KR102361841B1 - 멤브레인 필터 - Google Patents
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Abstract
[과제] 대형화가 용이하고 필터로서 사용하기 위해서 충분한 강도를 구비하는, 나노 미터 오더의 두께를 가지는 박막을 베이스로 하는 멤브레인 필터를 제공하는 것.
[해결 수단] 멤브레인 필터를 막 두께 1~1000nm의 박막과, 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는 막 두께 1~1000㎛의 다공막인 지지막이 적층된 구성으로 한다.
[해결 수단] 멤브레인 필터를 막 두께 1~1000nm의 박막과, 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는 막 두께 1~1000㎛의 다공막인 지지막이 적층된 구성으로 한다.
Description
본 발명은 나노 미터 오더인 막 두께의 박막과, 마이크로 미터 오더인 막 두께의 다공막인 지지체가 적층된 멤브레인 필터에 관한 것이다.
최근 표면적이 크고, 나노 미터 오더의 두께를 가지는 자립(自立)성 박막이 선택 투과막, 마이크로 센서, 약물 송달용의 필름 등으로서 이용할 수 있다고 하여 주목받고 있다. 그 때문에, 자립성 박막의 제조 방법이 여러 가지 검토되고 있고, 수면(水面) 캐스팅법, 실란 커플링제를 이용한 계면반응법 등이 알려져 있다. 그러나, 이들 방법에 의해 얻어지는 박막은 통상 기계적인 강도가 부족한 점, 박막의 대면적(大面積)화가 곤란한 점, 얻어지는 박막의 정밀도에도 한계가 있는 점 등의 문제가 있다.
자립성 박막의 제조 방법의 구체예로서는, 특허문헌 1에는 두께를 100nm 이하로서 자기(自己) 지지성을 가지는 폴리머 박막 및 상기 폴리머 박막을 제조하는 제조 방법이 개시되어 있다. 보다 상세하게는 지지체의 표면에 희생층을 마련하고 상기 희생층의 표면에서 조성물 중의 중합성 화합물을 연쇄 중합시킨 후, 희생층을 제거함으로써 지지체와 중합시킨 조성물을 분리시켜 폴리머 박막을 제조한다.
분명히, 특허문헌 1에 기재된 방법으로 제조되는 박막은 100nm 이하의 극도로 얇은 막으로서 자립성을 갖는다. 그러나, 이러한 박막은 자립성을 가지고 있어도, 막 두께가 나노 미터 오더의 극박막이기 때문에 강도적으로 매우 무르고, 단독으로 여러 가지 용도에 이용하는 것은 곤란하다.
이 때문에, 특허문헌 1에 기재된 방법으로 제조되는 박막을 여러 가지 용도에 적용하는 경우, 얼마간의 지지막과 박막을 일체화시키고, 박막의 강도 부족을 보충할 필요가 있다. 그러나, 이러한 지지막에는 박막을 결함 없이 지지하고, 박막이 가지는 선택 투과성 등의 기능을 해치지 않는 것도 요구되는 바, 어떤 지지막이면 박막의 성능을 해치는 일 없이 박막을 양호하게 보강할 수 있고, 또한 대면적인 박막과 지지막의 적층체를 용이하게 형성할 수 있는지, 충분한 검토는 이루어지지 않았다.
본 발명은 상기의 과제를 감안하여 이루어진 것으로서, 대형화가 용이하고 필터로서 사용하기 위해서 충분한 강도를 구비하는, 나노 미터 오더의 두께를 가지는 박막을 베이스로 하는 멤브레인 필터를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 멤브레인 필터를 막 두께 1~1000nm의 박막과, 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부(孔部)를 가지는 막 두께 1~1000㎛의 다공막인 지지막이 적층된 구성으로 함으로써, 상기의 과제가 해결되는 것을 알아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
본 발명은 박막과 박막을 지지하는 지지막이 적층된 멤브레인 필터로서,
박막의 막 두께는 1~1000nm이며,
지지막이 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는 막 두께 1~1000㎛의 다공막인 멤브레인 필터에 관한 것이다.
본 발명에 의하면, 대형화가 용이하고 필터로서 사용하기 위해 충분한 강도를 구비하는 나노 미터 오더의 두께를 가지는 박막을 베이스로 하는 멤브레인 필터를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 멤브레인 필터의 제조 방법 중 제1 방법을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 멤브레인 필터의 제조 방법 중 제2 방법을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 멤브레인 필터의 제조 방법 중 제3 방법을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 멤브레인 필터의 제조 방법 중 제1 방법의 변형예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 멤브레인 필터의 제조 방법 중 제2 방법을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 본 발명의 멤브레인 필터의 제조 방법 중 제3 방법을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 멤브레인 필터의 제조 방법 중 제1 방법의 변형예를 모식적으로 나타내는 도면이다.
《멤브레인 필터》
본 발명에 관한 멤브레인 필터는 박막과, 상기 박막을 지지하는 지지막이 적층된 멤브레인 필터이다. 박막의 막 두께는 1~1000nm이다. 지지막은 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는 막 두께 1~1000㎛의 다공막이다. 이하, 박막 및 지지막에 대해서, 두께 방향으로 관통하는 공부를 관통공(貫通孔)이라고도 적는다.
박막 및 지지막은 수지 용액이나 액상의 감광성 조성물의 도포에 의해서 용이하게 형성 가능하기 때문에, 본 발명에 관한 멤브레인 필터는 대면적화가 용이하다. 이하, 박막 및 지지막에 대해 순서대로 설명한다.
<박막>
박막의 막 두께는 1~1000nm이다. 박막의 강도와 멤브레인 필터의 양호한 투과성을 양립하기 쉬운 점에서, 박막의 두께는 5~1000nm가 바람직하다. 박막은 매우 얇기 때문에, 관통공이나 공공(空孔)을 갖지 않는 경우에서도, 기체나 액체를 구성하는 여러 가지 분자를 박막을 구성하는 재료의 분자간에 형성되는 공극의 사이즈에 따라 투과시킨다.
