KR102311772B1 - Metal Particle Removal Module Using Electrostatic Chuck - Google Patents

Metal Particle Removal Module Using Electrostatic Chuck Download PDF

Info

Publication number
KR102311772B1
KR102311772B1 KR1020200041949A KR20200041949A KR102311772B1 KR 102311772 B1 KR102311772 B1 KR 102311772B1 KR 1020200041949 A KR1020200041949 A KR 1020200041949A KR 20200041949 A KR20200041949 A KR 20200041949A KR 102311772 B1 KR102311772 B1 KR 102311772B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask
reel
disposed
metal sheet
particle removal
Prior art date
Application number
KR1020200041949A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20210029652A (en
Inventor
이승호
이준용
이명수
박찬호
김상길
노병관
장근수
이주승
정헌호
Original Assignee
(주)아이씨디
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)아이씨디 filed Critical (주)아이씨디
Publication of KR20210029652A publication Critical patent/KR20210029652A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102311772B1 publication Critical patent/KR102311772B1/en

Links

Images

Classifications

    • H01L51/56—
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
    • H01L51/0001—
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

메탈 시트에 증착된 메탈 파티클을 효과적으로 제거할 수 있는 메탈 파티클 제거 모듈이 개시된다. 이는 메탈 시트에 증착된 메탈 파티클을 정전척을 이용하여 제거함으로써 공정 챔버 내에 비산될 수 있는 메탈 파티클을 간편하고, 효과적으로 제거할 수 있다. 또한, 메탈 파티클 등의 오염물질을 챔버를 오픈하지 않고 제거할 수 있기 때문에 설비의 가동률을 상승시킬 수 있고, 생산 비용을 절감할 수 있다. 더 나아가, 종래에 비해 마스크 교체 과정을 간편화, 모듈화할 수 있다.Disclosed is a metal particle removal module capable of effectively removing metal particles deposited on a metal sheet. In this case, metal particles that may be scattered in the process chamber can be easily and effectively removed by removing the metal particles deposited on the metal sheet using an electrostatic chuck. In addition, since contaminants such as metal particles can be removed without opening the chamber, the operation rate of the equipment can be increased and production costs can be reduced. Furthermore, it is possible to simplify and modularize the mask replacement process compared to the prior art.

Description

정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈{Metal Particle Removal Module Using Electrostatic Chuck}Metal Particle Removal Module Using Electrostatic Chuck

본 발명은 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 마스크용 메탈 시트에 증착된 메탈 파티클을 효과적으로 제거하기 위한 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈에 관한 것이다.The present invention relates to a metal particle removal module using an electrostatic chuck, and more particularly, to a metal particle removal module using an electrostatic chuck for effectively removing metal particles deposited on a metal sheet for a mask.

디스플레이 장치들 중 유기 발광 표시 장치는 시야각이 넓고, 컨트라스트가 우수할 뿐만 아니라, 응답 속도가 빠르다는 장점을 가지고 있다. 이러한 유기 발광 표시 장치는 여러 개의 서브 픽셀이 하나의 픽셀을 이룬다.Among display devices, an organic light emitting diode display has a wide viewing angle, excellent contrast, and a fast response speed. In such an organic light emitting display device, a plurality of sub-pixels constitute one pixel.

유기 발광 표시 장치를 제조하는 과정에서 각각의 서브 픽셀은 여러 가지 방법에 의하여 형성시킬 수 있는데, 이중 하나의 방법이 증착 시스템을 이용한 증착법이다.In the process of manufacturing the organic light emitting display device, each sub-pixel may be formed by various methods, one of which is a deposition method using a deposition system.

증착 시스템을 이용한 증착법을 이용하여 서브 픽셀을 형성하기 위해서는 기판 상에 형성될 박막 등의 패턴과 동일한 패턴을 가지는 메탈 마스크(metal mask)를 정렬한다. 메탈 마스크에서 패턴과 대응되는 부분에는 관통부들이 형성된다. 이러한 메달 마스크로 유기물을 기판 상에 증착하여 소망하는 패턴의 박막을 형성하게 된다.In order to form a sub-pixel using a deposition method using a deposition system, a metal mask having the same pattern as a pattern of a thin film to be formed on a substrate is aligned. Penetrating portions are formed in a portion corresponding to the pattern in the metal mask. An organic material is deposited on a substrate with such a medal mask to form a thin film having a desired pattern.

이러한 마스크는 소정의 공정이 진행된 뒤에는 마스크 표면에 파티클등 불순물이 증착되기 때문에 주기적으로 교체되어야 한다.Such a mask must be periodically replaced because impurities such as particles are deposited on the mask surface after a predetermined process is performed.

허나, 기판이 대형화 될수록 마스크의 크기와 무게 또한 커지기 때문에 마스크 교체에 따른 비용과 교체시간이 상당히 소요되는 단점을 갖는다. 즉, 챔버 내에 사용된 마스크를 교체하기 위해서는 로봇 암(Robot Arm)등을 이용하여 챔버 내의 마스크를 챔버 외부로 이동시키고, 새로운 마스크를 다시 로봇 암등을 이용하여 다시 챔버 내로 이동하여 장착해야만 한다. 따라서, 공정 시간 대비하여 교체되는 시간과 비용이 상당히 소요된다. 또한, 마스크 교체 주기가 많아질수록, 그에 따른 시간과 비용이 추가적으로 소요되고, 잦은 교체에 의해 장비 가동률이 낮아져 전체 수율이 낮아지는 문제점이 있다.However, as the size and weight of the mask increase as the substrate becomes larger, the cost and time required to replace the mask are considerably disadvantageous. That is, in order to replace the mask used in the chamber, the mask in the chamber must be moved to the outside of the chamber using a robot arm, etc., and a new mask must be moved back into the chamber using the robot arm and mounted. Therefore, it takes a considerable amount of time and cost to be replaced compared to the process time. In addition, as the mask replacement cycle increases, time and cost are additionally required, and there is a problem in that the equipment operation rate is lowered due to frequent replacement, thereby lowering the overall yield.

한국특허공개 10-2018-0112191Korean Patent Laid-Open 10-2018-0112191

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 마스크용 메탈 시트에 증착된 메탈 파티클을 간편하고, 빠르게 제거할 수 있는 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈을 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a metal particle removal module using an electrostatic chuck that can easily and quickly remove metal particles deposited on a metal sheet for a mask.

상기 과제를 해결하기 위한 본 발명은 릴에 감기거나 풀리는 마스크용 메탈 시트에 부착된 파티클들을 정전척(ESC)을 이용하여 흡착되도록 하는 파티클 제거 수단, 상기 파티클 제거 수단에 흡착된 파티클들을 흡입하여 챔버 외부로 배출하는 펌핑 수단 및 상기 릴과 상기 파티클 제거 수단을 감싸는 모듈 케이스를 포함한다.The present invention for solving the above problems is a particle removal means for adsorbing particles attached to a metal sheet for a mask that is wound or unwound on a reel using an electrostatic chuck (ESC), and a chamber by sucking the particles adsorbed to the particle removal means It includes a pumping means for discharging to the outside and a module case surrounding the reel and the particle removing means.

상기 파티클 제거 수단은 오염된 상기 마스크용 메탈 시트가 감기는 상기 릴과 인접하도록 배치될 수 있다.The particle removing means may be disposed adjacent to the reel on which the contaminated metal sheet for the mask is wound.

상기 릴과 마주하는 상기 파티클 제거 수단의 일면은 상기 파티클 제거 수단의 내부 방향으로 오목한 반원 형태를 갖을 수 있다.One surface of the particle removing means facing the reel may have a semicircular shape concave in an inner direction of the particle removing means.

상기 릴과 마주하는 상기 파티클 제거 수단의 일면은 마주하는 상기 릴의 형태와 대응되는 형태를 갖을 수 있다.One surface of the particle removing means facing the reel may have a shape corresponding to the shape of the reel facing.

상기 펌핑 수단은 상기 릴과 상기 파티클 제거 수단의 하단부에 인접하도록 배치될 수 있다.The pumping means may be disposed adjacent to the reel and lower ends of the particle removing means.

상기 모듈 케이스는 상기 릴과 상기 파티클 제거 수단을 감싸도록 배치되되, 상기 파티클 제거 수단과 상기 펌핑 수단이 서로 연통되도록 하부가 개방될 수 있다.The module case may be disposed to surround the reel and the particle removal means, and a lower portion may be opened so that the particle removal means and the pumping means communicate with each other.

상기 마스크용 메탈 시트는 마스크 프레임의 일면을 모두 덮도록 배치될 수 있다.The metal sheet for the mask may be disposed to cover one surface of the mask frame.

상기 릴은 상기 마스크 프레임의 양측에 각각 배치되되, 상기 마스크용 메탈 시트는 상기 마스크 프레임의 일측에 배치된 상기 릴에서 타측에 배치된 상기 릴로 이동될 수 있다.The reels may be disposed on both sides of the mask frame, and the metal sheet for the mask may be moved from the reel disposed on one side of the mask frame to the reel disposed on the other side of the mask frame.

상기 릴은 상기 마스크 프레임의 좌우 방향 또는 상하 방향에 각각 배치되되, 상기 마스크용 메탈 시트가 상기 마스크 프레임의 일면을 모두 덮도록 배치될 수 있다.The reels may be disposed in the left-right direction or the vertical direction of the mask frame, respectively, and the metal sheet for the mask may be disposed to cover one surface of the mask frame.

상기 파티클 제거 수단은 상기 마스크 프레임의 좌우 방향 또는 세로 방향에 배치된 상기 릴에 각각 배치될 수 있다.The particle removal means may be respectively disposed on the reels disposed in the left-right direction or the vertical direction of the mask frame.

상기 마스크용 메탈 시트는 상기 마스크 프레임 상에 배치되되, 상기 마스크용 메탈 시트가 서로 교차되도록 배치될 수 있다.The metal sheet for the mask may be disposed on the mask frame, and the metal sheet for the mask may be disposed to cross each other.

상술한 본 발명에 따르면, 마스크용 메탈 시트에 증착된 메탈 파티클을 정전척을 이용하여 제거함으로써 공정 챔버 내에 비산될 수 있는 메탈 파티클을 간편하고, 효과적으로 제거할 수 있다.According to the present invention described above, by removing the metal particles deposited on the metal sheet for a mask using an electrostatic chuck, it is possible to simply and effectively remove the metal particles that may be scattered in the process chamber.

또한, 메탈 파티클 등의 오염물질을 챔버를 오픈하지 않고 제거할 수 있기 때문에 설비의 가동률을 상승시킬 수 있고, 생산 비용을 절감할 수 있다.In addition, since contaminants such as metal particles can be removed without opening the chamber, the operation rate of the equipment can be increased and production costs can be reduced.

더 나아가, 종래에 비해 마스크 교체 과정을 간편화, 모듈화할 수 있다.Furthermore, it is possible to simplify and modularize the mask replacement process compared to the prior art.

본 발명의 기술적 효과들은 이상에서 언급한 것들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical effects of the present invention are not limited to those mentioned above, and other technical effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 본 발명의 증착 시스템을 나타내는 도면이다.
도 2는 본 발명의 릴 타입의 롤링 마스크 모듈을 나타낸 도면이다.
도 3은 본 발명의 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈을 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 릴 타입의 롤링 마스크 모듈 및 메탈 파티클 제거 모듈이 장착된 마스크 프레임을 나타낸 도면이다.1 is a view showing a deposition system of the present invention.
2 is a view showing a reel-type rolling mask module of the present invention.
3 is a view showing a metal particle removal module using the electrostatic chuck of the present invention.
4 is a view showing a mask frame in which the reel-type rolling mask module and the metal particle removal module of the present invention are mounted.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Since the present invention can apply various transformations and can have various embodiments, specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

이하, 본 발명에 따른 실시 예들을 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. do it with

도 1은 본 발명의 증착 시스템을 나타내는 도면이다.1 is a view showing a deposition system of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 증착 시스템은 챔버(1000), 챔버(1000) 일측에 배치되고, 피처리 기판(101)이 유입되는 서셉터부(100), 서셉터부(100)와 접하도록 형성되고, 피처리 기판(101)이 유입되어 롤 형태의 마스크용 메탈 시트(211)가 부착된 마스크 프레임(230) 상에 합착되는 릴 마스크부(200) 및 릴 마스크부(200)와 접하도록 형성되고, 증착소스(310)를 이용하여 피처리 기판(101)에 막을 증착시키는 증착부(300)를 포함한다.Referring to FIG. 1 , the deposition system according to the present invention includes a chamber 1000 , a susceptor unit 100 disposed at one side of the chamber 1000 , and a susceptor unit 100 into which a processing target substrate 101 is introduced. The reel mask unit 200 and the reel mask unit 200 are formed so as to be in contact with the processing target substrate 101 and are adhered to the mask frame 230 to which the roll-shaped metal sheet 211 for a mask is attached. It is formed to be in contact with and includes a deposition unit 300 for depositing a film on the target substrate 101 using the deposition source 310 .

서셉터부(100) 내에는 피처리 기판(101)이 투입되며, 실링에 의해 밀폐된 채로 내부가 진공 상태를 유지할 수 있다. 서셉터부(100) 내로 투입된 피처리 기판(101)은 서셉터부(100) 내에 배치된 서셉터(110) 상부에 안착될 수 있다. 이때, 피처리 기판(101)은 페이스 업(face-up) 물류 방식을 위해 페이스 업 형태로 서셉터(110)에 안착될 수 있다.The processing target substrate 101 is put into the susceptor part 100 , and the inside of the susceptor part 100 may be kept in a vacuum state while being sealed by sealing. The processing target substrate 101 inserted into the susceptor part 100 may be seated on the susceptor 110 disposed in the susceptor part 100 . In this case, the target substrate 101 may be seated on the susceptor 110 in a face-up form for a face-up distribution method.

서셉터(110)에 안착된 피처리 기판(101)은 서셉터(110) 하부에 연결된 관절부(120)에 의해 서셉터(110)를 수평상태에서 수직상태로 회전 이동될 수 있다. 이후, 수직상태로 변경된 피처리 기판(101)은 관절부(120)의 직선 운동에 의해 릴 마스크부(200) 내로 투입되고, 릴 마스크부(200) 내로 투입된 피처리 기판(101)은 마스크 프레임(230) 상에 배치될 수 있다.The processing target substrate 101 seated on the susceptor 110 may be rotated from a horizontal state to a vertical state by the joint portion 120 connected to the lower portion of the susceptor 110 . Thereafter, the processing target substrate 101 changed to the vertical state is input into the reel mask unit 200 by the linear motion of the joint part 120, and the processing target substrate 101 injected into the reel mask part 200 is the mask frame ( 230) may be disposed on.

즉, 피처리 기판(101)은 서셉터부(100) 내에서 막이 증착되는 면이 상부 방향이 되도록 서셉터(110)에 페이스 업 형태로 안착되고, 피처리 기판(101)에서 막이 증착되는 면이 릴 마스크부(200)를 향하도록 관절부(120)를 이용하여 회전함으로써 수직상태로 전환 후 관절부(120)의 직선 운동을 통해 피처리 기판(101)이 마스크 프레임(230)과 접촉될 때까지 릴 마스크부(200)로 유입될 수 있다.That is, the processing target substrate 101 is seated face-up on the susceptor 110 so that the surface on which the film is deposited in the susceptor part 100 is in the upward direction, and the surface on which the film is deposited on the processing target substrate 101 . The reel mask unit 200 is rotated using the joint part 120 to turn it into a vertical state, and then through the linear motion of the joint part 120 until the target substrate 101 comes into contact with the mask frame 230 . It may flow into the reel mask unit 200 .

피처리 기판(101)의 증착 공정이 완료되면, 증착된 기판을 관절부(120)를 이용하여 릴 마스크부(200)에서 서셉터부(100)로 이동하고, 이동이 완료되면 기판은 다시 관절부(120)를 통해 수직상태에서 수평상태로 전환된 후 챔버(1000) 외부로 반출될 수 있다.When the deposition process of the target substrate 101 is completed, the deposited substrate is moved from the reel mask part 200 to the susceptor part 100 using the joint part 120, and when the movement is completed, the substrate is again transferred to the joint part ( 120), after being converted from a vertical state to a horizontal state, it may be carried out to the outside of the chamber 1000.

서셉터부(100)의 크기는 서셉터부(100) 내부에서 서셉터(110)에 연결된 관절부(120)에 의해 서셉터(110)가 수평상태에서 수직상태로 또는 수직상태에서 수평상태로 이동가능 하도록 최소 크기로 제작되는 것이 바람직하다.The size of the susceptor part 100 is that the susceptor 110 moves from a horizontal state to a vertical state or from a vertical state to a horizontal state by the joint part 120 connected to the susceptor 110 inside the susceptor part 100 . It is desirable to be manufactured in the smallest size possible.

릴 마스크부(200)는 서셉터부(100)와 접하도록 형성되며, 서셉터부(100) 내부와 연통되도록 형성될 수 있다. 따라서, 서셉터(110)에 안착된 피처리 기판(101)이 수직상태로 전환 후 릴 마스크부(200) 내로 투입되어 릴 마스크부(200)에 장착된 마스크 프레임(230) 상에 수직상태로 안착될 수 있다.The reel mask unit 200 may be formed to be in contact with the susceptor unit 100 , and may be formed to communicate with the inside of the susceptor unit 100 . Therefore, after the substrate 101 seated on the susceptor 110 is converted to a vertical state, it is put into the reel mask unit 200 and is placed in a vertical state on the mask frame 230 mounted on the reel mask unit 200 . can be seated

이때, 피처리 기판(101)은 마스크 프레임(230)의 네 모서리에 각각 설치된 얼라인 조절 장치(미도시)를 이용하여 마스크 프레임(230)의 얼라인 조절 후 마스크 프레임(230) 상에 안착될 수 있다.In this case, the target substrate 101 is to be seated on the mask frame 230 after alignment of the mask frame 230 using alignment adjustment devices (not shown) installed at each of the four corners of the mask frame 230 . can

또한, 본 발명에 따른 증착 장비의 릴 마스크부(200) 내에는 오염된 마스크를 간편하게 교체하기 위한 릴 타입의 롤링 마스크 모듈(210)이 포함될 수 있다.In addition, a reel-type rolling mask module 210 for easily replacing a contaminated mask may be included in the reel mask unit 200 of the deposition equipment according to the present invention.

도 2는 본 발명의 릴 타입의 롤링 마스크 모듈을 나타낸 도면이다.2 is a view showing a reel-type rolling mask module of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 릴 타입의 롤링 마스크 모듈(210)은 릴(211) 및 마스크용 메탈 시트(212)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2 , the reel-type rolling mask module 210 according to the present invention may include a reel 211 and a metal sheet 212 for a mask.

릴(211)은 2개가 한 쌍으로 구성되며, 마스크 프레임(230)의 양 측에 각각 배치될 수 있다. 일측의 릴(211)에는 마스크용 메탈 시트(212)가 감겨 있다. 감긴 마스크용 메탈 시트(212) 중 일부는 마스크 프레임(230) 상에 마스크 프레임(230)의 일면을 덮도록 연장되고, 타측의 릴(211)과 연결된다. 따라서, 일측의 릴(211)에 감겨져 있는 마스크용 메탈 시트(212)는 일측과 타측의 릴(211)이 시계 방향 또는 반시계 방향으로 동시에 회전하면서 일측에서 타측으로 또는 타측에서 일측으로 이동될 수 있다.Two reels 211 are configured as a pair, and may be respectively disposed on both sides of the mask frame 230 . A metal sheet 212 for a mask is wound around the reel 211 on one side. A portion of the wound metal sheet 212 for a mask extends to cover one surface of the mask frame 230 on the mask frame 230 , and is connected to the reel 211 on the other side. Therefore, the metal sheet 212 for a mask wound on one side of the reel 211 may be moved from one side to the other side or from the other side to one side while the reel 211 of one side and the other side rotate simultaneously in a clockwise or counterclockwise direction. have.

일예로, 마스크 프레임(230) 상에 배치된 마스크용 메탈 시트(212)가 다수의 공정 진행으로 인해 오염되면, 양측에 배치된 릴(211)이 동시에 회전하면서 오염된 마스크 시트를 타측의 릴(211)로 이동시키고, 일측의 릴(211)에 감겨져 있던 오염되지 않은 새로운 마스크 릴(211)이 마스크 프레임(230) 상에 재배치될 수 있다. 즉, 오염된 마스크용 메탈 시트(212)를 오염되지 않는 새로운 마스크용 메탈 시트(212)로 교체될 수 있다.For example, when the metal sheet 212 for a mask disposed on the mask frame 230 is contaminated due to a plurality of processes, the reels 211 disposed on both sides rotate at the same time to remove the contaminated mask sheet from the reel ( 211 , and a new uncontaminated mask reel 211 wound on one side of the reel 211 may be rearranged on the mask frame 230 . That is, the contaminated metal sheet 212 for a mask may be replaced with a new non-contaminated metal sheet 212 for a mask.

이러한 한 쌍의 릴(211) 구조는 마스크 프레임(230)에 가로 방향과 세로 방향에 각각 한 쌍 이상이 배치되되, 마스크용 메탈 시트(212)가 서로 교차되도록 배치될 수 있다. 즉, 마스크 프레임(230)의 일면은 마스크 프레임(230)의 가로 방향과 세로 방향에 배치된 다수의 릴 타입의 롤링 마스크 모듈(210)의 마스크용 메탈 시트(212)에 의해 모두 덮일 수 있다.In the structure of the pair of reel 211 , one or more pairs are disposed on the mask frame 230 in a horizontal direction and a vertical direction, respectively, and the metal sheet 212 for a mask may be disposed to cross each other. That is, one surface of the mask frame 230 may be all covered by the metal sheet 212 for a mask of the plurality of reel-type rolling mask modules 210 disposed in the horizontal and vertical directions of the mask frame 230 .

마스크용 메탈 시트(212)의 배치 위치 및 수량은 기판에 배치되는 디스플레이 패널의 수량에 의해 결정된다.The arrangement position and quantity of the metal sheet 212 for the mask is determined by the quantity of the display panel arranged on the substrate.

또한, 오염된 마스크용 메탈 시트(212)가 이동되는 타측의 릴(211)에는 릴(211)과 인접하도록 메탈 파티클 제거 모듈(220)이 배치될 수 있다.In addition, the metal particle removal module 220 may be disposed on the other side of the reel 211 on which the contaminated metal sheet 212 is moved so as to be adjacent to the reel 211 .

도 3은 본 발명의 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈을 나타낸 도면이다.3 is a view showing a metal particle removal module using the electrostatic chuck of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈(220)은 파티클 제거 수단(221), 펌핑 수단(222) 및 모듈 케이스(223)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 3 , the metal particle removing module 220 using the electrostatic chuck according to the present invention may include a particle removing unit 221 , a pumping unit 222 , and a module case 223 .

파티클 제거 수단(221)은 릴(211)과 인접하도록 배치될 수 있다. 좀 더 상세하게는, 오염된 마스크용 메탈 시트(212)가 감기는 타측의 릴(211)과 인접하도록 배치될 수 있다. 파티클 제거 수단(221)은 일예로 정전척(Electrostatic Chuck, ESC)을 이용한 파티클 제거 수단(221)일 수 있다. 즉, 마스크용 메탈 시트(212) 표면에 달라붙은 파티클들은 타측의 릴(211)에 감기면서 파티클 제거 수단(221)의 정전척에 의해 파티클 제거 수단(221)으로 흡착될 수 있다.The particle removing means 221 may be disposed adjacent to the reel 211 . In more detail, the contaminated metal sheet 212 for a mask may be disposed adjacent to the reel 211 of the other side is wound. The particle removing means 221 may be, for example, a particle removing means 221 using an electrostatic chuck (ESC). That is, the particles adhering to the surface of the metal sheet 212 for a mask may be adsorbed to the particle removing unit 221 by the electrostatic chuck of the particle removing unit 221 while being wound around the other side of the reel 211 .

또한, 파티클 제거 수단(221)은 릴(211)과 마주하는 면이 반원 형태를 가질 수 있다. 즉, 마스크용 메탈 시트(212)가 원형의 릴(211)에 감기기 때문에 마스크용 메탈 시트(212)의 표면에 달라붙은 파티클을 효과적으로 제거하기 위해서는 릴(211)과 대응되는 면이 릴(211)의 일면의 형태와 대응되도록, 즉 마스크용 메탈 시트(212)의 변형 곡률과 비례한 형태인 반원 형태를 갖는 것이 바람직하다. 좀 더 상세하게는, 파티클 제거 수단(221)의 일면은 내부로 오목한 형태를 가진 반원 형태를 가질 수 있다.In addition, the particle removing means 221 may have a semicircular shape on a surface facing the reel 211 . That is, since the metal sheet 212 for the mask is wound on the circular reel 211, in order to effectively remove the particles adhering to the surface of the metal sheet 212 for the mask, the surface corresponding to the reel 211 is the reel 211. It is preferable to have a semicircular shape that is proportional to the deformation curvature of the metal sheet 212 for a mask so as to correspond to the shape of one surface of the . In more detail, one surface of the particle removing means 221 may have a semicircular shape with an inner concave shape.

이러한 파티클 제거 수단(221)은 일면이 내부로 오목한 반원 형태 외에, 원통 형태 또는 사각 기둥 형태를 가질 수 있다.The particle removing means 221 may have a cylindrical shape or a quadrangular pole shape, in addition to a semicircular shape with one surface concave inward.

이렇게 정전척에 의해 파티클 제거 수단(221)으로 흡착된 파티클들은 하부에 배치된 펌핑 수단(222)에 의해 흡입되어 챔버 외부로 배출될 수 있다.The particles adsorbed to the particle removal means 221 by the electrostatic chuck may be sucked by the pumping means 222 disposed below and discharged to the outside of the chamber.

보다 효과적인 파티클 제거를 위해서 외부에서 챔버 내부로 고순도 N2 가스를 흘려줘 압력 구배에 의하여 파티클을 불어줌으로써 펌핑 수단(222)에 의한 파티클 제거의 효과를 증대시킬 수 있다.For more effective particle removal, the effect of particle removal by the pumping means 222 can be increased by flowing high-purity N2 gas from the outside into the chamber and blowing the particles by a pressure gradient.

모듈 케이스(223)는 마스크용 메탈 시트(212), 릴(211) 및 파티클 제거 수단(221)을 감싸도록 형성될 수 있다. 따라서, 릴(211)에 감기는 오염된 마스크용 메탈 시트(212)의 파티클들이 파티클 제거 수단(221)에 의해 흡착되기 전에 챔버(1000) 내부로 방출되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 릴(211) 또는 파티클 제거 수단(221)에 흡착된 파티클들이 하부에 배치된 펌핑 수단(222)으로 흡입되도록 모듈 케이스(223)의 하부는 개방되는 형태를 가질 수 있다.The module case 223 may be formed to surround the mask metal sheet 212 , the reel 211 , and the particle removing means 221 . Accordingly, it is possible to prevent the particles of the metal sheet 212 for a mask wound on the reel 211 from being discharged into the chamber 1000 before being adsorbed by the particle removing means 221 . In addition, the lower portion of the module case 223 may be opened so that particles adsorbed on the reel 211 or the particle removing means 221 are sucked into the pumping means 222 disposed thereunder.

따라서, 릴(211)에 증착된 파티클 등의 오염물질은 별도의 세정과정 없이 간편하게 오염물질을 챔버 외부로 배출시킬 수 있다. 이러한 상기 릴(211) 및 릴(211)과 인접하여 배치된 파티클 제거 수단(221)은 모듈 케이스(223) 내에 배치되어 외부의 환경으로부터 보호되고, 모듈화 될 수 있다.Accordingly, contaminants such as particles deposited on the reel 211 can be easily discharged to the outside of the chamber without a separate cleaning process. The reel 211 and the particle removing means 221 disposed adjacent to the reel 211 may be disposed in the module case 223 to be protected from the external environment and modularized.

도 4는 본 발명의 릴 타입의 롤링 마스크 모듈 및 메탈 파티클 제거 모듈이 장착된 마스크 프레임을 나타낸 도면이다.4 is a view showing a mask frame in which the reel-type rolling mask module and the metal particle removal module of the present invention are mounted.

도 2 및 도 4를 참조하면, 마스크 프레임(230) 상에 좌우 방향 및 상하 방향으로 마스크용 메탈 시트(212)가 배치될 수 있다.2 and 4 , a metal sheet 212 for a mask may be disposed on the mask frame 230 in left and right directions and in vertical directions.

즉, 본 발명에 따른 릴 타입의 롤링 마스크 모듈(210)은 마스크용 메탈 시트(212)가 마스크 프레임(230)의 일면을 모두 덮도록 마스크 프레임(230)의 좌우 방향 및 상하 방향으로 배치될 수 있다. 따라서, 마스크 프레임(230)의 좌우 방향 및 상하 방향으로 배치된 릴(211) 중 오염된 마스크용 메탈 시트(212)가 감기는 릴(211)에는 각각 메탈 파티클 제거 모듈(220)이 장착될 수 있다.That is, the reel-type rolling mask module 210 according to the present invention may be disposed in the left and right directions and the vertical direction of the mask frame 230 so that the metal sheet 212 for the mask covers all one surface of the mask frame 230 . have. Accordingly, the metal particle removal module 220 may be mounted on the reel 211 on which the contaminated metal sheet 212 for the mask is wound among the reels 211 arranged in the left and right and vertical directions of the mask frame 230 , respectively. have.

일예로, 릴(211)이 마스크 프레임(230)의 좌우 방향에 배치되되, 오염되지 않은 마스크용 메탈 시트(212)가 좌측의 릴(211)에 감겨있는 경우, 양측의 릴(211)을 시계 방향으로 동시에 회전시킴으로써 오염된 마스크용 메탈 시트(212)를 우측의 릴(211)로 이동시켜 교체할 수 있고, 릴(211)이 마스크 프레임(230)의 상하 방향에 배치되되, 오염되지 않은 마스크용 메탈 시트(212)가 상측의 릴(211)에 감겨있는 경우, 양측의 릴(211)을 시계 방향으로 동시에 회전시킴으로써 오염된 마스크용 메탈 시트(212)를 하측의 릴(211)로 이동시켜 교체할 수 있다.For example, when the reel 211 is disposed in the left and right directions of the mask frame 230 , and the metal sheet 212 for a mask that is not contaminated is wound around the reel 211 on the left side, watch the reels 211 on both sides clockwise. By simultaneously rotating the metal sheet 212 for a mask in the direction of rotation, it can be replaced by moving the reel 211 on the right side, and the reel 211 is disposed in the vertical direction of the mask frame 230, but the mask is not contaminated. When the metal sheet 212 for a mask is wound on the reel 211 on the upper side, by simultaneously rotating the reels 211 on both sides clockwise, the contaminated metal sheet 212 for the mask is moved to the reel 211 on the lower side. Can be replaced.

이때, 마스크용 메탈 시트(212)에 달라붙은 파티클 등의 오염물질은 마스크용 메탈 시트(212)가 릴(211)에 감기면서 각각의 릴(211)에 배치된 파티클 제거 수단(221)에 의해 파티클 제거 수단(221) 표면으로 달라붙게 되고, 달라붙은 파티클들은 펌핑 수단(222)에 의해 챔버(1000) 외부로 배출될 수 있다.At this time, contaminants such as particles adhering to the mask metal sheet 212 are removed by the particle removal means 221 disposed on each reel 211 while the mask metal sheet 212 is wound around the reel 211 . The particles are adhered to the surface of the particle removal means 221 , and the adhered particles may be discharged to the outside of the chamber 1000 by the pumping means 222 .

따라서, 다수의 공정 진행으로 인해 오염된 마스크용 메탈 시트(212)를 간편하게 교체할 수 있고, 메탈 시트(212)에 달라붙은 파티클 등의 오염물질을 효과적으로 제거할 수 있다.Therefore, it is possible to easily replace the metal sheet 212 for a mask contaminated due to a plurality of processes, and to effectively remove contaminants such as particles adhering to the metal sheet 212 .

또한, 서셉터(110) 상에 안착된 피처리 기판(101)은 수직상태로 릴 마스크부(200) 내부로 이동되어 마스크용 메탈 시트(212)가 안착된 마스크 프레임(230)일면의 반대면에 접촉되도록 배치될 수 있다.In addition, the processing target substrate 101 seated on the susceptor 110 is moved into the reel mask unit 200 in a vertical state, the opposite surface of the mask frame 230 on which the metal sheet 212 for the mask is seated. may be disposed to be in contact with.

릴 마스크부(200)는 마스크 프레임(230) 상에서 마스크용 메탈 시트(212)의 위치를 잡아주고, 상기 마스크용 메탈 시트(212)가 상기 마스크 프레임(230)에 접촉되도록 밀어주는 메탈 시트 푸시 모듈(240)을 더 포함할 수 있다.The reel mask unit 200 holds the position of the metal sheet 212 for the mask on the mask frame 230 and pushes the metal sheet 212 for the mask so that it is in contact with the mask frame 230 . (240) may be further included.

푸시 모듈(240)은 마스크 프레임(230)과 수직한 방향으로 소정 거리 이격되도록 배치될 수 있다. 여기서, 푸시 모듈(240)은 마스크용 메탈 시트(212)의 길이 방향에 대해 양측에 각각 배치될 수 있다.The push module 240 may be disposed to be spaced apart from the mask frame 230 by a predetermined distance in a vertical direction. Here, the push module 240 may be respectively disposed on both sides with respect to the longitudinal direction of the metal sheet 212 for the mask.

푸시 모듈(240)은 교체되는 마스크용 메탈 시트(212)를 마스크 프레임(230) 상에 안착되도록 눌러주는 기능을 수행한다.The push module 240 performs a function of pressing the metal sheet 212 for a mask to be replaced to be seated on the mask frame 230 .

일예로, 마스크 프레임(230) 상에 마스크 프레임(230)과 접촉하여 배치된 마스크용 메탈 시트(212)에 오염물질이 증착되어 마스크용 메탈 시트(212)의 교체가 진행될 때, 우선 마스크 프레임(230)과 접촉된 마스크용 메탈 시트(212)는 마스크 프레임(230) 면의 수직한 방향으로 소정거리 이격된다. 마스크 프레임(230)에서 소정거리 이격되어 마스크 프레임(230)과 분리된 마스크용 메탈 시트(212)는 릴(211)의 회전에 의해 타측 릴(211)에 감기게 되며, 이와 동시에 일측 릴(211)에 감겨있는 오염되지 않은 마스크용 메탈 시트(212)가 이동하여 마스크 프레임(230) 상에 배치된다.For example, when a contaminant is deposited on the metal sheet 212 for a mask disposed on the mask frame 230 in contact with the mask frame 230 and the replacement of the metal sheet 212 for the mask proceeds, first, the mask frame ( The metal sheet 212 for a mask in contact with the 230 is spaced apart by a predetermined distance in a direction perpendicular to the surface of the mask frame 230 . The mask metal sheet 212 separated from the mask frame 230 by a predetermined distance from the mask frame 230 is wound on the other reel 211 by the rotation of the reel 211, and at the same time, one reel 211 ) wound on the non-contaminated metal sheet 212 for the mask is moved and disposed on the mask frame 230 .

이때, 마스크 프레임(230) 상으로 이동된 오염되지 않은 마스크용 메탈 시트(212)는 마스크 프레임(230)과 소정거리 이격되어 있는 상태다. 따라서, 마스크용 메탈 시트(212)는 푸시 모듈(240)의 눌러주는 동작에 의해 마스크 프레임(230)에 안착된다. 즉, 마스크용 메탈 시트(212)의 양측에 배치된 푸시 모듈(240)이 마스크용 메탈 시트(212)를 양측에서 눌러줌으로써 마스크 프레임(230) 상에 안착될 수 있다.At this time, the non-contaminated metal sheet 212 for the mask moved onto the mask frame 230 is in a state spaced apart from the mask frame 230 by a predetermined distance. Accordingly, the metal sheet 212 for the mask is seated on the mask frame 230 by the pressing operation of the push module 240 . That is, the push module 240 disposed on both sides of the metal sheet 212 for the mask may be seated on the mask frame 230 by pressing the metal sheet 212 for the mask from both sides.

또한, 푸시 모듈(240)은 몸체(241), 헤드부(242) 및 완충부(243)를 포함할 수 있다.In addition, the push module 240 may include a body 241 , a head part 242 , and a buffer part 243 .

헤드부(242)는 몸체(241)의 하부에 배치되며, 푸시 모듈(240)의 동작시 마스크용 메탈 시트(230)에 접촉되는 부위일 수 있다. 헤드부(242)의 단면은 하부 방향으로 볼록한 반구 형태를 갖도록 형성될 수 있으며, 마스크용 메탈 시트(230)의 폭 방향으로 연장되도록 형성될 수 있다. 연장된 헤드부(242)의 폭은 마스크용 메탈 시트(212)의 폭과 동일하거나, 또는 더 큰 폭을 갖도록 형성될 수 있다.The head part 242 is disposed under the body 241 , and may be a portion in contact with the metal sheet 230 for a mask during operation of the push module 240 . The cross-section of the head part 242 may be formed to have a hemispherical shape convex downward, and may be formed to extend in the width direction of the metal sheet 230 for a mask. The width of the extended head portion 242 may be equal to or greater than the width of the metal sheet 212 for a mask.

또한, 헤드부(242)의 단면이 하부 방향으로 볼록한 반구 형태를 갖기 때문에 헤드부(242)가 마스크용 메탈 시트(212)에 접촉되는 부위는 선의 형태를 가질 수 있다. 이러한 헤드부(242)의 반구 형태를 이용하여 마스크용 메탈 시트(212)에 접촉되는 형태를 선의 형태로 하여 마스크용 메탈 시트(212)를 눌러줌으로써 마스크용 메탈 시트(212)가 푸시 모듈(240)의 누르는 압력에 의해 형태가 변형되는 것을 방지할 수 있다.In addition, since the cross section of the head part 242 has a hemispherical shape that is convex in the downward direction, a portion where the head part 242 contacts the metal sheet 212 for a mask may have a line shape. By using the hemispherical shape of the head portion 242 to press the metal sheet 212 for the mask in the form of a line in contact with the metal sheet 212 for the mask, the metal sheet for the mask 212 is the push module 240 ) can be prevented from being deformed by the pressing pressure.

완충부(243)는 푸시 모듈(240)의 몸체(241) 내부에 배치될 수 있다. 완충부(243)는 일예로, 탄성력을 갖는 스프링 형태를 가질 수 있다. 즉, 마스크용 메탈 시트(212)가 마스크 프레임(230)에 접촉되도록 하기 위해 푸시 모듈(240)을 이용하여 마스크용 메탈 시트(212)를 눌러 압력을 가할 때, 완충부(243)는 탄성력을 이용하여 마스크용 메탈 시트(212)에 인가되는 압력을 조절하는 역할을 수행할 수 있다.The buffer part 243 may be disposed inside the body 241 of the push module 240 . The buffer part 243 may have, for example, a spring shape having an elastic force. That is, when applying pressure by pressing the metal sheet 212 for the mask by using the push module 240 so that the metal sheet 212 for the mask is in contact with the mask frame 230 , the buffer unit 243 provides an elastic force. It can serve to adjust the pressure applied to the metal sheet 212 for a mask using the .

따라서, 푸시 모듈(240)이 마스크용 메탈 시트(212)에 압력을 가할 때, 마스크용 메탈 시트(212)가 푸시 모듈(240)의 압력에 밀려서 변형되는 현상을 방지할 수 있다.Therefore, when the push module 240 applies pressure to the metal sheet 212 for the mask, it is possible to prevent the metal sheet 212 for the mask from being deformed by being pushed by the pressure of the push module 240 .

또한, 마스크용 메탈 시트(212) 상에는 푸시 모듈(240)이 마스크용 메탈 시트(212)의 정확한 위치를 잡아주기 위한 홀 또는 패턴들이 형성될 수 있다. 일예로, 마스크용 메탈 시트(212)를 교체하기 위해 오염되지 않은 마스크용 메탈 시트(212)가 마스크 프레임(230) 상으로 이동할 때, 푸시 모듈(240)에 장착된 감지 센서가 마스크용 메탈 시트(212)에 형성된 홀 또는 패턴들을 인식함으로써 마스크용 메탈 시트(212)가 마스크 프레임(230) 상에 정확히 위치하도록 할 수 있다.In addition, holes or patterns may be formed on the metal sheet 212 for a mask for the push module 240 to accurately position the metal sheet 212 for a mask. For example, when the metal sheet 212 for a mask that is not contaminated to replace the metal sheet 212 for the mask moves on the mask frame 230 , the detection sensor mounted on the push module 240 is the metal sheet for the mask. By recognizing the holes or patterns formed in the 212 , the metal sheet 212 for the mask may be accurately positioned on the mask frame 230 .

계속해서 도 1을 참조하면, 증착부(300)는 릴 마스크부(200)와 접하도록 형성되며, 서셉터부(100) 및 릴 마스크부(200)와 연통되도록 형성될 수 있다. 증착부(300) 내에는 증착소스(310)가 배치되어, 릴 마스크부(200) 내로 유입된 피처리 기판(101) 상에 막을 증착시킬 수 있다.Continuing to refer to FIG. 1 , the deposition unit 300 may be formed to contact the reel mask unit 200 , and may be formed to communicate with the susceptor unit 100 and the reel mask unit 200 . A deposition source 310 is disposed in the deposition unit 300 to deposit a film on the substrate 101 flowing into the reel mask unit 200 .

즉, 서셉터부(100)로 투입된 피처리 기판(101)은 회전 이동하는 서셉터(110)를 이용하여 수직한 상태로 릴 마스크부(200)로 유입되고, 릴 마스크부(200)로 유입된 피처리 기판(101)은 릴 마스크부(200) 내에 배치된 마스크 프레임(230)과 접촉되도록 이동된다. 여기서, 마스크 프레임(230) 일면은 마스크용 메탈 시트(212)가 일면을 모두 덮도록 배치되고, 릴 타입의 롤링 마스크 모듈(210)을 통해 오염된 마스크용 메탈 시트(212)를 간편하게 교체할 수 있다. 피처리 기판(101)이 마스크 프레임(230)에 접촉되어 증착 준비가 완료되면, 증착부(300) 내에 배치된 증착소스(310)에 의해 피처리 기판(101) 상에 막이 증착될 수 있다.That is, the substrate 101 input into the susceptor unit 100 flows into the reel mask unit 200 in a vertical state using the rotationally moving susceptor 110 , and then flows into the reel mask unit 200 . The processed target substrate 101 is moved to come into contact with the mask frame 230 disposed in the reel mask unit 200 . Here, one surface of the mask frame 230 is disposed so that the metal sheet 212 for a mask covers all of the one surface, and the metal sheet 212 for a mask contaminated with a reel-type rolling mask module 210 can be easily replaced. have. When the target substrate 101 comes into contact with the mask frame 230 and preparation for deposition is completed, a layer may be deposited on the target substrate 101 by the deposition source 310 disposed in the deposition unit 300 .

피처리 기판(101)의 증착 공정이 완료되면, 증착된 기판을 관절부(120)를 이용하여 릴 마스크부(200)에서 서셉터부(100)로 이동하고, 이동이 완료되면 기판은 다시 관절부(120)를 통해 수직상태에서 수평상태로 전환된 후 챔버(1000) 외부로 반출될 수 있다.When the deposition process of the target substrate 101 is completed, the deposited substrate is moved from the reel mask part 200 to the susceptor part 100 using the joint part 120, and when the movement is completed, the substrate is again transferred to the joint part ( 120), after being converted from a vertical state to a horizontal state, it may be carried out to the outside of the chamber 1000.

종래의 증착 공정을 위한 장비는 Face down방식의 물류를 사용하였기 때문에 기판이 대면적화 됨에 따라 2~4분할로 기판을 절단하여 공정을 진행하며, 기판이 대면적화 됨에 따라 트레이와 같은 이동수단을 이용하여 마스크와 기판을 결합하여 운반하는 방식을 사용한다. 따라서, 증착 공정을 수행하기 위해서는 많은 시간이 소요되며, 설치되는 설비 또한 증가하여 많은 비용이 소요되는 단점을 갖는다.Because the equipment for the conventional deposition process used face-down logistics, the process proceeds by cutting the substrate into 2 to 4 divisions as the substrate becomes large. Thus, a method of transporting the mask and the substrate is used. Therefore, it takes a lot of time to perform the deposition process, and the installed equipment is also increased, so that it takes a lot of cost.

허나, 본 발명에 따른 증착방식은 대면적의 기판을 절단하지 않고 원판을 사용하여 증착 공정을 진행할 수 있으며, 종래의 Face down방식의 물류를 Face up방식의 물류로 전환하여 진행할 수 있다. 따라서, 종래에 비해 증착 공정을 위한 시간이 대폭 감소될 수 있으며, 설치되는 설비 또한 감소될 수 있기 때문에 비용이 절감되는 장점을 가진다. 또한, 설비가 차지하는 공간을 대폭 감소시킬 수 있기 때문에 공간 활용도가 높은 장점을 가진다.However, the deposition method according to the present invention can proceed with the deposition process using the original plate without cutting a large-area substrate, and can be carried out by converting the conventional face-down logistics to the face-up logistics. Therefore, compared to the prior art, the time for the deposition process can be significantly reduced, and the installed equipment can also be reduced, so that the cost can be reduced. In addition, since the space occupied by the equipment can be significantly reduced, it has an advantage of high space utilization.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈(220)은 마스크용 메탈 시트(212)에 증착된 메탈 파티클을 정전척을 이용하여 제거함으로써 공정 챔버(1000) 내에 비산될 수 있는 메탈 파티클을 간편하고, 효과적으로 제거할 수 있다. 또한, 메탈 파티클 등의 오염물질을 챔버(1000)를 오픈하지 않고 제거할 수 있기 때문에 설비의 가동률을 상승시킬 수 있고, 생산 비용을 절감할 수 있다. 더 나아가, 종래에 비해 마스크 교체 과정을 간편화, 모듈화할 수 있다.As described above, the metal particle removal module 220 using the electrostatic chuck according to the present invention removes the metal particles deposited on the metal sheet 212 for a mask by using the electrostatic chuck to be scattered in the process chamber 1000 . Metal particles can be easily and effectively removed. In addition, since contaminants such as metal particles can be removed without opening the chamber 1000, the operation rate of the equipment can be increased and production costs can be reduced. Furthermore, it is possible to simplify and modularize the mask replacement process compared to the prior art.

한편, 본 명세서와 도면에 개시된 본 발명의 실시 예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시 예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형 예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다.On the other hand, the embodiments of the present invention disclosed in the present specification and drawings are merely presented as specific examples to aid understanding, and are not intended to limit the scope of the present invention. It will be apparent to those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains that other modifications based on the technical spirit of the present invention can be implemented in addition to the embodiments disclosed herein.

100 : 서셉터부 110 : 서셉터
120 : 관절부 200 : 릴 마스크부
210 : 릴 타입의 롤링 마스크 모듈 211 : 릴
212 : 마스크용 메탈 시트 220 : 메탈 파티클 제거 모듈
221 : 파티클 제거 수단 222 : 펌핑 수단
223 : 모듈 케이스 230 : 마스크 프레임
240 : 푸시 모듈 241 : 몸체
242 : 헤드부 243 : 완충부
300 : 증착부 310 : 증착소스100: susceptor part 110: susceptor
120: joint 200: reel mask unit
210: reel-type rolling mask module 211: reel
212: metal sheet for mask 220: metal particle removal module
221: particle removal means 222: pumping means
223: module case 230: mask frame
240: push module 241: body
242: head part 243: buffer part
300: deposition unit 310: deposition source

Claims (11)

원형의 릴에 감기거나 풀리는 마스크용 메탈 시트에 부착된 파티클들을 정전척(ESC)을 이용하여 흡착되도록 하는 파티클 제거 수단;
상기 파티클 제거 수단에 흡착된 파티클들을 흡입하여 챔버 외부로 배출하는 펌핑 수단; 및
상기 릴과 상기 파티클 제거 수단을 감싸는 모듈 케이스를 포함하고,
상기 파티클 제거 수단은 오염된 상기 마스크용 메탈 시트가 감기는 상기 릴과 인접하도록 배치되고,
상기 릴과 마주하는 상기 파티클 제거 수단의 일면은 마주하는 상기 원형의 릴의 형태와 대응되도록 상기 파티클 제거 수단의 내부 방향으로 오목한 반원 형태를 가지며,
상기 펌핑 수단은 상기 릴과 상기 파티클 제거 수단의 하단부에 인접하도록 배치되는 것인 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈.a particle removal means for adsorbing particles attached to a metal sheet for a mask that is wound or unwound on a circular reel using an electrostatic chuck (ESC);
a pumping means for sucking in the particles adsorbed on the particle removal means and discharging them to the outside of the chamber; and
and a module case surrounding the reel and the particle removing means,
The particle removal means is disposed adjacent to the reel on which the contaminated metal sheet for the mask is wound,
One surface of the particle removing means facing the reel has a semicircular shape concave in the inner direction of the particle removing means to correspond to the shape of the circular reel facing,
The pumping means is a metal particle removal module using an electrostatic chuck that is disposed adjacent to the lower end of the reel and the particle removal means. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 모듈 케이스는 상기 릴과 상기 파티클 제거 수단을 감싸도록 배치되되, 상기 파티클 제거 수단과 상기 펌핑 수단이 서로 연통되도록 하부가 개방되는 것인 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈.According to claim 1,
The module case is disposed to surround the reel and the particle removing means, and the lower part of the module case is opened so that the particle removing means and the pumping means communicate with each other. 제1항에 있어서,
상기 마스크용 메탈 시트는 마스크 프레임의 일면을 모두 덮도록 배치되는 것인 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈.According to claim 1,
The metal sheet for the mask is a metal particle removal module using an electrostatic chuck that is disposed to cover all of one surface of the mask frame. 제7항에 있어서,
상기 릴은 상기 마스크 프레임의 양측에 각각 배치되되, 상기 마스크용 메탈 시트는 상기 마스크 프레임의 일측에 배치된 상기 릴에서 타측에 배치된 상기 릴로 이동되는 것인 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈.8. The method of claim 7,
The reel is disposed on both sides of the mask frame, respectively, and the metal sheet for the mask is moved from the reel disposed on one side of the mask frame to the reel disposed on the other side of the mask frame. 제7항에 있어서,
상기 릴은 상기 마스크 프레임의 좌우 방향 또는 상하 방향에 각각 배치되되, 상기 마스크용 메탈 시트가 상기 마스크 프레임의 일면을 모두 덮도록 배치되는 것인 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈.8. The method of claim 7,
The reel is disposed in the left-right direction or the vertical direction of the mask frame, respectively, the metal particle removal module using an electrostatic chuck to be disposed so that the metal sheet for the mask covers all one surface of the mask frame. 제9항에 있어서,
상기 파티클 제거 수단은 상기 마스크 프레임의 좌우 방향 또는 세로 방향에 배치된 상기 릴에 각각 배치되는 것인 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈.10. The method of claim 9,
The metal particle removal module using an electrostatic chuck, wherein the particle removal means are respectively disposed on the reels disposed in the left-right direction or the vertical direction of the mask frame. 제7항에 있어서,
상기 마스크용 메탈 시트는 상기 마스크 프레임 상에 배치되되, 상기 마스크용 메탈 시트가 서로 교차되도록 배치되는 것인 정전척을 이용한 메탈 파티클 제거 모듈.8. The method of claim 7,
The metal sheet for the mask is disposed on the mask frame, the metal particle removal module using an electrostatic chuck to be disposed so that the metal sheet for the mask crosses each other.
KR1020200041949A 2019-09-06 2020-04-07 Metal Particle Removal Module Using Electrostatic Chuck KR102311772B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20190110843 2019-09-06
KR1020190110843 2019-09-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210029652A KR20210029652A (en) 2021-03-16
KR102311772B1 true KR102311772B1 (en) 2021-10-13

Family

ID=75223930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200041949A KR102311772B1 (en) 2019-09-06 2020-04-07 Metal Particle Removal Module Using Electrostatic Chuck

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102311772B1 (en)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20070047589A (en) * 2005-11-02 2007-05-07 삼성전자주식회사 Particle removal device for semiconductor equipment
KR101296223B1 (en) * 2011-06-30 2013-08-14 주식회사 디엠에스 Imprint Apparatus of Film Pressing Type
KR102339654B1 (en) * 2017-03-28 2021-12-16 주식회사 선익시스템 Thin film deposition apparatus
KR20180112191A (en) 2017-03-31 2018-10-12 엘지디스플레이 주식회사 Mask for deposition and deposition apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210029652A (en) 2021-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100430336B1 (en) Apparatus for manufacturing organic electro-luminescent light emitting devices for mass production
KR101281909B1 (en) Thin film deposition device
KR102245762B1 (en) Holder, carrier having the same, and method for fixing a substrate
US11275315B2 (en) High-precision shadow-mask-deposition system and method therefor
CN102686764B (en) Film forming device and film forming method
JP6703078B2 (en) Film forming apparatus and method for manufacturing organic EL display device using the same
JP2014065959A (en) Vapor deposition apparatus, and installation method for vapor deposition apparatus
KR102107973B1 (en) Apparatus and system for processing a substrate in a vacuum chamber, and method of aligning a substrate carrier with respect to a mask carrier
CN109154063A (en) Vacuum system and method for depositing multiple materials on substrate
KR102201107B1 (en) Deposition apparatus and aligning method of mask assembly usnig the same
JP5219599B2 (en) Proximity exposure apparatus, substrate adsorption method for proximity exposure apparatus, and display panel substrate manufacturing method
CN105452523A (en) Holding arrangement for substrates
KR102311772B1 (en) Metal Particle Removal Module Using Electrostatic Chuck
KR102351238B1 (en) Deposition System Using Reel Type Rolling Mask Module
KR102373000B1 (en) Reel Type Rolling Mask Module
KR101361819B1 (en) Assembly of holding a substrate for forming pattern and apparatus of organic thin film deposition having the same
KR102320087B1 (en) Mask Sheet Push Module
TW202020192A (en) Vacuum processing apparatus, track arrangement, mask shield and method to exchange the same
KR101041456B1 (en) Polishing pad changing unit and substrate treating apparatus with the same
KR102378672B1 (en) High-precision shadow mask deposition system and method therefor
JP4794471B2 (en) Exposure apparatus and method for exchanging top plate of negative pressure chamber of exposure apparatus
KR102086415B1 (en) Deposition Apparatus for Manufacturing Display Panel Device and Method for Manufacturing Display Panel Device
KR20160040626A (en) Holding arrangement for substrates
US20090317562A1 (en) Processing system and method for processing a substrate
KR20220075620A (en) Deposition System

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant