JP2013055307A - Peeling device, and manufacturing method of electronic device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a peeling device capable of minimizing damage on a substrate.SOLUTION: A peeling device 10 which peels a boundary surface 8 of a substrate 2 and a reinforcing plate 3 of the substrate 2, in order, from one end side toward the other end side comprises support means 20 for supporting a first principal surface 6b of a laminate 6 including the substrate 2 and the reinforcing plate 3, a flexible plate 30 which sucks a second principal surface 6a of the laminate 6, a plurality of movable bodies 40 fixed onto the flexible plate 30 at intervals and movable independently for the support means 20, and a controller 80 which controls movement of the plurality of movable bodies 40. The controller 80 controls movement of the plurality of movable bodies 40 so that a boundary line 9 of a portion where the boundary surface 8 is peeled and a portion where the boundary surface 8 is not peeled is curved to protrude backward in the direction of movement, when the linear distance H between both ends of the boundary line 9 is longest.

Description

本発明は、基板と補強板とを剥離する剥離装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。   The present invention relates to a peeling apparatus for peeling a substrate and a reinforcing plate, and an electronic device manufacturing method.

表示パネル、太陽電池、薄膜2次電池等の電子デバイスの薄型化、軽量化に伴い、電子デバイスに用いられる基板の薄板化が要望されている。基板が薄くなると、基板のハンドリング性が悪くなるので、基板上に電子デバイス用の機能層(例えば薄膜トランジスタ、カラーフィルタ)を形成するのが難しくなる。   As electronic devices such as display panels, solar cells, and thin-film secondary batteries are made thinner and lighter, there is a demand for thinner substrates used in electronic devices. As the substrate becomes thinner, the handling of the substrate becomes worse, and it becomes difficult to form a functional layer (for example, a thin film transistor or a color filter) for an electronic device on the substrate.

そこで、補強板で補強した基板上に機能層を形成した後、基板と補強板とを剥離する方法が開発されている(例えば、特許文献1参照)。基板と補強板との界面が一端側から他端側に向けて順次剥離するように、基板及び補強板の少なくとも一方を撓み変形させる。この撓み変形は、少なくとも一方を可撓性板で吸着し、可撓性板上に固定された複数の可動体を独立に移動させることにより実施される。   Thus, a method has been developed in which a functional layer is formed on a substrate reinforced with a reinforcing plate, and then the substrate and the reinforcing plate are peeled off (see, for example, Patent Document 1). At least one of the substrate and the reinforcing plate is bent and deformed so that the interface between the substrate and the reinforcing plate is sequentially peeled from the one end side toward the other end side. This bending deformation is carried out by adsorbing at least one of them with a flexible plate and independently moving a plurality of movable bodies fixed on the flexible plate.

国際公開第11/024689号パンフレットInternational Publication No. 11/024689 Pamphlet

剥離時に、基板及び補強板の少なくとも一方を撓み変形させるので、少なくとも一方には負荷がかかる。この負荷によって、少なくとも一方がエッジから割れることがあった。   Since at least one of the substrate and the reinforcing plate is bent and deformed at the time of peeling, a load is applied to at least one of them. Due to this load, at least one of the edges may break from the edge.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、剥離時の破損を抑制できる剥離装置、及び電子デバイスの製造方法の提供を目的とする。   This invention is made | formed in view of the said subject, Comprising: It aims at provision of the peeling apparatus which can suppress the damage at the time of peeling, and the manufacturing method of an electronic device.

上記目的を解決するため、本発明の一の態様による剥離装置は、
基板と、該基板を補強する補強板との界面を一端側から他端側に向けて順次剥離する剥離装置において、
前記基板及び前記補強板を含む積層体の一方の主面を支持する支持手段と、
前記積層体の他方の主面を支持する可撓性板と、
該可撓性板上に間隔をおいて固定され、前記支持手段に対して独立に移動可能な複数の可動体と、
複数の可動体の移動を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置は、前記界面を剥離した部分と前記界面を剥離してない部分との境界線の両端間の直線距離が最も長くなるときに該境界線が移動方向後方に凸の湾曲状となるように、前記複数の可動体の移動を制御する。
In order to solve the above object, a peeling apparatus according to an aspect of the present invention includes:
In the peeling apparatus for sequentially peeling the interface between the substrate and the reinforcing plate that reinforces the substrate from one end side to the other end side,
Support means for supporting one main surface of the laminate including the substrate and the reinforcing plate;
A flexible plate for supporting the other main surface of the laminate;
A plurality of movable bodies fixed on the flexible plate at intervals and movable independently of the support means;
A control device for controlling the movement of a plurality of movable bodies,
When the linear distance between both ends of the boundary line between the part where the interface is peeled off and the part where the interface is not peeled becomes the longest, the control device has a curved shape protruding backward in the movement direction. Thus, the movement of the plurality of movable bodies is controlled.

また、本発明の他の態様による電子デバイスの製造方法は、
補強板で補強した基板上に機能層を形成する工程と、前記機能層が形成された前記基板と前記補強板とを剥離する工程とを有する電子デバイスの製造方法において、
前記基板と前記補強板とを剥離する工程は、前記基板及び前記補強板を含む積層体の第1主面を支持手段で支持すると共に、前記積層体の第2主面を吸着する可撓性板上に間隔をおいて固定される複数の可動体の前記支持手段に対する移動を制御することで、前記基板と前記補強板との界面を一端側から他端側に向けて順次剥離する工程であって、
前記界面を剥離した部分と前記界面を剥離してない部分との境界線の両端間の直線距離が最も長くなるときに該境界線が移動方向後方に凸の湾曲状となるように、前記複数の可動体の移動を制御する。
In addition, a method for manufacturing an electronic device according to another aspect of the present invention includes:
In a method for manufacturing an electronic device, comprising a step of forming a functional layer on a substrate reinforced with a reinforcing plate, and a step of separating the reinforcing plate and the substrate on which the functional layer is formed.
The step of peeling the substrate and the reinforcing plate includes supporting the first main surface of the laminate including the substrate and the reinforcing plate with a supporting means and flexibly adsorbing the second main surface of the laminate. In the step of sequentially peeling the interface between the substrate and the reinforcing plate from one end side to the other end side by controlling the movement of the plurality of movable bodies fixed at intervals on the plate with respect to the support means. There,
The plurality of lines are arranged such that when the linear distance between both ends of the boundary line between the part where the interface is peeled off and the part where the interface is not peeled becomes the longest, the boundary line has a curved shape protruding backward in the movement direction. Control the movement of the movable body.

本発明によれば、剥離時の破損を抑制できる剥離装置、及び電子デバイスの製造方法が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the peeling apparatus which can suppress the damage at the time of peeling, and the manufacturing method of an electronic device are provided.

電子デバイスの製造工程に供される積層板の一例を示す側面図Side view showing an example of a laminated plate used in the manufacturing process of an electronic device 電子デバイスの製造工程の途中で作製される積層体の一例を示す側面図Side view showing an example of a laminate manufactured in the course of the manufacturing process of an electronic device 第1実施形態による剥離装置を示す一部断面図Partial sectional view showing a peeling apparatus according to the first embodiment 図3の剥離装置の動作例を示す一部断面図FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing an operation example of the peeling apparatus of FIG. 可撓性板の要部の一例を示す図The figure which shows an example of the principal part of a flexible board 可撓性板上における複数の可動体の配置例を示す平面図The top view which shows the example of arrangement | positioning of the several movable body on a flexible board 複数の可動体の動作例を説明する図The figure explaining the operation example of a several movable body 第2実施形態による剥離装置を示す一部断面図Partial sectional view showing a peeling apparatus according to a second embodiment 図8の剥離装置の動作例を示す一部断面図FIG. 8 is a partial cross-sectional view showing an operation example of the peeling apparatus of FIG. 図8の剥離装置を用いた剥離工程の一例を示す図The figure which shows an example of the peeling process using the peeling apparatus of FIG. 図8の剥離装置を用いた剥離工程の別の例を示す図The figure which shows another example of the peeling process using the peeling apparatus of FIG. 図6の変形例を示す平面図The top view which shows the modification of FIG. 図6の別の変形例を示す平面図The top view which shows another modification of FIG. 基体板の変形例を示す平面図The top view which shows the modification of a base plate 基体板の別の変形例を示す平面図The top view which shows another modification of a base plate

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して、説明を省略する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding components are denoted by the same or corresponding reference numerals, and description thereof is omitted.

[第1実施形態]
本実施形態の電子デバイスの製造方法は、電子デバイスに用いられる基板の薄板化に対応するため、補強板で補強した基板上に機能層を形成する工程と、機能層が形成された基板と補強板とを剥離する工程とを有する。補強板は、電子デバイスの一部とはならない。
[First Embodiment]
The manufacturing method of the electronic device according to the present embodiment corresponds to the thinning of the substrate used in the electronic device, and therefore the step of forming the functional layer on the substrate reinforced with the reinforcing plate, the substrate on which the functional layer is formed, and the reinforcement And a step of peeling the plate. The reinforcing plate does not become part of the electronic device.

ここで、電子デバイスとは、表示パネル、太陽電池、薄膜2次電池等の電子部品をいう。表示パネルは、液晶パネル(LCD)やプラズマパネル(PDP)、有機ELパネル(OLED)を含む。   Here, the electronic device refers to an electronic component such as a display panel, a solar battery, or a thin film secondary battery. The display panel includes a liquid crystal panel (LCD), a plasma panel (PDP), and an organic EL panel (OLED).

(積層板)
図1は、電子デバイスの製造工程に供される積層板の側面図である。積層板1は、基板2と、基板2を補強する補強板3とを含む。
(Laminated board)
FIG. 1 is a side view of a laminated plate used in an electronic device manufacturing process. The laminated plate 1 includes a substrate 2 and a reinforcing plate 3 that reinforces the substrate 2.

(基板)
基板2には、電子デバイスの製造工程の途中で、所定の機能層(例えば、導電層)が形成される。
(substrate)
A predetermined functional layer (for example, a conductive layer) is formed on the substrate 2 during the manufacturing process of the electronic device.

基板2は、例えばガラス基板、セラミックス基板、樹脂基板、金属基板、又は半導体基板等である。これらの中でも、ガラス基板は、耐薬品性、耐透湿性に優れ、且つ、線膨張係数が小さいので好ましい。線膨張係数が小さくなるほど、高温下で形成される機能層のパターンが冷却時にずれ難い。   The substrate 2 is, for example, a glass substrate, a ceramic substrate, a resin substrate, a metal substrate, or a semiconductor substrate. Among these, a glass substrate is preferable because it is excellent in chemical resistance and moisture permeability and has a small linear expansion coefficient. As the linear expansion coefficient decreases, the pattern of the functional layer formed at high temperatures is less likely to shift during cooling.

ガラス基板のガラスとしては、特に限定されないが、例えば、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、ソーダライムガラス、高シリカガラス、その他の酸化ケイ素を主な成分とする酸化物系ガラス等が挙げられる。酸化物系ガラスとしては、酸化物換算による酸化ケイ素の含有量が40〜90質量%のガラスが好ましい。   The glass of the glass substrate is not particularly limited, and examples thereof include non-alkali glass, borosilicate glass, soda lime glass, high silica glass, and other oxide-based glasses mainly containing silicon oxide. As the oxide glass, a glass having a silicon oxide content of 40 to 90% by mass in terms of oxide is preferable.

