KR102139971B1 - Antistatic surface-protective film - Google Patents

Antistatic surface-protective film Download PDF

Info

Publication number
KR102139971B1
KR102139971B1 KR1020190124243A KR20190124243A KR102139971B1 KR 102139971 B1 KR102139971 B1 KR 102139971B1 KR 1020190124243 A KR1020190124243 A KR 1020190124243A KR 20190124243 A KR20190124243 A KR 20190124243A KR 102139971 B1 KR102139971 B1 KR 102139971B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
antistatic
meth
compound
sensitive adhesive
Prior art date
Application number
KR1020190124243A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190119003A (en
Inventor
타케시 나가쿠라
히로토 니이미
료 하세가와
히로유키 요시다
아키요 히시누마
Original Assignee
후지모리 고교 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지모리 고교 가부시키가이샤 filed Critical 후지모리 고교 가부시키가이샤
Publication of KR20190119003A publication Critical patent/KR20190119003A/en
Priority to KR1020200092732A priority Critical patent/KR102270918B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102139971B1 publication Critical patent/KR102139971B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C09J7/381Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/385Acrylic polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/40Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners
    • C09J7/401Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners characterised by the release coating composition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • C09J2205/10
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

본 발명은 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다. 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름(1)의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층(2)이 형성되고, 그 표면에, 박리제층(4)이 적층된 박리 필름(5)이 첩합되고, 박리제층(4)이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제를 포함한다.The present invention provides an antistatic surface protection film having little contamination to an adherend and not deteriorating with time, and having excellent peeling antistatic performance. On one side of the base film (1) made of a resin having transparency, (A) at least one kind of (meth)acrylic acid ester monomer having an alkyl group having C4 to C18 and a copolymerizable monomer containing a carboxyl group is not included. , (B) an acrylic polymer of a copolymer containing at least one type of copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and further comprises (C) an isocyanate compound having a bifunctional or higher function, (D) a crosslinking accelerator, (E) keto A pressure-sensitive adhesive layer 2 made of a pressure-sensitive adhesive composition containing an enol tautomeric compound is formed, a release film 5 on which a release agent layer 4 is laminated is adhered to the surface, and the release agent layer 4 is dimethylpolysiloxane It contains a release agent and an antistatic agent containing as a main component.

Description

대전 방지 표면 보호 필름{ANTISTATIC SURFACE-PROTECTIVE FILM}Antistatic surface protection film {ANTISTATIC SURFACE-PROTECTIVE FILM}

본 발명은 점착제 조성물 및 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 대전 방지 성능을 구비한 대전 방지 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 피착체에 대한 오염성이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름의 제조 방법 및 대전 방지 표면 보호 필름을 제공하는 것이다.The present invention relates to an adhesive composition and a surface protection film. More specifically, the present invention relates to an antistatic surface protection film having antistatic performance. More specifically, it is to provide a method for manufacturing an antistatic surface protective film and an antistatic surface protective film having little contamination to an adherend and not deteriorating over time and having excellent peeling antistatic performance.

편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름, 및 이를 사용한 디스플레이 등의 광학 제품을 제조, 반송할 때는 당해 광학용 필름의 표면에 표면 보호 필름을 첩합하여, 후공정에 있어서의 표면의 오염이나 흠집을 방지하는 것이 이루어지고 있다. 제품인 광학용 필름의 외관 검사는 표면 보호 필름을 박리하였다가 다시 첩합하는 수고를 덜고 작업 효율을 높이기 위해, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합한 상태로 행하는 경우도 있다.When manufacturing and conveying optical films such as polarizing plates, retardation plates, lens films for displays, antireflection films, hard coat films, transparent conductive films for touch panels, and displays using the same, the surfaces of the optical films are used In order to prevent the surface from being contaminated or scratched in a later step, a surface protective film is pasted together. The appearance inspection of the optical film, which is a product, may be performed in a state where the surface protection film is pasted on the optical film in order to reduce the trouble of peeling the surface protection film and then re-bonding it, and to increase work efficiency.

종래부터, 기재 필름의 한쪽 면에 점착제층을 형성한 표면 보호 필름이 광학 제품의 제조 공정에 있어서, 흠집이나 오염의 부착을 방지하기 위해 일반적으로 사용되고 있다. 표면 보호 필름은 미점착력의 점착제층을 개재하여 광학용 필름에 첩합된다. 점착제층을 미점착력으로 하는 것은 사용이 끝난 표면 보호 필름을 광학용 필름의 표면으로부터 박리하여 제거할 때 용이하게 박리할 수 있고, 또한 점착제가 피착체인 제품의 광학용 필름에 부착되어 잔류하지 않도록(이른바, 점착제 잔여물의 발생을 방지) 하기 위함이다.Conventionally, a surface protection film having an adhesive layer formed on one side of a base film is generally used in the manufacturing process of an optical product to prevent adhesion of scratches or contamination. The surface protection film is affixed to the film for optics through the adhesive layer of unadhesive power. Making the adhesive layer unadhesive can be easily peeled off when the used surface protection film is peeled off from the surface of the optical film, and also the adhesive does not remain attached to the optical film of the product to be adhered ( To prevent the occurrence of so-called adhesive residue).

근래에는 액정 디스플레이 패널의 생산 공정에 있어서, 광학용 필름 위에 첩합된 표면 보호 필름을 박리하여 제거할 때 발생하는 박리 대전압에 의해, 액정 디스플레이 패널의 표시 화면을 제어하기 위한 드라이버 IC 등의 회로 부품이 파괴되는 현상이나, 액정 분자의 배향이 손상되는 현상이 발생 건수는 적으나 일어나고 있다.In recent years, in the production process of a liquid crystal display panel, circuit components such as driver ICs for controlling the display screen of a liquid crystal display panel by peeling high voltage generated when peeling and removing the surface protection film pasted on the optical film Although the number of occurrences of this destruction phenomenon or the phenomenon in which alignment of liquid crystal molecules is damaged is small, it is occurring.

또한, 액정 디스플레이 패널의 소비 전력을 저감시키기 위해 액정 재료의 구동 전압이 낮아지고 있고, 이에 수반하여 드라이버 IC의 파괴 전압도 낮아지고 있다. 최근에는 박리 대전압을 +0.7㎸∼-0.7㎸ 범위 내로 하는 것이 요구되고 있다.In addition, in order to reduce power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is lowered, and accordingly, the breakdown voltage of the driver IC is also lowered. In recent years, it is demanded that the peeling voltage is within the range of +0.7 kV to -0.7 kV.

이 때문에, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름으로부터 박리할 때에 박리 대전압이 높은 것에 의한 문제의 발생을 방지하기 위해, 박리 대전압을 낮게 억제하기 위한 대전 방지제를 포함하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름이 제안되고 있다.For this reason, surface protection using an adhesive layer containing an antistatic agent for suppressing the peeling voltage to be low in order to prevent the occurrence of problems caused by high peeling voltage when peeling the surface protection film from the optical film as an adherend Films are being proposed.

예를 들면, 특허문헌 1에는 알킬트리메틸암모늄염, 수산기 함유 아크릴계 폴리머, 폴리이소시아네이트로 이루어지는 점착제를 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses a surface protection film using an adhesive comprising an alkyltrimethylammonium salt, a hydroxyl-containing acrylic polymer, and polyisocyanate.

또한, 특허문헌 2에는 이온성 액체와 산가가 1.0 이하인 아크릴 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물, 및 그것을 사용한 점착 시트류가 개시되어 있다.In addition, Patent Document 2 discloses an adhesive composition comprising an ionic liquid and an acrylic polymer having an acid value of 1.0 or less, and an adhesive sheet using the same.

또한, 특허문헌 3에는 아크릴 폴리머, 폴리에테르폴리올 화합물, 음이온 흡착성 화합물에 의해 처리된 알칼리 금속염으로 이루어지는 점착 조성물, 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.In addition, Patent Document 3 discloses an adhesive composition composed of an acrylic polymer, a polyether polyol compound, an alkali metal salt treated with an anionic adsorbent compound, and a surface protection film using the same.

또한, 특허문헌 4에는 이온성 액체, 알칼리 금속염, 유리 전이 온도 0℃ 이하의 폴리머로 이루어지는 점착제 조성물, 및 그것을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.In addition, Patent Document 4 discloses an adhesive composition composed of an ionic liquid, an alkali metal salt, a polymer having a glass transition temperature of 0° C. or less, and a surface protection film using the same.

또한, 특허문헌 5, 6에는 표면 보호 필름의 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합하는 것이 개시되어 있다.In addition, Patent Documents 5 and 6 disclose mixing a polyether-modified silicone in the pressure-sensitive adhesive layer of the surface protection film.

일본 공개특허공보 2005-131957호Japanese Patent Application Publication No. 2005-131957 일본 공개특허공보 2005-330464호Japanese Patent Application Publication No. 2005-330464 일본 공개특허공보 2005-314476호Japanese Patent Application Publication No. 2005-314476 일본 공개특허공보 2006-152235호Japanese Patent Application Publication No. 2006-152235 일본 공개특허공보 2009-275128호Japanese Patent Application Publication No. 2009-275128 일본 특허공보 제4537450호Japanese Patent Publication No. 4537450

상기 특허문헌 1∼4에서는 점착제층의 내부에 대전 방지제가 첨가되어 있으나, 점착제층의 두께가 두꺼워짐에 따라, 또한, 경과 시간이 지남에 따라, 표면 보호 필름이 첩합된 피착체에 대해서 점착제층에서 피착체로 이행되는 대전 방지제의 양이 많아진다. 또한, LR(Low Reflective) 편광판이나 AG(Anti Glare)-LR 편광판 등의 광학용 필름에서는 광학용 필름의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있기 때문에, 이러한 광학용 필름에 사용되는 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다.In Patent Documents 1 to 4, an antistatic agent is added to the inside of the pressure-sensitive adhesive layer, but as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes thicker and elapsed time passes, the pressure-sensitive adhesive layer is adhered to the adherend to which the surface protection film is pasted The amount of the antistatic agent transferred to the adherend increases. In addition, in optical films such as LR (Low Reflective) polarizers or AG (Anti Glare)-LR polarizers, the surface of the optical film is treated with a silicone compound or a fluorine compound, and thus the surface used for the optical film. The peeling high voltage when peeling the protective film from the optical film as an adherend increases.

또한, 특허문헌 5, 6에 기재된 점착제층 내에 폴리에테르 변성 실리콘을 혼합했을 경우에는 표면 보호 필름의 점착력을 미조정하는 것이 곤란하다. 또한, 점착제층 내에, 폴리에테르 변성 실리콘이 혼합되어 있기 때문에, 점착제 조성물을 기재 필름 위에 도공·건조시키는 조건이 변화하면, 표면 보호 필름이 형성된 점착제층의 표면 특성이 미묘하게 변화한다. 또한, 광학용 필름의 표면을 보호한다는 관점에서, 점착제층의 두께를 극단적으로 얇게 할 수 없다. 이 때문에, 점착제층의 두께에 따라, 점착제층 내에 혼합하는 폴리에테르 변성 실리콘의 첨가량을 늘릴 필요가 있어, 결과적으로, 피착체 표면을 오염시키기 쉬워져, 경시에서의 점착력이나 피착체에 대한 오염성이 변화한다.Moreover, when the polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layers described in Patent Documents 5 and 6, it is difficult to fine-adjust the adhesive force of the surface protection film. In addition, since the polyether-modified silicone is mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, when the conditions for coating and drying the pressure-sensitive adhesive composition on the base film are changed, the surface properties of the pressure-sensitive adhesive layer on which the surface protection film is formed subtly change. In addition, from the viewpoint of protecting the surface of the optical film, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer cannot be made extremely thin. For this reason, according to the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer, it is necessary to increase the amount of polyether-modified silicone mixed in the pressure-sensitive adhesive layer, and consequently, it becomes easy to contaminate the adherend surface, resulting in adhesion with time and contamination to the adherend. Changes.

근래에는 3D 디스플레이(입체시 디스플레이)의 보급에 수반하여, 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 FPR(Film Patterned Retarder) 필름을 첩합한 것이 있다. 편광판 등의 광학용 필름의 표면에 첩합되어 있던 표면 보호 필름을 박리한 후에 FPR 필름이 첩합된다. 그러나, 편광판 등의 광학용 필름의 표면이 표면 보호 필름에 사용되고 있는 점착제나 대전 방지제로 오염되어 있으면, FPR 필름이 접착되기 어렵다는 문제가 있다. 이 때문에, 당해 용도에 사용하는 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적은 것이 요구되고 있다.In recent years, with the spread of a 3D display (display in stereoscopic), there is a thing in which an FPR (Film Patterned Retarder) film is pasted on the surface of an optical film such as a polarizing plate. The FPR film is pasted after peeling the surface protection film pasted on the surface of the optical film such as a polarizing plate. However, if the surface of the optical film such as a polarizing plate is contaminated with an adhesive or an antistatic agent used in the surface protection film, there is a problem that the FPR film is difficult to adhere. For this reason, it is desired that the surface protection film used for the said application has little contamination to an adherend.

한편, 몇 군데의 액정 패널 메이커에서는 표면 보호 필름의 피착체에 대한 오염성의 평가 방법으로서 편광판 등의 광학용 필름에 첩합되어 있는 표면 보호 필름을 한 번 박리하고, 기포를 혼입시킨 상태로 재첩합한 것을 소정 조건에서 가열 처리한 후, 표면 보호 필름을 박리하여 피착체의 표면을 관찰하는 방법이 채용되고 있다. 이러한 평가 방법에서는 피착체의 표면 오염이 미량이어도, 기포를 혼입시킨 부분과 표면 보호 필름의 점착제가 접하고 있던 부분에 피착체의 표면 오염의 차이가 있으면, 기포의 흔적(기포 얼룩이라고 하는 경우도 있다)으로서 남는다. 이 때문에, 피착체의 표면에 대한 오염성의 평가 방법으로는 매우 엄격한 평가 방법이 된다. 근래에는 이러한 엄격한 평가 방법에 의한 판정 결과여도 피착체의 표면에 대한 오염성에 문제가 없는 표면 보호 필름이 요구되고 있다. 그러나, 종래부터 제안되고 있는 대전 방지제를 함유하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름은 당해 과제를 해결하는 것이 곤란한 상황이었다.On the other hand, in some liquid crystal panel makers, as a method for evaluating the contamination of a surface protective film on an adherend, the surface protective film pasted on an optical film such as a polarizing plate was once peeled off and re-bonded with air bubbles mixed therein. A method of observing the surface of the adherend by peeling the surface protective film after heat treatment under predetermined conditions is adopted. In such an evaluation method, even if the surface contamination of the adherend is very small, if there is a difference in surface contamination of the adherend between the portion where the air bubbles are mixed and the pressure-sensitive adhesive of the surface protective film, traces of air bubbles (sometimes referred to as bubble staining) ). For this reason, it becomes a very strict evaluation method as a method of evaluating the contamination of the adherend on the surface. In recent years, there is a demand for a surface protection film that is free from contamination problems on the surface of an adherend even if it is a result of determination by such a rigorous evaluation method. However, the surface protection film using the pressure-sensitive adhesive layer containing the antistatic agent conventionally proposed was a situation in which it was difficult to solve the problem.

