KR102359887B1 - 광 계측 장치 - Google Patents

광 계측 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102359887B1
KR102359887B1 KR1020187026415A KR20187026415A KR102359887B1 KR 102359887 B1 KR102359887 B1 KR 102359887B1 KR 1020187026415 A KR1020187026415 A KR 1020187026415A KR 20187026415 A KR20187026415 A KR 20187026415A KR 102359887 B1 KR102359887 B1 KR 102359887B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light
light guide
optical
filter
integrator
Prior art date
Application number
KR1020187026415A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20190032268A (ko
Inventor
겐고 스즈키
가즈야 이구치
야스유키 다나베
Original Assignee
하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 filed Critical 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
Publication of KR20190032268A publication Critical patent/KR20190032268A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102359887B1 publication Critical patent/KR102359887B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J1/0488—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts with spectral filtering
    • G01J1/0492—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts with spectral filtering using at least two different filters
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
    • G01J1/0425—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings using optical fibers
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J1/0488—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts with spectral filtering
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/10—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void
    • G01J1/16—Photometry, e.g. photographic exposure meter by comparison with reference light or electric value provisionally void using electric radiation detectors
    • G01J1/1626—Arrangements with two photodetectors, the signals of which are compared
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0202—Mechanical elements; Supports for optical elements
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0218—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using optical fibers
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
    • G01J3/0254—Spectrometers, other than colorimeters, making use of an integrating sphere
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0291—Housings; Spectrometer accessories; Spatial arrangement of elements, e.g. folded path arrangements
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/0297—Constructional arrangements for removing other types of optical noise or for performing calibration
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28—Investigating the spectrum
    • G01J3/30—Measuring the intensity of spectral lines directly on the spectrum itself
    • G01J3/32—Investigating bands of a spectrum in sequence by a single detector
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J2001/0481—Preset integrating sphere or cavity
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J1/06—Restricting the angle of incident light
    • G01J2001/061—Baffles
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1213—Filters in general, e.g. dichroic, band
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J2003/1213—Filters in general, e.g. dichroic, band
    • G01J2003/1221—Mounting; Adjustment
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/63—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light optically excited
    • G01N21/64—Fluorescence; Phosphorescence
    • G01N21/645—Specially adapted constructive features of fluorimeters
    • G01N2021/6463—Optics
    • G01N2021/6469—Cavity, e.g. ellipsoid
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/06—Illumination; Optics
    • G01N2201/064—Stray light conditioning
    • G01N2201/0642—Light traps; baffles
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/06—Illumination; Optics
    • G01N2201/065—Integrating spheres
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
    • G01N2201/08—Optical fibres; light guides
    • G01N2201/0833—Fibre array at detector, resolving

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Optical Measuring Cells (AREA)

Abstract

광 계측 장치(1)는, 시료에 여기광을 조사하고, 계측광을 검출하는 광 계측 장치이다. 광 계측 장치(1)는, 여기광이 입사되는 입사 개구(22), 및 계측광을 출사하는 출사 개구(23)가 형성되고, 시료가 배치되는 적분기(20)와, 출사 개구(23)로부터 출사된 계측광을 도광하는 도광부(30)와, 도광부(30)에 의해서 도광된 계측광을 검출하는 광 검출부(40)를 구비한다. 도광부(30)는, 입사 단면(32a)이 출사 개구(23)를 통해서 적분기(20) 내를 향하도록 배치된 복수의 도광 부재(32)를 가진다. 광 검출부(40)는, 복수의 도광 부재(32) 중 적어도 1개에 의해서 도광된 계측광을 검출한다. 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)측에서의 수광 영역은, 적분기(20) 내에서 서로 겹쳐져 있다.

Description

광 계측 장치
본 발명의 일측면은, 광 계측 장치에 관한 것이다.
종래, 측정 대상이 되는 시료에 여기광을 조사하고, 계측광을 검출하는 광 계측 장치가 알려져 있다. 이런 종류의 기술로서, 예를 들면 특허 문헌 1, 2에는, 시료가 배치되는 적분기와, 적분기의 출사 개구로부터 출사된 계측광을 검출하는 광 검출기를 구비한 광 계측 장치가 기재되어 있다. 특허 문헌 1, 2에 기재된 광 계측 장치에서는, 넓은 파장 영역에서의 계측을 가능하게 하기 위해서, 분광 감도 특성이 서로 다른 복수의 광 검출기가 이용되고 있다. 적분기에는, 광 검출기에 대응한 복수의 출사 개구가 형성되어 있다.
특허 문헌 1 : 국제공개 제2015/151233호 특허 문헌 2 : 일본특허공개 제2006－23284호 공보
상술한 바와 같은 광 계측 장치에서는, 광 검출기에 대응한 복수의 출사 개구가 적분기에 형성되어 있으므로, 적분기에서의 개구 면적이 증가하기 때문에, 적분기 내에서의 계측광의 다중 확산 반사 특성이 저하될 우려가 있다. 게다가, 서로 다른 위치에 형성된 출사 개구로부터의 계측광을 각 광 검출기가 검출하기 때문에, 각 광 검출기에 입사하는 계측광의 강도 분포에 편차가 생길 우려가 있다. 따라서, 상술한 바와 같은 광 계측 장치에서는, 계측광의 검출 정밀도의 저하가 염려된다.
본 발명의 일측면은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 계측광을 정밀도 좋게 검출할 수 있는 광 계측 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명의 일측면의 광 계측 장치는, 시료에 여기광(勵起光)을 조사하고, 계측광을 검출하는 광 계측 장치로서, 여기광이 입사되는 입사 개구, 및 계측광을 출사하는 출사 개구가 형성되고, 시료가 배치되는 적분기와, 출사 개구로부터 출사된 계측광을 도광하는 도광부와, 도광부에 의해서 도광된 계측광을 검출하는 광 검출부를 구비하며, 도광부는, 입사 단면(端面)이 출사 개구를 통해서 적분기 내를 향하도록 배치된 복수의 도광 부재를 가지고, 광 검출부는, 복수의 도광 부재 중 적어도 1개에 의해서 도광된 계측광을 검출하고, 복수의 도광 부재의 입사 단면측에서의 수광 영역은, 적분기 내에서 서로 겹쳐져 있다.
이 광 계측 장치에서는, 입사 단면이 출사 개구를 통해서 적분기 내를 향하도록 복수의 도광 부재가 배치되어 있으며, 복수의 도광 부재 중 적어도 1개에 의해서 도광된 계측광을 광 검출부가 검출한다. 이것에 의해, 복수의 도광 부재를 통해서 공통의 출사 개구로부터 계측광이 취출되기 때문에, 적분기에서의 출사 개구의 형성수(形成數)를 저감할 수 있고, 적분기의 다중 확산 반사 특성을 확보하는 것이 가능해진다. 또, 각 도광 부재에 의해서 취출되는 계측광의 강도 분포를 균일화하는 것도 가능해진다. 게다가, 이 광 계측 장치에서는, 복수의 도광 부재의 입사 단면측에서의 수광 영역이 적분기 내에서 서로 겹쳐져 있다. 이것에 의해, 적분기 내에서의 공통 영역으로부터의 계측광이 복수의 도광 부재에 입사하기 때문에, 각 도광 부재에 의해서 취출되는 계측광의 강도 분포를 한층 균일화할 수 있다. 따라서, 이 광 계측 장치에 의하면, 적분기의 다중 확산 반사 특성을 확보하면서, 균일한 강도 분포를 가지는 계측광을 취출할 수 있어, 계측광을 정밀도 좋게 검출하는 것이 가능해진다.
본 발명의 일측면에 관한 광 계측 장치에서는, 복수의 도광 부재의 입사 단면에서의 광축은, 적분기 내에서 서로 교차하고 있어도 괜찮다. 이 경우, 상기 작용 효과, 즉, 적분기 내에서의 공통 영역으로부터의 계측광이 복수의 도광 부재에 입사하기 때문에, 각 도광 부재에 의해서 취출되는 계측광의 강도 분포를 한층 균일화할 수 있다고 하는 작용 효과가 현저하게 나타내어진다.
