KR101432152B1 - Substrate supporting module - Google Patents

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KR101432152B1
KR101432152B1 KR20120128138A KR20120128138A KR101432152B1 KR 101432152 B1 KR101432152 B1 KR 101432152B1 KR 20120128138 A KR20120128138 A KR 20120128138A KR 20120128138 A KR20120128138 A KR 20120128138A KR 101432152 B1 KR101432152 B1 KR 101432152B1
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KR
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KR20120128138A
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KR20140062593A (en )
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김현중
이기웅
김성진
차은희
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
에이피시스템 주식회사
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Abstract

본 발명에 따른 기판 지지 모듈은 기판이 안착되는 스테이지, 적어도 일부가 상기 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어, 승하강함으로써, 상기 기판을 상기 스테이지 상에 로딩 및 언로딩시키는 지지대, 스테이지의 내부에서 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 하부 회전 부재를 구비하는 하부 회전 기구 및 스테이지의 내부에서 상기 하부 회전 기구 상측에 위치하며, 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 상부 회전 부재를 구비하는 제 1 상부 회전 기구를 포함한다. The substrate support according to the invention the module is installed to pass through the stages, at least some of the stages in which the substrate is mounted in the vertical direction, by elevating a support for loading and unloading on the stage the substrate, from the inside of a stage It is installed so as to face with a support between, and in the interior of the lower rotating mechanism and a stage having a first and second lower rotary members that rotate while supporting the support located above the lower rotation device, with a support between is installed so as to face, the first an upper rotation mechanism having the first and second upper rotary members that rotate while supporting the stand.
따라서, 본 발명의 실시형태들에 의하면, 기판의 로딩을 위해, 지지대가 상승 또는 하강하는 동작 중에, 기판에 의한 하중 또는 외력에 의해 지지대에 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해지는 경우, 상기 지지대를 지지하고 있는 하부 회전 기구 및 지지 유닛이 고정되어 있지 않고, 유동적으로 움직일 수 있다. Therefore, according to the embodiments of the invention, when for the loading of the substrate, the support is raised and the lowering operation that, by the load or external force due to the substrate being a force or a shock is applied in the horizontal direction to the support, the support the support and the lower rotation mechanism and the supporting unit is not fixed, which can be moved in flux. 따라서, 지지대에 전달되는 충격을 완화할 수 있어, 상기 지지대가 휘거나 손상되는 것을 방지할 수 있다. Therefore, it is possible to alleviate the impact transmitted to the support, it is possible to prevent the support to be bent or damaged.

Description

기판 지지 모듈{SUBSTRATE SUPPORTING MODULE} A substrate support module {SUBSTRATE SUPPORTING MODULE}

본 발명은 기판 지지 모듈에 관한 것으로, 기판을 로딩 및 언로딩하는 지지대의 손상을 방지하고, 상기 지지대의 수명을 연장시킬 수 있는 기판 지지 모듈에 관한 것이다. The present invention prevents damage of the support for that, the loading and unloading of the substrate on the substrate support module, and relates to a substrate support module, which can prolong the life of the carrier.

일반적으로 기판을 어닐링하는 ELA(Eximer Laser Annealing) 장치는 챔버, 챔버 내부에 배치되며, 그 상부에 기판이 안착, 지지되는 기판 지지 모듈, 챔버 외부에 배치되며, 레이저 빔을 발생하는 레이저 발생기, 챔버의 일측벽 예컨대, 상부벽에 설치되며, 레이저 빔을 투과시키는 투과창 및 챔버의 외부에서 레이저 발생기와 투과창 사이에 마련된 반사경을 포함한다. ELA (Eximer Laser Annealing) device which generally annealing the substrate is disposed within the chamber, the chamber, and the substrate is mounted, disposed on a substrate support module, the outer chamber is supported at its upper portion, a laser generator, a chamber for generating a laser beam one side wall for example, is installed on the top wall of and outside of the transmission window and chamber to transmit the laser beam comprises a mirror disposed between the laser generator and the transmission window. 또한, 기판 지지 모듈은 기판이 안착되는 스테이지, 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어, 기판을 로딩 또는 언로딩시키는 리프트 바, 리프트 바를 승하강시키는 승하강 플레이트를 포함한다. Further, the substrate support module includes elevating plate to the lifting bar, elevating the lift bar of the substrate is a stage, the stage is mounted is provided so as to penetrate in the vertical direction, the loading or unloading the substrate. 여기서, 리프트 바는 일반적으로 금속으로 제조된다. Here, the lifting bar is usually made of a metal.

한편, 기판을 스테이지 상에 로딩시키거나, 스테이지 상에 안착된 기판을 스테이지로부터 언로딩시키기 위해서는 리프트 핀이 기판을 지지하여 상승 또는 하강하는 동작이 수행된다. On the other hand, in order to load the substrate on the stage, or to unload a substrate mounted on the stage from the stage to support the substrate lift pin it is carried out an operation for raising or lowering. 그런데, 금속으로 이루어진 복수의 리프트 바가 기판을 지지한 상태로 상승 또는 하강하는 동작 중에 상기 리프트 바에 의해 기판에 스크래치가 발생되는 문제가 발생되었다. However, it was a problem that scratching the substrate by the lift bar among the plurality of the operation of the lifting bar at the rise or fall in a state of supporting a substrate made of a metal.

이에, 고분자 수지를 이용하여 리프트 바 전체를 제조하였으나, 고분자로 이루어진 리프트 바는 기판의 승하강 시에 휘는 현상이 발생되어 스테이지와 마찰이 일어나는 문제가 발생되었다. Thus, by using a polymer resin was prepared in the full lift bar and the lifting bar made of a polymer is generated a phenomenon bent at the time of elevating the substrate was caused a problem that the stage and the friction that occurs. 따라서, 리프트 바를 주기적으로 교체해 주어야 하는 번거로움이 있다. Thus, there is a need to periodically replaced with the hassle of bar lift.

또한, 일반적으로 기판을 지지하는 리프트 바는 유동적으로 움직일 수 없을 정도로 단단하게 고정되어 있다. In addition, the lifting bar that generally support the substrate is firmly fixed so you can not move fluidly. 이에, 기판의 로딩을 위해 리프트 바가 상승 또는 하강하는 동작중에 기판에 의한 하중 또는 외력에 의해 리프트 바가 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해지게 되면, 상기 리프트 바에 그대로 그 충격이 전해져, 상기 리프트 바가 휘어지는 문제가 발생된다. Therefore, when by the load or external force due to the substrate during operation of the lift bar is raised and lowered to the loading of the substrate with the lifting bar becomes a force or impact is applied in the lateral direction, as it is the shock of the bar the lift transmitted, issues the lifting bar bent It is generated.

한국공개특허 제10-2004-0115542호에는 서셉터를 통과하여 상헤드를 상하운동시키는 바디(body)로 형성된 리프트 바(lift bar)가 개시되어 있는데, 여기서 리프트 바는 유동적으로 움직일 수 없도록 고정되어 있는 상태이며, 이와 같은 경우 상술한 바와 같이 기판에 의한 하중 또는 외력에 의해 리프트 바가 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해지게 되면, 상기 리프트 바에 그대로 그 충격이 전해져, 상기 리프트 바가 휘어지는 문제가 발생된다. Korea Patent Publication No. 10-2004-0115542 discloses a stand there through the susceptor lift bar (lift bar) formed of a body (body) is disclosed that up-and-down motion of the head, where the lifting bar is fixed so as to move fluid a state in which, on the other lift by the load or external force due to the substrate as described above, a bar when become a force or impact is applied in the horizontal direction a case, as it is the shock of the bar the lift transmitted, a problem wherein the lifting bar at the bending is generated.

한국공개특허 10-2004-0115542호 Korea Patent Publication No. 10-2004-0115542

본 발명은 기판을 로딩 및 언로딩하는 지지대의 손상을 방지하고, 수명을 연장시킬 수 있는 기판 지지 모듈을 제공한다. The present invention prevents damage of the support for loading and unloading a substrate, and provides a substrate support module, which can prolong the life.

또한, 본 발명은 지지대를 유동 가능하게 지지할 수 있는 기판 지지 모듈을 제공한다. The present invention also provides a substrate support module to support a support enabling flow.

