KR102325576B1 - 반사 방지 유리 기판 및 그의 제조 방법 - Google Patents

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에이지씨 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 N2 또는 O2의 소스 기체를 선택하는 단계, 소스 기체를 이온화시켜 N 또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물을 형성하는 단계, 13 kV 내지 40 kV의 가속 전압 A로 가속시키고 이온 선량을 5.56 x 1014 x A/kV + 4.78 x 1016 이온/㎠ 내지 -2.22 x　1016　x　A/kV　+　1.09 x　1018 이온/㎠의 값으로 설정하여 N 또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 빔을 형성하는 단계를 포함하는 이온 주입에 의한 반사 방지 유리 기판의 제조 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 이러한 방법에 따라 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물로 이온 주입하여 처리된 영역을 포함하는 반사 방지 유리 기판에 관한 것이다.

Description

반사 방지 유리 기판 및 그의 제조 방법
본 발명은 반사 방지 유리 기판 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 특히 글레이징(glazing)으로서 반사 방지 유리 기판의 용도에 관한 것이다.
대부분의 반사 방지 유리 기판은 유리 표면 상 코팅의 증착에 의해 얻어진다. 광 반사율의 감소는 유리 기판의 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖거나, 굴절률 구배를 갖는 단일 층에 의해 얻어진다. 고성능 반사 방지 유리 기판은 전체 가시광 범위에 대한 광 반사율의 상당한 감소를 얻기 위하여 간섭 효과를 이용하는 다중층의 스택에 의해 얻어진다. 기판의 양면에 적용된 이러한 고성능 반사 방지 층 스택은 전형적인 유리 기판의 광 반사율을 약 8%로부터 4% 또는 심지어 그 미만으로 감소시킬 수 있다. 그러나, 그것은 정교한 조성 제어 및 층 두께 제어를 갖는 다중 층 증착 단계를 필요로 하므로, 어렵고 따라서 비용이 많이 드는 공정이 된다. 또한, 일반적으로 물리적 증착에 의해 증착된 단일 반사 방지 층 및 구체적으로 다중 층 스택은 유리 그 자체보다 기계적 및/또는 화학적 공격에 더 민감하다.
또 다른 반사 방지 유리 기판은 FR1300336에 개시되어 있다. 여기서, 반사 방지 효과는 비활성 기체의 중질 이온을 10 원자%의 농도로 최대 100 nm 또는 200 nm의 깊이까지 유리 기판의 표면으로 주입함으로써 얻어진다. 그러나, 비활성 기체는 비교적 고가이며, 유리 기판에서 주입된 비활성 기체 이온이 이러한 높은 농도에 도달해야 하는 필요성은 유리 네트워크에 중대한 손상을 일으킬 위험을 증가시킨다.
따라서, 반사 방지 유리 기판을 제조하는 간단하고 저렴한 방법을 제공하고자 하는 요구가 당 기술분야에 존재한다.
본 발명의 한 양태에 따라, 본 발명의 주제는 반사 방지 유리 기판의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 양태에 따라, 본 발명의 주제는 반사 방지 유리 기판을 제공하는 것이다.
본 발명은 다음의 작업:
· O2 및/또는 N2로부터 선택된 소스 기체(source gas)를 제공하는 단계,
· 소스 기체를 이온화시켜 O 및/또는 N의 단일 전하 이온 및 다중 전하 이온의 혼합물을 형성하는 단계,
· O 및/또는 N의 단일 전하 이온 및 다중 전하 이온의 혼합물을 가속 전압으로 가속화시켜 O 및/또는 N의 단일 전하 이온 및 다중 전하 이온의 빔을 형성하고, 여기서 가속 전압 A는 13 kV 내지 40 kV이고, 이온 선량(ion dosage) D는 5.56 x 1014 x A/kV + 4.78 x 1016 이온/㎠ 내지 -2.22 x 1016 x A/kV + 1.09 x 1018 이온/㎠인 단계,
· 유리 기판을 제공하는 단계,
· 유리 기판을 O 및/또는 N의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 빔의 경로에 배치하는 단계
를 포함하는, 반사 방지 유리 기판의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명자들은 놀랍게도, 유리 기판에 적용된, 동일한 특정 가속 전압 및 그러한 특정 선량으로 가속화된, O 및/또는 N의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물을 포함하는 이온 빔을 제공하는 본 발명의 방법이 감소된 반사율을 유도한다는 것을 발견하였다. 유리하게는, 결과 유리 기판의 반사율이 약 8%에서 최대 6.5%, 바람직하게는 최대 6%, 보다 바람직하게는 최대 5.5%까지 감소된다. 매우 놀랍게도, 주입된 N의 농도가, 예를 들어 주입된 깊이 전체에 걸쳐 2 원자% 미만이고, 또한 초기에 질소의 주입이 규소-질소 결합을 유도하여 미처리된 유리 기판보다 높은 굴절률을 갖는 규소 옥시니트라이드-포함 물질 층을 생성할 것으로 예상되었음에도, 이러한 낮은 수준의 반사율에 도달한다.
