KR102435298B1 - Substrate support device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 지지장치에 관한 것으로서, 기판이 안착되는 스테이지; 상기 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어 상기 기판을 상기 스테이지 상에 로딩 또는 언로딩시키는 리프트바를 구비하는 리프트바 모듈; 상기 스테이지의 하부에서 상기 리프트바를 사이에 두고 리프트바의 측면에 접촉된 상태로 설치되어, 상기 리프트바를 지지하는 가이드부를 구비하는 가이드부; 및 복수의 상기 리프트바 모듈를 지지하는 승강 프레임을 상승 및 하강시키는 승강구동부를 포함하는 기판 지지장치를 제공한다. The present invention relates to a substrate support apparatus, comprising: a stage on which a substrate is mounted; a lift bar module installed to pass through the stage in a vertical direction and having a lift bar for loading or unloading the substrate onto the stage; a guide part installed in a state of being in contact with a side surface of the lift bar at the lower part of the stage with the lift bar interposed therebetween, the guide part having a guide part supporting the lift bar; And it provides a substrate support device including a lift driving unit for raising and lowering the lifting frame supporting the plurality of lift bar modules.

Description

기판 지지장치{SUBSTRATE SUPPORT DEVICE}Substrate support device {SUBSTRATE SUPPORT DEVICE}

본 발명은 기판 지지장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 기판을 스테이지 상에 안정적으로 지지할 수 있도록 복수의 리프트바를 통해 기판의 하부를 균일하게 지지할 수 있도록 한 기판 지지장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate support apparatus, and more particularly, to a substrate support apparatus capable of uniformly supporting a lower portion of a substrate through a plurality of lift bars so as to stably support the substrate on a stage.

일반적으로, 기판 또는 박막의 결정화를 위한 방법으로는, 기판 또는 박막을 챔버 내부의 스테이지 상에 안착시키고 고온 상태에서 어닐링하거나 기판 상에 박막을 고온에서 증착하는 방법이 있다. 이러한 기판 또는 박막의 어닐링 및 고온 상태에서 박막의 증착과정을 통칭하여 '어닐링'(annealing) 과정이라고 하며, 기판 또는 기판 상에 증착된 박막을 편의상 '기판'이라고 한다.In general, as a method for crystallizing a substrate or a thin film, there is a method of seating the substrate or thin film on a stage inside a chamber and annealing at a high temperature or depositing the thin film on the substrate at a high temperature. Such annealing of the substrate or thin film and the deposition of the thin film at a high temperature are collectively referred to as an 'annealing' process, and the thin film deposited on the substrate or substrate is referred to as a 'substrate' for convenience.

그러나 이러한 고온에서의 어닐링은, 고온 분위기에서의 열화학 반응에 의해 챔버 내부를 오염시키거나, 챔버 내부에 필요 없는 화합물을 생성하여 기판의 오염을 초래하는 단점이 있다.However, such annealing at a high temperature has a disadvantage in that the inside of the chamber is contaminated by a thermochemical reaction in a high temperature atmosphere, or an unnecessary compound is generated in the chamber, thereby causing contamination of the substrate.

또한, 불균일한 온도 구배에 의해 열처리 균일도가 일정하지 않아 기판 또는 박막 상에 무라(mura)를 형성하거나, 고온 분위기의 조성을 위한 시간이 많이 소요되어 공정 비용이 높아지고, 생산성은 낮은 단점이 있다.In addition, the heat treatment uniformity is not constant due to the non-uniform temperature gradient, so that mura is formed on the substrate or thin film, or it takes a lot of time for the composition of a high-temperature atmosphere, so that the process cost is high, and the productivity is low.

최근에는 기판의 대형화 및 박판 추세에 따라 레이저를 이용한 열처리 방법이 연구되고 있으며, 특히, 엑시머 레이저를 이용한 열처리 방법은, 엑시머 레이저를 기판 또는 박막 상에 조사하여, 기판 또는 박막을 순간적으로 가열하여 결정화를 유도하는 방법이다.Recently, a heat treatment method using a laser has been studied according to the trend of larger substrates and thinner plates. In particular, in the heat treatment method using an excimer laser, an excimer laser is irradiated on a substrate or thin film, and the substrate or thin film is instantaneously heated to crystallize. a way to induce

이러한 레이저 열처리 방법은 기판 또는 박막 전체에 대한 어닐링 균일도가 우수하여 대면적 기판에 적용하기가 용이하고, 레이저빔이 조사되는 국부적인 영역만을 순간적으로 가열하게 되므로, 박판의 기판에의 적용성도 뛰어난 장점이 있으며, 양산의 안정성을 높이기 위해 최근 연구가 활발한 실정이다.This laser heat treatment method has excellent annealing uniformity for the entire substrate or thin film, so it is easy to apply to a large-area substrate. In order to improve the stability of mass production, recent research is active.

일반적으로 레이저 열처리 방법을 위한 장치는, 공정 챔버와, 공정 챔버 내부에 배치되며 기판이 안착되는 지지장치와, 공정 챔버 외부에 배치되어 레이저빔을 발생시키는 레이저 발생기와, 공정 챔버의 일측에 형성되어 레이저빔을 공정 챔버 내부로 투과시키는 윈도우 및 공정 챔버의 외부에서 레이저 빔의 경로 상에 형성되어 레이저빔을 윈도우를 통해 공정 챔버 내부로 안내하여, 기판 또는 박막 상으로 조사시키는 광학계 등을 포함하여 구성된다.In general, an apparatus for a laser heat treatment method includes a process chamber, a support device disposed inside the process chamber and on which a substrate is seated, a laser generator disposed outside the process chamber to generate a laser beam, and formed on one side of the process chamber A window that transmits the laser beam into the process chamber, and an optical system that is formed on the path of the laser beam from the outside of the process chamber and guides the laser beam into the process chamber through the window and irradiates it onto a substrate or thin film. do.

