KR102271960B1 - 유기 발광 소자, 이의 제조 방법 및 유기물층용 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 명세서는 유기 발광 소자, 이의 제조 방법 및 유기물층용 조성물에 관한 것이다.
Description
본 명세서는 유기 발광 소자, 이의 제조 방법 및 유기물층용 조성물에 관한 것이다.
전계 발광 소자는 자체 발광형 표시 소자의 일종으로서, 시야각이 넓고, 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있다.
유기 발광 소자는 2개의 전극 사이에 유기 박막을 배치시킨 구조를 가지고 있다. 이와 같은 구조의 유기 발광 소자에 전압이 인가되면, 2개의 전극으로부터 주입된 전자와 정공이 유기 박막에서 결합하여 쌍을 이룬 후 소멸하면서 빛을 발하게 된다. 상기 유기 박막은 필요에 따라 단층 또는 다층으로 구성될 수 있다.
유기 박막의 재료는 필요에 따라 발광 기능을 가질 수 있다. 예컨대, 유기 박막 재료로는 그 자체가 단독으로 발광층을 구성할 수 있는 화합물이 사용될 수도 있고, 또는 호스트-도펀트계 발광층의 호스트 또는 도펀트 역할을 할 수 있는 화합물이 사용될 수도 있다. 그 외에도, 유기 박막의 재료로서, 정공 주입, 정공 수송, 전자 차단, 정공 차단, 전자 수송, 전자 주입 등의 역할을 수행할 수 있는 화합물이 사용될 수도 있다.
유기 발광 소자의 성능, 수명 또는 효율을 향상시키기 위하여, 유기 박막의 재료의 개발이 지속적으로 요구되고 있다.
본 출원은 유기 발광 소자, 이의 제조 방법 및 유기물층용 조성물에 관한 것이다.
본 출원의 일 실시상태는, 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서,
상기 유기물층 중 1층 이상이 하기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 하기 화학식 2 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
상기 화학식 1 내지 3에 있어서,
L1 내지 L3은 직접 결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이고, a1, m 및 p는 1 내지 3의 정수이며, a1, m 및 p가 2 이상인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
R1 내지 R6, R10 내지 R19 및 R21 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하며, a3 및 r은 0 내지 2의 정수이고, a4는 0 내지 3의 정수이며, r, a3 및 a4가 2 이상인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
A1 및 A2는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 O; S; NRa; 또는 CRbRc이고,
상기 Ra 내지 Rc는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이며,
Ar1은 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 헤테로아릴기이며,
Ar3 및 Ar4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고, n, q 및 a2는 1 이상 5 이하의 정수이고, n, q 및 a2가 2 이상인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
Ar2는 하기 화학식 1-1 또는 1-2로 표시되며,
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
상기 화학식 1-1 및 1-2에 있어서,
Y1 내지 Y4는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 방향족 탄화수소 고리; 또는 치환 또는 비치환된 방향족 헤테로고리이고,
R7은 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택된다.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는, 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자의 유기물층용 조성물을 제공한다.
마지막으로, 본 출원의 일 실시상태는, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 제1 전극을 형성하는 단계; 상기 제1 전극 상에 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계; 및 상기 유기물층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 유기물층을 형성하는 단계는 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기물층용 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계를 포함하는 것인 유기 발광 소자의 제조 방법을 제공한다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자는 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 동시에 유기 발광 소자의 발광층의 재료로서 사용될 수 있다. 또한, 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물과 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 동시에 유기 발광 소자에 사용하는 경우 소자의 구동전압을 낮추고, 광효율을 향상시키며, 화합물의 열적 안정성에 의하여 소자의 수명 특성을 향상시킬 수 있다.
특히, 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 동시에 유기 발광 소자의 유기물층에 포함하는 경우, 정공 이동도가 특히 우수하여, 정공과 전자의 균형이 우수하며, 이에 따라 소자의 수명이 우수한 특징을 갖게 된다.
또한, 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물은 디벤조티오펜 구조의 4번 탄소 위치에 N함유 고리가 치환되고, 상기 디벤조티오펜 구조 중 N 함유 고리가 치환된 벤젠고리의 2번위치에 특정의 치환기가 치환됨으로써 좀 더 전자 안정성의 구조를 가지며, 이로 인하여 소자 수명을 향상시킬 수 있다.
도 1 내지 도 3은 각각 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자의 적층구조를 개략적으로 나타낸 도이다.
이하 본 출원에 대해서 자세히 설명한다.
상기 "치환"이라는 용어는 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치, 즉 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
본 명세서에 있어서, "치환 또는 비치환"이란 C1 내지 C60의 직쇄 또는 분지쇄의 알킬; C2 내지 C60의 직쇄 또는 분지쇄의 알케닐; C2 내지 C60의 직쇄 또는 분지쇄의 알키닐; C3 내지 C60의 단환 또는 다환의 시클로알킬; C2 내지 C60의 단환 또는 다환의 헤테로시클로알킬; C6 내지 C60의 단환 또는 다환의 아릴; C2 내지 C60의 단환 또는 다환의 헤테로아릴; -SiRR'R"; -P(=O)RR'; C1 내지 C20의 알킬아민; C6 내지 C60의 단환 또는 다환의 아릴아민; 및 C2 내지 C60의 단환 또는 다환의 헤테로아릴아민으로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되거나, 상기 예시된 치환기 중에서 선택된 2 이상의 치환기가 연결된 치환기로 치환 또는 비치환된 것을 의미한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서 상기 R, R' 및 R"은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기일 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 할로겐은 불소, 염소, 브롬 또는 요오드일 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 탄소수 1 내지 60의 직쇄 또는 분지쇄를 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 60, 구체적으로 1 내지 40, 더욱 구체적으로, 1 내지 20일 수 있다. 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, n-프로필기, 이소프로필기, 부틸기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, 1-메틸-부틸기, 1-에틸-부틸기, 펜틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 헥실기, n-헥실기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 3,3-디메틸부틸기, 2-에틸부틸기, 헵틸기, n-헵틸기, 1-메틸헥실기, 시클로펜틸메틸기, 시클로헥실메틸기, 옥틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, 1-메틸헵틸기, 2-에틸헥실기, 2-프로필펜틸기, n-노닐기, 2,2-디메틸헵틸기, 1-에틸-프로필기, 1,1-디메틸-프로필기, 이소헥실기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기 등이 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 탄소수 2 내지 60의 직쇄 또는 분지쇄를 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 60, 구체적으로 2 내지 40, 더욱 구체적으로, 2 내지 20일 수 있다. 구체적인 예로는 비닐기, 1-프로페닐기, 이소프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1-펜테닐기, 2-펜테닐기, 3-펜테닐기, 3-메틸-1-부테닐기, 1,3-부타디에닐기, 알릴기, 1-페닐비닐-1-일기, 2-페닐비닐-1-일기, 2,2-디페닐비닐-1-일기, 2-페닐-2-(나프틸-1-일)비닐-1-일기, 2,2-비스(디페닐-1-일)비닐-1-일기, 스틸베닐기, 스티레닐기 등이 있으나 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알키닐기는 탄소수 2 내지 60의 직쇄 또는 분지쇄를 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 상기 알키닐기의 탄소수는 2 내지 60, 구체적으로 2 내지 40, 더욱 구체적으로, 2 내지 20일 수 있다.
본 명세서에 있어서, 알콕시기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 알콕시기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 20인 것이 바람직하다. 구체적으로, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, tert-부톡시, sec-부톡시, n-펜틸옥시, 네오펜틸옥시, 이소펜틸옥시, n-헥실옥시, 3,3-디메틸부틸옥시, 2-에틸부틸옥시, n-옥틸옥시, n-노닐옥시, n-데실옥시, 벤질옥시, p-메틸벤질옥시 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 시클로알킬기는 탄소수 3 내지 60의 단환 또는 다환을 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 여기서, 다환이란 시클로알킬기가 다른 고리기와 직접 연결되거나 축합된 기를 의미한다. 여기서, 다른 고리기란 시클로알킬기일 수도 있으나, 다른 종류의 고리기, 예컨대 헤테로시클로알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기 등일 수도 있다. 상기 시클로알킬기의 탄소수는 3 내지 60, 구체적으로 3 내지 40, 더욱 구체적으로 5 내지 20일 수 있다. 구체적으로, 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 3-메틸시클로펜틸기, 2,3-디메틸시클로펜틸기, 시클로헥실기, 3-메틸시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 2,3-디메틸시클로헥실기, 3,4,5-트리메틸시클로헥실기, 4-tert-부틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 헤테로시클로알킬기는 헤테로 원자로서 O, S, Se, N 또는 Si를 포함하고, 탄소수 2 내지 60의 단환 또는 다환을 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 여기서, 다환이란 헤테로시클로알킬기가 다른 고리기와 직접 연결되거나 축합된 기를 의미한다. 여기서, 다른 고리기란 헤테로시클로알킬기일 수도 있으나, 다른 종류의 고리기, 예컨대 시클로알킬기, 아릴기, 헤테로아릴기 등일 수도 있다. 상기 헤테로시클로알킬기의 탄소수는 2 내지 60, 구체적으로 2 내지 40, 더욱 구체적으로 3 내지 20일 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 아릴기는 탄소수 6 내지 60의 단환 또는 다환을 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 여기서, 다환이란 아릴기가 다른 고리기와 직접 연결되거나 축합된 기를 의미한다. 여기서, 다른 고리기란 아릴기일 수도 있으나, 다른 종류의 고리기, 예컨대 시클로알킬기, 헤테로시클로알킬기, 헤테로아릴기 등일 수도 있다. 상기 아릴기는 스피로기를 포함한다. 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 60, 구체적으로 6 내지 40, 더욱 구체적으로 6 내지 25일 수 있다. 상기 아릴기의 구체적인 예로는 페닐기, 비페닐기, 트리페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 크라이세닐기, 페난트레닐기, 페릴레닐기, 플루오란테닐기, 트리페닐레닐기, 페날레닐기, 파이레닐기, 테트라세닐기, 펜타세닐기, 플루오레닐기, 인데닐기, 아세나프틸레닐기, 벤조플루오레닐기, 스피로비플루오레닐기, 2,3-디히드로-1H-인데닐기, 이들의 축합고리기 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 플루오레닐기는 치환될 수 있으며, 인접한 치환기들이 서로 결합하여 고리를 형성할 수 있다.