본 발명에 따른 기판 지지 모듈은 기판이 안착되는 스테이지; A substrate support module in accordance with the present invention is the stage in which the substrate is mounted; 적어도 일부가 상기 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어, 승하강함으로써, 상기 기판을 상기 스테이지 상에 로딩 및 언로딩시키는 지지대; At least part of the support is installed to pass through the stage in the vertical direction, by elevating, loading and unloading on the substrate the stage; 상기 스테이지의 내부에서 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 하부 회전 부재를 구비하는 하부 회전 기구; It is installed so as to face across a support in the interior of the stage, the lower the rotation mechanism having a first and second lower rotary members that rotate while supporting the support; 및 상기 스테이지의 내부에서 상기 하부 회전 기구 상측에 위치하며, 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 상부 회전 부재를 구비하는 제 1 상부 회전 기구; And the first upper rotating mechanism having a first and a second upper rotary member which rotates in the interior of the stage positioned on the upper side of the lower rotating mechanism, is installed so as to face with a support between, while supporting the support;

상기 지지대는 금속으로 이루어진 하부 몸체 및 상기 하부 몸체의 상부에 결합되어 상기 기판을 지지하는 상부 몸체로 이루어지고, 상기 상부 몸체는 고분자로 이루어진다. The support is coupled to the upper portion of the lower body and the lower body made of a metal is made of the upper body for supporting the substrate, wherein the upper body comprises a polymer.

상기 스테이지의 내부에서 상기 하부 회전 기구와 제 1 상부 회전 기구 사이에 위치하며, 상기 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 3 및 제 4 상부 회전 부재를 구비하는 제 2 상부 회전 기구를 포함한다. Inside of the stage first to a third and fourth upper rotary member for rotation, and located between the lower rotating mechanism and the first upper rotating mechanism, it is installed so as to face sandwiching the support, while supporting the supporter 2 includes an upper rotation mechanism.

상기 제 1 상부 회전 기구의 제 1 및 제 2 상부 회전 부재와 제 2 상부 회전 기구의 제 3 및 제 4 회전 부재 각각은 상기 하부 회전 기구의 제 1 및 제 2 하부 회전 부재에 비해 작은 크기이다. The first the first and the second the third and the fourth rotary member, each of the upper rotary member and the second upper rotation mechanism of the upper rotary mechanism is smaller than the first and the second lower rotary member of said lower rotary apparatus.

상기 하부 회전 기구의 제 1 및 제 2 하부 회전 부재, 제 1 상부 회전 기구의 제 1 및 제 2 상부 회전 부재, 제 2 상부 회전 기구의 제 3 및 제 4 회전 부재 각각은 베어링(bearing) 이다. The first and third and the fourth rotary member, each of the second lower rotary member, a first and a second upper rotary member, the second upper rotation of the upper rotating mechanism mechanism of the lower rotating mechanism is a bearing (bearing).

일단이 상기 제 1 및 제 2 하부 회전 부재 중 어느 하나와 연결되어, 상기 제 1 및 제 2 하부 회전 부재 중 어느 하나에 유격(裕隔)을 제공하여, 유동될 수 있도록 하는 제 1 유동 기구를 포함한다. Once the first is associated with any one of the first and second lower rotary members, to provide a clearance (裕 隔) as in any one of the first and second lower rotary member, a first flow mechanism to ensure that the flow It includes.

상기 제 1 유동 기구는 일단이 상기 제 1 및 제 2 하부 회전 부재 중 어느 하나와 연결된 스프링(spring)을 포함한다. The first flow mechanism is one including the first and second springs associated with any one of the second lower rotary member (spring).

상기 하부 회전 기구의 제 1 하부 회전 부재, 제 1 상부 회전 기구의 제 1 상부 회전 부재, 제 2 상부 회전 기구의 제 3 상부 회전 부재는 지지대의 일측면과 접촉한 상태로 회전하고, 상기 하부 회전 기구의 제 2 하부 회전 부재, 제 1 상부 회전 기구의 제 2 상부 회전 부재, 제 2 상부 회전 기구의 제 4 상부 회전 부재는 지지대의 타측면과 접촉한 상태로 회전한다. The first lower rotary member, a first upper rotary member, the second the third upper rotating member is rotated, and the lower rotating in contact with one side of the support of the upper rotation mechanism of the upper rotation mechanism of the lower rotating mechanism the second lower rotary member, the second upper rotary member of the fourth upper member, the second upper rotation mechanism of the upper rotary mechanism of the device is rotated in contact with the other surface of the support.

상기 지지대의 하부와 연결되어 상기 지지대를 지지하고, 상기 지지대에 유격을 제공하여 유동될 수 있도록 하는 제 2 유동 기구를 포함한다. And a second flow mechanism which is connected to the lower portion of the support and supporting the support, so as to be floating to provide a clearance on the support.

상기 지지대의 하부가 삽입 설치되는 고정 블럭 및 상기 고정 블럭의 하부에 연결되어, 상기 고정 블럭을 유동시키는 유동 부재를 포함한다. It is connected to the lower portion of the fixed block and the fixed block the lower part of the support is inserted into the installation, and a fluid flow member for the fixed block.

상기 고정 블럭은 상기 지지대 하부의 일측면과 접촉되도록 설치된 제 1 블럭 및 상기 제 1 블럭과 마주보며, 상기 지지대의 타측면과 접촉되도록 설치된 제 2 블럭을 포함하고, 상기 유동 부재는 상기 제 1 블럭 및 제 2 블럭 중 어느 하나의 하부에 연결된다. The fixing block is facing the first block and the first block is installed to be in contact with one side of the supporter lower portion, and a second block is installed in contact with the other surface of the support, the flow member is the first block and a is connected to one of the lower of the two blocks.

상기 제 2 유동 기구의 유동 부재는 상기 고정 블럭의 하부에 삽입되며, 적어도 일부가 상기 고정 블럭의 하측으로 돌출되도록 설치된 볼(ball)을 포함한다. Flow member of the second flow mechanism includes a ball (ball) to be installed is inserted into the lower portion of the fixed block, at least a portion projecting in a lower side of the fixed block.

본 발명의 실시형태들에 따른 지지대는 금속으로 이루어진 하부 몸체 및 하부 몸체의 상부에 결합되며 고분자로 이루어진 상부 몸체로 이루어진다. Support according to the embodiments of the present invention is coupled to the upper portion of the lower body and a lower body made of a metal composed of a top body made of polymer. 이에, 금속으로 이루어진 하부 몸체에 의해 기판의 하중에 의해 휘어지는 것을 최소화할 수 있고, 기판과 직접 접촉되는 상부 몸체를 고분자로 제조함으로써, 기판과 접촉시 상기 기판에 스크래치 또는 파티클이 발생하는 것을 최소화 할 수 있다. Thus, by a lower body made of a metal it can minimize the bending by the weight of the substrate, by making the upper body is in direct contact with the substrate with a polymer, to minimize the risk of scratches or generation of particles on the substrate and the substrate upon contact can.

또한, 기판의 로딩을 위해, 지지대가 상승 또는 하강하는 동작 중에, 기판에 의한 하중 또는 외력에 의해 지지대에 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해지는 경우, 상기 지지대를 지지하고 있는 하부 회전 기구 및 지지 유닛이 고정되어 있지 않고, 유동적으로 움직일 수 있다. Furthermore, for the loading of the substrate, if the support is to be a force or impact is applied in the horizontal direction to the support by a load or external force caused by the operation for raising or lowering a substrate, a bottom which supports the stand rotation mechanism and support unit but it is not fixed, you can move fluidly. 따라서, 지지대에 전달되는 충격을 완화할 수 있어, 상기 지지대가 휘거나 손상되는 것을 방지할 수 있다. Therefore, it is possible to alleviate the impact transmitted to the support, it is possible to prevent the support to be bent or damaged.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 블록도 1 is a block diagram showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention;
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 지지 모듈의 스테이지와 지지대를 도시한 입체 도면 Figure 2 is a three-dimensional view showing the stage and the support of the substrate support module according to an embodiment of the present invention
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 지지대를 도시한 입체 도면 A Figure 3 shows a support according to an embodiment of the invention the three-dimensional figure
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 하부 회전 기구, 제 1 및 제 2 상부 회전 기구, 제 1 유동 기구, 지지 유닛을 설명하기 위한 단면도 Figure 4 is a sectional view illustrating a lower rotation mechanism, the first and second upper rotation mechanism, the first flow mechanism, the support unit according to an embodiment of the present invention
도 5 및 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판 지지 모듈에 의해 기판이 승하강하는 모습을 도시한 도면 5 and 6 are seungha drops the substrate by the substrate support module according to an embodiment of the present invention is a view showing a state

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다. With reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention; 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. However, the present invention is not limited to the embodiments set forth herein will be embodied in many different forms, but the embodiments are the scope of the invention to those skilled in the art, and the teachings of the present invention to complete It will be provided to fully inform.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 도시한 블록도이다. Figure 1 is a block diagram showing a substrate processing apparatus according to an embodiment of the invention. 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 기판 지지 모듈의 스테이지와 지지대를 도시한 입체 도면이다. Figure 2 is a three-dimensional view showing the stage and the support of the substrate support module according to an embodiment of the present invention. 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 지지대를 도시한 입체 도면이다. Figure 3 is a three-dimensional view showing a supporter in the embodiment; 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 하부 회전 기구, 제 1 및 제 2 상부 회전 기구, 제 1 유동 기구, 지지 유닛을 설명하기 위한 단면도이다. Figure 4 is a sectional view illustrating a lower rotation mechanism, the first and second upper rotation mechanism, the first flow mechanism, the support unit in the embodiment;

