KR102427732B1 - 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 wc/c코팅막 구조 - Google Patents
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Abstract
본 발명에 의한 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조는, 이차전지의 전극을 구성하는 전극 집전체에 전극 활물질을 압착하는 프레스롤의 모재부(substrate part); 상기 모재부에 마련되는 버퍼층부; 및 상기 버퍼층부에 마련되며, 상기 프레스롤의 경도 및 내마모성이 향상되고 상기 전극 활물질을 압착하는 동안 저마찰성 특성이 확보되도록, 진공상태에서 아르곤 가스에 아세틸렌 가스가 혼합되어 텅스텐 카바이드(WC:Tungsten Carbide)가 스퍼터링되어 다층 적층되는 WC/C코팅층부를 포함할 수 있다.
본 발명에 의한 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조는, H-Cr 도금층 또는 WC용사코팅층 외면에 텅스텐 카바이드(WC:Tungsten Carbide) 를 포함하는 다층 구조의 WC/C코팅층부가 적층되어 경도 및 내마모성이 향상되며 프레스롤의 교체주기가 늘어나고 생산 단가가 감소될 수 있으며, 낮은 마찰계수의 저마찰 특성이 가능하여 전극 활물질의 접착수율이 증가되고 제품 불량이 최소화될 수 있다.
본 발명에 의한 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조는, H-Cr 도금층 또는 WC용사코팅층 외면에 텅스텐 카바이드(WC:Tungsten Carbide) 를 포함하는 다층 구조의 WC/C코팅층부가 적층되어 경도 및 내마모성이 향상되며 프레스롤의 교체주기가 늘어나고 생산 단가가 감소될 수 있으며, 낮은 마찰계수의 저마찰 특성이 가능하여 전극 활물질의 접착수율이 증가되고 제품 불량이 최소화될 수 있다.
Description
본 발명은 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조에 관한 것으로, 보다 상세하게는 프레스롤의 경도 및 내마모성이 향상되고 낮은 마찰계수의 저마찰 특성이 가능할 수 있는 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조에 관한 것이다.
이차전지는 전해질 중의 이온이 분리막(separator)에 의해 절연된 양극과 음극의 사이를 이동함으로써 충방전을 반복하도록 구성된다. 이러한 이차전지의 전극은 금속 재질의 전극 집전체와, 전극 집전체 상에 전극 활물질층을 도포하여 마련될 수 있다.
이차전지 전극은 전극 활물질층이 전극 집전체 상에 도포되고 전극 활물질층의 집적도를 높일 수 있도록 한 쌍의 압연롤을 구비한 압연장치에 의해 고압으로 압착하는 가압 공정이 필수적이다.
여기서, 압연롤는 상기 전극 활물질층을 고압으로 압착함에 따라 내마모성 및 낮은 마찰계수가 중요 인자가 된다.
그러나, 기존 압연롤의 H-Cr 도금층 또는 WC용사코팅층으로는 설계 기준에 부합하는 경도 및 내마모성 수준을 충족시키지 못하여 압연롤의 메인터넌스가 문제되며 교체주기가 단축되어 생산 단가가 증가되는 문제점이 있다.
또한, 활물질층과 직접 접촉하는 관계로 압연롤의 저마찰 특성이 무엇보다 중요한데, 기존 H-Cr 도금층은 마찰계수가 높고 조도가 거칠어 이를 이용하는 경우 전극 활물질의 접착수율이 저하되고 제품 불량이 빈번해지는 문제점이 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, H-Cr 도금층 또는 WC용사코팅층 외면에 텅스텐 카바이드(WC:Tungsten Carbide) 를 포함하는 다층 구조의 WC/C코팅층부가 적층되어 경도 및 내마모성이 향상되며 프레스롤의 교체주기가 늘어나고 생산 단가가 감소될 수 있으며, 낮은 마찰계수의 저마찰 특성이 가능하여 전극 활물질의 접착수율이 증가되고 제품 불량이 최소화될 수 있는 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조를 제공한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조는, 이차전지의 전극을 구성하는 전극 집전체에 전극 활물질을 압착하는 프레스롤의 모재부(substrate part); 상기 모재부에 마련되는 버퍼층부; 및 상기 버퍼층부에 마련되며, 상기 프레스롤의 경도 및 내마모성이 향상되고 상기 전극 활물질을 압착하는 동안 저마찰성 특성이 확보되도록, 진공상태에서 아르곤 가스에 아세틸렌 가스가 혼합되어 텅스텐 카바이드(WC:Tungsten Carbide)가 스퍼터링되어 다층 적층되는 WC/C코팅층부를 포함할 수 있다.
