KR102268615B1 - 약액 토출 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

약액 토출 장치는 기판에 약액을 토출하는 토출 노즐과 함께 상기 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정하는 높이 측정부를 구비할 수 있다. 특히, 상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 및 상기 토출면 타측이 기준면으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비될 수 있다.

Description

약액 토출 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{APPARATUS FOR DISPENSING DROPLET AND APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE HAVING THE SAME}
본 발명은 약액 토출 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 기판에 약액을 토출하는 토출 노즐을 구비하는 약액 토출 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에서는 기판에 포토레지스트, 현상액 등과 같은 약액을 토출하는 공정을 수행할 수 있다.
기판에 약액을 토출하는 공정은 기판에 약액을 토출하는 토출 노즐, 특히 기판의 폭 방향을 충분하게 커버하는 길이를 갖는 슬릿 노즐을 구비하는 약액 토출 장치를 사용함에 의해 달성할 수 있을 것이다.
토출 노즐의 토출면 전체가 기준면으로부터 동일 높이, 즉 토출 노즐의 일측과 타측이 동일 높이를 유지하고 있지 않은 상태에서 약액을 토출할 경우 얼룩 등과 같은 불량이 발생할 수 있다.
그러나 종래에는 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하는 가에 대해서는 약액을 토출하기 이전에 확인하지 못하고 약액을 토출한 이후에 확인할 수 있다. 즉, 종래에는 약액을 토출한 이후 얼룩 등과 같은 불량이 발생할 경우 원인 파악을 통하여 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 확인할 수 있는 것이다.
본 발명의 일 과제는 약액을 토출하기 이전에 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 확인할 수 있는 약액 토출 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 과제는 약액을 토출하기 이전에 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 확인할 수 있는 약액 토출 장치를 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는데 있다.
상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치는 기판에 약액을 토출하는 토출 노즐과 함께 상기 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정하는 높이 측정부를 구비할 수 있다. 특히, 상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 및 상기 토출면 타측이 기준면으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 단부 및 상기 토출면 타측 단부가 기준면으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 높이 측정부는 상기 약액을 토출시키기 이전에 상기 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정할 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 근방에 배치되고, 상기 기준면과 수평하게 상기 토출면 일측으로부터 상기 토출면 타측으로 광을 조사하는 발광 소자, 및 상기 토출면 타측 근방에 배치되고, 상기 발광 소자로부터 조사되는 광을 수광하는 수광 소자로 이루어질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측에 배치되고, 상기 토출면 일측과 상기 기준면 사이의 수직 높이를 측정하도록 상기 토출면 일측으로부터 상기 기준면으로 수직하게 레이저를 조사하도록 구비되는 제1 레이저 조사부, 및 상기 토출면 타측에 배치되고, 상기 토출면 타측과 상기 기준면 사이의 수직 높이를 측정하도록 상기 토출면 타측으로부터 상기 기준면으로 수직하게 레이저를 조사하도록 구비되는 제2 레이저 조사부로 이루어질 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측과 마주하는 상기 기준면에 배치되고, 상기 토출면 일측에 접촉함에 의해 상기 토출면 일측과 상기 기준면 사이의 수직 높이를 측정하도록 구비되는 제1 변위 센서, 및 상기 토출면 타측과 마주하는 상기 기준면에 배치되고, 상기 토출면 타측에 접촉함에 의해 상기 토출면 타측과 상기 기준면 사이의 수직 높이를 측정하도록 구비되는 제2 변위 센서로 이루어질 수 있다.
상기 본 발명의 다른 과제를 달성하기 위한 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치는 부상 스테이지, 토출 노즐, 이송부, 높이 측정부를 포함할 수 있다. 상기 부상 스테이지는 기판을 부상시키도록 구비될 수 있다. 상기 토출 노즐은 상기 부상 스테이지 상부에 배치되고, 상기 기판을 향하여 약액을 토출하도록 구비될 수 있다. 상기 이송부는 상기 약액의 토출시 상기 부상 스테이지를 따라 상기 기판을 이송시키도록 구비될 수 있다. 상기 높이 측정부는 상기 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정할 수 있게 구비될 수 있는데, 상기 토출면 일측 및 상기 토출면 타측이 기준면으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 단부 및 상기 토출면 타측 단부가 기준면으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비될 수 있다.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 높이 측정부는 상기 약액을 토출시키기 이전에 상기 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비될 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치 및 기판 처리 장치는 높이 조정부를 구비함으로써 약액을 토출하기 이전에도 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 확인하고, 조치를 취할 수 있기 때문에 얼룩 등과 같은 불량 발생을 최소화할 수 있을 것이다.