여기서, 공정 챔버 내에는 기판을 지지하는 기판 지지장치는, 기판이 지지되는 스테이지와, 스테이지에 형성된 슬릿을 상하 방향으로 관통하도록 마련되어 승하강하는 복수의 리프트바 모듈을 포함한다. 리프트바 모듈의 리프트바는 스테이지의 하부에 승강 가능하게 설치되어 기판의 하부를 균일하게 지지할 수 있게 된다.Here, the substrate support apparatus for supporting the substrate in the process chamber includes a stage on which the substrate is supported, and a plurality of lift bar modules that are provided to vertically penetrate the slits formed on the stage and ascend and descend. The lift bar of the lift bar module is installed so as to be able to elevate at the lower part of the stage, so that the lower part of the substrate can be uniformly supported.

한편, 기판 지지장치의 스테이지의 전 면적이 빈공간 없이 기판과 접촉하게 될 경우 하드웨어로 인한 무라(mura) 현상을 제거할 수 있으나, 기판 지지장치의 리프트바가 스테이지 상으로 승강하기 위해 형성된 리프트바수용공(slit)으로 인해 무라 현상은 지속적으로 발생하게 된다. On the other hand, when the entire area of the stage of the substrate support device comes into contact with the substrate without an empty space, the mura phenomenon due to hardware can be eliminated, but the lift bar of the substrate support device is formed to ascend and descend on the stage. Due to the slit, the mura phenomenon continues to occur.

따라서, 리프트바수용공에서 무라 현상을 제거하기 위해서는 리프트바수용공의 크기를 최소화하고, 리프트바수용공을 통해 승강하는 리프트바의 두께 또한 최소화할 필요성이 있었다. Therefore, in order to remove the mura phenomenon in the lift bar receiving hole, there was a need to minimize the size of the lift bar receiving hole and also to minimize the thickness of the lift bar that goes up and down through the lift bar receiving hole.

이로 인해, 종래에는 리프트바의 두께를 얇게 제작한 경우, 리프트바를 이용하여 기판을 승강하는 동작 중에 기판에 의한 하중 또는 외력에 의해 리프트바가 휘어지거나 부러져 파손되는 문제가 발생할 뿐만 아니라 리프트바가 휘어지면서 수용공과의 접촉으로 인한 간섭 현상이 발생하는 문제점이 있어 리프트바를 주기적으로 교체해주어야 하는 번거로움이 있었다. For this reason, in the prior art, when the thickness of the lift bar is made thin, the lift bar is bent or broken and damaged by the load or external force caused by the board during the operation of elevating the board using the lift bar. There is a problem in that interference occurs due to contact with the ball, so it is inconvenient to periodically replace the lift bar.

대한민국 공개특허공보 제2017-0104040호(2017.09.14)Republic of Korea Patent Publication No. 2017-0104040 (2017.09.14)

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 기판을 로딩 또는 언로딩하는 리프트바의 손상을 방지하고, 수명을 연장할 수 있는 기판 지지장치를 제공하는 데 있다.Accordingly, the present invention has been devised to solve the above problems, and an object of the present invention is to prevent damage to a lift bar for loading or unloading a substrate, and to provide a substrate support device capable of extending the lifespan there is

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 기판이 안착되는 스테이지; 상기 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어 상기 기판을 상기 스테이지 상에 로딩 또는 언로딩시키는 리프트바를 구비하는 리프트바 모듈; 상기 스테이지의 하부에서 상기 리프트바를 사이에 두고 리프트바의 측면에 접촉된 상태로 설치되어, 상기 리프트바를 지지하는 가이드부를 구비하는 가이드부; 및 복수의 상기 리프트바 모듈를 지지하는 승강 프레임을 상승 및 하강시키는 승강구동부를 포함하는 기판 지지장치를 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention provides a stage on which a substrate is mounted; a lift bar module installed to pass through the stage in a vertical direction and having a lift bar for loading or unloading the substrate onto the stage; a guide part installed in a state of being in contact with a side surface of the lift bar at the lower part of the stage with the lift bar interposed therebetween, the guide part having a guide part supporting the lift bar; And it provides a substrate support device including a lift driving unit for raising and lowering the lifting frame supporting the plurality of lift bar modules.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 가이드부는, 상기 리프트바를 사이에 두고 마주보도록 이격 설치되어, 상기 리프트바를 지지하면서 상기 리프트바의 이동에 따라 정회전 또는 역회전하는 한 쌍의 회전롤러; 및 상기 스테이지의 바닥면에 설치되며, 각각의 상기 회전롤러가 축 고정되는 제1 및 제2 고정부재를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the guide unit may include: a pair of rotating rollers installed to face each other with the lift bar interposed therebetween and rotating forward or reverse according to the movement of the lift bar while supporting the lift bar; and first and second fixing members installed on the bottom surface of the stage and to which the respective rotary rollers are axis-fixed.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 승강구동부는, 구동부의 동력에 의해 직선 이동하는 직선이동부; 및 상기 직선이동부와 연동하면서 상기 승강 프레임을 상승 및 하강시키는 복수의 승강부를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the elevating driving unit may include: a linear moving unit moving linearly by the power of the driving unit; and a plurality of elevating units for elevating and lowering the elevating frame while interlocking with the linear moving unit.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 직선이동부는, 상기 구동부의 동력에 의해 회전 운동을 직선 운동을 변환시키며, 양단이 서포트유닛에 회전 가능하게 지지되는 볼 스크류로 이루어진다. According to an embodiment of the present invention, the linear movement unit is made of a ball screw that converts a rotational motion into a linear motion by the power of the driving unit, and both ends are rotatably supported by the support unit.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 승강부는, 상기 직선이동부와 연결몸체에 의해 연결되며 레일을 따라 직선 이동 가능한 이동판; 상기 이동판 상에 배치되고 경사면에 경사레일을 구비하며 상기 이동판과 함께 직선 이동하는 경사면체; 상기 경사면체의 경사레일을 따라 상승 및 하강 이동 가능하게 구비되는 이동몸체; 및 상기 이동몸체에 고정되어 상기 이동몸체와 함께 상승 및 하강 이동하며 상기 승강 프레임을 상면에 지지하는 지지몸체를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the lifting unit, the moving plate connected to the linear moving unit and the connecting body by a linear movable plate along the rail; an inclined plane disposed on the moving plate, having an inclined rail on an inclined surface, and linearly moving together with the moving plate; a movable body provided to be movable upward and downward along the inclined rail of the inclined plane; and a support body fixed to the movable body and moving up and down together with the movable body to support the elevating frame on an upper surface.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 승강부는 상기 스테이지 하부에서 하나의 직선이동부의 양측으로 복수개가 일렬 배치되고, 상기 직선이동부의 작동에 의해 연동하는 각각의 상기 승강부들은 연결부재를 통해 연동 가능하도록 연결된다. According to an embodiment of the present invention, a plurality of the lifting units are arranged in a line on both sides of a single linear moving unit under the stage, and each of the lifting units interlocked by the operation of the linear moving unit is interlocked through a connecting member. connected to be possible.