박막에는 필요에 따라 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부가 형성되어 있어도 된다. 이 경우, 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 전술한 공부를 가지는 박막을 형성하는 것이 바람직하다. 박막 중에 복수의 관통공을 형성함으로써, 관통공을 구비하지 않는 박막을 투과할 수 없는 어느 정도 큰 사이즈인 물질의 멤브레인 필터의 투과가 가능하다. 박막이 관통공을 가지는 경우, 예를 들면 관통공의 사이즈보다 큰 입자를 포함하는 액체를 멤브레인 필터를 이용하여 입자와 액체로 효율적으로 분리할 수 있다.
또, 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 공부를 가지는 박막을 형성하는 경우, 개구 지름이 정밀하게 컨트롤 된 공부를 가지는 박막을 형성 가능하고, 이것에 의해 멤브레인 필터를 이용해 정밀한 여과를 실시할 수 있다.
박막을 형성하기 위한 재료는 특별히 한정되지 않고, 유기 재료여도 무기 재료여도 된다. 가공성이나 가요성이 뛰어난 점에서, 전형적으로는 고분자 재료인 것이 바람직하다. 예를 들면, 여러 가지 수지의 용액이나, 열경화성 조성물이나, 감광성 조성물을 들 수 있다. 감광성 조성물로서는 노광부가 현상액에 대해서 가용화하는 포지티브형 감광성 조성물과, 노광부가 현상액에 대해서 불용화하는 네거티브형 감광성 조성물이 있다. 양자 모두 박막의 형성에 이용할 수 있다.
박막을 형성하기 위한 재료로서는 강도가 뛰어난 박막을 형성할 수 있는 점에서, 가열에 의해 경화하는 열경화성 조성물, 및 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물이 바람직하다. 이들 경화성 조성물 중에서는 단시간에 박막을 형성할 수 있는 점에서 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물이 바람직하다.
열경화성 조성물의 조성은 원하는 막 두께의 박막을 형성할 수 있으면 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 열경화성 조성물로서는, 예를 들면 에폭시 화합물과 에폭시 화합물을 열경화시키는 경화제를 포함하는 액상의 조성물 등을 들 수 있다. 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물의 바람직한 예로서는 에폭시 화합물과, 감광성의 경화제를 포함하는 조성물이나, 알칼리 가용성 수지와 불포화 이중 결합을 가지는 광중합성 화합물과, 광중합 개시제를 포함하는 조성물 등을 들 수 있다.
박막이 복수의 관통공을 가지는 경우, 관통공의 양단에 상당하는 박막 표면의 개구부 형상은 특별히 한정되지 않는다. 상기 개구부 형상의 예로서는 삼각형(예를 들면, 정삼각형), 사각형(예를 들면, 정사각형), 및 육각형(예를 들면, 정육각형)과 같은 다각형이나, 원형, 타원형 등을 들 수 있다. 상기 개구부 형상으로서는 소망하는 사이즈의 물질의 투과를 저해하기 어려운 점과, 소망하는 사이즈보다도 큰 물질의 투과를 저지하기 쉬운 점에서, 원형이 바람직하다. 또한 상기의 정삼각형, 정사각형, 정육각형, 원형 및 타원형 등의 형상은 육안으로 이들 형상으로 인식할 수 있는 형상이면 되고, 기하학적으로 정의되는 이들 형상으로 한정되지 않는다.
관통공 개구부의 평균 지름은 특별히 한정되지 않고, 분리 대상물의 사이즈에 따라 적절히 결정된다. 전형적으로는 개구부의 평균 지름은 1nm~100㎛가 바람직하고, 5nm~50㎛가 보다 바람직하며, 10nm~20㎛가 특히 바람직하다. 또한 개구부의 평균 지름은 개구부의 면적에 근거해 산출되는 원 상당 지름이다.
또한 박막에는 상이한 2종 이상의 형상의 개구부를 가지는 관통공이 형성되어도 되고, 상이한 2 이상의 사이즈의 개구부를 가지는 관통공이 형성되어도 된다.
<지지막>
지지막은 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성된다. 지지막은 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는 막 두께 1~1000㎛의 다공막이다. 지지막의 강도와 멤브레인 필터의 양호한 투과성을 양립하기 쉬운 점에서, 지지막의 두께는 5~1000㎛가 바람직하다.
지지막은 박막과 비교해 두껍고, 또한 다수의 관통공을 갖는다. 이 때문에, 박막과 지지막이 적층된 멤브레인 필터는 멤브레인 필터에 공급되는 기체 또는 액체를 양호하게 투과시키면서, 멤브레인 필터의 핸들링시에 가해지는 힘이나, 기체 또는 액체를 투과시킬 때에 멤브레인 필터에 걸리는 압력에 의해 파손하기 어렵다.
지지막을 형성하기 위한 감광성 조성물로서는 노광부가 현상액에 대해서 가용화하는 포지티브형 감광성 조성물과, 노광부가 현상액에 대해서 불용화하는 네거티브형 감광성 조성물 모두 이용할 수 있다. 지지막을 형성하기 위한 재료로서는 강도가 뛰어난 지지막을 형성할 수 있는 점에서, 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물이 바람직하다. 네거티브형 감광성 조성물의 바람직한 예로서는 박막을 형성하기 위한 재료와 동일한 것을 들 수 있다.
지지막은 복수의 관통공을 갖는다. 관통공의 양단에 상당하는 지지막의 표면의 개구부 형상은 특별히 한정되지 않는다. 상기 개구부 형상의 예로서는 박막이 가지고 있어도 되는 관통공의 개구부 형상과 동일하다.
관통공 개구부의 평균 지름은 특별히 한정되지 않고, 분리 대상물의 사이즈, 박막의 강도 및 필터 전체의 사용 면적에 따라 적절히 결정된다.
