modified with an epoxy compound, average particle diameter of 0.5 µm)

·커플링제(E)・Coupling agent (E)

(E)-1:3-아미노프로필트리메톡시실란(NUC사 제조 「A-1110」)(E) -1: 3-aminopropyl trimethoxysilane ("A-1110" manufactured by NUC)

·착색제(I)・Colorant (I)

(I)-1:흑색 안료(다이니치 정화사 제조) (I)-1: black pigment (manufactured by Dainichi Chemical Company)

[실시예 1][Example 1]

<지지 시트의 제조><Manufacture of a support sheet>

(점착제 조성물(I-4)의 제조)(Preparation of adhesive composition (I-4))

아크릴계 중합체(100질량부, 고형분), 및 3관능 자일릴렌디이소시아네이트계 가교제(미츠이 타케다 케미컬사 제조 「타케네이트 D110N」)(40질량부(고형분))를 함유하고, 추가로 용매로서 메틸에틸케톤, 톨루엔 및 초산에틸의 혼합 용매를 함유하는, 고형분 농도가 30질량%인 비에너지선 경화성 점착제 조성물(I-4)을 제조했다. 상기 아크릴계 중합체는 아크릴산2-에틸헥실(2EHA)(80질량부) 및 아크릴산2-히드록실에틸(HEA)(20질량부)을 공중합하여 이루어지는 중량 평균 분자량이 800000인 프리공중합체이다.Contains an acrylic polymer (100 parts by mass, solid content), and a trifunctional xylylene diisocyanate-based crosslinking agent ("Takenate D110N" manufactured by Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd.) (40 parts by mass (solid content)), and further as a solvent, methyl ethyl ketone , Toluene, and the solid content concentration containing the mixed solvent of ethyl acetate produced the 30 mass % non-energy-ray-curable adhesive composition (I-4). The acrylic polymer is a pre-copolymer having a weight average molecular weight of 800,000 obtained by copolymerizing 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) (80 parts by mass) and 2-hydroxylethyl acrylate (HEA) (20 parts by mass).

(지지 시트의 제조)(Manufacture of support sheet)

폴리에틸렌테레프탈레이트제 필름의 편면이 실리콘 처리에 의해 박리 처리된 박리 필름(린텍사 제조 「SP-PET381031」, 두께 38㎛)을 사용하여 그 상기 박리 처리면에 상기에서 얻어진 점착제 조성물(I-4)을 도공하고, 120℃에서 2분 가열 건조시킴으로써, 비에너지선 경화성 점착제층을 형성했다. 이 때, 점착제층의 두께가 4㎛가 되도록 조건을 설정하여, 점착제 조성물(I-4)을 도공했다.Using a release film ("SP-PET381031" manufactured by Lintec, 38 µm thick) in which one side of the polyethylene terephthalate film has been peeled off by silicone treatment, the pressure-sensitive adhesive composition (I-4) obtained above is applied to the peeling-treated surface was coated and dried by heating at 120°C for 2 minutes to form a non-energy ray-curable pressure-sensitive adhesive layer. At this time, conditions were set so that the thickness of an adhesive layer might be set to 4 micrometers, and the adhesive composition (I-4) was coated.

요철면을 갖는 금속롤 및 평활면을 갖는 금속롤에 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 두께 80㎛)을 끼우고, 폴리프로필렌제 필름의 한쪽 표면에 금속롤의 요철면을 60℃로 가열하면서 회전시켜 가압함으로써, 한쪽 면이 요철면이며, 다른 쪽 면이 평활면(광택면)인 기재를 제작했다. 이 기재의 요철면에 대해, 점착제층의 R값과 마찬가지로, 기재의 R값을 측정한 결과, 1.8㎛였다.A polypropylene film (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., thickness 80 μm) is sandwiched between a metal roll having an uneven surface and a metal roll having a smooth surface, and the uneven surface of the metal roll is heated to 60° C. on one surface of the polypropylene film. By rotating and pressurizing it while it was being pressurized, the base material whose one surface is an uneven surface and the other surface is a smooth surface (glossy surface) was produced. It was 1.8 micrometers when the R value of the base material was measured similarly to the R value of an adhesive layer about the uneven|corrugated surface of this base material.

