KR102406894B1 - Peeling apparatus and peeling method for laminate, and manufacturing method of electronic device - Google Patents

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KR102406894B1 KR1020150069614A KR20150069614A KR102406894B1 KR 102406894 B1 KR102406894 B1 KR 102406894B1 KR 1020150069614 A KR1020150069614 A KR 1020150069614A KR 20150069614 A KR20150069614 A KR 20150069614A KR 102406894 B1 KR102406894 B1 KR 102406894B1
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Abstract

본 발명은 제1 기판과 유리제의 제2 기판이 박리 가능하게 부착되어서 이루어지는 1변의 길이가 600㎜ 이상인 직사각 형상의 적층체에 대하여, 상기 제2 기판의 일단부측으로부터 타단부측을 향한 박리 진행 방향을 따라서 상기 제2 기판을 휘게 함으로써, 상기 제2 기판을 상기 제1 기판으로부터 박리하는 적층체의 박리 장치에 있어서, 상기 제2 기판을 유지해서 상기 박리 진행 방향으로 휘게 하는 가요성 부재를 구비하고, 상기 가요성 부재는 본체부와 다공질 부재를 구비하고, 상기 제2 기판은 상기 다공질 부재를 개재해서 상기 본체부에 흡착 유지되고, 상기 다공질 부재는 두께 2㎜ 이하의 시트 형상 부재인 것을 특징으로 하는 적층체의 박리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a direction of peeling progress from one end of the second substrate to the other in a rectangular laminate having a side length of 600 mm or more, in which a first substrate and a second glass substrate are detachably attached. In the laminate peeling apparatus for peeling the second substrate from the first substrate by bending the second substrate along the , wherein the flexible member includes a body portion and a porous member, the second substrate is adsorbed and held on the body portion via the porous member, and the porous member is a sheet-like member having a thickness of 2 mm or less, characterized in that It relates to the peeling apparatus of the laminated body which says.

Description

적층체의 박리 장치 및 박리 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법{PEELING APPARATUS AND PEELING METHOD FOR LAMINATE, AND MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE}The peeling apparatus and peeling method of a laminated body, and the manufacturing method of an electronic device TECHNICAL FIELD

본 발명은 적층체의 박리 장치 및 박리 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a peeling apparatus and a peeling method of a laminate, and a manufacturing method of an electronic device.

표시 패널, 태양 전지, 박막 이차 전지 등의 전자 디바이스의 박형화, 경량화에 수반하여, 이들 전자 디바이스에 사용되는 유리판, 수지판, 금속판 등의 기판(제1 기판)의 박판화가 요망되고 있다.With the reduction in thickness and weight of electronic devices such as display panels, solar cells, and thin film secondary batteries, thinning of substrates (first substrates) such as glass plates, resin plates, and metal plates used in these electronic devices is desired.

그러나, 기판의 두께가 얇아지면, 기판의 핸들링성이 악화되기 때문에, 기판의 표면에 전자 디바이스용 기능층(박막 트랜지스터(TFT: Thin Film Transistor), 컬러 필터(CF: Color Filter))를 형성하는 것이 곤란해진다.However, as the thickness of the substrate decreases, the handling property of the substrate deteriorates, so it is not recommended to form a functional layer for electronic devices (Thin Film Transistor (TFT), Color Filter (CF)) on the surface of the substrate. it gets difficult

따라서, 기판의 이면에 유리제의 보강판(제2 기판)을 부착하고, 기판을 보강판에 의해 보강한 적층체를 구성하고, 적층체의 상태로 기판의 표면에 기능층을 형성하는 방법이 제안되어 있다(특허문헌 1 참조). 이 방법에서는, 기판의 핸들링성이 향상되기 때문에, 기판의 표면에 기능층을 양호하게 형성할 수 있다. 그리고, 보강판은 기능층의 형성 후에 기판으로부터 박리된다.Accordingly, a method is proposed in which a glass reinforcing plate (second substrate) is attached to the back surface of the substrate, a laminate is formed in which the substrate is reinforced with the reinforcing plate, and a functional layer is formed on the surface of the substrate in the state of the laminate. (refer to Patent Document 1). In this method, since the handling property of a board|substrate improves, a functional layer can be formed favorably on the surface of a board|substrate. And the reinforcing plate is peeled from a board|substrate after formation of a functional layer.

보강판의 박리 방법은, 일례로서 직사각 형상의 적층체의 대각선 상에 위치하는 2개의 코너부의 한쪽으로부터 다른 쪽을 향해서, 보강판 또는 기판, 또는 그 양쪽을 서로 이격시키는 방향으로 휨 변형시킴으로써 행하여진다. 이 때, 박리가 원활하게 행하여지기 위해서, 적층체의 한쪽 코너부에 박리 개시부가 제작된다. 박리 개시부는, 특허문헌 1과 같이, 적층체의 단부면으로부터 기판과 보강판의 계면에 박리날을 소정량 자입(刺入)함으로써 제작된다.The peeling method of the reinforcing plate is performed by bending and deforming the reinforcing plate or the substrate, or both of them in a direction spaced apart from each other, from one side to the other of the two corner portions located on the diagonal of a rectangular laminate as an example. . At this time, in order to perform peeling smoothly, a peeling start part is produced in one corner part of a laminated body. A peeling start part is produced by inserting a predetermined amount of a peeling blade into the interface of a board|substrate and a reinforcing plate from the end surface of a laminated body like patent document 1.

특허문헌 1의 박리 장치는 스테이지, 가요성 부재 및 패드 등을 구비하고 있으며, 스테이지에서 기판을 흡착 유지하고, 가요성 부재로 보강판을 흡착 유지하고, 패드로 보강판을 한쪽으로부터 다른 쪽을 향해서 휨 변형시킴으로써, 보강판을 기판으로부터 박리한다.The peeling apparatus of patent document 1 is provided with a stage, a flexible member, a pad, etc., The board|substrate is adsorbed and held by the stage, the reinforcing plate is adsorbed and held by the flexible member, and the reinforcing plate is moved from one side to the other with the pad. By bending and deforming, the reinforcing plate is peeled from the substrate.

가요성 부재는 고무제의 설치부와, 가요성 부재의 굴곡 강성을 규정하는 규정부(본체부)로 구성되고, 설치부의 홈부와 규정부의 관통 구멍이 연통되어, 관통 구멍에 접속된 진공 펌프의 흡인력에 의해 설치부에 보강판이 흡착 유지된다.The flexible member is composed of a rubber mounting portion and a defining portion (body portion) defining the bending rigidity of the flexible member, the groove portion of the mounting portion and the through hole of the defining portion communicate with each other, and the vacuum pump connected to the through hole. The reinforcing plate is adsorbed and held in the installation part by the suction force.

특허문헌 1에는 설치부의 두께가 1㎜ 이상 30㎜ 이하인 것이 개시되어 있다.Patent Document 1 discloses that the thickness of the mounting portion is 1 mm or more and 30 mm or less.

또한, 규정부에 대해서는, 단위 폭(1㎜)당 굴곡 강성이 1000 내지 40000N·㎟/㎜인 것이 개시되어 있으며, 폴리염화비닐, 아크릴 수지, 폴리아세탈 수지 등의 수지판 외에, 금속판이 사용되는 것이 개시되어 있다.In addition, as for the regulation part, it is disclosed that the flexural rigidity per unit width (1 mm) is 1000 to 40000 N mm2 / mm, and in addition to resin plates such as polyvinyl chloride, acrylic resin, polyacetal resin, and the like, a metal plate is used. that is disclosed.

국제 공개 제2011/024689호International Publication No. 2011/024689

특허문헌 1의 박리 장치에서는, 1변의 길이가 600㎜ 미만인 보강판의 경우에는 문제없이 원활하게 박리할 수 있다. 그러나, 1변의 길이가 600㎜ 이상인 보강판에서는 박리 중에 보강판이 파손되는 경우가 있었다. 또한, 1변의 길이가 1000㎜ 이상인 보강판에서는, 파손의 발생 빈도가 높아진다고 하는 문제가 있었다. 또한, 보강판의 1변의 길이와 적층체의 1변의 길이는 동등한 것이다.In the peeling apparatus of patent document 1, in the case of the reinforcing plate whose length of one side is less than 600 mm, it can peel smoothly without a problem. However, in the case of a reinforcing plate having a length of one side of 600 mm or more, the reinforcing plate may be damaged during peeling. Moreover, in the reinforcing plate whose length of one side is 1000 mm or more, there existed a problem that the occurrence frequency of a breakage became high. In addition, the length of one side of a reinforcing plate and the length of one side of a laminated body are equivalent.

본 발명은 이러한 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 특히 1변의 길이가 600㎜ 이상인 적층체이며, 제2 기판이 흡착 유지된 가요성 부재를 휨 변형시켜서 제2 기판을 제1 기판으로부터 박리시킬 때에, 제2 기판의 파손을 방지할 수 있는 적층체의 박리 장치 및 박리 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of such a subject, and in particular, it is a laminate having a length of 600 mm or more on one side. It aims at providing the peeling apparatus and peeling method of the laminated body which can prevent the breakage of 2 board|substrates, and the manufacturing method of an electronic device.

본 발명은 종래 기술의 문제를 예의 검토하여, 이하의 제1 및 제2 지견에 기초하여 이루어진 것이다.The present invention has been made based on the following first and second findings by earnestly examining the problems of the prior art.

[제1 지견][First knowledge]

유리제의 보강판을 휘게한 경우, 박리전선(박리된 부분과 미박리 부분의 경계) 근방에서는, 외원주부(기판에 대한 부착면)에는 인장 응력이 발생하고, 내원주부에는 압축 응력이 발생한다. 유리는, 파손에 대하여 압축 응력에는 강하지만, 인장 응력에는 약하다고 하는 특성을 갖는다.When a glass reinforcing plate is warped, in the vicinity of the peeling front (the boundary between the peeled portion and the non-peelable portion), tensile stress is generated in the outer circumferential portion (the surface attached to the substrate), and compressive stress is generated in the inner circumferential portion. Glass has the characteristic that although it is strong in compressive stress with respect to breakage, it is weak in tensile stress.

가요성 부재에 대한 보강판의 면 방향 보유 지지력(단위 면적당 흡착력×흡착 면적×마찰 계수)은 보강판의 사이즈가 커짐에 따라서 커진다.The in-plane holding force (adsorption force per unit area x adsorption area x friction coefficient) of the reinforcing plate with respect to the flexible member increases as the size of the reinforcing plate increases.

상기 전제에 기초하여, 가요성 부재에 의해 보강판을 휘게 하면, 보강판에 발생하는 응력도 상승한다. 이 때, 가요성 부재에 대하여 보강판이 미끄러지면서 휘어지는 경우에는, 보강판의 외원주부에는 휜 만큼의 인장 응력밖에 발생하지 않는다.Based on the said premise, when a reinforcing plate is bent with a flexible member, the stress which generate|occur|produces in a reinforcing board will also rise. At this time, when the reinforcing plate is bent while sliding with respect to the flexible member, only a tensile stress corresponding to the bending occurs in the outer circumferential portion of the reinforcing plate.

그러나, 보강판의 사이즈가 커짐에 따라서, 상기 면 방향 보유 지지력이 증대되기 때문에, 가요성 부재에 대한 보강판의 미끄러짐이 현저하게 나빠진다(또는 미끄러짐이 완전히 없어진다)고 하는 현상이 발생한다.However, since the said in-plane holding force increases as the size of a reinforcing plate becomes large, the phenomenon that the sliding of the reinforcing plate with respect to a flexible member worsens remarkably (or slipping disappears completely) arises.

가요성 부재에 대한 보강판의 미끄러짐이 나빠지면, 보강판의 외원주부에는 과잉 인장 응력이 발생한다. 즉, 보강판의 외원주부에는 보강판 단체를 휘게 함으로써 발생하는 인장 응력과, 보강판과 가요성 부재 사이의 미끄러짐이 일부 또는 모두 구속됨으로써 보강판의 중립면에 발생하는 인장 응력의 합산값이 작용한다. 이것이 원인으로, 보강판을 동일한 곡률 반경으로 휘게 한 경우이더라도, 사이즈가 큰 보강판이 사이즈가 작은 보강판보다도 파손되기 쉬워지는 것을 밝혀냈다. 즉, 제1 지견은 가요성 부재에 대한 보강판의 미끄러짐에 착안한 점이다.When the sliding of the reinforcing plate with respect to the flexible member worsens, excessive tensile stress is generated in the outer circumferential portion of the reinforcing plate. That is, the sum of the tensile stress generated by bending the reinforcing plate alone and the tensile stress generated in the neutral plane of the reinforcing plate by partially or all restraining the sliding between the reinforcing plate and the flexible member acts on the outer circumference of the reinforcing plate. do. Even when it was a case where this was a cause and the reinforcement board was bent with the same radius of curvature, it discovered that the reinforcing board with a large size became more easily damaged than the reinforcing board with a small size. That is, the first knowledge is a point focusing on the sliding of the reinforcing plate with respect to the flexible member.

[제2 지견][Second knowledge]

가요성 부재에 대한 보강판의 미끄러짐이 나쁜 상태에서, 보강판을 가요성 부재의 본체부로부터 떨어진 위치에서 휘게 하면, 보강판의 외원주부에 발생하는 인장 응력이, 근접한 위치에서 휘게 한 경우와 비교해서 커져서, 파손의 원인이 된다. 즉, 제2 지견은 가요성 부재의 본체부와 보강판의 면간 거리에 착안한 점이다. 또한, 인장 응력은 가요성 부재의 본체부 및 보강판의 곡률 반경, 영률, 보강판의 두께에 기초하여 이미 알려진 응력 계산식에 의해 구해진다.When the reinforcing plate is bent at a position away from the main body of the flexible member in a state where the reinforcing plate has poor sliding with respect to the flexible member, the tensile stress generated in the outer circumferential portion of the reinforcing plate is compared with the case where the reinforcing plate is bent at an adjacent position It becomes large and causes damage. That is, the second knowledge is a point focused on the distance between the main body of the flexible member and the face of the reinforcing plate. In addition, the tensile stress is obtained by a known stress calculation formula based on the radius of curvature of the main body of the flexible member and the reinforcing plate, Young's modulus, and the thickness of the reinforcing plate.

제1 및 제2 지견에 기초하여, 종래의 과제를 해결하는 본 발명을 이하에 제공한다.Based on the 1st and 2nd knowledge, this invention which solves the conventional subject is provided below.

