KR102375409B1 - 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법 - Google Patents

연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법 Download PDF

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이종렬
이정호
박현덕
장혜경
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한국섬유소재연구원
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Abstract

본 발명은 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법에 관한 것으로서 보다 상세하게는 상압플라즈마 장치를 사용하여 표면처리를 하되 플라즈마 처리시 하부에서 에어 석션장치를 이용하여 플라즈마를 흡입하면 섬유원단을 통과하는 플라즈마에 의해 원단 표면에 보다 많은 양의 전자 및 원자가 결합하고 또한 섬유의 내부에 깊숙히전자 및 원자가 침투되어 정련 및 세정의 효과와 그로인해 염색성 등이 향상되는 효과등을 갖는 것에 그 특징이 있다.

Description

연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법{Surface treatment method of textile fabric using continuous atmospheric pressure plasma device}
본 발명은 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법에 관한 것으로서 보다 상세하게는 상압플라즈마 장치를 사용하여 표면처리를 하되 플라즈마 처리시 하부에서 에어 석션장치를 이용하여 플라즈마를 흡입하면 섬유원단을 통과하는 플라즈마에 의해 원단 표면에 보다 많은 양의 전자 및 원자가 결합하고 또한 섬유의 내부에 깊숙히전자 및 원자가 침투되어 정련 및 세정의 효과와 그로인해 염색성 등이 향상되는 효과가 있는 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법에 관한 것이다.
최근에는 생활수준의 향상과 기술의 발전에 의해 다양한 기능을 가지는 섬유제품이 개발되고 있으며, 그예로는 땀은 신속히 배출하면서 빗물은 스며들지 않는 투습 및 방수 기능의 섬유나 물을 잘 흡수하는 섬유, 먼지 등의 이물질이 들러붙지 않는 섬유, 향기를 발하는 방향성의 섬유 등이 개발되고, 또한 섬유 제품의 표면을 그 사용 용도에 따라 다양한 색상으로 염색할 수 있는 기술이 동시에 개발되고 있다. 섬유 제품이 이러한 기능을 가지게 하고, 섬유 표면에 대한 염색성을 향상시키기 위해서는 섬유의 표면을 개질하는 일정한 처리를 해주어야 한다.
섬유의 표면을 개질하는 방법으로는 습식 개질 공정에 의하거나 플라즈마를 이용한 다양한 처리 방법들을 개발되어 이용되고 있다. 종래의 섬유 표면을 개질하는 방법에 있어서, 플라즈마를 이용하는 방법은 진공 상태에서의 밀폐된 반응관에서 일정한 간격의 애노드(Anode) 전극과 캐소드(Cathode) 전극에 전원을 인가하여 발생되는 플라즈마를 이용하여 반응관 내에 투입되는 섬유의 표면을 개질하는 방법으로, 플라즈마 발생 장치가 복잡하고 이로 인하여 섬유의 표면을 개질하는 공정 또한 어려워 많은 비용이 소모되는 문제점이 있다.
또한 종래의 습식 표면 개질 방법은 롤(roll)상태의 섬유를 풀어 실온의 물에 침지시킨 후 물에 젖은 섬유를 초음파단이 설치된 계면활성조단으로 롤투롤(roll-to-roll)의 방식으로 투입하여 섬유의 유지(油脂) 성분을 제거하게 되고, 이 후 수세(水洗)조를 거쳐 탈지(脫脂)된 섬유는 염색 및 고착 과정을 거치게 된다.
이 과정에서 발생하는 알칼리 폐수는 추출된 유분과 색소, 섬유 부스러기, 노르말핵산(n-hexane) 등이 함유된 폐수로서 생물학적 산소요구량(Biochemical Oxygen Demand), 화학적 산소요구량(Chemical Oxygen Demand), 산성도(pH)가 아주 높은 상태이며, 이러한 폐수가 그래도 배출될 경우 환경오염을 유발시키게 되어 별도의 폐수 정화처리 공정이 요구된다. 즉 습식 공정을 이용한 섬유의 표면을 세정하고 정련하는 방법은 개질 장치와 공정이 간단하지만 많은 환경오염물질이 발생하는 문제점이 있다.
