KR102361863B1 - Gate valve with gas prevention stopper - Google Patents

Gate valve with gas prevention stopper Download PDF

Info

Publication number
KR102361863B1
KR102361863B1 KR1020210092712A KR20210092712A KR102361863B1 KR 102361863 B1 KR102361863 B1 KR 102361863B1 KR 1020210092712 A KR1020210092712 A KR 1020210092712A KR 20210092712 A KR20210092712 A KR 20210092712A KR 102361863 B1 KR102361863 B1 KR 102361863B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
opening
gas
valve body
support plate
prevention stopper
Prior art date
Application number
KR1020210092712A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
서창석
문현철
Original Assignee
주식회사 비츠로브이엠
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 비츠로브이엠 filed Critical 주식회사 비츠로브이엠
Priority to KR1020210092712A priority Critical patent/KR102361863B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102361863B1 publication Critical patent/KR102361863B1/en

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K3/00Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
    • F16K3/02Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
    • F16K3/16Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together
    • F16K3/18Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor with special arrangements for separating the sealing faces or for pressing them together by movement of the closure members
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16KVALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K47/00Means in valves for absorbing fluid energy
    • F16K47/04Means in valves for absorbing fluid energy for decreasing pressure or noise level, the throttle being incorporated in the closure member
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Sliding Valves (AREA)
  • Details Of Valves (AREA)

Abstract

Disclosed is a gate valve with an embedded gas prevention stopper. The gate valve with an embedded gas prevention stopper comprises: a valve body having an opening part to form a passage between a chamber and a pump on a lower portion of an accommodation unit; a lifting unit consisting of a support plate installed on the accommodation unit of the valve body, a sealing plate having an O-ring sealing the opening part on the surface thereof and installed on one side of the support plate, and a rear plate installed on the other side of the support plate, and provided to be lifted and lowered to open and close the opening part; and a driving unit installed on an upper portion of the valve body to be connected to the support plate, and provided to lift and operate the lifting unit to open and close the opening part. The lifting unit has a gas prevention stopper on a lower portion of the support plate to block the entry of gas into the accommodation unit when the opening part is opened. According to the present invention, structures of blocking contact between gas and the O-ring and blocking by the gas prevention stopper are provided to prevent gas used in a semiconductor process from flowing into the valve body when the valve is opened to prevent corrosion of the O-ring by the gas to improve the airtightness of the O-ring and contribute to life extension. Also, the lower surface of the gas prevention stopper and the bottom surface of a stopper insertion groove come in surface contact with each other when the valve is closed to reduce the impact amount when the lifting unit descends to markedly reduce noise generation.

Description

가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브{GATE VALVE WITH GAS PREVENTION STOPPER}GATE VALVE WITH GAS PREVENTION STOPPER

본 발명은 가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 밸브의 개방 시 밸브 내부로 가스의 유입을 방지할 수 있는 가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브에 관한 것이다.The present invention relates to a gate valve having a built-in gas prevention stopper, and more particularly, to a gate valve having a built-in gas prevention stopper capable of preventing the inflow of gas into the valve when the valve is opened.

일반적으로 LCD(liquid crystal display) 기판이나 반도체 웨이퍼의 에칭 공정(etching process), 증착(vapor deposition) 공정, 스퍼터링(sputtering) 공정이나 패럴린 코팅(parylene coating)과 같이 진공 상태를 필요로 하는 특수한 코팅 공정과 같은 작업을 할 때에는, 작업이 이루어지는 챔버(chamber)의 내부의 공기를 제거하여 진공 환경을 형성한다. 이 경우, 적절한 진공도를 설정 및 유지하는데 반드시 필요한 것이 진공 게이트 밸브이다.In general, special coatings that require a vacuum state such as an etching process, vapor deposition process, sputtering process, or parylene coating of liquid crystal display (LCD) substrates or semiconductor wafers When performing an operation such as a process, a vacuum environment is formed by removing air inside a chamber in which the operation is performed. In this case, a vacuum gate valve is absolutely necessary to set and maintain an appropriate degree of vacuum.

이러한 게이트 밸브는 챔버와 펌프 사이에 위치되며, 통로를 개폐함으로써 진공상태를 유지 또는 해제하는 역할을 한다.The gate valve is positioned between the chamber and the pump, and serves to maintain or release a vacuum state by opening and closing the passage.

도 1을 참조하면, 종래 기술에 따른 게이트 밸브는 본체(1000)와 구동부(2000)를 포함하여 구성된다. 본체(1000)는 본체 상부(1100)의 내부에 구동모듈(1110)이 구비되고, 본체 하부(1200)에 개구부(1210)가 형성된다. 구동부(2000)는 구동모듈(1110)을 상하 운동시키도록 구동된다.Referring to FIG. 1 , a gate valve according to the related art includes a body 1000 and a driving unit 2000 . The main body 1000 is provided with a driving module 1110 inside the main body upper part 1100 , and an opening 1210 is formed in the main body lower part 1200 . The driving unit 2000 is driven to vertically move the driving module 1110 .

이와 같이 구성된 게이트 밸브는 구동부(2000)가 구동하면, 구동모듈(1110)의 조작판(1111)이 본체(1000)의 내벽을 따라 이동하게 되고, 이와 동시에 조작판(1111)의 하부에 형성된 스토퍼(1115)가 본체 하부(1200) 내부의 스토퍼 삽입부(1220)에 삽입되어 본체(10000) 내부 바닥에 닿게 됨으로써 밀폐판(1112)이 개구부(1210)를 밀폐하게 되는 것이다.In the gate valve configured as described above, when the driving unit 2000 is driven, the operation plate 1111 of the driving module 1110 moves along the inner wall of the body 1000 , and at the same time, a stopper formed under the operation plate 1111 . 1115 is inserted into the stopper insertion portion 1220 inside the lower body 1200 and comes into contact with the inner floor of the body 10000 , so that the sealing plate 1112 seals the opening 1210 .

그러나, 종래 기술에 따른 게이트 밸브는 개방 시 반도체 공정 중 에칭 공정에서 사용하는 가스가 본체 상부(1100) 내부로 유입되게 된다. 즉, 개구부(1210)를 개방한 상태에서는 스토퍼(1115)와 본체(1000) 내벽의 간격이 넓게 형성되어 있기 때문에, 가스가 본체 상부(1100)의 내부로 유입되고 이로 인하여 밀폐판(1112)의 오링(1112a)이 유입된 가스에 의해 부식되는 문제점이 발생한다.However, when the gate valve according to the related art is opened, the gas used in the etching process during the semiconductor process flows into the upper body 1100 . That is, since the gap between the stopper 1115 and the inner wall of the body 1000 is wide in the state in which the opening 1210 is opened, the gas flows into the upper body 1100 and thereby the sealing plate 1112 is There is a problem in that the O-ring 1112a is corroded by the introduced gas.

KR 등록특허공보 제10-14456902호(등록일자: 2014년09월23일)KR Registered Patent Publication No. 10-14456902 (Registration Date: September 23, 2014)

본 발명의 기술적 과제는, 밸브의 개방 시 밸브 본체 내로 가스의 유입을 차단하여 가스에 의한 오링의 부식을 방지할 수 있는 가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a gate valve having a built-in gas prevention stopper capable of preventing the corrosion of the O-ring by gas by blocking the inflow of gas into the valve body when the valve is opened.

본 발명의 다른 기술적 과제는, 밸브의 폐쇄 시 충격량을 감소시켜 소음을 줄일 수 있는 가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브를 제공하는 것이다.Another technical object of the present invention is to provide a gate valve having a built-in gas prevention stopper capable of reducing noise by reducing the amount of impact when the valve is closed.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned can be clearly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs from the description below. There will be.

상기 기술적 과제는, 수용부의 하부에 챔버와 펌프 사이의 통로를 형성하도록 개구부가 마련되는 밸브 본체; 상기 밸브 본체의 수용부에 설치되는 지지판과, 상기 지지판의 일측에 설치되고 표면에 개구부를 밀폐하는 오링이 구비되는 밀폐판와, 상기 지지판의 타측에 설치되는 배면판으로 구성되고, 상기 개구부를 개폐하기 위해 승강되도록 마련되는 승강부; 및 상기 밸브 본체의 상부에 지지판과 연결되도록 설치되고, 상기 개구부의 개폐를 위해 승강부를 승강 동작시키도록 마련되는 구동부;를 포함하며, 상기 승강부는, 상기 개구부의 개방 시 수용부 내로 가스의 유입을 차단할 수 있도록 지지판의 하부에 가스 방지 스토퍼가 설치되는 것을 특징으로 한다.The technical problem is, the valve body is provided with an opening in the lower portion of the receiving portion to form a passage between the chamber and the pump; It consists of a support plate installed in the receiving part of the valve body, a sealing plate installed on one side of the support plate and having an O-ring sealing the opening on the surface, and a back plate installed on the other side of the support plate, to open and close the opening Elevating unit provided to elevate for; and a driving unit installed to be connected to a support plate at an upper portion of the valve body and provided to lift and lower the lifting unit to open and close the opening, wherein the lifting unit controls the inflow of gas into the receiving unit when the opening is opened It is characterized in that a gas prevention stopper is installed on the lower part of the support plate to block it.

상기 가스 방지 스토퍼는 수용부의 개구된 하부를 완전히 밀폐할 수 있도록 형성되는 것을 특징으로 한다.The gas prevention stopper is characterized in that it is formed so as to completely seal the opened lower portion of the accommodating portion.

상기 밸브 본체는 개구부의 바닥면에 스토퍼 삽입홈이 형성되고, 상기 가스 방지 스토퍼의 하면은 개구부의 패쇄 시 스토퍼 삽입홈의 바닥면과 면접촉되는 것을 특징으로 한다.The valve body is characterized in that the stopper insertion groove is formed on the bottom surface of the opening, and the lower surface of the gas prevention stopper is in surface contact with the bottom surface of the stopper insertion groove when the opening is closed.

상기 지지판의 일측과 타측의 상,하부 표면에는 볼이 회전 가능하게 설치되고, 상기 볼과 대응되는 밀폐판과 배면판의 표면에는 브이자(V) 형상의 걸림홈이 형성되며, 상기 밀폐판과 배면판은 볼이 걸림홈의 최상부 또는 최하부에 걸림되는 경우, 지지판의 외측 방향으로 벌어지도록 이동되어 수용부의 내벽 또는 개구부의 내벽에 밀착되고, 상기 볼이 걸림홈의 중간부에 걸림되는 경우, 지지판과 접촉되도록 이동되어 승강부의 승강 동작이 가능하도록 하는 것을 특징으로 한다.A ball is rotatably installed on the upper and lower surfaces of one side and the other side of the support plate, and a V-shaped locking groove is formed on the surface of the sealing plate and the back plate corresponding to the ball, the sealing plate and When the ball is caught in the uppermost or lowermost part of the locking groove, the back plate is moved to open outward of the support plate and is in close contact with the inner wall of the receiving part or the inner wall of the opening, and when the ball is caught in the middle of the locking groove, the support plate It is characterized in that it is moved so as to be in contact with the lifting unit to enable the lifting operation.

