KR102320282B1

KR102320282B1 - 전주용 원반 및 그 전주용 원반을 이용한 전주 몰드의 제조 방법

Info

Publication number: KR102320282B1
Application number: KR1020207001143A
Authority: KR
Inventors: 도모카즈 우메자와; 노보루 가와사키; 다카시 시미즈
Original assignee: 후지필름 가부시키가이샤
Priority date: 2017-09-04
Filing date: 2018-08-22
Publication date: 2021-10-29
Also published as: CN111051575B; JP6844010B2; TW201912846A; CN111051575A; JPWO2019044634A1; WO2019044634A1; TWI768116B; KR20200018644A

Abstract

전주 몰드에 왜곡을 발생시키지 않는 전주용 원반 및 전주 몰드의 제조 방법을 제공한다. 요철 패턴을 표면에 갖는 전주용 원반을, 영률이 50GPa 이상인, 평탄면을 갖는 기판과, 영률이 10GPa 이하인, 요철 패턴이 표면에 형성된 패턴 필름을 구비한 것으로 한다. 기판의 평탄면과 패턴 필름의 요철 패턴을 구비하지 않은 면이, 전체면에 걸쳐 점착층에 의하여 첩합되어 있으며, 점착층에 의한 기판과 패턴 필름과의 접착력이 0.01N/25mm 이상, 10N/25mm 이하이거나, 또는 10N/25mm 초과이며, 점착층으로의 광조사 혹은 가열 처리에 의하여 접착력을 10N/25mm 이하로 저감 가능한 것으로 한다.

Description

전주용 원반 및 그 전주용 원반을 이용한 전주 몰드의 제조 방법

본 발명은, 전주용 원반(原盤) 및 그 전주용 원반을 이용한 전주 몰드의 제조 방법에 관한 것이다.

요철 패턴을 표면에 갖는 금형(일반적으로 몰드, 스탬퍼 또는 템플릿이라고도 불림)을 피전사 기판 상에 도포된 광경화성 수지에 압압하여, 광경화성 수지를 역학적으로 변형 또는 유동시켜 미세한 패턴을 정밀하게 수지막에 전사하는 임프린트라고 하는 기술이 알려져 있다. 미세한 요철 패턴으로서는, 10nm 정도의 것부터 100μm 정도의 것까지 존재하고 있다. 금형을 한 번 제작하면, 나노 레벨의 미세 구조의 것이어도 간단하게 반복하여 성형할 수 있기 때문에 경제적임과 함께, 유해한 폐기물 및 배출물이 적은 전사 기술이기 때문에, 반도체 분야 등의 다양한 분야로의 응용이 기대되고 있다.

또, 요철 패턴을 표면에 갖는 금형을 이용하여 전주 몰드를 제작하는 기술도 알려져 있다. 특허문헌 1에는, 요철 패턴을 갖는 수지층이 수지 필름과 일체화된 모형(母型)을 이용하여, 전주 몰드를 제작하는 방법이 개시되어 있다.

일본 공개특허공보 2003-105583호

특허문헌 1에 있어서는, 대형 유리 기판 상에 복수의 모형을 동심원상으로 나열되도록 배치하여 전주를 실시하고 있다. 이때, 유리 기판과 모형의 수지 필름을, 접착제 혹은 커플링재를 이용하여 첩부하거나, 혹은 액체상 접착제를 사용하여 첩부하는 것 등이 이루어지고 있다. 특허문헌 1에는, 복수의 모형 상에 전주에 의하여 금속층을 형성한 후에, 모형 간의 금속층에 절삭하여 절단하면, 도금층의 응력에 의하여 모형은 도금층과 함께 유리 기판으로부터 부상한다고 기재되어 있다.

도금층의 응력에 의하여 유리 기판으로부터 모형이 부상하는 상황에서는, 수지 필름으로부터 박리된 도금층으로 이루어지는 전주 몰드에 왜곡이 발생하고 있을 우려가 있다.

한편으로, 모형과 유리 기판이 강고하게 고착되어 있는 경우에는, 표면에 형성되어 있는 미세 구조에 대미지를 주지 않고 도금층을 박리하는 것이 곤란한 것이 본 발명자들의 검토에 의하여 명확해져 왔다.

본 발명은, 상기 사정을 감안하여, 전주 몰드에 왜곡을 발생시키지 않는 전주용 원반 및 전주 몰드의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 전주용 원반은, 요철 패턴을 표면에 갖는 전주용 원반이며, 영률이 50GPa 이상인, 평탄면을 갖는 기판과, 영률이 10GPa 이하인, 요철 패턴이 표면에 형성된 패턴 필름을 구비하고, 기판의 평탄면과 패턴 필름의 요철 패턴을 구비하고 있지 않은 면이, 전체면에 걸쳐 점착층에 의하여 첩합되어 있으며, 점착층에 의한 기판과 패턴 필름과의 접착력이 0.01N/25mm 이상, 10N/25mm 이하이거나, 또는 10N/25mm 초과이며 점착층으로의 광조사 혹은 가열 처리에 의하여 접착력을 10N/25mm 이하로 저감 가능하다.

본 발명의 전주용 원반은, 점착층에 의한 접착력이 1N/25mm 이하인 것이 바람직하다. 또는, 본 발명의 전주용 원반은, 점착층에 의한 접착력을 1N/25mm 이하로 저감 가능한 것이 바람직하다.

본 발명의 전주용 원반은, 점착층으로서, 광학 점착 시트를 이용할 수 있다.

본 발명의 전주용 원반은, 점착층의 두께가 100μm 이하인 것이 바람직하다.

본 발명의 전주 몰드의 제조 방법은, 영률이 50GPa 이상인, 평탄면을 갖는 기판과, 영률이 10GPa 이하인, 요철 패턴이 표면에 형성된 패턴 필름을 준비하고, 기판의 평탄면에 패턴 필름의 요철 패턴을 구비하지 않은 면을, 양면이 대향하는 전체면에 걸쳐 구비된 점착층을 통하여 첩합하여, 요철 패턴을 표면에 갖는 전주용 원반을 얻는 공정과, 전주용 원반의 요철 패턴의 표면에 전주하여 전주 몰드를 형성하는 전주 공정과, 기판으로부터 패턴 필름을 전주 몰드와 함께 박리하는 제1 박리 공정과, 전주 몰드로부터 패턴 필름을 박리하는 제2 박리 공정을 구비하며, 점착층으로서, 전주 몰드의 전주 시에 발생하는 전주 응력보다 큰 접착력으로 기판과 패턴 필름을 접착시키는 점착층을 이용하는, 전주 몰드의 제조 방법이다.

본 발명의 전주 몰드의 제조 방법에 있어서는, 점착층으로서 광학 점착 시트를 이용해도 된다.

본 발명의 전주 몰드의 제조 방법에 있어서는, 점착층으로서, 광조사 혹은 가열에 의하여, 접착력이 저하되는 점착제로 이루어지는 점착층을 이용하고, 제1 박리 공정에 있어서, 점착층에 광조사하여, 혹은 점착층을 가열하여, 점착층의 접착력을 저하시킨 후, 기판으로부터 패턴 필름을 박리해도 된다.

본 발명의 전주 몰드의 제조 방법에 있어서는, 제2 박리 공정에 있어서, 패턴 필름을 변형시키면서, 전주 몰드로부터 박리해도 된다.

본 발명의 전주용 원반은, 요철 패턴을 표면에 갖는 전주용 원반이며, 영률이 50GPa 이상인, 평탄면을 갖는 기판과, 영률이 10GPa 이하인, 요철 패턴이 표면에 형성된 패턴 필름을 구비하고, 기판의 평탄면과 패턴 필름의 요철 패턴을 구비하지 않은 면이, 전체면에 걸쳐 점착층에 의하여 0.01N/25mm 이상의 접착력으로 첩합되어 있기 때문에, 전주 시에 전주 몰드에 왜곡이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 점착층에 의한 기판과 패턴 필름과의 접착력이 10N/25mm 이하, 또는 점착층으로의 광조사 혹은 가열 처리에 의하여 접착력을 10N/25mm 이하로 저감 가능하기 때문에, 전주용 원반으로부터 전주 몰드를 박리시킬 때에, 전주 몰드에 응력을 가하지 않고, 박리시킬 수 있다.

도 1은 실시형태의 전주용의 원반의 단면도이다.
도 2는 제1 실시형태의 전주 몰드의 제조 공정을 나타내는 도이다.
도 3은 제2 실시형태의 전주 몰드의 제조 공정을 나타내는 도이다.

이하, 본 발명의 실시형태에 대하여 도면을 이용하여 설명하지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 시인하기 쉽게 하기 위하여, 도면 중의 각 구성 요소의 축척 등은 실제의 것과는 적절히 변경하고 있다.

<전주용 원반>

도 1은, 본 발명의 실시형태의 전주용 원반(10)을 모식적으로 나타내는 단면도이다.

전주용 원반(10)은, 요철 패턴을 표면에 갖는 전주용 원반이며, 영률이 50GPa 이상인, 평탄면(12a)을 갖는 기판(12)과, 영률이 10GPa 이하인, 요철 패턴이 표면에 형성된 패턴 필름(14)을 구비하고 있다. 다만, 요철 패턴이 표면에 형성된다는 것은, 한쪽 면에 요철 패턴이 형성되어 있는 것을 가리킨다. 그리고, 기판(12)의 평탄면(12a)과 패턴 필름(14)의 요철 패턴(14a)을 구비하지 않은 면(14b)이, 전체면에 걸쳐 점착층(20)에 의하여 0.01N/25mm 이상의 접착력으로 첩합되어 있다. 여기에서, 점착층(20)은, 패턴 필름(14)과 기판(12)과의 접착력이 10N/25mm 이하가 되는 것, 혹은 10N/25mm 초과여도 광조사 혹은 가열 처리에 의하여, 10N/25mm 이하의 접착력으로 저감할 수 있는 점착제로 구성한다. 접착력이 1N/25mm 이하인 것, 혹은 광조사 혹은 가열 처리에 의하여 1N/25mm 이하로 저감할 수 있는 것이 바람직하다.

여기에서, 영률은, 이하와 같이 구한 방법으로 측정한 값으로 한다. 패턴 필름의 영률은, JIS K 7127: 1999에 준거한 인장 시험을 이용하여 측정한다(또한, 본 발명에 있어서의 패턴 필름의 영률은, JIS K 7127: 1999에 준거하며, 시마즈 세이사쿠쇼제 오토 그래프 AG-Plus에 의하여 측정한 값에 근거하여 선정했다). 인장 시험에서는 판상의 시험편에 인장 하중을 가하고, 그 변위를 구함으로써 영률을 산출한다. 한편, 기판의 영률은 공진법으로 구한 값으로 한다. 또한, 본 발명에 있어서의 기판의 영률은, 일본 테크노 플러스제 영률 측정 장치 EG-HT/JE로 구한 값에 근거하여 선정했다.

접착력은, 측정기: 시마즈 세이사쿠쇼제 AGS-X를 사용하여, JIS K 6854-2(박리 접착 강도 시험 방법- 제2부: 180° 박리)에 의하여 측정한 값으로 한다.

패턴 필름(14)은, 수지제의 베이스 필름(16)과 베이스 필름(16) 상에 구비된 요철 패턴을 갖는 수지층(18)으로 이루어진다. 예를 들면, 베이스 필름(16) 상에 광경화성 수지를 도포하고, 요철 패턴을 표면에 갖는 마스터 원반을 이용한 임프린트에 의하여 반전 요철 패턴을 형성하며, 경화시켜, 마스터 원반으로부터 수지층을 박리한다. 이로써, 마스터 원반의 요철 패턴을 반전시킨 요철 패턴을 갖는 수지층(18)을 베이스 필름(16) 상에 구비한 패턴 필름(14)을 얻을 수 있다. 혹은, 유리 등의 기판 상에 상술과 같이 하여 광경화성 수지를 도포하고, 임프린트에 의하여 요철 패턴을 갖는 수지층(18)을 형성하며, 마스터 원반으로부터 박리한다. 그 후, 요철 패턴을 갖는 수지층(18)을 기판으로부터 박리하여, 그 요철 패턴과는 반대의 면측을, 수지제의 베이스 필름(16) 상에 이접착층(易接着層)을 개재하여 접착시킴으로써, 패턴 필름(14)을 얻을 수도 있다.

베이스 필름(16)으로서는 PET(Polyethyleneterephthalate) 등이 바람직하다. 베이스 필름(16)의 두께는 10μm~1mm, 보다 바람직하게는 50μm~200μm이다.

또한, 패턴 필름(14)의 수지층(18)은 광경화성 수지에 한정하지 않고 열가소성 수지로 형성되어 있어도 된다. 열가소성 수지에 의한 요철 패턴층을 이용하는 경우에는, 베이스 필름을 구비하고 있지 않아도 된다.

패턴 필름(14)을 그 자체로 전주용의 원반으로서 이용하는 것도 생각할 수 있지만, 패턴 필름(14)은 수지 필름이기 때문에, 변형되기 쉽고, 휘어지는 경우가 많다. 이로 인하여, 패턴 필름(14)을 그 자체로 원반으로 하여 전주를 행한 경우, 패턴 필름(14)의 휨이 전주물인 전주 몰드에 전사되어, 전주 몰드도 휘어져 버린다는 문제가 있다. 따라서, 패턴 필름(14)보다 높은 강성을 갖고, 평탄면을 갖는 기판(12) 상에 패턴 필름(14)을 고정함으로써, 전주 몰드에 휨이 발생하는 것을 억제할 수 있다.

패턴 필름(14)의 강성은 영률이 10GPa 이하 정도이다. 여기에서 패턴 필름의 영률이 5GPa 이하라면, 전주 몰드로부터 박리할 때의 전주 몰드로의 대미지 억제의 효과가 높아, 더 바람직하다. 한편, 패턴 필름을 기판에 첩부할 때의 왜곡을 저감시키기 위하여, 패턴 필름의 영률이 0.4MPa 이상인 것이 바람직하다.

영률이 10GPa 이하, 바람직하게는 5GPa 이하와 같은 강성이 낮은 패턴 필름(14)에 대하여, 영률이 50GPa 이상의 강성을 갖는 기판(12)을 구비함으로써 전주 몰드의 휨을 충분히 억제하는 것이 가능해진다.

기판(12)의 재료로서는, 금속판, 유리판 또는 Si 웨이퍼 등을 이용할 수 있다. 평탄성의 관점에서 유리판 또는 Si 웨이퍼가 바람직하고, 후술과 동일하게 광의 조사에 의하여 접착력이 저하되어 자기(自己) 박리하는 점착층을 이용할 때는, 투명성의 관점에서 유리판이 가장 바람직하다.

패턴 필름(14)이 접착되는 기판(12)의 접착면의 평탄성이 중요하다. 본 실시형태에 있어서 기판(12)의 평탄면(12a) 상에 패턴 필름(14)이 접착된다. 면에 휨이나 왜곡이 없고 평탄도가 높을수록 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 평탄도는 반도체 웨이퍼 분야에 있어서의 평탄도를 나타내는 파라미터인 WARP로 정의하는 것으로 하고, 500μm 이하이면 평탄면을 갖는 것으로 간주한다.

기판에 대한 패턴 필름의 고정 방법으로서는, 패턴 필름의 주연부를 접착 테이프로 기판에 고정하는 방법이나 액체상 접착제를 사용하여 접착하는 방법이 특허문헌 1에 개시되어 있다. 그러나 특허문헌 1에 있어서는, 그 접착력에 대한 충분한 검토가 되어 있지 않다. 본 발명자는, 패턴 필름의 기판에 대한 접착 상태에 따라서는, 전주 시 및 박리 시에 전주 몰드에 왜곡 및 패턴 결손을 비롯한 대미지가 발생하는 것을 발견했다.

전주용 원반(10)은, 기판(12)의 평탄면(12a)과 패턴 필름(14)의 요철 패턴(14a)을 구비하지 않은 면(14b)이, 전체면에 걸쳐 점착층(20)에 의하여 0.01N/25mm 이상의 접착력으로 첩합되어 있다. 접착력을 0.01N/25mm 이상으로 함으로써, 전주 시에 발생하는 전주 응력 즉 전주물인 전주 몰드의 내부 응력에 의하여, 패턴 필름(14)이 기판(12)으로부터 박리되어 버리는 것을 억제할 수 있다. 또한, 점착층에 의한 접착력이 전주 응력보다 큰지 여부는, 패턴 필름이 기판으로부터 박리되는지 여부로 판단할 수 있고, 전주 시에 패턴 필름이 기판으로부터 박리되지 않으면, 점착층에 의한 기판과 패턴 필름과의 접착력이 전주 응력보다 큰 것을 의미한다.

전주 시에 있어서의 전주 응력보다 패턴 필름(14)과 기판(12)과의 접착력을 크게 함으로써, 전주 시에 패턴 필름(14)의 기판(12)으로부터의 박리를 억제할 수 있기 때문에, 패턴 필름(14)에 전주 응력에 의한 왜곡을 발생시키지 않고, 전주 몰드를 형성할 수 있다.

한편으로, 전주 몰드를 박리할 때에 전주 몰드를 전주용 원반으로부터 박리하고자 하면, 기판의 강성이 높기 때문에, 전주 몰드에 응력이 가해져, 전주 몰드에 휨이 발생하거나 패턴 결손이 발생하는 경우가 있다. 따라서, 전주 몰드를 박리하려면, 패턴 필름과 기판을 박리한 후에, 전주 몰드를 강성이 작고 유연성이 높은 패턴 필름으로부터 박리하는 것이 바람직하다. 전주 몰드를 패턴 필름마다 기판으로부터 박리함으로써, 전주 몰드에 휨이 발생하거나 패턴 결손이 발생하는 것 등을 억제하여 전주 몰드로의 대미지를 억제할 수 있기 때문이다. 이로 인하여, 전주 후에 있어서, 패턴 필름과 기판과의 박리성이 높은 것이 바람직하다.

기판(12)과 패턴 필름(14)과의 접착력이 10N/25mm 이하이면, 기판(12)과 패턴 필름(14)을 용이하게 박리할 수 있다. 박리 시에 전주 몰드에 부여하는 응력을 억제할 수 있으므로, 전주 몰드에 휨이 발생하거나, 패턴 결손이 발생하는 것을 억제할 수 있다.

점착층(20)은, 기판(12)의 평탄면(12a)에 먼저 첩부되어도 되고, 패턴 필름(14)의 요철 패턴(14a)을 구비하지 않은 면(14b)에 먼저 첩부되어도 된다. 패턴 필름(14)이, 베이스 필름(16)과 수지층(18)으로 이루어지는 경우, 베이스 필름(16) 상에 요철 패턴을 갖는 수지층(18)을 형성하기 전에, 베이스 필름(16)의 수지층(18)을 형성하는 면과 반대의 면측에, 미리 점착층(20)을 구비하고 있어도 된다. 이 경우, 점착층이 광학 점착 시트(OCA: Optical Clear Adhesive)인 것이 바람직하다. 수지층(18)의 광경화 시에 광을 투과시킬 수 있기 때문이다. 또한, 점착층(20)은, 수지층(18)의 형성 후에, 베이스 필름(16)의 수지층(18)을 형성하는 면과 반대의 면측에 첩부되어도 된다.

점착층으로서는, 아크릴계, 실리콘계 및 유레테인계 등의 재료를 이용할 수 있다. 점착층에 의한 기판과 패턴 필름과의 접착력은 0.01~10N/25mm가 바람직하고, 0.01~1N/25mm가 더 바람직하다. 점착층의 두께는 100μm 이하인 것이 바람직하고, 50μm 이하가 보다 바람직하며, 35μm 이하가 더 바람직하다. 점착층의 값의 하한값으로서는, 한정적은 아니지만, 5μm 이상이 바람직하다. 점착층을 100μm 이하로 함으로써, 기판의 평탄성의 효과를 보다 효과적으로 얻을 수 있다.

상기 접착력을 실현하는 점착층으로서는, 시판 중인 미점착성의 점착 필름을 이용할 수 있다. 린텍 주식회사제의 미점착 테이프, 주식회사 테라오카 세이사쿠쇼의 재박리용 필름 테이프 등을 이용할 수 있다.

또, 광조사, 보다 구체적으로는 UV(Ultra Violet)광의 조사에 의하여 접착력이 저하되어 자기 박리하는 점착층을 이용함으로써, 기판(12)과 패턴 필름(14)과의 박리를 매우 간단하게 행하는 것이 가능해진다. 구체적으로는, 세키스이 가가쿠 고교 주식회사제의 UV 자기 박리 테이프 등을 들 수 있다. 또한, UV 자기 박리 테이프를 점착층으로서 이용하는 경우에는, UV광을 효율적으로 점착층에 조사하기 위하여 기판으로서 유리 등의 투명체를 이용한다. 여기에서, 10N/25mm 초과여도, 상기 점착층으로의 광조사 혹은 가열 처리에 의하여 상기 접착력을 10N/25mm 이하로 저감 가능한 예로서는, 한정적은 아니지만, 니혼 고세이 가가쿠제 아크릴계 코포닐^TM N-4790을 점착층으로서 이용한 경우, 두께 25μm에 있어서, UV 조사 전의 점착력 15.2N/25mm에 대하여, UV 조사(180mJ/cm², 고압 수은 램프)한 후의 점착력은 0.07N/25mm로 저하되어, 기판(12)과 패턴 필름(14)의 박리가 매우 간단하게 행해지는 것이 확인되고 있다.

또, 가열 처리에 의하여 접착력이 저하되어 용이하게 박리 가능해지는 점착층을 이용해도, 동일하게 기판(12)과 패턴 필름(14)과의 박리를 용이하게 행할 수 있다. 구체적으로는, Nitto제의 열박리 시트 등을 이용할 수 있다. 예를 들면, Nitto제 리발파(등록 상표, 120℃ 박리 타입)를 점착층에 이용한 경우, 실온에서의 점착력은 10N/25mm보다 크고, 120℃에서 가열한 후는 점착력이 0.3N/25mm보다 작게 저하되어, 기판(12)과 패턴 필름(14)과의 박리가 매우 간단하게 행해지는 것이 확인되고 있다.

<전주 몰드의 제조 방법>

상기 본 실시형태의 전주용 원반(10)을 이용한, 본 발명의 제1 실시형태의 전주 몰드의 제조 방법을 설명한다. 도 2는, 제1 실시형태의 제조 방법의 공정을 모식적으로 나타내는 도이다.

영률이 50GPa 이상인, 평탄면(12a)을 갖는 기판(12)과, 영률이 10GPa 이하인, 요철 패턴(14a)이 표면에 형성된 패턴 필름(14)을 준비한다(S1).

그 후, 기판(12)의 평탄면(12a)에 패턴 필름(14)의 요철 패턴(14a)을 구비하지 않은 면을, 양면이 대향하는 전체면에 걸쳐 구비된 점착층(20)을 통하여 첩합하여, 요철 패턴(14a)을 표면에 갖는 전주용 원반(10)을 얻는다(S2).

여기에서는, 패턴 필름(14)의 요철 패턴(14a)과 반대의 면(14b)에 점착층(20)이 미리 첩부된 것을 이용하고 있다. 점착층(20)은 기판(12)의 평탄면(12a)의 표면에 첩부되어 있어도 된다.

전주용 원반(10)의 요철 패턴(14a)의 표면에 전주하여 전주 몰드를 형성한다. 먼저, 전주의 전처리로서 요철 패턴(14a)의 표면에 Ni 등의 금속층(32)을 스퍼터에 의하여 형성한다(S3). 그 후, 전주 공정을 실시하여 전주 몰드(34)를 형성한다(S4). 전주 금속으로서는, Ni, Cu, Fe, 혹은 그들의 합금 등을 이용할 수 있다.

점착층(20)은, 전주 몰드(34) 형성 시에 발생하는 전주 응력보다 큰 접착력으로 기판(12)과 패턴 필름(14)을 접착시키는 것을 이용한다. 이로써 전주 응력을 받아도 패턴 필름(14)은 기판(12)으로부터 박리하지 않고, 기판(12)의 평탄면에 지지되는 상태를 유지할 수 있다. 이로 인하여, 전주물인 전주 몰드에 왜곡이 발생하는 것을 억제할 수도 있다.

그 후, 제1 박리 공정으로서, 기판(12)으로부터 패턴 필름(14)을 전주 몰드(34)와 함께 박리한다(S5). 이때, 강성이 높은 기판(12)과 비교하여 강성이 낮은 패턴 필름(14) 및 전주 몰드(34)의 적층체를 약간 변형시키면서 박리시킨다. 기판(12)과 패턴 필름(14)과의 접착력은 10N/25mm 이하이기 때문에, 양자를 용이하게 박리할 수 있다. 특히 1N/25mm 이하이면, 패턴 필름(14) 및 전주 몰드(34)를 거의 굽히거나 뒤로 젖히는 변형을 시키지 않고, 기판(12)으로부터 박리시킬 수 있다.

다음으로, 제2 박리 공정으로서, 전주 몰드(34)로부터 패턴 필름(14)을 박리한다(S6). 이때, 전주 몰드(34)를 변형시키지 않고, 패턴 필름(14) 측을 굴곡시키도록 변형시키면서 박리한다. 이로써, 전주 몰드(34)에 패턴 결함이나 휨을 발생하지 않고, 전주 몰드(34)와 패턴 필름(14)을 박리시킬 수 있다.

이상에 의하여, 전주 몰드(34)를 얻을 수 있다(S7).

또한, 상기 본 실시형태의 전주용 원반(10)을 이용한, 본 발명의 제2 실시형태의 전주 몰드의 제조 방법을 설명한다. 도 3은, 제2 실시형태의 제조 방법의 공정을 모식적으로 나타내는 도이다. 여기에서는, 전주용 원반(10)의 점착층(20)이 UV 조사에 의하여 접착력이 저하되는 UV 자기 박리 시트인 경우에 대하여 설명한다. 제1 실시형태의 제조 방법과 동일한 공정에 대해서는 동등한 부호를 붙이고, 상세한 설명을 생략한다.

기판(12) 및 패턴 필름(14)을 준비하고(S1), 전주용 원반(10)을 얻어(S2), 전주에 의하여 전주 몰드(34)를 전주용 원반(10)의 표면에 형성하기(S3-S4)까지의 공정은, 상기 제1 실시형태의 제조 방법과 동일하다.

제1 박리 공정에 있어서, 기판(12)의 패턴 필름(14)이 접착되어 있는 면과는 반대의 면(12B) 측으로부터 기판(12)을 투과시켜 점착층(20)에 UV광을 조사한다(S5-1). 점착층(20)은 UV광의 조사를 받아 접착력을 상실하여, 기판(12)과 패턴 필름(14)과는 간단하게 박리된다(S5-2). 또한, 점착층이 열박리 필름으로 구성되어 있는 경우에는, UV광을 조사하는 대신에, 기판마다 핫플레이트 상에 재치하여 가열하는 등의 방법으로 점착층을 가열하면 된다.

그 후, 전주 몰드(34)로부터 패턴 필름(14)을 박리하는 제2 박리 공정을 거쳐(S6), 전주 몰드(34)를 얻을 수 있다(S7).

본 발명의 전주용 원반은, 강성이 낮은 패턴 필름을 강성이 높은 기판의 평탄면에 고정하여 구성되어 있으므로, 패턴 필름의 휨이 억제되어 있다. 또, 패턴 필름의 요철 패턴과는 반대의 면과 기판의 평탄면을, 양자가 대향하는 영역의 전체면에 걸쳐 마련된 점착층을 통하여 접착시켜 고정하고 있다. 접착면의 전체면에 균등하게 점착층을 구비하고, 이 점착층에 의한 양자의 접착력이, 전주 시의 전주 응력보다 크게 설정되어 있음으로써, 전주 시에 패턴 필름이 왜곡 등의 변형이 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 점착층에 의한 기판과 요철 패턴과의 접착력은, 전주 시의 전주 응력보다 크지만, 용이하게 박리할 수 있는 정도인, 혹은 접착력을 광조사 혹은 가열에 의하여 저감할 수 있다. 따라서, 요철 패턴 표면에 대한 전주 몰드의 형성 후, 전주 몰드에 왜곡이나 휨을 부여하지 않고, 기판과 패턴 필름을 박리할 수 있고, 또 전주 몰드로부터 패턴 필름을 박리할 수 있다. 즉, 본 발명의 전주용 원반을 이용함으로써, 휨이나 왜곡이 없는 전주 몰드를 얻을 수 있다.

10 전주용 원반
12 기판
12a 기판의 평탄면
12b 기판의 반대의 면
14 패턴 필름
14a 요철 패턴
14b 패턴 필름의 반대의 면
16 베이스 필름
18 수지층
20 점착층
32 금속층
34 전주 몰드

Claims

요철 패턴을 표면에 갖는 전주용 원반으로서,
영률이 50GPa 이상인, 평탄면을 갖는 기판과,
영률이 10GPa 이하인, 상기 요철 패턴이 표면에 형성된 패턴 필름을 구비하고,
상기 기판의 상기 평탄면과 상기 패턴 필름의 상기 요철 패턴을 구비하지 않은 면이, 전체면에 걸쳐 점착층에 의하여 첩합되어 있으며,
상기 점착층에 의한 상기 기판과 상기 패턴 필름과의 접착력이 0.01N/25mm 이상, 10N/25mm 이하이거나, 또는 10N/25mm 초과여도, 상기 점착층으로의 광조사 혹은 가열 처리에 의하여 상기 접착력을 10N/25mm 이하로 저감 가능한 전주용 원반.
청구항 1에 있어서,
상기 접착력이 1N/25mm 이하인 전주용 원반.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 점착층이, 광학 점착 시트인 전주용 원반.
청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
상기 점착층의 두께가 100μm 이하인 전주용 원반.
영률이 50GPa 이상인, 평탄면을 갖는 기판과,
영률이 10GPa 이하인, 요철 패턴이 표면에 형성된 패턴 필름을 준비하고,
상기 기판의 상기 평탄면에 상기 패턴 필름의 상기 요철 패턴을 구비하지 않은 면을, 양면이 대향하는 전체면에 걸쳐 구비된 점착층을 통하여 첩합하여, 상기 요철 패턴을 표면에 갖는 전주용 원반을 얻는 공정과,
상기 전주용 원반의 상기 요철 패턴의 표면에 전주하여 전주 몰드를 형성하는 전주 공정과,
상기 기판으로부터 상기 패턴 필름을 상기 전주 몰드와 함께 박리하는 제1 박리 공정과,
상기 전주 몰드로부터 상기 패턴 필름을 박리하는 제2 박리 공정을 구비하며,
상기 점착층으로서, 상기 전주 몰드의 전주 시에 발생하는 전주 응력보다 큰 접착력으로 상기 기판과 상기 패턴 필름을 접착시키는 점착층을 이용하는 전주 몰드의 제조 방법.
청구항 5에 있어서,
상기 점착층으로서, 광학 점착 시트를 이용하는 전주 몰드의 제조 방법.
청구항 5에 있어서,
상기 점착층으로서, 광조사 혹은 가열에 의하여, 접착력이 저하되는 점착제로 이루어지는 점착층을 이용하고,
상기 제1 박리 공정에 있어서, 상기 점착층에 광조사하거나, 혹은 상기 점착층을 가열하여, 상기 점착층의 접착력을 저하시킨 후, 상기 기판으로부터 상기 패턴 필름을 박리하는 전주 몰드의 제조 방법.
청구항 5 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제2 박리 공정에 있어서, 상기 패턴 필름을 변형시키면서, 상기 전주 몰드로부터 박리하는 전주 몰드의 제조 방법.