본 발명의 적층체 박리 장치는, 상기 목적을 달성하기 위해서, 제1 기판과 유리제의 제2 기판이 박리 가능하게 부착되어서 이루어지는 1변의 길이가 600㎜ 이상인 직사각 형상의 적층체에 대하여, 상기 제2 기판의 일단부측으로부터 타단부측을 향한 박리 진행 방향을 따라서 상기 제2 기판을 휘게 함으로써, 상기 제2 기판을 상기 제1 기판으로부터 박리하는 적층체의 박리 장치에서, 상기 제2 기판을 유지해서 상기 박리 진행 방향으로 휘게 하는 가요성 부재를 구비하고, 상기 가요성 부재는 본체부와 다공질 부재를 구비하고, 상기 제2 기판은 상기 다공질 부재를 개재해서 상기 본체부에 흡착 유지되고, 상기 다공질 부재는 두께 2㎜ 이하의 시트 형상 부재인 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the laminate peeling apparatus of the present invention is a rectangular laminate having a side length of 600 mm or more, in which a first substrate and a glass second substrate are peelably attached to each other. In a laminate peeling apparatus for peeling the second substrate from the first substrate by bending the second substrate along the peeling proceeding direction from one end side of the substrate to the other end side, the second substrate is held and the a flexible member for bending in a peeling proceeding direction, wherein the flexible member has a main body and a porous member, the second substrate is adsorbed and held in the main body with the porous member interposed therebetween, the porous member comprising: It is a sheet-like member with a thickness of 2 mm or less, It is characterized by the above-mentioned.

본 발명의 적층체의 박리 방법은, 상기 목적을 달성하기 위해서, 제1 기판과 유리제의 제2 기판이 박리 가능하게 부착되어서 이루어지는 1변의 길이가 600㎜ 이상인 직사각 형상의 적층체의 박리 방법이며, 상기 적층체의 상기 제2 기판을, 두께 2㎜ 이하의 다공질 부재 및 본체부를 구비하는 가요성 부재의 상기 다공질 부재를 개재해서 상기 본체부에 흡착 유지시키는 유지 공정과, 상기 제2 기판의 일단부측으로부터 타단부측을 향한 박리 진행 방향을 따라서 상기 가요성 부재를 휘게 함으로써, 상기 제2 기판을 상기 제1 기판으로부터 박리하는 박리 공정을 구비한 것을 특징으로 한다.The peeling method of the laminate of the present invention is a peeling method of a rectangular laminate having a side length of 600 mm or more, in which a first substrate and a glass second substrate are detachably attached to each other in order to achieve the above object, a holding step of adsorbing and holding the second substrate of the laminate to the main body via the porous member of a flexible member including a porous member having a thickness of 2 mm or less and a main body; and a peeling step of peeling the second substrate from the first substrate by bending the flexible member along a peeling proceeding direction from the to the other end side.

본 발명의 전자 디바이스의 제조 방법은, 상기 목적을 달성하기 위해서, 제1 기판과 유리제의 제2 기판이 박리 가능하게 부착되어서 이루어지는 1변의 길이가 600㎜ 이상인 직사각 형상의 적층체에서의 상기 제1 기판의 노출면에 기능층을 형성하는 기능층 형성 공정과, 상기 기능층이 형성된 상기 제1 기판으로부터 상기 제2 기판을 분리하는 분리 공정을 갖는 전자 디바이스의 제조 방법에 있어서, 상기 분리 공정은 상기 적층체의 상기 제2 기판을, 두께 2㎜ 이하의 다공질 부재 및 본체부를 구비하는 가요성 부재의 상기 다공질 부재를 개재해서 상기 본체부에 흡착 유지시키는 유지 공정과, 상기 제2 기판의 일단부측으로부터 타단부측을 향한 박리 진행 방향을 따라서 상기 가요성 부재를 휘게 함으로써, 상기 제2 기판을 상기 제1 기판으로부터 박리하는 박리 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.In the manufacturing method of the electronic device of this invention, in order to achieve the said objective, in the rectangular laminated body with one side length of 600 mm or more which a 1st board|substrate and a glass-made 2nd board|substrate are attached so that peeling is possible, it said 1st A method of manufacturing an electronic device comprising: a functional layer forming process of forming a functional layer on an exposed surface of a substrate; and a separating process of separating the second substrate from the first substrate on which the functional layer is formed, wherein the separating process comprises: a holding step of adsorbing and holding the second substrate of the laminate to the main body via the porous member of a flexible member including a porous member having a thickness of 2 mm or less and a main body; and a peeling step of peeling the second substrate from the first substrate by bending the flexible member along a peeling advancing direction toward the other end side.

본 발명에서는, 박리 시에 있어서의 파손 발생 빈도가 높은 1변의 길이가 600㎜ 이상인 직사각 형상의 적층체를 대상으로 하고, 또한 가요성 부재의 본체부와 적층체의 면간 거리에 상당하는 다공질 부재의 두께를 2㎜ 이하로 규정하였다. 그리고, 적층체의 제2 기판을 다공질 부재를 개재해서 본체부에 흡착 유지하고, 가요성 부재를 휨 변형시켜서, 제2 기판을 일단부측으로부터 타단부측을 향해서 휘게 함으로써, 제2 기판을 제1 기판으로부터 박리한다.In the present invention, a rectangular laminate having a side length of 600 mm or more with a high frequency of breakage during peeling is targeted, and a porous member corresponding to the distance between the body portion of the flexible member and the surface of the laminate. The thickness was defined to be 2 mm or less. Then, by adsorbing and holding the second substrate of the laminate to the main body through the porous member, bending the flexible member, and bending the second substrate from one end side to the other end side, the second substrate is formed into the first peel off from the substrate.

본 발명에 따르면, 1변의 길이가 600㎜ 이상인 직사각 형상의 적층체이더라도, 즉 휨 변형 시에 가요성 부재의 본체부에 대하여 미끄러지지 않는 적층체이더라도, 다공질 부재의 두께가 2㎜ 이하이므로, 제2 기판의 중립면에 발생하는 인장 응력이 대폭 저감된다. 이에 의해, 제2 기판의 외원주부에 발생하는 인장 응력도 대폭 저감되므로, 제2 기판의 손상을 방지할 수 있다. 강성이 높은 유리제의 제2 기판을 휘게 하기 위한 흡착력의 하한값은 규정되어 있으며, 그 하한값의 흡착력을 가지고 제2 기판을 흡착해서 휘게 한 경우이더라도, 1변이 600㎜ 이상인 제2 기판에서는 미끄러짐이 억제된다.According to the present invention, even in a rectangular laminate having a side length of 600 mm or more, that is, even in a laminate that does not slide with respect to the body portion of the flexible member during bending deformation, since the thickness of the porous member is 2 mm or less, the second The tensile stress generated on the neutral plane of the substrate is significantly reduced. Thereby, since the tensile stress generated in the outer circumferential portion of the second substrate is also greatly reduced, it is possible to prevent damage to the second substrate. The lower limit of the adsorption force for bending the glass-made second substrate with high rigidity is prescribed, and even when the second substrate is adsorbed and bent with the lower limit of the adsorption force, slip is suppressed in the second substrate having one side of 600 mm or more. .

본 발명은 상기 적층체가 1변의 길이가 1000㎜ 이상인 경우에 의해 적합하다.This invention is suitable when the length of one side of the said laminated body is 1000 mm or more.

본 발명에 따르면, 파손이 현저하게 발생하는 1변의 길이가 1000㎜ 이상인 적층체이더라도, 제2 기판을 제1 기판으로부터 원활하게 박리할 수 있는 것을 실험에 의해 확인할 수 있었다. 예를 들어, 긴 변이 1250㎜, 짧은 변이 1050㎜인 적층체이더라도 제2 기판을 파손하지 않고 박리됨을 실험에 의해 확인할 수 있었다.According to the present invention, it has been confirmed by experiment that the second substrate can be smoothly peeled from the first substrate even in a laminate having a length of 1000 mm or more on one side in which breakage occurs remarkably. For example, it was confirmed through experiments that even a laminate having a long side of 1250 mm and a short side of 1050 mm was peeled off without damaging the second substrate.

본 발명에서는, 상기 다공질 부재는 두께 1㎜ 이하인 것이 바람직하다.In this invention, it is preferable that the said porous member is 1 mm or less in thickness.

상기 다공질 부재가 두께 1㎜ 이하인 경우에는, 가요성 부재의 본체부와 제2 기판의 면간 거리가 더 짧아지므로, 제2 기판에 발생하는 인장 응력을 보다 저감시킬 수 있다.When the porous member has a thickness of 1 mm or less, the distance between the main body of the flexible member and the second substrate becomes shorter, so that the tensile stress generated in the second substrate can be further reduced.

본 발명에서는, 상기 가요성 부재의 상기 본체부는 영률이 10GPa 이하인 수지제 부재인 것이 바람직하다.In the present invention, the body portion of the flexible member is preferably a resin member having a Young's modulus of 10 GPa or less.

가요성 부재의 본체부가 유리제의 제2 기판의 영률(70GPa 내지 80GPa)과 대략 동일 정도 또는 보다 큰 재질인 경우에는, 휨 변형 시에 발생하는 제2 기판의 인장 응력을 본체부에서 부담하는 효과를 충분히 얻지 못하고, 반대로 본체부의 인장 응력을 제2 기판에서 부담하는 작용이 발생하므로 바람직하지 않다.When the body portion of the flexible member is made of a material that is about the same as or larger than the Young's modulus (70 GPa to 80 GPa) of the second substrate made of glass, the effect of bearing the tensile stress of the second substrate generated during bending deformation in the body portion is reduced. It is not preferable because it does not obtain enough, and the effect|action which bears the tensile stress of a main body part on the 2nd board|substrate on the contrary arises.

따라서, 가요성 부재의 본체부를 영률이 10GPa 이하인 수지 부재로 한 경우, 휨 변형 시에 발생하는 제2 기판의 인장 응력을 본체부에서 부담할 수 있다. 이에 의해, 제2 기판에 발생하는 인장 응력을 보다 한층 저감시킬 수 있다.Therefore, when the main body of the flexible member is made of a resin member having a Young's modulus of 10 GPa or less, the main body can bear the tensile stress of the second substrate that occurs during bending deformation. Thereby, the tensile stress which generate|occur|produces in a 2nd board|substrate can be reduced further.

본 발명에서는, 상기 가요성 부재의 상기 본체부에는, 상기 다공질 부재를 포위하고 또한 상기 제2 기판에 접촉되는 프레임 형상 부재가 구비되고, 상기 프레임 형상 부재는 쇼어 E 경도가 20도 이상 50도 이하인 독립 기포의 스펀지인 것이 바람직하다.In the present invention, the body portion of the flexible member is provided with a frame-shaped member that surrounds the porous member and is in contact with the second substrate, wherein the frame-shaped member has a Shore E hardness of 20 degrees or more and 50 degrees or less. It is preferable that it is a closed-cell sponge.

이와 같은 구성에 의하면, 제2 기판의 모든 테두리부가 프레임 형상 부재에 밀착되고, 프레임 형상 부재의 내측 기밀이 유지되므로, 다공질 부재에 제2 기판을 진공 흡착할 때의 흡인용 에어의 누설을 프레임 형상 부재에 의해 방지할 수 있다.According to such a configuration, all the edge portions of the second substrate are in close contact with the frame-shaped member, and since the inner airtightness of the frame-shaped member is maintained, the leakage of suction air when the second substrate is vacuum-adsorbed to the porous member is reduced in the frame shape. absence can be prevented.

또한, 프레임 형상 부재가 쇼어 E 경도가 20도 이상 50도 이하인 독립 기포의 스펀지인 경우, 박리 시에 가요성 부재의 본체부에 국소적인 미량의 변형이 발생하더라도, 그 변형을 스펀지의 탄성에서 흡수할 수 있다. 따라서, 스펀지와 제2 기판의 테두리부의 밀착성을 유지할 수 있으므로, 박리 시에 있어서의 흡인용 에어의 누설을 방지할 수 있다.In addition, when the frame-shaped member is a closed-cell sponge having a Shore E hardness of 20 degrees or more and 50 degrees or less, even if a local slight deformation occurs in the body portion of the flexible member during peeling, the deformation is absorbed by the elasticity of the sponge can do. Therefore, since the adhesiveness of the edge part of a sponge and a 2nd board|substrate can be maintained, leakage of the suction air at the time of peeling can be prevented.

본 발명의 적층체 박리 장치 및 박리 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법에 의하면, 특히 1변의 길이가 600㎜ 이상인 적층체에서, 보강판이 흡착 유지된 가요성 부재를 휨 변형시켜서 보강판을 기판으로부터 박리시킬 때에, 보강판의 파손을 방지할 수 있다.According to the laminated body peeling apparatus and peeling method of this invention, and the manufacturing method of an electronic device, especially in a laminated body whose length of one side is 600 mm or more, the flexible member with which the reinforcing plate was adsorbed and held is bent and deformed, and a reinforcing plate is peeled from a board|substrate. When doing this, it is possible to prevent damage to the reinforcing plate.