대한민국 특허공개 제2007-35653호 대한민국 특허공개 제2011-34728호
상기한 종래 문제점을 감안하여 안출한 본 발명은 상압플라즈마 장치를 사용하여 표면처리를 실행 하되 플라즈마 처리시 하부에서 에어 석션장치를 이용하여 플라즈마를 흡입하면 섬유원단을 통과하는 플라즈마에 의해 원단 표면에 보다 많은 양의 전자 및 원자가 결합하고 또한 섬유의 내부에 깊숙히 전자 및 원자가 침투되어 정련 및 세정의 효과와 그로인해 알칼리액이나 계면활성제 등의 사용에 따른 환경 폐수 발생을 개선하여 친환경적이고, 섬유의 염색 및 고착 공정에서의 염색성과 균일성을 향상시키며, 플라즈마의 화학적 방법을 적용함으로써 공정이 간단하고 비용이 현저하게 줄어드는 등의 효과가 있는 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법을 제공하는데 있다.
이러한 본 발명은 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법에 있어서, 일정한 속도로 이동되는 섬유원단의 상단에 노즐이 고정 설치된 플라즈마 장치를 이용하여 플라즈마 빔을 섬유원단에 조사함과 동시에 원단 하부에 설치된 에어 석션장치로 흡입하여 섬유원단의 표면에 부착된 유기물을 제거하면서 섬유 표면에 친수성을 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법을 제공하는데 있다.
상기 에어 석션장치는 이온발생기가 부착된 것을 특징으로 하는 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법을 제공하는데 있다.
상기 에어 석션장치에 마그네틱이 더 부착 설치된 것을 특징으로 하는 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법을 제공하는데 있다.
상기 플라즈마장치는 바디에 노즐이 일정한 간격으로 설치되고 상기 바디가 회전되어 플라즈마 빔이 중첩되게 조사하는 것을 특징으로 하는 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법을 제공하는데 있다.
이와 같은 본 발명은 상압플라즈마 장치를 사용하여 표면처리를 실행 하되 플라즈마 처리시 하부에서 에어 석션장치를 이용하여 플라즈마를 흡입하면 섬유원단을 통과하는 플라즈마에 의해 원단 표면에 보다 많은 양의 전자 및 원자가 라디칼을 형성케 결합하고 또한 섬유의 내부에 깊숙히 전자 및 원자 라디칼이 침투되어 정련 및 세정의 효과와 그로인해 알칼리액이나 계면활성제 등의 사용에 따른 환경 폐수 발생을 개선하여 친환경적이고, 섬유의 염색 및 고착 공정에서의 염색성과 균일성을 향상시키며, 플라즈마의 건식 전처리 방법을 적용함으로써 공정이 간단하고 비용이 현저하게 줄어드는 등의 효과가 있는 유용한 발명이다.
도 1은 본 발명의 기술이 적용된 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법을 보여주는 예시도.
도 2는 본 발명의 기술 요지인 에어 석션장치를 사용할 때 집진시의 작동을 보여주는 예시도.
도 3a는 본 발명의 다른 실시예인 플라즈마장치의 일예를 보여주는 사시도.
도 3b는 본 발명의 다른 실시예인 플라즈마장치의 일예를 보여주는 배면사시도.
도 4a는 면을 이용한 섬유원단의 흡수성과 침염에 의한 염색성을 보여주는 그래프.
도 4b는 폴리에스터를 이용한 섬유원단의 흡수성과 침염에 의한 염색성을 보여주는 그래프.
도 5c는 나일론을 이용한 섬유원단의 흡수성과 침염에 의한 염색성을 보여주는 그래프.
도 6은 면을 이용한 섬유원단의 흡수성과 CPB 염색에 의한 염색성을 보여주는 그래프.
이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명은 플라즈마 발생에 영향을 주는 인자들을 포함하여 화학적 반응을이용한 플라즈마 빔 발생에 섬유원단을 노출시키는 것을 포함하는 연속식 상압플라즈마장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법을 제공한다.