상기 버퍼층부는, 크롬 또는 텅스텐으로 마련되는 버퍼층을 포함할 수 있다.
상기 WC/C코팅층부는, 아르곤 가스에 탄화수소계열 가스가 혼합되고 이온화된 상기 아르곤 가스가 텅스텐 카바이드 타겟을 스퍼터링하여 증착되는 WC층; 및 상기 아르곤 가스에 상기 WC층 대비 상대적으로 고농도 탄화수소계열 가스가 혼합되고 이온화된 상기 아르곤 가스가 텅스텐 카바이드 타겟을 스퍼터링하여 증착되는 WC/C층을 포함할 수 있다.
상기 WC/C코팅층부는, 상기 WC층 및 WC/C층이 교번적으로 다층 적층될 수 있다.
상기 WC/C코팅층부는, 상기 WC층 및 WC/C층으로 구성되는 1개의 코팅레이어가 적어도 10개에서 300개 사이에서 선택된 다층 적층구조일 수 있다.
상기 WC층은 아르곤 가스 유량 대비 아세틸렌 가스 유량비가 0.1 ~ 0.3 이내이며, 상기 WC/C층은 아르곤 가스 유량 대비 아세틸렌 가스 유량비가 0.5 ~ 0.8 이내일 수 있다.
상기 WC/C코팅층부의 코팅 두께는 1 ~ 10㎛ 일 수 있다.
상기 WC/C코팅층부 형성 시 1 ~ 20 kW 내의 파워가 인가될 수 있다.
상기 WC/C코팅층부의 표면 경도는 1000 Hv ~ 5000 Hv일 수 있다.
상기 WC/C코팅층부의 마찰계수는 0.1 ~ 0.3 일 수 있다.
본 발명에 의한 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조는, H-Cr 도금층 또는 WC용사코팅층 외면에 텅스텐 카바이드(WC:Tungsten Carbide) 를 포함하는 다층 구조의 WC/C코팅층부가 적층되어 경도 및 내마모성이 향상되며 프레스롤의 교체주기가 늘어나고 생산 단가가 감소될 수 있으며, 낮은 마찰계수의 저마찰 특성이 가능하여 전극 활물질의 접착수율이 증가되고 제품 불량이 최소화될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조를 개략적으로 도시한 개념도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 SEM 사진이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 제조 순서도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 공정도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 비커스경도치를 측정한 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조에 탄소코팅층이 부가된 상태의 개념도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조, WC코팅막 및 탄소코팅층 구조와 DLC 코팅 간의 마찰계수 측정값을 도시한 도면이다.
도 8은 DLC, WC/C코팅층부, WC/C코팅층부+탄소코팅층 마찰계수를 비교한 도면이다.
도 9는 DLC, WC/C코팅층부, WC/C코팅층부+탄소코팅층의 스크래치 밀착력 테스트 결과를 도시한 도면이다.
도 10 및 도 11은 본 실시예에 따른 WC/C코팅층부+탄소코팅층 구조의 현미경 이미지와 SEM 사진을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 SEM 사진이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 제조 순서도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 공정도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 비커스경도치를 측정한 도면이다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조에 탄소코팅층이 부가된 상태의 개념도이다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조, WC코팅막 및 탄소코팅층 구조와 DLC 코팅 간의 마찰계수 측정값을 도시한 도면이다.
도 8은 DLC, WC/C코팅층부, WC/C코팅층부+탄소코팅층 마찰계수를 비교한 도면이다.