이어서, 상기에서 얻어진 점착제층의 노출면에 상기 기재의 요철면을 첩합함으로써, 기재, 점착제층 및 박리 필름이 이 순서로 이들의 두께 방향에 있어서 적층되어 구성된 지지 시트를 얻었다. 얻어진 지지 시트의 폭(다시 말하면, 기재 및 점착제층의 폭)은 400㎜이고, 길이는 250m였다.Next, by bonding the uneven surface of the said base material to the exposed surface of the adhesive layer obtained above, the base material, an adhesive layer, and a peeling film were laminated|stacked in these thickness directions in this order, and the support sheet comprised was obtained. The width of the obtained support sheet (that is, the width of the base material and the pressure-sensitive adhesive layer) was 400 mm, and the length was 250 m.

이상에 의해, 본 발명의 지지 시트를 얻었다.By the above, the support sheet of this invention was obtained.

이어서, 이 지지 시트에 대해 즉시, 후술하는 기재와 점착제층 사이의 비첩합 영역에 관한 평가를 행했다. 또한, 이 지지 시트를 그 상태로 후술하는 보호막 형성용 복합 시트의 제조에 사용했다.Then, about this support sheet, evaluation about the non-bonding area|region between the base material mentioned later and an adhesive layer immediately was performed. In addition, this support sheet was used for manufacture of the composite sheet for protective film formation mentioned later in the state.

<보호막 형성용 복합 시트의 제조><Production of the composite sheet for forming a protective film>

(보호막 형성용 조성물(III-1)의 제조)(Preparation of composition (III-1) for forming a protective film)

중합체 성분((A)-1)(150질량부), 열경화성 성분((B1)-1)(60질량부), ((B1)-2)(10질량부), ((B1)-3)(30질량부), ((B2)-1)(2질량부), 경화 촉진제((C)-1)(2질량부), 충전재((D)-1)(320질량부), 커플링제((E)-1)(2질량부), 및 착색제((I)-1)(18질량부)를 메틸에틸케톤, 톨루엔 및 초산에틸의 혼합 용매에 용해 또는 분산시켜, 23℃에서 교반함으로써, 고형분 농도가 51질량%인 열경화성 보호막 형성용 조성물(III-1)을 얻었다. 한편, 여기에 나타내는 배합량은 모두 고형분량이다.Polymer component ((A)-1) (150 parts by mass), thermosetting component ((B1)-1) (60 parts by mass), ((B1)-2) (10 parts by mass), ((B1)-3) (30 parts by mass), ((B2)-1) (2 parts by mass), curing accelerator ((C)-1) (2 parts by mass), filler ((D)-1) (320 parts by mass), coupling agent ((E)-1) (2 parts by mass) and the colorant ((I)-1) (18 parts by mass) are dissolved or dispersed in a mixed solvent of methyl ethyl ketone, toluene and ethyl acetate, and stirred at 23° C. , the solid content concentration obtained a composition (III-1) for forming a thermosetting protective film of 51 mass%. In addition, all the compounding quantities shown here are solid content.

(보호막 형성용 필름의 제조)(Production of film for forming a protective film)

폴리에틸렌테레프탈레이트제 필름의 편면이 실리콘 처리에 의해 박리 처리된 박리 필름(제2 박리 필름, 린텍사 제조 「SP-PET381031」, 두께 38㎛)을 사용하고, 그 상기 박리 처리면에 나이프 코터를 이용하여 상기에서 얻어진 보호막 형성용 조성물(III-1)을 도공하여, 100℃에서 2분 건조시킴으로써, 두께 25㎛의 열경화성 보호막 형성용 필름을 제조했다.A release film (second release film, "SP-PET381031" manufactured by Lintec, 38 µm thick) in which one side of the polyethylene terephthalate film has been peeled off by silicone treatment is used, and a knife coater is used on the peeling treatment surface The 25-micrometer-thick film for thermosetting protective film formation was manufactured by coating the composition (III-1) for protective film formation obtained above, and drying at 100 degreeC for 2 minutes.