첨부도면 도 1은 본 발명의 기술이 적용된 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법을 보여주는 예시도로써 본 발명은 일정한 속도로 이동되는 섬유원단(10)에 고정 설치된 플라즈마장치(20)를 이용하여 플라즈마 빔을 섬유원단(10) 표면에 조사함과 동시에 원단 하부에 설치된 에어 석션장치(20)로 흡입하여 섬유원단(10)의 표면에 부착된 유기물을 제거하면서 섬유 표면에 친수성을 갖도록 하는 구조이다.
좀더 구체적으로 도 1을 참조하면, 본 발명의 플라즈마 빔을 이용한 섬유원단의 표면 개질을 위한 플라즈마 처리방법은 섬유원단(10)을 일정한 속도로 이동시키면서 상기 섬유원단(10)이 이동될 때 플라즈마장치(20)에서 플라즈마 빔을 발생시켜 섬유원단(10)의 일 표면에 조사하게 된다.
물론 도면상에는 도시하지 않았지만 로울러를 이용하여 섬유원단을 180도 뒤집어 플라즈마 빔을 원단에 조사하도록 하면 상기 플라즈마장치(10)를 2단으로 설치하여 양면에 대하여 플라즈마 빔을 조사할 수도 있다.
상기 플라즈마 처리시의 상압플라즈마 세기(전력량)는 10 내지 600W인 것이 바람직하다. 상압플라즈마의 세기가 10W 미만에서는 플라즈마의 발생량이 너무 적어 섬유 표면에 영향을 주는데 적합하지 못하고, 600W를 초과하는 경우에는 섬유 표면에 손상을 주며 섬유가 끊어지고 타버릴 우려가 있어 바람직하지 못하다.
또한, 플라즈마 처리시의 상압플라즈마 처리 시간은 1m/min~30m/min인 것이 바람직하다. 1초 미만에서는 화학적 반응이 일어나기 어려우며, 600초를 초과하면 섬유 표면이 손상되어 섬유 자체가 타버리는 현상이 발생되기 때문이다. 상기 플라즈마 처리시 분위기는 에어만 사용하지만 질소가스도 같이 사요오할 수 있다.
상기 플라즈마 처리시 전극과 섬유원단과의 거리는 1 내지 50mm인 것이 바람직하다. 섬유원단과 전극간의 거리가 1㎜보다 짧을 경우, 처리가 어렵고 반대로 50 ㎜를 넘을 경우에는 플라즈마의 세기가 약해져서 섬유원단에 영향을 주기 어렵다.
또한, 플라즈마 처리시의 주파수는 플라즈마를 안정적으로 형성시키는 13.56 ㎒인 것이 바람직하며, 캐리어 가스(에어 또는 질소)의 주입량은 매스 플로우 컨트롤러(Mass Flow Controller, MFC)를 사용하여 일정하게 유지시키는 것이 바람직하다.
섬유원단(10)을 구성하는 섬유사는 많은 실이 하나로 모여 지름이 굵은 실과 가는실을 형성하고 있는 구조이므로 직물로 이루어진 원단에 상기에서와 같이 플라즈마 빔을 섬유원단(10) 표면에 조사하면 플라즈마는 표면에 증착되는 것이 일반적이나 종래에는 입체적인 표면의 특성을 갖는 섬유 표면에 플라즈마 활성층의 형성이 어려워 플라즈마 처리에 대한 효율성이 떨어지게 되는 문제가 있다.
그러나 본 발명의 실시예인 첨부도면 도 2에 도시된 바와 같이 플라즈마장치(20)를 이용하여 플라즈마 빔을 섬유원단(10)에 조사함과 동시에 원단 하부에 설치된 에어 석션장치(30)로 흡입하면 플라즈마가 섬유사와 섬유사의 사이로 강제 이동되기 때문에 섬유원단의 표면의 접촉시간과 접촉량고 또한 섬유 깊숙히 증착되기 때문에플라즈마 효과가 현저히 증가한다.
본 발명의 플라즈마 방전은 물과 화학약품을 전혀 사용하지 않는 Dry process로 환경에 부하를 줄이고 에너지사용을 절감시킬 수 있으며 특히 오존과 아산화질소 혹은 불소 라디칼을 발생시키게 되고, 이들이 섬유와 반응하는 과정을 거쳐 여러 생성물을 발생시키게 되며, 대기중으로 방출되는 오존과 아산화질소 혹은 불소 라디칼 들이 그대로 대기중으로 방출하지 못하게 집진하게 되는 효과도 얻을 수 있다.
또한 에어 석션장치(30)에 의해 원단이 흔들리는 것을 방지하는 효과도 얻을 수 있으며 더불어 노즐이 고정 형태일 경우 많은 수의 노즐이 필요하나 본 발명의 회전 형태의 플라즈마 장치를 사용하여 플라즈마 빔을 중첩되게 형성시키면 플라즈마장치(20)를 이 콤팩트하게 소형화 할 수 있다.
한편 상기 에어 석션장치(30)에는 도면상 미도시된 이온발생기를 더 부착하여 플라즈마를 더 빠르게 집속 및 포집할 수 있는 효과가 있으며 이온 발생기와 함께 마그네틱을 더 부착 설치하여 사용할 수도 있다. 상기 이온발생기의 양이온 또는 음이온 생성과 마그네틱의 자성에 따라서 플라즈마 효율을 극대화 힐 수 있다.
한편 섬유의 전처리 테스트를 위해 생산 및 소비량이 높은 섬유 3종(면, 폴리에스터, 나일론)을 선정하여 표면처리에 대한 효과(전처리 및 염색)에 대하여 실험을 실시하였다.
종래 습식 전처리
소재 조제 온도 및 시간
면 정련제 1g/L, 가성소다 1g/L 98℃, 20min
폴리에스터 정련제 1g/L, 가성소다 1g/L 98℃, 20min
나일론 정련제 1g/L, 가성소다 1g/L 98℃, 20min
플라즈마 전처리
소재 가스 및 유량 전압 처리속도
면 CDA, 20~25L/min 20w 10, 20, 30, 40m/sec(단면), 10m/sec(양면)
폴리에스터 CDA, 20~25L/min 20w 10, 20, 30, 40m/sec(단면), 10m/sec(양면)
나일론 CDA, 20~25L/min 20w 10, 20, 30, 40m/sec(단면), 10m/sec(양면)
상기와 같이 종래와 본 발명에 의해 각각 처리된 섬유원단을 가지고 아래와 같은 조건으로 염색을 실시하였다.
염색( 침염 )
소재 염료 및 농도 염색(온도 및 시간) 소핑(온도 및 시간)
면 Blue 3% 60℃, 60min 80℃, 20min
폴리에스터 Blue 2% 130℃, 60min 80℃, 20min
나일론 Blue 1.5% 100℃, 60min 80℃, 20min
상기와 같이 염색된 시료에서 20cm×2.5cm의 시험편을 채취하고 시험편을 (20±2)℃의 증류수가 들어 있는 용기의 수면에 한쪽 끝이 닿도록 하여 일정한 높이로 수평봉으로 정지시킴. 10min 경과 후 모세관 현상으로 물이 상승하는 높이(mm)를 측정(KS K 0642 B법(바이렉법))한 후 분광측색계를 이용하여 시료의 색상을 측정하고 K/S 값의 비교를 통한 염색 성능 평가를 실시하였다.
상기 실험을 통해 첨부도면 도 4a 내지 도 4c에 도시된 바와 같이 흡수성 및 염색성을 보였다. 실험 결과는
① 면 섬유의 흡수성 및 염색성(침염)(도 4a 참조)
- 면 섬유의 경우 전처리 전 흡수거리는 0mm로 흡수성이 미흡하며 기존 습식 정련법으로 처리시 흡수거리는 98mm로 나타남.
- 면 섬유의 플라즈마 전처리 시 처리속도 10mm/sec에서 131mm으로 우수한 결과를 나타냈으며 처리속도가 빨라질수록 흡수성이 감소하는 것으로 나타남.
- 또한 10mm/sec에서 양쪽면 처리시 흡수거리는 155mm로 기존 정련법 및 단면 처리한 시료의 흡수거리에 비해 향상된 값을 나타냄.
- 미처리 및 전처리 시료의 염색 후 K/S 측정 결과 10mm/sec 플라즈마 처리 시료의 K/S 값은 26.18로 가장 높게 나타났으며 10mm/sec(양면) 처리 시료는 25.33으로 기존 정련 시료에 비해 향상된 결과를 보임.
- 미흡한 흡수성을 보인 20mm/sec 이상 플라즈마 처리 시료의 경우 K/S 값은 기존 시료와 유사한 값을 나타냈으며, 플라즈마 처리에 따른 섬유 표면의 이물질 제거가 일부 이루어진 것으로 판단됨.
② 폴리에스터 섬유의 흡수성 및 염색성(침염)(도 4b 참조)
- 폴리에스터 섬유의 경우 전처리 전 시료의 흡수거리는 25mm로 흡수성을 가지고 있는 것으로 나타났으며 기존 습식 전처리 후 흡수거리는 93mm로 우수하게 나타남.
- 10mm/sec에서 플라즈마 처리시 70mm의 흡수속도를 나타냈으며 처리속도가 증가할수록 흡수거리가 감소하는 것으로 나타남.
- 특히 10m/sec로 양면 플라즈마 처리시 흡수거리는 120mm로 기존 습식 전처리에 비해 29% 향상되어 우수하게 나타남.
- 상기의 전처리 시료의 염색 후 K/S 값은 기존 전처리 시료가 19.26으로 가장 우수하게 나타났으며 다음으로 10mm/sec에서 플라즈마 양면 처리 시료가 18.93으로 높은 값을 보임.
- 폴리에스터 섬유의 경우 미처리 시료 및 플라즈마 단면 처리 시료 4종의 K/S값은 17~18 수준으로 유사하게 나타났으며, 전처리가 염색성에 미치는 영향이 미비한 것으로 판단됨.
③ 나일론 섬유의 흡수성 및 염색성(침염)(도 4c 참조)
- 나일론 섬유의 경우 미처리, 기존 전처리 및 본 발명의 기술에 의한 플라즈마 처리 시료 모두 135~140mm 흡수거리를 나타냈으며 미처리 시료의 흡수성이 높아 전처리의 영향이 미비한 것으로 나타남.
- 염색 후 시료의 K/S는 기존 전처리, 10mm/sec 양면 및 단면 플라즈마 처리 시료의 염색성이 미처리 시료에 비해 약 15% 가량 향상된 것으로 나타남.
④ 면 섬유의 염색성(CPB, Water bath)(도 5 참조)
- 면 섬유는 침염 이외에도 CPB 염색이 가능하며 플라즈마 건식 전처리 공정과 연계시 추가적인 용수 및 에너지 절감이 가능.
- 전처리에 의해 향상된 K/S 값은 약 5% 수준으로 상승폭이 크지 않지만 미처리 시료의 경우 부족한 흡수성으로 인해 염액이 균일하게 흡수되지 못하고 심각한 불균염이 발생되었으며 반면에 전처리 시료 2종은 균일한 염색성을 나타내었음.
한편 본 발명에서는 플라즈마장치를 고정 형태인 것으로 설명하고 있으나 크기를 콤팩트하게 줄이기 위해 첨부도면 도 3a 내지 도 3b에 도시된 바와 같이 상기 플라즈마장치(20)는 바디(22)에 노즐(21)이 일정한 간격으로 설치되고 바디(22)가 회전되는 것으로 구조를 변경하여 사용할 수 있다.
상기와 같이 플라즈마장치(20)를 회전 형태로 변경하여 플라즈마 빔이 겹치어지도록 하면 상기 조사되는 플라즈마 빔이 섬유원단 표면에 중첩되게 되면서 넓은 면적으로 조사된다.
이를 아래 표4를 통해 살펴보면 다음과 같다.