따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치 및 기판 처리 장치는 토출 노즐로 인한 불량 발생을 최소화할 수 있기 때문에 디스플레이 소자의 제조에 따른 공정 신뢰도의 향상을 기대할 수 있을 것이다.
다만, 본 발명의 과제 및 효과는 상기 언급한 바에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치에 구비되는 높이 측정부의 일예를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치에 구비되는 높이 측정부의 다른예를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치에 구비되는 높이 측정부의 또 다른예를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
그리고 첨부한 도면들을 참조하여 예시적인 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)는 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조시 기판에 포토레지스트, 현상액 등과 같은 약액을 토출하는 약액 토출 공정에 적용할 수 있는 것이다.
따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)에는 기판에 약액을 토출하는 토출 노즐(11)이 구비될 수 있다.
기판을 향하는 토출 노즐(11)의 단부 쪽에는 기판을 향하여 약액을 토출하는 토출면(13)이 구비될 수 있다. 토출면(13)에는 토출을 위한 약액의 플로우가 이루어지는 토출구들이 일정 간격을 갖도록 구비될 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)가 포토레지스트, 현상액 등과 같은 약액의 토출에 사용되는 경우 스캔 방식으로 약액의 토출이 이루어질 수 있기 때문에 언급한 토출 노즐(11)은 기판의 폭 방향을 충분하게 커버할 수 있는 슬릿 노즐로 구비될 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)를 사용하는 약액의 토출시 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 기준면(17)으로부터 동일 높이, 즉 토출 노즐(11)의 일측과 타측이 동일 높이를 유지하고 있지 않은 상태에서 약액을 토출할 경우 얼룩 등과 같은 불량이 발생할 수 있다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)에서의 기준면(17)은 토출면(13) 전체와 수평한 방향을 유지할 수 있는 플레이트 등과 같은 부재로 이루어질 수 있을 것이다.
따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)에는 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정하는 높이 측정부(15)가 구비될 수 있다.
높이 측정부(15)는 토출면(13) 일측 및 토출면(13) 타측이 기준면(17)으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비될 수 있다. 높이 측정부(15)는 토출면(13) 일측 단부 및 토출면(13) 타측 단부가 기준면(17)으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비될 수 있다. 높이 측정부(15)는 약액을 토출시키기 이전에 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비될 수 있다.
이하, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치에 구비되는 높이 측정부에 대한 다양한 예들에 대하여 설명하기로 한다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치에 구비되는 높이 측정부의 일예를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 2 및 도 3을 참조하면, 높이 측정부(15)는 발광 소자(21) 및 수광 소자(23)로 이루어질 수 있다.
발광 소자(21)는 토출면(13) 일측 근방, 특히 토출면(13) 일측 단부 근방에 배치되도록 구비될 수 있다. 발광 소자(21)는 토출면(13) 일측으로부터 토출면(13) 타측으로 광을 조사하도록 구비될 수 있다. 발광 소자(21)는 기준면(17)과 수평하게 토출면(13) 일측으로부터 토출면(13) 타측으로 광을 조사하도록 구비될 수 있다.
수광 소자(23)는 토출면(13) 타측 근방, 특히 토출면(13) 타측 단부 근방에 배치되도록 구비될 수 있다. 수광 소자(23)는 발광 소자(21)로부터 조사되는 광을 수광하도록 구비될 수 있다.
이에, 발광 소자(21) 및 수광 소자(23)로 이루어지는 높이 측정부(15)는 발광 소자(21)로부터 조사된 후 수광 소자(23)에 의해 수광이 이루어지는 수광율을 기준으로 수광율에 변화가 있을 경우 토출면(13) 일측과 토출면(13) 타측이 서로 다른 높이를 갖는 것으로 확인할 수 있다.
즉, 도 2에서와 같은 수광율을 기준값으로 설정하고, 도 3에서와 같이 도 2의 기준값과 다른 수광율로 측정될 경우 토출면(13) 일측과 토출면(13) 타측이 서로 다른 높이를 갖는 것으로 확인할 수 있는 것이다.
따라서 언급한 발광 소자(21) 및 수광 소자(23)로 이루어지는 높이 측정부(15)를 사용할 경우 약액을 토출하기 이전에 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 확인하고, 확인 결과 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하지 못하고 있을 경우 이에 상응하는 조치를 취할 수 있기 때문에 얼룩 등과 같은 불량 발생을 최소화할 수 있을 것이다.
그리고 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치(100)에서는 약액의 토출시 토출 노즐(11)로부터 약액이 토출되는 토출 지점을 기준으로 토출 지점보다 선행하는 토출 노즐(11) 전단부 쪽에서 발광 및 수광이 이루어지게 발광 소자(21) 및 수광 소자(23)를 배치시킬 경우 파티클 확인부의 기능을 수행할 수도 있을 것이다.
따라서 도 2 및 도 3에서의 높이 측정부(15)는 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하는 가를 측정함과 아울러 토출 노즐(11)로부터 약액이 토출되기 바로 직전에 기판에 파티클이 잔류하는 가를 확인할 수 있을 것이다.
도 4 및 도 5는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치에 구비되는 높이 측정부의 다른예를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 높이 측정부(15)는 제1 레이조 조사부(41) 및 제2 레이조 조사부(43)로 이루어질 수 있다.
제1 레이조 조사부(41)는 토출면(13) 일측, 토출면(13) 일측 단부 쪽에 배치되도록 구비될 수 있다. 제1 레이조 조사부(41)는 토출면(13) 일측으로부터 기준면(17)으로 수직하게 레이저를 조사하도록 구비될 수 있다. 이에, 제1 레이조 조사부(41)는 토출면(13) 일측과 기준면(17) 사이의 수직 높이를 측정할 수 있을 것이다.
제2 레이조 조사부(43)는 토출면(13) 타측, 토출면(13) 타측 단부 쪽에 배치되도록 구비될 수 있다. 제2 레이조 조사부(43)는 토출면(13) 타측으로부터 기준면(17)으로 수직하게 레이저를 조사하도록 구비될 수 있다. 이에, 제2 레이조 조사부(43)는 토출면(13) 타측과 기준면(17) 사이의 수직 높이를 측정할 수 있을 것이다.
제1 레이조 조사부(41) 및 제2 레이조 조사부(43)로 이루어지는 높이 측정부(15)는 제1 레이조 조사부(41)와 기준면(17) 사이에서의 제1 수직 높이 및 제2 레이조 조사부(43)와 기준면(17) 사이에서의 제2 수직 높이를 측정하고, 도 4에서와 같이 제1 수직 높이 및 제2 수직 높이가 서로 같을 경우에는 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하는 것으로 확인할 수 있고, 이와 달리 도 5에서와 같이 제1 수직 높이 및 제2 수직 높이가 서로 다를 경우에는 토출면(13) 일측과 토출면(13) 타측이 서로 다른 높이를 갖는 것으로 확인할 수 있다.
따라서 제1 레이조 조사부(41) 및 제2 레이조 조사부(43)로 이루어지는 높이 측정부(15)를 사용할 경우 약액을 토출하기 이전에 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 확인하고, 확인 결과 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하지 못하고 있을 경우 이에 상응하는 조치를 취할 수 있기 때문에 얼룩 등과 같은 불량 발생을 최소화할 수 있을 것이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치에 구비되는 높이 측정부의 또 다른예를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 높이 측정부(15)는 제1 변위 센서(61) 및 제2 변위 센서(63)로 이루어질 수 있다.
언급한 제1 변위 센서(61) 및 제2 변위 센서(63) 모두는 LVDT(Linear Variable Differential Transformer)일 수 있다.
제1 변위 센서(61)는 토출면(13) 일측, 토출면(13) 일측 단부와 마주하는 기준면(17)에 배치되도록 구비될 수 있다. 이에, 제1 변위 센서(61)를 토출면(13) 일측에 접촉시킴에 의해 토출면(13) 일측과 기준면(17) 사이의 수직 높이를 측정할 수 있을 것이다.