또한 지지막에는 상이한 2종 이상의 형상의 개구부를 가지는 관통공이 형성되어도 되고, 상이한 2 이상의 사이즈의 개구부를 가지는 관통공이 형성되어도 된다.
《멤브레인 필터의 제조 방법》
멤브레인 필터의 제조 방법은 각각 소정의 구성을 구비하는 박막과 지지막을 적층할 수 있는 방법이면 특별히 한정되지 않는다. 이하, 멤브레인 필터의 바람직한 제조 방법에 대해서, 제1 방법, 제2 방법 및 제3 방법에 대해 설명한다.
<제1 방법>
본 발명에 관한 멤브레인 필터의 제조 방법 중, 박막(14)이 관통공을 갖지 않는 경우의 바람직한 방법으로서는 기판(10) 위에 박막(14)을 형성한 후에, 박막(14) 위에 감광성 조성물의 후막(厚膜)(이하, 감광성 조성물 후막(15)이라고도 적는다)을 형성하고, 형성된 감광성 조성물 후막(15)에 대해서 노광 및 현상을 실시해 지지막(19)을 형성하는 방법을 들 수 있다. 이 방법을 멤브레인 필터(21)의 바람직한 제조 방법 중 제1 방법이라고 칭한다.
박막(14)을 형성하기 위한 재료로서는 강도가 뛰어난 박막(14)을 형성할 수 있는 점에서, 가열에 의해 경화하는 열경화성 조성물, 및 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물이 바람직하다. 이들 경화성 조성물 중에서는 단시간에 박막(14)을 형성할 수 있는 점에서 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물이 바람직하다.
또, 박막(14) 위에 지지막(19)을 적층해 형성된 멤브레인 필터의 기판(10)으로부터의 박리가 용이한 점에서, 박막(14)은 액체에 용해하는 재료로 이루어지는 희생막(11)을 개재하여 기판(10) 위에 형성되는 것이 바람직하다.
이하, 제1 방법 중에서도 바람직한 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물을 이용하여 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 박막(14)을 형성하는 공정을 포함하는 방법에 대해서, 도 1을 참조하면서 설명한다.
우선, 도 1의 (a)에 나타낸 바와 같이, 기판(10) 위에 희생막(11)이 형성된다. 여기서 기판(10)의 재질은 감광성 조성물에 포함되는 유기용제나, 희생막(11)을 용해시키기 위한 액체에 젖거나 용해되거나 하지 않는 재질이면 특별히 한정되지 않는다. 기판(10)의 재질로서는 실리콘, 유리, PET 필름 등을 들 수 있다.
희생막(11)의 형성 방법은 특별히 한정되지 않고, 희생막 형성용의 도포액을 기판(10) 위에 도포하는 방법이 바람직하다. 액상의 희생막 형성용의 재료를 기판(10) 위에 도포하는 방법으로서는, 예를 들면 롤 코터, 리버스 코터, 바 코터 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(회전식 도포 장치), 커튼 플로우 코터 등의 비접촉형 도포 장치를 이용하는 방법을 들 수 있다. 도포 후에 형성된 도포막을 가열 등의 방법에 의해 건조시킴으로써 희생막(11)이 형성된다. 희생막(11)의 막 두께는 특별히 한정되지 않지만, 희생막(11)을 신속하게 용해시키는 관점에서, 0.1~100㎛가 바람직하고, 0.5~50㎛가 보다 바람직하다.
희생막(11)의 재료로서는 폴리비닐알코올 수지, 덱스트린, 젤라틴, 아교, 카제인, 셀락, 아라비아고무, 전분, 단백질, 폴리아크릴산아미드, 폴리아크릴산나트륨, 폴리비닐메틸에테르, 메틸비닐에테르와 무수말레산의 공중합체, 아세트산비닐과 이타콘산의 공중합체, 폴리비닐피롤리돈, 아세틸셀룰로오스, 히드록시에틸셀룰로오스 및 알긴산나트륨 등을 들 수 있다. 이들 재료는 동종의 액체에 가용인 복수 재료의 조합이어도 된다. 희생막(11)의 강도나 유연성의 관점에서, 희생막(11)의 재료는 만난, 크산탄 검 및 구아 검 등의 고무 성분을 포함하고 있어도 된다.
이상 설명한 희생막(11)의 재료를 희생막(11)이 가용인 액체에 용해시켜 희생막 형성용의 도포액이 조제된다. 희생막(11)을 용해시키는 액체는 박막(14)과 지지막(19)을 열화 또는 용해시키지 않는 액체이면 특별히 한정되지 않는다. 희생막(11)을 용해시키는 액체의 예로서는 물, 산성 또는 알칼리성 수용액, 유기용제 및 유기용제의 수용액을 들 수 있고, 이들 중에서는 물, 산성 또는 알칼리성 수용액 및 유기용제가 바람직하다.
희생막(11) 재료를 용해시키는 액체의 바람직한 예로서는 유기용매를 들 수 있다. 유기용매로서는 락톤류, 케톤류, 다가 알코올류, 환식 에테르류 및 에스테르류의 유기용매, 방향족계 유기용매, 알코올계 용매, 테르펜계 용매, 탄화수소계 용매, 석유계 용매 등을 들 수 있다. 이들 유기용매는 1종류만을 이용해도 되고, 복수 종류를 조합하여 이용해도 된다.
락톤류의 유기용매로서는 γ-부티로락톤 등을 들 수 있다. 케톤류의 유기용매로서는 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헵탄온, 시클로헥산온, 메틸-n-펜틸케톤, 메틸이소펜틸케톤 또는 2-헵탄온 등을 들 수 있다. 다가 알코올류의 유기용매로서는 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 또는 디프로필렌글리콜 등을 들 수 있다.