상기 밀폐판은 표면에 오링을 수용할 수 있는 오링홈이 형성되고, 상기 밀폐판이 수용부의 내벽에 밀착되는 경우, 오링은 오링홈 내로 완전히 수용되어 가스와의 접촉이 차단되는 것을 특징으로 한다.The sealing plate is characterized in that the O-ring groove for accommodating the O-ring is formed on the surface of the sealing plate, and when the sealing plate is in close contact with the inner wall of the receiving part, the O-ring is completely accommodated in the O-ring groove to block contact with the gas.

본 발명에 의하면, 밸브의 개방 시 반도체 공정에 사용되는 가스가 밸브 본체 내로 유입되지 않도록 가스 방지 스토퍼에 의한 차단 및 오링과 가스의 접촉 차단 구조를 제공하여, 가스에 의한 오링의 부식을 방지함으로써 오링의 기밀성을 향상시키고 수명 연장에 기여할 수 있는 유용한 효과가 있다.According to the present invention, when the valve is opened, the O-ring is prevented from being corroded by gas by providing a blocking structure by a gas prevention stopper and a contact blocking structure between the O-ring and gas so that the gas used in the semiconductor process does not flow into the valve body when the valve is opened. It has a useful effect that can improve the airtightness of the device and contribute to extending the lifespan.

또한, 밸브의 폐쇄 시 가스 방지 스토퍼의 하면과 스토퍼 삽입홈의 바닥면이 면접촉되도록 함으로써 승강부의 하강 시 발생되는 충격량을 감소시켜 소음 발생을 현저히 줄일 수 있는 유용한 효과도 있다.In addition, when the valve is closed, the lower surface of the gas prevention stopper and the bottom surface of the stopper insertion groove are in surface contact, thereby reducing the amount of impact generated during the descending of the elevating part, thereby significantly reducing noise generation.

도 1은 종래 기술에 따른 게이트 밸브를 보인 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 게이트 밸브를 보인 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 게이트 밸브를 보인 정단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 게이트 밸브를 보인 측단면도이다.
도 5는 본 발명에 따른 게이트 밸브의 가스 방지 스토퍼를 보인 사시도이다.
도 6은 도 5에 도시된 가스 방지 스토퍼를 보인 저면도이다.
도 7은 본 발명에 따른 게이트 밸브에 마련된 바이패스 밸브를 보인 단면도이다.
도 8 내지 도 10은 본 발명에 따른 게이트 밸브의 작동 상태를 보인 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing a gate valve according to the prior art.
2 is a perspective view showing a gate valve according to the present invention.
3 is a front cross-sectional view showing a gate valve according to the present invention.
4 is a side cross-sectional view showing a gate valve according to the present invention.
5 is a perspective view showing a gas prevention stopper of the gate valve according to the present invention.
6 is a bottom view showing the gas prevention stopper shown in FIG.
7 is a cross-sectional view showing a bypass valve provided in the gate valve according to the present invention.
8 to 10 are cross-sectional views showing an operating state of the gate valve according to the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 이미 공지된 기능 혹은 구성에 대한 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, in describing the present invention, descriptions of already known functions or configurations will be omitted in order to clarify the gist of the present invention.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 게이트 밸브는 밸브 본체(10)와, 승강부(20)와, 그리고 구동부(30)를 포함한다.1 to 3 , the gate valve according to the present invention includes a valve body 10 , a lifting unit 20 , and a driving unit 30 .

밸브 본체(10)는 게이트 밸브의 메인프레임을 형성하며, 수용부(12)와, 그리고 개구부(14)를 포함한다.The valve body 10 forms the mainframe of the gate valve, and includes a receiving portion 12 and an opening 14 .

수용부(12)는 밸브 본체(10)의 상부에 승강부(20)를 수용할 수 있도록 수직 상태로 길게 형성된다. 수용부(12)의 내부에는 승강부(20)를 수용하기 위한 수용공간(13)이 길이방향을 따라 형성된다. 이러한 수용부(12)는 개구부(14)의 개방을 위해 승강부(20)를 수용할 수 있도록 된 것이다.The accommodating part 12 is formed to be elongated in a vertical state to accommodate the lifting part 20 in the upper part of the valve body 10 . An accommodating space 13 for accommodating the elevating part 20 is formed in the interior of the accommodating part 12 in the longitudinal direction. The accommodating part 12 is configured to accommodate the lifting part 20 for opening the opening 14 .

개구부(14)는 수용부(12)의 하부에 챔버와 펌프 사이의 통로를 제공하도록 형성된다. 이러한 개구부(14)는 챔버와 펌프에 연결되어 게이트 밸브의 일정한 진공도 설정 및 유지를 위한 통로를 형성한다.The opening 14 is formed in the lower portion of the receptacle 12 to provide a passage between the chamber and the pump. This opening 14 is connected to the chamber and the pump to form a passage for setting and maintaining a constant degree of vacuum of the gate valve.

그리고 밸브 본체(10)는 개구부(12)의 바닥면에 개구부(12)보다 깊은 깊이로 함몰되는 스토퍼 삽입홈(15)이 형성된다. 스토퍼 삽입홈(15)은 밸브의 폐쇄 시 승강부(20)에 마련되는 가스 방지 스토퍼(40)가 기밀 유지되도록 삽입된다.In addition, the valve body 10 is formed with a stopper insertion groove 15 recessed to a deeper depth than the opening 12 in the bottom surface of the opening 12 . The stopper insertion groove 15 is inserted so that the gas prevention stopper 40 provided in the lifting unit 20 is airtightly maintained when the valve is closed.