ガラス基板のガラスとしては、電子デバイスの種類やその製造工程に適したガラスが採用されることが好ましい。例えば、液晶パネル用のガラス基板は、アルカリ金属成分を実質的に含まないガラス(無アルカリガラス)からなることが好ましい。このように、ガラス基板のガラスは、適用される電子デバイスの種類及びその製造工程に基づいて適宜選択される。   As the glass of the glass substrate, glass suitable for the type of electronic device and its manufacturing process is preferably employed. For example, it is preferable that the glass substrate for liquid crystal panels consists of glass (an alkali free glass) which does not contain an alkali metal component substantially. As described above, the glass of the glass substrate is appropriately selected based on the type of electronic device to be applied and the manufacturing process thereof.

樹脂基板の樹脂は、結晶性樹脂であっても、非結晶性樹脂であってもよく、特に限定されない。   The resin of the resin substrate may be a crystalline resin or an amorphous resin, and is not particularly limited.

結晶性樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂であるポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、もしくはシンジオタクティックポリスチレン等が挙げられ、熱硬化性樹脂ではポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等が挙げられる。   Examples of the crystalline resin include thermoplastic resins such as polyamide, polyacetal, polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or syndiotactic polystyrene. Thermosetting resins include polyphenylene sulfide and polyether ether ketone. , Liquid crystal polymer, fluororesin, or polyether nitrile.

非結晶性樹脂として、例えば、熱可塑性樹脂であるポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等が挙げられ、熱硬化性樹脂ではポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミドが挙げられる。   Examples of non-crystalline resins include polycarbonate, modified polyphenylene ether, polycyclohexene, or polynorbornene-based resins that are thermoplastic resins. Examples of thermosetting resins include polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyamideimide, Examples thereof include polyetherimide and thermoplastic polyimide.

樹脂基板の樹脂としては、非結晶性で熱可塑性の樹脂が特に好ましい。   The resin for the resin substrate is particularly preferably an amorphous thermoplastic resin.

基板2の厚さは、基板2の種類に応じて設定される。例えば、ガラス基板の場合、電子デバイスの軽量化、薄板化のため、好ましくは0.7mm以下であり、より好ましくは0.3mm以下であり、さらに好ましくは0.1mm以下である。0.3mm以下の場合、ガラス基板に良好なフレキシブル性を与えることが可能である。0.1mm以下の場合、ガラス基板をロール状に巻き取ることが可能である。また、ガラス基板の厚さは、ガラス基板の製造が容易であること、ガラス基板の取り扱いが容易であること等の理由から、0.03mm以上であることが好ましい。   The thickness of the substrate 2 is set according to the type of the substrate 2. For example, in the case of a glass substrate, it is preferably 0.7 mm or less, more preferably 0.3 mm or less, and still more preferably 0.1 mm or less for reducing the weight and thickness of the electronic device. In the case of 0.3 mm or less, it is possible to give good flexibility to the glass substrate. In the case of 0.1 mm or less, the glass substrate can be wound into a roll. Further, the thickness of the glass substrate is preferably 0.03 mm or more for reasons such as easy manufacture of the glass substrate and easy handling of the glass substrate.

(補強板)
補強板3は、基板2に密着されると、剥離操作が行われるまで、基板2を補強する。補強板3は、機能層の形成後、電子デバイスの製造工程の途中で、基板2から剥離され、電子デバイスの一部とはならない。
(Reinforcement plate)
When the reinforcing plate 3 is in close contact with the substrate 2, the reinforcing plate 3 reinforces the substrate 2 until a peeling operation is performed. The reinforcing plate 3 is peeled off from the substrate 2 during the manufacturing process of the electronic device after the functional layer is formed, and does not become a part of the electronic device.

補強板3は、温度変化による反りや剥離を抑制するため、基板2との線膨張係数差の絶対値の小さいものが好ましい。基板2がガラス基板の場合、補強板3はガラス板を含むものが好ましい。このガラス板のガラスは、ガラス基板のガラスと同じ種類であることが好ましい。   The reinforcing plate 3 preferably has a small absolute value of the difference in linear expansion coefficient from the substrate 2 in order to suppress warping and peeling due to temperature changes. When the substrate 2 is a glass substrate, the reinforcing plate 3 preferably includes a glass plate. The glass of this glass plate is preferably the same type as the glass of the glass substrate.

補強板3は、支持板4と、支持板4上に形成される樹脂層5とを備える。樹脂層5と基板2との間に作用するファンデルワールス力や樹脂層5の粘着力等により樹脂層5と基板2とが剥離可能に結合される。   The reinforcing plate 3 includes a support plate 4 and a resin layer 5 formed on the support plate 4. The resin layer 5 and the substrate 2 are detachably coupled to each other by van der Waals force acting between the resin layer 5 and the substrate 2 or the adhesive force of the resin layer 5.

尚、本実施形態の補強板3は、支持板4と樹脂層5とで構成されるが、支持板4のみで構成されてもよい。支持板4と基板2との間に作用するファンデルワールス力等により支持板4と基板2とが剥離可能に結合される。支持板4であるガラス板と、基板2であるガラス基板とが高温で接着しないように、支持板4の表面に無機薄膜が形成されていてもよい。また、支持板4の表面に表面粗さの異なる領域を設けること等によって、支持板4と基板2との界面に、結合力の異なる領域が設けられていてもよい。   In addition, although the reinforcement board 3 of this embodiment is comprised with the support board 4 and the resin layer 5, you may be comprised only with the support board 4. FIG. The support plate 4 and the substrate 2 are detachably coupled to each other by van der Waals force acting between the support plate 4 and the substrate 2. An inorganic thin film may be formed on the surface of the support plate 4 so that the glass plate which is the support plate 4 and the glass substrate which is the substrate 2 are not bonded at a high temperature. In addition, a region having a different bonding force may be provided at the interface between the support plate 4 and the substrate 2 by providing a region having a different surface roughness on the surface of the support plate 4.

また、本実施形態の補強板3は、支持板4と樹脂層5とで構成されるが、支持板4は複数であってもよい。同様に、樹脂層5は複数であってもよい。   Moreover, although the reinforcement board 3 of this embodiment is comprised with the support plate 4 and the resin layer 5, the support plate 4 may be plural. Similarly, a plurality of resin layers 5 may be provided.

(支持板)
支持板4は、樹脂層5を介して、基板2を支持して補強する。支持板4は、電子デバイスの製造工程における基板2の変形、傷付き、破損等を防止する。
(Support plate)
The support plate 4 supports and reinforces the substrate 2 through the resin layer 5. The support plate 4 prevents the substrate 2 from being deformed, scratched, damaged or the like in the manufacturing process of the electronic device.

支持板4は、例えば、ガラス板、セラミックス板、樹脂板、半導体板、又は金属板等である。支持板4の種類は、電子デバイスの種類や基板2の種類等に応じて選定される。支持板4と基板2とが同種であると、温度変化による反りや剥離が低減される。   The support plate 4 is, for example, a glass plate, a ceramic plate, a resin plate, a semiconductor plate, or a metal plate. The type of the support plate 4 is selected according to the type of the electronic device, the type of the substrate 2 and the like. When the support plate 4 and the substrate 2 are of the same type, warpage and peeling due to temperature changes are reduced.

支持板4と基板2の平均線膨張係数の差(絶対値)は、基板2の寸法形状等に応じて適宜設定されるが、例えば35×10−7/℃以下であることが好ましい。ここで、「平均線膨張係数」とは、50〜300℃の温度範囲における平均線膨張係数(JIS R 3102)をいう。 The difference (absolute value) in the average linear expansion coefficient between the support plate 4 and the substrate 2 is appropriately set according to the dimension shape and the like of the substrate 2, but is preferably, for example, 35 × 10 −7 / ° C. or less. Here, the “average linear expansion coefficient” refers to an average linear expansion coefficient (JIS R 3102) in a temperature range of 50 to 300 ° C.

支持板4の厚さは、例えば0.7mm以下である。また、支持板4の厚さは、基板2を補強するため、0.4mm以上であることが好ましい。支持板4の厚さは、基板2よりも厚くてもよいし、薄くてもよい。   The thickness of the support plate 4 is 0.7 mm or less, for example. Further, the thickness of the support plate 4 is preferably 0.4 mm or more in order to reinforce the substrate 2. The support plate 4 may be thicker than the substrate 2 or thinner.

支持板4の外形は、支持板4が樹脂層5の全体を支持できるように、図1に示すように樹脂層5の外形と同一であるか、樹脂層5の外形よりも大きいことが好ましい。   The outer shape of the support plate 4 is preferably the same as or larger than the outer shape of the resin layer 5 as shown in FIG. 1 so that the support plate 4 can support the entire resin layer 5. .

(樹脂層)
樹脂層5は、基板2に密着されると、剥離操作が行われるまで、基板2の位置ずれを防止する。樹脂層5は剥離操作によって基板2から容易に剥離する。基板2を容易に剥離することで、基板2の破損を防止でき、また、意図しない位置(樹脂層5と支持板4との間)での剥離を防止できる。
(Resin layer)
When the resin layer 5 is in close contact with the substrate 2, it prevents the substrate 2 from being displaced until a peeling operation is performed. The resin layer 5 is easily peeled from the substrate 2 by a peeling operation. By easily peeling the substrate 2, it is possible to prevent the substrate 2 from being damaged and to prevent peeling at an unintended position (between the resin layer 5 and the support plate 4).

樹脂層5は、支持板4との結合力が、基板2との結合力よりも相対的に高くなるように形成される。これによって、剥離操作が行われる際に、積層板1が意図しない位置(樹脂層5と支持板4との間)で剥離するのを防止できる。   The resin layer 5 is formed such that the bonding force with the support plate 4 is relatively higher than the bonding force with the substrate 2. Thereby, when the peeling operation is performed, it is possible to prevent the laminated plate 1 from being peeled at an unintended position (between the resin layer 5 and the support plate 4).

樹脂層5の樹脂は、特に限定されない。例えば、樹脂層5の樹脂としては、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂等が挙げられる。いくつかの種類の樹脂を混合して用いることもできる。中でも、耐熱性や剥離性の観点から、シリコーン樹脂、ポリイミドシリコーン樹脂が好ましい。   The resin of the resin layer 5 is not particularly limited. For example, the resin of the resin layer 5 includes acrylic resin, polyolefin resin, polyurethane resin, polyimide resin, silicone resin, polyimide silicone resin, and the like. Several types of resins can be mixed and used. Of these, silicone resins and polyimide silicone resins are preferred from the viewpoints of heat resistance and peelability.

樹脂層5の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1〜50μm、より好ましくは4〜20μmである。樹脂層5の厚さを1μm以上とすることで、樹脂層5と基板2との間に気泡や異物が混入した場合に、気泡や異物の厚さを吸収するように樹脂層5が変形できる。一方、樹脂層5の厚さが50μm以下であると、樹脂層5の形成時間を短縮でき、さらに樹脂層5の樹脂を必要以上に使用しないため経済的である。   Although the thickness of the resin layer 5 is not specifically limited, Preferably it is 1-50 micrometers, More preferably, it is 4-20 micrometers. By setting the thickness of the resin layer 5 to 1 μm or more, the resin layer 5 can be deformed so as to absorb the thickness of the bubbles and foreign matter when the bubbles and foreign matter are mixed between the resin layer 5 and the substrate 2. . On the other hand, when the thickness of the resin layer 5 is 50 μm or less, it is economical because the formation time of the resin layer 5 can be shortened and the resin of the resin layer 5 is not used more than necessary.

樹脂層5の外形は、樹脂層5が基板2の全体を密着できるように、図1に示すように基板2の外形と同一か、基板2の外形よりも大きいことが好ましい。   The outer shape of the resin layer 5 is preferably the same as or larger than the outer shape of the substrate 2 as shown in FIG. 1 so that the resin layer 5 can adhere the entire substrate 2.

尚、樹脂層5は2層以上からなっていてもよい。この場合「樹脂層の厚さ」は全ての樹脂層の合計の厚さを意味するものとする。   In addition, the resin layer 5 may consist of two or more layers. In this case, “the thickness of the resin layer” means the total thickness of all the resin layers.

また、樹脂層5が2層以上からなる場合は、各々の層を形成する樹脂の種類が異なってもよい。   Moreover, when the resin layer 5 consists of two or more layers, the kind of resin which forms each layer may differ.

(積層体)
図2は、電子デバイスの製造工程の途中で作製される積層体を示す側面図である。
(Laminate)
FIG. 2 is a side view showing a laminate produced in the course of the manufacturing process of the electronic device.

積層体6は、積層板1の基板2上に、導電層などの機能層を形成してなる。機能層の種類は、電子デバイスの種類に応じて選択される。複数の機能層が基板2上に順次積層されてもよい。機能層の形成方法としては、一般的な方法が用いられ、例えばCVD法やPVD法等の蒸着法、スパッタ法等が用いられる。機能層は、フォトリソグラフィ法やエッチング法で所定のパターンに形成される。   The laminate 6 is formed by forming a functional layer such as a conductive layer on the substrate 2 of the laminate 1. The type of functional layer is selected according to the type of electronic device. A plurality of functional layers may be sequentially stacked on the substrate 2. As a method for forming the functional layer, a general method is used. For example, a vapor deposition method such as a CVD method or a PVD method, a sputtering method, or the like is used. The functional layer is formed in a predetermined pattern by a photolithography method or an etching method.

例えば、積層体6は、補強板3A、基板2A、液晶層7、基板2B、及び補強板3Bをこの順で有する。この積層体6は、LCDの製造工程の途中で作製されるものである。一方の基板2A上の液晶層7側の面には図示されない薄膜トランジスタ(TFT)が形成されており、他方の基板2B上の液晶層7側の面には図示されないカラーフィルタが形成されている。   For example, the laminate 6 includes a reinforcing plate 3A, a substrate 2A, a liquid crystal layer 7, a substrate 2B, and a reinforcing plate 3B in this order. This laminate 6 is produced during the manufacturing process of the LCD. A thin film transistor (TFT) (not shown) is formed on the surface of the substrate 2A on the liquid crystal layer 7 side, and a color filter (not shown) is formed on the surface of the other substrate 2B on the liquid crystal layer 7 side.

尚、本実施形態の積層体6は、両側に補強板3A、3Bが配置された構成であるが、片側にのみ補強板が配置された構成であってもよい。例えば、液晶層7、基板2B、及び補強板3Bがなくてもよい。   In addition, although the laminated body 6 of this embodiment is the structure by which reinforcement board 3A, 3B is arrange | positioned at both sides, the structure by which the reinforcement board was arrange | positioned only at one side may be sufficient. For example, the liquid crystal layer 7, the substrate 2B, and the reinforcing plate 3B may not be provided.

補強板3A、3Bが剥離された後、バックライトなどが取り付けられ、製品であるLCDが得られる。補強板3A、3Bの剥離には、後述の剥離装置が用いられる。   After the reinforcing plates 3A and 3B are peeled off, a backlight or the like is attached to obtain a product LCD. A peeling device described later is used for peeling the reinforcing plates 3A and 3B.

(剥離装置)
図3は、第1実施形態による剥離装置を示す一部断面図である。図4は、図3の剥離装置の動作例を示す一部断面図である。
(Peeling device)
FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing the peeling apparatus according to the first embodiment. FIG. 4 is a partial cross-sectional view showing an operation example of the peeling apparatus of FIG.

剥離装置10は、基板2と補強板3との界面8を一端側から他端側に向けて順次剥離する。剥離時に、界面8を剥離した部分と、界面8を剥離していない部分との境界線(以下、「剥離前線」という)9が所定方向に移動する。以下、剥離前線9の移動方向前方を「前方」、剥離前線9の移動方向後方を「後方」として説明する。   The peeling apparatus 10 sequentially peels the interface 8 between the substrate 2 and the reinforcing plate 3 from one end side to the other end side. At the time of peeling, a boundary line 9 (hereinafter referred to as “pre-peeling line”) between a portion where the interface 8 is peeled and a portion where the interface 8 is not peeled moves in a predetermined direction. Hereinafter, the front of the peeling front 9 in the moving direction will be described as “front”, and the rear of the peeling front 9 in the moving direction will be described as “back”.

剥離装置10は、基板2を保持すると共に補強板3を撓み変形させて剥離を行う。尚、剥離装置10は、補強板3を保持すると共に基板2を撓み変形させて剥離を行うことも可能である。   The peeling device 10 holds the substrate 2 and flexes and deforms the reinforcing plate 3 to perform peeling. Note that the peeling device 10 can hold the reinforcing plate 3 and bend and deform the substrate 2 by bending.

剥離装置10は、支持手段としてのステージ20、可撓性板30、複数の可動体40、複数のロッド60、複数の駆動装置70、及び制御装置80等により構成される。   The peeling device 10 includes a stage 20 as a support means, a flexible plate 30, a plurality of movable bodies 40, a plurality of rods 60, a plurality of driving devices 70, a control device 80, and the like.

ステージ20は、基板2を保持するため、積層体6の第1主面6bを支持する。ステージ20は、積層体6の第1主面6bを真空吸着する。尚、真空吸着する代わりに、静電吸着又は磁気吸着してもよい。   The stage 20 supports the first main surface 6 b of the stacked body 6 in order to hold the substrate 2. The stage 20 vacuum-sucks the first main surface 6b of the stacked body 6. Instead of vacuum suction, electrostatic suction or magnetic suction may be used.

可撓性板30は、補強板3を撓み変形させるため、積層体6の第2主面6aを吸着する。可撓性板30は、積層体6の第2主面6aを真空吸着する。尚、真空吸着する代わりに、静電吸着又は磁気吸着してもよい。   The flexible plate 30 adsorbs the second main surface 6a of the stacked body 6 in order to bend and deform the reinforcing plate 3. The flexible plate 30 vacuum-sucks the second main surface 6a of the laminate 6. Instead of vacuum suction, electrostatic suction or magnetic suction may be used.

図5は、可撓性板の要部の一例を示す図であって、(a)は下面図、(b)は(a)のB−B線に沿った断面図である。   5A and 5B are diagrams illustrating an example of a main part of the flexible plate, in which FIG. 5A is a bottom view, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG.

可撓性板30は、積層体6の第2主面6aを吸着する吸着部31と、吸着部31を支持する本体板32と、吸着部31の表面に形成される吸着溝33とを有する。吸着溝33の壁面には外部から吸着溝33内のガスを吸い出すための吸気口34が設けられ、吸気口34は配管などを介して吸気源(例えば真空ポンプ)35に接続されている。吸気源35が吸着溝33内のガスを吸い出すと、可撓性板30に積層体6が真空吸着される。積層体6を構成する基板2及び補強板3の両方の側面が面一である場合、両方の側面の間に段差がある場合と異なり、基板2又は補強板3の剥離開始側の端部を治具で引っ掛けることができない。そのため、積層体6の第2主面6aを可撓性板30で吸着することが有効である。   The flexible plate 30 includes an adsorption portion 31 that adsorbs the second main surface 6 a of the stacked body 6, a main body plate 32 that supports the adsorption portion 31, and an adsorption groove 33 formed on the surface of the adsorption portion 31. . An intake port 34 for sucking out the gas in the adsorption groove 33 from the outside is provided on the wall surface of the adsorption groove 33, and the intake port 34 is connected to an intake source (for example, a vacuum pump) 35 through a pipe or the like. When the suction source 35 sucks out the gas in the suction groove 33, the laminate 6 is vacuum-sucked by the flexible plate 30. When both side surfaces of the substrate 2 and the reinforcing plate 3 constituting the laminate 6 are flush with each other, unlike the case where there is a step between both side surfaces, the end portion on the peeling start side of the substrate 2 or the reinforcing plate 3 is It cannot be hooked with a jig. Therefore, it is effective to adsorb the second main surface 6a of the laminated body 6 with the flexible plate 30.

吸着部31が積層体6の第2主面6aを全体的に支持できるよう、吸着部31の外形は積層体6の第2主面6aの外形よりも大きく設定されてよい。   The outer shape of the suction portion 31 may be set larger than the outer shape of the second main surface 6a of the stacked body 6 so that the suction portion 31 can support the second main surface 6a of the stacked body 6 as a whole.

吸着部31の材料としては、特に限定されないが、密着性の観点からゴムが好ましい。ゴムとしては、剥離性の観点から、シリコーンゴムが好ましい。シリコーンゴムの代わりに、シリコーンゲルを用いることも可能であるが、この場合、積層体6から吸着部31を取り外す際に、シリコーンゲルが凝集破壊して積層体6に付着することがある。   The material of the adsorption part 31 is not particularly limited, but rubber is preferable from the viewpoint of adhesion. As the rubber, silicone rubber is preferable from the viewpoint of releasability. Silicone gel can be used instead of silicone rubber. In this case, when the adsorbing portion 31 is removed from the laminate 6, the silicone gel may cohesively break down and adhere to the laminate 6.

吸着部31の表面には、剥離性を向上する目的で、コーティングを施してもよい。   The surface of the adsorption part 31 may be coated for the purpose of improving peelability.

吸着部31の厚さTは、好ましくは1mm以上であり、より好ましくは2mm以上である。吸着部31の厚さTを1mm以上とすることで、吸着部31と積層体6との密着性が良好になる。また、吸着部31の厚さTを30mm以下とすることで、吸着部31の過大な変形を制限することができる。   The thickness T of the suction part 31 is preferably 1 mm or more, more preferably 2 mm or more. By making the thickness T of the suction part 31 1 mm or more, the adhesion between the suction part 31 and the laminate 6 is improved. Moreover, the excessive deformation | transformation of the adsorption | suction part 31 can be restrict | limited by setting the thickness T of the adsorption | suction part 31 to 30 mm or less.

本体板32は吸着部31と同じ大きさであって、本体板32の側面と、吸着部31の側面とが面一である。尚、本体板32は、吸着部31よりも大きく、本体板32の内側に吸着部31が配置されてもよい。   The main body plate 32 is the same size as the suction portion 31, and the side surface of the main body plate 32 and the side surface of the suction portion 31 are flush with each other. The main body plate 32 may be larger than the suction portion 31, and the suction portion 31 may be disposed inside the main body plate 32.

本体板32は、吸着部31よりも曲げ剛性が高く、本体板32の曲げ剛性が可撓性板30の曲げ剛性を支配する。可撓性板30の曲げ剛性は、1000〜40000N・mmであることが好ましい。 The main body plate 32 has higher bending rigidity than the suction portion 31, and the bending rigidity of the main body plate 32 dominates the bending rigidity of the flexible plate 30. The flexural rigidity of the flexible plate 30 is preferably 1000 to 40000 N · mm 2 .