다가 알코올류의 유기용매로서는 다가 알코올의 유도체여도 되고, 예를 들면, 에스테르 결합(에틸렌글리콜 모노아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노아세테이트, 프로필렌글리콜 모노아세테이트 또는 디프로필렌글리콜 모노아세테이트 등)을 가지는 화합물 또는 에테르 결합(상기 다가 알코올류 또는 상기 에스테르 결합을 가지는 화합물의 모노메틸에테르, 모노에틸에테르, 모노프로필에테르 또는 모노부틸에테르 등의 모노알킬에테르 또는 모노페닐에테르)을 가지는 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(PGMEA), 프로필렌글리콜 모노메틸에테르(PGME)가 바람직하다.
환식 에테르류의 유기용매로서는 디옥산 등을 들 수 있고, 에스테르류의 유기용매로서는 락트산메틸, 락트산에틸(EL), 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 메톡시프로피온산메틸 또는 에톡시프로피온산에틸 등을 들 수 있다.
방향족계 유기용매로서는 아니솔, 에틸벤질에테르, 크레질메틸에테르, 디페닐에테르, 디벤질에테르, 페네톨, 부틸페닐에테르, 에틸벤젠, 디에틸벤젠, 펜틸벤젠, 이소프로필벤젠, 톨루엔, 크실렌, 시멘 또는 메시틸렌 등을 들 수 있다.
알코올계 용매로서는 희생막(11)을 용해할 수 있으면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등을 들 수 있다.
테르펜계 용매로서는, 예를 들면 게라니올, 네롤, 리날로올, 시트랄, 시트로네롤, 멘톨, 이소멘톨, 네오멘톨, α-테르피네올, β-테르피네올, γ-테르피네올, 테르피넨-1-올, 테르피넨-4-올, 디히드로터피닐아세테이트, 1,4-시네올, 1,8-시네올, 보르네올, 카르본, 이오논, 투욘(thujone), 캠퍼 등을 들 수 있다.
탄화수소계 용매로서는 직쇄상, 분기상 또는 환상인 탄화수소를 들 수 있다. 상기 탄화수소계 용매로서는, 예를 들면 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸, 트리데칸 등의 탄소수 3 내지 15의 직쇄상 탄화수소; 메틸옥탄 등의 탄소수 4 내지 15의 분기상 탄화수소; p-멘탄, o-멘탄, m-멘탄, 디페닐멘탄, 1,4-테르핀, 1,8-테르핀, 보르난, 노르보르난, 피난, 투얀(thujane), 카란, 론지폴렌, α-테르피넨, β-테르피넨, γ-테르피넨, α-피넨, β-피넨, α-투욘, β-투욘 등의 환상 탄화수소를 들 수 있다.
또, 석유계 용매로서는, 예를 들면 시클로헥산, 시클로헵탄, 시클로옥탄, 나프탈렌, 데카히드로나프탈렌(데칼린), 테트라히드로나프탈렌(테트랄린) 등을 들 수 있다.
그 다음에, 도 1의 (b)에 나타낸 바와 같이, 상기와 같이 하여 형성된 희생막(11)의 표면에 액상의 네거티브형 감광성 조성물을 도포하여 감광성 조성물 박막(12)이 형성된다. 네거티브형 감광성 조성물을 희생막(11)의 표면에 도포하는 방법은 희생막 형성용의 도포액을 기판(10)의 표면에 도포하는 방법과 동일하다. 감광성 조성물 박막(12)의 막 두께는 막 두께 1~1000nm의 박막(14)이 형성되도록 적절히 조정된다.
도 1의 (c)에 나타낸 바와 같이, 감광성 조성물 박막(12)에 대해서 노광 빛(13)을 조사함으로써 감광성 조성물 박막(12)이 경화해 박막(14)이 형성된다. 감광성 조성물 박막(12)을 노광하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 광경화성의 감광성 조성물을 경화시키는 주지의 방법에 의해 노광을 실시한다.
기판(10)이 유리 기판과 같이 투명한 재질로 이루어지는 경우, 감광성 조성물 박막(12)의 노광은 기판(10)의 희생막(11) 및 감광성 조성물 박막(12)이 형성되어 있는 면과 반대측의 면에서 실시할 수도 있다.
박막(14)의 형성 후, 도 1의 (d)에 나타낸 바와 같이, 박막(14) 위에 감광성 조성물 후막(15)이 형성된다. 감광성 조성물 후막(15)은 액상의 감광성 조성물을 박막(14) 위에 도포해 형성하는 것이 바람직하다. 감광성 조성물을 박막(14)의 표면에 도포하는 방법은 희생막 형성용의 도포액을 기판(10)의 표면에 도포하는 방법과 동일하다. 감광성 조성물 후막(15)의 막 두께는 막 두께 1~1000㎛의 지지막(19)이 형성되도록 적절히 조정된다.
그 다음에, 감광성 조성물 후막(15)을 위치 선택적으로 노광한 후에 현상하여 다공막인 지지막(19)이 형성된다. 도 1의 (e)에서는 감광성 조성물 후막(15)이 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물을 이용해 형성된 경우에 대해 나타내고 있다. 감광성 조성물 후막(15)의 표면을 위치 선택적으로 노광하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 레이저 등에 의한 묘화법, 차광성 마스크를 개재하여 노광을 실시하는 방법 등을 들 수 있다. 도 1의 (e)에 나타낸 바와 같이, 이러한 방법에 의해 감광성 조성물 후막(15)의 표면에 노광 빛(13)이 위치 선택적으로 조사됨으로써, 감광성 조성물 후막(15) 중에 노광부(16)와 미노광부(17)가 형성된다.
기판(10)이 유리 기판과 같이 투명한 재질로 이루어지는 경우, 감광성 조성물 후막(15)의 노광도, 기판(10)의 희생막(11) 및 박막(14)이 형성되어 있는 면과 반대측의 면에서 실시할 수도 있다.
