KR102219646B1 - Photosensitive resin composition, layer using the same, color filter and optical display device - Google Patents

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Abstract

하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 감광성 수지 조성물, 상기 조성물 이용하여 제조되는 감광성 수지막, 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 포함하는 광학표시장치가 제공된다.
[화학식 1]

Figure 112020084480437-pat00104

(상기 화학식 1에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)A photosensitive resin composition comprising a compound represented by Formula 1 below, a photosensitive resin film prepared by using the composition, a color filter including the photosensitive resin film, and an optical display device including the color filter are provided.
[Formula 1]
Figure 112020084480437-pat00104

(In Formula 1, each substituent is as defined in the specification.)

Description

감광성 수지 조성물, 막, 컬러필터 및 광학표시장치 {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LAYER USING THE SAME, COLOR FILTER AND OPTICAL DISPLAY DEVICE}Photosensitive resin composition, film, color filter, and optical display device {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, LAYER USING THE SAME, COLOR FILTER AND OPTICAL DISPLAY DEVICE}

본 기재는 감광성 수지 조성물, 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막, 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터, 상기 컬러필터를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.The present disclosure relates to a photosensitive resin composition, a photosensitive resin film prepared by using the photosensitive resin composition, a color filter including the photosensitive resin film, and an optical display device including the color filter.

디스플레이 장치 중의 하나인 액정디스플레이 장치는 경량화, 박형화, 저가, 저소비 전력 구동화 및 우수한 집적회로와의 접합성 등의 장점을 가지고 있어 노트북 컴퓨터, 모니터 및 TV 화상용으로 그 사용범위가 확대되고 있다. 이와 같은 액정디스플레이 장치는 블랙매트릭스(차광층), 컬러필터 및 ITO 화소전극이 형성된 하부 기판과, 액정층, 박막트랜지스터, 축전 캐패시터층으로 구성된 능동회로부와 ITO 화소전극이 형성된 상부의 기판을 포함하여 구성된다. A liquid crystal display device, which is one of the display devices, has advantages such as weight reduction, thinness, low cost, low power consumption, and excellent bonding with integrated circuits, and thus its use range is expanding for notebook computers, monitors and TV images. Such a liquid crystal display device includes a lower substrate on which a black matrix (light shielding layer), a color filter and an ITO pixel electrode are formed, an active circuit unit composed of a liquid crystal layer, a thin film transistor, and a capacitor layer, and an upper substrate on which the ITO pixel electrode is formed Is composed.

컬러필터는 화소 사이의 경계부를 차광하기 위해서 투명 기판 상에 정해진 패턴으로 형성된 블랙 매트릭스(차광층) 및 각각의 화소를 형성하기 위해 복수의 색(통상적으로, 적(R), 녹(G), 청(B)의 3원색을 정해진 순서로 배열한 화소부가 차례로 적층된 구조를 취하고 있다. The color filter includes a black matrix (light-shielding layer) formed in a predetermined pattern on a transparent substrate to shield the boundary between pixels, and a plurality of colors (typically, red (R), green (G)) to form each pixel. It has a structure in which pixel portions in which three primary colors of blue (B) are arranged in a predetermined order are sequentially stacked.

컬러필터를 구현하는 방법 중의 하나인 안료분산법은 블랙 매트릭스가 제공된 투명한 기질 위에 착색제를 함유하는 광중합성 조성물을 코팅하고, 형성하고자 하는 형태의 패턴을 노광한 후, 비노광 부위를 용제로 제거하여 열경화시키는 일련의 과정을 반복함으로써 착색 박막이 형성되는 방법이다. 안료분산법에 따른 컬러필터 제조에 사용되는 착색 감광성 수지 조성물은 일반적으로 알칼리 가용성 수지, 광중합 단량체, 광중합 개시제, 에폭시 수지, 용제와 기타 첨가제 등으로 이루어진다. 상기의 특징을 가지는 안료분산법은 휴대폰, 노트북, 모니터, TV 등의 LCD를 제조하는 데 활발하게 응용되고 있다. In the pigment dispersion method, one of the methods of implementing a color filter, coating a photopolymerizable composition containing a colorant on a transparent substrate provided with a black matrix, exposing the pattern to be formed, and removing the unexposed part with a solvent. This is a method in which a colored thin film is formed by repeating a series of thermal curing processes. The colored photosensitive resin composition used to manufacture the color filter according to the pigment dispersion method is generally composed of an alkali-soluble resin, a photopolymerization monomer, a photoinitiator, an epoxy resin, a solvent and other additives. The pigment dispersion method having the above characteristics has been actively applied to manufacturing LCDs such as mobile phones, notebook computers, monitors, and TVs.

그러나, 근래에는 여러 가지 장점을 가지는 안료분산법을 이용한 컬러필터용 감광성 수지 조성물에 있어서도 분말의 미세화 공정이 어렵고 분산을 하더라도 분산상태가 분산액 내에서 안정해야 하기 때문에 다양한 첨가제가 필요하고 공정 또한 매우 까다로우며 더욱이 안료분산액은 최적의 품질상태를 유지하기 위해 보관 및 운송조건이 어려운 단점이 있다. However, in recent years, even in the photosensitive resin composition for color filters using the pigment dispersion method, which has various advantages, the micronization process of the powder is difficult and the dispersion state must be stable in the dispersion even if it is dispersed, so various additives are required and the process is also very difficult. Moreover, the pigment dispersion has a disadvantage that it is difficult to store and transport conditions in order to maintain an optimal quality condition.

또한 안료형 감광성 수지 조성물로 제조된 컬러필터에서는 안료 입자 크기에서 비롯되는 휘도와 명암비의 한계가 존재한다. 그리고 이미지 센서용 컬러 촬상 소자의 경우에는 미세한 패턴 형성을 위해 더 작은 분산입도를 요구하게 된다. 이와 같은 요구에 부응하고자 안료 대신 또는 안료와 함께, 입자를 이루지 않는 염료를 도입한 감광성 수지 조성물을 제조하여 휘도와 명암비 등의 색특성이 개선된 컬러필터를 구현하려는 시도가 계속되고 있으나, 염료형 감광성 수지 조성물은 안료형 감광성 수지 조성물에 비해 내구성이 떨어지는 문제가 있다. In addition, in a color filter made of a pigment-type photosensitive resin composition, there is a limit to the brightness and contrast ratio resulting from the pigment particle size. And, in the case of a color image sensor for an image sensor, a smaller dispersion particle size is required to form a fine pattern. In order to meet these demands, attempts to implement a color filter with improved color characteristics such as luminance and contrast by manufacturing a photosensitive resin composition in which a dye that does not form particles is introduced instead of or together with the pigment is continued. The photosensitive resin composition has a problem of inferior durability compared to the pigment type photosensitive resin composition.

한편, 액정표시장치(Liquid crystal display device, LCD)는 액정을 포함하고 있는 액정셀과 편광판이 필요하며, 이를 접합하기 위한 적절한 접착층 또는 점착층이 사용되어야 한다.Meanwhile, a liquid crystal display device (LCD) requires a liquid crystal cell including a liquid crystal and a polarizing plate, and an appropriate adhesive layer or adhesive layer for bonding them must be used.

또한 편광판은 일정한 방향으로 연신되고, 요오드계 화합물 또는 이색성 편광물질이 흡착 배향된 폴리비닐알콜계(polyvinyl alcohol, PVA) 편광자(또는 '편광필름'이라고 함)와, 상기 편광자의 양면을 보호하기 위하여 적층된 편광자 보호 필름을 포함한다. 구체적으로, 편광자의 한 면에는 트리아세틸셀룰로오스계(Triacetyl cellulose, TAC) 등의 편광자 보호필름과, 상기 보호필름 상에 액정셀과 접합하게 되는 점착제층과 이형필름이 구비되며, 편광자의 다른 한 면에는 편광자 보호필름과 기재필름에 접착제층이 적층된 표면 보호필름이 구비된 다층으로 구성된다.In addition, the polarizing plate is stretched in a certain direction, and protects both sides of a polyvinyl alcohol (PVA) polarizer (or'polarizing film') in which an iodine compound or a dichroic polarizing material is adsorbed and oriented, and both sides of the polarizer It includes a polarizer protective film laminated for this purpose. Specifically, a polarizer protective film such as triacetyl cellulose (TAC) is provided on one side of the polarizer, and an adhesive layer and a release film bonded to the liquid crystal cell on the protective film, and the other side of the polarizer Is composed of a polarizer protective film and a multi-layered surface protective film in which an adhesive layer is laminated on a base film.

이러한 구조의 편광판을 액정셀에 부착하는 공정에 있어서 점착제층으로부터 이형필름은 박리되고, 후공정에서 표면보호필름의 역할이 끝나면 이 또한 박리하여 제거된다. 상기 이형필름 및 표면보호필름은 플라스틱 재료로 구성되어 있기 때문에 전기 절연성이 높고 박리시에 정전기를 발생시킨다.In the process of attaching the polarizing plate of this structure to the liquid crystal cell, the release film is peeled from the pressure-sensitive adhesive layer, and when the role of the surface protection film is finished in the post process, it is also peeled off and removed. Since the release film and the surface protection film are made of a plastic material, they have high electrical insulation properties and generate static electricity during peeling.

이렇게 발생된 정전기는 광학부재에 이물이 흡착되어 표면을 오염시키는 문제, 액정 배향의 뒤틀림으로 인한 얼룩문제 등을 유발시키고, 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT) 회선의 파손 유발의 우려가 있다. 특히, 최근에는 액정표시장치 패널이 대형화되면서 액정표시장치 제조시 사용되는 편광판의 크기 또한 확대되고 공정의 고속화가 진행되면서 정전기의 발생량이 더욱 증가하고 있어, 이에 대한 문제 해결이 더욱 시급해지고 있다.The generated static electricity causes a problem of contaminating the surface due to the adsorption of foreign substances on the optical member, and a problem of staining due to distortion of liquid crystal alignment, and there is a concern of causing damage to the thin film transistor (TFT) line. In particular, as the LCD panel has become larger in recent years, the size of the polarizing plate used for manufacturing the liquid crystal display has also been enlarged, and the amount of static electricity generated further increases as the process speeds up, and thus, solving the problem becomes more urgent.

일 구현예는 색재현율이 우수한 화합물을 착색제로 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.One embodiment is to provide a photosensitive resin composition comprising a compound having excellent color reproducibility as a colorant.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a photosensitive resin film prepared by using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide a color filter including the photosensitive resin film.

또 다른 일 구현예는 상기 컬러필터를 포함하는 광학표시장치를 제공하기 위한 것이다.Another embodiment is to provide an optical display device including the color filter.

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본 발명의 일 구현예는 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 화합물; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.An embodiment of the present invention is (A) a colorant comprising a compound represented by the following formula (1); (B) binder resin; (C) a photopolymerizable compound; (D) photoinitiator; And (E) It provides a photosensitive resin composition containing a solvent.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018023902267-pat00001
Figure 112018023902267-pat00001

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M은 Zn, Co 또는 Cu 이고,M is Zn, Co or Cu,

R1 내지 R20은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고, R 1 to R 20 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, A substituted or unsubstituted sulfonamide group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group,

단, R1 내지 R5 중 적어도 하나 이상, R6 내지 R10 중 적어도 하나 이상, R11 내지 R15 중 적어도 하나 이상 및 R16 내지 R20 중 적어도 하나 이상은 각각 독립적으로 수소 원자가 아니다.However, at least one of R 1 to R 5 , at least one of R 6 to R 10 , at least one of R 11 to R 15 , and at least one of R 16 to R 20 are each independently a hydrogen atom.

상기 화합물은 화학식 2로 표시될 수 있다.The compound may be represented by Formula 2.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112018023902267-pat00002
Figure 112018023902267-pat00002

상기 화학식 2에서,In Chemical Formula 2,

M은 Zn, Co 또는 Cu 이고,M is Zn, Co or Cu,

R21 내지 R28은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고, R 21 to R 28 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted A cyclic sulfonamide group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group,

n1 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고, 단 1 ≤ n1+n2 ≤ 2, 1 ≤ n3+n4 ≤ 2, 1 ≤ n5+n6 ≤ 2, 1 ≤ n7+n8 ≤ 2 이다.n1 to n8 are each independently an integer of 0 or 1, provided that 1≦n1+n2≦2, 1≦n3+n4≦2, 1≦n5+n6≦2, and 1≦n7+n8≦2.

상기 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-20 중 어느 하나로 표시될 수 있다.The compound may be represented by any one of the following Formulas 1-1 to 1-20.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure 112018023902267-pat00003
Figure 112018023902267-pat00003

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure 112018023902267-pat00004
Figure 112018023902267-pat00004

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure 112018023902267-pat00005
Figure 112018023902267-pat00005

[화학식 1-4][Formula 1-4]

Figure 112018023902267-pat00006
Figure 112018023902267-pat00006

[화학식 1-5][Formula 1-5]

Figure 112018023902267-pat00007
Figure 112018023902267-pat00007

[화학식 1-6][Formula 1-6]

Figure 112018023902267-pat00008
Figure 112018023902267-pat00008

[화학식 1-7][Formula 1-7]

Figure 112018023902267-pat00009
Figure 112018023902267-pat00009

[화학식 1-8][Formula 1-8]

Figure 112018023902267-pat00010
Figure 112018023902267-pat00010

[화학식 1-9][Formula 1-9]

Figure 112018023902267-pat00011
Figure 112018023902267-pat00011

[화학식 1-10][Formula 1-10]

Figure 112018023902267-pat00012
Figure 112018023902267-pat00012

[화학식 1-11][Formula 1-11]

Figure 112018023902267-pat00013
Figure 112018023902267-pat00013

[화학식 1-12][Formula 1-12]

Figure 112018023902267-pat00014
Figure 112018023902267-pat00014

[화학식 1-13][Formula 1-13]

Figure 112018023902267-pat00015
Figure 112018023902267-pat00015

상기 화학식 1-13에서,In Formula 1-13,

R은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

m1 및 m2는 각각 독립적으로 0 내지 20의 정수이고, 단 4 ≤ m1+m2 ≤ 20 이고,m1 and m2 are each independently an integer of 0 to 20, provided that 4≦m1+m2≦20,

[화학식 1-14][Formula 1-14]

Figure 112018023902267-pat00016
Figure 112018023902267-pat00016

[화학식 1-15][Formula 1-15]

Figure 112018023902267-pat00017
Figure 112018023902267-pat00017

[화학식 1-16][Formula 1-16]

Figure 112018023902267-pat00018
Figure 112018023902267-pat00018

[화학식 1-17][Formula 1-17]

Figure 112018023902267-pat00019
Figure 112018023902267-pat00019

[화학식 1-18][Formula 1-18]

Figure 112018023902267-pat00020
Figure 112018023902267-pat00020

[화학식 1-19][Formula 1-19]

Figure 112018023902267-pat00021
Figure 112018023902267-pat00021

[화학식 1-20][Formula 1-20]

Figure 112018023902267-pat00022
Figure 112018023902267-pat00022

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.01 중량% 내지 7 중량%로 포함될 수 있다.The compound represented by Formula 1 may be included in an amount of 0.01% to 7% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition.

상기 착색제는 청색 염료, 청색 안료, 적색 염료, 적색 안료 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The colorant may further include a blue dye, a blue pigment, a red dye, a red pigment, or a combination thereof.

상기 청색 염료는 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.The blue dye may be represented by Formula 3 below.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112018023902267-pat00023
Figure 112018023902267-pat00023

상기 화학식 3에서,In Chemical Formula 3,

R29 및 R30은 각각 독립적으로 치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기이고,R 29 and R 30 are each independently a substituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group,

R31은 수소 원자 또는 할로겐기이고,R 31 is a hydrogen atom or a halogen group,

R32는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 32 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R33은 아크릴레이트기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 33 is a C1 to C20 alkyl group unsubstituted or substituted with an acrylate group,

X-은 하기 화학식 A 내지 화학식 C 중 어느 하나로 표시된다.X - is represented by any one of the following formulas A to C.

[화학식 A][Formula A]

SO3 - SO 3 -

[화학식 B][Formula B]

Figure 112018023902267-pat00024
Figure 112018023902267-pat00024

(상기 화학식 B에서, n3는 0 내지 10의 정수이다)(In Formula B, n3 is an integer from 0 to 10)

[화학식 C][Formula C]

Figure 112018023902267-pat00025
Figure 112018023902267-pat00025

상기 청색 염료는 하기 화학식 3-1 또는 화학식 3-2로 표시될 수 있다.The blue dye may be represented by the following Formula 3-1 or Formula 3-2.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112018023902267-pat00026
Figure 112018023902267-pat00026

[화학식 3-2] [Chemical Formula 3-2]

Figure 112018023902267-pat00027
Figure 112018023902267-pat00027

상기 화학식 3-1 및 화학식 3-2에서,In Formulas 3-1 and 3-2,

X-은 하기 화학식 A 내지 화학식 C 중 어느 하나로 표시된다.X - is represented by any one of the following formulas A to C.

[화학식 A][Formula A]

SO3 - SO 3 -

[화학식 B][Formula B]

Figure 112018023902267-pat00028
Figure 112018023902267-pat00028

(상기 화학식 B에서, n3는 0 내지 10의 정수이다)(In Formula B, n3 is an integer from 0 to 10)

[화학식 C][Formula C]

Figure 112018023902267-pat00029
Figure 112018023902267-pat00029

상기 청색 안료는 C.I. Pigment Blue 15:6 일 수 있다.The blue pigment is C.I. It can be Pigment Blue 15:6.

상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지를 포함할 수 있다.The binder resin may include an acrylic binder resin.

상기 광중합 개시제는 옥심계 개시제 및 아세토페논계 개시제를 포함할 수 있다.The photopolymerization initiator may include an oxime-based initiator and an acetophenone-based initiator.

상기 감광성 수지 조성물은 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 (A) 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 착색제 3 중량% 내지 20 중량%; 상기 (B) 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%; 상기 (C) 광중합성 화합물 1 중량% 내지 10 중량%; 상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량% 및 상기 (E) 용매 잔부량을 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition includes 3% to 20% by weight of a colorant including the compound represented by (A) Formula 1, based on the total amount of the photosensitive resin composition; (B) 1% to 10% by weight of the binder resin; 1% to 10% by weight of the (C) photopolymerizable compound; The (D) photopolymerization initiator may include 0.1% to 5% by weight and the remaining amount of the (E) solvent.

상기 감광성 수지 조성물은 에폭시 화합물, 실란 커플링제, 계면활성제 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.The photosensitive resin composition may further include an epoxy compound, a silane coupling agent, a surfactant, or a combination thereof.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막을 제공한다. Another embodiment provides a photosensitive resin film prepared by using the photosensitive resin composition.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.Another embodiment provides a color filter including the photosensitive resin film.

또 다른 일 구현예는 상기 컬러필터를 포함하는 광학표시장치를 제공한다.Another embodiment provides an optical display device including the color filter.

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기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other specifics of aspects of the present invention are included in the detailed description below.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 액정 표시장치 등의 광학표시장치의 패널을 구성하는 컬러필터의 색재현율을 향상시키기 위해 바이올렛 영역(400nm 내지 440nm)의 파장을 차단하는 화합물을 포함하여, 고색 좌표에서도 상대적으로 높은 휘도를 구현할 수 있다. 특히 상기 화합물은 매우 좁은 영역을 강하게 흡광하는 특성을 가지는 바, 매우 적은 양으로도 해당 영역의 분광을 차단하여 고색(blue)을 구현할 수 있다. The photosensitive resin composition according to an embodiment includes a compound that blocks a wavelength of a violet region (400 nm to 440 nm) in order to improve the color reproducibility of a color filter constituting a panel of an optical display device such as a liquid crystal display device. Also, relatively high luminance can be achieved. In particular, since the compound has a characteristic of strongly absorbing light in a very narrow area, it is possible to implement a high color (blue) by blocking spectroscopy of the corresponding area even with a very small amount.

도 1은 화학식 1-1로 표시되는 화합물, 황색염료 1 및 황색염료 2의 파장에 따른 투과도를 나타낸 그래프이다.1 is a graph showing the transmittance of the compound represented by Formula 1-1, yellow dye 1 and yellow dye 2 according to wavelength.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다.  다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환" 내지 "치환된"이란, 본 발명의 작용기 중의 하나 이상의 수소 원자가 할로겐 원자(F, Br, Cl 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 아미노기(NH2, NH(R200) 또는 N(R201)(R202)이고, 여기서 R200, R201 및 R202는 동일하거나 서로 상이하며, 각각 독립적으로 C1 내지 C10 알킬기임), 아미디노기, 하이드라진기, 하이드라존기, 카르복실기, 치환 또는 비치환된 알킬기, 치환 또는 비치환된 알케닐기, 치환 또는 비치환된 알키닐기, 치환 또는 비치환된 지환족 유기기, 치환 또는 비치환된 아릴기, 및 치환 또는 비치환된 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 치환기로 치환된 것을 의미한다.Unless otherwise specified in the specification, "substituted" to "substituted" means that at least one hydrogen atom in the functional groups of the present invention is a halogen atom (F, Br, Cl or I), a hydroxy group, a nitro group, a cyano group, an amino group ( NH 2 , NH (R 200 ) or N (R 201 ) (R 202 ), wherein R 200 , R 201 and R 202 are the same or different from each other, and each independently a C1 to C10 alkyl group), an amidino group, Hydrazine group, hydrazone group, carboxyl group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alkenyl group, substituted or unsubstituted alkynyl group, substituted or unsubstituted alicyclic organic group, substituted or unsubstituted aryl group, And it means substituted with one or more substituents selected from the group consisting of a substituted or unsubstituted heterocyclic group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C15 알킬기를 의미하고, "사이클로알킬기"란 C3 내지 C20 사이클로알킬기를 의미하고, 구체적으로는 C3 내지 C18 사이클로알킬기를 의미하고, "알콕시기"란 C1 내지 C20 알콕시기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알콕시기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C18 아릴기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, 구체적으로는 C2 내지 C18 알케닐기를 의미하고, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를 의미하고, 구체적으로는 C1 내지 C18 알킬렌기를 의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고, 구체적으로는 C6 내지 C16 아릴렌기를 의미한다.Unless otherwise specified in the specification, “alkyl group” refers to a C1 to C20 alkyl group, specifically C1 to C15 alkyl group, and “cycloalkyl group” refers to a C3 to C20 cycloalkyl group, specifically C3 To C18 cycloalkyl group, "alkoxy group" refers to a C1 to C20 alkoxy group, specifically C1 to C18 alkoxy group, and "aryl group" refers to a C6 to C20 aryl group, specifically C6 to It means a C18 aryl group, and "alkenyl group" means a C2 to C20 alkenyl group, specifically C2 to C18 alkenyl group, and "alkylene group" means a C1 to C20 alkylene group, specifically C1 To C18 alkylene group, and "arylene group" refers to a C6 to C20 arylene group, and specifically refers to a C6 to C16 arylene group.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.Unless otherwise specified in the specification, "(meth)acrylate" means that both "acrylate" and "methacrylate" are possible, and "(meth)acrylic acid" means "acrylic acid" and "methacrylic acid" It means both are possible.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.Unless otherwise defined herein, "combination" means mixing or copolymerization. In addition, "copolymerization" means block copolymerization or random copolymerization, and "copolymer" means block copolymer or random copolymer.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.Unless otherwise defined in the chemical formula in the present specification, when a chemical bond is not drawn at a position where a chemical bond is to be drawn, it means that a hydrogen atom is bonded at the position.

또한, 본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "*"는 동일하거나 상이한 원자 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.In addition, unless otherwise defined in the specification, "*" means a part connected to the same or different atoms or chemical formulas.

또한, 본 명세서에서 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.In addition, in this specification, when a member is positioned "on" another member, this includes not only the case where a member is in contact with the other member, but also the case where another member exists between the two members.

또한, 본 명세서에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In addition, in the present specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included rather than excluding other components unless specifically stated to the contrary.

일 구현예는 (A) 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 착색제; (B) 바인더 수지; (C) 광중합성 화합물; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.In one embodiment, (A) a colorant comprising a compound represented by Formula 1; (B) binder resin; (C) a photopolymerizable compound; (D) photoinitiator; And (E) It provides a photosensitive resin composition containing a solvent.

이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, each component will be described in detail.

착색제coloring agent

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 착색제로서 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함한다.The photosensitive resin composition according to an embodiment includes a compound represented by Formula 1 below as a colorant.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018023902267-pat00030
Figure 112018023902267-pat00030

상기 화학식 1에서,In Formula 1,

M은 Zn, Co 또는 Cu 이고,M is Zn, Co or Cu,

R1 내지 R20은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고, R 1 to R 20 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, A substituted or unsubstituted sulfonamide group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group,

단, R1 내지 R5 중 적어도 하나 이상, R6 내지 R10 중 적어도 하나 이상, R11 내지 R15 중 적어도 하나 이상 및 R16 내지 R20 중 적어도 하나 이상은 각각 독립적으로 수소 원자가 아니다.However, at least one of R 1 to R 5 , at least one of R 6 to R 10 , at least one of R 11 to R 15 , and at least one of R 16 to R 20 are each independently a hydrogen atom.

예컨대, 상기 화합물은 화학식 2로 표시될 수 있다.For example, the compound may be represented by Formula 2.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112018023902267-pat00031
Figure 112018023902267-pat00031

상기 화학식 2에서,In Chemical Formula 2,

M은 Zn, Co 또는 Cu 이고,M is Zn, Co or Cu,

R21 내지 R28은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고, R 21 to R 28 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted A cyclic sulfonamide group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group,

n1 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고, 단 1 ≤ n1+n2 ≤ 2, 1 ≤ n3+n4 ≤ 2, 1 ≤ n5+n6 ≤ 2, 1 ≤ n7+n8 ≤ 2 이다.n1 to n8 are each independently an integer of 0 or 1, provided that 1≦n1+n2≦2, 1≦n3+n4≦2, 1≦n5+n6≦2, and 1≦n7+n8≦2.

예컨대, 상기 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-20 중 어느 하나로 표시될 수 있다.For example, the compound may be represented by any one of Formulas 1-1 to 1-20 below.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

Figure 112018023902267-pat00032
Figure 112018023902267-pat00032

[화학식 1-2][Formula 1-2]

Figure 112018023902267-pat00033
Figure 112018023902267-pat00033

[화학식 1-3][Formula 1-3]

Figure 112018023902267-pat00034
Figure 112018023902267-pat00034

[화학식 1-4][Formula 1-4]

Figure 112018023902267-pat00035
Figure 112018023902267-pat00035

[화학식 1-5][Formula 1-5]

Figure 112018023902267-pat00036
Figure 112018023902267-pat00036

[화학식 1-6][Formula 1-6]

Figure 112018023902267-pat00037
Figure 112018023902267-pat00037

[화학식 1-7][Formula 1-7]

Figure 112018023902267-pat00038
Figure 112018023902267-pat00038

[화학식 1-8][Formula 1-8]

Figure 112018023902267-pat00039
Figure 112018023902267-pat00039

[화학식 1-9][Formula 1-9]

Figure 112018023902267-pat00040
Figure 112018023902267-pat00040

[화학식 1-10][Formula 1-10]

Figure 112018023902267-pat00041
Figure 112018023902267-pat00041

[화학식 1-11][Formula 1-11]

Figure 112018023902267-pat00042
Figure 112018023902267-pat00042

[화학식 1-12][Formula 1-12]

Figure 112018023902267-pat00043
Figure 112018023902267-pat00043

[화학식 1-13][Formula 1-13]

Figure 112018023902267-pat00044
Figure 112018023902267-pat00044

상기 화학식 1-13에서,In Formula 1-13,

R은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

m1 및 m2는 각각 독립적으로 0 내지 20의 정수이고, 단 4 ≤ m1+m2 ≤ 20 이고,m1 and m2 are each independently an integer of 0 to 20, provided that 4≦m1+m2≦20,

[화학식 1-14][Formula 1-14]

Figure 112018023902267-pat00045
Figure 112018023902267-pat00045

[화학식 1-15][Formula 1-15]

Figure 112018023902267-pat00046
Figure 112018023902267-pat00046

[화학식 1-16][Formula 1-16]

Figure 112018023902267-pat00047
Figure 112018023902267-pat00047

[화학식 1-17][Formula 1-17]

Figure 112018023902267-pat00048
Figure 112018023902267-pat00048

[화학식 1-18][Formula 1-18]

Figure 112018023902267-pat00049
Figure 112018023902267-pat00049

[화학식 1-19][Formula 1-19]

Figure 112018023902267-pat00050
Figure 112018023902267-pat00050

[화학식 1-20][Formula 1-20]

Figure 112018023902267-pat00051
Figure 112018023902267-pat00051

기존 컬러필터 레지스트 중 블루 레지스트의 경우 보편적으로 청색 안료에 색좌표 조정 및 휘도 증대를 위해 일부 바이올렛 착색제를 첨가하는 것이 일반적이다. 그러나 최근 색재현율 증대를 위한 신규 블루의 색좌표는 Bx가 더 작아지는 추세이다. 이러한 색재현율이 높은 블루 컬러필터를 구현하기 위해서는 광원인 blue LED의 파장인 450nm 근방으로 좁은(narrow) 투과 스펙트럼을 만들어야 하며, 이를 위해, 기존에 보편적으로 쓰이던 epsilon blue 대신 beta blue인 안료를 사용하되 PWC를 높여 투과 스펙트럼의 폭을 줄인 레지스트를 제작하는 방향도 제시되고 있다. 그러나, 이 경우 기존 휘도가 매우 떨어진다는 문제가 있다.Among the existing color filter resists, in the case of a blue resist, it is common to add some violet colorants to the blue pigment in order to adjust the color coordinates and increase luminance. However, recently, the color coordinate of the new blue to increase the color gamut is the trend of smaller Bx. In order to realize such a blue color filter with high color reproducibility, a narrow transmission spectrum should be made near 450nm, which is the wavelength of the blue LED as a light source, and for this purpose, a pigment of beta blue is used instead of epsilon blue, which is commonly used. The direction of manufacturing a resist with a reduced transmission spectrum by increasing the PWC is also proposed. However, in this case, there is a problem that the existing luminance is very poor.

일 구현예에 따르면, Bx를 낮추면서도, beta blue 사용 시와 대비하여 휘도가 유리하도록 Violet 영역을 차단(cutting)하는 염료를 사용한다. 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 400nm 내지 440nm, 구체적으로 420nm 내지 440nm 근방의 매우 좁은 영역을 강하게 흡광하기 때문에, 매우 적은 양으로도 해당 영역의 분광을 차단하여 고색(blue)을 구현할 수 있다. 이와 유사한 목적을 달성하기 위해 종래 아조 계열의 황색 염료를 사용하여 380nm 내지 420nm 영역을 흡수하려는 시도 등이 있었으나, 이 경우 상기 아조 계열의 황색 염료가 상대적으로 많은 양이 투입되어야 하기 때문에, 전체 조성물의 공정마진이 확보되지 않는 문제점이 있으나, 일 구현예에 따르면 상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 적은 양만 사용해도 충분한 고색 재현이 가능한 바, 상기 문제점을 해결할 수 있다. 또한, 종래 아조 계열의 황색 염료를 기존 청색 안료(epsilon blue)와 함께 사용하는 경우투과와 흡광 스펙트럼이 겹쳐지기 때문에 blue 투과 영역이 훼손되어 휘도 손실이 커질 수가 있다. 그러나, 일 구현예에 따르면 황색 염료의 파장에 따른 투과도를 조절하여, 400nm 내지 440nm, 구체적으로 420nm 내지 440nm 근방의 파장 영역을 주로 흡광하며, 400nm 미만 및 450nm 이상의 파장 영역에서의 투과율은 80% 이상, 예컨대 95% 이상이 되도록 해, 광원으로부터의 주(main) 스펙트럼의 휘도 손실을 최소화할 수 있다. 또한, 기존 청색 안료 대비 휘도는 높으나 Bx가 커서 고색 좌표에 적합하지 않았던 착색제(염료 또는 안료)에도 일 구현예에 따른 화합물(화학식 1로 표시되는 화합물)을 사용함으로써 고색 좌표를 구현하면서도 휘도가 더 증가하게 할 수 있다.According to one embodiment, while lowering Bx, a dye that cuts the Violet region so that the luminance is advantageous compared to when using beta blue is used. Since the compound represented by Chemical Formula 1 strongly absorbs a very narrow area in the vicinity of 400 nm to 440 nm, specifically 420 nm to 440 nm, it is possible to implement a high color (blue) by blocking spectroscopy of the corresponding area even with a very small amount. In order to achieve a similar purpose, there have been attempts to absorb a region of 380nm to 420nm using a conventional azo-based yellow dye, but in this case, since a relatively large amount of the azo-based yellow dye must be added, the total composition Although there is a problem in that the process margin is not secured, according to an embodiment, sufficient high color reproduction is possible even when only a small amount of the compound represented by Formula 1 is used, and the above problem can be solved. In addition, when a conventional azo-based yellow dye is used together with an existing blue pigment (epsilon blue), since the transmission and absorption spectra overlap, the blue transmission region may be damaged, resulting in increased luminance loss. However, according to one embodiment, by controlling the transmittance according to the wavelength of the yellow dye, it mainly absorbs a wavelength region in the vicinity of 400 nm to 440 nm, specifically 420 nm to 440 nm, and the transmittance in the wavelength region less than 400 nm and 450 nm or more is 80% or more. , For example more than 95%, it is possible to minimize the luminance loss of the main spectrum from the light source. In addition, by using a compound (a compound represented by Formula 1) according to an embodiment to a colorant (dye or pigment) that has higher luminance than the existing blue pigment, but is not suitable for high color coordinates due to its large Bx, while implementing high color coordinates, the luminance is more Can increase.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.01 중량% 내지 7 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서 충분한 고색 재현이 가능하고, 우수한 공정마진을 가질 수 있다.The compound represented by Formula 1 may be included in an amount of 0.01% to 7% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition. Sufficient high color reproduction is possible in the above range and can have an excellent process margin.

예컨대, 상기 착색제는 청색 염료, 청색 안료, 적색 염료, 적색 안료 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다.For example, the colorant may further include a blue dye, a blue pigment, a red dye, a red pigment, or a combination thereof.

상기 청색 염료는 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.The blue dye may be represented by Formula 3 below.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112018023902267-pat00052
Figure 112018023902267-pat00052

상기 화학식 3에서,In Chemical Formula 3,

R29 및 R30은 각각 독립적으로 치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기이고,R 29 and R 30 are each independently a substituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group,

R31은 수소 원자 또는 할로겐기이고,R 31 is a hydrogen atom or a halogen group,

R32는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 32 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,

R33은 아크릴레이트기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,R 33 is a C1 to C20 alkyl group unsubstituted or substituted with an acrylate group,

X-은 하기 화학식 A 내지 화학식 C 중 어느 하나로 표시된다.X - is represented by any one of the following formulas A to C.

[화학식 A][Formula A]

SO3 - SO 3 -

[화학식 B][Formula B]

Figure 112018023902267-pat00053
Figure 112018023902267-pat00053

(상기 화학식 B에서, n3는 0 내지 10의 정수이다)(In Formula B, n3 is an integer from 0 to 10)

[화학식 C][Formula C]

Figure 112018023902267-pat00054
Figure 112018023902267-pat00054

예컨대, 상기 청색 염료는 하기 화학식 3-1 또는 화학식 3-2로 표시될 수 있다.For example, the blue dye may be represented by the following Formula 3-1 or Formula 3-2.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112018023902267-pat00055
Figure 112018023902267-pat00055

[화학식 3-2] [Chemical Formula 3-2]

Figure 112018023902267-pat00056
Figure 112018023902267-pat00056

상기 화학식 3-1 및 화학식 3-2에서,In Formulas 3-1 and 3-2,

X-은 하기 화학식 A 내지 화학식 C 중 어느 하나로 표시된다.X - is represented by any one of the following formulas A to C.

[화학식 A][Formula A]

SO3 - SO 3 -

[화학식 B][Formula B]

Figure 112018023902267-pat00057
Figure 112018023902267-pat00057

(상기 화학식 B에서, n3는 0 내지 10의 정수이다)(In Formula B, n3 is an integer from 0 to 10)

[화학식 C][Formula C]

Figure 112018023902267-pat00058
Figure 112018023902267-pat00058

구체적으로, 상기 청색 염료는 상기 화학식 3-1로 표시될 수 있다.Specifically, the blue dye may be represented by Formula 3-1.

상기 화학식 3-1로 표시되는 화합물은 사이클로헥실기를 포함함으로써, 내열성이 개선될 수 있고, 질소 원자에 치환된 페닐기가 메틸기를 포함함으로써, 내광성이 개선될 수 있으므로, 고색 좌표에서의 고휘도뿐만 아니라 내열성, 내광성 등의 내구성 또한 우수한 컬러필터를 제공할 수 있다.Since the compound represented by Formula 3-1 contains a cyclohexyl group, heat resistance can be improved, and light resistance can be improved by the phenyl group substituted on the nitrogen atom including a methyl group, so not only high luminance at high color coordinates, but also A color filter having excellent durability such as heat resistance and light resistance can also be provided.

예컨대, 상기 청색 안료는 입실론 청색(epsilon blue) 안료일 수 있다. 일 구현예에 따른 청색 착색제로 청색 안료를 사용할 경우, 베타 청색(beta blue) 안료보다 입실론 청색(epsilon blue) 안료를 사용하는 것이 휘도 향상에 도움이 된다.For example, the blue pigment may be an epsilon blue pigment. When using a blue pigment as a blue colorant according to an embodiment, it is helpful to use an epsilon blue pigment rather than a beta blue pigment to improve brightness.

예컨대, 상기 청색 안료는 C.I. Pigment Blue 15:6 일 수 있다.For example, the blue pigment is C.I. It can be Pigment Blue 15:6.

예컨대, 상기 적색 안료는 C.I. 적색 안료 254, C.I. 적색 안료 255, C.I. 적색 안료 264, C.I. 적색 안료 270, C.I. 적색 안료 272, C.I. 적색 안료 177, C.I. 적색 안료 179, C.I. 적색 안료 89 등일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.For example, the red pigment is C.I. Red pigment 254, C.I. Red pigment 255, C.I. Red pigment 264, C.I. Red pigment 270, C.I. Red pigment 272, C.I. Red pigment 177, C.I. Red pigment 179, C.I. It may be a red pigment 89 or the like, but is not limited thereto.

상기 착색제는 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 총량에 대해 3 중량% 내지 20 중량%로 포함될 수 있다. 상기 착색제가 상기 범위로 포함될 경우, 고색 좌표에서의 고휘도를 달성할 수 있다.The colorant may be included in an amount of 3% to 20% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition according to an embodiment. When the colorant is included in the above range, high luminance at high color coordinates can be achieved.

바인더 수지Binder resin

상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지를 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 바인더 수지는 아크릴계 바인더 수지일 수 있다.The binder resin may include an acrylic binder resin. For example, the binder resin may be an acrylic binder resin.

상기 아크릴계 바인더 수지는 제1 에틸렌성 불포화 단량체 및 이와 공중합 가능한 제2 에틸렌성 불포화 단량체의 공중합체로, 하나 이상의 아크릴계 반복단위를 포함하는 수지이다.  The acrylic binder resin is a copolymer of a first ethylenically unsaturated monomer and a second ethylenically unsaturated monomer copolymerizable therewith, and is a resin containing at least one acrylic repeating unit.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 하나 이상의 카르복시기 및/또는 히드록시기를 함유하는 에틸렌성 불포화 단량체이며, 이의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 푸마르산 또는 이들의 조합을 들 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer is an ethylenically unsaturated monomer containing at least one carboxy group and/or a hydroxy group, and specific examples thereof include  acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, or a combination thereof.

상기 제1 에틸렌성 불포화 단량체는 상기 아크릴계 바인더 수지 총량에 대하여 5 중량% 내지 50 중량%, 예컨대 10 중량% 내지 40 중량%로 포함될 수 있다.The first ethylenically unsaturated monomer may be included in an amount of 5% to 50% by weight, such as 10% to 40% by weight, based on the total amount of the acrylic binder resin.

상기 제2 에틸렌성 불포화 단량체는 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔, 비닐벤질메틸에테르 등의 방향족 비닐 화합물; 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 페닐(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 에스테르 화합물; 2-아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 아미노 알킬 에스테르 화합물; 초산비닐, 안식향산 비닐 등의 카르복시산 비닐 에스테르 화합물; 글리시딜(메타)아크릴레이트 등의 불포화 카르복시산 글리시딜 에스테르 화합물; (메타)아크릴로니트릴 등의 시안화 비닐 화합물; (메타)아크릴아미드 등의 불포화 아미드 화합물; 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The second ethylenically unsaturated monomers include aromatic vinyl compounds such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene, and vinylbenzylmethylether; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Unsaturated carboxylic acid ester compounds such as cyclohexyl (meth)acrylate and phenyl (meth)acrylate; Unsaturated carboxylic acid amino alkyl ester compounds such as 2-aminoethyl (meth)acrylate and 2-dimethylaminoethyl (meth)acrylate; Carboxylic acid vinyl ester compounds such as vinyl acetate and vinyl benzoate; Unsaturated carboxylic acid glycidyl ester compounds such as glycidyl (meth)acrylate; Vinyl cyanide compounds such as (meth)acrylonitrile; Unsaturated amide compounds such as (meth)acrylamide; And the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 아크릴계 바인더 수지의 구체적인 예로는 (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체, (메타)아크릴산/벤질메타크릴레이트/스티렌/2-히드록시에틸메타크릴레이트 공중합체 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들을 단독 또는 2종 이상을 배합하여 사용할 수도 있다.Specific examples of the acrylic binder resin include (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/2-hydroxyethyl meth Acrylate copolymer, (meth)acrylic acid/benzyl methacrylate/styrene/2-hydroxyethyl methacrylate copolymer, and the like, but are not limited thereto, and these may be used alone or in combination of two or more. have.

상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량은 3,000 g/mol 내지 150,000 g/mol, 예컨대 5,000 g/mol 내지 50,000 g/mol, 예컨대 20,000 g/mol 내지 30,000 g/mol 일 수 있다. 상기 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량이 상기 범위 내일 경우, 상기 감광성 수지 조성물의 물리적 및 화학적 물성이 우수하고 점도가 적절하며, 컬러필터 제조 시 기판과의 밀착성이 우수하다.  The weight average molecular weight of the acrylic binder resin may be 3,000 g/mol to 150,000 g/mol, such as 5,000 g/mol to 50,000 g/mol, such as 20,000 g/mol to 30,000 g/mol. When the weight average molecular weight of the acrylic binder resin is within the above range, the physical and chemical properties of the photosensitive resin composition are excellent, the viscosity is appropriate, and adhesion with the substrate is excellent when manufacturing a color filter.

상기 아크릴계 바인더 수지의 산가는 15 mgKOH/g 내지 60 mgKOH/g, 예컨대 20 mgKOH/g 내지 50 mgKOH/g 일 수 있다. 아크릴계 바인더 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 픽셀 패턴의 해상도가 우수하다.The acid value of the acrylic binder resin may be 15 mgKOH/g to 60 mgKOH/g, such as 20 mgKOH/g to 50 mgKOH/g . When the acid value of the acrylic binder resin is within the above range, the resolution of the pixel pattern is excellent.

상기 바인더 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 7 중량%로 포함될 수 있다. 바인더 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조 시 현상성이 우수하며 가교성이 개선되어 우수한 표면 평활도를 얻을 수 있다.The binder resin may be included in an amount of 1% to 10% by weight, such as 3% to 7% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the binder resin is included within the above range, developability is excellent and crosslinking property is improved when manufacturing a color filter, thereby obtaining excellent surface smoothness.

광중합성 화합물Photopolymerizable compound

상기 광중합성 화합물은 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르가 사용될 수 있다.The photopolymerizable compound may be a monofunctional or polyfunctional ester of (meth)acrylic acid having at least one ethylenically unsaturated double bond.

광중합성 화합물은 상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가짐으로써, 패턴 형성 공정에서 노광 시 충분한 중합을 일으킴으로써 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.Since the photopolymerizable compound has the ethylenically unsaturated double bond, it is possible to form a pattern having excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance by causing sufficient polymerization during exposure in the pattern formation process.

광중합성 화합물의 구체적인 예로는, 에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸 글리콜 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올 프로판 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸 포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the photopolymerizable compound include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di (Meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, bisphenol A di(meth)acrylate, pentaerythritol di(meth)acrylate, Pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, pentaerythritol hexa(meth)acrylate, dipentaerythritol di(meth)acrylate, dipentaerythritol tri(meth)acrylate Rate, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, bisphenol A epoxy(meth)acrylate, ethylene glycol monomethyl ether (meth)acrylate, trimethylol propane tri(meth) ) Acrylate, tris(meth)acryloyloxyethyl phosphate, novolac epoxy (meth)acrylate, etc. are mentioned.

광중합성 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-101®, 동 M-111®, 동 M-114® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S®, 동 TC-120S® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-158®, V-2311® 등을 들 수 있다. 상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-210®, 동 M-240®, 동 M-6200® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA®, 동 HX-220®, 동 R-604® 등; 오사카 유끼 가가꾸 고교(주)社의 V-260®, V-312®, V-335 HP® 등을 들 수 있다.  상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아 고세이 가가꾸 고교(주)社의 아로닉스 M-309®, 동 M-400®, 동 M-405®, 동 M-450®, 동 M-710®, 동 M-8030®, 동 M-8060® 등; 니혼 가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA®, 동 DPCA-20®, 동-30®, 동-60®, 동-120® 등; 오사카 유끼 가야꾸 고교(주)社의 V-295®, 동-300®, 동-360®, 동-GPT®, 동-3PA®, 동-400® 등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.Commercially available products of photopolymerizable compounds are as follows. The (meth) acrylic acid is one example of a polyfunctional ester, such as doah Gosei Kagaku Kogyo's (primary)社Aronix M-101 ®, the same M-111 ®, the same M-114 ®; KAYARAD TC-110S ® of Nihon Kayaku Co., Ltd., TC-120S ®, etc.; Osaka yukki the like Kagaku Kogyo (main)社of V-158 ®, V-2311 ®. The (meth) transfer function of an example esters of acrylic acid are, doah Gosei Kagaku Kogyo (Note)社of Aronix M-210 ®, copper or the like M-240 ®, the same M-6200 ®; KAYARAD HDDA ® , HX-220 ® , R-604 ® of Nihon Kayaku Co., Ltd.; Osaka Yuki Kagaku High School Co., Ltd.'s V-260 ® , V-312 ® , and V-335 HP ® are listed. Examples of the tri-functional ester of (meth) acrylic acid, doah Gosei Kagaku Kogyo (Note)社of Aronix M-309 ®, the same M-400 ®, the same M-405 ®, the same M-450 ®, Dong M -710 ® , M-8030 ® , M-8060 ®, etc.; Nippon Kayaku (Note)社of KAYARAD TMPTA ®, copper DPCA-20 ®, ® copper -30, -60 ® copper, copper ® -120 and the like; Osaka Yuki Kayaku High School Co., Ltd.'s V-295 ® , East-300 ® , East-360 ® , East-GPT ® , East-3PA ® , and East-400 ® are listed. The above products can be used alone or in combination of two or more.

상기 광중합성 화합물은 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.The photopolymerizable compound may be used after treatment with an acid anhydride in order to impart better developability.

상기 광중합성 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 10 중량%, 예컨대 1 중량% 내지 5 중량%로 포함될 수 있다. 광중합성 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 알칼리 현상액에의 현상성이 우수하다.The photopolymerizable compound may be included in an amount of 1% to 10% by weight, such as 1% to 5% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerizable compound is included within the above range, hardening occurs sufficiently during exposure in the pattern formation process, thereby providing excellent reliability and excellent developability in an alkaline developer.

광중합 개시제Photopolymerization initiator

상기 광중합 개시제는 감광성 수지 조성물에 일반적으로 사용되는 개시제로서, 예를 들어 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. The photopolymerization initiator is an initiator generally used in the photosensitive resin composition, for example, an acetophenone compound, a benzophenone compound, a thioxanthone compound, a benzoin compound, a triazine compound, an oxime compound, or a combination thereof. Can be used.

상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.Examples of the acetophenone-based compound include 2,2'-diethoxy acetophenone, 2,2'-dibutoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyltrichloro acetophenone, pt -Butyldichloro acetophenone, 4-chloro acetophenone, 2,2'-dichloro-4-phenoxy acetophenone, 2-methyl-1-(4-(methylthio)phenyl)-2-morpholinopropane-1 -One, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butan-1-one, and the like.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.Examples of the benzophenone compound include benzophenone, benzoyl benzoic acid, methyl benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, hydroxy benzophenone, acrylated benzophenone, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4 '-Bis(diethylamino)benzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3'-dimethyl-2-methoxybenzophenone, and the like.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone-based compound include thioxanthone, 2-methyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,4-diisopropyl thioxanthone, 2- And chloro thioxanthone.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the benzoin-based compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyldimethylketal, and the like.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3', 4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토-1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine-based compound include 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2-phenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3', 4'- Dimethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4'-methoxynaphthyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(p-tolyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-biphenyl 4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, bis(trichloromethyl)-6-styryl-s-triazine, 2-(naphtho-1-yl)-4, 6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4-methoxynaphtho-1-yl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-4-bis (Trichloromethyl)-6-piperonyl-s-triazine, 2-4-bis(trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-s-triazine, etc. are mentioned.

상기 옥심계 화합물의 예로는, O-아실옥심계 화합물, 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계 화합물의 구체적인 예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트 등을 들 수 있다. Examples of the oxime-based compound include O-acyloxime-based compounds, 2-(o-benzoyloxime)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione, 1-(o-acetyloxime )-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]ethanone, O-ethoxycarbonyl-α-oxyamino-1-phenylpropan-1-one Etc. can be used. Specific examples of the O-acyloxime-based compound include 1,2-octanedione, 2-dimethylamino-2-(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butane- 1-one, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butane-1,2-dione2-oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octane-1,2-dione2 -Oxime-O-benzoate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-octan-1-one oxime-O-acetate, 1-(4-phenylsulfanylphenyl)-butan-1-one oxime-O- Acetate, etc. are mentioned.

상기 광중합 개시제는 옥심계 개시제 및 아세토페논계 개시제를 동시에 포함할 수 있다. 이 경우, 1종의 광중합 개시제만을 사용하는 경우보다 경화 효율을 높여 우수한 공정마진을 확보할 수 있다. 또한, 이 경우, 상기 옥심계 개시제는 상기 아세토페논계 개시제보다 많은 함량으로 포함될 수 있다. 옥심계 개시제가 아세토페논계 개시제와 같거나 보다 작은 함량으로 포함되는 경우, 감도가 낮아(감도 우수) 원하는 CD 구현이 가능해지게 된다.The photopolymerization initiator may include an oxime-based initiator and an acetophenone-based initiator at the same time. In this case, it is possible to secure an excellent process margin by increasing curing efficiency compared to the case of using only one type of photopolymerization initiator. Further, in this case, the oxime-based initiator may be included in an amount higher than that of the acetophenone-based initiator. When the oxime-based initiator is included in an amount equal to or smaller than the acetophenone-based initiator, the sensitivity is low (excellent sensitivity), and the desired CD can be implemented.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 플루오렌계 화합물 등을 사용할 수 있다.In addition to the above compounds, the photopolymerization initiator may be a carbazole compound, a diketone compound, a sulfonium borate compound, a diazo compound, an imidazole compound, a biimidazole compound, a fluorene compound, or the like.

상기 광중합 개시제는 빛을 흡수하여 들뜬 상태가 된 후 그 에너지를 전달함으로써 화학반응을 일으키는 광 증감제와 함께 사용될 수도 있다.The photopolymerization initiator may be used together with a photosensitizer that absorbs light and becomes excited, and then transmits the energy to cause a chemical reaction.

상기 광 증감제의 예로는, 테트라에틸렌글리콜 비스-3-머캡토 프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트, 디펜타에리트리톨 테트라키스-3-머캡토 프로피오네이트 등을 들 수 있다. Examples of the photosensitizer include tetraethylene glycol bis-3-mercapto propionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, dipentaerythritol tetrakis-3-mercapto propionate, etc. Can be mentioned.

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 0.1 중량% 내지 1 중량%로 포함될 수 있다. 광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 우수한 신뢰성을 얻을 수 있으며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하고, 해상도 및 밀착성 또한 우수하며, 미반응 개시제로 인한 투과율의 저하를 막을 수 있다.The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1% to 5% by weight, such as 0.1% to 1% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiator is included within the above range, curing occurs sufficiently during exposure in the pattern formation process to obtain excellent reliability, excellent heat resistance, light resistance and chemical resistance of the pattern, excellent resolution and adhesion, and due to unreacted initiators. It is possible to prevent a decrease in transmittance.

용매menstruum

상기 용매는 상기 착색제, 상기 바인더 수지, 상기 광중합성 화합물 및 상기 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.The solvent may be materials that have compatibility with the colorant, the binder resin, the photopolymerizable compound, and the photopolymerization initiator, but do not react.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸 에테르, n-부틸 에테르, 디이소아밀 에테르, 메틸페닐 에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 메틸 셀로솔브 아세테이트, 에틸 셀로솔브 아세테이트, 디에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 셀로솔브 아세테이트류; 메틸에틸 카르비톨, 디에틸 카르비톨, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌 글리콜 디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산 에틸, 초산-n-부틸, 초산 이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 젖산 메틸, 젖산 에틸 등의 젖산 에스테르류; 옥시 초산 메틸, 옥시 초산 에틸, 옥시 초산 부틸 등의 옥시 초산 알킬 에스테르류; 메톡시 초산 메틸, 메톡시 초산 에틸, 메톡시 초산 부틸, 에톡시 초산 메틸, 에톡시 초산 에틸 등의 알콕시 초산 알킬 에스테르류; 3-옥시 프로피온산 메틸, 3-옥시 프로피온산 에틸 등의 3-옥시 프로피온산 알킬에스테르류; 3-메톡시 프로피온산 메틸, 3-메톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 에틸, 3-에톡시 프로피온산 메틸 등의 3-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시 프로피온산 메틸, 2-옥시 프로피온산 에틸, 2-옥시 프로피온산 프로필 등의 2-옥시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-메톡시 프로피온산 메틸, 2-메톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 에틸, 2-에톡시 프로피온산 메틸 등의 2-알콕시 프로피온산 알킬 에스테르류; 2-옥시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-옥시-2-메틸 프로피온산 에스테르류, 2-메톡시-2-메틸 프로피온산 메틸, 2-에톡시-2-메틸 프로피온산 에틸 등의 2-알콕시-2-메틸 프로피온산 알킬류의 모노옥시 모노카르복실산 알킬 에스테르류; 2-히드록시 프로피온산 에틸, 2-히드록시-2-메틸 프로피온산 에틸, 히드록시 초산 에틸, 2-히드록시-3-메틸 부탄산 메틸 등의 에스테르류; 피루빈산 에틸 등의 케톤산 에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산 벤질, 안식향산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레인산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산 에틸렌, 탄산 프로필렌, 페닐 셀로솔브 아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.Examples of the solvent include alcohols such as methanol and ethanol; Ethers such as dichloroethyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether, and tetrahydrofuran; Glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; Cellosolve acetates such as methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, and diethyl cellosolve acetate; Carbitols such as methyl ethyl carbitol, diethyl carbitol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, and diethylene glycol diethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol methyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-n-amyl ketone, and 2-heptanone ; Saturated aliphatic monocarboxylic acid alkyl esters such as ethyl acetate, n-butyl acetate, and isobutyl acetate; Lactate esters such as methyl lactate and ethyl lactate; Oxyacetic acid alkyl esters such as methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, and butyl oxyacetate; Alkoxy acetate alkyl esters, such as methoxy methyl acetate, methoxy ethyl acetate, methoxy butyl methoxy acetate, ethoxy methyl acetate, and ethoxy ethyl acetate; 3-oxypropionic acid alkyl esters such as 3-oxy methyl propionate and 3-oxy ethyl propionate; 3-alkoxy propionic acid alkyl esters such as 3-methoxy methyl propionate, 3-methoxy ethyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate, and 3-ethoxy methyl propionate; 2-oxypropionic acid alkyl esters such as 2-oxy methyl propionate, 2-oxy ethyl propionate, and 2-oxy propionate propyl; 2-alkoxy propionic acid alkyl esters such as 2-methoxy methyl propionate, 2-methoxy ethyl propionate, 2-ethoxy ethyl propionate, and 2-ethoxy methyl propionate; 2-oxy-2-methyl propionic acid esters such as 2-oxy-2-methyl methyl propionate and 2-oxy-2-methyl ethyl propionate, 2-methoxy-2-methyl methyl propionate, 2-ethoxy-2- Monooxy monocarboxylic acid alkyl esters of alkyl 2-alkoxy-2-methyl propionate such as ethyl methyl propionate; Esters such as 2-hydroxy ethyl propionate, 2-hydroxy-2-methyl ethyl propionate, hydroxy ethyl acetate, and 2-hydroxy-3-methyl methyl butanoate; Ketone acid esters such as ethyl pyruvate, and the like, and N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N-methylformanilad, N-methylacetamide, N,N-dimethylacetamide , N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetylacetone, isophorone, capronic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, benzoic acid High boiling point solvents such as ethyl, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and phenyl cellosolve acetate.

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 사이클로헥사논 등의 케톤류; 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르 등의 글리콜 에테르류; 에틸 셀로솔브 아세테이트 등의 에틸렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류; 2-히드록시 프로피온산 에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌 글리콜 프로필에테르 아세테이트 등의 프로필렌 글리콜 알킬에테르 아세테이트류가 사용될 수 있다.Among these, in consideration of compatibility and reactivity, ketones such as cyclohexanone are preferred; Glycol ethers such as ethylene glycol monoethyl ether; Ethylene glycol alkyl ether acetates such as ethyl cellosolve acetate; Esters such as ethyl 2-hydroxypropionate; Carbitols such as diethylene glycol monomethyl ether; Propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate may be used.

상기 용매는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 40 중량% 내지 80 중량%, 예컨대 50 중량% 내지 75 중량%로 포함될 수 있다. 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 상기 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 컬러필터 제조 시 공정성이 우수하다.The solvent may be included in a balance, such as 40% to 80% by weight, such as 50% to 75% by weight, based on the total amount of the photosensitive resin composition. When the solvent is included within the above range, the photosensitive resin composition has an appropriate viscosity, and thus processability is excellent in manufacturing a color filter.

기타 첨가제Other additives

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 에폭시 화합물을 더 포함할 수 있다. The photosensitive resin composition according to an embodiment may further include an epoxy compound to improve adhesion to the substrate.

상기 에폭시 화합물의 예로는, 페놀 노볼락 에폭시 화합물, 테트라메틸 비페닐 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 지환족 에폭시 화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include a phenol novolac epoxy compound, a tetramethyl biphenyl epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, an alicyclic epoxy compound, or a combination thereof.

상기 에폭시 화합물은 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 20 중량부, 예컨대 0.1 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 에폭시 화합물이 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The epoxy compound may be included in an amount of 0.01 to 20 parts by weight, for example, 0.1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the epoxy compound is included within the above range, adhesion and storage properties are excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 기판과의 접착성을 향상시키기 위해 카르복실기, 메타크릴로일기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 갖는 실란 커플링제를 더 포함할 수 있다.In addition, the photosensitive resin composition may further include a silane coupling agent having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, or an epoxy group to improve adhesion to the substrate.

상기 실란 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴 벤조산, γ-메타크릴 옥시프로필 트리메톡시실란, 비닐 트리아세톡시실란, 비닐 트리메톡시실란, γ-이소시아네이트 프로필 트리에톡시실란, γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 비닐클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, p-스티릴트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-2-(아미노에틸)-3-아미노프로필메틸트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸부틸리덴)프로필아민, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라설파이드, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. Examples of the silane coupling agent include trimethoxysilyl benzoic acid, γ-methacryl oxypropyl trimethoxysilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl trimethoxysilane, γ-isocyanate propyl triethoxysilane, γ-glycidok Cypropyl trimethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, vinylchlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl) ) Ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldie Oxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N -2-(Aminoethyl)-3-aminopropylmethyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3- Dimethylbutylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, Bis(triethoxysilylpropyl)tetrasulfide, 3-isocyanatepropyltriethoxysilane, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

상기 실란 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 실란 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다. The silane coupling agent may be included in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the silane coupling agent is included within the above range, adhesion and storage properties are excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점 생성 방지 효과를 위해 계면 활성제를 더 포함할 수 있다. In addition, the photosensitive resin composition may further include a surfactant to improve coating properties and prevent defects from being generated, if necessary.

상기 계면활성제의 예로는, BM Chemie社의 BM-1000®, BM-1100® 등; 다이 닛폰 잉키 가가꾸 고교(주)社의 메카 팩 F 142D®, 동 F 172®, 동 F 173®, 동 F 183®, 동 F 554® 등; 스미토모 스리엠(주)社의 프로라드 FC-135®, 동 FC-170C®, 동 FC-430®, 동 FC-431® 등; 아사히 그라스(주)社의 사프론 S-112®, 동 S-113®, 동 S-131®, 동 S-141®, 동 S-145® 등; 도레이 실리콘(주)社의 SH-28PA®, 동-190®, 동-193®, SZ-6032®, SF-8428® 등의 명칭으로 시판된고 있는 불소계 계면 활성제를 사용할 수 있다.Examples of the surfactants include, BM Chemie BM-1000 ® of社, BM-1100 ®, and the like; Mecha Pack F 142D ® , F 172 ® , F 173 ® , F 183 ® , F 554 ® of Dai Nippon Inki Chemical High School Co., Ltd.; Sumitomo M. (Note)社Pro rod FC-135 ®, the same FC-170C ®, copper FC-430 ®, the same FC-431 ®, and the like; Asahi Grass Co., Saffron S-112 ® of社, such S-113 ®, the same S-131 ®, the same S-141 ®, the same S-145 ®, and the like; Toray silicone (Note)社SH-28PA ®, copper -190 ®, may be used copper ® -193, fluorine-based surfactants and commercially available under the name, such as SZ-6032 ®, SF-8428 ®.

상기 계면 활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다. 계면 활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, 유리 기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.The surfactant may be used in an amount of 0.001 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive resin composition. When the surfactant is included within the above range, coating uniformity is ensured, stains do not occur, and wettability to the glass substrate is excellent.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.In addition, a certain amount of other additives such as antioxidants and stabilizers may be added to the photosensitive resin composition within a range that does not impair physical properties.

또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.According to another embodiment, a photosensitive resin film prepared by using the photosensitive resin composition according to the embodiment is provided.

상기 감광성 수지막 내 패턴 형성 공정은 다음과 같다.The pattern formation process in the photosensitive resin film is as follows.

상기 감광성 수지 조성물을 지지 기판 상에 스핀 코팅, 슬릿 코팅, 잉크젯 프린팅 등으로 도포하는 공정; 상기 도포된 감광성 수지 조성물을 건조하여 감광성 수지 조성물 막을 형성하는 공정; 상기 감광성 수지 조성물 막을 노광하는 공정; 상기 노광된 감광성 수지 조성물 막을 알칼리 수용액으로 현상하여 감광성 수지막을 제조하는 공정; 및 상기 감광성 수지막을 가열 처리하는 공정을 포함한다. 상기 공정 상의 조건 등에 대하여는 당해 분야에서 널리 알려진 사항이므로, 본 명세서에서 자세한 설명은 생략하기로 한다. Applying the photosensitive resin composition onto a supporting substrate by spin coating, slit coating, inkjet printing, or the like; Drying the applied photosensitive resin composition to form a photosensitive resin composition film; Exposing the photosensitive resin composition film to light; Developing the exposed photosensitive resin composition film with an aqueous alkali solution to prepare a photosensitive resin film; And a step of heat treating the photosensitive resin film. Since the above process conditions are widely known in the art, detailed descriptions thereof will be omitted herein.

또 다른 일 구현예에 따르면, 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 제공한다.According to another embodiment, a color filter including the photosensitive resin film is provided.

또 다른 일 구현예는 상기 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터를 포함하는 광학표시장치를 제공한다.Another embodiment provides an optical display device including a color filter including the photosensitive resin film.

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상기 광학표시장치는 화상표시장치로서, 액정표시장치, OLED, 플렉서블 디스플레이 등이 있을 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며 적용이 가능한 당분야에 알려진 모든 화상표시장치를 예시할 수 있다.The optical display device is an image display device, and may include a liquid crystal display device, an OLED, a flexible display, etc., but the present invention is not limited thereto, and all image display devices known in the art may be applicable.

예컨대, 상기 광학표시장치는 액정표시장치일 수 있다. 일반적으로 액정표시장치는 백라이트(BLU), 편광판, 박막 트랜지스터(TFT), 액정셀, 컬러필터 및 편광판으로 구성되며, 상기 컬러필터는 일 구현예에 따른 컬러필터일 수 있다. 예컨대, 상기 광학표시장치는 일 구현예에 따른 컬러필터의 적어도 한 면에 점착제층이 적층된 편광판이 구비된 것일 수 있다.For example, the optical display device may be a liquid crystal display device. In general, a liquid crystal display device includes a backlight (BLU), a polarizing plate, a thin film transistor (TFT), a liquid crystal cell, a color filter, and a polarizing plate, and the color filter may be a color filter according to an exemplary embodiment. For example, the optical display device may include a polarizing plate in which an adhesive layer is stacked on at least one surface of a color filter according to an exemplary embodiment.

이하, 실시예를 들어 본 발명에 대해서 더욱 상세하게 설명할 것이나, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예일 뿐 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the following examples are only preferred examples of the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

(염료의 합성)(Synthesis of dyes)

합성예 1: 화학식 1-1로 표시되는 염료의 합성Synthesis Example 1: Synthesis of dye represented by Chemical Formula 1-1

[반응식 1][Scheme 1]

Figure 112018023902267-pat00059
Figure 112018023902267-pat00059

(1) 둥근바닥 플라스크에 4-t-부틸벤즈알데히드(16.2g, 0.1 mol), 프로피온산 100g, 피롤(6.71g, 0.1 mol)을 넣은 후 130℃로 온도를 올린 후 6시간 동안 교반한다. 반응이 종결되면 실온으로 온도를 낮춘 후 여기에 아세톤 100g을 첨가하여 교반시킨다. 생성된 고체화합물을 필터를 통하여 걸러내고 아세톤을 이용하여 세척한 후 건조하여 포피린 중간체(4.2g, 20%)를 합성하였다.(1) After adding 4-t-butylbenzaldehyde (16.2 g, 0.1 mol), propionic acid 100 g, and pyrrole (6.71 g, 0.1 mol) to a round bottom flask, the temperature was raised to 130° C. and stirred for 6 hours. When the reaction is completed, the temperature is lowered to room temperature, and 100 g of acetone is added thereto and stirred. The resulting solid compound was filtered through a filter, washed with acetone, and dried to synthesize a porphyrin intermediate (4.2g, 20%).

(2) 둥근바닥 플라스크에 중간체(4.2g, 5 mmol) 및 클로로포름 80g을 넣고 60℃에서 교반시키고 또 다른 둥근바닥플라스크에 Zinc acetate(2.75g, 15 mmol)을 넣고 여기에 메탄올 53g을 넣고 교반시킨다. 이 때 Zinc acetate가 완전히 녹을 때까지 교반시켜야 하며 Zinc acetate가 완전히 녹으면 이를 상기 중간체에 첨가한 후 60℃에서 3시간 교반시킨 후 반응을 종결한다. 클로로포름을 이용하여 추출하고 물로 세정한 후 여과한다. 여과액을 증류한 후 여기에 아세톤 50g을 첨가하여 실온에서 1시간 동안 교반시킨 후 다시 여과하여 포피린계 염료(3.1g, 69%)(900 m/z)를 얻었다.(2) In a round-bottom flask, intermediate (4.2g, 5 mmol) and 80 g of chloroform were added, stirred at 60°C, and Zinc acetate (2.75g, 15 mmol) was added to another round-bottom flask, and 53g of methanol was added thereto and stirred. . At this time, it should be stirred until the zinc acetate is completely dissolved. When the zinc acetate is completely dissolved, it is added to the intermediate and stirred at 60° C. for 3 hours, and the reaction is terminated. Extracted with chloroform, washed with water and filtered. After distilling the filtrate, 50 g of acetone was added thereto, stirred at room temperature for 1 hour, and filtered again to obtain a porphyrin-based dye (3.1 g, 69%) (900 m/z).

합성예 2: 화학식 3-1로 표시되는 청색 염료의 합성Synthesis Example 2: Synthesis of blue dye represented by Chemical Formula 3-1

1. 화합물 1의 합성1. Synthesis of compound 1

둥근바닥 플라스크에 NaBH4(3.8g, 0.1mol)을 넣고 여기에 1,2-dichloroethane 100g을 첨가한 후 0 ℃로 낮추어 교반하였다. 여기에 acetic acid (21.6g, 0.36mol)을 첨가한 후 실온으로 온도를 서서히 올리며 2시간 동안 교반한 후 cyclohexanone(8.8g, 0.09 mol)을 적가하였다. 반응물을 실온에서 1시간 교반시킨 다음 aniline(7.9g, 0.85 mol)을 첨가한 후 실온에서 overnight 하였다. 반응이 종결되면 Dichloromethane을 이용하여 추출하고 증류수와 10% NaCl 수용액을 이용하여 세정하였다. MgSO4를 이용하여 수분을 제거하고 필터한 다음 건조시켜 화합물 1 (14.5g, 97%의 수율)을 합성하였다. NaBH 4 (3.8 g, 0.1 mol) was added to a round bottom flask, and 100 g of 1,2-dichloroethane was added thereto, followed by lowering to 0 °C and stirring. After adding acetic acid (21.6g, 0.36mol), the temperature was gradually raised to room temperature and stirred for 2 hours, and then cyclohexanone (8.8g, 0.09 mol) was added dropwise. The reaction was stirred at room temperature for 1 hour, then aniline (7.9g, 0.85 mol) was added, and then overnight at room temperature. When the reaction was completed, extraction was performed using dichloromethane and washed with distilled water and 10% NaCl aqueous solution. Moisture was removed using MgSO 4 , filtered, and dried to synthesize compound 1 (14.5 g, 97% yield).

[화합물 1][Compound 1]

Figure 112018023902267-pat00060
Figure 112018023902267-pat00060

2. 화합물 2의 합성2. Synthesis of compound 2

질소분위기 하에서 4,4'-dichlorobenzophenone(10g, 39.8mmol), Pd2(dba)3(220mg, 0.002 mol%), XPhos(230mg, 0.005mol%) 및 sodium t-butoxide(11.48g, 119.5mmol)을 둥근바닥 플라스크에 넣은 후, 여기에 toluene 50g을 첨가하고, 실온에서 10분간 교반시킨 후, 여기에 상기 화합물 1 (14g, 79.6mmol)을 첨가하였다. 반응물의 온도를 80℃로 서서히 올리면서 2시간 동안 교반하였다. 반응이 종결되면 반응물의 온도를 실온으로 낮춘 뒤, 여기에 isopropanol 50g을 첨가한 후 교반시켰다. 필터를 이용해 침전물을 걸러내고, 물로 세정한 다음, 이를 acetonitrile에 첨가하여 80℃로 30분간 교반시켰다. 실온으로 온도를 낮춘 뒤, 침전물을 필터한 후 건조시켜, 중간체 2 (27.3g, 65%의 수율)을 합성하였다.4,4'-dichlorobenzophenone (10g, 39.8mmol), Pd 2 (dba) 3 (220mg, 0.002 mol%), XPhos (230mg, 0.005mol%) and sodium t-butoxide (11.48g, 119.5mmol) under nitrogen atmosphere Was placed in a round bottom flask, 50 g of toluene was added thereto, and after stirring at room temperature for 10 minutes, Compound 1 (14 g, 79.6 mmol) was added thereto. The reaction was stirred for 2 hours while gradually raising the temperature to 80°C. When the reaction was completed, the temperature of the reactant was lowered to room temperature, and 50 g of isopropanol was added thereto, followed by stirring. The precipitate was filtered off using a filter, washed with water, and then added to acetonitrile, followed by stirring at 80° C. for 30 minutes. After lowering the temperature to room temperature, the precipitate was filtered and dried to synthesize intermediate 2 (27.3 g, 65% yield).

[화합물 2][Compound 2]

Figure 112018023902267-pat00061
Figure 112018023902267-pat00061

3. 화합물 3 내지 화합물 6의 합성3. Synthesis of Compound 3 to Compound 6

[반응식 2][Scheme 2]

Figure 112018023902267-pat00062
Figure 112018023902267-pat00062

(화합물 3의 합성)(Synthesis of compound 3)

둥근바닥 플라스크에 sodium ethoxide(34.2g, 0.503mol)과 ethanol 250g을 넣은 후, 실온에서 30분간 교반시킨 후, 여기에 ethyl cyanoacetate (45.5g, 0.402mol)을 반응물에 서서히 첨가한 다음, 실온에서 30분간 교반시켰다. O-tolylisothiocyanate (50g, 0.335mol)을 반응물에 서서히 적하한 후 온도를 80℃로 올려 3시간 동안 교반시켰다. 반응이 종결되면 온도를 낮춘 후, 용매를 제거한 다음, 이를 dichloromethane을 이용해 추출하고, 10% HCl과 물로 각각 세정한다. 유기용매를 제거한 후 생성된 고체 화합물에 MeOH 200g을 첨가해, 0℃에서 30분간 교반한 후 이를 필터하여, 화합물 3 (73.8g, 84%의 수율)을 합성하였다.After adding sodium ethoxide (34.2 g, 0.503 mol) and 250 g of ethanol to a round bottom flask, stirred at room temperature for 30 minutes, ethyl cyanoacetate (45.5 g, 0.402 mol) was slowly added to the reaction mixture, and then 30 at room temperature. Stir for a minute. O-tolylisothiocyanate (50g, 0.335mol) was slowly added dropwise to the reaction, and the temperature was raised to 80°C, followed by stirring for 3 hours. When the reaction is complete, the temperature is lowered, the solvent is removed, and this is extracted with dichloromethane and washed with 10% HCl and water, respectively. After removing the organic solvent, 200 g of MeOH was added to the resulting solid compound, stirred at 0° C. for 30 minutes, and filtered to synthesize compound 3 (73.8 g, 84% yield).

[화합물 3][Compound 3]

Figure 112018023902267-pat00063
Figure 112018023902267-pat00063

(화합물 4의 합성)(Synthesis of compound 4)

둥근바닥 플라스크에 NaOH(45.7g, 1.14mol)과 물 240g을 넣은 후 0℃에서 30분간 교반한 다음 화합물 3 (30g, 0.114mol)을 첨가한 후, 반응물을 80℃로 온도를 올려 3시간 동안 교반시켰다. 반응이 종결되면 온도를 0℃로 낮춘 후 conc. HCl을 이용해 반응물을 산성화(acidify)시킨다(pH: 약 6). 생성된 침전물을 필터를 통해 걸러내고 물로 세정한 후 건조시켜, 화합물 4 (19.7g, 90%의 수율)을 합성하였다.After adding NaOH (45.7g, 1.14mol) and 240g of water to a round bottom flask, stirring at 0℃ for 30 minutes, and then compound 3 (30g, 0.114mol) was added, and the reaction mixture was heated to 80℃ for 3 hours. Stirred. When the reaction is complete, lower the temperature to 0℃ and conc. The reaction is acidified with HCl (pH: about 6). The resulting precipitate was filtered through a filter, washed with water, and dried to synthesize compound 4 (19.7 g, 90% yield).

[화합물 4][Compound 4]

Figure 112018023902267-pat00064
Figure 112018023902267-pat00064

(중간체 5의 합성)(Synthesis of Intermediate 5)

둥근바닥 플라스크에 KOH(8.71g, 0.155mol)과 MeOH 200g을 넣고 실온에서 30분간 교반한 후, 여기에 화합물 4 (20.5g, 0.108mol)과 2'-chlorophenacyl bromide (26.6g, 0.114mol)을 각각 첨가한 후, 실온에서 2시간 동안 교반시켰다. 반응이 종결되면 물 200g을 첨가하고, 실온에서 1시간 교반시킨 후, 생성된 침전물을 필터를 통해 걸러내고 MeOH로 세정 후 건조시켜, 화합물 5 (29.8g, 89%의 수율)을 합성하였다.After adding KOH (8.71g, 0.155mol) and 200g of MeOH to a round bottom flask and stirring at room temperature for 30 minutes, compound 4 (20.5g, 0.108mol) and 2'-chlorophenacyl bromide (26.6g, 0.114mol) were added thereto. After each addition, it was stirred at room temperature for 2 hours. Upon completion of the reaction, 200 g of water was added, and after stirring at room temperature for 1 hour, the resulting precipitate was filtered through a filter, washed with MeOH, and dried to synthesize compound 5 (29.8 g, 89% yield).

[화합물 5][Compound 5]

Figure 112018023902267-pat00065
Figure 112018023902267-pat00065

(화합물 6의 합성)(Synthesis of compound 6)

둥근바닥 플라스크에 KOH(10.4g, 0.185mol)과 acetone 170g, 물 80g을 넣고 실온에서 교반시킨 후 여기에 화합물 5 (30g, 92.4 mmol)과 2-iodopropane(31.5g, 0.185mol)을 각각 첨가한 후, 60℃에서 12시간 동안 교반하였다. 반응이 종결되면 증류를 통해 acetone을 제거하고, dichloromethane을 이용해 추출하고, 10% HCl 및 sat. sodium thiosulfate를 이용해 세정한다. 유기용매를 제거한 후 Ethyl acetate/Hexnae을 이용하여 침전시켜, 화합물 6 (19g, 56%의 수율)을 합성하였다.KOH (10.4g, 0.185mol), 170g of acetone, and 80g of water were added to a round bottom flask, stirred at room temperature, and compound 5 (30g, 92.4 mmol) and 2-iodopropane (31.5g, 0.185mol) were added thereto, respectively. Then, the mixture was stirred at 60° C. for 12 hours. Upon completion of the reaction, acetone was removed through distillation, extracted with dichloromethane, and 10% HCl and sat. Wash with sodium thiosulfate. After removing the organic solvent, it was precipitated using Ethyl acetate/Hexnae to synthesize compound 6 (19g, 56% yield).

[화합물 6][Compound 6]

Figure 112018023902267-pat00066
Figure 112018023902267-pat00066

4. 화학식 3-1로 표시되는 화합물의 합성4. Synthesis of the compound represented by Formula 3-1

질소 하에서 둥근바닥 플라스크에 화합물 2 (1.50g, 2.83mmol) 및 화합물 6 (1.0g, 2.83mmol)을 넣은 후, toluene 7.5g과 POCl3(2.6g, 17.0mmol)을 첨가한 후, 온도를 서서히 110℃로 올리며 5시간 동안 교반하였다. 반응이 종결되면 실온으로 온도를 낮춘 뒤, methyl ethyl ketone(MEK)로 추출하고, 10% NaCl, 물 그리고 10% HCl로 각각 세정하였다. 유기층을 제거하고 건조시킨 뒤, Lithium bis(trifuloromethane)sulfon imide(1.2g, 4.2mmol)을 첨가하고, 여기에 DMSO 10g을 넣고 30분간 실온에서 교반시켰다(anion exchange process). 상기 반응물을 물에 dropping 시켜 침전을 형성시키고, 이를 필터를 통해 분리하여 얻어낸다. 필터를 통해 얻어낸 고체 화합물을 acetonitrile 40g에 녹인 후, 여기에 활성탄 3g을 넣어 30분간 교반시킨다. 필터를 통해 활성탄을 제거하고, 여액은 증류를 통해 제거한 후 건조시켜, 화학식 3-1로 표시되는 최종 화합물(2.69g, 82%의 수율)을 얻었다. 하기 화학식 X는 하기 화학식 C로 표시된다.After adding Compound 2 (1.50g, 2.83mmol) and Compound 6 (1.0g, 2.83mmol) to a round bottom flask under nitrogen, 7.5g of toluene and POCl 3 (2.6g, 17.0mmol) were added, and then the temperature was gradually increased. Raised to 110 ℃ and stirred for 5 hours. When the reaction was completed, the temperature was lowered to room temperature, extracted with methyl ethyl ketone (MEK), and washed with 10% NaCl, water and 10% HCl, respectively. After the organic layer was removed and dried, Lithium bis (trifuloromethane) sulfon imide (1.2 g, 4.2 mmol) was added, and 10 g of DMSO was added thereto, followed by stirring at room temperature for 30 minutes (anion exchange process). The reactant is dropped into water to form a precipitate, which is obtained by separating it through a filter. After dissolving the solid compound obtained through the filter in 40 g of acetonitrile, 3 g of activated carbon was added thereto and stirred for 30 minutes. Activated carbon was removed through a filter, and the filtrate was removed through distillation and dried to obtain a final compound represented by Chemical Formula 3-1 (2.69g, 82% yield). The following formula X is represented by the following formula C.

[화학식 3-1][Formula 3-1]

Figure 112018023902267-pat00067
Figure 112018023902267-pat00067

LC-MS : 1003 m/zLC-MS: 1003 m/z

[화학식 C][Formula C]

Figure 112018023902267-pat00068
Figure 112018023902267-pat00068

합성예 3: 화학식 3-2로 표시되는 청색 염료의 합성Synthesis Example 3: Synthesis of blue dye represented by Chemical Formula 3-2

aniline 대신 2-aminopropane을 사용하는 등 합성예 1을 참고하여, 하기 화학식 3-2로 표시되는 청색 염료를 합성하였다. 하기 화학식 X는 하기 화학식 C로 표시된다.A blue dye represented by the following Formula 3-2 was synthesized with reference to Synthesis Example 1, such as using 2-aminopropane instead of aniline. The following formula X is represented by the following formula C.

[화학식 3-2][Chemical Formula 3-2]

Figure 112018023902267-pat00069
Figure 112018023902267-pat00069

LC-MS: 735 m/zLC-MS: 735 m/z

[화학식 C][Formula C]

Figure 112018023902267-pat00070
Figure 112018023902267-pat00070

합성예 4: 황색 염료 1의 합성Synthesis Example 4: Synthesis of Yellow Dye 1

4-Aminophthalonitrile (2.5 mmol)에 염산 (2.5 mL)과 소듐 나이트레이트 (1.25M 수용액 2 mL)를 넣어 아조늄이온으로 만든 후, 이를 barbituric acid(2.5 mmol)를 NaOH 수용액으로 녹인 약염기성 수용액에 넣어 아조 화합물을 만들었다. 이때 얻어진 고체를 여과하고 정제 및 진공 건조 후 1-iodobutane (5.5 mmol)과 포타슘카보네이트 (7.5 mmol)을 넣고 DMF 용매하에서 반응 후 정제 및 진공건조하여 황색 염료 1을 얻었다.Add hydrochloric acid (2.5 mL) and sodium nitrate (2 mL of 1.25 M aqueous solution) to 4-Aminophthalonitrile (2.5 mmol) to make azonium ions, and then add barbituric acid (2.5 mmol) to a weakly basic aqueous solution dissolved in NaOH aqueous solution. Azo compounds were made. The obtained solid was filtered, purified, dried in vacuo, 1-iodobutane (5.5 mmol) and potassium carbonate (7.5 mmol) were added, reacted in a DMF solvent, purified and dried in vacuo to give a yellow dye 1.

합성예 5: 황색 염료 2의 합성Synthesis Example 5: Synthesis of Yellow Dye 2

(1) 중간체 1의 합성(1) Synthesis of Intermediate 1

Figure 112018023902267-pat00071
Figure 112018023902267-pat00071

둥근바닥 플라스크에 4-메톡시페닐 아이소시아네이트(5g, 33.5mmol)을 넣고 여기에 톨루엔 50g과 4-메톡시아닐린(4.13g, 33.5mmol)을 첨가한 후 실온에서 5시간 교반한다. 반응이 종결되면 필터를 진행한 후 필터위 고체화합물을 메탄올로 여러 번 세척한 후 건조하여 상기 중간체 1 화합물 (8.9g, 97%)을 합성하였다.4-methoxyphenyl isocyanate (5g, 33.5mmol) was added to a round bottom flask, toluene 50g and 4-methoxyaniline (4.13g, 33.5mmol) were added thereto, followed by stirring at room temperature for 5 hours. When the reaction was completed, the filter was performed, and the solid compound on the filter was washed several times with methanol and dried to synthesize the intermediate 1 compound (8.9g, 97%).

(2) 중간체 2의 합성(2) Synthesis of Intermediate 2

Figure 112018023902267-pat00072
Figure 112018023902267-pat00072

둥근바닥 플라스크에 상기 중간체 1 화합물(8.87g, 32.6mmol)을 넣고 여기에 말론산(3.83g, 36.8mmol)및 아세트산 무수물 80g을 첨가한 후 90℃에서 5시간 동안 교반시킨다. 반응이 종결되면 실온으로 온도를 낮춘 뒤 증류를 통해 용매를 제거한다. 디클로로메탄을 이용해 추출하고 10% 수산화나트륨 수용액으로 세정한다. 유기층을 제거한 후 10% NaOH 수용액 층에 10% HCl 수용액을 서서히 첨가하여 pH 6이 되게끔 한 다음, 이를 디클로로메탄을 이용하여 추출한다. 용매를 제거한 후 아이소프로필 알코올 50g을 첨가한 후 50℃에서 1시간 동안 교반한 시킨 후 필터한다. 필터 위 고체화합물을 아이소프로필 알코올로 세정한 다음 건조하여 상기 중간체 2 화합물 (5.99g, 54%)을 합성하였다.The intermediate 1 compound (8.87g, 32.6mmol) was added to a round bottom flask, and malonic acid (3.83g, 36.8mmol) and 80 g of acetic anhydride were added thereto, followed by stirring at 90° C. for 5 hours. When the reaction is complete, the temperature is lowered to room temperature and the solvent is removed by distillation. Extracted with dichloromethane and washed with 10% aqueous sodium hydroxide solution. After removing the organic layer, a 10% HCl aqueous solution was gradually added to the 10% NaOH aqueous solution layer to bring the pH to 6, and this was extracted using dichloromethane. After removing the solvent, 50 g of isopropyl alcohol was added, and the mixture was stirred at 50° C. for 1 hour and filtered. The solid compound on the filter was washed with isopropyl alcohol and then dried to synthesize the intermediate 2 compound (5.99g, 54%).

(3) 황색 염료 2의 합성(3) Synthesis of yellow dye 2

Figure 112018023902267-pat00073
Figure 112018023902267-pat00073

둥근바닥 플라스크에 4-아미모프탈로나이트릴(4.21g, 29.4 mmol)을 넣고 여기에 물 30g을 첨가한 후 온도를 0℃로 낮춘다. 여기에 HCl 30g을 첨가하여 0℃에서 교반시킨다. NaNO2(2.03g, 29.4mmol)을 물 20g에 녹인 후 이를 반응물에 첨가하여 0℃에서 2시간 동안 교반시킨다. Put 4-amimophthalonitrile (4.21g, 29.4 mmol) in a round bottom flask, add 30g of water thereto, and then lower the temperature to 0℃. 30 g of HCl was added thereto, followed by stirring at 0°C. After dissolving NaNO 2 (2.03g, 29.4mmol) in 20g of water, it was added to the reaction and stirred at 0°C for 2 hours.

다른 둥근바닥 플라스크에 소듐카보네이트(9.35g, 88.2mmol)을 넣고 여기에 물 500g을 넣고 교반시킨다. 소듐카보네이트 화합물이 물에 녹으면 여기에 상기 중간체 2화합물 (10g, 29.4mmol)을 넣고 실온에서 1시간 동안 교반시킨다. 이 반응물을 상기 2시간 동안 교반시킨 반응물에 천천히 적가하고 적가가 완결되면 실온에서 12시간 동안 교반시킨다. 반응이 종결되면 필터를 진행하고 필터 위 고체화합물을 물로 세정한 후 건조한다. 건조된 화합물에 MeCN 100g을 첨가한 후 80℃에서 2시간 동안 교반시킨 뒤 필터를 진행하고 건조하여 상기 황색 염료 2(12.3g, 85%)를 합성하였다.Put sodium carbonate (9.35g, 88.2mmol) into another round bottom flask, and add 500g of water to it and stir. When the sodium carbonate compound is dissolved in water, the intermediate 2 compound (10g, 29.4mmol) is added thereto and stirred at room temperature for 1 hour. This reaction was slowly added dropwise to the reaction mixture stirred for 2 hours, and when the addition was completed, the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. When the reaction is complete, filter is performed, and the solid compound on the filter is washed with water and dried. After adding 100 g of MeCN to the dried compound, the mixture was stirred at 80° C. for 2 hours, followed by filtering and drying to synthesize the yellow dye 2 (12.3 g, 85%).

(감광성 수지 조성물의 합성)(Synthesis of photosensitive resin composition)

실시예 1 내지 실시예 3, 비교예 1, 비교예 2 및 참고예 1Examples 1 to 3, Comparative Example 1, Comparative Example 2, and Reference Example 1

하기 언급된 구성성분들을 하기 표 1에 나타낸 조성으로 혼합하여 실시예 1 내지 실시예 3, 비교예 1, 비교예 2 및 참고예 1에 따른 감광성 수지 조성물을 제조하였다.The components mentioned below were mixed in the composition shown in Table 1 to prepare a photosensitive resin composition according to Examples 1 to 3, Comparative Examples 1, 2, and Reference Example 1.

구체적으로, 용매에 광중합 개시제를 녹인 후 2 시간 동안 상온에서 교반한 다음, 여기에 바인더 수지 및 광중합성 화합물을 첨가하여 2시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어서, 얻어진 상기 반응물에 착색제 및 기타 첨가제를 넣고 1 시간 동안 상온에서 교반하였다. 이어 상기 생성물을 3회 여과하여 불순물을 제거함으로써, 감광성 수지 조성물을 제조하였다.Specifically, after dissolving the photopolymerization initiator in a solvent, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours, and then a binder resin and a photopolymerizable compound were added thereto, followed by stirring at room temperature for 2 hours. Then, a colorant and other additives were added to the obtained reaction product and stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, the product was filtered three times to remove impurities, thereby preparing a photosensitive resin composition.

(단위: g)(Unit: g)   실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 참고예 1Reference Example 1 (A)착색제(A) colorant (A-1)(A-1) 1.4411.441 1.5691.569 1.5691.569 -- -- 7.2187.218 (A-2)(A-2) -- 12.58212.582 -- -- -- 12.58212.582 (A-3)(A-3) -- -- 15.29315.293 -- 15.29315.293 -- (A-4)(A-4) -- -- -- 32.21832.218 32.21832.218 -- (A-5)(A-5) 17.98017.980 -- -- 17.98017.980   -- (B) 바인더 수지(B) binder resin 0.9940.994 1.4351.435 1.3531.353 0.0450.045 0.0450.045 1.2801.280 (C) 광중합성 화합물(C) photopolymerizable compound 8.9498.949 13.93713.937 11.30811.308 0.0120.012 0.0120.012 8.4438.443 (D) 광중합 개시제(D) photopolymerization initiator (D-1)(D-1) 0.6000.600 0.4520.452 0.4520.452 0.4520.452 0.4520.452 0.4520.452 (D-2)(D-2) 0.0160.016 0.0050.005 0.0050.005 0.0050.005 0.0050.005 0.0050.005 (E) 용매(E) solvent (E-1)(E-1) 45.22045.220 45.22045.220 45.22045.220 24.48824.488 27.17527.175 45.22045.220 (E-2)(E-2) 24.50024.500 24.50024.500 24.50024.500 24.50024.500 24.50024.500 24.50024.500 (F) 기타 첨가제(F) other additives 0.3000.300 0.3000.300 0.3000.300 0.3000.300 0.3000.300 0.3000.300

(A) 착색제(A) colorant

(A-1) 합성예 1의 화합물(화학식 1-1로 표시되는 청색 염료)(A-1) Compound of Synthesis Example 1 (blue dye represented by Chemical Formula 1-1)

(A-2) 합성예 2의 화합물(화학식 3-1로 표시되는 청색 염료)(A-2) Compound of Synthesis Example 2 (blue dye represented by Chemical Formula 3-1)

(A-3) 합성예 3의 화합물(화학식 3-2로 표시되는 청색 염료)(A-3) Compound of Synthesis Example 3 (blue dye represented by Chemical Formula 3-2)

(A-4) 합성예 4의 화합물(황색 염료 1)(A-4) Compound of Synthesis Example 4 (Yellow Dye 1)

(A-5) C.I. Pigment Blue 15:6 안료분산액 (SANYO社(사))(A-5) C.I. Pigment Blue 15:6 pigment dispersion (SANYO company)

(B) 바인더 수지(B) binder resin

아크릴계 바인더 수지 (RY-25, Showadenko社(사))Acrylic binder resin (RY-25, Showadenko company)

(C) 광중합성 화합물(C) photopolymerizable compound

디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트(DPHA) (일본화약社(사))Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) (Japan Explosives Co., Ltd.)

(D) 광중합 개시제(D) photopolymerization initiator

(D-1) 옥심계 화합물(NCI831, adeka社(사))(D-1) Oxime compound (NCI831, adeka company)

(D-2) 아세토페논계 화합물(IRG369, Basf社(사))(D-2) Acetophenone-based compound (IRG369, Basf Corporation)

(E) 용매(E) solvent

(E-1) PGMEA (교화社(사))(E-1) PGMEA (Gyohwa Corporation)

(E-2) EDM (교화社(사))(E-2) EDM (Gyohwa Corporation)

(F) 첨가제(F) additive

γ-글리시독시 프로필 트리메톡시실란 (S-510, Chisso社(사))γ-glycidoxy propyl trimethoxysilane (S-510, Chisso Corporation)

평가 1: 염료의 투과도Evaluation 1: transmittance of dye

합성예 1, 합성예 4 및 합성예 5의 염료가 조성물 총량에 대해 2 중량%로 포함되도록 하고, 나머지 조건은 동일하게 하여 2㎛ 두께의 3가지의 필름을 제조하였고, 상기 필름 각각의 투과도를 측정하여 하기 도 1에 그 결과를 나타내었다.The dyes of Synthesis Example 1, Synthesis Example 4, and Synthesis Example 5 were included in 2% by weight based on the total amount of the composition, and the remaining conditions were the same to prepare three films having a thickness of 2 μm, and the transmittance of each of the films was Measurements are shown in Figure 1 below.

도 1로부터, 합성예 1의 청색 염료는 합성예 4 및 합성예 5의 황색 염료와 달리, 420nm 내지 440nm의 매우 좁은 파장영역에서 최대흡수파장을 가져, 적은 양으로도 충분히 420nm 내지 440nm의 파장영역의 분광을 차단할 수 있음을 확인할 수 있다.From FIG. 1, unlike the yellow dyes of Synthesis Example 4 and Synthesis Example 5, the blue dye of Synthesis Example 1 has a maximum absorption wavelength in a very narrow wavelength range of 420 nm to 440 nm, and a wavelength range of 420 nm to 440 nm sufficiently even with a small amount It can be seen that the spectroscopy of can be blocked.

평가 2: 감광성 수지막의 휘도Evaluation 2: brightness of photosensitive resin film

탈지 세척한 두께 1 mm의 유리 기판 상에 1 ㎛ 내지 3 ㎛의 두께로 상기 실시예 1 내지 실시예 3, 비교예 1, 비교예 2 및 참고예 1에서 제조한 감광성 수지 조성물을 250rpm 내지 350rpm의 조건으로 도포하고, 90℃의 핫 플레이트 상에서 2분 동안 건조시켜 도막을 수득하였다. 계속해서 도막에 50mJ/cm2의 조건으로 365nm의 주파장을 가진 고압수은램프를 사용하여 전면 노광을 진행한 뒤, 현상기에서 KOH 현상액(111배 희석액)을 이용하여 수세액/현상액 = 1/0.8의 조건에서 60초 동안 현상하고, 다시 60초 동안 수세를 진행하여 현상 이력을 주었다. 이 후, 230℃의 열풍순환식 건조로 안에서 20분 동안 건조시켜 색 시편(Color Chip)을 수득하였다. The photosensitive resin compositions prepared in Examples 1 to 3, Comparative Examples 1, 2 and Reference Example 1 were prepared in a thickness of 1 µm to 3 µm on a degreasing and washed glass substrate of 250 rpm to 350 rpm. It was applied under conditions and dried on a hot plate at 90° C. for 2 minutes to obtain a coating film. Subsequently, under the condition of 50mJ/cm 2 on the coating film, perform the front exposure using a high-pressure mercury lamp with a dominant wavelength of 365 nm, and then use a KOH developer (111 times dilution) in a developer to wash/develop = 1/0.8 Development was performed for 60 seconds under the conditions of, and water washing was performed for 60 seconds to give a development history. Thereafter, it was dried for 20 minutes in a hot air circulation drying furnace at 230° C. to obtain a color chip.

상기 제작된 색 시편을 분광광도계(MCPD3000, Otsuka electronic社)를 이용하여 C 광원 기준 색 특성을 평가하였고, 색좌표값(Bx/By = 0.148/0.048)을 기준으로 휘도(Y)를 계산하여, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.The prepared color specimen was evaluated for color characteristics based on the C light source using a spectrophotometer (MCPD3000, Otsuka electronic), and the luminance (Y) was calculated based on the color coordinate value (Bx/By = 0.148/0.048), The results are shown in Table 2 below.

휘도 (%)Luminance (%) 실시예 1Example 1 7.727.72 실시예 2Example 2 8.898.89 실시예 3Example 3 8.948.94 비교예 1Comparative Example 1 -- 비교예 2Comparative Example 2 -- 참고예 1Reference Example 1 3.233.23

(비교예 1 및 비교예 2는 황색 염료 함량 과다로 인해 배당된 용제 내 모든 성분이 용해되지 않아 조액이 불가능하여, 휘도 측정 불가)(Comparative Example 1 and Comparative Example 2, due to the excessive content of the yellow dye, all components in the allocated solvent were not dissolved, so it was impossible to prepare liquid, so luminance measurement was impossible)

상기 평가 1 및 평가 2로부터, 상기 화학식 1-1로 표시되는 화합물을 사용할 경우, 적은 양으로도 충분히 우수한 휘도 및 고색 구현이 가능함을 확인할 수 있다. 또한, 실시예 및 참고예로부터 상기 화학식 1-1로 표시되는 화합물이 과량으로 포함된다고 하여 휘도 및 고색 특성이 더욱 우수해지는 것도 아님을 확인할 수 있다. From the evaluations 1 and 2, it can be seen that when the compound represented by Formula 1-1 is used, sufficiently excellent luminance and high color can be realized even with a small amount. In addition, it can be seen from Examples and Reference Examples that the luminance and high color characteristics are not further improved even if the compound represented by Formula 1-1 is contained in an excessive amount.

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이상 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고, 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made within the scope of the claims, the detailed description of the invention, and the accompanying drawings. It is natural to fall within the scope of the invention.

Claims (20)

(A) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 착색제;
(B) 바인더 수지;
(C) 광중합성 화합물;
(D) 광중합 개시제; 및
(E) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure 112020084480437-pat00074

상기 화학식 1에서,
M은 Zn, Co 또는 Cu 이고,
R1 내지 R20은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고,
단, R1 내지 R5 중 적어도 하나 이상, R6 내지 R10 중 적어도 하나 이상, R11 내지 R15 중 적어도 하나 이상 및 R16 내지 R20 중 적어도 하나 이상은 각각 독립적으로 수소 원자가 아니고,
R1 내지 R5 중 하나가 할로겐 원자 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이면, 나머지 넷은 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고,
R6 내지 R10 중 하나가 할로겐 원자 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이면, 나머지 넷은 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고,
R11 내지 R15 중 하나가 할로겐 원자 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이면, 나머지 넷은 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고,
R16 내지 R20 중 하나가 할로겐 원자 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이면, 나머지 넷은 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이다.
(A) a coloring agent containing a compound represented by the following formula (1);
(B) binder resin;
(C) a photopolymerizable compound;
(D) photoinitiator; And
(E) Photosensitive resin composition containing a solvent:
[Formula 1]
Figure 112020084480437-pat00074

In Formula 1,
M is Zn, Co or Cu,
R 1 to R 20 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, A substituted or unsubstituted sulfonamide group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group,
Provided that at least one of R 1 to R 5 , at least one of R 6 to R 10 , at least one of R 11 to R 15 , and at least one or more of R 16 to R 20 are each independently a hydrogen atom,
If one of R 1 to R 5 is a halogen atom or an unsubstituted C1 to C20 alkyl group, the remaining four are halogen atoms, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted A cyclic C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted sulfonamide group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group,
If one of R 6 to R 10 is a halogen atom or an unsubstituted C1 to C20 alkyl group, the remaining four are halogen atoms, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted A cyclic C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted sulfonamide group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group,
If one of R 11 to R 15 is a halogen atom or an unsubstituted C1 to C20 alkyl group, the remaining four are halogen atoms, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted A cyclic C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted sulfonamide group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group,
If one of R 16 to R 20 is a halogen atom or an unsubstituted C1 to C20 alkyl group, the remaining four are halogen atoms, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted It is a substituted C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted sulfonamide group, or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group.
제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 2]
Figure 112020084480437-pat00075

상기 화학식 2에서,
M은 Zn, Co 또는 Cu 이고,
R21 내지 R28은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고,
n1 내지 n8은 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이고, 단 1 ≤ n1+n2 ≤ 2, 1 ≤ n3+n4 ≤ 2, 1 ≤ n5+n6 ≤ 2, 1 ≤ n7+n8 ≤ 2 이고,
단, R21, R23, R25 및 R27이 각각 독립적으로 할로겐 원자 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이면, R22, R24, R26 및 R28은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알콕시기, 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기, 술폰산기, 치환 또는 비치환된 술폰아미드기 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬에스테르기이고, n1 내지 n8은 각각 독립적으로 1의 정수이다.
The method of claim 1,
The compound represented by Formula 1 is a photosensitive resin composition represented by the following Formula 2:
[Formula 2]
Figure 112020084480437-pat00075

In Chemical Formula 2,
M is Zn, Co or Cu,
R 21 to R 28 are each independently a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted A cyclic sulfonamide group or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl ester group,
n1 to n8 are each independently an integer of 0 or 1, provided that 1 ≤ n1+n2 ≤ 2, 1 ≤ n3+n4 ≤ 2, 1 ≤ n5+n6 ≤ 2, 1 ≤ n7+n8 ≤ 2,
However, if R 21 , R 23 , R 25 and R 27 are each independently a halogen atom or an unsubstituted C1 to C20 alkyl group, R 22 , R 24 , R 26 and R 28 are each independently a halogen atom, substituted or unsubstituted A substituted C1 to C20 alkyl group, a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkoxy group, a substituted or unsubstituted C6 to C20 aryl group, a sulfonic acid group, a substituted or unsubstituted sulfonamide group, or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl It is an ester group, and n1 to n8 are each independently an integer of 1.
제1항에 있어서,
상기 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-15 및 화학식 1-17 내지 화학식 1-20 중 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 1-1]
Figure 112020084480437-pat00076

[화학식 1-2]
Figure 112020084480437-pat00077

[화학식 1-3]
Figure 112020084480437-pat00078

[화학식 1-4]
Figure 112020084480437-pat00079

[화학식 1-5]
Figure 112020084480437-pat00080

[화학식 1-6]
Figure 112020084480437-pat00081

[화학식 1-7]
Figure 112020084480437-pat00082

[화학식 1-8]
Figure 112020084480437-pat00083

[화학식 1-9]
Figure 112020084480437-pat00084

[화학식 1-10]
Figure 112020084480437-pat00085

[화학식 1-11]
Figure 112020084480437-pat00086

[화학식 1-12]
Figure 112020084480437-pat00087

[화학식 1-13]
Figure 112020084480437-pat00088

상기 화학식 1-13에서,
R은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
m1 및 m2는 각각 독립적으로 0 내지 20의 정수이고, 단 4 ≤ m1+m2 ≤ 20 이고,
[화학식 1-14]
Figure 112020084480437-pat00089

[화학식 1-15]
Figure 112020084480437-pat00090

[화학식 1-17]
Figure 112020084480437-pat00092

[화학식 1-18]
Figure 112020084480437-pat00093

[화학식 1-19]
Figure 112020084480437-pat00094

[화학식 1-20]
Figure 112020084480437-pat00095

The method of claim 1,
The compound is a photosensitive resin composition represented by any one of the following Formulas 1-1 to 1-15 and Formulas 1-17 to 1-20.
[Formula 1-1]
Figure 112020084480437-pat00076

[Formula 1-2]
Figure 112020084480437-pat00077

[Formula 1-3]
Figure 112020084480437-pat00078

[Formula 1-4]
Figure 112020084480437-pat00079

[Formula 1-5]
Figure 112020084480437-pat00080

[Formula 1-6]
Figure 112020084480437-pat00081

[Formula 1-7]
Figure 112020084480437-pat00082

[Formula 1-8]
Figure 112020084480437-pat00083

[Formula 1-9]
Figure 112020084480437-pat00084

[Formula 1-10]
Figure 112020084480437-pat00085

[Formula 1-11]
Figure 112020084480437-pat00086

[Formula 1-12]
Figure 112020084480437-pat00087

[Formula 1-13]
Figure 112020084480437-pat00088

In Formula 1-13,
R is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
m1 and m2 are each independently an integer of 0 to 20, provided that 4≦m1+m2≦20,
[Formula 1-14]
Figure 112020084480437-pat00089

[Formula 1-15]
Figure 112020084480437-pat00090

[Formula 1-17]
Figure 112020084480437-pat00092

[Formula 1-18]
Figure 112020084480437-pat00093

[Formula 1-19]
Figure 112020084480437-pat00094

[Formula 1-20]
Figure 112020084480437-pat00095

제1항에 있어서,
상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해 0.01 중량% 내지 7 중량%로 포함되는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The compound represented by Formula 1 is a photosensitive resin composition contained in an amount of 0.01% to 7% by weight based on the total amount of the photosensitive resin composition.
제1항에 있어서,
상기 착색제는 청색 염료, 청색 안료, 적색 염료, 적색 안료 또는 이들의 조합을 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The colorant further comprises a blue dye, a blue pigment, a red dye, a red pigment, or a combination thereof.
제5항에 있어서,
상기 청색 염료는 하기 화학식 3으로 표시되는 것인 감광성 수지 조성물:
[화학식 3]
Figure 112018023902267-pat00096

상기 화학식 3에서,
R29 및 R30은 각각 독립적으로 치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20 사이클로알킬기이고,
R31은 수소 원자 또는 할로겐기이고,
R32는 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
R33은 아크릴레이트기로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기이고,
X-은 하기 화학식 A 내지 화학식 C 중 어느 하나로 표시된다.
[화학식 A]
SO3 -
[화학식 B]
Figure 112018023902267-pat00097

(상기 화학식 B에서, n3는 0 내지 10의 정수이다)
[화학식 C]
Figure 112018023902267-pat00098

The method of claim 5,
The blue dye is a photosensitive resin composition represented by the following formula 3:
[Formula 3]
Figure 112018023902267-pat00096

In Chemical Formula 3,
R 29 and R 30 are each independently a substituted C1 to C20 alkyl group or a substituted or unsubstituted C3 to C20 cycloalkyl group,
R 31 is a hydrogen atom or a halogen group,
R 32 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C1 to C20 alkyl group,
R 33 is a C1 to C20 alkyl group unsubstituted or substituted with an acrylate group,
X - is represented by any one of the following formulas A to C.
[Formula A]
SO 3 -
[Formula B]
Figure 112018023902267-pat00097

(In Formula B, n3 is an integer from 0 to 10)
[Formula C]
Figure 112018023902267-pat00098

제5항에 있어서,
상기 청색 염료는 하기 화학식 3-1 또는 화학식 3-2로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 3-1]
Figure 112018023902267-pat00099

[화학식 3-2]
Figure 112018023902267-pat00100

상기 화학식 3-1 및 화학식 3-2에서,
X-은 하기 화학식 A 내지 화학식 C 중 어느 하나로 표시된다.
[화학식 A]
SO3 -
[화학식 B]
Figure 112018023902267-pat00101

(상기 화학식 B에서, n3는 0 내지 10의 정수이다)
[화학식 C]
Figure 112018023902267-pat00102

The method of claim 5,
The blue dye is a photosensitive resin composition represented by the following Formula 3-1 or Formula 3-2:
[Formula 3-1]
Figure 112018023902267-pat00099

[Chemical Formula 3-2]
Figure 112018023902267-pat00100

In Formulas 3-1 and 3-2,
X - is represented by any one of the following formulas A to C.
[Formula A]
SO 3 -
[Formula B]
Figure 112018023902267-pat00101

(In Formula B, n3 is an integer from 0 to 10)
[Formula C]
Figure 112018023902267-pat00102

제5항에 있어서,
상기 청색 안료는 C.I. Pigment Blue 15:6인 감광성 수지 조성물.
The method of claim 5,
The blue pigment is CI Pigment Blue 15:6 photosensitive resin composition.
제1항에 있어서,
상기 광중합 개시제는 옥심계 개시제 및 아세토페논계 개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The photopolymerization initiator is a photosensitive resin composition comprising an oxime-based initiator and an acetophenone-based initiator.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 감광성 수지 조성물 총량에 대해,
상기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 착색제 3 중량% 내지 20 중량%;
상기 바인더 수지 1 중량% 내지 10 중량%;
상기 광중합성 화합물 1 중량% 내지 10 중량%;
상기 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량% 및
상기 용매 잔부량을 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The photosensitive resin composition is based on the total amount of the photosensitive resin composition,
3% to 20% by weight of a colorant containing the compound represented by Formula 1;
1% to 10% by weight of the binder resin;
1% to 10% by weight of the photopolymerizable compound;
0.1% to 5% by weight of the photopolymerization initiator, and
A photosensitive resin composition comprising the remaining amount of the solvent.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 에폭시 화합물, 실란 커플링제, 계면활성제 또는 이들의 조합을 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The photosensitive resin composition further comprises an epoxy compound, a silane coupling agent, a surfactant, or a combination thereof.
제1항 내지 제11항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조되는 감광성 수지막.
A photosensitive resin film produced by using the photosensitive resin composition of any one of claims 1 to 11.
제12항의 감광성 수지막을 포함하는 컬러필터.
A color filter comprising the photosensitive resin film of claim 12.
제13항의 컬러필터를 포함하는 광학표시장치.
An optical display device comprising the color filter of claim 13.
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