KR102200693B1 - Substrate Tiltable Aligner - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것으로서, 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너는 챔버의 천장에 설치되는 회전부와, 상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트와, 기판이 장착되는 기판 홀더와, 상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부와, 마스크가 장착되는 마스크 홀더와, 상기 기판 홀더의 하단 모서리에 형성되고, 상기 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부를 포함하여 구성된다. 이에 의해 본 발명은 마스크가 마스크 홀더에 경사지게 안착되고, 마스크에 놓이는 기판 또한 경사진 상태에서 마스크와 기판을 회전시키며 증착물질을 증착시킬 수 있어 기판 패턴에 형성되는 굴곡이나 구멍에도 증착이 되는 효과가 있다. 또한, 증착물질을 증착시키는 공정 중에 두께가 두꺼운 마스크를 사용하는 발생하는 쉐도우(shadow)를 작게 할 수 있으며, 증착 패턴의 간격이 좁은 경우 발생하는 쉐도우(shadow) 또한 작게 할 수 있는 이점이 있다.The present invention relates to an aligner capable of tilting a substrate, wherein the aligner capable of tilting a substrate of the present invention includes a rotating part installed on a ceiling of a chamber, a support plate formed through the rotating part, and a substrate holder on which a substrate is mounted, It is installed on the support plate to move the substrate holder up and down, and a substrate holder moving unit rotated by the rotation unit, a mask holder on which a mask is mounted, and formed at a lower edge of the substrate holder, the mask holder It is configured to include an inclined forming portion formed on the upper end of the mask holder to be installed inclined. Accordingly, in the present invention, the mask is seated obliquely on the mask holder, and the substrate placed on the mask can be rotated while the mask and the substrate are also inclined to deposit a deposition material. have. In addition, during the process of depositing a deposition material, a shadow generated by using a mask having a thick thickness can be reduced, and a shadow generated when the gap between the deposition pattern is narrow can also be reduced.

Description

기판 틸팅이 가능한 얼라이너{Substrate Tiltable Aligner}Substrate Tiltable Aligner

본 발명은 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부에 의해 마스크 홀더를 경사지게 설치하여, 마스크와 기판이 경사지게 안착된 상태에서 증착물질을 증착하는 공정에서 굴곡이나 구멍이 형성되어 있는 기판에도 굴곡이나 구멍에 증착물질이 증착될 수 있는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것이다.The present invention relates to an aligner capable of tilting a substrate, and more particularly, by installing a mask holder in an inclined manner by an inclined forming portion formed on an upper end of the mask holder, and depositing a deposition material while the mask and the substrate are seated in an inclined manner. The present invention relates to an aligner capable of tilting a substrate in which a deposition material can be deposited on a curved or holed substrate in a process.

일반적으로 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 박막증착 공정은 유기물질을 증발시키고, 증발된 유기물질을 기판에 증착시키게 된다. 이러한 증착 공정은 글래스 등의 기판을 진공챔버 내에 배치하고, 유기물질이 담긴 증발원을 기판에 대향하도록 배치한다. 이후, 유기물질이 담긴 증발원을 가열하여 증발되는 유기물질의 기체나 액체 상태를 기판에 증착시키면서 유기 박막을 형성하게 된다.In general, in the OLED (Organic Light Emitting Diodes) thin film deposition process, organic materials are evaporated and the evaporated organic materials are deposited on a substrate. In this deposition process, a substrate such as glass is disposed in a vacuum chamber, and an evaporation source containing an organic material is disposed to face the substrate. Thereafter, the evaporation source containing the organic material is heated to deposit a gas or liquid state of the evaporated organic material on the substrate to form an organic thin film.

챔버 내부로는 지면에 대하여 평행한 방향으로 배치된 글래스 등의 기판이 로딩되는데 이때 글래스 등의 기판이 휘어져 장착되는 문제점이 있다.A substrate such as glass disposed in a direction parallel to the ground is loaded into the chamber. At this time, there is a problem that the substrate such as glass is bent and mounted.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 한국등록특허 제10-1307153호에서 개시하고 있는 '대면적 글라스의 얼라이너 구동장치 및 방법'은 대면적 글라스(glass)와 마스크(mask)를 수직상태에서 얼라인(align)할 수 있는 것으로, 대면적 글라스를 수직형 얼라이너에 고정 지지하면서 진공증착하기 위해 마련된 진공공간부 및 상기 진공공간부에서 수직형 얼라이너 전면으로 소정이격되어 위치하는 자성이 있는 금속계열의 물질로 이루어진 마스크와, 상기 진공공간부 타측에 분할된 공간으로 수직형 얼라이너를 구동하는 구동수단들로 구성된 대기공간부, 로 마련되어, 직사각 형태로 대면적 글라스를 내부프레임에 안착하면서 가장자리를 전용 고정부 등으로 고정하여 이송하도록하는 대면적 글라스 이송용 트레이와, 상기 트레이에 의해 수직 상태로 이송되는 글라스가 안착하도록 진공공간부에 있는 수직형 얼라이너 전면에 수직상태로 마련된 쿨 플레이트와, 상기 글라스를 수직형 얼라이너에 로딩 및 고정할 수 있도록 쿨 플레이트에 상하좌우 서로 대향 형성되어 글라스를 수직으로 고정되도록 파지하기 위한 클램핑부와, 상기 진공공간부 분할벽에 위치하여 글라스가 쿨 플레이트에 안착될 때 이미지 촬영수단에 의해 틀어진 정도를 파악하여 이에 대응하는 정보를 발생하는 CCD카메라와, 상기 틀어진 정보에 따라 수직형 얼라이너를 X, Y, θ 방향으로 이동할 수 있도록 구동력을 전달하는 대기공간부에 위치한 UVW 구동축과, 진공공간부에 위치한 쿨 플레이트를 Z축으로 이동시켜 글라스가 마스크에 밀착되도록 구동하는 쿨 플레이트 구동부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, the'large-area glass aligner driving apparatus and method' disclosed in Korean Patent No. 10-1307153 is to align a large-area glass and a mask in a vertical state. A vacuum space part provided for vacuum deposition while fixing and supporting a large-area glass on a vertical aligner, and a magnetic metal series located at a predetermined distance from the vacuum space part to the front of the vertical aligner. A mask made of a material of, and an atmosphere space part composed of driving means for driving the vertical aligner into a space divided on the other side of the vacuum space part, provided with a rectangular shape, while seating a large area glass on the inner frame and dedicating the edge A large-area glass transfer tray that is fixed and transferred by a fixing unit, and a cool plate provided in a vertical state on the front of the vertical aligner in the vacuum space so that the glass transferred by the tray in a vertical state is seated; A clamping part for holding the glass vertically by being formed opposite to each other on the cool plate so that the glass can be loaded and fixed on the vertical aligner, and the glass is seated on the cool plate by being located on the dividing wall of the vacuum space part A CCD camera that detects the degree of distortion by the image photographing means and generates information corresponding thereto, and a waiting space that transmits driving force to move the vertical aligner in the X, Y, and θ directions according to the distortion information. It is characterized in that it comprises a UVW driving shaft located and a cool plate driving unit for driving the glass to be in close contact with the mask by moving the cool plate located in the vacuum space to the Z axis.

