KR102258106B1 - Method of cutting and chamfering strengthened glass - Google Patents

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김종민
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동우 화인켐 주식회사
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Abstract

본 발명은 강화 유리의 절단 및 면취 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 펄스폭 1ps 내지 20ps, 출력 4 W 내지 75 W의 적외선 레이저를 조사하여 강화 유리를 절단하는 단계; 및 상기 강화 유리의 절단면에 상기 강화 유리의 서냉점 이상 기화점 미만의 온도를 가진 열원을 0.001 내지 2.5mm2의 면적으로 접촉시킨 후, 5 내지 300mm/sec의 이동 속도로 이동시켜 절단면을 면취하는 단계를 포함함으로써, 강화 유리를 불량 없이 신속하게 절단하며 균일한 표면 및 우수한 강도를 갖도록 면취하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of cutting and chamfering tempered glass, and more particularly, comprising: cutting the tempered glass by irradiating an infrared laser having a pulse width of 1ps to 20ps and an output of 4W to 75W; And a heat source having a temperature equal to or greater than the slow cooling point or less than the evaporation point of the tempered glass on the cut surface of the tempered glass in an area of 0.001 to 2.5 mm 2 , and then moved at a moving speed of 5 to 300 mm/sec to chamfer the cut surface. By including the step, it relates to a method for rapidly cutting the tempered glass without defects and chamfering to have a uniform surface and excellent strength.

Description

강화 유리의 절단 및 면취 방법{METHOD OF CUTTING AND CHAMFERING STRENGTHENED GLASS}Method of cutting and chamfering tempered glass{METHOD OF CUTTING AND CHAMFERING STRENGTHENED GLASS}

본 발명은 강화 유리의 절단 및 면취 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 터치 스크린 패널에 사용되는 강화 유리를 손상 없이 높은 강도를 가지도록 절단 및 가공하는 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of cutting and chamfering a tempered glass, and more particularly, to a method of cutting and processing a tempered glass used for a touch screen panel to have high strength without damage.

모니터, 카메라, VTR, 휴대폰 등 영상 및 광학장비, 자동차 등 운송장비, 각종 식기류, 건축시설 등 폭넓은 기술 및 산업분야에 있어서 유리제품은 필수 구성요소로 다루어지고 있으며, 이에 따라 각 산업분야의 특성에 맞추어 다양한 물성을 갖는 유리가 제조되어 사용되고 있다.In a wide range of technologies and industries, such as video and optical equipment such as monitors, cameras, VTRs, mobile phones, transportation equipment such as automobiles, various tableware, and construction facilities, glass products are treated as essential components, and accordingly, the characteristics of each industrial field. Glass having various physical properties has been manufactured and used according to the requirements.

이들 중 영상 장비의 핵심 구성요소로서 주목 받고 있는 것이 터치스크린이다. 터치스크린이란 단말기용 모니터에 설치하여 손가락이나 펜 등 보조 입력수단을 이용하여 단순 접촉하거나 문자 또는 그림 등을 그려 넣는 등, 각종 데이터를 입력하여 컴퓨터에게 특정 명령을 수행하도록 하는 디스플레이 겸 입력장치로서, 이와 같은 터치 스크린은 스마트폰과 같은 이동통신기기, 컴퓨터, 카메라, 증명서 등 발급기, 산업용 장비 등 일방 또는 쌍방으로 정보를 전달 또는 교환하는 각종 디지털 기기를 위한 핵심 부품으로서 점차 그 중요도가 높아지고 있으며, 사용 범위가 빠르게 확장되고 있다.Among these, the touch screen is drawing attention as a core component of video equipment. A touch screen is a display and input device that is installed on a terminal monitor and allows a computer to perform specific commands by inputting various data such as simple contact or drawing characters or pictures using auxiliary input means such as a finger or a pen. Such a touch screen is increasingly important as a core component for various digital devices that transmit or exchange information with one or both sides, such as mobile communication devices such as smartphones, computers, cameras, issuing machines such as certificates, and industrial equipment. The range is expanding rapidly.

이와 같은 터치스크린을 구성하는 부품 중에서 사용자가 직접 접촉하는 상부 투명 보호층은 주로 폴리에스테르 또는 아크릴 등의 플라스틱 유기물질인데, 이러한 재료는 내열성과 기계적 강도가 약하여 지속적이며 반복적인 사용 및 접촉으로 인해 변형되거나 스크래치가 발생되거나 파손되는 등 내구성에 한계가 있다. 따라서 터치스크린의 상부 투명 보호층은 기존의 투명 플라스틱으로부터 내열성, 기계적 강도 및 경도가 우수한 강화 박판유리로 점차 대체되고 있다. 아울러 강화 박판유리는 터치스크린용 외에도 LCD 또는 OLED 모니터의 투명 보호창의 역할을 함으로써 그 사용영역이 점차 확대되고 있다.Among the parts constituting such a touch screen, the upper transparent protective layer that the user directly contacts is mainly a plastic organic material such as polyester or acrylic, and these materials are poor in heat resistance and mechanical strength, so they are deformed due to continuous and repeated use and contact. There is a limit to durability, such as damage, scratches, or damage. Therefore, the upper transparent protective layer of the touch screen is gradually being replaced by a reinforced thin plate glass having excellent heat resistance, mechanical strength, and hardness from the existing transparent plastic. In addition, tempered thin glass is gradually expanding its use area by serving as a transparent protective window for LCD or OLED monitors in addition to touch screens.

강화 유리는 절단을 하면 표면에 존재하는 큰 압축응력에 기인하여 의도된 형태가 아닌 무질서한 파편으로 파괴가 발생하거나 혹시 의도된 형태로 절단이 되어도 절단선 주변 좌우 약 20mm 범위에 해당하는 넓은 지역의 압축응력은 소실되어 강도가 저하하기 때문에, 일단 강화된 후에는 유리의 조성과 상관없이 원하는 크기 또는 형상으로의 절단에 어려운 점이 있다.When the tempered glass is cut, it is destroyed as an irregular fragment that is not the intended shape due to the large compressive stress existing on the surface, or even if it is cut in the intended shape, it compresses a large area within a range of about 20 mm to the left and right around the cutting line. Since the stress is lost and the strength decreases, it is difficult to cut it into a desired size or shape once it is strengthened, regardless of the composition of the glass.

따라서, 강화 유리의 절단 방법은 통상적인 유리의 절단 방법에 비해 매우 정밀하고 엄격한 조건이 요구된다. 이러한 강화 유리의 절단 방법으로 소개된 방법은 다음과 같다.Therefore, the cutting method of the tempered glass requires very precise and strict conditions compared to the conventional cutting method of glass. The method introduced as a cutting method of this tempered glass is as follows.

먼저, 기계적 절단 방식이 있다. 상기 방식은 다이아몬드 또는 카바이드 눈새김 휠이 유리 표면을 가로질러 끌림으로써 유리판에 눈금이 기계적으로 새겨지게 되고, 그 후 상기 눈금을 따라 유리판이 휘어짐으로써 절단되어 절단 가장자리가 생성된다. 통상적으로 상기와 같은 기계적 절단 방식은 약 100 내지 150㎛ 깊이의 측방향 균열을 만들게 되며, 상기 균열은 눈새김 휠의 절삭선으로부터 발생한다. 상기 측방향 균열은 윈도우 기판의 강도를 저하시키기 때문에 윈도우 기판의 절단부를 연마하여 제거해줘야 한다. First, there is a mechanical cutting method. In this manner, a diamond or carbide grading wheel is drawn across the glass surface to mechanically engrave a scale on the glass plate, which is then cut by bending the glass plate along the scale to create a cut edge. Typically, the mechanical cutting method as described above creates a lateral crack of about 100 to 150 μm in depth, and the crack is generated from the cutting line of the grading wheel. Since the lateral crack lowers the strength of the window substrate, it must be removed by polishing the cut portion of the window substrate.

그러나, 전술한 기계적 절단 방식은 고가의 절단용 휠도 시간이 지남에 따라 교체해야 할 필요가 있고, 정밀한 절단이 용이하지 않은 단점이 있다.However, the mechanical cutting method described above has a disadvantage in that expensive cutting wheels need to be replaced over time, and precise cutting is not easy.

다음으로, 레이저를 통한 비접촉 절단 방식이 있다. 상기 방식은 레이저가 윈도우 기판의 가장자리에 새긴 금(check)을 지나 유리 표면상의 소정 경로를 따라 움직임으로써 유리 표면을 팽창시키면, 냉각기가 그 뒤를 따라 움직이면서 상기 표면을 인장시킴으로써, 레이저의 진행 경로를 따라 균열을 열적으로 전파시켜 윈도우 기판을 절단시킨다.Next, there is a non-contact cutting method using a laser. In the above method, when the laser expands the glass surface by moving along a predetermined path on the glass surface past a check on the edge of the window substrate, the cooler moves along the back and stretches the surface, thereby following the progression path of the laser. The crack is thermally propagated to cut the window substrate.

그러나, 단위 윈도우 기판에 해당하는 영역에 미리 터치 패턴 전극 등을 형성한 후에 레이저 빔으로 절단 공정을 수행하는 경우, 패턴부가 형성된 면에서 레이저 빔을 조사하면, 고온의 레이저 빔의 패턴에 근접하여 조사될 경우 패턴이 손상될 염려가 있고, 패턴의 반대면 측에서 레이저 빔을 조사하면 레이저 빔이 윈도우 기판을 통과하면서 굴절되어 마찬가지로 패턴부를 손상시킬 염려가 있다.However, in the case of performing a cutting process with a laser beam after forming the touch pattern electrode in advance in the area corresponding to the unit window substrate, if the laser beam is irradiated on the surface where the pattern portion is formed, it is irradiated close to the pattern of the high temperature laser beam. If so, there is a fear that the pattern may be damaged, and if the laser beam is irradiated from the opposite side of the pattern, the laser beam is refracted while passing through the window substrate, and similarly, there is a fear that the pattern portion may be damaged.