도 1의 (f) 및 도 1의 (g)에 나타낸 바와 같이, 노광된 감광성 조성물 후막(15)을 현상액(18)과 접촉시켜 현상함으로써, 미노광부(17)가 용해 제거되어 지지막(19)이 형성된다. 이와 같이 실시하여 지지막(19)이 형성됨으로써, 기판(10) 위에 박막(14)과 지지막(19)이 적층된 멤브레인 필터(21)가 형성된다.
현상액(18)은 감광성 조성물의 종류에 따라 적절히 선택된다. 전형적으로는 유기용제로 이루어지는 현상액이나, 알칼리 현상액이 바람직하게 사용된다.
현상액(18)으로서 사용되는 유기용제로서는 케톤계 용제, 에스테르계 용제, 에테르계 용제 및 아미드계 용제 등의 극성 용제와 탄화수소계 용제를 들 수 있다.
알칼리 현상액으로서는, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산나트륨, 규산나트륨, 메타규산나트륨, 암모니아수, 에틸아민, n-프로필아민, 디에틸아민, 디-n-프로필아민, 트리에틸아민, 메틸디에틸아민, 디메틸에탄올아민, 트리에탄올아민, 테트라메틸암모늄히드록시드, 테트라에틸암모늄히드록시드, 피롤, 피페리딘, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]-5-노난 등의 알칼리류의 수용액을 사용할 수 있다. 또, 상기 알칼리류의 수용액에 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기용매나 계면활성제를 적당량 첨가한 수용액을 알칼리 현상액으로서 사용할 수도 있다.
현상 시간은 감광성 조성물 후막(15)의 조성이나 막 두께 등에 따라서도 상이하지만, 통상 1~30분간이다. 현상 방법은 공지된 방법으로부터 선택하면 되고, 액충전법, 디핑법, 패들법, 스프레이 현상법 등 어느 것이어도 된다.
도 1의 (h)에 나타낸 바와 같이, 이와 같이 실시하여 형성된 멤브레인 필터(21)를 구비하는 기판(10)을 희생막(11)을 용해시키는 용해액(20)에 접촉시켜 희생막(11)을 용해시킴으로써, 기판(10)의 표면에서 멤브레인 필터(21)를 박리시킬 수 있다.
희생막(11)을 용해시키는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 도 1의 (h)에 나타낸 바와 같이, 용해액(20)이 채워진 용기에 희생막(11)과 멤브레인 필터(21)를 구비하는 기판(10)을 침지시키는 방법이 바람직하다.
희생막(11)을 용해시키는 용해액(20)으로서는 전술한 희생막(11)의 재료를 용해시킬 수 있는 여러 가지 액체를 이용할 수 있다.
이와 같이 실시하여 기판(10)으로부터 박리된 멤브레인 필터(21)는 용해액으로부터 끌어 올려진 후, 필요에 따라 이온 교환수 등에 의한 린스나, 건조를 실시한 후, 여러 가지 용도로 사용된다.
<제2 방법>
본 발명에 관한 멤브레인 필터의 제조 방법 중, 박막(14)이 관통공을 갖지 않는 경우의 제1 방법과 상이한 바람직한 방법으로서는 기판(10) 위에 형성된 박막(14)을, 박막(14)을 구비하는 기판(10)과는 다른 기판(10) 위에 형성된 지지막(19)의 표면에 접착하는 방법을 들 수 있다. 이 방법을 멤브레인 필터(21)의 바람직한 제조 방법 중 제2 방법이라고 칭한다.
제1 방법과 동일하게, 박막(14)을 형성하기 위한 재료로서는 강도가 뛰어난 박막(14)을 형성할 수 있는 점에서, 가열에 의해 경화하는 열경화성 조성물 및 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물이 바람직하다. 이들 경화성 조성물 중에서는 단시간에 박막(14)을 형성할 수 있는 점에서 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물이 바람직하다.
제2 방법에서는 두 개의 기판(10) 사이에 박막(14)과 지지막(19)이 적층된 멤브레인 필터(21)가 형성된다. 멤브레인 필터(21)는 두 개의 기판(10)으로부터 박리된 상태로 사용된다. 이 때문에, 멤브레인 필터(21)로부터의 두 개의 기판(10)의 박리가 용이한 점에서 박막(14)과 지지막(19)은 각각 희생막(11)을 개재하여 기판(10) 위에 형성되는 것이 바람직하다.
이하, 제2 방법 중에서도 바람직한, 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물을 이용하여 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 박막(14)을 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 지지막(19)에 접착하는 공정을 포함하는 방법에 대해서, 도 2를 참조하면서 설명한다.
제2 방법에서는 우선 도 2의 (a)에 나타낸 바와 같이, 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 박막(14)과, 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 지지막(19)을 준비한다. 박막(14)의 형성 방법은 제1 방법과 동일하다. 또, 지지막(19)의 형성 방법은 박막(14) 위가 아니라, 희생막(11) 위에 감광성 조성물 후막(15)을 형성하는 점 외에는 제1 방법과 동일하다.
그 다음에, 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 박막(14)과, 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 지지막(19)을 박막(14)과 지지막(19)이 대향하도록 배치시킨 후, 지지막(19)과 박막(14)을 접착시킨다. 지지막(19)과 박막(14)을 접착시키는 방법으로서는 라미네이트(열압착)나, 물리 흡착, 경화성 화합물 등의 접착제를 접착층으로서 사용하는 방법 등을 들 수 있다. 예를 들면, 적어도 한쪽의 기판(10)에 롤 등을 이용하여 지지막(19) 또는 박막(14)이 파손하지 않는 정도의 압력을 가함으로써, 지지막(19)과 박막(14)을 접착해도 된다. 이와 같은 접착 조작을 거쳐 도 2의 (b)에 나타낸 바와 같이, 두 개의 기판(10) 사이에 박막(14)과 지지막(19)이 적층된 멤브레인 필터(21)가 형성된다.