이 때문에, 광학용 필름에 사용하는 표면 보호 필름으로서, 피착체에 대한 오염이 매우 적고, 또한, 피착체에 대한 오염성이 경시 변화되지 않는 것이 필요로 되고 있다. 또한, 피착체로부터 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제한 표면 보호 필름이 요구되고 있다.For this reason, as a surface protection film used for an optical film, it is required that the contamination to the adherend is very small and the contamination to the adherend does not change over time. In addition, there is a demand for a surface protection film having a low peeling voltage when peeling from an adherend.

본 발명자들은 이 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 행하였다.The present inventors have made extensive studies to solve this problem.

피착체에 대한 오염이 적고, 또한 대전 방지 성능의 경시 변화도 작게 하기 위해서는 피착체를 오염시키고 있는 원인으로 추측되는 대전 방지제의 첨가량을 감량시킬 필요가 있다. 그러나, 대전 방지제의 첨가량을 감량시켰을 경우에는 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다. 본 발명자들은 대전 방지제의 첨가량의 절대량을 증가시키지 않으며, 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의, 박리 대전압을 낮게 억제하는 방법에 대해 검토하였다. 그 결과, 점착제 조성물 내에 대전 방지제를 첨가하고 혼합하여 점착제층을 형성하는 것이 아니라, 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제 성분을 부여함으로써, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.In order to reduce contamination to the adherend and to decrease the change over time in the antistatic performance, it is necessary to reduce the amount of the antistatic agent that is presumed to cause contamination of the adherend. However, when the addition amount of the antistatic agent is reduced, the peeling voltage when peeling the surface protective film from the adherend increases. The present inventors studied a method of suppressing the peeling voltage at a low level when peeling the surface protective film from the adherend without increasing the absolute amount of the amount of the antistatic agent added. As a result, rather than adding and mixing an antistatic agent into the pressure-sensitive adhesive composition to form an pressure-sensitive adhesive layer, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is coated and dried to provide an appropriate amount of an antistatic agent component on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, followed by surface protection. It has been found that the peeling large voltage when peeling a film from an optical film as an adherend can be suppressed low, thereby completing the present invention.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and has an object to provide an antistatic surface protection film having little contamination to an adherend and not deteriorating with time, and having excellent peeling antistatic performance.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에, 그 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제를 부여함으로써, 피착체에 대한 오염성을 낮게 억제하면서, 피착체인 광학용 필름으로부터 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제하는 것을 기술 사상으로 하고 있다.In order to solve the above problems, the antistatic surface protection film of the present invention is coated and dried by applying an adhesive composition, and then, after laminating the adhesive layer, an appropriate amount of an antistatic agent is applied to the surface of the adhesive layer, thereby preventing contamination of the adherend. The technical idea is to suppress the peeling large voltage when peeling from the optical film which is an adherend while suppressing low.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 대전 방지 표면 보호 필름으로서, 다음의 공정(1)∼(2), In order to solve the above problems, the present invention is an antistatic surface protection film, the following steps (1) to (2),

공정(1): 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층을 형성하는 공정과,Step (1): On one side of the base film made of a resin having transparency, (A) at least one kind of (meth)acrylic acid ester monomer having an alkyl group having C4 to C18 and a carboxyl group as a copolymerizable monomer group. It does not contain a copolymerizable monomer, but (B) is composed of an acrylic polymer of a copolymer containing at least one kind of a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and further comprises (C) a bifunctional or higher isocyanate compound, (D) crosslinked A step of forming an adhesive layer comprising an accelerator and an adhesive composition containing (E) a ketoenol tautomeric compound,

공정(2): 상기 점착제층의 표면에, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름을, 상기 박리제층을 개재하여 첩합하는 공정을 순서대로 거쳐 제작되어 이루어지고, 상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지고, 점착제층의 박리 대전압이 ±0.6㎸ 이하인 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다.Step (2): It is produced and produced through a process of pasting a release film in which a release agent layer containing an antistatic agent is laminated on one surface of the resin film on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer via the release agent layer, in order, Provided is an antistatic surface protection film, wherein the release agent layer is formed of a resin composition containing a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and an antistatic agent, and the release voltage of the pressure sensitive adhesive layer is ±0.6 MPa or less. .

또한, 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to further include (F) a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer as the copolymerizable monomer group.

또한, 상기 (D) 가교 촉진제가 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.001∼0.5중량부를 함유하여 이루어지고, 상기 (E) 케토엔올 호변이성체 화합물 0.1∼300중량부를 함유하여 이루어지고, (E)/(D)의 중량부 비율이 70∼1000인 것이 바람직하다.In addition, the crosslinking accelerator (D) is at least one selected from the group consisting of aluminum chelate compounds, titanium chelate compounds, and iron chelate compounds, and contains 0.001 to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. It is made of 0.1 to 300 parts by weight of the (E) ketoenol tautomeric compound, and the ratio of parts by weight of (E)/(D) is preferably 70 to 1000.

또한, 상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머가 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.In addition, the copolymerizable monomer containing the hydroxyl group (B) is 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxy At least one member selected from the group of compounds consisting of hydroxyethyl (meth)acrylate, N-hydroxy (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth)acrylamide , It is preferable that it is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer.

또한, 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함하거나 또는 포함하지 않고, 상기 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 1종 이상이고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0∼50중량부인 것이 바람직하다.Further, as the copolymerizable monomer group, (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomers may or may not be included, and (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomers may be poly. At least one selected from alkylene glycol mono (meth) acrylate, methoxy polyalkylene glycol (meth) acrylate, and ethoxy polyalkylene glycol (meth) acrylate, 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer It is preferably 0 to 50 parts by weight.

또한, 상기 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로서 2관능 이소시아네이트 화합물로는, 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물이고, 디이소시아네이트 화합물로는 지방족 디이소시아네이트로서, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종과, 디올 화합물로는, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올모노히드록시피발레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종으로 이루어지고, 3관능 이소시아네이트 화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체로 이루어지고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.In addition, the difunctional isocyanate compound (C) is a bifunctional isocyanate compound, a bicyclic aliphatic isocyanate compound, a compound produced by reacting a diisocyanate compound with a diol compound, and a diisocyanate compound as an aliphatic diisocyanate, Tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and one type selected from the group consisting of lysine diisocyanate, and diol compounds include 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5 -Pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol, polypropylene glycol is composed of one member selected from the group consisting of, trifunctional isocyanate compound, hexamethylene di Isocyanurate body of isocyanate compound, isocyanurate body of isophorone diisocyanate compound, adduct body of hexamethylene diisocyanate compound, adduct body of isophorone diisocyanate compound, burette body of hexamethylene diisocyanate compound, The burette body of the isophorone diisocyanate compound, the isocyanurate body of the tolylene diisocyanate compound, the isocyanurate body of the xylylene diisocyanate compound, the isocyanurate body of the hydrogenated xylylene diisocyanate compound, the tolylene diisocyanate compound It consists of an adduct, an adduct of a xylylene diisocyanate compound, and an adduct of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound, and is preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer.

또한, 상기 점착제 조성물에 (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 1.0중량부 이하(0중량부의 경우를 제외한다) 포함하는 것이 바람직하다.In addition, the pressure-sensitive adhesive composition (G) containing a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15 is 1.0 part by weight or less (excluding the case of 0 parts by weight) with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. desirable.

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the antistatic agent in the said release agent layer is an alkali metal salt.

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 Li염이고, Li(CF3SO2)2N, Li(FSO2)2N, LiCF3SO3으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the antistatic agent in the release agent layer is a Li salt and is at least one selected from the group of compounds consisting of Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(FSO 2 ) 2 N, and LiCF 3 SO 3 .

또한, 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지고, 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층이 형성되어 이루어지고, 상기 점착제층의 표면에, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층된 박리 필름이 상기 박리제층을 개재하여 첩합하여 이루어지고, 상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다.Moreover, in order to solve the said subject, this invention is copolymerizable with at least 1 sort(s) of (meth)acrylic acid ester monomer of C4~C18 alkyl group of (A) alkyl group on one surface of the base film which consists of resin which has transparency. It does not contain a copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a monomer group, but is composed of an acrylic polymer of a copolymer containing at least one of (B) a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, and further comprises (C) a bifunctional or higher isocyanate. An adhesive layer comprising an adhesive composition containing a compound, (D) a crosslinking accelerator, and (E) a ketoenol tautomeric compound is formed, and an antistatic agent is applied to one surface of the resin film on the surface of the adhesive layer. An electrification in which the release film in which the release agent layer containing is laminated is formed by bonding through the release agent layer, and the release agent layer is formed of a resin composition containing a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and an antistatic agent. Provides an anti-surface protective film.

또한, 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to further include (F) a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer as the copolymerizable monomer group.

또한, 상기 점착제 조성물에, (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 1.0중량부 이하(0중량부의 경우를 제외한다) 포함하는 것이 바람직하다.In addition, in the pressure-sensitive adhesive composition, (G) a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15, containing 1.0 part by weight or less (excluding 0 parts by weight) with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. It is preferred.

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the antistatic agent in the said release agent layer is an alkali metal salt.

또한, 상기 박리제층 중의 대전 방지제가 Li염이고, Li(CF3SO2)2N, Li(FSO2)2N, LiCF3SO3으로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the antistatic agent in the release agent layer is a Li salt and is at least one selected from the group of compounds consisting of Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(FSO 2 ) 2 N, and LiCF 3 SO 3 .

또한, 본 발명은 상기 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학용 필름을 제공한다.In addition, the present invention provides an optical film formed by bonding the antistatic surface protection film.

또한, 본 발명은 상기 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품을 제공한다.In addition, the present invention provides an optical component formed by bonding the antistatic surface protection film.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적고, 피착체에 대한 저오염성이 경시 변화하지 않는다. 또한, 본 발명에 의하면, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의, 피착체의 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있는 광학용 필름이어도, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때에 발생하는 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있고, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공할 수 있다.The antistatic surface protection film of the present invention has little contamination to an adherend, and the low contamination property to the adherend does not change over time. In addition, according to the present invention, even when the surface of the adherend, such as an LR polarizing plate or an AG-LR polarizing plate, is a film for optics treated with a silicone compound or a fluorine compound, when the antistatic surface protection film is peeled from the adherend It is possible to provide a low antistatic surface protection film that can suppress the generated peeling high voltage and does not deteriorate over time and has excellent peeling antistatic performance.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름에 의하면, 광학용 필름의 표면을 확실히 보호할 수 있는 점에서 생산성의 향상과 수율의 향상을 도모할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the antistatic surface protection film of this invention, since it can reliably protect the surface of an optical film, productivity improvement and yield improvement can be aimed at.

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름으로부터, 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예의 하나를 나타낸 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing the concept of the antistatic surface protection film of the present invention.
It is sectional drawing which shows the state which peeled the peeling film from the antistatic surface protection film of this invention.
3 is a cross-sectional view showing one embodiment of the optical component of the present invention.

이하, 실시형태에 기초하여, 본 발명을 자세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on the embodiments.

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다. 이 대전 방지 표면 보호 필름(10)은 투명한 기재 필름(1)의 한쪽 면의 표면에, 점착제층(2)이 형성되어 있다. 이 점착제층(2)의 표면에는 수지 필름(3)의 표면에 박리제층(4)이 형성된 박리 필름(5)이 첩합되어 있다.1 is a cross-sectional view showing the concept of the antistatic surface protection film of the present invention. The antistatic surface protection film 10 is provided with an adhesive layer 2 on the surface of one surface of the transparent base film 1. On the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2, a release film 5 having a release agent layer 4 formed on the surface of the resin film 3 is pasted.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)으로는 투명성 및 가요성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름이 사용된다. 이로써, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체인 광학 부품에 첩합한 상태로, 광학 부품의 외관 검사를 행할 수 있다. 기재 필름(1)으로서 사용하는 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 필름은 바람직하게는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름이 사용된다. 폴리에스테르 필름 외에, 필요한 강도를 갖고, 또한 광학 적성을 갖는 것이면, 다른 수지로 이루어지는 필름도 사용 가능하다. 기재 필름(1)은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정값으로 제어해도 된다.As the base film 1 used for the antistatic surface protection film 10 according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. Thereby, the appearance of the optical component can be inspected while the antistatic surface protection film is adhered to the optical component as an adherend. As a film made of a resin having transparency used as the base film 1, polyester films such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate, and polybutylene terephthalate are preferably used. In addition to the polyester film, a film made of another resin can be used as long as it has the required strength and optical aptitude. The base film 1 may be a non-stretched film, or a uniaxially or biaxially stretched film. Moreover, you may control the stretching ratio of a stretched film and the orientation angle of the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉽고, 보다 바람직하다.The thickness of the base film 1 used for the antistatic surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited, for example, a thickness of about 12 to 100 μm is preferred, and a thickness of about 20 to 50 μm It is easy to handle and is more preferable.

또한, 필요에 따라, 기재 필름(1)의 점착제층(2)이 형성된 면의 반대측의 면에, 표면의 오염을 방지하는 방오층, 대전 방지층, 흠집 방지 하드 코트층 등을 형성할 수 있다. 또한, 기재 필름(1)의 표면에 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.Further, if necessary, an antifouling layer, an antistatic layer, a scratch-resistant hard coat layer, etc., to prevent contamination of the surface can be formed on the surface opposite to the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the base film 1 is formed. Moreover, you may perform the self-adhesive process, such as surface modification by corona discharge and application of an anchor coat agent, to the surface of the base film 1.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)은 피착체의 표면에 접착하고, 사용이 끝난 후에 간단히 박리시키고, 또한, 피착체를 오염시키기 어려운 점착제이면 특별히 한정되지 않지만, 광학용 필름에 첩합 후의 내구성 등을 고려하면 (메타)아크릴레이트 공중합체를 가교시켜 이루어지는 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 일반적이다.In addition, the pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention adheres to the surface of the adherend, is easily peeled off after use, and is particularly suitable if it is an adhesive that is difficult to contaminate the adherend. Although not limited, it is common to use an acrylic pressure-sensitive adhesive formed by crosslinking a (meth)acrylate copolymer in consideration of durability after bonding to an optical film.

특히, 아크릴계 점착제의 주제가 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 포함하는 공중합체의 아크릴계 폴리머로 이루어지는 점착제층이 바람직하다.In particular, the main value of the acrylic pressure-sensitive adhesive (A) does not include a copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a copolymerizable monomer group with at least one of (meth)acrylic acid ester monomers having C4 to C18 carbon atoms in the alkyl group, and (B) a hydroxyl group. A pressure-sensitive adhesive layer made of an acrylic polymer of a copolymer containing at least one kind of copolymerizable monomer containing is preferred.

상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함할 수 있다.The copolymerizable monomer group may further include (F) a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer.

또한, 상기 아크릴계 폴리머에 첨가하여, (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물을 함유하는 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층이 바람직하다.Further, a pressure-sensitive adhesive layer comprising an adhesive composition containing (C) a bifunctional or higher isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, and (E) a ketoenol tautomer compound in addition to the acrylic polymer is preferred.

(A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 부틸(메타)아크릴레이트, 이소부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 노닐(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 이소데실(메타)아크릴레이트, 운데실(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트, 트리데실(메타)아크릴레이트, 테트라데실(메타)아크릴레이트, 펜타데실(메타)아크릴레이트, 헥사데실(메타)아크릴레이트, 헵타데실(메타)아크릴레이트, 옥타데실(메타)아크릴레이트, 미리스틸(메타)아크릴레이트, 이소미리스틸(메타)아크릴레이트, 세틸(메타)아크릴레이트, 이소세틸(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.(A) As the (meth)acrylic acid ester monomer having C4 to C18 carbon atoms in the alkyl group, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, hexyl (meth)acrylate, heptyl (Meth)acrylate, octyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth) Acrylate, isodecyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate, pentadecyl (meth)acrylate , Hexadecyl (meth)acrylate, heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate, myristyl (meth)acrylate, isomiristyl (meth)acrylate, cetyl (meth)acrylate, iso Cetyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, isostearyl (meth)acrylate, and the like.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머를 50∼95중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다.When the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the (meth)acrylic acid ester monomer having C4 to C18 carbon atoms in the alkyl group (A) is contained in a proportion of 50 to 95 parts by weight.

(B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머로는, 8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 등의 히드록시알킬(메타)아크릴레이트류나, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 수산기 함유 (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.(B) As a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group, 8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxy Hydroxyalkyl (meth)acrylates such as ethyl (meth)acrylate, N-hydroxy (meth)acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, N-hydroxyethyl (meth)acrylamide, etc. And hydroxyl group-containing (meth)acrylamides.

8-히드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, N-히드록시(메타)아크릴아미드, N-히드록시메틸(메타)아크릴아미드, N-히드록시에틸(메타)아크릴아미드로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.8-hydroxyoctyl (meth)acrylate, 6-hydroxyhexyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, N-hydroxy (meth) ) It is preferable that it is at least one or more selected from the group of compounds consisting of acrylamide, N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, and N-hydroxyethyl (meth)acrylamide.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, 상기 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 0.1∼10중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다.When the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable to contain the copolymerizable monomer containing the hydroxyl group (B) in a proportion of 0.1 to 10 parts by weight.

(C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로는, 1분자 중에 적어도 2개 이상의 이소시아네이트(NCO)기를 갖는 폴리이소시아네이트 화합물로부터 선택되는, 적어도 1종 또는 2종 이상이면 된다. 폴리이소시아네이트 화합물에는 지방족계 이소시아네이트, 방향족계 이소시아네이트, 비고리형계 이소시아네이트, 지환식계 이소시아네이트 등의 분류가 있지만, 어느 것이어도 된다. 폴리이소시아네이트 화합물의 구체예로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트(TMDI) 등의 지방족계 이소시아네이트 화합물이나, 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 자일릴렌디이소시아네이트(XDI), 수첨 자일릴렌디이소시아네이트(H6XDI), 디메틸디페닐렌디이소시아네이트(TOID), 톨릴렌디이소시아네이트(TDI) 등의 방향족계 이소시아네이트 화합물을 들 수 있다.(C) The bifunctional or more isocyanate compound may be at least one or two or more selected from polyisocyanate compounds having at least two or more isocyanate (NCO) groups in one molecule. The polyisocyanate compound is classified into aliphatic isocyanate, aromatic isocyanate, acyclic isocyanate, alicyclic isocyanate, and the like, but any of them may be used. Specific examples of the polyisocyanate compound include aliphatic isocyanate compounds such as hexamethylene diisocyanate (HDI), isophorone diisocyanate (IPDI), and trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), And aromatic isocyanate compounds such as xylylene diisocyanate (XDI), hydrogenated xylylene diisocyanate (H6XDI), dimethyldiphenylenediisocyanate (TOID), and tolylene diisocyanate (TDI).

3관능 이상의 이소시아네이트 화합물로는, 2관능 이소시아네이트 화합물(1분자 중에 2개의 NCO기를 갖는 화합물)의 뷰렛 변성체나 이소시아누레이트 변성체, 트리메틸올프로판(TMP)이나 글리세린 등의 3가 이상의 폴리올(1분자 중에 적어도 3개 이상의 OH기를 갖는 화합물)과의 어덕트체(폴리올 변성체) 등을 들 수 있다.As a trifunctional or higher isocyanate compound, a trivalent or higher polyol (1), such as a biuret-modified isocyanate compound (a compound having two NCO groups in one molecule), an isocyanurate-modified product, trimethylolpropane (TMP), or glycerin And adducts (polyol-modified products) with a compound having at least three or more OH groups in the molecule.

(C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물로서 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물만, 또는 (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물만을 사용하는 것도 가능하다. 또한, (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물과, (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물을 병용하는 것도 가능하다.It is also possible to use (C-1) only a trifunctional isocyanate compound or (C-2) only a bifunctional isocyanate compound as the (C) bifunctional or higher isocyanate compound. Moreover, it is also possible to use together (C-1) trifunctional isocyanate compound and (C-2) bifunctional isocyanate compound.

또한, 본 발명에 사용하는 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물로는, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체, 이소포론디이소시아네이트 화합물의 뷰렛체로 이루어지는, (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체, 톨릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트 화합물의 어덕트체로 이루어지는, (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 포함하는 것이 바람직하다. (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군과 (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군을 병용하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물로서 (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 병용함으로써, 저속 박리 영역 및 고속 박리 영역의 점착력 밸런스를 더욱 개선할 수 있다.Moreover, as (C-1) trifunctional isocyanate compound used for this invention, the isocyanurate body of a hexamethylene diisocyanate compound, the isocyanurate body of an isophorone diisocyanate compound, and the hexamethylene diisocyanate compound At least 1 selected from the group of (C-1-1) first aliphatic isocyanate compounds, consisting of a duct body, an adduct of an isophorone diisocyanate compound, a burette body of a hexamethylene diisocyanate compound, and a burette body of an isophorone diisocyanate compound. Species or more, the isocyanurate body of a tolylene diisocyanate compound, the isocyanurate body of a xylylene diisocyanate compound, the isocyanurate body of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound, the adduct body of a tolylene diisocyanate compound, xyl It is preferable to contain at least 1 sort(s) selected from (C-1-2) 2nd aromatic type isocyanate compound group which consists of the adduct body of a relay diisocyanate compound and the adduct body of a hydrogenated xylylene diisocyanate compound. It is preferable to use (C-1-1) 1st aliphatic type isocyanate compound group and (C-1-2) 2nd aromatic type isocyanate compound group together. In the present invention, as the (C-1) trifunctional isocyanate compound, (C-1-1) at least one selected from the first aliphatic isocyanate compound group and (C-1-2) second aromatic isocyanate compound group By using at least one or more selected combinations, the adhesive force balance between the low-speed peeling region and the high-speed peeling region can be further improved.

또한, (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물은 상기 (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, 상기 (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상을 포함하고, 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 합계하여 0.5∼5.0중량부 포함되는 것이 바람직하다. 또한, (C-1-1) 제1 지방족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상과, (C-1-2) 제2 방향족계 이소시아네이트 화합물군 중에서 선택된 적어도 1종 이상의 혼합 비율은 (C-1-1):(C-1-2)가 중량비로 10%:90%∼90%:10%의 범위 내인 것이 바람직하다.In addition, the (C-1) trifunctional isocyanate compound is at least one or more selected from the (C-1-1) first aliphatic isocyanate compound group, and the (C-1-2) second aromatic isocyanate compound group. It is preferable that it contains at least one selected from among, and is contained 0.5 to 5.0 parts by weight in total with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer. Further, the mixing ratio of (C-1-1) at least one or more selected from the group of first aliphatic isocyanate compounds and (C-1-2) at least one or more selected from the group of second aromatic isocyanate compounds is (C- It is preferable that 1-1):(C-1-2) is in a range of 10%:90% to 90%:10% by weight.

또한, 본 발명에 사용하는 (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물로는, 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물인 것이 바람직하다. Moreover, as a (C-2) bifunctional isocyanate compound used for this invention, it is preferable that it is a compound produced by making a diisocyanate compound and a diol compound react as a non-cyclic aliphatic isocyanate compound.

예를 들면, 화학식 「O=C=N-X-N=C=O」(다만, X는 2가기)로 디이소시아네이트 화합물을 화학식 「HO-Y-OH」(다만, Y는 2가기)로 디올 화합물을 나타낼 때, 디이소시아네이트 화합물과 디올 화합물을 반응시켜 생성된 화합물로는, 예를 들면, 다음의 화학식 Z로 나타내는 화합물을 들 수 있다.For example, a diisocyanate compound is represented by the formula "O=C=NXN=C=O" (where X is a divalent group) and a diol compound is represented by the formula "HO-Y-OH" (where Y is a divalent group). At this time, examples of the compound produced by reacting the diisocyanate compound with the diol compound include a compound represented by the following formula (Z).

[화학식 Z][Formula Z]

O=C=N-X-(NH-CO-O-Y-O-CO-NH-X)n-N=C=OO=C=NX-(NH-CO-OYO-CO-NH-X) n -N=C=O

여기서, n은 0이상의 정수이다. n이 0인 경우, 화학식 Z는 「O=C=N-X-N=C=O」를 나타낸다. 2관능 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물로서 화학식 Z에 있어서 n이 0인 화합물(디올 화합물에 대해 미반응의 디이소시아네이트 화합물)을 포함해도 되지만, n이 1 이상의 정수인 화합물을 필수 성분으로서 포함하는 것이 바람직하다. 2관능 비고리형 지방족 이소시아네이트 화합물은 화학식 Z에 있어서의 n이 상이한 복수의 화합물로 이루어지는 혼합물이어도 된다.Here, n is an integer of 0 or more. When n is 0, the formula Z represents "O=C=N-X-N=C=O". As the bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound, a compound having n in 0 in formula (Z) (a diisocyanate compound unreacted to the diol compound) may be included, but it is preferable to include a compound having n being an integer of 1 or more as an essential component. The bifunctional acyclic aliphatic isocyanate compound may be a mixture of a plurality of compounds having different ns in the formula (Z).

화학식 「O=C=N-X-N=C=O」로 나타내는 디이소시아네이트 화합물은 지방족 디이소시아네이트이다. X는 비고리형으로 지방족의 2가기인 것이 바람직하다. 상기 지방족 디이소시아네이트로는, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아네이트로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다.The diisocyanate compound represented by the formula "O=C=N-X-N=C=O" is an aliphatic diisocyanate. It is preferable that X is a bicyclic aliphatic divalent group. The aliphatic diisocyanate is preferably one or two or more selected from the compound group consisting of tetramethylene diisocyanate, pentamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, and lysine diisocyanate.

화학식 「HO-Y-OH」로 나타내는 디올 화합물은 지방족 디올이다. Y는 비고리형으로 지방족의 2가기인 것이 바람직하다. 상기 디올 화합물로는, 2-메틸-1,3-프로판디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 2-메틸-2-프로필-1,3-프로판디올, 2-에틸-2-부틸-1,3-프로판디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올모노히드록시피발레이트, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜로 이루어지는 화합물군 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 것이 바람직하다.The diol compound represented by the formula "HO-Y-OH" is an aliphatic diol. Y is acyclic, and it is preferable that it is an aliphatic divalent group. As the diol compound, 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-2 -Among the group of compounds consisting of butyl-1,3-propanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol monohydroxypivalate, polyethylene glycol, and polypropylene glycol It is preferable to consist of 1 or 2 types selected.

상기 (C-1) 3관능 이소시아네이트 화합물과, (C-2) 2관능 이소시아네이트 화합물의 중량비(C-1/C-2)가 1∼90인 것이 바람직하다. 상기 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 상기 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물이 0.1∼10중량부인 것이 바람직하다.It is preferable that the weight ratio (C-1/C-2) of the said (C-1) trifunctional isocyanate compound and (C-2) bifunctional isocyanate compound is 1-90. It is preferable that the (C) bifunctional or higher isocyanate compound is 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer.

(D) 가교 촉진제는 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 경우에, 상기 공중합체와 가교제의 반응(가교 반응)에 대해 촉매로서 기능하는 물질이면 되고, 제3급 아민 등의 아민계 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 유기 주석 화합물, 유기 납 화합물, 유기 아연 화합물 등의 유기 금속 화합물 등을 들 수 있다. 본 발명에서는 가교 촉진제로서 금속 킬레이트 화합물이나 유기 주석 화합물이 바람직하다.(D) When the crosslinking accelerator is a polyisocyanate compound, a substance that functions as a catalyst for the reaction (crosslinking reaction) between the copolymer and the crosslinking agent may be used, and amine-based compounds such as tertiary amines and metal chelate compounds , Organometallic compounds such as organotin compounds, organic lead compounds, and organic zinc compounds. In the present invention, a metal chelate compound or an organotin compound is preferable as a crosslinking accelerator.

금속 킬레이트 화합물로는, 중심 금속 원자 M에 1 이상의 다좌 배위자 L이 결합한 화합물이다. 금속 킬레이트 화합물은 금속 원자 M에 결합하는 1 이상의 단좌 배위자 X를 가져도 되고, 갖지 않아도 된다. 예를 들면, 금속 원자 M이 1개인 금속 킬레이트 화합물의 화학식을 M(L)m(X)n으로 나타낼 때, m≥1, n≥0이다. m이 2이상인 경우, m개의 L은 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다. n이 2이상인 경우, n개의 X는 동일한 배위자여도 되고, 상이한 배위자여도 된다.The metal chelate compound is a compound in which one or more polydentate ligands L are bonded to the central metal atom M. The metal chelate compound may or may not have one or more monodentate ligands X that bind to the metal atom M. For example, when the chemical formula of a metal chelate compound having one metal atom M is represented by M(L) m (X) n , m≥1 and n≥0. When m is 2 or more, m L may be the same ligand or different ligands. When n is 2 or more, n Xs may be the same ligand or different ligands.

금속 원자 M으로는, Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, Sn 등을 들 수 있다.Examples of the metal atom M include Fe, Ni, Mn, Cr, V, Ti, Ru, Zn, Al, Zr, and Sn.

다좌 배위자 L로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나, 아세틸아세톤(별명 2,4-펜탄디온), 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 케토엔올 호변이성체 화합물이고, 다좌 배위자 L에 있어서는 엔올이 탈프로톤한 에놀레이트(예를 들면, 아세틸아세토네이트)여도 된다.As the multidentate ligand L, β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, and stearyl acetoacetate, and acetylacetone (aka 2,4-pentanedione) , Β-diketones such as 2,4-hexanedione and benzoyl acetone. These are ketoenol tautomeric compounds, and in the multidentate ligand L, an enol with an enol being deprotonated (for example, acetylacetonate) may be used.

단좌 배위자 X로는, 염소 원자, 브롬 원자 등의 할로겐 원자, 펜타노일기, 헥사노일기, 2-에틸헥사노일기, 옥타노일기, 노나노일기, 데카노일기, 도데카노일기, 옥타데카노일기 등의 아실옥시기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 알콕시기 등을 들 수 있다.As the monodentate ligand X, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, pentanoyl group, hexanoyl group, 2-ethylhexanoyl group, octanoyl group, nonanoyl group, decanoyl group, dodecanoyl group, octadecanoyl group, etc. And alkoxy groups such as a group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, and a butoxy group.

금속 킬레이트 화합물의 구체예로는, 트리스(2,4-펜탄디오네이트)철(III), 철 트리스아세틸아세토네이트, 티타늄 트리스아세틸아세토네이트, 루테늄 트리스아세틸아세토네이트, 아연 비스아세틸아세토네이트, 알루미늄 트리스아세틸아세토네이트, 지르코늄 테트라키스아세틸아세토네이트, 트리스(2,4-헥산디오네이트) 철(III), 비스(2,4-헥산디오네이트) 아연, 트리스(2,4-헥산디오네이트)티탄, 트리스(2,4-헥산디오네이트)알루미늄, 테트라키스(2,4-헥산디오네이트)지르코늄 등을 들 수 있다.Specific examples of the metal chelate compound include tris(2,4-pentanedionate) iron(III), iron trisacetylacetonate, titanium trisacetylacetonate, ruthenium trisacetylacetonate, zinc bisacetylacetonate, and aluminum tris Acetylacetonate, zirconium tetrakisacetylacetonate, tris(2,4-hexanedionate) iron(III), bis(2,4-hexanedionate) zinc, tris(2,4-hexanedionate) titanium, And tris(2,4-hexanedionate) aluminum, tetrakis(2,4-hexanedionate) zirconium, and the like.

유기 주석 화합물로는, 디알킬주석 옥사이드나, 디알킬주석의 지방산염, 제1주석의 지방산염 등을 들 수 있다. 종래, 디부틸주석 화합물이 많이 사용되어 왔지만, 근래에는 유기 주석 화합물의 독성 문제가 지적되어, 특히 디부틸주석 화합물에 포함되는 트리부틸주석(TBT)은 내분비 교란 물질로서도 염려되고 있다. 안전성의 관점에서, 디옥틸주석 화합물 등의 장쇄 알킬주석 화합물이 바람직하다. 구체적인 유기 주석 화합물로는, 디옥틸주석 옥사이드, 디옥틸주석 디라우레이트 등을 들 수 있다. 잠정적으로는 Sn 화합물도 사용 가능하지만, 장래적으로는, 보다 안전성이 높은 물질의 사용이 요구되는 추세를 감안하여, Sn에 비해 안전성이 높은 Al, Ti, Fe 등의 금속 킬레이트 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the organotin compound include dialkyl tin oxide, fatty acid salts of dialkyl tin, and fatty acid salts of first tin. Conventionally, dibutyltin compounds have been used a lot, but in recent years, the toxicity problem of organotin compounds has been pointed out, and tributyltin (TBT) contained in dibutyltin compounds is also concerned as an endocrine disruptor. From the viewpoint of safety, long-chain alkyl tin compounds such as dioctyl tin compounds are preferred. As a specific organotin compound, dioctyl tin oxide, dioctyl tin dilaurate, etc. are mentioned. Sn compounds can also be used temporarily, but in the future, considering the trend that requires the use of higher safety materials, it is better to use metal chelating compounds such as Al, Ti, and Fe, which are more stable than Sn. desirable.

본 발명에 따른 점착제 조성물에 있어서의 (D) 가교 촉진제로는, 알루미늄 킬레이트 화합물, 티탄 킬레이트 화합물, 철 킬레이트 화합물로 이루어지는 군 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.The (D) crosslinking accelerator in the pressure-sensitive adhesive composition according to the present invention is preferably at least one selected from the group consisting of aluminum chelate compounds, titanium chelate compounds, and iron chelate compounds.

(D) 가교 촉진제는 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, 0.001∼0.5중량부 포함하는 것이 바람직하다.(D) It is preferable that the crosslinking accelerator contains 0.001 to 0.5 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer.

(E) 케토엔올 호변이성체 화합물로는, 아세토초산메틸, 아세토초산에틸, 아세토초산옥틸, 아세토초산올레일, 아세토초산라우릴, 아세토초산스테아릴 등의 β-케토에스테르나, 아세틸아세톤, 2,4-헥산디온, 벤조일아세톤 등의 β-디케톤을 들 수 있다. 이들은 폴리이소시아네이트 화합물을 가교제로 하는 점착제 조성물에 있어서, 가교제가 갖는 이소시아네이트기를 블록함으로써, 가교제의 배합 후에 있어서의 점착제 조성물의 과잉 점도 상승이나 겔화를 억제하여, 점착제 조성물의 포트 라이프를 연장할 수 있다.(E) Ketoenol tautomeric compounds include β-ketoesters such as methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, octyl acetoacetate, oleyl acetoacetate, lauryl acetoacetate, and stearyl acetoacetate, acetylacetone, 2 And β-diketones such as ,4-hexanedione and benzoyl acetone. In the pressure-sensitive adhesive composition containing a polyisocyanate compound as a crosslinking agent, by blocking the isocyanate group possessed by the crosslinking agent, excessive viscosity rise and gelation of the pressure-sensitive adhesive composition after the crosslinking agent can be suppressed, and the pot life of the pressure-sensitive adhesive composition can be extended.

(E) 케토엔올 호변이성체 화합물은 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해 0.1∼300중량부 포함되는 것이 바람직하다. (E) It is preferable that the ketoenol tautomeric compound is contained in an amount of 0.1 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the acrylic polymer of the copolymer.

(E) 케토엔올 호변이성체 화합물은 (D) 가교 촉진제와는 반대로 가교를 억제하는 효과를 갖는 점에서, (D) 가교 촉진제에 대한 (E) 케토엔올 호변이성체 화합물의 비율을 적절히 설정하는 것이 바람직하다. 점착제 조성물의 포트 라이프를 길게 하고, 저장 안정성을 향상시키기 위해서는, (E)/(D)의 중량부 비율이 70∼1000인 것이 바람직하다.(E) The ketoenol tautomeric compound has an effect of inhibiting crosslinking as opposed to (D) the crosslinking accelerator, so that (D) the ratio of the (E) ketoenol tautomeric compound to the crosslinking accelerator is appropriately set. It is preferred. In order to lengthen the pot life of the pressure-sensitive adhesive composition and improve the storage stability, it is preferable that the ratio by weight of (E)/(D) is 70 to 1000.

상기 아크릴계 폴리머는 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 임의로 함유할 수 있다. (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 폴리알킬렌글리콜이 갖는 복수의 수산기 중, 하나의 수산기가 (메타)아크릴산에스테르로서 에스테르화된 화합물이면 된다. (메타)아크릴산에스테르기가 중합성기가 되므로, 주제 폴리머에 공중합할 수 있다. 다른 수산기는 OH인 그대로여도 되고, 메틸에테르나 에틸에테르 등의 알킬에테르나, 초산에스테르 등의 포화 카르복실산에스테르 등이 되어 있어도 된다. The acrylic polymer may optionally contain (F) a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer as the copolymerizable monomer group. (F) As the polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer, a compound in which one hydroxyl group is esterified as a (meth)acrylic acid ester among a plurality of hydroxyl groups of the polyalkylene glycol may be sufficient. Since the (meth)acrylic acid ester group becomes a polymerizable group, it can be copolymerized with the main polymer. Other hydroxyl groups may be OH, or may be alkyl ethers such as methyl ether and ethyl ether, or saturated carboxylic acid esters such as acetic acid ester.

폴리알킬렌글리콜이 갖는 알킬렌기로는, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다. 폴리알킬렌글리콜이 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌리콜, 폴리부틸렌글리콜 등의 2종 이상의 폴리알킬렌글리콜의 공중합체여도 된다. 폴리알킬렌글리콜의 공중합체로는, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜 등을 들 수 있고, 당해 공중합체는 블록 공중합체, 랜덤 공중합체여도 된다.Examples of the alkylene group possessed by the polyalkylene glycol include, but are not limited to, ethylene group, propylene group, butylene group, and the like. The polyalkylene glycol may be a copolymer of two or more polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polybutylene glycol. Examples of the copolymer of polyalkylene glycol include polyethylene glycol-polypropylene glycol, polyethylene glycol-polybutylene glycol, polypropylene glycol-polybutylene glycol, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol, and the like. The copolymer may be a block copolymer or a random copolymer.

(F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머가 폴리알킬렌글리콜 사슬을 구성하는 알킬렌옥사이드의 평균 반복수가 3∼14인 것이 바람직하다. 「알킬렌옥사이드의 평균 반복수」란, (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머의 분자 구조에 포함되는 「폴리알킬렌글리콜 사슬」의 부분에 있어서, 알킬렌옥사이드 단위가 반복되는 평균의 수이다.(F) It is preferable that the average repetition number of the alkylene oxide which a polyalkylene glycol mono (meth)acrylic acid ester monomer comprises a polyalkylene glycol chain is 3-14. The "average repetition number of alkylene oxides" means that the alkylene oxide units are repeated in the part of the "polyalkylene glycol chain" contained in the molecular structure of the (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer. It is the average number.

(F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머로는, 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리알킬렌글리콜(메타)아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 1종 이상인 것이 바람직하다.(F) Polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomers include polyalkylene glycol mono(meth)acrylate, methoxypolyalkylene glycol (meth)acrylate, and ethoxypolyalkylene glycol (meth)acrylic. It is preferable that it is at least 1 sort(s) or more selected from a rate.

보다 구체적으로는, 폴리에틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-모노(메타)아크릴레이트; 메톡시폴리에틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 메톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트; 에톡시폴리에틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트, 에톡시-폴리에틸렌글리콜-폴리프로필렌글리콜-폴리부틸렌글리콜-(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.More specifically, polyethylene glycol-mono(meth)acrylate, polypropylene glycol-mono(meth)acrylate, polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-mono(meth)acrylic Rate, polyethylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylate, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene glycol-mono(meth)acrylic Rate; Methoxypolyethylene glycol-(meth)acrylate, methoxypolypropylene glycol-(meth)acrylate, methoxypolybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-(meth)acrylic Rate, methoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, methoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene Glycol-(meth)acrylate; Ethoxypolyethylene glycol-(meth)acrylate, ethoxypolypropylene glycol-(meth)acrylate, ethoxypolybutylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-(meth)acrylic Rate, ethoxy-polyethylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polypropylene glycol-polybutylene glycol-(meth)acrylate, ethoxy-polyethylene glycol-polypropylene glycol-polybutylene Glycol-(meth)acrylate and the like.

공중합체의 아크릴계 폴리머의 합계를 100중량부로 할 때, 상기 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 0∼50중량부의 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 점착제층에 있어서, 점착제 조성물에 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 함유시키지 않아도 된다.When the total amount of the acrylic polymer of the copolymer is 100 parts by weight, it is preferable that the (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer is contained in a proportion of 0 to 50 parts by weight. In the pressure-sensitive adhesive layer according to the present invention, it is not necessary to contain the (F) polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer in the pressure-sensitive adhesive composition.

점착제 조성물은 (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 임의로 함유할 수 있다. 폴리에테르 변성 실록산 화합물은 폴리에테르기를 갖는 실록산 화합물이고, 통상의 실록산 단위[-SiR1 2-O-] 외에, 폴리에테르기를 갖는 실록산 단위[-SiR1(R2O(R3O)nR4)-O-]를 갖는다. 여기서, R1은 1종 또는 2종 이상의 알킬기 또는 아릴기, R2 및 R3은 1종 또는 2종 이상의 알킬렌기, R4는 1종 또는 2종 이상의 알킬기나 아실기 등(말단기)을 나타낸다. 폴리에테르기로는, 폴리옥시에틸렌기[(C2H4O)n]나 폴리옥시프로필렌기[(C3H6O)n] 등의 폴리옥시알킬렌기를 들 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition (G) may optionally contain a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. The polyether-modified siloxane compound is a siloxane compound having a polyether group, and in addition to the usual siloxane unit [-SiR 1 2 -O-], a siloxane unit having a polyether group [-SiR 1 (R 2 O(R 3 O) n R 4 )-O-]. Here, R 1 is one or two or more alkyl groups or aryl groups, R 2 and R 3 are one or two or more alkylene groups, R 4 is one or two or more alkyl groups or acyl groups (terminal groups). Shows. Examples of the polyether group include polyoxyalkylene groups such as polyoxyethylene groups [(C 2 H 4 O) n ] and polyoxypropylene groups [(C 3 H 6 O) n ].

폴리에테르 변성 실록산 화합물은 (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 공중합체의 아크릴계 폴리머 100중량부에 대해, (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물이 0.01∼1.0중량부 포함되는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1∼0.5중량부이다.It is preferable that the polyether-modified siloxane compound is (G) a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. Moreover, it is preferable that the polyether-modified siloxane compound of (G) HLB value 7-15 is contained in 0.01-1.0 weight part with respect to 100 weight part of acrylic polymers of a copolymer. More preferably, it is 0.1 to 0.5 parts by weight.

HLB란, 예를 들면 JIS K3211(계면활성제 용어) 등으로 규정하는 친수 친유 밸런스(친수성 친유성비)이다.The HLB is, for example, a hydrophilic lipophilic balance (hydrophilic lipophilic ratio) specified in JIS K3211 (a surfactant term).

폴리에테르 변성 실록산 화합물은 예를 들면, 수소화규소기를 갖는 폴리오르가노실록산 주쇄에 대해, 불포화 결합 및 폴리옥시알킬렌기를 갖는 유기 화합물을 히드로실릴화 반응에 의해 그래프트시킴으로써 얻을 수 있다. 구체적으로는, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시에틸렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시에틸렌)실록산·메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 공중합체, 디메틸실록산·메틸(폴리옥시프로필렌)실록산 중합체 등을 들 수 있다. 폴리에테르 변성 실록산 화합물의 HLB값은 폴리에테르기와 실록산기의 비율을 선택함으로써, 조정할 수 있다.The polyether-modified siloxane compound can be obtained, for example, by grafting an organic compound having an unsaturated bond and a polyoxyalkylene group to a polyorganosiloxane main chain having a silicon hydride group by a hydrosilylation reaction. Specifically, dimethylsiloxane methyl (polyoxyethylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane methyl (polyoxyethylene) siloxane methyl (polyoxypropylene) siloxane copolymer, dimethylsiloxane methyl (polyoxypropylene) siloxane polymer, etc. Can be heard. The HLB value of the polyether-modified siloxane compound can be adjusted by selecting a ratio of the polyether group and the siloxane group.

(G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 점착제 조성물에 배합함으로써, 점착제의 점착력 및 리워크 성능을 개선할 수 있다. 점착제 조성물이 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 함유하지 않는 경우, 보다 저비용이 된다.(G) By blending a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15 in an adhesive composition, the adhesive strength and rework performance of the adhesive can be improved. When the pressure-sensitive adhesive composition does not contain a polyether-modified siloxane compound, it becomes more expensive.