이에 따라 강화처리된 유리의 절단에 어려움이 있으므로, 강화 처리 전에 대면적 유리를 절단하여 단위 유리 제품을 얻고, 단위 유리 제품에 필요한 터치 전극 등을 패턴화하였다. 이러한 경우에 패턴 전극 형성에 많은 시간이 소요되어 공정 효율이 떨어지는 문제점이 있다.Accordingly, since it is difficult to cut the tempered glass, a large area glass was cut before the tempered treatment to obtain a unit glass product, and a touch electrode required for the unit glass product was patterned. In this case, it takes a lot of time to form the pattern electrode, and thus there is a problem in that the process efficiency is deteriorated.

한편, 강화 유리의 절단면은 날카롭고 그 표면이 고르지 못하여 외부 충격에 취약하므로, 면취 공정을 거쳐야 한다.On the other hand, since the cut surface of the tempered glass is sharp and its surface is uneven, it is vulnerable to external impact, so it must undergo a chamfering process.

면취 공정은 일반적으로 상기 절단부의 가공 즉, 면취를 위하여 연마휠을 회전하여 연마를 수행하였다. 이러한 면취 공정을 거치면 절단부의 평활도가 개선되고 강도가 높아지나, 종래의 면취 공정으로는 강도가 우수한 윈도우 기판을 제공하기는 어려웠다.The chamfering process is generally performed by rotating a polishing wheel to process the cut, that is, chamfering. Through the chamfering process, the smoothness of the cut portion is improved and the strength is increased, but it has been difficult to provide a window substrate having excellent strength by the conventional chamfering process.

한국등록특허 제0895830호에는 평판 디스플레이 유리 기판의 에지 가공 방법으로 컵 휠을 사용하는 방법이 개시되어 있으나, 컵 췰을 사용하는 방법은 기계적 면취 방법으로서 원하는 표면 상태를 얻기 위해서는 반복적인 수행이 필요하여 가공에 장시간이 소요되는 문제점이 있다.Korean Patent No. 0895830 discloses a method of using a cup wheel as an edge processing method of a flat display glass substrate, but the method of using a cup chun is a mechanical chamfering method, which requires repetitive execution in order to obtain a desired surface condition. There is a problem that it takes a long time to process.

또한, 최근 레이저를 이용한 면취 가공법이 소개된 바 있으나, 레이저 방식은 면취 가공면을 미세한 크기로 잘라내는 방식(chipping)으로서 역시 가공 표면이 균일하지 못한 문제가 있으며, 가공을 위해서는 절단면 표면에 초점을 맞추는 단계가 필요하다.
In addition, a chamfering method using a laser has recently been introduced, but the laser method is a method of cutting the chamfered surface into a fine size, and there is also a problem that the processed surface is not uniform, and for processing, focus on the cut surface. A fitting step is needed.

한국등록특허 제0895830호Korean Patent Registration No. 0895830

본 발명은 강화 유리를 불량 없으면서도 신속하게 절단하고, 절단면의 미세 크랙부를 효과적으로 제거하고 높은 강도를 나타낼 수 있는 절단 및 면취 방법을 제공하는 것으로 또 다른 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a cutting and chamfering method capable of rapidly cutting tempered glass without defects, effectively removing fine cracks on the cut surface, and exhibiting high strength.

또한, 본 발명은 강화 유리를 정밀하게 절단 및 면취할 수 있는 방법을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.In addition, another object of the present invention is to provide a method capable of precisely cutting and chamfering a tempered glass.

또한, 본 발명은 절단된 강화 유리의 절단면을 효과적으로 보강하여 높은 강도를 나타낼 수 있는 절단 및 면취 방법을 제공하는 것으로 또 다른 목적으로 한다.
In addition, another object of the present invention is to provide a cutting and chamfering method capable of exhibiting high strength by effectively reinforcing the cut surface of the cut tempered glass.

1. 펄스폭 1ps 내지 20ps, 출력 4 W 내지 75 W의 적외선 레이저를 조사하여 강화 유리를 절단하는 단계; 및1. Cutting the tempered glass by irradiating an infrared laser having a pulse width of 1 ps to 20 ps and an output of 4 W to 75 W; And

상기 강화 유리의 절단면에 상기 강화 유리의 서냉점 이상 기화점 미만의 온도를 가진 열원을 0.001 내지 2.5mm2의 면적으로 접촉시킨 후, 5 내지 300mm/sec의 이동 속도로 이동시켜 절단면을 면취하는 단계를 포함하는 강화 유리의 절단 및 면취 방법.A step of chamfering the cut surface by contacting the cut surface of the tempered glass with a heat source having a temperature equal to or less than the evaporation point of the tempered glass with an area of 0.001 to 2.5 mm 2 and then moving at a moving speed of 5 to 300 mm/sec. Cutting and chamfering method of tempered glass comprising a.

2. 위 1에 있어서, 상기 열원은 상기 강화 유리의 절단면에 점접촉 또는 선접촉되며, 그 접촉 면적은 0.001 내지 1mm2인 강화 유리의 절단 및 면취 방법.2. The method of 1 above, wherein the heat source is in point contact or line contact with the cut surface of the tempered glass, and the contact area is 0.001 to 1 mm 2 , and the method of cutting and chamfering the tempered glass.

3. 위 1에 있어서, 상기 열원은 상기 강화 유리의 절단면에 면접촉되며, 그 접촉 면적은 0.01 내지 2.5mm2인 강화 유리의 절단 및 면취 방법.3. In the above 1, wherein the heat source is in surface contact with the cut surface of the tempered glass, the contact area is 0.01 to 2.5mm 2 The method of cutting and chamfering the tempered glass.

4. 위 1에 있어서, 상기 열원의 온도는 상기 강화 유리의 연화점 이상 기화점 미만인, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.4. In the above 1, the temperature of the heat source is less than the evaporation point of the softening point of the tempered glass, the method of cutting and chamfering the tempered glass.

5. 위 1에 있어서, 상기 레이저의 파장은 800 내지 1,100nm인 강화 유리의 절단 및 면취 방법.5. In the above 1, the wavelength of the laser is 800 to 1,100nm cutting and chamfering method of tempered glass.

6. 위 1에 있어서, 상기 절단 공정 전에 강화 유리의 적어도 일면에는 보호용 수지막을 형성하는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.6. The method of 1 above, wherein a protective resin film is formed on at least one surface of the tempered glass before the cutting step, and the method of cutting and chamfering the tempered glass.

7. 위 1에 있어서, 상기 강화 유리는 비커스 경도가 600 내지 700 kgf/mm2인, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.7. The method of 1 above, wherein the tempered glass has a Vickers hardness of 600 to 700 kgf/mm 2 , cutting and chamfering the tempered glass.

8. 위 1에 있어서, 상기 면취는 상온에서 수행되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.8. In the above 1, wherein the chamfering is performed at room temperature, the method of cutting and chamfering the tempered glass.

9. 위 1에 있어서, 상기 면취는 열응력으로 절단면이 열원 접촉 부위로부터 소정 깊이까지 떨어져 나가게 하여 수행되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.9. The method of 1 above, wherein the chamfering is performed by causing the cut surface to fall off to a predetermined depth from the heat source contact site by thermal stress, and the method of cutting and chamfering the tempered glass.

10. 위 1에 있어서, 열원의 접촉에 의해 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부가 경사지게 가공되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.10. In the above 1, the cutting and chamfering method of the tempered glass, in which the upper and lower edges of the cut surface are obliquely processed by the contact of the heat source.

11. 위 10에 있어서, 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부에 열원을 접촉시켜 수행되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.11. In the above 10, the cutting and chamfering method of the tempered glass, which is performed by contacting the heat source with the upper and lower corners of the cut surface.

12. 위 10에 있어서, 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부에 열원을 접촉시킨 후 절단면과 평행한 방향으로 열원을 접촉시켜 수행되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.12. In the above 10, the cutting and chamfering method of the tempered glass, which is performed by contacting the heat source in a direction parallel to the cut surface after contacting the heat source with the upper and lower corners of the cut surface.

13. 위 1에 있어서, 열원 접촉 후에 절단면에 회전하는 폴리싱휠을 접촉시켜 절단면을 연마하는 단계를 더 포함하는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.13. The method of 1 above, further comprising the step of polishing the cut surface by contacting the rotating polishing wheel with the cut surface after contacting the heat source, and cutting and chamfering the tempered glass.

14. 위 1에 있어서, 열원 접촉 후에 절단면에 불산을 포함하는 식각용 조성물을 도포하는 단계를 더 포함하는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
14. The method of 1 above, further comprising the step of applying an etching composition containing hydrofluoric acid to the cut surface after contacting the heat source, cutting and chamfering the tempered glass.

본 발명의 특정한 조건으로 수행되는 레이저 방식을 사용함으로써, 강화 유리를 불량 없이 신속하게 절단할 수 있을 뿐만 아니라, 종래보다 저가의 방식으로 정밀하게 절단할 수 있다.By using the laser method performed under the specific conditions of the present invention, not only can the tempered glass be quickly cut without defects, but also it is possible to precisely cut the tempered glass in an inexpensive manner.

또한, 본 발명은 절단된 강화 유리의 절단면에 열원을 특정 조건 하에서 접촉시켜 면취함으로써, 절단면에 생성된 미세 크랙부를 효과적으로 제거하고, 높은 강도를 가지게 할 수 있다.In addition, according to the present invention, by chamfering the cut surface of the cut tempered glass by contacting the heat source under specific conditions, it is possible to effectively remove the fine cracks generated on the cut surface and have high strength.

또한, 본 발명은 열원이 접촉한 후에 불산이나 폴리싱휠로 식각 또는 연마하여 절단면을 보강함으로써 강화 유리의 강도를 더욱 개선시킬 수 있다.
In addition, according to the present invention, the strength of the tempered glass may be further improved by reinforcing the cut surface by etching or polishing with hydrofluoric acid or a polishing wheel after contact with the heat source.

도 1은 본 발명에 따라 면취 가공된 절단면의 개략적인 단면도(a)와 정면도(b) 이다.
도 2는 본 발명에 따라 면취 가공된 절단면의 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따라 면취 가공된 절단면의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따라 면취 가공된 절단면의 개략적인 단면도이다.
도 5는 강화 유리의 가열 온도에 따른 상(phase)과 체적의 변화를 나타낸 것이다.
도 6은 본 발명에 따라 면취 가공된 절단면 사진이다.
도 7은 강화 유리의 절단면 면취시, 체적 변화량이 적어 형태 변형이 일어난 경우의 절단면의 개략적인 단면도이다.
도 8은 강화 유리의 절단면 면취시, 체적 변화량이 적어 형태 변형이 일어난 경우의 절단면 사진이다.
1 is a schematic cross-sectional view (a) and a front view (b) of a cut surface chamfered according to the present invention.
Figure 2 is a schematic cross-sectional view of a cut surface chamfered in accordance with the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of a cut surface chamfered according to the present invention.
Figure 4 is a schematic cross-sectional view of a cut surface chamfered in accordance with the present invention.
5 shows changes in phase and volume according to the heating temperature of the tempered glass.
6 is a photograph of a cut surface chamfered according to the present invention.
7 is a schematic cross-sectional view of a cut surface of a tempered glass when a shape deformation occurs due to a small volume change amount when chamfering the cut surface of the tempered glass.
8 is a photograph of the cut surface of the tempered glass when the shape of the tempered glass is deformed due to a small amount of change in volume when chamfering the cut surface.

본 발명은 펄스폭 1ps 내지 20ps, 출력 4 W 내지 75 W의 적외선 레이저를 조사하여 강화 유리를 절단하는 단계; 및 상기 강화 유리의 절단면에 상기 강화 유리의 서냉점 이상 기화점 미만의 온도를 가진 열원을 0.001 내지 2.5mm2의 면적으로 접촉시킨 후, 5 내지 300mm/sec의 이동 속도로 이동시켜 절단면을 면취하는 단계를 포함함으로써, 강화 유리를 불량 없이 신속하게 절단하며 균일한 표면 및 우수한 강도를 갖도록 면취하는 방법에 관한 것이다.The present invention comprises the steps of cutting the tempered glass by irradiating an infrared laser having a pulse width of 1ps to 20ps and an output of 4W to 75W; And a heat source having a temperature equal to or greater than the slow cooling point or less than the evaporation point of the tempered glass on the cut surface of the tempered glass in an area of 0.001 to 2.5 mm 2 , and then moved at a moving speed of 5 to 300 mm/sec to chamfer the cut surface. By including the step, it relates to a method for rapidly cutting the tempered glass without defects and chamfering to have a uniform surface and excellent strength.

이하 본 발명을 상세히 설명하기로 한다.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명의 절단 및 면취 방법에 있어서, 절단하는 단계는 펄스폭 1ps 내지 20ps, 출력 4 W 내지 75 W의 적외선 레이저를 조사하여 수행된다.In the cutting and chamfering method of the present invention, the cutting step is performed by irradiating an infrared laser having a pulse width of 1 ps to 20 ps and an output of 4 W to 75 W.

레이저 방식은 강화 유리가 아닌 보통의 유리의 절단에는 널리 사용되어 왔던 방식으로서, 정밀하게 유리를 절단할 수 있는 방식으로 알려져 있다.The laser method has been widely used for cutting ordinary glass other than tempered glass, and is known as a method capable of accurately cutting glass.

하지만, 절단이 까다로운 강화 유리에 있어서는, 강화 유리의 파손 없이 효과적으로 절단할 수 있는 조건을 찾기가 어려웠다. 이에 본 발명은 강화 유리를 절단할 수 있는 레이저 방식의 특징적인 조건을 제공하여, 강화 유리를 정밀하게 절단할 수 있는 방법을 제공한다.However, in the case of toughened glass that is difficult to cut, it was difficult to find a condition capable of effectively cutting the tempered glass without breaking it. Accordingly, the present invention provides a method for precisely cutting the tempered glass by providing the characteristic conditions of the laser method capable of cutting the tempered glass.

본 발명의 절단 및 면취 방법이 적용될 수 있는 강화 유리로는 당분야에 알려진 강화 유리라면 특별히 제한되지는 않으나, 바람직한 일 구현예에서는 강화층 깊이가 10㎛ 내지 200㎛, 다른 구현예에서는 40㎛ 내지 200㎛, 또 다른 구현예에서는 120㎛ 내지 200㎛일 수 있다.The tempered glass to which the cutting and chamfering method of the present invention can be applied is not particularly limited as long as it is a tempered glass known in the art, but in a preferred embodiment, the depth of the reinforcing layer is 10 μm to 200 μm, and in another embodiment, 40 μm to It may be 200 μm, and in another embodiment, it may be 120 μm to 200 μm.

본 발명의 다른 측면에서, 본 발명의 절단 및 면취 방법이 적용될 수 있는 강화 유리는 비커스 경도(Vikers hardness)가 600 내지 700 kgf/mm2, 바람직하게는 650 내지 690 kgf/mm2일 수 있다.In another aspect of the present invention, the tempered glass to which the cutting and chamfering method of the present invention can be applied may have a Vickers hardness of 600 to 700 kgf/mm 2 , preferably 650 to 690 kgf/mm 2 .

본 발명의 또 다른 측면에서, 본 발명의 절단 및 면취 방법이 적용될 수 있는 강화 유리는 영률(Young's modulus)가 60 내지 90 GPa, 바람직하게는 65 내지 85 GPa일 수 있다.In another aspect of the present invention, the tempered glass to which the cutting and chamfering method of the present invention can be applied may have a Young's modulus of 60 to 90 GPa, preferably 65 to 85 GPa.

본 발명에서는 강화 유리를 절단하는데 적외선 레이저를 사용한다.In the present invention, an infrared laser is used to cut the tempered glass.

당 분야에 통상적으로 사용되는 적외선 레이저라면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 그 파장이 800 내지 1,100nm일 수 있다. 레이저의 파장이 800 nm 미만이면 강화 유리의 절단시간이 증가하여 파편이 떨어져 나온 부위(Chipping)의 크기 증가 및 강화 유리의 파손 문제가 있을 수 있고, 1,100 nm 초과이면 고온의 열에너지 발생으로 인해 절단 전 터치 패널용 전극 적층체를 형성하였을 경우 패턴이 손상될 수 있으며, 별도의 냉각 장치 및 냉각 공정이 더 필요하므로 공정 효율이 저하되는 문제가 있다.An infrared laser commonly used in the art is not particularly limited, and for example, the wavelength may be 800 to 1,100 nm. If the wavelength of the laser is less than 800 nm, the cutting time of the tempered glass increases, leading to an increase in the size of the chipping area and damage to the tempered glass.If it exceeds 1,100 nm, it is not possible to cut before cutting due to the occurrence of high temperature thermal energy. When the electrode stack for a touch panel is formed, the pattern may be damaged, and since a separate cooling device and a cooling process are further required, there is a problem in that process efficiency is deteriorated.

레이저는 펄스폭이 1ps 내지 20ps(pico second)이다. 펄스폭이 1ps 미만이면 강화 유리의 절단이 불가하고, 20ps 초과이면 파편이 떨어져 나온 부위(Chipping)의 크기 증가 및 강화 유리의 파손 문제가 있다.The laser has a pulse width of 1 ps to 20 ps (pico second). If the pulse width is less than 1ps, it is impossible to cut the tempered glass, and if it exceeds 20ps, there is a problem of increasing the size of the chipping and breaking the tempered glass.

그리고, 레이저는 4 W 내지 75 W의 출력으로 조사되는 것으로서, 출력이 4 W 미만이면 강화 유리의 절단이 불가하고, 75 W 초과이면 파편이 떨어져 나온 부위(Chipping)의 크기 증가 및 강화 유리의 파손 문제가 있다.In addition, the laser is irradiated with an output of 4 W to 75 W, and if the power is less than 4 W, the tempered glass cannot be cut, and if it exceeds 75 W, the size of the chipping area increases and the tempered glass is damaged. there is a problem.

필요에 따라, 본 발명의 절단 공정이 수행되기 전에 강화 유리는 적어도 일면에 보호용 수지막을 형성할 수 있다. 보호용 수지막을 형성함으로써, 절단 공정 시 발생하는 파편 등에 의해 유리 표면에 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있다.If necessary, before the cutting process of the present invention is performed, the tempered glass may form a protective resin film on at least one surface. By forming the protective resin film, it is possible to prevent damage to the glass surface due to fragments or the like generated during the cutting process.

이러한 측면에서, 본 발명에서 절단이 되는 강화 유리는 그 일면에 터치 패널용 전극 적층체가 미리 형성된 것일 수 있다. 단위 윈도우 커버 기판에 개별적으로 터치 패널용 전극 적층체를 형성하는 것보다는 단위 윈도우 커버 기판으로 절단하기 전인 원장 강화 유리 기판의 단위 윈도우 커버 기판으로 절단될 자리에 미리 터치 패널용 전극 적층체를 형성한 후, 절단 공정을 수행하는 것이 생산성을 배가시킬 수 있다. 따라서, 절단될 강화 유리 기판에 터치 패널용 전극 적층체가 형성되어 있다면, 절단 공정 전에 전극의 손상을 방지하기 위해서 보호용 수지막을 형성하는 것이 바람직하다.In this aspect, the tempered glass to be cut in the present invention may be formed in advance with an electrode laminate for a touch panel on one surface thereof. Rather than individually forming an electrode stack for a touch panel on the unit window cover substrate, a touch panel electrode stack is formed in advance at the place to be cut into the unit window cover substrate of the ledger tempered glass substrate before being cut into the unit window cover substrate. After that, performing the cutting process can double the productivity. Therefore, if an electrode laminate for a touch panel is formed on a tempered glass substrate to be cut, it is preferable to form a protective resin film in order to prevent damage to the electrode before the cutting process.

보호용 수지막은 당분야에서 사용되는 보호용 수지막이 특별한 제한 없이 사용될 수 있다. 예를 들면, 고분자 필름의 일면에 점착제를 도포한 후 강화 유리에 부착할 수도 있고, 경화형 수지 조성물을 강화 유리 일면에 도포한 후 경화시켜 형성시킬 수도 있다. As the protective resin film, a protective resin film used in the art may be used without particular limitation. For example, a pressure-sensitive adhesive may be applied to one side of a polymer film and then attached to the tempered glass, or a curable resin composition may be applied to one side of the tempered glass and then cured.

보호용 수지막을 부착하는 경우에는, 절단되는 부위(절단선)의 보호용 수지막은 절단 공정 전에 제거 공정을 진행할 수도 있으나 제거하지 않고 절단 공정을 수행할 수도 있다.In the case of attaching the protective resin film, the protective resin film of the portion to be cut (cutting line) may be removed before the cutting process, but the cutting process may be performed without removing.

필요에 따라, 보호용 수지막의 형성 및 제거 공정이 절단 공정 이후에도 수행될 수도 있다. 예를 들면 열면취 공정 후에 보호용 수지막의 형성 및 제거 공정을 수행할 수도 있다.If necessary, the process of forming and removing the protective resin film may be performed even after the cutting process. For example, after the thermal chamfering process, a process of forming and removing a protective resin film may be performed.

이와 같이, 본 발명의 절단 공정을 거친 강화 유리는 강도가 현저하게 저하된 상태이고 절단면에 미세 크랙이 존재하며 절단면이 날카로우므로 면취 공정이 필요하다. As described above, the tempered glass that has undergone the cutting process of the present invention is in a state in which the strength is remarkably lowered, fine cracks exist on the cut surface, and the cut surface is sharp, so a chamfering process is required.

이에 본 발명은 전술한 본 발명의 절단 방법에 이어 연속적으로 수행될 수 있는 면취 방법을 제공한다.Accordingly, the present invention provides a chamfering method that can be continuously performed following the cutting method of the present invention described above.

본 발명의 면취 방법은 강화 유리의 절단면에 열원을 접촉시켜 수행된다.The chamfering method of the present invention is carried out by bringing a heat source into contact with the cut surface of the tempered glass.

강화 유리는 절단 공정의 구체적인 조건에 따라 절단면의 상태나 강화 유리의 물성이 현저하게 달라질 수 있다. 이에 본 발명은 전술한 본 발명의 절단 방법에 후속하여 상기 절단 공정에 의해 저하된 강도를 회복시키고 미세 크랙을 제거하며 절단면을 효과적으로 가공할 수 있는 면취 방법으로서, 상기와 같은 조건의 열원의 접촉에 의한 면취 방법을 제공한다.In the tempered glass, the state of the cut surface or the physical properties of the tempered glass may be remarkably changed according to the specific conditions of the cutting process. Accordingly, the present invention is a chamfering method capable of recovering the strength reduced by the cutting process, removing fine cracks, and effectively processing the cut surface following the cutting method of the present invention described above. Provides a method of chamfering by.

열원의 온도는 강화 유리의 서냉점 이상 기화점 미만이다.The temperature of the heat source is greater than or equal to the slow cooling point of the tempered glass and less than the evaporation point.

도 5에 나타난 바와 같이, 강화 유리를 서냉점(annealing point) 이상의 온도로 가열하면 강화 유리가 과냉각 액체 또는 액체상(phase)으로 변하게 된다. 강화 유리의 낮은 열전도도 때문에 가열시 외부와 내부의 온도차가 심하게 발생하는데, 서냉점 이상으로 가열된 상태에서 강화 유리를 냉각시키게 되면 온도 차이에 따른 부피 차이가 발생하고, 이에 따라 내부 응력이 발생하여, 서냉점 이상의 온도를 갖는 영역이 소정 깊이까지 스트립(strip) 형태로 떨어져 나가게 된다. 열원의 온도가 강화 유리의 기화점 이상인 경우 공정 진행 자체가 불가하다.As shown in FIG. 5, when the tempered glass is heated to a temperature equal to or higher than an annealing point, the tempered glass is changed into a supercooled liquid or liquid phase. Due to the low thermal conductivity of the tempered glass, the temperature difference between the outside and the inside occurs severely when heated.If the tempered glass is cooled while it is heated above the slow cooling point, a volume difference according to the temperature difference occurs, and accordingly, internal stress occurs. , A region having a temperature equal to or higher than the slow cooling point is separated to a predetermined depth in the form of a strip. If the temperature of the heat source is higher than the evaporation point of the tempered glass, the process itself is impossible.

상기 서냉점과 기화점은 강화 유리에 따라 달라질 수 있는 것으로 온도 범위는 한정되지 않고 강화 유리에 맞게 조절될 수 있다. 구체적인 온도 범위의 예를 들면 700℃ 내지 1,700℃일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The slow cooling point and the evaporation point may vary depending on the tempered glass, and the temperature range is not limited and may be adjusted to suit the tempered glass. For example, the specific temperature range may be 700°C to 1,700°C, but is not limited thereto.

바람직하게는 열원의 온도는 강화 유리의 연화점 이상 기화점 미만일 수 있다. 강화 유리가 연화점 이상으로 가열된 상태에서 강화 유리를 냉각시키는 경우, 연화점 이상의 온도를 갖는 영역과 냉각된 부위의 체적 차이가 현저히 크다. 그에 따라 내부 응력이 크게 발생하여, 연화점 이상의 온도를 갖는 영역이 소정 깊이까지 스트립 형태로 용이하게 떨어져 나갈 수 있다. 상기 연화점과 기화점은 강화 유리에 따라 달라질 수 있는 것으로 온도 범위는 한정되지 않고 강화 유리에 맞게 조절될 수 있다. 구체적인 온도 범위의 예를 들면 850℃ 내지 1,700℃일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 열원 온도가 1700℃ 초과인 경우 열원이 산화 반응에 의해 손상을 받을 수 있으므로 온도 상한이 1700℃ 이하인 것이 바람직하다.Preferably, the temperature of the heat source may be greater than or equal to the softening point of the tempered glass and less than the evaporation point. When the tempered glass is cooled while the tempered glass is heated above the softening point, the volume difference between the region having a temperature above the softening point and the cooled portion is remarkably large. Accordingly, a large internal stress is generated, so that a region having a temperature equal to or higher than the softening point can be easily separated in a strip shape to a predetermined depth. The softening point and the evaporation point may vary depending on the tempered glass, and the temperature range is not limited and may be adjusted to suit the tempered glass. A specific temperature range may be, for example, 850°C to 1,700°C, but is not limited thereto. When the heat source temperature exceeds 1700°C, the upper limit of the temperature is preferably 1700°C or less because the heat source may be damaged by the oxidation reaction.

절단면에서 가열된 부위가 스트립 형태로 떨어져 나가고 난 단면은 표면이 고른 형태로, 도 2 및 도 3에 도시되고, 도 6의 실제 단면과 같다. 그러나, 체적 변화가 소량 발생하는 경우, 발생한 내부 응력이 물질간의 결합하고 있는 에너지를 넘지 못하여 균열 발생이 아닌 형태 변형이 일어나며, 점도가 높아짐에 따라 형태가 굳어지게 된다. 그러한 경우, 고른 단면이 얻어지지 않고, 도 7과 같은 형태가 얻어진다.The cross-section where the heated portion is separated from the cut surface in the form of a strip is shown in FIGS. 2 and 3 in an even surface, and is the same as the actual cross-section of FIG. 6. However, when the volume change occurs in a small amount, the internal stress generated does not exceed the energy bonded between the substances, so that the shape deformation occurs rather than the occurrence of cracks, and the shape becomes hardened as the viscosity increases. In such a case, an even cross section is not obtained, and a shape as shown in Fig. 7 is obtained.

본 발명에 따른 온도 범위를 갖는 열원을 강화 유리의 절단면에 접촉시키게 되면, 열전달률이 낮은 유리의 특성 상 절단면 부위에 열응력이 발생하여 열원 접촉 부위로부터 소정 깊이까지의 부분이 떨어져 나가게 된다. 본 발명에 따른 면취 방법에 의해 절단 공정에 의해 현저하게 낮아진 강화 유리의 연신율을 0.4% 이상으로 대폭 상승시킬 수 있다. 또한, 전술한 선행특허의 기계적 면취 방법이나 레이저 방법보다 균일한 표면을 얻을 수 있고 면취 가공 시간도 현저하게 감소시킬 수 있다.When the heat source having a temperature range according to the present invention is brought into contact with the cut surface of the tempered glass, due to the characteristics of the glass having a low heat transfer rate, thermal stress is generated at the cut surface, and the portion to a predetermined depth is separated from the heat source contact part. By the chamfering method according to the present invention, the elongation of the tempered glass, which is significantly lowered by the cutting process, can be significantly increased to 0.4% or more. In addition, it is possible to obtain a more uniform surface than the mechanical chamfering method or the laser method of the above-described prior patent, and the chamfering processing time can be significantly reduced.

열원은 강화 유리의 절단면에 0.001 내지 2.5mm2의 면적으로 접촉된다.The heat source is in contact with the cut surface of the tempered glass in an area of 0.001 to 2.5 mm 2.

접촉 면적이 0.001 mm2 미만이면 면취면이 거칠고 면취 형상이 불균일할 수 있으며, 2.5 mm2 초과이면 유리의 과도한 용융에 의해 형태 변화가 발생할 수 있다.If the contact area is less than 0.001 mm 2, the chamfered surface may be rough and the chamfered shape may be uneven, and if it exceeds 2.5 mm 2 , shape change may occur due to excessive melting of the glass.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 열원은 강화 유리의 절단면에 점접촉 또는 선접촉될 수 있다.According to one embodiment of the present invention, the heat source may be in point contact or line contact with the cut surface of the tempered glass.

본 명세서에서 점접촉 또는 선접촉이란 기하학적으로 두 물체가 한 점에서 만나는 경우와 한 선에서 만나는 경우뿐만 아니라, 실질적으로 점접촉 또는 선접촉되는 경우를 포함한다. 예를 들어, 원뿔 형태의 열원을 강화 유리 절단면 모서리부에 접촉시키는 경우에는 기하학적으로는 열원과 모서리부가 한 점에서 만나게 되고 평면 형태의 열원을 절단면 모서리부에 접촉시키는 경우에는 수학적으로는 열원과 모서리부가 선에서 만나게 되는데, 수학적으로는 점 또는 선은 면적이 존재하지 않게 된다. 하지만, 실제적으로는 소정 면적을 가지고 접촉하게 되는 바, 본 발명에서의 점접촉 또는 선접촉은 이러한 경우를 포함한다.In the present specification, point contact or line contact includes a case where two objects geometrically meet at a point and a line, as well as a case where point or line contact is made. For example, when a conical heat source is brought into contact with the edge of the cut surface of the tempered glass, geometrically, the heat source and the edge meet at one point, and when the flat heat source is brought into contact with the edge of the cut surface, the heat source and the edge are mathematically They meet at the additional line, but mathematically, the point or line does not have an area. However, in practice, the contact is made with a predetermined area, and the point contact or line contact in the present invention includes such a case.

열원이 강화 유리의 절단면 모서리부에 점접촉 또는 선접촉되는 경우, 그 접촉 면적은 0.001 내지 1mm2이다. 접촉 면적이 0.001 mm2 미만이면 면취면이 거칠고 면취 형상이 불균일할 수 있으며, 1 mm2 초과이면 유리의 과도한 용융에 의해 형태 변화가 발생할 수 있다.When the heat source is in point contact or line contact with the edge of the cut surface of the tempered glass, the contact area is 0.001 to 1 mm 2 . If the contact area is less than 0.001 mm 2, the chamfered surface may be rough and the chamfered shape may be uneven, and if it exceeds 1 mm 2 , shape change may occur due to excessive melting of the glass.

또한, 열원은 강화 유리의 절단면에 면접촉될 수도 있다. 본 명세서에서 면접촉이란 기하학적으로 해석하여도 면접촉이 이루어지는 경우를 의미한다.Further, the heat source may be in surface contact with the cut surface of the tempered glass. In the present specification, the surface contact refers to a case where surface contact is made even when geometrically interpreted.

절단면의 모서리부가 아닌 경우, 예를 들어 도 4의 ③과 같이 절단면에 대하여 평행한 방향으로 면취를 수행하는 경우는 열원이 강화 유리의 절단면에 면접촉될 수 있다.In the case of not being the edge of the cut surface, for example, when chamfering is performed in a direction parallel to the cut surface as shown in ③ of FIG. 4, the heat source may be in surface contact with the cut surface of the tempered glass.

열원이 강화 유리의 절단면에 면접촉되는 경우, 그 접촉 면적은 0.01 내지 2.5mm2이다. 접촉 면적이 0.01mm2 미만이면 면취면이 거칠고 면취 형상이 불균일할 수 있으며, 2.5mm2 초과이면 유리의 과도한 용융에 의해 형태 변화가 발생할 수 있다.When the heat source is in surface contact with the cut surface of the tempered glass, the contact area is 0.01 to 2.5 mm 2 . If the contact area is less than 0.01mm 2, the chamfered surface may be rough and the chamfered shape may be uneven, and if it exceeds 2.5mm 2 , shape change may occur due to excessive melting of the glass.

본 발명에 있어서, 바람직하게는 상기 열원이 접촉한 후 상기 강화 유리를 급냉시킬 수 있다. In the present invention, preferably, the tempered glass may be rapidly cooled after the heat source contacts.

도 5에서 서냉점 이상의 온도에서 강화 유리를 서냉시키는 경우에 급냉시키는 경우보다 체적 변화가 더 크지만, 서냉시키는 경우에는 강화 유리의 성분간 결합 에너지가 충분히 작용하므로 열응력이 상기 결합 에너지를 넘지 못할 수 있다. 그러나, 급냉시키는 경우는 체적 변화는 적지만, 체적 변화에 의해 열응력이 발생할 때 급냉에 의해 결합 에너지가 충분히 작용하지 못하여, 가열된 부위가 스트립 형태로 용이하게 떨어져 나갈 수 있다.In FIG. 5, when the tempered glass is slowly cooled at a temperature above the slow cooling point, the volume change is larger than the case of rapid cooling, but in the case of slow cooling, the bonding energy between the components of the tempered glass acts sufficiently, so that the thermal stress cannot exceed the bonding energy. I can. However, in the case of rapid cooling, the volume change is small, but when the thermal stress occurs due to the volume change, the binding energy does not sufficiently act by the rapid cooling, and the heated portion can be easily separated in the form of a strip.

급냉은 예를 들어, 면취 단계를 상온(예를 들어, 15 내지 30℃)에서 실시함으로써 수행될 수 있다. 열원을 강화 유리 절단면의 모서리부에 접촉시키는 경우 해당 부위가 가열되나, 열원이 이동하면서 해당 부위를 벗어나면, 가열된 부위가 상온에 노출되어 급냉될 수 있다.Quenching may be performed, for example, by performing the chamfering step at room temperature (eg, 15 to 30°C). When the heat source is brought into contact with the edge of the cut surface of the tempered glass, the portion is heated, but if the heat source moves and leaves the portion, the heated portion may be exposed to room temperature and rapidly cooled.

절단면에 접촉된 열원은 면취 가공될 부분을 따라 이동하게 되는데, 이동 속도는 5 내지 300mm/sec이다. 이동 속도가 5 mm/sec 미만이면 보호층이 손상되고, 절삭량이 증가하며, 유리의 과도한 용융에 의해 형태 변화가 발생할 수 있고, 300mm/sec 초과이면 경우에 면취면이 거칠고 면취 형상이 불균일할 수 있다.The heat source in contact with the cut surface moves along the portion to be chamfered, and the moving speed is 5 to 300 mm/sec. If the moving speed is less than 5 mm/sec, the protective layer is damaged, the cutting amount increases, and the shape change may occur due to excessive melting of the glass, and if it exceeds 300 mm/sec, the chamfering surface may be rough and the chamfer shape may be uneven. have.

본 발명의 면취 방법에 있어서, 열원으로 사용될 수 있는 소재는 전술한 열원의 온도를 변형 없이 전달할 수 있는 소재라면 특별히 제한되지는 않는다. 예를 들면, 세라믹 소재 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In the chamfering method of the present invention, a material that can be used as a heat source is not particularly limited as long as it is a material capable of transmitting the temperature of the above-described heat source without deformation. For example, a ceramic material may be used, but the present invention is not limited thereto.

또한, 본 발명의 면취 방법은 안정적인 면취 품질을 구현하기 위해 압력을 제어하거나 강화 유리 또는 열원의 위치를 제어하는 수단이 추가적으로 더 적용될 수도 있다.In addition, in the chamfering method of the present invention, a means for controlling pressure or controlling a position of a tempered glass or a heat source may be additionally applied in order to achieve a stable chamfering quality.

본 발명에 따른 면취 방법은 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부가 경사지게 가공하는 방법으로서, 도 1에는 면취 가공된 절단면의 개략적인 단면도(a)와 정면도(b)가 도시되어 있다.The chamfering method according to the present invention is a method of processing the upper and lower corners of the cut surface inclined, and FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view (a) and a front view (b) of the chamfered cut surface.

도 1과 같이 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부를 경사지게 가공하는 방법은, 최종적인 형태가 상부 모서리부와 하부 모서리부가 경사지게 된다면 열원을 접촉시키는 구체적인 순서나 횟수, 경사 각도 등의 상세한 조건에는 특별한 제한이 없다.In the method of processing the upper and lower corners of the cut surface inclined as shown in FIG. 1, if the final shape is inclined at the upper and lower corners, there are special restrictions on the detailed conditions such as the specific order or number of contacting the heat source, the angle of inclination, etc. There is no.

보다 구체적인 예를 들면, 본 발명의 일 구현예로서, 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부에 열원을 접촉시켜 수행될 수 있다. 도 2에 개략적으로 도시된 바와 같이, 열원을 절단면의 상부 모서리부(①)와 하부 모서리부(②)에 접촉시켜 경사면을 형성할 수 있다.For a more specific example, as an embodiment of the present invention, it may be performed by contacting a heat source with an upper edge portion and a lower edge portion of the cut surface. As schematically illustrated in FIG. 2, the heat source may be in contact with the upper edge portion (①) and the lower edge portion (②) of the cut surface to form an inclined surface.

본 발명의 다른 일 구현에로서, 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부에 열원을 접촉시킨 후 절단면과 평행한 방향으로 열원을 접촉시켜 수행될 수 있다. 본 구현예는 면취 방법에 의해 제거되는 강화 유리 부분이 많은 경우로서 필요한 경우 채택될 수 있다. 도 2에 본 구현예의 면취 방법이 개략적으로 도시되어 있다. 도 2를 참고하여 설명하면, 먼저 절단면의 상부 모서리부에 열원을 접촉시켜 소정 부분(①)까지 경사면을 형성한다. 다음으로 절단면의 상부 모서리부에 열원을 접촉시켜 소정 부분(②)까지 경사면을 형성한다. 이어서 절단면과 평행한 방향으로 열원을 접촉시켜 요구되는 부분(③)까지 유리를 제거함으로써 최종 단면 형태를 얻을 수 있다.In another embodiment of the present invention, after contacting the heat source with the upper and lower corners of the cut surface, it may be performed by contacting the heat source in a direction parallel to the cut surface. This embodiment is a case where there are many tempered glass portions to be removed by the chamfering method, and may be adopted if necessary. Figure 2 schematically shows the chamfering method of this embodiment. Referring to FIG. 2, first, a heat source is brought into contact with the upper edge of the cut surface to form an inclined surface up to a predetermined portion (①). Next, the heat source is brought into contact with the upper edge of the cut surface to form an inclined surface up to a predetermined portion (②). Subsequently, by contacting the heat source in a direction parallel to the cut surface to remove the glass to the required part (③), the final cross-sectional shape can be obtained.

또한, 본 발명의 상기 구현예에서 면취 가공의 순서는 변경이 가능하며, 따라서 면취 가공은 도 2에 도시된 순서와 다른 순서로 진행될 수도 있다. 예를 들면, ②번, ①번 및 ③번의 순서로 수행될 수도 있으며, 또는 ③번, ②번, 및 ①번의 순서로 수행될 수도 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.In addition, in the embodiment of the present invention, the order of chamfering processing may be changed, and thus chamfering processing may be performed in a different order from the order shown in FIG. 2. For example, it may be performed in the order of No. ②, No. ①, and No. ③, or may be performed in the order of No. ③, No. ②, and No. ①, but is not limited thereto.

전술한 바와 같은 열원에 의한 절단면의 경사면 가공이 완료되면, 필요에 따라 절단면 표면의 보강 공정을 더 수행할 수 있다. 본 발명의 레이저 절단 방법은 절단면 표면을 고르게 형성할 수 있으나, 이러한 보강 공정을 통해 보다 균일한 표면 및 우수한 강도를 갖도록 할 수 있다.When the processing of the inclined surface of the cut surface by the heat source as described above is completed, a reinforcing process of the cut surface surface may be further performed if necessary. The laser cutting method of the present invention can evenly form the cut surface, but can have a more uniform surface and excellent strength through such a reinforcing process.

본 발명에 따른 보강 공정은 폴리싱휠로 절단면을 연마하거나, 불산을 포함하는 식각액으로 절단면을 식각하는 방법을 들 수 있다.The reinforcing process according to the present invention may include a method of polishing the cut surface with a polishing wheel or etching the cut surface with an etching solution containing hydrofluoric acid.

먼저, 폴리싱 휠로 연마하는 방법은, 열원에 의한 경사면 가공이 완료된 후, 회전하는 폴리싱 휠을 절단면에 접촉시켜 절단면을 보다 고르게 연마하는 방법이다. 이에 의해 표면에 존재하는 미세크랙 등을 연마시켜 절단면을 보강하게 된다.First, the method of polishing with a polishing wheel is a method of polishing the cut surface more evenly by contacting the rotating polishing wheel with the cut surface after finishing processing of the inclined surface by a heat source. As a result, the cut surface is reinforced by polishing fine cracks or the like existing on the surface.

폴리싱휠은 산화세륨과 같은 연마입자로 제조된 휠을 사용할 수 있다. 연마입자의 크기는 5㎛ 이하인 것이 절단면 보강 효과를 충분히 나타내는 측면에서 바람직하다. 연마 입자의 크기는 작을수록 연마 정밀도를 높일 수 있어 바람직하다. 따라서, 하한은 특별히 제한되지 않으나, 공정 시간 등을 고려하면 0.01㎛ 정도를 사용할 수 있다.The polishing wheel may be a wheel made of abrasive particles such as cerium oxide. It is preferable that the size of the abrasive particles is 5 μm or less in terms of sufficiently exhibiting the effect of reinforcing the cut surface. The smaller the size of the abrasive particles is, the higher the polishing precision is, and thus it is preferable. Therefore, the lower limit is not particularly limited, but considering the process time, etc., about 0.01 μm may be used.

폴리싱 휠의 회전속도는 특별히 한정되지 않고 절단면이 충분히 연마되어 원하는 수준의 강도를 얻을 수 있도록 적절히 선택될 수 있으며, 예를 들면 1,000 내지 10,000 rpm일 수 있다.The rotational speed of the polishing wheel is not particularly limited and may be appropriately selected so that the cut surface is sufficiently polished to obtain a desired level of strength, and may be, for example, 1,000 to 10,000 rpm.

다음으로, 불산을 사용하여 식각하는 방법은, 불산을 포함하는 식각액을 절단면에 도포하여 절단면의 표면 부위를 식각하는 방법이다. 불산을 포함하는 식각액으로 절단면을 식각하게 되면, 절단면이 엠보 패턴을 나타내며 식각되고 표면이 보강된다.Next, the method of etching using hydrofluoric acid is a method of etching the surface portion of the cut surface by applying an etching solution containing hydrofluoric acid to the cut surface. When the cut surface is etched with an etching solution containing hydrofluoric acid, the cut surface is etched to show an embossed pattern, and the surface is reinforced.

불산을 포함하는 식각액은 불산 수용액으로서, 불산 외에 필요한 산 성분, 예를 들면 염산, 질산, 황산 등 유리 식각 성분으로 당분야에 알려진 성분들이 더 포함될 수 있다.The etchant containing hydrofluoric acid is an aqueous hydrofluoric acid solution, and components known in the art as free etching components such as hydrochloric acid, nitric acid, and sulfuric acid may be further included in addition to hydrofluoric acid.

불산을 포함하는 식각액으로 절단면을 식각하는 시간은 특별히 한정되지는 않으나, 예를 들면 30 초 내지 10 분 사이에서 식각하는 것이 절단면을 과도하게 식각하지 않으면서 강도를 상승시킬 수 있다. The time for etching the cut surface with an etching solution containing hydrofluoric acid is not particularly limited, but etching between 30 seconds to 10 minutes may increase the strength without excessively etching the cut surface .

불산을 포함하는 식각액의 온도는 특별히 한정되지는 않으나, 예를 들면 20 내지 50℃인 것이 바람직하다. 온도가 20℃보다 낮을 경우 공정시간이 길어지고 식각이 불충분하게 진행될 수 있으며, 온도가 50℃보다 높을 경우 공정시간은 짧아지나 식각이 불균일하게 진행될 수 있다.The temperature of the etching solution containing hydrofluoric acid is not particularly limited, but is preferably 20 to 50°C, for example. If the temperature is lower than 20°C, the processing time may be lengthened and etching may be insufficiently performed. If the temperature is higher than 50°C, the processing time may be shortened, but etching may proceed unevenly.

불산을 포함하는 식각액은, 절단면에 분사되거나 절단면을 상기 식각액에 침지시키는 등 당분야에 공지된 방식으로 절단면에 도포될 수 있다.
The etching solution containing hydrofluoric acid may be applied to the cut surface in a manner known in the art, such as spraying onto the cut surface or immersing the cut surface in the etching solution.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.
Hereinafter, preferred embodiments are presented to aid the understanding of the present invention, but these examples are only illustrative of the present invention, and do not limit the scope of the appended claims, and examples within the scope and spirit of the present invention It is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications are possible, and it is natural that such modifications and modifications fall within the appended claims.

실시예Example 1-5 및 1-5 and 비교예Comparative example 1-4 1-4

강화 유리(강화층 깊이: 20~25㎛, 비커스 경도: 649 kgf/mm2, 영률: 71.5 GPa)의 표면에 보호용 수지막을 형성한 후, 하기 표 1에 기재된 조건으로 레이저를 조사하고, 그 절단 여부를 표 1에 기재하였다.
After forming a protective resin film on the surface of a tempered glass (reinforced layer depth: 20-25 μm, Vickers hardness: 649 kgf/mm 2 , Young's modulus: 71.5 GPa), laser was irradiated under the conditions shown in Table 1 below, and cut Whether it is listed in Table 1.

구분division 출력(W)Output(W) 파장(nm)Wavelength(nm) 펄스폭(ps)Pulse width (ps) 절단여부Cutting or not Chipping Size(㎛)Chipping Size(㎛) 실시예 1Example 1 44 10641064 1010 가능possible 0~500-50 실시예 2Example 2 4040 10641064 1010 가능possible 0~500-50 실시예 3Example 3 7575 10641064 1010 가능possible 0~500-50 실시예 4Example 4 4040 10641064 1One 가능possible 0~500-50 실시예 5Example 5 4040 10641064 2020 가능possible 0~500-50 비교예 1Comparative Example 1 33 10641064 1010 불가Impossible -- 비교예 2Comparative Example 2 7777 10641064 1010 파손damage -- 비교예 3Comparative Example 3 4040 10641064 2121 가능possible 150 이상More than 150 비교예 4Comparative Example 4 4040 10641064 0.80.8 불가Impossible --

표 1를 참고하면, 본 발명의 절단 방법 조건에 따라 수행된 실시예 1 내지 5는 모두 강화 유리의 절단이 가능했으며, 50㎛ 이하의 Chipping Size를 나타냈다.Referring to Table 1, Examples 1 to 5 performed according to the cutting method conditions of the present invention were all capable of cutting the tempered glass, and showed a Chipping Size of 50 μm or less.

하지만, 본 발명의 조건을 벗어난 비교예들은 절단이 불가능하거나 절단 중에 강화 유리가 파손이 되었다. 또한 절단이 가능하더라도 Chipping Size가 크게 나타났다.
However, in the comparative examples out of the conditions of the present invention, cutting was impossible or the tempered glass was broken during cutting. In addition, even if cutting was possible, the chipping size was large.

실시예Example 6-11 및 6-11 and 비교예Comparative example 5-12 5-12

강화 유리(강화층 깊이: 20~25㎛, 비커스 경도: 649 kgf/mm2, 영률: 71.5 GPa, 서냉점 613℃, 연화점 852℃, 기화점 1700℃ 초과)의 표면에 보호용 수지막을 형성한 후, 하기 표 2에 기재된 조건으로 레이저로 절단한 후에, 상온에서 하기 표 2에 기재된 조건으로 원뿔 형태의 열원을 강화유리 절단면의 모서리부에 접촉시켜 면취하고, 절단면에 평행인 방향으로 접촉시켜 면취하였다. 면취 가능 여부 및 측정된 연신율을 표 2에 기재하였다. 연신율은 강화 유리 50매 이상의 평균값으로 판단하였다.After forming a protective resin film on the surface of tempered glass (reinforced layer depth: 20~25㎛, Vickers hardness: 649 kgf/mm 2 , Young's modulus: 71.5 GPa, slow cooling point 613℃, softening point 852℃, evaporation point exceeding 1700℃) , After cutting with a laser under the conditions described in Table 2 below, a conical heat source was chamfered by contacting the edge of the cut surface of the tempered glass under the conditions described in Table 2 below at room temperature, and chamfered by contacting in a direction parallel to the cut surface. . Table 2 shows whether chamfering is possible and the measured elongation. The elongation was judged as an average value of 50 or more tempered glass sheets.

연신율은 강도를 평가할 수 있는 지표로서, 강화 유리 기판의 하부에 기판 중앙으로부터 양쪽으로 이격된 2개의 지지 스팬을 설치하고, 기판 중앙 상부에 위치한 상부 스팬으로 윈도우 기판 상부에 하중을 가하면서, 상부 스팬이 윈도우 기판에 닿는 지점부터 윈도우 기판이 깨지게 되는 지점까지의 거리(크로스헤드 변위)를 측정하여 하기 수학식 1에 따라 산출하였다.Elongation is an index to evaluate the strength. Two support spans are installed in the lower part of the tempered glass substrate and spaced apart from the center of the substrate. The distance (crosshead displacement) from the point touching the window substrate to the point where the window substrate is broken was measured and calculated according to Equation 1 below.

[수학식 1][Equation 1]

연신율(%)= (6Tδ)/s2 Elongation (%) = (6Tδ)/s 2

(식 중, T는 윈도우 기판의 두께(mm), δ는 크로스헤드 변위(mm), s는 지지 스팬 사이의 거리(mm)임).
(Wherein, T is the thickness of the window substrate (mm), δ is the crosshead displacement (mm), and s is the distance between the support spans (mm)).

구분division 절단 공정Cutting process 면취 공정
(경사면가공)
Chamfering process
(Slope machining)
열원 접촉면적
(mm2)
Heat source contact area
(mm 2 )
경사면 형성Slope formation 연신율Elongation
출력
(W)
Print
(W)
파장
(nm)
wavelength
(nm)
펄스폭
(ps)
Pulse width
(ps)
열원온도
(℃)
Heat source temperature
(℃)
접촉이송
속도
(mm/sec)
Contact transfer
speed
(mm/sec)
모서리부 접촉Edge contact 절단면에 수직접촉Vertical contact to the cut surface
실시예 6Example 6 4040 10641064 1010 12001200 55 0.1~0.150.1~0.15 0.1~0.50.1~0.5 형성formation 0.8420.842 실시예 7Example 7 4040 10641064 1010 12001200 300300 0.05~0.10.05~0.1 0.05~0.10.05~0.1 0.7920.792 실시예 8Example 8 4040 10641064 1010 900900 150150 0.005~0.010.005~0.01 1~1.51~1.5 0.9810.981 실시예 9Example 9 4040 10641064 1010 17001700 150150 0.3~0.50.3~0.5 0.01~0.050.01~0.05 0.8240.824 실시예 10Example 10 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.5~10.5~1 2~2.52~2.5 0.8970.897 실시예 11Example 11 4040 10641064 1010 700700 150150 0.001~0.010.001~0.01 0.01~0.020.01~0.02 형성
불안
formation
unrest
0.3150.315
비교예 5Comparative Example 5 4040 10641064 1010 500500 150150 0.05~0.10.05~0.1 0.5~10.5~1 형성
불가
formation
Impossible
0.2110.211
비교예 6Comparative Example 6 4040 10641064 1010 12001200 33 0.1~0.20.1~0.2 1~1.51~1.5 0.1970.197 비교예 7Comparative Example 7 4040 10641064 1010 12001200 500500 0.5~0.80.5~0.8 1.5~21.5~2 0.1870.187 비교예 8Comparative Example 8 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.0초과
~0.001미만
More than 0.0
~less than 0.001
0초과
~0.01미만
More than 0
Less than ~0.01
0.0980.098
비교예 9Comparative Example 9 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.0초과
~0.001미만
More than 0.0
~less than 0.001
2.5초과~3Over 2.5~3 0.1240.124
비교예 10Comparative Example 10 4040 10641064 1010 12001200 150150 1~1.51~1.5 2.5초과
~3
More than 2.5
~3
0.1120.112
비교예 11Comparative Example 11 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.0초과~
0.001미만
More than 0.0
Less than 0.001
0.1~0.50.1~0.5 0.1950.195
비교예 12Comparative Example 12 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.5~10.5~1 2.5초과
~3
More than 2.5
~3
0.2550.255

표 2를 참고하면, 본 발명의 면취 방법 조건에 따라 수행된 실시예 6 내지 10은 모두 0.4% 이상의 높은 연신율을 나타냈다.Referring to Table 2, Examples 6 to 10 performed according to the conditions of the chamfering method of the present invention all exhibited a high elongation of 0.4% or more.

실시예 6의 절단면을 도 6에 나타내었는데, 이를 참조하면, 고르게 면취가 수행된 것을 확인할 수 있다.The cut surface of Example 6 is shown in FIG. 6, and referring to this, it can be seen that chamfering was evenly performed.

실시예 11의 경우, 서냉점 이상 연화점 미만의 온도를 갖는 열원으로 면취를 수행하여, 일부 영역은 스트립 형태로 떨어져 나가고 일부 영역은 그렇지 않아, 도 8과 같이 절단면이 형성되었다.In the case of Example 11, chamfering was performed with a heat source having a temperature equal to or higher than the slow cooling point and lower than the softening point, so that some areas were separated in a strip shape and some areas were not, so that a cut surface was formed as shown in FIG. 8.

하지만, 본 발명의 조건을 벗어난 비교예들은 경사면 형성 자체가 되지 않았으며, 연신율도 0.4% 미만이었다.
However, the comparative examples out of the conditions of the present invention did not form an inclined surface, and the elongation was also less than 0.4%.

실시예Example 12-16 12-16

강화 유리(강화층 깊이: 20~25㎛, 비커스 경도: 649 kgf/mm2, 영률: 71.5 GPa, 서냉점 613℃, 연화점 852℃, 기화점 1700℃ 초과)의 표면에 보호용 수지막을 형성한 후, 하기 표 3에 기재된 조건으로 레이저 절단한 후에, 상온에서 하기 표 3에 기재된 조건으로 원뿔 형태의 열원을 강화유리 절단면의 모서리에 접촉시켜 경사면 가공을 한 다음, 폴리싱휠로 절단면을 연마하여 보강하였다. 측정된 연마 후 강화 유리의 연신율을 표 3에 기재하였다. 연신율은 강화 유리 50매 이상의 평균값으로 판단하였다.
After forming a protective resin film on the surface of tempered glass (reinforced layer depth: 20~25㎛, Vickers hardness: 649 kgf/mm 2 , Young's modulus: 71.5 GPa, slow cooling point 613℃, softening point 852℃, evaporation point exceeding 1700℃) , After laser cutting under the conditions described in Table 3 below, a heat source in the shape of a cone was contacted with the edge of the cut surface of the tempered glass under the conditions described in Table 3 below at room temperature to process the inclined surface, and then the cutting surface was polished and reinforced with a polishing wheel. . Table 3 shows the measured elongation of the tempered glass after polishing. The elongation was judged by an average value of 50 or more tempered glass sheets.

구분division 절단 공정Cutting process 면취(경사면 가공)Chamfering (inclined surface processing) 열원 접촉면적
(mm2)
Heat source contact area
(mm 2 )
보강
(폴리싱휠)
Reinforcement
(Polishing wheel)
연신율Elongation
출력
(W)
Print
(W)
파장
(nm)
wavelength
(nm)
펄스폭
(ps)
Pulse width
(ps)
열원
온도
(℃)
Heat source
Temperature
(℃)
접촉
이송
속도
(mm/sec)
contact
transfer
speed
(mm/sec)
모서리부
접촉
Corner
contact
절단면에
수직 접촉
On the cut surface
Vertical contact
휠 입자
Size
(㎛)
Wheel particles
Size
(㎛)
실시예 12Example 12 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.05~0.10.05~0.1 0.5~10.5~1 1One 0.9120.912 실시예 13Example 13 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.05~0.10.05~0.1 0.5~10.5~1 33 0.8130.813 실시예 14Example 14 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.05~0.10.05~0.1 0.5~10.5~1 44 0.9810.981 실시예 15Example 15 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.05~0.10.05~0.1 0.5~10.5~1 77 0.4870.487 실시예 16Example 16 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.05~0.10.05~0.1 0.5~10.5~1 1010 0.5350.535

표 3을 참고하면, 입자의 크기가 5um이하로 구성된 폴리싱휠을 이용하여 절단면을 연마하게 되면 연신율이 더욱 상승하는 것을 확인할 수 있다. 다만, 본 발명의 바람직한 범위를 벗어난 실시예 15 및 16은 연신율의 상승폭이 다른 실시예들보다 크지는 않았다.
Referring to Table 3, it can be seen that the elongation further increases when the cut surface is polished using a polishing wheel having a particle size of 5 μm or less. However, Examples 15 and 16 out of the preferred range of the present invention did not have an increase in elongation greater than that of other examples.

실시예Example 17-26 17-26

강화 유리(강화층 깊이: 20~25㎛, 비커스 경도: 649 kgf/mm2, 영률: 71.5 GPa, 서냉점 613℃, 연화점 852℃, 기화점 1700℃ 초과)의 표면에 보호용 수지막을 형성한 후, 하기 표 4에 기재된 조건으로 레이저로 절단한 후에, 상온에서 하기 표 4에 기재된 조건으로 원뿔 형태의 열원을 강화유리 절단면의 모서리에 접촉시켜 경사면 가공을 한 다음, 불산 수용액으로 절단면을 식각하여 보강하였다. After forming a protective resin film on the surface of tempered glass (reinforced layer depth: 20~25㎛, Vickers hardness: 649 kgf/mm 2 , Young's modulus: 71.5 GPa, slow cooling point 613℃, softening point 852℃, evaporation point exceeding 1700℃) , After cutting with a laser under the conditions described in Table 4 below, a conical heat source is contacted with the edge of the cut surface of the tempered glass under the conditions described in Table 4 below at room temperature to process the inclined surface, and then reinforced by etching the cut surface with an aqueous hydrofluoric acid solution. I did.

보강이 완료된 후 강화 유리에 대해 측정된 연신율을 표 4에 기재하였다. 연신율은 강화 유리 50매 이상의 평균값으로 판단하였다.
Table 4 shows the elongation measured for the tempered glass after the reinforcement was completed. The elongation was judged as an average value of 50 or more tempered glass sheets.

구분division 절단 공정Cutting process 면취(경사면가공)Chamfering (inclined surface processing) 열원 접촉면적
(mm2)
Heat source contact area
(mm 2 )
보강
(식각 보강)
Reinforcement
(Etch reinforcement)
연신율Elongation
출력
(W)
Print
(W)
파장
(nm)
wavelength
(nm)
펄스폭
(ps)
Pulse width
(ps)
열원온도
(℃)
Heat source temperature
(℃)
접촉
이송
속도
(mm/sec)
contact
transfer
speed
(mm/sec)
모서리부 접촉Edge contact 절단면에 수직접촉Vertical contact to the cut surface
실시예 17Example 17 4040 10641064 1010 12001200 55 0.1~0.150.1~0.15 0.1~0.50.1~0.5 식각 시간:3분
식각온도:
28-30℃
Etching time: 3 minutes
Etching temperature:
28-30℃
0.8170.817
실시예 18Example 18 4040 10641064 1010 12001200 300300 0.05~0.10.05~0.1 0.05~0.10.05~0.1 0.9140.914 실시예 19Example 19 4040 10641064 1010 17001700 150150 0.3~0.50.3~0.5 0.01~0.050.01~0.05 0.8890.889 실시예 20Example 20 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.5~10.5~1 2~2.52~2.5 0.9660.966 실시예 21Example 21 4040 10641064 1010 12001200 55 0.1~0.150.1~0.15 0.1~0.50.1~0.5 식각 시간:20초
식각온도:
28-30℃
Etching time: 20 seconds
Etching temperature:
28-30℃
0.4110.411
실시예 22Example 22 4040 10641064 1010 12001200 300300 0.05~0.10.05~0.1 0.05~0.10.05~0.1 0.4310.431 실시예 23Example 23 4040 10641064 1010 17001700 150150 0.3~0.50.3~0.5 0.01~0.050.01~0.05 0.4740.474 실시예 24Example 24 4040 10641064 1010 12001200 150150 0.5~10.5~1 2~2.52~2.5 0.3950.395

표 4를 참고하면, 불산을 포함하는 식각액으로 절단면을 식각하여 보강한 실시예들의 경우에는 연신율이 더욱 상승하는 것을 확인할 수 있다. 다만, 식각액의 식각 시간 및 온도가 본 발명의 바람직한 범위를 다소 벗어나는 경우에는 연신율의 상승폭이 크지 않음을 확인할 수 있다. 참고로, 식각 시간이 10분 이상인 경우에는 과도한 식각이 진행됨을 확인하였다.
Referring to Table 4, it can be seen that the elongation is further increased in the examples in which the cut surface is reinforced by etching the cut surface with an etching solution containing hydrofluoric acid. However, when the etching time and temperature of the etchant are slightly out of the preferred range of the present invention, it can be seen that the increase in the elongation is not large. For reference, it was confirmed that excessive etching proceeded when the etching time was 10 minutes or longer.

Claims (14)

펄스폭 1ps 내지 20ps, 출력 4 W 내지 75 W의 적외선 레이저를 조사하여 비커스 경도가 600 내지 700 kgf/mm2인 강화 유리를 절단하는 단계; 및
상기 강화 유리의 절단면에 상기 강화 유리의 서냉점 이상 기화점 미만의 온도를 가진 열원을 0.001 내지 2.5mm2의 면적으로 접촉시킨 후, 5 내지 300mm/sec의 이동 속도로 이동시켜 절단면을 면취하는 단계를 포함하고,
상기 열원은 상기 강화 유리의 절단면에 점접촉 또는 선접촉하는 경우 접촉 면적은 0.001 내지 1mm2이고, 면접촉하는 경우 접촉 면적은 0.01 내지 2.5mm2인 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
Cutting a tempered glass having a Vickers hardness of 600 to 700 kgf/mm 2 by irradiating an infrared laser having a pulse width of 1 ps to 20 ps and an output of 4 W to 75 W; And
A step of chamfering the cut surface by contacting the cut surface of the tempered glass with a heat source having a temperature equal to or less than the evaporation point of the tempered glass with an area of 0.001 to 2.5 mm 2 and then moving at a moving speed of 5 to 300 mm/sec. Including,
When the heat source is in point contact or line contact with the cut surface of the tempered glass, the contact area is 0.001 to 1 mm 2, and the contact area is 0.01 to 2.5 mm 2 in the case of surface contact, cutting and chamfering the tempered glass.
삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 열원의 온도는 상기 강화 유리의 연화점 이상 기화점 미만인, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
The method of claim 1, wherein the temperature of the heat source is not less than a softening point and less than a vaporization point of the tempered glass.
청구항 1에 있어서, 상기 레이저의 파장은 800 내지 1,100nm인 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
The method of claim 1, wherein the laser has a wavelength of 800 to 1,100 nm.
청구항 1에 있어서, 상기 절단 공정 전에 강화 유리의 적어도 일면에는 보호용 수지막을 형성하는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
The method for cutting and chamfering a tempered glass according to claim 1, wherein a protective resin film is formed on at least one surface of the tempered glass before the cutting step.
삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 면취는 상온에서 수행되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
The method of claim 1, wherein the chamfering is performed at room temperature.
청구항 1에 있어서, 상기 면취는 열응력으로 절단면 모서리부가 열원 접촉 부위로부터 소정 깊이까지 떨어져 나가게 하여 수행되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
The method according to claim 1, wherein the chamfering is performed by causing the edge portion of the cut surface to be separated from the heat source contact portion to a predetermined depth due to thermal stress.
청구항 1에 있어서, 열원의 접촉에 의해 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부가 경사지게 가공되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
The method of claim 1, wherein the upper and lower edges of the cut surface are processed to be inclined by contact with the heat source.
청구항 10에 있어서, 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부에 열원을 접촉시켜 수행되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
The method of claim 10, wherein the method of cutting and chamfering tempered glass is performed by contacting a heat source with an upper edge portion and a lower edge portion of the cut surface.
청구항 10에 있어서, 절단면의 상부 모서리부와 하부 모서리부에 열원을 접촉시킨 후 절단면과 평행한 방향으로 열원을 접촉시켜 수행되는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
The method of claim 10, wherein the heat source is brought into contact with the upper and lower corners of the cut surface and then the heat source is contacted in a direction parallel to the cut surface.
청구항 1에 있어서, 열원 접촉 후에 절단면에 회전하는 폴리싱휠을 접촉시켜 절단면을 연마하는 단계를 더 포함하는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.
The method of claim 1, further comprising the step of polishing the cut surface by contacting the rotating polishing wheel with the cut surface after contacting the heat source.
청구항 1에 있어서, 열원 접촉 후에 절단면에 불산을 포함하는 식각용 조성물을 도포하는 단계를 더 포함하는, 강화 유리의 절단 및 면취 방법.The method of claim 1, further comprising applying an etching composition containing hydrofluoric acid to the cut surface after contacting the heat source.
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