제2 변위 센서(63)는 토출면(13) 타측, 토출면(13) 타측 단부와 마주하는 기준면(17)에 배치되도록 구비될 수 있다. 이에, 제2 변위 센서(63)를 토출면(13) 타측에 접촉시킴에 의해 토출면(13) 타측과 기준면(17) 사이의 수직 높이를 측정할 수 있을 것이다.
제1 변위 센서(61) 및 제2 변위 센서(63)로 이루어지는 높이 측정부(15)는 기준면(17)과 토출면(13) 일측 사이에서의 제1 수직 높이 및 기준면(17)과 토출면(13) 타측 사이에서의 제2 수직 높이를 측정하고, 도 6에서와 같이 제1 수직 높이 및 제2 수직 높이가 서로 같을 경우에는 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하는 것으로 확인할 수 있고, 이와 달리 도 7에서와 같이 제1 수직 높이 및 제2 수직 높이가 서로 다를 경우에는 토출면(13) 일측과 토출면(13) 타측이 서로 다른 높이를 갖는 것으로 확인할 수 있다.
따라서 제1 변위 센서(61) 및 제2 변위 센서(63)로 이루어지는 높이 측정부(15)를 사용할 경우 약액을 토출하기 이전에 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 확인하고, 확인 결과 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하지 못하고 있을 경우 이에 상응하는 조치를 취할 수 있기 때문에 얼룩 등과 같은 불량 발생을 최소화할 수 있을 것이다.
이하, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치를 구비하는 기판 처리 장치에 대하여 설명하기로 한다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면들이다.
도 8 및 도 9를 참조하면, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(200)는 부상 스테이지(83), 토출 노즐(11), 이송부(85), 높이 측정부(15) 등을 포함할 수 있다.
특히, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(200)에서의 토출 노즐(11) 및 높이 측정부(15)는 도 1에서의 토출 노즐(11)및 높이 측정부(15)과 동일하기 때문에 동일 부재에 대해서는 동일 부호를 사용하고, 그 상세한 설명은 생략하기로 한다.
부상 스테이지(83)는 기판(81)을 부상시키도록 구비될 수 있다. 부상 스테이지(83)는 기판(81) 이면을 향하여 에어를 분사하거나 또는 에어와 진공을 함께 분사하는 구조를 갖도록 구비될 수 있다.
기판(81)의 이송 구간에서의 부상 스테이지(83)는 기판(81)이 부상되는 높이를 적당하게 조절하여도 되기 때문에 기판(81) 이면을 향하여 에어만을 분사하도록 구비될 수 있고, 약액의 토출 구간에서의 부상 스테이지(83)는 기판(81)이 부상되는 높이를 정밀하게 조절하여야 하기 때문에 기판(81) 이면을 향하여 에어와 진공을 함께 분사하도록 구비될 수 있다.
이송부(85)는 부상 스테이지(83)에 부상되는 상태에 있는 기판(81)을 부상 스테이지(83)를 따라 이송할 수 있도록 구비될 수 있다.
이송부(85)는 기판(81)의 일측면 또는 양측면을 파지할 수 있는 파지 부재, 부상 스테이지(83)를 따라 파지 부재의 이송을 가이드하는 가이드 부재, 파지 부재에 구동력을 제공하는 구동 부재 등으로 이루어질 수 있다.
따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(200)는 부상 스테이지(83)를 따라 이송되는 기판(81)을 향하여 약액의 토출을 달성할 수 있을 것이다.
그리고 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 기판 처리 장치(200)는 높이 측정부(15)를 사용하여 약액을 토출하기 이전에 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 확인할 수 있을 것이고, 확인 결과 토출 노즐(11)의 토출면(13) 전체가 동일 높이를 유지하지 못하고 있을 경우 이에 상응하는 조치를 취할 수 있기 때문에 얼룩 등과 같은 불량 발생을 최소화할 수 있을 것이다.