도 2의 (c)에 나타낸 바와 같이, 상기와 같이 하여 두 개의 기판(10) 사이에 형성된 멤브레인 필터(21)를 희생막(11)을 용해시키는 용해액(20)에 접촉시켜 희생막(11)을 용해시킴으로써, 두 개의 기판(10)의 표면에서 멤브레인 필터(21)를 박리시킬 수 있다.
희생막(11)을 용해시키는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 도 1의 (h)에 나타낸 바와 같이, 용해액(20)이 채워진 용기에 희생막(11)과 멤브레인 필터(21)를 구비하는 기판(10)을 침지시키는 방법이 바람직하다. 이때, 희생막(11)이 용해된 후에 기판(10)의 자중(自重)에 의해서, 박리한 멤브레인 필터(21)에 주름이나 흠이 생기는 경우가 있다. 이 때문에, 희생막(11)을 용해시킬 때에는, 용해액(20)의 액면측의 기판(10)을 용해액(20) 중에서 자유롭게 이동하지 않도록 고정하거나, 두 개의 기판(10)의 쌍방을 용해액(20) 중에서 자유롭게 이동하지 않도록 고정하는 것이 바람직하다.
희생막(11)을 용해시키는 용해액(19)으로서는 전술한 희생막(11)의 재료를 용해시킬 수 있는 여러 가지 액체를 이용할 수 있다.
이와 같이 실시하여 두 개의 기판(10)으로부터 박리된 멤브레인 필터(21)는 용해액(20)으로부터 끌어 올려진 후, 필요에 따라 이온 교환수 등에 의한 린스나, 건조를 실시한 후, 여러 가지 용도로 사용된다.
<제3 방법>
본 발명에 관한 멤브레인 필터의 제조 방법 중, 박막(14)이 관통공을 가지는 경우의 바람직한 방법으로서는 기판(10) 위에 형성된 관통공을 가지는 박막(14)을, 박막(14)을 구비하는 기판(10)과는 다른 기판(10) 위에 형성된 지지막(19)의 표면에 접착하는 방법을 들 수 있다. 이 방법을 멤브레인 필터(21)의 바람직한 제조 방법 중 제3 방법이라고 칭한다.
박막(14)을 형성하기 위한 재료로서는 관통공을 형성하기 위해서, 감광성 조성물이 사용된다. 감광성 조성물 박막(12)에 대해서 노광 및 현상을 실시함으로써, 강도가 뛰어난 관통공을 구비하는 박막(14)을 형성할 수 있는 점에서, 박막(14)을 형성하기 위한 재료로서는 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물이 바람직하다.
제3 방법에서는 두 개의 기판(10) 사이에 박막(14)과 지지막(19)이 적층된 멤브레인 필터(21)가 형성된다. 멤브레인 필터(21)는 두 개의 기판(10)으로부터 박리된 상태로 사용된다. 이 때문에, 멤브레인 필터(21)로부터의 두 개의 기판(10)의 박리가 용이한 점에서 박막(14)과 지지막(19)은 각각 희생막(11)을 개재하여 기판(10) 위에 형성되는 것이 바람직하다.
이하, 제3 방법 중에서도 바람직한, 노광에 의해 경화하는 네거티브형 감광성 조성물을 이용하여 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 관통공을 가지는 박막(14)을, 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 지지막(19)에 접착하는 공정을 포함하는 방법에 대해서, 도 3을 참조하면서 설명한다.
최초로 관통공을 구비하는 박막(14)의 형성 방법에 대해 설명한다. 관통공을 구비하는 박막(14)을 형성하는 경우, 우선 도 3의 (a)에 나타낸 바와 같이, 기판(10) 위에 형성된 희생막(11)의 표면에 감광성 조성물 박막(12)을 제1 방법과 동일하게 하여 형성한다.
그 다음에, 도 3의 (b)에 나타낸 바와 같이, 감광성 조성물 박막(12)을 위치 선택적으로 노광한다. 이러한 노광에 의해, 감광성 조성물 박막(12) 중에 노광부(16)와 미노광부(17)가 형성된다. 노광 방법은 제1 방법에서의 감광성 조성물 후막(15)에 대한 노광의 방법과 동일하다.
도 3의 (c) 및 도 3의 (d)에 나타낸 바와 같이, 노광된 감광성 조성물 박막(12)을 현상액(18)과 접촉시켜 현상함으로써, 미노광부(17)가 용해 제거되어 관통공을 가지는 박막(14)이 형성된다.
도 3의 (d)에 나타낸 바와 같이, 이상 설명한 관통공을 가지는 박막(14)과 별도로, 제2 방법과 동일하게 하여 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 지지막(19)을 준비한다.
그 다음에, 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 관통공을 가지는 박막(14)과, 기판(10) 위에 희생막(11)을 개재하여 형성된 지지막(19)을 박막(14)과 지지막(19)이 대향하도록 배치시킨 후, 지지막(19)과 박막(14)이 압착되도록 적어도 한쪽의 기판(10)에 외력을 인가(印加)한다. 그렇게 함으로써, 도 3의 (e)에 나타낸 바와 같이, 두 개의 기판(10) 사이에 관통공을 가지는 박막(14)과 지지막(19)이 적층된 멤브레인 필터(21)가 형성된다.
도 3의 (f)에 나타낸 바와 같이, 제2 방법과 동일한 방법에 의해 두 개의 기판(10) 사이에 형성된 멤브레인 필터(21)를 희생막(11)을 용해시키는 용해액(20)에 접촉시켜 희생막(11)을 용해시킴으로써, 두 개의 기판(10)의 표면에서 멤브레인 필터(21)를 박리시킬 수 있다.
이와 같이 실시하여 두 개의 기판(10)으로부터 박리된 멤브레인 필터(21)는 용해액(20)으로부터 끌어 올려진 후, 필요에 따라 이온 교환수 등에 의한 린스나, 건조를 실시한 후, 여러 가지 용도로 사용된다.