도 9는 DLC, WC/C코팅층부, WC/C코팅층부+탄소코팅층의 스크래치 밀착력 테스트 결과를 도시한 도면이다.
도 10 및 도 11은 본 실시예에 따른 WC/C코팅층부+탄소코팅층 구조의 현미경 이미지와 SEM 사진을 도시한 도면이다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조 의 일 실시예를 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 구성도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 SEM 사진이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 제조 순서도이고, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 공정도이다.
본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조는 도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 이차전지의 전극을 구성하는 전극 집전체에 전극 활물질을 압착하는 프레스롤(10)의 모재부(100)(substrate part); 상기 모재부(100)에 마련되는 버퍼층부(200); 및 상기 버퍼층부(200)에 마련되며, 상기 프레스롤(10)의 경도 및 내마모성이 향상되고 상기 전극 활물질을 압착하는 동안 저마찰성 특성이 확보되도록, 진공상태에서 아르곤 가스에 아세틸렌 가스가 혼합되어 텅스텐 카바이드(WC:Tungsten Carbide)가 스퍼터링되어 다층 적층되는 WC/C코팅층부(300)를 포함할 수 있다.
프레스롤(10)은 제작 이후, H-Cr 도금이 수행될 수 있으며, H-Cr(경질크롬) 도금의 경도는 HV 700 ~ 900, 도금 두께는 100 ㎛ ~ 250 ㎛으로 마련될 수 있다.
프레스롤(10)의 모재부(100)(substrate part)는 이러한 프레스롤(10)의 표면이 될 수 있다. 상기 모재부(100)는 도 3에 도시된 바와 같이, 코팅 공정이 수행되기 전에 이온 소스를 활용한 각종 클리닝을 포함한 전처리 공정이 수행될 수 있다.
상기 버퍼층부(200)는 모재부(100)와 WC/C코팅층부(300) 사이에 배치되는 부분이다.
상기 버퍼층부(200)는, 크롬 또는 텅스텐으로 마련될 수 있으며, 크롬과 텅스텐을 기반으로하는 합성층으로 마련될 수 있다. 일례로, 상기 버퍼층부(200)는, 크롬으로 마련되는 제1 버퍼층; 및 텅스텐으로 마련되는 제2 버퍼층으로 구성될 수 있다.
상기 제1 버퍼층(210)은 후술하는 WC/C코팅층부(300)와 모재부(100) 간의 밀착력을 향상시키고 지지력을 보강하는 역할을 수행할 수 있다. 그리고 제2 버퍼층(220)은 WC/C코팅층부(300)와 유사한 텅스텐 소재로 마련되어 있어, WC/C코팅층부(300)와의 접착성를 증대시킬 수 있다.
이러한 버퍼층부(200)가 마련되어 밀착력 및 지지력이 확보될 수 있어 WC/C코팅층부(300)의 내구성이 증대될 수 있다.
한편, 기존 프레스롤(10)의 설계 기준에 부합하는 경도 및 내마모성 수준 특히, 이차전지의 전극시트 내지 전극 활물질과의 저마찰 특성을 충족시키지 못하여 압연롤의 메인터넌스가 문제되며 교체주기가 저하되어 생산 단가가 증가되는 문제점이 있었다.
이에 본 실시예에서는 WC/C코팅층부(300)가 마련될 수 있다.
상기 WC/C코팅층부(300)는, 아르곤 가스에 탄화수소계열 가스가 혼합되고 이온화된 상기 아르곤 가스가 텅스텐 타겟(50)을 스퍼터링하여 증착되는 WC층(310); 및 상기 아르곤 가스에 상기 WC층(310) 대비 상대적으로 고농도 탄화수소계열 가스가 혼합되고 이온화된 상기 아르곤 가스가 텅스텐 타겟(50)을 스퍼터링하여 증착되는 WC/C층(320)을 포함할 수 있다.
상기 WC층(310)은 아르곤 가스에 탄화수소계열 가스(예컨대,아세틸렌(C₂H₂가스 등)가 혼합되고 이온화된 상기 아르곤 가스가 텅스텐 타겟(50)을 스퍼터링하여 증착될 수 있다.
