KR102285179B1 - 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 - Google Patents

중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102285179B1
KR102285179B1 KR1020197038896A KR20197038896A KR102285179B1 KR 102285179 B1 KR102285179 B1 KR 102285179B1 KR 1020197038896 A KR1020197038896 A KR 1020197038896A KR 20197038896 A KR20197038896 A KR 20197038896A KR 102285179 B1 KR102285179 B1 KR 102285179B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
liquid crystal
compound
formula
polymerizable liquid
Prior art date
Application number
KR1020197038896A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20200014377A (ko
Inventor
사토시 시마무라
다이스케 하야시
게이타 다카하시
Original Assignee
후지필름 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지필름 가부시키가이샤 filed Critical 후지필름 가부시키가이샤
Publication of KR20200014377A publication Critical patent/KR20200014377A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102285179B1 publication Critical patent/KR102285179B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/38—Polymers
    • C09K19/3833—Polymers with mesogenic groups in the side chain
    • C09K19/3842—Polyvinyl derivatives
    • C09K19/3852—Poly(meth)acrylate derivatives
    • C09K19/3861—Poly(meth)acrylate derivatives containing condensed ring systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/74—Esters of carboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
    • C07C69/753—Esters of carboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring of polycyclic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D339/00—Heterocyclic compounds containing rings having two sulfur atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D339/02—Five-membered rings
    • C07D339/06—Five-membered rings having the hetero atoms in positions 1 and 3, e.g. cyclic dithiocarbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F20/30—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10—Esters
    • C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
    • C08F222/102—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate
    • C08F222/1025—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols of dialcohols, e.g. ethylene glycol di(meth)acrylate or 1,4-butanediol dimethacrylate of aromatic dialcohols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3491—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/38—Polymers
    • C09K19/3833—Polymers with mesogenic groups in the side chain
    • C09K19/3842—Polyvinyl derivatives
    • C09K19/3852—Poly(meth)acrylate derivatives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K19/54—Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/52—Liquid crystal materials characterised by components which are not liquid crystals, e.g. additives with special physical aspect: solvents, solid particles
    • C09K19/54—Additives having no specific mesophase characterised by their chemical composition
    • C09K19/542—Macromolecular compounds
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2800/00—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
    • C08F2800/20—Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as weight or mass percentages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/08—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings
    • C09K19/30—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least two non-condensed rings containing saturated or unsaturated non-aromatic rings, e.g. cyclohexane rings
    • C09K19/3001—Cyclohexane rings
    • C09K19/3066—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers
    • C09K19/3068—Cyclohexane rings in which the rings are linked by a chain containing carbon and oxygen atoms, e.g. esters or ethers chain containing -COO- or -OCO- groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K2019/0444—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
    • C09K2019/0448—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)

Abstract

본 발명은, 역파장 분산성이 우수한 광학 이방성막의 형성에 이용되는 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치를 제공하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 중합성 액정 화합물은, 하기 식 (1)로 나타나는 중합성 액정 화합물이며, 하기 식 (1) 중의 Ar로 나타나는 기의 ClogP값이 3.5 이하인, 중합성 액정 화합물이다.