또한, 얻어진 보호막 형성용 필름의 제2 박리 필름을 구비하고 있지 않은 측의 노출면에 박리 필름(제1 박리 필름, 린텍사 제조 「SP-PET381031」, 두께 38㎛)의 박리 처리면을 첩합함으로써, 보호막 형성용 필름의 한쪽 면에 제1 박리 필름을 구비하고, 다른 쪽 면에 제2 박리 필름을 구비한 적층 필름을 얻었다. 얻어진 적층 필름의 폭(다시 말하면, 보호막 형성용 필름, 제1 박리 필름 및 제2 박리 필름의 폭)은 400㎜였다.Furthermore, by bonding the peeling surface of the peeling film (1st peeling film, Lintec company "SP-PET381031", 38 micrometers) to the exposed surface of the side which is not equipped with the 2nd peeling film of the obtained film for protective film formation by bonding. The 1st peeling film was provided in one side of the film for protective film formation, and the laminated|multilayer film provided with the 2nd peeling film in the other side was obtained. The width (that is, the film for protective film formation, the 1st peeling film, and the 2nd peeling film) of the obtained laminated|multilayer film was 400 mm.

(보호막 형성용 복합 시트의 제조)(Manufacture of composite sheet for forming a protective film)

직경이 5㎝이며, 그 중 표면으로부터 3㎜까지의 깊이의 영역이 경도 50도인 내열성 실리콘 고무로 구성되어 있는 1조(2개)의 롤을 준비했다.One set (two) of rolls having a diameter of 5 cm and a region having a depth of 3 mm from the surface of which is made of a heat-resistant silicone rubber having a hardness of 50 degrees was prepared.

상기에서 얻어진 지지 시트의 점착제층으로부터 박리 필름을 제거했다. 또한, 상기에서 얻어진 적층 필름으로부터 제1 박리 필름을 제거했다.The peeling film was removed from the adhesive layer of the support sheet obtained above. Moreover, the 1st peeling film was removed from the laminated|multilayer film obtained above.

그리고, 상기 박리 필름을 제거하여 생긴 점착제층의 노출면과, 상기 제1 박리 필름을 제거하여 생긴 보호막 형성용 필름의 노출면을 서로 마주 보게 하고, 이들 지지 시트와 보호막 형성용 필름을 중첩하여 적층물로 함과 함께, 이 적층물을 0.3m/min의 속도로, 60℃로 온도 설정되어 있는 이들 롤 사이의 간극을 통과함으로써, 0.5MPa의 압력으로 가열 가압(가열 라미네이트)했다. 이에 의해, 기재, 점착제층, 보호막 형성용 필름 및 제2 박리 필름이 이 순서로 이들의 두께 방향에 있어서 적층되어 구성된, 목적으로 하는 보호막 형성용 복합 시트와 동일한 적층 구조를 갖는 적층 시트(보존 전의 보호막 형성용 복합 시트)를 제작했다.Then, the exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer formed by removing the release film and the exposed surface of the protective film forming film formed by removing the first release film are made to face each other, and these supporting sheets and the protective film forming film are overlapped and laminated While using water, this laminate was heat-pressed (heat laminated) at a pressure of 0.5 MPa by passing through the gap between these rolls whose temperature was set to 60 degreeC at a speed|rate of 0.3 m/min. Thereby, the base material, the pressure-sensitive adhesive layer, the film for forming a protective film, and the second release film are laminated in this order in their thickness direction, and a laminate sheet having the same laminate structure as the target composite sheet for forming a protective film (before storage composite sheet for forming a protective film) was produced.

얻어진 상기 적층 시트에 있어서 그 폭(다시 말하면, 지지 시트의 폭)은 400㎜였다.In the obtained laminated sheet, the width (that is, the width of the support sheet) was 400 mm.

이어서, 상기에서 얻어진 전체의 크기가 400㎜×250m인 적층 시트를 그 길이 방향을 권취 방향으로 하고, 권취 장력 160N/m, 권취 속도 50m/min, 권취 장력의 테이퍼율 90%의 조건으로 ABS 수지의 코어에 감아, 롤상으로 권취했다. 이 때, 기재가 롤의 직경 방향에 있어서 외측으로 향하도록 하여(다시 말하면, 제2 박리 필름을 코어에 접촉시켜), 적층 시트를 권취했다.Next, the overall size of the laminated sheet obtained above is 400 mm x 250 m, the longitudinal direction is the winding direction, and the winding tension is 160 N/m, the winding speed is 50 m/min, and the ABS resin under the conditions of a taper rate of 90% of the winding tension. It was wound around the core of , and wound up in roll shape. At this time, the laminated sheet was wound up with the base material facing outward in the radial direction of the roll (that is, the second release film was brought into contact with the core).