도 1은 전자 디바이스의 제조 공정에 제공되는 적층체의 일례를 도시하는 주요부 확대 측면도.
도 2는 LCD의 제조 공정 도중에 제작되는 적층체의 일례를 도시하는 주요부 확대 측면도.
도 3의 (A) 내지 도 3의 (E)는 박리 개시부 제작 장치에 의한 박리 개시부 제작 방법을 도시한 설명도.
도 4는 박리 개시부 제작 방법에 의해 박리 개시부가 제작된 적층체의 평면도.
도 5는 실시 형태의 박리 장치의 구성을 도시한 종단면도.
도 6은 가요성판에 대한 복수의 가동체의 배치 위치를 모식적으로 도시한 가요성판의 평면도.
도 7의 (A) 및 도 7의 (B)는 가요성판의 구성을 도시한 평면도 및 단면도.
도 8은 적층체의 계면에서 보강판을 박리하고 있는 박리 장치의 종단면도.
도 9의 (A) 내지 도 9의 (C)는 박리 개시부 제작 방법에 의해 박리 개시부가 제작된 적층체의 보강판을 박리하는 박리 방법을 시계열적으로 도시한 설명도.
도 10의 (A) 내지 도 10의 (C)는 도 9에 이어서 적층체의 보강판을 박리하는 박리 방법을 시계열적으로 도시한 설명도.
도 11은 다공질 시트의 두께에 대한 보강판에 발생하는 인장 응력의 관계를 나타낸 그래프.
도 12는 실시 형태의 가요성판의 주요부 종단면도.
도 13은 종래의 가요성판의 주요부 단면도.
도 14의 (A) 및 도 14의 (B)는 종래의 가요성판과 실시 형태의 가요성판의 측면도.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a principal part enlarged side view which shows an example of the laminated body provided to the manufacturing process of an electronic device.
Fig. 2 is an enlarged side view of a main part showing an example of a laminate produced during the manufacturing process of an LCD;
3(A) to 3(E) are explanatory views showing a peeling start part manufacturing method by a peeling start part manufacturing apparatus.
It is a top view of the laminated body in which the peeling initiation part was produced by the peeling initiation part manufacturing method.
Fig. 5 is a longitudinal sectional view showing the configuration of the peeling device according to the embodiment.
Fig. 6 is a plan view of a flexible plate schematically showing an arrangement position of a plurality of movable bodies with respect to the flexible plate;
7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view showing the configuration of the flexible plate.
Fig. 8 is a longitudinal cross-sectional view of a peeling device for peeling a reinforcing plate at an interface of a laminate.
9(A) to 9(C) are explanatory views showing in time series the peeling method of peeling the reinforcement plate of the laminate in which the peeling initiation part was produced by the peeling initiation part manufacturing method.
10(A) to 10(C) are explanatory views showing in time series the peeling method of peeling the reinforcement plate of the laminated body following FIG. 9;
11 is a graph showing the relationship between the tensile stress generated in the reinforcing plate with respect to the thickness of the porous sheet.
Fig. 12 is a longitudinal sectional view of a main part of the flexible plate according to the embodiment;
Fig. 13 is a sectional view of an essential part of a conventional flexible plate;
Fig. 14(A) and Fig. 14(B) are side views of the conventional flexible plate and the flexible plate of the embodiment.

이하, 첨부 도면에 따라서, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described according to an accompanying drawing.

이하에서는, 본 발명에 따른 적층체의 박리 장치 및 박리 방법을 전자 디바이스의 제조 공정에서 사용하는 경우에 대해서 설명한다.Hereinafter, the case where the peeling apparatus and peeling method of the laminated body which concern on this invention are used in the manufacturing process of an electronic device are demonstrated.

전자 디바이스란, 표시 패널, 태양 전지, 박막 이차 전지 등의 전자 부품을 말한다. 표시 패널로서는, 액정 디스플레이(LCD: Liquid Crystal Display) 패널, 플라즈마 디스플레이 패널(PDP: Plasma Display Panel) 및 유기 EL 디스플레이(OELD: Organic Electro Luminescence Display) 패널을 예시할 수 있다.An electronic device means electronic components, such as a display panel, a solar cell, and a thin film secondary battery. As the display panel, a liquid crystal display (LCD) panel, a plasma display panel (PDP), and an organic electroluminescence display (OELD) panel can be exemplified.

[전자 디바이스의 제조 공정][Electronic device manufacturing process]

전자 디바이스는 유리제, 수지제, 금속제 등의 기판 표면에 전자 디바이스용 기능층(LCD라면, 박막 트랜지스터(TFT), 컬러 필터(CF))을 형성함으로써 제조된다.Electronic devices are manufactured by forming functional layers for electronic devices (thin film transistors (TFTs) and color filters (CFs) in the case of LCDs) on the surface of a substrate made of glass, resin, metal, or the like.

상기 기판은 기능층의 형성 전에, 그 이면이 보강판에 부착되어서 적층체로 구성된다. 그 후, 적층체의 상태로 기판의 표면에 기능층이 형성된다. 그리고, 기능층의 형성 후, 보강판이 기판으로부터 박리된다.The substrate is configured as a laminate by attaching its back surface to a reinforcing plate before the formation of the functional layer. Thereafter, a functional layer is formed on the surface of the substrate in the state of the laminate. And after formation of a functional layer, a reinforcing plate peels from a board|substrate.

즉, 전자 디바이스의 제조 공정에는, 적층체의 상태로 기판의 표면에 기능층을 형성하는 기능층 형성 공정 및 기능층이 형성된 기판으로부터 보강판을 분리하는 분리 공정이 구비된다. 이 분리 공정에, 본 발명에 따른 적층체의 박리 장치 및 박리 방법이 적용된다.That is, the manufacturing process of an electronic device is equipped with the functional layer formation process of forming a functional layer on the surface of a board|substrate in the state of a laminated body, and the separation process of isolate|separating a reinforcing plate from the board|substrate on which the functional layer was formed. In this separation process, the peeling apparatus and peeling method of the laminated body which concern on this invention are applied.

[적층체(1)][Laminate (1)]

도 1은 적층체(1)의 일례를 도시한 주요부 확대 측면도이다.1 : is a principal part enlarged side view which shows an example of the laminated body 1. As shown in FIG.

적층체(1)는 기능층이 형성되는 기판(제1 기판)(2)과, 그 기판(2)을 보강하는 유리제의 보강판(제2 기판)(3)을 구비한다. 또한, 보강판(3)은 표면(3a)에 흡착층으로서의 수지층(4)이 구비되고, 수지층(4)에 기판(2)의 이면(2b)이 부착된다. 즉, 기판(2)은 수지층(4)과의 사이에 작용하는 반데발스 힘, 또는 수지층(4)의 점착력에 의해, 보강판(3)에 수지층(4)을 개재해서 박리 가능하게 부착된다. 또한, 적층체(1)는 1변의 길이가 600㎜ 이상인 것이다.The laminated body 1 is provided with the board|substrate (1st board|substrate) 2 on which a functional layer is formed, and the glass reinforcing board (2nd board|substrate) 3 which reinforces the board|substrate 2 . Moreover, the reinforcing plate 3 is provided with the resin layer 4 as an adsorption|suction layer on the surface 3a, and the back surface 2b of the board|substrate 2 is attached to the resin layer 4 . That is, the substrate 2 can be peeled from the reinforcing plate 3 via the resin layer 4 by the Van der Waals force acting between the resin layer 4 or the adhesive force of the resin layer 4 . is attached In addition, the length of one side of the laminated body 1 is 600 mm or more.

[기판(2)][Substrate (2)]

기판(2)은 그 표면(노출면)(2a)에 기능층이 형성된다. 기판(2)으로서는, 유리 기판, 세라믹스 기판, 수지 기판, 금속 기판, 반도체 기판을 예시할 수 있다. 이들 기판 중에서도 유리 기판은 내약품성, 내투습성이 우수하고, 또한 선팽창계수가 작으므로, 전자 디바이스용 기판(2)으로서 적합하다. 또한, 선팽창 계수가 작아짐에 따라서, 고온 하에서 형성되는 기능층의 패턴이 냉각 시에 어긋나기 어려워지는 이점도 있다.A functional layer is formed on the surface (exposed surface) 2a of the substrate 2 . As the substrate 2, a glass substrate, a ceramic substrate, a resin substrate, a metal substrate, and a semiconductor substrate can be exemplified. Among these board|substrates, a glass substrate is excellent in chemical-resistance and moisture permeability-resistance, and since the coefficient of linear expansion is small, it is suitable as the board|substrate 2 for electronic devices. In addition, as the coefficient of linear expansion decreases, there is also an advantage in that the pattern of the functional layer formed under high temperature is less likely to shift at the time of cooling.

유리 기판의 유리로서는, 무알칼리 유리, 붕규산 유리, 소다석회 유리, 고실리카 유리, 그 밖의 산화규소를 주된 성분으로 하는 산화물계 유리를 예시할 수 있다. 산화물계 유리로서는, 산화물 환산에 의한 산화규소의 함유량이 40 내지 90질량%의 유리가 바람직하다.As glass of a glass substrate, an alkali free glass, borosilicate glass, soda-lime glass, high silica glass, and the oxide type glass which has another silicon oxide as a main component can be illustrated. As oxide type glass, the glass whose content of the silicon oxide by oxide conversion is 40-90 mass % is preferable.

유리 기판의 유리는 제조하는 전자 디바이스의 종류에 적합한 유리, 그 제조 공정에 적합한 유리를 선택해서 채용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 액정 패널용 유리 기판에는 알칼리 금속 성분을 실질적으로 포함하지 않는 유리(무알칼리 유리)를 채용하는 것이 바람직하다.As for the glass of a glass substrate, it is preferable to select and employ|adopt the glass suitable for the kind of electronic device to manufacture, and the glass suitable for the manufacturing process. For example, it is preferable to employ|adopt glass (alkali free glass) which does not contain an alkali metal component substantially for the glass substrate for liquid crystal panels.

기판(2)의 두께는 기판(2)의 종류에 따라서 설정된다. 예를 들어, 기판(2)에 유리 기판을 채용하는 경우, 그 두께는 전자 디바이스의 경량화, 박판화를 위해서, 바람직하게는 0.7㎜ 이하, 보다 바람직하게는 0.3㎜ 이하, 더욱 바람직하게는 0.1㎜ 이하로 설정된다. 두께가 0.3㎜ 이하인 경우, 유리 기판에 양호한 가요성을 부여할 수 있다. 또한, 두께가 0.1㎜ 이하인 경우, 유리 기판을 롤 형상으로 권취할 수 있지만, 유리 기판의 제조의 관점 및 유리 기판의 취급의 관점에서, 그 두께는 0.03㎜ 이상인 것이 바람직하다.The thickness of the substrate 2 is set according to the type of the substrate 2 . For example, when a glass substrate is employed for the substrate 2, the thickness thereof is preferably 0.7 mm or less, more preferably 0.3 mm or less, still more preferably 0.1 mm or less for weight reduction and thinning of the electronic device. is set to When thickness is 0.3 mm or less, favorable flexibility can be provided to a glass substrate. Moreover, when thickness is 0.1 mm or less, although a glass substrate can be wound up in roll shape, it is preferable that the thickness is 0.03 mm or more from a viewpoint of manufacture of a glass substrate, and the viewpoint of handling of a glass substrate.

또한, 도 1에서는 기판(2)이 1매의 기판으로 구성되어 있지만, 기판(2)은 복수매의 기판으로 구성된 것이어도 좋다. 즉, 기판(2)은 복수매의 기판을 적층한 적층체로 구성할 수도 있다. 이 경우, 기판(2)을 구성하는 모든 기판의 합계의 두께가 기판(2)의 두께로 된다.In addition, although the board|substrate 2 is comprised by one board|substrate in FIG. 1, the board|substrate 2 may be comprised by the board|substrate of several sheets. That is, the board|substrate 2 can also be comprised by the laminated body which laminated|stacked multiple board|substrates. In this case, the thickness of the sum total of all the board|substrates which comprise the board|substrate 2 turns into the thickness of the board|substrate 2 .

[보강판(3)][Reinforcement plate (3)]

보강판(3)으로서는 유리제의 기판이 사용된다.As the reinforcing plate 3, a glass substrate is used.

보강판(3)의 두께는 0.7㎜ 이하로 설정되고, 보강하는 기판(2)의 종류, 두께 등에 따라서 설정된다. 또한, 보강판(3)의 두께는 기판(2)보다도 두꺼워도 좋고, 얇아도 좋지만, 기판(2)을 보강하기 위해서 0.4㎜ 이상인 것이 바람직하다.The thickness of the reinforcing plate 3 is set to 0.7 mm or less, and is set according to the type, thickness, etc. of the substrate 2 to be reinforced. In addition, although the thickness of the reinforcing plate 3 may be thicker than the board|substrate 2, and may be thin, in order to reinforce the board|substrate 2, it is preferable that it is 0.4 mm or more.

또한, 본 예에서는 보강판(3)이 1매의 기판으로 구성되어 있지만, 보강판(3)은 복수매의 기판을 적층한 적층체로 구성할 수도 있다. 이 경우, 보강판(3)을 구성하는 모든 기판의 합계의 두께가 보강판(3)의 두께로 된다.In addition, although the reinforcing plate 3 is comprised from one board|substrate in this example, the reinforcing board 3 can also be comprised with the laminated body which laminated|stacked the multiple board|substrate. In this case, the thickness of the sum total of all the board|substrates which comprise the reinforcement board 3 turns into the thickness of the reinforcement board 3 .

[수지층(4)][Resin Layer (4)]

수지층(4)은 수지층(4)과 보강판(3) 사이에서 박리되는 것을 방지하기 위해서, 보강판(3)과의 사이의 결합력이, 기판(2)과의 사이의 결합력보다도 높게 설정된다. 이에 의해, 박리 공정에서는 수지층(4)과 기판(2)의 계면에서 기판(2)이 박리된다.In order to prevent the resin layer 4 from peeling between the resin layer 4 and the reinforcing plate 3 , the bonding force between the reinforcing plate 3 and the substrate 2 is set higher than the bonding force between the resin layer 4 and the substrate 2 . do. Thereby, in a peeling process, the board|substrate 2 peels at the interface of the resin layer 4 and the board|substrate 2 .

수지층(4)을 구성하는 수지는 특별히 한정되지 않지만, 아크릴 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리이미드 수지, 실리콘 수지, 폴리이미드 실리콘 수지를 예시할 수 있다. 몇 가지 종류의 수지를 혼합해서 사용할 수도 있다. 그 그 중에서도, 내열성이나 박리성의 관점에서, 실리콘 수지, 폴리이미드 실리콘 수지가 바람직하다. 실시 형태에서는 수지층(4)으로서 실리콘 수지층을 예시한다.Although resin which comprises the resin layer 4 is not specifically limited, An acrylic resin, a polyolefin resin, a polyurethane resin, a polyimide resin, a silicone resin, and a polyimide silicone resin can be illustrated. Several types of resins may be mixed and used. Especially, a silicone resin and a polyimide silicone resin are preferable from a viewpoint of heat resistance or peelability. In embodiment, a silicone resin layer is illustrated as the resin layer 4 .

수지층(4)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 1 내지 50㎛로 설정되고, 보다 바람직하게는 4 내지 20㎛로 설정된다. 수지층(4)의 두께를 1㎛ 이상으로 함으로써, 수지층(4)과 기판(2) 사이에 기포나 이물이 혼입되었을 때, 수지층(4)의 변형에 의해 기포나 이물의 두께를 흡수할 수 있다. 한편, 수지층(4)의 두께를 50㎛ 이하로 함으로써, 수지층(4)의 형성시간을 단축할 수 있고, 또한 수지층(4)의 수지를 필요 이상으로 사용하지 않기 때문에 경제적이다.Although the thickness of the resin layer 4 is not specifically limited, Preferably it is set to 1-50 micrometers, More preferably, it is set to 4-20 micrometers. By making the thickness of the resin layer 4 into 1 μm or more, when bubbles or foreign substances are mixed between the resin layer 4 and the substrate 2, the thickness of the bubbles and foreign substances is absorbed by the deformation of the resin layer 4 can do. On the other hand, by making the thickness of the resin layer 4 into 50 micrometers or less, the formation time of the resin layer 4 can be shortened and since resin of the resin layer 4 is not used more than necessary, it is economical.

