KR102340801B1 - 용융된 재료의 과립화를 위한 턴디쉬 배열체 및 노즐 - Google Patents

용융된 재료의 과립화를 위한 턴디쉬 배열체 및 노즐 Download PDF

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Abstract

본 발명은 과립화물의 제조를 위해 사용되는 노즐 및 턴디쉬 배열체에 관한 것이고, 그리고 개선된 크기 분포를 가지는 이러한 과립 재료의 제조를 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 입자 크기(grain size) 및 입자 크기 분포는 특정 설계를 가지는 노즐의 사용에 의해 제어된다. 노즐은 상부 유입구 개구, 채널을 형성하는 측벽들, 저부 및 채널의 하부 단부에 있는 적어도 하나의 유출구 개구 또는 유출구 개구들의 적어도 하나의 열을 포함하며, 여기서 채널에서의 유출구 개구들은 가장 작은 치수에서 적어도 5 mm의 크기를 가지며, 그리고 여기서 유입구에서의 채널의 단면적(AC)은 유출구 개구들의 총 면적(AT)보다 적어도 3 배 더 크다.

Description

용융된 재료의 과립화를 위한 턴디쉬 배열체 및 노즐
본 발명은 용융된 재료의 과립화를 위해 사용되는 장비에 관한 것이다.
물에서의 금속 과립화는 중간 크기로 형성된 생성물 형태로의 액체 금속의 급속 응고(solidification)를 위한 잘-구축된 방법이다. Granshot® 프로세스는 강 산업을 위한 사용 준비가 된 재료(material)의 직접적인 제조에 대해 개발되어 있다. 공지된 장치는 도 1에서 개시된다. 용융된 금속은 턴디쉬(tundish)로부터 도 1에서 스프레이 헤드(spray head)로 표시된 내화성 타겟(refractory target)으로 지향된다. 금속은 타겟에 충돌하고, 분할되고, 그리고 탱크의 냉각수에 걸쳐 반경 방향으로 분배된다. 액적들은 탱크에서 고체화되고, 탱크의 저부로부터 회수된다(recovered). 과립들의 크기는 수 개의 요인들, 예컨대 용융물 조성 및 충격 조건들에 의존한다. 획득된 주요한 분율은 5 내지 25 mm의 크기 범위에 놓인다. 그러나, ≤ 8 mm의 최대 치수를 가지는 과립들로 규정된 미립들(fines)의 양은 20%만큼 높을 수 있다. 이러한 방법의 원리들은 EP 402 665및 US 3 888 956에서 개시된다.
US 4 402 884는 회전 디스크(disc)를 사용하여 과립화하는 방법을 개시한다. 이러한 방법에 따라 획득된 과립들의 주요 부분은 10 mm 미만의 크기를 가진다.
상기 언급된 방법에 의해 획득된 입자 크기들이 강 용융물에서 과립형 금속의 빠른 용해(dissolution)를 허용하지만, 평균 입자 크기 및 입자 크기 분포를 조절하는 제한된 가능성들이 존재하기 때문에, 단점이 존재한다.
EP 522 844는 금속 스트림을 액체 냉각 욕(cooling bath) 내로 주입함으로써 금속 과립들을 제조하는 방법을 개시한다. US 6 287 362는 용융된 금속 스트림을 물의 스트림 내로 도입함으로써, 20 내지 100 mm의 특징적인 치수를 가지는 금속 럼프들(lumps)를 제조하는 방법을 개시한다. 이러한 방법들과 관련된 단점들은 조대(coarse) 재료에 대해 긴 용해 시간들 및 넓은 입자 크기 분포이다.
본 발명의 일반적인 목적은 개선된 크기 분포를 가지는 과립화된 재료의 제조를 위한 노즐 및 턴디쉬 배열체를 제공하는 것이다.