실시예에 따른 기판 처리 장치는 기판 상에 형성된 비정질막을 결정화하는 어닐링 장치로서, 예컨대, ELA(Eximer Laser Annealing) 장치이다. The substrate processing apparatus according to the embodiment is an annealing apparatus for crystallizing amorphous film formed on a substrate, for example, an ELA (Eximer Laser Annealing) apparatus. 이러한 기판 처리 장치는 도 1에 도시된 바와 같이, 기판(S)을 처리하는 내부 공간을 가지는 챔버(100), 챔버(100) 내부에 배치되며, 그 상부에 기판(S)이 안착, 지지되는 기판 지지 모듈(400), 챔버(100) 외부에 배치되며, 레이저 빔을 발생하는 레이저 발생기(300), 챔버(100)의 일측벽 예컨대, 상부벽에 설치되며, 레이저 빔을 투과시키는 투과창(110) 및 챔버(100)의 외부에서 레이저 발생기와 투과창(110) 사이에 마련된 반사경(200)을 포함한다. The substrate treatment apparatus as shown in Figure 1, disposed within the chamber 100, chamber 100 having an internal space for processing a substrate (S), the substrate (S) is seated thereon, the support being the transmission window to a substrate support module 400 is disposed outside the chamber 100, is installed on one side wall for example, the upper wall of the laser generator 300, a chamber 100 for generating a laser beam, passes through the laser beam ( 110) and on the outside of the chamber 100 including the reflecting mirror 200 disposed between the laser generator and the transmission window (110).

여기서, 챔버(100), 레이저 발생기(300), 투과창(110) 및 반사경(200)은 일반적인 ELA(Eximer Laser Annealing) 장치의 구성 및 구조와 유사하므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. Here, since the chamber 100, a laser generator 300, a transmission window 110, and reflecting mirror 200 is similar to the configuration and structure of a general ELA (Eximer Laser Annealing) apparatus, a detailed description thereof will be omitted.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 기판 지지 모듈(400)은 상부에 기판(S)이 안착 되며, 공정 진행 방향으로 수평 이동이 가능한 스테이지(410), 스테이지(410)를 상하 방향으로 관통하도록 삽입 설치되어 승하강 함으로써, 기판(S)의 로딩(Loading) 및 언로딩(unloading)을 수행하는 지지대(470), 스테이지(410)의 내부에서 지지대(470)를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대(470)를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 하부 회전 부재(440a, 440b)를 구비하는 하부 회전 기구(440), 스테이지(410)의 내부에서 상기 하부 회전 기구(440) 상측에 위치하며, 지지대(470)를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대(470)를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 상부 회전 부재(420a, 420b)를 구비하는 제 1 상부 회전 기구(420), 스테이지(410)의 내부에서 하부 회전 기구(440)와 제 1 상부 회전 Referring to Figure 1 to Figure 4, the substrate holding module 400 is inserted into the substrate (S) and the seat, capable of stage 410 horizontally moves to the process advancing direction, the stage 410 to the upper so as to penetrate in the vertical direction installed is installed so as to face across a load (Loading) and unloading (unloading) support 470, a support 470 in the interior of the stage 410 for performing the by elevating the substrate (S), wherein inside the lower rotating mechanism 440, the stage 410 having the first and second lower rotary members (440a, 440b) to rotate while supporting the supporter (470) and located above said lower rotating mechanism 440 , is left installed to face between the supports 470, the first upper rotating mechanism 420, the stages having a first and a second upper rotary member (420a, 420b) that rotates while supporting the support (470) inside the lower rotation (410) mechanism 440 and the first upper rotary 구(420) 사이에 위치하며, 지지대(470)를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대(470)를 지지하면서 회전하는 제 3 및 제 4 상부 회전 부재(430a, 430b)를 구비하는 제 2 상부 회전 기구(430)를 포함한다. Sphere 420 is positioned between, is installed so as to face across the support 470, the second to a third, and fourth upper rotary members (430a, 430b) to rotate while supporting the supporter (470) It includes an upper rotation mechanism (430). 또한, 하부 회전 기구(440)를 구성하는 제 1 및 제 2 하부 회전 부재(440b) 중 어느 하나와 연결되도록 설치되어, 어느 하나의 하부 회전 부재(440a 및 440b 중 어느 하나)가 유동될 수 있도록 자유도를 부여하는 제 1 유동 기구(480), 지지대(470)의 하부와 연결되어 상기 지지대(470)를 지지하며, 지지대(470)가 유동될 수 있도록 자유도를 부여하는 제 2 유동 기구(453)를 구비하는 지지 유닛(450), 상기 지지대(470)를 승하강시키는 승하강 플레이트(460)를 포함한다. In addition, of the first and second lower rotary member (440b) constituting the lower rotating mechanism 440 is installed to be connected with any one, so that the (one of 440a and 440b) one of the lower rotary member can flow It is connected to the lower portion of the first flow mechanism 480, a support 470, which imparts a degree of freedom second flow mechanism 453 to give a degree of freedom, and supporting the supporter 470, so that the support 470 can flow and a supporting unit 450, the elevating plate 460 for elevating the support (470) having a. 그리고, 도시되지는 않았지만, 스테이지(410)를 수평 이동 또는 승하강 시키는 제 1 구동부 및 승하강 플레이트(460)를 승하강시키는 제 2 구동부를 포함한다. Then, the city is not a second driving part but, elevating the first driving unit and the elevating plate (460) for horizontally moving or elevating the stage 410.

스테이지(410)는 피처리물인 기판(S)을 안착 또는 고정시키는 수단으로, 실시예에 따른 스테이지(410)는 사각형의 플레이트의 형상이다. Stage 410, the stage 410 according to the embodiment, the means for mounting or securing the substrate (S) is water to be treated is a shape of a rectangular plate. 하지만, 스테이지(410)의 형상은 이에 한정되지 않고 기판과 대응되는 다양한 형상으로 제조될 수 있다. However, the shape of the stage 410 is not limited to this can be made into various shapes corresponding to the substrate. 또한, 스테이지(410)에는 진공 흡입 채널(411) 및 가스 벤트 채널(412)이 마련되는데, 실시예에서는 중앙부에 진공 흡입 채널(411)이 형성되고, 상기 중앙부를 제외한 영역에 격자 형태의 가스 벤트 채널(412)이 마련된다. In addition, the stage 410 is there is provided with a vacuum channel 411 and the gas vent channels 412, the embodiment, the vacuum channel 411 is formed in the central portion, the lattice form in a region excluding the central portion of the gas vent the channel 412 is provided. 여기서, 진공 흡입 채널(411)은 외부에 별도로 마련된 진공 펌프(미도시)와 연결되며, 펌프의 펌핑력에 의해 진공 흡입 채널(411)에 흡입력이 발생 되어, 기판(S)이 스테이지 상에 흡착 및 안착 된다. Here, the vacuum channel 411 is connected with a vacuum pump (not shown) provided separately on the outside, by the pumping force of the pump is generating the suction force to the vacuum channel 411, the substrate (S) is absorbed on the stage and it is seated. 또한, 가스 벤트 채널(412)은 스테이지(410) 상에 기판(S)이 안착 되었을 때, 기판(S)과 스테이지(410) 사이에 잔류하는 가스 예컨대, 에어가 흘러서 빠져나갈 수 있도록 하는 역할을 한다. Further, the gas vent channel 412 serves to ensure that the substrate (S) as a gas for example, air remaining between the stage (410) when the substrate (S) on the pedestal (410) mounted to flow can escape do.

상기에서는 스테이지(410) 상에 기판을 고정시키는 수단으로 진공 흡입 채널(411)을 예를 들어 설명하였다. In the above-described, for example, the vacuum channel 411, as a means of holding a substrate on a stage 410. The 하지만 이에 한정되지 않고 기판(S)을 스테이지(410) 상에 지지 고정시킬 수 있는 다양한 수단이 사용될 수 있으며, 예를 들어 스테이지(410)가 정전척일 수 있다. However, this is not limited, and a variety of means to secure the supporting substrate (S) on the stage 410 can be used, for example, the stage 410 can cheokil power failure.

또한, 스테이지(410)의 가장 자리에는 상기 스테이지(410)의 상측으로 돌출되도록 위치 지정 핀(490)이 설치될 수 있다. In addition, the edge of the stage 410 may be a positioning pin 490 so as to project to the upper side of the stage 410 is installed.