이어서, 이 롤상의 적층 시트를 공기 분위기하, 60℃의 온도 조건하에서 7일(168시간) 정치 보존했다.Next, this roll-shaped lamination sheet was left still and stored for 7 days (168 hours) on the temperature condition of 60 degreeC in an air atmosphere.

이상에 의해, 도 2에 나타내는 구조를 갖는 본 발명의 보호막 형성용 복합 시트를 얻었다.By the above, the composite sheet for protective film formation of this invention which has a structure shown in FIG. 2 was obtained.

이어서, 이러한 가열 가압 조건하에서의 보존을 종료한 후의 본 발명의 보호막 형성용 복합 시트에 대해 이하에 나타내는 항목을 평가했다.Next, the items shown below were evaluated about the composite sheet for protective film formation of this invention after completion|finish of storage under such heating and pressurization conditions.

<지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 평가><Evaluation of the composite sheet for forming a support sheet and a protective film>

(점착제층의 R값의 측정)(Measurement of R value of the pressure-sensitive adhesive layer)

상기에서 얻어진 보호막 형성용 복합 시트의 5개소로부터 크기가 3㎜×3㎜인 시험편을 잘라냈다. 이 5개소의 잘라내는 위치는 원 형상의 보호막 형성용 필름 중, 중심부에 상당하는 1개소와, 주연부 근방의 부위이며, 또한 이 중심부에 대해 대략 점 대상의 위치에 상당하는 4개소로 했다. 이들 5개소의 잘라내는 위치 중, 중심부에 상당하는 1개소와, 그 이외의 주연부 근방의 부위의 4개소의 중심간 거리는 100㎜였다.A test piece having a size of 3 mm x 3 mm was cut out from five locations of the composite sheet for forming a protective film obtained above. The cut-out positions of these five places were one corresponding to the central portion and four portions in the vicinity of the periphery of the circular protective film formation film, and four positions corresponding to approximately the position of the point with respect to the central portion. Among the cutting positions of these five places, the distance between the centers of one place corresponding to the center and four places in the vicinity of the periphery other than that was 100 mm.

단면 시료 제작 장치(JEOL사 제조 「크로스 섹션 폴리셔 SM-09010」)를 이용하여 간헐 셔터의 조건을 「in」 10초, 「out」 5초로 하며, 이온 소스의 전압을 3kV로 하고, 총 폴리시 시간을 24시간으로 하여, 상기 시험편으로부터 그 단면을 형성했다. 새로 형성하는 단면은 1장의 시험편당, 1면만으로 했다.Using a cross-section sample preparation device (“Cross Section Polisher SM-09010” manufactured by JEOL), the intermittent shutter conditions were set to “in” for 10 seconds and “out” for 5 seconds, the voltage of the ion source was set to 3 kV, and the total polish Time was set to 24 hours, and the cross section was formed from the said test piece. The cross section to be newly formed was made into only one side per specimen of one sheet.

주사 전자 현미경(SEM)을 이용하여 이들 5개의 시험편의 새로 형성된 단면을 관찰하고, 각 시험편마다, 점착제층의 (인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계)/(점착제층에 수평 방향의 직선 거리)의 비를 구했다. 이 때의 시험편의 단면의 관찰 영역은, 상기 단면의 폭 방향에 있어서의 1㎜의 영역으로 했다.Using a scanning electron microscope (SEM), the newly formed cross-sections of these five test pieces were observed, and for each test piece, the (sum of the linear distances between adjacent significant vertices) of the pressure-sensitive adhesive layer/(linear distance in the horizontal direction to the pressure-sensitive adhesive layer) ) of the rain was obtained. The observation area of the cross section of the test piece at this time was made into the area|region of 1 mm in the width direction of the said cross section.

그리고, 이들 비의 평균값을 점착제층의 R값으로서 채용했다. 결과를 표 1에 나타낸다.And the average value of these ratios was employ|adopted as R value of an adhesive layer. A result is shown in Table 1.