승강부(20)는 밸브 본체(10)의 내부에서 승강 동작되어 개구부(12)를 개방 또는 폐쇄할 수 있도록 마련되며, 지지판(22)과, 밀폐판(24)과, 그리고 배면판(28)을 포함한다.The lifting unit 20 is provided to open or close the opening 12 by lifting and lowering inside the valve body 10 , and includes a support plate 22 , a sealing plate 24 , and a rear plate 28 . includes

지지판(22)은 구동부(30)와 연결되어 수용부(12)의 수용공간(13)에 설치된다. 지지판(22)의 일측과 타측의 상,하부 표면에는 볼(23)이 회전 가능하게 설치된다.The support plate 22 is connected to the driving unit 30 and installed in the receiving space 13 of the receiving unit 12 . The ball 23 is rotatably installed on the upper and lower surfaces of one side and the other side of the support plate 22 .

밀폐판(24)은 지지판(22)의 일측에 설치되고 볼(23)과 대응되는 위치에 브이자(V) 형상의 걸림홈(24A)이 형성된다. 또한, 밀폐판(24)은 표면에 개구부(14)를 밀폐하는 오링(25)이 설치되고, 오링(24)은 밀폐판(24)에 형성되는 오링홈(26)에 이탈방지되게 수용되는 구조를 갖는다.The sealing plate 24 is installed on one side of the support plate 22 and a V-shaped locking groove 24A is formed at a position corresponding to the ball 23 . In addition, the sealing plate 24 is provided with an O-ring 25 for sealing the opening 14 on the surface, and the O-ring 24 is accommodated in an O-ring groove 26 formed in the sealing plate 24 to prevent separation. has

배면판(28)은 지지판(22)의 타측에 설치되고 볼(23)과 대응되는 위치에 브이자(V) 형상의 걸림홈(28A)이 형성된다.The back plate 28 is installed on the other side of the support plate 22 and a V-shaped locking groove 28A is formed at a position corresponding to the ball 23 .

이와 같은 승강부(20)는 구동부(30)에 의해 승강 동작되는 과정에서 볼(23)이 걸림홈(24A, 28A)의 최상부 또는 최하부에 걸림되는 경우, 밀폐판(24)과 배면판(28)이 지지판(22)의 외측 방향으로 벌어지도록 이동되어 수용부(12)의 내벽 또는 개구부(14)의 내벽에 밀착되고, 볼(23)이 걸림홈(24A, 28A)의 중간부에 걸림되는 경우, 밀폐판(24)과 배면판(28)이 지지판(22)과 접촉되도록 이동되어 승강부(20)의 승강 동작이 가능할 수 있는 구조로 된 것이다.When the ball 23 is caught in the uppermost or lowermost portion of the engaging grooves 24A and 28A in the process of the lifting operation by the driving unit 30, the lifting unit 20 has a sealing plate 24 and a rear plate 28 ) is moved so as to spread outward of the support plate 22 and is in close contact with the inner wall of the receiving portion 12 or the inner wall of the opening 14, and the ball 23 is caught in the middle of the engaging grooves 24A and 28A. In this case, the sealing plate 24 and the rear plate 28 are moved to be in contact with the support plate 22 so that the lifting operation of the lifting unit 20 is possible.

여기서 밀폐판(24)이 수용부(12)의 내벽에 밀착되는 경우, 오링(25)은 오링홈(26) 내로 완전히 수용되어 가스와의 접촉이 차단될 수 있게 된다.Here, when the sealing plate 24 is in close contact with the inner wall of the accommodating part 12 , the O-ring 25 is completely accommodated in the O-ring groove 26 so that contact with the gas can be blocked.

구동부(30)는 승강부(20)를 승강 동작시킬 수 있도록 밸브 본체(10)의 상부에 설치되어 승강부(20)의 지지판(22)과 링크(32)로 연결된다. 이때, 구동부(30)는 공기압 또는 유압에 의해 동작되는 실린더로 구성될 수 있다.The driving unit 30 is installed on the upper portion of the valve body 10 to lift and lower the lifting unit 20 and is connected to the support plate 22 of the lifting unit 20 and the link 32 . In this case, the driving unit 30 may be configured as a cylinder operated by pneumatic or hydraulic pressure.

이러한 구동부(30)는 밸브의 외부로부터 공급되는 공기압 또는 유압에 의해 동작되며, 이에 따라 승강부(20)는 밸브 본체(10) 내에서 개구부(14)를 개방 또는 폐쇄할 수 있도록 승강 동작되게 된다.The driving unit 30 is operated by air pressure or hydraulic pressure supplied from the outside of the valve, and accordingly, the lifting unit 20 is lifted to open or close the opening 14 in the valve body 10 . .

도 4를 참조하면, 승강부(20)는 지지판(22)의 하부에 가스 방지 스토퍼(40)가 더 설치된다. 가스 방지 스토퍼(40)는 개구부(14)의 개방 시 수용부(12) 내로 가스의 유입을 차단하는 역할을 담담한다.Referring to FIG. 4 , in the lifting unit 20 , a gas prevention stopper 40 is further installed under the support plate 22 . The gas prevention stopper 40 serves to block the inflow of gas into the accommodating part 12 when the opening 14 is opened.

도 5 및 도 6을 참조하면, 가스 방지 스토퍼(40)는 수용부(12)의 개구된 하부를 완전히 밀폐할 수 있도록 형성된다. 이를 위해서, 가스 방지 스토퍼(40)의 하면은 수용부(12)의 개구된 하부와 대응되도록 일정한 표면적을 갖도록 형성된다. 이에 따라, 가스 방지 스토퍼(40)는 개구부(14)의 개방을 위해 수용부(12) 내로 수용되는 경우, 하면의 넓은 표면적에 의해 수용부(12)의 개구된 하부를 완전히 밀폐할 수 있게 됨으로써 반도체 공정 중에 사용되는 가스가 수용부(12) 내로 유입되는 것을 차단할 수 있게 된다.5 and 6, the gas prevention stopper 40 is formed to completely seal the opened lower portion of the receiving portion (12). To this end, the lower surface of the gas prevention stopper 40 is formed to have a constant surface area to correspond to the opened lower portion of the accommodating part 12 . Accordingly, when the gas prevention stopper 40 is received into the accommodating part 12 for opening the opening 14, it is possible to completely seal the opened lower part of the accommodating part 12 by the large surface area of the lower surface thereof. It is possible to block the gas used during the semiconductor process from flowing into the accommodating part 12 .