그리고 WC/C층(320)은 상기 아르곤 가스에 상기 WC층(310) 대비 상대적으로 고농도 탄화수소계열 가스가 혼합되고 이온화된 상기 아르곤 가스가 텅스텐 타겟(50)을 스퍼터링하여 증착될 수 있다.
보다 상세 설명하면, WC(텅스텐 카바이드)층을 증착시키기 위해서는 W(텅스텐)타겟(50)에 Ar(아르곤)가스와 탄화수소계열 가스를 미리 설정된 비율로 혼합시켜서 증착시켜야 마찰계수가 우수하며, 밀착력이 좋은 WC층(310) 또는 WC/C층(320)이 증착이 될 수 있다.
도 4를 참조하면, PVD챔버(20)에 아르곤가스공급부(30) 및 탄화수소계열 가스공급부(40)가 각각 연결될 수 있으며, PVD챔버(20) 내부에는 텅스텐 타겟(50)이 수용 배치될 수 있다. 그리고 프레스롤(10)은 음극 전극에 연결하여 바이어스 전원을 인가하고, 아르곤 가스에 의해 텅스텐 타겟(50이 스퍼터링되어 텅스텐 카바이드 이온이 프레스롤(10)에 증착될 수 있다.
PVD챔버(20)는 진공 상태의 공정조건이 부과될 수 있다.
상기 아르곤 가스는 불활성 가스이지만 가스량조절을 통해 증착률을 조정 할 수 있다.
탄화수소계열 가스 중 선택된 아세틸렌 가스 비율이 낮은 코팅층을 WC층(310)으로, C2H2비율이 높은 코팅층을 WC/C층(320)으로 정한다. 상기 WC층(310)은 표 1에 도시된 바와 같이, 아르곤 가스 유량 대비 아세틸렌 가스 유량비가 0.1 ~ 0.3 이내이며, 상기 WC/C층(320)은 아르곤 가스 유량 대비 아세틸렌 가스 유량비가 0.5 ~ 0.8 이내일 수 있다.
이때 C2H2의 비율이 너무 낮으면 WC층(310)이 제 기능(낮은 마찰계수)을 구현 못하며, C2H2의 비율이 너무 높으면 WC/C층(320)의 밀착력이 떨어질 수 있다.
이러한 구성의 상기 WC/C코팅층부(300)는 도 1 및 도 2를 주로 참조하면, 상기 WC층(310) 및 WC/C층(320)이 교번적으로 다층 적층될 수 있다.
상기 WC/C코팅층부(300)는, 상기 WC층(310) 및 WC/C층(320)으로 구성되는 1개의 코팅레이어가 적어도 10개에서 300개 사이에서 선택된 다층 적층구조일 수 있다.
본 실시예에서의 상기 WC/C코팅층부(300)는 WC층(310) 및 WC/C층(320)으로 구성되는 1개의 코팅레이어가 22개로 마련될 수 있다. 이러한 상기 WC/C코팅층부(300)의 코팅 두께는 1 ~ 10㎛ 일 수 있다.
도 2에서, WC층(310)은 WC/C층(320)에 비해 상대적으로 음영이 짙은 부분으로 도시되며, WC/C층(320)은 22개의 코팅레이어가 형성하는 WC/C코팅층부(300)의 두께는 대략 1.5 ㎛일 수 있다.
상기 WC/C코팅층부(300) 형성 시 1 ~ 20 kW 내의 파워가 인가될 수 있다. 높은 파워를 사용할수록 증착률은 올라가지만, WC 타겟이 파손될 위험 또한 같이 올라가므로 적절한 선택이 중요할 수 있다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조의 비커스경도치를 측정한 도면이다.
이러한 상기 WC/C코팅층부(300)의 표면 경도는 1000 Hv ~ 5000 Hv일 수 있다. 본 실시예에서 WC/C코팅층부(300)의 비커스 경도는 수회 실시한 결과, HV 값은 2200에서 2400 사이인 것으로 확인되었으며, 도 5에서는 일례를 도시하고 있다.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조에 탄소코팅층이 부가된 상태의 개념도이다.