또한, 수지층(4)의 외형은 보강판(3)이 수지층(4)의 전체를 지지할 수 있도록, 보강판(3)의 외형과 동일하거나, 보강판(3)의 외형보다도 작은 것이 바람직하다. 또한, 수지층(4)의 외형은 수지층(4)이 기판(2)의 전체를 밀착할 수 있도록, 기판(2)의 외형과 동일하거나, 기판(2)의 외형보다도 큰 것이 바람직하다.In addition, the outer shape of the resin layer 4 is the same as the outer shape of the reinforcing plate 3 or smaller than the outer shape of the reinforcing plate 3 so that the reinforcing plate 3 can support the entire resin layer 4 . desirable. In addition, it is preferable that the external shape of the resin layer 4 is the same as the external shape of the board|substrate 2 or larger than the external shape of the board|substrate 2 so that the resin layer 4 can closely_contact|adhere the whole board|substrate 2 .

또한, 도 1에서는 수지층(4)이 1층으로 구성되어 있지만, 수지층(4)은 2층 이상으로 구성할 수도 있다. 이 경우, 수지층(4)을 구성하는 모든 층의 합계의 두께가 수지층의 두께로 된다. 또한, 이 경우, 각 층을 구성하는 수지의 종류는 상이해도 좋다.In addition, although the resin layer 4 is comprised by one layer in FIG. 1, the resin layer 4 can also be comprised by two or more layers. In this case, the total thickness of all the layers constituting the resin layer 4 becomes the thickness of the resin layer. In addition, in this case, the kind of resin which comprises each layer may differ.

또한, 실시 형태에서는 흡착층으로서 유기막인 수지층(4)을 사용했지만, 수지층(4) 대신에 무기층을 사용해도 좋다. 무기층을 구성하는 무기막은, 예를 들어 메탈실리사이드, 질화물, 탄화물 및 탄질화물로부터 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함한다.In addition, although the resin layer 4 which is an organic film was used as an adsorption layer in embodiment, you may use an inorganic layer instead of the resin layer 4 . The inorganic film which comprises an inorganic layer contains at least 1 sort(s) chosen from the group which consists of metal silicide, nitride, carbide, and carbonitride, for example.

또한, 도 1의 적층체(1)는 흡착층으로서 수지층(4)을 구비하고 있지만, 수지층(4)을 없애고 기판(2)과 보강판(3)으로 이루어지는 구성으로 해도 좋다. 이 경우에는, 기판(2)과 보강판(3) 사이에 작용하는 반데발스 힘 등에 의해 기판(2)과 보강판(3)이 박리 가능하게 부착된다. 또한, 이 경우에는, 유리 기판인 기판(2)과 유리판인 보강판(3)이 고온에서 접착하지 않도록, 보강판(3)의 표면(3a)에 무기 박막을 형성하는 것이 바람직하다.In addition, although the laminated body 1 of FIG. 1 is equipped with the resin layer 4 as an adsorption|suction layer, it is good also as a structure which removes the resin layer 4 and consists of the board|substrate 2 and the reinforcement board 3. In this case, the substrate 2 and the reinforcing plate 3 are detachably attached by a van der Waals force or the like acting between the substrate 2 and the reinforcing plate 3 . In addition, in this case, it is preferable to form an inorganic thin film on the surface 3a of the reinforcement plate 3 so that the board|substrate 2 which is a glass substrate and the reinforcement plate 3 which is a glass plate may not adhere|attach at high temperature.

[기능층이 형성된 실시 형태의 적층체(6)][Laminate body 6 of embodiment in which a functional layer was formed]

기능층 형성 공정을 거침으로써 적층체(1)의 기판(2)의 표면(2a)에는 기능층이 형성된다. 기능층의 형성 방법으로서는, CVD(Chemical Vapor Deposition)법, PVD(Physical Vapor Deposition)법 등의 증착법, 스퍼터법이 사용된다. 기능층은 포토리소그래피법, 에칭법에 의해 소정의 패턴으로 형성된다.A functional layer is formed in the surface 2a of the board|substrate 2 of the laminated body 1 by passing through a functional layer formation process. As a formation method of a functional layer, vapor deposition methods, such as a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, a PVD (Physical Vapor Deposition) method, and a sputtering method are used. The functional layer is formed in a predetermined pattern by a photolithography method or an etching method.

도 2는, LCD의 제조 공정 도중에 제작되는 직사각 형상의 적층체(6)의 일례를 도시한 주요부 확대 측면도이다. 이 적층체(6)도 1변의 길이가 600㎜ 이상인 것이다.Fig. 2 is an enlarged side view of a main part showing an example of the rectangular laminate 6 produced during the LCD manufacturing process. This laminate 6 also has a length of 600 mm or more on one side.

적층체(6)는 보강판(3A), 수지층(4A), 기판(2A), 기능층(7), 기판(2B), 수지층(4B) 및 보강판(3B)이 이 순으로 적층되어서 구성된다. 즉, 도 2의 적층체(6)는, 도 1에 도시한 적층체(1)가 기능층(7)을 사이에 두고 대칭으로 배치된 적층체에 상당한다. 또한, 보강판(3A, 3B)도 유리제이다. 이하, 기판(2A), 수지층(4A) 및 보강판(3A)으로 이루어지는 적층체를 제1 적층체(1A)라고 칭하고, 기판(2B), 수지층(4B) 및 보강판(3B)을 포함하는 적층체를 제2 적층체(1B)라고 칭한다.As for the laminated body 6, the reinforcement board 3A, the resin layer 4A, the board|substrate 2A, the functional layer 7, the board|substrate 2B, the resin layer 4B, and the reinforcement board 3B are laminated|stacked in this order. is made up That is, the laminated body 6 of FIG. 2 corresponds to the laminated body which the laminated body 1 shown in FIG. 1 is arrange|positioned symmetrically with the functional layer 7 interposed therebetween. In addition, the reinforcing plates 3A and 3B are also made of glass. Hereinafter, the laminate comprising the substrate 2A, the resin layer 4A, and the reinforcement plate 3A is referred to as the first laminate 1A, and the substrate 2B, the resin layer 4B and the reinforcement plate 3B are The included laminate is called a 2nd laminated body 1B.

제1 적층체(1A)의 기판(2A)의 표면(2Aa)에는 기능층(7)로서의 박막 트랜지스터(TFT)가 형성되고, 제2 적층체(1B)의 기판(2B)의 표면(2Ba)에는 기능층(7)로서의 컬러 필터(CF)가 형성된다.A thin film transistor TFT as a functional layer 7 is formed on the surface 2Aa of the substrate 2A of the first laminate 1A, and the surface 2Ba of the substrate 2B of the second laminate 1B. A color filter CF as the functional layer 7 is formed there.

제1 적층체(1A)와 제2 적층체(1B)는 서로 기판(2A, 2B)의 표면(2Aa, 2Ba)이 중첩되어서 일체화된다. 이에 의해, 기능층(7)을 사이에 두고, 제1 적층체(1A)와 제2 적층체(1B)가 대칭으로 배치된 구조의 적층체(6)가 제조된다.The first laminate 1A and the second laminate 1B are integrated with the surfaces 2Aa and 2Ba of the substrates 2A and 2B overlapping each other. Thereby, the laminated body 6 of the structure in which the 1st laminated body 1A and the 2nd laminated body 1B was arrange|positioned symmetrically across the functional layer 7 is manufactured.

적층체(6)는 후술하는 박리 개시부 제작 방법에서 나이프에 의해 박리 개시부가 형성된 후, 분리 공정의 박리 공정에서 보강판(3A, 3B)이 순차 박리되고, 그 후, 편광판, 백라이트 등이 설치되어서, 제품인 LCD가 제조된다.After the peeling initiation part is formed with a knife in the peeling initiation part manufacturing method to be described later in the laminate 6, the reinforcing plates 3A and 3B are sequentially peeled in the peeling step of the separation step, and then a polarizing plate, a backlight, etc. are installed As a result, LCD is manufactured.

[박리 개시부 제작 장치(10)][Peeling initiation part manufacturing apparatus 10]

도 3의 (A) 내지 도 3의 (E)는 박리 개시부 제작 장치(10)에 의한 박리 개시부 제작 방법을 도시한 설명도이며, 도 3의 (A)는 적층체(6)와 나이프 N의 위치 관계를 도시한 설명도, 도 3의 (B)는 나이프 N에 의해 계면(24)에 박리 개시부(26)를 제작하는 설명도, 도 3의 (C)는 계면(28)에 박리 개시부(30)를 제작하는 직전 상태를 도시한 설명도, 도 3의 (D)는 나이프 N에 의해 계면(28)에 박리 개시부(30)를 제작하는 설명도, 도 3의 (E)는 박리 개시부(26, 30)가 제작된 적층체(6)의 설명도이다. 또한, 도 4는 박리 개시부(26, 30)가 제작된 적층체(6)의 평면도이다.3(A) to 3(E) are explanatory views showing a peeling start part manufacturing method by the peeling start part manufacturing apparatus 10, and FIG. 3(A) is a laminate 6 and a knife An explanatory view showing the positional relationship of N, FIG. 3B is an explanatory view for producing the peeling start part 26 on the interface 24 with a knife N, FIG. 3C is an explanatory view for the interface 28 An explanatory view showing the state immediately before the peeling start part 30 is produced, FIG. ) is an explanatory view of the laminate 6 in which the peeling start portions 26 and 30 were produced. Moreover, FIG. 4 is a top view of the laminated body 6 in which the peeling start parts 26 and 30 were produced.

박리 개시부(26, 30)의 제작 시에, 적층체(6)는 도 3의 (A)와 같이, 보강판(3B)의 이면(3Bb)이 테이블(12)에 흡착 유지되어서 수평(도면 중 X축 방향)으로 지지된다.At the time of manufacture of the peeling start parts 26 and 30, the laminated body 6 is horizontally (FIG. is supported in the X-axis direction).

나이프 N은 적층체(6)의 코너부(6A)의 단부면에 날끝이 대향하도록, 홀더(14)에 의해 수평으로 지지된다. 또한, 나이프 N은 높이 조정 장치(16)에 의해, 높이 방향(도면 중 Z축 방향)의 위치가 조정된다. 또한, 나이프 N과 적층체(6)는 볼 나사 장치 등의 이송 장치(18)에 의해 수평 방향으로 상대적으로 이동된다. 이송 장치(18)는 나이프 N과 테이블(12) 중 적어도 한쪽을 수평 방향으로 이동하면 좋고, 실시 형태에서는 나이프 N이 이동된다. 또한, 자입 전 또는 자입 중의 나이프 N의 상면에 액체(20)를 공급하는 액체 공급 장치(22)가 나이프 N의 상방에 배치된다.The knife N is horizontally supported by the holder 14 so that the blade edge|tip opposes to the end surface of 6 A of corner parts of the laminated body 6 . In addition, as for the knife N, the position of the height direction (Z-axis direction in a figure) is adjusted by the height adjustment device 16. As shown in FIG. Further, the knife N and the laminate 6 are relatively moved in the horizontal direction by a transfer device 18 such as a ball screw device. What is necessary is just to move the at least one of the knife N and the table 12 in the horizontal direction, and the conveyance apparatus 18 will move the knife N in embodiment. Moreover, the liquid supply device 22 which supplies the liquid 20 to the upper surface of the knife N before or during magnetic-graining is arrange|positioned above the knife N.

[박리 개시부 제작 방법][Method for producing peeling initiation part]

박리 개시부 제작 장치(10)에 의한 박리 개시부 제작 방법에서는, 나이프 N의 자입 위치를 적층체(6)의 코너부(6A)이며, 적층체(6)의 두께 방향에서 겹치는 위치에 설정하고, 또한 나이프 N의 자입량을 계면(24, 28)마다 상이하도록 설정한다.In the peeling start part manufacturing method by the peeling start part manufacturing apparatus 10, the cut-in position of the knife N is the corner part 6A of the laminated body 6, and is set to the position which overlaps in the thickness direction of the laminated body 6, , and set the amount of cutting of the knife N to be different for every interface 24 and 28 .

그 제작 수순에 대해서 설명한다.The production procedure will be described.

초기 상태에서, 나이프 N의 날끝은 제1 자입 위치인 기판(2B)과 수지층(4B)의 계면(24)에 대하여 높이 방향(Z축 방향)으로 어긋난 위치에 존재한다. 이에, 우선 도 3의 (A)에 도시하는 바와 같이, 나이프 N을 높이 방향으로 이동시켜서, 나이프 N의 날끝의 높이를 계면(24)의 높이로 설정한다.In the initial state, the blade edge of the knife N exists in the position shifted|deviated from the height direction (Z-axis direction) with respect to the interface 24 of the board|substrate 2B and the resin layer 4B which are a 1st magnetic-graining position. Accordingly, first, as shown in FIG. 3A , the knife N is moved in the height direction, and the height of the blade tip of the knife N is set to the height of the interface 24 .

이 후, 도 3의 (B)와 같이, 나이프 N을 적층체(6)의 코너부(6A)를 향해서 수평으로 이동시키고, 계면(24)에 나이프 N을 소정량 자입한다. 또한, 나이프 N의 자입 시 또는 자입 전에, 액체 공급 장치(22)로부터 나이프 N의 상면에 액체(20)를 공급한다. 이에 의해, 코너부(6A)의 기판(2B)이 수지층(4B)으로부터 박리되므로, 도 4와 같이 평면에서 보아 삼각 형상의 박리 개시부(26)가 계면(24)에 제작된다. 또한, 액체(20)의 공급은 필수는 아니지만, 액체(20)를 사용하면, 나이프 N을 제거한 후에도 액체(20)가 박리 개시부(26)에 잔류하므로, 재부착 불능인 박리 개시부(26)를 제작할 수 있다.Then, like FIG.3(B), the knife N is horizontally moved toward the corner part 6A of the laminated body 6, and the knife N is inserted in the interface 24 by a predetermined amount. In addition, the liquid 20 is supplied to the upper surface of the knife N from the liquid supply device 22 at the time of magnetic insertion of the knife N or before magnetic insertion. Thereby, since the board|substrate 2B of 6 A of corner parts peels from the resin layer 4B, the peeling start part 26 of planar view triangular shape is produced in the interface 24 like FIG. In addition, although supply of the liquid 20 is not essential, if the liquid 20 is used, the liquid 20 remains in the peeling starting part 26 even after the knife N is removed, so the peeling starting part 26 which cannot be reattached. ) can be produced.

