KR102406939B1 - 마이크로리소그래피용 광학 시스템 - Google Patents

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KR102406939B1
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칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
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Abstract

본 발명은 마이크로리소그래피용 광학 시스템에 관한 것으로서, 광학 시스템은 사용된 빔 경로를 따라 광학 시스템을 통과하는 전자기 방사선으로 작동하도록 설계되고, 사용된 빔 경로 외부에 위치된 영역을 갖는 적어도 하나의 구성요소(105)를 갖고, 상기 영역은 촉매 또는 화학적 활성층(110)을 갖고, 촉매 또는 화학적 활성층(110) 및/또는 상기 층(110)을 지지하는 캐리어(230, 240)는 다공성이다.

Description

마이크로리소그래피용 광학 시스템
본 출원은 2017년 7월 31일 출원된 독일 특허 출원 DE 10 2017 213 121.7호의 우선권을 주장한다. 이 DE 출원의 내용은 또한 본 출원 명세서에 참조로서 합체되어 있다.
발명의 분야
본 발명은 마이크로리소그래피 광학 시스템에 관한 것이다.
마이크로리소그래피는 예를 들어 집적 회로 또는 LCD와 같은 마이크로구조화된 구성요소(microstructured component)의 제조를 위해 사용된다. 마이크로리소그래피 프로세스는 조명 디바이스 및 투영 렌즈를 포함하는 소위 투영 노광 장치에서 수행된다. 조명 디바이스에 의해 조명되는 마스크(=레티클)의 화상은 여기서 기판의 감광 코팅에 마스크 구조를 전사하기 위해, 감광층(포토레지스트)으로 코팅된 기판(예를 들어, 실리콘 웨이퍼) 상에 투영 렌즈에 의해 투영되고 투영 렌즈의 화상 평면 내에 배치된다.
이러한 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 작동에서, 예를 들어 질소(N2)와 같은 고순도 불활성 퍼지 가스의 사용에도 불구하고, 특히 탄화수소 형태의 오염물이 투영 렌즈 또는 조명 디바이스에 진입하는 문제가 발생할 수 있다. 이러한 오염물은 이어서 개별 광학 구성요소(예를 들어, 렌즈 요소 또는 미러) 상에 침전될 수 있고, 이어서 작동시에 각각의 광학 시스템을 통과하는 전자기 방사선의 원하지 않는 흡수를 유도할 수 있는데, 이는 이어서 각각의 광학 특성(예를 들어, 렌즈 요소의 굴절률 또는 미러의 반사율)의 변화를 야기한다. 다른 부작용은 예를 들어 열적으로 유도된 변형, 및 경우에 따라, 마스크 또는 웨이퍼에 도달하는 전자기 방사선의 균일성의 붕괴이다.
전술된 오염 문제의 회피는 실제로 어려운 것으로 판명되었는데, 하나의 이유는 특히 언급된 탄화수소가 광학 시스템에 사용되는 밀봉제 및 접착제를 통해 그리고 사용된 퍼지 가스를 위한 불가피한 입구를 통해 각각의 광학 시스템에 들어갈 수 있어, 그 자체로 최대 순도의 불활성 퍼지 가스의 사용이 그 관점에서 완전한 구제책을 제공하지 않게 되는 것이다.
이러한 오염물의 회피를 위해 특히 수행된 각각의 광학 요소의 집중적인 세정은 실제 리소그래피 프로세스의 중단을 야기하는데, 이는 투영 노광 장치의 처리량을 최대화하기 위해 가능한 많이 목표가 되어야 하는 매우 실질적으로 연속적인 작업과 관련하여 바람직하지 않다.
종래 기술과 관련하여, 단지 예로서, US 6,290,180 B1호, US 2007/0264494 A1호, US 2003/0082367 A1호 및 EP 0 887 104 A1호를 참조한다.