본 발명의 실시예에 의하면, 상기 연결부재는 상기 승강부끼리 연동 가능하도록 각각의 상기 승강부의 이동판에 링크 연결된다. According to an embodiment of the present invention, the connecting member is linked to the moving plate of each of the lifting units to be interlocked with each other.

전술한 바와 같은 구성의 본 발명에 따른 기판 지지장치에 의하면, 리프트바의 휨이나 부러짐을 방지할 수 있으며, 리프트바가 휘어지면서 리프트바수용공과의 접촉으로 인한 간섭 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.According to the substrate support apparatus according to the present invention having the configuration as described above, it is possible to prevent bending or breaking of the lift bar, and there is an effect of preventing interference caused by contact with the lift bar receiving hole while the lift bar is bent. .

또한, 복수의 리프트바를 일체로 승강시키는 하나의 승강구동부를 구비하여 복수의 리프트바가 동시에 동일한 높이로 승강할 수 있도록 함으로써, 기판에 대한 리프트바의 로딩 불량을 방지할 수 있는 효과가 있다.In addition, there is an effect of preventing a failure in loading the lift bar with respect to the substrate by providing a single lifting driving unit for integrally raising and lowering the plurality of lift bars so that the plurality of lift bars can be simultaneously raised and lowered to the same height.

도 1은 본 발명에 따른 기판 지지장치를 나타내는 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 기판 지지장치의 스테이지 하부의 주요 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명에 따른 기판 지지장치의 리프트바에 설치된 가이드부를 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 기판 지지장치의 승강구동부를 나타내는 사시도이다.
도 5는 도 4의 승강구동부의 작동 구조를 나타내는 도면이다.
1 is a perspective view showing a substrate support apparatus according to the present invention.
2 is a view showing the main configuration of the lower stage of the substrate support apparatus according to the present invention.
3 is a cross-sectional view illustrating a guide unit installed on a lift bar of a substrate support apparatus according to the present invention.
4 is a perspective view showing a lift driving unit of the substrate support device according to the present invention.
FIG. 5 is a view showing an operation structure of the lift driving unit of FIG. 4 .

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. Since the present invention may have various changes and may have various forms, embodiments will be described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing each figure, like reference numerals have been used for like elements.

상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 상세하게 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 기판 지지장치를 나타내는 사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 기판 지지장치의 스테이지 하부의 주요 구성을 나타내는 도면이고, 도 3은 본 발명에 따른 기판 지지장치의 리프트바에 설치된 가이드부를 나타내는 단면도이다.1 is a perspective view showing a substrate support apparatus according to the present invention, Figure 2 is a view showing the main configuration of the lower stage of the substrate support apparatus according to the present invention, Figure 3 is installed on the lift bar of the substrate support apparatus according to the present invention It is sectional drawing which shows a guide part.

본 발명에 따른 기판 지지장치(100)는 박스 형상의 본체(110) 상에 설치되며 기판(10)이 안착되는 스테이지(120)와, 스테이지(120)를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어 기판(10)을 로딩 또는 언로딩하는 리프트바 모듈(130)과, 리프트바 모듈(130)을 승강시키는 승강구동부(150)를 포함한다.The substrate support apparatus 100 according to the present invention is installed on the box-shaped body 110 and is installed to penetrate the stage 120 on which the substrate 10 is seated, and the stage 120 in the vertical direction to penetrate the substrate 10 . ) includes a lift bar module 130 for loading or unloading, and a lift driving unit 150 for elevating the lift bar module 130 .