이에 더하여, 가스 방지 스토퍼(40)의 하면은 개구부(14)의 패쇄 시 스토퍼 삽입홈(15)의 바닥면과 면접촉됨으로써 밸브의 폐쇄 시 발생되는 충격량을 감소시켜 소음을 현저히 줄일 수 있게 된다.In addition, the lower surface of the gas prevention stopper 40 is in surface contact with the bottom surface of the stopper insertion groove 15 when the opening 14 is closed, thereby reducing the amount of impact generated when the valve is closed, thereby significantly reducing noise.

즉, 가스 방지 스토퍼(40)의 하면은 넓은 표면적을 갖도록 형성되어 스토퍼 삽입홈(15)의 바닥면과 면접촉되는데, 이러한 가스 방지 스토퍼(40)와 스토퍼 삽입홈(15) 간의 면접촉 구조에 의해 승강부(20)의 하강 시 발생되는 충격량이 감소됨으로써 소음을 현저히 줄일 수 있게 되는 것이다.That is, the lower surface of the gas prevention stopper 40 is formed to have a large surface area and is in surface contact with the bottom surface of the stopper insertion groove 15. In the surface contact structure between the gas prevention stopper 40 and the stopper insertion groove 15, As a result, the amount of impact generated during the lowering of the elevating unit 20 is reduced, thereby remarkably reducing noise.

도 1, 도 4 및 도 6을 참조하면, 본 발명에 따른 게이트 밸브는 밸브 본체(10)에 설치되는 바이패스 밸브(50)를 더 포함한다. 이러한 바이패스 밸브(50)는 챔버 내의 진공 시 펌프의 부하를 방지하는 역할을 담당한다.1, 4 and 6 , the gate valve according to the present invention further includes a bypass valve 50 installed in the valve body 10 . The bypass valve 50 serves to prevent the load of the pump during vacuum in the chamber.

이를 위해서, 바이패스 밸브(50)는 밸브 본체(10)의 수용부(12)와 개구부(14) 사이에 바이패스 통로(51A)를 형성하도록 설치되는 바이패스 밸브 본체(51)와, 바이패스 통로(51A)를 개폐하도록 바이패스 밸브 본체(51)에 상하 이동 가능하게 설치되는 개폐모듈(52)과, 개폐모듈(52)의 상하 이동을 안내하도록 바이패스 밸브 본체(51)에 설치되는 안내모듈(53)과, 개폐모듈(52)과 안내모듈(53)을 완전히 감싸서 밀폐시키도록 설치되고 둘레 표면에 개폐모듈(52)과 안내모듈(53) 사이로 공기를 강제 주입할 수 있는 공기주입구(54A)가 형성되는 캡모듈(54)과, 개폐모듈(52)과 캡모듈(54) 사이에 설치되고 개폐모듈(52)이 바이패스 통로(51A)를 항상 폐쇄하도록 일정한 탄성을 제공하는 탄성모듈(55)로 구성된다.To this end, the bypass valve 50 includes a bypass valve body 51 that is installed to form a bypass passage 51A between the receiving portion 12 and the opening 14 of the valve body 10, and the bypass The opening/closing module 52 movably installed in the bypass valve body 51 to open and close the passage 51A, and a guide installed in the bypass valve body 51 to guide the vertical movement of the opening/closing module 52 An air inlet ( The cap module 54 in which 54A is formed, and an elastic module installed between the opening and closing module 52 and the cap module 54 and providing constant elasticity so that the opening and closing module 52 always closes the bypass passage 51A It consists of (55).

이러한 바이패스 밸브(51)는 개구부(14)의 폐쇄 상태에서 공기주입구(54A)를 통해 개폐모듈(52)과 안내모듈(53) 사이로 공기를 강제 주입 시 개폐모듈(52)이 일정 높이로 상승되어 바이패스 통로(51A)를 개방함으로써 챔버의 진공 상태를 유지시키는 펌프의 부하를 방지할 수 있게 되는 것이다.When the bypass valve 51 forcibly injects air between the opening/closing module 52 and the guide module 53 through the air inlet 54A in the closed state of the opening 14, the opening/closing module 52 rises to a certain height. Thus, by opening the bypass passage 51A, it is possible to prevent the load of the pump maintaining the vacuum state of the chamber.

이와는 달리, 바이패스 밸브(50)는 개구부(14)의 개방 상태에서 개폐모듈(52)이 탄성모듈(55)의 탄성력에 의해 바이패스 통로(51A)를 폐쇄함으로써 반도체 공정 중에 사용되는 가스가 바이패스 통로(51A)를 통해 밸브 본체(10) 내로 유입되는 것을 차단할 수 있게 되는 것이다.On the contrary, the bypass valve 50 closes the bypass passage 51A by the elastic force of the elastic module 55 in the opening state of the opening 14 in the open state, thereby bypassing the gas used in the semiconductor process. It is possible to block the inflow into the valve body 10 through the pass passage (51A).

이하, 도 8 내지 도 10을 참조하여 본 발명에 따른 게이트 밸브의 작동상태를 설명한다.Hereinafter, an operating state of the gate valve according to the present invention will be described with reference to FIGS. 8 to 10 .

