KR102270918B1 - Antistatic surface-protective film - Google Patents

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타케시 나가쿠라
히로토 니이미
료 하세가와
히로유키 요시다
아키요 히시누마
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후지모리 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다. 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름(1)의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층(2)이 형성되고, 그 표면에, 박리제층(4)이 적층된 박리 필름(5)이 첩합되고, 박리제층(4)이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제를 포함한다.The present invention provides an antistatic surface protection film that has little contamination on an adherend, does not deteriorate over time, and has excellent peeling antistatic performance. On one side of the base film 1 made of a resin having transparency, (A) at least one of (meth)acrylic acid ester monomers having C4-C18 alkyl groups and copolymerizable monomers containing a carboxyl group are not included. , (B) consisting of an acrylic polymer of a copolymer containing at least one copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, further (C) a bifunctional or more functional isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, (E) keto A pressure-sensitive adhesive layer (2) made of a pressure-sensitive adhesive composition containing an enol tautomer compound is formed, a release film (5) having a release agent layer (4) laminated is bonded to the surface thereof, and a release agent layer (4) is dimethylpolysiloxane Contains a release agent and an antistatic agent containing as a main component.

Description

대전 방지 표면 보호 필름{ANTISTATIC SURFACE-PROTECTIVE FILM}Antistatic surface protection film {ANTISTATIC SURFACE-PROTECTIVE FILM}

본 발명은 점착제 조성물 및 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 대전 방지 성능을 구비한 대전 방지 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 피착체에 대한 오염성이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름의 제조 방법 및 대전 방지 표면 보호 필름을 제공하는 것이다.The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive composition and a surface protection film. More specifically, it relates to an antistatic surface protection film having antistatic performance. More specifically, it is to provide a method for producing an antistatic surface protection film and an antistatic surface protection film having little contamination to an adherend, which does not deteriorate over time, and has excellent peeling and antistatic performance.

편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름, 및 이를 사용한 디스플레이 등의 광학 제품을 제조, 반송할 때는 당해 광학용 필름의 표면에 표면 보호 필름을 첩합하여, 후공정에 있어서의 표면의 오염이나 흠집을 방지하는 것이 이루어지고 있다. 제품인 광학용 필름의 외관 검사는 표면 보호 필름을 박리하였다가 다시 첩합하는 수고를 덜고 작업 효율을 높이기 위해, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합한 상태로 행하는 경우도 있다.Optical films such as polarizing plates, retardation plates, display lens films, antireflection films, hard coat films, and transparent conductive films for touch panels, and optical products such as displays using the same are manufactured and transported on the surface of the optical film A surface protection film is pasted together, and preventing the surface contamination and a flaw in a post process is performed. The visual inspection of the optical film which is a product may be performed in the state which pasted the surface protection film to the film for optics in order to reduce the trouble of peeling and bonding a surface protection film again, and to raise work efficiency.

종래부터, 기재 필름의 한쪽 면에 점착제층을 형성한 표면 보호 필름이 광학 제품의 제조 공정에 있어서, 흠집이나 오염의 부착을 방지하기 위해 일반적으로 사용되고 있다. 표면 보호 필름은 미점착력의 점착제층을 개재하여 광학용 필름에 첩합된다. 점착제층을 미점착력으로 하는 것은 사용이 끝난 표면 보호 필름을 광학용 필름의 표면으로부터 박리하여 제거할 때 용이하게 박리할 수 있고, 또한 점착제가 피착체인 제품의 광학용 필름에 부착되어 잔류하지 않도록(이른바, 점착제 잔여물의 발생을 방지) 하기 위함이다.DESCRIPTION OF RELATED ART Conventionally, the surface protection film which formed the adhesive layer on one side of a base film WHEREIN: In the manufacturing process of an optical product, in order to prevent adhesion of a flaw or contamination, it is generally used. A surface protection film is bonded to the film for optics through the adhesive layer of non-adhesive force. The non-adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer enables easy peeling when peeling and removing the used surface protection film from the surface of the optical film, and prevents the adhesive from remaining attached to the optical film of the product as an adherend ( That is, to prevent the generation of the adhesive residue).

근래에는 액정 디스플레이 패널의 생산 공정에 있어서, 광학용 필름 위에 첩합된 표면 보호 필름을 박리하여 제거할 때 발생하는 박리 대전압에 의해, 액정 디스플레이 패널의 표시 화면을 제어하기 위한 드라이버 IC 등의 회로 부품이 파괴되는 현상이나, 액정 분자의 배향이 손상되는 현상이 발생 건수는 적으나 일어나고 있다.In recent years, in the production process of a liquid crystal display panel, circuit components, such as a driver IC for controlling the display screen of a liquid crystal display panel by the peeling electrification voltage which arises when peeling and removing the surface protection film bonded on the optical film. Although this phenomenon of destruction and the phenomenon in which the orientation of a liquid crystal molecule is impaired are few occurrences, it is occurring.

또한, 액정 디스플레이 패널의 소비 전력을 저감시키기 위해 액정 재료의 구동 전압이 낮아지고 있고, 이에 수반하여 드라이버 IC의 파괴 전압도 낮아지고 있다. 최근에는 박리 대전압을 +0.7㎸∼-0.7㎸ 범위 내로 하는 것이 요구되고 있다.Further, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is lowered, and accordingly, the breakdown voltage of the driver IC is also lowered. In recent years, it is calculated|required that the peeling electrification voltage shall be in the range of +0.7 kV - 0.7 kV.

이 때문에, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름으로부터 박리할 때에 박리 대전압이 높은 것에 의한 문제의 발생을 방지하기 위해, 박리 대전압을 낮게 억제하기 위한 대전 방지제를 포함하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름이 제안되고 있다.For this reason, when peeling a surface protection film from the optical film which is a to-be-adhered body, in order to prevent generation|occurrence|production of the problem by the high peeling electrification voltage, the surface protection using the adhesive layer containing the antistatic agent for suppressing the peeling electrification voltage low. A film is being proposed.

예를 들면, 특허문헌 1에는 알킬트리메틸암모늄염, 수산기 함유 아크릴계 폴리머, 폴리이소시아네이트로 이루어지는 점착제를 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a surface protection film using an adhesive composed of an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl group-containing acrylic polymer, and polyisocyanate.

또한, 특허문헌 2에는 이온성 액체와 산가가 1.0 이하인 아크릴 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물, 및 그것을 사용한 점착 시트류가 개시되어 있다.Further, Patent Document 2 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and pressure-sensitive adhesive sheets using the same.

또한, 특허문헌 3에는 아크릴 폴리머, 폴리에테르폴리올 화합물, 음이온 흡착성 화합물에 의해 처리된 알칼리 금속염으로 이루어지는 점착 조성물, 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.In addition, Patent Document 3 discloses an adhesive composition comprising an alkali metal salt treated with an acrylic polymer, a polyether polyol compound, and an anion-adsorbing compound, and a surface protection film using the same.

또한, 특허문헌 4에는 이온성 액체, 알칼리 금속염, 유리 전이 온도 0℃ 이하의 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물, 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.Moreover, the adhesive composition which consists of an ionic liquid, an alkali metal salt, and a polymer with a glass transition temperature of 0 degreeC or less in patent document 4, and the surface protection film using the are disclosed.

또한, 특허문헌 5, 6에는 표면 보호 필름의 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합하는 것이 개시되어 있다.Moreover, mixing polyether-modified silicone in the adhesive layer of a surface protection film is disclosed by patent document 5, 6.

일본 공개특허공보 2005-131957호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-131957 일본 공개특허공보 2005-330464호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-330464 일본 공개특허공보 2005-314476호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2005-314476 일본 공개특허공보 2006-152235호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-152235 일본 공개특허공보 2009-275128호Japanese Patent Laid-Open No. 2009-275128 일본 특허공보 제4537450호Japanese Patent Publication No. 4537450

상기 특허문헌 1∼4에서는 점착제층의 내부에 대전 방지제가 첨가되어 있으나, 점착제층의 두께가 두꺼워짐에 따라, 또한, 경과 시간이 지남에 따라, 표면 보호 필름이 첩합된 피착체에 대해서 점착제층에서 피착체로 이행되는 대전 방지제의 양이 많아진다. 또한, LR(Low Reflective) 편광판이나 AG(Anti Glare)-LR 편광판 등의 광학용 필름에서는 광학용 필름의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있기 때문에, 이러한 광학용 필름에 사용되는 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다.In Patent Documents 1 to 4, an antistatic agent is added to the inside of the pressure-sensitive adhesive layer, but as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer increases, and as time elapses, the pressure-sensitive adhesive layer is applied to the adherend to which the surface protection film is pasted. The amount of the antistatic agent transferred to the adherend increases. In addition, in optical films such as LR (Low Reflective) polarizing plates and AG (Anti Glare)-LR polarizing plates, the surface of the optical film is antifouling treated with a silicone compound or a fluorine compound. The peeling electrification voltage at the time of peeling a protective film from the optical film which is a to-be-adhered body becomes high.

또한, 특허문헌 5, 6에 기재된 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합했을 경우에는 표면 보호 필름의 점착력을 미조정하는 것이 곤란하다. 또한, 점착제층 내에, 폴리에테르 변성 실리콘이 혼합되어 있기 때문에, 점착제 조성물을 기재 필름 위에 도공·건조시키는 조건이 변화하면, 표면 보호 필름이 형성된 점착제층의 표면 특성이 미묘하게 변화한다. 또한, 광학용 필름의 표면을 보호한다는 관점에서, 점착제층의 두께를 극단적으로 얇게 할 수 없다. 이 때문에, 점착제층의 두께에 따라, 점착제층 내에 혼합하는 폴리에테르 변성 실리콘의 첨가량을 늘릴 필요가 있어, 결과적으로, 피착체 표면을 오염시키기 쉬워져, 경시에서의 점착력이나 피착체에 대한 오염성이 변화한다.Moreover, when polyether-modified silicone is mixed in the adhesive layer of patent documents 5 and 6, it is difficult to fine-tune the adhesive force of a surface protection film. In addition, since polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, when the conditions for coating and drying the pressure-sensitive adhesive composition on the base film change, the surface properties of the pressure-sensitive adhesive layer with the surface protection film are delicately changed. Moreover, from a viewpoint of protecting the surface of the film for optics, the thickness of an adhesive layer cannot be made extremely thin. For this reason, it is necessary to increase the amount of polyether-modified silicone to be mixed in the pressure-sensitive adhesive layer according to the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer. change

근래에는 3D 디스플레이(입체시 디스플레이)의 보급에 수반하여, 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 FPR(Film Patterned Retarder) 필름을 첩합한 것이 있다. 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 첩합되어 있던 표면 보호 필름을 박리한 후에 FPR 필름이 첩합된다. 그러나, 편광판 등의 광학용 필름의 표면이 표면 보호 필름에 사용되고 있는 점착제나 대전 방지제로 오염되어 있으면, FPR 필름이 접착되기 어렵다는 문제가 있다. 이 때문에, 당해 용도에 사용하는 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적은 것이 요구되고 있다.In recent years, with the spread of 3D displays (stereoscopic display), there exists a thing which bonded FPR(Film Patterned Retarder) film on the surface of films for optics, such as a polarizing plate. After peeling the surface protection film pasted on the surface of films for optics, such as a polarizing plate, an FPR film is pasted together. However, when the surface of optical films, such as a polarizing plate, is contaminated with the adhesive and antistatic agent used for a surface protection film, there exists a problem that an FPR film is hard to adhere|attach. For this reason, it is calculated|required that there are few contaminations with respect to a to-be-adhered body as for the surface protection film used for the said use.

한편, 몇 군데의 액정 패널 메이커에서는 표면 보호 필름의 피착체에 대한 오염성의 평가 방법으로서 편광판 등의 광학용 필름에 첩합되어 있는 표면 보호 필름을 한 번 박리하고, 기포를 혼입시킨 상태로 재첩합한 것을 소정 조건에서 가열 처리한 후, 표면 보호 필름을 박리하여 피착체의 표면을 관찰하는 방법이 채용되고 있다. 이러한 평가 방법에서는 피착체의 표면 오염이 미량이어도, 기포를 혼입시킨 부분과 표면 보호 필름의 점착제가 접하고 있던 부분에 피착체의 표면 오염의 차이가 있으면, 기포의 흔적(기포 얼룩이라고 하는 경우도 있다)으로서 남는다. 이 때문에, 피착체의 표면에 대한 오염성의 평가 방법으로는 매우 엄격한 평가 방법이 된다. 근래에는 이러한 엄격한 평가 방법에 의한 판정 결과여도 피착체의 표면에 대한 오염성에 문제가 없는 표면 보호 필름이 요구되고 있다. 그러나, 종래부터 제안되고 있는 대전 방지제를 함유하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름은 당해 과제를 해결하는 것이 곤란한 상황이었다.On the other hand, in some liquid crystal panel manufacturers, as a method for evaluating the staining property of a surface protection film to an adherend, the surface protection film pasted to an optical film such as a polarizing plate is peeled once and re-bonded in a state in which air bubbles are mixed. After heat-processing under predetermined conditions, the method of peeling a surface protection film and observing the surface of a to-be-adhered body is employ|adopted. In this evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is very small, if there is a difference in the surface contamination of the adherend between the part where bubbles are mixed and the part where the pressure-sensitive adhesive of the surface protection film is in contact, there is a trace of bubbles (it is sometimes called bubble unevenness) ) remains as For this reason, it becomes a very strict evaluation method as an evaluation method of the contamination with respect to the surface of a to-be-adhered body. In recent years, there has been a demand for a surface protection film that does not have a problem in contamination on the surface of an adherend even as a result of judgment by such a strict evaluation method. However, it was a difficult situation for the surface protection film using the adhesive layer containing the antistatic agent proposed conventionally to solve the said subject.

이 때문에, 광학용 필름에 사용하는 표면 보호 필름으로서, 피착체에 대한 오염이 매우 적고, 또한, 피착체에 대한 오염성이 경시 변화되지 않는 것이 필요로 되고 있다. 또한, 피착체로부터 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제한 표면 보호 필름이 요구되고 있다.For this reason, as a surface protection film used for the film for optics, there is very little contamination with respect to a to-be-adhered body, and it is required that the contamination with respect to a to-be-adhered body does not change with time. Moreover, the surface protection film which suppressed the peeling electrification voltage at the time of peeling from a to-be-adhered body low is calculated|required.

본 발명자들은 이 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 행하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventors earnestly examined in order to solve this subject.

피착체에 대한 오염이 적고, 또한 대전 방지 성능의 경시 변화도 작게 하기 위해서는 피착체를 오염시키고 있는 원인으로 추측되는 대전 방지제의 첨가량을 감량시킬 필요가 있다. 그러나, 대전 방지제의 첨가량을 감량시켰을 경우에는 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다. 본 발명자들은 대전 방지제의 첨가량의 절대량을 증가시키지 않으며, 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의, 박리 대전압을 낮게 억제하는 방법에 대해 검토하였다. 그 결과, 점착제 조성물 내에 대전 방지제를 첨가하고 혼합하여 점착제층을 형성하는 것이 아니라, 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제 성분을 부여함으로써, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.In order to reduce the amount of contamination on the adherend and also to reduce the change in antistatic performance over time, it is necessary to reduce the amount of the antistatic agent added, which is presumed to be the cause of contamination of the adherend. However, when the addition amount of an antistatic agent is reduced, the peeling electrification voltage at the time of peeling a surface protection film from a to-be-adhered body becomes high. The present inventors investigated the method of suppressing the peeling electrification voltage low at the time of peeling a surface protection film from a to-be-adhered body without increasing the absolute amount of the addition amount of an antistatic agent. As a result, instead of adding and mixing an antistatic agent in the pressure-sensitive adhesive composition to form a pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive composition is coated and dried to laminate the pressure-sensitive adhesive layer, and then an appropriate amount of an antistatic agent component is applied to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer to protect the surface. It discovered that the peeling electrification voltage at the time of peeling a film from the optical film which is a to-be-adhered body can be suppressed low, and completed this invention.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an antistatic surface protection film having little contamination to an adherend, not deteriorated with time, and having excellent peeling and antistatic performance.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에, 그 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제를 부여함으로써, 피착체에 대한 오염성을 낮게 억제하면서, 피착체인 광학용 필름으로부터 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제하는 것을 기술 사상으로 하고 있다.In order to solve the above problems, the antistatic surface protection film of the present invention is coated and dried with an adhesive composition to laminate an adhesive layer, and then an appropriate amount of an antistatic agent is applied to the surface of the adhesive layer. It is making it a technical idea to suppress low the peeling electrification voltage at the time of peeling from the optical film which is a to-be-adhered body, suppressing low.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 대전 방지 표면 보호 필름으로서, 다음의 공정(1)∼(2), In order to solve the above problems, the present invention provides an antistatic surface protection film, the following steps (1) to (2),

공정(1): 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층을 형성하는 공정과,Step (1): on one side of a base film made of a resin having transparency, (A) at least one of (meth)acrylic acid ester monomers having C4-C18 alkyl groups and a carboxyl group as a monomer group copolymerizable with It does not contain a copolymerizable monomer, but (B) consists of an acrylic polymer of a copolymer containing at least one type of copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and further (C) a bifunctional or more functional isocyanate compound, (D) crosslinking A step of forming a pressure-sensitive adhesive layer comprising an accelerator and (E) a pressure-sensitive adhesive composition containing a ketoenol tautomer compound;

공정(2): 상기 점착제층의 표면에, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름을, 상기 박리제층을 개재하여 첩합하는 공정을 순서대로 거쳐 제작되어 이루어지고, 상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지고, 점착제층의 박리 대전압이 ±0.6㎸ 이하인 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다.Step (2): A release film in which a release agent layer containing an antistatic agent is laminated on one surface of a resin film on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is laminated through the release agent layer in order through a step of bonding, The release agent layer is made of a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and a resin composition containing an antistatic agent, and provides an antistatic surface protection film, characterized in that the peeling electrification voltage of the pressure-sensitive adhesive layer is ±0.6 kV or less .

또한, 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to contain (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer further as said copolymerizable monomer group.

또한, 상기 (D) 가교 촉진제가 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.001∼0.5중량부를 함유하여 이루어지고, 상기 (E) 케토엔올 호변이성체 화합물 0.1∼300중량부를 함유하여 이루어지고, (E)/(D)의 중량부 비율이 70∼1000인 것이 바람직하다.In addition, the (D) crosslinking accelerator is at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound, and contains 0.001 to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. and 0.1 to 300 parts by weight of the (E) ketoenol tautomer compound, and the ratio by weight of (E)/(D) is preferably 70 to 1000.

또한, 상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.In addition, (B) the copolymerizable monomer containing a hydroxyl group is 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy At least one selected from the group consisting of hydroxyethyl (meth) acrylate, N-hydroxy (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth) acrylamide; , It is preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer.

또한, 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함하거나 또는 포함하지 않고, 상기 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0∼50중량부인 것이 바람직하다.In addition, as the copolymerizable monomer group, (F) with or without a polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer, the (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer is a poly At least one selected from alkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxy polyalkylene glycol (meth) acrylate, and ethoxy polyalkylene glycol (meth) acrylate, 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer It is preferable that it is 0-50 weight part with respect to it.

또한, 상기 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로서 2관능 이소시아네이트 화합물로는, 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물이고, 디이소시아네이트 화합물로는 지방족 디이소시아네이트로서, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종과, 디올 화합물로는, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올모노히드록시피발레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종으로 이루어지고, 3관능 이소시아네이트 화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체로 이루어지고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.In addition, as the (C) bifunctional isocyanate compound, the bifunctional isocyanate compound is an acyclic aliphatic isocyanate compound, a compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound, and the diisocyanate compound is an aliphatic diisocyanate compound, One selected from the group of compounds consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate, and the diol compound includes 2-methyl-1,3-propanediol; 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5 - Consists of one selected from the group consisting of pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol, and polypropylene glycol, and the trifunctional isocyanate compound is hexamethylene di The isocyanurate body of the isocyanate compound, the isocyanurate body of the isophorone diisocyanate compound, the adduct body of the hexamethylene diisocyanate compound, the adduct body of the isophorone diisocyanate compound, the biuret body of the hexamethylene diisocyanate compound, Biuret form of isophorone diisocyanate compound, isocyanurate form of tolylene diisocyanate compound, isocyanurate form of xylylene diisocyanate compound, isocyanurate form of hydrogenated xylylene diisocyanate compound, and tolylene diisocyanate compound It consists of an adduct body, the adduct body of a xylylene diisocyanate compound, and the adduct body of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound, It is preferable that it is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of acrylic polymers of the said copolymer.

또한, 상기 점착제 조성물에 (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 1.0중량부 이하(0중량부의 경우를 제외한다) 포함하는 것이 바람직하다.In addition, in the pressure-sensitive adhesive composition (G) the polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15, 1.0 parts by weight or less (excluding the case of 0 parts by weight) based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. desirable.

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the antistatic agent in the said release agent layer is an alkali metal salt.

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 Li염이고, Li(CF3SO2)2N, Li(FSO2)2N, LiCF3SO3으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the antistatic agent in the release agent layer is a Li salt, and at least one selected from the group consisting of Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(FSO 2 ) 2 N, and LiCF 3 SO 3 .

또한, 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층이 형성되어 이루어지고, 상기 점착제층의 표면에, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름이 상기 박리제층을 개재하여 첩합하여 이루어지고, 상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다.In addition, in order to solve the above problem, the present invention is copolymerizable with (A) at least one (meth)acrylic acid ester monomer having C4 to C18 carbon atoms in the alkyl group on one side of a base film made of a resin having transparency. It does not contain a copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a monomer group, but (B) consists of an acrylic polymer of a copolymer containing at least one copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and further (C) a bifunctional or more isocyanate A pressure-sensitive adhesive layer comprising a pressure-sensitive adhesive composition containing a compound, (D) a crosslinking accelerator, and (E) a ketoenol tautomer compound is formed, and an antistatic agent is applied to one side of the resin film on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. A release film comprising a release agent layer laminated thereon is bonded through the release agent layer, and the release agent layer is formed of a resin composition containing a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and an antistatic agent. Provides an anti-surface protective film.

또한, 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to contain (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer further as said copolymerizable monomer group.

또한, 상기 점착제 조성물에, (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 1.0중량부 이하(0중량부의 경우를 제외한다) 포함하는 것이 바람직하다.In addition, in the pressure-sensitive adhesive composition, (G) a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15, 1.0 parts by weight or less (excluding the case of 0 parts by weight) based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. it is preferable

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the antistatic agent in the said release agent layer is an alkali metal salt.

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 Li염이고, Li(CF3SO2)2N, Li(FSO2)2N, LiCF3SO3으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the antistatic agent in the release agent layer is a Li salt, and at least one selected from the group consisting of Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(FSO 2 ) 2 N, and LiCF 3 SO 3 .

또한, 본 발명은 상기 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학용 필름을 제공한다.Moreover, this invention provides the film for optics in which the said antistatic surface protection film is pasted together.

또한, 본 발명은 상기 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품을 제공한다.Moreover, this invention provides the optical component by which the said antistatic surface protection film is pasted together.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적고, 피착체에 대한 저오염성이 경시 변화하지 않는다. 또한, 본 발명에 의하면, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의, 피착체의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있는 광학용 필름이어도, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때에 발생하는 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있고, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공할 수 있다.The antistatic surface protection film of the present invention has little contamination on the adherend, and the low contamination on the adherend does not change over time. Further, according to the present invention, even when the surface of an adherend, such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate, is an optical film in which the surface of the adherend is antifouling treated with a silicone compound or a fluorine compound, etc., when the antistatic surface protection film is peeled from the adherend It is possible to provide an antistatic surface protection film that can suppress the generated peeling electrification voltage low, does not deteriorate over time, and has excellent peeling antistatic performance.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름에 의하면, 광학용 필름의 표면을 확실히 보호할 수 있는 점에서 생산성의 향상과 수율의 향상을 도모할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the antistatic surface protection film of this invention, the improvement of productivity and the improvement of a yield can be aimed at at the point which can protect the surface of an optical film reliably.

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름으로부터, 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예의 하나를 나타낸 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing the concept of the antistatic surface protection film of the present invention.
It is sectional drawing which shows the state which peeled the peeling film from the antistatic surface protection film of this invention.
3 is a cross-sectional view showing one embodiment of the optical component of the present invention.

이하, 실시형태에 기초하여, 본 발명을 자세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail based on embodiment.

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다. 이 대전 방지 표면 보호 필름(10)은 투명한 기재 필름(1)의 한쪽 면의 표면에, 점착제층(2)이 형성되어 있다. 이 점착제층(2)의 표면에는 수지 필름(3)의 표면에 박리제층(4)이 형성된 박리 필름(5)이 첩합되어 있다.1 is a cross-sectional view showing the concept of the antistatic surface protection film of the present invention. As for this antistatic surface protection film 10, the adhesive layer 2 is formed in the surface of one side of the transparent base film 1. The release film 5 in which the release agent layer 4 was formed in the surface of the resin film 3 is pasted together on the surface of this adhesive layer 2 .

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)으로는 투명성 및 가요성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름이 사용된다. 이로써, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체인 광학 부품에 첩합한 상태로, 광학 부품의 외관 검사를 행할 수 있다. 기재 필름(1)으로서 사용하는 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 필름은 바람직하게는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름이 사용된다. 폴리에스테르 필름 외에, 필요한 강도를 갖고, 또한 광학 적성을 갖는 것이면, 다른 수지로 이루어지는 필름도 사용 가능하다. 기재 필름(1)은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정값으로 제어해도 된다.As the base film 1 used for the antistatic surface protection film 10 according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. Thereby, the external appearance inspection of an optical component can be performed in the state which bonded the antistatic surface protection film to the optical component which is a to-be-adhered body. As for the film which consists of resin which has transparency used as the base film 1, Preferably, polyester films, such as a polyethylene terephthalate, a polyethylene naphthalate, a polyethylene isophthalate, and a polybutylene terephthalate, are used. In addition to the polyester film, a film made of another resin can be used as long as it has a required strength and has optical aptitude. An unstretched film may be sufficient as the base film 1, and the uniaxially or biaxially stretched film may be sufficient as it. Moreover, you may control the orientation angle of the axial method formed with the draw ratio of a stretched film and crystallization of a stretched film to a specific value.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉽고, 보다 바람직하다.Although the thickness of the base film 1 used for the antistatic surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited, for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferable, and a thickness of about 20 to 50 μm. It is easy to handle, and it is more preferable.