본 발명의 목적은 작동 중단 없이 그리고 광학 시스템을 통한 처리량의 손상 없이 오염물의 효과적인 감소를 가능하게 하는 마이크로리소그래피 광학 시스템을 제공하는 것이다.
이 목적은 독립 청구항의 특징에 따른 광학 시스템에 의해 달성된다.
사용된 빔 경로를 따라 광학 시스템을 통과하는 전자기 방사선으로 작동을 위해 설계된 본 발명의 마이크로리소그래피 광학 시스템은 사용된 빔 경로 외부의 영역을 갖는 적어도 하나의 구성요소를 갖고, 이 영역은 촉매 또는 화학적 활성층을 갖고; 촉매 또는 화학적 활성층 및/또는 상기 층을 지지하는 캐리어는 다공성이다.
본 발명은 특히 광학 목적으로(예를 들어, 이미징 또는 노광 프로세스를 위해) 사용되지 않은 영역에 촉매 또는 화학적 활성층을 제공함으로써 시스템 내에 자체 세정 프로세스(이하에 더 설명될 것임)를 가능하게 함으로써 각각의 광학 시스템의 작동 중에 탄화수소의 형태의 서두에 설명된 오염물을 제거하는 개념에 기초한다. 촉매 또는 화학적 활성층 및/또는 상기 층을 지지하는 캐리어가 다공성인 것에 의해, 더 큰 표면적을 제공하고 대응적으로 오염물 또는 분자의 축적 및 분해의 프로세스를 촉진시키는 것이 가능하다.
촉매층은 특히 광촉매층일 수도 있다.
본 발명에 따라 사용되는 촉매층의 특정 효과는 비교적 비휘발성 오염물, 예를 들어 탄화수소를 비교적 휘발성 분자(예를 들어, 탄화수소에 비교하여 더 낮은 분자량을 갖는)로 변환하거나, 또는 촉매층에 의한 상기 오염물의 분해를 위해 요구된 에너지(예를 들어, 열 에너지 또는 방사선 에너지)를 저하시킴으로써 이 변환을 촉진하는 것이다. 그 결과, 상기 분해는 심지어 자동으로 또는 작동시에 광학 시스템에 존재하는 전자기 방사선의 작용에 의해 유도될 수도 있다. 대응하는 분해 생성물은 이어서 이들의 휘발성으로 인해 직접 이격하여 수송되고(예를 들어, 존재하는 퍼지 가스를 사용하여) 또는 미량의 산소(O2) 및/또는 물(H2O)에 의해 먼저 산화될 수도 있다.
그 결과, 이산화탄소(CO2) 및 물(H2O)로의 오염물의 사실상 완전한 분해 또는 변환이 달성될 수 있으며, 결과적으로 광학 시스템 성능의 오염-관련 손상을 효과적으로 회피하는 것이 가능하다. 촉매층의 전술된 효과로 인해, 상기 오염물의 변환은 추가 에너지 공급 없이도 또는 광학 시스템의 작동에서 임의의 경우에 존재하는 전자기 방사선을 이용하여 달성되기 때문에, 여기서 광학 시스템을 통한 상당한 동작 중단 및 처리량의 연관 손상을 회피하는 것이 가능하다.
화학적 활성층을 갖는 구성에서, 이 층은 화학 반응을 통해 세정 효과를 발생시키며, 예를 들어 오염물과의 접촉시 환원되고 따라서 해당 오염물을 산화시키는(상승) 더 고차 니켈 산화물을 포함할 수도 있다.
본 발명은 광학 시스템, 예를 들어 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 "정상" 작동에서도, 미광의 형태의 전자기 방사선이 또한 실제 사용된 빔 경로의 외부의 영역 내로 들어가는 사실을 특히 사용하고, 그 결과 이러한 영역은 본 발명의 촉매층의 위치설정에 이용될 수 있다.