도 8을 참조하면, 개구부(14)의 개방 시 승강부(20)는 구동부(30)에 의해 상승되어 밸브 본체(10)의 수용부(12) 내로 수용된다. 이때, 지지판(22)에 설치된 볼(23)은 걸림홈(24A, 28A)의 최상부에 위치되며, 이에 따라 밀폐판(24)과 배면판(28)은 볼(23)에 의해 지지판(22)의 외측 방향으로 벌어지도록 이동되어 수용부(12)의 내벽에 밀착되게 되고, 가스 방지 스토퍼(40)는 수용부(12)의 개구된 입구를 폐쇄하게 된다.Referring to FIG. 8 , when the opening 14 is opened, the lifting unit 20 is raised by the driving unit 30 and accommodated in the receiving unit 12 of the valve body 10 . At this time, the ball 23 installed on the support plate 22 is located at the top of the locking grooves 24A and 28A, and accordingly, the sealing plate 24 and the back plate 28 are connected to the support plate 22 by the ball 23 is moved so as to be spread outwardly to be in close contact with the inner wall of the accommodating part 12 , and the gas prevention stopper 40 closes the opened inlet of the accommodating part 12 .

상기와 같은 밸브의 개방 시 반도체 공정 중 개구부(14)를 통과하는 가스는 가스 방지 스토퍼(40)에 의해 수용부(12) 내로 유입되는 것이 차단되게 되고, 일부 가스가 수용부(12)의 내벽과 가스 방지 스토퍼(40) 사이의 틈을 통해 수용부(12) 내로 유입되더라도 오링(25)은 밀폐판(24)과 수용부(12) 내벽과의 밀착구조에 의해 오링홈(26) 내로 완전히 수용되어 가스와의 접촉이 차단됨으로써 가스에 의한 오링(25)이 부식이 방지될 수 있게 되는 것이다.When the valve is opened as described above, the gas passing through the opening 14 during the semiconductor process is blocked from flowing into the accommodating part 12 by the gas prevention stopper 40 , and some gas is introduced into the inner wall of the accommodating part 12 . Even if it flows into the accommodating part 12 through the gap between the gas prevention stopper 40 and the O-ring 25, the O-ring 25 is completely inside the O-ring groove 26 by the close contact structure between the sealing plate 24 and the accommodating part 12 inner wall. As it is accommodated and the contact with the gas is blocked, the corrosion of the O-ring 25 by the gas can be prevented.

도 9를 참조하면, 밸브의 개방 상태에서 승강부(20)가 구동부(30)에 의해 하강되는 경우, 지지판(22)에 설치된 볼(23)은 걸림홈(24A, 28A)의 중간부에 위치되며, 이에 따라 밀폐판(24)과 배면판(28)은 지지판(22)과 접촉되도록 이동되게 된다. 이에 따라 승강부(20)는 수용부(12) 내벽과의 간섭없이 원활하게 하강될 수 있게 되는 것이다.9, when the lifting unit 20 is lowered by the driving unit 30 in the open state of the valve, the ball 23 installed on the support plate 22 is located in the middle of the engaging grooves 24A and 28A. Accordingly, the sealing plate 24 and the rear plate 28 are moved to be in contact with the support plate 22 . Accordingly, the lifting unit 20 can be smoothly lowered without interference with the inner wall of the receiving unit 12 .

도 10을 참조하면, 개구부(14)의 폐쇄 시 승강부(20)는 구동부(30)에 의해 하강되고 가스 방지 스토퍼(40)는 스토퍼 삽입홈(15) 내로 삽입된다. 이때, 지지판(22)에 설치된 볼(23)은 걸림홈(24A, 28A)의 최하부에 위치되며, 이에 따라 밀폐판(24)과 배면판(28)은 볼(23)에 의해 지지판(22)의 외측 방향으로 벌어지도록 이동되고 밀폐판(24)은 오링(25)을 매개로 개구부(14)의 내벽에 기밀 유지되도록 밀착됨으로써 개구부(14)를 폐쇄할 수 있게 되는 것이다.Referring to FIG. 10 , when the opening 14 is closed, the lifting unit 20 is lowered by the driving unit 30 and the gas prevention stopper 40 is inserted into the stopper insertion groove 15 . At this time, the ball 23 installed on the support plate 22 is located at the lowermost part of the locking grooves 24A and 28A, and accordingly, the sealing plate 24 and the back plate 28 are connected to the support plate 22 by the ball 23. is moved so as to spread outwardly and the sealing plate 24 is in close contact with the inner wall of the opening 14 through the O-ring 25 to be kept airtight, thereby closing the opening 14.

상기와 같은 밸브의 폐쇄 시 가스 방지 스토퍼(40)의 하면은 넓은 표면적에 의해 스토퍼 삽입홈(15)의 바닥면과 면접촉됨으로써 승강부(20)의 하강 시 발생되는 충격량이 감소되어 소음을 현저히 줄일 수 있게 되는 것이다.When the valve is closed as described above, the lower surface of the gas prevention stopper 40 is in surface contact with the bottom surface of the stopper insertion groove 15 due to a large surface area, so that the amount of impact generated when the lifting unit 20 is lowered is reduced and the noise is significantly reduced will be able to reduce

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 게이트 밸브는, 밸브의 개방 시 반도체 공정에 사용되는 가스가 밸브 본체(10) 내로 유입되지 않도록 가스 방지 스토퍼(40)에 의한 차단 및 오링(25)과 가스의 접촉 차단 구조를 제공하여, 가스에 의한 오링(25)의 부식을 방지함으로써 오링(25)의 기밀성을 향상시키고 수명 연장에 기여할 수 있다.As described above, in the gate valve according to the present invention, when the valve is opened, the gas used in the semiconductor process is blocked by the gas prevention stopper 40 so that the gas used for the semiconductor process does not flow into the valve body 10, and the O-ring 25 and the gas By providing a contact blocking structure, corrosion of the O-ring 25 by gas is prevented, thereby improving the airtightness of the O-ring 25 and contributing to a life extension.