Description

중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
본 발명은, 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치에 관한 것이다.
역파장 분산성을 나타내는 중합성 화합물은, 넓은 파장 범위에서의 정확한 광선파장의 변환이 가능하게 되는 것, 및 높은 굴절률을 갖기 때문에 위상차 필름을 박막화할 수 있는 것 등의 특징을 갖고 있기 때문에, 활발히 연구되고 있다.
또, 역파장 분산성을 나타내는 중합성 화합물로서는, 일반적으로 T형의 분자 설계 지침이 채택되고 있으며, 분자 장축의 파장을 단파장화하고, 분자 중앙에 위치하는 단축의 파장을 장파장화할 것이 요구되고 있다.
이로 인하여, 분자 중앙에 위치하는 단축의 골격(이하, "역파장 분산 발현부"라고도 함)과, 분자 장축과의 연결에는, 흡수 파장이 없는 사이클로알킬렌 골격을 이용하는 것이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1~4 참조).
특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2008-273925호 특허문헌 2: 일본 공개특허공보 2010-031223호 특허문헌 3: 국제 공개공보 제2014/010325호 특허문헌 4: 일본 공개특허공보 2016-081035호
본 발명자들은, 특허문헌 1~4에 대하여 검토한바, 중합성 화합물의 종류, 중합 개시제의 종류, 및 경화 온도 등의 중합 조건에 따라서는, 형성되는 광학 이방성막이 역파장 분산성이 뒤떨어지는 경우가 있는 것을 명확히 했다.
따라서, 본 발명은, 역파장 분산성이 우수한 광학 이방성막의 형성에 이용되는 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 달성하기 위하여 예의 검토한 결과, 역파장 분산 발현부를 구성하는 방향환이 소정의 ClogP값을 충족시키고, 또한 역파장 분산 발현부를 중심으로 한 분자의 장축 방향에 소정의 골격을 갖게 함으로써, 형성되는 광학 이방성막의 역파장 분산성도 향상되는 것을 발견하여, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 이하의 구성에 의하여 상기 과제를 달성할 수 있는 것을 발견했다.
[1] 후술하는 식 (1)로 나타나는 중합성 액정 화합물로서, 후술하는 식 (1) 중의 Ar로 나타나는 기의 ClogP값이 3.5 이하인, 중합성 액정 화합물.
[2] 후술하는 식 (1) 중의 D1 및 D2가 -O-를 나타내고, 또한 D3 및 D4가 -O-CO-를 나타내는, [1]에 기재된 중합성 액정 화합물.
[3] [1] 또는 [2]에 기재된 중합성 액정 화합물을 함유하는 중합성 액정 조성물.
[4] 중합성 액정 화합물과는 다른, 중합성기를 하나 이상 갖는 중합성 화합물을 더 함유하는, [3]에 기재된 중합성 액정 조성물.
[5] [3] 또는 [4]에 기재된 중합성 액정 조성물을 중합하여 얻어지는 광학 이방성막.
[6] [5]에 기재된 광학 이방성막을 갖는 광학 필름.
[7] [6]에 기재된 광학 필름과, 편광자를 갖는, 편광판.
[8] [6]에 기재된 광학 필름, 또는 [7]에 기재된 편광판을 갖는, 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 역파장 분산성이 우수한 광학 이방성막의 형성에 이용되는 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1a는, 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 1b는, 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
도 1c는, 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.
이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 대표적인 실시형태에 근거하여 이루어지는 경우가 있지만, 본 발명은 이와 같은 실시형태에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 명세서에 있어서, "~"를 이용하여 나타나는 수치 범위는, "~"의 전후에 기재되는 수치를 하한값 및 상한값으로서 포함하는 범위를 의미한다.
또, 본 명세서에 있어서, 표기되는 2가의 기(예를 들면, -O-CO-)의 결합 방향은 특별히 제한되지 않고, 예를 들면 후술하는 식 (1) 중의 D3이 -O-CO-인 경우, SP1 측에 결합하고 있는 위치를 *1, 사이클로헥세인환 측에 결합하고 있는 위치를 *2로 하면, D3은, *1-O-CO-*2여도 되고, *1-CO-O-*2여도 된다.
[중합성 액정 화합물]
본 발명의 중합성 액정 화합물은, 하기 식 (1)로 나타나는 화합물이다.
[화학식 1]
Figure 112019135711709-pct00001
또, 본 발명의 중합성 액정 화합물은, 상기 식 (1) 중의 Ar로 나타나는 기의 ClogP값이 3.5 이하이다.
여기에서, ClogP값이란, 1-옥탄올과 물에 대한 분배 계수 P의 상용대수 logP를 계산에 의하여 구한 값이다. ClogP값의 계산에 이용하는 방법이나 소프트웨어에 대해서는 공지의 것을 이용할 수 있지만, 특별히 설명하지 않는 한, 본 발명에서는 Cambridge soft사의 ChemBioDraw Ultra 13.0에 도입된 ClogP 프로그램을 이용하는 것으로 한다.
본 발명에 있어서는, 상술한 바와 같이, 상기 식 (1) 중의 Ar로 나타나는 기(방향환)의 ClogP값이 3.5 이하가 되고, 또한 Ar을 중심으로 한 분자의 장축 방향에 사이클로헥세인환끼리가 단결합으로 연결한 골격을 갖게 함으로써, 형성되는 광학 이방성막의 역파장 분산성이 향상된다.
이것은, 상세하게는 명확하지 않지만, 본 발명자들은 이하와 같이 추측하고 있다.
즉, 상기 식 (1)로 나타나는 화합물이, 분자 장축 방향에 사이클로헥세인환끼리가 단결합으로 연결한 구조를 갖고, 또한 분자 장축 방향에 벤젠환을 갖지 않음으로써, 보다 단파장화를 도모할 수 있었기 때문에, 형성되는 광학 이방성막의 역파장 분산성이 향상되었다고 생각된다.
이하, 본 발명의 중합성 액정 화합물에 대하여, 상기 식 (1)의 구성을 상세하게 설명한다.
본 발명의 중합성 액정 화합물은, 상술한 바와 같이, 하기 식 (1)로 나타나는 중합성 액정 화합물이다.
[화학식 2]
Figure 112019135711709-pct00002
상기 식 (1) 중, D1 및 D2는, 각각 독립적으로 -O-, -S-, 또는 -NR1-을 나타내고, D3 및 D4는, 각각 독립적으로 단결합, -O-CO-, -C(=S)O-, -CR1R2-, -CR1R2-CR3R4-, -O-CR1R2-, -CR1R2-O-CR3R4-, -CO-O-CR1R2-, -O-CO-CR1R2-, -CR1R2-O-CO-CR3R4-, -CR1R2-CO-O-CR3R4-, -NR1-CR2R3-, 또는 -CO-NR1-을 나타낸다. R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
또, 상기 식 (1) 중, SP1 및 SP2는, 각각 독립적으로 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 하나 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은 -CO-로 치환된 2가의 연결기를 나타내고, Q는, 치환기를 나타낸다.
또, 상기 식 (1) 중, L1 및 L2는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, L1 및 L2 중 적어도 한쪽은 중합성기를 나타낸다. 단, Ar이, 후술하는 식 (Ar-3)으로 나타나는 방향환인 경우는, L1 및 L2와 후술하는 식 (Ar-3) 중의 L3 및 L4 중 적어도 하나가 중합성기를 나타낸다.
또, 상기 식 (1) 중, Ar은, 후술하는 식 (Ar-1)~(Ar-5)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타낸다.
상기 식 (1) 중, SP1 및 SP2가 나타내는 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기로서는, 예를 들면 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 뷰틸렌기, 펜틸렌기, 헥실렌기, 메틸헥실렌기, 헵틸렌기 등을 적합하게 들 수 있다.
또, 상기 식 (1) 중, L1 및 L2가 나타내는 1가의 유기기로서는, 예를 들면 알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기 등을 들 수 있다. 알킬기는, 직쇄상, 분기상 또는 환상이어도 되지만, 직쇄상이 바람직하다. 알킬기의 탄소수는, 1~30이 바람직하고, 1~20이 보다 바람직하며, 1~10이 더 바람직하다. 또, 아릴기는, 단환이어도 되고 다환이어도 되지만 단환이 바람직하다. 아릴기의 탄소수는, 6~25가 바람직하고, 6~10이 보다 바람직하다. 또, 헤테로아릴기는, 단환이어도 되고 다환이어도 된다. 헤테로아릴기를 구성하는 헤테로 원자의 수는 1~3이 바람직하다. 헤테로아릴기를 구성하는 헤테로 원자는, 질소 원자, 황 원자, 산소 원자가 바람직하다. 헤테로아릴기의 탄소수는 6~18이 바람직하고, 6~12가 보다 바람직하다. 또, 알킬기, 아릴기 및 헤테로아릴기는, 무치환이어도 되고, 치환기를 갖고 있어도 된다. 치환기로서는, 후술하는 식 (Ar-1) 중의 Y1이 갖고 있어도 되는 치환기와 동일한 것을 들 수 있다.
한편, 상기 식 (1) 중, L1 및 L2 중 적어도 한쪽이 나타내는 중합성기는, 특별히 한정되지 않지만, 라디칼 중합 또는 양이온 중합 가능한 중합성기가 바람직하다.
라디칼 중합성기로서는, 일반적으로 알려져 있는 라디칼 중합성기를 이용할 수 있고, 적합한 것으로서, 아크릴로일기 또는 메타크릴로일기를 들 수 있다. 이 경우, 중합 속도는 아크릴로일기가 일반적으로 빠른 것이 알려져 있고, 생산성 향상의 관점에서 아크릴로일기가 바람직하지만, 메타크릴로일기도 중합성기로서 동일하게 사용할 수 있다.
양이온 중합성기로서는, 일반적으로 알려져 있는 양이온 중합성기를 이용할 수 있고, 구체적으로는 지환식 에터기, 환상 아세탈기, 환상 락톤기, 환상 싸이오에터기, 스파이로오쏘에스터기, 및 바이닐옥시기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 지환식 에터기, 또는 바이닐옥시기가 적합하고, 에폭시기, 옥세탄일기, 또는 바이닐옥시기가 특히 바람직하다.
특히 바람직한 중합성기의 예로서는 하기를 들 수 있다.
[화학식 3]
Figure 112019135711709-pct00003
또, 상기 식 (1) 중, Ar은, 하기 식 (Ar-1)~(Ar-5)로 나타나는 기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나의 방향환을 나타낸다. 또한, 하기 식 (Ar-1)~(Ar-5) 중, *는, 상기 식 (1) 중의 D1 또는 D2와의 결합 위치를 나타낸다.
[화학식 4]
Figure 112019135711709-pct00004
여기에서, 상기 식 (Ar-1) 중, Q1은, N 또는 CH를 나타내고, Q2는, -S-, -O-, 또는 -N(R5)-를 나타내며, R5는, 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, Y1은 치환기를 가져도 되는, 탄소수 6~12의 방향족 탄화 수소기, 또는 탄소수 3~12의 방향족 복소환기를 나타낸다.
R5가 나타내는 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 구체적으로는 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및 n-헥실기 등을 들 수 있다.
Y1이 나타내는 탄소수 6~12의 방향족 탄화 수소기로서는, 예를 들면 페닐기, 2,6-다이에틸페닐기, 나프틸기 등의 아릴기를 들 수 있다.
Y1이 나타내는 탄소수 3~12의 방향족 복소환기로서는, 예를 들면 싸이엔일기, 싸이아졸일기, 퓨릴기, 피리딜기 등의 헤테로아릴기를 들 수 있다.
또, Y1이 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 예를 들면 알킬기, 알콕시기, 할로젠 원자 등을 들 수 있다.
알킬기로서는, 예를 들면 탄소수 1~18의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, t-뷰틸기, 사이클로헥실기 등)가 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 알킬기인 것이 더 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기인 것이 특히 바람직하다.
알콕시기로서는, 예를 들면 탄소수 1~18의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알콕시기(예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, n-뷰톡시기, 메톡시에톡시기 등)가 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 알콕시기인 것이 더 바람직하고, 메톡시기 또는 에톡시기인 것이 특히 바람직하다.
할로젠 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 불소 원자, 염소 원자인 것이 바람직하다.
또, 상기 식 (Ar-1)~(Ar-5) 중, Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기, 탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, -OR6, -NR7R8, 또는 -SR9를 나타내고, R6~R9는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, Z1 및 Z2는, 서로 결합하여 방향환을 형성해도 된다.
탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기로서는, 탄소수 1~15의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알킬기가 보다 바람직하며, 구체적으로는 메틸기, 에틸기, 아이소프로필기, tert-펜틸기(1,1-다이메틸프로필기), tert-뷰틸기, 1,1-다이메틸-3,3-다이메틸-뷰틸기가 더 바람직하고, 메틸기, 에틸기, tert-뷰틸기가 특히 바람직하다.
탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기로서는, 예를 들면 사이클로프로필기, 사이클로뷰틸기, 사이클로펜틸기, 사이클로헥실기, 사이클로헵틸기, 사이클로옥틸기, 사이클로데실기, 메틸사이클로헥실기, 에틸사이클로헥실기 등의 단환식 포화 탄화 수소기; 사이클로뷰텐일기, 사이클로펜텐일기, 사이클로헥센일기, 사이클로헵텐일기, 사이클로옥텐일기, 사이클로데센일기, 사이클로펜타다이엔일기, 사이클로헥사다이엔일기, 사이클로옥타다이엔일기, 사이클로데카다이엔 등의 단환식 불포화 탄화 수소기; 바이사이클로[2.2.1]헵틸기, 바이사이클로[2.2.2]옥틸기, 트라이사이클로[5.2.1.02,6]데실기, 트라이사이클로[3.3.1.13,7]데실기, 테트라사이클로[6.2.1.13,6.02,7]도데실기, 아다만틸기 등의 다환식 포화 탄화 수소기 등을 들 수 있다.
탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기로서는, 구체적으로는 예를 들면 페닐기, 2,6-다이에틸페닐기, 나프틸기, 바이페닐기 등을 들 수 있으며, 탄소수 6~12의 아릴기(특히 페닐기)가 바람직하다.
할로젠 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자인 것이 바람직하다.
한편, R6~R8이 나타내는 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 구체적으로는 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및 n-헥실기 등을 들 수 있다.
또, 상기 식 (Ar-2) 및 (Ar-3) 중, A1 및 A2는, 각각 독립적으로 -O-, -N(R10)-, -S-, 및 -CO-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, R10은, 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
R10이 나타내는 치환기로서는, 상기 식 (Ar-1) 중의 Y1이 갖고 있어도 되는 치환기와 동일한 것을 들 수 있다.
또, 상기 식 (Ar-2) 중, X는, 수소 원자 또는 치환기가 결합되어 있어도 되는 제14~16족의 비금속 원자를 나타낸다.
또, X가 나타내는 제14~16족의 비금속 원자로서는, 예를 들면 산소 원자, 황 원자, 치환기를 갖는 질소 원자, 치환기를 갖는 탄소 원자를 들 수 있으며, 치환기로서는, 구체적으로는 예를 들면 알킬기, 알콕시기, 알킬 치환 알콕시기, 환상 알킬기, 아릴기(예를 들면, 페닐기, 나프틸기 등), 사이아노기, 아미노기, 나이트로기, 알킬카보닐기, 설포기, 수산기 등을 들 수 있다.
또, 상기 식 (Ar-3) 중, D5 및 D6은, 각각 독립적으로 단결합, -CO-O-, -C(=S)O-, -CR1R2-, -CR1R2-CR3R4-, -O-CR1R2-, -CR1R2-O-CR3R4-, -CO-O-CR1R2-, -O-CO-CR1R2-, -CR1R2-O-CO-CR3R4-, -CR1R2-CO-O-CR3R4-, -NR1-CR2R3-, 또는 -CO-NR1-을 나타낸다. R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
또, 상기 식 (Ar-3) 중, SP3 및 SP4는, 각각 독립적으로 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 하나 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은 -CO-로 치환된 2가의 연결기를 나타내고, Q는, 치환기를 나타낸다. 치환기로서는, 상기 식 (Ar-1) 중의 Y1이 갖고 있어도 되는 치환기와 동일한 것을 들 수 있다.
또, 상기 식 (Ar-3) 중, L3 및 L4는, 각각 독립적으로 1가의 유기기를 나타내고, L3 및 L4와 상기 식 (1) 중의 L1 및 L2 중 적어도 하나가 중합성기를 나타낸다.
1가의 유기기로서는, 상기 식 (1) 중의 L1 및 L2에 있어서 설명한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
또, 중합성기로서는, 상기 식 (1) 중의 L1 및 L2에 있어서 설명한 것과 동일한 것을 들 수 있다.
또, 상기 식 (Ar-4)~(Ar-5) 중, Ax는, 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
또, 상기 식 (Ar-4)~(Ar-5) 중, Ay는, 수소 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~12의 알킬기, 또는 방향족 탄화 수소환 및 방향족 복소환으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 방향환을 갖는 탄소수 2~30의 유기기를 나타낸다.
여기에서, Ax 및 Ay에 있어서의 방향환은, 치환기를 갖고 있어도 되고, Ax와 Ay가 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다.
또, Q3은, 수소 원자, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타낸다.
Ax 및 Ay로서는, 특허문헌 3(국제 공개공보 제2014/010325호)의 [0039]~[0095]단락에 기재된 것을 들 수 있다.
또, Q3이 나타내는 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 구체적으로는 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, tert-뷰틸기, n-펜틸기, 및 n-헥실기 등을 들 수 있고, 치환기로서는, 상기 식 (Ar-1) 중의 Y1이 갖고 있어도 되는 치환기와 동일한 것을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 상기 식 (1)로 나타나는 중합성 화합물로서는, 합성이 용이해지는 이유에서, 상기 식 (1) 중의 D1 및 D2가 -O-를 나타내고, 또한 D3 및 D4가 -O-CO-를 나타내는 화합물인 것이 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서는, 상기 식 (1)로 나타나는 중합성 화합물로서는, 예를 들면 하기 식 (I) 및 (II)로 나타나는 화합물을 들 수 있으며, 구체적으로는 하기 식 (I) 및 (II) 중 K(측쇄 구조)로서, 하기 표 1 및 표 2에 나타내는 측쇄 구조를 갖는 화합물을 각각 들 수 있다.
또한, 하기 표 1 및 표 2 중, K의 측쇄 구조에 나타나는 "*"는, 방향환과의 결합 위치를 나타낸다.
또, 이하의 설명에 있어서는, 하기 식 (I)로 나타나고, 또한 하기 표 1 중의 1-1에 나타내는 기를 갖는 화합물을 "화합물 (I-1-1)"이라고 표기하며, 다른 구조식 및 기를 갖는 화합물에 대해서도 동일한 방법으로 표기한다. 예를 들면, 하기 식 (II)로 나타나고, 또한 하기 표 2 중의 2-3에 나타내는 기를 갖는 화합물은 "화합물 (II-2-3)"이라고 표기할 수 있다.
또, 하기 표 1 중의 1-2 및 하기 표 2 중의 2-2로 나타나는 측쇄 구조에 있어서, 각각 아크릴로일옥시기 및 메타크릴로일기에 인접하는 기는, 프로필렌기(메틸기가 에틸렌기로 치환한 기)를 나타내고, 메틸기의 위치가 다른 위치 이성체의 혼합물을 나타낸다.
[화학식 5]
Figure 112019135711709-pct00005
[표 1]
Figure 112019135711709-pct00006
[표 2]
Figure 112019135711709-pct00007
본 발명에 있어서는, 형성되는 광학 이방성막의 습열 내구성이 양호해지는 이유에서, 상기 식 (1) 중의 Ar로 나타나는 기의 ClogP값이 2.5 이상인 것이 바람직하고, 2.7 이상인 것이 보다 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서는, 상기 식 (1) 중의 Ar로 나타나는 기의 ClogP값을 3.5 이하로 설계하는 것이 용이해지는 이유에서, 상기 식 (Ar-1)~(Ar-5) 중, Z1 및 Z2 중 어느 한쪽이 수소 원자이며, 다른 쪽이 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기인 것이 바람직하고, Z1 및 Z2 중 어느 한쪽이 수소 원자이며, 다른 쪽이 수소 원자 또는 메틸기인 것이 보다 바람직하다.
〔중합성 액정 화합물의 합성 방법〕
본 발명의 중합성 액정 화합물의 합성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 하기 식 (2)로 나타나는 화합물과 하기 식 (3)으로 나타나는 화합물을 반응시켜, 페놀 화합물을 생성하는 제1 에스터화 공정과,
제1 에스터화 공정으로 얻어진 페놀 화합물과, 하기 식 (4)로 나타나는 화합물을 반응시켜, 본 발명의 중합성 액정 화합물을 얻는 제2 에스터화 공정을 갖는 방법을 들 수 있다.
또한, 하기 식 (3)으로 나타나는 화합물과 하기 식 (4)로 나타나는 화합물이 동일한 화합물인 경우는, 하기 식 (2)로 나타나는 화합물과 하기 식 (3)으로 나타나는 화합물을 반응시킴으로써, 본 발명의 중합성 액정 화합물을 합성할 수 있다.
또, 하기 식 (2)로 나타나는 화합물과, 하기 식 (3)으로 나타나는 화합물과, 하기 식 (4)로 나타나는 화합물을 혼합하여 반응시킴으로써, 말단의 구조가 다른 복수의 중합성 액정 화합물의 혼합물로서 얻을 수 있다.
또, 하기 식 (2)로 나타나는 화합물은, 2종 이상을 병용해도 되고, 하기 식 (2)로 나타나는 화합물을 2종 이상 병용하는 경우는, 본 발명의 중합성 액정 화합물은, 역파장 분산 발현부에 상당하는 Ar의 구조가 다른 복수의 중합성 액정 화합물의 혼합물로서 얻을 수 있다.
[화학식 6]
Figure 112019135711709-pct00008
여기에서, 상기 식 (2) 중의 Ar, 상기 식 (3) 중의 L1, SP1 및 D3과, 상기 식 (4) 중의 L2, SP2 및 D4는, 모두 상기 식 (1)에 있어서 설명한 것과 동일하다.
또한, 상술한 합성 방법으로 얻어지는 중합성 액정 화합물은, 상기 식 (1)로 나타나는 중합성 액정 화합물 중, 상기 식 (1) 중의 D1 및 D2가 -O-를 나타내고, 또한 D3 및 D4가 -O-CO-를 나타내는 화합물이다.
<에스터화 반응>
상술한 제1 에스터화 공정 및 제2 에스터화 공정과, 상기 식 (3)으로 나타나는 화합물과 상기 식 (4)로 나타나는 화합물이 동일한 화합물인 경우에 있어서의 상기 식 (2)로 나타나는 화합물과 상기 식 (3)으로 나타나는 화합물을 반응시키는 공정은, 반응 조건은 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 에스터화의 반응 조건을 적절히 채용할 수 있다.
예를 들면, 반응 온도는, -10~40℃에서 행해지는 것이 바람직하고, -5~30℃에서 행해지는 것이 보다 바람직하며, 0~20℃에서 행해지는 것이 더 바람직하다.
또, 반응 시간은, 10분~24시간 행해지는 것이 바람직하고, 1시간~10시간 행해지는 것이 보다 바람직하며, 1시간~8시간 행해지는 것이 더 바람직하다.
[중합성 액정 조성물]
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 상술한 본 발명의 중합성 액정 화합물을 함유하는 중합성 액정 조성물이며, 본 발명의 중합성 액정 화합물 이외에, 후술하는 다른 중합성 화합물, 중합 개시제, 및 용매 등을 함유할 수 있다.
〔다른 중합성 화합물〕
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 상술한 본 발명의 중합성 액정 화합물 이외에, 중합성기를 하나 이상 갖는 다른 중합성 화합물을 포함하고 있어도 된다.
여기에서, 다른 중합성 화합물이 갖는 중합성기는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 (메트)아크릴로일기, 바이닐기, 스타이릴기, 알릴기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, (메트)아크릴로일기를 갖고 있는 것이 바람직하다.
다른 중합성 화합물로서는, 형성되는 광학 이방성막의 내구성이 보다 향상되는 이유에서, 중합성기를 1~4개 갖는 다른 중합성 화합물인 것이 바람직하고, 중합성기를 2개 갖는 다른 중합성 화합물인 것이 보다 바람직하다.
다른 중합성 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2016-053709호의 [0073]~[0074]단락에 기재된 화합물을 들 수 있다.
또, 다른 중합성 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2014-077068호의 [0030]~[0033]단락에 기재된 식 (M1), (M2), (M3)으로 나타나는 화합물을 들 수 있으며, 보다 구체적으로는, 동일 공보의 [0046]~[0055]단락에 기재된 구체예를 들 수 있다.
또, 다른 중합성 화합물로서는, 일본 공개특허공보 2014-198814호에 기재된 식 (1)~(3)의 구조의 것도 바람직하게 이용할 수 있고, 보다 구체적으로는, 동일 공보의 [0020]~[0035], [0042]~[0050], [0056]~[0057]단락에 기재된 구체예를 들 수 있다.
〔중합 개시제〕
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 중합 개시제를 함유하고 있는 것이 바람직하다.
사용하는 중합 개시제는, 자외선 조사에 의하여 중합 반응을 개시 가능한 광중합 개시제인 것이 바람직하다.
광중합 개시제로서는, 예를 들면 α-카보닐 화합물(미국 특허공보 제2367661호, 동일 2367670호의 각 명세서 기재), 아실로인에터(미국 특허공보 제2448828호 기재), α-탄화 수소 치환 방향족 아실로인 화합물(미국 특허공보 제2722512호 기재), 다핵 퀴논 화합물(미국 특허공보 제3046127호, 동일 2951758호의 각 명세서 기재), 트라이아릴이미다졸 다이머와 p-아미노페닐케톤과의 조합(미국 특허공보 제3549367호 기재), 아크리딘 및 페나진 화합물(일본 공개특허공보 소60-105667호, 미국 특허공보 제4239850호 기재) 및 옥사다이아졸 화합물(미국 특허공보 제4212970호 기재), 아실포스핀옥사이드 화합물(일본 공고특허공보 소63-040799호, 일본 공고특허공보 평5-029234호, 일본 공개특허공보 평10-095788호, 일본 공개특허공보 평10-029997호 기재) 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 형성되는 광학 이방성막의 내구성이 보다 향상되는 이유에서, 중합 개시제가 옥심형의 중합 개시제인 것이 바람직하고, 구체적으로는 하기 식 (PI)로 나타나는 중합 개시제인 것이 보다 바람직하다.
[화학식 7]
Figure 112019135711709-pct00009
상기 식 (PI) 중, X2는, 수소 원자 또는 할로젠 원자를 나타낸다.
또, 상기 식 (PI) 중, Ar2는, 2가의 방향족기를 나타내고, D7은, 탄소수 1~12의 2가의 유기기를 나타낸다.
또, 상기 식 (PI) 중, R11은, 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고, Y2는, 1가의 유기기를 나타낸다.
상기 식 (PI) 중, X2가 나타내는 할로젠 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 염소 원자인 것이 바람직하다.
또, 상기 식 (PI) 중, Ar2가 나타내는 2가의 방향족기로서는, 예를 들면 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환, 페난트롤린환 등의 방향족 탄화 수소환; 퓨란환, 피롤환, 싸이오펜환, 피리딘환, 싸이아졸환, 벤조싸이아졸환 등의 방향족 복소환을 갖는 2가의 기 등을 들 수 있다.
또, 상기 식 (PI) 중, D7이 나타내는 탄소수 1~12의 2가의 유기기로서는, 예를 들면 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 들 수 있고, 구체적으로는 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기 등을 적합하게 들 수 있다.
또, 상기 식 (PI) 중, R11이 나타내는 탄소수 1~12의 알킬기로서는, 구체적으로는 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기 등을 적합하게 들 수 있다.
또, 상기 식 (PI) 중, Y2가 나타내는 1가의 유기기로서는, 예를 들면 벤조페논 골격((C6H5)2CO)을 포함하는 관능기를 들 수 있다. 구체적으로는, 하기 식 (PIa) 및 하기 식 (PIb)로 나타나는 기와 같이, 말단의 벤젠환이 무치환 또는 1치환인 벤조페논 골격을 포함하는 관능기가 바람직하다. 또한, 하기 식 (PIa) 및 하기 식 (PIb) 중, *는 결합 위치, 즉 상기 식 (PI)에 있어서의 카보닐기의 탄소 원자와의 결합 위치를 나타낸다.
[화학식 8]
Figure 112019135711709-pct00010
상기 식 (PI)로 나타나는 옥심형의 중합 개시제로서는, 예를 들면 하기 식 (PI-1)로 나타나는 화합물이나, 하기 식 (PI-2)로 나타나는 화합물 등을 들 수 있다.
[화학식 9]
Figure 112019135711709-pct00011
본 발명에 있어서는, 상기 중합 개시제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 중합성 액정 조성물의 고형분의 0.01~20질량%인 것이 바람직하고, 0.5~5질량%인 것이 보다 바람직하다.
〔용매〕
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 광학 이방성막을 형성하는 작업성 등의 관점에서, 용매를 함유하는 것이 바람직하다.
용매로서는, 구체적으로는 예를 들면 케톤류(예를 들면, 아세톤, 2-뷰탄온, 메틸아이소뷰틸케톤, 사이클로헥산온, 사이클로펜탄온 등), 에터류(예를 들면, 다이옥세인, 테트라하이드로퓨란 등), 지방족 탄화 수소류(예를 들면, 헥세인 등), 지환식 탄화 수소류(예를 들면, 사이클로헥세인 등), 방향족 탄화 수소류(예를 들면, 톨루엔, 자일렌, 트라이메틸벤젠 등), 할로젠화 탄소류(예를 들면, 다이클로로메테인, 다이클로로에테인, 다이클로로벤젠, 클로로톨루엔 등), 에스터류(예를 들면, 아세트산 메틸, 아세트산 에틸, 아세트산 뷰틸 등), 물, 알코올류(예를 들면, 에탄올, 아이소프로판올, 뷰탄올, 사이클로헥산올 등), 셀로솔브류(예를 들면, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등), 셀로솔브아세테이트류, 설폭사이드류(예를 들면, 다이메틸설폭사이드 등), 아마이드류(예를 들면, 다이메틸폼아마이드, 다이메틸아세트아마이드 등) 등을 들 수 있으며, 이들을 1종 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
〔레벨링제〕
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 광학 이방성막의 표면을 평활하게 유지하고, 배향 제어를 용이하게 하는 관점에서, 레벨링제를 함유하는 것이 바람직하다.
이와 같은 레벨링제로서는, 첨가량에 대한 레벨링 효과가 높은 이유에서, 불소계 레벨링제 또는 규소계 레벨링제인 것이 바람직하고, 삼출(블룸, 블리드)을 일으키기 어려운 관점에서, 불소계 레벨링제인 것이 보다 바람직하다.
레벨링제로서는, 구체적으로는 예를 들면 일본 공개특허공보 2007-069471호의 [0079]~[0102]단락에 기재된 화합물, 일본 공개특허공보 2013-047204호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 화합물(특히 [0020]~[0032]단락에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2012-211306호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 화합물(특히 [0022]~[0029]단락에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2002-129162호에 기재된 일반식 (I)로 나타나는 액정 배향 촉진제(특히 [0076]~[0078] 및 [0082]~[0084]단락에 기재된 화합물), 일본 공개특허공보 2005-099248호에 기재된 일반식 (I), (II) 및 (III)으로 나타나는 화합물(특히 [0092]~[0096]단락에 기재된 화합물) 등을 들 수 있다. 또한, 후술하는 배향 제어제로서의 기능을 겸비해도 된다.
〔배향 제어제〕
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 필요에 따라, 배향 제어제를 함유할 수 있다.
배향 제어제에 의하여, 호모지니어스 배향 외에, 호메오트로픽 배향(수직 배향), 경사 배향, 하이브리드 배향, 콜레스테릭 배향 등의 다양한 배향 상태를 형성할 수 있으며, 또 특정 배향 상태를 보다 균일하고 보다 정밀하게 제어하여 실현할 수 있다.
호모지니어스 배향을 촉진하는 배향 제어제로서는, 예를 들면 저분자의 배향 제어제나, 고분자의 배향 제어제를 이용할 수 있다.
저분자의 배향 제어제로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2002-020363호의 [0009]~[0083]단락, 일본 공개특허공보 2006-106662호의 [0111]~[0120]단락, 및 일본 공개특허공보 2012-211306의 [0021]~[0029]단락의 기재를 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.
또, 고분자의 배향 제어제로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2004-198511호의 [0021]~[0057]단락, 및 일본 공개특허공보 2006-106662호의 [0121]~[0167]단락을 참조할 수 있고, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.
또, 호메오트로픽 배향을 형성 또는 촉진하는 배향 제어제로서는, 예를 들면 보론산 화합물, 오늄염 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 일본 공개특허공보 2008-225281호의 [0023]~[0032]단락, 일본 공개특허공보 2012-208397호의 [0052]~[0058]단락, 일본 공개특허공보 2008-026730호의 [0024]~[0055]단락, 일본 공개특허공보 2016-193869호의 [0043]~[0055]단락 등에 기재된 화합물을 참조할 수 있으며, 이 내용은 본원 명세서에 원용된다.
한편, 콜레스테릭 배향은, 본 발명의 중합성 액정 조성물에 카이랄제를 첨가함으로써 실현할 수 있고, 그 카이랄성의 방향에 의하여 콜레스테릭 배향의 선회 방향을 제어할 수 있다. 또한, 카이랄제의 배향 규제력에 따라 콜레스테릭 배향의 피치를 제어할 수 있다.
배향 제어제를 함유하는 경우의 함유량은, 중합성 액정 조성물 중의 전체 고형분 질량에 대하여 0.01~10질량%인 것이 바람직하고, 0.05~5질량%인 것이 보다 바람직하다. 함유량이 이 범위이면, 원하는 배향 상태를 실현하면서, 석출이나 상분리(相分離), 배향 결함 등이 없으며, 균일하고 투명성이 높은 광학 이방성막을 얻을 수 있다.
이들 배향 제어제는, 또한 중합성 관능기, 특히 본 발명의 중합성 액정 조성물을 구성하는 중합성 액정 화합물과 중합 가능한 중합성 관능기를 부여할 수 있다.
〔자외선 흡수제〕
본 발명의 중합성 액정 조성물은, 하기 식 (5)로 나타나는 자외선 흡수제를 함유해도 된다.
또, 상기 식 (1)로 나타나는 중합성 액정 화합물의 극대 흡수 파장 A와, 하기 식 (5)로 나타나는 자외선 흡수제의 극대 흡수 파장 B가, 하기 식 (6)을 충족시키는 것이 바람직하다.
여기에서, 본 명세서에 있어서는, 극대 흡수 파장은, 300~400nm의 파장 영역에 존재하는 피크의 가장 장파장 측의 흡수 파장을 말하고, 흡수 스펙트럼이 쌍봉성(雙峰性)의 피크를 나타내는 경우에는, 장파장 측의 흡수를 극대 흡수 파장으로 한다.
[화학식 10]
Figure 112019135711709-pct00012
0nm≤A-B<24nm …(6)
상기 식 (5) 중, Ar은, 치환기를 갖고 있어도 되는, 방향족 탄화 수소환 또는 방향족 복소환을 나타낸다.
여기에서, 방향족 탄화 수소환으로서는, 예를 들면 페닐기, 2,6-다이에틸페닐기, 나프틸기 등의 아릴기를 들 수 있다.
또, 방향족 복소환으로서는, 예를 들면 싸이엔일기, 싸이아졸일기, 퓨릴기, 피리딜기 등의 헤테로아릴기를 들 수 있다.
또, Ar이 갖고 있어도 되는 치환기로서는, 예를 들면 알킬기, 알콕시기, 할로젠 원자 등을 들 수 있다.
알킬기로서는, 예를 들면 탄소수 1~18의 직쇄상, 분기상 또는 환상의 알킬기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알킬기(예를 들면, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 아이소프로필기, n-뷰틸기, 아이소뷰틸기, sec-뷰틸기, t-뷰틸기, 사이클로헥실기 등)가 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 알킬기인 것이 더 바람직하고, 메틸기 또는 에틸기인 것이 특히 바람직하다.
알콕시기로서는, 예를 들면 탄소수 1~18의 알콕시기가 바람직하고, 탄소수 1~8의 알콕시기(예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, n-뷰톡시기, 메톡시에톡시기 등)가 보다 바람직하며, 탄소수 1~4의 알콕시기인 것이 더 바람직하고, 메톡시기 또는 에톡시기인 것이 특히 바람직하다.
할로젠 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있으며, 그 중에서도, 불소 원자, 염소 원자인 것이 바람직하다.
또, 상기 식 (5) 중, X는, 탄소 원자 또는 질소 원자를 나타내고, Y는, 산소 원자 또는 질소 원자를 나타내며, Z는, 산소 원자 또는 질소 원자를 나타내고, X, Y 및 Z는, 각각 치환기를 갖고 있어도 되며, X가 갖는 치환기와 Y가 갖는 치환기가 서로 결합하여 X 및 Y를 포함하는 환을 형성하고 있어도 된다. 단, X와 Y와의 결합 형식은, Y의 치환기의 유무에 의하여, 이중 결합이어도 되고 삼중 결합이어도 된다.
X, Y 및 Z가 갖고 있어도 되는 치환기로서는, Ar이 갖고 있어도 되는 치환기와 동일한 것을 들 수 있다.
상기 식 (5)로 나타나는 자외선 흡수제로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2007-072163호의 [0018]~[0031]단락에 기재된 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 동일 공보의 [0055]~[0105]단락에 기재된 화합물을 들 수 있다.
그 외에, 상기 식 (5)로 나타나는 자외선 흡수제로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2013-082707호의 [0011]~[0041]단락에 기재된 트라이아진계 화합물도 들 수 있다.
또, 상기 식 (5)로 나타나는 자외선 흡수제로서는, 시판품으로서, Tinuvin400, Tinuvin405, Tinuvin460, Tinuvin477, Tinuvin479, 및 Tinuvin1577(모두 BASF사제) 등을 이용할 수 있다.
본 발명에 있어서는, 형성되는 광학 이방성막의 내광성이 양호해지는 이유에서, 상기 식 (5)로 나타나는 자외선 흡수제를 함유하는 경우의 함유량은, 상기 식 (1)로 나타나는 중합성 액정 화합물의 함유량에 대하여 1~20질량%인 것이 바람직하다.
내광성이 양호해지는 이유는 명확하지 않지만, 중합성 액정 화합물의 극대 흡수 파장 A와 자외선 흡수제의 극대 흡수 파장 B가, 상기 식 (6)을 충족하고 있으면, 중합성 액정 화합물 및 자외선 흡수제의 흡수 파장이 겹치는 영역이 많아져, 중합성 액정 화합물로부터 자외선 흡수제에 대한 에너지 이동이 일어나기 쉽다고 추측된다. 그 결과, 중합성 액정 화합물의 분해가 억제되어, 광학 이방성막의 내광성이 향상된다고 추측된다.
[광학 이방성막]
본 발명의 광학 이방성막은, 상술한 본 발명의 중합성 액정 조성물을 중합하여 얻어지는 광학 이방성막이다.
광학 이방성막의 형성 방법으로서는, 예를 들면 상술한 본 발명의 중합성 액정 조성물을 이용하여, 원하는 배향 상태로 한 후에, 중합에 의하여 고정화하는 방법 등을 들 수 있다.
여기에서, 중합 조건은 특별히 한정되지 않지만, 광조사에 의한 중합에 있어서는, 자외선을 이용하는 것이 바람직하다. 조사량은, 10mJ/cm2~50J/cm2인 것이 바람직하고, 20mJ/cm2~5J/cm2인 것이 보다 바람직하며, 30mJ/cm2~3J/cm2인 것이 더 바람직하고, 50mJ/cm2~1000mJ/cm2인 것이 특히 바람직하다. 또, 중합 반응을 촉진시키기 위하여, 가열 조건하에서 실시해도 된다.
또한, 본 발명에 있어서는, 광학 이방성막은, 후술하는 본 발명의 광학 필름에 있어서의 임의의 지지체 상이나, 후술하는 본 발명의 편광판에 있어서의 편광자 상에 형성할 수 있다.
본 발명에 있어서는, 화상 표시 장치, 특히 액정 표시 장치에 있어서의 콘트라스트비가 향상되는 이유에서, 광학 이방성막이, 상술한 본 발명의 중합성 액정 조성물을 스멕틱상에 배향한 후에 중합(배향을 고정화)하여 얻어지는 막인 것이 바람직하다.
이것은, 스멕틱상이, 네마틱상에 비하여 질서도가 높아, 광학 이방성층의 배향 흐트러짐에 기인하는 산란이 억제되기 때문이라고 생각된다. 또한, 광학 이방성막이 스멕틱상을 나타내고 있는지 여부는, X선 회절에 의하여 주기 구조를 갖고 있는지 여부에 따라 판단할 수 있다. 예를 들면, 박막 X선 회절 장치 ATXG(리가쿠사제)에서 회절 패턴을 해석함으로써 주기 구조의 유무를 확인할 수 있다.
본 발명의 광학 이방성막은, 포지티브 A 플레이트 또는 포지티브 C 플레이트인 것이 바람직하고, 포지티브 A 플레이트인 것이 보다 바람직하다.
여기에서, 포지티브 A 플레이트(양의 A 플레이트)와 포지티브 C 플레이트(양의 C 플레이트)는 이하와 같이 정의된다.
필름 면내의 지상축 방향(면내에서의 굴절률이 최대가 되는 방향)의 굴절률을 nx, 면내의 지상축과 면내에서 직교하는 방향의 굴절률을 ny, 두께 방향의 굴절률을 nz로 했을 때, 포지티브 A 플레이트는 식 (A1)의 관계를 충족시키는 것이며, 포지티브 C 플레이트는 식 (C1)의 관계를 충족시키는 것이다. 또한, 포지티브 A 플레이트는 Rth가 양의 값을 나타내고, 포지티브 C 플레이트는 Rth가 음의 값을 나타낸다.
식 (A1) nx>ny≒nz
식 (C1) nz>nx≒ny
또한, 상기 "≒"이란, 양자(兩者)가 완전하게 동일한 경우뿐만 아니라, 양자가 실질적으로 동일한 경우도 포함한다.
"실질적으로 동일"이란, 포지티브 A 플레이트에서는, 예를 들면 (ny-nz)×d(단, d는 필름의 두께임)가, -10~10nm, 바람직하게는 -5~5nm인 경우도 "ny≒nz"에 포함되고, (nx-nz)×d가, -10~10nm, 바람직하게는 -5~5nm인 경우도 "nx≒nz"에 포함된다. 또, 포지티브 C 플레이트에서는, 예를 들면 (nx-ny)×d(단, d는 필름의 두께임)가, 0~10nm, 바람직하게는 0~5nm인 경우도 "nx≒ny"에 포함된다.
본 발명의 광학 이방성막이 포지티브 A 플레이트인 경우, λ/4판으로서 기능하는 관점에서, Re(550)이 100~180nm인 것이 바람직하고, 120~160nm인 것이 보다 바람직하며, 130~150nm인 것이 더 바람직하고, 130~140nm인 것이 특히 바람직하다.
여기에서, "λ/4판"이란, λ/4 기능을 갖는 판이며, 구체적으로는 어느 특정 파장의 직선 편광을 원편광으로(또는 원편광을 직선 편광으로) 변환하는 기능을 갖는 판이다.
[광학 필름]
본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 광학 이방성막을 갖는 광학 필름이다.
도 1a, 도 1b 및 도 1c(이하, 이들 도면을 특별히 구별을 필요로 하지 않는 경우는 "도 1"이라고 약기함)는, 각각 본 발명의 광학 필름의 일례를 나타내는 모식적인 단면도이다.
또한, 도 1은 모식도이고, 각 층의 두께의 관계나 위치 관계 등은 반드시 실제의 것과는 일치하는 것은 아니며, 도 1에 나타내는 지지체, 배향막 및 하드 코트층은, 모두 임의의 구성 부재이다.
도 1에 나타내는 광학 필름(10)은, 지지체(16)와, 배향막(14)과, 광학 이방성막(12)을 이 순서로 갖는다.
또, 광학 필름(10)은, 도 1b에 나타내는 바와 같이, 지지체(16)의 배향막(14)이 마련된 측과는 반대 측에 하드 코트층(18)을 갖고 있어도 되고, 도 1c에 나타내는 바와 같이, 광학 이방성막(12)의 배향막(14)이 마련된 측과는 반대 측에 하드 코트층(18)을 갖고 있어도 된다.
이하, 본 발명의 광학 필름에 이용되는 다양한 부재에 대하여 상세하게 설명한다.
〔광학 이방성막〕
본 발명의 광학 필름이 갖는 광학 이방성막은, 상술한 본 발명의 광학 이방성막이다.
본 발명의 광학 필름에 있어서는, 상기 광학 이방성막의 두께에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 0.1~10μm인 것이 바람직하고, 0.5~5μm인 것이 보다 바람직하다.
〔지지체〕
본 발명의 광학 필름은, 상술한 바와 같이, 광학 이방성막을 형성하기 위한 기재로서 지지체를 갖고 있어도 된다.
이와 같은 지지체는, 투명인 것이 바람직하고, 구체적으로는 광투과율이 80% 이상인 것이 바람직하다.
이와 같은 지지체로서는, 예를 들면 유리 기판이나 폴리머 필름을 들 수 있고, 폴리머 필름의 재료로서는, 셀룰로스계 폴리머; 폴리메틸메타크릴레이트, 락톤환 함유 중합체 등의 아크릴산 에스터 중합체를 갖는 아크릴계 폴리머; 열가소성 노보넨계 폴리머; 폴리카보네이트계 폴리머; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스터계 폴리머; 폴리스타이렌, 아크릴로나이트릴·스타이렌 공중합체(AS 수지) 등의 스타이렌계 폴리머; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 폴리머; 염화 바이닐계 폴리머; 나일론, 방향족 폴리아마이드 등의 아마이드계 폴리머; 이미드계 폴리머; 설폰계 폴리머; 폴리에터설폰계 폴리머; 폴리에터에터케톤계 폴리머; 폴리페닐렌 설파이드계 폴리머; 염화 바이닐리덴계 폴리머; 바이닐알코올계 폴리머; 바이닐뷰티랄계 폴리머; 아릴레이트계 폴리머; 폴리옥시메틸렌계 폴리머; 에폭시계 폴리머 또는 이들 폴리머를 혼합한 폴리머를 들 수 있다.
또, 후술하는 편광자가 이와 같은 지지체를 겸하는 양태여도 된다.
본 발명에 있어서는, 상기 지지체의 두께에 대해서는 특별히 한정되지 않지만, 5~60μm인 것이 바람직하고, 5~30μm인 것이 보다 바람직하다.
〔배향막〕
본 발명의 광학 필름은, 상술한 임의의 지지체를 갖는 경우, 지지체와 광학 이방성막의 사이에, 배향막을 갖고 있는 것이 바람직하다. 또한, 상술한 지지체가 배향막을 겸하는 양태여도 된다.
배향막은, 일반적으로는 폴리머를 주성분으로 한다. 배향막용 폴리머 재료로서는, 다수의 문헌에 기재되어 있으며, 다수의 시판품을 입수할 수 있다.
본 발명에 있어서 이용되는 폴리머 재료는, 폴리바이닐알코올 또는 폴리이미드, 및 그 유도체가 바람직하다. 특히 변성 또는 미변성의 폴리바이닐알코올이 바람직하다.
본 발명에 사용 가능한 배향막에 대해서는, 예를 들면 국제 공개공보 제01/088574호의 43페이지 24행~49페이지 8행에 기재된 배향막; 일본 특허공보 제3907735호의 단락 [0071]~[0095]에 기재된 변성 폴리바이닐알코올; 일본 공개특허공보 2012-155308호에 기재된 액정 배향제에 의하여 형성되는 액정 배향막 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는, 배향막의 형성 시에 배향막 표면에 접촉하지 않음으로써 면상 악화를 방지하는 것이 가능해지는 이유에서, 배향막으로서는 광배향막을 이용하는 것도 바람직하다.
광배향막으로서는 특별히 한정은 되지 않지만, 국제 공개공보 제2005/096041호의 단락 [0024]~[0043]에 기재된 폴리아마이드 화합물이나 폴리이미드 화합물 등의 폴리머 재료; 일본 공개특허공보 2012-155308호에 기재된 광배향성기를 갖는 액정 배향제에 의하여 형성되는 액정 배향막; Rolic Technologies사제의 상품명 LPP-JP265CP 등을 이용할 수 있다.
또, 본 발명에 있어서는, 상기 배향막의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 지지체에 존재할 수 있는 표면 요철을 완화하여 균일한 막두께의 광학 이방성막을 형성한다는 관점에서, 0.01~10μm인 것이 바람직하고, 0.01~1μm인 것이 보다 바람직하며, 0.01~0.5μm인 것이 더 바람직하다.
〔하드 코트층〕
본 발명의 광학 필름은, 필름의 물리적 강도를 부여하기 위하여, 하드 코트층을 갖고 있는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 지지체의 배향막이 마련된 측과는 반대 측에 하드 코트층을 갖고 있어도 되고(도 1b 참조), 광학 이방성막의 배향막이 마련된 측과는 반대 측에 하드 코트층을 갖고 있어도 된다(도 1c 참조).
하드 코트층으로서는 일본 공개특허공보 2009-098658호의 단락 [0190]~[0196]에 기재된 것을 사용할 수 있다.
〔다른 광학 이방성막〕
본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 광학 이방성막과는 별도로, 다른 광학 이방성막을 갖고 있어도 된다.
즉, 본 발명의 광학 필름은, 본 발명의 광학 이방성막과 다른 광학 이방성막과의 적층 구조를 갖고 있어도 된다.
이와 같은 다른 광학 이방성막은, 상기 식 (1)로 나타나는 중합성 액정 화합물을 배합하지 않고, 상술한 다른 중합성 화합물(특히, 액정 화합물)을 이용하여 얻어지는 광학 이방성막이면 특별히 한정되지 않는다.
여기에서, 일반적으로, 액정 화합물은 그 형상으로부터, 봉상 타입과 원반상 타입으로 분류할 수 있다. 또한, 각각 저분자와 고분자 타입이 있다. 고분자란 일반적으로 중합도가 100 이상인 것을 가리킨다(고분자 물리·상전이 다이내믹스, 도이 마사오저, 2페이지, 이와나미 쇼텐, 1992). 본 발명에서는, 어떤 액정 화합물을 이용할 수 있지만, 봉상 액정 화합물 또는 디스코틱 액정 화합물(원반상 액정 화합물)을 이용하는 것이 바람직하다. 2종 이상의 봉상 액정 화합물, 2종 이상의 원반상 액정 화합물, 또는 봉상 액정 화합물과 원반상 액정 화합물과의 혼합물을 이용해도 된다. 상술한 액정 화합물의 고정화를 위하여, 중합성기를 갖는 봉상 액정 화합물 또는 원반상 액정 화합물을 이용하여 형성하는 것이 보다 바람직하고, 액정 화합물이 1분자 중에 중합성기를 2 이상 갖는 것이 더 바람직하다. 액정 화합물이 2종류 이상의 혼합물인 경우에는, 적어도 1종류의 액정 화합물이 1분자 중에 2 이상의 중합성기를 갖고 있는 것이 바람직하다.