한편, 기재의 R값의 측정 방법 및 구하는 방법도 점착제층의 R값의 측정 방법 및 구하는 방법과 동일하다.In addition, the measuring method and calculating|requiring method of R value of a base material are the same as the measuring method and calculating|requiring method of R value of an adhesive layer.

(보호막의 인자 시인성의 평가)(Evaluation of print visibility of protective film)

상기에서 얻어진 보호막 형성용 복합 시트로부터 제2 박리 필름을 제거하고, 이에 의해 생긴 보호막 형성용 필름의 노출면(점착제층측과는 반대측 면)을 8인치의 반도체 웨이퍼의 이면에 첩부했다. 이 때의 첩부는 테이프 마운터(린텍사 제조 「RAD2700」)를 이용하여 행했다. 이에 의해, 기재, 점착제층, 보호막 형성용 필름 및 반도체 웨이퍼가 이 순서로 이들의 두께 방향에 있어서 적층되어 구성된 제1 적층 구조체를 제작했다.The 2nd peeling film was removed from the composite sheet for protective film formation obtained above, and the exposed surface (surface opposite to the adhesive layer side) of the film for protective film formation produced by this was affixed on the back surface of an 8-inch semiconductor wafer. The affixing at this time was performed using the tape mounter ("RAD2700" by Lintec Corporation). Thereby, the 1st laminated structure comprised by laminating|stacking a base material, an adhesive layer, the film for protective film formation, and a semiconductor wafer in these thickness direction in this order was produced.

이어서, 레이저 인자 장치(EO테크닉스사 제조 「CSM300M」)를 이용하여 제1 적층 구조체 중의 보호막 형성용 필름 중, 점착제층측 면(제2 면)에 지지 시트를 개재하여 레이저 광을 조사함으로써 인자를 행했다. 이 때, 0.3㎜×0.2㎜의 크기의 문자를 인자했다.Next, using a laser printing device ("CSM300M" manufactured by EO Technics Co., Ltd.), in the protective film formation film in the first laminated structure, the pressure-sensitive adhesive layer side surface (second surface) was printed by irradiating a laser beam through a support sheet. . At this time, a character having a size of 0.3 mm x 0.2 mm was printed.

이어서, 이 보호막 형성용 필름의 인자(레이저 인자)를, 지지 시트를 개재하여 육안으로 관찰하고, 하기 기준에 따라 인자(문자)의 시인성을 평가했다. 결과를 표 1에 나타낸다. 여기서 평가하고 있는 보호막 형성용 필름의 인자 시인성은 보호막의 인자 시인성과 동등하다고 간주할 수 있다.Next, the printing (laser printing) of this film for protective film formation was visually observed through the support sheet, and the following reference|standard evaluated the visibility of printing (character). A result is shown in Table 1. It can be considered that the printing visibility of the film for protective film formation evaluated here is equivalent to the printing visibility of a protective film.

A:인자는 선명하고, 용이하게 시인 가능하다.A: Printing is clear and can visually recognize easily.

B:인자는 약간 흐리며, 용이하게는 시인할 수 없다.B: Printing is slightly cloudy and cannot be visually recognized easily.

C:인자는 불선명하고, 시인 불가능하다.C: Printing is unclear and cannot be recognized.

이어서, 이 보호막 형성용 필름으로부터 지지 시트(기재 및 점착제층)를 박리했다. 그리고, 광학 현미경을 이용하여 보호막 형성용 필름에 형성되어 있는 인자(문자)의 선의 굵기를 측정했다. 그 결과, 선의 굵기는 40㎛ 이상이며, 선명히 인자되어 있었다. Next, the support sheet (base material and adhesive layer) was peeled from this film for protective film formation. And the thickness of the line|wire of the printing|printing (letter) currently formed in the film for protective film formation was measured using the optical microscope. As a result, the thickness of the line was 40 µm or more, and it was clearly printed.