또한, 본 발명에 따른 게이트 밸브, 밸브의 폐쇄 시 가스 방지 스토퍼(40)의 하면과 스토퍼 삽입홈(15)의 바닥면이 면접촉되도록 함으로써 승강부(20)의 하강 시 발생되는 충격량을 감소시켜 소음 발생을 현저히 줄일 수 있다.In addition, when the gate valve according to the present invention is closed, the lower surface of the gas prevention stopper 40 and the bottom surface of the stopper insertion groove 15 are in surface contact to reduce the amount of impact generated when the lifting unit 20 descends. Noise generation can be significantly reduced.

앞에서, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 일이다. 따라서, 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 기술적 사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 되며, 변형된 실시예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.In the foregoing, specific embodiments of the present invention have been described and illustrated, but it is common knowledge in the art that the present invention is not limited to the described embodiments, and that various modifications and variations can be made without departing from the spirit and scope of the present invention. It is self-evident to those who have Accordingly, such modifications or variations should not be individually understood from the spirit or point of view of the present invention, and modified embodiments should be said to belong to the claims of the present invention.

10: 밸브 본체
12: 수용부
14: 개구부
15: 스토퍼 삽입홈
20: 승강부
22: 지지판
23: 볼
24: 밀폐판
25: 오링
26: 오링홈
28: 배면판
30: 구동부
40: 가스 방지 스토퍼
50: 바이패스 밸브
10: valve body
12: receptacle
14: opening
15: stopper insertion groove
20: elevator
22: support plate
23: ball
24: sealing plate
25: O-ring
26: O-ring home
28: back plate
30: drive unit
40: gas prevention stopper
50: bypass valve

Claims (5)

수용부의 하부에 챔버와 펌프 사이의 통로를 형성하도록 개구부가 마련되는 밸브 본체;
상기 밸브 본체의 수용부에 설치되는 지지판과, 상기 지지판의 일측에 설치되고 표면에 개구부를 밀폐하는 오링이 구비되는 밀폐판와, 상기 지지판의 타측에 설치되는 배면판으로 구성되고, 상기 개구부를 개폐하기 위해 승강되도록 마련되는 승강부; 및
상기 밸브 본체의 상부에 지지판과 연결되도록 설치되고, 상기 개구부의 개폐를 위해 승강부를 승강 동작시키도록 마련되는 구동부;를 포함하며,
상기 승강부는,
상기 수용부의 개구부로부터 상하방향으로 이동하며, 상기 개구부의 개방 시 상기 수용부 내로 가스의 유입을 차단할 수 있도록 지지판의 하부에 가스 방지 스토퍼가 설치되고,
상기 밸브 본체에 설치되는 바이패스 밸브를 포함하고, 상기 바이패스 밸브는 밸브 본체의 수용부와 개구부 사이에 바이패스 통로를 형성하도록 설치되는 바이패스 밸브 본체와, 상기 바이패스 통로를 개폐하도록 바이패스 밸브 본체에 상하 이동 가능하게 설치되는 개폐모듈과, 상기 개폐모듈의 상하 이동을 안내하도록 바이패스 밸브 본체에 설치되는 안내모듈과, 상기 개폐모듈과 안내모듈을 완전히 감싸서 밀폐시키도록 설치되고 둘레 표면에 개폐모듈과 안내모듈 사이로 공기를 강제 주입할 수 있는 공기주입구가 형성되는 캡모듈과, 상기 개폐모듈과 캡모듈 사이에 설치되고 개폐모듈이 바이패스 통로를 항상 폐쇄하도록 일정한 탄성을 제공하는 탄성모듈을 포함하되,
상기 승강부의 동작에 따라 개구부의 개방 상태에서 상기 가스 방지 스토퍼가 개구부를 밀폐함과 아울러 상기 탄성모듈에 의해 개폐모듈이 바이패스 통로를 폐쇄하여 반도체 공정 중에 사용되는 가스가 개구부 및 바이패스 통로를 통해 밸브 본체 내로 유입되는 것을 차단하는 것을 특징으로 하는 가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브.
a valve body in which an opening is provided at a lower portion of the accommodating portion to form a passage between the chamber and the pump;
It consists of a support plate installed in the receiving part of the valve body, a sealing plate installed on one side of the support plate and having an O-ring sealing the opening on the surface, and a back plate installed on the other side of the support plate, to open and close the opening Elevating unit provided to elevate for; and
a driving unit installed to be connected to the support plate on the upper portion of the valve body and provided to lift and lower the lifting unit to open and close the opening;
The lifting unit,
A gas prevention stopper is installed at the bottom of the support plate to move up and down from the opening of the accommodating part, and to block the inflow of gas into the accommodating part when the opening is opened,
a bypass valve installed on the valve body, wherein the bypass valve includes a bypass valve body installed to form a bypass passage between an accommodating portion of the valve body and an opening, and a bypass valve to open and close the bypass passage An opening/closing module installed to be movable up and down in the valve body, a guide module installed in the bypass valve body to guide the up-and-down movement of the opening/closing module, and installed to completely enclose and seal the opening/closing module and the guide module on the peripheral surface A cap module having an air inlet capable of forcibly injecting air between the opening/closing module and the guide module, and an elastic module installed between the opening/closing module and the cap module and providing constant elasticity so that the opening/closing module always closes the bypass passage. including,
In the open state of the opening according to the operation of the lifting unit, the gas prevention stopper closes the opening, and the opening/closing module closes the bypass passage by the elastic module, so that the gas used in the semiconductor process passes through the opening and the bypass passage. A gate valve with a built-in gas prevention stopper, characterized in that it blocks the inflow into the valve body.
제1항에 있어서,
상기 가스 방지 스토퍼는 수용부의 개구된 하부를 완전히 밀폐할 수 있도록 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브.
According to claim 1,
The gas prevention stopper is a gate valve with a built-in gas prevention stopper, characterized in that formed so as to completely seal the opened lower portion of the accommodating portion.
제1항에 있어서,
상기 밸브 본체는 개구부의 바닥면에 스토퍼 삽입홈이 형성되고, 상기 가스 방지 스토퍼의 하면은 개구부의 패쇄 시 스토퍼 삽입홈의 바닥면과 면접촉되는 것을 특징으로 하는 가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브.
According to claim 1,
The valve body has a stopper insertion groove formed on the bottom surface of the opening, and the lower surface of the gas prevention stopper is in surface contact with the bottom surface of the stopper insertion groove when the opening is closed.
제1항에 있어서,
상기 지지판의 일측과 타측의 상,하부 표면에는 볼이 회전 가능하게 설치되고, 상기 볼과 대응되는 밀폐판과 배면판의 표면에는 브이자(V) 형상의 걸림홈이 형성되며, 상기 밀폐판과 배면판은 볼이 걸림홈의 최상부 또는 최하부에 걸림되는 경우, 지지판의 외측 방향으로 벌어지도록 이동되어 수용부의 내벽 또는 개구부의 내벽에 밀착되고, 상기 볼이 걸림홈의 중간부에 걸림되는 경우, 지지판과 접촉되도록 이동되어 승강부의 승강 동작이 가능하도록 하는 것을 특징으로 하는 가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브.
According to claim 1,
A ball is rotatably installed on the upper and lower surfaces of one side and the other side of the support plate, and a V-shaped locking groove is formed on the surface of the sealing plate and the back plate corresponding to the ball, the sealing plate and When the ball is caught in the uppermost or lowermost part of the locking groove, the back plate is moved to open outward of the support plate and is in close contact with the inner wall of the receiving part or the inner wall of the opening, and when the ball is caught in the middle of the locking groove, the support plate A gate valve with a built-in gas prevention stopper, characterized in that it is moved to contact with and enables the lifting operation of the lifting unit.
제4항에 있어서,
상기 밀폐판은 표면에 오링을 수용할 수 있는 오링홈이 형성되고, 상기 밀폐판이 수용부의 내벽에 밀착되는 경우, 오링은 오링홈 내로 완전히 수용되어 가스와의 접촉이 차단되는 것을 특징으로 하는 가스 방지 스토퍼가 내장된 게이트 밸브.
5. The method of claim 4,
Gas prevention, characterized in that the O-ring groove for accommodating the O-ring is formed on the surface of the sealing plate, and when the sealing plate is in close contact with the inner wall of the receiving part, the O-ring is completely accommodated in the O-ring groove to block contact with the gas. Gate valve with built-in stopper.
KR1020210092712A 2021-07-15 2021-07-15 Gate valve with gas prevention stopper KR102361863B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210092712A KR102361863B1 (en) 2021-07-15 2021-07-15 Gate valve with gas prevention stopper