본 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조는 도 6에 도시된 바와 같이 상기 WC/C코팅층부(300) 상면에 마련되는 탄소코팅층(400)을 더 포함할 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 전처리 공정과, 버퍼층부(200)가 형성되고, WC/C코팅층부(300)가 마련된 다음, 냉각 공정 전에, 탄소코팅층(400)이 마련되는 공정이 추가될 수 있다.
여기서, 상기 탄소코팅층(400)은 비정질 탄소 코팅층이며, 일례로 DLC(Diamond-like-Carbon) 코팅층일 수 있다. 그리고 탄소코팅층(400)의 두께는 대략 0.5 ㎛로 마련됨이 바람직할 수 있다.
도 7은 본 발명의 실시예에 따른 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조, WC코팅막 및 탄소코팅층 구조와 DLC 코팅 간의 마찰계수 측정값을 도시한 도면이다.
상기 WC/C코팅층부(300)의 마찰계수는 0.1 ~ 0.3 일 수 있으며 도 6의 두번째 항에서 도시된 바와 같이, 0.164로 조사되었으며 이는 DLC 코팅 대비 마찰수준의 대략 80프로 수준에 근접되는 수치이다.
또한, 도 7의 세번째 항목의 상기 WC/C코팅층부(300)에 탄소코팅층(400)이 적층된 경우의 마찰계수는 도 5에 도시된 것처럼 0.145로 확인되었고, 이는 DLC 코팅 단독의 마찰계수에 거의 유사한 수준이다.
이와 같이, 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조, WC코팅막 및 탄소코팅층 구조는 낮은 마찰계수의 저마찰 특성이 가능하여 전극 활물질의 접착수율이 증가되고 제품 불량이 최소화될 수 있다.
특히, WC/C코팅층부(300)의 다층 적층구조로 인해, 충격에 강인하고 완충력이 제공될 수 있어 외력에 대한 저항성이 높아질 수 있다.
도 8은 DLC, WC/C코팅층부, WC/C코팅층부+탄소코팅층의 마찰계수를 비교한 도면이다.
도 8을 참조하면, 기존 DLC 코팅과 WC/C코팅층부의 경우에는 간혹 마찰계수값이 튀는 현상이 발견되나, WC/C코팅층부+탄소코팅층의 경우 마찰계수가 거의 균일한 특성이 발견되며, 기존 DLC 코팅 대비 마찰계수가 실질적으로 유사함에도 조도가 더 우수한 특성을 확인하였다.
도 9는 DLC, WC/C코팅층부, WC/C코팅층부+탄소코팅층의 스크래치 밀착력 테스트 결과를 도시한 도면이다.
도 9를 참조하면, 스크래치 밀착력 테스트는 모재에 코팅막이 얼마나 잘 붙어있는지 저항성 시험으로서, WC/C코팅층부+탄소코팅층의 경우 기존 DLC코팅 대비 15프로 이상 우수한 결과를 확인하였다. 이는 WC/C코팅층부(300)의 다층 적층 구조가 완충력을 제공함과 동시에 탄소코팅층(400)의 밀착력 개선 효과가 있음을 보여준다.
도 10 및 도 11은 본 실시예에 따른 WC/C코팅층부+탄소코팅층 구조의 현미경 이미지와 SEM 사진을 도시한 도면이다.
도 10에 따르면, 코팅 결과물의 웨이퍼의 현미경 이미지에서 기존 DLC코팅에서는 다수의 이물질이 발견되나, WC/C코팅층부(300)의 경우 다소 줄어들고 WC/C코팅층부+탄소코팅층 구조에서는 현저히 깨끗해지고 조도가 우수한 특성이 확인되었고, 도 11에서의 SEM사진에서도 WC/C코팅층부+탄소코팅층의 경우 이물질이 거의 발견되지 않음을 확인할 수 있다.
이러한 구성의 WC/C코팅층부(300)를 통해, H-Cr 도금층 또는 WC용사코팅층 외면에 텅스텐 카바이드(WC:Tungsten Carbide) 를 포함하는 다층 구조의 WC/C코팅층부(300)가 적층되어 경도 및 내마모성이 향상되며 프레스롤의 교체주기가 늘어나고 생산 단가가 감소될 수 있으며, 낮은 마찰계수의 저마찰 특성이 가능하여 전극 활물질의 접착수율이 증가되고 제품 불량이 최소화될 수 있다.
또한, WC/C코팅층부(300)+탄소코팅층 구조의 경우 저마찰 특성이 더욱 우수할 수 있으며 WC/C코팅층부(300)의 다층 적층구조가 완충 효과를 주어 충격 저항성이 우수하며 밀착력도 개선될 수 있다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시 예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시 예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.
10 : 프레스롤 20 : PVD챔버
30 : 아르곤가스공급부 40 : 탄화수소계열 가스공급부
50 : 텅스텐카바이드 타겟
100 : 모재부 200 : 버퍼층부
210 : 제1 버퍼층 220 : 제2 버퍼층
300 : WC/C코팅층부 310 : WC층
320 : WC/C층
30 : 아르곤가스공급부 40 : 탄화수소계열 가스공급부
50 : 텅스텐카바이드 타겟
100 : 모재부 200 : 버퍼층부
210 : 제1 버퍼층 220 : 제2 버퍼층
300 : WC/C코팅층부 310 : WC층
320 : WC/C층
Claims (5)
- 이차전지의 전극을 구성하는 전극 집전체에 전극 활물질을 압착하는 프레스롤의 모재부(substrate part);
상기 모재부에 마련되는 버퍼층부; 및
상기 버퍼층부에 마련되며, 상기 프레스롤의 경도 및 내마모성이 향상되고 상기 전극 활물질을 압착하는 동안 저마찰성 특성이 확보되도록, 진공상태에서 아르곤 가스에 아세틸렌 가스가 혼합되어 텅스텐 카바이드(WC:Tungsten Carbide)가 스퍼터링되어 다층 적층되는 WC/C코팅층부를 포함하며,
상기 버퍼층부는,
크롬 또는 텅스텐으로 마련되며,
상기 WC/C코팅층부는,
WC층 및 WC/C층이 교번적으로 다층 적층되며,
상기 WC/C코팅층부는,
아르곤 가스에 탄화수소계열 가스가 혼합되고 이온화된 상기 아르곤 가스가 텅스텐 카바이드 타겟을 스퍼터링하여 증착되는 WC층; 및
상기 아르곤 가스에 상기 WC층 대비 상대적으로 고농도 탄화수소계열 가스가 혼합되고 이온화된 상기 아르곤 가스가 텅스텐 카바이드 타겟을 스퍼터링하여 증착되는 WC/C층을 포함하며,
상기 WC층 및 WC/C층으로 구성되는 1개의 코팅레이어가 적어도 10개에서 300개 사이에서 선택된 다층 적층구조이며,
상기 WC층은 아르곤 가스 유량 대비 아세틸렌 가스 유량비가 0.1 ~ 0.3 이내이며,
상기 WC/C층은 아르곤 가스 유량 대비 아세틸렌 가스 유량비가 0.5 ~ 0.8 이내이며,
상기 WC/C코팅층부의 표면 경도는 2000 Hv ~ 5000 Hv이며,
상기 WC/C코팅층부의 마찰계수는 0.15 ~ 0.2 인 것을 특징으로 하는 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조. - 삭제
- 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 WC/C코팅층부의 코팅 두께는 1 ~ 10㎛ 인 것을 특징으로 하는 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조. - 제1항에 있어서,
상기 WC/C코팅층부 상면에 마련되는 탄소코팅층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이차전지 제조설비용 프레스롤의 수명연장을 위한 WC/C코팅막 구조.
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- 2022-01-25 KR KR1020220010879A patent/KR102427732B1/ko active IP Right Grant
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