이어서, 나이프 N을 코너부(6A)로부터 수평 방향으로 제거하고, 도 3의 (C)와 같이, 나이프 N의 날끝을 제2 자입 위치인 기판(2A)과 수지층(4A)의 계면(28)의 높이로 설정한다.Next, the knife N is removed from the corner portion 6A in the horizontal direction, and, as shown in Fig. 3C, the edge of the knife N is set at the interface 28 between the substrate 2A and the resin layer 4A, which is the second piercing position. ) is set to the height of

이 후, 도 3의 (D)와 같이, 나이프 N을 적층체(6)를 향해서 수평으로 이동시키고, 계면(28)에 나이프 N을 소정량 자입한다. 마찬가지로 액체 공급 장치(22)로부터 나이프 N의 상면에 액체(20)를 공급한다. 이에 의해, 도 3의 (D)와 같이, 계면(28)에 박리 개시부(30)가 제작된다. 여기서, 계면(28)에 대한 나이프 N의 자입량은 계면(24)에 대한 자입량보다도 소량으로 한다. 이상이 박리 개시부 제작 방법이다. 또한, 계면(24)에 대한 나이프 N의 자입량을 계면(28)에 대한 자입량보다도 소량으로 해도 좋다.Then, like FIG.3(D), the knife N is horizontally moved toward the laminated body 6, and the knife N is inserted in the interface 28 by a predetermined amount. Similarly, the liquid 20 is supplied to the upper surface of the knife N from the liquid supply device 22 . Thereby, the peeling start part 30 is produced in the interface 28 like FIG.3(D). Here, the cutting amount of the knife N with respect to the interface 28 is made into small amount with respect to the interface 24. The above is the peeling initiation part manufacturing method. Moreover, it is good also considering the amount of cutting of the knife N with respect to the interface 24 smaller than the amount of cutting with respect to the interface 28.

박리 개시부(26, 30)가 제작된 적층체(6)는 박리 개시부 제작 장치(10)로부터 취출되어서, 후술하는 박리 장치로 반송되고, 박리 장치에 의해, 계면(24, 28)에서 보강판(3B, 3A)이 순차 박리된다.The laminate 6 in which the peeling initiation parts 26 and 30 were produced is taken out from the peeling initiation part manufacturing apparatus 10, it is conveyed to the peeling apparatus mentioned later, and is reinforced at the interfaces 24 and 28 by the peeling apparatus. The plates 3B and 3A are sequentially peeled off.

박리 방법의 상세는 후술하지만, 도 4의 화살표 A와 같이, 적층체(6)를 코너부(6A)로부터 코너부(6A)에 대향하는 코너부(6B)를 향해서 휘게 함으로써, 박리 개시부(26)의 면적이 큰 계면(24)에서 박리 개시부(26)를 기점으로 해서 최초로 박리된다. 이에 의해, 보강판(3B)이 박리된다. 그 후, 적층체(6)를 코너부(6A)로부터 코너부(6B)를 향해서 다시 휘게 함으로써, 박리 개시부(30)의 면적이 작은 계면(28)에서 박리 개시부(30)를 기점으로 해서 박리된다. 이에 의해, 보강판(3A)이 박리된다.Although the details of the peeling method will be described later, as shown by arrow A in FIG. 4 , by bending the laminate 6 from the corner portion 6A toward the corner portion 6B opposite to the corner portion 6A, the peeling start portion ( At the interface 24 with a large area of 26), it peels first from the peeling start part 26 as a starting point. Thereby, the reinforcing plate 3B peels. Then, by bending the laminated body 6 again from the corner part 6A toward the corner part 6B, the peeling start part 30 is the starting point at the interface 28 where the area of the peeling start part 30 is small. so it is peeled off Thereby, 3 A of reinforcement boards peel.

또한, 나이프 N의 자입량은 적층체(6)의 사이즈에 따라서, 바람직하게는 7㎜ 이상, 보다 바람직하게는 15 내지 20㎜ 정도로 설정된다.Moreover, according to the size of the laminated body 6, the amount of cutting of the knife N becomes like this. Preferably it is 7 mm or more, More preferably, it is set to about 15-20 mm.

[박리 장치(40)][Peeling device (40)]

도 5는 실시 형태의 박리 장치(40)의 구성을 도시한 종단면도이며, 도 6은 박리 장치(40)의 가요성판(42)에 대한 복수의 가동체(44)의 배치 위치를 모식적으로 도시한 가요성판(42)의 평면도이다. 또한, 도 5는 도 6의 C-C선을 따르는 단면도에 상당하고, 또한 도 6에서는 적층체(6)를 실선으로 나타내고 있다.FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing the configuration of the peeling device 40 of the embodiment, and FIG. 6 is a schematic view of the arrangement positions of the plurality of movable bodies 44 with respect to the flexible plate 42 of the peeling device 40. It is a plan view of the illustrated flexible plate 42 . 5 corresponds to a cross-sectional view taken along line C-C in FIG. 6 , and in FIG. 6 , the laminate 6 is shown by a solid line.

도 5와 같이 박리 장치(40)는 적층체(6)를 사이에 두고 상하로 배치된 한 쌍의 가동 장치(46, 46)를 구비한다. 가동 장치(46, 46)는 동일 구성이기 때문에, 여기에서는 도 5의 하측에 배치된 가동 장치(46)에 대해서 설명하고, 상측에 배치된 가동 장치(46)에 대해서는 동일한 부호를 부여함으로써 설명을 생략한다.As shown in Fig. 5, the peeling device 40 includes a pair of movable devices 46 and 46 arranged vertically with the laminate 6 interposed therebetween. Since the movable devices 46 and 46 have the same configuration, the movable device 46 disposed on the lower side in Fig. 5 will be described, and the movable device 46 disposed on the upper side will be given the same reference numerals for explanation. omit

가동 장치(46)는 가요성판(가요성 부재)(42), 복수의 가동체(44), 가동체(44)마다 가동체(44)를 승강 이동시키는 복수의 구동 장치(48) 및 구동 장치(48)마다 구동 장치(48)를 제어하는 컨트롤러(50) 등으로 구성된다.The movable device 46 includes a flexible plate (flexible member) 42 , a plurality of movable bodies 44 , a plurality of drive devices 48 and a drive device for lifting and lowering the movable body 44 for each movable body 44 . It is comprised by the controller 50 etc. which control the drive device 48 for every 48.

가요성판(42)은 보강판(3B)을 휨 변형시키기 위해서, 보강판(3B)을 진공 흡착 지지한다. 또한, 진공 흡착 대신에, 정전 흡착 또는 자기 흡착해도 좋다.In order to bend and deform the reinforcing board 3B, the flexible board 42 vacuum-sucks and supports the reinforcing board 3B. Further, instead of vacuum adsorption, electrostatic adsorption or magnetic adsorption may be used.

[가요성판(42)][Flexible plate (42)]

도 7의 (A)는 가요성판(42)의 평면도이며, 도 7의 (B)는 도 7의 (A)의 D-D 선을 따르는 가요성판(42)의 확대 종단면도이다.Fig. 7A is a plan view of the flexible plate 42, and Fig. 7B is an enlarged longitudinal sectional view of the flexible plate 42 taken along the line D-D in Fig. 7A.

가요성판(42)은 적층체(6)의 보강판(3B)을 흡착 유지하는 직사각형의 다공질 시트(다공질 부재: 닛토덴코 가부시키가이샤 제조, 초고분자량 폴리에틸렌 다공질 필름, 상품명 「산맵」)(52), 다공질 시트(52)를 양면 접착 시트(53)를 개재해서 지지하는 직사각형의 본체판(본체부)(54)으로 구성된다.The flexible plate 42 is a rectangular porous sheet for adsorbing and holding the reinforcement plate 3B of the laminate 6 (porous member: Nitto Denko Co., Ltd., ultra-high molecular weight polyethylene porous film, trade name "Sanmap") (52) , a rectangular body plate (body portion) 54 supporting the porous sheet 52 with a double-sided adhesive sheet 53 interposed therebetween.

다공질 시트(52)의 두께는, 박리 시에 보강판(3B)에 발생하는 인장 응력을 저감시키는 목적으로 2㎜ 이하, 바람직하게는 1㎜ 이하이며, 실시 형태에서는 0.5㎜의 것이 사용되고 있다. 다공질 시트(52)의 영률은 1GPa 이하인 것이 바람직하다. 유리나 금속 등의 작은 이물이 침입되었을 때에, 이물이 다공질 시트에 메워져 보강판의 흠집 발생을 방지할 수 있다.The thickness of the porous sheet 52 is 2 mm or less for the purpose of reducing the tensile stress which arises in the reinforcement board 3B at the time of peeling, Preferably it is 1 mm or less, and the thing of 0.5 mm is used in embodiment. The Young's modulus of the porous sheet 52 is preferably 1 GPa or less. When a small foreign material such as glass or metal enters, the foreign material is filled in the porous sheet, thereby preventing the reinforcing plate from being scratched.

본체판(54)에는 다공질 시트(52)를 포위하고 또한 보강판(3B)의 테두리부가 접촉되는 프레임 형상 부재(56)가 구비된다. 프레임 형상 부재(56)는 양면 접착 시트(57)를 개재해서 본체판(54)에 지지된다. 또한, 프레임 형상 부재(56)는 쇼어 E 경도가 20도 이상 50도 이하인 독립 기포의 스펀지인 것이 바람직하고, 그 두께는 다공질 시트(52)의 두께에 대하여 0.3㎜ 내지 0.5㎜ 두께로 구성되어 있다. 쇼어 E 경도는 JIS K 6253:2012에서 규정된 듀로미터 타입 E를 사용하여 측정되는 경도이다. 듀로미터는 일반적으로 쇼어 경도 시험기라 불리는 경우가 많지만, 쇼어사 외에도 다수의 제조사에서 제조되고 있다. 이하에, 고무의 경도 규격과 고무의 경도 비교표를 나타내었다.The body plate 54 is provided with a frame-shaped member 56 that surrounds the porous sheet 52 and is in contact with the edge portion of the reinforcing plate 3B. The frame-shaped member 56 is supported on the main body plate 54 via a double-sided adhesive sheet 57 . Further, the frame member 56 is preferably a closed-cell sponge having a Shore E hardness of 20 degrees or more and 50 degrees or less, and the thickness thereof is 0.3 mm to 0.5 mm thick with respect to the thickness of the porous sheet 52. . Shore E hardness is hardness measured using a durometer type E specified in JIS K 6253:2012. A durometer is generally called a shore hardness tester, but it is manufactured by a number of manufacturers besides Shore. Below, a comparison table of hardness standards of rubber and hardness of rubber is shown.

Figure 112015047817669-pat00001
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Figure 112015047817669-pat00002
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다공질 시트(52)와 프레임 형상 부재(56) 사이에는 프레임 형상의 홈(58)이 형성된다. 또한, 본체판(54)에는 복수의 관통 구멍(60)이 개구되어 있으며, 이들 관통 구멍(60)의 일단부는 홈(58)에 연통되고, 타단부는 도시하지 않은 흡인관로를 통해서 흡기원(예를 들어 진공 펌프)에 접속되어 있다.A frame-shaped groove 58 is formed between the porous sheet 52 and the frame-shaped member 56 . In addition, a plurality of through-holes 60 are opened in the body plate 54, one end of these through-holes 60 communicates with the groove 58, and the other end is an intake source ( For example, it is connected to a vacuum pump).

따라서, 상기 흡기원이 구동되면, 상기 흡인관로, 관통 구멍(60) 및 홈(58)의 공기가 흡인됨으로써, 적층체(6)의 보강판(3B)이 다공질 시트(52)에 진공 흡착 지지되어서 본체판(54)에 지지된다. 또한, 보강판(3B)의 4변의 테두리부가 프레임 형상 부재(56)에 가압 접촉되므로, 프레임 형상 부재(56)에 의해 둘러싸이는 흡착 공간의 밀폐성을 높일 수 있다.Accordingly, when the air intake source is driven, the air in the suction pipe path, the through hole 60 and the groove 58 is sucked, so that the reinforcing plate 3B of the laminate 6 is supported by vacuum suction on the porous sheet 52 . and is supported by the main body plate 54 . In addition, since the edge portions of the four sides of the reinforcing plate 3B are pressed against the frame-shaped member 56 , the sealing property of the adsorption space surrounded by the frame-shaped member 56 can be improved.

본체판(54)은 다공질 시트(52) 및 프레임 형상 부재(56)보다도 굴곡 강성이 높고, 본체판(54)의 굴곡 강성이 가요성판(42)의 굴곡 강성을 지배한다. 가요성판(42)의 단위 폭(1㎜)당 굴곡 강성은 1000 내지 40000N·㎟/㎜인 것이 바람직하다. 예를 들어, 가요성판(42)의 폭이 100㎜인 부분에서는, 굴곡 강성은 100000 내지 4000000N·㎟가 된다. 가요성판(42)의 굴곡 강성을 1000N·㎟/㎜ 이상으로 함으로써, 가요성판(42)에 흡착 유지되는 보강판(3B)의 절곡을 방지할 수 있다. 또한, 가요성판(42)의 굴곡 강성을 40000N·㎟/㎜ 이하로 함으로써, 가요성판(42)에 흡착 유지되는 보강판(3B)을 적절히 휨 변형시킬 수 있다.The body plate 54 has a higher bending rigidity than the porous sheet 52 and the frame-like member 56 , and the bending rigidity of the body plate 54 dominates the bending rigidity of the flexible plate 42 . It is preferable that the bending rigidity per unit width (1 mm) of the flexible plate 42 is 1000-40000 N*mm<2>/mm. For example, in the part where the width|variety of the flexible board 42 is 100 mm, flexural rigidity will be 100000-4000000N*mm<2>. By making the bending rigidity of the flexible plate 42 into 1000 N·mm 2 /mm or more, bending of the reinforcing plate 3B adsorbed and held by the flexible plate 42 can be prevented. Moreover, by making the bending rigidity of the flexible board 42 into 40000 N*mm<2>/mm or less, the reinforcing board 3B adsorbed and held by the flexible board 42 can be appropriately flexibly deformed.