상기 플루오레닐기가 치환되는 경우, 
, 
, 
, 
, 
, 
등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 헤테로아릴기는 헤테로 원자로서 S, O, Se, N 또는 Si를 포함하고, 탄소수 2 내지 60인 단환 또는 다환을 포함하며, 다른 치환기에 의하여 추가로 치환될 수 있다. 여기서, 상기 다환이란 헤테로아릴기가 다른 고리기와 직접 연결되거나 축합된 기를 의미한다. 여기서, 다른 고리기란 헤테로아릴기일 수도 있으나, 다른 종류의 고리기, 예컨대 시클로알킬기, 헤테로시클로알킬기, 아릴기 등일 수도 있다. 상기 헤테로아릴기의 탄소수는 2 내지 60, 구체적으로 2 내지 40, 더욱 구체적으로 3 내지 25일 수 있다. 상기 헤테로아릴기의 구체적인 예로는 피리딜기, 피롤릴기, 피리미딜기, 피리다지닐기, 푸라닐기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 피라졸릴기, 옥사졸릴기, 이속사졸릴기, 티아졸릴기, 이소티아졸릴기, 트리아졸릴기, 푸라자닐기, 옥사디아졸릴기, 티아디아졸릴기, 디티아졸릴기, 테트라졸릴기, 파이라닐기, 티오파이라닐기, 디아지닐기, 옥사지닐기, 티아지닐기, 디옥시닐기, 트리아지닐기, 테트라지닐기, 퀴놀릴기, 이소퀴놀릴기, 퀴나졸리닐기, 이소퀴나졸리닐기, 퀴노졸리릴기, 나프티리딜기, 아크리디닐기, 페난트리디닐기, 이미다조피리디닐기, 디아자나프탈레닐기, 트리아자인덴기, 인돌릴기, 인돌리지닐기, 벤조티아졸릴기, 벤즈옥사졸릴기, 벤즈이미다졸릴기, 벤조티오펜기, 벤조푸란기, 디벤조티오펜기, 디벤조푸란기, 카바졸릴기, 벤조카바졸릴기, 디벤조카바졸릴기, 페나지닐기, 디벤조실롤기, 스피로비(디벤조실롤), 디히드로페나지닐기, 페녹사지닐기, 페난트리딜기, 이미다조피리디닐기, 티에닐기, 인돌로[2,3-a]카바졸릴기, 인돌로[2,3-b]카바졸릴기, 인돌리닐기, 10,11-디히드로-디벤조[b,f]아제핀기, 9,10-디히드로아크리디닐기, 페난트라지닐기, 페노티아티아지닐기, 프탈라지닐기, 나프틸리디닐기, 페난트롤리닐기, 벤조[c][1,2,5]티아디아졸릴기, 5,10-디히드로디벤조[b,e][1,4]아자실리닐, 피라졸로[1,5-c]퀴나졸리닐기, 피리도[1,2-b]인다졸릴기, 피리도[1,2-a]이미다조[1,2-e]인돌리닐기, 5,11-디히드로인데노[1,2-b]카바졸릴기 등을 들 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 아민기는 모노알킬아민기; 모노아릴아민기; 모노헤테로아릴아민기; -NH2; 디알킬아민기; 디아릴아민기; 디헤테로아릴아민기; 알킬아릴아민기; 알킬헤테로아릴아민기; 및 아릴헤테로아릴아민기로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있으며, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 1 내지 30인 것이 바람직하다. 상기 아민기의 구체적인 예로는 메틸아민기, 디메틸아민기, 에틸아민기, 디에틸아민기, 페닐아민기, 나프틸아민기, 비페닐아민기, 디비페닐아민기, 안트라세닐아민기, 9-메틸-안트라세닐아민기, 디페닐아민기, 페닐나프틸아민기, 디톨릴아민기, 페닐톨릴아민기, 트리페닐아민기, 비페닐나프틸아민기, 페닐비페닐아민기, 비페닐플루오레닐아민기, 페닐트리페닐레닐아민기, 비페닐트리페닐레닐아민기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 아릴렌기는 아릴기에 결합 위치가 두 개 있는 것, 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 아릴기의 설명이 적용될 수 있다. 또한, 헤테로아릴렌기는 헤테로아릴기에 결합 위치가 두 개 있는 것, 즉 2가기를 의미한다. 이들은 각각 2가기인 것을 제외하고는 전술한 헤테로아릴기의 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 포스핀옥사이드기는 -P(=O)R101R102로 표시되고, R101 및 R102는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 알킬기; 알케닐기; 알콕시기; 시클로알킬기; 아릴기; 및 헤테로고리기 중 적어도 하나로 이루어진 치환기일 수 있다. 구체적으로 아릴기로 치환될 수 있으며, 상기 아릴기는 전술한 예시가 적용될 수 있다. 예컨대, 포스핀옥사이드기는 디페닐포스핀옥사이드기, 디나프틸포스핀옥사이드 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 실릴기는 Si를 포함하고 상기 Si 원자가 라디칼로서 직접 연결되는 치환기이며, -SiR104R105R106로 표시되고, R104 내지 R106은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 알킬기; 알케닐기; 알콕시기; 시클로알킬기; 아릴기; 및 헤테로고리기 중 적어도 하나로 이루어진 치환기일 수 있다. 실릴기의 구체적인 예로는 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, 비닐디메틸실릴기, 프로필디메틸실릴기, 트리페닐실릴기, 디페닐실릴기, 페닐실릴기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, "인접한" 기는 해당 치환기가 치환된 원자와 직접 연결된 원자에 치환된 치환기, 해당 치환기와 입체구조적으로 가장 가깝게 위치한 치환기, 또는 해당 치환기가 치환된 원자에 치환된 다른 치환기를 의미할 수 있다. 예컨대, 벤젠고리에서 오쏘(ortho)위치로 치환된 2개의 치환기 및 지방족 고리에서 동일 탄소에 치환된 2개의 치환기는 서로 “인접한”기로 해석될 수 있다.
인접한 기들이 형성할 수 있는 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 헤테로고리는 1가기가 아닌 것을 제외하고는 전술한 시클로알킬기, 시클로헤테로알킬기, 아릴기 및 헤테로아릴기로 예시된 구조들이 적용될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태는, 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상이 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
본 출원의 일 실시상태는, 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상이 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
본 출원의 일 실시상태는, 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서, 상기 유기물층 중 1층 이상이 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R6은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성할 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R6은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R6은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R6은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C40의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R6은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; C1 내지 C40의 알킬기; C6 내지 C40의 아릴기; 또는 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R1 내지 R6은 수소일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, L1 및 L2는 직접 결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, L1 및 L2는 직접 결합; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴렌기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, L1 및 L2는 직접 결합; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴렌기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, L1 및 L2는 직접 결합; C6 내지 C40의 아릴렌기; 또는 C2 내지 C40의 헤테로아릴렌기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, L1 및 L2는 직접 결합; 또는 C6 내지 C40의 단환의 아릴렌기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, L1 및 L2는 직접 결합; 또는 페닐렌기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, Ar1은 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar1은 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar1은 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar1은 C6 내지 C40의 아릴기, 및 C2 내지 C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar1은 C6 내지 C40의 아릴기, 및 C2 내지 C40의 헤테로아릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된, 피리딘기; 피리미딘기; 트리아진기; 퀴놀린기; 퀴나졸린기; 페난트롤린기; 또는 이미다졸기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar1은 페닐기로 치환 또는 비치환된 피리딘기; 페닐기, 비페닐기, 디벤조티오펜기 및 디메틸플루오렌기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 피리미딘기; 페닐기, 비페닐기, 디벤조티오펜기 및 디메틸플루오렌기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 트리아진기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 퀴놀린기; 페닐기 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 퀴나졸린기; 페난트롤린기; 또는 페닐기로 치환 또는 비치환된 이미다졸기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1은 -CN; 또는 -NO2로 다시 치환될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, Ar2는 상기 화학식 1-1로 표시될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, Ar2는 상기 화학식 1-2로 표시될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1-1은 하기 구조식 중 어느 하나로 표시될 수 있다.