(기재와 점착제층의 밀착성의 평가)(Evaluation of the adhesion between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer)

JIS K 5600-5-6에 준하여, 지지 시트의 점착제층에 로터리 커터로 가로세로 1㎜의 격자상으로 100모눈을 부여하고, 점착 테이프(셀로테이프[니치반사 제조, 등록상표])를 압착시킨 후, 약 60°의 각도로 점착 테이프를 0.5초∼1.0초로 박리했을 때 100모눈 중의 잔존 모눈수를 셈으로써, 기재와 점착제층의 밀착성에 대해 시험을 행했다. 밀착성의 평가는 하기의 판정 기준으로 행했다. 그리고, 하기 기준에 따라, 기재와 점착제층의 밀착성에 관한 평가를 행했다. 결과를 표 1에 나타낸다.According to JIS K 5600-5-6, 100 grids were given in a grid shape of 1 mm in width and length with a rotary cutter to the pressure-sensitive adhesive layer of the support sheet, and the pressure-sensitive adhesive tape (Cellotape [Nichiban Corporation, registered trademark]) was pressed. Then, the adhesive tape was tested about the adhesiveness of a base material and an adhesive layer by counting the number of remaining grids in 100 grids when the adhesive tape was peeled at an angle of about 60 degrees in 0.5 second - 1.0 second. Adhesive evaluation was performed on the following criterion. And the following reference|standard evaluated the adhesiveness of a base material and an adhesive layer. A result is shown in Table 1.

A:잔존 모눈수가 90 이상이다.A: The number of remaining grids is 90 or more.

B:잔존 모눈수가 70 이상 90 미만이다.B: The number of remaining grids is 70 or more and less than 90.

C:잔존 모눈수가 70 미만이다.C: The number of remaining grids is less than 70.

<지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 제조, 그리고 지지 시트 및 보호막 형성용 복합 시트의 평가><Production of a support sheet and a composite sheet for forming a protective film, and evaluation of a support sheet and a composite sheet for forming a protective film>

[실시예 2][Example 2]

실시예 1에 있어서, 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 두께 80㎛)의 한쪽 표면에 금속롤의 요철면을 60℃로 가열하면서 회전시켜 가압할 때, 요철면을 갖는 금속롤 및 평활면을 갖는 금속롤 사이의 간극 간격을 실시예 1보다 좁게 조정한 점 이외에는 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 한쪽 면이 요철면이며, 다른 쪽 면이 평활면(광택면)인 기재를 제작했다. 이 기재의 요철면에 대해, 기재의 R값을 측정한 결과, 2.8이었다. 이 기재를 사용한 점 이외에는, 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 지지 시트를 제조하여 평가했다.In Example 1, when the concave-convex surface of the metal roll is rotated and pressed while heating to 60° C. on one surface of a polypropylene film (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., thickness 80 µm), a metal roll having an uneven surface and a smooth surface In the same manner as in Example 1, except that the gap between the metal rolls having As a result of measuring the R value of the base material with respect to the uneven surface of this base material, it was 2.8. A support sheet was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that this base material was used.

그리고, 이러한 지지 시트를 사용한 점 이외에는, 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 보호막 형성용 복합 시트를 제조하여 평가했다.And the composite sheet for protective film formation was manufactured and evaluated by the method similar to the case of Example 1 except the point using such a support sheet.

결과를 표 1에 나타낸다.A result is shown in Table 1.

[실시예 3][Example 3]

실시예 2에 있어서, 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 두께 80㎛)의 한쪽 표면에 금속롤의 요철면을 60℃로 가열하면서 회전시켜 가압할 때, 요철면을 갖는 금속롤 및 평활면을 갖는 금속롤 사이의 간극 간격을 실시예 2보다 좁게 조정한 점 이외에는 실시예 2의 경우와 동일한 방법으로 한쪽 면이 요철면이며, 다른 쪽 면이 평활면(광택면)인 기재를 제작했다. 이 기재의 요철면에 대해, 기재의 R값을 측정한 결과, 3.7이었다. 이 기재를 사용한 점 이외에는, 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 지지 시트를 제조하여 평가했다.In Example 2, when the uneven surface of the metal roll is rotated and pressed while heating to 60° C. on one surface of a polypropylene film (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., thickness 80 μm), the metal roll having an uneven surface and a smooth surface In the same manner as in Example 2, except that the gap between the metal rolls having As a result of measuring the R value of the base material with respect to the uneven surface of this base material, it was 3.7. A support sheet was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that this base material was used.

그리고, 이러한 지지 시트를 사용한 점 이외에는, 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 보호막 형성용 복합 시트를 제조하여 평가했다.And the composite sheet for protective film formation was manufactured and evaluated by the method similar to the case of Example 1 except the point using such a support sheet.