달리 말하면, 실제 이미징 또는 노광 프로세스에 대한 임의의 원하지 않는 영향은 상기 층이 실제 사용된 빔 경로의 외부의 영역에만 위치된다는 점에서 촉매 또는 화학적 활성층의 세정 효과에 의해 신뢰적으로 회피될 수 있다. 이들 영역은, 예를 들어(이들에 대한 본 발명의 한정 없이) 프레임 또는 조리개의 서브 영역(예를 들어, 내부)일 수도 있다.
게다가, 본 발명의 촉매 또는 화학적 활성층의 도포를 위해 이용되는 이들 영역은 또한 실제 사용된 빔 경로 외부에 있는 광학 요소(특히 렌즈 요소 또는 미러)의 서브 영역일 수도 있다. 본 발명의 실시예에서, 전술된 미광의 이용에 덧붙여, 목적에 적합한 조명 설정이 일시적으로 설정되는 점에서 촉매층 상의 전자기 방사선의 직접적인 작용을 유도하는 것이 여기서 또한 가능하고(예를 들어, 광학 시스템 축의 반경방향 외부에서 환형 영역의 조명만을 갖는 극단적으로 환형 조명 설정), 여기서 전자기 방사선은 본 발명의 촉매층 상에 지향되지만, 예를 들어 투영 렌즈의 화상 평면 내에 존재하는 웨이퍼 상에는 지향되지 않는다.
본 발명의 (자체) 세정 프로세스에 의해, 실시예에 따르면, 광학 시스템의 작동시에 "인시튜(in situ)"로 달성되고 또는 적어도 광학 시스템의 분해 없이 그리고 따라서 오염물의 연속적인 분해를 가능하게 하여, 부가의 세정 단계와 연관된 시간 요구, 및 경우에 따라, 또한 리소그래피 프로세스의 원하지 않는 중단을 회피하는 것이 가능하여, 투영 노광 장치의 처리량의 증가가 궁극적으로 달성되게 된다.
기능성 층의 사용에 대한 종래의 개념과 대조적으로, 촉매층의 본 발명에 따른 사용은 예를 들어, 특정 재료 특성(예를 들어, 내식성)의 향상을 위한 것이 아니라, 광학 시스템의 부가의 기능성의 도입을 포함하는데, 이에 의해 작동시에 광학 시스템을 통과하는 전자기 방사선(예를 들어, 산란 방사선)이 원하지 않는 오염물의 제거를 위해 자체 세정 프로세스의 구현을 위해 이용된다.
일 실시예에서, 촉매층은 구성요소 상에 존재하는 접착제 보호층 내에 통합된다. 이 구성은 접착제 보호층의 대응 영역에서 통상적으로 높은 방사선 강도가 본 발명의 자체 세정 프로세스를 위해 이용될 수 있고, 게다가, 부가의 층의 도포가 최소화될 수 있다는 장점을 갖는다.
일 실시예에서, 촉매 또는 화학적 활성층은 전자기 방사선에 투명한 캐리어에 도포되었다.
일 실시예에서, 촉매층은 적어도 1 ㎛의 두께를 갖는다. 비교적 큰 두께를 갖는 촉매 또는 화학적 활성층의 구성의 경우에, 대응적으로 많은 양의 오염물 또는 분자가 광학 시스템에 축적되거나 분해될 수 있으며, 광학적으로 미사용된 영역 내의 또는 사용된 빔 경로 외부의 촉매 또는 화학적 활성층의 위치설정으로 인해 촉매층의 흡수 효과에 기인하는 분열성 광 손실의 결여의 동시 이용의 가능성을 갖는다.
일 실시예에서, 촉매층은 TiO2, ZnO, WO3, CaTiO3, SnO2, CaTiO3, MoO3, NbO5, Fe2O3, Ta2O5 및 TixZr1 - xO2(0 < x < 1)를 포함하는 그룹으로부터의 적어도 하나의 재료를 포함한다. 이들 재료 중 하나 이상의 선택에 의해, 긴 수명으로 낮은 입자 방출 또는 층의 탈가스를 달성하는 것이 가능하다.