지지대(470)는 스테이지(410) 상으로 기판(S)을 로딩시키거나, 스테이지(410) 상에 안착된 기판(S)을 언로딩시키는 것으로, 그 단면의 형상이 사각형인 플레이트(plate) 또는 바(bar) 형상이다. Support 470 is the stage 410 a as to load the substrate (S), or the stage 410 is shown to unload the substrate (S) mounted on, the plate (plate) shape is rectangular in its cross-section or a bar (bar) shape. 이러한 지지대(470)는 적어도 일부가 스테이지(410)를 상하 방향으로 관통하도록 삽입 설치되어, 상기 스테이지(410) 내부에서 승하강 한다. The support 470 is inserted at least partially installed to pass through the stage 410 in the vertical direction, the elevating inside the stage 410.

또한, 실시예에 따른 지지대(470)는 도 3에 도시된 바와 같이, 하부 몸체(471) 및 하부 몸체(471)의 상부에 결합되며, 그 상부에 기판(S)이 지지되는 상부 몸체(472)로 이루어진다. Further, the embodiment as the support 470 is shown in Figure 3, in accordance for example, the lower body 471 and a bottom coupled to the upper portion of the body 471, the upper substrate (S) is the upper body is supported (472 in ) it made of a. 즉, 지지대(470)는 하부 몸체(471)의 상측으로 상부 몸체(472)가 돌출되도록 결합된다. That is, a support 470 is coupled to the upper body 472 is projected to the upper side of the lower body (471). 여기서, 하부 몸체(471)는 기판(S)의 로딩 및 언로딩 시에 상기 기판(S)을 지탱할 수 있도록 강성이 우수한 금속으로 이루어 진다. Here, the lower body 471 is made of metal having excellent rigidity to support the substrate (S) at the time of loading and unloading of the substrate (S). 그리고, 상부 몸체(472)는 상술한 바와 같이 기판(S)과 직접 접촉되는 부분으로, 상기 기판(S)에 스크래치(scratch)와 같은 손상을 최소화하기 위해, 고분자 재료로 이루어진다. Then, the upper body 472 is to minimize damage to the substrate, such as a part that is in direct contact with the (S), a scratch (scratch) on the substrate (S) as described above, made of a polymer material. 이때, 하부 몸체(471)는 기판(S)의 무게를 지탱할 수 있도록 강성을 가질 수 있어야 하고, 상부 몸체(472)는 기판(S)과 용이하게 접촉되어 지지될 수 있어야 하므로, 상부 몸체(472)가 불필요하게 클 필요는 없다. At this time, since the lower body 471 must have rigidity to support the weight of the substrate (S), and the upper body 472 is able to be supported in contact facilitates the substrate (S), the upper body (472 ) it is not unnecessarily large need. 이에, 상부 몸체(472)가 하부 몸체(471)에 비해 작게 제작되는 것이 바람직하며, 하부 몸체(471)는 기판(S)을 지탱할 수 있을 정도의 강성을 가지면서, 스테이지(410) 내, 외부에서 용이하게 삽입되어 승하강 할 수 있는 크기로 제작되는 것이 더욱 바람직하다. Thus, the upper and the body 472 is preferably made smaller than the lower body 471, lower body 471 has internal and external while having a rigidity enough to support the substrate (S), the stage 410 it is easily inserted in and more preferably is made of W that can be lowered size.

따라서, 본 발명의 지지대(470)는 금속으로 이루어진 하부 몸체(471)에 의해 기판(S)의 로딩 및 언로딩 시에 기판(S)의 하중에 의해 휘어지는 것을 방지할 수 있고, 기판(S)과 직접 접촉되는 상부 몸체(472)를 고분자를 이용함으로써, 기판(S)과 접촉시 상기 기판(S)에 스크래치 또는 파티클이 발생하는 것을 최소화 할 수 있다. Thus, a support 470 of the present invention can be prevented at the time of loading and unloading of the substrate (S) by the lower body (471) made of metal bent by the weight of the substrate (S), the substrate (S) by using the upper body 472 to be in direct contact with the polymer, it is possible to minimize the generation of particles or scratches on the substrate (S) the substrate (S) in contact with.

또한, 상술한 지지대(470)는 도 2에 도시된 바와 같이 복수개로 마련되어, 상호 이격 배치되며, 등간격으로 이격 배치되는 것이 바람직하다. Further, provided in a plurality, as discussed above a support 470 is shown in Figure 2, it is arranged spaced apart from each other, and are preferably disposed equally spaced. 실시예에서는 도 1에 도시된 바와 같이 복수개의 지지대(470)를 마련하여, 스테이지(410)의 중앙부, 양 가장자리부에 대응 설치하였다. Embodiment was provided by a providing a plurality of supports (470), corresponding to the central portion, both side portions of the stage 410 as shown in FIG. 하지만 이에 한정되지 않고, 스테이지(410)의 양 가장자리부에 지지대(470)가 설치되고 중앙부에는 리프트 핀(미도시)이 설치되거나, 중앙부에 지지대(470)가 설치되고, 가장자리 리프트 핀(미도시)이 설치될 수 있다. However, this is not limited, and a support (470) installed on both side portions of the stage (410) central portion or the lift pins (not shown) is installed, and the support 470 installed on the center portion, the edge of the lift pin (not shown ) it can be installed.

도 4를 참조하면, 하부 회전 기구(440)는 지지대(470)를 사이에 두고 상호 마주보도록 설치되며, 회전 가능한 제 1 하부 회전 부재(440a)와 제 2 하부 회전 부재(440b)를 포함한다. 4, the lower rotating mechanism 440 are installed's face each other across the support 470 and includes a rotatable first lower rotary member (440a) and the second lower rotary member (440b). 여기서, 제 1 하부 회전 부재(440a)는 지지대(470)의 일측면과 접촉되고, 제 2 하부 회전 부재(440b)는 상기 지지대(470)의 타측면과 접촉되며, 지지대(470)의 상승 또는 하강 동작에 의해 제 1 및 제 2 회전 부재(420a, 420b)가 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전한다. Here, the first lower rotary member (440a) is in contact with one side of the support 470, the second lower rotary member (440b) is in contact with the other surface of the support 470, the rising of the support 470, or and the first and second rotating members (420a, 420b) by the lowering operation rotates in the clockwise or counterclockwise direction. 실시예에 따른 제 1 및 제 2 하부 회전 부재(440b)는 베어링(bearing)이나, 이에 한정되지 않고 지지대의 일측면 및 타측면과 접촉된 상태로 회전 가능한 다양한 수단, 예컨대 볼(ball)이 사용될 수 있다. According to an embodiment the first and the second lower rotary member (440b) is a bearing (bearing) and, thus is not limited rotation in contact with the one side surface and the other surface of the support available various means, such as ball (ball) is used can.

제 1 유동 기구(480)는 하부 회전 기구(440)를 구성하는 제 1 하부 회전 부재(440a)와 제 2 하부 회전 부재(440b) 중 어느 하나와 연결되어, 지지대(470)의 승하강 시에 어느 하나의 하부 회전 부재(440a, 440b 중 어느 하나)에 유격(裕隔)을 발생시켜 자유도를 부여함으로써, 유동될 수 있도록 한다. Claim when elevating the first flow mechanism 480 is the first lower rotary constituting the lower rotating mechanism 440 member (440a) and the second lower rotary member (440b) is in connection with any one of the support 470, which generates one of the lower rotary member clearance (裕 隔) to (440a, 440b either a) so that they can be given a degree of freedom by the flow. 하기에서는, 제 1 유동 기구(480)가 제 1 하부 회전 부재(440a)에 연결된 것을 예를 들어 설명한다. In the following, the first flow mechanism 480 will be described, for example, that associated with the first lower rotary member (440a).

제 1 유동 기구(480)는 스테이지(410)의 내부에서 제 1 하부 회전 부재(440a)의 후방(제 2 하부 회전 부재(440b)와 마주 보는 방향을 전방이라 하고, 그 반대 방향으로 후방이라 함)에 위치하여, 일단이 제 1 하부 회전 부재(440a)와 연결된 제 1 지지 블럭(481), 제 1 지지 블럭(481)의 후방에서 상기 제 1 지지 블럭(481)과 이격 되도록 설치된 제 2 지지 블럭(482), 일단이 제 1 지지 블럭(481)에 삽입되고, 타단이 제 2 지지 블럭(482)에 삽입되도록 설치된 연결 부재(483), 연결 부재(483)를 권취 하도록 설치되며, 일단이 제 1 지지 블럭(481)에 고정되고 타단이 제 2 지지 블럭(482) 내부에 고정된 탄성 부재(484)를 포함한다. A first flow mechanism 480 is referred to as a rear inside of the stage 410 toward the rear (the second lower rotary member (referred to as a direction opposed to the 440b) forward, and the direction opposite to the first lower rotary member (440a) ) located at one end a first lower rotary member (440a) and connected to the first support block (481), a second support at the rear of the first support block (481) installed to be spaced apart from the first support block (481) block 482, once the first is inserted into the first support block (481), the other end is disposed so as to wind the second support block connections installed to be inserted into the 482 members 483, connecting member 483, one end is fixed to the first support block 481 and to the other end comprises an elastic member (484) fixed within the second support block (482).