결과를 표 1에 나타낸다.A result is shown in Table 1.

[비교예 1][Comparative Example 1]

실시예 1에 있어서, 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 두께 80㎛)의 한쪽 표면에 금속롤의 요철면을 60℃로 가열하면서 회전시켜 가압할 때, 요철면을 갖는 금속롤 및 평활면을 갖는 금속롤 사이의 간극 간격을 실시예 1보다 넓게 조정한 점 이외에는 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 한쪽 면이 요철면이며, 다른 쪽 면이 평활면(광택면)인 기재를 제작했다. 이 기재의 요철면에 대해, 기재의 R값을 측정한 결과, 1.0이었다. 이 기재를 사용한 점 이외에는, 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 지지 시트를 제조하여 평가했다.In Example 1, when the concave-convex surface of the metal roll is rotated and pressed while heating to 60° C. on one surface of a polypropylene film (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., thickness 80 µm), a metal roll having an uneven surface and a smooth surface In the same manner as in Example 1, except that the gap between the metal rolls having It was 1.0 as a result of measuring the R value of the base material with respect to the uneven|corrugated surface of this base material. A support sheet was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that this base material was used.

그리고, 이러한 지지 시트를 사용한 점 이외에는, 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 보호막 형성용 복합 시트를 제조하여 평가했다.And the composite sheet for protective film formation was manufactured and evaluated by the method similar to the case of Example 1 except the point using such a support sheet.

결과를 표 1에 나타낸다.A result is shown in Table 1.

[비교예 2][Comparative Example 2]

실시예 3에 있어서, 폴리프로필렌제 필름(미츠비시 수지사 제조, 두께 80㎛)의 한쪽 표면에 금속롤의 요철면을 60℃로 가열하면서 회전시켜 가압할 때, 요철면을 갖는 금속롤 및 평활면을 갖는 금속롤 사이의 간극 간격을 실시예 3보다 좁게 조정한 점 이외에는 실시예 3의 경우와 동일한 방법으로 한쪽 면이 요철면이며, 다른 쪽 면이 평활면(광택면)인 기재를 제작했다. 이 기재의 요철면에 대해, 기재의 R값을 측정한 결과, 5.7이었다. 이 기재를 사용한 점 이외에는, 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 지지 시트를 제조하여 평가했다.In Example 3, when the concave-convex surface of the metal roll is rotated and pressed while heating to 60° C. on one surface of a polypropylene film (manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd., thickness 80 µm), a metal roll having an uneven surface and a smooth surface In the same manner as in Example 3, except that the gap between the metal rolls having As a result of measuring the R value of the base material with respect to the uneven surface of this base material, it was 5.7. A support sheet was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that this base material was used.

그리고, 이러한 지지 시트를 사용한 점 이외에는, 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 보호막 형성용 복합 시트를 제조하여 평가했다.And the composite sheet for protective film formation was manufactured and evaluated by the method similar to the case of Example 1 except the point using such a support sheet.

그리고, 이러한 지지 시트를 사용한 점 이외에는, 실시예 1의 경우와 동일한 방법으로 보호막 형성용 복합 시트를 제조하여 평가했다.And the composite sheet for protective film formation was manufactured and evaluated by the method similar to the case of Example 1 except the point using such a support sheet.

결과를 표 1에 나타낸다.A result is shown in Table 1.

Figure 112020051825030-pct00001
Figure 112020051825030-pct00001

상기 결과로부터 명백한 바와 같이, 실시예 1∼3에 있어서는, 점착제층의 R값이 2 이상(2∼4)이며, 기재와 점착제의 밀착성이 특히 우수했다. 또한, 이들 실시예에 있어서는, 상기 점착제층의 R값이 5.0 미만(2∼4)이며, 보호막 및 보호막 형성용 필름의 지지 시트를 개재한 인자 시인성이 특히 우수했다.Evidently from the said result, in Examples 1-3, R value of an adhesive layer was 2 or more (2-4), and it was especially excellent in the adhesiveness of a base material and an adhesive. Moreover, in these Examples, R value of the said adhesive layer was less than 5.0 (2-4), and it was especially excellent in the printing visibility through the support sheet of the protective film and the film for protective film formation.