일 실시예에서, 광학 시스템은 다수의 조명 설정에서 작동 가능하고, 이들 조명 설정 중 적어도 하나에서 사용된 빔 경로의 외부의 전자기 방사선은 촉매층 상에 편향된다.
일 실시예에서, 촉매 또는 화학적 활성층 및/또는 이 층을 지지하는 캐리어는 광학 시스템 내에 존재하는 가스 체적을 2개의 상이한 영역으로 분할한다. 이러한 가스 체적의 2개의 부분으로의 분할로 인해, 전체 가스 스트림은 해당 구성요소를 통과할 수 있고, 따라서 세정 효과와 연관된 오염물의 접착 또는 화학 반응을 달성할 수 있다.
본 발명은 또한 광학 시스템 내에 존재하는 가스 체적을 2개의 상이한 영역으로 분할하는 다공성 구성요소를 갖는 마이크로리소그래피 광학 시스템이며, 광학 시스템 내의 세정은 이 다공성 구성요소 상의 광학 시스템 내에 존재하는 오염물의 축적 또는 화학 반응을 통해 달성 가능한 마이크로리소그래피 광학 시스템에 관한 것이다.
일 실시예에서, 광학 시스템은 400 nm 미만, 특히 250 nm 미만, 더 특히 200 nm 미만의 작동 파장을 위해 설계된다.
일 실시예에서, 광학 시스템은 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 렌즈 또는 조명 디바이스이다.
일 실시예에서, 광학 시스템은 검사 렌즈, 특히 웨이퍼 검사 시스템 또는 마스크 검사 시스템의 검사 렌즈이다.
본 발명은 또한 조명 디바이스 및 투영 렌즈를 갖는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치에 관한 것으로서, 투영 노광 장치는 전술된 특징을 갖는 배열체를 갖는다.
본 발명의 다른 구성은 상세한 설명 및 종속 청구항으로부터 추론될 수 있다.
본 발명은 첨부 도면에 도시된 작동예를 참조하여 이하에 상세히 설명된다.
도 1은 일 실시예에서 오염물의 감소를 위한 본 발명의 배열체의 기능 모드의 설명을 위한 개략도를 도시하고 있다.
도 2는 본 발명이 구현될 수 있는 DUV에서의 작동을 위해 설계된 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 가능한 구성의 예시를 위한 개략도를 도시하고 있다.
먼저, 도 1의 개략도를 참조하여 본 발명의 배열체의 가능한 실시예가 이하에 설명된다.
도 1에서, "110"은 마이크로리소그래피 광학 시스템의 구성요소(105), 예를 들어, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 투영 렌즈 또는 조명 디바이스의 광학적으로 미사용된 영역, 또는 사용된 빔 경로의 외부의 영역에서 본 발명에 따라 도포되어 있는 촉매층을 나타낸다. 구성요소(105)는 단지 예로서, 조리개(stop) 또는 프레임일 수도 있다. 게다가, 구성요소(105)는 또한 렌즈 요소 또는 미러일 수도 있다.
촉매층(110)은 원하지 않는 비휘발성 오염물, 예를 들어 탄화수소의 분해를 위해 요구되는 에너지(예를 들어, 광자 에너지 또는 온도)의 저하를 유도하고, 그 결과 오염물 또는 탄화수소의 대응하는 분해가 실행되고 여기서 발생하는 단편은, 도 1에 지시된 바와 같이, 존재하는 퍼지 가스를 직접 이용하여 이격 운송되거나 또는 산소(O2) 및/또는 물(H2O)의 공급에 의해 산화될 수 있다.