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020210092712A KR102361863B1 (en) 2021-07-15 2021-07-15 Gate valve with gas prevention stopper

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102361863B1 true KR102361863B1 (en) 2022-02-14

Family

ID=80254073

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020210092712A KR102361863B1 (en) 2021-07-15 2021-07-15 Gate valve with gas prevention stopper

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102361863B1 (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101456902B1 (en) 2006-09-06 2014-10-31 재팬 디스프레이 웨스트 인코포레이트 Liquid crystal display apparatus and electronic apparatus
KR102219281B1 (en) * 2019-05-23 2021-02-22 한정렬 Double Prevention Gate Valve

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101456902B1 (en) 2006-09-06 2014-10-31 재팬 디스프레이 웨스트 인코포레이트 Liquid crystal display apparatus and electronic apparatus
KR102219281B1 (en) * 2019-05-23 2021-02-22 한정렬 Double Prevention Gate Valve

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100954212B1 (en) Vacuum gate valve
KR20110101083A (en) Gas injection apparatus, gas discharge apparatus, gas injection method and gas discharge method
KR102361863B1 (en) Gate valve with gas prevention stopper
KR20200130075A (en) Gate valve
KR101071955B1 (en) A gate valve
KR20100110484A (en) A gate valve
KR20120019707A (en) A gate valve
KR101071244B1 (en) Pull-push assay
KR20160038948A (en) Gate valve for processing substrate
KR100809640B1 (en) Knife gate valve
KR20220148661A (en) Gate valve for semiconductor and flat panel display apparatus
KR100979688B1 (en) A gate valve
KR20060108317A (en) Semiconductor manufacturing apparatus equpped with air cylinder having cover for pollution control
KR101600876B1 (en) Slit Valve
KR102168884B1 (en) Slow pump of gate valve
KR101562190B1 (en) Lift fin driving apparatus
KR101216604B1 (en) Gate Valve
KR101587130B1 (en) Isolation valve and method for controlling thereof
KR20160062626A (en) Process chamber having dual exhaust and substrate manufacturing apparatus and substrate manufacturing method
KR102574233B1 (en) U Motion gate valve
KR20180012505A (en) Fluid valve and vacuume chamber having the same
KR102637091B1 (en) Pendulum control valve
KR20200120246A (en) Gate Valve
KR100933885B1 (en) A gate-valve operating device
KR20110127992A (en) Gate valve

Legal Events

Date Code Title Description
AMND Amendment
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant