KR100671657B1 - Device for preventing bend of tray - Google Patents

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Abstract

본 발명은 트레이에 관한 것으로, 입상으로 이송되어 트레이홀더에 의해 고정된 트레이가 입상인 상태가 직속적으로 유지되도록 된 트레이의 휨 방지장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a tray, and more particularly, to an apparatus for preventing warpage of a tray such that a tray fixed by a tray holder maintains a granular state.

본 발명은, 트레이홀더에 체결된 상태에서 입상인 트레이의 테두리부위에 소정의 길이를 갖는 지지부재가 접촉되어 지지되도록된 트레이의 휨방지장치를 제공한다. The present invention provides a warp preventing device for a tray in which a support member having a predetermined length is in contact with and supported by an edge of a granular tray in a state of being fastened to a tray holder.

본 발명에 따르면, 트레이홀더에 체결되어 입상인 상태로 유지되는 트레이의 휘어지는 현상이 방지되고, 트레이의 휨 방지로 인해 기판과 마스크의 정확하고도 정밀한 정렬이 이루어질 수 있어 정렬에 의한 오차가 현저히 저감될 수 있도록 된 것이다. According to the present invention, the bending of the tray which is fastened to the tray holder and maintained in the granular state is prevented, and the prevention of the bending of the tray enables accurate and precise alignment of the substrate and the mask, thereby significantly reducing the error due to the alignment. It would be possible.

발광 소자, 트레이, 휨 방지장치 Light emitting element, tray, warpage prevention device

Description

트레이의 휨 방지장치{Device for preventing bend of tray} Device for preventing bend of tray             

도 1은 본 발명에 따른 진공증착 시스템의 버퍼영역에 증착원이 위치하고 있는 상태를 나타내는 개략도, 1 is a schematic view showing a state where the deposition source is located in the buffer region of the vacuum deposition system according to the present invention,

도 2는 본 발명에 따른 진공증착 시스템의 성막영역에 증착원이 위치하고 있는 상태를 나타내는 개략도,2 is a schematic view showing a state where the deposition source is located in the deposition region of the vacuum deposition system according to the present invention,

도 3은 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 트레이의 휨 방지장치가 개략적으로 도시된 측면도이며, 3 is a side view schematically showing a bending prevention device of a tray according to an embodiment of the present invention,

도 4는 도 1에 도시된 트레이의 휨 방지장치의 사용 상태도이다.4 is a state diagram of use of the warp prevention device of the tray shown in FIG.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

100... 휨 방지장치 102...지지부재,100. Bending prevention device 102 ... Support member,

104...구동원.104 ... Driver.

본 발명은 트레이에 관한 것으로, 보다 상세하게는 트레이의 휨이 방지되도 록 된 발광 소자용 트레이 휨 방지장치에 관한 것이다. The present invention relates to a tray, and more particularly to a tray bending prevention device for a light emitting device to prevent the bending of the tray.

일반적으로, 유기 전계 발광 소자(OLED, Organic light Emitting Device) 등을 포함하는 유기 반도체 소자의 유기 박막은 저분자 유기 물질을 진공 중에서 증발시켜 유기 박막을 형성하거나, 고분자 유기 물질을 용제에 용해한 후, 스핀 코팅, 딥 코팅, 닥터 블레이팅, 잉크젯 프린팅 등의 방법을 이용하여 유기 박막을 형성한다. In general, an organic thin film of an organic semiconductor device including an organic light emitting device (OLED) is formed by evaporating a low molecular organic material in a vacuum to form an organic thin film, or dissolving a high molecular organic material in a solvent, and then spin An organic thin film is formed using a method such as coating, dip coating, doctor blading, inkjet printing, or the like.

이중에서, 특히 진공에서 저분자 유기 물질로 이루어지는 박막을 제작하는 경우에 있어서는 유기 물질을 적정한 위치에 적층시키기 위하여 소정의 패턴이 형성되어 있는 섀도우 마스크가 필요하고, 상기 섀도우 마스크는 섀도우 마스크 프레임에 고정 설치되게 된다. 또한, 유리 기판이 제공되어 상기 유리 기판과 섀도우 마스크는 정렬 및 합착동작을 수행 후 최종적으로 성막 프로세스가 진행되게 된다. 그리고, 성막 프로세스 과정중 저분자 유기 물질은 점형 또는 선형의 유기물 증착원을 이용하여, 패턴에 따라 상기 기판에 증착되어진다. In particular, in the case of manufacturing a thin film made of a low molecular organic material, especially in a vacuum, a shadow mask having a predetermined pattern is formed in order to stack the organic material at an appropriate position, and the shadow mask is fixedly installed on the shadow mask frame. Will be. In addition, a glass substrate is provided such that the glass substrate and the shadow mask are finally aligned after the alignment and bonding operations are performed. In addition, a low molecular weight organic material is deposited on the substrate according to a pattern using a point or linear organic material deposition source during the deposition process.

그리고, 이때 상기 기판 및 마스크가 각각의 기판트레이와 마스크트레이에 고착되고, 이 기판트레이와 마스크트레이의 정렬을 통해 기판과 마스크를 정렬하도록 된 정렬장치가 요구된다.In this case, an alignment apparatus is required in which the substrate and the mask are fixed to the substrate tray and the mask tray, and the substrate and the mask are aligned by aligning the substrate tray and the mask tray.

또한, 기판과 마스크의 입상을 위해 입상의 기판과 마스크가 고착되면서 입상으로 이송되는 트레이가 요구된다. In addition, a tray for transferring the granular substrate and the mask to the granular is required for the granulation of the substrate and the mask.

상기와 같은 요구를 충족시키기 위해 안출된 본 발명은, 트레이홀더에 장착된 상태에서 입상인 트레이의 테두리부위가 지지부재에 의해 지지됨으로 인해, 입상인 상태의 트레이가 휘어지는 현상이 방지되도록 된 트레이 휨 방지장치를 제공함에 그 목적이 있다.
The present invention devised to satisfy the above requirements, the tray bending of the tray in the granular state is prevented because the edge of the granular tray is supported by the support member in the state mounted on the tray holder The object is to provide a prevention device.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 트레이 휨 방지장치는 기판 및 마스크가 고착된 트레이가 입상으로 고정되게 상호 체결되는 트레이홀더;와, 이 트레이홀더에 의해 체결되어 입상인 상태가 유지되는 트레이의 휨이 발생하는 부위가 지지되도록 설치된 지지부재;가 구비되어 이루어진다.Tray bending prevention apparatus according to the present invention for achieving the above object is a tray holder which is fastened to each other fixed to the tray fixed to the substrate and the mask is fixed to the granules, and the granular state is maintained by being fastened by the tray holder It is provided with a; support member is installed so that the portion of the tray bending occurs.

상기 지지부재가 구동원에 의해 신축되도록 이루어진다. The support member is made to be stretched by a drive source.

상기 구동원이 진공챔버의 벽체 내면에 설치된다. The drive source is installed on the inner surface of the wall of the vacuum chamber.

이하, 본 발명에 따른 트레이의 휨 방지장치를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. Hereinafter, an apparatus for preventing bending of a tray according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 진공증착 시스템의 버퍼영역에 증착원이 위치하고 있는 상태를 나타내는 개략도이고, 도 2는 본 발명에 따른 진공증착 시스템의 성막영역에 증착원이 위치하고 있는 상태를 나타내는 개략도이다. 1 is a schematic diagram showing a state where the deposition source is located in the buffer region of the vacuum deposition system according to the present invention, Figure 2 is a schematic diagram showing a state where the deposition source is located in the deposition region of the vacuum deposition system according to the present invention.

도 1을 참조하면, 진공증착 시스템의 진공챔버(10)에는 유기물층을 형성하고자 하는 기판(30)과, 기판(30)의 전방에 위치되는 마스크(40)와, 마스크(40)로부터 소정 간격으로 이격되어 있는 증착원(20)이 설치된다. 마스크(40)와 기판(30)은 얼라인먼트 시스템(미도시)에 의해서 정렬된 상태로 척(50)에 서로 밀착된 상태로 고정된다. Referring to FIG. 1, a vacuum chamber 10 of a vacuum deposition system includes a substrate 30 on which an organic layer is to be formed, a mask 40 positioned in front of the substrate 30, and a predetermined interval from the mask 40. The spaced apart deposition source 20 is installed. The mask 40 and the substrate 30 are fixed in close contact with the chuck 50 in an aligned state by an alignment system (not shown).

마스크(40)는 기판(30)에 형성하고자 하는 유기물층에 대응하는 패턴이 형성되어 있는 패턴형성부(가상선으로 표시됨)와, 마스크 프레임(미도시)에 용접을 통해서 고정되는 고정부로 구성된다. 이때, 진공챔버(10)는 마스크(40) 및 기판(30)의 설치위치에 대응하는 성막영역(B)과 상기 성막영역(B) 이외의 위치에 대응하는 버퍼영역(A)으로 구분된다.The mask 40 includes a pattern forming part (indicated by a virtual line) in which a pattern corresponding to an organic layer to be formed on the substrate 30 is formed, and a fixing part fixed by welding to a mask frame (not shown). . At this time, the vacuum chamber 10 is divided into a film forming area B corresponding to the installation position of the mask 40 and the substrate 30 and a buffer area A corresponding to a position other than the film forming area B.

증착원(20)은 이동수단(미도시)의 작동에 의해서 축회전하는 구동축에 이동가능하게 장착되고, 상기 구동축의 회전방향에 따라서 진공챔버(10) 내에서 수직 상하방향으로 이동한다. The deposition source 20 is movably mounted to a drive shaft that is axially rotated by an operation of a moving means (not shown), and moves vertically in the vacuum chamber 10 along the rotational direction of the drive shaft.

한편, 도 3은 본 발명에 따른 트레이의 휨 방지장치가 개략적으로 도시된 측면도이고, 도 4는 도 2에 도시된 방지장치의 사용 상태가 도시된 측면도이다. On the other hand, Figure 3 is a side view schematically showing the bending prevention device of the tray according to the present invention, Figure 4 is a side view showing a state of use of the prevention device shown in FIG.

본 발명에 따른 트레이 휨 방지장치(100)는 트레이(10)가 고정되면서 입상이 유지되도록 트레이와 체결되는 트레이홀더(12)와, 이 트레이홀더에 의해 체결되어 입상인 상태가 유지되는 트레이의 휨이 발생하는 부위가 지지되도록 설치된 지지부재(102)가 구비되어 이루어진다.Tray bending prevention apparatus 100 according to the present invention is a tray holder 12 is fastened to the tray so that the granules are maintained while the tray 10 is fixed, and the bending of the tray is fastened by the tray holder to maintain the granular state The support member 102 provided to support the generated portion is provided.

상기 트레이홀더(12)에는 돌출 형성된 체결아암(12a)을 갖는 홀더플레이트(12b)가 포함되어 이루어진다. 또한, 이 트레이홀더(12)는 별도의 구동원(20)에 의해 왕복이동되게 설치된다.The tray holder 12 includes a holder plate 12b having a protruding fastening arm 12a. In addition, the tray holder 12 is installed to reciprocate by a separate drive source 20.

상기 트레이홀더(12)는 입상으로 이송되어진 트레이(10)와 상호 체결되고, 이 체결은 상기 홀더플레이트(12b)의 체결아암(12a)과 트레이(10)에 형성된 결합홀(10a)에 삽입되어 결합됨으로써 이루어진다. The tray holder 12 is mutually fastened with the tray 10 transported in a granular shape, and the fastening is inserted into the fastening arm 12a of the holder plate 12b and the coupling hole 10a formed in the tray 10. By combining.

상기 지지부재(102)는 진공챔버 내에 입상으로 배치된 트레이(10)의 테두리 부위에 트레이(10)의 일면과 접촉되도록 설치된다. The support member 102 is installed to be in contact with one surface of the tray 10 at the edge portion of the tray 10 disposed granularly in the vacuum chamber.

상기 지지부재(102)는 트레이(10)의 트레이홀더(12)측 일면이면서 테두리 부위에 접촉하게 된다. The support member 102 is in contact with the edge portion of the tray holder 12 side of the tray 10.

이때, 지지부재(102)와 트레이(10)의 접촉 위치는 트레이(10)의 최외곽에 형성됨이 바람직하다. 이는 트레이(10)의 휨정도가 최대인 부위가 최외곽이기 때문이다. At this time, the contact position of the support member 102 and the tray 10 is preferably formed in the outermost of the tray (10). This is because the portion where the bending degree of the tray 10 is maximum is outermost.

한편, 상기 지지부재(102)는 일측 선단부가 트레이(10)와 접촉되는 진공챔버 내부에 위치되고, 타 선단부는 대기중에 노출되도록 배치될 수도 있다. On the other hand, the support member 102 may be disposed in the vacuum chamber in which one end portion is in contact with the tray 10, the other end portion is exposed to the atmosphere.

또한, 상기 트레이 휨 방지장치(100)은 상기 지지부재(102)의 길이가 신축을 위한 구동원(104)이 더 포함되어 이루어진다. In addition, the tray bending prevention device 100 is further made of a drive source 104 for stretching the length of the support member 102.

상기 구동원(104)은 모터, 실린더 등이 포함되어 상기 지지부재(102)가 돌출 또는 함몰되면서 상기 트레이(10)의 일면과 선택적으로 접촉되도록 이루어진다.The driving source 104 includes a motor, a cylinder, and the like, and the support member 102 is selectively contacted with one surface of the tray 10 as the support member 102 protrudes or recesses.

상기 구동원(104)은 지지부재(104)의 길이를 가변시키기 위한 것으로, 진공챔버의 벽체(110) 내면에 부착된다. The drive source 104 is for varying the length of the support member 104, is attached to the inner surface of the wall 110 of the vacuum chamber.

또한, 상기 구동원(104)은 지지부재(102)의 형상 및 위치 등에 의해 진공챔버의 내부에 위치될 수도 있고, 진공챔버의 외부에 위치될 수도 있다. In addition, the driving source 104 may be located inside the vacuum chamber or may be located outside the vacuum chamber by the shape and position of the support member 102.

이하, 본 발명에 따른 트레이의 휨 방지장치의 작용을 간략히 설명한다.Hereinafter, the operation of the warp preventing device of the tray according to the present invention will be briefly described.

트레이홀더(12)에 트레이(10)가 체결되어 입상이 유지되면, 진공챔버의 벽체(110) 내면에 부착된 구동원(104)에 의해 그 길이가 신축되는 지지부재(102)의 일단이 트레이(10)의 일면과 접촉되고, 이 지지부재(102)가 트레이(10)에 제공하는 척력에 의해 지속적인 입상인 상태로 놓여진 트레이(10)에 발생되는 휨 현상이 트레이(10)와 접촉되는 지지부재(102)에 의해 저지된다. When the tray 10 is fastened to the tray holder 12 and the granular shape is maintained, one end of the support member 102 whose length is stretched by the drive source 104 attached to the inner surface of the wall 110 of the vacuum chamber is provided with a tray ( The support member in contact with the tray 10 is brought into contact with one surface of the tray 10, and the bending phenomenon generated in the tray 10 placed in a continuous granular state by the repulsive force provided by the support member 102 to the tray 10. Is blocked by 102.

또한, 상기 지지부재(102)의 길이가 가변될 경우, 별도의 구동원(104)에 의해 지지부재(102)의 길이가 신장되면서 트레이(10)의 면에 접촉되어 트레이(10)가 지지된다.In addition, when the length of the support member 102 is variable, the length of the support member 102 is extended by a separate drive source 104 to contact the surface of the tray 10 to support the tray 10.

상기 지지부재(102)의 길이 가변은, 트레이(10)와 트레이홀더(12)의 체결된 상태에서 트레이(10)의 위치가 변할 수 있어 이에 대응하고자 함이고, 또한, 트레이(10)가 휘어지는 현상이 최소화하는 입상의 상태가 유지되도록 하기 위해 지지부재(102)로부터 제공되는 척력이 트레이(10)의 체결위치 및 입상의 상태에 부합되기 위함이다. The variable length of the support member 102 is to correspond to the position of the tray 10 can be changed in the state in which the tray 10 and the tray holder 12 is fastened, and the tray 10 is bent The repulsive force provided from the support member 102 is adapted to match the fastening position of the tray 10 and the granular state in order to maintain the granular state to minimize the phenomenon.

상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 트레이홀더에 체결되어 입상인 상태로 유지되는 트레이의 휘어지는 현상이 방지되고, 트레이의 휨 방지로 인해 기판과 마스크의 정확하고도 정밀한 정렬이 이루어질 수 있어 정렬에 의한 오차가 현저히 저감될 수 있는 효과가 있다.
According to the present invention configured as described above, the bending phenomenon of the tray which is fastened to the tray holder and maintained in the granular state is prevented, and due to the prevention of the warpage of the tray, accurate and precise alignment of the substrate and the mask can be made, which is caused by alignment. There is an effect that the error can be significantly reduced.

Claims (4)

기판 및 마스크가 고착된 트레이가 입상으로 고정되게 상호 체결되는 트레이홀더;A tray holder to which the tray on which the substrate and the mask are fixed are fixed to each other in a granular manner; 이 트레이홀더에 의해 체결되어 입상인 상태가 유지되는 트레이의 휨이 발생하는 부위가 지지되도록 설치된 지지부재;A support member fastened by the tray holder and installed to support a portion where warpage of the tray is maintained in a granular state; 가 구비되어 이루어진 트레이의 휨 방지장치.Warp prevention device of the tray is provided. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지부재가 구동원에 의해 신축되도록 이루어진 것을 특징으로 하는 트레이의 휨 방지장치.The bending member of the tray, characterized in that the support member is made to stretch by a drive source. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 구동원이 진공챔버의 벽체 내면에 설치된 것을 특징으로 하는 트레이의 휨 방지장치.And a drive source is provided on the inner surface of the wall of the vacuum chamber. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지부재는 트레이의 일면과 접촉되는 것을 특징으로 하는 트레이의 휨 방지장치.The support member is a bending prevention device of the tray, characterized in that in contact with the one surface of the tray.
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