본 발명에 따라, O2 및/또는 N2로부터 선택된 소스 기체를 이온화시켜 O 및/또는 N의 단일 전하 이온 및 다중 전하 이온의 혼합물을 형성한다. 가속화된 단일 전하 이온 및 다중 전하 이온의 빔은 다양한 양의 상이한 O 및/또는 N 이온을 포함할 수 있다. 각각의 이온의 예시적인 전류를 하기 표 1에 나타낸다(밀리암페어로 측정됨).
[표 1]
Figure 112018111564540-pct00001
제공된 이온 유형에 대해, 핵심 이온 주입 파라미터는 이온 가속 전압 및 이온 선량이다.
단일 전하 및 다중 전하 이온의 빔의 경로에서 유리 기판의 배치는 표면적 당 특정량의 이온, 또는 이온 선량이 얻어지도록 선택된다. 이온 선량, 또는 선량은 제곱 센티미터 당 이온의 수로서 나타낸다. 본 발명의 목적 상, 이온 선량은 단일 전하 이온 및 다중 전하 이온의 총 선량이다. 이온 빔은 바람직하게는 단일 및 다중 전하 이온의 연속적인 스트림을 제공한다. 이온 선량은 이온 빔에 대한 기판의 노출 시간을 제어함으로써 제어된다. 본 발명에 따라, 다중 전하 이온은 1 개 초과의 양전하를 갖는 이온이다. 단일 전하 이온은 단일 양전하를 갖는 이온이다.
본 발명의 일 구현예에서, 배치는 유리 기판 및 이온 주입 빔을 서로에 대해 이동시켜 유리 기판의 특정 표면적을 점진적으로 처리하는 것을 포함한다. 바람직하게는, 유리 기판 및 이온 주입 빔은 서로에 대해 0.1 mm/s 내지 1000 mm/s의 속도로 이동된다. 이온 주입 빔에 대한 유리의 이동 속도는 처리되는 영역의 이온 선량에 영향을 미치는 빔 중 샘플의 체류 시간을 제어하도록 적절한 방식으로 선택된다.
본 발명의 방법은, 예를 들어 기판 표면을 본 발명의 이온 빔으로 연속적으로 스캐닝하거나, 예를 들어 단일 패스 또는 다중 패스로 전체 폭에 걸쳐 이동하는 기판을 처리하는 다중 이온 소스의 어레이를 형성함으로써, 1 m²초과의 큰 기판을 처리하도록 용이하게 확장될 수 있다.
본 발명에 따라, 가속 전압 및 이온 선량은 바람직하게는 다음의 범위에 포함된다:
[표 2]
Figure 112018111564540-pct00002
본 발명자들은 동일한 가속 전압으로 가속화된 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물을 포함하는 이온 빔을 제공하는 이온 소스가, 단일 전하 이온보다 더 낮은 선량의 다중 전하 이온을 제공할 수 있기 때문에 특히 유용하다는 것을 발견하였다. 낮은 반사율 층을 갖는 유리 기판이 이러한 빔에서 제공된 높은 선량 및 낮은 주입 에너지를 갖는 단일 전하 이온과 낮은 선량 및 높은 주입 에너지를 갖는 다중 전하 이온의 혼합물로 얻어질 수 있다는 것은 명백하다. 전자 볼트(eV)로 나타내는 주입 에너지는 단일 전하 이온 또는 다중 전하 이온의 전하에 가속 전압을 곱함으로써 계산된다.
본 발명의 바람직한 구현예에서, 처리되는 영역 아래에 위치한, 처리되는 유리 기판의 영역의 온도는 유리 기판의 유리 전이 온도 이하이다. 이러한 온도는, 예를 들어 빔의 이온 전류, 빔에서 처리되는 영역의 체류 시간 및 기판의 임의의 냉각 수단에 의해 영향을 받는다.
본 발명의 바람직한 구현예에서, N 또는 O의 주입 이온이 사용된다. 본 발명의 또 다른 구현예에서, N 및 O의 주입 이온이 조합된다. 이러한 대안들은 본원에서 "및/또는"이라는 단어로 커버된다.
본 발명의 일 구현예에서, 몇 개의 이온 주입 빔을 동시에 또는 연속적으로 사용하여 유리 기판을 처리한다.
본 발명의 일 구현예에서, 유리 기판의 영역의 표면 단위 당 이온의 총 선량은 이온 주입 빔에 의한 단일 처리에 의해 얻어진다.
본 발명의 또 다른 구현예에서, 유리 기판의 영역의 표면 단위 당 이온의 총 선량은 하나 이상의 이온 주입 빔에 의한 몇 번의 연속적인 처리에 의해 얻어진다.
본 발명의 방법은 바람직하게는 10-2 mbar 내지 10-7 mbar, 보다 바람직하게는 10-5 mbar 내지 10-6 mbar의 압력에서 진공 챔버에서 수행된다.
본 발명의 방법을 수행하기 위한 예시적인 이온 소스는 Quertech Ingenierie S.A.의 Hardion+ RCE 이온 소스이다.
광 반사율은 광원 D65, 2°를 사용하여 본 발명의 이온 주입 방법으로 처리된 기판의 면에 대해 가시광 범위에서 측정한다.
또한, 본 발명은 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물이 유리 기판의 반사율을 감소시키기에 효과적인 가속 전압 및 이온 선량으로 유리 기판에 주입된, 유리 기판의 반사율을 감소시키기 위한 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물의 용도에 관한 것이다.
유리하게는, O 및/또는 N의 단일 및 다중 전하 이온의 혼합물은 유리 기판의 반사율을 최대 6.5%, 바람직하게는 최대 6%, 보다 바람직하게는 최대 5.5%로 감소시키기에 효과적인 가속 전압 및 이온 선량으로 사용된다.
본 발명에 따라, O 및/또는 N의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은 바람직하게는 각각 O+ 및 O2+ 및/또는 N+, N2+ 및 N3+를 포함한다.
본 발명의 바람직한 구현예에 따라, O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은 O+의 양보다 더 적은 양의 O2+를 포함한다. 본 발명의 보다 바람직한 구현예에서, O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은 55~98%의 O+ 및 2~45%의 O2+를 포함한다.
본 발명의 또 다른 바람직한 구현예에 따라, N의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은 N+ 및 N2+ 각각의 양보다 더 적은 양의 N3+를 포함한다. 본 발명의 보다 바람직한 구현예에서, N의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은 40~70%의 N+, 20~40%의 N2+, 및 2~20%의 N3+를 포함한다.
본 발명에 따라, 유리 기판의 반사율을 감소시키기에 효과적인 이온 선량 및 가속 전압은 바람직하게는 다음의 범위에 포함된다:
[표 3]
Figure 112018111564540-pct00003
또한, 본 발명은 이온이 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온인, 감소된 반사율을 갖는 이온 주입 유리 기판에 관한 것이다.
유리하게는, 본 발명의 이온 주입 유리 기판은 최대 6.5%, 바람직하게는 최대 6%, 보다 바람직하게는 최대 5.5%의 반사율을 갖는다. 반사율은 D65 광원 및 2° 관찰자 각으로 처리된 면에 대해 측정된다.
내스크래치성은 하기 기재된 바와 같이 처리된 면에 대해 측정된다.
본 발명의 바람직한 구현예에서, 본 발명의 유리 기판에 주입된 이온은 N의 단일 전하 및 다중 전하 이온이다.
유리하게는 이온의 주입 깊이는 0.1 μm 내지 1 μm, 바람직하게는 0.1 μm 내지 0.5 μm일 수 있다.
본 발명에 사용된 유리 기판은 일반적으로 2 개의 서로 반대쪽을 향하는 주 표면을 갖는 시트형 유리 기판이다. 본 발명의 이온 주입은 이러한 표면 중 하나 또는 둘 다에 대해 수행될 수 있다. 본 발명의 이온 주입은 유리 기판의 표면의 일부분 또는 전체 표면에 대해 수행될 수 있다.
또 다른 구현예에서, 본 발명은 또한 모놀리식(monolithic), 라미네이트형 또는 기체 층이 개재된 다중형인지의 여부에 상관 없이, 본 발명의 유리 기판을 포함하는 글레이징에 관한 것이다. 이러한 구현예에서, 기판은 착색되거나, 템퍼링되거나, 강화되거나, 구부러지거나, 접혀지거나, 자외선 필터링될 수 있다.
이러한 글레이징은 내부 및 외부 빌딩 글레이징 및 물체의 보호용 유리, 예컨대 패널, 진열창, 유리 가구, 예컨대 카운터, 냉장 진열창(refrigerated display case) 등, 또한 자동차 글레이징, 예컨대 라미네이트된 윈드쉴드(windshield), 거울, 컴퓨터용 눈부심 방지 스크린, 디스플레이 및 장식용 유리로서 모두 사용될 수 있다.
본 발명에 따른 유리 기판을 포함하는 글레이징은 흥미로운 추가의 특성을 가질 수 있다. 따라서, 그것은 보안 기능을 갖는 글레이징, 예컨대 라미네이트된 글레이징일 수 있다. 또한, 도난 방지, 방음, 방화 또는 항균 기능을 갖는 글레이징일 수 있다.
또한, 글레이징은 본 발명에 따른 방법으로 그의 면 중 하나에 대해 처리된 기판이 그의 면 중 다른 면 상에 증착된 층 스택(stack)을 포함하도록 하는 방식으로 선택될 수 있다. 층의 스택은 특별한 기능, 예를 들어 태양-차폐(sun-shielding) 또는 열-흡수를 갖거나, 자외선 차단(anti-ultraviolet), 정전기 방지(예컨대, 약간 전도성의 도핑된 금속 산화물 층) 및 저-방사성(emissive), 예컨대 주석 산화물 층 또는 도핑된 주석 산화물 층의 은-기재 층을 가질 수 있다. 그것은 또한 오염 방지 특성을 갖는 층, 예컨대 매우 미세한 TiO2 층, 또는 방수 기능을 갖는 소수성 유기 층 또는 응축 방지 기능을 갖는 친수성 층일 수 있다.
층 스택은 거울 기능을 갖는 코팅을 포함하는 은일 수 있고, 모든 구성이 가능하다. 따라서, 거울 기능을 갖는 모놀리식 글레이징의 경우, 면 1(즉, 관찰자가 위치한 쪽)로서 처리된 면 및 면 2(즉, 거울이 벽에 부착된 쪽) 상의 은 코팅을 갖는 본 발명의 반사 방지 유리 기판을 배치하는 것에 관심이 있으며, 따라서 본 발명에 따른 반사 방지 면 1은 반사된 이미지의 분할을 방지한다.
이중 글레이징(관습에 따라, 유리 기판의 면이 가장 바깥쪽 면부터 번호가 매겨질 경우)의 경우, 따라서, 면 1로서 반사 방지 처리된 면, 및 자외선 차단 또는 태양-차폐를 위한 면 2 상의 다른 기능성 층, 및 저-방사성 층을 위한 면 3을 사용할 수 있다. 따라서, 이중 글레이징에서, 기판의 면 중 하나 상에 적어도 하나의 반사 방지 스택, 및 부수적인 기능을 제공하는 적어도 하나의 층 또는 층의 스택을 가질 수 있다. 또한, 이중 글레이징은 특히 적어도 면 2, 3 또는 4 상에 몇 개의 반사 방지 처리된 면을 가질 수 있다.
또한, 기판에 표면 처리, 특히 산 에칭(프로스팅(frosting))을 수행할 수 있다. 이온 주입 처리는 에칭된 면 또는 반대쪽 면에 대해 수행될 수 있다.
또한, 기판, 또는 이와 관련된 것 중 하나는 인쇄된 장식용 유리 유형이거나, 스크린 공정 인쇄될 수 있다.
본 발명에 따른 반사 방지 유리 기판을 포함하는 특히 흥미로운 글레이징은 중합체 유형 어셈블리 시트를 이온 주입 처리된 표면이 중합체 어셈블리 시트로부터 반대 방향을 향하는 본 발명의 반사 방지 유리 기판과 또 다른 유리 기판 사이에 포함하는 2 개의 유리 기판을 갖는 라미네이트된 구조를 갖는 글레이징이다. 중합체 어셈블리 시트는 폴리비닐부티랄(PVB) 유형, 폴리비닐 아세테이트(EVA) 유형 또는 폴리시클로헥산(COP) 유형으로부터의 것일 수 있다.