봉상 액정 화합물로서는, 예를 들면 일본 공표특허공보 평11-513019호의 청구항 1이나 일본 공개특허공보 2005-289980호의 단락 [0026]~[0098]에 기재된 것을 바람직하게 이용할 수 있으며, 디스코틱 액정 화합물로서는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2007-108732호의 단락 [0020]~[0067]이나 일본 공개특허공보 2010-244038호의 단락 [0013]~[0108]에 기재된 것을 바람직하게 이용할 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.
[편광판]
본 발명의 편광판은, 상술한 본 발명의 광학 필름과 편광자를 갖는 것이다.
또, 본 발명의 편광판은, 상술한 본 발명의 광학 이방성막이 λ/4판(포지티브 A 플레이트)인 경우, 원편광판으로서 이용할 수 있다.
또, 본 발명의 편광판은, 상술한 본 발명의 광학 이방성막이 λ/4판(포지티브 A 플레이트)인 경우, λ/4판의 지상축과 후술하는 편광자의 흡수축이 이루는 각이 30~60°인 것이 바람직하고, 40~50°인 것이 보다 바람직하며, 42~48°인 것이 더 바람직하고, 45°인 것이 특히 바람직하다.
여기에서, λ/4판의 "지상축"은, λ/4판의 면내에 있어서 굴절률이 최대가 되는 방향을 의미하고, 편광자의 "흡수축"은, 흡광도가 가장 높은 방향을 의미한다.
〔편광자〕
본 발명의 편광판이 갖는 편광자는, 광을 특정 직선 편광으로 변환하는 기능을 갖는 부재이면 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 흡수형 편광자 및 반사형 편광자를 이용할 수 있다.
흡수형 편광자로서는, 아이오딘계 편광자, 2색성 염료를 이용한 염료계 편광자, 및 폴리엔계 편광자 등이 이용된다. 아이오딘계 편광자 및 염료계 편광자에는, 도포형 편광자와 연신형 편광자가 있고, 모두 적용할 수 있지만, 폴리바이닐알코올에 아이오딘 또는 2색성 염료를 흡착시켜, 연신하여 제작되는 편광자가 바람직하다.
또, 기재 상에 폴리바이닐알코올층을 형성한 적층 필름 상태에서 연신 및 염색을 실시함으로써 편광자를 얻는 방법으로서, 일본 특허공보 제5048120호, 일본 특허공보 제5143918호, 일본 특허공보 제4691205호, 일본 특허공보 제4751481호, 일본 특허공보 제4751486호를 들 수 있고, 이들의 편광자에 관한 공지의 기술도 바람직하게 이용할 수 있다.
반사형 편광자로서는, 복굴절이 다른 박막을 적층한 편광자, 와이어 그리드형 편광자, 선택 반사역을 갖는 콜레스테릭 액정과 1/4 파장판을 조합한 편광자 등이 이용된다.
그 중에서도, 밀착성이 보다 우수한 점에서, 폴리바이닐알코올계 수지(-CH2-CHOH-를 반복단위로서 포함하는 폴리머. 특히, 폴리바이닐알코올 및 에틸렌-바이닐알코올 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나)를 포함하는 편광자인 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서는, 편광자의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 3μm~60μm인 것이 바람직하고, 5μm~30μm인 것이 보다 바람직하며, 5μm~15μm인 것이 더 바람직하다.
〔점착제층〕
본 발명의 편광판은, 본 발명의 광학 필름에 있어서의 광학 이방성막과 편광자의 사이에, 점착제층이 배치되어 있어도 된다.
광학 이방성막과 편광자와의 적층을 위하여 이용되는 점착제층으로서는, 예를 들면 동적 점탄성 측정 장치로 측정한 저장 탄성률 G'와 손실 탄성률 G"와의 비(tanδ=G"/G')가 0.001~1.5인 물질을 나타내고, 이른바 점착제나 크리프하기 쉬운 물질 등이 포함된다. 본 발명에 이용할 수 있는 점착제로서는, 예를 들면 폴리바이닐알코올계 점착제를 들 수 있지만, 이에 한정되지 않는다.
[화상 표시 장치]
본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 광학 필름 또는 본 발명의 편광판을 갖는, 화상 표시 장치이다.
본 발명의 화상 표시 장치에 이용되는 표시 소자는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 액정 셀, 유기 일렉트로 루미네선스(이하, "EL"이라고 약기함) 표시 패널, 플라즈마 디스플레이 패널 등을 들 수 있다.
이들 중, 액정 셀, 유기 EL 표시 패널인 것이 바람직하고, 액정 셀인 것이 보다 바람직하다. 즉, 본 발명의 화상 표시 장치로서는, 표시 소자로서 액정 셀을 이용한 액정 표시 장치, 표시 소자로서 유기 EL 표시 패널을 이용한 유기 EL 표시 장치인 것이 바람직하고, 액정 표시 장치인 것이 보다 바람직하다.
〔액정 표시 장치〕
본 발명의 화상 표시 장치의 일례인 액정 표시 장치는, 상술한 본 발명의 편광판과, 액정 셀을 갖는 액정 표시 장치이다.
또한, 본 발명에 있어서는, 액정 셀의 양측에 마련되는 편광판 중, 프런트 측의 편광판으로서 본 발명의 편광판을 이용하는 것이 바람직하고, 프런트 측 및 리어 측의 편광판으로서 본 발명의 편광판을 이용하는 것이 보다 바람직하다.
이하에, 액정 표시 장치를 구성하는 액정 셀에 대하여 상세하게 설명한다.
<액정 셀>
액정 표시 장치에 이용되는 액정 셀은, VA(Vertical Alignment) 모드, OCB(Optically Compensated Bend) 모드, IPS(In-Plane-Switching) 모드, 또는 TN(Twisted Nematic) 모드인 것이 바람직하지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
TN 모드의 액정 셀에서는, 전압 무인가 시에 봉상 액정성 분자가 실질적으로 수평 배향하고, 또한 60~120°로 비틀림 배향하고 있다. TN 모드의 액정 셀은, 컬러 TFT 액정 표시 장치로서 가장 많이 이용되고 있으며, 다수의 문헌에 기재가 있다.
VA 모드의 액정 셀에서는, 전압 무인가 시에 봉상 액정성 분자가 실질적으로 수직으로 배향하고 있다. VA 모드의 액정 셀에는, (1) 봉상 액정성 분자를 전압 무인가 시에 실질적으로 수직으로 배향시키고, 전압 인가 시에 실질적으로 수평으로 배향시키는 좁은 의미의 VA 모드의 액정 셀(일본 공개특허공보 평2-176625호 기재)에 더하여, (2) 시야각 확대를 위하여, VA 모드를 멀티 도메인화한(MVA 모드의) 액정 셀(SID97, Digest of tech. Papers(예고집(預稿集)) 28(1997) 845 기재), (3) 봉상 액정성 분자를 전압 무인가 시에 실질적으로 수직 배향시키고, 전압 인가 시에 비틀림 멀티 도메인 배향시키는 모드(n-ASM 모드)의 액정 셀(일본 액정 토론회의 예고집 58~59(1998) 기재) 및 (4) SURVIVAL 모드의 액정 셀(LCD 인터내셔널 98에서 발표)이 포함된다. 또, PVA(Patterned Vertical Alignment)형, 광배향형(Optical Alignment), 및 PSA(Polymer-Sustained Alignment)형 중 어느 것이어도 된다. 이들 모드의 상세에 대해서는, 일본 공개특허공보 2006-215326호, 및 일본 공표특허공보 2008-538819호에 상세한 기재가 있다.
IPS 모드의 액정 셀은, 봉상 액정 분자가 기판에 대하여 실질적으로 평행하게 배향되어 있고, 기판면에 평행한 전계가 인가됨으로써 액정 분자가 평면적으로 응답한다. IPS 모드는 전계 무인가 상태에서 흑색 표시가 되고, 상하 한 쌍의 편광판의 흡수축은 직교하고 있다. 광학 보상 시트를 이용하여, 경사 방향에서의 흑색 표시 시의 누출광을 저감시켜, 시야각을 개량하는 방법이, 일본 공개특허공보 평10-054982호, 일본 공개특허공보 평11-202323호, 일본 공개특허공보 평9-292522호, 일본 공개특허공보 평11-133408호, 일본 공개특허공보 평11-305217호, 일본 공개특허공보 평10-307291호 등에 개시되어 있다.
〔유기 EL 표시 장치〕
본 발명의 화상 표시 장치의 일례인 유기 EL 표시 장치로서는, 예를 들면 시인 측으로부터, 편광자와, 본 발명의 광학 이방성막으로 이루어지는 λ/4판(포지티브 A 플레이트)과, 유기 EL 표시 패널을 이 순서로 갖는 양태를 적합하게 들 수 있다.
또, 유기 EL 표시 패널은, 전극 간(음극 및 양극 간)에 유기 발광층(유기 일렉트로 루미네선스층)을 협지하여 이루어지는 유기 EL 소자를 이용하여 구성된 표시 패널이다. 유기 EL 표시 패널의 구성은 특별히 제한되지 않고, 공지의 구성이 채용된다.
실시예
이하에 실시예에 근거하여 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 이하의 실시예에 나타내는 재료, 사용량, 비율, 처리 내용, 처리 절차 등은, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한 적절히 변경할 수 있다. 따라서, 본 발명의 범위는 이하에 나타내는 실시예에 의하여 한정적으로 해석되어야 할 것은 아니다.
〔화합물 (I-1a)의 합성〕
하기 식 (I-1a)로 나타나는 화합물 (I-1a)의 합성은, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 726, 103-109(1969)에 기재된 방법을 참고로, 말로노나이트릴, 이황화 탄소 및 벤조퀴논으로부터 합성했다.
[화학식 11]
Figure 112019135711709-pct00013
〔화합물 (II-1a)의 합성〕
하기 식 (II-1a)로 나타나는 화합물 (II-1a)의 합성은, 일본 공개특허공보 2016-081035호의 [0169]단락(실시예 15)에 기재된 방법으로 행했다.
[화학식 12]
Figure 112019135711709-pct00014
〔화합물 (I-1c)의 합성〕
[화학식 13]
Figure 112019135711709-pct00015
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1b) 10.0g(39.3mmol), N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc) 50ml, 트라이에틸아민 8.0g(78.6mmol), 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 433mg을 실온(23℃)에서 혼합했다.
혼합물에, 4-메틸설폰일옥시뷰틸아크릴레이트 9.61g(43.2mmol)을 첨가하고, 100℃에서 5시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 1N 염산수 30ml, 톨루엔 50ml를 첨가하고, 40℃에서 교반 후, 분액을 행했다. 유기층을, 5% 탄산 수소 나트륨 수용액, 1% 탄산 수소 나트륨 수용액, 1% 탄산 수소 나트륨 수용액으로 순차 세정한 후에, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실(TEMPO) 20mg을 첨가하고 나서 용매를 감압 증류 제거했다. 잔사를 에탄올/톨루엔/n-헥세인으로 재결정함으로써, 카복실산 유도체 (I-1c)를 4.78g(12.6mmol) 얻었다(수율 32%). 또, 분액 시의 물층을 모두 모아, 액이 산성이 될 때까지 염산을 적하함으로써, 미반응의 화합물 (I-1b)를 석출시켜, 여취했다. 이 조체를 아세톤 10ml에 첨가하고, 30분 교반 후에 여취함으로써, 화합물 (I-1b)를 1.6g 회수했다(회수율 16%).
얻어진 화합물 (I-1c)의 1H-NMR(Nuclear Magnetic Resonance)을 이하에 나타낸다.
1H-NMR(용매: CDCl3)δ(ppm): 1.0-1.1(m, 6H), 1.3-1.5(m, 4H), 1.7-1.8(m, 8H), 2.0-2.1(m, 4H), 2.2(tt, 1H), 2.2(tt, 1H), 4.1(t, 2H), 4.2(t, 2H), 5.8(dd, 1H), 6.1(dd, 1H), 6.4(dd, 1H)
〔화합물 (I-1d)의 합성〕
[화학식 14]
Figure 112019135711709-pct00016
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1b) 10.0g(39.3mmol), 아세트산 에틸(EA) 100ml, N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc) 18.2ml, 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 433mg을 실온에서 혼합하고, 내온을 5℃까지 냉각했다. 혼합물에, 염화 싸이오닐(SOCl2) 6.24ml(86.5mmol)를 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하했다. 5℃에서 1시간 교반한 후, 6-하이드록시헥실아크릴레이트 6.77g(39.3mmol)을 첨가했다. N,N-다이아이소프로필에틸아민(DIPEA) 37.7ml(216mmol)를 적하한 후, 실온에서 2시간 교반했다. 교반 후, 1N 염산수 100ml를 첨가하여 반응을 정지하고, 분액을 행했다. 유기층을 10% 식염수로 세정한 후, 황산 마그네슘으로 건조하고, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실(TEMPO) 20mg을 첨가하고 나서 용매를 감압 증류 제거했다. 얻어진 조체를 실리카젤 칼럼 크로마토그래피에 의하여 정제하고, 화합물 (I-1d) 4.66g(11.4mmol)을 얻었다(수율 29%).
얻어진 화합물 (I-1d)의 1H-NMR을 이하에 나타낸다.
1H-NMR(용매: CDCl3)δ(ppm): 0.9-1.1(m, 6H), 1.3-1.5(m, 8H), 1.6-1.7(m, 4H), 2.0-2.1(m, 4H), 2.2(tt, 1H), 2.3(tt, 1H), 4.0(t, 2H), 4.2(t, 2H), 5.8(dd, 1H), 6.1(dd, 1H), 6.4(dd, 1H)
〔화합물 (I-1e)의 합성〕
[화학식 15]
Figure 112019135711709-pct00017
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1b) 10.0g(39.3mmol), 아세트산 에틸(EA) 100ml, N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc) 18.2ml, 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 433mg을 실온에서 혼합하고, 내온을 5℃까지 냉각했다. 혼합물에, 염화 싸이오닐(SOCl2) 6.24ml(86.5mmol)를 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하했다. 5℃에서 1시간 교반한 후, 5-하이드록시-3-메틸펜틸아크릴레이트 6.77g(39.3mmol)을 첨가했다. N,N-다이아이소프로필에틸아민(DIPEA) 37.7ml(216mmol)를 적하한 후, 실온에서 2시간 교반했다. 교반 후, 1N 염산수 100ml를 첨가하여 반응을 정지하고, 분액을 행했다. 유기층을 10% 식염수로 세정한 후, 황산 마그네슘으로 건조하고, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실(TEMPO) 20mg을 첨가하고 나서 용매를 감압 증류 제거했다. 얻어진 조체를 실리카젤 칼럼 크로마토그래피에 의하여 정제하여, 화합물 (I-1e) 4.02g(9.83mmol)을 얻었다(수율 25%).
얻어진 화합물 (I-1e)의 1H-NMR을 이하에 나타낸다.
1H-NMR(용매: CDCl3)δ(ppm): 0.9(s, 3H), 1.0-1.1(m, 6H), 1.3-1.5(m, 4H), 1.5-1.6(m, 1H), 1.6-1.8(m, 8H), 1.9-2.1(m, 4H), 2.2(tt, 1H), 2.2(tt, 1H), 4.0-4.2(m, 2H), 4.2-4.3(m, 2H), 5.8(dd, 1H), 6.1(dd, 1H), 6.4(dd, 1H)
〔화합물 (I-1f)의 합성〕
[화학식 16]
Figure 112019135711709-pct00018
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1b) 10.0g(39.3mmol), N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc) 30ml, 톨루엔 10ml, 트라이에틸아민 7.96g(78.6mmol), 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 100mg을 실온(23℃)에서 혼합했다.
혼합물에, 2-메틸설폰일옥시에틸아크릴레이트 8.40g(43.2mmol)을 첨가하고, 90℃에서 5시간 교반했다. 실온까지 냉각한 후, 농염산 2.60g과 물 20ml 혼합 용액을 첨가하고, 40℃에서 교반 후, 분액을 행했다.
이어서, 유기층에 톨루엔 20ml, 5% 탄산 수소 나트륨 수용액 30ml를 첨가하고, 40℃에서 교반 후, 분액을 행했다.
이어서, 유기층을 1% 탄산 수소 나트륨 수용액 30ml로 2회 세정한 후에, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-1-옥실(TEMPO) 20mg을 첨가하고 나서, 용매를 감압 증류 제거했다. 그 후의 정제는 행하지 않고, 화합물 (I-1f)의 톨루엔 용액을, 그대로 다음 공정에 사용했다. NMR과 HPLC(High Performance Liquid Chromatography)에 의하여 환산하여, 본체 함유율 28%, 수율은 45%였다.
〔화합물 (I-1g)의 합성〕
[화학식 17]
Figure 112019135711709-pct00019
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 2-메틸설폰일옥시에틸아크릴레이트에 대신하여, 2-메틸설폰일옥시프로필아크릴레이트와 1-메틸설폰일옥시프로필아크릴레이트와의 혼합물을 이용하는 이외에는, 화합물 (I-1f)와 동일하게 하여, 화합물 (I-1g)를 합성했다.
〔혼합물 (I-1h)의 합성〕
[화학식 18]
Figure 112019135711709-pct00020
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 2-메틸설폰일옥시에틸아크릴레이트에 대신하여, 4-메틸설폰일옥시뷰틸아크릴레이트와 2-메틸설폰일옥시에틸아크릴레이트를 혼합하여 이용하는 이외에는, 화합물 (I-1f)와 동일하게 하여, 혼합물 (I-1h)를 합성했다. 4-메틸설폰일옥시뷰틸아크릴레이트와 2-메틸설폰일옥시에틸아크릴레이트는 95:5의 몰비율로 이용했다.