可撓性板30の曲げ剛性を1000N・mm以上とすることで、可撓性板30が吸着する板(本実施形態では補強板3)の折れ曲がりを防止することができる。また、可撓性板30の曲げ剛性を4000N・mm以下とすることで、可撓性板30が吸着する板を適度に撓み変形させることができる。 By setting the bending rigidity of the flexible plate 30 to 1000 N · mm 2 or more, the bending of the plate (the reinforcing plate 3 in the present embodiment) to which the flexible plate 30 adsorbs can be prevented. Moreover, the board | plate which the flexible board 30 adsorb | sucks can be moderately bent and deformed because the bending rigidity of the flexible board 30 shall be 4000 N * mm < 2 > or less.

本体板32としては、例えばポリ塩化ビニル(PVC)樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリアセタール(POM)樹脂等の樹脂板の他、金属板が用いられる。   As the main body plate 32, for example, a resin plate such as polyvinyl chloride (PVC) resin, polycarbonate resin, acrylic resin, polyacetal (POM) resin, or a metal plate is used.

本体板32上には、図3及び図4に示すように、円盤状の可動体40が間隔をおいて複数固定される。複数の可動体40は、本体板32上にボルト固定されている。ボルト固定の代わりに、接着固定されてもよい。複数の可動体40は、ステージ20に対して独立に移動可能である。   As shown in FIGS. 3 and 4, a plurality of disk-shaped movable bodies 40 are fixed on the main body plate 32 at intervals. The plurality of movable bodies 40 are bolted to the main body plate 32. Instead of bolt fixing, adhesive fixing may be used. The plurality of movable bodies 40 can move independently of the stage 20.

図6は、可撓性板上における複数の可動体の配置例を示す平面図である。図6は剥離開始前の状態を示す。   FIG. 6 is a plan view showing an arrangement example of a plurality of movable bodies on the flexible plate. FIG. 6 shows a state before the start of peeling.

複数の可動体40は、可撓性板30上のステージ20側と反対側の面に固定される。複数の可動体40は、可撓性板30の外周に沿って間隔をおいて配置されており、剥離開始前に界面8に対して垂直な方向から見たときに界面8の外周8aよりも外側に配置されている。この場合、各可動体40の中心と外周8aとの距離は200mm以下であることが好ましい。   The plurality of movable bodies 40 are fixed to a surface of the flexible plate 30 opposite to the stage 20 side. The plurality of movable bodies 40 are arranged at intervals along the outer periphery of the flexible plate 30, and more than the outer periphery 8 a of the interface 8 when viewed from a direction perpendicular to the interface 8 before starting peeling. Arranged outside. In this case, the distance between the center of each movable body 40 and the outer periphery 8a is preferably 200 mm or less.

複数の可動体40は、図3及び図4に示すように、それぞれ、対応する連結機構50を介して対応するロッド60に連結される。複数の可動体40は、それぞれ、連結されたロッド60と共にロッド60の軸方向に移動可能であり、ステージ20に対して接離可能である。複数の可動体40がステージ20に対して移動することにより、可撓性板30が撓み変形する。   As shown in FIGS. 3 and 4, the plurality of movable bodies 40 are respectively connected to the corresponding rods 60 via the corresponding connection mechanisms 50. Each of the plurality of movable bodies 40 can move in the axial direction of the rod 60 together with the connected rod 60, and can move toward and away from the stage 20. As the plurality of movable bodies 40 move with respect to the stage 20, the flexible plate 30 is bent and deformed.

連結機構50は、可撓性板30の撓み変形を滑らかにするため、ロッド60の中心線X上の所定位置を中心に可動体40が回動可能となるように可動体40とロッド60とを連結する。可動体40の回動中心は、補強板3上の基板2側の面の延長面と、中心線Xとの交点Pから15mm以内(好ましくは5mm以内)の位置に設定される。   In order to make the flexible plate 30 bend and deform smoothly, the coupling mechanism 50 is configured so that the movable body 40 and the rod 60 can rotate around a predetermined position on the center line X of the rod 60. Are connected. The rotation center of the movable body 40 is set to a position within 15 mm (preferably within 5 mm) from the intersection P between the extended surface of the surface on the substrate 2 side on the reinforcing plate 3 and the center line X.

尚、本実施形態の交点Pは、補強板3上の基板2側の面の延長面と、中心線Xとの交点であるが、可撓性板30が補強板3の代わりに基板2を撓み変形させる場合、基板2上の補強板3側の面の延長面と、中心Xとの交点である。   Note that the intersection point P in this embodiment is an intersection point between the extended surface of the surface on the substrate 2 side on the reinforcing plate 3 and the center line X, but the flexible plate 30 replaces the reinforcing plate 3 with the substrate 2. In the case of bending deformation, this is the intersection of the extended surface of the surface on the reinforcing plate 3 side on the substrate 2 and the center X.

連結機構50は、例えば球面継手などで構成され、可動体40と一体化される凹球面部51と、ロッド60と一体化される凸球面部52とを含む。凸球面部52の曲率中心が可動体40の回動中心となる。可動体40と連結機構50との間には、コイルバネ54が自然状態よりも若干縮んだ状態で介装されている。コイルバネ54の復元力によって、凹球面部51と凸球面部52とが常に接触する。   The coupling mechanism 50 is formed of, for example, a spherical joint, and includes a concave spherical portion 51 that is integrated with the movable body 40 and a convex spherical portion 52 that is integrated with the rod 60. The center of curvature of the convex spherical portion 52 is the rotation center of the movable body 40. A coil spring 54 is interposed between the movable body 40 and the coupling mechanism 50 in a state where the coil spring 54 is slightly contracted from the natural state. Due to the restoring force of the coil spring 54, the concave spherical surface portion 51 and the convex spherical surface portion 52 are always in contact with each other.

尚、連結機構50としては、リンク機構を用いることも可能である。また、連結機構50を用いる代わりに、可動体40とロッド60とを一体化し、ロッド60又はロッド60を軸方向に移動させる駆動装置70をステージ20に対して傾動させる装置を用いることも可能である。   As the connecting mechanism 50, a link mechanism can be used. Further, instead of using the coupling mechanism 50, it is also possible to use a device in which the movable body 40 and the rod 60 are integrated, and the rod 60 or the driving device 70 that moves the rod 60 in the axial direction is tilted with respect to the stage 20. is there.

駆動装置70は、制御装置80による制御下で、ロッド60を軸方向に移動させて、可動体40をステージ20に対して接離させる。駆動装置70は、複数のロッド60に対応して複数設けられ、複数のロッド60、ひいては複数の可動体40を独立に移動させる。   The drive device 70 moves the rod 60 in the axial direction under the control of the control device 80 to bring the movable body 40 into and out of contact with the stage 20. A plurality of driving devices 70 are provided corresponding to the plurality of rods 60, and independently move the plurality of rods 60, and thus the plurality of movable bodies 40.

各駆動装置70は、例えば回転式のサーボモータ及びボールネジ機構等で構成される。サーボモータの回転運動は、ボールネジ機構において直線運動に変換され、対応するロッド60に伝達される。   Each driving device 70 is constituted by, for example, a rotary servo motor and a ball screw mechanism. The rotational motion of the servo motor is converted into linear motion by the ball screw mechanism and transmitted to the corresponding rod 60.

尚、本実施形態の駆動装置は、回転式のサーボモータ及びボールネジ機構等で構成されるとしたが、リニア式のサーボモータ、又は流体圧シリンダ(例えば空気圧シリンダ)で構成されてもよい。   Although the drive device of the present embodiment is constituted by a rotary servo motor and a ball screw mechanism, it may be constituted by a linear servo motor or a fluid pressure cylinder (for example, a pneumatic cylinder).

複数の駆動装置70は、それぞれ、ステージ20に対して昇降可能なフレーム16にクッション部材14を介して連結されてよい。クッション部材14は複数の駆動装置70に対応して複数設けられる。クッション部材14の材質は、特に限定されないが、例えばウレタンゴム等が挙げられる。クッション部材14は、可撓性板30の撓み変形に追従するように弾性変形し、各ロッド60をステージ20に対して傾動させる。   Each of the plurality of driving devices 70 may be coupled to the frame 16 that can be moved up and down with respect to the stage 20 via the cushion member 14. A plurality of cushion members 14 are provided corresponding to the plurality of driving devices 70. The material of the cushion member 14 is not particularly limited, and examples thereof include urethane rubber. The cushion member 14 is elastically deformed to follow the bending deformation of the flexible plate 30 and tilts each rod 60 with respect to the stage 20.

制御装置80は、CPU、ROMやRAM等の記録媒体等を含むコンピュータとして構成される。制御装置80は、記録媒体に記録されたプログラムをCPUに実行させることにより、複数の駆動装置70を制御して、複数のロッド60の移動、ひいては複数の可動体40の移動を制御する。   The control device 80 is configured as a computer including a CPU, a recording medium such as a ROM and a RAM, and the like. The control device 80 controls the plurality of driving devices 70 by causing the CPU to execute the program recorded on the recording medium, thereby controlling the movement of the plurality of rods 60 and the movement of the plurality of movable bodies 40.

制御装置80は、各サーボモータの回転数に基づいて各ロッド60の現在位置を検出する位置検出部81を備えてよい。制御装置80は、位置検出部81により検出された各ロッド60の現在位置と目標位置との差が小さくなるように、各サーボモータへの供給電力を独立に制御する。目標位置は、剥離開始からの経過時間に応じて設定される。目標位置は、ロッド60毎に設定され、記録媒体に予め記録されている。剥離開始からの経過時間は制御装置80に組み込まれたタイマーで計測される。このように、制御装置80は、各ロッド60の位置をフィードバック制御してよい。複数のロッド60の位置関係、ひいては複数の可動体40の位置関係を正確に制御することができる。   The control device 80 may include a position detection unit 81 that detects the current position of each rod 60 based on the number of rotations of each servo motor. The control device 80 independently controls the power supplied to each servo motor so that the difference between the current position of each rod 60 detected by the position detector 81 and the target position becomes small. The target position is set according to the elapsed time from the start of peeling. The target position is set for each rod 60 and is recorded in advance on the recording medium. The elapsed time from the start of peeling is measured by a timer incorporated in the control device 80. As described above, the control device 80 may perform feedback control on the position of each rod 60. The positional relationship between the plurality of rods 60 and thus the positional relationship between the plurality of movable bodies 40 can be accurately controlled.

また、制御装置80は、各サーボモータの負荷トルク(例えば、各サーボモータへの供給電流)を検出する負荷検出部82を備えてよい。制御装置80は、負荷検出部82の検出結果に基づいて各ロッド60の目標位置を修正し、記録媒体に記録する。例えば、n回目(nは1以上の自然数)の制御時に一のサーボモータの負荷トルクが閾値を超えたとき、該一のサーボモータによるロッド60の移動開始時間を所定時間(例えば、0.06秒)遅らせる修正を行い、記録媒体に記録する。n+1回目の制御時には、修正、記録された情報に基づいて各サーボモータを独立に制御する。これにより、積層体6にかかる負荷を軽減することができる。   Further, the control device 80 may include a load detection unit 82 that detects a load torque of each servo motor (for example, a current supplied to each servo motor). The control device 80 corrects the target position of each rod 60 based on the detection result of the load detector 82 and records it on the recording medium. For example, when the load torque of one servo motor exceeds a threshold during the n-th control (n is a natural number of 1 or more), the movement start time of the rod 60 by the one servo motor is set to a predetermined time (for example, 0.06). Second) make a delay correction and record it on the recording medium. In the (n + 1) th control, each servo motor is independently controlled based on the corrected and recorded information. Thereby, the load concerning the laminated body 6 can be reduced.

次に、上記構成の剥離装置10の動作について説明する。剥離装置10の動作は、制御装置80による制御下で行われる。   Next, operation | movement of the peeling apparatus 10 of the said structure is demonstrated. The operation of the peeling device 10 is performed under the control of the control device 80.