특히 2 번 열처리된, 즉 구부러지고/거나 템퍼링된 기판을 갖는 이러한 구성은 자동차 글레이징 및 특히 윈드쉴드를 얻을 수 있게 한다. 기준은 자동차가 수직 입사에서 적어도 75%의 높은 광 투과율을 갖는 윈드쉴드를 갖도록 요구한다. 통상적인 윈드쉴드의 라미네이트된 구조에 열처리된 반사 방지 유리 기판을 포함시켰기 때문에, 글레이징의 광 투과가 특히 개선되어, 광 투과 기준 내에서 여전히 유지되면서 그의 에너지 전달이 다른 수단에 의해 약간 감소될 수 있다. 따라서, 윈드쉴드의 태양-차폐 효과는, 예를 들어 유리 기판의 흡수에 의해 개선될 수 있다. 기준 라미네이트된 윈드쉴드의 광 반사율 값은 8%로부터 5% 미만으로 바뀔 수 있다.
본 발명에 따른 유리 기판은 유리의 총 중량의 중량 백분율로서 나타낸 다음의 조성 범위를 갖는 임의의 두께의 유리 시트일 수 있다:
SiO2 35~85%,
Al2O3 0~30%,
P2O5 0~20%,
B2O3 0~20%,
Na2O 0~25%,
CaO 0~20%,
MgO 0~20%,
K2O 0~20%, 및
BaO 0~20%.
본 발명에 따른 유리 기판은 바람직하게는 소다석회 유리 시트, 보로실리케이트 유리 시트 또는 알루미노실리케이트 유리 시트 중에서 선택된 유리 시트이다.
본 발명에 따른 유리 기판은 바람직하게는 이온 주입을 겪은 면 상에 코팅을 갖지 않는다.
본 발명에 따른 유리 기판은 이온 주입 처리 후에 그의 최종 치수로 절단될 대형 유리 시트이거나, 그의 최종 크기로 이미 절단된 유리 시트일 수 있다.
유리하게는 본 발명의 유리 기판은 플로트(float) 유리 기판일 수 있다. 본 발명의 이온 주입 방법은 플로트 유리 기판의 공기 측 및/또는 플로트 유리 기판의 주석 측에 대해 수행될 수 있다. 바람직하게는 본 발명의 이온 주입 방법은 플로트 유리 기판의 공기 측에 대해 수행된다.
본 발명의 일 구현예에서, 유리 기판은 사전에 화학적으로 강화된 유리 기판일 수 있다.
광학 특성은 Hunterlab Ultrascan Pro Spectrophotometer를 사용하여 측정하였다.
특정 구현예의 상세한 설명
이온 주입 실시예를 단일 전하 및 다중 전하 이온의 빔을 생성하기 위한 RCE 이온 소스를 사용하여 하기 표에 상술된 다양한 파라미터에 따라 제조하였다. 이온 소스는 Quertech Ingenierie S.A.의 Hardion+ RCE 이온 소스를 사용하였다.
모든 샘플은 10x10 ㎠의 크기였고, 유리 기판을 20 내지 30 mm/s의 속도로 이온 빔을 통해 이동시킴으로써 전 표면에 대해 처리하였다.
처리된 유리 기판의 영역의 온도는 유리 기판의 유리 전이 온도 이하의 온도에서 유지되었다.
모든 실시예에 대하여, 주입을 10-6 mbar의 압력에서 진공 챔버에서 수행하였다.
RCE 이온 소스를 사용하여, N 또는 O의 이온을 4 mm 두께의 일반적인 투명한 소다석회 유리 및 알루미노-실리케이트 유리 기판에 주입하였다. 본 발명의 이온 주입 방법으로 주입하기 전에, 유리 기판의 반사율은 약 8%였다. 핵심 주입 파라미터 및 측정된 반사율 측정치는 하기 표에서 알 수 있다.
[표 4]
Figure 112018111564540-pct00004
본 발명에 따른 실시예 E1 내지 E15에서 알 수 있는 바와 같이, 유리 기판에 적용된, 동일한 특정 가속 전압 및 그러한 특정 선량으로 가속화된, N의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물을 포함하는 이온 빔을 이용한 소다석회 유리 샘플의 처리는 6.5% 이하의 감소된 반사율을 유도하였다. 소다석회 비교예 C1 내지 C3은 감소된 반사율을 유도하였지만, 이들 예의 가속 전압 및 이온 선량은 반사율을 6.5% 이하까지 감소시키는 데 적절하지 않았다.
본 발명에 따른 실시예 E16 내지 E21에서 알 수 있는 바와 같이, 유리 기판에 적용된, 동일한 특정 가속 전압 및 그러한 특정 선량으로 가속화된, N의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물을 포함하는 이온 빔을 이용한 알루미노실리케이트 유리 샘플의 처리는 6.5% 이하의 감소된 반사율을 유도하였다. 알루미노실리케이트 비교예 C4는 감소된 반사율을 유도하였지만, 이 예의 가속 전압 및 이온 선량은 반사율을 6.5% 이하까지 감소시키는 데 적절하지 않았다.
본 발명에 따른 실시예 E7 내지 E15에서 알 수 있는 바와 같이, 유리 기판에 적용된, 동일한 특정 가속 전압 및 그러한 특정 선량으로 가속화된, N의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물을 포함하는 이온 빔을 이용한 소다석회 유리 샘플의 처리는 6% 이하의 감소된 반사율을 유도하였다.
본 발명에 따른 실시예 E11 내지 E15에서 알 수 있는 바와 같이, 유리 기판에 적용된, 동일한 특정 가속 전압 및 그러한 특정 선량으로 가속화된, N의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물을 포함하는 이온 빔을 이용한 소다석회 유리 샘플의 처리는 5.5% 이하의 감소된 반사율을 유도하였다.
또한, 본 발명의 샘플 E1 내지 E21에 대해 XPS 측정을 수행하였으며, N의 주입 이온의 원자 농도가 주입 깊이 전체에 걸쳐 8 원자% 미만인 것으로 밝혀졌다.

Claims (17)

  1. 유리 기판의 반사율을 감소시키기 위한 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물로서,
    상기 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은, 상기 유리 기판의 반사율을 최대 6.5%까지 감소시키기에 효과적인 가속 전압 및 이온 선량으로 상기 유리 기판에 주입되고, 가속 전압 A는 13 kV 내지 40 kV이고, 이온 선량 D는 5.56 x 1014 x A/kV + 4.78 x 1016 이온/㎠ 내지 -2.22 x 1016 x A/kV + 1.09 x 1018 이온/㎠이고, 주입된 이온의 원자 농도(atomic concentration)가 주입 깊이 전체에 걸쳐 2 원자% 미만인 것인,
    유리 기판의 반사율을 감소시키기 위한 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은, 상기 유리 기판의 반사율을 최대 6%까지 감소시키기에 효과적인 가속 전압 및 이온 선량으로 상기 유리 기판에 주입되는 것인,
    유리 기판의 반사율을 감소시키기 위한 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은, 상기 유리 기판의 반사율을 최대 5.5%까지 감소시키기에 효과적인 가속 전압 및 이온 선량으로 상기 유리 기판에 주입되는 것인,
    유리 기판의 반사율을 감소시키기 위한 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은 상기 유리 기판에 주입되고, 가속 전압 A는 15 kV 내지 35 kV이고, 이온 선량 D는 7.50 x 1014 x A/kV + 4.88 x 1016 이온/㎠ 내지 -2.05 x 1016 x A/kV + 8.08 x 1017 이온/㎠인 것인,
    유리 기판의 반사율을 감소시키기 위한 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물은 상기 유리 기판에 주입되고, 가속 전압 A는 16 kV 내지 25 kV이고, 이온 선량 D는 1.11 x 1015 x A/kV + 4.72 x 1016 이온/㎠ 내지 -2.78 x 1016 x A/kV + 7.94 x 1017 이온/㎠인 것인,
    유리 기판의 반사율을 감소시키기 위한 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유리 기판이 유리의 총 중량의 중량 백분율로서 나타내는 다음의 조성 범위:
    SiO2 35~85%,
    Al2O3 0~30%,
    P2O5 0~20%,
    B2O3 0~20%,
    Na2O 0~25%,
    CaO 0~20%,
    MgO 0~20%,
    K2O 0~20%, 및
    BaO 0~20%
    를 갖는 것인,
    유리 기판의 반사율을 감소시키기 위한 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유리 기판이 소다석회 유리 시트, 보로실리케이트 유리 시트 또는 알루미노실리케이트 유리 시트로부터 선택된 것인,
    유리 기판의 반사율을 감소시키기 위한 N 및/또는 O의 단일 전하 및 다중 전하 이온의 혼합물.
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