어닐링을 하고자 하는 기판(10)을 공정 챔버 내부로 수용한 상태에서 스테이지(120) 상에 기판(10)을 안착시키게 되는데, 스테이지(120) 상에 기판(10)을 안착시키기 전에 승강구동부(150)를 이용하여 리프트바 모듈(130)을 상승시켜 스테이지(120) 상측으로 돌출되도록 함으로써, 기판(10)을 리프트바 모듈(130) 상에 안착되도록 한다. The substrate 10 is seated on the stage 120 in a state in which the substrate 10 to be annealed is accommodated in the process chamber. ) to raise the lift bar module 130 to protrude upwards of the stage 120 , so that the substrate 10 is seated on the lift bar module 130 .

그리고 나서, 리프트바 모듈(130) 상에 기판(10)이 안착될 경우, 승강구동부(150)를 이용하여 리프트바 모듈(130)을 하강시켜 리프트바(131)가 본체(110) 내의 스테이지(120) 하부로 수용되도록 함으로써, 기판(10)이 스테이지(120) 상에 안착 가능하게 된다.Then, when the substrate 10 is seated on the lift bar module 130 , the lift bar module 130 is lowered by using the lift driving unit 150 to move the lift bar 131 to the stage ( 120) By being accommodated in the lower portion, the substrate 10 can be seated on the stage 120 .

도 1에 도시한 바와 같이, 스테이지(120)는 판상 형태로 형성되며, 상부에 안착되는 기판(10)의 워프(warp)를 최소화하고, 에어 포켓(air pocket)을 방지하기 위하여 스테이지(120) 상부에 일정한 패턴을 구비하게 된다.As shown in FIG. 1 , the stage 120 is formed in a plate shape, and the stage 120 minimizes warp of the substrate 10 seated thereon and prevents air pockets. A certain pattern is provided on the upper part.

스테이지(120) 상부에 형성되는 일정한 패턴은 직선 형태의 에어벤트 채널(미도시)과 진공흡입 채널(미도시)을 포함한다.The predetermined pattern formed on the upper portion of the stage 120 includes a straight air vent channel (not shown) and a vacuum suction channel (not shown).

에어벤트 채널은 스테이지(120)의 적어도 일부를 상하 방향으로 관통하도록 형성되어, 기판(10)과 스테이지(120) 사이에 잔류하는 기체가 빠져 나갈 수 있도록 통로 역할을 하고, 진공흡입 채널은 스테이지(120)의 적어도 일부를 상하 방향으로 관통하도록 형성되어, 기판(10)을 진공 흡입력으로 지지하는 역할을 수행한다. The air vent channel is formed to penetrate at least a part of the stage 120 in the vertical direction, and serves as a passage so that the gas remaining between the substrate 10 and the stage 120 can escape, and the vacuum suction channel is the stage ( 120) is formed to penetrate in the vertical direction, and serves to support the substrate 10 by a vacuum suction force.

또한, 스테이지(120)의 둘레를 따라 스테이지(120) 전면을 지지하는 스테이지 지지대(135)가 설치될 수 있다.In addition, a stage support 135 for supporting the front surface of the stage 120 along the circumference of the stage 120 may be installed.

그리고, 스테이지(120)에는 리프트바 모듈(130)의 리프트바(131)가 상하 방향으로 관통하도록 복수의 리프트바수용공(121)이 형성되어 있다. In addition, a plurality of lift bar accommodating holes 121 are formed in the stage 120 so that the lift bar 131 of the lift bar module 130 penetrates in the vertical direction.

리프트바 모듈(130)은 기판(10)을 스테이지(120) 상에서 지지하는 역할을 하며, 스테이지(120)의 리프트바수용공(121)을 상하 방향으로 관통하도록 형성된 리프트바(131)와, 리프트바(131)를 지지하면서 후술하는 승강 프레임(160)에 고정되는 지지유닛(132)을 포함한다.The lift bar module 130 serves to support the substrate 10 on the stage 120 , and includes a lift bar 131 formed to penetrate the lift bar receiving hole 121 of the stage 120 in the vertical direction; It includes a support unit 132 fixed to the elevating frame 160 to be described later while supporting the bar 131 .

리프트바 모듈(130)은 스테이지(120)의 전체 영역에 걸쳐 구비되는데, 예컨대 스테이지(120)의 가장자리에서 직선 방향으로 서로 마주보는 2열로 배치되는 복수의 제1 리프트바 모듈(130a)과, 스테이지(120)의 중앙부분에서 직선 방향으로 3열로 배치되는 복수의 제2 리프트바 모듈(130b)을 포함할 수 있다. 스테이지(120) 상에 배치되는 리프트바 모듈(130)의 배열 위치는 본 발명에 의해 한정되지 않으며, 다양하게 변형 실시될 수 있다. The lift bar module 130 is provided over the entire area of the stage 120 , for example, a plurality of first lift bar modules 130a arranged in two rows facing each other in a straight direction at the edge of the stage 120 ; It may include a plurality of second lift bar modules 130b disposed in three rows in a straight line from the central portion of 120 . The arrangement position of the lift bar module 130 disposed on the stage 120 is not limited by the present invention, and various modifications may be made.

이와 같이 구성된 기판 지지장치(100)에 어닐링하고자 하는 기판(10)을 운반장치, 예컨대 로봇암 등을 이용하여 스테이지(120) 상으로 운반하는 경우, 자중에 의해 기판(10)의 중심부가 처지게 되며, 이러한 점을 보완하기 위하여 진공흡입 채널을 통해 스테이지(120)의 중앙부분부터 순차적으로 진공 흡입이 이루어지도록 하여, 기판(10)의 중심부부터 스테이지(120) 상에 접촉되면서 에어 포켓의 발생이 없는 기판(10)의 안착이 완료되도록 한다.When the substrate 10 to be annealed to the substrate support apparatus 100 configured as described above is transported onto the stage 120 using a transport device, for example, a robot arm, the central portion of the substrate 10 sags by its own weight. In order to compensate for this, vacuum suction is sequentially performed from the central portion of the stage 120 through the vacuum suction channel, so that the generation of air pockets is reduced while in contact with the stage 120 from the center of the substrate 10 . The seating of the missing substrate 10 is completed.