본 발명의 일측면에 관한 광 계측 장치는, 적분기 내에서의 출사 개구와 대향하는 위치에 배치된 배플(baffle)을 더 구비해도 괜찮다. 이 경우, 시료로부터의 광이 출사 개구에 직접 입사하는 것을 배플에 의해 방지할 수 있어, 계측광을 적분기 내에서 확실히 다중 확산 반사시키는 것이 가능해진다.
본 발명의 일측면에 관한 광 계측 장치에서는, 복수의 도광 부재의 입사 단면에서의 광축은, 출사 개구와 배플과의 사이에서 서로 교차하고 있어도 괜찮다. 이 경우, 시료로부터의 광이 출사 개구에 직접 입사하는 것을 배플에 의해 방지하면서, 적분기 내에서의 공통 영역으로부터의 계측광을 복수의 도광 부재에 의해서 취출하는 것이 가능하게 된다.
본 발명의 일측면에 관한 광 계측 장치에서는, 배플은, 적분기 내에서의 상기 출사 개구의 주변에 배치된 한 쌍의 지지 기둥에 의해서 지지되고, 복수의 도광 부재가 늘어서는 방향과, 한 쌍의 지지 기둥이 늘어서는 방향은, 교차하고 있어도 괜찮다. 이 경우, 도광 부재에 입사하는 계측광이 지지 기둥에 의해서 차단되는 것을 억제할 수 있어, 각 도광 부재에 의해서 취출되는 계측광의 강도 분포를 보다 한층 균일화하는 것이 가능해진다.
본 발명의 일측면에 관한 광 계측 장치는, 복수의 광학 필터를 가지며, 복수의 입사 단면에 입사하는 계측광 각각의 광로 상에 복수의 광학 필터 중 어느 하나를 삽입 필터로서 삽입할 수 있는 필터부를 더 구비해도 괜찮다. 이 경우, 복수의 입사 단면에 입사하는 계측광 각각의 광로 상에, 광 계측 장치의 측정 조건에 따른 광학 필터를 삽입할 수 있다. 그 결과, 고정밀한 측정이 가능해진다.
본 발명의 일측면에 관한 광 계측 장치에서는, 필터부는, 광학 필터로서, ND필터, 쇼트 패스(short pass) 필터, 롱 패스(long pass) 필터, 밴드 패스(band pass) 필터, 노치 필터, 및 광 반사 물질로 구성된 필터 중 적어도 1개를 포함하고 있어도 괜찮다. 이 경우, 광 계측 장치의 측정 조건에 따른 측정이 구체적으로 실현 가능해진다.
본 발명의 일측면에 관한 광 계측 장치에서는, 필터부는, 복수의 광학 필터가 마련된 베이스부와, 삽입 필터가 복수의 광학 필터 중에서 전환되도록 베이스부를 구동시키는 구동부와, 구동부의 구동을 제어하는 제어부를 가지며, 제어부는, 복수의 광학 필터 중 어느 하나를 선택 필터로서 선택하고, 선택한 상기 선택 필터가 삽입 필터가 되도록 구동부를 구동시켜도 괜찮다. 이 경우, 제어부에 의해, 예를 들면 광 계측 장치의 측정 조건에 따른 광학 필터를 선택하여 광로 상에 삽입시킬 수 있다. 그 결과, 측정 조건에 따른 측정 작업을 용이화하는 것이 가능해진다.
본 발명의 일측면에 관한 광 계측 장치에서는, 광 검출부는, 복수의 도광 부재와 동수(同數)의 복수의 광 검출기를 가지며, 복수의 광 검출기의 분광 감도 특성은, 서로 달라도 괜찮다. 이 경우, 분광 감도 특성이 서로 다른 복수의 광 검출기를 이용함으로써, 넓은 파장 영역에서의 계측이 가능해진다.
본 발명의 일측면에 의하면, 계측광을 정밀도 좋게 검출하는 것이 가능해진다.
도 1은, 일 실시 형태에 관한 광 계측 장치의 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 2는, 도 1의 광 계측 장치의 요부에서의 하나의 단면(斷面)을 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은, 도 1의 광 계측 장치의 요부에서의 다른 단면을 나타내는 개략 단면도이다.
도 4의 (a)는, 필터 유닛의 베이스부를 나타내는 정면도이고, 도 4의 (b)는, 필터 유닛의 베이스부를 나타내는 측면도이다.
이하, 본 발명의 일 실시 형태에 대해서, 도면을 참조하면서 상세하게 설명한다. 또, 이하의 설명에서, 동일 또는 상당 요소에는 동일 부호를 이용하고, 중복 하는 설명을 생략한다.
도 1에 나타내어지는 광 계측 장치(1)는, 측정 대상이 되는 시료에 대해서, 예를 들면, 광 루미네센스법(Photo Luminescence, PL법)에 의해 형광(螢光) 특성 등의 광 특성을 측정 또는 평가하기 위한 장치이다. 시료는, 예를 들면, 유기 EL(Electroluminescence) 재료, 또는, 백색 LED(Light　Emitting　Diode)용 혹은 FPD(Flat　Panel　Display)용 등의 발광 재료 등의 형광 시료이다. 시료로서는, 예를 들면, 분말상(狀), 액체상(용액상), 고체상 또는 박막상인 것 등을 이용할 수 있다.
광 특성으로서는, 흡수율, 내부 양자(量子) 효율(발광 양자 수율) 및 외부 양자 효율을 들 수 있다. 흡수율은, 흡수되는 포톤수(photon數)에 관한 파라미터이다. 내부 양자 효율은, 흡수하는 광의 포톤수에 대한, 발광에 의해 방출되는 광의 포톤수의 비율에 관한 파라미터이다. 외부 양자 효율은, 방출되는 포톤수에 관한 파라미터이다. 외부 양자 효율은, 흡수율과 내부 양자 효율과의 곱이다. 흡수율은, 반사되는 포톤수에 관한 파라미터인 반사율과 표리의 관계를 가진다. 흡수율은, 「1－반사율」과 동일한 의미이다.
광 계측 장치(1)는, 여기광 공급부(10)와, 적분기(20)와, 도광부(30)와, 광 검출부(40)와, 해석부(51)와, 입력부(52)와, 표시부(53)를 구비하고 있다. 여기광 공급부(10)는, 소정 파장의 여기광을 적분기(20)에 공급한다. 여기광 공급부(10)는, 여기 광원(11)과, 입사용 라이트 가이드(12)를 가지고 있다. 광 계측 장치(1)에서는, 여기광 공급부(10)와 적분기(20)가 서로 광학적으로 접속되고, 적분기(20)와 도광부(30)가 서로 광학적으로 접속되며, 도광부(30)와 광 검출부(40)가 서로 광학적으로 접속되어 있다. 광 검출부(40)와 해석부(51)가 서로 전기적으로 접속되고, 해석부(51)와 입력부(52)가 서로 전기적으로 접속되며, 해석부(51)와 표시부(53)가 서로 전기적으로 접속되어 있다.
여기 광원(11)은, 여기광을 발생시키는 광원이다. 여기 광원(11)은, 예를 들면 크세논 램프 또는 분광기 등을 포함하여 구성되어 있다. 여기 광원(11)이 발생시키는 여기광의 파장은, 가변이라도 좋다. 여기 광원(11)은, 여기광의 파장을, 예를 들면 250nm~1600nm의 파장 범위에서 가변으로 설정할 수 있다. 입사용 라이트 가이드(12)는, 여기 광원(11)에서 생긴 여기광을 적분기(20)로 도광한다. 입사용 라이트 가이드(12)로서는, 예를 들면 광 파이버 등을 이용할 수 있다.
적분기(20)는, 적분구(積分球)로서, 중공의 구 모양을 나타내고 있다. 적분기(20)는, 그 내면(20a)에 황산 바륨 등의 고확산 반사 물질의 도포가 실시되거나, 또는, PTFE 혹은 스텍트라론(Spectralon)(등록상표) 등의 반사율이 1에 가까운 고반사 물질에 의해 형성되어 있다. 적분기(20)에는, 시료를 도입하기 위한 시료 도입창인 시료 도입 개구(21), 여기광이 입사되는 입사창인 입사 개구(22), 및, 계측광을 출사하는 출사창인 출사 개구(23)가, 각각 1개씩 마련되어 있다. 시료 도입 개구(21), 입사 개구(22) 및 출사 개구(23)의 각각은, 복수 마련되어 있어도 괜찮다.