積層体6は、補強板3Aが上側になるようにしてステージ20に載置される。制御装置80は、ステージ20で積層体6を真空吸着すると、フレーム16を所定位置まで下降し、可撓性板30を補強板3Aに押しつける。次いで、制御装置80は、可撓性板30で補強板3Aを真空吸着する。この状態では、図3に示すように、可撓性板30は平板状になっている。   The stacked body 6 is placed on the stage 20 with the reinforcing plate 3A facing upward. When the stacked body 6 is vacuum-sucked by the stage 20, the control device 80 lowers the frame 16 to a predetermined position and presses the flexible plate 30 against the reinforcing plate 3A. Next, the control device 80 vacuum-sucks the reinforcing plate 3 </ b> A with the flexible plate 30. In this state, as shown in FIG. 3, the flexible plate 30 has a flat plate shape.

尚、本実施形態の剥離装置10は、ステージ20が固定されフレーム16が昇降する構成としたが、ステージ20とフレーム16とが相対的に移動する構成であればよい。   In addition, although the peeling apparatus 10 of this embodiment was set as the structure which the stage 20 is fixed and the flame | frame 16 raises / lowers, what is necessary is just the structure which the stage 20 and the flame | frame 16 move relatively.

次いで、制御装置80は、図4に示すように基板2Aと補強板3Aとの界面8を一端側から他端側に向けて順次剥離するように、可撓性板30を撓み変形させる。可撓性板30の状態は、複数の可動体40の位置関係などで決まる。   Next, the control device 80 bends and deforms the flexible plate 30 so that the interface 8 between the substrate 2A and the reinforcing plate 3A is sequentially peeled from one end side to the other end side as shown in FIG. The state of the flexible plate 30 is determined by the positional relationship of the plurality of movable bodies 40.

図7は、複数の可動体40の動作例を説明する図であって、(a)は平面図、(b)は(a)のB−B線に沿った断面図、(c)は(a)のC−C線に沿った断面図である。断面は、剥離前線9と垂直な断面である。   7A and 7B are diagrams for explaining an example of the operation of the plurality of movable bodies 40, where FIG. 7A is a plan view, FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line B-B in FIG. It is sectional drawing along CC line of a). The cross section is a cross section perpendicular to the peeling front 9.

複数の可動体40は、可撓性板30を撓み変形させるため、ステージ20に対し離間する動作を行う。先ず、界面8の剥離開始端8bよりも後方にある可動体40Aが動作を開始する。これによって、剥離開始端8bにおいて界面8が剥離される。剥離開始端8bは、剥離抵抗を減らすため、図6に示すように界面8の一の隅に設定されていることが好ましい。可撓性板30を撓み変形させる前に、剃刀等の薄刃を剥離開始端8bに挿入して、剥離のきっかけを作ってもよい。薄刃を剥離開始端8bに挿入する代わりに、圧縮ガスなどの高速の流体を剥離開始端8bに向けて噴射してもよい。   The plurality of movable bodies 40 perform an operation of separating from the stage 20 in order to bend and deform the flexible plate 30. First, the movable body 40A located behind the peeling start end 8b of the interface 8 starts operating. As a result, the interface 8 is peeled off at the peeling start end 8b. The peeling start end 8b is preferably set at one corner of the interface 8 as shown in FIG. 6 in order to reduce peeling resistance. Before the flexible plate 30 is bent and deformed, a thin blade such as a razor may be inserted into the peeling start end 8b to create a trigger for peeling. Instead of inserting a thin blade into the peeling start end 8b, a high-speed fluid such as compressed gas may be sprayed toward the peeling start end 8b.

次いで、剥離開始端8bよりも前方にある可動体40−2〜40−7が動作を開始する。剥離開始端8bよりも前方にある可動体40−2〜40−7は、剥離開始端8bからの距離に応じた順序で動作を開始する。剥離前線9の移動方向(剥離前線9の両端を結ぶ方向に対して垂直な方向)をM方向とすると、界面8の剥離開始端8bからのM方向における距離Nの短い可動体(例えば可動体40−2)は、距離Nの長い可動体(例えば可動体40−3)よりも先に動作を開始する。可動体40−2〜40−7は、M方向に等ピッチで配置されているが、不等ピッチで配置されていてもよい。可動体40−2〜40−7は、剥離開始前に界面8と垂直な方向から見たときに界面8の外周8aの両外側(左外側及び右外側)に少なくとも1つずつ(図7では1つずつ)配置されている。距離Nが同じ2つの可動体(例えば可動体40−2、40−2)は、略同じタイミングで動作を開始する。距離Nは、剥離開始端8bからのM方向における、可動体40の中心までの距離のことである。   Next, the movable bodies 40-2 to 40-7 located in front of the peeling start end 8b start operation. The movable bodies 40-2 to 40-7 located in front of the peeling start end 8b start operation in the order corresponding to the distance from the peeling start end 8b. When the moving direction of the peeling front 9 (the direction perpendicular to the direction connecting both ends of the peeling front 9) is the M direction, a movable body (for example, a movable body) having a short distance N in the M direction from the peeling start end 8b of the interface 8 40-2) starts operation before a movable body having a long distance N (for example, movable body 40-3). The movable bodies 40-2 to 40-7 are arranged at an equal pitch in the M direction, but may be arranged at an unequal pitch. The movable bodies 40-2 to 40-7 are at least one on each outer side (left outer side and right outer side) of the outer periphery 8a of the interface 8 when viewed from the direction perpendicular to the interface 8 before starting peeling (in FIG. 7, One by one). Two movable bodies having the same distance N (for example, movable bodies 40-2 and 40-2) start operation at substantially the same timing. The distance N is a distance from the peeling start end 8b to the center of the movable body 40 in the M direction.

剥離開始端8bよりも前方にある可動体40−2〜40−7は界面8の外周8aよりも外側に配置されているので、距離Nが最短の可動体40−2の動作開始後、剥離前線9は両端部が中央部よりも先行した形状となり、移動方向後方に凸の湾曲形状となる。この形状は、剥離が終了するまで保たれる。   Since the movable bodies 40-2 to 40-7 located in front of the peeling start end 8b are arranged outside the outer periphery 8a of the interface 8, after the operation of the movable body 40-2 having the shortest distance N is started, the peeling is performed. The front line 9 has a shape in which both end portions precede the center portion, and has a curved shape that is convex backward in the movement direction. This shape is maintained until peeling is completed.

剥離前線9が移動方向後方に凸の湾曲形状となるとき、可撓性板30と共に撓み変形する板(本実施形態では補強板3A)の曲率半径は、図7(b)に示すように剥離前線9の両端部で大きく、図7(c)に示すように剥離前線9の中央部で小さくなる。曲率半径は、剥離前線9に対して垂直な断面における曲率半径であって、剥離前線9の後方近傍における曲率半径のことである。   When the peeling front 9 has a convex curved shape rearward in the moving direction, the radius of curvature of the plate (in this embodiment, the reinforcing plate 3A) that bends and deforms together with the flexible plate 30 is peeled as shown in FIG. It is large at both ends of the front line 9 and is small at the center of the peeling front line 9 as shown in FIG. The radius of curvature is a radius of curvature in a cross section perpendicular to the peeling front 9, and is a radius of curvature in the vicinity of the back of the peeling front 9.

可撓性板30と共に撓み変形する補強板3Aにおいて、曲率半径が大きくなるほど、変形が小さくなるので、負荷が小さくなる。一方で、曲率半径が大きくなるほど、剥離角度が小さくなるので、剥離抵抗(剥離に必要な力)が大きくなる。   In the reinforcing plate 3A that bends and deforms together with the flexible plate 30, the larger the radius of curvature, the smaller the deformation and thus the smaller the load. On the other hand, the greater the radius of curvature, the smaller the peel angle, so the peel resistance (force required for peel) increases.

本実施形態では、剥離前線9が移動方向後方に凸の湾曲形状となるので、補強板3Aの曲率半径は、剥離前線9の両端部で大きく、中央部で小さい。よって、剥離抵抗が大きくなるのを抑制しながら、補強板3Aのエッジにかかる負荷を低減することができ、補強板3Aがエッジから割れるのを抑制することができる。この効果は、剥離前線の両端間の直線距離Hが長くなるほど、剥離抵抗が大きくなるので顕著である。本実施形態では、図7(a)に示すように距離Hが最大となるとき、剥離前線9が移動方向後方に凸の湾曲形状となるので、補強板3Aがエッジから割れるのを効果的に抑制することができる。   In this embodiment, since the peeling front 9 has a curved shape that is convex backward in the movement direction, the radius of curvature of the reinforcing plate 3A is large at both ends of the peeling front 9 and small at the center. Therefore, it is possible to reduce the load applied to the edge of the reinforcing plate 3A while suppressing the peeling resistance from increasing, and to prevent the reinforcing plate 3A from breaking from the edge. This effect is remarkable because the peeling resistance increases as the linear distance H between both ends of the peeling front increases. In the present embodiment, as shown in FIG. 7A, when the distance H becomes maximum, the peeling front 9 has a curved shape that protrudes backward in the movement direction, so that the reinforcing plate 3A can be effectively broken from the edge. Can be suppressed.

尚、本実施形態では可撓性板30と共に撓み変形する板は、補強板3Aであるが、基板2Aであってもよい。この場合、基板2Aがエッジから割れるのを抑制することができる。   In this embodiment, the plate that bends and deforms together with the flexible plate 30 is the reinforcing plate 3A, but may be the substrate 2A. In this case, the substrate 2A can be prevented from breaking from the edge.

基板2Aと補強板3Aの剥離完了後、制御装置80は、フレーム16を所定位置まで上昇させる。次いで、制御装置80は、可撓性板30による真空吸着、及びステージ20による真空吸着を解除する。その後、可撓性板30から補強板3Aが取り外され、補強板3Aのなくなった積層体6がステージ20から取り外される。   After the separation of the substrate 2A and the reinforcing plate 3A is completed, the control device 80 raises the frame 16 to a predetermined position. Next, the control device 80 releases the vacuum suction by the flexible plate 30 and the vacuum suction by the stage 20. Thereafter, the reinforcing plate 3A is removed from the flexible plate 30, and the laminate 6 from which the reinforcing plate 3A is removed is removed from the stage 20.

補強板3Aのなくなった積層体6は、残りの補強板3Bが上側になるようにしてステージ20に載置される。その後、制御装置80は、上記動作を再度行って補強板3Bと基板2Bとを剥離する。   The laminated body 6 without the reinforcing plate 3A is placed on the stage 20 so that the remaining reinforcing plate 3B is on the upper side. Thereafter, the control device 80 performs the above operation again to separate the reinforcing plate 3B and the substrate 2B.

このようにして、積層体6から補強板3A、3Bが剥離された後、バックライトなどが組み込まれ、製品であるLCDが得られる。   In this way, after the reinforcing plates 3A and 3B are peeled off from the laminate 6, a backlight or the like is incorporated, and a product LCD is obtained.

尚、本実施形態の剥離装置10は、LCDの製造工程において用いられるが、本発明はこれに限定されず、他の電子デバイスの製造工程において用いることが可能である。   In addition, although the peeling apparatus 10 of this embodiment is used in the manufacturing process of LCD, this invention is not limited to this, It can be used in the manufacturing process of another electronic device.