구체적으로, 도 1에 따르면, 광학 시스템 내의 원하지 않는 오염물을 구성하는 유기 화합물(예를 들어, 탄화수소)의 분자(120)는 촉매층(110)의 표면에 타격하고 이 표면에 먼저 결합된다. 도 1에 마찬가지로 지시된 바와 같이, 광학 시스템의 작동시에, 촉매층(110)이 실제로 광학적으로 미사용된 영역 또는 사용된 빔 경로의 외부에 배치되는 사실에도 불구하고, 전자기 UV 방사선이 분자(120)에 타격한다. 이 전자기 방사선은, 예를 들어, 산란 방사선 또는 세정 목적을 위해(즉, 웨이퍼 노광을 위한 것이 아닌) 특별히 설정된 조명 설정에서 촉매층(110) 상에 편향된 방사선일 수도 있다.
단지 도 1에 개략적으로 지시된 바와 같이, 촉매층(110)에 의해 유도된 분자(120)의 분해를 위해 요구된 에너지(예를 들어, 광자 에너지 또는 온도)의 저하로 인한 전자기 방사선의 효과는, 분자(120)가 단편으로 분해된다는 것이다(즉, "활성화됨")(예를 들어, 도 1에 따른 단편 "A" 및 "B"). 이들 단편은, 이들의 비교적 저분자량으로 인해, 예를 들어 존재하는 퍼지 가스에 의해, 광학 시스템(예를 들어, 투영 렌즈)로부터 더 양호하게 퍼지되고, 또는 다른 시나리오에서, 도 1에 마찬가지로 지시된 바와 같이, 산소(O2) 또는 물(H2O)과 반응하고 따라서 산화될 수 있다(예를 들어, 성분 "C" 및 "D"로). 후자의 반응/산화의 효과는 대응적으로 분해된 분자(120)가 비교적 용이하게 탈착되고 광학 시스템 또는 투영 렌즈로부터 퍼지될 수 있다는 것이다.
광학적으로 미사용된 영역 또는 사용된 빔 경로의 외부에서 촉매층(110)의 위치설정으로 인해, 촉매층(110)의 흡수 효과에 기인하는 원하지 않는 광 손실의 문제가 회피되며, 그 결과 촉매층이 상기 흡수 효과에 관하여 설계될 수 없다. 특히, 본 발명에 따른 촉매층(110)은 비교적 높은 두께(예를 들어, 1 마이크로미터 이상의 크기 정도)를 가질 수 있으며, 그 결과 대응적으로 많은 양의 오염물 또는 분자(120)가 축적되고 전술된 바와 같이 분해될 수 있다.
도시된(도시되지 않은) 실시예에서, 촉매층(110)은 또한 오염물 또는 분자(120)의 축적 및 분해 프로세스를 더 향상하기 위해, 투명한 다공성 재료(예를 들어, SiO2)로 구성된 캐리어에 도포될 수도 있다. 실시예에서, 전체(퍼지) 가스 스트림을 상기 캐리어를 통해 안내하는 것도 또한 가능하다. 캐리어의 다공성 구성에 의해, 오염물 또는 분자(120)의 축적 및 변환을 더 향상시키는 것이 가능하다. 여기서 상대 밀도를 통한 다공도를 겉보기 밀도 및 진 밀도의 비로 정의하는 것이 가능하며, 이 비는 예를 들어 40% 초과여야 한다.
높은 다공도를 갖는 촉매층(110)의 구성에 의해, 본 발명은 해당 층(110)에 의해 기계적 힘이 전혀 전달될 필요가 없다는 사실을 이용하고, 층(110)은 단지 오염물의 변환의 최대 효용성의 목적으로만 설계될 수 있다(그러나, 단지 촉매층 자체의 재료는 임의의 탈가스 효과를 전혀 나타내지 않거나 또는 광학 시스템에 오염을 유발하지는 않는다는 것이 주목되어야 함). 촉매층(110)의 높은 거칠기는 마찬가지로 최대량의 오염물 또는 분자의 원하는 결합과 관련하여 유리하다.
본 발명의 실시예에서, 접착제 보호층 내로의 촉매층(110)의 통합이 특히 가능한데, 이는 접착제 보호층의 대응 영역에서 통상적으로 높은 방사선 강도를 이용하고 부가의 층의 도포를 위한 요구를 회피하는 것이 가능하다는 것을 의미한다.