시료 도입 개구(21)에는, 시료 용기 홀더(24)가 삽입되어 장착되어 있다. 시료 용기 홀더(24)는, 시료가 수용된 시료 용기(2)(도 3 참조)를 유지하고, 적분기(20) 내에 시료를 배치한다. 입사 개구(22)에는, 입사용 라이트 가이드(12)에 의해서 도광된 여기광이 입사한다. 적분기(20) 내에서는, 입사 개구(22)로부터 입사한 여기광이 다중 확산 반사된다. 게다가, 적분기(20) 내에서는, 시료에 대한 여기광의 조사에 의해서 생긴 발생광이 다중 확산 반사된다. 이들 여기광 및 발생광을 포함하는 계측광은, 출사 개구(23)로부터 출사한다. 출사 개구(23)로부터 출사한 계측광은, 도광부(30)에 의해서 후단(後段)의 광 검출부(40)로 도광된다.
도광부(30)는, 복수(이 예에서는, 2개)의 도광 부재(32, 32)를 가지고 있으며, 복수의 도광 부재(32)에 의해서 따로 계측광을 도광한다. 광 검출부(40)는, 도광부(30)에 의해서 도광된 계측광을 검출한다. 광 검출부(40)는, 복수의 도광 부재(32)와 동수(이 예에서는, 2개)의 복수의 분광 검출기(41, 41)를 가지고 있다. 각 분광 검출기(41)는, 계측광을 파장 성분으로 분해하는 분광기(42)와, 분광기(42)에서 분해된 계측광을 검출하는 광 검출기(43)를 포함하고 있다.
광 검출부(40)에 포함되는 복수의 광 검출기(43, 43)의 분광 감도 특성은, 서로 다르다. 광 검출기(43)로서는, 예를 들면, BT(Back-Thinned)－CCD 리니어 이미지 센서, CMOS 리니어 이미지 센서, InGaAs 리니어 이미지 센서 등을 이용할 수 있다. 각 광 검출기(43)는, 검출한 계측광의 파장 스펙트럼 데이터를 후단(後段)의 해석부(51)에 출력한다. 또, 복수의 분광 검출기(41, 41)에 의한 계측광의 검출은, 병행하여 행해져도 괜찮고, 서로 타이밍을 겹치지 않게 행해져도 괜찮다. 혹은, 일부의 분광 검출기(41)에 의한 검출만이 행해지고, 다른 분광 검출기(41)에 의한 검출은 행해지지 않아도 좋다. 병행하여 검출을 행하는 것은, 동시에, 동시기에, 동일 타이밍으로, 또는, 동시 병렬적으로 검출을 행하는 것을 포함한다.
해석부(51)는, 예를 들면 컴퓨터이다. 해석부(51)는, 예를 들면, 프로세서인 CPU(Central Processing Unit), 기록 매체인 RAM(Random　Access Memory) 또는 ROM(Read Only Memory) 등을 포함하여 구성된다. 해석부(51)는, CPU 및 RAM 등의 하드웨어 상에 프로그램 등을 읽어들이게 하는 것에 의해 동작한다. 해석부(51)는, CPU에 의해, 광 검출부(40)에서 생성된 파장 스펙트럼 데이터에 대해서 필요한 데이터 해석을 행하고, 시료에 대한 정보를 취득한다. 해석부(51)는, CPU에 의해, RAM에서의 데이터의 읽어냄 및 쓰기를 행한다. 또, 해석부(51)는, FPGA(Field-Programmable Gate Array), 마이크로 컴퓨터, 스마트 디바이스, 또는 클라우드 서버라도 좋다. 해석부(51)에는, 입력부(52)와 표시부(53)가 전기적으로 접속되어 있다. 입력부(52)는, 데이터 해석 등에 대한 지시의 입력, 및, 해석 조건 또는 측정 조건 등의 입력 등에 이용된다. 입력부(52)는, 예를 들면 마우스, 키보드 또는 터치 패널 등의 입력 기기이다. 표시부(53)는, 얻어진 데이터 해석 결과의 표시 등에 이용된다. 표시부(53)는, 예를 들면 디스플레이 등이다.
이어서, 도 2 및 도 3을 참조하면서, 적분기(20) 및 도광부(30)에 대해 더 설명한다. 적분기(20)는, 예를 들면 장착 나사(미도시) 등에 의해서 가대(架台)(3)에 장착되어 있다. 시료 도입 개구(21), 입사 개구(22) 및 출사 개구(23) 각각의 중심선은, 적분기(20)의 중앙을 통과하고, 서로 직교하고 있다.
시료 도입 개구(21)에는, 상술한 바와 같이, 시료 용기 홀더(24)가 삽입되어 장착되어 있다. 시료 용기 홀더(24)는, 시료가 수용된 시료 용기(2)를 위치 결정하여 유지하고 있다. 이 예에서는, 적분기(20)의 중앙부에 시료가 배치되어 있다.
입사 개구(22)에는, 입사용 라이트 가이드(12)(도 1 참조)를 적분기(20)에 접속하는 입사용 라이트 가이드 홀더(220)가 삽입되어 장착되어 있다. 입사용 라이트 가이드 홀더(220)는, 입사용 라이트 가이드(12)를 위치 결정하여 유지하는 라이트 가이드 유지부(221)를 가지고 있다. 입사용 라이트 가이드(12)로부터 출사한 여기광(L)은, 적분기(20) 내에서 시료에 조사된다.
출사 개구(23)에는, 장착부(31)가 삽입되어 장착되어 있다. 장착부(31)는, 적분기(20) 내로부터 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)을 향하는 계측광을 통과시키는 개구(31a)를 가지고 있다. 개구(31a)의 단면은, 예를 들면, 소정 방향(D)을 길이 방향으로 하는 긴 원 형상 또는 타원 형상을 나타내고 있다. 이 소정 방향(D)은, 입사 개구(22)의 중심선과 평행한 방향이며, 후술하는 바와 같이 복수의 도광 부재(32)가 늘어서는 방향과 일치한다. 개구(31a)는, 출사 개구(23)에서 계측광이 통과하는 광 통과 영역을 형성한다.
적분기(20) 내에는, 출사 개구(23)와 대향하는 위치에 배플(baffle)(25)이 배치되어 있다. 배플(25)은, 원추 모양을 나타내고 있고, 꼭대기부(25a)가 출사 개구(23)측을 향하도록 배치되어 있다. 배플(25)의 꼭대기부(25a)는, 예를 들면, 출사 개구(23)의 중심선 상에 위치하고 있다. 배플(25)은, 시료 용기(2)와 출사 개구(23)와의 사이에 위치하고, 시료로부터의 광(1차 반사광)이 출사 개구(23)에 직접 입사하는 것을 방지한다. 이것에 의해, 계측광을 적분기(20) 내에서 확실히 다중 확산 반사시키는 것이 가능하게 되어 있다.
배플(25)은, 적분기(20) 내에서의 출사 개구(23)의 주변에 배치된 한 쌍의 지지 기둥(26)에 의해서 지지되어 있다. 이 예에서는, 한 쌍의 지지 기둥(26)은, 장착부(31)에서의 개구(31a)의 둘레 가장자리부에 세워 마련되고, 개구(31a)(출사 개구(23)의 광 통과 영역)를 사이에 두고 서로 대향하고 있다. 보다 구체적으로는, 한 쌍의 지지 기둥(26)은, 소정 방향(D)과 직교하는 방향으로 늘어서 배치되고, 출사 개구(23)의 중심선을 사이에 두고 서로 대향하고 있다.
배플(25) 및 지지 기둥(26)은, 적분기(20) 내에서의 계측광의 다중 확산 반사 특성을 확보하기 위해서, 적분기(20)의 내면(20a)과 마찬가지로, 그 외면에 고확산 반사 물질의 도포가 실시되거나, 혹은 고반사 물질에 의해 형성되어 있다.
복수의 도광 부재(32)의 각각은, 입사 단면(32a)이 출사 개구(23)를 통해서 적분기(20) 내를 향하도록 배치되어 있다. 복수의 도광 부재(32)는, 소정 방향(D)으로 늘어서 배치되어 있다. 즉, 복수의 도광 부재(32)가 늘어서는 방향과, 한 쌍의 지지 기둥(26)이 늘어서는 방향은, 직교하고 있다. 각 도광 부재(32)는, 장착부(31)의 개구(31a)를 통과하여 입사 단면(32a)에 입사한 계측광을, 후단(後段)의 광 검출부(40)로 도광한다. 도광 부재(32)로서는, 예를 들면 번들(bundle) 파이버 또는 싱글 파이버를 이용할 수 있다.
도광 부재(32)의 입사 단면(32a)측의 단부는, 고정 부재(33)를 매개로 하여 가대(架台)(3)에 대해서 고정되어 있다. 고정 부재(33)는, 오목부(34a)가 마련된 본체부(34)와, 오목부(34a) 내에 배치되는 슬리브(35)를 가지고 있다. 본체부(34)는, 가대(3)에 고정되어 있다. 오목부(34a)는, 예를 들면 단면 원형 모양을 나타내고 있다. 오목부(34a)는, 본체부(34)에서, 출사 개구(23)와는 반대측으로 개구하고, 출사 개구(23)측의 표면에 근접하는 위치까지 연장된다. 오목부(34a)는, 복수의 도광 부재(32)와 동수(同數) 마련되어 있다. 이 예에서는, 오목부(34a)는, 출사 개구(23)의 중심선을 사이에 두고 서로 대향하는 위치에 2개 마련되어 있다. 2개의 오목부(34a)는, 그 각 축이 출사 개구(23)측에 가까워질수록 서로 가까워지도록 출사 개구(23)의 중심선에 대해서 경사진 상태로, 소정 방향(D)을 따라서 나란히 배치되어 있다. 오목부(34a)의 저면에는, 본체부(34)의 출사 개구(23)측의 표면에 관통하는 개구(34b)가 형성되어 있다.
슬리브(35)는, 예를 들면 원통 모양을 나타내고 있다. 슬리브(35)는, 오목부(34a)에 동축으로 삽입되고, 오목부(34a)의 저면에 맞닿는 것에 의해서 본체부(34)에 대해서 위치 결정되어 있다. 슬리브(35)는, 나사(34c)에 의해서 본체부(34)에 고정되어 있다. 이것에 의해, 슬리브(35)는, 오목부(34a)를 따라서 다음과 같이 본체부(34)에 마련되어 있다. 즉, 슬리브(35)는, 복수의 도광 부재(32)와 동수(同數) 마련되어 있다. 이 예에서는, 슬리브(35)는, 출사 개구(23)의 중심선을 사이에 두고 서로 대향하는 위치에 2개 마련되어 있다. 2개의 슬리브(35)는, 그 각 축이 출사 개구(23)측에 가까워질수록 서로 가까워지도록 출사 개구(23)의 중심선에 대해서 경사진 상태로, 소정 방향(D)을 따라서 나란히 배치되어 있다.
도광 부재(32)의 입사 단면(32a)측의 단부는, 슬리브(35) 내에 동축으로 배치되고, 슬리브(35)를 따라서 똑바로 연장되어 있다. 도광 부재(32)의 당해 단부는, 입사 단면(32a)과 슬리브(35)의 출사 개구(23)측의 단면(端面)과 면일(面一)이 되도록, 슬리브(35) 내에 마련되어 있다. 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)은, 개구(34b)를 통해서 노출된다. 도광 부재(32)의 해당 단부는, 예를 들면 접착제에 의해서 슬리브(35) 내에 고정되어 있다.
도광 부재(32)는, 입사 단면(32a)측의 수광 영역의 광을 입사시켜 도광할 수 있다. 여기서, 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)에 입사 가능한 광은, 입사 단면(32a)측의 시야각(즉, 입사 단면(32a)에 입사 가능한 광의 최대 입사각) 내의 영역의 광이다. 즉, 도광 부재(32)의 수광 영역이란, 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)측의 시야각 내의 영역(검출 시야)을 의미한다. 도광 부재(32)의 수광 영역의 크기는, 입사 단면(32a)에서의 개구수(NA)에 의해 규정된다. 예를 들면 도광 부재(32)의 수광 영역은, 입사 단면(32a)을 정점(頂点)측으로 하는 원추 모양의 영역이다. 도 2, 3에서는, 도광 부재(32)의 수광 영역의 범위가 2점 쇄선으로 나타내어져 있다.
도 2에 나타내어지는 바와 같이, 복수의 도광 부재(32)의 수광 영역은, 적분기(20) 내에서 서로 겹쳐져 있다. 구체적으로는, 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)측에서의 각 광축(X)이, 배플(25)의 꼭대기부(25a)에서 서로 교차하고 있다. 복수의 도광 부재(32)의 수광 영역의 각각은, 광축(X)을 중심축으로 하여 입사 단면(32a)으로부터 방사 모양으로 퍼져 있다. 복수의 도광 부재(32)의 수광 영역은, 꼭대기부(25a)의 주변의 소정 영역에서 서로 겹쳐져 있다. 이것에 의해, 적분기(20) 내에서의 공통 영역으로부터의 계측광이 복수의 도광 부재(32)에 입사하게 된다.
도 2, 도 3 및 도 4에 나타내어지는 바와 같이, 광 계측 장치(1)는, 필터 유닛(필터부)(60)을 더 구비하고 있다. 필터 유닛(60)은, 복수의 광학 필터(61)와, 복수의 광학 필터(61)가 마련된 베이스부(62)와, 베이스부(62)를 구동하는 구동부(63)와, 구동부(63)의 구동을 제어하는 제어부(64)를 가지고 있다. 구동부(63)와 제어부(64)는, 서로 전기적으로 접속되어 있다.
베이스부(62)는, 원형 판 모양을 나타내고 있다. 베이스부(62)의 둘레 가장자리부에는, 둘레 방향을 따라서 등간격으로 늘어서도록 복수의 배치 구멍(62a)이 마련되어 있다. 배치 구멍(62a)은, 예를 들면 단면 원형 모양을 나타내고, 베이스부(62)를 두께 방향으로 관통하고 있다. 복수의 배치 구멍(62a) 중의 일부(一部)에는, 광학 필터(61)가 배치되고, 복수의 배치 구멍(62a) 중의 타부(他部)는, 광학 필터(61)가 배치되지 않고 개구부(66)로 되어 있다. 즉, 베이스부(62)에는, 계측광을 필터링하는 광학 필터(61)에 더하여, 계측광을 그대로 통과시키는 개구부(66)가 마련되어 있다.
배치 구멍(62a)에 배치되는 광학 필터(61)는, 사양에 따른 임의의 필터로 할 수 있다. 광학 필터(61)로서는, 예를 들면, ND(Neutral　Density) 필터, 쇼트 패스 필터, 롱 패스 필터, 밴드 패스 필터, 노치 필터, 및 광 반사 물질로 구성된 필터등을 이용할 수 있다. 광 반사 물질로서는, 적분기(20)의 내면(20a)에 마련되는 반사율이 높고 또한 확산성이 뛰어난 재료인 스텍트라론(등록상표)을 이용할 수 있다. 즉, 가시역으로부터 근적외역까지의 넓은 파장역에 걸쳐 대략 일정한 반사율을 가지는 스텍트라론을 시트 모양으로 한 스텍트라론 필터를, 광학 필터(61)로서 이용할 수 있다.
광학 필터(61) 및 개구부(66)의 배치는, 사양에 따른 임의의 배치로 할 수 있다. 예를 들면, 도 4에 나타내어지는 배치예에서는, 베이스부(62)는, 복수의 제1 세트(A1), 복수의 제2 세트(A2), 및 1개의 제3 세트(A3)를 포함하여 구성되어 있다. 제1 세트(A1)는, 둘레 방향으로 서로 이웃하는 2개의 광학 필터(61)에 의해 구성되어 있다. 제2 세트(A2)는, 둘레 방향으로 서로 이웃하는 광학 필터(61)와 개구부(66)에 의해 구성되어 있다. 제3 세트(A3)는, 둘레 방향으로 서로 이웃하는 2개 개구부(66)에 의해 구성되어 있다. 복수의 제1 세트(A1) 사이에서는, 포함되는 광학 필터(61)의 종류의 조합이 서로 다르다. 복수의 제2 세트(A2) 사이에서는, 포함되는 광학 필터(61)의 종류가 서로 다르다. 1개의 제1 세트(A1)에 포함되는 2개의 광학 필터(61)의 각 종류에 대해서는, 복수의 제1 세트(A1) 사이에서 해당 각 종류의 조합이 다르면, 서로 달라도 괜찮고, 동일해도 좋다. 또, 1개의 배치 구멍(62a)에 복수 종류의 필터가 겹쳐서 배치되어 있어도 괜찮다.
베이스부(62)는, 축부(62b)를 매개로 하여 지지부(67)에 접속되어 있고, 축부(62b)를 회전축으로 하여 지지부(67)에 대해서 회전 가능하게 되어 있다. 지지부(67)는, 예를 들면 직사각형 판 모양을 나타내고 있다. 지지부(67)의 길이 방향의 일단은, 베이스부(62)의 외측 둘레 가장자리로부터 돌출하는 돌출부(67a)를 구성한다. 돌출부(67a)는, 끝이 가는 형상을 나타내고 있다. 베이스부(62)를 돌출부(67a)측으로부터 가대(3) 내의 필터부 배치 공간(S)에 삽입할 때에는, 돌출부(67a)를 가대(3)에 맞닿게 하면서, 베이스부(62)에 의해 해당 삽입을 가이드할 수 있다. 이것에 의해, 베이스부(62) 및 지지부(67)의 삽입 작업을 용이화할 수 있다. 또, 돌출부(67a)가 베이스부(62)의 외측 둘레 가장자리로부터 돌출되어 있음으로써, 삽입시에서의 베이스부(62)의 간섭 나아가서는 손상 등을 억제할 수 있다.
지지부(67)의 길이 방향의 타단에는, 맞닿음부(67b)가 마련되어 있다. 맞닿음부(67b)는, 베이스부(62) 및 지지부(67)가 필터부 배치 공간(S)에 배치된 상태에서, 가대(3)의 지지면(3a)에 맞닿는다. 지지부(67)는, 맞닿음부(67b)가 지지면(3a)에 맞닿는 것과 아울러, 배면(맞닿음부(67b)측의 면)이 가대(3)에 접촉하는 것에 의해서, 가대(3)에 대해서 위치 결정된다. 지지부(67)에는, 개구(67c)가 마련되어 있다. 개구(67c)는, 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)에 입사하는 계측광 각각이 통과하는 각 위치에 마련되어 있다. 개구(67c)는, 복수의 도광 부재(32)와 동수로 복수 마련되어 있다. 개구(67c)의 단면 형상은, 배치 구멍(62a)의 단면 형상과 동일하다. 예를 들면 개구(67c)의 단면 형상은, 단면 원형 모양으로 되어 있다.
지지부(67)가 가대(3)에 대해서 위치 결정된 상태에서, 베이스부(62)를 지지부(67)에 대해서 회전시킴으로써, 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)에 입사하는 계측광 각각의 광로 상에 복수의 광학 필터(61) 중 어느 하나를 삽입 필터(F)로서 삽입할 수 있다. 또, 본 실시 형태와 같이 베이스부(62)에 개구부(66)가 마련되어 있는 경우, 해당 각 광로의 적어도 일방 상(上)에 개구부(66)를 배치할 수도 있다.
구동부(63)는, 예를 들면 모터이며, 구동축에 접속된 기어(63a)와 베이스부(62)의 외주면에 형성된 기어부(미도시)와의 맞물림에 의해서 회전 구동력을 베이스부(62)에 전달 가능하게 되어 있다. 구동부(63)는, 제어부(64)로부터의 신호에 따라서, 삽입 필터(F)가 복수의 광학 필터(61) 안에서 전환되도록 베이스부(62)를 구동시킨다.
제어부(64)는, 예를 들면, CPU(Central Processing Unit), ROM(Read OnlyMemory), RAM(Random Access Memory) 등을 포함하는 컴퓨터에 의해 구성되어 있다. 또, 제어부(64)는, FPGA(Field-Programmable Gate Array) 또는 마이크로 컴퓨터라도 괜찮다. 제어부(64)는, 해석부(51), 입력부(52) 및 표시부(53)와는 별개로 마련되어 있어도 괜찮고, 해석부(51), 입력부(52) 및 표시부(53) 중 적어도 어느 하나와 일체로 구성되어 있어도 괜찮다.
제어부(64)는, 광 계측 장치(1)의 측정 조건에 따라서, 복수의 광학 필터(61) 중 어느 하나를 선택 필터로서 선택한다. 제어부(64)는, 선택한 상기 선택 필터가 삽입 필터(F)가 되도록 구동부(63)를 구동시킨다. 이하, 제어부(64)의 보다 구체적인 동작에 대해 설명한다.
제어부(64)는, 예를 들면, 입력부(52)와 통신 가능하게 접속되어 있으며, 입력부(52)에 입력된 측정 조건을 받는다. 측정 조건은, 예를 들면, 시료의 종류, 측정할 광 특성, 여기광의 종류, 파장, 강도, 또는 광 검출기(43)의 분광 감도 특성 등이다. 예를 들면, 일방의 광 검출기(43)가 BT－CCD 리니어 이미지 센서이며, 타방의 광 검출기(43)가 InGaAs 리니어 이미지 센서이며, 여기광이 레이저광인 경우, 일방의 광 검출기(43)에 의해 검출되는 계측광의 광로 상에는, 광학 필터(61)로서 쇼트 패스 필터가 배치되고, 타방의 광 검출기(43)에 의해 검출되는 계측광의 광로 상에는 개구부(66)가 배치된다.
제어부(64)에는, 베이스부(62) 상에서의 광학 필터(61) 및 개구부(66)의 배치 관계, 즉 제1 ~ 제3 세트(A1~A3)의 배치 관계가 미리 기억되어 있다. 제어부(64)는, 해당 배치 관계를 참조하면서, 측정 조건에 근거하여 구동부(63)를 구동시킴으로써, 제1 ~ 제3 세트(A1~A3) 중 어느 하나에 포함되는 광학 필터(61) 또는 개구부(66)를 각 광로 상에 배치한다.
보다 구체적으로는, 제어부(64)는, 먼저, 측정 조건에 따라서, 제1 ~ 제3 세트(A1~A3) 중 어느 하나를 선택한다. 예를 들면, 제어부(64)는, 1개의 제1 세트(A1)를 선택한다. 1개의 제1 세트(A1)를 선택하는 것은, 일방의 광 검출기(43)에 의해 검출되는 계측광의 광로 상에 삽입하는 광학 필터(61)를 선택함과 아울러, 타방의 광 검출기(43)에 의해 검출되는 계측광의 광로 상에 삽입하는 광학 필터(61)를 선택하는 것에 상당한다. 다음으로, 제어부(64)는, 선택한 제1 세트(A1)에 포함되는 2개의 광학 필터(61)가 삽입 필터(F)가 되는 회전 위치까지 구동부(63)를 구동시킨다.
혹은, 제어부(64)는, 측정 조건에 따라 1개의 제2 세트(A2)를 선택한다. 1개의 제2 세트(A2)를 선택하는 것은, 일방의 광 검출기(43)에 의해 검출되는 계측광의 광로 상에 삽입하는 광학 필터(61)를 선택함과 아울러, 타방의 광 검출기(43)에 의해 검출되는 계측광의 광로 상에 개구부(66)를 배치하는 것을 선택하는 것에 상당한다. 다음으로, 제어부(64)는, 선택한 제2 세트(A2)에 포함되는 광학 필터(61)가 삽입 필터(F)가 되고 또한 해당 광로 상에 개구부(66)가 위치하는 회전 위치까지 구동부(63)를 구동시킨다.
혹은, 제어부(64)는, 측정 조건에 따라 제3 세트(A3)를 선택한다. 제3 세트(A3)를 선택하는 것은, 2개의 광 검출기(43)에 의해 검출되는 계측광 각각의 광로 상에 개구부(66)를 배치하는 것을 선택하는 것에 상당한다. 다음으로, 제어부(64)는, 해당 각 광로 상에 2개의 개구부(66)가 위치하는 회전 위치까지 구동부(63)를 구동시킨다.
이상으로 설명한 광 계측 장치(1)에서는, 입사 개구(22)로부터 입사한 여기광이 시료에 조사되고, 시료에서 생긴 발생광을 포함하는 계측광이 적분기(20) 내에서 다중 확산 반사된다. 이 때, 시료로부터의 광이 출사 개구(23)에 직접 입사하는 것이 배플(25)에 의해서 방지됨으로써, 계측광이 적분기(20) 내에서 확실히 다중 확산 반사된다. 그리고, 다중 확산 반사되어 균일화된 계측광이, 적분기(20) 내에서의 공통의 수광 영역으로부터 1개의 출사 개구(23)를 통해서 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)에 입사한다. 각 입사 단면(32a)에 입사한 계측광은, 복수의 광 검출기(43)를 가지는 광 검출부(40)에 의해서 병행하여 또는 서로 타이밍을 겹치지 않게 검출되어, 해석부(51)에서 해석된다. 해석부(51)에 의한 해석 결과는, 표시부(53)에 표시된다.
이상, 광 계측 장치(1)에서는, 입사 단면(32a)이 출사 개구(23)를 통해서 적분기(20) 내를 향하도록 복수의 도광 부재(32)가 배치되어 있고, 복수의 도광 부재(32)에 의해서 도광된 계측광을 광 검출부(40)가 검출한다. 이것에 의해, 복수의 도광 부재(32)를 통해서 공통의 출사 개구(23)로부터 계측광이 취출되기 때문에, 적분기(20)에서의 출사 개구(23)의 형성수를 저감할 수 있어, 적분기(20)의 다중 확산 반사 특성을 확보하는 것이 가능해진다. 또, 각 도광 부재(32)에 의해서 취출되는 계측광의 강도 분포를 균일화하는 것도 가능해진다. 게다가, 광 계측 장치(1)에서는, 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)측에서의 수광 영역이 적분기(20) 내에서 서로 겹쳐져 있다. 이것에 의해, 적분기(20) 내에서의 공통 영역으로부터의 계측광이 복수의 도광 부재(32)에 입사하기 때문에, 각 도광 부재(32)에 의해서 취출되는 계측광의 강도 분포를 한층 균일화할 수 있다. 따라서, 광 계측 장치(1)에 의하면, 적분기(20)의 다중 확산 반사 특성을 확보하면서, 균일한 강도 분포를 가지는 계측광을 취출할 수 있어, 계측광을 정밀도 좋게 검출하는 것이 가능해진다.
만일, 광 계측 장치(1)와는 달리, 1개의 도광 부재(32)를 매개로 하여 취출한 계측광을 전환기 등에 의해서 복수의 광 검출기(43)로 전환하여 도광 가능하게 된 경우와 비교하여, 광 계측 장치(1)에서는, 복수의 도광 부재(32)를 매개로 하여 동일 타이밍으로 취출된 계측광을 검출할 수 있기 때문에, 계측광을 정밀도 좋게 검출하는 것이 가능해진다. 게다가, 전환기 등을 불필요하게 하여 장치 구성을 간이화하는 것도 가능해진다. 또, 광 계측 장치(1)에서는, 공통의 출사 개구(23)로부터 복수의 도광 부재(32)를 매개로 하여 계측광이 취출되기 때문에, 예를 들면 적분기(20)에서의 개구의 형성수가 미리 정해져 있는 경우에도, 개구가 부족하여 복수의 계측광을 취출하지 않는 경우가 생기기 어렵다.
광 계측 장치(1)에서는, 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)에서의 광축(X)이 적분기(20) 내에서 서로 교차하고 있다. 이것에 의해, 상기 작용 효과, 즉, 적분기(20) 내에서의 공통 영역으로부터의 계측광이 복수의 도광 부재(32)에 입사하기 때문에, 각 도광 부재(32)에 의해서 취출되는 계측광의 강도 분포를 한층 균일화할 수 있다고 하는 상기 작용 효과가 현저하게 나타내어진다.
광 계측 장치(1)는, 적분기(20) 내에서의 출사 개구(23)와 대향하는 위치에 배치된 배플(25)을 더 구비하고 있다. 이것에 의해, 시료로부터의 광이 출사 개구(23)에 직접 입사하는 것을 배플(25)에 의해서 방지할 수 있어, 계측광을 적분기(20) 내에서 확실히 다중 확산 반사시키는 것이 가능해진다.
광 계측 장치(1)에서는, 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)에서의 광축(X)이 출사 개구(23)와 배플(25)과의 사이에서 서로 교차하고 있다. 이것에 의해, 시료로부터의 광이 출사 개구(23)에 직접 입사하는 것을 배플(25)에 의해서 방지하면서, 적분기(20) 내에서의 공통 영역으로부터의 계측광을 복수의 도광 부재(32)에 의해서 취출하는 것이 가능해진다.
광 계측 장치(1)에서는, 적분기(20) 내에서의 출사 개구(23)의 주변에 배치된 한 쌍의 지지 기둥(26)에 의해서 배플(25)이 지지되어 있고, 복수의 도광 부재(32)가 늘어서는 방향과 한 쌍의 지지 기둥(26)이 늘어서는 방향이 직교하고 있다. 이것에 의해, 도광 부재(32)에 입사하는 계측광이 지지 기둥(26)에 의해서 차단되는 것을 억제할 수 있어, 각 도광 부재(32)에 의해서 취출되는 계측광의 강도 분포를 보다 한층 균일화하는 것이 가능해진다.
광 계측 장치(1)는, 복수의 광학 필터(61)를 가지며, 복수의 입사 단면(32a)에 입사하는 계측광 각각의 광로 상에 복수의 광학 필터(61) 중 어느 하나를 삽입 필터(F)로서 삽입할 수 있는 필터 유닛(60)을 구비하고 있다. 이것에 의해, 복수의 입사 단면(32a)에 입사하는 계측광 각각의 광로 상에, 광 계측 장치(1)의 측정 조건에 따른 광학 필터(61)를 삽입할 수 있다. 그 결과, 고정밀한 측정이 가능해진다.
광 계측 장치(1)에서는, 필터 유닛(60)이, 광학 필터(61)로서, ND필터, 쇼트 패스 필터, 롱 패스 필터, 밴드 패스 필터, 노치 필터, 및 광 반사 물질로 구성된 필터 중 적어도 1개를 포함하고 있다. 이것에 의해, 광 계측 장치(1)의 측정 조건에 따른 측정을 구체적으로 실현할 수 있게 된다.
광 계측 장치(1)에서는, 필터 유닛(60)이, 복수의 광학 필터(61)가 마련된 베이스부(62)와, 삽입 필터(F)가 복수의 광학 필터(61) 중에서 전환되도록 베이스부(62)를 구동시키는 구동부(63)와, 구동부(63)의 구동을 제어하는 제어부(64)를 가지고 있다. 그리고, 제어부(64)가, 복수의 광학 필터(61) 중 어느 하나를 선택 필터로서 선택하고, 선택한 상기 선택 필터가 삽입 필터(F)가 되도록 구동부(63)를 구동시킨다. 이것에 의해, 제어부(64)에 의해, 예를 들면 광 계측 장치(1)의 측정 조건에 따른 광학 필터(61)를 선택하여 광로 상에 삽입시킬 수 있다. 그 결과, 예를 들면 수동으로 삽입 필터(F)를 바꾸는 경우와 비교하여, 측정 조건에 따른 측정 작업을 용이화하는 것이 가능해진다.
