KR102227331B1 - OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조방법, 장치 및 OvXDM 시스템 - Google Patents

OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조방법, 장치 및 OvXDM 시스템 Download PDF

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Abstract

본 출원은 OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조방법, 장치 및 OvXDM 시스템을 공개한다. 한면으로는 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상절단을 진행하였기에 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비를 이용하여 변조 영역 이동간격을 계산하여, 변조하여 얻은 부호너비를 작아지게 하고 전송속도를 제고시켰다. 또 한면으로는 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상만 진행했을뿐 진실한 절단을 하지 않았기에 이동과 중첩된 것은 여전히 스미어링이 있는 초기 엔빌로우프 파형이며, 대응 영역에서 여전히 양호한 특성을 보류하게 한다. 예컨대 너비가 비교적 좁고 또 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠른것. 따라서 본 출원은 전송 속도를 제고함과 동시에 대응 영역에서 양호한 파형 특성을 유지할 수 있다.

Description

OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조방법, 장치 및 OvXDM 시스템
본 출원은 신호처리분야에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조방법, 장치 및 OvXDM 시스템에 관한 것이다.
중첩 다중 시스템에 있어서 OvTDM(Overlapped Time Division Multiplexing) 시스템, OvFDM(Overlapped Frequency Division Multiplexing) 시스템, OvCDM(Overlapped Code Division Multiplexing) 시스템, OvSDM(Overlapped Space Division Multiplexing) 시스템이든 OvHDM(Overlapped Hybrid Division Multiplexing) 시스템 등이든 대다수는 시스템 변조의 하중 파형에 사용되며 일종의 '스미어링'현상이 존재한다. 즉, 변조 영역내에서 하중 파형의 폭 값 또는 에너지가 비교적 낮고 0에 가까우며 변화가 느리다. 이 구간 변조 영역내 하중 파형의 에너지가 비교적 낮으므로 신호 전송 과정에서 이 구간 변조 영역이 실제로 감당할수 있는 정보량은 아주 적으며, 중첩 횟수가 같고 또 하중 파형이 변조 영역내에서 너비가 같은 상황에서 '스미어링'의 하중 파형의 실제 전송속도는 비교적 느리다. 하지만 또 한면으로 변조 영역의 하중 파형 '스미어링'의 존재는 변조 영역 대응 구역내(예컨대, 변조 영역이 주파수 영역일 경우 대응 영역은 시간 영역이며, 변조 영역이 시간 영역일 경우 대응 영역은 주파수 영역임)에서 비교적 좋은 특성을 갖게 하며, 대응 영역에서 비교적 좁고 또 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르다. 때문에 '스미어링'의 하중 파형은 전송 속도와 대응 영역 우수 특성과 모순되는 상황이 존재한다.
본 출원은 OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조방법, 장치 및 OvXDM 시스템을 제공한다.
본 출원의 첫번째 측면에 근거하여 본 출원은 OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조방법을 제공하였으며 이에는 다음 절차가 포함된다.
설계 파라미터에 근거하여 변조 영역내에서 한개의 초기 엔빌로우프 파형을 생성하는 절차.
변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 너비에서 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 길이를 감하여 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비를 얻는 절차.
초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비에서 제1 중첩 다중 횟수를 나누어 변조 영역 이동 간격을 얻는 절차.
제1 중첩 다중 횟수에 근거하여 상기 초기 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 사기 변조 영역 이동 간격에 따라 이동을 진행하여 변조 영역내의 각 이동 엔빌로우프 파형을 얻는 절차.
변조대기 서열중의 부호와 각자 대응하는 이동 엔빌로우프 파형을 곱하여 변조 영역내의 각 변조 엔빌로우프 파형을 얻는 절차.
각 변조 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 중첩하여 변조 영역내의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는 절차.
본 출원의 두번째 측면에 근거하여 본 출원은 OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조장치를 제공하였다. 이에는
설계파라미터에 근거하여 변조 영역내에서 한개의 초기 엔빌로우프 파형을 생성하는데 사용하는 파형생성모듈,
변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 너비에서 去초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 길이를 감하여 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비를 얻는데 사용하는 가상절단모듈,
초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비에서 제1 중첩 다중 횟수를 나누어 변조 영역 이동 간격을 얻는데 사용하는 변조 영역 이동간격 계산모듈,
제1 중첩 다중 횟수에 근거하여 상기 초기 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 사기 변조 영역 이동 간격에 따라 이동을 진행하여 변조 영역내의 각 이동 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용하는 제1이동모듈,
변조대기 서열중의 부호와 각자 대응하는 이동 엔빌로우프 파형을 곱하여 변조 영역내의 각 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용하는 곱셈모듈,
각 변조 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 중첩하여 변조 영역내의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용하는 제1중첩모듈이 포함된다.
본 출원의 세번째 측면에 근거하여 본 출원은 일종의 vXDM 시스템을 제공한다. 이에는 상기 OvXDM 시스템에 적용하는 변조장치가 포함된다.
본 출원의 유익한 효과는 :
상기 OvXDM시스템에 적용하는 변조방법, 장치 및 OvXDM시스템은 한면으로는 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상절단을 진행하였기에 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비를 이용하여 변조 영역 이동간격을 계산하여, 변조하여 얻은 부호너비를 작아지게 하고 전송속도를 제고시켰다. 또 한면으로는 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상만 진행했을뿐 진실한 절단을 하지 않았기에 이동과 중첩된 것은 여전히 스미어링이 있는 초기 엔빌로우프 파형이며, 대응 영역에서 여전히 양호한 특성을 보류하게 하였다. 예컨대 너비가 비교적 좁고 또 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠른것. 따라서 본 출원은 전송 속도를 제고함과 동시에 대응 영역에서 양호한 파형 특성을 유지할 수 있다.
도1은 본 출원 한가지 실시례의 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법의 흐름 안내도이다.
도2는 본 출원 또 한가지 실시례의 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법의 흐름 안내도이다.
도3은 본 출원 한가지 실시례의 OvXDM 시스템에 적용하는 변조장치의 구조 안내도이다.
도4는 본 출원 또 한가지 실시례의 OvXDM 시스템에 적용하는 변조장치의 구조 안내도이다.
도5는 본 출원 첫번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvFDM 시스템일때, 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상절단을 진행하는 안내도이다.
도6(a)는 본 출원 첫번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvFDM 시스템일때, 찾아낸 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링의 안내도이다. 그중 세로 좌표는 폭이다.
도6(b)는 본 출원 첫번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvFDM 시스템일때, 찾아낸 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링의 안내도이다. 그중 가로 좌표는 공률이다.
도7는 본 출원 첫번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvFDM 시스템일때, 가상절단한 초기 엔빌로우프 파형이 중첩을 진행하는 과정 안내도이다.
도8은 본 출원 첫번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvFDM 시스템일때, 진실하게 절단한 초기 엔빌로우프 파형이 중첩을 진행하는 과정 안내도이다.
도9는 본 출원 첫번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvFDM 시스템일때, 실시례 1 샘플링 가상절단의 변조방법과 기존 기술중 샘플링 진실절단의 변조방법이 얻은 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 특성 비교도이다.
도10은 본 출원 두번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvTDM 시스템일때, 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상절단을 진행하는 안내도이다.
도11(a)는 본 출원 두번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvTDM 시스템일때, 찾아낸 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링의 안내도이다. 그중, 세로 좌표는 폭이다.
도11(b)는 본 출원 두번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvTDM 시스템일때, 찾아낸 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링의 안내도이다. 그중, 가로 좌표는 공률이다.
도12는 본 출원 두번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvTDM 시스템일때, 가상절단한 초기 엔빌로우프 파형이 중첩을 진행하는 과정 안내도이다.
도13은 본 출원 두번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvTDM 시스템일때, 진실절단한 초기 엔빌로우프 파형이 중첩을 진행하는 과정 안내도이다.
도14는 본 출원 두번째 실시례중 OvXDM 시스템이 OvTDM 시스템일때, 실시례 1 샘플링 가상절단의 변조방법과 기존 기술중 샘플링 진실절단의 변조방법이 얻은 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 특성 비교도이다.
도15는 본 출원 세번째 실시례중 OvHDM 시스템의 일종의 구조 안내도이다.