제 1 지지 블럭(481) 및 제 2 지지 블럭(482) 각각에는 연결 부재(483)가 삽입 수용될 수 있는 수용홈(485, 486)이 마련된다. A first support block 481 and a second support block 482. Each of the connecting members 483 are accommodated which can be accommodated insertion groove (485, 486) are provided. 그리고, 상술한 바와 같이 탄성 부재(484)는 연결 부재(483)의 외주면을 권취하도록 설치되는데, 제 1 지지 블럭(481)의 외측에 위치하여, 일단이 제 1 지지 블럭(481)에 고정되고, 타단이 제 2 지지 블럭(482)의 내벽과 고정되며, 실시예에서는 탄성 부재(484)로 스프링(spring)을 사용한다. And, there is provided so as to wound around the outer peripheral surface of the elastic member 484 is connected to member 483, as described above, the first located at the outer side of the support block 481, once the first is fixed to the first support block (481) and the other end is fixed to the inner wall of the second support block (482), the embodiment uses a spring (spring), a resilient member (484). 물론 탄성 부재(484)는 스프링(spring)에 한정되지 않고, 탄성력을 가지는 다양한 수단이 사용될 수 있다. Of course, the elastic member 484 is not limited to a spring (spring), it can be used a variety of means having an elastic force. 따라서, 지지대(470)가 상승 또는 하강하는 동작 중에, 기판(S)에 의한 하중 또는 외력에 의해 지지대(470)에 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해지면, 제 1 하부 회전 부재(440a)는 제 1 유동 기구(480)의 유격 및 탄성력에 의해 좌우 방향으로 소정 거리 유동 된다. Thus, the support 470 is in the operation of the rising or falling, when the force or impact in the horizontal direction is applied to the support 470 by a load or external force due to the substrate (S), the first lower rotary member (440a) is the the predetermined distance is flowed in the horizontal direction by the clearance and the elasticity of the first flow mechanism (480). 이에, 지지대(470)에 전달되는 충격을 완화할 수 있어, 상기 지지대(470)가 휘거나 손상되는 것을 방지할 수 있다. Thus, it is possible to alleviate the impact transmitted to the support 470, it is possible to prevent the support 470 is being bent or damaged.

상기에서는 제 1 유동 기구(480)가 제 1 하부 회전 부재(440a)에 연결되는 것을 설명하였으나, 이에 한정되지 않고 제 2 하부 회전 부재(440b)에 연결될 수 있다. In the above it may be connected to the first flow mechanism 480. The first lower rotary member has been described to be connected to (440a), not limited to the second lower rotatable member (440b).

상기와 같은 하부 회전 기구(440)의 상측에는 고정형의 상부 회전 기구(420, 430)가 설치되며, 상기 상부 회전 기구(420, 430)는 상하 방향으로 2열로 구성된다. And the upper side of the lower rotating mechanism 440 as described above, the upper rotation of the stationary apparatus 420 and 430 installed, the upper rotating mechanism (420, 430) is configured in two rows in the vertical direction. 즉, 상대적으로 상측에 위치하는 제 1 상부 회전 기구(420) 및 하측에 위치하는 제 2 상부 회전 기구(430)로 이루어진다. That is, it composed of a second upper rotation mechanism 430, which is located relative to the first upper rotating mechanism 420 which is located to the upper side and the lower side.

제 1 상부 회전 기구(420)는 스테이지(410) 내에서 하부 회전 기구(440)의 상측에 위치하며, 지지대(470)를 사이에 두고 마주보도록 설치된 제 1 상부 회전 부재(420a)와 제 2 상부 회전 부재(420b)를 포함한다. The first upper rotating mechanism 420 has the stage 410 is located on the upper side of the lower rotating mechanism 440 within a support 470 facing each other across a provided first upper rotary member (420a) and a second top and a rotary member (420b). 상기 제 1 및 제 2 상부 회전 부재(420a, 420b)는 스테이지(410)의 내부와 적어도 일부가 연결되도록 설치되어, 지지 고정될 수 있다. The first and second upper rotary member (420a, 420b) are installed so that the inside and at least a portion of the stage 410 is connected, it can be fixed to the support. 여기서, 제 1 상부 회전 부재(420a)는 지지대(470)의 일측면과 접촉되고, 제 2 상부 회전 부재(420b)는 상기 지지대(470)의 타측면과 접촉되며, 지지대(470)의 상승 또는 하강 동작에 의해, 제 1 및 제 2 상부 회전 부재(20a, 420b)가 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전한다. Here, the first upper rotary member (420a) is in contact with one side of the support 470, the second upper rotary member (420b) is in contact with the other surface of the support 470, the rising of the support 470, or by the lowering operation, the rotates in the first and second upper rotary member (20a, 420b) is either a clockwise or counterclockwise direction.

또한, 제 2 상부 회전 기구(430)는 스테이지(410)의 내부에서 하부 회전 기구(440)와 제 1 상부 회전 기구(420) 사이에 위치하며, 지지대(470)를 사이에 두고 마주보도록 설치된 제 3 상부 회전 부재(430a)와 제 4 상부 회전 부재(430b)를 포함하며, 상기 제 3 및 제 4 상부 회전 부재(430a, 430b)는 스테이지(410)의 내부와 적어도 일부가 연결되도록 설치되어, 지지 고정될 수 있다. In addition, the second the upper rotating mechanism 430 is located between the inside of the stage 410, the lower rotating mechanism 440 and the first upper rotating mechanism 420, is installed so as to face across a support (470) 3 comprises an upper rotary member (430a) and the fourth upper rotary member (430b), the third and fourth upper rotary members (430a, 430b) are installed so that the inside and at least a portion of the stage 410 is connected, the support can be fixed. 제 3 상부 회전 부재(430a)는 지지대(470)의 일측면과 접촉되고, 제 4 상부 회전 부재(430b)는 상기 지지대(470)의 타측면과 접촉되며, 지지대(470)의 상승 또는 하강 동작에 의해, 제 3 및 제 4 상부 회전 부재(430a, 430b)가 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전한다. The third upper rotary member (430a) is in contact with one side of the support 470, the fourth upper rotary member (430b) is raised and lowered operation is in contact with the other surface of the support 470, a support 470, the third and fourth upper rotary members (430a, 430b) by a rotates in the clockwise or counterclockwise direction.

이와 같이, 하부 회전 기구(440)의 상측에 제 1 및 제 2 상부 회전 기구(420, 430)가 위치하는데, 상기 제 1 및 제 2 상부 회전 기구(420, 430)는 스테이지(410)의 상부면과 인접하도록 위치하는 것이 바람직하다. In this way, the top of the lower rotating mechanism 440, the first and second upper rotary mechanism (420, 430) have the first and second upper rotary mechanism (420, 430) to position the stage 410 on the upper side of be positioned so as to be adjacent to the surface is preferred. 보다 바람직하게는 제 1 및 제 2 상부 회전 기구(420, 430)가 스테이지(410)의 내부에서 최상단에 위치하도록 설치된다. More preferably the first and second upper rotary mechanism (420, 430) are installed at the top inside of the stage 410.

또한, 제 1 내지 제 4 회전 부재(420a, 420b, 430a, 430b) 각각은 제 1 및 제 2 하부 회전 부재(440a, 440b)에 비해 작으며, 실시예에서는 베어링(bearing)을 사용한다. In addition, each of the first to fourth rotating members (420a, 420b, 430a, 430b) is smaller than the first and second lower rotary members (440a, 440b), an embodiment uses a bearing (bearing). 물론 제 1 내지 제 4 회전 부재(420a, 420b, 430a, 430b)는 베어링에 한정되지 않고, 지지대(470)에 접촉, 지지한 상태로 회전 가능한 다양한 수단 예컨대, 볼(ball)이 사용될 수 있다. Of course, the first to fourth rotating members (420a, 420b, 430a, 430b) is not limited to the bearing, in contact with the support 470, rotation various means available in the supported state, for example, it may be used a ball (ball).