광 계측 장치(1)에서는, 광 검출부(40)가 복수의 도광 부재(32)와 동수의 복수의 광 검출기(43)를 가지고 있으며, 복수의 광 검출기(43)의 분광 감도 특성이 서로 다르다. 이 경우, 분광 감도 특성이 서로 다른 복수의 광 검출기(43)를 이용함으로써, 넓은 파장 영역에서의 계측이 가능해진다.
이상, 본 발명의 일 실시 형태에 대해 설명했지만, 본 발명은, 상기 실시 형태에 한정되지 않는다. 예를 들면, 상기 실시 형태에서는, 적분기(20)로서 적분구(積分球)가 이용되었지만, 그 내부의 광을 공간적으로 적분하는 수단(광학 컴퍼넌트)이면 좋고, 예를 들면 일본특허공개 제2009－103654호 공보에 개시되어 있는 바와 같은 적분 반구(半球)가 이용되어도 괜찮다.
상기 실시 형태에서, 광 검출부(40)는, 복수의 도광 부재(32)의 배치수보다도 적은 수의 광 검출기(43)(분광 검출기(41))를 가지고 있어도 괜찮다. 이 경우, 예를 들면, 광 검출부(40)는, 일부의 도광 부재(32)에 의해서 도광된 계측광만을 검출하고, 다른 도광 부재(32)에 의해서 도광된 계측광을 검출하지 않아도 된다. 계측광의 검출이 행해지지 않은 도광 부재(32)에 대해서는, 예를 들면, 적분기(20) 내에 광이 들어가지 않도록 막대 모양 부재 등에 의해서 막혀 있어도 괜찮다. 즉, 광 검출부(40)는, 복수의 도광 부재(32) 중 적어도 1개에 의해서 도광된 계측광을 검출하는 것이면 좋다.
상기 실시 형태에서, 광 계측 장치(1)는, 3개 이상의 도광 부재(32)를 구비하고 있어도 괜찮다. 이 경우, 복수의 도광 부재(32)는, 일렬로 늘어서 배치되어도 괜찮고, 복수열로 늘어서 배치되어 있어도 괜찮고, 원형 모양으로 늘어서도록 배치되어 있어도 괜찮으며, 직사각형 모양으로 늘어서도록 배치되어 있어도 괜찮다. 상기 실시 형태에서는, 복수의 도광 부재(32)가 늘어서는 방향과 한 쌍의 지지 기둥(26)이 늘어서는 방향이 직교하고 있었지만, 수직 이외의 각도로 교차하고 있어도 괜찮다. 혹은, 복수의 도광 부재(32)가 늘어서는 방향과 한 쌍의 지지 기둥(26)이 늘어서는 방향이 교차하고 있지 않아도 좋다.
상기 실시 형태에서는, 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)측에서의 광축(X)이 배플(25)의 꼭대기부(25a)에서 서로 교차하고 있었지만, 적분기(20) 내에서 서로 교차하고 있으면 좋고, 예를 들면 출사 개구(23)와 배플(25)과의 사이의 다른 위치에서 서로 교차하고 있어도 괜찮다. 상기 실시 형태에서는, 복수의 도광 부재(32)의 수광 영역이 적분기(20) 내에서 서로 겹쳐져 있으면 되며, 복수의 도광 부재(32)의 광축(X)이 적분기(20) 내에서 서로 교차하고 있지 않아도 좋다.
상기 실시 형태에서는, 베이스부(62)에 개구부(66)가 마련되어 있지 않아도 괜찮다. 이 경우, 모든 배치 구멍(62a)에 광학 필터(61)가 배치된다. 상기 실시 형태에서는, 베이스부(62)는, 제1 세트(A1), 제2 세트(A2) 및 제3 세트(A3)를 포함하여 구성되어 있지만, 제1 세트(A1) 및 제2 세트(A2)만을 포함하여 구성되어 있어도 괜찮고, 제1 세트(A1) 및 제3 세트(A3)만을 포함하여 구성되어 있어도 괜찮다. 베이스부(62)는, 임의의 형상이라도 좋고, 예를 들면 직사각형 판 모양이라도 괜찮다. 베이스부(62)는, 지지부(67)에 대한 슬라이드 이동에 의해서 삽입 필터(F)를 전환할 수 있게 되어 있어도 괜찮다. 필터 유닛(60)은, 구동부(63)를 가지지 않아도 되며, 베이스부(62)는, 예를 들면 수동으로 회전 가능하게 구성되어 있어도 괜찮다.
상기 실시 형태에서, 필터 유닛(60)은, 서로 대향하여 배치된 2개의 베이스부(62)를 가지고 있어도 괜찮다. 이 경우, 하나의 베이스부(62)의 광학 필터(61)와 다른 베이스부(62)의 광학 필터(61)를 계측광의 광로 상에서 겹쳐서 사용할 수 있어, 선택 가능한 광학 필터(61)의 조합을 증가시킬 수 있다. 광 계측 장치(1)는, 필터 유닛(60)을 구비하지 않아도 좋다.
상기 실시 형태에서, 장착부(31)의 개구(31a)는, 단면 원형 모양이라도 좋다. 다만, 상기 실시 형태와 같이 복수의 도광 부재(32)가 소정 방향(D)으로 늘어서 배치되는 경우, 개구(31a)의 횡단면이 소정 방향(D)을 길이 방향으로 하는 장원(長圓) 형상 또는 타원 형상을 나타내고 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 개구(31a)를 통과하는 계측광에 대한 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)에 입사하지 않는 광의 비율을, 저감할 수 있기 때문이다.
상기 실시 형태에서, 시료는, 적분기(20)의 중앙부 이외의 위치에 배치되어도 좋고, 예를 들면 적분기(20) 내에서 시료 도입 개구(21)와는 반대측에 재치되도록 배치되어도 괜찮다. 이 경우, 배플은, 적분기(20)의 내면에서, 재치된 시료와 출사 개구(23)와의 사이에 세워 마련되고, 출사 개구(23)의 중심선 상으로부터 벗어난 위치에 위치하고 있어도 괜찮다. 이러한 배플이 마련되어 있는 경우, 복수의 도광 부재(32)의 입사 단면(32a)에 입사하는 계측광이 배플에 의해 차단되는 것을 억제하기 위해서, 복수의 도광 부재(32)가 늘어서는 방향은, 출사 개구(23)와 배플이 늘어서는 방향과 교차하고 있는 것이 바람직하다.
상기 실시 형태에서는, 지지 기둥(26)이 장착부(31)에 마련되어 있었지만, 적분기(20)의 내면(20a)에 마련되어 있어도 괜찮다. 혹은, 지지 기둥(26)이 마련되지 않고, 배플(25)이 적분기(20)의 내면(20a)에 직접 마련되어 있어도 괜찮다. 배플(25)의 형상은, 시료로부터의 광이 출사 개구(23)에 직접 입사하는 것을 방지할 수 있는 형상이면 좋고, 예를 들면 평판 모양 등이라도 좋다.