본체판(54)은 두께 3㎜의 판재(54A)와 두께 0.5㎜의 판재(54B)가 양면 접착 시트(54C)를 개재해서 접착되어서 이루어지는 판상체이다. 또한, 판재(54A) 및 판재(54B)는 영률이 10GPa 이하인 수지제 부재인 것이 바람직하고, 예를 들어 폴리카르보네이트 수지, 폴리염화비닐(PVC) 수지, 아크릴 수지, 폴리아세탈(POM) 수지 등의 수지제 부재이다.The body plate 54 is a plate-shaped body formed by bonding a plate material 54A having a thickness of 3 mm and a plate material 54B having a thickness of 0.5 mm to each other via a double-sided adhesive sheet 54C. In addition, the plate material 54A and the plate material 54B are preferably resin members having a Young's modulus of 10 GPa or less, for example, polycarbonate resin, polyvinyl chloride (PVC) resin, acrylic resin, polyacetal (POM) resin. It is a resin-made member, such as these.

[가동 장치(46)][Moveable Device (46)]

본체판(54)의 하면에는, 도 5에 도시한 원반 형상의 복수의 가동체(44)가, 도 6과 같이 바둑판 눈 형상으로 고정된다. 이들 가동체(44)는 본체판(54)에 볼트 등의 체결 부재에 의해 고정되지만, 볼트 대신에 접착 고정되어도 좋다. 이들 가동체(44)는 컨트롤러(50)에 의해 구동 제어된 구동 장치(48)에 의해 독립해서 승강 이동된다.To the lower surface of the main body plate 54, a plurality of disk-shaped movable bodies 44 shown in FIG. 5 are fixed in a checkerboard shape as shown in FIG. Although these movable bodies 44 are fixed to the main body plate 54 by fastening members, such as a bolt, they may be adhesively fixed instead of a bolt. These movable bodies 44 are independently moved up and down by the drive device 48 driven by the controller 50 .

즉, 컨트롤러(50)는 구동 장치(48)를 제어하고, 도 6에서의 적층체(6)의 코너부(6A) 측에 위치하는 가동체(44)로부터 화살표 A로 나타내는 박리 진행 방향의 코너부(6B) 측에 위치하는 가동체(44)를 순차 하강 이동시킨다. 이 동작에 의해, 도 8의 종단면도와 같이 적층체(6)를 계면(24)의 박리 개시부(26)(도 4 참조)를 기점으로 해서 박리해 간다. 또한, 도 5, 도 8에 도시한 적층체(6)는, 도 3에서 설명한 박리 개시부 제작 방법에 의해 박리 개시부(26, 30)가 제작된 적층체(6)이다.That is, the controller 50 controls the driving device 48, and a corner in the peeling advancing direction indicated by an arrow A from the movable body 44 located on the corner portion 6A side of the laminate 6 in FIG. 6 . The movable body 44 located on the side of the part 6B is moved downward in sequence. By this operation, like the longitudinal cross-sectional view of FIG. 8, the laminated body 6 is peeled from the peeling start part 26 (refer FIG. 4) of the interface 24 as a starting point. In addition, the laminated body 6 shown in FIGS. 5 and 8 is the laminated body 6 in which the peeling start parts 26 and 30 were produced by the peeling start part manufacturing method demonstrated with FIG.

구동 장치(48)는, 예를 들어 회전식 서보 모터 및 볼 나사 기구 등으로 구성된다. 서보 모터의 회전 운동은 볼 나사 기구에서 직선 운동으로 변환되고, 볼 나사 기구의 로드(62)로 전달된다. 로드(62)의 선단부에는 볼 조인트(64)를 통해서 가동체(44)가 설치되어 있다. 이에 의해, 도 8과 같이 가요성판(42)의 휨 변형에 추종해서 가동체(44)를 틸팅시킬 수 있다. 따라서, 가요성판(42)에 무리한 힘을 가하지 않고, 가요성판(42)을 코너부(6A)로부터 코너부(6B)를 향해서 휨 변형시킬 수 있다. 또한, 구동 장치(48)로서는, 회전식 서보 모터 및 볼 나사 기구에 한정되지 않고, 리니어식 서보 모터, 또는 유체압 실린더(예를 들어 공기압 실린더)이어도 좋다.The driving device 48 is constituted of, for example, a rotary servo motor and a ball screw mechanism. The rotational motion of the servo motor is converted into linear motion in the ball screw mechanism, and is transmitted to the rod 62 of the ball screw mechanism. A movable body 44 is provided at the distal end of the rod 62 via a ball joint 64 . Thereby, as shown in FIG. 8 , the movable body 44 can be tilted following the bending deformation of the flexible plate 42 . Accordingly, the flexible plate 42 can be bent and deformed from the corner portion 6A toward the corner portion 6B without applying an excessive force to the flexible plate 42 . In addition, as the drive device 48, it is not limited to a rotary servomotor and a ball screw mechanism, A linear servomotor or a hydraulic cylinder (for example, a pneumatic cylinder) may be sufficient.

복수의 구동 장치(48)는, 승강 가능한 프레임(66)에 쿠션 부재(68)를 통해서 설치되는 것이 바람직하다. 쿠션 부재(68)는 가요성판(42)의 휨 변형에 추종하도록 탄성 변형된다. 이에 의해, 로드(62)가 프레임(66)에 대하여 틸팅한다.It is preferable that the plurality of drive devices 48 be provided to the frame 66 that can be moved up and down via a cushion member 68 . The cushion member 68 is elastically deformed to follow the bending deformation of the flexible plate 42 . Thereby, the rod 62 tilts with respect to the frame 66 .

프레임(66)은 박리된 보강판(3B)을 가요성판(42)으로부터 제거할 때에, 도시하지 않은 구동부에 의해 하강 이동된다.The frame 66 is moved downward by a drive unit (not shown) when the peeled reinforcing plate 3B is removed from the flexible plate 42 .

컨트롤러(50)는 CPU, ROM 및 RAM 등의 기록 매체 등을 포함하는 컴퓨터로서 구성된다. 컨트롤러(50)는 기록 매체에 기록된 프로그램을 CPU에 실행시킴으로써, 복수의 구동 장치(48)를 구동 장치(48)마다 제어하고, 복수의 가동체(44)의 승강 이동을 제어한다.The controller 50 is configured as a computer including a recording medium such as a CPU, ROM and RAM, and the like. The controller 50 controls the plurality of drive devices 48 for each drive device 48 by executing the program recorded on the recording medium on the CPU, and controls the lifting and lowering movement of the plurality of movable bodies 44 .

[박리 장치(40)에 의한 보강판(3A, 3B)의 박리 방법][The peeling method of the reinforcement boards 3A, 3B by the peeling apparatus 40]

도 9의 (A) 내지 도 9의 (C) 내지 도 10의 (A) 내지 도 10의 (C)에는, 도 3에서 설명한 박리 개시부 제작 방법에 의해 코너부(6A)에 박리 개시부(26, 30)가 제작된 적층체(6)의 박리 방법이 도시되어 있다. 즉, 상기 도면에는 적층체(6)의 보강판(3A, 3B)을 박리하는 박리 방법이 시계열적으로 도시되어 있다. 또한, 박리 장치(40)에 대한 적층체(6)의 반입 작업 및 박리한 보강판(3A, 3B) 및 패널(70)의 반출 작업은 도 9의 (A)에 도시하는 흡착 패드(72)를 구비한 반송 장치(74)에 의해 행하여진다. 또한, 도 9, 도 10에서는 도면의 번잡함을 피하기 위해서, 가동 장치(46)의 도시는 생략하였다. 또한, 패널(70)이란, 보강판(3A, 3B)을 제외한, 기판(2A)과 기판(2B)이 기능층(7)을 개재해서 부착된 제품 패널이다.In Figs. 9A to 9C to Figs. 10A to 10C, a peeling initiation part ( The peeling method of the laminate 6 from which 26, 30 was fabricated is shown. That is, the peeling method of peeling the reinforcement plates 3A, 3B of the laminated body 6 is shown in time series in the said figure. In addition, the carrying-in operation|work of the laminated body 6 with respect to the peeling apparatus 40, and the carrying out operation|work of the reinforcing plates 3A and 3B and the panel 70 which peeled are the suction pad 72 shown to Fig.9 (A). It is performed by the conveying apparatus 74 provided with. In addition, in FIGS. 9 and 10, illustration of the movable device 46 is abbreviate|omitted in order to avoid the complexity of drawing. In addition, the panel 70 is a product panel to which the board|substrate 2A and the board|substrate 2B were affixed via the functional layer 7 except reinforcement board 3A, 3B.

도 9의 (A)는 반송 장치(74)의 화살표 E, F로 나타내는 동작에 의해 적층체(6)가 하측의 가요성판(42)에 적재된 박리 장치(40)의 측면도이다. 이 경우, 하측의 가요성판(42)과 상측의 가요성판(42) 사이에 반송 장치(74)가 삽입되도록, 하측의 가요성판(42)과 상측의 가요성판(42)이 상대적으로 충분히 퇴피한 위치에 미리 이동된다. 그리고, 적층체(6)가 하측의 가요성판(42)에 적재되면, 하측의 가요성판(42)에 의해 적층체(6)의 보강판(3B)이 진공 흡착 지지된다(유지 공정).FIG. 9A is a side view of the peeling device 40 in which the laminate 6 is mounted on the lower flexible plate 42 by the operation indicated by the arrows E and F of the conveying device 74 . In this case, the lower flexible plate 42 and the upper flexible plate 42 are relatively sufficiently retracted so that the conveying device 74 is inserted between the lower flexible plate 42 and the upper flexible plate 42 . pre-moved to position. And when the laminated body 6 is mounted on the lower flexible board 42, the reinforcement board 3B of the laminated body 6 is vacuum-sucked and supported by the lower flexible board 42 (holding process).

도 9의 (B)는 하측의 가요성판(42)과 상측의 가요성판(42)이 상대적으로 가까워지는 방향으로 이동되어서, 적층체(6)의 보강판(3A)이 상측의 가요성판(42)에 의해 진공 흡착 지지된 상태의 박리 장치(40)의 측면도이다.9B shows that the lower flexible plate 42 and the upper flexible plate 42 are moved in a relatively close direction, so that the reinforcing plate 3A of the laminate 6 is moved to the upper flexible plate 42 ) is a side view of the peeling device 40 in a vacuum adsorption-supported state.

도 9의 (C)는 적층체(6)의 코너부(6A)로부터 코너부(6B)를 향해서 하측의 가요성판(42)을 하방으로 휨 변형시키면서, 적층체(6)의 계면(24)에서 박리 개시부(26)(도 4 참조)를 기점으로 해서 보강판(3B)을 박리해 가는 상태를 도시한 측면도이다. 즉, 도 8에 도시한 하측의 가요성판(42)의 복수의 가동체(44)에서, 적층체(6)의 코너부(6A) 측에 위치하는 가동체(44)로부터 코너부(6B) 측에 위치하는 가동체(44)를 순차 하강 이동시켜서, 계면(24)에서 보강판(3B)을 박리한다(박리 공정).9C shows the interface 24 of the laminate 6 while bending and deforming the lower flexible plate 42 downward from the corner portion 6A of the laminate 6 toward the corner portion 6B. It is a side view which shows the state which peels the reinforcing plate 3B from the peeling start part 26 (refer FIG. 4) as a starting point. That is, in the plurality of movable bodies 44 of the lower flexible plate 42 shown in FIG. 8 , the corner portions 6B from the movable body 44 positioned on the corner portion 6A side of the laminate 6 . The movable body 44 located on the side is moved downward one by one, and the reinforcing plate 3B is peeled at the interface 24 (a peeling process).

도 10의 (A)는 계면(24)에서 보강판(3B)이 완전히 박리된 상태의 박리 장치(40)의 측면도이다. 상기 도면에 의하면, 박리된 보강판(3B)이 하측의 가요성판(42)에 진공 흡착 지지되고, 보강판(3B)을 제외하는 적층체(6)(보강판(3A) 및 패널(70)을 포함하는 적층체)가 상측의 가요성판(42)에 진공 흡착 지지되어 있다.10A is a side view of the peeling device 40 in a state in which the reinforcing plate 3B is completely peeled off at the interface 24 . According to the drawing, the peeled reinforcing plate 3B is vacuum-sucked and supported by the lower flexible plate 42, and the laminate 6 (reinforcing plate 3A and panel 70) excluding the reinforcing plate 3B. (a laminate comprising a) is vacuum-sucked and supported by an upper flexible plate 42 .

또한, 상하의 가요성판(42) 사이에, 도 9의 (A)에서 도시한 반송 장치(74)가 삽입되도록, 하측의 가요성판(42)과 상측의 가요성판(42)이 상대적으로 충분히 퇴피한 위치로 이동된다.In addition, the lower flexible plate 42 and the upper flexible plate 42 are relatively sufficiently retracted so that the conveying device 74 shown in Fig. 9A is inserted between the upper and lower flexible plates 42. moved to position

이 후, 우선, 하측의 가요성판(42)의 진공 흡착이 해제된다. 이어서, 반송 장치(74)의 흡착 패드(72)에 의해 보강판(3B)이 흡착 유지된다. 계속해서, 도 10의 (A)의 화살표 G, H로 나타내는 반송 장치(74)의 동작에 의해, 보강판(3B)이 박리 장치(40)로부터 반출된다.Thereafter, first, the vacuum suction of the lower flexible plate 42 is released. Next, the reinforcing plate 3B is adsorbed and held by the suction pad 72 of the conveying device 74 . Then, the reinforcement board 3B is carried out from the peeling apparatus 40 by operation|movement of the conveyance apparatus 74 shown by arrow G, H of FIG.10(A).

도 10의 (B)는 보강판(3B)을 제외하는 적층체(6)가 하측의 가요성판(42)과 상측의 가요성판(42)에 의해 진공 흡착 지지된 측면도이다. 즉, 하측의 가요성판(42)과 상측의 가요성판(42)이 상대적으로 가까워지는 방향으로 이동되어서, 하측의 가요성판(42)에 기판(2B)이 진공 흡착 지지된다.10B is a side view in which the laminate 6 except for the reinforcing plate 3B is supported by vacuum suction by the lower flexible plate 42 and the upper flexible plate 42 . That is, the lower flexible plate 42 and the upper flexible plate 42 are moved in a relatively close direction, and the substrate 2B is vacuum-sucked and supported by the lower flexible plate 42 .