도16(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 직사각형 창구 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도16(b) 는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역의 직사각형 창구 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도17은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템 중에서 직사각형 창구 엔빌로우프 파형를 초기 엔빌로우프 파형로 적용하여 변조해 얻은 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도；
도18은 본 출원 네번째 실시례 중에서 在OvHDM 시스템중에서 직사각형 창구 엔빌로우프 파형를 초기 엔빌로우프 파형로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도19(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 발샌 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도19(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 발샌 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도20은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 발샌 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도21은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 발샌 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도22(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 바틀렛 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도22(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 바틀렛 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도23은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 바틀렛 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도24는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 바틀렛 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도25(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 바틀렛-한 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도25(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 바틀렛-한 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도26은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 바틀렛-한 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도27은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 바틀렛-한 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도28(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 보면 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도28(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 보먼 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도29는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 보먼 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도30은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 보먼 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도31(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 블랙맨 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도31(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 블랙맨 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도32는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 블랙맨 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도33은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 블랙맨 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도34(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 블랙맨-해리스 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도34(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 블랙맨-해리스 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도35는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 블랙맨-해리스 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도36은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 블랙맨-해리스 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도37(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 가우스 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도37(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 가우스 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도38은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 가우스 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도39는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 가우스 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도40(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 해밍 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도40(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 해밍 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도41은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 해밍 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도42는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 해밍 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도43(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 한 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도43(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 한 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도44는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 한 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도45는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 한 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도46(a), (c), (e)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 beta 파라미터가 각기 0.5, 2, 5인 케사이 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도46(b), (d), (f)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내 beta 파라미터가 각기 0.5, 2, 5인 케사이 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도47(a), (b), (c)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 beta 파라미터가 각기 0.5, 2, 5인 케사이 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도48(a), (b), (c)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 beta 파라미터가 각기 0.5, 2, 5인 케사이 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도49(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 넛톨 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도49(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 넛톨 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도50은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 넛톨 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도51은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 采用넛톨 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도52(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 플랫탑 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도52(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 플랫탑 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도53은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 플랫탑 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도54는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 플랫탑 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도55(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 체비쉐프 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도55(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 체비쉐프 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도56은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 체비쉐프 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도57은 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 체비쉐프 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도58(a)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 트라이앵글형 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도58(b)는 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내의 트라이앵글형 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도59는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 트라이앵글형 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도60는 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 트라이앵글형 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도61(a), (c), (e)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 nbar = 4, sll = -30인 테일러 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도, nbar = 6, sll = -50인 테일러 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도, nbar = 8, sll = -80인 테일러 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도61(b), (d), (f)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내 nbar = 4, sll = -30인 테일러 엔빌로우프 파형을 주파수 영역에 전환한 파형도, 시간 영역내 nbar = 6, sll = -50인 테일러 엔빌로우프 파형을 주파수 영역에 전환한 파형도, 시간 영역내 nbar = 8, sll = -80인 테일러 엔빌로우프 파형을 주파수 영역에 전환한 파형도이다.
도62(a), (b), (c)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 nbar = 4, sll = -30인 테일러 엔빌로우프 파형, nbar = 6, sll = -50인 테일러 엔빌로우프 파형, nbar = 8, sll = -80인 테일러 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도63(a), (b), (c)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 nbar = 4, sll = -30인 테일러 엔빌로우프 파형, nbar = 6, sll = -50인 테일러 엔빌로우프 파형, nbar = 8, sll = -80인 테일러 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도64(a), (c), (e)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 파라미터R이 각기 0.1, 0.5, 0.9인 케사이 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도64(b), (d), (f)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 시간 영역내 파라미터 R이 각기 0.1, 0.5, 0.9인 케사이 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내로 전환하는 파형도이다.
도65(a), (b), (c)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 파라미터 R이 각기 0.1, 0.5, 0.9인 케사이 엔빌로우프 파형을 초기 엔빌로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
도66(a), (b), (c)는 각기 본 출원 네번째 실시례 중에서 OvHDM 시스템중에서 파라미터 R이 각기 0.1, 0.5, 0.9인 케사이 엔빌로우프 파형을 초기 엔벨로우프 파형으로 적용하여 변조해 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이다.
아래 구체적인 실시방식을 통해 도면과 결합하여 본 출원에 대해 진일보 상세한 설명을 진행하고자 한다.
배경기술에서 언급한 하중 파형의 스미어링 현상에 대해 기존 기술이 적용한 방법은 진실절단이다. 구체적으로 말하자면 하중 파형의 스미어링을 절단한후 절단 스미어링의 하중 파형을 새로운 하중 파형으로 사용하여 그후의 이동 및 중첩과정을 진행한다. 진실절단후의 파형은 너비가 작아졌기 때문에, 계산하여 얻은 변조 영역 이동간격도 작아졌으며 이로 인해 부호의 전송속도를 효과적으로 제고할수 있다. 하지만 파형 양쪽의 스미어링이 절단되었기에, 즉 하중 파형이 변조 영역의 양쪽에서 더이상 평활하지 않으므로 대응 영역의 특성이 비교적 나쁘다. 즉, 대응 영역 옆 돌출부 공률이 비교적 높아 이는 주 로브 신호에 대한 방해가 비교적 커 시스템의 성능에 영향주고 시스템의 오류율을 제고하였다.
이 문제를 해결하기 위해, 즉, 전송속도를 제고함과 동시에 변조 영역의 대응 영역내 파형 특성의 우수함을 유지하기 위해 본 출원은 가상절단의 사고방식을 제출하였다. 구체적으로 말하자면 초기 엔빌로우프 파형이 스미어링을 제거한후의 너비를 이용하여 변조 영역 이동간격을 계산하여, 변조하여 얻은 부호너비를 작아지게 하고 전송속도를 제고시켰다. 실제로 이동과 중첩에 참여한 파형은 스미어링의 원래 초기 엔빌로우프 파형을 제거하지 않아 대응영역에 스미어링의 양호한 특성을 보류할수 있게 하였다. 아래에 구체적으로 설명한다.
본 출원은 우선 OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조방법(아래 변조방법이라 약칭)을 제출하였다. 도1을 참조하고 이에는 절차 S01~S11이 포함된다.
절차 S01은 설계 파라미터에 근거하여 변조 영역내에서 한개의 초기 엔빌로우프 파형을 생성한다. 이 실시례 중에서 설계 파라미터에는 적어도 초기 엔빌로우프 파형의 너비 L이 포함된다. 비교적 우수한 실시례 중에서 초기 엔빌로우프 파형은 변조 영역 내에서 파형이 평활하여 대응 영역 너비가 좁고 비교적 우수한 특성을 갖게 하였다. 우선적으로, 초기 엔빌로우프 파형은 다음 파형중의 한가지가 될수 있다. 발샌 (Parzen) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 바틀렛(Bartlett) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 바틀렛-한(Bartlett-Hanning) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 보먼(Bohman) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 블랙맨(Blackman) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 블랙맨-해리스(Blackman-Harris) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 가우스(Gaussian) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 해밍 (Hamming) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 한(Hann) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 케사이 (Kaiser) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 넛톨(Nuttall) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 플랫탑 (Flat Top) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 체비쉐프 (Chebyshev)엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 트라이앵글(Triangular) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 테일러 (Taylor) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 투키(Tukey) 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 여기서 변화창구 함수는 원 파형의 펄스 성형 연승함수, 각차 도함수, 각차 도함수의 합 등 일련의 원 파형의 성형에 관한 함수형식을 가리킬수 있다. 예컨대 체비쉐프 엔빌로우프 파형의 변화창구 함수는 체비쉐프 펄스 성형 연승함수, 각차 도함수, 각차 도함수의 합 등 일련의 체비쉐프 펄스 성형과 관련된 함수일수 있다.
절차 S03은 변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 너비에서 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 길이를 감하여 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비를 얻는다. 예컨대 변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 너비를 L로 하고, 스미어링 길이는 Ltail로 할 경우, 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비 L'의 계산은 L'=L-Ltail이다.
한개 실시례 중에서 본 출원의 변조방법에는 또 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 길이 확정절차도 포함된다. 구체적으로 볼때, 변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 폭값을 공률로 전환하고 시스템의 임계 신호 대 잡음비와 비교하여 공률이 상기 임계 신호 대 잡음비가 대응하는 변조 영역보다 작은 부분을 스미어링으로 판정한다.
절차 S05는 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비에서 제1 중첩 다중 횟수를 나누어 변조 영역 이동 간격을 얻는다. 예컨대 K로 제1 중첩 다중 횟수를 표시하고, △로 변조 영역 이동간격을 표시하여 본 출원의 △= L'/K=(L-Ltail)/K를 진행한다.
절차 S07은 제1 중첩 다중 횟수에 근거하여 상기 초기 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 사기 변조 영역 이동 간격에 따라 이동을 진행하여 변조 영역내의 각 이동 엔빌로우프 파형을 얻는다. 여기서 이동을 진행하는 초기 엔빌로우프 파형은 절단을 진행하지 않고 스미어링을 보류한 파형이다.
절차 S09는 변조대기 서열중의 부호와 각자 대응하는 이동 엔빌로우프 파형을 곱하여 변조 영역내의 각 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다.
절차 S11은 각 변조 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 중첩하여 변조 영역내의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다.
본 실시례중의 OvXDM 시스템은 OvFDM 시스템, OvTDM 시스템, OvHDM 시스템, OvCDM 시스템 또는 OvSDM 시스템일수 있다. 아래 각기 설명한다.
한개 실시례 중에서 OvXDM 시스템이 OvFDM 시스템일 경우, 상기 변조 영역은 주파수 영역이고, 절차 S11에서 주파수 영역의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻은후 전환절차도 포함할수 있다. 예컨대 주파수 영역의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 시간 영역의 다단 변조 엔빌로우프 파형으로 전환하여 그후의 발사를 진행한다.
상기 OvXDM 시스템이 OvHDM 시스템일 경우, 상기 가상절단 변조방법에는 또 다음 절차도 포함된다.
한개 실시례 중에서 OvXDM 시스템이 OvTDM 시스템일 경우, 상기 변조 영역은 시간 영역이고, 절차 S11에서 얻은 것은 시간 영역의 다단 변조 엔빌로우프 파형으로, 한개 실시례 중에서 이를 직접 발사할수 있다.
한개 실시례 중에서 OvXDM 시스템이 OvHDM 시스템일 경우, 상기 변조 영역은 시간 영역이며, 절차 S11에서 얻은 것은 시간 영역의 다단 변조 엔빌로우프 파형이다. 도2를 참조하여 OvXDM 시스템이 OvHDM 시스템일 경우, 본 출원의 변조방법에는 절차 S13과 S15도 포함된다.
절차 S13은 제2중첩 다중 횟수에 근거하여 시간 영역의 각 다단 변조 엔빌로우프 파형을 대응한 부반송파에 놓고, 각 부반송파에 대해 주파수 영역에서 이동 중첩을 진행하여 각 부반송파의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다. 각 부반송파의 다단 변조 엔빌로우프 파형은 절차 S11에서 얻는다.
절차 S15는 각 부반송파의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내에서 중첩하여 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다.
한개 실시례 중에서 절차 S15후에는 또 시간 여역에 사용하는 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 발사한 절차도 포함될수 있다.
상응하게 도3을 참조하여 본 출원은 또 OvXDM 시스템에 적용하는 일종의 변조장치(아래 변조장치라 약칭)를 제출하였다. 이에는 파형생성모듈 01, 가상절단 모듈 03, 변조 영역 이동간격 계산모듈 05, 제1 이동모듈07, 곱셈모듈 09와 제1 중첩모듈 11이 포함된다.
파형생성모듈 01은 설계파라미터에 근거하여 변조 영역내에서 한개의 초기 엔빌로우프 파형을 생성하는데 사용된다. 한개 실시례 중에서 파형생성모듈 01은 적어도 초기 엔빌로우프 파형의 너비 L에 근거하여 변조 영역내에서 한개의 초기 엔빌로우프 파형을 생성한다. 비교적 우수한 실시례 중에서 파형생성모듈 01이 생성한 초기 엔빌로우프 파형은 변조 영역내에서 파형이 평활하여 대응 영역 너비가 비교적 좁고 비교적 우수한 특성을 갖게 되었다. 우선적으로, 초기 엔빌로우프 파형은 다음 파형중의 한가지가 될수 있다. 발샌 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 바틀렛 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 바틀렛-한 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 보먼 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 블랙맨 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 블랙맨-해리스 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 가우스 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 해밍 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 한 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 케사이 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 넛톨 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 플랫탑 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 체비쉐프 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 트라이앵글 창구엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 테일러 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 투키 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 여기서 변화창구 함수는 원 파형의 펄스 성형 연승함수, 각차 도함수, 각차 도함수의 합 등 일련의 원 파형의 성형에 관한 함수형식을 가리킬수 있다. 예컨대, 발샌 창구 엔빌로우프 파형의 변화창구 함수는 체비쉐프 펄스 성형 연승함수, 각차 도함수, 각차 도함수의 합 등 일련의 체비쉐프 펄스 성형과 관련된 함수일수 있다.
가상절단 모듈 03은 변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 너비에서 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 길이를 감하여 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비를 얻는다. 예컨대 변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 너비를 L로 하고 스미어링 길이는 Ltail로 할 경우, 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비 L'의 계산은 L'=L-Ltail이다. 비교적 우수한 실시례 중에서 본 출원의 변조모듈에는 또 변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 폭값을 공률로 전환하고 시스템의 임계 신호 대 잡음비와 비교하여 공률이 상기 임계 신호 대 잡음비가 대응하는 변조 영역보다 작은 부분을 스미어링으로 판정하는데 사용하는 스미어링 확정모듈도 포함될수 있다.
변조 영역 이동간격 계산모듈 05는 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비에서 제1 중첩 다중 횟수를 나누어 변조 영역 이동 간격을 얻는데 사용한다. 예컨대 K로 제1 중첩 다중 횟수를 표시하고 △로 변조 영역 이동 간격을 표시하여 본 출원의 △= L'/K=(L-Ltail)/K를 진행한다.
제1 이동모듈07은 제1 중첩 다중 횟수에 근거하여 상기 초기 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 사기 변조 영역 이동 간격에 따라 이동을 진행하여 변조 영역내의 각 이동 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용한다.
곱셈모듈 09는 변조대기 서열중의 부호와 각자 대응하는 이동 엔빌로우프 파형을 곱하여 변조 영역내의 각 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용한다.
제1 중첩모듈 11은 각 변조 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 중첩하여 변조 영역내의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용한다.
본 출원은 또 일종의 OvXDM 시스템을 공개하였으며 이에는 상기 변조모듈이 포함된다. 본 출원의 OvXDM 시스템은 OvFDM 시스템, OvTDM 시스템, OvHDM 시스템, OvSDM 시스템 또는 OvCDM 시스템일수 있다.
한개 실시례 중에서 OvXDM 시스템이 OvFDM 시스템일 경우, 변조 영역은 주파수 영역이고, 상응하게 제1 중첩모듈 11이 얻은것은 주파수 영역의 다단 변조 엔빌로우프 파형이다. 때문에 한개 실시례 중에서 본 출원의 변조장치에는 또 주파수 영역의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 시간 영역으로 전환하는 다단 변조 엔빌로우프 파형이 발사한 모듈도 포함될수 있다.
한개 실시례 중에서 OvXDM 시스템이 OvTDM 시스템일 경우, 상기 변조 영역은 시간 영역이고, 상응하게 제1 중첩모듈 11이 얻은 것은 시간 영역의 다단 변조 엔빌로우프 파형이다. 한개 실시례 중에서 직접 발사할수 있다.
한개 실시례 중에서 OvXDM 시스템이 OvHDM 시스템일 경우, 상기 변조 영역은 시간 영역이고, 제1 중첩모듈 11에서 얻은것은 시간 영역의 다단 변조 엔빌로우프 파형이다. 도4를 참조하여 OvXDM 시스템이 OvHDM 시스템일 경우, 본 출원의 변조장치에는 제2 이동모듈 13과 제2 중첩모듈 15가 포함될수 있다.
제2 이동모듈 13은 제2중첩 다중 횟수에 근거하여 제1 중첩모듈 11이 얻은 약간의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 대응한 부반송파에 놓고, 각 부반송파에 대해 주파수 영역에서 이동 중첩을 진행하여 각 부반송파의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용한다.
제2 중첩모듈 15는 각 부반송파의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내에서 중첩하여 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용한다.
한개 실시례 중에서 본 출원의 변조장치에는 또 시간 영역에 사용하는 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 발사한 모듈도 포함될수 있다.
아래 약간의 예를 통해 본 출원에 대해 진일보 설명을 진행한다.
실시례 1
본 실시례는 OvFDM 시스템을 예로 설명한다.
OvFDM 시스템은 발송단말에서 우선 상응한 하중 파형, 즉 위에서 언급한 초기 엔빌로우프 파형을 생성해야 하며, OvFDM 시스템은 주파수 분할 다중화로서 주로 주파수 영역에서 변조를 진행하므로, 생성한 초기 엔빌로우프 파형은 주파수 영역의 초기 엔빌로우프 파형H(f)이다. 우선적으로, 초기 엔빌로우프 파형H(f)를 선정할때 주파수 영역에서 비교적 평활할것을 원하며 상응하게 대응한 시간 영역에서 에너지가 집중될것으로 신호 점용시간이 비교적 짧아, 중첩후 생성된 다단 변조 엔빌로우프 파형은 주파수 영역에서의 파형이 평활하게 되며, 이를 시간 영역으로 전환한후 신호 에너지가 집중되고 감퇴가 비교적 빠르며 점용시간이 비교적 짧고 시스템간 부호 방해가 비교적 작고 신호가 양호한 특성을 갖고 있어 시스템의 오류율을 감소한다. 위에서 언급한 여러개 평활한 초기 엔빌로우프 파형는 모두 이 요구에 부합되는 바, 예컨대 가우스(Gaussian) 엔빌로우프 파형, 체비쉐프(Chebyshev) 엔빌로우프 파형, 테일러(Taylor) 엔빌로우프 파형, 투키(Tukey) 엔빌로우프 파형 등.
하지만 대다수 초기 엔빌로우프 파형은 모두 일종의 '스미어링' 현상이 존재하는 바, 특히 초기 엔빌로우프 파형이 비교적 '말랐을때' 이런 현상이 더욱 선명하다. '스미어링'이란 파형이 일정한 주파수 스펙트럼내에서 폭값(또는 에너지)이 비교적 낮아 거의 0에 가까우며 변화가 느린것을 가리킨다. 이 구간 주파수 스펙트럼내 초기 엔빌로우프 파형의 에너지가 비교적 낮으므로 신호 전송 과정에서 실제로 감당할수 있는 정보량은 비교적 적으며, 중첩 횟수가 같고 또 초기 엔빌로우프 파형의 대역폭이 같은 상황에서 '스미어링'의 초기 엔빌로우프 파형의 실제 전송속도는 비교적 느리다. 하지만 '스미어링'의 파형은 또 비교적 좋은 특성이 있어 시간 영역 신호 에너지 집중 감퇴가 비교적 빠르고 점용시간이 비교적 짧으며 시스템간 부호 방해가 비교적 작다. 때문에 '스미어링'의 파형은 전송 속도와 시간 영역 특성이 서로 모순되는 상황이 존재한다.
상기와 같이 이 문제에 대해 기존 기술의 처리방법은 진실절단이다. 즉, 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링을 절단한후, 스미어링이 없는 초기 엔빌로우프 파형을 새로운 다중 파형으로 하여 그후의 변조, 예컨대 이동, 부호와 곱하기, 중첩 등을 진행한다. 진실절단 방안은 부호 전송속도를 효과적으로 제고할수 있으나 더이상 스미어링을 갖지 않으므로 시간 영역 특성이 비교적 나쁘고 시간 영역 신호 에너지가 집중되지 않고 또 오차가 느리며, 시스템간 부호 방해가 비교적 커 시스템의 성능에 영향주고 시스템의 오류율을 제고하였다.
발명인은 연구를 통해 초기 엔빌로우프 파형의 너비에 따라 계산한 부호의 실제 너비가 전송속도를 결정하였고, 부호 너비가 작을수록 전송속도가 더 빠르며, 주파수 영역에서 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 존재여부는 시간 영역에서 파형의 특성을 결정하였음을 발견하였다.
이에 본 실시례는 가상절단 방법을 제출하였다. 도5와 같이 초기 엔빌로우프 파형에 대해 진실절단이 아니라 가상절단을 진행하고, 가상절단후의 초기 엔빌로우프 파형으로 부호 실제 너비를 계산하였다. 즉, 스미어링이 없는 초기 엔빌로우프 파형으로 부호 실제 너비를 계산하여 부호 너비를 작게 함으로써 전송속도를 제고하였다. 또한 실제 변조과정에서 가상절단이므로 사실상 초기 엔빌로우프 파형은 여전히 스미어링을 보류하여 양호한 시간 영역 특성을 갖게 하였으며, 실제절단을 하지 않은 초기 엔빌로우프 파형에 대해 이동, 부호와 곱하기 및 중첩 등을 진행함으로써, 변조하여 얻은 다단 변조 엔빌로우프 파형도 양호한 시간 영역 특성을 갖게 하였다. 구체적으로 말하자면 시간 영역 신호 에너지 집중 감퇴가 비교적 빠르고 또 점용시간이 비교적 짧아 시스템간 부호 방해가 비교적 작게 하고, 디코딩 복잡도를 증가하지 않는 전제하에 시스템의 성능을 보증하였다.
아래 본 출원의 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법에 대해 OvFDM 시스템과 결합하여 설명을 진행한다.
(1) 설계 파라미터에 근거하여 주파수 영역내에 한개의 초기 엔빌로우프 파형H(f) 생성.
초기 엔빌로우프 파형H(f)의 너비가 B, 시스템의 중첩 다중 횟수는 K, 부호 너비는 Bs일 경우, 초기 엔빌로우프 파형H(f)의 너비는 B=K*Bs이다.
(2) 초기 엔빌로우프 파형H(f)의 '스미어링' 찾기.
구체적으로, 주파수 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 폭값을 공률로 전환하고 시스템의 임계 신호 대 잡음비과 비교하여 공률이 임계 신호 대 잡음비보다 작은 대응한 주파수 영역부분의 파형을 스미어링으로 판정한다.
가우스 창구, 즉 가우스 창구 초기 엔빌로우프 파형을 예로, H(f)의 너비가 B=32, 임계 신호 대 잡음비가 -30dB로 가정시, 하중 파형의 폭값을 공률로 전환한후 다시 하중 파형 공률이 -30dB일때 대응하는 부호 너비를 찾아 임계 신호 대 잡음비보다 작은 대응 너비를 스미어링으로 판정한다. 본 실시례 중에서 하중 파형 5~27범위내를 가상절단후의 파형너비로 취하고 나머지 부분은 스미어링으로 한다. 도6과 같이 파형은 왼쪽 점선의 왼쪽 및 오른쪽 점선의 오른쪽에 있는데 이 두 부분은 바로 찾아낸 파형의 스미어링이다. 그중 도6(a)의 세로 좌표는 폭이고 도6(b)의 세로 좌표는 공률이며, 단위는 dB이다.
(3) 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상절단을 진행하고 주파수 영역 이동간격 ΔB 계산.
(2)에서 찾은 스미어링의 대역폭을 Btail로 하여 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상절단후 얻은 가상 초기 엔빌로우프 파형을 H0(f)로 표시할 경우, 가상 초기 엔빌로우프 파형 H0(f)의 가상 너비는 B'=B-Btail이고, 부호의 실제 너비는 Bs'=B'/K=(B-Btail)/K이다. 이로부터 부호의 실제 너비는 B/K에서 (B-Btail)/K로 작아졌으며 전송속도가 제고되었음을 보아낼수 있다.
초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비 B'에서 중첩 다중 횟수 K를 나누어 주파수 영역 이동간격 ΔB를 얻는다. 즉, ΔB= B' /K.
(4) 입력부호 서열에 대해 변조 진행.
중첩 다중 횟수 K에 근거하여 초기 엔빌로우프 파형H(f)를 주파수 영역내에서 주파수 영역 이동간격 ΔB에 대해 이동을 진행하여 주파수 영역내의 각 이동 엔빌로우프 파형을 얻는다. 구체적으로 볼때, 예를 들어 길이가 N인 부호서열 X={X0，X1，…, XN - 1}에 대해 N은 정정수일 경우, 초기 엔빌로우프 파형H(f)를 각기0 내지 N-1개 주파수 영역 이동간격 ΔB에 이동하여 N개 이동 엔빌로우프 파형을 얻는다. 그중 제i개 이동 엔빌로우프 파형은
Figure 112019018188819-pct00001
,
Figure 112019018188819-pct00002
.
그다음 변조대기 서열중의 부호를 각자 대응하는 이동 엔빌로우프 파형과 곱하여 주파수 영역내의 각 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다. 예컨대 한개 실시례 중에서 구체적으로 상기 부호서열의 N개 부호와 각 부호에 대응하는 이동 엔빌로우프 파형을 곱하여 N개의 변조를 거친 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다. 그중 제i개 변조 엔빌로우프 파형은
Figure 112019018188819-pct00003
,
Figure 112019018188819-pct00004
.
그다음 각 변조 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내에서 중첩하여 주파수 영역내의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다. 예컨대
Figure 112019018188819-pct00005
를 i=0에서 N-1까지 합을 구하여 다단 변조 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00006
을 얻는다. 도7을 참조하여 K=3일때 가상절단한 변조 엔빌로우프 파형 중첩 과정으로부터 각 변조 엔빌로우프 파형의 스미어링도 중첩에 참여하였음을 보아낼수 있다. 도8을 참조하여 K=3일때 진실절단한 변조 엔빌로우프 파형 중첩과정으로부터 각 변조 엔빌로우프 파형은 모두 스미어링이 제거된것을 보아낼수 있다. 다시 말하자면 스미어링이 없는 각 변조 엔빌로우프 파형이 중첩에 참여하였다.
한개 실시례 중에서 또 주파수 영역위의 다단 변조 엔빌로우프 파형S(f)에 대해 변환을 진행하여 시간 영역에서의 다단 변조 엔빌로우프 파형S(t)를 얻어 발사할수 있다.
가우스 창구 초기 엔빌로우프 파형을 예로 하면, 도9는 기존 기술중 진실절단 방안과 본 출원중의 가상절단 방안이 얻은 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 특성을 비교하였다. 도면으로부터 본 출원의 가상절단 방안을 적용하여 변조해 얻은 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 에너지가 더욱 집중되고 감퇴가 더욱 빠르며, 시스템간 부호 방해를 감소하였음을 보아낼수 있다.
실시례 2
본 실시례는 OvTDM 시스템을 예로 설명한다.
OvTDM 시스템은 발송단말에서 우선 상응한 하중 파형, 즉 위에서 언급한 초기 엔빌로우프 파형을 생성해야 하며, OvTDM 시스템은 시간 분할 다중화로서 주로 시간 영역에서 변조를 진행하므로, 생성한 초기 엔빌로우프 파형은 시간 영역의 초기 엔빌로우프 파형h(t)이다. 우선적으로, 초기 엔빌로우프 파형h(t)를 선정할때 시간 영역에서 비교적 평활할것을 원하며 상응하게 대응한 주파수 영역에서 대역폭이 비교적 좁고 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빨라, 중첩후 생성된 다단 변조 엔빌로우프 파형은 마찬가지로 대역폭이 비교적 좁고 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빨라 시스템의 오류율을 감소한다.위에서 언급한 여러개 평활한 초기 엔빌로우프 파형는 모두 이 요구에 부합되는 바, 예컨대 가우스(Gaussian) 엔빌로우프 파형, 체비쉐프(Chebyshev) 엔빌로우프 파형, 테일러(Taylor) 엔빌로우프 파형, 투키(Tukey) 엔빌로우프 파형 등.
하지만 대다수 초기 엔빌로우프 파형은 모두 일종의 '스미어링' 현상이 존재하는 바, 특히 초기 엔빌로우프 파형이 비교적 '말랐을때' 이런 현상이 더욱 선명하다. '스미어링'이란 파형이 일정한 시간내에서 폭값(또는 에너지)이 비교적 낮아 거의 0에 가까우며 변화가 느린것을 가리킨다. 이 시간내 초기 엔빌로우프 파형의 에너지가 비교적 낮으므로 신호 전송 과정에서 실제로 감당할수 있는 정보량은 비교적 적으며, 중첩 횟수가 같고 또 초기 엔빌로우프 파형의 너비가 같은 상황에서 '스미어링'의 초기 엔빌로우프 파형의 실제 전송속도는 비교적 느리다. 하지만 '스미어링'의 파형은 또 비교적 좋은 주파수 영역 특성이 있는 바, 대역폭이 비교적 좁고 또 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르다. 때문에 '스미어링'의 파형은 전송 속도와 시간 영역 특성이 서로 모순되는 상황이 존재한다.
상기와 같이 이 문제에 대해 기존 기술의 처리방법은 진실절단이다. 즉, 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링을 절단한후, 스미어링이 없는 초기 엔빌로우프 파형을 새로운 다중 파형으로 하여 그후의 변조, 예컨대 이동, 부호와 곱하기, 중첩 등을 진행한다. 진실절단 방안은 부호 전송속도를 효과적으로 제고할수 있으나 더이상 스미어링을 갖지 않으므로 주파수 영역 특성이 비교적 나빠, 대역폭이 비교적 넓고 옆 돌출부 공률이 비교적 높으며 주 로브 신호에 대한 방해가 비교적 커 시스템의 성능에 영향주고 시스템의 오류율을 제고하였다.
발명인은 연구를 통해 초기 엔빌로우프 파형의 너비에 따라 계산한 부호의 실제 너비가 전송속도를 결정하였고, 부호 너비가 작을수록 전송속도가 더 빠르며, 시간 영역에서 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 존재여부는 주파수 영역에서 파형의 특성을 결정하였음을 발견하였다.
이에 본 실시례는 가상절단 방법을 제출하였다. 도10과 같이 초기 엔빌로우프 파형에 대해 진실절단이 아니라 가상절단을 진행하고, 가상절단후의 초기 엔빌로우프 파형으로 부호 실제 너비를 계산하였다. 즉, 스미어링이 없는 초기 엔빌로우프 파형으로 부호 실제 너비를 계산하여 부호 너비를 작게 함으로써 전송속도를 제고하였다. 또한 실제 변조과정에서 가상절단이므로 사실상 초기 엔빌로우프 파형은 여전히 스미어링을 보류하여 양호한 주파수 영역 특성을 갖게 하였으며, 실제절단을 하지 않은 초기 엔빌로우프 파형에 대해 이동, 부호와 곱하기 및 중첩 등을 진행함으로써, 변조하여 얻은 다단 변조 엔빌로우프 파형도 양호한 주파수 영역 특성을 갖게 하였다. 구체적으로 말하자면 주파수 영역 신호 파형 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁고 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빨라 디코딩 복잡도를 증가하지 않는 전제하에 시스템의 성능을 보증하였다.
아래 본 출원의 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법에 대해 OvTDM 시스템과 결합하여 설명을 진행한다.
(1) 설계 파라미터에 근거하여 시간 영역내에 한개의 초기 엔빌로우프 파형h(t) 생성.
초기 엔빌로우프 파형h(t)의 너비가 T, 시스템의 중첩 다중 횟수는 K, 부호 너비는 Ts일 경우, 초기 엔빌로우프 파형h(t)의 너비는 T=K*Ts이다.
(2) 초기 엔빌로우프 파형h(t)의 '스미어링' 찾기.
구체적으로, 시간 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 폭값을 공률로 전환하고 시스템의 임계 신호 대 잡음비과 비교하여 공률이 임계 신호 대 잡음비보다 작은 대응한 시간 영역부분의 파형을 스미어링으로 판정한다.
가우스 창구, 즉 가우스 창구 초기 엔빌로우프 파형을 예로, h(t)의 너비가 T=32, 임계 신호 대 잡음비가 -30dB로 가정시, 하중 파형의 폭값을 공률로 전환한후 다시 하중 파형 공률이 -30dB일때 대응하는 부호 너비를 찾아 임계 신호 대 잡음비보다 작은 대응 너비를 스미어링으로 판정한다. 본 실시례 중에서 하중 파형 5~27범위내를 가상절단후의 파형너비로 취하고 나머지 부분은 스미어링으로 한다. 도11과 같이 파형은 왼쪽 점선의 왼쪽 및 오른쪽 점선의 오른쪽에 있는데 이 두 부분은 바로 찾아낸 파형의 스미어링이다. 그중 도11(a)의 세로 좌표는 폭이고 도11(b)의 세로 좌표는 공률이며, 단위는 dB이다.
(3) 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상절단을 진행하고 시간 영역 이동간격 ΔT 계산.
(2)에서 찾은 스미어링의 대역폭을 Ttail로 하여 초기 엔빌로우프 파형에 대해 가상절단후 얻은 가상 초기 엔빌로우프 파형을 h0(t)로 표시할 경우, 가상 초기 엔빌로우프 파형 h0(t)의 가상 너비는 T'=T-Ttail이고, 부호의 실제 너비는 Ts'=T'/K=(T-Ttail)/K이다. 이로부터 부호의 실제 너비는 T/K에서 (T-Ttail)/K로 작아졌으며 전송속도가 제고되었음을 보아낼수 있다.
초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비 T'에서 중첩 다중 횟수 K를 나누어 시간 영역 이동간격 ΔT를 얻는다. 즉, ΔT= T' /K.
(4) 입력부호 서열에 대해 변조 진행.
중첩 다중 횟수 K에 근거하여 초기 엔빌로우프 파형h(t)를 시간 영역내에서 시간 영역 이동간격 ΔT에 대해 이동을 진행하여 시간 영역내의 각 이동 엔빌로우프 파형을 얻는다. 구체적으로 볼때, 예를 들어 길이가 N인 부호서열 X={X0，X1，…, XN - 1}에 대해 N은 정정수일 경우, 초기 엔빌로우프 파형h(t)를 각기0 내지 N-1개 시간 영역 이동간격 ΔT에 이동하여 N개 이동 엔빌로우프 파형을 얻는다. 그중 제i개 이동 엔빌로우프 파형은
Figure 112019018188819-pct00007
,
Figure 112019018188819-pct00008
.
그다음 변조대기 서열중의 부호를 각자 대응하는 이동 엔빌로우프 파형과 곱하여 시간 영역내의 각 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다. 예컨대 한개 실시례 중에서 구체적으로 상기 부호서열의 N개 부호와 각 부호에 대응하는 이동 엔빌로우프 파형을 곱하여 N개의 변조를 거친 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다. 그중 제i개 변조 엔빌로우프 파형은
Figure 112019018188819-pct00009
,
Figure 112019018188819-pct00010
.
그다음 각 변조 엔빌로우프 파형을 시간 영역내에서 중첩하여 시간 영역내의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는다. 예컨대
Figure 112019018188819-pct00011
를 i=0에서 N-1까지 합을 구하여 다단 변조 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00012
을 얻는다. 도12를 참조하여 K=3일때 가상절단한 변조 엔빌로우프 파형 중첩 과정으로부터 각 변조 엔빌로우프 파형의 스미어링도 중첩에 참여하였음을 보아낼수 있다. 도13을 참조하여 K=3일때 진실절단한 변조 엔빌로우프 파형 중첩과정으로부터 각 변조 엔빌로우프 파형은 모두 스미어링이 제거된것을 보아낼수 있다. 다시 말하자면 스미어링이 없는 각 변조 엔빌로우프 파형이 중첩에 참여하였다.
가우스 창구 초기 엔빌로우프 파형을 예로 하면, 도14는 기존 기술중 진실절단 방안과 본 출원중의 가상절단 방안이 얻은 다단 변조 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서의 특성을 비교하였다. 도면으로부터 본 출원의 가상절단 방안을 적용하여 변조해 얻은 다단 변조 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서의 대역폭이 비교적 좁고 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠른것을 보아낼수 있다.
실시례 3
본 실시례는 OvHDM 시스템을 예로 설명한다.
OvHDM 시스템, 주간/주파수 이중 중첩 다중 시스템은 시간 영역중 프레임 부호간에 서로 중첩할뿐만 아니라 또 주파수 영역중 부반송파 사이에도 상호 중첩하여 시간 영역과 주파수 영역의 동시 중첩을 실현한다.
OvHDM 시스템의 복수 기저대역 신호 모형은 :
Figure 112019018188819-pct00013
각 파라미터의 의미는 아래와 같다.
시간 영역 파라미터 :
Figure 112019018188819-pct00014
는 펄스 성형 여파기의 충격 응답이다.
Figure 112019018188819-pct00015
는 시스템이 발사한 제
Figure 112019018188819-pct00016
개 부호이다.
Figure 112019018188819-pct00017
는 매개 부호의 주기이다.
Figure 112019018188819-pct00018
는 부호를 발사하는 간격이고,
Figure 112019018188819-pct00019
,
Figure 112019018188819-pct00020
는 시간 영역중첩 다중 횟수이다.
Figure 112019018188819-pct00021
는 매개 프레임이 발사한 부호 총 수량이다.
Figure 112019018188819-pct00022
는 매개 프레임의 프레임 길이이며 또한
Figure 112019018188819-pct00023
.
주파수 영역 파라미터 :
Figure 112019018188819-pct00024
은 부반송파 수량이다.
Figure 112019018188819-pct00025
는 부반송파 간격이다.
Figure 112019018188819-pct00026
는 주파수 영역중첩 다중 횟수이다.
주 로브 0점 대역폭
Figure 112019018188819-pct00027
매개 부반송파의 주 로브 0점 대역폭
Figure 112019018188819-pct00028
주파수 스펙트럼 효율 :
OvHDM 시스템의 주파수 스펙트럼 효율은
Figure 112019018188819-pct00029
, 그중
Figure 112019018188819-pct00030
는 변조 레벨수,
Figure 112019018188819-pct00031
는 펄스 성형 여파기의 시간 대역폭 곱, 즉
Figure 112019018188819-pct00032
이다.
Figure 112019018188819-pct00033
이 무궁 추세일 경우,
Figure 112019018188819-pct00034
부반송파 수량 N도 무궁 추세일 경우,
Figure 112019018188819-pct00035
를 얻는다. 즉 OvHDM 시스템이 달성할수 있는 극한 주파수 스펙트럼 효율이다.
아래 OvHDM 시스템의 변조 복조 과정을 구체적으로 설명한다.
도15와 같이 OvHDM 시스템은 입력부호를 시간 영역에서 중첩 다중을 실현하고, 중첩 다중후의 데이터를 각 중첩한 부반송파에 놓으며 시간 영역과 주파수 영역의 이중 중첩을 통해 최종적으로 OvHDM과정을 실현한다. 한개 실시례 중에서 변조는 BPSK변조를 적용할수 있으며, 비트 서열과 부호사이의 대응관계는 {0，1}->{+1，-1}이다. 즉, 비트 0을 부호 +1로 전환하고, 비트 1을 부호 -1로 전환한다.
(1) 설계 파라미터에 근거하여 시간 영역내에 한개의 초기 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00036
를 생성한다.
(2) (1)에서 생성한 초기 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00037
를 특정된 시간 영역 이동간격
Figure 112019018188819-pct00038
에 따라 이동을 진행하고 각 시각의 이동 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00039
을 형성한다.
Figure 112019018188819-pct00040
(3) 변조대기 서열중의 부호와 각자 대응하는 이동 엔빌로우프 파형을 곱하여 시간 영역내의 각 변조 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00041
을 얻는다.
(4) 그다음 각 변조 엔빌로우프 파형을 시간 영역내에서 중첩하여 시간 영역내의 다단 변조 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00042
을 얻는다.
(5) OvTDM의 신호를 각 중첩 부반송파에 놓아 OvFDM을 실현한다.
주파수 영역의 중첩 다중도 일반적인 OvFDM 시스템을 참조하여 상응한 하중 파형을 선정하여 주파수 영역 부반송파의 중첩을 진행할수 있다. 중첩방법은 OvTDM의 중첩과정과 유사하므로 반복 설명하지 않는다. 그중 주파수 영역의 하중 파형 종류와 시간 영역 하중 파형은 동일하여 어느 한가지를 주파수 영역의 하중 파형으로 선정할수 있다. 본 사례는 설명의 편리를 위해 직사각형 파형을 예로 하여 주파수 영역에서의 중첩 다중을 설명한다.
푸리에 돌림으로부터 알수 있듯이 주파수 영역 돌림은 시간 영역을 곱하는 효과와 같다. 때문에 주파수 영역에서 주파수 스펙트럼 편이
Figure 112019018188819-pct00043
를 실현하려면 시간 영역은 데이터에
Figure 112019018188819-pct00044
를 곱하는 효과와 같다. 최종 OvHDM과정은 아래 공식으로 표시할 수 있다.
Figure 112019018188819-pct00045
상기 내용은 OvHDM 시스템의 변조과정이며, OvHDM 시스템의 복조 과정은 아래와 같다.
(6) 접수신호를 주파수 영역에서 여파한후 각 부반송파를 대응한 매칭 여파기를 거쳐 여파한다.
(7) 매개 부반송파상의 데이터에 대해 MU-MLSD 디코딩을 진행한다.
(8) MU-MLSD 디코딩후의 매개 부반송파상의 데이터에 대해 직렬 전환을 진행하고, 다방향 데이터를 단방향 데이터로 합병시킨다.
(9) 합병후의 데이터에 대해 복조와 그레이 역매핑 출력을 진행한다.
본 실시례 중에서 (2)에서 초기 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00046
는 특정된 시간 영역 이동간격에 따라 이동을 진행하고, 그중 초기 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00047
는 절단하지 않은, 스미어링이 있는 파형일수 있으며, 시간 영역 이동간격은 가상절단을 진행한 후의 초기 엔빌로우프 파형
Figure 112019018188819-pct00048
의 너비에 따라 계산한것일수 있다. 과정과 원리는 실시례 2와 유사하므로 반복 설명하지 않는다.
실시례 4
실시례 3에서 OvHDM 시스템의 전체 변조 복조 과정중 (1)에서 생성한 초기 엔빌로우프 파형이 시간 영역내에서 파형이 평활할 경우, 대응한 주파수 영역에서의 파형은 대역폭이 비교적 좁고 또 옆 돌출부 감퇴가 빠르다. 즉, 동일 데이터량을 발송하는 정보가 시간 영역에서 같은 시간을 점용하고 주파수 영역에서는 비교적 좁은 주파수대 자원만 점용하면 실현할수 있어 주파수대 자원을 절약함과 동시에 전송효율도 제고하였다.
한개 실시례 중에서 OvHDM 시스템에서 생성한 시간 영역내의 초기 엔빌로우프 파형은 다음 각 파형중의 한가지일수 있다. 발샌 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 바틀렛 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 바틀렛-한 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 보먼 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 블랙맨 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 블랙맨-해리스 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 가우스 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 해밍 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 한 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 케사이 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 넛톨 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 플랫탑 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 체비쉐프 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 트라이앵글 창구엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 테일러 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 또는, 투키 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형. 여기서 변화창구 함수는 원 파형의 펄스 성형 연승함수, 각차 도함수, 각차 도함수의 합 등 일련의 원 파형의 성형에 관한 함수형식을 가리킬수 있다. 예컨대 발샌 창구 엔빌로우프 파형의 변화창구 함수는 체비쉐프 펄스 성형 연승함수, 각차 도함수, 각차 도함수의 합 등 일련의 체비쉐프 펄스 성형과 관련된 함수일수 있다. 이런 유형의 초기 엔빌로우프 파형은 모두 비교적 평활하다.
예컨대, 다음 함수를 가진 OvHDM 시스템을 예로 들어 초기 엔빌로우프의 선정 및 효과를 설명한다. 시간 영역중첩 다중 횟수 K=3, 매 프레임 발송부호 총 수량 L=8, 매개 부호 주기 T=63일 경우, 발사부호 간격
Figure 112019018188819-pct00049
= 21, 입력부호 서열
Figure 112019018188819-pct00050
= {+1 +1 -1 -1 -1 +1 -1 +1}, 부반송파 수량
Figure 112019018188819-pct00051
= 3, 주파수 영역중첩 다중 횟수
Figure 112019018188819-pct00052
= 2, 부반송파 주 로브 0점 대역폭
Figure 112019018188819-pct00053
= 15, 부반송파 간격
Figure 112019018188819-pct00054
= 7.5.
아래 부동한 유형의 초기 엔빌로우프 파형을 예로 각기 설명한다.
우선 직사각형 창구를 참조로 제시하여 초기 엔빌로우프 파형이 직사각형 창구 엔빌로우프 파형일때 도16을 참조하면, 도16(a)는 창구 길이가 63인 직사각형 창구 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도16(b)은 직사각형 창구 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면으로부터 알수 있듯이 직사각형 창구 엔빌로우프 파형은 시간 영역에서 1부터 시작하고 또 대역폭이 아주 넓으며 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴가 느리다. 때문에 시간 영역에서 중첩한후 파형이 평활하지 않으며 주파수 영역 대역폭이 비교적 넓어 신호 유무를 구분하기 아주 어렵다. 파형 절단후의 정확율과 코딩/디코딩 능력도 저하된다. 실제 시스템 중에서 전속속도가 같고 또 주파수 스펙트럼 효율 η도 같은 상황에서, 소요되는 전송속도와 오류율은 아주 높다. 도17중의 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도18은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타냈다.
1. 초기 엔빌로우프 파형이 발샌(Parzen) 엔빌로우프 파형인 경우.
도19를 참조하면, 도19(a)는 창구 길이가 63인 발샌 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도19(b)는 발샌 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 발샌 창구 엔빌로우프 파형은 0점에서 시작하고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 60dB이다. 때문에 발샌 엔빌로우프 파형은 시간 영역에서 0부터 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도20중의 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도21은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
2. 초기 엔빌로우프 파형이 바틀렛(Bartlett)엔빌로우프 파형인 경우.
도22를 참조하면, 도22(a)는 창구 길이가 63인 바틀렛 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도22(b)는 바틀렛 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 바틀렛 창구는 0점에서 시작하고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 30dB이다. 때문에 바틀렛 창구는 시간 영역에서 0부터 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도23중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도24는 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
3. 초기 엔빌로우프 파형이 바틀렛-한(Bartlett-Hanning)엔빌로우프 파형인 경우.
도25를 참조하면, 도25(a)는 창구 길이가 63인 바틀렛-한 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도25(b)는 바틀렛-한 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 바틀렛-한 엔빌로우프 파형은 0점에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 40dB에 달한다. 때문에 바틀렛-한 창구는 시간 영역에서 0부터 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도26중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도27은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
4. 초기 엔빌로우프 파형이 보먼(Bohman) 엔빌로우프 파형인 경우.
도28을 참조하면, 도28(a)는 창구 길이가 63인 보먼 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도28(b)는 보먼 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 보먼 엔빌로우프 파형은 0점에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 60dB에 달한다. 때문에 보먼 창구는 시간 영역에서 0부터 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도29중에서 점선은 시간 영역에서 부동한 도형의 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도30은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
5. 초기 엔빌로우프 파형이 블랙맨(Blackman)엔빌로우프 파형인 경우.
도31을 참조하면, 도31(a)는 창구 길이가 63인 블랙맨 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도31(b)는 블랙맨 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 블랙맨 엔빌로우프 파형은 0점에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 70dB에 달한다. 때문에 블랙맨 창구는 시간 영역에서 0부터 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도32중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도33은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
6. 초기 엔빌로우프 파형이 블랙맨-해리스(Blackman-Harris)엔빌로우프 파형인 경우.
도34를 참조하면, 도34(a)는 창구 길이가 63인 블랙맨-해리스 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도34(b)는 블랙맨-해리스 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 블랙맨-해리스 엔빌로우프 파형은 0점에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 80dB에 달한다. 때문에 블랙맨-해리스 창구는 시간 영역에서 0부터 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도35중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도36은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
7. 초기 엔빌로우프 파형이 가우스(Gaussian)엔빌로우프 파형인 경우.
도37을 참조하면, 도37(a)는 길이가 63, 파라미터가 Alpha = 2.5인 가우스 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도37(b)는 가우스 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 가우스 창구는 거의 0점에서 시작하고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 50dB에 달한다. 때문에 가우스 창구는 시간 영역에서 거의 0에서 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도38중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도39는 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
8. 초기 엔빌로우프 파형이 해밍 (Hamming)엔빌로우프 파형인 경우.
도40을 참조하면, 도40(a)는 창구 길이가 63인 해밍 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도40(b)는 해밍 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 해밍 엔빌로우프 파형은 0점에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 50dB에 달한다. 때문에 해밍 창구는 시간 영역에서 0부터 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도41중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도42는 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
9. 초기 엔빌로우프 파형이 한(Hann) 엔빌로우프 파형인 경우.
도43을 참조하면, 도43(a)는 창구 길이가 63인 한 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도43(b)는 한 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 한 엔빌로우프 파형은 0점에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 80dB에 달한다. 때문에 한 창구는 시간 영역에서 0부터 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도44중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도45은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
10. 초기 엔빌로우프 파형이 케사이 (Kaiser)엔빌로우프 파형인 경우.
도46을 참조하면, 도46(a)는 길이가 63, beta파라미터가 0.5인 케사이 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도46(b)는 케사이 엔빌로우프 파형이 파수 영역에서 정규화한 파형도이며, 도46(c)는 길이가 63, beta파라미터가 2인 케사이 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도46(d)는 케사이 엔빌로우프 파형이 파수 영역에서 정규화한 파형도이며, 도46(e)는 길이가 63, beta파라미터가 5인 케사이 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도46(f)는 케사이 엔빌로우프 파형가 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 beta 파라미터의 증가와 더불어 시간 영역 파형의 시작점은 거의 0에 가깝고 파형이 점점 평활해 지며, 주파수 영역 파형 옆 돌출부 감퇴가 더 빨라져 중첩후의 성능이 더욱 우수하다. 케사이 창구는 beta = 0.5일때 시간 영역은 0.94서부터 시작하며, OvHDM 중첩후의 파형은 직사각형 파형에 비해 평활하고 또 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴가 직사각형 대비 빨르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 중첩후의 파형 주파수 스펙트럼 효율이 비교적 높고 신호발송에 필요한 전송속도가 비교적 낮다. 또한 케사이 창구 beta의 수치는 시스템 성능 지표에 근거하여 자체적으로 설계할수 있으며 beta의 증가와 더불어 중첩후의 파형도 점점 평활해지며 실제 시스템중 신호전송에 필요한 공률이 점점 더 낮아지고 코딩/디코딩 능력은 점점 강해지고 설계는 직사각형 파형보다 영활하다. 도47(a), (b), (c)는 각기 beta가 0.5, 2, 5일때 케사이 엔빌로우프 파형이 변조하여 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형을 나타냈다. 그중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도48(a), (b), (c)는 각기 OvHDM 시스템에서 beta가 0.5, 2, 5일때 케사이 엔빌로우프 파형이 변조하여 최종 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타냈다.
11. 초기 엔빌로우프 파형이 넛톨(Nuttall)엔빌로우프 파형인 경우.
도49를 참조하면, 도49(a)는 창구 길이가 63인 넛톨 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도49(b)는 넛톨 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 넛톨 엔빌로우프 파형은 0점에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 100dB에 달한다. 때문에 넛톨 창구는 시간 영역에서 0부터 시작하고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도50중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도51은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
12. 초기 엔빌로우프 파형이 플랫탑 (Flat Top)엔빌로우프 파형인 경우.
도52를 참조할때, 도52(a)는 창구 길이가 63인 플랫탑 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도52(b)는 플랫탑 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 플랫탑 엔빌로우프 파형은 거의 0점에 가까운 점(-0.0004)에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 100dB에 달한다. 때문에 플랫탑 창구는 시간 영역에서 거의 0점에 가까운 점(-0.0004)에서 시작되고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도53중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도54는 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
13. 초기 엔빌로우프 파형이 체비쉐프 (Chebyshev)엔빌로우프 파형인 경우.
도55를 참조하면, 도55(a)는 창구 길이가 63인 체비쉐프 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도55(b)는 체비쉐프 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 체비쉐프 엔빌로우프 파형은 거의 0점에 가까운 점에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 80dB에 달한다. 때문에 체비쉐프 창구는 시간 영역에서 거의 0에 가까운 점에서 시작되고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도56중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도57은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
14. 초기 엔빌로우프 파형이 트라이앵글형 (Triangular)엔빌로우프 파형인 경우.
도58을 참조하면, 도58(a)는 창구 길이가 63인 트라이앵글형 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도58(b)는 트라이앵글형 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 시간 영역중 트라이앵글형 엔빌로우프 파형은 0점에서 시작되고 주파수 영역 옆 돌출부 감퇴는 거의 30dB에 달한다. 때문에 트라이앵글형 창구는 시간 영역에서 0부터 시작되고 중첩후 파형이 비교적 평활하며 옆 돌출부 감퇴가 비교적 빠르고 주파수 영역 대역폭이 비교적 좁아 파형 절단 과정의 정확율과 코딩/디코딩 과정의 에러정정능력을 제고하고 신호의 전송 속도를 감소함으로써 주파수 스펙트럼 효율이 일정할때 비교적 낮은 전송공률을 사용해도 매우 높은 전송속도에 도달할수 있게 하였다. 도59중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도60은 OvHDM 시스템이 최종 변조하여 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타낸다.
15. 초기 엔빌로우프 파형이 테일러 (Taylor)엔빌로우프 파형인 경우.
도61을 참조하면, 도61(a)는 길이가 63, nbar = 4，sll = -30的테일러 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도61(b)는 테일러 엔빌로우프 파형이 파수 영역에서 정규화한 파형도이며, 도61(c)는 길이가 63, nbar = 6, sll = -50인 테일러 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도61(d)는 테일러 엔빌로우프 파형이 파수 영역에서 정규화한 파형도이며, 도61(e)는 길이가 63, nbar = 8, sll = -80인 테일러 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도61(f)는 테일러 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 테일러 엔빌로우프 파형은 주파수 영역중의 옆 돌출부 감퇴에서 sll의 반대값에 대응한다. 예컨대 창구 길이가 63, nbar = 4, sll = -30인 테일러 엔빌로우프 파형의 옆 돌출부 감퇴는 30dB이고, 창구 길이가 63, nbar = 6, sll = -50인 테일러 엔빌로우프 파형의 옆 돌출부 감퇴는 50dB이며, 창구 길이가 63, nbar = 8, sll = -80인 테일러 엔빌로우프 파형의 옆 돌출부 감퇴는 80dB이다. 또한 도면에서 알수 있듯이 nbar의 증가와 더불어 시간 영역 파형 시작점이 점점 더 0에 가까워지며 최고점의 값이 점점 커지고 파형이 점점 평활해지어 중첩후의 성능이 더욱 우수하다. 도62(a), (b), (c)는 각기 nbar = 4, sll = -30일때의 테일러 엔빌로우프 파형, nbar = 6, sll = -50일때의 테일러 엔빌로우프 파형, nbar = 8, sll = -80일때의 테일러 엔빌로우프 파형이 변조하여 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시하였다. 그중, 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도63(a), (b), (c)는 각기 OvHDM 시스템에서 nbar = 4, sll = -30일때의 테일러 엔빌로우프 파형, nbar = 6, sll = -50일때의 테일러 엔빌로우프 파형, nbar = 8, sll = -80일때의 테일러 엔빌로우프 파형이 변조하여 최종 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타냈다.
16. 초기 엔빌로우프 파형이 투키(Tukey)엔빌로우프 파형인 경우.
투키 창구 중 파라미터 R은 원추형 구역에서 고정값까지의 비례로서 0~1의 값을 취하며, R이 극값을 취할때 투키 창구는 기타 일반 창구로 변한다. R = 1일때 투키 창구는 한 창구 효과와 같으며, R = 0일때 투키 창구는 직사각형 창구 효과와 같다.
도64를 참조하면, 도64(a)는 길이가 63, R = 0.1인 투키 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도64(b)는 투키 엔빌로우프 파형이 파수 영역에서 정규화한 파형도이며, 도64(c)는 길이가 63, R = 0.5인 투키 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도64(d)는 투키 엔빌로우프 파형이 파수 영역에서 정규화한 파형도이며, 도64(e)는 길이가 63, R = 0.9인 투키 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도이고, 도64(f)는 투키 엔빌로우프 파형이 주파수 영역에서 정규화한 파형도이다. 도면에서 알수 있듯이 투키 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형 시작점은 0부터 시작하고, 파라미터 R의 증가와 더불어 원추형 구역이 점점 많아지고 파형이 점점 평활해지며 주파수 영역 파형 옆 돌출부 감퇴가 점점 빨라지어 중첩후의 성능이 더욱 우수하다. 도65(a), (b), (c)는 각기 R = 0.1, 0.5, 0.9인 투키 엔빌로우프 파형이 변조하여 얻은 변조 엔빌로우프 파형과 다단 변조 엔빌로우프 파형을 나타냈다. 그중 부동한 도형의 점선은 시간 영역에서 약간의 변조 엔빌로우프 파형을 표시하고 실선은 다단 변조 엔빌로우프 파형을 표시한다. 도66(a), (b), (c)는 각기 OvHDM 시스템중에서 R = 0.1, 0.5, 0.9인 투키 엔빌로우프 파형이 변조하여 최종 얻은 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형이 시간 영역에서의 파형도를 나타냈다.
상기 내용은 구체적인 실시방식과 결합하여 본 출원에 대한 진일보 자세한 설명으로, 본 출원의 구체적인 실시가 상기 설명에만 한정된것으로 이해해서는 아니된다. 본 출원의 통상적인 기술을 갖춘 자는 본 출원 발명의 구상에서 벗어나지 않는 전제하에 약간의 간단한 추론 또는 교체도 진행할 수 있다.

Claims (14)

  1. 설계 파라미터에 근거하여 변조 영역내에서 한개의 초기 엔빌로우프 파형을 생성하는 절차,
    변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 너비에서 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 길이를 감하여 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비를 얻는 절차,
    초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비에서 제1 중첩 다중 횟수를 나누어 변조 영역 이동 간격을 얻는 절차,
    제1 중첩 다중 횟수에 근거하여 상기 초기 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 사기 변조 영역 이동 간격에 따라 이동을 진행하여 변조 영역내의 각 이동 엔빌로우프 파형을 얻는 절차,
    변조대기 서열중의 부호와 각자 대응하는 이동 엔빌로우프 파형을 곱하여 변조 영역내의 각 변조 엔빌로우프 파형을 얻는 절차, 및
    각 변조 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 중첩하여 변조 영역내의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는 절차를 포함하고,
    변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 폭값을 공률로 전환하고 시스템의 임계 신호 대 잡음비와 비교하여 공률이 상기 임계 신호 대 잡음비가 대응하는 변조 영역보다 작은 부분을 스미어링으로 판정하는 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 길이 확정절차를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법.
  2. 삭제
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 OvXDM 시스템은 OvFDM 시스템, OvTDM 시스템, OvHDM 시스템, OvCDM 시스템 또는 OvSDM 시스템인 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 OvXDM 시스템이 상기 OvFDM 시스템일 경우, 상기 변조 영역은 주파수 영역이고, 상기 OvXDM 시스템이 상기 OvTDM 시스템일 경우, 상기 변조 영역은 시간 영역인 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 OvXDM 시스템이 상기 OvHDM 시스템일 경우, 상기 변조방법에는
    약간의 변조 영역 내의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 각기 얻는 절차, 그중 변조 영역은 시간 영역이고,
    제2중첩 다중 횟수에 근거하여 시간 영역의 각 다단 변조 엔빌로우프 파형을 대응한 부반송파에 놓고, 각 부반송파에 대해 주파수 영역에서 이동 중첩을 진행하여 각 부반송파의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는 절차, 및
    각 부반송파의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내에서 중첩하여 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는 절차를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법.
  6. 청구항 1, 청구항 3, 청구항 4, 및 청구항 5 중의 임의의 한 항에 있어서,
    상기 초기 엔빌로우프 파형은 변조 영역내에서 파형이 평활하는 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 초기 엔빌로우프 파형은 :
    발샌 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    바틀렛 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    바틀렛-한 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    보먼 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    블랙맨 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    블랙맨-해리스 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    가우스 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    해밍 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    한 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    케사이 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    넛톨 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    플랫탑 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    체비쉐프 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    트라이앵글 창구엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    테일러 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    투키 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형인 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조방법.
  8. 설계파라미터에 근거하여 변조 영역내에서 한개의 초기 엔빌로우프 파형을 생성하는데 사용하는 파형생성모듈,
    변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 너비에서 초기 엔빌로우프 파형의 스미어링 길이를 감하여 초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비를 얻는데 사용하는 가상절단모듈,
    초기 엔빌로우프 파형의 가상절단후 너비에서 제1 중첩 다중 횟수를 나누어 변조 영역 이동 간격을 얻는데 사용하는 변조 영역 이동간격 계산모듈,
    제1 중첩 다중 횟수에 근거하여 상기 초기 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 사기 변조 영역 이동 간격에 따라 이동을 진행하여 변조 영역내의 각 이동 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용하는 제1이동모듈,
    변조대기 서열중의 부호와 각자 대응하는 이동 엔빌로우프 파형을 곱하여 변조 영역내의 각 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용하는 곱셈모듈,
    각 변조 엔빌로우프 파형을 변조 영역내에서 중첩하여 변조 영역내의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용하는 제1중첩모듈을 포함하고,
    변조 영역내에서 초기 엔빌로우프 파형의 폭값을 공률로 전환하고 시스템의 임계 신호 대 잡음비와 비교하여 공률이 상기 임계 신호 대 잡음비가 대응하는 변조 영역보다 작은 부분을 스미어링으로 판정하는데 사용하는 스미어링 확정모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조장치.
  9. 삭제
  10. 청구항 8에 있어서,
    상기 OvXDM 시스템이 OvFDM 시스템일 경우, 상기 변조 영역은 주파수 영역이고, 상기 OvXDM 시스템이 OvTDM 시스템일 경우, 상기 변조 영역은 시간 영역인 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조장치.
  11. 청구항 8에 있어서,
    상기 OvXDM 시스템이 OvHDM 시스템일 경우, 상기 변조장치에는
    제2중첩 다중 횟수에 근거하여 제1중첩 모듈이 얻은 약간의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 대응한 부반송파에 놓고, 각 부반송파에 대해 주파수 영역에서 이동 중첩을 진행하여 각 부반송파의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용하는 제2이동모듈,
    각 부반송파의 다단 변조 엔빌로우프 파형을 주파수 영역내에서 중첩하여 시간/주파수 이중 다단 변조 엔빌로우프 파형을 얻는데 사용하는 제2중첩모듈을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조장치.
  12. 청구항 8, 청구항 10 내지 청구항 11 중의 임의의 한 항에 있어서,
    상기 파형생성모듈이 생성한 초기 엔빌로우프 파형은 변조 영역내에서 파형이 평활하는 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조장치.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 파형생성모듈이 생성한 초기 엔빌로우프 파형은 :
    발샌 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    바틀렛 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    바틀렛-한 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    보먼 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    블랙맨 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    블랙맨-해리스 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    가우스 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    해밍 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    한 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    케사이 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    넛톨 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    플랫탑 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    체비쉐프 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    트라이앵글 창구엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    테일러 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형, 또는
    투키 창구 엔빌로우프 파형 또는 그의 변화 창구 함수의 엔빌로우프 파형인 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템에 적용하는 변조장치.
  14. 청구항 8, 청구항 10 내지 청구항 11 중의 임의의 한 항에 따른 OvXDM 시스템에 적용되는 변조장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 OvXDM 시스템.
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