다른 목적은 개선된 크기 분포를 가지는 과립화된 재료를 만들기 위한 방법 및 장치를 제공하는 것이다. 특히, 저분율(low fraction)의 미립들을 가지는 과립들 및 동시에 용융물에서 급속 용해를 초래하는 평균 크기를 획득하는 것이 가능해야 한다. 동일한 이유로, 조대 과립들이 완전히 회피되거나 조대 과립들의 양이 적어도 제한되는 것이 필요하다.
획득된 과립들의 보다 좁은 크기 분포를 가지는 재료를 제공하는 것이 또한 목적이다.
이러한 목적들은 독립항들에서 규정되는 바와 같이 본 발명의 수단들에 의해 달성된다.
본 발명의 추가적인 유리한 실시예들은 종속항들에서 특정되어 있다.
본 발명에 따르면, 과립화가 노즐 또는 상기 노즐을 포함하는 턴디쉬 배열체에 의해 수행된다. 용융된 재료의 과립화는 10 내지 50 mm의 범위의 평균 크기를 가지는 과립화된 재료를 초래하며, 여기서 8 mm 미만의 크기를 가지는 과립화된 재료에서의 미립들의 양은 5%로 제한된다. 노즐은 상부 유입구 개구, 채널을 형성하는 측벽들, 저부, 및 채널을 형성하는 측벽들의 하부 단부에 있는 적어도 하나의 유출구 개구 또는 유출구 개구들의 적어도 하나의 열을 포함하며, 여기서 채널에서의 유출구 개구 또는 개구들은 가장 작은 치수에서 적어도 5 mm의 크기를 가지며, 그리고 여기서 유입구에서의 채널의 단면적(AC)은 유출구 개구들의 총 면적(AT)보다 적어도 3 배 더 크다.
이하에서는, 본 발명은 바람직한 실시예들 및 첨부 도면들을 참조하여 더 상세히 설명될 것이다.
도 1은 Granshot® 프로세스에서 사용되는 장치의 개략적인 도면이다.
도 2는, 주입 노즐이 회전 턴디쉬에 부착되는 본 발명의 일 실시예의 개략도이다.
도 3은 본 발명에 따른 주입 노즐의 개략도이다.
도 4는 본 발명에 따른 턴디쉬 배열체의 개략도이다.
도 5는 예 1에서 획득된 본 발명의 과립들의 크기 분포를 개시하며, 여기서 페로니켈(ferronickel)은 32% Ni 및 0.1% Si를 포함하였다.
도 6은 비교 방법의 과립들의 크기 분포를 개시하며, 여기서 페로니켈은 32% Ni 및 0.1% Si를 포함하였다.
도 7은 예 1의 과립들의 크기 분포를 개시하며, 여기서 페로니켈은 32% Ni 및 0.27% Si를 포함하였다.
도 8은 비교 방법의 과립들의 크기 분포를 개시하며, 여기서 페로니켈은 32% Ni 및 0.27% Si를 포함하였다.
도 9는 본 발명에 따른 테이퍼진 주입 노즐의 개략도이다.
본 발명은 청구항들에서 규정된다.
본 발명은 첨부 도면들을 참조로 하여 상세하게 설명될 것이다.
발명의 노즐 및 턴디쉬 배열체는 도 2에서 도시되는 바와 같은 과립화된 재료의 제조를 위한 장치에 사용될 수 있다. 장치는 냉각 유체를 포함하는 냉각 탱크, 냉각 탱크 위에 포지셔닝되는 회전가능한 턴디쉬에 액체 재료를 이송하기 위한 수단, 회전가능한 턴디쉬의 저부에 부착되는 노즐을 포함하고, 노즐은 상부 유입구 개구, 측벽들은 채널을 형성하는 측벽들, 저부 및 채널의 하부 단부에 있는 적어도 하나의 유출구 개구 또는 유출구 개구들의 적어도 하나의 열을 포함하며, 여기서 채널에서의 유출구 개구들은 가장 작은 치수에서 적어도 5 mm 그리고 이의 가장 큰 치수에서 50 mm 이하의 크기를 가지며, 그리고 여기서 상부 유입구에서의 채널의 단면적(AC)은 유출구 개구들의 총 면적(AT)보다 적어도 3 배 더 크다(AC ≥ 3 AT). 유출구 개구들의 가장 작은 치수는 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18 19 또는 20 mm일 수 있다. 가장 큰 치수는 50, 45, 40, 35, 30, 25, 20, 18 또는 16 mm로 제한될 수 있다.