도 10의 (C)는 적층체(6)의 코너부(6A)로부터 코너부(6B)를 향해서 상측의 가요성판(42)을 상방으로 휨 변형시키면서, 적층체(6)의 계면(28)에서 박리 개시부(30)(도 4 참조)를 기점으로 해서 보강판(3A)을 박리해 가는 상태를 도시한 측면도이다. 즉, 도 5에 도시한 상측의 가요성판(42)의 복수의 가동체(44)에서, 적층체(6)의 코너부(6A) 측에 위치하는 가동체(44)로부터 코너부(6B) 측에 위치하는 가동체(44)를 순차 상승 이동시켜서, 계면(28)에서 보강판(3A)을 박리한다.10C shows the interface 28 of the laminate 6 while bending and deforming the upper flexible plate 42 upward from the corner portion 6A of the laminate 6 to the corner portion 6B. It is a side view which shows the state which peels 3 A of reinforcing plates from the peeling start part 30 (refer FIG. 4) as a starting point. That is, in the plurality of movable bodies 44 of the upper flexible plate 42 shown in FIG. 5 , the corner portions 6B from the movable bodies 44 positioned on the corner portions 6A side of the laminate 6 . The movable body 44 located on the side is moved upward one after another to peel the reinforcing plate 3A at the interface 28 .

이 후, 패널(70)로부터 완전히 박리된 보강판(3A)을, 상측의 가요성판(42)으로부터 취출하고, 패널(70)을 하측의 가요성판(42)으로부터 취출한다. 이상이 코너부(6A)에 박리 개시부(26, 30)가 제작된 적층체(6)의 박리 방법이다.Thereafter, the reinforcing plate 3A completely peeled from the panel 70 is taken out from the upper flexible plate 42 , and the panel 70 is taken out from the lower flexible plate 42 . The above is the peeling method of the laminated body 6 by which the peeling start parts 26 and 30 were produced in 6 A of corner parts.

[박리 장치(40)의 특징][Features of the peeling device 40]

박리 장치(40)의 특징은 박리 대상의 적층체로서, 박리 시에 있어서의 파손 발생 빈도가 높은, 즉, 다공질 시트(52)에 대하여 보강판이 미끄러지지 않는, 1변의 길이가 600㎜ 이상인 유리제의 보강판(3B)을 구비한 적층체(6)를 대상으로 하는 데 있다. 또한, 가요성판(42)의 본체판(54)과 적층체(6)의 면간 거리에 상당하는 다공질 시트(52)의 두께를 2㎜ 이하로 규정한 데 있다.The feature of the peeling device 40 is that it is a laminate to be peeled, and the frequency of occurrence of breakage during peeling is high, that is, the reinforcing plate does not slide with respect to the porous sheet 52, and the length of one side is glass reinforcement of 600 mm or more. It is aimed at the laminated body 6 provided with the board 3B. Moreover, it is because the thickness of the porous sheet 52 corresponding to the interplanar distance between the body plate 54 of the flexible board 42 and the laminated body 6 is prescribed|regulated to 2 mm or less.

이하, 박리하는 보강판(3B)에 발생하는 인장 응력에 대해서, 실시예와 비교예를 예시해서 설명한다.Hereinafter, an Example and a comparative example are illustrated and demonstrated about the tensile stress which generate|occur|produces in the reinforcing plate 3B to peel.

도 11에는, 면간 거리(㎜: 실시 형태에서는 다공질 시트(52)의 두께에 상당함)와 보강판(3B)에 발생하는 인장 응력(MPa)의 관계가 그래프화되어서 나타나 있다. 즉, 도 11의 횡축이 면간 거리를 나타내고, 종축이 인장 응력을 나타낸다.In FIG. 11, the relationship between the interplanar distance (mm: it corresponds to the thickness of the porous sheet 52 in embodiment) and the tensile stress (MPa) which generate|occur|produces in the reinforcing plate 3B is shown graphically. That is, the horizontal axis in FIG. 11 represents the interplanar distance, and the vertical axis represents the tensile stress.

도 12는 실시 형태의 가요성판(42)의 주요부 종단면도이며, 도 13은 종래의 가요성판(100)의 일례를 도시하는 주요부 단면도이다.12 is a longitudinal sectional view of a main part of the flexible plate 42 of the embodiment, and FIG. 13 is a main part sectional view showing an example of the conventional flexible plate 100 .

도 12의 가요성판(42)은 본체판(54)에 다공질 시트(52)가 양면 접착 시트(53)를 개재해서 접착되어서 이루어진다. 여기서, 본체판(54)의 두께 a는 3.5㎜, 다공질 시트(52)의 두께 b는 0.5㎜, 보강판(3B)의 두께 c는 0.5㎜이다. 또한, 양면 접착 시트(53)의 두께는 무시하기로 한다.The flexible plate 42 of FIG. 12 is formed by bonding a porous sheet 52 to a body plate 54 via a double-sided adhesive sheet 53 . Here, the thickness a of the main body plate 54 is 3.5 mm, the thickness b of the porous sheet 52 is 0.5 mm, and the thickness c of the reinforcement board 3B is 0.5 mm. In addition, the thickness of the double-sided adhesive sheet 53 will be ignored.

도 13의 가요성판(100)은 본체판(102)에 양면 접착 시트(103)를 개재해서 고무제의 판상체(104)가 접착되고, 이 판상체(104)에 다공질 시트(52)가 피복되어서 이루어진다. 여기서, 본체판(102)의 두께 d는 3.5㎜, 판상체(104)의 두께 e는 3㎜, 다공질 시트(52)의 두께 f는 0.3㎜, 보강판(3B)의 두께 g는 0.5㎜이다. 또한, 양면 접착 시트(103)의 두께는 무시하기로 한다. 또한, 보강판(3B)은 1변의 길이가 600㎜ 이상인 것으로 한다.In the flexible plate 100 of Fig. 13, a rubber plate 104 is adhered to the body plate 102 via a double-sided adhesive sheet 103, and the plate 104 is covered with a porous sheet 52. become made Here, the thickness d of the body plate 102 is 3.5 mm, the thickness e of the plate-like body 104 is 3 mm, the thickness f of the porous sheet 52 is 0.3 mm, and the thickness g of the reinforcing plate 3B is 0.5 mm. . In addition, the thickness of the double-sided adhesive sheet 103 will be ignored. In addition, the length of one side shall be 600 mm or more of reinforcing board 3B.

도 11의 그래프로 돌아와서, 상기 도면에 나타내어진 인장 응력은 보강판(3B)과 본체판(54, 102)의 영률, 보강판(3B)의 곡률 반경 및 보강판(3B)의 두께에 기초하여 이미 알려진 응력 계산식에 의해 구해진 것이다. 여기서, 보강판(3B)은 유리제이며, 그 영률은 77.6GPa이다. 또한, 본체판(54, 102)은 폴리카르보네이트제이며, 그 영률은 2.55GPa이다. 그리고, 박리 시에 있어서의 곡률 반경은 1000㎜이다.Returning to the graph of FIG. 11, the tensile stress shown in the figure is based on the Young's modulus of the reinforcing plate 3B and the body plates 54 and 102, the radius of curvature of the reinforcing plate 3B, and the thickness of the reinforcing plate 3B. It is obtained by a known stress calculation formula. Here, the reinforcing plate 3B is made of glass, and the Young's modulus is 77.6 GPa. The body plates 54 and 102 are made of polycarbonate, and the Young's modulus is 2.55 GPa. And the radius of curvature at the time of peeling is 1000 mm.

도 11의 그래프 A는 보강판(3B) 단체의 외원주부에 발생하는 인장 응력이 나타나 있고, 이 인장 응력은 면간 거리에 관계없이 일정값(약 19MPa)으로 된다.The graph A of FIG. 11 shows the tensile stress which generate|occur|produces in the outer peripheral part of the reinforcing plate 3B single-piece|unit, and this tensile stress becomes a fixed value (about 19 MPa) irrespective of the interplanar distance.

그래프 B는 보강판(3B)의 중립면에 발생하는 인장 응력이 나타나 있고, 이 인장 응력은 면간 거리와 비례 관계에 있다.Graph B shows the tensile stress generated in the neutral plane of the reinforcing plate 3B, and this tensile stress has a proportional relationship with the interplanar distance.

그래프 C는 그래프 A의 인장 응력과 그래프 B의 인장 응력을 합산한 인장 응력(이하, 합산 응력이라고 함)이며, 보강판(3B)의 외원주부에 실제로 발생하는 인장 응력이다.Graph C is a tensile stress obtained by adding the tensile stress of graph A and tensile stress of graph B (hereinafter referred to as summed stress), and is a tensile stress actually occurring in the outer circumferential portion of the reinforcing plate 3B.

이어서, 도 11의 그래프에 기초하여, 도 12의 보강판(3B)에 발생하는 합산 응력과 도 13의 보강판(3B)에 발생하는 합산 응력을 비교한다.Next, based on the graph of FIG. 11 , the summed stress generated in the reinforcing plate 3B of FIG. 12 and the summed stress generated in the reinforcing plate 3B of FIG. 13 are compared.

도 12의 가요성판(42)은 다공질 시트(52)의 두께가 0.5㎜(면간 거리=0.5㎜)이므로, 보강판(3B)에 발생하는 합산 응력은, 그래프 C에 기초하여 약 55MPa로 된다. 또한, 중립면에 발생하는 인장 응력은 그래프 B에 기초하여 36MPa로 된다.Since the thickness of the porous sheet 52 of the flexible plate 42 in Fig. 12 is 0.5 mm (interplanar distance = 0.5 mm), the total stress generated in the reinforcing plate 3B is about 55 MPa based on the graph C. Incidentally, the tensile stress generated in the neutral plane is 36 MPa based on the graph B.

이에 반해, 도 13의 가요성판(100)은 판상체(104)의 두께와 다공질 시트(52)의 두께의 합산값이 3.3㎜(면간 거리=3.3㎜)이므로, 보강판(3B)에 발생하는 합산 응력은 그래프 C에 기초하여 약 95MPa로 된다. 또한, 중립면에 발생하는 인장 응력은 그래프 B에 기초하여 76MPa로 된다.In contrast, in the flexible plate 100 of FIG. 13 , the sum of the thickness of the plate-like body 104 and the thickness of the porous sheet 52 is 3.3 mm (interface distance = 3.3 mm), so the The summed stress is about 95 MPa based on graph C. Further, the tensile stress generated in the neutral plane is 76 MPa based on the graph B.

따라서, 실시 형태의 가요성판(42)에 의하면, 동일한 곡률 반경(1000㎜)으로 보강판(3B)을 휘게 한 경우이더라도, 종래의 가요성판(100)과 비교해서, 보강판(3B)에 발생하는 합산 응력을 약 48% 저감시킬 수 있다. 또한, 중립면에 발생하는 인장 응력을 약 53% 저감시킬 수 있다.Therefore, according to the flexible board 42 of embodiment, even if it is a case where the reinforcement board 3B is bent with the same radius of curvature (1000 mm), compared with the conventional flexible board 100, generation|occurrence|production in the reinforcement board 3B The total stress to be applied can be reduced by about 48%. In addition, the tensile stress generated in the neutral plane can be reduced by about 53%.

여기서, 보강판(3B)의 손상을 방지하기 위한 합산 응력의 상한값은, 특별히 규정되는 것은 아니지만, 빈도는 극히 적지만 80MPa를 초과하면 보강판(3B)이 파손되는 경우가 있기 때문에, 그 상한값을 80MPa로 하는 것이 바람직하다. 즉, 다공질 시트(52)의 두께를 2㎜ 이하로 하는 것이 바람직하다.Here, the upper limit of the summed stress for preventing damage to the reinforcing plate 3B is not particularly defined, but the frequency is extremely small, but since the reinforcing plate 3B may be damaged when it exceeds 80 MPa, the upper limit is It is preferable to set it as 80 MPa. That is, it is preferable to make the thickness of the porous sheet 52 into 2 mm or less.

따라서, 실시 형태의 박리 장치(40)에 의하면, 1변의 길이가 600㎜ 이상인 적층체(6)이더라도, 즉, 휨 변형 시에 본체판(54)에 대하여 미끄러지지 않는 보강판(3B)이더라도, 다공질 시트(52)의 두께를 2㎜ 이하로 규정했으므로, 박리 시에 있어서의 보강판(3B)의 손상을 방지할 수 있다.Therefore, according to the peeling apparatus 40 of the embodiment, even if the length of one side is the laminate 6 of 600 mm or more, that is, even if it is a reinforcing plate 3B which does not slide with respect to the body plate 54 at the time of bending deformation, it is porous. Since the thickness of the sheet|seat 52 is prescribed|regulated to 2 mm or less, damage to the reinforcement board 3B at the time of peeling can be prevented.

또한, 실시 형태의 박리 장치(40)를 사용하면, 1변의 길이가 1000㎜ 이상인 적층체이더라도, 보강판(3B)을 원활하게 박리할 수 있었다. 예를 들어, 긴 변이 1300㎜, 짧은 변이 1100㎜인 적층체이더라도, 보강판(3B)을 파손하지 않고 박리할 수 있었다.Moreover, when the peeling apparatus 40 of embodiment was used, even if it was a laminated body whose length of one side is 1000 mm or more, the reinforcement board 3B was able to peel smoothly. For example, even if it was a laminated body whose long side is 1300 mm and short side is 1100 mm, it was able to peel, without damaging the reinforcement board 3B.

또한, 다공질 시트(52)의 두께를 1㎜ 이하로 하면, 보강판(3B)에 발생하는 인장 응력을 보다 저감시킬 수 있으므로, 보다 큰 사이즈의 보강판(3B)의 박리에 적합해진다.Moreover, when the thickness of the porous sheet 52 shall be 1 mm or less, since the tensile stress which generate|occur|produces in the reinforcement board 3B can be reduced more, it becomes suitable for peeling of the reinforcement board 3B of a larger size.

또한, 가요성판(42)의 본체판(54)으로서, 영률이 10GPa 이하인 수지제 부재를 채용하였다. 본체판(54)이 유리의 영률(70GPa 내지 80GPa)과 대략 동일 정도의 재질인 경우에는, 휨 변형 시에 발생하는 보강판(3B)의 인장 응력을 본체판(54)에서 부담할 수 없어, 반대로 본체판(54)의 인장 응력을 보강판(3B)에서 부담하는 경우가 있으므로 바람직하지 않다.In addition, as the main body plate 54 of the flexible plate 42, the resin member whose Young's modulus is 10 GPa or less was employ|adopted. When the main body plate 54 is made of a material approximately equal to the Young's modulus (70 GPa to 80 GPa) of glass, the main body plate 54 cannot bear the tensile stress of the reinforcing plate 3B that occurs during bending deformation. Conversely, since the reinforcing plate 3B may bear the tensile stress of the main body plate 54, it is not preferable.