이와 같은 구성에 의하면, 대면적 글라스(Glass)와 마스크(Mask)를 수직상태에서 얼라인(Align)할 수 있는 것으로 쿨 플레이트측에 형성되어 글라스를 파지하는 클램핑부에 의해 글라스의 처짐현상을 방지할 수 있어 글라스와 마스크간의 얼라인먼트 정밀도를 향상시킬 수 있으며, 진공공간부에서 증착공정을 수행하는 글라스의 상면에 자성력을 갖는 마그네틱를 부착시키고 자석에서 발생되는 자력을 이용하여 글라스를 고정시켜 글라스의 평판도가 균일하게 유지된 상태로 증착공정을 수행하게 되므로 제품의 불량을 방지할 수 있다.According to this configuration, it is possible to align a large-area glass and a mask in a vertical state, and it is formed on the cool plate side to prevent sagging of the glass by the clamping part that holds the glass. It is possible to improve the alignment precision between the glass and the mask, and the flatness of the glass by attaching a magnetic having magnetic force to the upper surface of the glass performing the deposition process in the vacuum space and fixing the glass using the magnetic force generated from the magnet. Since the deposition process is carried out in a state that is uniformly maintained, defects in the product can be prevented.

하지만, 기판의 패턴(pattern)에 굴곡이나 구멍 등이 형성되어 있는 경우 굴곡이나 구멍 등에 증착물질이 균일하게 증착되지 않고, 마스크(mask)의 두께가 두껍거나 증착 패턴(pattern)의 간격이 좁은 경우 쉐도우(shadow)가 크게 발생할 수 있는 문제점이 있어서 본 발명을 제안하게 되었다.However, if the pattern of the substrate has bends or holes, the evaporation material is not uniformly deposited on the bends or holes, and the thickness of the mask is thick or the spacing of the deposition patterns is narrow. The present invention has been proposed because there is a problem in which a large shadow may occur.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해서 안출된 것으로, 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 마스크 홀더의 상단에 경사 형성부를 형성하여 마스크가 경사지게 놓이고 마스크 위에 기판가 장착될 수 있는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been conceived to solve the above problems, and provides an aligner capable of tilting a substrate in which a mask is placed in an inclined manner and a substrate can be mounted on the mask by forming an inclined portion at the top of the mask holder so that the mask holder is installed in an inclined manner. It has its purpose.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 챔버의 천장에 설치되는 회전부와, 상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트와, 기판이 장착되는 기판 홀더와, 상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부와, 마스크가 장착되는 마스크 홀더와, 상기 기판 홀더의 하단 모서리에 형성되고, 상기 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부를 포함하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 제공한다.In order to achieve the above object, in the present invention, in the present invention, the rotation part installed on the ceiling of the chamber, the support plate formed through the rotation part, the substrate holder on which the substrate is mounted, and the substrate holder installed on the support plate A substrate holder moving unit that is moved up and down and rotated by the rotating unit, a mask holder on which a mask is mounted, and formed at a lower edge of the substrate holder, and formed at an upper end of the mask holder so that the mask holder is installed obliquely It provides an aligner capable of tilting a substrate including an inclined forming portion.

본 발명에서, 상기 기판 홀더 이동부는 상기 지지플레이트의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과, 상기 기판 홀더의 상단을 관통하여 구비되는 지지축과, 상기 지지축의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더의 측면을 관통하여 형성되는 레버를 포함하여 구성될 수 있다.In the present invention, the substrate holder moving part is formed symmetrically at the edge of the lower end of the support plate and is driven by a cylinder, a support shaft penetrating the upper end of the substrate holder, and one end of the support shaft is fitted. It touches, the other end abuts the end of the moving means, it may be configured to include a lever formed through the side surface of the substrate holder.