이에 대해, 비교예 1에 있어서는, 점착제층의 R값이 1.2이며, 기재와 점착제 사이의 밀착성이 충분하지 않고, 기재와 점착제 사이에는 비첩합 영역이 존재하고 있었다.On the other hand, in the comparative example 1, R value of an adhesive layer was 1.2, the adhesiveness between a base material and an adhesive was not enough, and the non-bonding area|region existed between a base material and an adhesive.

또한, 비교예 2에 있어서는, 점착제층의 R값이 6.0이며, 점착제층에는 매우 두꺼운 영역이 있었다. 이 때문에, 지지 시트를 개재한 보호막(보호막 형성용 필름)의 인자 시인성이 열악했다.Moreover, in the comparative example 2, R value of the adhesive layer was 6.0, and there existed a very thick area|region in the adhesive layer. For this reason, the printing visibility of the protective film (film for protective film formation) via the support sheet was inferior.

본 발명은 반도체 장치의 제조에 이용 가능하다.INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is applicable to the manufacture of semiconductor devices.

1A, 1B, 1C…보호막 형성용 복합 시트, 10…지지 시트, 10a…지지 시트의 보호막 형성용 필름측 면(제1 면), 11…기재, 11a…기재의 점착제층측 면(제1 면, 요철면), 12…점착제층, 12a…점착제층의 기재측과는 반대측 면(제1 면), 12b…점착제층의 기재측 면(제2 면), 13, 23…보호막 형성용 필름, 13b…보호막 형성용 필름의 점착제층측 면(제2 면), La1, Lb1, La2, Lb2…인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리, L1, L2…점착제층에 수평 방향의 평면에 투영한 선분, Ta…점착제층의 두께, Ta1…점착제층의 두께의 최소값, Ta2…점착제층의 두께의 최대값1A, 1B, 1C… A composite sheet for forming a protective film, 10 ... support sheet, 10a... The film-side surface for forming a protective film of the supporting sheet (the first surface), 11... Subscription, 11a... The pressure-sensitive adhesive layer side surface of the substrate (the first surface, the concave-convex surface), 12 . pressure-sensitive adhesive layer, 12a... The surface on the opposite side to the base material side of the pressure-sensitive adhesive layer (first surface), 12b... The substrate-side surface (second surface) of the pressure-sensitive adhesive layer, 13, 23... Film for forming a protective film, 13b... Adhesive layer side surface (2nd surface) of the film for protective film formation, L a1 , L b1 , L a2 , L b2 ... Linear distance between significant adjacent vertices, L 1 , L 2 … A line segment projected on a plane in the horizontal direction on the pressure-sensitive adhesive layer, T a ... The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, T a1 … The minimum value of the thickness of the adhesive layer, T a2 ... Maximum value of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer

Claims (3)

기재를 구비하고, 상기 기재 상에 점착제층을 구비한 지지 시트로서,
상기 기재의 상기 점착제층측 면이 요철면이며,
상기 지지 시트의 5개소로부터 시험편을 잘라내고, 이들 5장의 시험편에 있어서 상기 점착제층의 단면을 관찰했을 때, (인접하는 유의미한 정점끼리의 직선 거리의 합계)/(점착제층에 수평 방향의 직선 거리)의 비의 평균값이 1.5 이상 5.0 미만인 지지 시트.
A support sheet comprising a base material and comprising a pressure-sensitive adhesive layer on the base material, the support sheet comprising:
The pressure-sensitive adhesive layer side surface of the substrate is a concave-convex surface,
When a test piece is cut out from 5 places of the said support sheet, and the cross section of the said adhesive layer is observed in these 5 test pieces, (sum of the linear distances between adjacent significant vertices) / (linear distance in the horizontal direction to the adhesive layer) ) of the support sheet having an average value of the ratio of 1.5 or more and less than 5.0.
제 1 항에 있어서,
상기 점착제층이 상기 기재의 요철면에 직접 접촉하고 있는 지지 시트.
The method of claim 1,
The support sheet in which the said adhesive layer is in direct contact with the uneven|corrugated surface of the said base material.
제 1 항 또는 제 2 항의 지지 시트 중의 점착제층 상에 보호막 형성용 필름을 구비한 보호막 형성용 복합 시트.The composite sheet for protective film formation provided with the film for protective film formation on the adhesive layer in the support sheet of Claim 1 or 2.
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