따라서, 본체판(54)의 영률을 10GPa 이하의 수지 부재로 했으므로, 휨 변형 시에 발생하는 보강판(3B)의 인장 응력을 본체판(54)에서 부담할 수 있고, 이에 의해, 보강판(3B)에 발생하는 인장 응력을 보다 한층 저감시킬 수 있다.Therefore, since the Young's modulus of the main body plate 54 is made of a resin member of 10 GPa or less, the tensile stress of the reinforcing plate 3B generated at the time of flexural deformation can be borne by the main body plate 54, whereby the reinforcing plate ( The tensile stress generated in 3B) can be further reduced.

도 14의 (A)는 도 13에 도시한 종래의 가요성판(100)에 의해 적층체(6)를 유지한 측면도이며, 도 14의 (B)는 도 12에 도시한 실시 형태의 가요성판(42)에 의해 적층체(6)를 유지한 측면도이다.Fig. 14(A) is a side view in which the laminate 6 is held by the conventional flexible plate 100 shown in Fig. 13, and Fig. 14(B) is a flexible plate (B) of the embodiment shown in Fig. 12 ( It is a side view in which the laminated body 6 was hold|maintained by 42).

도 14의 (A)와 같이, 종래의 가요성판(100)에서는, 상하로 배치된 가요성판(42, 42)을 각각 가동체(44)에 의해 서로 가까워지는 방향으로 가압하면, 그 가압력에 의해 본체판(102)가 국소적으로 휘고, 그 휨에 고무제의 판상체(104)가 추종하지 않는다. 이에 의해, 적층체(6)와 판상체(104) 사이에 국소적으로 간극(106)이 발생하여, 간극으로부터 흡인용 에어가 누설된다고 하는 문제가 발생한다.As shown in Fig. 14A, in the conventional flexible plate 100, when the vertically arranged flexible plates 42 and 42 are pressed in a direction approaching each other by the movable body 44, the pressing force The main body plate 102 bends locally, and the rubber plate-shaped body 104 does not follow the bending. Thereby, the clearance gap 106 generate|occur|produces locally between the laminated body 6 and the plate-shaped object 104, and the problem that suction air leaks from a clearance gap arises.

이에 반해, 실시 형태의 가요성판(42)은 도 7의 (B)에 도시한 바와 같이, 쇼어 E 경도가 20도 이상 50도 이하인 독립 기포의 스펀지인 프레임 형상 부재(56)가 구비되어 있다.In contrast, the flexible plate 42 of the embodiment is provided with a frame-like member 56 that is a closed-cell sponge having a Shore E hardness of 20 degrees or more and 50 degrees or less, as shown in Fig. 7B.

따라서, 도 14의 (B)와 같이, 본체판(102)이 국소적으로 휜 경우이더라도, 그 변형을 프레임 형상 부재(56)의 탄성에서 흡수할 수 있으므로, 프레임 형상 부재(56)와 적층체(6)의 밀착성을 유지할 수 있고, 이에 의해 흡인용 에어의 누설을 방지할 수 있다.Therefore, even when the body plate 102 is locally bent, as shown in Fig. 14B, the deformation can be absorbed by the elasticity of the frame-shaped member 56, so that the frame-shaped member 56 and the laminated body The adhesiveness of (6) can be maintained, and the leak of the suction air can be prevented by this.

본 발명을 상세하게 또한 특정한 실시 형태를 참조해서 설명했지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 여러 변형이나 수정을 가할 수 있는 것은 당업자에게 명확하다.Although this invention was detailed also demonstrated with reference to the specific embodiment, it is clear for those skilled in the art that various changes and correction can be added without deviating from the mind and range of this invention.

본 출원은 2014년 5월 22일에 출원된 일본 특허 출원 2014-105850에 기초하는 것으로, 그 내용은 여기에 참조로서 도입된다.This application is based on the JP Patent application 2014-105850 for which it applied on May 22, 2014, The content is taken in here as a reference.

N: 나이프
1: 적층체
1A: 제1 적층체
1B: 제2 적층체
2: 기판
2a: 기판의 표면
2b: 기판의 이면
2A: 기판
2Aa: 기판의 표면
2B: 기판
2Ba: 기판의 표면
3: 보강판
3a: 보강판의 표면
3A: 보강판
3B: 보강판
3Bb: 보강판의 이면
4: 수지층
4A: 수지층
4B: 수지층
6: 적층체
6A, 6B: 코너부
7: 기능층
10: 박리 개시부 제작 장치
12: 테이블
14: 홀더
16: 높이 조정 장치
18: 이송 장치
20: 액체
22: 액체 공급 장치
24: 계면
26: 박리 개시부
28: 계면
30: 박리 개시부
40: 박리 장치
42: 가요성판
44: 가동체
46: 가동 장치
48: 구동 장치
50: 컨트롤러
52: 다공질 시트
53: 양면 접착 시트
54: 본체판
57: 양면 접착 시트
58: 홈
60: 관통 구멍
62: 로드
64: 볼 조인트
66: 프레임
68: 쿠션 부재
70: 패널
72: 흡착 패드
74: 반송 장치
N: knife
1: Laminate
1A: first laminate
1B: second laminate
2: Substrate
2a: the surface of the substrate
2b: the back side of the substrate
2A: substrate
2Aa: the surface of the substrate
2B: substrate
2Ba: the surface of the substrate
3: reinforcing plate
3a: surface of reinforcing plate
3A: reinforcing plate
3B: reinforcing plate
3Bb: back side of reinforcing plate
4: resin layer
4A: resin layer
4B: resin layer
6: Laminate
6A, 6B: Corner
7: functional layer
10: Peeling start part manufacturing apparatus
12: table
14: holder
16: height adjustment device
18: transfer device
20: liquid
22: liquid supply device
24: interface
26: peeling start part
28: interface
30: peeling start part
40: peeling device
42: flexible board
44: movable body
46: movable device
48: drive device
50: controller
52: porous sheet
53: double-sided adhesive sheet
54: body plate
57: double-sided adhesive sheet
58: home
60: through hole
62: load
64: ball joint
66: frame
68: cushion member
70: panel
72: suction pad
74: conveying device

Claims (14)

제1 기판과 유리제의 제2 기판이 박리 가능하게 부착되어서 이루어지는 1변의 길이가 600㎜ 이상인 직사각 형상의 적층체에 대하여, 상기 제2 기판의 일단부측으로부터 타단부측을 향한 박리 진행 방향을 따라서 상기 제2 기판을 휘게 함으로써, 상기 제2 기판을 상기 제1 기판으로부터 박리하는 적층체의 박리 장치에 있어서,
상기 제2 기판을 지지하고 상기 박리 진행 방향으로 휘게 하는 가요성 부재를 구비하고,
상기 가요성 부재는 본체부와 다공질 부재를 구비하고,
상기 제2 기판은 상기 다공질 부재를 개재해서 상기 본체부에 흡착 유지되고,
상기 다공질 부재는 두께 2㎜ 이하의 시트 형상 부재인 것을 특징으로 하는 적층체의 박리 장치.
With respect to a rectangular laminate having a side length of 600 mm or more, in which a first substrate and a second glass substrate are detachably attached, along the peeling proceeding direction from one end side of the second substrate to the other end side, In the peeling apparatus of a laminated body which peels the said 2nd board|substrate from the said 1st board|substrate by bending a 2nd board|substrate,
and a flexible member that supports the second substrate and bends in the peeling proceeding direction;
The flexible member includes a body portion and a porous member,
The second substrate is adsorbed and held in the main body portion with the porous member interposed therebetween;
The said porous member is a sheet-like member with a thickness of 2 mm or less, The peeling apparatus of the laminated body characterized by the above-mentioned.
제1항에 있어서, 상기 다공질 부재는 두께 1㎜ 이하인 적층체의 박리 장치.The apparatus for peeling a laminate according to claim 1, wherein the porous member has a thickness of 1 mm or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 가요성 부재의 상기 본체부는 영률이 10GPa 이하인 수지제 부재인 적층체의 박리 장치.The apparatus for peeling a laminate according to claim 1 or 2, wherein the main body portion of the flexible member is a resin member having a Young's modulus of 10 GPa or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 가요성 부재의 상기 본체부에는, 상기 다공질 부재를 포위하고 또한 상기 제2 기판에 접촉되는 프레임 형상 부재가 구비되고,
상기 프레임 형상 부재는 쇼어 E 경도가 20도 이상 50도 이하인 독립 기포의 스펀지인 적층체의 박리 장치.
The frame-shaped member according to claim 1 or 2, wherein the body portion of the flexible member is provided with a frame-shaped member that surrounds the porous member and is in contact with the second substrate,
The above-mentioned frame-shaped member is a closed-cell sponge having a Shore E hardness of 20 degrees or more and 50 degrees or less.
제1 기판과 유리제의 제2 기판이 박리 가능하게 부착되어서 이루어지는 1변의 길이가 600㎜ 이상인 직사각 형상의 적층체의 박리 방법이며, 상기 적층체의 상기 제2 기판을 두께 2㎜ 이하의 다공질 부재 및 본체부를 구비하는 가요성 부재의 상기 다공질 부재를 개재해서 상기 본체부에 흡착 유지시키는 유지 공정과,
상기 제2 기판의 일단부측으로부터 타단부측을 향한 박리 진행 방향을 따라서 상기 가요성 부재를 휘게 함으로써, 상기 제2 기판을 상기 제1 기판으로부터 박리하는 박리 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 적층체의 박리 방법.
A peeling method of a rectangular laminate having a side length of 600 mm or more, wherein a first substrate and a second glass substrate are detachably attached, wherein the second substrate of the laminate is a porous member having a thickness of 2 mm or less; a holding step of adsorbing and holding the body portion via the porous member of the flexible member provided with the body portion;
and a peeling step of peeling the second substrate from the first substrate by bending the flexible member along a peeling proceeding direction from one end side of the second substrate to the other end side. peeling method.
제5항에 있어서, 상기 적층체는 1변의 길이가 1000㎜ 이상인 적층체의 박리 방법.The method for peeling a laminate according to claim 5, wherein the laminate has a side length of 1000 mm or more. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 다공질 부재는 두께 1㎜ 이하인 적층체의 박리 방법.The method of claim 5 or 6, wherein the porous member has a thickness of 1 mm or less. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 가요성 부재의 상기 본체부는 영률이 10GPa 이하인 수지제 부재인 적층체의 박리 방법.The method for peeling a laminate according to claim 5 or 6, wherein the body portion of the flexible member is a resin member having a Young's modulus of 10 GPa or less. 제5항 또는 제6항에 있어서, 쇼어 E 경도가 20도 이상 50도 이하인 독립 기포의 스펀지인 프레임 형상 부재를, 상기 다공질 부재를 포위하도록, 상기 가요성 부재의 상기 본체부에 설치하고,
상기 유지 공정에서, 상기 제2 기판의 모든 테두리부를 상기 프레임 형상 부재에 밀착시키는 적층체의 박리 방법.
The frame-shaped member according to claim 5 or 6, wherein a frame-shaped member that is a closed-cell sponge having a Shore E hardness of 20 degrees or more and 50 degrees or less is provided in the body portion of the flexible member so as to surround the porous member,
In the holding step, a method for peeling a laminate in which all edge portions of the second substrate are brought into close contact with the frame-shaped member.
제1 기판과 유리제의 제2 기판이 박리 가능하게 부착되어서 이루어지는 1변의 길이가 600㎜ 이상인 직사각 형상의 적층체에서의 상기 제1 기판의 노출면에 기능층을 형성하는 기능층 형성 공정과, 상기 기능층이 형성된 상기 제1 기판으로부터 상기 제2 기판을 분리하는 분리 공정을 갖는 전자 디바이스의 제조 방법에 있어서,
상기 분리 공정은,
상기 적층체의 상기 제2 기판을 두께 2㎜ 이하의 다공질 부재 및 본체부를 구비하는 가요성 부재의 상기 다공질 부재를 개재해서 상기 본체부에 흡착 유지시키는 유지 공정과,
상기 제2 기판의 일단부측으로부터 타단부측을 향한 박리 진행 방향을 따라서 상기 가요성 부재를 휘게 함으로써, 상기 제2 기판을 상기 제1 기판으로부터 박리하는 박리 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조 방법.
A functional layer forming step of forming a functional layer on an exposed surface of the first substrate in a rectangular laminate having a side length of 600 mm or more, wherein a first substrate and a second glass substrate are detachably attached; A method of manufacturing an electronic device comprising a separation step of separating the second substrate from the first substrate on which a functional layer is formed, the method comprising:
The separation process is
a holding step of adsorbing and holding the second substrate of the laminate through the porous member of the flexible member including a porous member having a thickness of 2 mm or less and a body portion;
and a peeling step of peeling the second substrate from the first substrate by bending the flexible member along a peeling progress direction from one end side to the other end side of the second substrate. manufacturing method.
제10항에 있어서, 상기 적층체는 1변의 길이가 1000㎜ 이상인 전자 디바이스의 제조 방법.The method for manufacturing an electronic device according to claim 10, wherein the laminate has a side length of 1000 mm or more. 제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 다공질 부재는 두께 1㎜ 이하인 전자 디바이스의 제조 방법.The method for manufacturing an electronic device according to claim 10 or 11, wherein the porous member has a thickness of 1 mm or less. 제10항 또는 제11항에 있어서, 상기 가요성 부재의 상기 본체부는 영률이 10GPa 이하인 수지제 부재인 전자 디바이스의 제조 방법.The method for manufacturing an electronic device according to claim 10 or 11, wherein the body portion of the flexible member is a resin member having a Young's modulus of 10 GPa or less. 제10항 또는 제11항에 있어서, 쇼어 E 경도가 20도 이상 50도 이하인 독립 기포의 스펀지인 프레임 형상 부재를, 상기 다공질 부재를 포위하도록, 상기 가요성 부재의 상기 본체부에 설치하고,
상기 유지 공정에서, 상기 제2 기판의 모든 테두리부를 상기 프레임 형상 부재에 밀착시키는 전자 디바이스의 제조 방법.
12. The method according to claim 10 or 11, wherein a frame-shaped member that is a closed-cell sponge having a Shore E hardness of 20 degrees or more and 50 degrees or less is provided in the body portion of the flexible member so as to surround the porous member,
In the said holding process, the manufacturing method of the electronic device which makes all the edge parts of the said 2nd board|substrate closely_contact|adhere to the said frame-shaped member.
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