다른 실시예에서, 층(110)은 또한 화학적 활성층일 수도 있고, 이 층은 화학 반응을 통해 세정 효과를 달성한다. 이 층은 예를 들어 오염물과의 접촉시 환원되고 따라서 해당 오염물을 산화시키는(상승) 더 고차 니켈 산화물을 포함할 수도 있다.
도 2는 DUV 범위(예를 들어, 약 193 nm)의 파장에서 작동을 위해 설계되고 조명 디바이스(201) 및 투영 렌즈(208)를 포함하는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치(200)의 다른 가능한 구성의 개략도를 도시하고 있다.
조명 디바이스(201)는 광원(202) 및 렌즈 요소(203, 204) 및 조리개(205)에 의해 매우 단순화된 방식으로 상징화된 조명 광학계를 포함한다. 도시된 예에서의 투영 노광 장치(200)의 작동 파장은, ArF 엑시머 레이저를 광원(202)으로서 사용할 때 193 nm이다. 그러나, 작동 파장은 예를 들어, 또한 i-라인 시스템의 경우에 365 nm, 광원(202)으로서 KrF 엑시머 레이저를 사용할 때 248 nm 또는 F2 레이저를 사용할 때 157 nm일 수도 있다. 조명 디바이스(201)와 투영 렌즈(208) 사이에는, 투영 렌즈(208)의 대물 평면(OP)에서 마스크 홀더(206)를 사용하여 빔 경로 내에 유지되는 마스크(207)가 배치되어 있다. 마스크(207)는 투영 렌즈(208)에 의해 투영 렌즈(208)의 화상 평면(IP) 상에 이미징되는, 예를 들어 4 또는 5배만큼 축소된 마이크로미터 내지 나노미터 범위의 구조를 갖는다. 투영 렌즈(208)는 렌즈 요소(209 내지 212 및 220)에 의해 단지 매우 단순화된 방식으로 또한 상징화되고 광축(OA)을 규정하는 렌즈 배열체를 포함한다.
감광층(215)을 구비하고 기판 홀더(218)를 통해 위치되는 기판(216) 또는 웨이퍼가 투영 렌즈(208)의 화상 평면(IP) 내에 유지된다. 투영 렌즈(208)의 화상 평면측의 최종 광학 요소(220)와 감광층(215) 사이에는, 작동예에서(그러나, 이에 대한 본 발명의 한정 없이), 예를 들어 탈이온화수일 수도 있는 침지 매체(250)가 존재한다.
도 2는 예로서 그 각각에 촉매층이 도포되어 있는 다공성 캐리어(230 또는 240)에 적합한 위치를 또한 지시하고 있다. 이들 위치는 각각 조명 디바이스(201) 또는 투영 렌즈(208)의 렌즈 요소(203 또는 209)와 외부벽(하우징) 사이에 있다. 이들 위치는 높은 미광 함량의 존재시에 유리하다. 바람직하게는, 다공성 캐리어(230 또는 240) 또는 여기서 촉매층은 섹션(또는 분리기 또는 분리 층)을 형성하며, 그 결과 광학 시스템 내에 존재하는 가스 체적은 2개의 상이한 영역으로 분할되고 가스 스트림은 이들을 완전히 통과해야 한다. 다른 실시예에서, 다공성 캐리어 대신에, 광학 시스템 내에 존재하는 가스 체적을 2개의 상이한 영역으로 마찬가지로 분할하는 다공성 구성요소(촉매 또는 화학적 활성층을 그 위에 갖지 않는)를 제공하는 것이 또한 가능하고, 이 경우에 광학 시스템 내의 세정은 이 다공성 구성요소 상의 광학 시스템 내에 존재하는 오염물의 축적을 통해 달성 가능하다.