<제1 방법의 변형예>
이하, 제1 방법의 변형예에 대해서, 도 4를 참조하면서 설명한다. 제3 방법에 의하면, 관통공을 구비하는 박막과 관통공을 구비하는 지지막이 적층된 멤브레인 필터를 제조하기 위해서, 2매의 기판이 필요했다. 그러나, 제1 방법의 변형예에 의하면, 1매의 기판만을 이용하여 관통공을 구비하는 박막과 관통공을 구비하는 지지막이 적층된 멤브레인 필터를 제조할 수 있다.
구체적으로는 우선 도 4의 (a)에 나타낸 바와 같이, 기판(10) 위에 형성된 희생막(11)의 표면에 감광성 조성물 박막(12)을 제1 방법과 동일하게 하여 형성한다.
그 다음에, 도 4의 (b)에 나타낸 바와 같이, 감광성 조성물 박막(12)을 위치 선택적으로 노광한다. 이러한 노광에 의해, 감광성 조성물 박막(12) 중에 노광부(16)와 미노광부(17)가 형성된다. 노광 방법은 제1 방법에서의 감광성 조성물 후막(15)에 대한 노광의 방법과 동일하다.
도 4의 (c) 및 도 4의 (d)에 나타낸 바와 같이, 노광된 감광성 조성물 박막(12)을 현상액(18)과 접촉시켜 현상함으로써, 미노광부(17)가 용해 제거되어 관통공을 가지는 박막(14)이 형성된다.
관통공을 가지는 박막(14)을 형성한 후, 도 4의 (e)에 나타낸 바와 같이, 박막(14) 위에 감광성 조성물 후막(15)을 형성한다. 이때, 박막(14) 중의 관통공에 감광성 조성물이 충전되도록, 감광성 조성물 후막(15)이 형성된다. 감광성 조성물 후막(15)은 제1 방법과 동일하게 형성된다.
또한 박막(14)의 관통공에 충전된 감광성 조성물은 노광된 감광성 조성물 후막(15)을 현상액(18)에 의해 현상할 때에, 현상액(18)에 용해되어 제거된다. 이 때문에, 감광성 조성물 후막(15)을 형성할 때에, 박막(14) 중의 관통공에 반드시 감광성 조성물이 완전하게 충전될 필요는 없다.
그 다음에, 도 4의 (f) 및 도 4의 (g)에 나타낸 바와 같이, 감광성 조성물 후막(15)을 위치 선택적으로 노광한 후에 현상하여 다공막인 지지막(19)이 형성된다.
또한 본 변형예에서는 박막(14)의 관통공에 충전된 감광성 조성물이 완전하게 노광되도록, 감광성 조성물 후막(15)이 위치 선택적으로 노광된다. 그렇게 함으로써, 노광된 감광성 조성물 후막(15)을 현상액(18)에 의해 현상할 때에, 박막(14) 중의 관통공에 충전된 감광성 조성물을 감광성 조성물 후막(15) 중에 형성된 노광부(16)와 함께 현상액(18) 중에 용해한다.
이상의 현상 조작을 거쳐, 도 4의 (h)에 나타낸 바와 같이, 관통공을 가지는 박막(14)과 관통공을 가지는 지지막(19)이 적층된 멤브레인 필터(21)를, 희생막(11)을 개재하여 구비하는 기판(10)을 얻을 수 있다.
도 4의 (i)에 나타낸 바와 같이, 이와 같이 실시하여 형성된 멤브레인 필터(21)를 구비하는 기판(10)을 희생막(11)을 용해시키는 용해액(20)에 접촉시켜 희생막(11)을 용해시킴으로써, 기판(10)의 표면에서 멤브레인 필터(21)를 박리시킬 수 있다.
이와 같이 실시하여 기판(10)으로부터 박리된 멤브레인 필터(21)는 용해액(20)으로부터 끌어 올려진 후, 필요에 따라 이온 교환수 등에 의한 린스나, 건조를 실시한 후, 여러 가지 용도로 사용된다.
[실시예]
〔실시예〕
유리제인 기판 위에 수첨형(水添型) 스티렌-이소프렌 공중합체인 하기 구조의 열가소성 엘라스토머를 데카히드로나프탈렌에 용해시킨 용액(고형분 농도 10중량%)을 도포한 후, 90℃ 5분, 및 120℃ 5분의 조건에서 베이크를 실시하여 막 두께 1.5㎛인 희생막을 형성했다.
<수첨형 스티렌-이소프렌 공중합체>
[화 1]
그 다음에, 희생막 위에 하기 구조의 크레졸노볼락형 에폭시 수지 100중량부와, 하기 구조의 광산(光酸)발생제 3중량부를 고형분 농도가 7중량%가 되도록 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트(PGMEA)에 용해시킨 네거티브형 감광성 조성물을 도포했다. 그 후, 90℃ 3분간에서의 베이크와 노광량 100mJ/cm2에서의 ghi선에 의한 노광과 120℃ 5분간에서의 베이크를 이 순서로 실시하여 막 두께 100nm의 박막을 형성했다.
<크레졸노볼락형 에폭시 수지>
[화 2]
(n은 괄호 내의 반복 단위의 반복 수를 나타낸다)
<광산발생제>
[화 3]
형성된 박막 위에 하기 구조의 페놀노볼락형 에폭시 수지 50중량부와, 하기 구조의 비스페놀 A형 에폭시 수지 50중량부와, 상기 식의 광산발생제 3중량부를 고형분 농도가 50중량%가 되도록 PGMEA에 용해시킨 네거티브형 감광성 조성물을 도포했다. 그 후, 90℃ 3분간에서의 베이크와 노광량 200mJ/cm2에서의 ghi선에 의한 노광과 90℃ 5분의 베이크를 이 순서로 실시했다. 또한 노광은 공경(孔徑) 10㎛인 원형 홀이 피치(홀 중심간 거리) 50㎛로 형성되도록, 마스크를 개재하여 위치 선택적으로 실시되었다. 노광 후에, 기판을 PGMEA에 1분간 침지하고 현상을 실시하여 상기의 지름 및 피치의 원형 개구부를 가지는 홀을 구비하는 막 두께 10㎛인 지지막을 형성했다.