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 토출 장치 및 기판 처리 장치는 기판 상에 포토레지스트, 현상액 등과 같은 약액의 토출에 적용할 수 있기에 유기 EL 소자 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에 보다 적극적으로 적용할 수 있을 것이다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
11 : 토출 노즐 13 : 토출면
15 : 높이 측정부 17 : 기준면
21 : 발광 소자 23 : 수광 소자
41 : 제1 레이저 조사부 43 : 제2 레이저 조사부
61 : 제1 변위 센서 63 : 제2 변위 센서
81 : 기판 83 : 부상 스테이지
85 : 이송부 100 : 약액 토출 장치
200 : 기판 처리 장치

Claims (9)

  1. 기판에 약액을 토출하는 토출 노즐을 구비하는 약액 토출 장치에 있어서,
    상기 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정하는 높이 측정부를 더 구비하되, 상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 및 상기 토출면 타측이 기준면으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비되고,
    상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 근방에 배치되고, 상기 기준면과 수평하게 상기 토출면 일측으로부터 상기 토출면 타측으로 광을 조사하는 발광 소자, 및 상기 토출면 타측 근방에 배치되고, 상기 발광 소자로부터 조사되는 광을 수광하는 수광 소자로 이루어짐에 의해 상기 발광 소자로부터 조사된 후 상기 수광 소자에 의해 수광이 이루어지는 수광율을 기준으로 상기 수광율에 변화가 있을 경우 상기 토출면 일측과 토출면 타측이 서로 다른 높이를 갖는 것으로 확인하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 단부 및 상기 토출면 타측 단부가 기준면으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 높이 측정부는 상기 약액을 토출시키기 이전에 상기 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정하는 것을 특징으로 하는 약액 토출 장치.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 기판을 부상시키는 부상 스테이지;
    상기 부상 스테이지 상부에 배치되고, 상기 기판을 향하여 약액을 토출하는 토출 노즐;
    상기 약액의 토출시 상기 부상 스테이지를 따라 상기 기판을 이송시키는 이송부; 및
    상기 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정하는 높이 측정부를 포함하되,
    상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 및 상기 토출면 타측이 기준면으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비되되, 상기 토출면 일측 근방에 배치되고, 상기 기준면과 수평하게 상기 토출면 일측으로부터 상기 토출면 타측으로 광을 조사하는 발광 소자, 및 상기 토출면 타측 근방에 배치되고, 상기 발광 소자로부터 조사되는 광을 수광하는 수광 소자로 이루어짐에 의해 상기 발광 소자로부터 조사된 후 상기 수광 소자에 의해 수광이 이루어지는 수광율을 기준으로 상기 수광율에 변화가 있을 경우 상기 토출면 일측과 토출면 타측이 서로 다른 높이를 갖는 것으로 확인하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 제7 항에 있어서,
    상기 높이 측정부는 상기 토출면 일측 단부 및 상기 토출면 타측 단부가 기준면으로부터 서로 동일한 높이를 유지하고 있는 가를 측정하도록 구비되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 제7 항에 있어서,
    상기 높이 측정부는 상기 약액을 토출시키기 이전에 상기 토출 노즐의 토출면 전체가 동일 높이를 유지하고 있는 가를 측정하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240056120A (ko) 2022-10-21 2024-04-30 세메스 주식회사 약액 토출 장치 및 약액 토출 장치의 토출부에 대한 높이 측정 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003347190A (ja) 2002-05-24 2003-12-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2010098126A (ja) 2008-10-16 2010-04-30 Tokyo Electron Ltd 基板搬送処理装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4578381B2 (ja) * 2005-10-19 2010-11-10 東京エレクトロン株式会社 塗布方法及び塗布装置
KR20080105670A (ko) * 2007-05-31 2008-12-04 주식회사 케이씨텍 잉크젯 헤드의 정렬 장치 및 방법
KR20090013586A (ko) * 2007-08-02 2009-02-05 세메스 주식회사 약액 도포 장치 및 슬릿 노즐의 평행 조정 방법
KR20110066247A (ko) * 2009-12-11 2011-06-17 주식회사 케이씨텍 기판 코터 장치

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003347190A (ja) 2002-05-24 2003-12-05 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP2010098126A (ja) 2008-10-16 2010-04-30 Tokyo Electron Ltd 基板搬送処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240056120A (ko) 2022-10-21 2024-04-30 세메스 주식회사 약액 토출 장치 및 약액 토출 장치의 토출부에 대한 높이 측정 방법

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