본 발명이 특정 실시예를 참조하여 설명되었지만, 수많은 변형 및 대안 실시예가 예를 들어 개별 실시예의 특징의 조합 및/또는 교환을 통해 통상의 기술자에게 명백할 것이다. 이에 따라, 이러한 변형 및 대안 실시예는 또한 본 발명에 의해 포함되고, 본 발명의 범주는 단지 첨부된 청구범위 및 이들의 등가물의 범주 내에서만 제한된다는 것이 통상의 기술자에게 명백할 것이다.

Claims (16)

  1. 사용된 빔 경로를 따라 광학 시스템을 통과하는 전자기 방사선으로 작동하도록 구성된 마이크로리소그래피 광학 시스템이며,
    하우징 및 상기 하우징 내의 적어도 하나의 구성요소(105)를 포함하고, 상기 구성요소(105)는 하우징 내에서 상기 사용된 빔 경로의 외부에 있는 섹션의 경계를 정하고, 상기 섹션은 접착제 보호층을 포함하고, 상기 접착제 보호층은 상기 섹션 내에서 상기 사용된 빔 경로로부터 상기 하우징의 벽까지 환형으로 연장되고;
    촉매 또는 화학적 활성층(110)이 상기 접착제 보호층 내로 통합되고;
    상기 촉매 또는 화학적 활성층(110) 및/또는 상기 촉매 또는 화학적 활성층(110)을 지지하는 캐리어(230, 240)는 다공성인, 광학 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 촉매층(110)은 상기 촉매층(110)이 없는 유사한 시스템과의 비교에 의해 상기 광학 시스템에 존재하는 오염물의 분해 및/또는 산화를 위해 요구되는 에너지를 감소시키는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  3. 제2항에 있어서, 상기 오염물은 탄화수소를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구성요소(105)는 조리개 또는 프레임인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구성요소(105)는 렌즈 요소 또는 미러인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 촉매 또는 화학적 활성층(110)은 전자기 방사선에 투명한 캐리어(230, 240)에 도포되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 촉매층(110)은 적어도 1 ㎛의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 촉매층(110)은 TiO2, ZnO, WO3, CaTiO3, SnO2, CaTiO3, MoO3, NbO5, Fe2O3, Ta2O5 및 TixZr1-xO2(0 < x < 1)를 포함하는 그룹으로부터의 적어도 하나의 재료를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 다수의 조명 설정에서 작동 가능하고, 이들 조명 설정 중 적어도 하나에서 사용된 빔 경로의 외부의 전자기 방사선은 상기 촉매층(110) 상에 편향되는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  10. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 촉매 또는 화학적 활성층(110) 및/또는 상기 촉매 또는 화학적 활성층(110)을 지지하는 캐리어(230, 240)는 상기 광학 시스템 내에 존재하는 가스 체적을 2개의 상이한 영역으로 분할하는 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  11. 광학 시스템 내에 가스 체적이 형성되는 마이크로리소그래피 광학 시스템이며,
    하우징; 및
    상기 가스 체적을 2개의 상이한 영역으로 분할하는 다공성 구성요소를 포함하고,
    상기 다공성 구성요소는 상기 다공성 구성요소 상의 광학 시스템 내에 존재하는 오염물의 축적을 통해 상기 광학 시스템 내의 상기 가스 체적을 세정하도록 구성 및 배열되고, 상기 다공성 구성요소는 상기 하우징 내에 배치된 광학 요소로부터 상기 하우징의 벽까지 환형으로 연장하며 분리 층을 형성하는, 광학 시스템.
  12. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 400 nm 미만의 작동 파장을 위해 설계된 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  13. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치용 투영 렌즈 또는 조명 디바이스인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  14. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 검사 렌즈, 특히 웨이퍼 검사 시스템 또는 마스크 검사 시스템의 검사 렌즈인 것을 특징으로 하는 광학 시스템.
  15. 조명 디바이스 및 투영 렌즈를 갖는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치에 있어서, 상기 투영 노광 장치는 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 광학 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치.
  16. 삭제
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