<페놀노볼락형 에폭시 수지>
[화 4]
<비스페놀 A형 에폭시 수지>
[화 5]
그 다음에, 박막과 지지막이 적층된 멤브레인 필터를 구비하는 기판을 p-멘탄으로 실온에서 1시간 침지하여 희생막을 용해시켜 기판으로부터 멤브레인 필터를 박리시켰다. 박리한 멤브레인 필터를 회수한 후, 이온 교환수로 린스한 후에 건조시켰다.
얻어진 멤브레인 필터를 치구에 고정하고, 질소 가스를 멤브레인 필터의 양측의 압력 차이가 0.05MPa가 되는 조건으로 멤브레인 필터의 지지막측으로부터 공급한 결과, 100㎖/분의 질소 유량이 확인되었다. 또, 질소 유량의 확인 시험 후에 멤브레인 필터의 파손은 확인되지 않고, 실시예 1에서 얻어진 멤브레인 필터는 강도가 뛰어난 것을 알 수 있다.
〔비교예〕
박막의 막 두께를 1500nm로 하는 것 외에는 실시예와 동일하게 하여 멤브레인 필터를 얻었다. 얻어진 멤브레인 필터에 대해서, 실시예와 동일하게 차압 0.05MPa를 부여한 경우의 질소 유량을 확인한 결과, 질소 유량은 0㎖/분이었다. 즉, 비교예의 멤브레인 필터는 차압 0.05MPa에서 질소를 투과시키지 않았다.
10: 기판
11: 희생막
12: 감광성 조성물 박막
13: 노광 빛
14: 박막
15: 감광성 조성물 후막
16: 노광부
17: 미노광부
18: 현상액
19: 지지막
20: 용해액
21: 멤브레인 필터
11: 희생막
12: 감광성 조성물 박막
13: 노광 빛
14: 박막
15: 감광성 조성물 후막
16: 노광부
17: 미노광부
18: 현상액
19: 지지막
20: 용해액
21: 멤브레인 필터
Claims (6)
- 단일층의 박막과, 상기 박막을 지지하는 지지막이 적층된 멤브레인 필터로서,
상기 박막의 막 두께는 1~1000nm이며,
상기 박막이 두께 방향으로 관통하는 공부(孔部)를 갖지 않는 단일층의 박막이고,
상기 지지막이 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는 막 두께 1~1000㎛의 다공막인, 멤브레인 필터. - 단일층의 박막과, 상기 박막을 지지하는 지지막이 적층된 멤브레인 필터로서,
상기 박막의 막 두께는 1~1000nm이며,
상기 박막이 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는 단일층의 박막이고, 상기 복수의 공부에서의 각 관통공의 양단에 상당하는 상기 박막의 표면의 개구부의 형상이 원형이며,
상기 지지막이 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는, 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는, 막 두께 1~1000㎛의 다공막인, 멤브레인 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 박막이 감광성 조성물로 이루어지는 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는 수지막인, 멤브레인 필터. - 단일층의 박막과, 상기 박막을 지지하는 지지막을 적층하여서 멤브레인 필터를 형성하는, 멤브레인 필터의 제조 방법으로서,
제1의 희생막을 개재하여 제1의 기판 상에 상기 박막을 형성하는 공정,
상기 박막 상에 제1의 감광성 조성물 막을 형성하는 공정,
상기 제1의 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 상기 지지막을 형성하는 공정, 및
상기 멤브레인 필터를 상기 제1의 기판으로부터 박리시키는 공정을 포함하며,
상기 제1의 희생막을 용해액에 용해시킴으로써, 상기 멤브레인 필터가 상기 제1의 기판으로부터 박리되고,
상기 박막이 두께 방향으로 관통하는 공부를 갖지 않는 단일층의 박막이며,
상기 박막의 막 두께는 1∼1000nm이고,
상기 지지막이 제1의 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는, 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는, 막 두께 1∼1000㎛의 다공막인, 멤브레인 필터의 제조 방법. - 단일층의 박막과, 상기 박막을 지지하는 지지막을 적층하여서 멤브레인 필터를 형성하는, 멤브레인 필터의 제조 방법으로서,
제1의 희생막을 개재하여 제1의 기판 상에 제2의 감광성 조성물 막을 형성하는 공정,
상기 제2의 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여, 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 갖는 수지막인 상기 박막을 형성하는 공정,
상기 박막 중의 상기 공부에 감광성 조성물이 충전되도록, 상기 박막 상에 제1의 감광성 조성물 막을 형성하는 공정,
상기 제1의 감광성 조성물 막을 상기 공부에 충전된 상기 감광성 조성물이 노광되도록 위치 선택적으로 노광한 후에 현상하여 상기 지지막을 형성하는 공정, 및
상기 멤브레인 필터를 상기 제1의 기판으로부터 박리시키는 공정을 포함하며,
상기 제1의 희생막을 용해액에 용해시킴으로써, 상기 멤브레인 필터가 상기 제1의 기판으로부터 박리되고,
상기 박막이 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는 단일층의 박막이며, 상기 복수의 공부에서의 각 관통공의 양단에 상당하는 상기 박막의 표면의 개구부의 형상이 원형이고,
상기 박막의 막 두께는 1∼1000nm이며,
상기 지지막이 제1의 감광성 조성물 막을 노광 및 현상하여 형성되는, 두께 방향으로 관통하는 복수의 공부를 가지는, 막 두께 1∼1000㎛의 다공막인, 멤브레인 필터의 제조 방법. - 청구항 4 또는 청구항 5에 있어서,
상기 희생막이 스티렌계 엘라스토머를 포함하고, 또한 상기 용해액이 탄화수소계 용매인, 멤브레인 필터의 제조 방법.
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