또한, 필요에 따라, 기재 필름(1)의 점착제층(2)이 형성된 면의 반대측의 면에, 표면의 오염을 방지하는 방오층, 대전 방지층, 흠집 방지 하드 코트층 등을 형성할 수 있다. 또한, 기재 필름(1)의 표면에 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.In addition, an antifouling layer for preventing surface contamination, an antistatic layer, a scratch preventing hard coat layer, etc. may be formed on the surface opposite to the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed of the base film 1 as needed. Moreover, you may give easily adhesion processing, such as surface modification by corona discharge and application|coating of an anchor coat agent, to the surface of the base film 1.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)은 피착체의 표면에 접착하고, 사용이 끝난 후에 간단히 박리시키고, 또한, 피착체를 오염시키기 어려운 점착제이면 특별히 한정되지 않지만, 광학용 필름에 첩합 후의 내구성 등을 고려하면 (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 일반적이다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention adheres to the surface of the adherend, is easily peeled off after use, and is particularly difficult to contaminate the adherend. Although not limited, when the durability after bonding to the film for optics, etc. are considered, it is common to use the acrylic adhesive formed by bridge|crosslinking a (meth)acrylate copolymer.

특히, 아크릴계 점착제의 주제가 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지는 점착제층이 바람직하다.In particular, the main ingredient of the acrylic pressure-sensitive adhesive does not contain a copolymerizable monomer containing (A) at least one (meth)acrylic acid ester monomer having an alkyl group having C4-C18 carbon atoms and a carboxyl group as a copolymerizable monomer group, but (B) a hydroxyl group A pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic polymer of a copolymer containing at least one copolymerizable monomer containing

상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함할 수 있다.As the copolymerizable monomer group, it may further include (F) polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer.

또한, 상기 아크릴계 폴리머에 첨가하여, (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층이 바람직하다.Further, the pressure-sensitive adhesive layer comprising a pressure-sensitive adhesive composition containing (C) a bifunctional or more functional isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, and (E) a ketoenol tautomer compound in addition to the acrylic polymer is preferred.

(A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 운데실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 트리데실(메타)아크릴레이트, 테트라데실(메타)아크릴레이트, 펜타데실(메타)아크릴레이트, 헥사데실(메타)아크릴레이트, 헵타데실(메타)아크릴레이트, 옥타데실(메타)아크릴레이트, 미리스틸(메타)아크릴레이트, 이소미리스틸(메타)아크릴레이트, 세틸(메타)아크릴레이트, 이소세틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.(A) Examples of (meth)acrylic acid ester monomers having C4 to C18 alkyl group carbon atoms include butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate , hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, myristyl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, iso Cetyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, etc. are mentioned.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머를 50∼95중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다.When the total of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable to contain (A) the (meth)acrylic acid ester monomer having C4-C18 carbon atoms in the alkyl group in a proportion of 50 to 95 parts by weight.

(B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머로는, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류나, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 수산기 함유 (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.(B) Examples of the hydroxyl group-containing copolymerizable monomer include 8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy Hydroxyalkyl (meth)acrylates, such as ethyl (meth)acrylate, N-hydroxy (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, N-hydroxyethyl (meth)acrylamide, etc. and hydroxyl group-containing (meth)acrylamides.

8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.8-hydroxyoctyl (meth) acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, N-hydroxy (meth) ) It is preferable that it is at least 1 sort(s) selected from the compound group which consists of acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth)acrylamide.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, 상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 0.1∼10중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다.When the sum total of the acrylic polymer of a copolymer is 100 weight part, it is preferable to contain the said (B) hydroxyl-containing copolymerizable monomer in the ratio of 0.1-10 weight part.

(C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로는, 1분자 중에 적어도 2개 이상의 이소시아네이트(NCO)기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물로부터 선택되는, 적어도 1종 또는 2종 이상이면 된다. 폴리이소시아네이트 화합물에는 지방족계 이소시아네이트, 방향족계 이소시아네이트, 비고리형계 이소시아네이트, 지환식계 이소시아네이트 등의 분류가 있지만, 어느 것이어도 된다. 폴리이소시아네이트 화합물의 구체예로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트(TMDI) 등의 지방족계 이소시아네이트 화합물이나, 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 수첨 자일릴렌디이소시아네이트(H6XDI), 디메틸디페닐렌디이소시아네이트(TOID), 톨릴렌디이소시아네이트(TDI) 등의 방향족계 이소시아네이트 화합물을 들 수 있다.(C) What is necessary is just to be at least 1 type or 2 or more types chosen from the polyisocyanate compound which has at least 2 or more isocyanate (NCO) groups in 1 molecule as a bifunctional or more than isocyanate compound. Although there exist classifications, such as an aliphatic type isocyanate, an aromatic type isocyanate, an acyclic type isocyanate, and an alicyclic type isocyanate, a polyisocyanate compound may be any. Specific examples of the polyisocyanate compound include aliphatic isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), and aromatic isocyanate compounds such as xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate (H6XDI), dimethyl diphenylene diisocyanate (TOID), and tolylene diisocyanate (TDI).

3관능 이상의 이소시아네이트 화합물로는, 2관능 이소시아네이트 화합물(1분자 중에 2개의 NCO기를 갖는 화합물)의 뷰렛 변성체나 이소시아누레이트 변성체, 트리메틸올프로판(TMP)이나 글리세린 등의 3가 이상의 폴리올(1분자 중에 적어도 3개 이상의 OH기를 갖는 화합물)과의 어덕트체(폴리올 변성체) 등을 들 수 있다.As the trifunctional or more functional isocyanate compound, a bifunctional isocyanate compound (a compound having two NCO groups in one molecule) of a burette-modified product or an isocyanurate-modified product, trimethylolpropane (TMP) or a polyol (1) having more than trivalence, such as glycerin Adduct body (polyol modified body) etc. with the compound which has at least 3 or more OH groups in a molecule|numerator) are mentioned.

(C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로서 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물만, 또는 (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물만을 사용하는 것도 가능하다. 또한, (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물과, (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물을 병용하는 것도 가능하다.(C) It is also possible to use only the (C-1) trifunctional isocyanate compound or only the (C-2) bifunctional isocyanate compound as a bifunctional or more than bifunctional isocyanate compound. Moreover, it is also possible to use together the (C-1) trifunctional isocyanate compound and the (C-2) bifunctional isocyanate compound.

또한, 본 발명에 사용하는 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체로 이루어지는, (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체로 이루어지는, (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군과 (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군을 병용하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물로서 (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 병용함으로써, 저속 박리 영역 및 고속 박리 영역의 점착력 밸런스를 더욱 개선할 수 있다.In addition, as (C-1) trifunctional isocyanate compound used for this invention, the isocyanurate form of a hexamethylene diisocyanate compound, the isocyanurate form of an isophorone diisocyanate compound, and a hexamethylene diisocyanate compound At least one selected from the group of (C-1-1) first aliphatic isocyanate compounds, comprising a duct body, an adduct body of an isophorone diisocyanate compound, a biuret body of a hexamethylene diisocyanate compound, and a biuret body of an isophorone diisocyanate compound More than one species, the isocyanurate form of a tolylene diisocyanate compound, the isocyanurate form of the xylylene diisocyanate compound, the isocyanurate form of the hydrogenated xylylene diisocyanate compound, the adduct form of the tolylene diisocyanate compound, xyl It is preferable to contain at least one or more selected from the group of (C-1-2) second aromatic isocyanate compounds comprising an adduct body of a lylene diisocyanate compound and an adduct body of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound. (C-1-1) It is preferable to use together the 1st aliphatic isocyanate compound group and (C-1-2) 2nd aromatic isocyanate compound group. In the present invention, as the (C-1) trifunctional isocyanate compound, (C-1-1) at least one selected from the first aliphatic isocyanate compound group and (C-1-2) from the second aromatic isocyanate compound group By using together the selected at least 1 sort(s), the adhesive force balance of a low-speed peeling area|region and a high-speed peeling area|region can further be improved.

또한, (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물은 상기 (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, 상기 (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 포함하고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 합계하여 0.5∼5.0중량부 포함되는 것이 바람직하다. 또한, (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상의 혼합 비율은 (C-1-1):(C-1-2)가 중량비로 10%:90%∼90%:10%의 범위 내인 것이 바람직하다.In addition, the (C-1) trifunctional isocyanate compound includes at least one selected from the group of (C-1-1) first aliphatic isocyanate compounds, and (C-1-2) the second group of aromatic isocyanate compounds. Including at least one selected from among, it is preferable that 0.5 to 5.0 parts by weight in total are included with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. In addition, the mixing ratio of (C-1-1) at least one selected from the first aliphatic isocyanate compound group and (C-1-2) at least one selected from the second aromatic isocyanate compound group is (C- 1-1): (C-1-2) is preferably in the range of 10%:90% to 90%:10% by weight.

또한, 본 발명에 사용하는 (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물로는, 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물인 것이 바람직하다. Further, the (C-2) difunctional isocyanate compound used in the present invention is preferably an acyclic aliphatic isocyanate compound, which is a compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound.

예를 들면, 화학식 「O=C=N-X-N=C=O」(다만, X는 2가기)로 디이소시아네이트 화합물을 화학식 「HO-Y-OH」(다만, Y는 2가기)로 디올 화합물을 나타낼 때, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물로는, 예를 들면, 다음의 화학식 Z로 나타내는 화합물을 들 수 있다.For example, a diisocyanate compound represented by the formula "O=C=NXN=C=O" (where X is a divalent group) and a diol compound represented by a formula "HO-Y-OH" (where Y is a divalent group) In this case, as a compound produced|generated by making a diisocyanate compound and a diol compound react, the compound represented by following formula (Z) is mentioned, for example.

[화학식 Z][Formula Z]

O=C=N-X-(NH-CO-O-Y-O-CO-NH-X)n-N=C=OO=C=NX-(NH-CO-OYO-CO-NH-X) n -N=C=O

여기서, n은 0이상의 정수이다. n이 0인 경우, 화학식 Z는 「O=C=N-X-N=C=O」를 나타낸다. 2관능 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서 화학식 Z에 있어서 n이 0인 화합물(디올 화합물에 대해 미반응의 디이소시아네이트 화합물)을 포함해도 되지만, n이 1 이상의 정수인 화합물을 필수 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다. 2관능 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물은 화학식 Z에 있어서의 n이 상이한 복수의 화합물로 이루어지는 혼합물이어도 된다.Here, n is an integer greater than or equal to 0. When n is 0, the formula Z represents "O=C=N-X-N=C=O". As the bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound, in the formula (Z), a compound in which n is 0 (a diisocyanate compound unreacted with respect to the diol compound) may be included, but it is preferable to include a compound in which n is an integer of 1 or more as an essential component. The bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may be a mixture composed of a plurality of compounds having different n in the general formula (Z).

화학식 「O=C=N-X-N=C=O」로 나타내는 디이소시아네이트 화합물은 지방족 디이소시아네이트이다. X는 비고리형으로 지방족의 2가기인 것이 바람직하다. 상기 지방족 디이소시아네이트로는, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다.The diisocyanate compound represented by the general formula "O=C=N-X-N=C=O" is an aliphatic diisocyanate. X is preferably an acyclic and aliphatic divalent group. As said aliphatic diisocyanate, it is preferable that it consists of 1 type or 2 or more types selected from the compound group which consists of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethyl hexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.

화학식 「HO-Y-OH」로 나타내는 디올 화합물은 지방족 디올이다. Y는 비고리형으로 지방족의 2가기인 것이 바람직하다. 상기 디올 화합물로는, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올모노히드록시피발레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다.The diol compound represented by the general formula "HO-Y-OH" is an aliphatic diol. Y is preferably an acyclic and aliphatic divalent group. Examples of the diol compound include 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2 -Butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, from the group of compounds consisting of polyethylene glycol and polypropylene glycol It is preferable that it consists of 1 type or 2 or more types selected.

상기 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물과, (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물의 중량비(C-1/C-2)가 1∼90인 것이 바람직하다. 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 상기 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물이 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.It is preferable that the weight ratio (C-1/C-2) of the said (C-1) trifunctional isocyanate compound and the (C-2) bifunctional isocyanate compound is 1-90. It is preferable that the said (C) difunctional or more functional isocyanate compound is 0.1-10 weight part with respect to 100 weight part of acrylic polymers of the said copolymer.

(D) 가교 촉진제는 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 경우에, 상기 공중합체와 가교제의 반응(가교 반응)에 대해 촉매로서 기능하는 물질이면 되고, 제3급 아민 등의 아민계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 유기 주석 화합물, 유기 납 화합물, 유기 아연 화합물 등의 유기 금속 화합물 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 가교 촉진제로서 금속 킬레이트 화합물이나 유기 주석 화합물이 바람직하다.(D) The crosslinking accelerator may be a material that functions as a catalyst for the reaction (crosslinking reaction) of the copolymer and the crosslinking agent when a polyisocyanate compound is used as a crosslinking agent. An amine compound such as a tertiary amine, a metal chelate compound and organometallic compounds such as organotin compounds, organolead compounds, and organozinc compounds. In the present invention, as the crosslinking accelerator, a metal chelate compound or an organotin compound is preferable.

금속 킬레이트 화합물로는, 중심 금속 원자 M에 1 이상의 다좌 배위자 L이 결합한 화합물이다. 금속 킬레이트 화합물은 금속 원자 M에 결합하는 1 이상의 단좌 배위자 X를 가져도 되고, 갖지 않아도 된다. 예를 들면, 금속 원자 M이 1개인 금속 킬레이트 화합물의 화학식을 M(L)m(X)n으로 나타낼 때, m≥1, n≥0이다. m이 2이상인 경우, m개의 L은 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다. n이 2이상인 경우, n개의 X는 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다.The metal chelate compound is a compound in which one or more polydentate ligands L are bonded to a central metal atom M. The metal chelate compound may or may not have one or more monodentate ligands X bonded to the metal atom M. For example, when the chemical formula of a metal chelate compound having one metal atom M is expressed as M(L) m (X) n , m≧1, n≧0. When m is 2 or more, the m pieces of L may be the same ligand or different ligands. When n is 2 or more, the n pieces of X may be the same ligand or different ligands.

금속 원자 M으로는, Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, Sn 등을 들 수 있다.Examples of the metal atom M include Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, Sn, and the like.

다좌 배위자 L로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나, 아세틸아세톤(별명 2,4-펜탄디온), 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 케토엔올 호변이성체 화합물이고, 다좌 배위자 L에 있어서는 엔올이 탈프로톤한 에놀레이트(예를 들면, 아세틸아세토네이트)여도 된다.Examples of the polydentate ligand L include β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, and stearyl acetoacetate, and acetylacetone (also known as 2,4-pentanedione). and β-diketones such as , 2,4-hexanedione and benzoylacetone. These are ketoenol tautomer compounds, and in the polydentate ligand L, enolates in which the enol is deprotonated (eg, acetylacetonate) may be used.

단좌 배위자 X로는, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자, 펜타노일기, 헥사노일기, 2-에틸헥사노일기, 옥타노일기, 노나노일기, 데카노일기, 도데카노일기, 옥타데카노일기 등의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 알콕시기 등을 들 수 있다.Examples of the monodentate ligand X include a halogen atom such as a chlorine atom and a bromine atom, a pentanoyl group, a hexanoyl group, a 2-ethylhexanoyl group, an octanoyl group, a nonanoyl group, an acyl oxide such as a decanoyl group, a dodecanoyl group, and an octadecanoyl group. Alkoxy groups, such as a group, a methoxy group, an ethoxy group, n-propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, etc. are mentioned.

금속 킬레이트 화합물의 구체예로는, 트리스(2,4-펜탄디오네이트)철(III), 철 트리스아세틸아세토네이트, 티타늄 트리스아세틸아세토네이트, 루테늄 트리스아세틸아세토네이트, 아연 비스아세틸아세토네이트, 알루미늄 트리스아세틸아세토네이트, 지르코늄 테트라키스아세틸아세토네이트, 트리스(2,4-헥산디오네이트) 철(III), 비스(2,4-헥산디오네이트) 아연, 트리스(2,4-헥산디오네이트)티탄, 트리스(2,4-헥산디오네이트)알루미늄, 테트라키스(2,4-헥산디오네이트)지르코늄 등을 들 수 있다.Specific examples of the metal chelate compound include tris(2,4-pentanedionate)iron(III), iron trisacetylacetonate, titanium trisacetylacetonate, ruthenium trisacetylacetonate, zinc bisacetylacetonate, aluminum tris Acetylacetonate, zirconium tetrakisacetylacetonate, tris(2,4-hexanedionate) iron(III), bis(2,4-hexanedionate) zinc, tris(2,4-hexanedionate) titanium, Tris(2,4-hexanedionate)aluminum, tetrakis(2,4-hexanedionate)zirconium, etc. are mentioned.

유기 주석 화합물로는, 디알킬주석 옥사이드나, 디알킬주석의 지방산염, 제1주석의 지방산염 등을 들 수 있다. 종래, 디부틸주석 화합물이 많이 사용되어 왔지만, 근래에는 유기 주석 화합물의 독성 문제가 지적되어, 특히 디부틸주석 화합물에 포함되는 트리부틸주석(TBT)은 내분비 교란 물질로서도 염려되고 있다. 안전성의 관점에서, 디옥틸주석 화합물 등의 장쇄 알킬주석 화합물이 바람직하다. 구체적인 유기 주석 화합물로는, 디옥틸주석 옥사이드, 디옥틸주석 디라우레이트 등을 들 수 있다. 잠정적으로는 Sn 화합물도 사용 가능하지만, 장래적으로는, 보다 안전성이 높은 물질의 사용이 요구되는 추세를 감안하여, Sn에 비해 안전성이 높은 Al, Ti, Fe 등의 금속 킬레이트 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the organotin compound include dialkyl tin oxide, fatty acid salt of dialkyl tin, and fatty acid salt of stannous tin. Conventionally, dibutyltin compounds have been widely used, but in recent years, toxicity problems of organotin compounds have been pointed out, and in particular, tributyltin (TBT) contained in dibutyltin compounds is also concerned as an endocrine disrupting substance. From the viewpoint of safety, long-chain alkyltin compounds such as dioctyltin compounds are preferable. Specific examples of the organotin compound include dioctyltin oxide and dioctyltin dilaurate. Although Sn compounds can be used temporarily, in the future, in consideration of the trend requiring the use of materials with higher safety, it is better to use metal chelate compounds such as Al, Ti, Fe, etc., which are safer than Sn. desirable.

본 발명에 따른 점착제 조성물에 있어서의 (D) 가교 촉진제로는, 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.The (D) crosslinking accelerator in the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is preferably at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound.

(D) 가교 촉진제는 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 0.001∼0.5중량부 포함하는 것이 바람직하다.(D) It is preferable to contain 0.001-0.5 weight part of crosslinking accelerators with respect to 100 weight part of acrylic polymers of a copolymer.

(E) 케토엔올 호변이성체 화합물로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나, 아세틸아세톤, 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 점착제 조성물에 있어서, 가교제가 갖는 이소시아네이트기를 블록함으로써, 가교제의 배합 후에 있어서의 점착제 조성물의 과잉 점도 상승이나 겔화를 억제하여, 점착제 조성물의 포트 라이프를 연장할 수 있다.(E) Ketoenol tautomeric compounds include β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, and stearyl acetoacetate, acetylacetone, 2 and β-diketones such as ,4-hexanedione and benzoylacetone. In the adhesive composition which uses a polyisocyanate compound as a crosslinking agent, by blocking the isocyanate group which a crosslinking agent has, excessive viscosity rise and gelation of the adhesive composition after mixing|blending of a crosslinking agent are suppressed, and the pot life of an adhesive composition can be extended.

(E) 케토엔올 호변이성체 화합물은 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.1∼300중량부 포함되는 것이 바람직하다. (E) The ketoenol tautomer compound is preferably contained in an amount of 0.1 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer.

(E) 케토엔올 호변이성체 화합물은 (D) 가교 촉진제와는 반대로 가교를 억제하는 효과를 갖는 점에서, (D) 가교 촉진제에 대한 (E) 케토엔올 호변이성체 화합물의 비율을 적절히 설정하는 것이 바람직하다. 점착제 조성물의 포트 라이프를 길게 하고, 저장 안정성을 향상시키기 위해서는, (E)/(D)의 중량부 비율이 70∼1000인 것이 바람직하다.(E) the ketoenol tautomer compound has an effect of inhibiting crosslinking as opposed to (D) the crosslinking accelerator, and (D) the ratio of the (E) ketoenol tautomer compound to the crosslinking accelerator is appropriately set. it is preferable In order to lengthen the pot life of an adhesive composition and to improve storage stability, it is preferable that the weight part ratio of (E)/(D) is 70-1000.

상기 아크릴계 폴리머는 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 임의로 함유할 수 있다. (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 폴리알킬렌글리콜이 갖는 복수의 수산기 중, 하나의 수산기가 (메타)아크릴산에스테르로서 에스테르화된 화합물이면 된다. (메타)아크릴산에스테르기가 중합성기가 되므로, 주제 폴리머에 공중합할 수 있다. 다른 수산기는 OH인 그대로여도 되고, 메틸에테르나 에틸에테르 등의 알킬에테르나, 초산에스테르 등의 포화 카르복실산에스테르 등이 되어 있어도 된다. The acrylic polymer may optionally contain (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer as the copolymerizable monomer group. (F) As a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer, what is necessary is just a compound in which one hydroxyl group was esterified as (meth)acrylic acid ester among the several hydroxyl groups which polyalkylene glycol has. Since the (meth)acrylic acid ester group becomes a polymerizable group, it can copolymerize with a main polymer. The other hydroxyl group may be OH as it is, and may be an alkyl ether such as methyl ether or ethyl ether, or a saturated carboxylic acid ester such as acetic acid ester.

폴리알킬렌글리콜이 갖는 알킬렌기로는, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다. 폴리알킬렌글리콜이 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌리콜, 폴리부틸렌글리콜 등의 2종 이상의 폴리알킬렌글리콜의 공중합체여도 된다. 폴리알킬렌글리콜의 공중합체로는, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜 등을 들 수 있고, 당해 공중합체는 블록 공중합체, 랜덤 공중합체여도 된다.Although an ethylene group, a propylene group, a butylene group etc. are mentioned as an alkylene group which polyalkylene glycol has, It is not limited to these. Polyalkylene glycol may be a copolymer of 2 or more types of polyalkylene glycol, such as polyethyleneglycol, polypropylene recall, and polybutylene glycol. Examples of the copolymer of polyalkylene glycol include polyethylene glycol-polypropylene glycol, polyethylene glycol-polybutylene glycol, polypropylene glycol-polybutylene glycol, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol, and the like. The copolymer may be a block copolymer or a random copolymer.

(F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가 폴리알킬렌글리콜 사슬을 구성하는 알킬렌옥사이드의 평균 반복수가 3∼14인 것이 바람직하다. 「알킬렌옥사이드의 평균 반복수」란, (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머의 분자 구조에 포함되는 「폴리알킬렌글리콜 사슬」의 부분에 있어서, 알킬렌옥사이드 단위가 반복되는 평균의 수이다.(F) It is preferable that the average repeating number of the alkylene oxide which polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer comprises a polyalkylene glycol chain|strand is 3-14. "Average number of repetitions of alkylene oxide" is (F) in the portion of the "polyalkylene glycol chain" contained in the molecular structure of the polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomer, the alkylene oxide unit is repeated is the average number.

(F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.(F) Polyalkylene glycol mono (meth) acrylic acid ester monomers include polyalkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxy polyalkylene glycol (meth) acrylate, ethoxy polyalkylene glycol (meth) acrylic It is preferable that it is at least 1 type or more selected from the rate.

보다 구체적으로는, 폴리에틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트; 메톡시폴리에틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트; 에톡시폴리에틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.More specifically, polyethylene glycol - mono (meth) acrylate, polypropylene glycol - mono (meth) acrylate, polybutylene glycol - mono (meth) acrylate, polyethylene glycol - polypropylene glycol - mono (meth) acrylic rate, polyethylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylic rate; Methoxy polyethylene glycol-(meth)acrylate, methoxypolypropylene glycol-(meth)acrylate, methoxypolybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-(meth)acryl Rate, methoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate; Ethoxy polyethylene glycol - (meth) acrylate, ethoxy polypropylene glycol - (meth) acrylate, ethoxy polybutylene glycol - (meth) acrylate, ethoxy - polyethylene glycol - polypropylene glycol - (meth) acrylic rate, ethoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene Glycol-(meth)acrylate etc. are mentioned.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, 상기 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 0∼50중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 함유시키지 않아도 된다.When the sum total of the acrylic polymer of a copolymer is 100 weight part, it is preferable to contain the said (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer in the ratio of 0-50 weight part. The adhesive layer which concerns on this invention WHEREIN: It is not necessary to contain the (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer in an adhesive composition.

점착제 조성물은 (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 임의로 함유할 수 있다. 폴리에테르 변성 실록산 화합물은 폴리에테르기를 갖는 실록산 화합물이고, 통상의 실록산 단위[-SiR1 2-O-] 외에, 폴리에테르기를 갖는 실록산 단위[-SiR1(R2O(R3O)nR4)-O-]를 갖는다. 여기서, R1은 1종 또는 2종 이상의 알킬기 또는 아릴기, R2 및 R3은 1종 또는 2종 이상의 알킬렌기, R4는 1종 또는 2종 이상의 알킬기나 아실기 등(말단기)을 나타낸다. 폴리에테르기로는, 폴리옥시에틸렌기[(C2H4O)n]나 폴리옥시프로필렌기[(C3H6O)n] 등의 폴리옥시알킬렌기를 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition (G) may optionally contain a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. The polyether-modified siloxane compound is a siloxane compound having a polyether group, and in addition to the usual siloxane unit [-SiR 1 2 -O-], a siloxane unit having a polyether group [-SiR 1 (R 2 O(R 3 O)) n R 4 )-O-]. Here, R 1 is one or more alkyl or aryl groups, R 2 and R 3 are one or two or more alkylene groups, R 4 is one or more alkyl or acyl groups (terminal groups) indicates. Examples of the polyether group include polyoxyalkylene groups such as polyoxyethylene group [(C 2 H 4 O) n ] and polyoxypropylene group [(C 3 H 6 O) n ].

폴리에테르 변성 실록산 화합물은 (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물이 0.01∼1.0중량부 포함되는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1∼0.5중량부이다.The polyether-modified siloxane compound is preferably a polyether-modified siloxane compound having (G) HLB values of 7 to 15. Moreover, it is preferable that 0.01-1.0 weight part of (G) the polyether-modified siloxane compound whose HLB value is 7-15 is contained with respect to 100 weight part of acrylic polymers of a copolymer. More preferably, it is 0.1-0.5 weight part.

HLB란, 예를 들면 JIS K3211(계면활성제 용어) 등으로 규정하는 친수 친유 밸런스(친수성 친유성비)이다.HLB is, for example, a hydrophilic-lipophilic balance (hydrophilic-lipophilic ratio) prescribed by JIS K3211 (Terminology of Surfactant) or the like.

폴리에테르 변성 실록산 화합물은 예를 들면, 수소화규소기를 갖는 폴리오르가노실록산 주쇄에 대해, 불포화 결합 및 폴리옥시알킬렌기를 갖는 유기 화합물을 히드로실릴화 반응에 의해 그래프트시킴으로써 얻을 수 있다. 구체적으로는, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시에틸렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시에틸렌)실록산·메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 중합체 등을 들 수 있다. 폴리에테르 변성 실록산 화합물의 HLB값은 폴리에테르기와 실록산기의 비율을 선택함으로써, 조정할 수 있다.The polyether-modified siloxane compound can be obtained by, for example, grafting an organic compound having an unsaturated bond and a polyoxyalkylene group to a polyorganosiloxane main chain having a silicon hydride group by hydrosilylation reaction. Specifically, dimethylsiloxane/methyl (polyoxyethylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane/methyl (polyoxyethylene) siloxane/methyl (polyoxypropylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane/methyl (polyoxypropylene) siloxane polymer, etc. can be heard The HLB value of a polyether modified siloxane compound can be adjusted by selecting the ratio of a polyether group and a siloxane group.

(G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 점착제 조성물에 배합함으로써, 점착제의 점착력 및 리워크 성능을 개선할 수 있다. 점착제 조성물이 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 함유하지 않는 경우, 보다 저비용이 된다.(G) By mix|blending the polyether modified siloxane compound whose HLB value is 7-15 with an adhesive composition, the adhesive force of an adhesive and rework performance can be improved. When an adhesive composition does not contain a polyether modified siloxane compound, it becomes lower cost.

또한, 그 밖의 성분으로서 알킬렌옥사이드를 함유하는 공중합 가능한 (메타)아크릴 모노머, (메타)아크릴아미드 모노머, 디알킬 치환 아크릴아미드 모노머, 계면활성제, 경화 촉진제, 가소제, 충전제, 경화 지연제, 가공 보조제, 노화 방지제, 산화 방지제 등의 공지된 첨가제를 적절히 배합할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 함께 사용된다.In addition, copolymerizable (meth)acrylic monomers containing alkylene oxide as other components, (meth)acrylamide monomers, dialkyl-substituted acrylamide monomers, surfactants, curing accelerators, plasticizers, fillers, curing retarders, processing aids Well-known additives, such as antioxidant, antioxidant, and antioxidant, can be mix|blended suitably. These are used individually or in combination of 2 or more types.

본 발명의 점착제 조성물에 사용되는 주제의 공중합체는 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서, 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 공중합시킴으로써 합성할 수 있다. 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함해도 된다. 공중합체의 중합 방법은 특별히 한정되지 않고, 용액 중합, 유화 중합 등, 적절한 중합 방법이 사용 가능하다.The copolymer of the main subject used in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is (A) a copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a monomer group copolymerizable with (A) at least one of (meth)acrylic acid ester monomers having C4-C18 alkyl groups. Although it does not contain (B), it can synthesize|combine by copolymerizing at least 1 sort(s) of the copolymerizable monomer containing a hydroxyl group. As the above-mentioned copolymerizable monomer group, (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer may be further included. The polymerization method of a copolymer is not specifically limited, Suitable polymerization methods, such as solution polymerization and emulsion polymerization, can be used.

본 발명의 점착제 조성물은 상기 공중합체에 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물과, 추가로 적절히 임의의 첨가제를 배합함으로써 조제할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention can be prepared by blending (C) a bifunctional or more functional isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, (E) a ketoenol tautomer compound, and further appropriate optional additives to the copolymer. .

상기 공중합체는 아크릴계 폴리머인 것이 바람직하고, (메타)아크릴산에스테르 모노머나 (메타)아크릴산, (메타)아크릴아미드류 등의 아크릴계 모노머를 50∼100중량% 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the said copolymer is an acrylic polymer, and it is preferable to contain 50 to 100 weight% of acrylic monomers, such as (meth)acrylic acid ester monomer, (meth)acrylic acid, and (meth)acrylamide.

상기 아크릴계 폴리머가 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않음으로써, 가교 속도의 향상 및 점착력의 안정화에 효과가 있다. 가교제로서 사용되는 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과 반응하는 모노머로서 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 공중합체가 바람직한 모노머 조성으로는 상기 (A)와 상기 (B)로부터 각각 1종 이상, 상기 (A)와 상기 (B)와 상기 (F)로부터 각각 1종 이상 등을 들 수 있다.Since the acrylic polymer does not include a copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a copolymerizable monomer group, it is effective in improving the crosslinking rate and stabilizing the adhesive force. It is preferable to use the copolymerizable monomer containing the (B) hydroxyl group as a monomer which reacts with the (C) difunctional or more functional isocyanate compound used as a crosslinking agent. As a monomer composition with a preferable said copolymer, 1 or more types from said (A) and said (B), respectively, 1 or more types, respectively from said (A), said (B), and said (F), etc. are mentioned.

상기 점착제 조성물을 가교시켜 이루어지는 점착제층의, 저속 박리 속도 0.3m/min에서의 점착력이 0.05∼0.1N/25㎜이고, 고속 박리 속도 30m/min에서의 점착력이 1.0N/25㎜ 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 점착력이 박리 속도에 의해서도 변화가 적은 성능을 얻을 수 있고, 고속 박리에 의해서도 신속하게 박리하는 것이 가능해진다. 또한, 다시 붙이기 위해, 일단 표면 보호 필름을 박리할 때도 과대한 힘을 필요로 하지 않아, 피착체로부터 박리하기 쉽다.The adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition preferably has an adhesive force of 0.05 to 0.1 N/25 mm at a low peel rate of 0.3 m/min, and an adhesive force of 1.0 N/25 mm or less at a high peel rate of 30 m/min. . Thereby, the performance with little change in adhesive force also with peeling speed can be acquired, and it becomes possible to peel quickly also by high-speed peeling. Moreover, in order to stick again, also when peeling a surface protection film once, excessive force is not required, and it is easy to peel from a to-be-adhered body.

상기 점착제 조성물을 가교시켜 이루어지는 점착제층의 표면 저항률이 5.0×10+12Ω/□ 이하이고, 박리 대전압이 「±0.6㎸ 이하」인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, 「±0.6㎸ 이하」란, 0∼-0.6㎸ 및 0∼+0.6㎸, 즉, -0.6∼+0.6㎸를 의미한다. 표면 저항률이 크면 박리시에 대전에 의해 발생한 정전기를 빠져 나가게 하는 성능이 떨어지기 때문에, 표면 저항률을 충분히 작게 함으로써, 점착제층을 피착체가 박리할 때에 발생하는 정전기에 수반하여 발생하는 박리 대전압이 저감되어, 피착체의 전기 제어 회로 등에 영향을 주는 것을 억제할 수 있다.It is preferable that the surface resistivity of the adhesive layer formed by bridge|crosslinking the said adhesive composition is 5.0x10 +12 ohm/square or less, and peeling electrification voltage is "±0.6 kV or less." In addition, in this invention, "±0.6kV or less" means 0 to -0.6kV and 0 to +0.6kV, ie, -0.6 to +0.6kV. If the surface resistivity is large, the ability to escape static electricity generated by charging at the time of peeling is lowered. By making the surface resistivity sufficiently small, the peeling electrification voltage caused by static electricity generated when the adhesive layer is peeled from the adherend is reduced. As a result, it is possible to suppress an influence on the electrical control circuit or the like of the adherend.

본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층(가교 후의 점착제)의 겔분율은 95∼100%인 것이 바람직하다. 이와 같이 겔분율이 높음으로써, 저속 박리 속도에 있어서, 점착력이 과대해지지 않고, 공중합체로부터의 미중합 모노머 혹은 올리고머의 용출이 저감되어, 리워크성이나 고온·고습도에 있어서의 내구성이 개선되어 피착체의 오염을 억제할 수 있다.It is preferable that the gel fraction of the adhesive layer (adhesive after crosslinking) formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is 95 to 100%. As described above, when the gel fraction is high, the adhesive force is not excessive at a low peeling rate, the elution of unpolymerized monomers or oligomers from the copolymer is reduced, and the reworkability and durability at high temperature and high humidity are improved, and avoid Contamination of the complex can be suppressed.

본 발명의 점착 필름은 본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층을 수지 필름의 한쪽 면 또는 양면에 형성하여 이루어진다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은 본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층을 수지 필름의 한쪽 면에 형성하여 이루어지는 표면 보호 필름이다. 본 발명의 점착제 조성물은 상기 (A)∼(E)의 각 성분이 균형있게 배합되어 있기 때문에, 우수한 대전 방지 성능을 구비하고, 저속 박리 속도 및 고속 박리 속도에 있어서, 점착력 밸런스가 우수하고, 또한, 내구 성능 및 리워크 성능(점착제층을 개재하여 표면 보호 필름 위를 볼펜으로 덧쓴 후에 피착체에 오염 이행이 없는 것)도 우수한 것이 된다. 이 때문에, 편광판의 표면 보호 필름의 용도로서 바람직하게 사용할 수 있다.The adhesive film of this invention forms the adhesive layer formed by bridge|crosslinking the adhesive composition of this invention on one side or both surfaces of a resin film. Moreover, the surface protection film of this invention is a surface protection film formed by forming in one surface of a resin film the adhesive layer which bridge|crosslinks the adhesive composition of this invention. Since each component of the said (A)-(E) is blended in a well-balanced manner, the adhesive composition of this invention is equipped with the outstanding antistatic performance, and in a low-speed peeling rate and a high-speed peeling rate, it is excellent in the adhesive force balance, and also , the durability performance and the rework performance (the thing with no contamination transfer to the adherend after the surface protection film is overlaid with a ball-point pen through an adhesive layer) is also excellent. For this reason, it can use suitably as a use of the surface protection film of a polarizing plate.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 5∼40㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 10∼30㎛ 정도의 두께가 보다 바람직하다. 대전 방지 표면 보호 필름의 피착체의 표면에 대한 박리 강도(점착력)가 0.03∼0.3N/25㎜ 정도의 미점착력을 갖는 점착제층(2)인 것이 피착체로부터 대전 방지 표면 보호 필름을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서 바람직하다. 또한, 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터 박리 필름(5)을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서, 박리 필름(5)의 점착제층(2)으로부터의 박리력이 0.2N/50㎜ 이하인 것이 바람직하다.Although the thickness of the adhesive layer 2 used for the antistatic surface protection film 10 which concerns on this invention is not specifically limited, For example, the thickness of about 5-40 micrometers is preferable, and the thickness of about 10-30 micrometers is more preferable. When peeling the antistatic surface protection film from the adherend, the antistatic surface protection film is the pressure-sensitive adhesive layer 2 having a non-adhesive force of about 0.03 to 0.3 N/25 mm in peel strength (adhesion force) of the antistatic surface protection film to the surface of the adherend. It is preferred from the viewpoint of excellent operability. Moreover, since it is excellent in the operability at the time of peeling the peeling film 5 from the antistatic surface protection film 10, it is that the peeling force from the adhesive layer 2 of the peeling film 5 is 0.2 N/50 mm or less. desirable.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 박리 필름(5)은 수지 필름(3)의 한쪽 면에, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물을 사용한 박리제층(4)이 형성되어 있다.In addition, the release film 5 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention is a resin composition comprising a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and an antistatic agent on one side of the resin film 3 The used release agent layer 4 is formed.

수지 필름(3)으로는, 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리이미드 필름 등을 들 수 있지만, 투명성이 우수한 것이나 가격이 비교적으로 저렴한 점에서, 폴리에스테르 필름이 특히 바람직하다. 수지 필름은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정값으로 제어해도 된다.As the resin film 3, a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyimide film, etc. are mentioned, A polyester film is especially preferable at the point which is excellent in transparency and a comparatively cheap price. Do. An unstretched film may be sufficient as the resin film, and the uniaxially or biaxially stretched film may be sufficient as it. Moreover, you may control the orientation angle of the axial method formed with the draw ratio of a stretched film and crystallization of a stretched film to a specific value.

수지 필름(3)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉬워, 보다 바람직하다. Although the thickness of the resin film 3 is not specifically limited, For example, the thickness of about 12-100 micrometers is preferable, if it is thickness of about 20-50 micrometers, it is easy to handle, and it is more preferable.

또한, 필요에 따라, 수지 필름(3)의 표면에, 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.Moreover, you may give the surface of the resin film 3 easily adhesion processing, such as surface modification by corona discharge, application|coating of an anchor coat agent, as needed.

박리제층(4)을 구성하는 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에는 부가 반응형, 축합 반응형, 양이온 중합형, 라디칼 중합형 등의 공지된 실리콘계 박리제를 들 수 있다. 부가 반응형 실리콘계 박리제로서 시판되고 있는 제품에는 예를 들면, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830(신에츠 화학 공업(주) 제조), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 축합 반응형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, SRX-290, SYLOFF-23(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 양이온 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), X62-7622(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다. 라디칼 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, X62-7205(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다.As a release agent which has dimethylpolysiloxane as a main component which comprises the release agent layer 4, well-known silicone type release agents, such as an addition reaction type, a condensation reaction type, a cationic polymerization type, and a radical polymerization type, are mentioned. Products marketed as addition reaction type silicone release agents include, for example, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industries, Ltd.), SRX- 211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and the like. As a product marketed as a condensation reaction type, SRX-290, SYLOFF-23 (made by Toray Dow Corning Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example. Products marketed as cationic polymerization types include, for example, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples of the product marketed as a radical polymerization type include X62-7205 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

박리제층(4)을 구성하는 대전 방지제로는, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제 용액에 대해 분산성이 양호한 것으로, 또한, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 경화를 저해하지 않는 것이 바람직하다. 이러한 대전 방지제 로는 알칼리 금속염이 바람직하다.The antistatic agent constituting the release agent layer 4 preferably has good dispersibility in a release agent solution containing dimethylpolysiloxane as a main component and does not inhibit curing of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. As such an antistatic agent, an alkali metal salt is preferable.

알칼리 금속염으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨으로 이루어지는 금속염을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, Li, Na, K로 이루어지는 양이온과, Cl-, Br-, I-, BF4 -, PF6 -, SCN-, ClO4 -, CF3SO3 -, (FSO2)2N-, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N-, (CF3SO2)3C-로 이루어지는 음이온으로 구성되는 금속염이 바람직하게 사용된다. 그 중에서도 특히, LiBr, LiI, LiBF4, LiPF6, LiSCN, LiClO4, LiCF3SO3, Li(FSO2)2N, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(CF3SO2)3C 등의 리튬염(Li염), 특히, Li(CF3SO2)2N 「약기호 LiTFSI」, Li(FSO2)2N 「약기호 LiFSI」, LiCF3SO3 「약기호 LiTF 또는 LiTf」가 바람직하게 사용된다. 이들 알칼리 금속염은 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이온성 물질의 안정화를 위해, 폴리옥시알킬렌 구조를 함유하는 화합물을 첨가해도 된다. As an alkali metal salt, the metal salt which consists of lithium, sodium, and potassium is mentioned. Specifically, for example, a cation composed of Li + , Na + , K + , Cl - , Br - , I - , BF 4 - , PF 6 - , SCN - , ClO 4 - , CF 3 SO 3 - , (FSO 2 ) 2 N - , (CF 3 SO 2 ) 2 N - , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N - , (CF 3 SO 2 ) 3 C - A metal salt composed of an anion is preferably used Among them, LiBr, LiI, LiBF 4 , LiPF 6 , LiSCN, LiClO 4 , LiCF 3 SO 3 , Li(FSO 2 ) 2 N, Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(C 2 F 5 SO 2 ) Lithium salts (Li salts) such as ) 2 N, Li(CF 3 SO 2 ) 3 C, in particular, Li(CF 3 SO 2 ) 2 N “abbreviated symbol LiTFSI”, Li(FSO 2 ) 2 N “abbreviated symbol LiFSI” ', LiCF 3 SO 3 "abbreviation symbol LiTF or LiTf" is preferably used. These alkali metal salts may be used independently, and 2 or more types may be mixed and used for them. For stabilization of the ionic substance, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대한 대전 방지제의 첨가량은 대전 방지제의 종류나 박리제와의 친화성의 정도에 따라 상이하나, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의, 원하는 박리 대전압, 피착체에 대한 오염성, 점착 특성 등을 고려하여 설정하면 된다.The amount of the antistatic agent added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component varies depending on the type of antistatic agent and the degree of affinity with the release agent, but when the antistatic surface protection film is peeled from the adherend, the desired peeling electrification voltage, What is necessary is just to consider the contamination with respect to a complex, adhesive characteristic, etc. and just to set it.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제의 혼합 방법은 특별히 한정되지 않는다. 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대전 방지제를 첨가하여 혼합한 후에 박리제 경화용 촉매를 첨가·혼합하는 방법, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제로 희석한 후에 대전 방지제와 박리제 경화용 촉매를 첨가, 혼합하는 방법, 실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제에 희석 후, 촉매를 첨가·혼합하고, 그 후 대전 방지제를 첨가, 혼합하는 방법 등 어느 방법이어도 된다. 또한, 필요에 따라, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제나 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물 등의 대전 방지 효과를 보조하는 재료를 첨가해도 된다.The mixing method of the release agent and antistatic agent which have dimethylpolysiloxane as a main component is not specifically limited. A method of adding and mixing an antistatic agent to a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, then adding and mixing a catalyst for curing the release agent. After diluting a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component with an organic solvent in advance, an antistatic agent and a catalyst for curing the release agent are added Any method, such as the method of adding and mixing, the method of previously diluting the release agent which has siloxane as a main component in the organic solvent, adding and mixing a catalyst, and adding and mixing an antistatic agent after that may be sufficient. Moreover, you may add materials which assist the antistatic effect, such as a close_contact|adherence improving agent, such as a silane coupling agent, and a compound containing a polyoxyalkylene group, as needed.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제의 혼합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해, 대전 방지제를 고형분으로서 5∼100 정도의 비율이 바람직하다. 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해 5의 비율보다 적으면 점착제층의 표면에 대한 대전 방지제의 전사량도 적어져서 점착제에 대전 방지의 기능이 발휘되기 어려워진다. 또한, 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해 100의 비율을 초과하면, 대전 방지제와 함께 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제도 점착제층의 표면에 전사되기 때문에, 점착제의 점착 특성을 저하시킬 가능성이 있다.Although the mixing ratio of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the antistatic agent is not particularly limited, the ratio of the antistatic agent as a solid content of about 5 to 100 is preferable with respect to the solid content of 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. When the added amount of the antistatic agent in terms of solid content is less than a ratio of 5 to 100 solid content of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, the amount of the antistatic agent transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer also decreases, making it difficult to exert an antistatic function on the pressure-sensitive adhesive. In addition, when the addition amount of the antistatic agent in terms of solid content exceeds a ratio of 100 to 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component together with the antistatic agent is also transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, so the pressure-sensitive adhesive There is a possibility that the adhesive properties of the

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)의 기재 필름(1)에, 점착제층(2)을 형성하는 방법 및 박리 필름(5)을 첩합하는 방법은 공지된 방법으로 행하면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, (1) 기재 필름(1)의 한쪽 면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포, 건조시켜 점착제층을 형성한 후에, 박리 필름(5)을 첩합하는 방법, (2) 박리 필름(5)의 표면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포·건조시켜 점착제층을 형성한 후에, 기재 필름(1)을 첩합하는 방법 등을 들 수 있지만, 어느 방법을 사용해도 된다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 and the method of bonding the release film 5 to the base film 1 of the antistatic surface protection film 10 according to the present invention may be performed by a known method, and is not particularly limited. does not Specifically, (1) a method of bonding the release film 5 together after coating and drying the resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on one surface of the base film 1 to form the pressure-sensitive adhesive layer, ( 2) After apply|coating and drying the resin composition for forming the adhesive layer 2 on the surface of the peeling film 5, and forming an adhesive layer, the method of bonding the base film 1 etc. are mentioned, Any method may be used.

또한, 기재 필름(1)의 표면에 점착제층(2)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.In addition, what is necessary is just to form the adhesive layer 2 on the surface of the base film 1 by a well-known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

또한, 동일하게 수지 필름(3)에 박리제층(4)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 그라비아 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.In addition, what is necessary is just to form the release agent layer 4 in the resin film 3 similarly by a well-known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름으로부터, 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.It is sectional drawing which shows the state which peeled the peeling film from the antistatic surface protection film of this invention.

도 1에 나타낸 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터, 박리 필름(5)을 박리함으로써, 박리 필름(5)의 박리제층(4)에 포함되는, 대전 방지제(부호 7)의 일부가 대전 방지 표면 보호 필름(10)의 점착제층(2)의 표면에 전사된다(부착된다). 이 때문에, 도 2에 있어서는, 대전 방지 표면 보호 필름의 점착제층(2)의 표면에 전사된, 대전 방지제를 부호 7의 반점으로 모식적으로 나타내고 있다.By peeling the release film 5 from the antistatic surface protection film 10 shown in FIG. 1 , a part of the antistatic agent (symbol 7) contained in the release agent layer 4 of the release film 5 is removed from the antistatic surface. It is transferred (attached) to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the protective film 10 . For this reason, in FIG. 2, the antistatic agent transcribe|transferred on the surface of the adhesive layer 2 of an antistatic surface protection film is shown typically by the dot of the code|symbol 7.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름에서는, 도 2에 나타낸 박리 필름을 박리한 상태의 대전 방지 표면 보호 필름(11)을 피착체에 첩합하는데 있어서, 이 점착제층(2)의 표면에 전사된 대전 방지제가 피착체의 표면에 접촉한다. 이로써, 재차, 피착체로부터 대전 방지 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다.In the antistatic surface protection film according to the present invention, in bonding the antistatic surface protection film 11 in a state in which the release film shown in Fig. 2 is peeled off to an adherend, the charge transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is The inhibitor comes into contact with the surface of the adherend. Thereby, the peeling electrification voltage at the time of peeling an antistatic surface protection film from a to-be-adhered body again can be suppressed low.

도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터, 박리 필름(5)이 박리되고, 점착제층(2)이 표출된 상태로, 그 점착제층(2)을 개재하여 피착체인 광학 부품(8)에 첩합된다.From the antistatic surface protection film 10 of the present invention, the release film 5 is peeled off, and in a state in which the pressure-sensitive adhesive layer 2 is exposed, the pressure-sensitive adhesive layer 2 is interposed therebetween to the optical component 8 as an adherend. are glued together

즉, 도 3에는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)이 첩합된 광학 부품(20)을 나타내고 있다. 광학 부품으로는, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름, 위상차판 겸용 편광판, 렌즈 필름 겸용 편광판 등의 광학용 필름을 들 수 있다. 이러한 광학 부품은 액정 표시 패널 등의 액정 표시 장치, 각종 계기류의 광학계 장치 등의 구성 부재로서 사용된다. 또한, 광학 부품으로는, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름도 들 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의해 방오 처리되어 있는, 저반사 처리 편광판(LR 편광판)이나 안티 글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판) 등의 광학용 필름의 방오 처리한 면에 첩합되는, 대전 방지 표면 보호 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다.That is, in FIG. 3, the optical component 20 by which the antistatic surface protection film 10 of this invention was pasted is shown. As an optical component, optical films, such as a polarizing plate, retardation plate, a lens film, a retardation plate combined polarizing plate, and a lens film combined polarizing plate, are mentioned. Such optical components are used as constituent members of liquid crystal display devices such as liquid crystal display panels and optical system devices of various instruments. Moreover, as an optical component, films for optics, such as an antireflection film, a hard coat film, and the transparent conductive film for touch panels, are also mentioned. In particular, the antifouling treatment surface of an optical film, such as a low reflection treatment polarizing plate (LR polarizing plate) or an anti-glare low reflection treatment polarizing plate (AG-LR polarizing plate), whose surface is antifouling with a silicone compound or a fluorine compound, etc. , it can be preferably used as an antistatic surface protection film.

본 발명의 광학 부품에 의하면, 대전 방지 표면 보호 필름(10)을 피착체인 광학 부품(광학용 필름)으로부터 박리 제거할 때, 박리 대전압을 충분히 낮게 억제할 수 있으므로, 드라이버 IC, TFT 소자, 게이트선 구동 회로 등의 회로 부품을 파괴할 우려가 없고, 액정 표시 패널 등을 제조하는 공정에서의 생산 효율을 높이고, 생산 공정의 신뢰성을 유지할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the optical component of this invention, when peeling and removing the antistatic surface protection film 10 from the optical component (optical film) which is a to-be-adhered body, since peeling electrification voltage can be suppressed low enough, a driver IC, a TFT element, a gate There is no fear of destroying circuit components, such as a line drive circuit, and the production efficiency in the process of manufacturing a liquid crystal display panel etc. can be improved, and the reliability of a production process can be maintained.

실시예Example

이어서, 실시예에 의해 본 발명을 자세히 설명한다.Next, the present invention will be described in detail by way of Examples.

<점착제 조성물의 제조><Preparation of the pressure-sensitive adhesive composition>

[실시예 1][Example 1]

교반기, 온도계, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 반응 장치에, 질소 가스를 도입하고, 반응 장치 내의 공기를 질소 가스로 치환하였다. 그 후, 반응 장치에 2-에틸헥실아크릴레이트 100중량부, 8-히드록시옥틸아크릴레이트 4.5중량부, 폴리프로필렌글리콜모노아크릴레이트(n=12) 10중량부와 함께 용제(초산에틸)를 60중량부 첨가하였다. 그 후, 중합 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 0.1중량부를 2시간에 걸쳐 적하시키고, 65℃에서 6시간 반응시켜, 중량 평균 분자량 50만의, 실시예 1의 아크릴 공중합체 용액을 얻었다. 이 아크릴 공중합체 용액에 대해, 아세틸아세톤 8.5중량부를 첨가하여 교반한 후, 코로네이트 HX(헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체)를 2.5중량부, 티타늄 트리스아세틸아세토네이트 0.1중량부를 첨가하고 교반 혼합하여 실시예 1의 점착제 조성물을 얻었다.Nitrogen gas was introduced into a reaction apparatus equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser and a nitrogen introduction tube, and the air in the reaction apparatus was replaced with nitrogen gas. Then, 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 4.5 parts by weight of 8-hydroxyoctyl acrylate, 10 parts by weight of polypropylene glycol monoacrylate (n=12), and 60 parts by weight of a solvent (ethyl acetate) were added to the reaction apparatus. parts by weight were added. Then, 0.1 weight part of azobisisobutyronitrile was dripped over 2 hours as a polymerization initiator, it was made to react at 65 degreeC for 6 hours, and the acrylic copolymer solution of Example 1 with a weight average molecular weight of 500,000 was obtained. To this acrylic copolymer solution, 8.5 parts by weight of acetylacetone was added and stirred, then 2.5 parts by weight of coronate HX (isocyanurate of hexamethylene diisocyanate compound) and 0.1 parts by weight of titanium trisacetylacetonate were added, It stirred and mixed, and the adhesive composition of Example 1 was obtained.

[실시예 2∼6 및 비교예 1∼3][Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3]

실시예 1의 점착제 조성물의 조성을 각각 표 1 및 표 2에 기재된 바와 같이 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2∼6 및 비교예 1∼3의 점착제 조성물을 얻었다. 표 1 및 표 2 중, 아크릴 공중합체에 포함되는 (공중합되는) 모노머는 (A), (B), (F) 및 「카르복실기 함유 모노머」이다.Except having carried out the composition of the adhesive composition of Example 1 as Table 1 and Table 2, respectively, it carried out similarly to Example 1, and obtained the adhesive composition of Examples 2-6 and Comparative Examples 1-3. In Tables 1 and 2, the monomers (copolymerized) contained in the acrylic copolymer are (A), (B), (F) and "carboxyl group-containing monomers".

Figure 112020077955177-pat00001
Figure 112020077955177-pat00001

Figure 112020077955177-pat00002
Figure 112020077955177-pat00002

표 1 및 표 2는 각 성분의 배합비를 나타내는 일체의 표를 2개로 나눈 것이고, 전부 (A)군의 합계를 100중량부로서 구한 중량부의 수치를 괄호 안에 나타낸다. 또한, 표 1 및 표 2에 사용한 각 성분의 약기호의 화합물명을 표 3 및 표 4에 나타낸다. 또한, 코로네이트(등록상표) HX, HL 및 L은 니혼 폴리우레탄 공업 주식회사의 상품명이고, 타케네이트(등록상표) D-140N, D-127N, D-110N은 미츠이 화학 주식회사의 상품명이다. 표 2의 「대전 방지제」및 후술하는 표 7에 있어서, LiTFSI는 Li(CF3SO2)2N을 나타내고, LiFSI는 Li(FSO2)2N을 나타내며, LiTF는 LiCF3SO3을, SH8400는 폴리에테르 변성 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SH8400, 주성분: 디메틸, 메틸(폴리에틸렌옥사이드 아세테이트)실록산)을 나타낸다.Tables 1 and 2 divide all tables showing the compounding ratio of each component into two, and the numerical values of parts by weight obtained by calculating the total of all (A) groups as 100 parts by weight are shown in parentheses. In addition, the compound name of the abbreviation of each component used for Table 1 and Table 2 is shown in Table 3 and Table 4. In addition, Coronate (trademark) HX, HL, and L are the brand names of Nippon Polyurethane Industries, Ltd., Takenate (trademark) D-140N, D-127N, D-110N are the brand names of Mitsui Chemicals. In "Antistatic Agent" of Table 2 and Table 7 to be described later, LiTFSI represents Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, LiFSI represents Li(FSO 2 ) 2 N, LiTF represents LiCF 3 SO 3 , SH8400 represents polyether-modified silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SH8400, main components: dimethyl, methyl (polyethylene oxide acetate) siloxane).

Figure 112020077955177-pat00003
Figure 112020077955177-pat00003

Figure 112020077955177-pat00004
Figure 112020077955177-pat00004

<2관능 이소시아네이트 화합물의 합성><Synthesis of bifunctional isocyanate compound>

합성예 1, 2의 2관능 이소시아네이트 화합물은 하기 방법으로 합성하였다. 표 5 및 표 6에 나타낸 바와 같이, 디이소시아네이트와 디올 화합물을 몰비: NCO/OH=16의 비율로 혼합하여, 120℃에서 3시간 반응시키고, 그 후, 박막 증발 장치를 사용하여 감압하에서 미반응의 디이소시아네이트를 제거하고, 목적으로 하는 2관능 이소시아네이트 화합물을 얻었다.The bifunctional isocyanate compound of Synthesis Examples 1 and 2 was synthesized by the following method. As shown in Tables 5 and 6, diisocyanate and diol compound were mixed in a molar ratio of NCO/OH=16, reacted at 120° C. for 3 hours, and then unreacted under reduced pressure using a thin film evaporation device. of diisocyanate was removed, and the target bifunctional isocyanate compound was obtained.

Figure 112020077955177-pat00005
Figure 112020077955177-pat00005

Figure 112020077955177-pat00006
Figure 112020077955177-pat00006

<대전 방지 표면 보호 필름의 제작><Production of antistatic surface protection film>

[실시예 1][Example 1]

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, Li(CF3SO2)2N 0.5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부 및 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212 캐탈리스트) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 실시예 1의 박리 필름을 얻었다.Addition reaction silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, Li(CF 3 SO 2 ) 2 N 0.5 parts by weight, 95 parts by weight of a 1:1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate And 0.05 parts by weight of a platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212 Catalyst) were mixed and stirred and mixed to prepare a paint forming a release agent layer of Example 1. On the surface of the polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, the paint forming the release agent layer of Example 1 was applied with a Meyer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and dried in a hot air circulation oven at 120° C. for 1 minute, The release film of Example 1 was obtained.

실시예 1의 점착제 조성물을 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에, 상기에서 제작한, 실시예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜 실시예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying was 20 μm, and then dried in a hot air circulation oven at 100° C. for 2 minutes to form an adhesive layer. Then, the release agent layer (silicone process surface) of the peeling film of Example 1 produced above was stuck to the surface of this adhesive layer. The obtained adhesive film was heat-retained in 40 degreeC environment for 5 days, the adhesive was hardened, and the antistatic surface protection film of Example 1 was obtained.

[실시예 2][Example 2]

실시예 1의 점착제 조성물을 실시예 2의 점착제 조성물로 하고, 박리제층에 사용하는 대전 방지제를 LiCF3SO3으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was used as the pressure-sensitive adhesive composition of Example 2, and the antistatic agent used for the release agent layer was LiCF 3 SO 3 . Except that, it carried out similarly to Example 1, and obtained the antistatic surface protection film of Example 2.

[실시예 3∼6][Examples 3 to 6]

실시예 1의 점착제 조성물을 각각 실시예 3∼6의 점착제 조성물로 하고, 박리제층에 사용하는 대전 방지제를 Li(FSO2)2N으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3∼6의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.Example 1 of pressure-sensitive adhesive composition of Examples 3-6, respectively, and the pressure-sensitive adhesive composition, in the same manner as the antistatic agent used for the release agent layer as in Example 1 Li (FSO 2) put up in 2 N, except in Example 3 to The antistatic surface protection film of 6 was obtained.

[비교예 1][Comparative Example 1]

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부 및 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212 캐탈리스트) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 비교예 1의 박리 필름을 얻었다.5 parts by weight of addition reaction silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345), 95 parts by weight of a 1:1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate, and platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name) : SRX-212 Catalyst) 0.05 parts by weight was mixed, stirred and mixed, and the paint forming the release agent layer of Comparative Example 1 was prepared. On the surface of the polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm, the paint forming the release agent layer of Comparative Example 1 was applied with a Meyer bar so that the thickness after drying was 0.2 μm, and dried in a hot air circulation oven at 120° C. for 1 minute, A release film of Comparative Example 1 was obtained.

비교예 1의 점착제 조성물을 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에, 상기에서 제작한, 비교예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜, 비교예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm so that the thickness after drying was 20 μm, and then dried in a hot air circulation oven at 100° C. for 2 minutes to form an adhesive layer. Then, the release agent layer (silicone-treated surface) of the release film of the comparative example 1 produced above was stuck to the surface of this adhesive layer. The obtained adhesive film was heat-retained in 40 degreeC environment for 5 days, the adhesive was hardened, and the antistatic surface protection film of the comparative example 1 was obtained.

[비교예 2][Comparative Example 2]

비교예 1의 점착제 조성물을 비교예 2의 점착제 조성물로 한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.Except having made the adhesive composition of the comparative example 1 into the adhesive composition of the comparative example 2, it carried out similarly to the comparative example 1, and obtained the antistatic surface protection film of the comparative example 2.

[비교예 3][Comparative Example 3]

실시예 1의 점착제 조성물을 비교예 3의 점착제 조성물로 하고, 박리제층에 사용하는 대전 방지제를 Li(FSO2)2N으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 3의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.Antistatic surface of Comparative Example 3 in the same manner as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was used as the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 3, and the antistatic agent used for the release agent layer was Li(FSO 2 ) 2 N A protective film was obtained.

표 7에 실시예 1∼6 및 비교예 1∼3의 대전 방지 표면 보호 필름에 있어서의 박리제층의 조성을 나타낸다.In Table 7, the composition of the release agent layer in Examples 1-6 and the antistatic surface protection film of Comparative Examples 1-3 is shown.

Figure 112020077955177-pat00007
Figure 112020077955177-pat00007

<시험 방법 및 평가><Test method and evaluation>

실시예 1∼6 및 비교예 1∼3에 있어서의 표면 보호 필름을 23℃, 50%RH의 분위기하에서 7일간 에이징한 후, 박리 필름(실리콘 수지 코트된 PET 필름)을 박리하여, 점착제층을 표출시킨 것을 표면 저항률의 측정 시료로 하였다.After aging the surface protection films in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 in an atmosphere of 23°C and 50%RH for 7 days, the release film (PET film coated with silicone resin) was peeled off, and the pressure-sensitive adhesive layer was What was exposed was made into the measurement sample of surface resistivity.

또한, 이 점착제층을 표출시킨 표면 보호 필름을 점착제층을 개재하여 액정 셀에 붙여진 편광판의 표면에 첩합하고, 1일 방치한 후, 50℃, 5기압, 20분간 오토 클레이브 처리하고, 실온에서 다시 12시간 방치한 것을 점착력, 박리 대전압, 및 리워크성의 측정 시료로 하였다.Further, the surface protection film in which the pressure-sensitive adhesive layer was exposed was bonded to the surface of the polarizing plate pasted on the liquid crystal cell through the pressure-sensitive adhesive layer, left to stand for 1 day, autoclaved at 50° C., 5 atmospheres, 20 minutes, and again at room temperature What was left to stand for 12 hours was made into the measurement sample of adhesive force, peeling electrification voltage, and rework property.

<점착력><Adhesive force>

상기에서 얻어진 측정 시료(25㎜ 폭의 표면 보호 필름을 편광판의 표면에 첩합한 것)를 180°방향으로 인장 시험기를 이용하여 저속 박리 속도(0.3m/min) 및 고속 박리 속도(30m/min)에서 박리하고, 측정한 박리 강도를 점착력으로 하였다.A low-speed peeling rate (0.3 m/min) and a high-speed peeling rate (30 m/min) using a tensile tester in the 180° direction for the measurement sample (25 mm wide surface protection film bonded to the surface of the polarizing plate) obtained above. was peeled, and the measured peel strength was made into adhesive force.

<표면 저항률><Surface resistivity>

에이징한 후, 편광판에 첩합시키기 전에, 박리 필름(실리콘 수지 코트된 PET 필름)을 박리하여 점착제층을 표출시키고, 저항률계 하이레스타 UP-HT450(미츠비시 화학 애널리테크 제조)을 사용하여 점착제층의 표면 저항률을 측정하였다.After aging, before bonding to a polarizing plate, the release film (silicone resin-coated PET film) was peeled to expose the pressure-sensitive adhesive layer, and the resistivity meter Hirestar UP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech) was used to remove the pressure-sensitive adhesive layer. The surface resistivity was measured.

<박리 대전압><Peel electrification voltage>

상기에서 얻어진 측정 시료를 30m/min의 인장 속도로 180°박리했을 때에 편광판이 대전하여 발생하는 전압(대전압)을 고정밀도 정전기 센서 SK-035, SK-200(주식회사 키엔스 제조)을 사용하여 측정하고, 측정값의 최대값을 박리 대전압으로 하였다.When the measurement sample obtained above is peeled 180° at a tensile speed of 30 m/min, the voltage (charged voltage) generated by the charging of the polarizing plate is measured using high-precision electrostatic sensors SK-035 and SK-200 (manufactured by Keyence Co., Ltd.) and the maximum value of the measured value was taken as the peel electrification voltage.

<리워크성><Rework Castle>

상기에서 얻어진 측정 시료의 표면 보호 필름 위를 볼펜으로(하중 500g, 3 왕복) 덧쓴 후, 편광판으로부터 표면 보호 필름을 박리하여 편광판의 표면을 관찰하여, 편광판에 오염 이행이 없는 것을 확인하였다. 평가 목표 기준은 편광판에 오염 이행이 없는 경우를 「○」, 볼펜으로 덧쓴 궤적을 따라 적어도 일부에 오염 이행이 확인되었을 경우를 「△」, 볼펜으로 덧쓴 궤적을 따라 오염 이행이 확인되고, 점착제 표면으로부터도 점착제의 이탈이 확인된 경우를 「×」로 평가하였다.After overwriting the surface protection film of the measurement sample obtained above with a ballpoint pen (load 500 g, 3 reciprocations), the surface protection film was peeled off from the polarizing plate and the surface of the polarizing plate was observed, and it was confirmed that there was no transfer of contamination on the polarizing plate. The evaluation target criteria are “○” when there is no contamination transfer on the polarizing plate, “△” when contamination transfer is confirmed at least in part along the trajectory overwritten with a ballpoint pen, and contamination transfer is confirmed along the trajectory overwritten with a ballpoint pen, and the surface of the adhesive The case where the release of the pressure-sensitive adhesive was also confirmed was evaluated as "x".

표 8에 평가 결과를 나타낸다. 또한, 표면 저항률은 「m×10+n」을 「mE+n」으로 하는 방식(다만, m은 임의의 실수값, n은 양의 정수)에 의해 표기하였다.Table 8 shows the evaluation results. The surface resistivity was indicated by the way (but, m is an arbitrary real number, n is a positive integer) of the "m × 10 + n" in "mE + n".

Figure 112020077955177-pat00008
Figure 112020077955177-pat00008

표 8에 나타낸 측정 결과로부터, 이하를 알 수 있다. From the measurement results shown in Table 8, the following are known.

본 발명에 따른 실시예 1∼6의 대전 방지 표면 보호 필름은 적당한 점착력이 있고, 피착체의 표면에 대한 오염이 없고, 또한, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리했을 때의 박리 대전압이 낮다.The antistatic surface protection films of Examples 1 to 6 according to the present invention have moderate adhesion, no contamination on the surface of the adherend, and the peeling electrification voltage when the antistatic surface protection film is peeled from the adherend. low.

한편, 실리콘 화합물 및 대전 방지제를 점착제층에 첨가한 비교예 1의 대전 방지 표면 보호 필름은 점착제층의 표면 저항률이 낮고 양호하지만, 점착력이 크기 때문에, 박리 대전압은 높고, 리워크성이 떨어지는 것이었다. 또한, 비교예 2에서는 가교 촉진제의 첨가량이 많기 때문인지, 점착제가 겔화되어, 도공할 수 없었다.또한, 비교예 3에서는 카르복실기를 함유하는 모노머를 포함하는 점에서, 점착력이 크고, 리워크성이 약간 떨어져 있었다.On the other hand, the antistatic surface protection film of Comparative Example 1 in which a silicone compound and an antistatic agent were added to the pressure-sensitive adhesive layer had a low and good surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer, but had a high adhesive force, so the peeling electrification voltage was high and reworkability was poor. . Moreover, in Comparative Example 2, perhaps because there was a large amount of the crosslinking accelerator added, the pressure-sensitive adhesive gelled and could not be applied. In Comparative Example 3, since a monomer containing a carboxyl group is included, the adhesive strength is large and the reworkability is high. was a bit far

즉, 점착제에 실리콘 화합물과 대전 방지제를 혼합시킨 비교예 1, 2에서는 박리 대전압의 저감과 피착체에 대한 오염성을 양립하는 것이 곤란하다. 한편, 박리제층에 대전 방지제를 첨가한 후, 점착제층의 표면에 대전 방지제를 전사시킨 실시예 1∼6에서는 소량의 첨가량으로 박리 대전압의 저감 효과가 있기 때문에, 피착체에 대한 오염도 없고, 양호한 대전 방지 표면 보호 필름이 얻어졌다.That is, in Comparative Examples 1 and 2 in which a silicone compound and an antistatic agent were mixed with the pressure-sensitive adhesive, it is difficult to achieve both reduction of the peeling electrification voltage and the contamination property to the adherend. On the other hand, in Examples 1 to 6 in which the antistatic agent was transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer after adding the antistatic agent to the release agent layer, there is an effect of reducing the peel electrification voltage with a small amount of addition, so there is no contamination on the adherend and good An antistatic surface protection film was obtained.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 예를 들면, 편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름 등의 광학용 필름, 그 밖에 각종 광학 부품 등의 생산 공정 등에 있어서, 당해 광학 부품 등의 표면을 보호하기 위해 사용할 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의해 방오 처리되어 있는, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의 광학용 필름의 대전 방지 표면 보호 필름으로서 사용하는 경우에는 피착체로부터 박리할 때 정전기의 발생량을 적게할 수 있다.The antistatic surface protection film of the present invention is, for example, an optical film such as a polarizing plate, a retardation plate, a display lens film, etc. In the production process of various optical components, etc., in order to protect the surface of the optical component, etc. Can be used. In particular, when used as an antistatic surface protection film for an optical film such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate whose surface is antifouling with a silicone compound or fluorine compound, the amount of static electricity generated when peeling from an adherend is reduced can do.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적고 또한, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 점에서 생산 공정의 수율을 향상시킬 수 있어, 산업상 이용 가치가 크다.The antistatic surface protection film of the present invention has little contamination on an adherend, does not deteriorate over time, and has excellent peeling and antistatic performance, so it can improve the yield of the production process, and thus has great industrial use value.

1…기재 필름, 2…점착제층, 3…수지 필름, 4…박리제층, 5…박리 필름, 7… 대전 방지제, 8…피착체(광학 부품), 10…대전 방지 표면 보호 필름, 11…박리 필름을 박리한 대전 방지 표면 보호 필름, 20…대전 방지 표면 보호 필름을 첩합한 광학 부품.One… Base film, 2... Adhesive layer, 3... resin film, 4... release agent layer, 5... release film, 7... antistatic agent, 8... An adherend (optical component), 10 ... Antistatic surface protection film, 11... The antistatic surface protection film which peeled the peeling film, 20... The optical part which stuck an antistatic surface protection film together.

Claims (3)

투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에 아크릴계 폴리머를 함유하는 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층이 형성된 대전 방지 표면 보호 필름으로서,
상기 점착제층의 표면에 대전 방지제를 전사할 수 있는 대전 방지 표면 보호 필름용 박리 필름이 첩합되어 이루어지고,
상기 아크릴계 폴리머가 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서, 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 공중합시킨 공중합체의 아크릴계 폴리머이며,
상기 점착제 조성물이 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물과, (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 함유하여 이루어지며,
상기 (D) 가교 촉진제가 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고,
상기 대전 방지 표면 보호 필름용 박리 필름이, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층되어 이루어지고,
상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 포함하는 박리제와, 상기 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지며,
상기 박리제층에 포함된 상기 대전 방지제가 상기 점착제층의 표면에만 전사되어 이루어지고,
상기 점착제층의 내부에는 대전 방지제가 포함되어 있지 않은 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름.
An antistatic surface protection film in which an adhesive layer formed by crosslinking an adhesive composition containing an acrylic polymer on one side of a base film made of a resin having transparency is formed, the antistatic surface protection film comprising:
A peeling film for an antistatic surface protection film capable of transferring an antistatic agent to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is pasted together,
The acrylic polymer (A) does not contain a copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a monomer group copolymerizable with at least one of (meth)acrylic acid ester monomers having a C4-C18 alkyl group, but (B) a hydroxyl group It is an acrylic polymer of a copolymer obtained by copolymerizing at least one of the copolymerizable monomers contained therein,
The pressure-sensitive adhesive composition further comprises (C) a bifunctional isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, (E) a ketoenol tautomer compound, and (G) a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15 It is made by containing
(D) the crosslinking accelerator is at least one selected from the group consisting of an aluminum chelate compound, a titanium chelate compound, and an iron chelate compound,
The release film for antistatic surface protection film is formed by laminating a release agent layer containing an antistatic agent on one side of a resin film,
The release agent layer is formed by a release agent containing dimethylpolysiloxane and a resin composition containing the antistatic agent,
The antistatic agent included in the release agent layer is transferred only to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer,
An antistatic surface protection film, characterized in that no antistatic agent is included in the pressure-sensitive adhesive layer.
제 1 항에 있어서,
상기 박리제층 중의 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름.
The method of claim 1,
An antistatic surface protection film characterized in that the antistatic agent in the release agent layer is an alkali metal salt.
제 1 항의 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학용 필름.The optical film formed by bonding the antistatic surface protection film of Claim 1 together.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI674970B (en) * 2015-01-27 2019-10-21 日商王子控股股份有限公司 Laminate, decorative molded article, and manufacturing method of decorative molded article
JP6521896B2 (en) * 2016-04-25 2019-05-29 藤森工業株式会社 Pressure sensitive adhesive composition and antistatic surface protective film
JP6521906B2 (en) * 2016-06-16 2019-05-29 藤森工業株式会社 Pressure sensitive adhesive composition and antistatic surface protective film
KR102040457B1 (en) 2016-11-04 2019-11-05 주식회사 엘지화학 Method for manufacturing pressure sensitive adhesive film
JP7095269B2 (en) * 2016-12-06 2022-07-05 三菱ケミカル株式会社 How to use a pressure-sensitive adhesive composition, a pressure-sensitive adhesive formed by cross-linking the pressure-sensitive adhesive composition, a pressure-sensitive adhesive for a masking film, a masking film, a pressure-sensitive adhesive film for a transparent electrode layer forming process, a tape for a semiconductor manufacturing process, and a masking film.
KR102159513B1 (en) * 2017-12-15 2020-09-25 주식회사 엘지화학 Crosslinkable Composition
CN108250851B (en) * 2018-01-25 2020-06-09 哈尔滨拓百世环保涂料有限公司 Asphalt coiled material sulfide isolation primer and preparation method thereof
JP7107804B2 (en) * 2018-09-27 2022-07-27 藤森工業株式会社 Adhesive composition, and adhesive film and surface protective film using the same
CN109554129A (en) * 2018-11-26 2019-04-02 常州市白鹭电器有限公司 Aluminum foil and adhesive tape silicone release agent
JP6703167B2 (en) * 2019-04-22 2020-06-03 藤森工業株式会社 Adhesive composition and antistatic surface protective film
JP6926274B2 (en) * 2019-04-22 2021-08-25 藤森工業株式会社 Adhesive layer and antistatic surface protective film
JP2020183460A (en) * 2019-04-26 2020-11-12 藤森工業株式会社 Surface protective film
JP7244369B2 (en) * 2019-06-25 2023-03-22 藤森工業株式会社 Method for producing antistatic surface protective film, antistatic surface protective film
JP6925487B2 (en) * 2020-05-07 2021-08-25 藤森工業株式会社 Adhesive layer and antistatic surface protective film
KR102398470B1 (en) * 2020-05-08 2022-05-17 율촌화학 주식회사 Pressure sensitive adhesive composition, protective film using the same, and production method of protective film using the same
CN111621249A (en) * 2020-05-15 2020-09-04 中国乐凯集团有限公司 Adhesive composition, protective film, composite film, and device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011178828A (en) * 2010-02-26 2011-09-15 Marubishi Oil Chem Co Ltd Antistatic release agent composition

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1044336A (en) * 1996-08-08 1998-02-17 Toray Ind Inc Mold releasing film
JP2002019039A (en) * 2000-07-11 2002-01-22 Nitto Denko Corp Protective film for protecting surface of optical member
JP4047103B2 (en) * 2002-08-29 2008-02-13 リンテック株式会社 Sticking body
JP4279118B2 (en) 2003-10-30 2009-06-17 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component on which it is adhered
JP4623485B2 (en) * 2004-03-02 2011-02-02 サイデン化学株式会社 Adhesive composition and surface protective film
JP3912686B2 (en) 2004-04-19 2007-05-09 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive layer, and surface protective film
JP2005314476A (en) 2004-04-27 2005-11-10 Nitto Denko Corp Adhesive composition, adhesive sheet and surface-protective film
JP4799900B2 (en) 2004-10-28 2011-10-26 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive sheet and surface protective film
TWI340161B (en) 2005-01-19 2011-04-11 Lg Chemical Ltd Acrylic pressure-sensitive adhesive composition with good re-workability,adhesive sheet,and method of preparing the sheet
KR100760978B1 (en) * 2006-01-21 2007-10-04 광 석 서 Antistatic protection films for display
JP5091434B2 (en) * 2006-07-04 2012-12-05 日本カーバイド工業株式会社 Pressure-sensitive adhesive composition and optical member surface protective film
JP2008044336A (en) * 2006-07-20 2008-02-28 Konica Minolta Opto Inc Touch roll, manufacturing device for optical film, and manufacturing method for optical film
JP4771082B2 (en) * 2006-08-23 2011-09-14 アキレス株式会社 Antistatic release film
JP2008075072A (en) * 2006-08-24 2008-04-03 Diatex Co Ltd Easily peelbale adhesive sheet and its production method
KR100836177B1 (en) * 2007-03-16 2008-06-09 도레이새한 주식회사 Antistatic silicone release coating films
JP5130768B2 (en) * 2007-03-30 2013-01-30 大日本印刷株式会社 Protective film for optical member, method for producing protective film for optical member, and protective film raw material for optical member
JP5157350B2 (en) * 2007-09-28 2013-03-06 Tdk株式会社 Method for producing laminated film and laminated ceramic electronic component
JP5361244B2 (en) 2008-05-15 2013-12-04 日本カーバイド工業株式会社 Adhesive composition for optical member surface protective film and optical member surface protective film
JP5526645B2 (en) * 2009-08-07 2014-06-18 東洋インキScホールディングス株式会社 Optical pressure-sensitive adhesive and optical pressure-sensitive adhesive sheet using the optical pressure-sensitive adhesive
JP2011252948A (en) * 2010-05-31 2011-12-15 Nitto Denko Corp Antistatic adhesive optical film and image display device
JP5906064B2 (en) * 2011-11-21 2016-04-20 藤森工業株式会社 Adhesive composition and surface protective film
JP5770607B2 (en) * 2011-11-21 2015-08-26 藤森工業株式会社 Adhesive composition and surface protective film
JP6279827B2 (en) * 2011-12-20 2018-02-14 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive layer and adhesive sheet
JP5932430B2 (en) * 2012-03-28 2016-06-08 リンテック株式会社 Adhesive composition, adhesive and adhesive sheet
JP6267854B2 (en) * 2012-04-06 2018-01-24 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive sheet, and optical member
JP5826105B2 (en) * 2012-05-02 2015-12-02 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP5977582B2 (en) * 2012-05-25 2016-08-24 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP5879208B2 (en) * 2012-06-20 2016-03-08 藤森工業株式会社 Adhesive composition and surface protective film
JP6268407B2 (en) * 2012-07-27 2018-01-31 藤森工業株式会社 Adhesive composition and surface protective film
CN104603226B (en) * 2012-09-05 2017-03-15 信越聚合物株式会社 Anti- charging property remover and anti-charging property stripping film
JP6221091B2 (en) * 2012-11-16 2017-11-01 藤森工業株式会社 Surface protection film
JP2013224431A (en) * 2013-05-20 2013-10-31 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Optical pressure-sensitive adhesive agent, and optical pressure-sensitive adhesive sheet
JP5963788B2 (en) * 2014-01-10 2016-08-03 藤森工業株式会社 Method for producing antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film
JP6147223B2 (en) * 2014-05-15 2017-06-14 藤森工業株式会社 Method for producing antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011178828A (en) * 2010-02-26 2011-09-15 Marubishi Oil Chem Co Ltd Antistatic release agent composition

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