한편, 리프트바 모듈(130)은 스테이지(120)를 리프트바수용공(121)을 통해 상하 방향으로 관통하도록 설치되어, 기판(10)을 스테이지(120) 상에 로딩 또는 언로딩시키는 것으로서, 리프트바 모듈(120)을 지지하는 승강 프레임(160)의 하부에 위치하는 승강구동부(150)에 의해 승강 작동된다.On the other hand, the lift bar module 130 is installed to penetrate the stage 120 in the vertical direction through the lift bar receiving hole 121 to load or unload the substrate 10 onto the stage 120 , The lifting operation is carried out by the lifting driving unit 150 located at the lower portion of the lifting frame 160 supporting the bar module 120 .

본 발명에서 리프트바 모듈(130)은 기판(10)의 벤딩이 유도되도록 스테이지(120)의 중앙부분에 있는 리프트바(131)의 높이가 스테이지(120)의 가장자리에 있는 리프트바(131)의 높이보다 상대적으로 낮게 형성될 수 있다. 이는 기판(10), 특히 대면적 기판(10)의 경우 자중에 의해 기판(10)의 중심부가 처지게 되며, 이러한 기판(10)의 처짐 현상을 반영하여 리프트바(131)의 길이를 조절함으로써, 기판(10)을 스테이지(120)에 안착 시 기판(10)의 워프 현상을 최소화하면서 리프트바(131)가 하강하면서 기판(10)의 중심부부터 스테이지(120) 상에 안착되도록 하여 기판(10)과 스테이지(120) 사이의 공기가 순차적으로 스테이지(120)의 가장자리로 빠져나가도록 함으로써 에어 포켓의 발생을 방지하도록 하는 것이다.In the present invention, in the lift bar module 130 , the height of the lift bar 131 at the center of the stage 120 is the height of the lift bar 131 at the edge of the stage 120 so that bending of the substrate 10 is induced. It may be formed relatively lower than the height. This is because the center of the substrate 10 sags due to its own weight in the case of the substrate 10 , particularly the large-area substrate 10 , and by adjusting the length of the lift bar 131 by reflecting the drooping phenomenon of the substrate 10 , , when the substrate 10 is seated on the stage 120 , while minimizing the warping phenomenon of the substrate 10 , the lift bar 131 descends and is seated on the stage 120 from the center of the substrate 10 . ) and the air between the stage 120 is to sequentially escape to the edge of the stage 120 to prevent the occurrence of air pockets.

상기 리프트바 모듈(130) 상에 기판(10)이 안착될 경우, 승강구동부(150)를 이용하여 리프트바 모듈(130)을 하강시켜 본체(110) 내의 스테이지(120) 하부로 리프트바(131)가 완전히 수용되도록 할 수 있다. When the substrate 10 is seated on the lift bar module 130 , the lift bar module 130 is lowered using the lift driving unit 150 to lower the lift bar 131 to the lower part of the stage 120 in the main body 110 . ) can be fully accepted.

도 3에 도시한 바와 같이, 리프트바 모듈(130)은, 본체(110) 내부에서 리프트바 모듈(130)의 리프트바(131)를 사이에 두고 마주보도록 이격 설치되어, 리프트바(131)를 지지하면서 회전하는 한 쌍의 회전롤러(141)를 구비하는 가이드부(140)를 포함한다.As shown in FIG. 3 , the lift bar module 130 is installed to face each other with the lift bar 131 of the lift bar module 130 interposed therebetween in the main body 110 , and the lift bar 131 is mounted therebetween. and a guide unit 140 having a pair of rotating rollers 141 that rotate while being supported.

가이드부(140)는 스테이지(120)의 바닥면에 설치되는 제1 및 제2 고정부재(142a,142b)에 각각의 회전롤러(141)가 축 고정되어 있는데, 회전롤러(141) 각각은 리프트바(131)의 일측면 및 타측면에 접촉되며, 리프트바(131)의 상승 또는 하강 동작에 의해 회전롤러(141)가 시계방향 또는 반시계방향으로 회전하게 된다. 회전롤러(141)는 롤러를 비롯한 베어링 등일 수 있으나, 이에 한정되지 않고 리프트바(131)의 일측면 및 타측면과 접촉된 상태로 회전 가능한 다양한 수단이 사용될 수 있다.In the guide unit 140 , each rotating roller 141 is shaft-fixed to the first and second fixing members 142a and 142b installed on the bottom surface of the stage 120 , and each of the rotating rollers 141 is lifted. In contact with one side and the other side of the bar 131 , the rotary roller 141 rotates in a clockwise or counterclockwise direction by a rising or falling operation of the lift bar 131 . The rotating roller 141 may be a bearing including rollers, but is not limited thereto, and various means rotatable while in contact with one side and the other side of the lift bar 131 may be used.

가이드부(140)는 리프트바 모듈(130)이 승강구동부(150)에 의해 상승 및 하강하는 동작 중에, 기판(10)에 의한 하중 또는 외력에 의해 리프트바(131)의 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해질 경우, 회전롤러(141)가 리프트바(131)의 일측면 및 타측면과 접촉하게 되므로 리프트바(131)에 전달되는 충격을 완화할 수 있어, 리프트바(131)가 휘어지거나 부러져 파손되는 것을 방지할 수 있다. 이 뿐만 아니라 리프트바(131)가 휘어지면서 리프트바수용공(121)과의 접촉에 의해 간섭이 발생하는 것도 방지할 수 있다. The guide unit 140 provides a force or impact in the left and right directions of the lift bar 131 by a load or an external force from the substrate 10 while the lift bar module 130 is raised and lowered by the elevating driving unit 150 . When this is applied, since the rotary roller 141 comes into contact with one side and the other side of the lift bar 131 , the impact transmitted to the lift bar 131 can be alleviated, and the lift bar 131 is bent or broken and damaged can be prevented from becoming In addition to this, it is possible to prevent interference caused by contact with the lift bar receiving hole 121 while the lift bar 131 is bent.

한편, 도 2에 도시한 바와 같이, 스테이지(120)의 리프트바수용공(121)을 관통하여 상승 및 하강하는 리프트바 모듈(130)은 스테이지(120) 하부의 승강 프레임(160) 상에 지지된 상태로 승강구동부(150)의 승강 동작에 의해 승강 가능하게 된다.Meanwhile, as shown in FIG. 2 , the lift bar module 130 ascending and descending through the lift bar receiving hole 121 of the stage 120 is supported on the lifting frame 160 under the stage 120 . In this state, it is possible to elevate by the elevating operation of the elevating driving unit 150 .

도 4는 본 발명에 따른 기판 지지장치의 승강구동부를 나타내는 사시도이고, 도 5는 도 4의 승강구동부의 작동 구조를 나타내는 도면이다.FIG. 4 is a perspective view showing an elevating driving unit of the substrate supporting apparatus according to the present invention, and FIG. 5 is a view showing an operating structure of the elevating driving unit of FIG. 4 .

도 4 및 도 5에 도시한 바와 같이, 승강구동부(150)는 구동부(151), 직선이동부(152), 승강부(154) 및 연결부재(155)를 포함한다.4 and 5 , the lifting driving unit 150 includes a driving unit 151 , a linear moving unit 152 , a lifting unit 154 , and a connecting member 155 .

구동부(151)는 동력을 발생시키는 구동원으로 구성된다. The driving unit 151 is configured as a driving source for generating power.

직선이동부(152)는, 구동부(151)의 동력에 의해 회전 운동을 직선 운동을 변환시키도록 구성된다. 즉, 구동부(151)는 볼 스크류(152a)가 회전할 수 있도록 회전력을 제공한다. 여기서, 구동부(151)는 제어부(미도시)와 연결되어 있다.The linear movement unit 152 is configured to convert a rotational motion into a linear motion by the power of the driving unit 151 . That is, the driving unit 151 provides a rotational force so that the ball screw 152a can rotate. Here, the driving unit 151 is connected to a control unit (not shown).

또한, 볼 스크류(152a)는 양단이 서포트유닛(152b)에 의해 회전 가능하게 지지되어 있다.In addition, both ends of the ball screw 152a are rotatably supported by the support unit 152b.

볼 스크류(152a) 상에 연결되어 볼 스크류(152a)를 따라 이동 가능한 연결몸체(153)가 구비되는데, 이러한 연결몸체(153)는 볼 스크류(152a)의 회전으로 구동부(151)의 길이방향을 따라 직선 이동하면서 승강부들(154)에 동력을 전달할 수 있다. A connection body 153 that is connected on the ball screw 152a and is movable along the ball screw 152a is provided. This connection body 153 rotates the ball screw 152a in the longitudinal direction of the driving unit 151. Power may be transmitted to the lifting units 154 while moving along a straight line.

하나의 승강부(154)는 직선이동부(152)의 연결몸체(153)와 연결되어 승강 프레임(160)을 상승 및 하강하도록 구성된다.One lifting unit 154 is connected to the connecting body 153 of the linear moving unit 152 to raise and lower the lifting frame 160 .

승강부(154)는 연결몸체(153)에 연결되며 레일(154a-1)을 따라 직선 이동 가능한 이동판(154a)을 포함한다.The lifting unit 154 is connected to the connecting body 153 and includes a moving plate 154a that is linearly movable along the rail 154a-1.

또한, 승강부(154)는 이동판(154a) 상에 배치되며, 일측에 경사면(154b-1)이 형성된 경사면체(154b)를 포함하게 되는데, 경사면체(154b)는 이동판(154a)과 함께 일체로 직선 이동하게 되며, 경사면(154b-1)에 이동몸체(154c)가 상승 및 하강 이동 가능하게 경사레일(154b-2)을 구비하게 된다. In addition, the lifting unit 154 is disposed on the moving plate 154a, and includes an inclined surface body 154b having an inclined surface 154b-1 formed on one side thereof, and the inclined surface body 154b is a moving plate 154a and Together, they move together in a straight line, and the moving body 154c is provided with an inclined rail 154b-2 on the inclined surface 154b-1 so that the moving body 154c can move up and down.

그리고 이동몸체(154c)의 일측에 고정되어 이동몸체(154c)와 함께 상승 및 하강 이동하며 승강 프레임(160)을 상면에 지지하는 지지몸체(154d)가 구성된다. And it is fixed to one side of the moving body (154c) and moves up and down together with the moving body (154c), the support body (154d) for supporting the lifting frame 160 on the upper surface is configured.