그리고, 상술한 바와 같이, 제 1 하부 회전 부재(440a)와 제 2 하부 회전 부재(440b), 제 3 상부 회전 부재(430a)와 제 4 상부 회전 부재(430b), 제 1 상부 회전 부재(420a)와 제 2 상부 회전 부재(420b) 사이 각각을 통과하도록 지지대(470)가 설치된다. And, as described above, the first lower rotary member (440a) and the second lower rotary member (440b), the third upper rotary member (430a) and the fourth upper rotary member (430b), a first upper rotary member (420a ) and the second support 470 are installed to pass through between each of the upper rotary member (420b). 이에, 제 1 하부 회전 부재(440a)와 제 2 하부 회전 부재(440b) 사이, 제 3 상부 회전 부재(430a)와 제 4 상부 회전 부재(430b) 사이, 제 1 상부 회전 부재(420a)와 제 2 상부 회전 부재(420b) 사이가 일 수직선 상에 위치하도록 설치되는 것이 바람직하다. Thus, the first lower rotary member (440a) and the second lower rotary member (440b) between the third upper rotary member (430a) and the fourth upper rotary member (430b) between a first upper rotary member (420a) and the 2 is preferably installed between the upper rotary member (420b) is positioned on one vertical line. 다른 말로 하면, 각각의 회전 기구에서 마주보는 회전 부재 사이 공간(지지대가 통과하는 공간)을 '중심'이라 할 때, 하부 회전 기구(440)의 중심, 제 2 상부 회전 기구(430)의 중심 및 제 1 상부 회전 기구의 중심이 일 수직선 상에 위치하도록 설치된다. In other words, the space between the rotating member opposite from each rotating mechanism (space for the support to pass through) the time to as "center", the center of the lower rotating mechanism center, the second upper rotary mechanism 430 of 440, and the center 1 is provided to be located on the two days the vertical line of the upper rotating mechanism.

상술한 하부 회전 기구(440), 제 1 상부 회전 기구(420) 및 제 2 상부 회전 기구(430) 각각은 하나의 지지대(470)에 대해 복수개로 마련되어, 상기 지지대(470)의 연장 방향으로 따라 나열 배치된다. A lower rotating mechanism 440 described above, the first upper rotating mechanism 420 and the second upper rotary mechanism 430, each of which provided with a plurality for a single support 470, along the extending direction of the carrier 470 lists are arranged. 즉, 스테이지(410)의 폭 방향과 대응하는 방향으로 연장된 지지대(470)를 따라 나열되어 이격 배치된다. That is, are listed along the support (470) extending in a direction corresponding to the width direction of the stage 410 are arranged spaced apart.

지지 유닛(450)은 지지대(470)의 하부를 지지하면서, 유격을 발생시켜 상기 지지대에 자유도를 부여하는 제 2 유동 기구(470), 상기 제 2 유동 기구(470)와 승하강 플레이트(453) 사이를 연결하도록 설치되는 결합 부재(454)를 포함한다. Supporting unit 450 while supporting the lower portion of the support 470, to generate a clearance second flow mechanism 470, the second flow mechanism 470, and the elevating plate 453 to impart a degree of freedom for the support and a coupling member 454 that is provided so as to connect between.

여기서, 제 2 유동 기구(453)는 지지대(470)의 하부와 연결되어, 상기 지지대(470)의 하부를 지지 고정하며, 승하강 플레이트(460) 상에 설치된다. Here, the second flow mechanism 453 is coupled to the lower portion of the supporter 470, and a stationary support a lower portion of the support 470, is provided on the elevating plate 460. 도 1 및 도 4를 참조하면, 제 2 유동 기구(453)는 상기 지지대(470)의 하부가 삽입 설치되는 고정 블럭(451) 및 상기 고정 블럭(451)에 연결되어, 상기 고정 블럭(451)을 유동시키는 유동 부재(452)를 포함한다. 1 and 4, the second flow mechanism 453 is connected to the fixed block 451 and the fixed block 451, the lower portion of the support 470 is inserted into the installation, the fixing block 451, a comprises a flow member (452) to flow.

여기서, 고정 블럭(451)은 지지대(470) 하부의 일측면과 접촉되도록 설치된 제 1 블럭(451a) 및 상기 제 1 블럭(451a)과 마주보며, 상기 지지대(470)의 타측면과 접촉되도록 설치된 제 2 블럭(451b), 제 1 블럭(451a) 및 제 2 블럭(451b) 적어도 일부를 관통하도록 설치되어, 상기 제 1 블럭(451a)과 제 2 블럭(451b) 사이를 연결 고정하는 고정 부재(451c)를 포함한다. Here, a fixed block 451 is facing the first block (451a) and the first block (451a) is installed in contact with the lower one side of the support 470, it is installed in contact with the other surface of the supporter 470 a second block (451b), a first block (451a) and is installed to pass through said second block (451b) at least in part, the fixing member for connecting the fixed between the first block (451a) and a second block (451b) ( It includes 451c). 실시예에서는 제 2 블럭(451b)이 지지대(470)의 하단으로부터 그 하측까지 연장되도록 제작되고, 제 1 블럭(451a)이 제 2 블럭(451b)의 상부의 측부와 마주 보도록 설치된다. Embodiment, the second block (451b) is produced so as to extend to the lower side from the lower end of the support 470, the first block (451a) are installed facing the upper side of the second block (451b). 그리고, 이러한 제 1 블럭(451a)과 제 2 블럭(451b) 사이에 지지대(470)가 삽입된다. Then, the support 470 is inserted between this first block (451a) and a second block (451b).

유동 부재(452)는 제 2 블럭(451b)의 하부와 연결된다. Flow element 452 is coupled to the lower portion of the second block (451b). 실시예에 따른 유동 부재(452)는 예컨대, 볼(451b)를 구비하는 볼 플런저(ball plunger)일 수 있다. Exemplary flow member 452 according to the example may be a ball plunger (ball plunger) having a for example, a ball (451b). 즉, 실시예에 따른 유동 부재(452)는 적어도 일부가 고정 블럭(451), 바람직하게는 제 2 고정 블럭(451b)에 삽입 설치되는 바디(452b) 및 바디(452b) 내에 삽입되며, 적어도 일부가 바디(452b) 하측 외부로 돌출되어, 적어도 일면이 승하강 플레이트(460)와 접촉되며, 회전 또는 유동 가능한 볼(452a)을 포함한다. That is, the flow members 452 according to the embodiment may include at least be partially inserted into the fixing block 451, and preferably a second fixed block (451b) body (452b) and the body (452b), which is installed into the at least a portion the body (452b) protruding to the lower outside, at least one surface is in contact with the elevating plate 460, and includes a rotation or flowable ball (452a).

이에, 지지대(470)의 상승 또는 하강 시에 기판(S)의 하중 또는 외력에 의해 지지대(470)에 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해지면, 지지대(470) 및 고정 블럭(451)은 유동 부재(452)의 유격 및 지유도에 의해 유동 된다. Thus, when a force or impact applied to the lateral direction to the support 470 by a load or external force of the substrate (S) during the raising or lowering of the support 470, the support 470 and the fixed block 451 is flow member flow is induced by the clearance and not the 452. 보다 상세히는, 지지대(470)에 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해면, 유동 부재(452)의 볼(452b)이 승하강 플레이트(460)를 상에서 지지된 상태로, 곡면을 따라 유동되며, 이에 제 2 블럭(451b)도 함께 유동된다. More specifically, if a force or impact in the horizontal direction is applied to the support 470, the ball (452b) of the flow members 452 are in a supported state on the elevating plate 460, and flows along the curved surface, whereby a second block (451b) is also flowing together. 이때, 지지대(470)는 제 2 블럭(451b)과 제 1 블럭(451a) 사이에 삽입되어 있으므로, 상기 지지대(470)는 제 2 블럭(451b)과 제 1 블럭(451a)에 지지된 상태로, 상기 제 2 블럭(451b)의 유동에 의해 함께 유동 된다. In this case, the support 470 is in a supported state on a second block (451b) and the first block, it is inserted between the (451a), the support 470 is a second block (451b) and the first block (451a) It is flowing along by the flow of the second block (451b). 따라서, 지지대(470)에 전달되는 충격을 완화할 수 있어, 상기 지지대(470)가 휘거나 손상되는 것을 방지할 수 있다. Therefore, it is possible to alleviate the impact transmitted to the support 470, it is possible to prevent the support 470 is being bent or damaged.

상기에서는 제 2 유동 기구(452)의 유동 부재(452)로 볼 플런저(ball Plunger)를 설명하였다. In the above-described the plunger (ball Plunger) on the flow members 452 of the second flow mechanism 452. 하지만, 유동 부재(452)는 이에 한정되지 않고, 고정 블럭(451)의 하부와 연결되도록 설치되어, 유동될 수 있는 다양한 수단이 사용될 수 있다. However, the flow members 452 is not limited to this, and is installed to be connected with the lower portion of the fixed block 451, a variety of means that can be used to flow. 예컨대, 고정 블럭(451)과 연결된 구 형상의 볼(ball) 또는 반구 형상 구조체 또는 탄성력을 가지는 스프링일 수도 있다. For example, it may be a fixed block 451 and connected to obtain a spring with a ball (ball) or a semi-spherical structure or elasticity of shape.