여기서, 상기 이동수단의 이동거리는 일측과 타측이 다르게 제어될 수 있다.Here, the moving distance of the moving means may be controlled differently between one side and the other side.

또한, 상기 지지축에는 탄성부재가 형성되며, 상기 탄성부재는 스프링으로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, an elastic member is formed on the support shaft, and the elastic member is preferably formed of a spring.

그리고, 상기 마스크 홀더에는 레버가 이동되었을 때 상기 레버의 하단에서 레버의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단이 더 형성될 수 있고, 상기 고정수단은 실린더 구동될 수 있으며, 상기 고정수단은 각각 다른 길이로 제어될 수 있다.In addition, the mask holder may further include a fixing means capable of fixing the position of the lever at the lower end of the lever when the lever is moved, and the fixing means may be cylinder driven, and the fixing means are each different Can be controlled by length.

한편, 상기 경사 형성부는 길이가 각각 다르게 형성될 수 있다.Meanwhile, the inclined forming portions may have different lengths.

그리고, 상기 마스크 홀더의 상단에는 상기 마스크가 밀리지 않도록 고정시켜 줄 수 있는 밀림방지수단이 더 형성되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the upper end of the mask holder is further provided with a push prevention means capable of fixing the mask so as not to be pushed.

또한, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 챔버의 천장에 설치되는 회전부와, 상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트와 기판이 장착되는 기판 홀더와, 상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부와, 상기 기판이 경사지게 안착되도록 경사가 형성된 마스크가 장착되는 마스크 홀더를 포함하여 구성되는 것을 기술적 요지로 한다.In addition, in order to achieve the above object, in the present invention, in the present invention, a rotation part installed on the ceiling of the chamber, a support plate formed through the rotation part, and a substrate holder on which a substrate is mounted, and the substrate holder installed on the support plate The technical gist of the present invention is to include a substrate holder moving unit rotated by the rotation unit and a mask holder having an inclined mask mounted so that the substrate is inclined to be seated.

본 발명에서 상기 기판 홀더 이동부는 상기 지지플레이트의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과, 상기 기판 홀더의 상단을 관통하여 구비되는 지지축과, 상기 지지축의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더의 측면을 관통하여 형성되는 레버를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.In the present invention, the substrate holder moving part is formed symmetrically on the edge of the lower end of the support plate to drive a cylinder, a support shaft penetrating through the upper end of the substrate holder, and one end abutting the end of the support shaft. , Wherein the other end abuts against the end of the moving means, and comprises a lever formed through a side surface of the substrate holder.

그리고, 상기 지지축에는 탄성부재가 형성되는데 상기 탄성부재는 스프링으로 형성될 수 있다.In addition, an elastic member is formed on the support shaft, and the elastic member may be formed of a spring.

한편, 상기 마스크 홀더에는 레버가 이동되었을 때 상기 레버의 하단에서 레버의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단이 더 형성되는 것이 바람직하다.On the other hand, it is preferable that the mask holder further includes a fixing means capable of fixing the position of the lever at the lower end of the lever when the lever is moved.

아울러, 상기 고정수단은 실린더 구동될 수 있다.In addition, the fixing means may be cylinder driven.

또한, 상기 마스크 홀더의 상단에는 상기 마스크가 밀리지 않도록 고정시켜 줄 수 있는 밀림방지수단이 더 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the upper end of the mask holder is characterized in that it is characterized in that further formed with a push prevention means that can fix the mask so as not to be pushed.

상술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 마스크 홀더의 상단에 경사 형성부를 형성하여 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 함으로써 마스크가 마스크 홀더에 경사지게 안착되고, 마스크에 놓이는 기판 또한 경사진 상태에서 마스크와 기판을 회전시키며 증착물질을 증착시킬 수 있어 기판 패턴에 형성되는 굴곡이나 구멍에도 증착이 되는 효과가 있다.According to the present invention as described above, by forming an inclined portion on the upper end of the mask holder so that the mask holder is installed obliquely, the mask is seated obliquely on the mask holder, and the substrate placed on the mask is also rotated while the mask and the substrate are inclined. Since the evaporation material can be deposited, there is an effect of evaporating even in the bends or holes formed in the substrate pattern.

또한, 증착물질을 증착시키는 공정 중에 두께가 두꺼운 마스크를 사용하는 발생하는 쉐도우(shadow)를 작게 할 수 있으며, 증착 패턴의 간격이 좁은 경우 발생하는 쉐도우(shadow) 또한 작게 할 수 있는 효과가 있다.In addition, during the process of depositing a deposition material, a shadow generated by using a mask having a thick thickness can be reduced, and a shadow generated when the gap between the deposition patterns is narrow can also be reduced.

도 1은 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 나타내는 정면도이다.
도 2 (a)와 (b)는 본 발명의 제1실시예로 마스크 홀더가 경사지도록 설치된 기판 틸팅이 가능한 얼라이너가 작동하는 것을 나타내는 정면도이다.
도 3 (a)와 (b)는 본 발명의 제2실시예로 경사지게 형성된 마스크가 마스크 홀더에 장착된 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 나타내는 정면도이다.1 is a front view showing an aligner capable of tilting a substrate according to the present invention.
2 (a) and (b) are front views showing the operation of the aligner capable of tilting the substrate installed so that the mask holder is inclined according to the first embodiment of the present invention.
3A and 3B are front views showing an aligner capable of tilting a substrate in which a mask formed inclined in a second embodiment of the present invention is mounted on a mask holder.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an aligner capable of tilting a substrate of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 나타내는 정면도이고, 도 2 (a)와 (b)는 본 발명의 제1실시예로 마스크 홀더가 경사지도록 설치된 기판 틸팅이 가능한 얼라이너가 작동하는 것을 나타내는 정면도이며, 도 3 (a)와 (b)는 본 발명의 제2실시예로 경사지게 형성된 마스크가 마스크 홀더에 장착된 기판 틸팅이 가능한 얼라이너를 나타내는 정면도이다.FIG. 1 is a front view showing an aligner capable of tilting a substrate according to the present invention, and FIGS. 2 (a) and (b) show that an aligner capable of tilting a substrate installed so that the mask holder is inclined according to the first embodiment of the present invention operates. 3 (a) and (b) are front views showing an aligner capable of tilting a substrate mounted on a mask holder with a mask formed inclined according to a second embodiment of the present invention.

본 발명은 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부에 의해 마스크 홀더를 경사지게 설치하여, 마스크와 기판이 경사지게 안착된 상태에서 증착물질을 증착하는 공정에서 굴곡이나 구멍이 형성되어 있는 기판에도 굴곡이나 구멍에 증착물질이 증착될 수 있는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너에 관한 것이다.The present invention relates to an aligner capable of tilting a substrate, and more particularly, by installing a mask holder in an inclined manner by an inclined forming portion formed on an upper end of the mask holder, and depositing a deposition material while the mask and the substrate are seated in an inclined manner. The present invention relates to an aligner capable of tilting a substrate in which a deposition material can be deposited on a curved or holed substrate in a process.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 기판 틸팅이 가능한 얼라이너는 챔버의 천장에 설치되는 회전부(100)와, 상기 회전부(100)가 관통하여 형성되는 지지플레이트(200)와, 기판이 장착되는 기판 홀더(300)와, 상기 지지플레이트(200)에 설치되어 상기 기판 홀더(300)를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부(100)에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부(400)와, 마스크가 장착되는 마스크 홀더(500)와, 상기 기판 홀더(300)의 하단 모서리에 형성되고, 상기 마스크 홀더(500)가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더(500)의 상단에 형성되는 경사 형성부(600)를 포함하여 구성된다.As shown in Figure 1, the substrate tiltable aligner of the present invention includes a rotating part 100 installed on the ceiling of a chamber, a support plate 200 formed through the rotating part 100, and a substrate mounted thereon. A substrate holder 300, a substrate holder moving part 400 that is installed on the support plate 200 to move the substrate holder 300 up and down and rotated by the rotating part 100, and a mask are mounted A mask holder 500 to be formed, and an inclined forming portion 600 formed at a lower edge of the substrate holder 300 and formed at an upper end of the mask holder 500 so that the mask holder 500 is installed in an inclined manner. It is composed by

도 2 (a)와 (b)를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에서 기판에 박막을 증착하는 챔버의 천장에 회전부(100)가 설치된다.2 (a) and (b), in the first embodiment of the present invention, a rotating part 100 is installed on the ceiling of a chamber for depositing a thin film on a substrate.

또한, 상기 챔버의 천장에는 상기 회전부(100)가 관통하는 지지플레이트(200)가 형성되는데, 상기 지지플레이트(200)는 상기 회전부(100)를 고정시켜 줄 뿐만 아니라 상기 지지플레이트(200)의 하면 가장자리 양측에는 기판(S)가 장착되는 기판(S) 홀더를 상하로 이동시켜 주고 상기 회전부(100)에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부(400)가 설치된다.In addition, a support plate 200 through which the rotation unit 100 passes is formed on the ceiling of the chamber, and the support plate 200 not only fixes the rotation unit 100, but also the lower surface of the support plate 200. On both sides of the edge, a substrate holder moving unit 400 is installed to move the substrate S holder on which the substrate S is mounted vertically and rotated by the rotation unit 100.

여기서, 상기 기판 홀더 이동부(400)는 상기 지지플레이트(200)의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단(420)과, 상기 기판 홀더(300)의 상단을 관통하여 구비되는 지지축(440)과, 상기 지지축(440)의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단(420)의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더(300)의 측면을 관통하여 형성되는 레버(460)를 포함하여 구성된다.Here, the substrate holder moving part 400 includes a moving means 420 formed symmetrically on the edge of the lower end of the support plate 200 and driven by a cylinder, and a support provided through the upper end of the substrate holder 300 The shaft 440 and a lever 460 that one end abuts to the end of the support shaft 440, the other end abuts to the end of the moving means 420, and penetrates the side surface of the substrate holder 300 ).

상기 기판 홀더 이동부(400)의 작동을 살펴보면 다음과 같다.The operation of the substrate holder moving part 400 is as follows.

상기 기판 홀더(300)의 상단을 관통하여 상기 지지축(440)이 구비되는데 상기 지지축(440)의 끝단에는 상기 기판 홀더(300)의 측면을 관통하여 형성되는 상기 레버(460)의 일단이 맞닿는다.The support shaft 440 is provided through an upper end of the substrate holder 300, and an end of the support shaft 440 has one end of the lever 460 formed through the side surface of the substrate holder 300. Touches.

그리고, 상기 레버(460)의 타단은 상기 지지플레이트(200)에 형성되는 이동수단(420)의 끝단이 맞닿게 된다.In addition, the other end of the lever 460 is brought into contact with the end of the moving means 420 formed on the support plate 200.

이때, 상기 지지플레이트(200)의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되는 상기 이동수단(420)이 실린더 구동하여 상기 레버(460)를 가압하게 되면 상기 지지축(440)을 따라 상기 기판 홀더(300)가 상부로 이동하게 된다.At this time, when the moving means 420 formed symmetrically on the edge of the lower end of the support plate 200 is driven by a cylinder to press the lever 460, the substrate holder 300 along the support shaft 440 Moves to the top.

여기서, 상기 지지축(440)에는 탄성부재가 형성되는데 상기 탄성부재는 스프링(442)으로 형성된다.Here, an elastic member is formed on the support shaft 440, and the elastic member is formed of a spring 442.

한편, 후술할 마스크 홀더(500)가 경사지게 형성되었을 때 경사진 마스크 홀더(500)에 안착된 마스크(M) 위에 기판(S)가 놓일 수 있어야 하는데 상기 기판 홀더(300)가 상기 마스크 홀더(500)와 같은 경사가 형성되도록 상기 이동수단(420)의 이동거리는 일측과 타측이 다르게 제어된다.On the other hand, when the mask holder 500 to be described later is formed to be inclined, the substrate S should be placed on the mask M mounted on the inclined mask holder 500, and the substrate holder 300 is the mask holder 500 ) The moving distance of the moving means 420 is controlled differently from one side to the other so that the same inclination is formed.

아울러, 상기 이동수단(420)에 의해 상기 레버(460)가 이동되었을 때 상기 레버(460)의 하단에서 레버(460)의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단(700)이 상기 마스크 홀더(500)의 가장자리에 더 형성된다. In addition, a fixing means 700 capable of fixing the position of the lever 460 at the lower end of the lever 460 when the lever 460 is moved by the moving means 420 is provided with the mask holder 500 ) Is further formed at the edge of.

그리고, 상기 고정수단(700)은 실린더 구동되는데, 상기 기판 홀더(300)가 기울어진 각도에 따라 양측의 경사가 다르게 형성되는 상기 레버(460)의 기울기에 맞게 상기 고정수단(700)은 각각 다른 길이로 제어된다.In addition, the fixing means 700 is driven by a cylinder, and the fixing means 700 are each different according to the slope of the lever 460 in which the inclination of both sides is different depending on the inclined angle of the substrate holder 300. Controlled by length.

한편, 상기 이동수단(420)은 상기 마스크 홀더(500)에 안착된 상기 마스크(M)에 상기 기판 홀더(300)로 기판(S)가 놓인 뒤에 가장 짧은 길이로 고정되고, 상기 마스크 홀더(500)가 상기 회전부(100)에 의해 회전된다.On the other hand, the moving means 420 is fixed to the shortest length after the substrate S is placed on the mask M mounted on the mask holder 500 by the substrate holder 300, and the mask holder 500 ) Is rotated by the rotation unit 100.

본 발명의 제1실시예에서 상기 기판 홀더(300)의 하부에는 마스크(M)가 장착되는 마스크 홀더(500)가 형성되는데 상기 마스크 홀더(500)가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더(500)의 상단에 경사 형성부(600)가 형성된다.In the first embodiment of the present invention, a mask holder 500 on which a mask M is mounted is formed under the substrate holder 300, and the upper end of the mask holder 500 is installed so that the mask holder 500 is installed at an angle. The inclined forming part 600 is formed in the.

그리고, 상기 경사 형성부(600)는 상기 기판 홀더(300)의 하단 모서리에 연결되어 상기 기판 홀더(300)와 상기 마스크 홀더(500)가 상기 회전부(100)에 의해 동시에 회전하게 된다.In addition, the inclined forming part 600 is connected to the lower edge of the substrate holder 300 so that the substrate holder 300 and the mask holder 500 are rotated simultaneously by the rotation unit 100.

또한, 기판(S)에 형성되는 굴곡이나 구멍의 크기나 깊이에 따라 기판(S)와 마스크(M)의 경사도가 결정되므로 상기 마스크(M)의 경사도에 따라 상기 경사 형성부(600)의 길이는 각각 다르게 형성된다.In addition, since the inclination of the substrate S and the mask M is determined according to the size or depth of the curvature or hole formed in the substrate S, the length of the inclination forming part 600 is determined according to the inclination of the mask M. Are each formed differently.

아울러, 경사진 마스크 홀더(500)에 안착되는 상기 마스크(M)가 밀리지 않도록 고정시켜 주는 밀림방지수단(520)이 상기 마스크 홀더(500)의 상단에 형성된다.In addition, a slip preventing means 520 for fixing the mask M mounted on the inclined mask holder 500 so as not to be pushed is formed on the upper end of the mask holder 500.

본 발명의 제1실시예에서 상기 밀림방지수단(520)은 상기 마스크(M)가 상기 마스크 홀더(500)에 놓였을 때 상기 마스크(M)의 가장자리를 따라 상기 마스크(M)의 두께보다 얇은 두께를 가지도록 상기 마스크 홀더(500)의 상면에 볼록하게 선형으로 형성된다. 하지만, 상기 밀림방지수단(520)은 상기 마스크(M)를 고정해 줄 수 있는 구조라면 어떠한 형태로 형성되어도 상관없다.In the first embodiment of the present invention, when the mask (M) is placed on the mask holder (500), the slip prevention means (520) is thinner than the thickness of the mask (M) along the edge of the mask (M). It is formed in a convex and linear shape on the upper surface of the mask holder 500 to have a thickness. However, the slip preventing means 520 may be formed in any shape as long as it is a structure capable of fixing the mask (M).

도 3 (a)와 (b)에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제2실시예에서는 챔버의 천장에 설치되는 회전부(100)와, 상기 회전부(100)가 관통하여 형성되는 지지플레이트(200)와, 기판이 장착되는 기판 홀더(300)와, 상기 지지플레이트(200)에 설치되어 상기 기판 홀더(300)를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부(100)에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부(400)와, 상기 기판(S)가 경사지게 안착되도록 경사가 형성된 마스크(M)가 장착되는 마스크 홀더(500)를 포함하여 구성된다.3 (a) and (b), in the second embodiment of the present invention, the rotating part 100 installed on the ceiling of the chamber, and the support plate 200 formed through the rotating part 100 Wow, a substrate holder 300 on which a substrate is mounted, and a substrate holder moving unit 400 installed on the support plate 200 to move the substrate holder 300 up and down, and rotated by the rotation unit 100 ), and a mask holder 500 on which a mask M having an inclination formed so that the substrate S is seated in an inclined manner is mounted.

우선, 기판에 박막을 증착하는 챔버의 천장에 회전부(100)가 설치된다.First, the rotating part 100 is installed on the ceiling of a chamber in which a thin film is deposited on a substrate.

그리고, 상기 챔버의 천장에는 상기 회전부(100)가 관통하는 지지플레이트(200)가 형성되는데, 상기 지지플레이트(200)는 상기 회전부(100)를 고정시켜 줄 뿐만 아니라 상기 지지플레이트(200)의 하면 가장자리 양측에는 기판(S)가 장착되는 기판 홀더(300)를 상하로 이동시켜 주고 상기 회전부(100)에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부(400)가 설치된다.In addition, a support plate 200 through which the rotation unit 100 passes is formed on the ceiling of the chamber. The support plate 200 not only fixes the rotation unit 100, but also the lower surface of the support plate 200. On both sides of the edge, a substrate holder moving unit 400 is installed to move the substrate holder 300 on which the substrate S is mounted vertically and rotated by the rotation unit 100.

여기서, 상기 기판 홀더(300) 이동부(400)는 상기 지지플레이트(200)의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단(420)과, 상기 기판 홀더(300)의 상단을 관통하여 구비되는 지지축(440)과, 상기 지지축(440)의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단(420)의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더(300)의 측면을 관통하여 형성되는 레버(460)를 포함하여 구성된다.Here, the substrate holder 300 moving part 400 passes through the moving means 420 formed symmetrically on the edge of the lower end of the support plate 200 and driven by a cylinder, and the upper end of the substrate holder 300 The support shaft 440 provided, one end abuts against the end of the support shaft 440, the other end abuts against the end of the moving means 420, and is formed through the side surface of the substrate holder 300 It is configured to include a lever 460.

상기 기판 홀더(300) 이동부(400)의 작동을 살펴보면 다음과 같다.The operation of the moving part 400 of the substrate holder 300 is as follows.

상기 기판 홀더(300)의 상단을 관통하여 상기 지지축(440)이 구비되는데 상기 지지축(440)의 끝단에는 상기 기판 홀더(300)의 측면을 관통하여 형성되는 상기 레버(460)의 일단이 맞닿는다.The support shaft 440 is provided through an upper end of the substrate holder 300, and an end of the support shaft 440 has one end of the lever 460 formed through the side surface of the substrate holder 300. Touches.

그리고, 상기 레버(460)의 타단은 상기 지지플레이트(200)에 형성되는 이동수단(420)의 끝단이 맞닿게 된다.Further, the other end of the lever 460 is brought into contact with the end of the moving means 420 formed on the support plate 200.

이때, 상기 지지플레이트(200)의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되는 상기 이동수단(420)이 실린더 구동하여 상기 레버(460)를 가압하게 되면 상기 지지축(440)을 따라 상기 기판 홀더(300)가 상부로 이동하게 된다.At this time, when the moving means 420 formed symmetrically on the edge of the lower end of the support plate 200 is driven by a cylinder to press the lever 460, the substrate holder 300 along the support shaft 440 Moves to the top.

여기서, 상기 지지축(440)에는 탄성부재가 형성되는데 상기 탄성부재는 스프링(442)으로 형성된다.Here, an elastic member is formed on the support shaft 440, and the elastic member is formed of a spring 442.

한편, 후술할 상면이 경사진 마스크(M) 위에 기판(S)가 놓일 수 있어야 하는데 상기 기판 홀더(300)가 상기 마스크(M)의 상면과 같은 경사가 형성되도록 상기 이동수단(420)의 이동거리는 일측과 타측이 다르게 제어된다.On the other hand, the substrate (S) must be able to be placed on the mask (M) with an inclined top surface to be described later, but the movement of the moving means (420) so that the substrate holder (300) has the same inclination as the top surface of the mask (M). The distance is controlled differently between one side and the other side.

아울러, 상기 이동수단(420)에 의해 상기 레버(460)가 이동되었을 때 상기 레버(460)의 하단에서 레버(460)의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단(700)이 상기 마스크 홀더(500)의 가장자리에 더 형성된다.In addition, a fixing means 700 capable of fixing the position of the lever 460 at the lower end of the lever 460 when the lever 460 is moved by the moving means 420 is provided with the mask holder 500 ) Is further formed at the edge of.

그리고, 상기 고정수단(700)은 실린더 구동되어 상기 레버(460)의 기울기에 맞게 상기 고정수단(700)이 길이가 조절되어 상기 레버(460)의 하단을 지지해 준다.In addition, the fixing means 700 is cylinder driven so that the length of the fixing means 700 is adjusted according to the slope of the lever 460 to support the lower end of the lever 460.

한편, 상기 이동수단(420)은 상기 마스크 홀더(500)에 안착된 상기 마스크(M)에 상기 기판 홀더(300)로 기판(S)가 놓인 뒤에 가장 짧은 길이로 고정되고, 상기 마스크 홀더(500)가 상기 회전부(100)에 의해 회전된다.On the other hand, the moving means 420 is fixed to the shortest length after the substrate S is placed on the mask M mounted on the mask holder 500 by the substrate holder 300, and the mask holder 500 ) Is rotated by the rotation unit 100.

본 발명의 제2실시예에서 상기 기판 홀더(300)의 하부에는 마스크(M)가 장착되는 마스크 홀더(500)가 형성되고, 상기 마스크 홀더(500)에는 상면에 경사가 형성된 마스크(M)가 안착된다.In the second embodiment of the present invention, a mask holder 500 on which a mask M is mounted is formed under the substrate holder 300, and a mask M having an inclined top surface is formed on the mask holder 500. Is settled.

여기서, 기판(S)에 형성되는 굴곡이나 구멍의 크기나 깊이에 따라 기판(S)와 마스크(M)의 경사도가 결정되어야 하므로 필요한 경사도에 따라 경사도가 다르게 제작된 상기 마스크(M)로 교체하게 된다.Here, the inclination of the substrate (S) and the mask (M) should be determined according to the size or depth of the curvature or hole formed in the substrate (S). Therefore, it is necessary to replace the mask (M) with a different inclination according to the required slope. do.

아울러, 상기 마스크 홀더(500)에 안착되는 상기 마스크(M)가 밀리지 않도록 고정시켜 주는 밀림방지수단(520)이 상기 마스크 홀더(500)의 상단에 형성된다.In addition, a slip preventing means 520 for fixing the mask M mounted on the mask holder 500 so as not to be pushed is formed on the upper end of the mask holder 500.

본 발명의 제2실시예에서 상기 밀림방지수단(520)은 상기 마스크(M)가 상기 마스크 홀더(500)에 놓였을 때 상기 마스크(M)의 가장자리를 따라 상기 마스크(M)의 두께보다 얇은 두께를 가지도록 상기 마스크 홀더(500)의 상면에 볼록하게 선형으로 형성된다. 하지만, 상기 밀림방지수단(520)은 상기 마스크(M)를 고정해 줄 수 있는 구조라면 어떠한 형태로 형성되어도 상관없다.In the second embodiment of the present invention, when the mask (M) is placed on the mask holder (500), the slip prevention means (520) is thinner than the thickness of the mask (M) along the edge of the mask (M). It is formed in a convex and linear shape on the upper surface of the mask holder 500 to have a thickness. However, the slip preventing means 520 may be formed in any shape as long as it is a structure capable of fixing the mask (M).

상술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 마스크 홀더의 상단에 경사 형성부를 형성하여 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 함으로써 마스크가 마스크 홀더에 경사지게 안착되고, 마스크에 놓이는 기판 또한 경사진 상태에서 마스크와 기판을 회전시키며 증착물질을 증착시킬 수 있어 기판 패턴에 형성되는 굴곡이나 구멍에도 증착이 되는 효과가 있다.According to the present invention as described above, by forming an inclined portion on the upper end of the mask holder so that the mask holder is installed obliquely, the mask is seated obliquely on the mask holder, and the substrate placed on the mask is also rotated while the mask and the substrate are inclined. Since the evaporation material can be deposited, there is an effect of evaporating even in the bends or holes formed in the substrate pattern.

또한, 증착물질을 증착시키는 공정 중에 두께가 두꺼운 마스크를 사용하는 발생하는 쉐도우(shadow)를 작게 할 수 있으며, 증착 패턴의 간격이 좁은 경우 발생하는 쉐도우(shadow) 또한 작게 할 수 있는 효과가 있다.In addition, during the process of depositing a deposition material, a shadow generated by using a mask having a thick thickness can be reduced, and a shadow generated when the gap between the deposition patterns is narrow can also be reduced.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 청구범위 기재의 범위 내에 있게 된다.Although the preferred embodiments of the present invention have been illustrated and described above, the present invention is not limited to the specific preferred embodiments described above, and without departing from the gist of the present invention claimed in the claims, in the technical field to which the present invention pertains. Anyone of ordinary skill in the art can implement various modifications, as well as such modifications will be within the scope of the claims.

100 : 회전부 200 : 지지플레이트
300 : 기판 홀더 400 : 기판 홀더 이동부
420 : 이동수단 440 : 지지축
442 : 스프링 460 : 레버
500 : 마스크 홀더 520 : 밀림방지수단
600 : 경사 형성부 700 : 고정수단
S : 기판 M : 마스크100: rotating part 200: support plate
300: substrate holder 400: substrate holder moving part
420: moving means 440: support shaft
442: spring 460: lever
500: mask holder 520: slip prevention means
600: inclined forming part 700: fixing means
S: Substrate M: Mask

Claims (17)

챔버의 천장에 설치되는 회전부;
상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트;
기판이 장착되는 기판 홀더;
상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부;
마스크가 장착되는 마스크 홀더; 및
상기 기판 홀더와 상기 마스크 홀더를 이어주도록, 상기 기판 홀더의 하단 모서리에 형성되고, 상기 마스크 홀더가 경사지게 설치되도록 상기 마스크 홀더의 상단에 형성되는 경사 형성부;
를 포함하고,
상기 기판 홀더 이동부는,
상기 지지플레이트의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과,
상기 기판 홀더의 상단을 관통하여 구비되는 지지축과,
상기 지지축의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더의 측면을 관통하여 형성되는 레버를 포함하고,
상기 이동수단의 이동거리는,
일측과 타측이 다르게 제어되고,
상기 마스크 홀더에는,
상기 레버가 이동되었을 때 상기 레버의 하단에서 상기 레버의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.A rotating part installed on the ceiling of the chamber;
A support plate formed through the rotation part;
A substrate holder on which a substrate is mounted;
A substrate holder moving unit installed on the support plate to move the substrate holder up and down and rotated by the rotation unit;
A mask holder on which a mask is mounted; And
An inclined portion formed at a lower edge of the substrate holder to connect the substrate holder and the mask holder, and formed on an upper end of the mask holder so that the mask holder is installed obliquely;
Including,
The substrate holder moving part,
A moving means formed symmetrically on the edge of the lower end of the support plate and driven by a cylinder,
A support shaft provided through the upper end of the substrate holder,
One end abuts against the end of the support shaft, the other end abuts against the end of the moving means, and includes a lever formed through a side surface of the substrate holder,
The moving distance of the moving means,
One side and the other side are controlled differently,
In the mask holder,
An aligner capable of tilting a substrate, further comprising a fixing means for fixing the position of the lever at a lower end of the lever when the lever is moved. 삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 지지축에는 탄성부재가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method according to claim 1,
An aligner capable of tilting a substrate, wherein an elastic member is formed on the support shaft. 청구항 4에 있어서,
상기 탄성부재는 스프링으로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method of claim 4,
The aligner capable of tilting the substrate, characterized in that the elastic member is formed of a spring. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 고정수단은 실린더 구동되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method according to claim 1,
The fixing means is an aligner capable of tilting the substrate, characterized in that the cylinder is driven. 청구항 1에 있어서,
상기 고정수단은 각각 다른 길이로 제어될 수 있는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method according to claim 1,
The alignment means capable of tilting the substrate, characterized in that each of the fixing means can be controlled to a different length. 청구항 1에 있어서,
상기 경사 형성부는 길이가 각각 다르게 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method according to claim 1,
The aligner capable of tilting the substrate, characterized in that the inclined portion is formed in a different length. 청구항 1에 있어서,
상기 마스크 홀더의 상단에는 상기 마스크가 밀리지 않도록 고정시켜 줄 수 있는 밀림방지수단이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method according to claim 1,
An aligner capable of tilting a substrate, characterized in that further formed at an upper end of the mask holder to prevent the mask from being pushed. 챔버의 천장에 설치되는 회전부;
상기 회전부가 관통하여 형성되는 지지플레이트;
기판이 장착되는 기판 홀더;
상기 지지플레이트에 설치되어 상기 기판 홀더를 상하로 이동시켜 주고, 상기 회전부에 의해 회전되는 기판 홀더 이동부; 및
상기 기판이 경사지게 안착되도록 경사가 형성된 마스크가 장착되는 마스크 홀더;
를 포함하고,
상기 기판 홀더 이동부는
상기 지지플레이트의 하단면 가장자리에 대칭으로 형성되어 실린더 구동되는 이동수단과,
상기 기판 홀더의 상단을 관통하여 구비되는 지지축과,
상기 지지축의 끝단에 일단이 맞닿고, 상기 이동수단의 끝단에 타단이 맞닿으며, 상기 기판 홀더의 측면을 관통하여 형성되는 레버를 포함하고,
상기 마스크 홀더에는
상기 레버가 이동되었을 때 상기 레버의 하단에서 상기 레버의 위치를 고정시켜 줄 수 있는 고정수단이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.A rotating part installed on the ceiling of the chamber;
A support plate formed through the rotation part;
A substrate holder on which a substrate is mounted;
A substrate holder moving unit installed on the support plate to move the substrate holder up and down and rotated by the rotation unit; And
A mask holder in which a mask having an inclination formed so that the substrate is seated in an inclined manner is mounted;
Including,
The substrate holder moving part
A moving means formed symmetrically on the edge of the lower end of the support plate and driven by a cylinder,
A support shaft provided through the upper end of the substrate holder,
One end abuts against the end of the support shaft, the other end abuts against the end of the moving means, and includes a lever formed through a side surface of the substrate holder,
In the mask holder
An aligner capable of tilting a substrate, further comprising a fixing means for fixing the position of the lever at a lower end of the lever when the lever is moved. 삭제delete 청구항 11에 있어서,
상기 지지축에는 탄성부재가 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method of claim 11,
An aligner capable of tilting a substrate, wherein an elastic member is formed on the support shaft. 청구항 13에 있어서,
상기 탄성부재는 스프링으로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method of claim 13,
The aligner capable of tilting the substrate, characterized in that the elastic member is formed of a spring. 삭제delete 청구항 11에 있어서,
상기 고정수단은 실린더 구동되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method of claim 11,
The fixing means is an aligner capable of tilting the substrate, characterized in that the cylinder is driven. 청구항 11에 있어서,
상기 마스크 홀더의 상단에는 상기 마스크가 밀리지 않도록 고정시켜 줄 수 있는 밀림방지수단이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 틸팅이 가능한 얼라이너.The method of claim 11,
An aligner capable of tilting a substrate, characterized in that further formed at an upper end of the mask holder to prevent the mask from being pushed.
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