상기 구조식에서 X1 내지 X6은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 NR38, S, O 또는 CR39R40이고,
R31 내지 R37은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하며,
a는 0 내지 8의 정수이고, b, c, d, e, f 및 g는 각각 독립적으로 0 내지 6의 정수이며, a, b, c, d, e, f 및 g가 2 이상의 정수인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
상기 R38 내지 R40은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1-2는 하기 구조식 중 어느 하나로 표시될 수 있다.
상기 구조식에서 X7 내지 X12는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 NR49, S, O 또는 CR50R51이고,
R41 내지 R48은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하며,
h는 0 내지 7의 정수이고, h가 2 이상의 정수인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
상기 R49 내지 R51은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R31 내지 R37은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R31 내지 R37은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R31 내지 R37은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R31 내지 R37은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; C6 내지 C40의 아릴기; 또는 C6 내지 C40의 아릴기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R31 내지 R37은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 페닐기; 비페닐기; 나프틸기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸기; 디벤조티오펜기 또는 디벤조퓨란기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R38 내지 R40은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R38 내지 R40은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C40의 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R38 내지 R40은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, C1 내지 C40의 알킬기; 또는 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R38 내지 R40은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 메틸기; 또는 페닐기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R41 내지 R48은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R41 내지 R48은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R41 내지 R48은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R41 내지 R48은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; 또는 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R41 내지 R48은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; 또는 페닐기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R49 내지 R51은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R49 내지 R51은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C40의 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R49 내지 R51은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, C1 내지 C40의 알킬기; 또는 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R49 내지 R51은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 메틸기; 또는 페닐기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1-1 및 상기 화학식 1-2의 
는 상기 화학식 1의 L2와 연결되는 위치를 의미한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 4 또는 5로 표시될 수 있다.
[화학식 4]
[화학식 5]
상기 화학식 4 및 5에 있어서,
R1 내지 R6, L1, L2, Ar1, p, m 및 n의 정의는 상기 화학식 1에서의 정의와 동일하고,
R52 내지 R54는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하고,
i는 0 내지 8의 정수이고,
j는 0 내지 7의 정수이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R54는 치환 또는 비치환된 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R54는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R54는 C6 내지 C60의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R54는 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R54는 C6 내지 C40의 단환의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R54는 페닐기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R52 및 R53은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성한다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R52 및 R53은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기이거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로 고리를 형성한다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R52 및 R53은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C40의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기이거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로 고리를 형성한다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R52 및 R53은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; C1 내지 C40의 알킬기; C6 내지 C40의 아릴기; 또는 C6 내지 C40의 아릴기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기이거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 C1 내지 C40의 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 방향족 탄화수소 고리 또는 C6 내지 C40의 아릴기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로 고리를 형성한다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 R52 및 R53은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; 페닐기; 비페닐기; 나프틸기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸기; 디벤조티오펜기; 또는 디벤조퓨란기이거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 메틸기로 치환 또는 비치환된 인덴고리; 페닐기로 치환 또는 비치환된 인돌고리; 벤조티오펜고리; 또는 벤조퓨란고리를 형성한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 2는 하기 화학식 2-1로 표시될 수 있다.
[화학식 2-1]
상기 화학식 2-1에 있어서,
R10 내지 R19, L3, Ar3, Ar4, a1 내지 a4의 정의는 상기 화학식 2에서의 정의와 동일하다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 2는 하기 화학식 2-2 내지 2-5 중 어느 하나로 표시될 수 있다.
[화학식 2-2]
[화학식 2-3]
[화학식 2-4]
[화학식 2-5]
상기 화학식 2-2 내지 2-5에 있어서,
R10 내지 R19, L3, Ar3, Ar4, 및 a1 내지 a4의 정의는 상기 화학식 2에서의 정의와 동일하다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R10 내지 R19는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성할 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R10 내지 R19는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R10 내지 R19는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R10 내지 R19는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; C1 내지 C60의 알킬기; C6 내지 C60의 아릴기; 또는 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R10 내지 R19는 수소일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, L3은 직접 결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, L3은 직접 결합일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, Ar3은 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar3은 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar3은 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C40의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar3은 수소; C1 내지 C40의 알킬기 및 C6 내지 C40의 아릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기; 또는 C1 내지 C40의 알킬기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar3은 페닐기; 비페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 나프틸기; 디메틸플루오렌기; 스피로비플루오렌기; 또는 디페닐플루오렌기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, Ar3는 치환 또는 비치환된 아릴기이거나, 하기 화학식 2-1-1 또는 2-1-2로 표시될 수 있다.
[화학식 2-1-1]
[화학식 2-1-2]
상기 화학식 2-1-1 및 2-1-2에 있어서,
R61 내지 R68은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하고,
A4은 O; S; 또는 NR69이며,
R69는 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R61 내지 R68은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소이거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로 고리를 형성할 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R61 내지 R68은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소이거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로 고리를 형성할 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R61 내지 R68은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소이거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 C1 내지 C40의 알킬기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 방향족 탄화수소 고리 또는 C2 내지 C40의 헤테로 고리를 형성할 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R61 내지 R68은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소이거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 메틸기로 치환 또는 비치환된 인덴고리; 벤조퓨란고리 또는 벤조티오펜고리를 형성할 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R69는 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R69는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R69는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R69는 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R69는 페닐기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, Ar4는 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar4는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar4는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar4는 C6 내지 C40의 아릴기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Ar4는 페닐기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 나프틸기; 또는 트리페닐레닐기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 3의 A1 및 A2는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 O; S; NRa; 또는 CRbRc일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ra 내지 Rc는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C60의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 Ra 내지 Rc는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 C1 내지 C40의 알킬기; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 Ra 내지 Rc는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 수소; C1 내지 C40의 알킬기; C1 내지 C40의 알킬기, C6 내지 C40의 아릴기 및 트리페닐실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기; 또는 C6 내지 C40의 아릴기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 Ra 내지 Rc는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 메틸기; 페닐기 및 트리페닐실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 나프틸기; 트리페닐레닐기; 디페닐플루오레닐기; 디메틸플루오레닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸기; 디벤조퓨란기; 또는 디벤조티오펜기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R21 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성할 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R21 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R21 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C60의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R21 내지 R19는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R21 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; C6 내지 C40의 아릴기; 또는 C6 내지 C40의 아릴기로 치환 또는 비치환된 C2 내지 C40의 헤테로아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R21 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 페닐기; 트리페닐레닐기; 페닐기 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸기; 디벤조퓨란기; 또는 디벤조티오펜기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R25 내지 R29는 수소일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R21 및 R24는 수소일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R22 및 R23은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 페닐기; 트리페닐레닐기; 페닐기 또는 비페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸기; 디벤조퓨란기; 또는 디벤조티오펜기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 3은 하기 화학식 3-1 내지 3-6 중 어느 하나로 표시될 수 있다.
[화학식 3-1]
[화학식 3-2]
[화학식 3-3]
[화학식 3-4]
[화학식 3-5]
[화학식 3-6]
상기 화학식 3-1 내지 3-6에 있어서,
R21 내지 R29, A1, A2 및 r의 정의는 상기 화학식 3에서의 정의와 동일하다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 3은 하기 화학식 3-7 내지 3-9 중 어느 하나로 표시될 수 있다.
[화학식 3-7]
[화학식 3-8]
[화학식 3-9]
상기 화학식 3-7 내지 3-9에 있어서,
A1, A2, R21, 및 R24의 정의는 상기 화학식 3에서의 정의와 동일하고,
A3은 O; S; 또는 NRg이며,
R70 및 R71은 수소; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이고, 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 아릴기이며,
Rg, R72 및 R73은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
o는 0 내지 3의 정수이고,
l은 0 내지 4의 정수이다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R70 및 R71은 수소; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R70 및 R71은 수소; 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R70 및 R71은 수소; 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R70 및 R71은 수소; 또는 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, R70 및 R71은 수소; 페닐기; 또는 트리페닐레닐기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 R70 및 R71 중 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 아릴기일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, R72 및 R73은 수소일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, Rg는 치환 또는 비치환된 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Rg는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C60의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Rg는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Rg는 C6 내지 C40의 아릴기일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, Rg는 페닐기; 또는 비페닐기일 수 있다.
상기 화학식 1의 헤테로고리 화합물 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3의 헤테로고리 화합물을 동시에 유기 발광 소자의 유기물층에 포함하는 경우 더 우수한 효율 및 수명 효과를 보인다. 이 결과는 두 화합물을 동시에 포함하는 경우 엑시플렉스(exciplex) 현상이 일어남을 예상할 수 있다.
상기 엑시플렉스(exciplex) 현상은 두 분자간 전자 교환으로 donor(p-host)의 HOMO level, acceptor(n-host) LUMO level 크기의 에너지를 방출하는 현상이다. 두 분자간 엑시플렉스(exciplex) 현상이 일어나면 Reverse Intersystem Crossing(RISC)이 일어나게 되고 이로 인해 형광의 내부양자 효율이 100%까지 올라갈 수 있다. 정공 수송 능력이 좋은 donor(p-host)와 전자 수송 능력이 좋은 acceptor(n-host)가 발광층의 호스트로 사용될 경우 정공은 p-host로 주입되고, 전자는 n-host로 주입되기 때문에 구동 전압을 낮출 수 있고, 그로 인해 수명 향상에 도움을 줄 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 2는 하기 화합물 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 3은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 화학식 1 내지 3의 구조에 다양한 치환기를 도입함으로써 도입된 치환기의 고유 특성을 갖는 화합물을 합성할 수 있다. 예컨대, 유기 발광 소자 제조시 사용되는 정공 주입층 물질, 정공 수송용 물질, 발광층 물질, 전자 수송층 물질 및 전하 생성층 물질에 주로 사용되는 치환기를 상기 코어 구조에 도입함으로써 각 유기물층에서 요구하는 조건들을 충족시키는 물질을 합성할 수 있다.
또한, 상기 화학식 1 내지 3의 구조에 다양한 치환기를 도입함으로써 에너지 밴드갭을 미세하게 조절이 가능하게 하며, 한편으로 유기물 사이에서의 계면에서의 특성을 향상되게 하며 물질의 용도를 다양하게 할 수 있다.
한편, 상기 헤테로고리 화합물은 유리 전이 온도(Tg)가 높아 열적 안정성이 우수하다. 이러한 열적 안정성의 증가는 소자에 구동 안정성을 제공하는 중요한 요인이 된다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 헤테로고리 화합물은 다단계 화학반응으로 제조할 수 있다. 일부 중간체 화합물이 먼저 제조되고, 그 중간체 화합물들로부터 화학식 1 또는 2의 화합물이 제조될 수 있다. 보다 구체적으로, 본 출원의 일 실시상태에 따른 헤테로고리 화합물은 후술하는 제조예를 기초로 제조될 수 있다.
또한, 본 출원의 일 실시상태는, 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자의 유기물층용 조성물을 제공한다.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는, 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물, 및 상기 화학식 2로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자의 유기물층용 조성물을 제공한다.
또한, 본 출원의 다른 실시상태는, 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물, 및 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자의 유기물층용 조성물을 제공한다.
상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물 상기 화학식 2로 표시되는 헤테로고리 화합물 및 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물에 대한 구체적인 내용은 전술한 바와 동일하다.
상기 조성물 내 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물 : 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물의 중량비는 1 : 10 내지 10 : 1일 수 있고, 1 : 8 내지 8 : 1일 수 있고, 1 : 5 내지 5 : 1 일 수 있으며, 1 : 2 내지 2 : 1일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 조성물 내 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물 : 상기 화학식 2로 표시되는 헤테로고리 화합물의 중량비는 1 : 10 내지 10 : 1일 수 있고, 1 : 8 내지 8 : 1일 수 있고, 1 : 5 내지 5 : 1 일 수 있으며, 1 : 2 내지 2 : 1일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 조성물 내 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물 : 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물의 중량비는 1 : 10 내지 10 : 1일 수 있고, 1 : 8 내지 8 : 1일 수 있고, 1 : 5 내지 5 : 1 일 수 있으며, 1 : 2 내지 2 : 1일 수 있으나, 이에만 한정되는 것은 아니다.
상기 조성물은 유기 발광 소자의 유기물 형성시 이용할 수 있고, 특히 발광층의 호스트 형성시 보다 바람직하게 이용할 수 있다.
상기 조성물은 둘 이상의 화합물이 단순 혼합되어 있는 형태이며, 유기 발광 소자의 유기물층 형성 전에 파우더 상태의 재료를 혼합할 수도 있고, 적정 온도 이상에서 액상 상태로 되어있는 화합물을 혼합할 수 있다. 상기 조성물은 각 재료의 녹는점 이하에서는 고체 상태이며, 온도를 조정하면 액상으로 유지할 수 있다.
상기 조성물은 추가로 용매, 첨가제 등 당 기술분야에 공지된 재료들이 추가로 포함될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자는 전술한 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물, 및 화학식 2로 표시되는 헤테로고리 화합물을 이용하여 한 층 이상의 유기물층을 형성하는 것을 제외하고는, 통상의 유기 발광 소자의 제조방법 및 재료에 의하여 제조될 수 있다.
상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물은 유기 발광 소자의 제조시 진공 증착법 뿐만 아니라 용액 도포법에 의하여 유기물층으로 형성될 수 있다. 여기서, 용액 도포법이라 함은 스핀 코팅, 딥 코팅, 잉크젯 프린팅, 스크린 프린팅, 스프레이법, 롤 코팅 등을 의미하지만, 이들만으로 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 유기 발광 소자의 유기물층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기물층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대, 본 발명의 유기 발광 소자는 유기물층으로서 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나, 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수의 유기물층을 포함할 수 있다.
구체적으로, 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자는, 제1 전극, 제2 전극 및 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하고, 상기 유기물층 중 1층 이상은 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 전극은 양극일 수 있고, 상기 제2 전극은 음극일 수 있다.
또 다른 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 전극은 음극일 수 있고, 상기 제2 전극은 양극일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기 발광 소자는 청색 유기 발광 소자일 수 있으며, 상기 화학식 1에 따른 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3에 따른 헤테로고리 화합물은 청색 유기 발광 소자의 재료로 사용될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기 발광 소자는 녹색 유기 발광 소자일 수 있으며, 상기 화학식 1에 따른 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3에 따른 헤테로고리 화합물은 녹색 유기 발광 소자의 재료로 사용될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기 발광 소자는 적색 유기 발광 소자일 수 있으며, 상기 화학식 1에 따른 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3에 따른 헤테로고리 화합물은 적색 유기 발광 소자의 재료로 사용될 수 있다.
본 발명의 유기 발광 소자는 발광층, 정공주입층, 정공수송층. 전자주입층, 전자수송층, 전자차단층 및 정공차단층으로 이루어진 군에서 선택되는 1층 또는 2층 이상을 더 포함할 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 정공 저지층, 전자 주입층 및 전자 수송층 중 적어도 한 층을 포함하고, 상기 정공 저지층, 전자 주입층 및 전자 수송층 중 적어도 한 층이 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 호스트 물질을 포함하며, 상기 호스트 물질은 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
도 1 내지 3에 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자의 전극과 유기물층의 적층 순서를 예시하였다. 그러나, 이들 도면에 의하여 본 출원의 범위가 한정될 것을 의도한 것은 아니며, 당 기술분야에 알려져 있는 유기 발광 소자의 구조가 본 출원에도 적용될 수 있다.
도 1에 따르면, 기판(100) 상에 양극(200), 유기물층(300) 및 음극(400)이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자가 도시된다. 그러나, 이와 같은 구조에만 한정되는 것은 아니고, 도 2와 같이, 기판 상에 음극, 유기물층 및 양극이 순차적으로 적층된 유기 발광 소자가 구현될 수도 있다.
도 3은 유기물층이 다층인 경우를 예시한 것이다. 도 3에 따른 유기 발광 소자는 정공 주입층(301), 정공 수송층(302), 발광층(303), 정공 저지층(304), 전자 수송층(305) 및 전자 주입층(306)을 포함한다. 그러나, 이와 같은 적층 구조에 의하여 본 출원의 범위가 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 발광층을 제외한 나머지 층은 생략될 수도 있고, 필요한 다른 기능층이 더 추가될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 제1 전극을 형성하는 단계; 상기 제1 전극 상에 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계; 및 상기 유기물층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 유기물층을 형성하는 단계는 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기물층용 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계를 포함하는 것인 유기 발광 소자의 제조 방법을 제공한다.
본 출원의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기물층을 형성하는 단계는 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 예비 혼합(pre-mixed)하여 열 진공 증착 방법을 이용하여 형성하는 것인 유기 발광 소자의 제조 방법을 제공한다.
상기 예비 혼합(pre-mixed)은 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 유기물층에 증착하기 전 먼저 재료를 섞어서 하나의 공원에 담아 혼합하는 것을 의미한다.
예비 혼합된 재료는 본 출원의 일 실시상태에 따른 유기물층용 조성물로 언급될 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자에 있어서, 상기 화학식 1의 헤테로고리 화합물, 상기 화학식 2의 헤테로고리 화합물 및 상기 화학식 3의 헤테로고리 화합물 이외의 재료를 하기에 예시하지만, 이들은 예시를 위한 것일 뿐 본 출원의 범위를 한정하기 위한 것은 아니며, 당 기술분야에 공지된 재료들로 대체될 수 있다.
양극 재료로는 비교적 일함수가 큰 재료들을 이용할 수 있으며, 투명 전도성 산화물, 금속 또는 전도성 고분자 등을 사용할 수 있다. 상기 양극 재료의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO)과 같은 금속 산화물; ZnO : Al 또는 SnO2 : Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDOT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
음극 재료로는 비교적 일함수가 낮은 재료들을 이용할 수 있으며, 금속, 금속 산화물 또는 전도성 고분자 등을 사용할 수 있다. 상기 음극 재료의 구체적인 예로는 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 LiO2/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
정공 주입 재료로는 공지된 정공 주입 재료를 이용할 수도 있는데, 예를 들면, 미국 특허 제4,356,429호에 개시된 구리프탈로시아닌 등의 프탈로시아닌 화합물 또는 문헌 [Advanced Material, 6, p.677 (1994)]에 기재되어 있는 스타버스트형 아민 유도체류, 예컨대 트리스(4-카바조일-9-일페닐)아민(TCTA), 4,4',4"-트리[페닐(m-톨릴)아미노]트리페닐아민(m-MTDATA), 1,3,5-트리스[4-(3-메틸페닐페닐아미노)페닐]벤젠(m-MTDAPB), 용해성이 있는 전도성 고분자인 폴리아닐린/도데실벤젠술폰산(Polyaniline/Dodecylbenzenesulfonic acid) 또는 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리(4-스티렌술포네이트)(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/Poly(4-styrenesulfonate)), 폴리아닐린/캠퍼술폰산(Polyaniline/Camphor sulfonic acid) 또는 폴리아닐린/폴리(4-스티렌술포네이트)(Polyaniline/Poly(4-styrene-sulfonate))등을 사용할 수 있다.
정공 수송 재료로는 피라졸린 유도체, 아릴아민계 유도체, 스틸벤 유도체, 트리페닐디아민 유도체 등이 사용될 수 있으며, 저분자 또는 고분자 재료가 사용될 수도 있다.
전자 수송 재료로는 옥사디아졸 유도체, 안트라퀴노디메탄 및 이의 유도체, 벤조퀴논 및 이의 유도체, 나프토퀴논 및 이의 유도체, 안트라퀴논 및 이의 유도체, 테트라시아노안트라퀴노디메탄 및 이의 유도체, 플루오레논 유도체, 디페닐디시아노에틸렌 및 이의 유도체, 디페노퀴논 유도체, 8-히드록시퀴놀린 및 이의 유도체의 금속 착체 등이 사용될 수 있으며, 저분자 물질 뿐만 아니라 고분자 물질이 사용될 수도 있다.
전자 주입 재료로는 예를 들어, LiF가 당업계 대표적으로 사용되나, 본 출원이 이에 한정되는 것은 아니다.
발광 재료로는 적색, 녹색 또는 청색 발광재료가 사용될 수 있으며, 필요한 경우, 2 이상의 발광 재료를 혼합하여 사용할 수 있다. 이 때, 2 이상의 발광 재료를 개별적인 공급원으로 증착하여 사용하거나, pre-mixed하여 예비 혼합 후 하나의 공급원으로 증착하여 사용할 수 있다. 또한, 발광 재료로서 형광 재료를 사용할 수도 있으나, 인광 재료로서 사용할 수도 있다. 발광 재료로는 단독으로서 양극과 음극으로부터 각각 주입된 정공과 전자를 결합하여 발광시키는 재료가 사용될 수도 있으나, 호스트 재료와 도펀트 재료가 함께 발광에 관여하는 재료들이 사용될 수도 있다.
발광 재료의 호스트를 혼합하여 사용하는 경우에는, 동일 계열의 호스트를 혼합하여 사용할 수도 있고, 다른 계열의 호스트를 혼합하여 사용할 수도 있다. 예를 들어, n 타입 호스트 재료 또는 p 타입 호스트 재료 중 어느 두 종류 이상의 재료를 선택하여 발광층의 호스트 재료로 사용할 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형, 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다.
본 출원의 일 실시상태에 따른 헤테로고리 화합물은 유기 태양 전지, 유기 감광체, 유기 트랜지스터 등을 비롯한 유기 전자 소자에서도 유기 발광 소자에 적용되는 것과 유사한 원리로 작용할 수 있다.
이하에서, 실시예를 통하여 본 명세서를 더욱 상세하게 설명하지만, 이들은 본 출원을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 출원 범위를 한정하기 위한 것은 아니다.
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제조예
1> 화합물 1-39의 제조
1) 화합물 1-39-2의 제조
2-브로모디벤조[b,d]티오펜 5.0g(19.0mM), 2-페닐-9H-카바졸 3.8g(15.8mM), CuI 3.0g(15.8mM), 트랜스-1,2-디아미노사이클로헥산 1.9mL(15.8mM), K3PO4 3.3g(31.6mM)를 1,4-옥산 100mL에 녹인 후 24시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 디클로로메탄(DCM, dichloromethane)을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피(DCM:Hex=1:3)로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적화합물 1-39-2 5.7g(85%)을 얻었다.
2) 화합물 1-39-1의 제조
화합물 1-39-2 6.1g(14.3mM)과 테트라하이드로퓨란(THF, tetrahydrofuran) 100mL를 넣은 혼합 용액을 -78℃에서 2.5M n-BuLi 7.4mL(18.6mM)을 적가하였고 실온에서 1시간 교반하였다. 반응 혼합물에 트리메틸보레이트(B(OMe)3) 4.8mL(42.9mM)을 적가하였고 실온에서 2시간 교반하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼크로마토 그래피(DCM:MeOH=100:3)으로 정제하였고 DCM으로 재결정하여 목적화합물 1-39-1 4.7g(70%)을 얻었다.
3) 화합물 1-39의 제조
1-39-1 8.9g(19.0mM), 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 5.1g(19.0mM), Pd(PPh3)4 1.1g(0.95mM), K2CO3 5.2g(38.0mM)를 톨루엔/EtOH/H2O 100/20/20 mL에 녹인 후 12시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 컬럼 크로마토그래피 (DCM:Hex=1:3)으로 정제하였고 메탄올로 재결정하여 목적화합물 1-39 8.7g(70%)을 얻었다.
상기 제조예 1에서 2-페닐-9H-카바졸 대신 하기 표 1의 중간체 A를 사용하고 2-클로로-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진 대신 하기 표 1의 중간체 B를 사용한 것을 제외하고 제조예 1의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 목적화합물 A을 합성하였다.
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제조예
2> 화합물 A-1의 제조
1) 화합물 1의 제조
2-브로모디벤조퓨란(2-bromodibenzofuran)(70g, 1.0eq/283.30mmol)을 1100ml 테트라하이드로퓨란(THF, Tetrahydrofuran)에 녹인 혼합물을 2L의 이구의 플라스크(two neck flask)에 넣고 -78℃로 냉각하였다. 이때, 반응에 앞서 먼저 플라스크 내부에 질소(N2) 충진을 실시하였다. 30분 뒤, 혼합물에 리튬 디이소프로필 아미드(Lithium diisopropyl amide)(2M in THF, 36.42g, 1.2eq/339.96mmol)를 -78℃를 유지한 상태에서 천천히 적가하였다. 1시간 뒤 요오드(I2)(79.09g, 1.1eq/311.63mmol)를 THF에 녹인 다음, 내부를 상온(RT)으로 높인 상태에서 천천히 적가하였다. 소디움 티오설페이트 펜타하이드레이트(Sodium thiosulfate pentahydrate) 수용액으로 washing 후, MC로 추출하였다. 혼합 용액의 잔여 수분을 MgSO4로 제거한 다음 실리카 필터를 진행하였다. 흡착 후 헥산(Hexane)으로 패킹하여 컬럼 정제 후, 최종적으로 건조 후 흰색 고체 화합물 1 68.88g 얻었다. (68.88g, 70%)
2) 화합물 A-1의 제조
일구의 라운드 바텀 플라스크(One neck r.b.f) 에 2-브로모-4-아이오도디벤조퓨란(2-bromo-4-iododibenzofuran)(1.0eq/20g, 53.62 mmol), B-1 (6.86g, 1.05eq/121.7mmol), Pd(PPh3)4 (3.1g, 0.05eq/2.68mmol), Na2CO3 (17g, 3.0eq/60.86mmol)을 Toluene/EtOH/H2O(5:1:1) 혼합용액 140ml에 넣고 3.5시간 환류하였다. 반응이 완결 된 후 반응물을 필터(filter)하고 H2O로 염기(base)를 씻어준 다음, MC를 넣어 유기층을 분리한 뒤 농축하여 흡착시켰다.
헥산(Hexane)으로 패킹한 후 컬럼 정제 후 농축한 다음, MeOH에 교반한 고체를 filer하여 흰색 결정의 화합물 A-1를 얻었다. (10.4g, 60%)
상기 제조예 2에서 B-1 대신 하기 표 2의 B-1로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고, 상기 제조예 2의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 하기 표 2의 A-1로 표시되는 화합물을 합성하였다.
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제조예
3> 화합물 A-2의 제조
1) 화합물 1의 제조
2-브로모디벤조퓨란(2-bromodibenzofuran)(70g, 1.0eq/283.30mmol)을 1100ml THF에 녹인 혼합물을 2L의 이구의 플라스크(two neck flask)에 넣고 -78℃로 냉각하였다. 이때, 반응에 앞서 먼저 플라스크 내부에 질소(N2) 충진을 실시하였다. 30분 뒤, 혼합물에 리튬 디이소프로필 아미드(Lithium diisopropyl amide)(2M in THF, 36.42g, 1.2eq/339.96mmol)를 -78℃를 유지한 상태에서 천천히 적가하였다. 1시간 뒤 요오드(I2)(79.09g, 1.1eq/311.63mmol)를 THF에 녹인 다음, 내부를 상온(RT)으로 높인 상태에서 천천히 적가하였다. 소디움 티오설페이트 펜타하이드레이트(Sodium thiosulfate pentahydrate) 수용액으로 washing 후, MC로 추출하였다. 혼합 용액의 잔여 수분을 MgSO4로 제거한 다음 실리카 필터를 진행하였다. 흡착 후 헥산(Hexane)으로 패킹하여 컬럼 정제 후, 최종적으로 건조 후 흰색 고체 화합물 1 68.88g 얻었다. (68.88g, 70%)
2) 화합물 A-2의 제조
일구의 라운드 바텀 플라스크(One neck r.b.f)에 2-브로모-4-아이오도-디벤조퓨란(2-bromo-4-iodo-dibenzofurnan)(8g, 1.2eq/21.45mmol), 4-보론산-디벤조퓨란(4-bronic acid-dibenzofuran)(3.5g, 1.0eq/16.50mmol), Pd(PPh3)4(0.95g, 0.05eq/0.82mmol), K2CO3(6.84g, 3.0eq/49.50mmol)을 Toluene/EtOH/H2O(5:1:1) 혼합용액 75ml에 넣고 12시간 환류하였다. 반응이 완결 된 후 반응물을 필터(filter)하고 H2O로 염기(base)를 씻어준 다음, MC를 넣어 유기층을 분리한 뒤 농축하여 흡착시켰다. MC:HEX=1:7으로 패킹하여 컬럼정제 후 농축한 다음, MeOH에 교반한 고체를 filer하여 흰색 결정의 화합물 A-2를 얻었다. (3.5g, 55%)
상기 제조예 3에서 상기 B-2 대신 하기 표 3의 B-2로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고, 상기 제조예 3의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 하기 표 3의 A-2로 표시되는 화합물을 합성하였다.
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제조예
4> 화합물 A-3의 제조
1) 화합물 1의 제조
2-브로모디벤조퓨란(2-bromodibenzofuran)(70g, 1.0eq/283.30mmol)을 1100ml THF에 녹인 혼합물을 2L의 이구의 플라스크(two neck flask)에 넣고 -78℃로 냉각하였다. 이때, 반응에 앞서 먼저 플라스크 내부에 질소(N2) 충진을 실시하였다. 30분 뒤, 혼합물에 리튬 디이소프로필 아미드(Lithium diisopropyl amide)(2M in THF, 36.42g, 1.2eq/339.96mmol)를 -78℃를 유지한 상태에서 천천히 적가하였다. 1시간 뒤 요오드(I2)(79.09g, 1.1eq/311.63mmol)를 THF에 녹인 다음, 내부를 상온(RT)으로 높인 상태에서 천천히 적가하였다. 소디움 티오설페이트 펜타하이드레이트(Sodium thiosulfate pentahydrate) 수용액으로 washing 후, MC로 추출하였다. 혼합 용액의 잔여 수분을 MgSO4로 제거한 다음 실리카 필터를 진행하였다. 흡착 후 헥산(Hexane)으로 패킹하여 컬럼 정제 후, 최종적으로 건조 후 흰색 고체 화합물 1 68.88g 얻었다. (68.88g, 70%)
2) 화합물 A-3의 제조
일구의 라운드 바텀 플라스크(One neck r.b.f)에 2-브로모-4-아이오도-디벤조퓨란(2-bromo-4-iodo-dibenzofuran)(10g, 1.2eq/26.81mmol), 7,7-디메틸-5,7-다이하이드로인데노[2,1-b]카바졸(7,7-dimethyl-5,7-dihydroindeno[2,1-b]carbazole)(3.74g, 1.0eq/22.34mmol), CuI(6.33g, 1.0eq/22.34mmol), 트랜스1,2-시클로헥산 디아민(trans 1,2-cyclohexane diamine)(2.55g, 1.0eq/23.34mmol), NaOH(2.23g, 2.5eq/55.85mmmol)를 1,4-다이옥세인(1,4-dioxane)75ml에 넣고 12시간 환류하였다. 반응이 완결 된 후 반응물을 filter하고 H2O로 base를 씻어준 다음, MC를 넣어 유기층을 분리한 뒤 농축하여 흡착시켰다. MC:HEX=1:6으로 패킹하여 컬럼정제 후 농축한 다음, MeOH에 교반한 고체를 filer하여 흰색 결정의 화합물 A-3를 얻었다. (7.67g, 65%)
상기 제조예 4에서 상기 B-3 대신 하기 표 4의 B-3으로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고, 상기 제조예 4의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 하기 표 4의 A-3으로 표시되는 화합물을 합성하였다.
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제조예
5> 화합물 D의 제조
일구의 라운드 바텀 플라스크(One neck r.b.f) 에 2-브로모-4,4'-바이디벤조퓨란(2-bromo-4,4'-bidibenzofuran)[A](3g, 1.0eq/7.26mmol), (9-페닐-9H-카바졸-3-일)보론산((9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)boronic acid) (2.29g, 1.1eq/7.99mmol), Pd(PPh3)4 (0.42g, 0.05eq/0.36mmol), K2CO3(6.84g,3.0eq/49.50mmol)을 1,4-dioxane/H2O(4:1) 혼합용액 40ml에 넣고 4시간 환류하였다. 반응이 완결 된 후 반응물을 필터(filter)하여 고체를 걸러낸 다음, CHCl3에 녹여 실리카 필터 하였다. 농축 후 톨루엔(Toluene)에 가열하여 과포화 시킨 후 천천히 냉각하였다. 이후 생성된 결정을 여과하여 흰색 고체의 목적 화합물 D를 얻었다. (2.72g, 65%)
상기 제조예 5에서 상기 A 대신 상기 표 2 내지 4의 A-1, A-2 및 A-3로의 표시되는 화합물을 사용하고, 상기 제조예 5에서 상기 C 대신 하기 표 5에서 C-1로 표시되는 화합물을 사용한 것을 제외하고, 상기 제조예 5의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 하기 표 5의 D로 표시되는 목적 화합물을 합성하였다.
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제조예
6> 화합물 3-6 합성
1) 화합물 3-6의 제조
5-페닐-5,7-다이하이드로인돌로[2,3-b]카바졸 6.0g(18.05mM), 4-브로모-1,1';4',1"-터페닐 6.7g(21.66mM), Pd2(dba)3 0.824g(0.90mM), Sphos 0.74g(1.80mM), t-BuONa 3.47g(36.10mM), 1,4-옥산 60mL에 녹인 후 24시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고, 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 DCB 100ml에 녹여 실리카겔에 여과하여 정제하였고, 메탄올로 재결정하여 목적화합물 3-6 8.6g(85%)을 얻었다.
상기 제조예 6에서 4-브로모-1,1';4',1"-터페닐 대신 하기 표 6의 중간체 A-1을 사용하고 5-페닐-5,7-다이하이드로인돌로[2,3-b]카바졸 대신 하기 표 6의 중간체 B-1을 사용하여, 제조예 6의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 목적화합물 A을 합성하였다.
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제조예
7> 화합물 3-
79합성
1) 화합물 3-79-2의 제조
2-클로로-7-페닐-5,7-다이하이드로인돌로[2,3-b]카바졸 7.0g(19.08mM), 아이오도벤젠 4.28g(20.99mM), Pd2(dba)3 0.873g(0.95mM), (t-Bu)3P 0.58g(2.86mM), t-BuONa 3.67g(38.16mM), 톨루엔 70mL에 녹인 후 4시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고, 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 MC/HEX 컬럼 정제 후 회전 증발기로 용매를 제거하여 목적화합물 3-79-2 6.93g (82%)을 얻었다.
상기 제조예 7의 화합물 3-79-2의 제조에서, 2-클로로-7-페닐-5,7-다이하이드로인돌로[2,3-b]카바졸 대신 하기 표 7의 중간체 C-3을 사용한 것을 제외하고 상기 제조예 7의 화합물 3-79-2의 제조의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 목적화합물 C-2를 합성하였다.
2) 화합물 3-79-1의 제조
2-클로로-5,7-다이페닐-5,7-다이하이드로인돌로[2,3-b]카바졸 6.93g(15.65mM), 비스피나콜라토다이보레인 5.96g(23.47mM), Pd2(dba)3 1.43g(1.56mM), XPhos 1.49g(3.13mM), KOAc 4.61g(46.94mM), 1,4-옥산 70mL에 녹인 후 5시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고, 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 MC/HEX 컬럼정제하였고, 여액을 감압농축하여 목적화합물 3-79-1 6.8g(81%)을 얻었다.
상기 제조예 7의 화합물 3-79-1의 제조에서 2-클로로-5,7-다이페닐-5,7-다이하이드로인돌로[2,3-b]카바졸 대신 하기 표 8의 중간체 C-2을 사용한 것을 제외하고, 상기 제조예 7의 화합물 3-79-1의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 목적화합물 C-1을 합성하였다.
3) 화합물 3-79의 제조
5,7-다이페닐-2-(4,4,5,5-테트라메틸-1,3,2-다이옥사보레닐)-5,7-다이하이드로인돌로[2,3-b]카바졸 6.8g(12.72mM), 3-브로모-9-페닐-카바졸 4.51g(14.00mM), Pd(PPh3)4 0.74g(0.64mM), K2CO3 3.52g(25.45mM), 톨루엔 70mL/에탄올 15mL/물 15mL에 녹인 후 4시간 환류하였다. 반응이 완결된 후 실온에서 증류수와 DCM을 넣고 추출하였고, 유기층은 MgSO4로 건조시킨 후 회전 증발기로 용매를 제거하였다. 반응물은 MC/HEX 컬럼정제하였고, 여액을 감압농축하여 목적화합물 3-79 6.61g(80%)을 얻었다.
상기 제조예 7의 화합물 3-79의 제조에서, 5,7-다이페닐-2-(4,4,5,5-테트라메틸-1,3,2-다이옥사보레닐)-5,7-다이하이드로인돌로[2,3-b]카바졸 대신 하기 표 9의 중간체 C-1을, 3-브로모-9-페닐-카바졸 대신 중간체 D-1을 사용한 것을 제외하고 상기 제조예 7의 화합물 3-79의 제조와 동일한 방법으로 제조하여 목적화합물 C를 합성하였다.
상기 제조예 이외의 상기 화학식 1의 헤테로고리 화합물, 상기 화학식 2의 헤테로고리 화합물 및 상기 화학식 3의 헤테로고리 화합물도 마찬가지로 제조하였다. 상기에서 제조된 화합물들의 합성 확인자료는 하기 [표 10] 내지 [표 13]에 기재한 바와 같다.
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실험예
1> 유기 발광 소자의 제작
1,500Å의 두께로 인듐틴옥사이드(ITO, Indiumtinoxide)가 박막 코팅된 유리 기판을 증류수 초음파로 세척하였다. 증류수 세척이 끝나면 아세톤, 메탄올, 이소프로필 알코올 등의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 UV(ultraviolet) 세정기에서 UV를 이용하여 5분간 UVO(ultravioletozone) 처리하였다. 이후 기판을 플라즈마 세정기(PT)로 이송시킨 후, 진공상태에서 ITO 일함수 및 잔막 제거를 위해 플라즈마 처리를 하여, 유기증착용 열증착 장비로 이송하였다.
상기 ITO 투명 전극(양극)위에 공통층인 정공 주입층 2-TNATA(4,4',4"-Tris[2-naphthyl(phenyl)amino]triphenylamine) 및 정공 수송층 NPB(N,N'-Di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-(1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine)을 형성시켰다.
그 위에 발광층을 다음과 같이 열 진공 증착시켰다. 발광층은 호스트로 하기 표 14와 같이 화학식 1에 기재된 화합물 한 종과 화학식 2 또는 화학식 3에 기재된 화합물 한 종을 예비 혼합 후 하나의 공원에서 400Å 증착하였고 녹색 인광 도펀트는 Ir(ppy)3를 7% 도핑하여 증착하였다. 이후 정공 저지층으로 BCP를 60Å 증착하였으며, 그 위에 전자 수송층으로 Alq3 를 200Å 증착하였다. 마지막으로 전자 수송층 위에 리튬 플루오라이드(lithium fluoride: LiF)를 10Å 두께로 증착하여 전자 주입층을 형성한 후, 전자 주입층 위에 알루미늄(Al) 음극을 1,200Å의 두께로 증착하여 음극을 형성함으로써 유기 전계 발광 소자를 제조하였다.
한편, OLED 소자 제작에 필요한 모든 유기 화합물은 재료 별로 각각 10-6~10-8torr 하에서 진공 승화 정제하여 OLED 제작에 사용하였다.
본 발명의 유기 발광 소자는 호스트와 인광 도판트를 사용하는 발광층을 포함하고, 상기 호스트는 두 가지 이상의 화합물이 혼합된 호스트 화합물(p-n type)로 구성됨으로써, 종래의 단일 화합물로 이루어진 호스트 화합물을 포함하는 유기 발광 소자보다 우수한 수명 특성을 갖는 효과가 있다.
특히, 본 발명의 p-n type 호스트 경우 호스트의 비율을 조절하여 발광 특성을 증가시킬 수 있는 장점이 있는데, 이것은 정공 이동도가 좋은 P 호스트와, 전자 이동도가 좋은 n 호스트의 적절한 조합으로 이룰수 있는 결과이다.
또한, 본 발명에서는 복수 종의 화합물로 이루어진 발광 호스트는 화합물을 예비 혼합한 후, 하나의 증착 공급원으로 형성하여 증착하였다. 이 때, 여러 번의 증착을 시행하지 않으므로 박막의 균일함 및 박막 특성을 개선시킬 수 있으며, 공정과정을 간소화시키고 비용을 감소시키며 효율 및 수명이 개선된 소자를 형성할 수 있다.
특히, 상기 표 14의 비교예 8 내지 22는 본원의 화학식 1 내지 3에 해당되는 화합물을 단독으로 유기발광소자에 사용한 경우로, 본원 화학식 1과 본원 화학식 2 또는 본원 화학식 1과 본원 화학식 3에 해당되는 화합물을 동시에 유기발광소자에 사용한 경우보다, 효율이 좋지 못하며 특히, 수명이 좋지 않음을 확인할 수 있었다.
상기 표 14의 비교예 1 내지 7의 경우, 유기 발광 소자의 발광층으로 2 종의 헤테로고리를 사용하였으나, 본원 화학식 1의 헤테로고리 화합물에 해당하지 않는 화합물과 본원 화학식 2 또는 3의 헤테로고리 화합물을 사용한 경우(비교예 1 내지 3) 및 본원 화학식 1의 헤테로고리 화합물과 본원 화학식 2 또는 3의 헤테로고리 화합물에 해당하지 않는 경우(비교예 4 내지 7)의 비교예를 나타낸 것이다.
구체적으로, 상기 표 14의 비교예 1 및 2의 발광층으로 사용한 화합물과 같이 본원 화학식 1의 N-het의 치환기가 없는 경우에는, 전자이동도가 떨어져 발광층에서 정공과 전자의 균형이 깨져서 수명이 저하됨을 확인할 수 있었다.
상기 표 14의 비교예 3의 발광층으로 사용한 화합물과 같이 본원 화학식 1의 디벤조티오펜의 양쪽의 벤젠고리 각각에 카바졸 구조와 N-het로 구조가 각각 결합된 경우에는, HTU와 ETU간의 거리가 증가하여 charge transfer가 감소되고, 밴드갭(bang gap)이 증가하여 적절치 못한 HOMO, LUMO level을 형성됨을 확인할 수 있었다.
상기 표 14의 비교예 4 내지 7의 발광층으로 사용한 화합물과 같이 본원 화학식 1과 비스카바졸의 헤테로고리 화합물을 함께 유기 발광 소자에 사용하는 경우에는, 본원 화학식 2 또는 3의 화합물을 사용하는 경우에 비하여 정공 이동도가 낮아져 정공과 전자의 균형이 깨지고 수명이 저하됨을 확인할 수 있었다.
본원 화학식 2의 2-1 및 2-12 화합물은 디벤조퓨란의 4번 위치에 벤젠과 디벤조티오펜이 각각 결합되어 있음을 확인할 수 있다. 상기 2-12 화합물은 디벤조퓨란과 디벤조티오펜에 LUMO 오비탈이 비편재화 되어 있으며, 이것은 상기 2-1 화합물보다 전자를 효과적으로 안정화시킴을 확인할 수 있었다.
본원 화학식 3의 3-1, 3-77 및 3-79 화합물은 인돌로카바졸의 2번 위치에 수소, 벤젠, 카바졸이 각각 결합되어 있다. 상기 3-79 화합물은 인돌로카바졸의 2번 위치에 카바졸이 결합되어 HOMO 오비탈이 비편재화되어 정공을 효과적으로 안정화시킴을 확인할 수 있었다. 반면에 상기 3-77 화합물의 벤젠은 카바졸에 비해서 오비탈 비편재화가 작고 상기 3-1 화합물은 인돌로카바졸에만 편재화되어 있다. 또한 3-1, 3-77, 3-79 순서로 분자량이 증가하고 열적 안정성이 증가함을 확인할 수 있었다.
100: 기판
200: 양극
300: 유기물층
301: 정공 주입층
302: 정공 수송층
303: 발광층
304: 정공 저지층
305: 전자 수송층
306: 전자 주입층
400: 음극
200: 양극
300: 유기물층
301: 정공 주입층
302: 정공 수송층
303: 발광층
304: 정공 저지층
305: 전자 수송층
306: 전자 주입층
400: 음극
Claims (20)
- 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 구비된 1층 이상의 유기물층을 포함하는 유기 발광 소자로서,
상기 유기물층 중 1층 이상이 하기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 하기 화학식 2-1 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자:
[화학식 1]
[화학식 2-1]
[화학식 3]
상기 화학식 1, 2-1 및 3에 있어서,
L1 내지 L3은 직접 결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이고, a1, m 및 p는 1 내지 3의 정수이며, a1, m 및 p가 2 이상인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
R1 내지 R6, R10 내지 R19 및 R21 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하며, a3 및 r은 0 내지 2의 정수이고, a4는 0 내지 3의 정수이며, r, a3 및 a4가 2 이상인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
A1 및 A2는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 O; S; NRa; 또는 CRbRc이고,
상기 Ra, Rb 및 Rc는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 메틸기; 페닐기 및 트리페닐실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 나프틸기; 트리페닐레닐기; 디페닐플루오레닐기; 디메틸플루오레닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸기; 디벤조퓨란기; 또는 디벤조티오펜기이고,
다만, 상기 A1 및 A2가 모두 NRa인 경우 Ra는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기; 페닐기 및 트리페닐실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 나프틸기; 트리페닐레닐기; 디페닐플루오레닐기; 디메틸플루오레닐기; 디벤조퓨란기; 또는 디벤조티오펜기이거나, Ra는 서로 동일하고, 페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸기이고,
상기 A1 및 A2 중 하나만 NRa인 경우, Ra는 메틸기; 페닐기 및 트리페닐실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 나프틸기; 트리페닐레닐기; 디페닐플루오레닐기; 디메틸플루오레닐기; 디벤조퓨란기; 또는 디벤조티오펜기이며,
Ar1은 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 헤테로아릴기이며,
Ar3 및 Ar4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고, n, q 및 a2는 1 이상 5 이하의 정수이고, n, q 및 a2가 2 이상인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
Ar2는 하기 화학식 1-1 또는 1-2로 표시되며,
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
상기 화학식 1-1 및 1-2에 있어서,
Y1 내지 Y4는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 방향족 탄화수소 고리; 또는 치환 또는 비치환된 방향족 헤테로고리이고,
R7은 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택된다. - 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화학식 4 또는 5로 표시되는 것인 유기 발광 소자:
[화학식 4]
[화학식 5]
상기 화학식 4 및 5에 있어서,
R1 내지 R6, L1, L2, Ar1, p, m 및 n의 정의는 상기 화학식 1에서의 정의와 동일하고,
R52 내지 R54는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하고,
i는 0 내지 8의 정수이고,
j는 0 내지 7의 정수이다. - 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1-1은 하기 구조식 중 어느 하나로 표시되는 것인 유기 발광 소자:
상기 구조식에서 X1 내지 X6은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 NR38, S, O 또는 CR39R40이고,
R31 내지 R37은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하며,
a는 0 내지 8의 정수이고, b, c, d, e, f 및 g는 각각 독립적으로 0 내지 6의 정수이며, a, b, c, d, e, f 및 g가 2 이상의 정수인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
상기 R38 내지 R40은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다. - 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1-2는 하기 구조식 중 어느 하나로 표시되는 것인 유기 발광 소자:
상기 구조식에서 X7 내지 X12는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 NR49, S, O 또는 CR50R51이고,
R41 내지 R48은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하며,
h는 0 내지 7의 정수이고, h가 2 이상의 정수인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
상기 R49 내지 R51은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다. - 청구항 1에 있어서, 상기 Ar1은 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 C2 내지 C40의 헤테로아릴기인 것인 유기 발광 소자.
- 삭제
- 청구항 1에 있어서, 상기 Ar3는 치환 또는 비치환된 아릴기이거나, 하기 화학식 2-1-1 또는 2-1-2로 표시되는 것인 유기 발광 소자:
[화학식 2-1-1]
[화학식 2-1-2]
상기 화학식 2-1-1 및 2-1-2에 있어서,
R61 내지 R68은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하고,
A4은 O; S; 또는 NR69이며,
R69는 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이다. - 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 3은 하기 화학식 3-7 내지 3-9 중 어느 하나로 표시되는 것인 유기 발광 소자:
[화학식 3-7]
[화학식 3-8]
[화학식 3-9]
상기 화학식 3-7 내지 3-9에 있어서,
A1, A2, R21, 및 R24의 정의는 상기 화학식 3에서의 정의와 동일하고,
A3은 O; S; 또는 NRg이며,
R70 및 R71은 수소; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기이고, 적어도 하나는 치환 또는 비치환된 아릴기이며,
Rg, R72 및 R73은 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로, 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고,
o는 0 내지 3의 정수이고,
l은 0 내지 4의 정수이다. - 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 3의 R21 및 R24 내지 R29는 수소인 것인 유기 발광 소자.
- 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 1은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시되는 것인 유기 발광 소자:
- 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 2-1는 하기 화합물 중 어느 하나로 표시되는 것인 유기 발광 소자:
- 청구항 1에 있어서, 상기 화학식 3은 하기 화합물 중 어느 하나로 표시되는 것인 유기 발광 소자:
- 청구항 1에 있어서, 상기 유기물층은 정공 저지층, 전자 주입층 및 전자 수송층 중 적어도 한 층을 포함하고, 상기 정공 저지층, 전자 주입층 및 전자 수송층 중 적어도 한 층이 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2-1 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자.
- 청구항 1에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2-1 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자.
- 청구항 1에 있어서, 상기 유기물층은 발광층을 포함하고, 상기 발광층은 호스트 물질을 포함하며, 상기 호스트 물질은 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2-1 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자.
- 청구항 1에 있어서, 상기 유기 발광 소자는 발광층, 정공주입층, 정공수송층. 전자주입층, 전자수송층, 전자차단층 및 정공차단층으로 이루어진 군에서 선택되는 1층 또는 2층 이상을 더 포함하는 것인 유기 발광 소자.
- 하기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물; 및 하기 화학식 2-1 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물을 포함하는 것인 유기 발광 소자의 유기물층용 조성물:
[화학식 1]
[화학식 2-1]
[화학식 3]
상기 화학식 1, 2-1 및 3에 있어서,
L1 내지 L3은 직접 결합; 치환 또는 비치환된 아릴렌기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴렌기이고, a1, m 및 p는 1 내지 3의 정수이며, a1, m 및 p가 2 이상인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
R1 내지 R6, R10 내지 R19 및 R21 내지 R29는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택되거나, 서로 인접하는 2 이상의 기는 서로 결합하여 치환 또는 비치환된 지방족 또는 방향족 탄화수소 고리 또는 치환 또는 비치환된 헤테로 고리를 형성하며, a3 및 r은 0 내지 2의 정수이고, a4는 0 내지 3의 정수이며, r, a3 및 a4가 2 이상인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
A1 및 A2는 서로 같거나 상이하고 각각 독립적으로 O; S; NRa; 또는 CRbRc이고,
상기 Ra, Rb 및 Rc는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 메틸기; 페닐기 및 트리페닐실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 나프틸기; 트리페닐레닐기; 디페닐플루오레닐기; 디메틸플루오레닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸기; 디벤조퓨란기; 또는 디벤조티오펜기이고,
다만, 상기 A1 및 A2가 모두 NRa인 경우 Ra는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기; 페닐기 및 트리페닐실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 나프틸기; 트리페닐레닐기; 디페닐플루오레닐기; 디메틸플루오레닐기; 디벤조퓨란기; 또는 디벤조티오펜기이거나, Ra는 서로 동일하고, 페닐기로 치환 또는 비치환된 카바졸기이고,
상기 A1 및 A2 중 하나만 NRa인 경우, Ra는 메틸기; 페닐기 및 트리페닐실릴기로 이루어진 군에서 선택되는 1 이상의 치환기로 치환 또는 비치환된 페닐기; 페닐기로 치환 또는 비치환된 비페닐기; 나프틸기; 트리페닐레닐기; 디페닐플루오레닐기; 디메틸플루오레닐기; 디벤조퓨란기; 또는 디벤조티오펜기이며,
Ar1은 치환 또는 비치환되고, 적어도 하나의 N을 포함하는 헤테로아릴기이며,
Ar3 및 Ar4는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기이고, n, q 및 a2는 1 이상 5 이하의 정수이고, n, q 및 a2가 2 이상인 경우 괄호내 치환기는 서로 같거나 상이하고,
Ar2는 하기 화학식 1-1 또는 1-2로 표시되며,
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
상기 화학식 1-1 및 1-2에 있어서,
Y1 내지 Y4는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 방향족 탄화수소 고리; 또는 치환 또는 비치환된 방향족 헤테로고리이고,
R7은 수소; 중수소; 할로겐; 시아노기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 알키닐기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 헤테로시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 치환 또는 비치환된 헤테로아릴기; 치환 또는 비치환된 포스핀옥사이드기; 및 치환 또는 비치환된 아민기로 이루어진 군으로부터 선택된다. - 청구항 17에 있어서, 상기 조성물 내 상기 화학식 1로 표시되는 헤테로고리 화합물 : 상기 화학식 2-1 또는 상기 화학식 3으로 표시되는 헤테로고리 화합물의 중량비는 1 : 10 내지 10 : 1인 것인 유기 발광 소자의 유기물층용 조성물.
- 기판을 준비하는 단계;
상기 기판 상에 제1 전극을 형성하는 단계;
상기 제1 전극 상에 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계; 및
상기 유기물층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 유기물층을 형성하는 단계는 청구항 17에 따른 유기물층용 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계를 포함하는 것인 유기 발광 소자의 제조 방법. - 청구항 19에 있어서, 상기 유기물층을 형성하는 단계는 상기 화학식 1의 헤테로고리 화합물; 및 상기 화학식 2-1의 헤테로고리 화합물 또는 상기 화학식 3의 헤테로고리 화합물을 예비 혼합(pre-mixed)하여 열 진공 증착 방법을 이용하여 형성하는 것인 유기 발광 소자의 제조 방법.
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