[第2実施形態]
上記第1実施形態では、積層体6の片側に、可撓性板30、複数の可動体40、複数のロッド60、及び複数の駆動装置70等が配置されていた。
[Second Embodiment]
In the first embodiment, the flexible plate 30, the plurality of movable bodies 40, the plurality of rods 60, the plurality of driving devices 70, and the like are disposed on one side of the stacked body 6.

これに対し、本実施形態では、積層体6の両側に、可撓性板30、複数の可動体40、複数のロッド60、及び複数の駆動装置70等が配置されている。   On the other hand, in this embodiment, the flexible plate 30, the plurality of movable bodies 40, the plurality of rods 60, the plurality of driving devices 70, and the like are disposed on both sides of the stacked body 6.

図8は、第2実施形態の剥離装置を示す一部断面図である。図9は、図8の剥離装置の動作例を示す一部断面図である。図10は、図8の剥離装置を用いた剥離工程の一例を示す図である。   FIG. 8 is a partial cross-sectional view showing the peeling apparatus of the second embodiment. FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing an operation example of the peeling apparatus of FIG. FIG. 10 is a diagram illustrating an example of a peeling process using the peeling apparatus of FIG.

本実施形態の剥離装置110は、積層体6の片側に配置される、第1可撓性板30A、複数の第1可動体40A、複数の第1ロッド60A、及び複数の第1駆動装置70A等を有する。また、剥離装置110は、積層体6の反対側に配置される、第2可撓性板30B、複数の第2可動体40B、複数の第2ロッド60B、及び複数の第2駆動装置70B等を有する。第2可撓性板30B、複数の第2可動体40B、複数の第2ロッド60B、複数の第2駆動装置70B、及び第2フレーム16Bなどで支持手段が構成される。さらに、剥離装置110は、複数の第1駆動装置70A、及び複数の第2駆動装置70Bを制御する制御装置80を有する。   The peeling device 110 according to the present embodiment is arranged on one side of the laminated body 6. The first flexible plate 30A, the plurality of first movable bodies 40A, the plurality of first rods 60A, and the plurality of first driving devices 70A. Etc. Further, the peeling device 110 is disposed on the opposite side of the stacked body 6, such as a second flexible plate 30 </ b> B, a plurality of second movable bodies 40 </ b> B, a plurality of second rods 60 </ b> B, and a plurality of second driving devices 70 </ b> B. Have The second flexible plate 30B, the plurality of second movable bodies 40B, the plurality of second rods 60B, the plurality of second driving devices 70B, the second frame 16B, and the like constitute support means. Further, the peeling device 110 includes a control device 80 that controls the plurality of first driving devices 70A and the plurality of second driving devices 70B.

次に、図10に基づいて、上記構成の剥離装置110の動作について説明する。剥離装置110の動作は、制御装置80による制御下で行われる。   Next, based on FIG. 10, operation | movement of the peeling apparatus 110 of the said structure is demonstrated. The operation of the peeling device 110 is performed under the control of the control device 80.

積層体6は、補強板3Aが上側になるようにして第2可撓性板30Bに載置される。制御装置80は、第2可撓性板30Bで積層体6を真空吸着すると、第2フレーム16Bに対して昇降可能な第1フレーム16Aを所定位置まで下降し、第1可撓性板30Aを補強板3Aに押しつける。次いで、制御装置80は、第1可撓性板30Aで補強板3Aを真空吸着する。この状態では、図10(a)及び図8に示すように、第1及び第2可撓性板30A、30Bは平板状になっている。   The laminate 6 is placed on the second flexible plate 30B with the reinforcing plate 3A on the upper side. When the laminated body 6 is vacuum-sucked by the second flexible plate 30B, the control device 80 lowers the first frame 16A that can be raised and lowered relative to the second frame 16B to a predetermined position, and moves the first flexible plate 30A. Press against the reinforcing plate 3A. Next, the control device 80 vacuum-sucks the reinforcing plate 3A with the first flexible plate 30A. In this state, as shown to Fig.10 (a) and FIG. 8, 1st and 2nd flexible board 30A, 30B is flat form.

尚、本実施形態の剥離装置110は、第2フレーム16Bが固定され第1フレーム16Aが昇降する構成としたが、第2フレーム16Bと第1フレーム16Aとが相対的に移動する構成であればよい。   The peeling device 110 according to the present embodiment has a configuration in which the second frame 16B is fixed and the first frame 16A moves up and down. However, as long as the second frame 16B and the first frame 16A are relatively moved. Good.

次いで、制御装置80は、図10(b)及び(c)並びに図9に示すように基板2Aと補強板3Aとの界面を一端側から他端側に向けて順次剥離するように、第1及び第2可撓性板30A、30Bを同時に撓み変形させる。   Next, as shown in FIGS. 10B and 10C and FIG. 9, the control device 80 causes the first interface so that the interface between the substrate 2A and the reinforcing plate 3A is sequentially peeled from one end side to the other end side. The second flexible plates 30A and 30B are simultaneously bent and deformed.

尚、第1及び第2可撓性板30A、30Bを撓み変形させる前に、剃刀等の薄刃を剥離開始端に挿入して、剥離のきっかけを作ってもよい。薄刃を剥離開始端に挿入する代わりに、圧縮ガスなどの高速の流体を剥離開始端に向けて噴射してもよい。   Before the first and second flexible plates 30A and 30B are bent and deformed, a thin blade such as a razor may be inserted into the peeling start end to create a trigger for peeling. Instead of inserting a thin blade at the peeling start end, a high-speed fluid such as compressed gas may be sprayed toward the peeling start end.

第1可撓性板30Aの撓み変形の状態は、複数の第1可動体40Aの位置関係等で決まる。同様に、第2可撓性板30Bの撓み変形の状態は、複数の第2可動体40Bの位置関係等で決まる。   The state of bending deformation of the first flexible plate 30A is determined by the positional relationship of the plurality of first movable bodies 40A and the like. Similarly, the state of bending deformation of the second flexible plate 30B is determined by the positional relationship of the plurality of second movable bodies 40B and the like.

本実施形態では、複数の第1可動体40Aは、第1可撓性板30Aの外周に沿って間隔をおいて配置されており、剥離開始前に界面に対して垂直な方向から見たときに界面の外周よりも外側に配置されている。また、複数の第2可動体40Bは、第2可撓性板30Bの外周に沿って間隔をおいて配置されており、剥離開始前に界面に対して垂直な方向から見たときに界面の外周よりも外側に配置されている。   In the present embodiment, the plurality of first movable bodies 40A are arranged at intervals along the outer periphery of the first flexible plate 30A, and when viewed from a direction perpendicular to the interface before starting peeling. It is arranged outside the outer periphery of the interface. In addition, the plurality of second movable bodies 40B are arranged at intervals along the outer periphery of the second flexible plate 30B, and when viewed from a direction perpendicular to the interface before starting peeling, It is arranged outside the outer periphery.

制御装置80は、複数の第1可動体40Aの移動、及び複数の第2可動体40Bの移動を制御して、剥離前線9の両端間の直線距離が最大となるとき、剥離前線9が移動方向後方に凸の湾曲形状とする。よって、第1実施形態と同様に剥離抵抗が大きくなるのを抑制しながら、補強板3Aのエッジにかかる負荷を低減することができ、補強板3Aがエッジから割れるのを抑制することができる。   The control device 80 controls the movement of the plurality of first movable bodies 40A and the movement of the plurality of second movable bodies 40B, and the separation front 9 moves when the linear distance between both ends of the separation front 9 becomes maximum. The curved shape is convex backward in the direction. Therefore, the load applied to the edge of the reinforcing plate 3A can be reduced while suppressing the peeling resistance from increasing as in the first embodiment, and the reinforcing plate 3A can be prevented from breaking from the edge.

基板2Aと補強板3Aの剥離完了後、制御装置80は、第1フレーム16Aを所定位置まで上昇させる。次いで、制御装置80は、第1可撓性板30Aによる真空吸着を解除する。その後、第1可撓性板30Aから補強板3Aが取り外される。   After the separation of the substrate 2A and the reinforcing plate 3A is completed, the control device 80 raises the first frame 16A to a predetermined position. Next, the control device 80 releases the vacuum suction by the first flexible plate 30A. Thereafter, the reinforcing plate 3A is removed from the first flexible plate 30A.

次いで、制御装置80は、第1フレーム16Aを所定位置まで下降し、第1可撓性板30Aを基板2Aに押し付ける。次いで、制御装置80は、第1可撓性板30Aで基板2Aを真空吸着する。この状態では、図10(d)に示すように、第1及び第2可撓性板30A、30Bは平板状になっている。   Next, the control device 80 lowers the first frame 16A to a predetermined position and presses the first flexible plate 30A against the substrate 2A. Next, the control device 80 vacuum-sucks the substrate 2A with the first flexible plate 30A. In this state, as shown in FIG. 10D, the first and second flexible plates 30A and 30B are flat.

その後、制御装置80は、図10(e)及び(f)に示すように基板2Bと補強板3Bとの界面を一端側から他端側に向けて順次剥離するように、第1及び第2可撓性板30A、30Bを同時に撓み変形させる。   Thereafter, as shown in FIGS. 10 (e) and 10 (f), the control device 80 causes the interface between the substrate 2B and the reinforcing plate 3B to be sequentially peeled from one end side toward the other end side. The flexible plates 30A and 30B are simultaneously bent and deformed.

尚、第1及び第2可撓性板30A、30Bを撓み変形させる前に、剃刀等の薄刃を剥離開始端に挿入して、剥離のきっかけを作ってもよい。薄刃を剥離開始端に挿入する代わりに、圧縮ガスなどの高速の流体を剥離開始端に向けて噴射してもよい。   Before the first and second flexible plates 30A and 30B are bent and deformed, a thin blade such as a razor may be inserted into the peeling start end to create a trigger for peeling. Instead of inserting a thin blade at the peeling start end, a high-speed fluid such as compressed gas may be sprayed toward the peeling start end.

このようにして、積層体6から補強板3A、3Bが剥離された後、バックライトなどが組み込まれ、製品であるLCDが得られる。   In this way, after the reinforcing plates 3A and 3B are peeled off from the laminate 6, a backlight or the like is incorporated, and a product LCD is obtained.

また、本実施形態では、基板2A及び補強板3Aの両方を互いに反対方向に撓み変形させるので、いずれか一方に負荷が集中するのを回避することができる。   In the present embodiment, both the substrate 2A and the reinforcing plate 3A are bent and deformed in directions opposite to each other, so that it is possible to avoid a load from being concentrated on one of them.

[第3実施形態]
本実施形態では、第2実施形態と同様に、図8に示す剥離装置を用いて剥離を行うが、剥離装置の動作が異なる。
[Third Embodiment]
In the present embodiment, as in the second embodiment, peeling is performed using the peeling apparatus shown in FIG. 8, but the operation of the peeling apparatus is different.

図11は、図8の剥離装置を用いた別の剥離工程を示す図である。   FIG. 11 is a diagram showing another peeling process using the peeling apparatus of FIG.

積層体6は、補強板3Aが上側になるようにして第2可撓性板30Bに載置される。制御装置80は、第1フレーム16Aを所定位置まで下降し、第1可撓性板30Aを補強板3Aに押しつける。次いで、制御装置80は、第1可撓性板30Aで補強板3Aを真空吸着する。この状態では、図11(a)及び図8に示すように、第1及び第2可撓性板30A、30Bは平板状になっている。   The laminate 6 is placed on the second flexible plate 30B with the reinforcing plate 3A on the upper side. The control device 80 lowers the first frame 16A to a predetermined position and presses the first flexible plate 30A against the reinforcing plate 3A. Next, the control device 80 vacuum-sucks the reinforcing plate 3A with the first flexible plate 30A. In this state, as shown to Fig.11 (a) and FIG. 8, 1st and 2nd flexible board 30A, 30B is flat form.

次いで、制御装置80は、図11(b)及び(c)に示すように基板2Aと補強板3Aとの界面を一端側から他端側に向けて順次剥離するように、第1可撓性板30Aを撓み変形させる。   Next, as shown in FIGS. 11B and 11C, the control device 80 causes the first flexibility so that the interface between the substrate 2A and the reinforcing plate 3A is sequentially peeled from one end side to the other end side. The plate 30A is bent and deformed.

尚、第1可撓性板30Aを撓み変形させる前に、剃刀等の薄刃を剥離開始端に挿入して、剥離のきっかけを作ってもよい。薄刃を剥離開始端に挿入する代わりに、圧縮ガスなどの高速の流体を剥離開始端に向けて噴射してもよい。   Before the first flexible plate 30A is bent and deformed, a thin blade such as a razor may be inserted into the peeling start end to create a trigger for peeling. Instead of inserting a thin blade at the peeling start end, a high-speed fluid such as compressed gas may be sprayed toward the peeling start end.

第1可撓性板30Aの撓み変形の状態は、複数の第1可動体40Aの位置関係等で決まる。   The state of bending deformation of the first flexible plate 30A is determined by the positional relationship of the plurality of first movable bodies 40A and the like.

本実施形態では、第1実施形態と同様に、複数の第1可動体40Aは、第1可撓性板30Aの外周に沿って間隔をおいて配置されており、剥離開始前に界面に対して垂直な方向から見たときに界面の外周よりも外側に配置されている。制御装置80は、複数の第1可動体40Aの移動を制御して、剥離前線9の両端間の直線距離が最大となるとき、剥離前線9が移動方向後方に凸の湾曲形状とする。よって、第1実施形態と同様に、剥離抵抗が大きくなるのを抑制しながら、補強板3Aのエッジにかかる負荷を低減することができ、補強板3Aがエッジから割れるのを抑制することができる。   In the present embodiment, as in the first embodiment, the plurality of first movable bodies 40A are arranged at intervals along the outer periphery of the first flexible plate 30A, and are separated from the interface before starting peeling. When viewed from a perpendicular direction, the outer periphery of the interface is disposed outside. The control device 80 controls the movement of the plurality of first movable bodies 40A so that when the linear distance between both ends of the peeling front 9 is maximized, the peeling front 9 has a curved shape protruding backward in the movement direction. Therefore, as in the first embodiment, the load applied to the edge of the reinforcing plate 3A can be reduced while suppressing an increase in peeling resistance, and the reinforcing plate 3A can be prevented from breaking from the edge. .

基板2Aと補強板3Aの剥離完了後、制御装置80は、第1フレーム16Aを所定位置まで上昇させる。次いで、制御装置80は、第1可撓性板30Aによる真空吸着を解除する。その後、第1可撓性板30Aから補強板3Aが取り外される。   After the separation of the substrate 2A and the reinforcing plate 3A is completed, the control device 80 raises the first frame 16A to a predetermined position. Next, the control device 80 releases the vacuum suction by the first flexible plate 30A. Thereafter, the reinforcing plate 3A is removed from the first flexible plate 30A.

次いで、制御装置80は、第1フレーム16Aを所定位置まで下降し、第1可撓性板30Aを基板2Aに押し付ける。次いで、制御装置80は、第1可撓性板30Aで基板2Aを真空吸着する。この状態では、図11(d)に示すように、第1可撓性板30A及び第2可撓性板30Bは平板状になっている。   Next, the control device 80 lowers the first frame 16A to a predetermined position and presses the first flexible plate 30A against the substrate 2A. Next, the control device 80 vacuum-sucks the substrate 2A with the first flexible plate 30A. In this state, as shown in FIG. 11D, the first flexible plate 30A and the second flexible plate 30B are flat.

その後、制御装置80は、図11(e)及び(f)に示すように基板2Bと補強板3Bとの界面を一端側から他端側に向けて順次剥離するように、第2可撓性板30Bを撓み変形させる。   Thereafter, the control device 80 performs the second flexibility so that the interface between the substrate 2B and the reinforcing plate 3B is sequentially peeled from one end side to the other end side as shown in FIGS. 11 (e) and 11 (f). The plate 30B is bent and deformed.

尚、第2可撓性板30Bを撓み変形させる前に、剃刀等の薄刃を剥離開始端に挿入して、剥離のきっかけを作ってもよい。薄刃を剥離開始端に挿入する代わりに、圧縮ガスなどの高速の流体を剥離開始端に向けて噴射してもよい。   Before the second flexible plate 30B is bent and deformed, a thin blade such as a razor may be inserted into the peeling start end to create a trigger for peeling. Instead of inserting a thin blade at the peeling start end, a high-speed fluid such as compressed gas may be sprayed toward the peeling start end.

第2可撓性板30Bの撓み変形の状態は、複数の第2可動体40Bの位置関係等で決まる。   The state of bending deformation of the second flexible plate 30B is determined by the positional relationship of the plurality of second movable bodies 40B.

本実施形態では、第1実施形態と同様に、複数の第2可動体40Bは、第2可撓性板30Bの外周に沿って間隔をおいて配置されており、剥離開始前に界面に対して垂直な方向から見たときに界面の外周よりも外側に配置されている。制御装置80は、複数の第2可動体40Bの移動を制御して、剥離前線の両端間の直線距離Hが最大となるとき、剥離前線が移動方向後方に凸の湾曲形状とする。よって、第1実施形態と同様に、剥離抵抗が大きくなるのを抑制しながら、補強板3Bのエッジにかかる負荷を低減することができ、補強板3Bがエッジから割れるのを抑制することができる。   In the present embodiment, as in the first embodiment, the plurality of second movable bodies 40B are arranged at intervals along the outer periphery of the second flexible plate 30B, and are separated from the interface before starting peeling. When viewed from a perpendicular direction, the outer periphery of the interface is disposed outside. The control device 80 controls the movement of the plurality of second movable bodies 40B so that when the linear distance H between both ends of the peeling front becomes the maximum, the peeling front has a curved shape protruding backward in the movement direction. Therefore, as in the first embodiment, the load applied to the edge of the reinforcing plate 3B can be reduced while suppressing the peeling resistance from increasing, and the reinforcing plate 3B can be prevented from breaking from the edge. .

このようにして、積層体6から補強板3A、3Bが剥離された後、バックライトなどが組み込まれ、製品であるLCDが得られる。   In this way, after the reinforcing plates 3A and 3B are peeled off from the laminate 6, a backlight or the like is incorporated, and a product LCD is obtained.

以上、本発明の第1〜第3実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に制限されない。本発明の範囲を逸脱することなく、上記実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。   As mentioned above, although 1st-3rd embodiment of this invention was described, this invention is not restrict | limited to the said embodiment. Various modifications and substitutions can be made to the above embodiment without departing from the scope of the present invention.

例えば、上記実施形態の剥離装置10、110は、電子デバイスの製造工程で用いられるが、その他の工程で用いられてもよい。例えば、剥離装置10、110は、電子デバイスの製造工程に供される前に、基板と補強板とを貼り直す工程で用いられてもよい。   For example, the peeling apparatuses 10 and 110 of the above embodiment are used in the manufacturing process of the electronic device, but may be used in other processes. For example, the peeling apparatuses 10 and 110 may be used in a process of reattaching the substrate and the reinforcing plate before being used in the manufacturing process of the electronic device.

また、上記実施形態の複数の可動体40は、図6に示すように界面8の外周8aよりも外側のみに配置されているが、例えば界面8が大面積の場合、図12Aに示すように界面8の外周8aの内側にも配置されてもよい。距離N(図8参照)が同じ場合、界面8の外周8aよりも外側に配置される両端の可動体(例えば可動体40−3A、40−3B)は、界面8の外周8aよりも内側に配置される残りの可動体(例えば可動体40−3C)よりも先に動作を開始する。この場合も、剥離前線9が移動方向後方に凸の湾曲形状となる。   Moreover, although the some movable body 40 of the said embodiment is arrange | positioned only outside the outer periphery 8a of the interface 8 as shown in FIG. 6, when the interface 8 is a large area, as shown to FIG. 12A, for example. You may arrange | position also inside the outer periphery 8a of the interface 8. FIG. When the distance N (see FIG. 8) is the same, the movable bodies at both ends (for example, the movable bodies 40-3A and 40-3B) disposed outside the outer periphery 8a of the interface 8 are located inside the outer periphery 8a of the interface 8. The operation is started before the remaining movable body (for example, movable body 40-3C) to be arranged. Also in this case, the peeling front 9 has a curved shape protruding backward in the movement direction.

また、上記実施形態の複数の可動体40は、図6に示すように界面8の外周8aよりも外側のみに配置されているが、図12Bに示すように界面8の外周8aの内側近傍に配置され、外周8aに沿って間隔おいて配置されてもよい。この場合、各可動体40の中心と外周8aとの距離は50mm以下であればよい。また、複数の可動体40は、外周8a上に間隔をおいて配置されてもよい。これらの場合も、可動体40が界面8の外周8aよりも内側にも配置されてもよい。   Moreover, although the some movable body 40 of the said embodiment is arrange | positioned only outside the outer periphery 8a of the interface 8 as shown in FIG. 6, it exists in the inner vicinity of the outer periphery 8a of the interface 8 as shown in FIG. It may be arranged and may be arranged at intervals along the outer periphery 8a. In this case, the distance between the center of each movable body 40 and the outer periphery 8a may be 50 mm or less. Moreover, the some movable body 40 may be arrange | positioned at intervals on the outer periphery 8a. In these cases, the movable body 40 may also be disposed inside the outer periphery 8a of the interface 8.

また、可撓性板30の基体板32として、図13に示す基体板132、又は図14に示す基体板232を用いてもよい。図13は基体板の変形例を示す平面図である。図14は基体板の別の変形例を示す図であって、(a)は平面図、(b)は(a)のB−B線に沿った断面図である。   Further, the base plate 132 shown in FIG. 13 or the base plate 232 shown in FIG. 14 may be used as the base plate 32 of the flexible plate 30. FIG. 13 is a plan view showing a modification of the base plate. 14A and 14B are diagrams showing another modification of the base plate, in which FIG. 14A is a plan view and FIG. 14B is a cross-sectional view taken along line BB in FIG.

図13に示す基体板132の表面には、剥離前線9(図7参照)の移動方向後方に凸の湾曲溝132aが形成される。湾曲溝132aは、剥離前線9の移動方向に間隔をおいて複数設けられてよい。湾曲溝132aは、基体板132の両主面のいずれに形成されてもよい。湾曲溝132aの形状に倣うように、剥離前線9の形状が後方に凸の湾曲状となる。   A convex curved groove 132a is formed on the surface of the base plate 132 shown in FIG. 13 on the rear side in the moving direction of the peeling front 9 (see FIG. 7). A plurality of the curved grooves 132a may be provided at intervals in the moving direction of the peeling front 9. The curved groove 132 a may be formed on either of the main surfaces of the base plate 132. The shape of the peeling front 9 becomes a convex convex shape rearward so as to follow the shape of the curved groove 132a.