노즐은 과립에 대한 유동 조건들을 최적화하기 위해 설계된다.
도 3은 본 발명에 따른 노즐을 개시한다. 노즐의 길이(L)는 80 cm로 바람직하게는 ≤ 60 cm로 제한될 수 있다. 그러므로, 길이는 80, 70, 60, 55, 50, 45, 40, 35, 30, 25 또는 20 cm로 제한될 수 있다. 측벽들에 의해 형성되는 수직 채널은 임의의 적합한 형태를 가질 수 있다. 수직 채널은 다각형, 예컨대 정사각형 또는 타원형 단면을 가질 수 있다. 그러나, 실제적인 이유들 때문에, 채널은 6 내지 20 cm 또는 8 내지 15 cm의 범위의 직경(d)을 갖는, 도 3에서 도시되는 바와 같은 일반적인 원통형 형태를 가질 수 있다. 그러므로, 직경은 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14 또는 15 cm일 수 있다. 수직 채널의 직경은 유출구들의 직경보다 훨씬 더 크다.
유입구에서의 채널의 단면적(AC)은 유출구들의 총 면적(AT)보다 훨씬 더 크며, 여기서 상기 총 면적은 측벽들의 내측 상에서 유출구 개구들의 크기로부터 계산되는데, 왜냐하면 유출구 개구들이 테이퍼질 수 있기 때문이다. 과립화를 위한 유동 조건들을 최적화하기 위해, 유입구에서의 채널의 단면적과 유출구들의 총 면적 사이의 비율(AC/AT)은 적어도 3이어야 한다. 바람직하게는, AC/AT ≥ 6, AC/AT ≥ 12, AC/AT ≥ 16 또는 심지어 AC/AT ≥ 20이다.
측벽들에 의해 형성된 수직 채널은 하부 단부에서보다 유입구에서 더 큰 단면적(AC)을 가질 수 있다. 수직 채널은 테이퍼지거나, 원뿔형일 수 있다. 유입구의 직경(d)은, 그 후, 채널의 하부 단부에서보다 더 크다. 도 9는 테이퍼진 노즐을 개시한다. 이러한 경우에, 노즐의 외부 윤곽부는 또한 원뿔형이며, 이는 예를 들어 원뿔형 시트에서의 노즐의 장착을 단순화할 수 있다. 채널의 하부 단부에서의 유출구 개구들은 약간 테이퍼질 수 있다.
노즐에는 다음 피처들(features) 중 하나 또는 그 초과가 제공될 수 있다:
- 10 mm 내지 50 mm, 10 mm 내지 30 mm, 20 mm 내지 35 mm 또는 12 mm 내지 30 mm의 직경을 갖는 측벽들의 하부 단부에서의 원형 개구들. 상기 개구의 가장 작은 직경은 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19 또는 20 mm일 수 있다. 가장 큰 직경은 50, 45, 40, 35, 32, 30, 28, 26, 24, 22, 20, 18 또는 16 mm로 제한될 수 있다. 개구들의 크기 및 수는 설계 용량(즉, 분당 톤)에 의존한다.
- 1:1.2 내지 1:10의 범위의 종횡비(height to width ratio)(h/w)를 가지는 타원형 개구들. 개구의 형태를 조절함으로써, 분배기를 떠나는 용융된 스트림의 형태를 조절하는 것이 가능하다. 보다 넓은 개구는 더욱 더 필름형 스트림을 초래하며, 이에 의해 과립들의 크기 및 형상이 영향을 받을 수 있다.
- 개구들 중 하나의 열 및, 바람직하게는, 상기 단일 열에서의 4 개 이하의 개구들. 양호한 방열(heat dissipation)을 얻기 위해, 개구들의 수는 2, 3 또는 4일 수 있다. 이러한 설계는 제조하기에 가장 간단하며, 그리고 본 방법은 제어하기에 용이하다. 따라서, 이는 바람직한 설계이다.
- 0° 내지 45° 상방으로, 예를 들어 5° 또는 25° 상방으로 또는 15° 내지 20° 상방으로 지향된 개구들. 이러한 측정에 의해, 스트림이 냉각 액체에 부딪히기 전에 공기의 경로와 시간을 조절하는 것이 가능하다. 또한, 냉각 욕(bath)에 걸친 용융된 스트림의 퍼짐(spread)은 포물선(parabolic) 비행에 의해 영향을 받는다.
- 0° 내지 45° 하방으로 지향되는 개구들. 하나 또는 그 초과의 스트림들을 하방으로 지향함으로써, 비행 거리를 단축하고, 스트림들이 냉각 욕에 부딪히고 그리고 냉각 욕에 걸친 퍼짐에 영향을 주기 전에 스트림의 분해의 위험을 감소하 것이 가능하다.
- 테이퍼진 개구들.
도 4는 본 발명에 따른 턴디쉬 배열체의 개략도이다.
바람직한 실시예에 따르면, 턴디쉬는 원형 단면을 가지며, 그리고 주입 노즐은 이 원형 단면의 중앙에 부착된다. 주입 노즐은 10 내지 30mm, 바람직하게는 20 내지 25mm의 직경을 각각 가지는 4 개의 원형 개구들을 가질 수 있다. 주입 노즐은 10 내지 35mm, 바람직하게는 22 내지 28mm의 직경을 각각 가지는 3 개의 원형 개구들을 가질 수 있다. 주입 노즐은 10 내지 40mm, 바람직하게는 26 내지 35mm의 직경을 각각 가지는 2 개의 원형 개구들을 가질 수 있다.
턴디쉬에는 일정한 액체 헤드 및 이에 의해 주입 노즐을 통한 일정한 유량을 유지하기 위해 턴디쉬의 레벨을 자동으로 제어하는 칭량 시스템(weighing system)이 제공된다. 대안적으로, 자동 제어 시스템은 광학 또는 전자기 센서들을 포함할 수 있다.
본 발명의 방법으로 획득된 과립화된 재료는 좁은 크기 분포 및 전형적으로 12 내지 50 mm, 바람직하게는 16 내지 30 mm 범위의 평균 크기를 가지며, 그리고 여기서 8 mm 미만의 크기를 가지는 미립들의 양은 ≤ 5% 또는 심지어 ≤ 3%로 제한될 수 있다. 6mm 미만의 크기를 가지는 미립들의 양은 ≤ 3% 또는 심지어 ≤ 1%로 제한될 수 있다. 5mm 미만의 크기를 가지는 미립들의 양은 ≤ 1%로 제한될 수 있다. 평균 크기에 대한 상한은 45mm, 40mm, 35mm, 32mm, 30mm 또는 25mm일 수 있다. 평균 크기에 대한 하한은 12 mm, 14 mm, 16 mm, 18 mm 또는 20 mm일 수 있다. 상한 및 하한은 자유롭게 조합될 수 있다. 2 중량% 초과의 C 및/또는 중량% 초과의 Si를 포함하는 페로니켈 재료는 본 발명으로부터 배제될(disclaimed) 수 있다.
> 80 mm의 크기를 가지는 조대(coarse) 과립들의 양은 5%로 제한될 수 있거나, 심지어 완전히 회피될 수 있다.
> 60 mm의 크기를 가지는 조대 과립들의 양은 10%, 8%, 5%, 3% 또는 1%로 제한될 수 있다.
> 40 mm의 크기를 가지는 조대 과립들의 양은 15%, 10%, 5%, 3% 또는 1%로 제한될 수 있다.
> 25 mm의 크기를 가지는 조대 과립들의 양은 30%, 25%, 20%, 15%, 10%, 5%, 3% 또는, 도 1에 도시된 바와 같이, 1%로 제한될 수 있다.
미립들 및 조대 과립들의 양에 대한 제한들은 총 중량의 %로 표현된다.