이동몸체(154c)와 지지몸체(154d)는 제자리에서 상승 및 하강 동작을 반복하도록 구성된다. The movable body 154c and the support body 154d are configured to repeat the rising and falling motions in place.

이와 같이 구성된 승강부(154)는 스테이지(120) 하부에서 하나의 직선이동부(152)의 양측으로 복수개가 일렬 배치되어 있다.A plurality of lifting units 154 configured as described above are arranged in a line on both sides of one linear moving unit 152 under the stage 120 .

승강부(154)는 직선이동부(152)의 작동에 의해 연동하는 연결몸체(153)를 따라 승강부(154)의 이동판(154a)이 직선 이동하면서 이동몸체(154c)를 경사면체(154b)의 경사레일(154b-2)을 따라 상승 및 하강 이동시킴으로써, 이동몸체(154c)와 연결되는 지지몸체(154d)도 상승 및 하강 이동을 반복하도록 한다.The elevating unit 154 moves the moving plate 154a of the elevating unit 154 along the connecting body 153 interlocking by the operation of the linear moving unit 152 in a straight line while moving the moving body 154c to the inclined surface body 154b. ) by moving upward and downward along the inclined rail 154b-2, the support body 154d connected to the movable body 154c also repeats the upward and downward movement.

이와 같이 구성된 각각의 승강부(154)는 서로 연결부재(155)를 통해 연동 가능하도록 연결되어, 지지몸체(154d)에 의해 지지되는 판상의 승강 프레임(160)을 용이하게 상승 및 하강시키게 된다. 이때, 상기 연결부재(155)는 승강부(154)의 이동판들(154a)이 원활하게 연동 가능하도록 이동판(154a)끼리 링크 연결될 수 있다. Each of the lifting units 154 configured as described above is connected to each other so as to be interlocked with each other through the connecting member 155 , thereby easily raising and lowering the plate-shaped lifting frame 160 supported by the support body 154d. In this case, the connecting member 155 may be linked to each other by the moving plates 154a so that the moving plates 154a of the lifting unit 154 can be smoothly interlocked.

승강구동부(150)는, 승강 프레임(160)을 상승 및 하강시킴으로써, 승강 프레임(160) 상에 지지되는 복수의 리프트바 모듈(130)을 동일한 높이로 상승 및 하강시킬 수 있게 된다. 이때, 구동부(151)는 다단 동작이 가능한 서보 모터로서, 정밀한 위치 조정이 가능하여 기판(10)에 대한 리프트바(131)의 로딩 불량을 방지하게 된다. The lifting driving unit 150 may raise and lower the lifting frame 160 to raise and lower the plurality of lift bar modules 130 supported on the lifting frame 160 to the same height. In this case, the driving unit 151 is a servo motor capable of multi-stage operation, and it is possible to precisely adjust the position, thereby preventing a failure in loading the lift bar 131 with respect to the substrate 10 .

따라서, 본 발명에 의하면, 리프트바(131)를 양측면에서 지지하는 가이드부(140)를 구비하여, 기판(10)을 지지하는 리프트바(131)의 휨이나 부러짐 등의 파손을 방지할 수 있으며, 리프트바(131)가 휘어지면서 리프트바수용공(121)과의 접촉으로 인한 간섭 현상을 방지할 수 있도록 한다.Therefore, according to the present invention, by providing the guide portions 140 for supporting the lift bar 131 on both sides, it is possible to prevent damage such as bending or breaking of the lift bar 131 supporting the substrate 10 . , to prevent the interference phenomenon due to contact with the lift bar receiving hole 121 while the lift bar 131 is bent.

또한, 본 발명에 의하면, 복수의 리프트바(131)가 지지되어 있는 승강 프레임(160)을 일체로 승강시키는 하나의 승강구동부(150)를 구비하여 복수의 리프트바(131)가 동시에 동일한 높이로 승강할 수 있도록 함으로써, 기판(10)에 대한 리프트바(131)의 로딩 불량으로 인한 기판(10)의 품질 저하를 방지할 수 있게 된다.In addition, according to the present invention, a plurality of lift bars 131 are simultaneously provided with one lift driving unit 150 for elevating and lowering the lift frame 160 on which the plurality of lift bars 131 are supported, so that the plurality of lift bars 131 are simultaneously raised to the same height. By making it possible to elevate, it is possible to prevent deterioration of the quality of the substrate 10 due to a failure in loading of the lift bar 131 with respect to the substrate 10 .

상술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The above description of the present invention is for illustration, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the following claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention.

10 : 기판 100 : 기판 지지장치
110 : 본체 120 : 스테이지
130 : 리프트바 모듈 131 : 리프트바
132 : 지지유닛 140 : 가이드부
141 : 회전롤러 142a : 제1 고정부재
142b : 제2 고정부재 150 : 승강구동부
151 : 구동부 152 : 직선이동부
153 : 연결몸체 154 : 승강부
155 : 연결부재
10: substrate 100: substrate support device
110: body 120: stage
130: lift bar module 131: lift bar
132: support unit 140: guide part
141: rotary roller 142a: first fixing member
142b: second fixing member 150: elevating drive unit
151: driving unit 152: linear moving unit
153: connection body 154: elevating part
155: connecting member

Claims (7)

기판이 안착되는 스테이지;
상기 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어 상기 기판을 상기 스테이지 상에 로딩 또는 언로딩시키는 리프트바를 구비하는 리프트바 모듈;
상기 스테이지의 하부에서 상기 리프트바를 사이에 두고 리프트바의 측면에 접촉된 상태로 설치되어, 상기 리프트바를 지지하는 가이드부를 구비하는 가이드부; 및
복수의 상기 리프트바 모듈를 지지하는 승강 프레임을 상승 및 하강시키는 승강구동부를 포함하고,
상기 승강구동부는,
구동부의 동력에 의해 직선 이동하는 직선이동부; 및
상기 직선이동부와 연동하면서 상기 승강 프레임을 상승 및 하강시키는 복수의 승강부를 포함하며,
상기 승강부는 상기 스테이지 하부에서 하나의 상기 직선이동부의 양측으로 복수개가 일렬 배치되고,
상기 직선이동부의 작동에 의해 연동하는 각각의 상기 승강부들은 연결부재를 통해 연동 가능하도록 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 지지장치.
a stage on which the substrate is mounted;
a lift bar module installed to penetrate the stage in a vertical direction and having a lift bar for loading or unloading the substrate onto the stage;
a guide part installed in a state of being in contact with a side surface of the lift bar at the lower part of the stage with the lift bar interposed therebetween, the guide part having a guide part supporting the lift bar; and
Comprising an elevating driving unit for raising and lowering the elevating frame supporting the plurality of lift bar modules,
The elevating drive unit,
a linear moving unit that moves in a straight line by the power of the driving unit; and
A plurality of elevating units for raising and lowering the elevating frame while interlocking with the linear moving unit,
A plurality of the lifting units are arranged in a line on both sides of the one linear moving unit in the lower part of the stage,
Each of the elevating parts interlocked by the operation of the linear moving part is a substrate support device, characterized in that it is connected to be interlocked through a connecting member.
제1항에 있어서,
상기 가이드부는,
상기 리프트바를 사이에 두고 마주보도록 이격 설치되어, 상기 리프트바를 지지하면서 상기 리프트바의 이동에 따라 정회전 또는 역회전하는 한 쌍의 회전롤러; 및
상기 스테이지의 바닥면에 설치되며, 각각의 상기 회전롤러가 축 고정되는 제1 및 제2 고정부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지장치.
According to claim 1,
The guide part,
a pair of rotating rollers that are spaced apart to face each other with the lift bar interposed therebetween and rotate forward or reverse according to the movement of the lift bar while supporting the lift bar; and
and first and second fixing members installed on the bottom surface of the stage and to which the respective rotation rollers are axis-fixed.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 직선이동부는, 상기 구동부의 동력에 의해 회전 운동을 직선 운동을 변환시키며, 양단이 서포트유닛에 회전 가능하게 지지되는 볼 스크류로 이루어진 것을 특징으로 하는 기판 지지장치.
According to claim 1,
The linear moving part converts a rotational motion into a linear motion by the power of the driving part, and comprises a ball screw having both ends rotatably supported by the support unit.
제4항에 있어서,
상기 승강부는,
상기 직선이동부와 연결몸체에 의해 연결되며 레일을 따라 직선 이동 가능한 이동판;
상기 이동판 상에 배치되고 경사면에 경사레일을 구비하며 상기 이동판과 함께 직선 이동하는 경사면체;
상기 경사면체의 경사레일을 따라 상승 및 하강 이동 가능하게 구비되는 이동몸체; 및
상기 이동몸체에 고정되어 상기 이동몸체와 함께 상승 및 하강 이동하며 상기 승강 프레임을 상면에 지지하는 지지몸체를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 지지장치.
5. The method of claim 4,
The lifting unit,
a moving plate connected by the linear moving part and the connecting body and capable of moving in a straight line along the rail;
an inclined plane disposed on the moving plate, having an inclined rail on an inclined surface, and linearly moving together with the moving plate;
a movable body provided to be movable upward and downward along the inclined rail of the inclined plane; and
and a support body fixed to the movable body, moving up and down together with the movable body, and supporting the elevating frame on an upper surface.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 연결부재는 상기 승강부끼리 연동 가능하도록 각각의 상기 승강부의 이동판에 링크 연결되는 것을 특징으로 하는 기판 지지장치.
According to claim 1,
The connecting member is a substrate support device, characterized in that the linkage is connected to the moving plate of each of the lifting units to be interlocked with each other.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200210931Y1 (en) * 2000-08-09 2001-01-15 주식회사쎄믹스 Vertical moving mechanism for wafer prober station
JP2006068675A (en) 2004-09-03 2006-03-16 Seiko Epson Corp Lifter mechanism, drop discharge apparatus provided with the same and manufacturing method for electro-optic device, electro-optic device, and electronics
JP2010153644A (en) 2008-12-25 2010-07-08 Hiihaisuto Seiko Kk Elevating table
KR101432152B1 (en) * 2012-11-13 2014-08-22 삼성디스플레이 주식회사 Substrate supporting module

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101368819B1 (en) * 2011-12-20 2014-03-06 삼성디스플레이 주식회사 Device for transferring supporting substrate
KR101958694B1 (en) 2016-03-03 2019-03-19 에이피시스템 주식회사 Substrate supporting module for ELA apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR200210931Y1 (en) * 2000-08-09 2001-01-15 주식회사쎄믹스 Vertical moving mechanism for wafer prober station
JP2006068675A (en) 2004-09-03 2006-03-16 Seiko Epson Corp Lifter mechanism, drop discharge apparatus provided with the same and manufacturing method for electro-optic device, electro-optic device, and electronics
JP2010153644A (en) 2008-12-25 2010-07-08 Hiihaisuto Seiko Kk Elevating table
KR101432152B1 (en) * 2012-11-13 2014-08-22 삼성디스플레이 주식회사 Substrate supporting module

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