도 5 및 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 기판 지지 모듈에 의해 기판이 승하강하는 모습을 도시한 도면이다. 5 and 6 are seungha drops the substrate by the substrate support module according to an embodiment of the present invention is a diagram showing a state.

하기에서는 도 1 내지 도 6을 참조하여, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치의 동작을 설명한다. In reference to FIG 1 to FIG. 6, the operation of the substrate processing apparatus according to an embodiment of the invention. 여기서, 설명의 편의를 위하여, 복수의 지지대(470) 중 하나의 지지대(470)와 연결된 하부 회전 기구(440), 제 1 및 제 2 상부 회전 기구(420, 430)의 동작을 설명한다. Here, for convenience of description, the operation of the plurality of supports (470) associated with the lower one of the supports 470 of the rotation mechanism 440, the first and second upper rotary mechanism (420, 430).

비정질 막 예컨대, 비정질 실리콘층이 형성된 기판(S)을 마련하고, 로봇암(미도시)를 이용하여 기판(S)을 챔버(100) 내로 인입시켜, 스테이지(410) 상에 안착시킨다. Amorphous film, for example, providing a substrate (S) is formed of an amorphous silicon layer, using a robot arm (not shown) by pulling the substrate (S) into the chamber (100), and seated on the stage 410. The 이를 위해, 기판(S)을 지지하는 로봇암을 스테이지(410) 상측에 대응 위치시키고, 승하강 플레이트(460)를 이용하여 지지대(470)를 상승시켜, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 지지대(470)의 상부, 바람직하게는 적어도 상부 몸체(472)가 스테이지(410)의 상측으로 돌출되도록 한다. To this end, a robot arm for supporting a substrate (S) and a corresponding position on the upper stage 410, by raising the support 470 by using the elevating plate 460, the cost, the support as shown in Figure 5 above, preferably at least the upper body 472 of the 470 so that the protruding in the upper side of the stage (410). 이때, 지지대(470)가 상승하는 힘에 의해 발생되어, 하부 회전 기구(440), 제 1 및 제 2 상부 회전 기구(420, 430)가 회전한다. At this time, generated by the force of the support 470 is raised, and the lower rotating mechanism 440, the first and second upper rotary mechanism (420, 430) rotate. 보다 상세히 설명하면, 지지대(470)가 상승하는 힘에 의해 지지대(470)를 기준으로 좌측에 위치하는 제 1 하부 회전 부재(440a)가 반시계 방향으로 회전하고, 상기 지지대(470)를 기준으로 우측에 위치하는 제 2 하부 회전 부재(440b)가 시계 방향으로 회전한다. Relative to the more will be described in detail, the support 470 is the support rotates the first lower rotary member (440a) which is located on the left side based on the 470 is in the counterclockwise direction, and the support 470 by a force which increases a second lower rotary member (440b) which is located on the right rotates clockwise. 또한, 하부 회전 기구(440)의 상측에 위치하며, 지지대(470)를 기준으로 좌측에 위치하는 제 1 및 제 3 상부 회전 부재(420a, 430a)가 반시계 방향으로 회전하고, 상기 지지대(470)를 기준으로 우측에 위치하는 제 2 및 제 4 상부 회전 부재(420b, 430b)가 시계 방향으로 회전한다. Also, the position on the upper side of the lower rotating mechanism 440 and the first and third upper rotary member which is located on the left side relative to the support (470) (420a, 430a) which the support (470, rotates in the counterclockwise direction ), the second and fourth upper rotary member (420b, 430b which is located on the right side relative to) that rotates clockwise.

지지대(470)가 스테이지(410) 상측으로 돌출되도록 상승되면, 로봇암을 하강시켜 지지대(470) 상부에 기판을 안착(또는 로딩)시킨다. When the support 470 is raised so as to project the upper stage 410, thereby to lower the robot arm mounting the substrate to the upper support 470 (or loading)

이후, 승하강 플레이트(460)를 이용하여 지지대(470)를 하강시켜, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 지지대(470)가 스테이지(410) 상측으로 돌출되지 않고 스테이지(410)의 내부에 위치하도록 한다. Then, the position in the interior of the said support 470 so that the stage 410 does not protrude into the upper stage 410, as shown in Figure 6, to lower the support 470 by using the elevating plate 460 and to. 이때, 지지대(470)가 하강하는 힘에 의해 하부 회전 기구(440), 제 1 및 제 2 상부 회전(420, 430) 기구가 회전한다. At this time, the supporter 470 has a lower rotation mechanism 440 by the force of the falling, first and second upper rotary (420, 430) mechanism rotates. 보다 상세히 설명하면, 지지대(470)가 하강하는 힘에 의해 상기 지지대(470)를 기준으로 좌측에 위치하는 제 1 하부 회전 부재(440a)가 시계 방향으로 회전하고, 상기 지지대(470)를 기준으로 우측에 위치하는 제 2 하부 회전 부재(440b)가 반시계 방향으로 회전한다. Relative to the more will be described in detail, the support 470 is lowered by the force rotating the first lower rotary member (440a) which is located on the left side relative to the support 470 in a clockwise direction, and that the support (470) the second lower rotary member (440b) which is located on the right side are rotated in the counterclockwise direction. 또한, 하부 회전 기구(440)의 상측에 위치하며, 지지대(470)를 기준으로 좌측에 위치하는 제 1 및 제 3 상부 회전 부재(420a, 430a)가 시계 방향으로 회전하고, 상기 지지대(470)를 기준으로 우측에 위치하는 제 2 및 제 4 상부 회전 부재(420b, 430b)가 반시계 방향으로 회전한다. Also, the position on the upper side of the lower rotating mechanism 440, and rotated in the first and third upper rotating member (420a, 430a) clockwise, which is located on the left side relative to the support 470, and the support (470) that the second and fourth upper rotary member which is located on the right side based on (420b, 430b) is rotated in the counterclockwise direction.

지지대(470)가 스테이지(410)의 상측으로 돌출되지 않고 상기 스테이지(410)의 내부에 위치하도록 하강시키면, 지지대(470) 상부에 안착되어 있던 기판(S)이 스테이지(410) 상부에 안착 된다. Support 470 is when not projecting to the upper side of the stage 410 is lowered so as to be positioned inside of the stage 410, a support 470, the substrate (S) which is seated on the upper is secured to the upper stage 410 .

이와 같이, 기판(S)의 로딩을 위해, 지지대(470)가 상승 또는 하강하는 동작 중에, 기판(S)에 의한 하중 또는 외력에 의해 지지대(470)에 좌우 방향으로 힘 또는 충격이 가해질 수 있다. In this way, for the loading of the substrate (S), the support (470) may be applied a force or impact in the horizontal direction to the support 470 by a load or external force caused by the operation for raising or lowering the substrate (S) . 이때, 제 1 하부 회전 부재(440a)는 제 1 유동 기구(480)에 의해 유동 되며, 지지대(470)를 지지하고 있는 제 2 유동 기구(453) 또한 고정되어 있지 않고 유동 된다. In this case, the first lower rotary member (440a) is not fixed flow first, and flow by the flow mechanism 480, the second flow mechanism 453, which supports the support (470) also. 따라서, 지지대(470)에 전달되는 충격을 완화할 수 있어, 상기 지지대(470)가 휘거나 손상되는 것을 방지할 수 있다. Therefore, it is possible to alleviate the impact transmitted to the support 470, it is possible to prevent the support 470 is being bent or damaged.

기판의 로딩이 종료되면, 스테이지(410)를 공정 진행 방향 즉, 수평 방향으로 이동시키면서, 레이저 발생기를 이용하여 레이저를 방사한다. When the loading of the substrate is terminated, while moving the stage 410 in the forward direction of the process that is, the horizontal direction, and radiates a laser using a laser generator. 이에, 레이저가 반사경(200) 및 투과창(110)을 거쳐() 기판(S) 상에 조사되며, 이때 기판(S) 상에 형성된 비정질 실리콘막이 레이저 빔에 의해 가열되어 결정화 된다. Thus, the laser crystallization is via a reflecting mirror 200 and a transmission window (110) is irradiated on the (), the substrate (S), wherein the amorphous silicon formed on a substrate (S) film is heated by a laser beam. 따라서, 결정질의 실리콘막이 형성된다. Thus, the film is formed of polycrystalline silicon.

상기와 같은 과정을 통해 기판(s) 처리 공정이 종료되면, 도 6 및 도 5의 과정을 역으로 진행하여, 스테이지(410)로부터 기판(S)을 언로딩 한다. If in a process, such as the substrate (s) processing step is completed, the process proceeds to the process of FIG. 6 and 5 in reverse, and unloading the substrate (S) from the stage (410).

상기에서는 엑시머(eximer) 레이저를 이용하여 기판을 열처리하는 어닐링 장치에 본 발명의 실시예에 따른 기판 안착 모듈이 적용되는 것을 설명하였다. In the above-described in that the substrate loading module according to an embodiment of the invention the annealing apparatus for annealing a substrate using the excimer (eximer) laser application. 하지만, 이에 한정되지 않고 기판(S)을 로딩 및 언로딩 하는 다양한 기판 안착 모듈()이 적용되는 다양한 기판 처리 장치, 예컨대, 박막 증착 장치, 식각 장치, 패터닝 장치 등 다양한 장치에 적용될 수 있다. However, such can be applied to various different devices substrate loading module (), a variety of substrate processing apparatus, for example, film deposition apparatus, an etching apparatus, a patterning device, which is applicable to loading and unloading the substrate (S) is not limited to this.

420: 제 1 상부 회전 기구 430: 제 2 상부 회전 기구 420: first upper rotating mechanism 430: the second upper rotation mechanism
440: 하부 회전 기구 480: 제 1 유동 기구 440: lower rotating mechanism 480: first flow mechanism
453: 제 2 유동 기구 453: second flow mechanism

Claims (12)

  1. 기판이 안착되는 스테이지; Stage on which the substrate is mounted;
    적어도 일부가 상기 스테이지를 상하 방향으로 관통하도록 설치되어, 승하강함으로써, 상기 기판을 상기 스테이지 상에 로딩 및 언로딩시키는 지지대; At least part of the support is installed to pass through the stage in the vertical direction, by elevating, loading and unloading on the substrate the stage;
    상기 스테이지의 내부에서 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 하부 회전 부재를 구비하는 하부 회전 기구; It is installed so as to face across a support in the interior of the stage, the lower the rotation mechanism having a first and second lower rotary members that rotate while supporting the support; And
    상기 스테이지의 내부에서 상기 하부 회전 기구 상측에 위치하며, 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 1 및 제 2 상부 회전 부재를 구비하는 제 1 상부 회전 기구; In the interior of said first upper stage rotation device having a first and a second upper rotary member for rotation, and located above said lower rotating mechanism, is installed so as to face with a support between, while supporting the support;
    일단이 상기 제 1 및 제 2 하부 회전 부재 중 어느 하나와 연결되어, 상기 제 1 및 제 2 하부 회전 부재 중 어느 하나에 유격(裕隔)을 제공하여, 유동될 수 있도록 하는 제 1 유동 기구를 포함하는 기판 지지 모듈. Once the first is associated with any one of the first and second lower rotary members, to provide a clearance (裕 隔) as in any one of the first and second lower rotary member, a first flow mechanism to ensure that the flow a substrate support module including.
  2. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1,
    상기 지지대는 금속으로 이루어진 하부 몸체 및 상기 하부 몸체의 상부에 결합되어 상기 기판을 지지하는 상부 몸체로 이루어지고, The support is coupled to the upper portion of the lower body and the lower body made of a metal is made of the upper body for supporting the substrate,
    상기 상부 몸체는 고분자로 이루어진 기판 지지 모듈. The upper body is made of a polymer substrate support module.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, According to claim 1 or 2,
    상기 스테이지의 내부에서 상기 하부 회전 기구와 제 1 상부 회전 기구 사이에 위치하며, 상기 지지대를 사이에 두고 마주보도록 설치되어, 상기 지지대를 지지하면서 회전하는 제 3 및 제 4 상부 회전 부재를 구비하는 제 2 상부 회전 기구를 포함하는 기판 지지 모듈. Inside of the stage first to a third and fourth upper rotary member for rotation, and located between the lower rotating mechanism and the first upper rotating mechanism, it is installed so as to face sandwiching the support, while supporting the supporter 2, the upper rotating mechanism including a substrate holding module.
  4. 청구항 3에 있어서, The method according to claim 3,
    상기 제 1 상부 회전 기구의 제 1 및 제 2 상부 회전 부재와 제 2 상부 회전 기구의 제 3 및 제 4 회전 부재 각각은 상기 하부 회전 기구의 제 1 및 제 2 하부 회전 부재에 비해 작은 크기인 기판 지지 모듈. The first third and the fourth rotating member respectively is small size of the substrate relative to first and second lower rotary member of said lower rotary mechanism of the first and second upper rotary member and the second upper rotation mechanism of the upper rotary mechanism support module.
  5. 청구항 4에 있어서, The method according to claim 4,
    상기 하부 회전 기구의 제 1 및 제 2 하부 회전 부재, 제 1 상부 회전 기구의 제 1 및 제 2 상부 회전 부재, 제 2 상부 회전 기구의 제 3 및 제 4 회전 부재 각각은 베어링(bearing)인 기판 지지 모듈. The first and third and the fourth rotary member, each of the second lower rotary member, a first and a second upper rotary member, the second upper rotation of the upper rotating mechanism mechanism of the lower rotating mechanism is a board bearing (bearing) support module.
  6. 삭제 delete
  7. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1,
    상기 제 1 유동 기구는 일단이 상기 제 1 및 제 2 하부 회전 부재 중 어느 하나와 연결된 스프링(spring)을 포함하는 기판 지지 모듈. The first flow mechanism is that once the supporting substrate module comprising the first and second springs associated with any one of the second lower rotary member (spring).
  8. 청구항 3에 있어서, The method according to claim 3,
    상기 하부 회전 기구의 제 1 하부 회전 부재, 제 1 상부 회전 기구의 제 1 상부 회전 부재, 제 2 상부 회전 기구의 제 3 상부 회전 부재는 지지대의 일측면과 접촉한 상태로 회전하고, 상기 하부 회전 기구의 제 2 하부 회전 부재, 제 1 상부 회전 기구의 제 2 상부 회전 부재, 제 2 상부 회전 기구의 제 4 상부 회전 부재는 지지대의 타측면과 접촉한 상태로 회전하는 기판 지지 모듈. The first lower rotary member, a first upper rotary member, the second the third upper rotating member is rotated, and the lower rotating in contact with one side of the support of the upper rotation mechanism of the upper rotation mechanism of the lower rotating mechanism the second lower rotary member, the second upper rotary member of the fourth upper member, the second upper rotation mechanism of the upper rotation mechanism of the substrate holding mechanism module which rotates in contact with the other surface of the support.
  9. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1,
    상기 지지대의 하부와 연결되어 상기 지지대를 지지하고, 상기 지지대에 유격을 제공하여 유동될 수 있도록 하는 제 2 유동 기구를 포함하는 기판 지지 모듈. A substrate support module including a second flow mechanism which is connected to the lower portion of the support and supporting the support, so as to be floating to provide a clearance on the support.
  10. 청구항 9에 있어서, The method according to claim 9,
    상기 제 2 유동 기구는 The second flow mechanism includes
    상기 지지대의 하부가 삽입 설치되는 고정 블럭 및 상기 고정 블럭의 하부에 연결되어, 상기 고정 블럭을 유동시키는 유동 부재를 포함하는 기판 지지 모듈. Is connected to the lower portion of the fixed block and the fixed block the lower part of the support is inserted into the installation, the supporting substrate module comprising a flow member for flowing the fixed block.
  11. 청구항 10에 있어서, The method according to claim 10,
    상기 고정 블럭은 상기 지지대 하부의 일측면과 접촉되도록 설치된 제 1 블럭 및 상기 제 1 블럭과 마주보며, 상기 지지대의 타측면과 접촉되도록 설치된 제 2 블럭을 포함하고, The fixing block is facing the first block and the first block is installed to be in contact with one side surface of the lower support, and a second block is installed in contact with the other surface of the support,
    상기 유동 부재는 상기 제 1 블럭 및 제 2 블럭 중 어느 하나의 하부에 연결되는 기판 지지 모듈. The flow member is a substrate support module is connected to one of the bottom of the first block and second block.
  12. 청구항 10 또는 청구항 11에 있어서, The method according to claim 10 or claim 11,
    상기 제 2 유동 기구의 유동 부재는 상기 고정 블럭의 하부에 삽입되며, 적어도 일부가 상기 고정 블럭의 하측으로 돌출되도록 설치된 볼(ball)을 포함하는 기판 지지 모듈. It said second flow of a flow member is a substrate support mechanism module including the ball (ball) to be installed is inserted into the lower portion of the fixed block, at least a portion projecting in a lower side of the fixed block.
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