[실시예 1]
〔화합물 (I-1-4)의 합성〕
[화학식 19]
Figure 112019135711709-pct00021
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1c) 2.53g(6.65mmol), 톨루엔 12.6ml, N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc) 3.80ml, 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 33mg을 실온에서 혼합하고, 내온을 5℃까지 냉각했다. 혼합물에, 염화 싸이오닐(SOCl2) 0.58ml(7.98mmol)를 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하했다. 5℃에서 1시간 교반한 후, 화합물 (I-1a) 0.75g(3.02mmol)의 테트라하이드로퓨란(THF) 용액(12.6ml)을 첨가했다. N,N-다이아이소프로필에틸아민(DIPEA) 2.90ml(16.6mmol)를 적하한 후, 실온에서 2시간 교반했다. 교반 후, 1N 염산수 10ml, 아세트산 에틸 10ml를 첨가하여 반응을 정지하고, 분액을 행했다. 유기층을 10% 식염수로 세정한 후, 아이소프로판올 15ml, 메탄올 10ml를 순서로 적하하고, 그 후 5℃까지 냉각하여, 석출한 결정을 여취했다.
얻어진 조체를 실리카젤 칼럼 크로마토그래피에 의하여 정제하여, 화합물 (I-1-4) 2.79g(2.87mmol)을 얻었다(수율 95%).
얻어진 화합물 (I-1-4)의 1H-NMR을 이하에 나타낸다.
1H-NMR(용매: CDCl3)δ(ppm): 1.0-1.2(m, 12H), 1.3-1.5(m, 4H), 1.5-1.6(m, 4H), 1.7-1.8(m, 8H), 1.8-2.0(m, 8H), 2.0-2.1(m, 4H), 2.1-2.2(m, 4H), 2.2(tt, 2H), 2.5(tt, 2H), 4.1(t, 4H), 4.2(t, 4H), 5.8(dd, 2H), 6.1(dd, 2H), 6.4(dd, 2H), 7.3(s, 2H)
[실시예 2]
〔화합물 (I-1-5)의 합성〕
[화학식 20]
Figure 112019135711709-pct00022
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1d) 0.91g(2.22mmol), 아세트산 에틸(EA) 4.53ml, N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc) 1.36ml, 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 11mg을 실온에서 혼합하고, 내온을 5℃까지 냉각했다. 혼합물에, 염화 싸이오닐(SOCl2) 0.19ml(2.66mmol)를 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하했다. 5℃에서 1시간 교반한 후, 화합물 (I-1a) 0.25g(1.01mmol)의 THF 용액(5.00ml)을 첨가했다. N,N-다이아이소프로필에틸아민(DIPEA) 0.97ml(5.54mmol)를 적하한 후, 실온에서 2시간 교반했다. 교반 후, 1N 염산수 10ml, 아세트산 에틸 10ml를 첨가하여 반응을 정지하고, 분액을 행했다. 유기층을 10% 식염수로 세정한 후, 황산 마그네슘으로 건조하고, 용매를 감압 증류 제거했다. 얻어진 조체를 실리카젤 칼럼 크로마토그래피에 의하여 정제하여, 화합물 (I-1-5) 0.96g(0.94mmol)을 얻었다(수율 93%).
얻어진 화합물 (I-1-5)의 1H-NMR을 이하에 나타낸다.
1H-NMR(용매: CDCl3)δ(ppm): 1.0-1.2(m, 12H), 1.3-1.5(m, 12H), 1.5-1.6(m, 4H), 1.6-1.7(m, 8H), 1.8-1.9(m, 8H), 2.0-2.1(m, 4H), 2.1-2.2(m, 4H), 2.2(tt, 2H), 2.5(tt, 2H), 4.1(t, 4H), 4.2(t, 4H), 5.8(dd, 2H), 6.1(dd, 2H), 6.4(dd, 2H), 7.3(s, 2H)
[실시예 3]
〔화합물 (I-1-6)의 합성〕
[화학식 21]
Figure 112019135711709-pct00023
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1e) 1.09g(2.66mmol), 아세트산 에틸(EA) 5.43ml, N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc) 1.63ml, 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 13mg을 실온에서 혼합하고, 내온을 5℃까지 냉각했다. 혼합물에, 염화 싸이오닐(SOCl2) 0.23ml(3.19mmol)를 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하했다. 5℃에서 1시간 교반한 후, 화합물 (I-1a) 0.30g(1.21mmol)의 THF 용액(5.00ml)을 첨가했다. N,N-다이아이소프로필에틸아민(DIPEA) 1.16ml(6.65mmol)를 적하한 후, 실온에서 2시간 교반했다. 교반 후, 1N 염산수 10ml, 아세트산 에틸 10ml를 첨가하여 반응을 정지하고, 분액을 행했다. 유기층을 10% 식염수로 세정한 후, 황산 마그네슘으로 건조하고, 용매를 감압 증류 제거했다. 얻어진 조체를 실리카젤 칼럼 크로마토그래피에 의하여 정제하여, 화합물 (I-1-6) 1.11g(1.08mmol)을 얻었다(수율 89%).
얻어진 화합물 (I-1-6)의 1H-NMR을 이하에 나타낸다.
1H-NMR(용매: CDCl3)δ(ppm): 1.0(d, 6H), 1.0-1.2(m, 12H), 1.3-1.5(m, 4H), 1.5-1.6(m, 6H), 1.7-1.8(m, 8H), 1.8-1.9(m, 4H), 1.9-2.0(m, 4H), 2.0-2.1(m, 4H), 2.1-2.2(m, 4H), 2.2(tt, 2H), 2.5(tt, 2H), 4.1(t, 4H), 4.2(t, 4H), 5.8(dd, 2H), 6.1(dd, 2H), 6.4(dd, 2H), 7.3(s, 2H)
[실시예 4]
〔화합물 (II-1-4)의 합성〕
[화학식 22]
Figure 112019135711709-pct00024
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (1-1c) 0.99g(2.60mmol), 톨루엔 3.5ml, N,N-다이메틸폼아마이드(DMF) 0.5ml, 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 13mg을 실온에서 혼합하고, 내온을 5℃까지 냉각했다. 혼합물에, 염화 싸이오닐(SOCl2) 0.23ml(3.12mmol)를 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하했다. 20℃에서 30분 교반한 후, 분리한 하층을 제거했다. 내온을 5℃까지 냉각하고, 화합물 (II-1a) 0.31g(1.18mmol)의 THF 용액(10.0ml)을 첨가했다. N,N-다이아이소프로필에틸아민(DIPEA) 1.13ml(6.50mmol)를 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하한 후, 실온에서 2시간 교반했다. 교반 후, 아이소프로필알코올 75ml, 메탄올 50ml를 적하하고, 석출한 결정을 여별했다. 얻어진 조체를 45℃에서 THF, 아이소프로필알코올로 재결정한 후에, 실리카젤 칼럼 크로마토그래피에 의하여 정제하여, 중합성 액정 화합물 (II-1-4) 1.06g(1.08mmol)을 얻었다(수율 91%).
얻어진 화합물 (II-1-4)의 1H-NMR을 이하에 나타낸다.
1H-NMR(용매: CDCl3)δ(ppm): 1.0-1.2(m, 12H), 1.3-1.5(m, 4H), 1.5-1.6(m, 4H), 1.7-1.8(m, 8H), 1.8-2.0(m, 8H), 2.0-2.1(m, 4H), 2.1-2.2(m, 4H), 2.2(s, 3H), 2.2(tt, 2H), 2.5(tt, 1H), 2.6(tt, 1H), 4.1(t, 4H), 4.2(t, 4H), 5.8(dd, 2H), 6.1(dd, 2H), 6.4(dd, 2H), 7.2(s, 1H)
[실시예 5]
〔화합물 (II-1-5)의 합성〕
[화학식 23]
Figure 112019135711709-pct00025
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1d) 0.82g(2.01mmol), 아세트산 에틸(EA) 4.1ml, N,N-다이메틸아세트아마이드(DMAc) 1.2ml, 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 10mg을 실온에서 혼합하고, 내온을 5℃까지 냉각했다. 혼합물에, 염화 싸이오닐(SOCl2) 0.17ml(2.42mmol)를 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하했다. 5℃에서 1시간 교반한 후, 화합물 (II-1a) 0.24g(0.92mmol)의 THF 용액(5.0ml)을 첨가했다. N,N-다이아이소프로필에틸아민(DIPEA) 1.13ml(6.50mmol)를 적하한 후, 실온에서 2시간 교반했다. 교반 후, 1N 염산수 15ml, 아세트산 에틸 15ml를 첨가하여 반응을 정지하고, 분액을 행했다. 유기층을 10% 식염수로 세정한 후, 황산 마그네슘으로 건조하여, 용매를 감압 증류 제거했다. 얻어진 조체를 실리카젤 칼럼 크로마토그래피에 의하여 정제하여, 화합물 (II-1-5) 0.85g(0.81mmol)을 얻었다(수율 89%).
얻어진 화합물 (II-1-5)의 1H-NMR을 이하에 나타낸다.
1H-NMR(용매: CDCl3)δ(ppm): 1.0-1.2(m, 12H), 1.3-1.5(m, 12H), 1.5-1.6(m, 4H), 1.6-1.7(m, 8H), 1.8-1.9(m, 8H), 2.0-2.1(m, 4H), 2.1-2.2(m, 4H), 2.2(s, 3H), 2.2(tt, 2H), 2.5(tt, 1H), 2.6(tt, 1H), 4.1(t, 4H), 4.2(t, 4H), 5.8(dd, 2H), 6.1(dd, 2H), 6.4(dd, 2H), 7.2(s, 1H)
[실시예 6]
[화학식 24]
Figure 112019135711709-pct00026
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1f)의 톨루엔 용액 45g〔화합물 (I-1f)의 함유율은, NMR과 HPLC에 의하여 환산하여 11.90g(33.9mmol)이었다.〕, N,N-다이메틸폼아마이드(DMF) 2.82g, 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 15mg을 실온에서 혼합하고, 내온을 5℃까지 냉각했다. 혼합물에, 염화 싸이오닐(SOCl2) 4.40g(37.0mmol)을 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하했다. 20℃에서 30분 교반한 후, 분리한 하층을 제거했다. 그 다음으로, 내온을 5℃까지 냉각하고, 화합물 (I-1a) 3.83g(15.4mmol)의 테트라하이드로퓨란(THF) 용액(60ml)을 첨가하며, 또한 N,N-다이아이소프로필에틸아민(DIPEA) 5.57g(43.2mmol)을 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하한 후, 실온에서 2시간 교반했다. 교반 후, 아세토나이트릴 13ml, N-에틸피롤리돈 10ml를 첨가한 후에, 45℃로 승온했다. 그 후, 물 25ml를 적하, 이어서 트라이에틸아민 0.78g을 첨가하여 중화했다. 물층을 분액한 후에, 유기층에 아세톤 80ml를 첨가하고 나서, 5℃까지 냉각하고, 결정을 석출시켰다. 메탄올 15ml를 첨가한 후에, 석출한 결정을 여별했다. 얻어진 조체를 30℃에서 아세톤 50ml, n-헥세인 110ml에 현탁시키고, 30℃에서 30분 교반한 후에, 5℃까지 냉각하고 나서 여과함으로써, 상기 식 (I-1-1)로 나타나는 화합물 12.7g(13.9mmol)을 얻었다(수율 90%).
[실시예 7]
[화학식 25]
Figure 112019135711709-pct00027
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1a)에 대신하여, 화합물 (II-1a)을 이용하는 이외에는, 화합물 (I-1-1)의 합성과 동일하게 하여, 화합물 (II-1-1)을 합성했다.
[실시예 8 및 9]
[화학식 26]
Figure 112019135711709-pct00028
화합물 (I-1f)에 대신하여, 화합물 (I-1g)를 이용하는 이외에는, 화합물 (I-1-1)의 합성과 동일하게 하여, 화합물 (I-1-2)를 합성했다(실시예 8).
또, 화합물 (I-1f)에 대신하여 화합물 (I-1g)를 이용하고, 화합물 (I-1a)에 대신하여 화합물 (II-1a)를 이용하는 이외에는, 화합물 (I-1-1)의 합성과 동일하게 하여, 화합물 (II-1-2)를 합성했다(실시예 9).
얻어진 화합물은 1H-NMR과 MS에 의하여 동정(同定)했다.
(I-1-1) MS(m/z)=917([M+H]+)
(II-1-1) MS(m/z)=945([M+H]+)
(I-1-2) MS(m/z)=931([M+H]+)
(II-1-2) MS(m/z)=959([M+H]+)
[실시예 10]
[화학식 27]
Figure 112019135711709-pct00029
상기 스킴에 나타내는 바와 같이, 화합물 (I-1d) 6.70g(17.6mmol), 화합물 (I-1f) 1.55g(4.4mmol), N,N-다이메틸폼아마이드(DMF) 2.00g, 톨루엔 25ml, 및 2,6-다이-t-뷰틸-4-메틸페놀 20mg을 실온에서 혼합하고, 내온을 5℃까지 냉각했다. 혼합물에, 염화 싸이오닐(SOCl2) 2.80g(23.5mmol)을 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하했다. 20℃에서 30분 교반한 후, 분리한 하층을 제거했다. 내온을 5℃까지 냉각하고, 화합물 (I-1a) 2.48g(10.0mmol)의 테트라하이드로퓨란(THF)(35ml) 용액을 첨가했다. N,N-다이아이소프로필에틸아민(DIPEA) 4.88g(28.0mmol)을 내온이 10℃ 이상으로 상승하지 않도록 적하한 후, 실온에서 2시간 교반했다. 교반 후, 아세토나이트릴 10ml, N-에틸피롤리돈 5ml를 첨가한 후에, 내온 45℃로 승온했다. 그 다음으로, 물 20ml를 적하, 트라이에틸아민 0.50g를 첨가한 후에, 분액 조작을 행하고, 물층을 제거했다. 유기층에, 아세톤 50ml를 첨가한 후에, 5℃까지 냉각하여 결정을 석출시켰다. 또한, 메탄올 10ml를 첨가한 후에, 석출한 결정을 여별했다. 얻어진 조체를 아세톤 30ml, n-헥세인 70ml에 현탁시키고, 30℃에서 30분 교반한 후에, 5℃까지 냉각하고 나서 여과함으로써, 상기 식 (I-1-4)(I-1-41)(I-1-1)의 혼합물인 (M-1-1)을 8.66g 얻었다(수율 90%). HPLC로 측정한 결과, (I-1-4)/(I-1-41)/(I-1-1)의 비율은 65/31/4였다.
[실시예 11]
화합물 (I-1d)와 화합물 (I-1f)와의 도입비를 98:2로 한 것 이외에는 혼합물 (M-1-1)의 합성과 동일하게 하여, 혼합물 (M-1-2)을 합성했다. HPLC로 측정한 결과, (I-1-4)/(I-1-41)/(I-1-1)의 비율은 96/4/<0.1이었다.
[실시예 12]
화합물 (I-1d) 및 화합물 (I-1f)에 대신하여, 혼합물 (I-1h)를 이용하여 혼합물 (M-1-3)을 합성했다. HPLC로 측정한 결과, (I-1-4)/(I-1-41)/(I-1-1)의 비율은 91/9/0.1이었다.
[실시예 13]
[화학식 28]
Figure 112019135711709-pct00030
혼합물 (M-1-1)의 합성과 동일하게 하여, 화합물 (I-1f)에 대신하여 화합물 (I-1g)를 이용하고, 화합물 (I-1d)와 화합물 (I-1g)와의 도입비를 95:5로 하여, 혼합물 (M-2-1)을 합성했다. HPLC로 측정한 결과, (I-1-4)/(I-1-42)/(I-1-2)의 비율은 91/9/0.1이었다.
[실시예 14]
[화학식 29]
Figure 112019135711709-pct00031
혼합물 (M-1-1)의 합성과 동일하게 하여, 화합물 (I-1a)에 대신하여 화합물 (II-1a)를 이용하고, 혼합물 (M-3-1)을 합성했다. HPLC로 측정한 결과, (II-1-4)/(II-1-41)/(II-1-1)의 비율은 65/30/5였다.
[실시예 15]
[화학식 30]
Figure 112019135711709-pct00032
혼합물 (M-2-1)의 합성과 동일하게 하여, 화합물 (I-1a)에 대신하여 화합물 (II-1a)를 이용하고, 혼합물 (M-4-1)을 합성했다. HPLC로 측정한 결과, (II-1-4)/(II-1-42)/(II-1-2)의 비율은 92/8/0.1이었다.
[비교예 1]
일본 공개특허공보 2010-084032호의 [0161]~[0163]단락에 기재된 방법으로, 하기 식 중의 n이 1인 화합물 B를 합성했다.
[화학식 31]
Figure 112019135711709-pct00033
[비교예 2]
일본 공개특허공보 2016-081035호의 [0122]단락(실시예 4)에 기재된 방법으로, 하기 식 (I-4)로 나타나는 화합물 (I-4)를 합성했다.
[화학식 32]
Figure 112019135711709-pct00034
<ClogP값>
실시예 1~5와 비교예 1 및 2로 합성한 중합성 액정 화합물에 대하여, 역파장 분산 발현부에 상당하는 Ar의 ClogP값을 상술한 방법으로 산출했다. 결과를 하기 표 3에 나타낸다.
<상전이 온도>
실시예 1~5와 비교예 1 및 2로 합성한 중합성 액정 화합물에 대하여, 편광 현미경을 이용하여 상전이 온도의 측정을 행했다. 결과를 하기 표 3에 나타낸다.