본 발명은 전술한 실시예에 의해 제한되는 것으로 볼 수는 없지만, 당업자에 의해 이해되는 바와 같이, 청구항들의 범위 내에서 변경될 수 있다.
예들
다음으로, 본 발명에 따라 획득된 결과들은 평탄한 스프레이 헤드를 가지는 공지된 장치에 의해 획득된 결과들과 비교된다. 모든 예들에서, 페로니켈은 유도로(induction furnace)에서 용융되었고, 출탕 스파우트(spout)의 사용에 의해 턴디쉬에 공급되었다. 출탕 온도는 1650℃였다. 턴디쉬에서의 용융물 레벨은 300 내지 400 mm로 수동으로 제어되었다. 턴디쉬에서의 노즐 직경은 72mm였다. 과립화가 완료된 후, 과립들은 탱크로부터 제거되고, 건조되고, 칭량되고(weighted) 그리고, 스크리닝(screening)을 받았다. 사용된 크기 등급들(classes)은 <4 mm, 4 내지 8 mm, 8 내지 12 mm, 12 내지 16 mm, 16 내지 25 mm 및> 25 mm였다. 결과들은 총 중량의 %로 주어진다.
예 1
이러한 예에서, 페로니켈은 32% Ni 및 0.1% Si를 포함하였다.
본 발명에 따른 노즐은 하나의 단일 열에서 4 개의 홀들을 가졌다. 4 개의 개구들은 346mm2의 총 개구 면적(AT)을 가졌으며, 따라서 AC≥10AT이었다. 3rpm의 회전 속도가 균일한 방열을 보장하기 위해 사용되었다.
본 발명에 따라 획득된 과립들의 크기 분포는 도 5에서 개시된다(장입물 번호 108).
종래의 평탄한 스프레이 헤드에 의해 획득된 과립들의 크기 분포는 도 6에서 도시된다(장입물 번호 110).
미립들의 양이 감소되었고, 평균 크기가 증가되었으며, 그리고 크기 분포가 개선되었다는 점에서 본 발명의 장치가 개선된 크기 분포를 초래한다는 것이 명백하다.
예 2
이러한 예에서, 크기 분포에 대한 Si의 증가된 함량의 효과가 검사되었다.
페로니켈은 32% Ni 및 0.27% Si를 포함하였다. 과립화 조건들은 예 1과 동일하였다.
본 발명에 따라 획득된 과립들의 크기 분포는 도 7에서 개시된다(장입물 번호 116).
종래의 평탄한 스프레이 헤드에 의해 획득된 과립들의 크기 분포는 도 8에서 도시된다(장입물 번호 115).
개선된 크기 분포가 양자 모두의 경우들에서 달성되었다.
종래의 스프레이 헤드에 대한 결과가 예상된 것과 같았는데, 왜냐하면 Si가 크기 분포에 대한 긍정적인 영향을 가지는 것이 공지되어 있기 때문이다. 장입물 번호 115 및 장입물 번호 110 사이의 비교는 증가된 Si 함량이 보다 적은 미립들 및 개선된 크기 분포를 초래하는 것을 드러낸다.
그러나, Si의 증가된 함량은 본 발명의 장치에 의해 획득된 크기 분포에 대한 현저한 효과를 가지는 것으로 밝혀졌다. 장입물 번호 116 및 장입물 번호 115의 비교는, 미립들의 양이 사실상 제거되었으며 그리고 과립들의 평균 크기가 매우 많이 증가되었던 것을 드러낸다.
예 3
이러한 실험에서는, 상업용 페로니켈 등급의 과립화 중에 미립들의 생성은 32% Ni 및 <0.5% Si의 공칭 함량을 가진다. 도 9에서 개시된 유형의 노즐들이 사용되었다. 모든 장입물들에 대해, 내경(d)은 138 mm이었으며, 그리고 노즐의 길이(L)는 350 mm였다. 3 개의 홀들을 가지는 노즐에 대한 유출구 개구들의 직경은 25mm였다. 4 개의 홀들을 가지는 노즐의 유출구 개구들의 직경은 22 mm였다.
결과들은 아래의 표 1에서 주어진다.
Figure 112017088957571-pct00001
유입구에서의 채널의 단면적(AC)은 모든 장입물들에 대해 유출구 개구들의 총 면적(AT)보다 거의 10 배 더 컸다. 획득된 과립들은 6 mm 미만의 크기를 가지는 저분율의 미립들을 가진다. 사실상, 3 중량% 이하의 미립들이 이러한 장입물들 중 임의의 장입물에 대해서 생성되었다.
산업상 이용가능성
본 발명은 철 합금, 철 및 철강 산업들에서의 적용에 특히 적합하다.

Claims (15)

  1. 용융된 철, 선철, 강 및 합금철(ferroalloy)의 과립화를 위한 노즐로서,
    상기 노즐에 의해 10 내지 50 mm의 범위의 평균 크기를 가지는 과립화된 재료를 획득하며, 8 mm 미만의 크기를 가지는 과립화된 재료에서의 미립들의 양은 5%로 제한되며, 상기 노즐은:
    상부 유입구 개구, 채널을 형성하는 측벽들, 저부, 및 상기 채널을 형성하는 상기 측벽들의 하부 단부에 4 개 이하의 유출구 개구들을 갖는 하나의 열의 유출구 개구들에 있는 적어도 하나의 유출구 개구를 포함하며,
    상기 적어도 하나의 유출구 개구는 가장 작은 치수로 적어도 5 mm의 크기를 가지며,
    상기 노즐에는 10 내지 35 mm의 직경을 가지는 원형 유출구 개구들 또는 1:1.2 내지 1:10의 범위의 종횡비(height to width ratio)(h/w)를 가지는 타원형 개구들이 제공되며, 상기 개구들은 0° 내지 45° 상방으로 또는 0° 내지 45° 하방으로 지향되고,
    상기 채널은 직선형이고, 80 내지 200 mm의 직경을 갖는 원형 단면을 가지거나, 또는 상기 채널은 테이퍼지고(tapered), 유입구에서 80 내지 200 mm의 직경을 갖는 원형 단면을 가지며,
    유입구에서의 채널의 단면적(AC)은 유출구 개구들의 총 면적(AT)보다 적어도 3 배 더 큰,
    용융된 철, 선철, 강 및 합금철의 과립화를 위한 노즐.
  2. 제 1 항에 있어서,
    AC ≥ 6AT인,
    용융된 철, 선철, 강 및 합금철의 과립화를 위한 노즐.
  3. 제 1 항에 있어서,
    유출구 개구들의 단지 하나의 열은 4 개 이하의 개구들을 가지는,
    용융된 철, 선철, 강 및 합금철의 과립화를 위한 노즐.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 노즐은 다음의 요건들:
    - 상기 노즐의 길이(L)는 ≤ 80 cm인 것,
    - 상기 노즐은 2 개, 3 개 또는 4 개의 유출구 개구들을 가지는 것,
    - AC ≥ 10AT,
    - AC ≥ 15AT
    중 적어도 하나의 요건을 충족하는,
    용융된 철, 선철, 강 및 합금철의 과립화를 위한 노즐.
  5. 과립화된 재료의 제조를 위한 턴디쉬 배열체로서,
    턴디쉬 및 상기 턴디쉬에 부착되는 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에서 규정되는 바와 같은 노즐을 포함하는,
    과립화된 재료의 제조를 위한 턴디쉬 배열체.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 턴디쉬는 회전 수단에 부착되는,
    과립화된 재료의 제조를 위한 턴디쉬 배열체.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 턴디쉬는 원형 단면을 가지며, 그리고 상기 노즐은 상기 단면의 중앙에 부착되는,
    과립화된 재료의 제조를 위한 턴디쉬 배열체.
  8. 액체를 분해함으로써 적어도 5 mm의 평균 크기를 가지는 과립화된 재료를 제조하기 위한 장치로서,
    상기 장치는 냉각 유체를 보유하는 냉각 탱크(cooling tank), 제 5 항에서 규정된 바와 같은 턴디쉬 배열체, 및 액체 재료를 상기 턴디쉬로 이송하기 위한 이송 수단을 포함하며, 상기 턴디쉬는 상기 냉각 탱크 위로 포지셔닝되는,
    과립화된 재료를 제조하기 위한 장치.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 장치에는 다음의 피처들(features):
    - 상기 탱크에서 냉각수를 회전 수단에 대해 동일한 또는 반대 방향으로 순환시키기 위한 수단,
    - 상기 냉각 탱크에서 냉각 유체의 상부 레벨에 대하여 상기 노즐의 높이를 조절하기 위한 수단,
    - 상기 냉각 탱크로부터 상기 과립화된 재료를 제거하기 위한 수단,
    - 1 내지 50 rpm의 범위 내에서 회전을 제어하기 위한 수단,
    - 상기 액체 재료의 유동을 상기 이송 수단으로부터 분배기로 조정하기 위한 수단,
    - 상기 액체 재료를 상기 턴디쉬로 공급하기 위한 중간 리셉터(receptor) 또는 슈트(chute),
    - 노즐 파손의 경우에 냉각수 표면 위에 액체 스트림을 퍼지게(spread) 하는, 상기 노즐 아래에 포지셔닝되는 내화성 안전 플레이트(refractory safety plate)
    중 적어도 하나의 피처가 제공되는,
    과립화된 재료를 제조하기 위한 장치.
  10. 액체 금속 또는 슬래그(slag)를 분해함으로써 과립화된 재료를 제조하는 방법으로서, 상기 방법은:
    a) 제 8 항에 따른 장치를 제공하는 단계,
    b) 상기 턴디쉬를 1 내지 50 rpm의 속도로 회전시키는 단계,
    c) 용융된 재료를 상기 턴디쉬에 이송하는 단계,
    d) 상기 냉각 탱크에서 상기 냉각 유체 위에 용융된 재료의 적어도 하나의 스트림을 분배시키는 단계,
    e) 상기 용융된 재료를 냉각 액체 위에 그리고/또는 냉각 액체 내에 분해하고 적어도 부분적으로 응고된 과립들을 형성하는 단계,
    f) 상기 과립화된 재료를 상기 냉각 탱크의 저부로부터 회수하는 단계를 포함하는,
    액체 금속 또는 슬래그를 분해함으로써 과립화된 재료를 제조하는 방법.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 방법은 다음의 피처들:
    - 상기 냉각 유체로서 첨가물들과 함께 또는 첨가물들 없이 물을 사용하는 단계,
    - 1 내지 10 rpm의 속도로 회전시키는 단계,
    - 상기 용융된 재료를 0.5 내지 10 t/min(분당 톤)으로 이송하는 단계,
    - 상기 탱크에서 냉각수를 회전 수단에 대해 동일한 또는 반대 방향으로 순환시키는 단계,
    - 회전 분배기에서의 개구들에 대한 탱크에서의 냉각수 사이의 높이 거리를 0.1 내지 1.5 m로 조절하는 단계,
    - 상기 액체 재료를 회전 분배기로 이송하기 위한 수단으로부터 유동을 제어함으로써 상기 턴디쉬에서 그리고/또는 상기 회전 분배기에서 용융물 레벨(level)을 제어하는 단계,
    - 상기 턴디쉬에서 그리고/또는 상기 회전 분배기에서 용융물의 레벨을 제어함으로써 과립화의 속도를 제어하는 단계,
    - 물 및 공기 이젝터(ejector)를 사용하여 상기 탱크의 하부 단부로부터 방출함으로써 응고된 과립들을 회수하는 단계,
    - 상기 턴디쉬에서 그리고/또는 상기 회전 분배기에서 액체 슬래그 또는 금속의 레벨을 제어함으로써 과립화의 속도를 제어하는 단계
    중 적어도 하나의 피처를 포함하는,
    액체 금속 또는 슬래그를 분해함으로써 과립화된 재료를 제조하는 방법.
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