노즐 1개 처리 조건1(노즐+노즐)중첩 조건2(노즐+노즐)중첩
속도 : 10mm/sec 속도 : 10mm/sec 속도 : 10mm/sec
플라즈마 Gap : 4mm 플라즈마 Gap : 4mm 플라즈마 Gap : 4mm
Air량 : 25L/min Air량 : 25L/min Air량 : 40L/min
처리 폭 : 3.5mm 처리 폭 : 6.2mm 처리 폭 : 4 mm
Figure 112021135094863-pat00001
Figure 112021135094863-pat00002
Figure 112021135094863-pat00003
조건3(노즐+노즐)중첩 조건4(노즐+노즐)중첩 조건5(노즐+노즐)중첩
속도 : 20mm/sec 속도 : 30mm/sec 속도 : 50mm/sec
플라즈마 Gap : 4mm 플라즈마 Gap : 5mm 플라즈마 Gap : 6mm
Air량 : 40L/min Air량 : 50L/min Air량 : 50L/min
처리 폭 : 3.5mm 처리 폭 : 3mm 처리 폭 : 1.8 mm
Figure 112021135094863-pat00004
Figure 112021135094863-pat00005
Figure 112021135094863-pat00006
상기에서와 같이 고정 상태의 노즐 1개로 처리 가능한 너비는 약 3.5mm이며, 이를 플라즈마장치를 회전시켜 노즐 2개 처리시 중첩되는 폭은 6.2mm로 넓게 형성시킬 수 있다. 상기와 같이 플라즈마 빔을 중첩되도록 하려면 원단의 이동속도 및 플라즈마장치의 회전속도, 에어량, 노즐 형태 등을 고려하여야 한다.
상기에서와 같이 노즐이 회전하게 되어 플라즈마 빔이 중첩되면 적은 수의 노즐로 넓은 면적 처리가 가능하고, 적은 수의 노즐로 파워써플라이의 용량을 적게 사용할 수 있는 이점과, 고정형은 부분 파손시 전체를 교환하여야 하지만 본 발명과 같이 부분적인 교환 및 수리가 가능하고 또한 노즐의 부분 파손시 종래의 고정형에서는 플라즈마 빔이 조사 되지 않는 부분이 나타나 불량이 발생하나 본 발명에서와 같이 플라즈마 빔이 중첩되면서 조사되기 때문에 불량율이 극감되는 이점 등이 있다.
이와 같은 본 발명은 상압플라즈마 장치를 사용하여 표면처리를 실행 하되 플라즈마 처리시 하부에서 에어 석션장치를 이용하여 플라즈마를 흡입하면 섬유원단을 통과하는 플라즈마 빔에 의해 원단 표면에 보다 많은 양의 전자 및 원자가 결합하고 또한 섬유원단의 내부에 깊숙히 전자 및 원자가 침투되어 정련 및 세정의 효과가 증대되고 그로인해 알칼리액이나 계면활성제 등의 사용에 따른 환경 폐수 발생을 개선하여 친환경적이고, 섬유의 염색 및 고착 공정에서의 염색성과 균일성을 향상시키며, 플라즈마 빔의 화학적 방법을 적용함으로써 공정이 간단하고 비용이 현저하게 줄어드는 등의 효과가 있는 유용한 발명이다.

Claims (4)

  1. 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법에 있어서,
    일정한 속도로 이동되는 섬유원단의 상단에 고정 설치된 플라즈마장치를 이용하여 플라즈마를 섬유원단에 조사함과 동시에 원단 하부에 설치된 에어 석션장치로 흡입하여 섬유원단의 표면에 부착된 유기물을 제거하면서 섬유 표면에 친수성을 갖도록 하는 것이며,
    상기 에어 석션장치는 이온발생기가 부착된 것을 특징으로 하는 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 에어 석션장치에 마그네틱이 더 부착 설치된 것을 특징으로 하는 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법.

  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 플라즈마장치는 바디에 노즐이 일정한 간격으로 설치되고 상기 바디를 회전시켜 플라즈마 빔이 중첩되게 조사하는 것을 특징으로 하는 연속식 상압플라즈마 장치를 이용한 섬유원단의 표면처리방법.
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