図14に示す基体板232は、板状部232a及び板状部232aを囲む外枠部232bを一体的に有する。外枠部232bの厚さD2が板状部232aの厚さD1よりも厚い。外枠部232bの曲げ剛性が板状部232aの曲げ剛性よりも高いので、可撓性板30と共に撓み変形する板(例えば補強板3A)の曲率半径Rは、図7(b)に示すように剥離前線9の両端部で大きく、図7(c)に示すように剥離前線9の中央部で小さくなる。   The base plate 232 shown in FIG. 14 integrally includes a plate-like portion 232a and an outer frame portion 232b surrounding the plate-like portion 232a. The thickness D2 of the outer frame part 232b is thicker than the thickness D1 of the plate-like part 232a. Since the bending rigidity of the outer frame portion 232b is higher than the bending rigidity of the plate-like portion 232a, the radius of curvature R of the plate (for example, the reinforcing plate 3A) that is bent and deformed together with the flexible plate 30 is as shown in FIG. It is large at both ends of the peeling front 9, and is small at the center of the peeling front 9, as shown in FIG.

1 積層板
2 基板
3 補強板
4 支持板
5 樹脂層
6 積層体
6a 第2主面
6b 第1主面
7 液晶層(機能層)
8 界面
9 境界線(剥離前線)
10 剥離装置
20 ステージ(支持手段)
30 可撓性板
31 吸着部
32 本体板
132 本体板
132a 湾曲溝
232 本体板
232a 板状部
232b 外枠部
40 可動体
50 連結機構
60 ロッド
70 駆動装置
80 制御装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laminated board 2 Board | substrate 3 Reinforcement board 4 Support board 5 Resin layer 6 Laminated body 6a 2nd main surface 6b 1st main surface 7 Liquid crystal layer (functional layer)
8 Interface 9 Boundary line (Peeling front)
10 Peeling device 20 Stage (support means)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 Flexible board 31 Adsorption part 32 Main body board 132 Main body board 132a Curved groove 232 Main body board 232a Plate-shaped part 232b Outer frame part 40 Movable body 50 Connection mechanism 60 Rod 70 Drive apparatus 80 Control apparatus

Claims (10)

基板と、該基板を補強する補強板との界面を一端側から他端側に向けて順次剥離する剥離装置において、
前記基板及び前記補強板を含む積層体の第1主面を支持する支持手段と、
前記積層体の第2主面を吸着する可撓性板と、
該可撓性板上に間隔をおいて固定され、前記支持手段に対して独立に移動可能な複数の可動体と、
前記複数の可動体の移動を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置は、前記界面を剥離した部分と前記界面を剥離してない部分との境界線の両端間の直線距離が最も長くなるときに該境界線が移動方向後方に凸の湾曲状となるように、前記複数の可動体の移動を制御する剥離装置。
In the peeling apparatus for sequentially peeling the interface between the substrate and the reinforcing plate that reinforces the substrate from one end side to the other end side,
Support means for supporting the first main surface of the laminate including the substrate and the reinforcing plate;
A flexible plate that adsorbs the second main surface of the laminate;
A plurality of movable bodies fixed on the flexible plate at intervals and movable independently of the support means;
A control device for controlling the movement of the plurality of movable bodies,
When the linear distance between both ends of the boundary line between the part where the interface is peeled off and the part where the interface is not peeled becomes the longest, the control device has a curved shape protruding backward in the movement direction. As described above, a peeling apparatus that controls movement of the plurality of movable bodies.
前記複数の可動体は、剥離開始前に前記界面に対して垂直な方向から見たときに前記界面の外周の内側近傍、該外周上、又は該外周よりも外側に配置され、
前記複数の可動体のうち、前記界面の剥離開始端の前方に配置される複数の前記可動体では、前記界面の剥離開始端からの所定方向における距離の短い前記可動体が、前記距離の長い前記可動体よりも先に前記支持手段に対して離間する請求項1に記載の剥離装置。
The plurality of movable bodies are disposed near the inner periphery of the outer periphery of the interface, on the outer periphery, or outside the outer periphery when viewed from a direction perpendicular to the interface before starting peeling.
Among the plurality of movable bodies, in the plurality of movable bodies arranged in front of the peeling start end of the interface, the movable body having a short distance in a predetermined direction from the peeling start end of the interface has a long distance. The peeling apparatus according to claim 1, wherein the peeling apparatus is separated from the support means before the movable body.
剥離開始前に前記界面に対して垂直な方向から見たとき、前記界面の剥離開始端からの所定方向における距離が同じ3つ以上の前記可動体のうち、両端の前記可動体は前記界面の外周の内側近傍、該外周上、又は該外周よりも外側に配置され、残りの前記可動体は該外周よりも内側に配置され、
前記両端の可動体は、前記残りの可動体よりも先に前記支持手段に対して離間する請求項1に記載の剥離装置。
When viewed from a direction perpendicular to the interface before the start of peeling, among the three or more movable bodies having the same distance from the peeling start end of the interface in the predetermined direction, the movable bodies at both ends are Near the inside of the outer periphery, on the outer periphery, or arranged outside the outer periphery, the remaining movable body is arranged inside the outer periphery,
The peeling apparatus according to claim 1, wherein the movable bodies at both ends are separated from the support means before the remaining movable bodies.
前記可撓性板は、前記積層体の第2主面を吸着する吸着部と、該吸着部を支持する本体板とを含み、該本体板の曲げ剛性が前記吸着部の曲げ剛性よりも高く、
前記本体板の表面には、前記境界線の移動方向後方に凸の湾曲溝が設けられる請求項1〜3のいずれか一項に記載の剥離装置。
The flexible plate includes an adsorbing portion that adsorbs the second main surface of the laminate and a main body plate that supports the adsorbing portion, and the bending rigidity of the main body plate is higher than the bending rigidity of the adsorbing portion. ,
The peeling apparatus as described in any one of Claims 1-3 with which a convex curved groove is provided in the surface of the said main body board at the back of the movement direction of the said boundary line.
前記可撓性板は、前記積層体の第2主面を吸着する吸着部と、該吸着部を支持する本体板とを含み、該本体板の曲げ剛性が前記吸着部の曲げ剛性よりも高く、
前記本体板は板状部及び該板状部を囲む外枠部を一体的に有し、前記外枠部の厚さが前記板状部の厚さよりも厚い請求項1〜3のいずれか一項に記載の剥離装置。
The flexible plate includes an adsorbing portion that adsorbs the second main surface of the laminate and a main body plate that supports the adsorbing portion, and the bending rigidity of the main body plate is higher than the bending rigidity of the adsorbing portion. ,
The said main body plate has a plate-shaped part and the outer frame part surrounding this plate-shaped part integrally, and the thickness of the said outer frame part is thicker than the thickness of the said plate-shaped part. The peeling apparatus according to item.
補強板で補強した基板上に機能層を形成する工程と、前記機能層が形成された前記基板と前記補強板とを剥離する工程とを有する電子デバイスの製造方法において、
前記基板と前記補強板とを剥離する工程は、前記基板及び前記補強板を含む積層体の第1主面を支持手段で支持すると共に、前記積層体の第2主面を吸着する可撓性板上に間隔をおいて固定される複数の可動体の前記支持手段に対する移動を制御することで、前記基板と前記補強板との界面を一端側から他端側に向けて順次剥離する工程であって、
前記界面を剥離した部分と前記界面を剥離してない部分との境界線の両端間の直線距離が最も長くなるときに該境界線が移動方向後方に凸の湾曲状となるように、前記複数の可動体の移動を制御する電子デバイスの製造方法。
In a method for manufacturing an electronic device, comprising a step of forming a functional layer on a substrate reinforced with a reinforcing plate, and a step of separating the reinforcing plate and the substrate on which the functional layer is formed.
The step of peeling the substrate and the reinforcing plate includes supporting the first main surface of the laminate including the substrate and the reinforcing plate with a supporting means and flexibly adsorbing the second main surface of the laminate. In the step of sequentially peeling the interface between the substrate and the reinforcing plate from one end side to the other end side by controlling the movement of the plurality of movable bodies fixed at intervals on the plate with respect to the support means. There,
The plurality of lines are arranged such that when the linear distance between both ends of the boundary line between the part where the interface is peeled off and the part where the interface is not peeled becomes the longest, the boundary line has a curved shape protruding backward in the movement direction. Of manufacturing an electronic device for controlling movement of a movable body.
前記複数の可動体は、剥離開始前に前記界面に対して垂直な方向から見たときに前記界面の外周の内側近傍、該外周上、又は該外周よりも外側に配置され、
前記複数の可動体のうち、前記界面の剥離開始端の前方に配置される複数の前記可動体では、前記界面の剥離開始端からの所定方向における距離の短い前記可動体が、前記距離の長い前記可動体よりも先に前記支持手段に対して離間する請求項6に記載の電子デバイスの製造方法。
The plurality of movable bodies are disposed near the inner periphery of the outer periphery of the interface, on the outer periphery, or outside the outer periphery when viewed from a direction perpendicular to the interface before starting peeling.
Among the plurality of movable bodies, in the plurality of movable bodies arranged in front of the peeling start end of the interface, the movable body having a short distance in a predetermined direction from the peeling start end of the interface has a long distance. The method for manufacturing an electronic device according to claim 6, wherein the electronic device is separated from the support means before the movable body.
剥離開始前に前記界面に対して垂直な方向から見たとき、前記界面の剥離開始端からの所定方向における距離が同じ3つ以上の前記可動体のうち、両端の前記可動体は前記界面の外周の内側近傍、該外周上、又は該外周よりも外側に配置され、残りの前記可動体は該外周よりも内側に配置され、
前記両端の可動体は、前記残りの可動体よりも先に前記支持手段に対して離間する請求項6に記載の電子デバイスの製造方法。
When viewed from a direction perpendicular to the interface before the start of peeling, among the three or more movable bodies having the same distance from the peeling start end of the interface in the predetermined direction, the movable bodies at both ends are Near the inside of the outer periphery, on the outer periphery, or arranged outside the outer periphery, the remaining movable body is arranged inside the outer periphery,
The method of manufacturing an electronic device according to claim 6, wherein the movable bodies at both ends are separated from the support means before the remaining movable bodies.
前記可撓性板は、前記積層体の第2主面を吸着する吸着部と、該吸着部を支持する本体板とを含み、該本体板の曲げ剛性が前記吸着部の曲げ剛性よりも高く、
前記本体板の表面には、前記境界線の移動方向後方に凸の湾曲溝が設けられる請求項6〜8のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
The flexible plate includes an adsorbing portion that adsorbs the second main surface of the laminate and a main body plate that supports the adsorbing portion, and the bending rigidity of the main body plate is higher than the bending rigidity of the adsorbing portion. ,
The method of manufacturing an electronic device according to any one of claims 6 to 8, wherein a convex curved groove is provided on a surface of the main body plate on a rear side in a moving direction of the boundary line.
前記可撓性板は、前記積層体の第2主面を吸着する吸着部と、該吸着部を支持する本体板とを含み、該本体板の曲げ剛性が前記吸着部の曲げ剛性よりも高く、
前記本体板は板状部及び該板状部を囲む外枠部を一体的に有し、前記外枠部の厚さが前記板状部の厚さよりも厚い請求項6〜8のいずれか一項に記載の電子デバイスの製造方法。
The flexible plate includes an adsorbing portion that adsorbs the second main surface of the laminate and a main body plate that supports the adsorbing portion, and the bending rigidity of the main body plate is higher than the bending rigidity of the adsorbing portion. ,
The said main body plate has a plate-shaped part and the outer frame part surrounding this plate-shaped part integrally, and the thickness of the said outer frame part is thicker than the thickness of the said plate-shaped part. The manufacturing method of the electronic device as described in a term.
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