또한, 그 밖의 성분으로서 알킬렌옥사이드를 함유하는 공중합 가능한 (메타)아크릴 모노머, (메타)아크릴아미드 모노머, 디알킬 치환 아크릴아미드 모노머, 계면활성제, 경화 촉진제, 가소제, 충전제, 경화 지연제, 가공 보조제, 노화 방지제, 산화 방지제 등의 공지된 첨가제를 적절히 배합할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상 함께 사용된다.In addition, copolymerizable (meth)acrylic monomers containing alkylene oxides as other components, (meth)acrylamide monomers, dialkyl substituted acrylamide monomers, surfactants, curing accelerators, plasticizers, fillers, curing retarders, processing aids Known additives, such as antioxidants and antioxidants, can be suitably blended. These are used alone or in combination of two or more.

본 발명의 점착제 조성물에 사용되는 주제의 공중합체는 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서, 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 공중합시킴으로써 합성할 수 있다. 상기 공중합 가능한 모노머군으로서 추가로 (F) 폴리알킬렌글리콜모노(메타)아크릴산에스테르 모노머를 포함해도 된다. 공중합체의 중합 방법은 특별히 한정되지 않고, 용액 중합, 유화 중합 등, 적절한 중합 방법이 사용 가능하다.The copolymer of the subject used in the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention includes (A) at least one of (meth)acrylic acid ester monomers having C4 to C18 alkyl groups, and a copolymerizable monomer group comprising a copolymerizable monomer containing a carboxyl group. Although not included, it can be synthesized by copolymerizing (B) at least one kind of a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group. As the group of the copolymerizable monomers, it may further include (F) a polyalkylene glycol mono(meth)acrylic acid ester monomer. The polymerization method of the copolymer is not particularly limited, and suitable polymerization methods such as solution polymerization and emulsion polymerization can be used.

본 발명의 점착제 조성물은 상기 공중합체에 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물과, 추가로 적절히 임의의 첨가제를 배합함으로써 조제할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention can be prepared by adding (C) a bifunctional or higher isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, (E) a ketoenol tautomer compound, and an optional additive as appropriate. .

상기 공중합체는 아크릴계 폴리머인 것이 바람직하고, (메타)아크릴산에스테르 모노머나 (메타)아크릴산, (메타)아크릴아미드류 등의 아크릴계 모노머를 50∼100중량% 포함하는 것이 바람직하다.The copolymer is preferably an acrylic polymer, and preferably contains 50 to 100% by weight of an acrylic monomer such as (meth)acrylic acid ester monomer, (meth)acrylic acid, or (meth)acrylamide.

상기 아크릴계 폴리머가 공중합 가능한 모노머군으로서 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않음으로써, 가교 속도의 향상 및 점착력의 안정화에 효과가 있다. 가교제로서 사용되는 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과 반응하는 모노머로서 (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 공중합체가 바람직한 모노머 조성으로는 상기 (A)와 상기 (B)로부터 각각 1종 이상, 상기 (A)와 상기 (B)와 상기 (F)로부터 각각 1종 이상 등을 들 수 있다.Since the acrylic polymer does not contain a copolymerizable monomer containing a carboxyl group as a copolymerizable monomer group, it is effective in improving the crosslinking rate and stabilizing the adhesion. It is preferable to use (B) a copolymerizable monomer containing a hydroxyl group as a monomer that reacts with the (C) bifunctional or higher isocyanate compound used as a crosslinking agent. Examples of the preferred monomer composition for the copolymer include one or more from (A) and (B), and one or more from (A) and (B) and (F), respectively.

상기 점착제 조성물을 가교시켜 이루어지는 점착제층의, 저속 박리 속도 0.3m/min에서의 점착력이 0.05∼0.1N/25㎜이고, 고속 박리 속도 30m/min에서의 점착력이 1.0N/25㎜ 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 점착력이 박리 속도에 의해서도 변화가 적은 성능을 얻을 수 있고, 고속 박리에 의해서도 신속하게 박리하는 것이 가능해진다. 또한, 다시 붙이기 위해, 일단 표면 보호 필름을 박리할 때도 과대한 힘을 필요로 하지 않아, 피착체로부터 박리하기 쉽다.The pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition has an adhesive strength at a low-speed peeling rate of 0.3 m/min of 0.05 to 0.1 N/25 mm, and an adhesive strength at a high-speed peeling speed of 30 m/min of 1.0 N/25 mm or less. . Thereby, the performance in which the adhesive force is less changed even by the peeling speed can be obtained, and it is possible to peel quickly even by high-speed peeling. Moreover, in order to re-attach, even when peeling a surface protection film once, excessive force is not required, and it is easy to peel from an adherend.

상기 점착제 조성물을 가교시켜 이루어지는 점착제층의 표면 저항률이 5.0×10+12Ω/□ 이하이고, 박리 대전압이 「±0.6㎸ 이하」인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, 「±0.6㎸ 이하」란, 0∼-0.6㎸ 및 0∼+0.6㎸, 즉, -0.6∼+0.6㎸를 의미한다. 표면 저항률이 크면 박리시에 대전에 의해 발생한 정전기를 빠져 나가게 하는 성능이 떨어지기 때문에, 표면 저항률을 충분히 작게 함으로써, 점착제층을 피착체가 박리할 때에 발생하는 정전기에 수반하여 발생하는 박리 대전압이 저감되어, 피착체의 전기 제어 회로 등에 영향을 주는 것을 억제할 수 있다.It is preferable that the surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition is 5.0×10 +12 Ω/□ or less, and the peeling voltage is “±0.6 MPa or less”. In addition, in this invention, "±0.6 Mpa or less" means 0--0.6 Mpa and 0-+0.6 Mpa, ie -0.6-+0.6 Mpa. When the surface resistivity is large, the ability to escape static electricity generated by charging at the time of peeling decreases, so by sufficiently reducing the surface resistivity, the peeling voltage generated by the static electricity generated when the adherend peels off the pressure-sensitive adhesive layer is reduced. As a result, it is possible to suppress the influence on the electric control circuit or the like of the adherend.

본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층(가교 후의 점착제)의 겔분율은 95∼100%인 것이 바람직하다. 이와 같이 겔분율이 높음으로써, 저속 박리 속도에 있어서, 점착력이 과대해지지 않고, 공중합체로부터의 미중합 모노머 혹은 올리고머의 용출이 저감되어, 리워크성이나 고온·고습도에 있어서의 내구성이 개선되어 피착체의 오염을 억제할 수 있다.The gel fraction of the pressure-sensitive adhesive layer (cross-linked pressure-sensitive adhesive) formed by crosslinking the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention is preferably 95 to 100%. As a result of the high gel fraction, the adhesive strength is not excessive at a low-speed peeling rate, and the elution of unpolymerized monomers or oligomers from the copolymer is reduced, improving reworkability and durability at high temperature and high humidity, thereby avoiding Contamination of the complex can be suppressed.

본 발명의 점착 필름은 본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층을 수지 필름의 한쪽 면 또는 양면에 형성하여 이루어진다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은 본 발명의 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층을 수지 필름의 한쪽 면에 형성하여 이루어지는 표면 보호 필름이다. 본 발명의 점착제 조성물은 상기 (A)∼(E)의 각 성분이 균형있게 배합되어 있기 때문에, 우수한 대전 방지 성능을 구비하고, 저속 박리 속도 및 고속 박리 속도에 있어서, 점착력 밸런스가 우수하고, 또한, 내구 성능 및 리워크 성능(점착제층을 개재하여 표면 보호 필름 위를 볼펜으로 덧쓴 후에 피착체에 오염 이행이 없는 것)도 우수한 것이 된다. 이 때문에, 편광판의 표면 보호 필름의 용도로서 바람직하게 사용할 수 있다.The adhesive film of the present invention is formed by forming an adhesive layer formed by crosslinking the adhesive composition of the present invention on one side or both sides of a resin film. Moreover, the surface protection film of this invention is a surface protection film formed by forming the adhesive layer formed by bridge|crosslinking the adhesive composition of this invention on one side of a resin film. The pressure-sensitive adhesive composition of the present invention has excellent anti-static performance because each component of (A) to (E) is balanced, and has excellent adhesion balance at low-speed peeling speed and high-speed peeling speed. , Durability performance and rework performance (after the adhesive layer is overlaid on the surface protective film with a ballpoint pen, there is no contamination transfer to the adherend) is also excellent. For this reason, it can use suitably as a use of the surface protection film of a polarizing plate.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 5∼40㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 10∼30㎛ 정도의 두께가 보다 바람직하다. 대전 방지 표면 보호 필름의 피착체의 표면에 대한 박리 강도(점착력)가 0.03∼0.3N/25㎜ 정도의 미점착력을 갖는 점착제층(2)인 것이 피착체로부터 대전 방지 표면 보호 필름을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서 바람직하다. 또한, 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터 박리 필름(5)을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서, 박리 필름(5)의 점착제층(2)으로부터의 박리력이 0.2N/50㎜ 이하인 것이 바람직하다.Although the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 2 used in the antistatic surface protection film 10 according to the present invention is not particularly limited, for example, a thickness of about 5 to 40 μm is preferable, and a thickness of about 10 to 30 μm is preferred. Is more preferred. When the antistatic surface protective film is an adhesive layer 2 having an unadhesive strength of about 0.03 to 0.3 N/25 mm, which has a peel strength (adhesive force) to the surface of the adherend when peeling the antistatic surface protective film from the adherend It is preferable from the viewpoint of excellent operability. Further, from the viewpoint of excellent operability in peeling the release film 5 from the antistatic surface protection film 10, the release force from the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the release film 5 is 0.2 N/50 mm or less. desirable.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 박리 필름(5)은 수지 필름(3)의 한쪽 면에, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와, 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물을 사용한 박리제층(4)이 형성되어 있다.In addition, the release film 5 used for the antistatic surface protection film 10 according to the present invention comprises a resin composition comprising a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and an antistatic agent on one side of the resin film 3. The used release agent layer 4 is formed.

수지 필름(3)으로는, 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리이미드 필름 등을 들 수 있지만, 투명성이 우수한 것이나 가격이 비교적으로 저렴한 점에서, 폴리에스테르 필름이 특히 바람직하다. 수지 필름은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방법의 배향 각도를 특정값으로 제어해도 된다.As the resin film 3, a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyimide film, etc. are mentioned, but a polyester film is particularly preferable because it is excellent in transparency and its price is relatively low. Do. The resin film may be a non-stretched film, or a uniaxially or biaxially stretched film. Moreover, you may control the stretching ratio of a stretched film and the orientation angle of the axial method formed with crystallization of a stretched film to a specific value.

수지 필름(3)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉬워, 보다 바람직하다. Although the thickness of the resin film 3 is not specifically limited, For example, the thickness of about 12-100 micrometers is preferable, and if it is about 20-50 micrometers, it is easy to handle and more preferable.

또한, 필요에 따라, 수지 필름(3)의 표면에, 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.Moreover, if necessary, you may perform the self-adhesive process, such as surface modification by corona discharge and application of an anchor coat agent, to the surface of the resin film 3.

박리제층(4)을 구성하는 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에는 부가 반응형, 축합 반응형, 양이온 중합형, 라디칼 중합형 등의 공지된 실리콘계 박리제를 들 수 있다. 부가 반응형 실리콘계 박리제로서 시판되고 있는 제품에는 예를 들면, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, KS-830(신에츠 화학 공업(주) 제조), SRX-211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 축합 반응형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, SRX-290, SYLOFF-23(도레이 다우코닝(주) 제조) 등을 들 수 있다. 양이온 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430(모멘티브·퍼포먼스·머티리얼즈사 제조), X62-7622(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다. 라디칼 중합형으로서 시판되고 있는 제품에는, 예를 들면, X62-7205(신에츠 화학 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the release agent containing dimethylpolysiloxane constituting the release agent layer 4 as a main component include known silicone-based release agents such as addition reaction type, condensation reaction type, cationic polymerization type, and radical polymerization type. Commercially available products as addition-reactive silicone-based release agents include, for example, KS-776A, KS-847T, KS-779H, KS-837, KS-778, and KS-830 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.), SRX- 211, SRX-345, SRX-357, SD7333, SD7220, SD7223, LTC-300B, LTC-350G, LTC-310 (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.) and the like. As a product marketed as a condensation reaction type, SRX-290, SYLOFF-23 (made by Toray Dow Corning Co., Ltd.) etc. are mentioned, for example. As a product marketed as a cationic polymerization type, for example, TPR-6501, TPR-6500, UV9300, VU9315, UV9430 (manufactured by Momentive Performance Materials), X62-7622 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) And the like. As a product marketed as a radical polymerization type, X62-7205 (made by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.) etc. is mentioned, for example.

박리제층(4)을 구성하는 대전 방지제로는, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제 용액에 대해 분산성이 양호한 것으로, 또한, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 경화를 저해하지 않는 것이 바람직하다. 이러한 대전 방지제 로는 알칼리 금속염이 바람직하다.As the antistatic agent constituting the release agent layer 4, it is preferable that the dispersibility is good for the release agent solution containing dimethylpolysiloxane as a main component, and that curing of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component is not inhibited. An alkali metal salt is preferable as the antistatic agent.

알칼리 금속염으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨으로 이루어지는 금속염을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, Li, Na, K로 이루어지는 양이온과, Cl-, Br-, I-, BF4 -, PF6 -, SCN-, ClO4 -, CF3SO3 -, (FSO2)2N-, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N-, (CF3SO2)3C-로 이루어지는 음이온으로 구성되는 금속염이 바람직하게 사용된다. 그 중에서도 특히, LiBr, LiI, LiBF4, LiPF6, LiSCN, LiClO4, LiCF3SO3, Li(FSO2)2N, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(CF3SO2)3C 등의 리튬염(Li염), 특히, Li(CF3SO2)2N 「약기호 LiTFSI」, Li(FSO2)2N 「약기호 LiFSI」, LiCF3SO3 「약기호 LiTF 또는 LiTf」가 바람직하게 사용된다. 이들 알칼리 금속염은 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이온성 물질의 안정화를 위해, 폴리옥시알킬렌 구조를 함유하는 화합물을 첨가해도 된다. Examples of the alkali metal salt include metal salts composed of lithium, sodium, and potassium. Specifically, for example, Li +, Na +, and cations consisting of K +, Cl -, Br - , I -, BF 4 -, PF 6 -, SCN -, ClO 4 -, CF 3 SO 3 - , (FSO 2) 2 N - , (CF 3 SO 2) 2 N -, (C 2 F 5 SO 2) 2 N -, (CF 3 SO 2) 3 C - anion to metal salt is preferably constituted by comprising the Is used. Among them, LiBr, LiI, LiBF 4 , LiPF 6 , LiSCN, LiClO 4 , LiCF 3 SO 3 , Li(FSO 2 ) 2 N, Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, Li(C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, Li(CF 3 SO 2 ) 3 C, and other lithium salts (Li salt), in particular, Li(CF 3 SO 2 ) 2 N "short symbol LiTFSI", Li(FSO 2 ) 2 N "short symbol LiFSI , LiCF 3 SO 3 "abbreviation LiTF or LiTf" is preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. For stabilization of the ionic substance, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대한 대전 방지제의 첨가량은 대전 방지제의 종류나 박리제와의 친화성의 정도에 따라 상이하나, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의, 원하는 박리 대전압, 피착체에 대한 오염성, 점착 특성 등을 고려하여 설정하면 된다.The amount of the antistatic agent added to the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component varies depending on the type of antistatic agent and the degree of affinity with the release agent, but the desired peeling voltage and pressure when peeling the antistatic surface protective film from the adherend It may be set in consideration of the contamination property, adhesive properties, and the like for the complex.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제의 혼합 방법은 특별히 한정되지 않는다. 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제에 대전 방지제를 첨가하여 혼합한 후에 박리제 경화용 촉매를 첨가·혼합하는 방법, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제로 희석한 후에 대전 방지제와 박리제 경화용 촉매를 첨가, 혼합하는 방법, 실록산을 주성분으로 하는 박리제를 미리 유기 용제에 희석 후, 촉매를 첨가·혼합하고, 그 후 대전 방지제를 첨가, 혼합하는 방법 등 어느 방법이어도 된다. 또한, 필요에 따라, 실란 커플링제 등의 밀착 향상제나 폴리옥시알킬렌기를 함유하는 화합물 등의 대전 방지 효과를 보조하는 재료를 첨가해도 된다.The method of mixing the release agent and the antistatic agent containing dimethylpolysiloxane as a main component is not particularly limited. A method of adding and mixing a catalyst for curing a release agent after adding an antistatic agent to a release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component, and mixing the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component in advance with an organic solvent, and then preparing an antistatic agent and a catalyst for curing a release agent. Any method may be used, such as a method of adding and mixing, a method of adding and mixing a catalyst after diluting a siloxane-based release agent in advance with an organic solvent, and then adding and mixing an antistatic agent. Moreover, you may add the material which supports the antistatic effect, such as an adhesion improver, such as a silane coupling agent, and a compound containing a polyoxyalkylene group, as needed.

디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제와 대전 방지제의 혼합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해, 대전 방지제를 고형분으로서 5∼100 정도의 비율이 바람직하다. 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해 5의 비율보다 적으면 점착제층의 표면에 대한 대전 방지제의 전사량도 적어져서 점착제에 대전 방지의 기능이 발휘되기 어려워진다. 또한, 대전 방지제의 고형분 환산 첨가량이 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제의 고형분 100에 대해 100의 비율을 초과하면, 대전 방지제와 함께 디메틸폴리실록산을 주성분으로 하는 박리제도 점착제층의 표면에 전사되기 때문에, 점착제의 점착 특성을 저하시킬 가능성이 있다.The mixing ratio of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component and the antistatic agent is not particularly limited, but a ratio of about 5 to 100 as the solid content of the antistatic agent as a solid content is preferable with respect to the solid content of 100 of the release agent containing dimethylpolysiloxane as a main component. When the addition amount of the antistatic agent in terms of solid content is less than the ratio of 5 to 100 parts of the solid content of the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component, the transfer amount of the antistatic agent to the surface of the pressure sensitive adhesive layer is also reduced, making it difficult for the pressure sensitive adhesive to exhibit an antistatic function. In addition, when the amount of the solid content of the antistatic agent in an amount exceeds 100 to 100% of the solid content of the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component, the release agent containing dimethylpolysiloxane as the main component is transferred to the surface of the pressure sensitive adhesive layer together with the antistatic agent. There is a possibility of lowering the adhesive properties of.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)의 기재 필름(1)에, 점착제층(2)을 형성하는 방법 및 박리 필름(5)을 첩합하는 방법은 공지된 방법으로 행하면 되고, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, (1) 기재 필름(1)의 한쪽 면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포, 건조시켜 점착제층을 형성한 후에, 박리 필름(5)을 첩합하는 방법, (2) 박리 필름(5)의 표면에 점착제층(2)을 형성하기 위한 수지 조성물을 도포·건조시켜 점착제층을 형성한 후에, 기재 필름(1)을 첩합하는 방법 등을 들 수 있지만, 어느 방법을 사용해도 된다.The method of forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the base film 1 of the antistatic surface protection film 10 according to the present invention and the method of bonding the release film 5 may be performed by a known method, and is not particularly limited. Does not. Specifically, (1) a method of applying a resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on one surface of the base film 1, drying it, and then forming the pressure-sensitive adhesive layer, and then bonding the release film 5, ( 2) After coating and drying the resin composition for forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the surface of the release film 5 to form the pressure-sensitive adhesive layer, a method of bonding the base film 1, etc. may be mentioned. You may use

또한, 기재 필름(1)의 표면에 점착제층(2)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.In addition, forming the pressure-sensitive adhesive layer 2 on the surface of the base film 1 may be performed by a known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

또한, 동일하게 수지 필름(3)에 박리제층(4)을 형성하는 것은 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 그라비아 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.In addition, similarly, forming the release agent layer 4 on the resin film 3 may be performed by a known method. Specifically, known coating methods such as gravure coating, Mayer bar coating, and air knife coating can be used.

도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름으로부터, 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.It is sectional drawing which shows the state which peeled the peeling film from the antistatic surface protection film of this invention.

도 1에 나타낸 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터, 박리 필름(5)을 박리함으로써, 박리 필름(5)의 박리제층(4)에 포함되는, 대전 방지제(부호 7)의 일부가 대전 방지 표면 보호 필름(10)의 점착제층(2)의 표면에 전사된다(부착된다). 이 때문에, 도 2에 있어서는, 대전 방지 표면 보호 필름의 점착제층(2)의 표면에 전사된, 대전 방지제를 부호 7의 반점으로 모식적으로 나타내고 있다.By peeling the release film 5 from the antistatic surface protection film 10 shown in FIG. 1, a part of the antistatic agent (reference numeral 7) included in the release agent layer 4 of the release film 5 is an antistatic surface It is transferred (attached) to the surface of the adhesive layer 2 of the protective film 10. For this reason, in FIG. 2, the antistatic agent transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 of the antistatic surface protection film is schematically indicated by a spot of reference numeral 7.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름에서는, 도 2에 나타낸 박리 필름을 박리한 상태의 대전 방지 표면 보호 필름(11)을 피착체에 첩합하는데 있어서, 이 점착제층(2)의 표면에 전사된 대전 방지제가 피착체의 표면에 접촉한다. 이로써, 재차, 피착체로부터 대전 방지 표면 보호 필름을 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다.In the antistatic surface protection film according to the present invention, in attaching the antistatic surface protection film 11 in a state in which the release film shown in FIG. 2 is peeled to an adherend, the charge transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 The inhibitor contacts the surface of the adherend. Thereby, the peeling large voltage at the time of peeling the antistatic surface protection film from an adherend can be suppressed low again.

도 3은 본 발명의 광학 부품의 실시예를 나타낸 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the optical component of the present invention.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)으로부터, 박리 필름(5)이 박리되고, 점착제층(2)이 표출된 상태로, 그 점착제층(2)을 개재하여 피착체인 광학 부품(8)에 첩합된다.From the antistatic surface protection film 10 of the present invention, the release film 5 is peeled off, and the pressure-sensitive adhesive layer 2 is exposed to the optical component 8 as an adherend via the pressure-sensitive adhesive layer 2. It is fixed.

즉, 도 3에는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)이 첩합된 광학 부품(20)을 나타내고 있다. 광학 부품으로는, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름, 위상차판 겸용 편광판, 렌즈 필름 겸용 편광판 등의 광학용 필름을 들 수 있다. 이러한 광학 부품은 액정 표시 패널 등의 액정 표시 장치, 각종 계기류의 광학계 장치 등의 구성 부재로서 사용된다. 또한, 광학 부품으로는, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름도 들 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의해 방오 처리되어 있는, 저반사 처리 편광판(LR 편광판)이나 안티 글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판) 등의 광학용 필름의 방오 처리한 면에 첩합되는, 대전 방지 표면 보호 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다.That is, FIG. 3 shows the optical component 20 to which the antistatic surface protection film 10 of the present invention is bonded. As an optical component, films for optics, such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate for both phase difference plates, and a polarizing plate for both lenses films are mentioned. Such an optical component is used as a structural member such as a liquid crystal display device such as a liquid crystal display panel and an optical system device for various instruments. Moreover, as an optical component, the film for optics, such as an antireflection film, a hard-coat film, and a transparent conductive film for touch panels, is also mentioned. In particular, the surface is bonded to the anti-fouling surface of an optical film such as a low-reflection-treated polarizing plate (LR polarizing plate) or an anti-glare low-reflecting polarizing plate (AG-LR polarizing plate), which has been subjected to antifouling treatment with a silicone compound or a fluorine compound. , It can be preferably used as an antistatic surface protection film.

본 발명의 광학 부품에 의하면, 대전 방지 표면 보호 필름(10)을 피착체인 광학 부품(광학용 필름)으로부터 박리 제거할 때, 박리 대전압을 충분히 낮게 억제할 수 있으므로, 드라이버 IC, TFT 소자, 게이트선 구동 회로 등의 회로 부품을 파괴할 우려가 없고, 액정 표시 패널 등을 제조하는 공정에서의 생산 효율을 높이고, 생산 공정의 신뢰성을 유지할 수 있다.According to the optical component of the present invention, when peeling and removing the antistatic surface protection film 10 from the optical component (optical film) to be adhered, the peeling voltage can be sufficiently low suppressed, so that the driver IC, TFT element, gate There is no fear of destroying circuit components such as line drive circuits, and it is possible to increase production efficiency in the process of manufacturing a liquid crystal display panel and the like, and maintain reliability of the production process.

실시예Example

이어서, 실시예에 의해 본 발명을 자세히 설명한다.Next, the present invention will be described in detail by examples.

<점착제 조성물의 제조><Preparation of adhesive composition>

[실시예 1][Example 1]

교반기, 온도계, 환류 냉각기 및 질소 도입관을 구비한 반응 장치에, 질소 가스를 도입하고, 반응 장치 내의 공기를 질소 가스로 치환하였다. 그 후, 반응 장치에 2-에틸헥실아크릴레이트 100중량부, 8-히드록시옥틸아크릴레이트 4.5중량부, 폴리프로필렌글리콜모노아크릴레이트(n=12) 10중량부와 함께 용제(초산에틸)를 60중량부 첨가하였다. 그 후, 중합 개시제로서 아조비스이소부티로니트릴 0.1중량부를 2시간에 걸쳐 적하시키고, 65℃에서 6시간 반응시켜, 중량 평균 분자량 50만의, 실시예 1의 아크릴 공중합체 용액을 얻었다. 이 아크릴 공중합체 용액에 대해, 아세틸아세톤 8.5중량부를 첨가하여 교반한 후, 코로네이트 HX(헥사메틸렌디이소시아네이트 화합물의 이소시아누레이트체)를 2.5중량부, 티타늄 트리스아세틸아세토네이트 0.1중량부를 첨가하고 교반 혼합하여 실시예 1의 점착제 조성물을 얻었다.Nitrogen gas was introduced into the reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux cooler, and a nitrogen introduction tube, and air in the reactor was replaced with nitrogen gas. Thereafter, the solvent (ethyl acetate) was added to the reaction apparatus together with 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 4.5 parts by weight of 8-hydroxyoctyl acrylate, and 10 parts by weight of polypropylene glycol monoacrylate (n=12). Add by weight. Thereafter, 0.1 part by weight of azobisisobutyronitrile was added dropwise over 2 hours as a polymerization initiator, and reacted at 65°C for 6 hours to obtain an acrylic copolymer solution of Example 1 having a weight average molecular weight of 500,000. To this acrylic copolymer solution, after adding and stirring 8.5 parts by weight of acetylacetone, 2.5 parts by weight of coronate HX (isocyanurate body of hexamethylene diisocyanate compound) and 0.1 parts by weight of titanium trisacetylacetonate were added. Stir and mix to obtain the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1.

[실시예 2∼6 및 비교예 1∼3][Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3]

실시예 1의 점착제 조성물의 조성을 각각 표 1 및 표 2에 기재된 바와 같이 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2∼6 및 비교예 1∼3의 점착제 조성물을 얻었다. 표 1 및 표 2 중, 아크릴 공중합체에 포함되는 (공중합되는) 모노머는 (A), (B), (F) 및 「카르복실기 함유 모노머」이다.The pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 were obtained in the same manner as in Example 1, except that the compositions of the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 were as described in Tables 1 and 2, respectively. In Table 1 and Table 2, the monomers (copolymerized) included in the acrylic copolymer are (A), (B), (F), and "carboxyl group-containing monomer".

Figure 112019102388736-pat00001
Figure 112019102388736-pat00001

Figure 112019102388736-pat00002
Figure 112019102388736-pat00002

표 1 및 표 2는 각 성분의 배합비를 나타내는 일체의 표를 2개로 나눈 것이고, 전부 (A)군의 합계를 100중량부로서 구한 중량부의 수치를 괄호 안에 나타낸다. 또한, 표 1 및 표 2에 사용한 각 성분의 약기호의 화합물명을 표 3 및 표 4에 나타낸다. 또한, 코로네이트(등록상표) HX, HL 및 L은 니혼 폴리우레탄 공업 주식회사의 상품명이고, 타케네이트(등록상표) D-140N, D-127N, D-110N은 미츠이 화학 주식회사의 상품명이다. 표 2의 「대전 방지제」및 후술하는 표 7에 있어서, LiTFSI는 Li(CF3SO2)2N을 나타내고, LiFSI는 Li(FSO2)2N을 나타내며, LiTF는 LiCF3SO3을, SH8400는 폴리에테르 변성 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SH8400, 주성분: 디메틸, 메틸(폴리에틸렌옥사이드 아세테이트)실록산)을 나타낸다.In Table 1 and Table 2, the whole table showing the mixing ratio of each component was divided into two, and the numerical value of the weight part obtained by summing the total of (A) group as 100 parts by weight is shown in parentheses. In addition, the compound names of the abbreviations of each component used in Table 1 and Table 2 are shown in Table 3 and Table 4. Incidentally, Coronate (registered trademark) HX, HL and L are trade names of Nihon Polyurethane Industry Co., Ltd., and Takenate (registered trademark) D-140N, D-127N, and D-110N are trade names of Mitsui Chemicals Co., Ltd. In the "antistatic agent" of Table 2 and Table 7 described later, LiTFSI represents Li(CF 3 SO 2 ) 2 N, LiFSI represents Li(FSO 2 ) 2 N, LiTF represents LiCF 3 SO 3 , SH8400 Represents polyether-modified silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SH8400, main component: dimethyl, methyl (polyethylene oxide acetate) siloxane).

Figure 112019102388736-pat00003
Figure 112019102388736-pat00003

Figure 112019102388736-pat00004
Figure 112019102388736-pat00004

<2관능 이소시아네이트 화합물의 합성><Synthesis of a bifunctional isocyanate compound>

합성예 1, 2의 2관능 이소시아네이트 화합물은 하기 방법으로 합성하였다. 표 5 및 표 6에 나타낸 바와 같이, 디이소시아네이트와 디올 화합물을 몰비: NCO/OH=16의 비율로 혼합하여, 120℃에서 3시간 반응시키고, 그 후, 박막 증발 장치를 사용하여 감압하에서 미반응의 디이소시아네이트를 제거하고, 목적으로 하는 2관능 이소시아네이트 화합물을 얻었다.The bifunctional isocyanate compounds of Synthesis Examples 1 and 2 were synthesized by the following method. As shown in Table 5 and Table 6, the diisocyanate and the diol compound were mixed at a ratio of molar ratio: NCO/OH=16, reacted at 120° C. for 3 hours, and then unreacted under reduced pressure using a thin film evaporator. The diisocyanate of was removed, and the desired bifunctional isocyanate compound was obtained.

Figure 112019102388736-pat00005
Figure 112019102388736-pat00005

Figure 112019102388736-pat00006
Figure 112019102388736-pat00006

<대전 방지 표면 보호 필름의 제작><Preparation of antistatic surface protection film>

[실시예 1][Example 1]

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, Li(CF3SO2)2N 0.5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부 및 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212 캐탈리스트) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 실시예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 실시예 1의 박리 필름을 얻었다.Addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, Li(CF 3 SO 2 ) 2 N 0.5 parts by weight, 1:1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate 95 parts by weight And a platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-212 catalyst) was mixed and stirred and mixed to adjust the paint forming the release agent layer of Example 1. On the surface of the polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 µm, a paint forming the release agent layer of Example 1 was coated with a Meyer bar so that the thickness after drying became 0.2 µm, and dried in a hot air circulation oven at 120° C. for 1 minute. The release film of Example 1 was obtained.

실시예 1의 점착제 조성물을 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에, 상기에서 제작한, 실시예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜 실시예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 µm so that the thickness after drying was 20 µm, and then dried in a hot air circulation oven at 100° C. for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Then, the release agent layer (silicon-treated surface) of the release film of Example 1 prepared above was pasted on the surface of this pressure-sensitive adhesive layer. The obtained adhesive film was kept under an environment of 40°C for 5 days, and the adhesive was cured to obtain an antistatic surface protection film of Example 1.

[실시예 2][Example 2]

실시예 1의 점착제 조성물을 실시예 2의 점착제 조성물로 하고, 박리제층에 사용하는 대전 방지제를 LiCF3SO3으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was used as the pressure-sensitive adhesive composition of Example 2, and the antistatic agent used in the release agent layer was LiCF 3 SO 3 . The antistatic surface protection film of Example 2 was obtained like Example 1 except having been obtained.

[실시예 3∼6][Examples 3 to 6]

실시예 1의 점착제 조성물을 각각 실시예 3∼6의 점착제 조성물로 하고, 박리제층에 사용하는 대전 방지제를 Li(FSO2)2N으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3∼6의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.Examples 3 to 3 were carried out in the same manner as in Example 1, except that the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was used as the pressure-sensitive adhesive composition of Examples 3 to 6, and the antistatic agent used for the release agent layer was Li(FSO 2 ) 2 N. An antistatic surface protection film of 6 was obtained.

[비교예 1][Comparative Example 1]

부가 반응형 실리콘(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-345) 5중량부, 톨루엔과 초산에틸의 1:1의 혼합 용매 95중량부 및 백금 촉매(도레이 다우코닝(주) 제조, 품명: SRX-212 캐탈리스트) 0.05중량부를 혼합해 교반·혼합하여, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 조정하였다. 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 비교예 1의 박리제층을 형성하는 도료를 건조 후의 두께가 0.2㎛가 되도록 메이어 바로 도포하고, 120℃의 열풍 순환식 오븐에서 1분간 건조시켜, 비교예 1의 박리 필름을 얻었다.Addition reaction type silicone (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., product name: SRX-345) 5 parts by weight, 95 parts by weight of a 1:1 mixed solvent of toluene and ethyl acetate and platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. : SRX-212 catalyst) 0.05 parts by weight were mixed, stirred and mixed to adjust the coating material for forming the release agent layer of Comparative Example 1. On the surface of the polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 µm, a paint forming the release agent layer of Comparative Example 1 was applied with a Meyer bar so that the thickness after drying became 0.2 µm, and dried in a hot air circulation oven at 120° C. for 1 minute. The release film of Comparative Example 1 was obtained.

비교예 1의 점착제 조성물을 두께가 38㎛인 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 이 점착제층의 표면에, 상기에서 제작한, 비교예 1의 박리 필름의 박리제층(실리콘 처리면)을 첩합하였다. 얻어진 점착 필름을 40℃의 환경하에서 5일간 보온하고, 점착제를 경화시켜, 비교예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 1 was applied to the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 µm so that the thickness after drying was 20 µm, and then dried in a hot-air circulating oven at 100° C. for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Then, the release agent layer (silicon-treated surface) of the release film of Comparative Example 1 prepared above was pasted on the surface of this pressure-sensitive adhesive layer. The obtained adhesive film was kept in an environment of 40°C for 5 days, and the adhesive was cured to obtain an antistatic surface protection film of Comparative Example 1.

[비교예 2][Comparative Example 2]

비교예 1의 점착제 조성물을 비교예 2의 점착제 조성물로 한 것 이외에는, 비교예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The antistatic surface protection film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that the adhesive composition of Comparative Example 1 was used as the adhesive composition of Comparative Example 2.

[비교예 3][Comparative Example 3]

실시예 1의 점착제 조성물을 비교예 3의 점착제 조성물로 하고, 박리제층에 사용하는 대전 방지제를 Li(FSO2)2N으로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 3의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The antistatic surface of Comparative Example 3 was the same as in Example 1 except that the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 was used as the pressure-sensitive adhesive composition of Comparative Example 3, and the antistatic agent used in the release agent layer was Li(FSO 2 ) 2 N. A protective film was obtained.

표 7에 실시예 1∼6 및 비교예 1∼3의 대전 방지 표면 보호 필름에 있어서의 박리제층의 조성을 나타낸다.Table 7 shows the composition of the release agent layer in the antistatic surface protection films of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3.

Figure 112019102388736-pat00007
Figure 112019102388736-pat00007

<시험 방법 및 평가><Test method and evaluation>

실시예 1∼6 및 비교예 1∼3에 있어서의 표면 보호 필름을 23℃, 50%RH의 분위기하에서 7일간 에이징한 후, 박리 필름(실리콘 수지 코트된 PET 필름)을 박리하여, 점착제층을 표출시킨 것을 표면 저항률의 측정 시료로 하였다.After aging the surface protective films in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 3 in an atmosphere of 23° C. and 50% RH for 7 days, the release film (silicone resin coated PET film) was peeled off to form an adhesive layer. What was expressed was used as the measurement sample of surface resistivity.

또한, 이 점착제층을 표출시킨 표면 보호 필름을 점착제층을 개재하여 액정 셀에 붙여진 편광판의 표면에 첩합하고, 1일 방치한 후, 50℃, 5기압, 20분간 오토 클레이브 처리하고, 실온에서 다시 12시간 방치한 것을 점착력, 박리 대전압, 및 리워크성의 측정 시료로 하였다.Further, the surface protection film expressing this pressure-sensitive adhesive layer was pasted to the surface of the polarizing plate attached to the liquid crystal cell via the pressure-sensitive adhesive layer, left to stand for 1 day, and then autoclaved at 50°C, 5 atmospheres and 20 minutes, and again at room temperature. What was left for 12 hours was used as a measurement sample for adhesion, peeling voltage, and rework property.

<점착력><adhesive power>

상기에서 얻어진 측정 시료(25㎜ 폭의 표면 보호 필름을 편광판의 표면에 첩합한 것)를 180°방향으로 인장 시험기를 이용하여 저속 박리 속도(0.3m/min) 및 고속 박리 속도(30m/min)에서 박리하고, 측정한 박리 강도를 점착력으로 하였다.The obtained measurement sample (25 mm wide surface protective film is affixed to the surface of the polarizing plate) in a 180° direction using a tensile tester at a low speed peeling speed (0.3 m/min) and a high speed peeling speed (30 m/min) Peel off from, and the measured peel strength was used as the adhesive force.

<표면 저항률><Surface resistivity>

에이징한 후, 편광판에 첩합시키기 전에, 박리 필름(실리콘 수지 코트된 PET 필름)을 박리하여 점착제층을 표출시키고, 저항률계 하이레스타 UP-HT450(미츠비시 화학 애널리테크 제조)을 사용하여 점착제층의 표면 저항률을 측정하였다.After aging, prior to bonding to the polarizing plate, the release film (silicone resin coated PET film) is peeled off to expose the pressure-sensitive adhesive layer, and the resistance layer is measured using a resistivity meter High-Resta UP-HT450 (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytics). Surface resistivity was measured.

<박리 대전압><Peeling off voltage>

상기에서 얻어진 측정 시료를 30m/min의 인장 속도로 180°박리했을 때에 편광판이 대전하여 발생하는 전압(대전압)을 고정밀도 정전기 센서 SK-035, SK-200(주식회사 키엔스 제조)을 사용하여 측정하고, 측정값의 최대값을 박리 대전압으로 하였다.When the measurement sample obtained above is peeled 180° at a tensile speed of 30 m/min, the voltage (high voltage) generated by charging of the polarizing plate is measured using high-accuracy electrostatic sensors SK-035 and SK-200 (manufactured by Keyence Co., Ltd.). And the maximum value of the measured value was made into peeling large voltage.

<리워크성><rework property>

상기에서 얻어진 측정 시료의 표면 보호 필름 위를 볼펜으로(하중 500g, 3 왕복) 덧쓴 후, 편광판으로부터 표면 보호 필름을 박리하여 편광판의 표면을 관찰하여, 편광판에 오염 이행이 없는 것을 확인하였다. 평가 목표 기준은 편광판에 오염 이행이 없는 경우를 「○」, 볼펜으로 덧쓴 궤적을 따라 적어도 일부에 오염 이행이 확인되었을 경우를 「△」, 볼펜으로 덧쓴 궤적을 따라 오염 이행이 확인되고, 점착제 표면으로부터도 점착제의 이탈이 확인된 경우를 「×」로 평가하였다.After overwriting the surface protection film of the measurement sample obtained above with a ballpoint pen (500 g load, 3 reciprocations), the surface protection film was peeled from the polarizing plate to observe the surface of the polarizing plate, and it was confirmed that there was no contamination migration on the polarizing plate. The evaluation target criteria are "○" when there is no contamination transition on the polarizer, "△" when at least a part of the pollution transition is confirmed along the trajectory overwritten with a ballpoint pen, and "contamination transition along the trajectory overwritten with a ballpoint pen, and the adhesive surface" It was evaluated as "x" when the release of the adhesive was confirmed also from.

표 8에 평가 결과를 나타낸다. 또한, 표면 저항률은 「m×10+n」을 「mE+n」으로 하는 방식(다만, m은 임의의 실수값, n은 양의 정수)에 의해 표기하였다.Table 8 shows the evaluation results. Incidentally, the surface resistivity was expressed by a method in which "m x 10 + n "is "mE+n" (however, m is an arbitrary real value and n is a positive integer).

Figure 112019102388736-pat00008
Figure 112019102388736-pat00008

표 8에 나타낸 측정 결과로부터, 이하를 알 수 있다. The following can be seen from the measurement results shown in Table 8.

본 발명에 따른 실시예 1∼6의 대전 방지 표면 보호 필름은 적당한 점착력이 있고, 피착체의 표면에 대한 오염이 없고, 또한, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리했을 때의 박리 대전압이 낮다.The antistatic surface protective films of Examples 1 to 6 according to the present invention have moderate adhesion, no contamination on the surface of the adherend, and a high peeling voltage when the antistatic surface protective film is peeled from the adherend. low.

한편, 실리콘 화합물 및 대전 방지제를 점착제층에 첨가한 비교예 1의 대전 방지 표면 보호 필름은 점착제층의 표면 저항률이 낮고 양호하지만, 점착력이 크기 때문에, 박리 대전압은 높고, 리워크성이 떨어지는 것이었다. 또한, 비교예 2에서는 가교 촉진제의 첨가량이 많기 때문인지, 점착제가 겔화되어, 도공할 수 없었다.또한, 비교예 3에서는 카르복실기를 함유하는 모노머를 포함하는 점에서, 점착력이 크고, 리워크성이 약간 떨어져 있었다.On the other hand, the antistatic surface protection film of Comparative Example 1 in which a silicone compound and an antistatic agent was added to the pressure-sensitive adhesive layer had a low surface resistivity of the pressure-sensitive adhesive layer and were good, but because of high adhesion, the peeling voltage was high and the rework property was poor. . Moreover, in Comparative Example 2, it was because the amount of the crosslinking accelerator was large, or the adhesive was gelled and could not be coated. In addition, in Comparative Example 3, the adhesive strength was large and the rework property was large because it contained a monomer containing a carboxyl group. It was a little off.

즉, 점착제에 실리콘 화합물과 대전 방지제를 혼합시킨 비교예 1, 2에서는 박리 대전압의 저감과 피착체에 대한 오염성을 양립하는 것이 곤란하다. 한편, 박리제층에 대전 방지제를 첨가한 후, 점착제층의 표면에 대전 방지제를 전사시킨 실시예 1∼6에서는 소량의 첨가량으로 박리 대전압의 저감 효과가 있기 때문에, 피착체에 대한 오염도 없고, 양호한 대전 방지 표면 보호 필름이 얻어졌다.That is, in Comparative Examples 1 and 2 in which the silicone compound and the antistatic agent were mixed in the pressure-sensitive adhesive, it is difficult to achieve both a reduction in peeling voltage and contamination of the adherend. On the other hand, in Examples 1 to 6 in which the antistatic agent was transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer after the antistatic agent was added to the release agent layer, there was no effect of reducing the peeling voltage with a small amount of addition. An antistatic surface protection film was obtained.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 예를 들면, 편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름 등의 광학용 필름, 그 밖에 각종 광학 부품 등의 생산 공정 등에 있어서, 당해 광학 부품 등의 표면을 보호하기 위해 사용할 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등에 의해 방오 처리되어 있는, LR 편광판이나 AG-LR 편광판 등의 광학용 필름의 대전 방지 표면 보호 필름으로서 사용하는 경우에는 피착체로부터 박리할 때 정전기의 발생량을 적게할 수 있다.The antistatic surface protection film of the present invention is, for example, a polarizing plate, a retardation plate, an optical film such as a lens film for display, and other production processes such as optical components, and the like to protect the surface of the optical component and the like Can be used. In particular, when used as an antistatic surface protection film for optical films such as LR polarizers or AG-LR polarizers whose surfaces are antifouling treated with a silicone compound or a fluorine compound, the amount of static electricity generated when peeling from an adherend is reduced. can do.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 피착체에 대한 오염이 적고 또한, 경시 열화되지 않으며 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 점에서 생산 공정의 수율을 향상시킬 수 있어, 산업상 이용 가치가 크다.The antistatic surface protection film of the present invention has little contamination to an adherend, and does not deteriorate with time, and has excellent peeling antistatic performance, so that it is possible to improve the yield of the production process, and thus has great industrial value.

1…기재 필름, 2…점착제층, 3…수지 필름, 4…박리제층, 5…박리 필름, 7… 대전 방지제, 8…피착체(광학 부품), 10…대전 방지 표면 보호 필름, 11…박리 필름을 박리한 대전 방지 표면 보호 필름, 20…대전 방지 표면 보호 필름을 첩합한 광학 부품.One… Base film, 2... Adhesive layer, 3... Resin film, 4... Remover layer, 5... Release film, 7... Antistatic agent, 8... Adherend (optical component), 10… Antistatic surface protection film, 11... Antistatic surface protection film which peeled the peeling film, 20... An optical component with an antistatic surface protection film.

Claims (3)

투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에 아크릴계 폴리머를 함유하는 점착제 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제층이 형성된 대전 방지 표면 보호 필름으로서,
상기 점착제층의 표면에 대전 방지제를 전사할 수 있는 대전 방지 표면 보호 필름용 박리 필름이 첩합되어 이루어지고,
상기 아크릴계 폴리머가 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 적어도 1종과, 공중합 가능한 모노머군으로서, 카르복실기를 함유하는 공중합 가능한 모노머를 포함하지 않지만, (B) 수산기를 함유하는 공중합 가능한 모노머의 적어도 1종을 공중합시킨 공중합체의 아크릴계 폴리머이며,
상기 (A) 알킬기의 탄소수가 C4∼C18인 (메타)아크릴산에스테르 모노머의 100중량부 중 이소옥틸(메타)아크릴레이트 또는 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트를 50중량부 이상의 비율로 함유하여 이루어지고,
상기 점착제 조성물이 추가로 (C) 2관능 이상의 이소시아네이트 화합물과, (D) 가교 촉진제와, (E) 케토엔올 호변이성체 화합물과, (G) HLB값이 7∼15인 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 함유하여 이루어지며,
상기 대전 방지 표면 보호 필름용 박리 필름이, 수지 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층되어 이루어지고,
상기 박리제층이 디메틸폴리실록산을 포함하는 박리제와, 상기 대전 방지제를 포함하는 수지 조성물에 의해 형성되어 이루어지며,
상기 박리제층에 포함된 상기 대전 방지제가 상기 점착제층의 표면에만 전사되어 이루어지고,
상기 점착제층의 내부에는 대전 방지제가 포함되어 있지 않은 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름.
An antistatic surface protection film having an adhesive layer formed by crosslinking an adhesive composition containing an acrylic polymer on one side of a base film made of a resin having transparency,
A release film for an antistatic surface protection film capable of transferring an antistatic agent to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is made by bonding,
The acrylic polymer is (A) at least one of (meth)acrylic acid ester monomers having C4 to C18 carbon atoms in the alkyl group, and as a copolymerizable monomer group, does not contain a copolymerizable monomer containing a carboxyl group, (B) a hydroxyl group It is an acrylic polymer of the copolymer which copolymerized at least 1 type of the copolymerizable monomer containing,
The (A) 100 parts by weight of the (meth)acrylic acid ester monomer having an alkyl group having C4 to C18 carbon atoms is made by containing isooctyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate in a proportion of 50 parts by weight or more. under,
The pressure-sensitive adhesive composition further comprises (C) a bifunctional or higher isocyanate compound, (D) a crosslinking accelerator, (E) a ketoenol tautomer compound, and (G) a polyether-modified siloxane compound having an HLB value of 7 to 15. Is made,
The release film for the antistatic surface protection film is made by laminating a release agent layer containing an antistatic agent on one side of the resin film,
The release agent layer is formed of a release agent comprising dimethylpolysiloxane and a resin composition comprising the antistatic agent,
The antistatic agent included in the release agent layer is made by transferring only the surface of the pressure-sensitive adhesive layer,
Anti-static surface protection film, characterized in that the anti-static agent is not included in the adhesive layer.
제 1 항에 있어서,
상기 박리제층 중의 대전 방지제가 알칼리 금속염인 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름.
According to claim 1,
The antistatic surface protection film, characterized in that the antistatic agent in the release agent layer is an alkali metal salt.
제 1 항의 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학용 필름.An optical film comprising the antistatic surface protection film of claim 1 bonded together.
KR1020190124243A 2014-08-29 2019-10-08 Antistatic surface-protective film KR102139971B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020200092732A KR102270918B1 (en) 2014-08-29 2020-07-27 Antistatic surface-protective film

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014176142A JP6198275B2 (en) 2014-08-29 2014-08-29 Antistatic surface protection film
JPJP-P-2014-176142 2014-08-29

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180127868A Division KR102032133B1 (en) 2014-08-29 2018-10-25 Antistatic surface-protective film

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200092732A Division KR102270918B1 (en) 2014-08-29 2020-07-27 Antistatic surface-protective film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190119003A KR20190119003A (en) 2019-10-21
KR102139971B1 true KR102139971B1 (en) 2020-07-31

Family

ID=55536982

Family Applications (5)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150095896A KR101804228B1 (en) 2014-08-29 2015-07-06 Antistatic surface-protective film
KR1020170160069A KR101913571B1 (en) 2014-08-29 2017-11-28 Antistatic surface-protective film
KR1020180127868A KR102032133B1 (en) 2014-08-29 2018-10-25 Antistatic surface-protective film
KR1020190124243A KR102139971B1 (en) 2014-08-29 2019-10-08 Antistatic surface-protective film
KR1020200092732A KR102270918B1 (en) 2014-08-29 2020-07-27 Antistatic surface-protective film

Family Applications Before (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020150095896A KR101804228B1 (en) 2014-08-29 2015-07-06 Antistatic surface-protective film
KR1020170160069A KR101913571B1 (en) 2014-08-29 2017-11-28 Antistatic surface-protective film
KR1020180127868A KR102032133B1 (en) 2014-08-29 2018-10-25 Antistatic surface-protective film

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020200092732A KR102270918B1 (en) 2014-08-29 2020-07-27 Antistatic surface-protective film

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6198275B2 (en)
KR (5) KR101804228B1 (en)
CN (1) CN106189895B (en)
TW (1) TWI669383B (en)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI674970B (en) * 2015-01-27 2019-10-21 日商王子控股股份有限公司 Laminate, decorative molded article, and manufacturing method of decorative molded article
JP6521896B2 (en) * 2016-04-25 2019-05-29 藤森工業株式会社 Pressure sensitive adhesive composition and antistatic surface protective film
JP6521906B2 (en) * 2016-06-16 2019-05-29 藤森工業株式会社 Pressure sensitive adhesive composition and antistatic surface protective film
KR102040457B1 (en) * 2016-11-04 2019-11-05 주식회사 엘지화학 Method for manufacturing pressure sensitive adhesive film
JP7095269B2 (en) * 2016-12-06 2022-07-05 三菱ケミカル株式会社 How to use a pressure-sensitive adhesive composition, a pressure-sensitive adhesive formed by cross-linking the pressure-sensitive adhesive composition, a pressure-sensitive adhesive for a masking film, a masking film, a pressure-sensitive adhesive film for a transparent electrode layer forming process, a tape for a semiconductor manufacturing process, and a masking film.
KR102159513B1 (en) * 2017-12-15 2020-09-25 주식회사 엘지화학 Crosslinkable Composition
CN108250851B (en) * 2018-01-25 2020-06-09 哈尔滨拓百世环保涂料有限公司 Asphalt coiled material sulfide isolation primer and preparation method thereof
JP7107804B2 (en) * 2018-09-27 2022-07-27 藤森工業株式会社 Adhesive composition, and adhesive film and surface protective film using the same
CN109554129A (en) * 2018-11-26 2019-04-02 常州市白鹭电器有限公司 Aluminum foil and adhesive tape silicone release agent
JP6703167B2 (en) * 2019-04-22 2020-06-03 藤森工業株式会社 Adhesive composition and antistatic surface protective film
JP6926274B2 (en) * 2019-04-22 2021-08-25 藤森工業株式会社 Adhesive layer and antistatic surface protective film
JP2020183460A (en) * 2019-04-26 2020-11-12 藤森工業株式会社 Surface protective film
JP7244369B2 (en) 2019-06-25 2023-03-22 藤森工業株式会社 Method for producing antistatic surface protective film, antistatic surface protective film
JP6925487B2 (en) * 2020-05-07 2021-08-25 藤森工業株式会社 Adhesive layer and antistatic surface protective film
KR102398470B1 (en) * 2020-05-08 2022-05-17 율촌화학 주식회사 Pressure sensitive adhesive composition, protective film using the same, and production method of protective film using the same
CN111621249A (en) * 2020-05-15 2020-09-04 中国乐凯集团有限公司 Adhesive composition, protective film, composite film, and device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011178828A (en) * 2010-02-26 2011-09-15 Marubishi Oil Chem Co Ltd Antistatic release agent composition

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1044336A (en) * 1996-08-08 1998-02-17 Toray Ind Inc Mold releasing film
JP2002019039A (en) * 2000-07-11 2002-01-22 Nitto Denko Corp Protective film for protecting surface of optical member
JP4047103B2 (en) * 2002-08-29 2008-02-13 リンテック株式会社 Sticking body
JP4279118B2 (en) 2003-10-30 2009-06-17 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component on which it is adhered
JP4623485B2 (en) * 2004-03-02 2011-02-02 サイデン化学株式会社 Adhesive composition and surface protective film
JP3912686B2 (en) 2004-04-19 2007-05-09 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive layer, and surface protective film
JP2005314476A (en) 2004-04-27 2005-11-10 Nitto Denko Corp Adhesive composition, adhesive sheet and surface-protective film
JP4799900B2 (en) 2004-10-28 2011-10-26 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive sheet and surface protective film
TWI340161B (en) 2005-01-19 2011-04-11 Lg Chemical Ltd Acrylic pressure-sensitive adhesive composition with good re-workability,adhesive sheet,and method of preparing the sheet
KR100760978B1 (en) * 2006-01-21 2007-10-04 광 석 서 Antistatic protection films for display
JP5091434B2 (en) * 2006-07-04 2012-12-05 日本カーバイド工業株式会社 Pressure-sensitive adhesive composition and optical member surface protective film
JP2008044336A (en) * 2006-07-20 2008-02-28 Konica Minolta Opto Inc Touch roll, manufacturing device for optical film, and manufacturing method for optical film
JP4771082B2 (en) * 2006-08-23 2011-09-14 アキレス株式会社 Antistatic release film
JP2008075072A (en) * 2006-08-24 2008-04-03 Diatex Co Ltd Easily peelbale adhesive sheet and its production method
KR100836177B1 (en) * 2007-03-16 2008-06-09 도레이새한 주식회사 Antistatic silicone release coating films
JP5130768B2 (en) * 2007-03-30 2013-01-30 大日本印刷株式会社 Protective film for optical member, method for producing protective film for optical member, and protective film raw material for optical member
JP5157350B2 (en) * 2007-09-28 2013-03-06 Tdk株式会社 Method for producing laminated film and laminated ceramic electronic component
JP5361244B2 (en) 2008-05-15 2013-12-04 日本カーバイド工業株式会社 Adhesive composition for optical member surface protective film and optical member surface protective film
JP5526645B2 (en) * 2009-08-07 2014-06-18 東洋インキScホールディングス株式会社 Optical pressure-sensitive adhesive and optical pressure-sensitive adhesive sheet using the optical pressure-sensitive adhesive
JP2011252948A (en) * 2010-05-31 2011-12-15 Nitto Denko Corp Antistatic adhesive optical film and image display device
JP5770607B2 (en) * 2011-11-21 2015-08-26 藤森工業株式会社 Adhesive composition and surface protective film
JP5906064B2 (en) * 2011-11-21 2016-04-20 藤森工業株式会社 Adhesive composition and surface protective film
JP6279827B2 (en) * 2011-12-20 2018-02-14 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive layer and adhesive sheet
JP5932430B2 (en) * 2012-03-28 2016-06-08 リンテック株式会社 Adhesive composition, adhesive and adhesive sheet
JP6267854B2 (en) * 2012-04-06 2018-01-24 日東電工株式会社 Adhesive composition, adhesive sheet, and optical member
JP5826105B2 (en) * 2012-05-02 2015-12-02 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP5977582B2 (en) * 2012-05-25 2016-08-24 藤森工業株式会社 Surface protective film and optical component on which it is bonded
JP5879208B2 (en) * 2012-06-20 2016-03-08 藤森工業株式会社 Adhesive composition and surface protective film
JP6268407B2 (en) * 2012-07-27 2018-01-31 藤森工業株式会社 Adhesive composition and surface protective film
TWI598407B (en) * 2012-09-05 2017-09-11 信越聚合物股份有限公司 Antistatic release agent and antistatic release film
JP6221091B2 (en) * 2012-11-16 2017-11-01 藤森工業株式会社 Surface protection film
JP2013224431A (en) * 2013-05-20 2013-10-31 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Optical pressure-sensitive adhesive agent, and optical pressure-sensitive adhesive sheet
JP5963788B2 (en) * 2014-01-10 2016-08-03 藤森工業株式会社 Method for producing antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film
JP6147223B2 (en) * 2014-05-15 2017-06-14 藤森工業株式会社 Method for producing antistatic surface protective film, and antistatic surface protective film

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011178828A (en) * 2010-02-26 2011-09-15 Marubishi Oil Chem Co Ltd Antistatic release agent composition

Also Published As

Publication number Publication date
TWI669383B (en) 2019-08-21
KR101913571B1 (en) 2018-10-31
KR20170136469A (en) 2017-12-11
KR20160026666A (en) 2016-03-09
KR20180120638A (en) 2018-11-06
KR101804228B1 (en) 2017-12-04
KR102032133B1 (en) 2019-10-15
TW201610132A (en) 2016-03-16
CN106189895B (en) 2021-01-12
KR20190119003A (en) 2019-10-21
JP2016050254A (en) 2016-04-11
JP6198275B2 (en) 2017-09-20
KR20200092295A (en) 2020-08-03
KR102270918B1 (en) 2021-06-29
CN106189895A (en) 2016-12-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102139971B1 (en) Antistatic surface-protective film
KR102139978B1 (en) Method for producing antistatic surface-protective film, and antistatic surface-protective film
JP6548239B2 (en) Antistatic surface protection film
JP6359164B2 (en) Release film for antistatic surface protection film
JP6770595B2 (en) Antistatic surface protective film
JP6970254B2 (en) Antistatic surface protective film
JP7201770B2 (en) Method for producing antistatic surface protection film
JP6750071B2 (en) Antistatic surface protection film
JP7242745B2 (en) Antistatic surface protective film
JP7007440B2 (en) Antistatic surface protective film
JP7301178B2 (en) Antistatic surface protective film

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
A107 Divisional application of patent
GRNT Written decision to grant