여기에서, 하기 표 3 중, 실시예 1의 "C 136 SA 197 N >250 I"는, 결정 상태에서부터 스멕틱 A상으로의 상전이 온도가 136℃이고, 스멕틱 A상으로부터 네마틱상으로의 상전이 온도가 197℃이며, 250℃ 이상이어도 네마틱상을 나타내지만, 동시에 중합이 병발(倂發)하여, 등방성 액체로의 상전이 온도가 측정 불가능한 것을 나타내고, 실시예 2의 "C 130 SA 203 N 238 I"는, 결정 상태에서부터 스멕틱 A상으로의 상전이 온도가 130℃이고, 스멕틱 A상으로부터 네마틱상으로의 상전이 온도가 203℃이며, 네마틱상으로부터 등방성 액체로의 상전이 온도가 238℃인 것을 나타내고, 실시예 5의 "C (SA 200) 218 N 230 I"는, 강온 과정에서는 200℃이며 네마틱상으로부터 스멕틱 A상으로 전이하지만, 승온 과정에서는 스멕틱 A상을 나타내지 않고, 결정 상태에서부터 네마틱상으로의 전이 온도가 218℃이며, 네마틱상으로부터 등방성 액체로의 상전이 온도가 230℃인 것을 나타내고, 비교예 1의 "C 96 N 192 I"는, 결정 상태에서부터 네마틱상으로의 상전이 온도가 96℃이며, 네마틱상으로부터 등방성 액체로의 상전이 온도가 192℃인 것을 나타낸다.
〔광학 필름의 제작〕
하기의 조성을 갖는 중합성 조성물(광학 이방성막용 도포액)을 조제하고, 러빙 처리된 폴리이미드 배향막(닛산 가가쿠 고교(주)제 SE-150) 포함 유리 기판에 스핀 코트에 의하여 도포했다. 도막을 하기 표 3에 나타내는 온도에서 배향 처리하여, 액정층을 형성했다. 그 후, 하기 표 3에 기재되어 있는 노광 시 온도까지 냉각하여 1000mJ/cm2의 자외선 조사에 의한 배향 고정화를 행하고, 광학 이방성막을 형성하여, 파장 분산 측정용 광학 필름을 얻었다.
---------------------------------------------------------------------
광학 이방성층막 도포액
---------------------------------------------------------------------
·중합성 액정 화합물 (하기 표 3에 기재된 화합물) 15.00질량부
·광중합 개시제(이르가큐어 819, BASF사제) 0.45질량부
·하기 함불소 화합물 A 0.12질량부
·클로로폼 35.00질량부
---------------------------------------------------------------------
[화학식 33]
Figure 112019135711709-pct00035
<리타데이션>
제작한 광학 필름에 대하여, Axo Scan(OPMF-1, 옵토 사이언스사제)을 이용하여, 파장 450nm의 리타데이션값(Re(450))과 파장 550nm의 리타데이션값(Re(550))을 측정하고, Re(450)/Re(550)을 산출했다. 결과를 하기 표 3에 나타낸다.
<내광성>
제작한 광학 필름에 대하여, 중합성 액정 조성물의 도포막이 조사면이 되도록, 유리 기판을 제논 조사기(스가 시켄키 주식회사제 SX75)에 세팅하고, #275 필터를 이용하여 200시간 조사하는 시험을 행했다. 시험 후의 광학 필름의 Re(550)을 측정하고, 이하의 기준으로 내광성을 평가했다. 결과를 하기 표 3에 나타낸다.
A: 초기 위상차값에 대한 시험 후의 Re(550)의 변화량이 초기 값의 5% 미만
B: 초기 위상차값에 대한 시험 후의 Re(550)의 변화량이 초기 값의 5% 이상 15% 미만
C: 초기 위상차값에 대한 시험 후의 Re(550)의 변화량이 초기 값의 15% 이상
[표 3]
Figure 112019135711709-pct00036
표 3에 나타내는 결과로부터, 중합성 액정 화합물의 역파장 분산 발현부(Ar)의 ClogP값이 3.5보다 크면, 형성되는 광학 이방성막의 역파장 분산성 및 내광성이 뒤떨어지는 것을 알 수 있었다(비교예 1).
또, 중합성 액정 화합물의 역파장 분산 발현부(Ar)의 ClogP값이 3.5 이하여도, 장축 방향으로 사이클로헥세인환끼리가 단결합으로 연결한 골격을 갖지 않은 경우에는, 형성되는 광학 이방성막의 역파장 분산성이 뒤떨어지는 것을 알 수 있었다(비교예 2).
이에 대하여, 역파장 분산 발현부(Ar)의 ClogP값이 3.5 이하이며, 또한 역파장 분산 발현부를 중심으로 한 분자의 장축 방향으로 사이클로헥세인환끼리가 단결합으로 연결한 골격을 갖는 중합성 액정성 화합물은, 액정성이 우수하고, 형성되는 광학 이방성막의 역파장 분산성도 양호해지는 것을 알 수 있었다(실시예 1~5).
<광학 필름의 제작>
하기의 조성을 갖는 중합성 조성물(광학 이방성막용 도포액)을 조제하고, 러빙 처리된 폴리이미드 배향막(닛산 가가쿠 고교(주)제 SE-150) 포함 유리 기판에 스핀 코트에 의하여 도포했다. 실시예 1~5와 동일하게 하여, 배향 처리, 배향 고정화를 행하고, 광학 이방성막을 형성하여, 파장 분산 측정용 광학 필름을 얻었다. 리타데이션과 내광성의 평가는, 실시예 1~5와 동일 조건에서 실시했다.
---------------------------------------------------------------------
광학 이방성막용 도포액
---------------------------------------------------------------------
·중합성 액정 화합물 (하기 표 4에 기재된 화합물) 15질량부
·광중합 개시제(이르가큐어 819, BASF사제) 0.45질량부
·상기 함불소 화합물 A 0.12질량부
·사이클로펜탄온 35질량부
---------------------------------------------------------------------
[표 4]
Figure 112019135711709-pct00037
상기 표 4에 나타내는 결과로부터, 중합성 액정 화합물의 역파장 분산 발현부(Ar)의 ClogP값이 3.5보다 작으면, 형성되는 광학 이방성막의 역파장 분산성 및 내광성이 우수한 것을 알 수 있다.
<광배향성기를 갖는 중합체 PA-1의 합성>
Langmuir, 32(36), 9245-9253, (2016년)에 기재된 방법에 따라, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트(HEMA)(도쿄 가세이 시약)와 하기 신남산 클로라이드 유도체를 이용하여, 이하에 나타내는 모노머 m-1을 합성했다.
신남산 클로라이드 유도체
[화학식 34]
Figure 112019135711709-pct00038
모노머 m-1
[화학식 35]
Figure 112019135711709-pct00039
냉각관, 온도계, 및 교반기를 구비한 플라스크에, 용매로서 2-뷰탄온 5질량부를 도입하고, 플라스크 내에 질소를 5ml/min 흘려 보내면서, 수욕(水浴) 가열에 의하여 환류시켰다. 여기에, 모노머 m-1을 5질량부, 사이클로머 M100(다이셀사제) 5질량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스(아이소뷰티로나이트릴)을 1질량부와, 용매로서 2-뷰탄온 5질량부를 혼합한 용액을, 3시간 동안 적하하고, 추가로 3시간 환류 상태를 유지한 채로 교반했다. 반응 종료 후, 실온까지 방랭하고, 2-뷰탄온 30질량부를 첨가하여 희석함으로써 약 20질량%의 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액을 대과잉의 메탄올 중에 투입하여 중합체를 침전시키고, 회수한 침전물을 여별하여, 대량의 메탄올로 세정한 후, 50℃에 있어서 12시간 송풍 건조함으로써, 광배향성기를 갖는 중합체 PA-1을 얻었다.
중합체 PA-1
[화학식 36]
Figure 112019135711709-pct00040
<배향막 P-3의 제작>
하기의 배향막 P-3 형성용 도포액을 #2.4의 와이어 바로 연속적으로 시판되고 있는 트라이아세틸셀룰로스 필름 "Z-TAC"(후지필름사제) 상에 도포했다. 도막이 형성된 지지체를 140℃의 온풍으로 120초간 건조하고, 계속해서 편광 자외선 조사(10mJ/cm2, 초고압 수은 램프 사용)함으로써, 배향막 P-3을 형성했다.
---------------------------------------------------------------------
배향막 P-3 형성용 도포액
---------------------------------------------------------------------
상기 중합체 PA-1 100.00질량부
아이소프로필알코올 16.50질량부
아세트산 뷰틸 1072.00질량부
메틸에틸케톤 268.00질량부
---------------------------------------------------------------------
<포지티브 A 플레이트 A-1의 형성>
하기의 조성물 A-1을, 트라이아세틸셀룰로스 필름에 마련된 배향막 P-3 상에 바 코터를 이용하여 도포했다. 배향막 P-3 상에 형성된 도막을 온풍으로 135℃로 가열하고, 그 후 60℃로 냉각한 후, 질소 분위기하에서 고압 수은등을 이용하여 파장 365nm로 100mJ/cm2의 자외선을 도막에 조사하며, 계속해서 120℃로 가열하면서 500mJ/cm2의 자외선을 조사함으로써, 액정 화합물의 배향을 고정화하여, 포지티브 A 플레이트 A-1을 포함하는 필름 A-1을 제작했다. Re(550)은 144nm였다.
---------------------------------------------------------------------
조성물 A-1
---------------------------------------------------------------------
·상기 화합물 (I-1-4) 80.00질량부
·하기 중합성 액정 화합물 L-3 20.00질량부
·하기 중합 개시제 PI-1 0.50질량부
·하기 레벨링제 T-1 0.20질량부
·클로로폼 570.00질량부
---------------------------------------------------------------------
중합성 액정 화합물 L-3
[화학식 37]
Figure 112019135711709-pct00041
중합 개시제 PI-1
[화학식 38]
Figure 112019135711709-pct00042
레벨링제 T-1
[화학식 39]
Figure 112019135711709-pct00043
<포지티브 A 플레이트 A-2의 형성>
조성물 A-1에 대신하여, 하기의 조성물 A-2를 이용한 것 이외에는 포지티브 A 플레이트 A-1과 동일하게 하여, 포지티브 A 플레이트 A-2를 제작했다.
---------------------------------------------------------------------
조성물 A-2
---------------------------------------------------------------------
·상기 화합물 (I-1-4) 55.00질량부
·상기 화합물 (II-1-4) 18.00질량부
·상기 중합성 액정 화합물 L-3 27.00질량부
·상기 중합 개시제 PI-1 0.50질량부
·상기 레벨링제 T-1 0.20질량부
·클로로폼 570.00질량부
---------------------------------------------------------------------
<포지티브 A 플레이트 A-5의 형성>
조성물 A-1에 대신하여, 하기의 조성물 A-5를 이용한 것 이외에는 포지티브 A 플레이트 A-1과 동일하게 하여, 포지티브 A 플레이트 A-5를 제작했다.
---------------------------------------------------------------------
조성물 A-5
---------------------------------------------------------------------
·상기 화합물 (I-1-4) 80.00질량부
·상기 중합성 액정 화합물 L-3 20.00질량부
·상기 중합 개시제 PI-1 0.50질량부
·상기 레벨링제 T-1 0.20질량부
·하기 화합물 UV-1 5.00질량부
·클로로폼 570.00질량부
---------------------------------------------------------------------
화합물 UV-1
[화학식 40]
Figure 112019135711709-pct00044
<포지티브 C 플레이트 C-1의 형성>
일본 공개특허공보 2015-200861호의 [0124]단락에 기재된 포지티브 C 플레이트와 동일한 방법으로, C 플레이트 형성용 가지지체 상에 포지티브 C 플레이트 C-1을 갖는 필름 C-1을 제작했다. 막두께를 조정함으로써, Rth(550)을 -69nm로 했다.
<배향막 P-4의 제작>
사이클로올레핀 폴리머 필름(COP)(ZF-14, 닛폰 제온 주식회사제)을, 코로나 처리 장치(AGF-B10, 가스가 덴키 주식회사제)를 이용하여 출력 0.3kW, 처리 속도 3m/분의 조건으로 1회 처리했다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 하기 조성물을 바 코터 도포하고, 80℃에서 1분간 건조하며, 편광 UV 조사 장치(SPOT CURE SP-7; 우시오 덴키 주식회사제)를 이용하여, 100mJ/cm2의 적산 광량으로 편광 UV 노광을 실시했다. 얻어진 배향막의 막두께를 레이저 현미경(LEXT, 올림푸스 주식회사제)으로 측정한바, 100nm였다.
---------------------------------------------------------------------
배향막 P-4 형성용 도포액
---------------------------------------------------------------------
·하기 중합체 PA-10 5.0질량부
·사이클로펜탄온 95.0질량부
---------------------------------------------------------------------
중합체 PA-10
[화학식 41]
Figure 112019135711709-pct00045
<포지티브 A 플레이트 A-3의 형성>
트라이아세틸셀룰로스 필름에 마련된 배향막 P-3에 대신하여, 사이클로올레핀 폴리머 필름 상에 마련된 배향막 P-4를 이용한 것 이외에는, 포지티브 A 플레이트 A-1과 동일하게 하여, 포지티브 A 플레이트 A-3을 포함하는 필름 A-3을 제작했다. Re(550)은 144nm였다.
<편광판의 형성>
지지체인 TD80UL(후지필름사제)의 표면을, 알칼리 비누화 처리했다. 구체적으로는, 상기 지지체를 1.5 규정의 구체적으로는, 상기 지지체를 1.5 규정의 수산화 나트륨 수용액에 55℃에서 2분간 침지하고, 취출한 지지체를 실온의 수세 욕조 중에서 세정하여, 30℃에서 0.1 규정의 황산을 이용하여 중화했다. 그 후, 재차 얻어진 지지체를 실온의 수세 욕조 중에서 세정하고, 추가로 100℃의 온풍으로 건조했다.
계속해서, 아이오딘 수용액 중에서 두께 80μm의 롤상 폴리바이닐알코올 필름을 연속하여 5배로 연신하고, 연신 후의 필름을 건조하여, 두께 20μm의 편광자를 얻었다.
얻어진 편광자와, 알칼리 비누화 처리가 실시된 지지체(TD80UL)를 첩합하고, 계속해서 다른 쪽의 면에 Z-TAC(후지필름제)을 첩합하여, 편광자의 양면이 필름으로 협지된 편광판 0을 얻었다.
다음으로, 각각 제작한 포지티브 A 플레이트 A-1~A-3의 지상축과 편광자의 흡수축의 배치를 표 5에 나타내는 관계로서, 상기 편광판 0의 편광자와 포지티브 A 플레이트의 지지체면을 점착제를 이용하여 첩합하고, 계속해서 포지티브 A 플레이트의 지지체를 박리함으로써, 포지티브 A 플레이트만을 편광판 상에 전사했다. 계속해서, 전사된 포지티브 A 플레이트의 표면에 포지티브 C 플레이트 C-1의 도포면을, 점착제를 이용하여 첩합하고, 필름 C-1의 형성용 가지지체를 박리함으로써, 포지티브 C 플레이트 C-1만을 포지티브 A 플레이트 A 상에 전사하여, 편광판 1~6을 제작했다.
[표 5]
Figure 112019135711709-pct00046
<유기 EL 표시 장치에 대한 실장>
유기 EL 표시 패널 탑재의 SAMSUNG사제 GALAXY S IV를 분해하여, 원편광판을 박리하고, 상기에서 제작한 편광판 1~3을 각각 유기 EL 표시 패널 상에 첩합하여, 유기 EL 표시 장치를 제작했다.
(반사율)
제작한 유기 EL 표시 장치에 대하여, 측색계(코니카 미놀타제, CM-2022)를 이용하여, SCE(Specular component excluded) 모드로 측정하고, 얻어진 Y값을 분해 전의 패널을 기준으로 하여 비교한바, 제작한 유기 EL 표시 장치는 분해 전의 패널보다 동등하거나 보다 낮은 값을 나타내며, 시각적으로도 색조 포함이 억제된 우수한 흑색 표시 성능을 나타내는 것이었다.
<액정 표시 장치의 제작>
iPad(등록 상표, Apple사제)의 액정 셀로부터 시인 측의 편광판을 박리하여, IPS 모드의 액정 셀로서 이용했다. 박리한 편광판 대신에, 상기에서 제작한 편광판 4~6을 액정 셀에 첩합하여, 액정 표시 장치를 제작했다. 이때, 액정 셀 기판면에 대하여 수직인 방향에서 관찰했을 때, 편광판의 흡수축과, 액정 셀 내의 액정층의 광축이 수직인 방향이 되도록 첩합했다.
얻어진 액정 표시 장치는, 정면 콘트라스트비와 흑색 표시 시의 사시 방향 색조가 우수한 것이었다.
<포지티브 A 플레이트의 내광성 시험>
얻어진 포지티브 A 플레이트 A-1 및 A-5를, 점착제를 이용하여 유리판에 전사하고 지지체를 박리 제거했다. 얻어진 적층체를, 포지티브 A 플레이트 측을 광원 측으로 향하여, 제논 조사기(스가 시켄키 주식회사제 SX75)에 세팅하고, #275 필터를 이용하여, 광원으로부터 샘플을 290mm 떼어내어 150W/m2의 조건에서 2시간 조사했다. 분광 광도계(상품명 "UV-3150", 시마즈 세이사쿠쇼제)를 이용하여 조사 전후의 적층체에 대하여, 역파장 분산성의 액정 화합물에 귀속되는 흡수 극대 파장의 흡광도 변화 ΔAbs를 각각 측정했다.
포지티브 A 플레이트 A-1의 ΔAbs를 1로 하면, 포지티브 A 플레이트 A-5의 ΔAbs는 0.9 이하이며, 포지티브 A 플레이트 A-5는 특히 현저한 내광성을 갖는 것을 알 수 있었다.
10 광학 필름
12 광학 이방성막
14 배향막
16 지지체
18 하드 코트층