1 - 광 계측 장치 20 - 적분기
22 - 입사 개구 23 - 출사 개구
25 - 배플 26 - 지지 기둥
30 - 도광부 32 - 도광 부재
32a - 입사 단면 40 - 광 검출부
43 - 광 검출기 60 - 필터 유닛(필터부)
61 - 광학 필터 62 - 베이스부
63 - 구동부 64 - 제어부
F - 삽입 필터 L - 여기광
X - 광축

Claims (9)

  1. 시료에 여기광(勵起光)을 조사하고, 계측광을 검출하는 광 계측 장치로서,
    상기 여기광이 입사되는 입사 개구, 및 상기 계측광을 출사하는 출사 개구가 형성되고, 상기 시료가 배치되는 적분기(積分器)와,
    상기 출사 개구로부터 출사된 상기 계측광을 도광(導光)하는 도광부와,
    상기 도광부에 의해서 도광된 상기 계측광을 검출하는 광 검출부를 구비하며,
    상기 도광부는, 입사 단면(端面)이 상기 출사 개구를 통해서 상기 적분기 내를 향하도록 배치된 복수의 도광 부재를 가지고,
    상기 광 검출부는, 복수의 상기 도광 부재 중 적어도 1개에 의해서 도광된 상기 계측광을 검출하고,
    복수의 상기 도광 부재의 상기 입사 단면측에서의 수광 영역은, 상기 적분기 내에서 서로 겹쳐져 있는 광 계측 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    복수의 상기 도광 부재의 상기 입사 단면에서의 광축은, 상기 적분기 내에서 서로 교차하고 있는 광 계측 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 적분기 내에서의 상기 출사 개구와 대향하는 위치에 배치된 배플(baffle)을 더 구비하는 광 계측 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    복수의 상기 도광 부재의 상기 입사 단면에서의 광축은, 상기 출사 개구와 상기 배플과의 사이에서 서로 교차하고 있는 광 계측 장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 배플은, 상기 적분기 내에서의 상기 출사 개구의 주변에 배치된 한 쌍의 지지 기둥에 의해서 지지되고,
    복수의 상기 도광 부재가 늘어서는 방향과, 한 쌍의 상기 지지 기둥이 늘어서는 방향은, 교차하고 있는 광 계측 장치.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    복수의 광학 필터를 가지며, 복수의 상기 입사 단면에 입사하는 상기 계측광 각각의 광로(光路) 상에 복수의 상기 광학 필터 중 어느 하나를 삽입 필터로서 삽입할 수 있는 필터부를 더 구비하고,
    상기 광학 필터는 상기 적분기와 복수의 상기 도광 부재 사이에 배치되는 광 계측 장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 필터부는, 상기 광학 필터로서, ND필터, 쇼트 패스(short pass) 필터, 롱 패스(long pass) 필터, 밴드 패스(band pass) 필터, 노치 필터(notch pass), 및 광 반사 물질로 구성된 필터 중 적어도 1개를 포함하고 있는 광 계측 장치.
  8. 청구항 6에 있어서,
    상기 필터부는,
    복수의 상기 광학 필터가 마련된 베이스부와,
    상기 삽입 필터가 복수의 상기 광학 필터 중에서 전환되도록 상기 베이스부를 구동시키는 구동부와,
    상기 구동부의 구동을 제어하는 제어부를 가지며,
    상기 제어부는,
    복수의 상기 광학 필터 중 어느 하나를 선택 필터로서 선택하고,
    선택한 상기 선택 필터가 상기 삽입 필터가 되도록 상기 구동부를 구동시키는 광 계측 장치.
  9. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광 검출부는, 복수의 상기 도광 부재와 동수(同數)의 복수의 광 검출기를 가지며, 복수의 상기 광 검출기의 분광 감도 특성은, 서로 다른 광 계측 장치.
KR1020187026415A 2016-07-25 2017-05-12 광 계측 장치 KR102359887B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016145400A JP6227067B1 (ja) 2016-07-25 2016-07-25 光計測装置
JPJP-P-2016-145400 2016-07-25
PCT/JP2017/018026 WO2018020779A1 (ja) 2016-07-25 2017-05-12 光計測装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190032268A KR20190032268A (ko) 2019-03-27
KR102359887B1 true KR102359887B1 (ko) 2022-02-09

Family

ID=60265837

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020187026415A KR102359887B1 (ko) 2016-07-25 2017-05-12 광 계측 장치

Country Status (8)

Country Link
US (1) US10928246B2 (ko)
EP (1) EP3489662B1 (ko)
JP (1) JP6227067B1 (ko)
KR (1) KR102359887B1 (ko)
CN (1) CN109477797B (ko)
ES (1) ES2927785T3 (ko)
TW (1) TWI724202B (ko)
WO (1) WO2018020779A1 (ko)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010276565A (ja) 2009-06-01 2010-12-09 Systemroad Co Ltd 光源の光学特性の測定装置および測定方法ならびに該測定装置を備えた検査装置
JP2015222215A (ja) 2014-05-23 2015-12-10 浜松ホトニクス株式会社 光計測装置及び光計測方法
WO2016088568A1 (ja) 2014-12-02 2016-06-09 浜松ホトニクス株式会社 分光測定装置および分光測定方法
JP2016109432A (ja) 2014-12-02 2016-06-20 浜松ホトニクス株式会社 分光測定装置および分光測定方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE9005845U1 (ko) * 1990-05-23 1990-07-26 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim, De
JP3220213B2 (ja) * 1992-03-18 2001-10-22 浜松ホトニクス株式会社 光断層イメージング装置
US5369481A (en) * 1992-05-08 1994-11-29 X-Rite, Incorporated Portable spectrophotometer
JPH07301598A (ja) * 1993-10-07 1995-11-14 Masato Mamiya 光センサープローブ
JP3464824B2 (ja) * 1994-03-07 2003-11-10 株式会社リコー 光学測定装置
GB9418049D0 (en) 1994-09-07 1994-10-26 Gersan Ets Examining a diamond
JP2000205955A (ja) * 1999-01-08 2000-07-28 Minolta Co Ltd ポリクロメ―タの校正デ―タ算出装置及びその算出方法
US6422718B1 (en) 1999-11-18 2002-07-23 Integrated Systems Technologies Limited Non-imaging light source for uniform illumination applications
US6414750B2 (en) 2000-01-10 2002-07-02 Lj Laboratories, L.L.C. Spectrometric apparatus and method for measuring optical characteristics of an object
JP4622673B2 (ja) 2004-06-11 2011-02-02 株式会社島津製作所 紫外可視近赤外分光光度計用検出装置
JP4452737B2 (ja) 2007-10-25 2010-04-21 大塚電子株式会社 光束計および測定方法
JP5491368B2 (ja) 2010-11-29 2014-05-14 浜松ホトニクス株式会社 量子収率測定装置及び量子収率測定方法
JP5529305B1 (ja) 2013-02-04 2014-06-25 浜松ホトニクス株式会社 分光測定装置、及び分光測定方法
US10094711B2 (en) 2014-04-01 2018-10-09 Shimadzu Corporation Spectrometer and integrating sphere

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010276565A (ja) 2009-06-01 2010-12-09 Systemroad Co Ltd 光源の光学特性の測定装置および測定方法ならびに該測定装置を備えた検査装置
JP2015222215A (ja) 2014-05-23 2015-12-10 浜松ホトニクス株式会社 光計測装置及び光計測方法
WO2016088568A1 (ja) 2014-12-02 2016-06-09 浜松ホトニクス株式会社 分光測定装置および分光測定方法
JP2016109432A (ja) 2014-12-02 2016-06-20 浜松ホトニクス株式会社 分光測定装置および分光測定方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3489662B1 (en) 2022-09-14
WO2018020779A1 (ja) 2018-02-01
KR20190032268A (ko) 2019-03-27
US10928246B2 (en) 2021-02-23
US20200271511A1 (en) 2020-08-27
JP2018017515A (ja) 2018-02-01
EP3489662A4 (en) 2020-03-04
EP3489662A1 (en) 2019-05-29
CN109477797A (zh) 2019-03-15
TWI724202B (zh) 2021-04-11
CN109477797B (zh) 2021-06-29
TW201805616A (zh) 2018-02-16
JP6227067B1 (ja) 2017-11-08
ES2927785T3 (es) 2022-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7414724B2 (en) Light diffuser used in a testing apparatus
KR101739619B1 (ko) 양자수율 측정장치
JP5529305B1 (ja) 分光測定装置、及び分光測定方法
US20070037272A1 (en) System for optically analyzing a substance
EP2647980B1 (en) Quantum-yield measurement device
KR100601964B1 (ko) 다채널 다중 컬러 측정을 위한 광검출장치 및 이를 채용한다채널 시료 분석기
WO2009081969A1 (ja) 生体画像取得装置
US10551315B2 (en) Fluorescence spectrophotometer and fluorescence spectrometry and imaging method
CN106338341B (zh) 光谱检测器
US10876967B2 (en) Display device for photometric analyzer
KR101188217B1 (ko) 휴대용 분광 분석 장치
KR102359887B1 (ko) 광 계측 장치
EP3449241B1 (en) Methods and systems for optical-based measurement with selectable excitation light paths
US20070247628A1 (en) Instrumentation and Method Adapted For Optical Measurement of an Amplified Luminescent Proximity Homogeneous Assay
EP1857807A2 (en) Arrangement and method for illuminating an object
JP2013033035A (ja) 光学測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right