Claims (9)

  1. 하기 식 (1)로 나타나는 중합성 액정 화합물로서,
    Figure 112021027669568-pct00047

    상기 식 (1) 중의 Ar로 나타나는 기의 ClogP값이 3.5 이하인, 중합성 액정 화합물.
    여기에서, 상기 식 (1) 중, D1 및 D2는, 각각 독립적으로 -O-, -S-, 또는 -NR1-을 나타내고, D3 및 D4는, 각각 독립적으로 단결합, -O-CO-, -C(=S)O-, -CR1R2-, -CR1R2-CR3R4-, -O-CR1R2-, -CR1R2-O-CR3R4-, -CO-O-CR1R2-, -O-CO-CR1R2-, -CR1R2-O-CO-CR3R4-, -CR1R2-CO-O-CR3R4-, -NR1-CR2R3-, 또는 -CO-NR1-을 나타낸다. R1, R2, R3 및 R4는, 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자, 또는 탄소수 1~4의 알킬기를 나타낸다.
    SP1 및 SP2는, 각각 독립적으로 단결합, 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기, 또는 탄소수 1~12의 직쇄상 혹은 분기상의 알킬렌기를 구성하는 -CH2- 중 하나 이상이 -O-, -S-, -NH-, -N(Q)-, 혹은 -CO-로 치환된 2가의 연결기를 나타내고, Q는, 치환기를 나타낸다.
    L1 및 L2는 중합성기를 나타낸다.
    Ar은, 하기 식 (Ar-2) 로 나타나는 기를 나타낸다.
    Figure 112021027669568-pct00053

    여기에서, 상기 식 (Ar-2) 중, *는, D1 또는 D2와의 결합 위치를 나타낸다.
    또, Z1 및 Z2 은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~20의 1가의 지방족 탄화 수소기, 탄소수 3~20의 1가의 지환식 탄화 수소기, 탄소수 6~20의 1가의 방향족 탄화 수소기, 할로젠 원자, 사이아노기, 나이트로기, -OR6, -NR7R8, 또는 -SR9를 나타내고, R6~R9는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내며, Z1 및 Z2는, 서로 결합하여 방향환을 형성해도 된다.
    또, A1 및 A2는, 각각 독립적으로 -O-, -N(R10)-, -S-, 및 -CO-로 이루어지는 군으로부터 선택되는 기를 나타내고, R10은, 수소 원자 또는 치환기를 나타낸다.
    또, X는, 수소 원자 또는 치환기가 결합되어 있어도 되는 제14~16족의 비금속 원자를 나타낸다.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 식 (1) 중의 D1 및 D2가 -O-를 나타내고, 또한 D3 및 D4가 -O-CO-를 나타내는, 중합성 액정 화합물.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 중합성 액정 화합물을 함유하는, 중합성 액정 조성물.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 중합성 액정 화합물과는 다른, 중합성기를 하나 이상 갖는 중합성 화합물을 더 함유하는, 중합성 액정 조성물.
  5. 청구항 3에 기재된 중합성 액정 조성물을 중합하여 얻어지는, 광학 이방성막.
  6. 청구항 5에 기재된 광학 이방성막을 갖는, 광학 필름.
  7. 청구항 6에 기재된 광학 필름과, 편광자를 갖는, 편광판.
  8. 청구항 6에 기재된 광학 필름을 갖는, 화상 표시 장치.
  9. 청구항 7에 기재된 편광판을 갖는, 화상 표시 장치.
KR1020197038896A 2017-07-19 2018-07-19 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치 KR102285179B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017139727 2017-07-19
JPJP-P-2017-139727 2017-07-19
JPJP-P-2018-024004 2018-02-14
JP2018024004 2018-02-14
PCT/JP2018/027158 WO2019017445A1 (ja) 2017-07-19 2018-07-19 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200014377A KR20200014377A (ko) 2020-02-10
KR102285179B1 true KR102285179B1 (ko) 2021-08-02

Family

ID=65015189

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020197038896A KR102285179B1 (ko) 2017-07-19 2018-07-19 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20200140759A1 (ko)
JP (1) JPWO2019017445A1 (ko)
KR (1) KR102285179B1 (ko)
CN (1) CN110891945B (ko)
WO (1) WO2019017445A1 (ko)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018155498A1 (ja) * 2017-02-21 2018-08-30 富士フイルム株式会社 重合性液晶化合物、重合性液晶化合物の製造方法、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP6944582B2 (ja) * 2018-02-14 2021-10-06 富士フイルム株式会社 混晶、重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
CN111727391B (zh) 2018-02-14 2022-04-29 富士胶片株式会社 聚合性液晶组合物及其制造方法、光学各向异性膜、光学膜、偏振片及图像显示装置
WO2019160014A1 (ja) * 2018-02-14 2019-08-22 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
WO2019159960A1 (ja) * 2018-02-14 2019-08-22 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板、画像表示装置
JP6910527B2 (ja) * 2018-02-14 2021-07-28 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP7027541B2 (ja) * 2018-06-11 2022-03-01 富士フイルム株式会社 ジシクロヘキサンジカルボン酸ジエステルの製造方法およびジシクロヘキサンジカルボン酸の製造方法
WO2020050305A1 (ja) 2018-09-04 2020-03-12 富士フイルム株式会社 積層体、有機電界発光装置、液晶表示装置
WO2020067391A1 (ja) * 2018-09-27 2020-04-02 富士フイルム株式会社 ジカルボン酸モノエステルの製造方法
JP7042761B2 (ja) * 2019-02-05 2022-03-28 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP2020125407A (ja) * 2019-02-05 2020-08-20 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
WO2020175569A1 (ja) 2019-02-27 2020-09-03 富士フイルム株式会社 光学異方性膜、積層体、円偏光板、表示装置
WO2020175456A1 (ja) * 2019-02-27 2020-09-03 富士フイルム株式会社 組成物、光学異方性膜、円偏光板、表示装置、近赤外線吸収色素
JP7420502B2 (ja) * 2019-07-24 2024-01-23 住友化学株式会社 重合性液晶混合組成物、位相差板、楕円偏光板および有機ｅｌ表示装置
WO2021060448A1 (ja) * 2019-09-27 2021-04-01 富士フイルム株式会社 光学異方性層、光学フィルム、偏光板、画像表示装置
CN115335738A (zh) * 2020-03-27 2022-11-11 富士胶片株式会社 聚合性液晶组合物、光学各向异性层、光学膜、偏振片及图像显示装置
CN115315644A (zh) * 2020-03-27 2022-11-08 富士胶片株式会社 光学各向异性层、光学膜、偏振片及图像显示装置
JP7440647B2 (ja) * 2020-08-28 2024-02-28 富士フイルム株式会社 液晶組成物、液晶硬化層、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR20230051243A (ko) 2020-09-18 2023-04-17 후지필름 가부시키가이샤 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008273925A (ja) 2006-12-15 2008-11-13 Fujifilm Corp 光学フィルムおよび位相差板、並びに液晶化合物
JP2010084032A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Fujifilm Corp 液晶化合物、光学異方性膜、位相差板及び偏光板

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101470212B (zh) * 2007-12-28 2014-10-22 住友化学株式会社 光学膜
JP5391682B2 (ja) * 2007-12-28 2014-01-15 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP2014010325A (ja) * 2012-06-29 2014-01-20 Dainippon Printing Co Ltd 円偏光板、光学フィルム及び画像表示装置
EP2871192B1 (en) 2012-07-09 2018-06-20 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, optically anisotropic body, and method for producing polymerizable compound
CN105524625B (zh) * 2014-10-21 2020-10-09 富士胶片株式会社 光学各向异性层及其制造方法、层叠体、偏振片、显示装置、液晶化合物及其制造方法、羧酸化合物
JP6363566B2 (ja) * 2014-10-21 2018-07-25 富士フイルム株式会社 光学異方性層とその製造方法、積層体、偏光板、表示装置、液晶化合物とその製造方法、カルボン酸化合物
US20180277780A1 (en) * 2015-09-30 2018-09-27 Dic Corporation Polymerizable composition and optically anistropic body using same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008273925A (ja) 2006-12-15 2008-11-13 Fujifilm Corp 光学フィルムおよび位相差板、並びに液晶化合物
JP2010084032A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Fujifilm Corp 液晶化合物、光学異方性膜、位相差板及び偏光板

Also Published As

Publication number Publication date
CN110891945B (zh) 2023-01-24
WO2019017445A1 (ja) 2019-01-24
JPWO2019017445A1 (ja) 2020-04-16
CN110891945A (zh) 2020-03-17
US20200140759A1 (en) 2020-05-07
KR20200014377A (ko) 2020-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102285179B1 (ko) 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR102307920B1 (ko) 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR102351458B1 (ko) 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR102424752B1 (ko) 중합성 액정 조성물, 중합성 액정 조성물의 제조 방법, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR102467728B1 (ko) 광배향성 공중합체, 광배향막 및 광학 적층체
KR102233332B1 (ko) 중합성 액정 화합물, 중합성 액정 화합물의 제조 방법, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR102139875B1 (ko) 광학 필름, 편광판, 화상 표시 장치 및 중합성 화합물과 1,4-사이클로헥세인다이카복실산 모노아릴에스터의 제조 방법
US10519374B2 (en) Polymerizable composition containing polymerizable compound, film, half mirror for displaying projection image, and polymerizable compound
JP7118153B2 (ja) 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR102429339B1 (ko) 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JP7259012B2 (ja) 化合物、重合性組成物、硬化物、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP6823011B2 (ja) 重合性化合物、重合性化合物の製造方法、重合性組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR20220050162A (ko) 중합성 액정 조성물, 화합물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
KR102426523B1 (ko) 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JP7128850B2 (ja) 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
KR102438545B1 (ko) 혼정, 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
JP7500813B2 (ja) 重合性液晶組成物、重合性液晶組成物の製造方法、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
JP7295259B2 (ja) 光配向性重合体、光配向膜および光学積層体
WO2024070691A1 (ja) 積層体、画像表示装置、光学装置およびヘッドマウントディスプレイ
JPWO2019160020A1 (ja) 重合性液晶組成物、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant