KR102195144B1 - Conductive paste and substrate with conductive film - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 도전성이 양호하고, 내구성이 우수한 도전막을 형성할 수 있는 도전성 페이스트와, 그와 같은 도전성 페이스트를 사용하여 형성된 도전막을 구비한 기재를 제공한다. 본 발명은, (A) 체적 고유 저항값이 10μΩㆍ㎝ 이하이고 평균 입경이 1 내지 15㎛인 금속 입자와, (B) 평균 입경이 0.1 내지 3㎛이고 산화 환원 전위가 -440㎷ 내지 320㎷(SHE)인 비금속 입자와, (C) 바인더 수지를 함유하는 도전성 페이스트이며, 상기 (A) 성분의 금속 입자 100질량부에 대하여, 상기 (B) 성분의 비금속 입자를 0.01 내지 3질량부 함유하는 것을 특징으로 하는 도전성 페이스트이다.The present invention provides a substrate provided with a conductive paste capable of forming a conductive film having good conductivity and excellent durability, and a conductive film formed using such a conductive paste. In the present invention, (A) metal particles having a volume resistivity of 10 μΩ·cm or less and an average particle diameter of 1 to 15 μm, and (B) an average particle diameter of 0.1 to 3 μm and a redox potential of -440 mV to 320 mV It is a conductive paste containing (SHE) non-metallic particles and (C) a binder resin, and contains 0.01 to 3 parts by mass of the non-metallic particles of the (B) component based on 100 parts by mass of the metal particles of the component (A). It is a conductive paste characterized in that.

Description

도전성 페이스트 및 도전막을 구비한 기재 {CONDUCTIVE PASTE AND SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE FILM}Substrate with conductive paste and conductive film {CONDUCTIVE PASTE AND SUBSTRATE WITH CONDUCTIVE FILM}

본 발명은, 도전성 페이스트 및 이것을 사용한 도전막을 구비한 기재에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate provided with a conductive paste and a conductive film using the same.

종래로부터, 전자 부품이나 프린트 배선 기판 등의 배선 도체의 형성에, 도전성이 높은 금속 입자를 함유하는 도전성 페이스트를 사용하는 방법이 알려져 있다. 이 중, 프린트 배선 기판의 제조는, 절연 기재 상에 도전성 페이스트를 원하는 패턴 형상으로 도포하고 경화하여, 배선 패턴을 이루는 도전막을 형성하여 행해지고 있다.Conventionally, a method of using a conductive paste containing metal particles having high conductivity has been known to form wiring conductors such as electronic components and printed wiring boards. Among them, the production of a printed wiring board is performed by applying a conductive paste on an insulating substrate in a desired pattern shape and curing to form a conductive film forming a wiring pattern.

상기 목적으로 사용되는 도전성 페이스트가 구비해야 할 점은, (1) 양호한 도전성을 갖는 것, (2) 스크린 인쇄, 요판 인쇄가 용이한 것, (3) 절연 기체 상에의 도막의 밀착성이 양호한 것, (4) 세선 회로를 형성할 수 있는 것 등이다.The conductive paste used for the above purpose must have (1) good conductivity, (2) easy screen printing, intaglio printing, and (3) good adhesion of the coating film on the insulating substrate. , (4) thin wire circuits, etc.

이들을 만족시키기 위해서, 도전성 페이스트는 구리나 은과 같은 고유 저항값이 낮은 금속 입자, 바인더 수지, 분산제로서의 포화 지방산 또는 불포화 지방산, 혹은 이들의 금속염을 소요량 함유한다(특허문헌 1 참조).In order to satisfy these, the conductive paste contains a required amount of metal particles having a low specific resistance value such as copper or silver, a binder resin, a saturated fatty acid or an unsaturated fatty acid as a dispersant, or a metal salt thereof (refer to Patent Document 1).

상기한 구성의 도전성 페이스트에 의해 도전막을 형성함으로써, 양호한 도전성이나 밀착성을 확보할 수는 있다. 그러나, 초기의 도전성은 양호하지만, 내산화성이 약하기 때문에 도전 내구성이 부족하다. 그 때문에, 25℃의 대기 중에 30일간 방치하는 것만으로 비저항이 50%나 상승하는 바와 같이 경시적으로 도전성이 손상된다는 문제점이 있었다.By forming a conductive film from the conductive paste having the above-described configuration, good conductivity and adhesion can be ensured. However, although the initial conductivity is good, since the oxidation resistance is weak, the conductivity durability is insufficient. Therefore, there is a problem that the conductivity is impaired over time as the specific resistance increases by as much as 50% just by leaving it in the air at 25°C for 30 days.

내산화성을 향상시킬 목적으로 구리나 은과 같은 고유 저항값이 낮은 금속 입자를 니켈로 코팅하는 것(특허문헌 2 참조)이나, 니켈 분말을 첨가제로서 페이스트에 첨가하는 것이 제안되어 있다(특허문헌 3 참조).For the purpose of improving oxidation resistance, it has been proposed to coat metal particles with low specific resistance values such as copper or silver with nickel (see Patent Document 2) or to add nickel powder to the paste as an additive (Patent Document 3). Reference).

그러나, 특허문헌 2에 기재된 도전성 페이스트는, 금속 입자의 표면에 니켈을 무전해 도금으로 얇게 코팅한다는 복잡한 프로세스가 존재하기 때문에 고비용으로 된다는 문제가 있다. 또한, 구리나 은과 비교하여 니켈은 비금속(卑金屬)이기 때문에, 니켈의 부분에서 선택적으로 산화가 진행된다. 이 결과로서, 금속 입자 표면에는 산화된 니켈이 존재하게 되어, 도전성이 손상되어 버린다는 문제가 있다. 또한, 특허문헌 3에 기재된 도전성 페이스트는, 고유 저항값이 낮은 은 입자에 입경이 큰 니켈 입자를 첨가하고 있기 때문에 도전 저해로 되어, 은 입자만의 경우와 비교하여 20 내지 65% 정도, 도전성이 악화되어 버린다는 문제를 갖고 있다.However, the conductive paste described in Patent Literature 2 has a problem of being expensive because there is a complicated process of thinly coating nickel on the surface of metal particles by electroless plating. Further, compared to copper and silver, since nickel is a non-metal, oxidation proceeds selectively in the nickel portion. As a result of this, there is a problem that oxidized nickel is present on the surface of the metal particles, and the conductivity is impaired. In addition, the conductive paste described in Patent Literature 3 inhibits conductivity because nickel particles having a large particle diameter are added to silver particles having a low resistivity value, and the conductivity is about 20 to 65% compared to the case of only silver particles. It has a problem of getting worse.

일본 특허 공개 제2007-184143호 공보Japanese Patent Publication No. 2007-184143 일본 특허 공개 제2004-162164호 공보Japanese Patent Publication No. 2004-162164 일본 특허 공개 평9-35530호 공보Japanese Patent Laid-Open No. Hei 9-35530

따라서, 본 발명은 스크린 인쇄로 전자 회로를 형성한 경우에 높은 도전성을 가지면서, 우수한 내구성을 갖는 경화막이 형성 가능한 도전 페이스트를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a conductive paste capable of forming a cured film having high conductivity and excellent durability when an electronic circuit is formed by screen printing.

상기한 목적을 달성하기 위해서, 본 발명은, (A) 체적 고유 저항값이 10μΩㆍ㎝ 이하이고 평균 입경이 1 내지 15㎛인 금속 입자와, (B) 평균 입경이 0.1 내지 3㎛이고 산화 환원 전위가 -440㎷ 내지 320㎷(SHE)인 비금속 입자와, (C) 바인더 수지를 함유하는 도전성 페이스트이며, 상기 (A) 성분의 금속 입자 100질량부에 대하여, 상기 (B) 성분의 비금속 입자를 0.01 내지 3질량부 함유하는 것을 특징으로 하는 도전성 페이스트를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides, (A) metal particles having a volume resistivity of 10 μΩ·cm or less and an average particle diameter of 1 to 15 μm, and (B) an average particle diameter of 0.1 to 3 μm and oxidation-reduction Non-metallic particles having a potential of -440 mV to 320 mV (SHE), and (C) a conductive paste containing a binder resin, based on 100 parts by mass of the metal particles of the component (A), the non-metal particles of the component (B) It provides a conductive paste characterized in that it contains 0.01 to 3 parts by mass.

본 발명의 도전성 페이스트에 있어서, ((B) 성분의 비금속 입자의 평균 입경)/((A) 성분의 금속 입자의 평균 입경)의 값이 0.01 내지 1.0인 것이 바람직하다.In the conductive paste of the present invention, the value of (average particle diameter of non-metallic particles of component (B))/(average particle diameter of metal particles of (A) component) is preferably 0.01 to 1.0.

본 발명의 도전성 페이스트에 있어서, 상기 (A) 성분의 금속 입자는, 평균 입경이 1 내지 15㎛인 구리 입자 또는 은 입자인 것이 바람직하다.In the conductive paste of the present invention, the metal particles of the component (A) are preferably copper particles or silver particles having an average particle diameter of 1 to 15 µm.

본 발명의 도전성 페이스트에 있어서, 상기 (C) 성분의 바인더 수지는 포름알데히드를 1성분으로 하는 열경화성 수지를 포함하는 수지가 바람직하고, 페놀 수지, 멜라민 수지, 크실렌 수지 및 요소 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것이 더욱 바람직하다.In the conductive paste of the present invention, the binder resin of the component (C) is preferably a resin containing a thermosetting resin containing formaldehyde as one component, and is selected from the group consisting of a phenol resin, a melamine resin, a xylene resin, and a urea resin. It is more preferable that it is more than one type.

본 발명의 도전성 페이스트에 있어서, 상기 (B) 성분의 비금속 입자가 니켈, 주석, 비스무트, 철로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하다.In the conductive paste of the present invention, it is preferable that the non-metallic particles of the component (B) be at least one selected from the group consisting of nickel, tin, bismuth, and iron.

또한, 본 발명은, 상기한 본 발명의 도전성 페이스트를 도포하고 경화시켜 이루어지는 도전막을 기재 상에 갖는 것을 특징으로 하는, 도전막을 구비한 기재를 제공한다.Further, the present invention provides a substrate with a conductive film, characterized in that the conductive film formed by coating and curing the conductive paste of the present invention described above is provided on the substrate.

본 발명의 도전 페이스트에 의하면, 높은 도전성을 가지면서, 도전 내구성이 우수한 경화막을 얻을 수 있다. 구체적으로는, 초기의 비저항이 30μΩ㎝ 이하이고, 후술하는 실시예에 기재된 수순에 따라서 측정되는 내구성이 고온 고습 시험 후에서의 저항값의 변화(증가)량이 15% 이하이다.According to the conductive paste of the present invention, a cured film having high conductivity and excellent conductive durability can be obtained. Specifically, the initial specific resistance is 30 µΩcm or less, and the durability measured according to the procedure described in Examples to be described later is 15% or less in the amount of change (increase) of the resistance value after the high temperature and high humidity test.

또한, 이와 같은 도전 페이스트를 사용함으로써, 도전성이 우수하고, 사용 시의 환경에 의한 도전성의 악화가 억제된 신뢰성이 높은 도전막을 구비한 기재를 얻을 수 있다. 이와 같이 신뢰성이 높은 도전막은 고도의 내구성이 요구되는 자동차 부품 용도 등에 적합하다.In addition, by using such a conductive paste, it is possible to obtain a substrate having a highly reliable conductive film having excellent conductivity and suppressing deterioration of conductivity due to the environment during use. Such a highly reliable conductive film is suitable for use in automobile parts requiring high durability.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 설명에 한정하여 해석되는 것은 아니다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described. In addition, this invention is limited to the following description and is not interpreted.

<도전성 페이스트> <Conductive paste>

본 발명의 도전성 페이스트는, (A) 체적 고유 저항값이 10μΩㆍ㎝ 이하이고 평균 입경이 1 내지 15㎛인 금속 입자와, (B) 평균 입경이 0.1 내지 3㎛이고 산화 환원 전위가 -440㎷ 내지 320㎷(SHE)인 비금속 입자와, (C) 바인더 수지를 함유하는 도전성 페이스트이며, (A) 성분의 금속 입자 100질량부에 대하여, (B) 성분의 비금속 입자를 0.01 내지 3질량부 함유하는 것을 특징으로 한다.The conductive paste of the present invention comprises (A) metal particles having a volume resistivity of 10 μΩ·cm or less and an average particle diameter of 1 to 15 μm, and (B) an average particle diameter of 0.1 to 3 μm and an oxidation-reduction potential of -440 mV. It is a conductive paste containing non-metallic particles of to 320 mV (SHE) and (C) a binder resin, and contains 0.01 to 3 parts by mass of the non-metallic particles of the component (B) with respect to 100 parts by mass of the metal particles of the component (A). Characterized in that.

이하, 도전성 페이스트를 구성하는 각 성분에 대하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, each component constituting the conductive paste will be described in detail.

(A) 금속 입자 (A) metal particles

(A) 성분의 금속 입자는 도전성 페이스트의 도전 성분이다.The metal particles of the component (A) are a conductive component of the conductive paste.

(A) 성분의 금속 입자는 도전성이 양호한 것이 요구된다. 본 발명에서는, 체적 고유 저항값이 10Ωㆍ㎝ 이하인 금속 입자를 사용한다.The metal particles of the component (A) are required to have good conductivity. In the present invention, metal particles having a volume resistivity value of 10 Ω·cm or less are used.

이것을 만족시키는 금속으로서는 금, 은, 구리를 들 수 있다. 이들 중에서도, 은, 구리가 저항값의 낮음, 입수 용이성 등의 이유로부터 바람직하고, 마이그레이션 현상이 일어나기 어려운 것으로부터 구리가 특히 바람직하다.Metals that satisfy this may include gold, silver, and copper. Among these, silver and copper are preferable for reasons such as low resistance value and easy availability, and copper is particularly preferable because migration is difficult to occur.

(A) 성분의 금속 입자는, 후술하는 정의에 의한 입자 직경의 평균값, 즉, 평균 입경이 1 내지 15㎛이다.The metal particles of the component (A) have an average value of particle diameters defined below, that is, an average particle diameter of 1 to 15 µm.

본 명세서에 있어서의 금속 입자의 입자 직경은, 주사형 전자 현미경(이하, 「SEM」이라 기재함)상(像) 중에서 무작위로 선택한 100개의 금속 입자의 Feret 직경을 측정하고, 각 금속 입자에 있어서의 Feret 직경이 최댓값으로 되는 직경 방향을 장축으로 하고, 상기 장축에 직교하는 축을 단축으로 할 때, 상기 장축 방향의 Feret 직경과, 상기 단축 방향의 Feret 직경의 평균값((장축 방향의 Feret 직경+단축 방향의 Feret 직경)/2)으로서 산출된다.The particle diameter of the metal particles in the present specification is measured by measuring the Feret diameter of 100 metal particles randomly selected from a scanning electron microscope (hereinafter referred to as ``SEM'') image, and in each metal particle When the radial direction at which the maximum Feret diameter of is the major axis and the axis orthogonal to the major axis is the minor axis, the average value of the Feret diameter in the major axis direction and the Feret diameter in the minor axis direction ((Feret diameter in the major axis + short axis It is calculated as the Feret diameter in the direction)/2).

또한, 상기한 금속 입자의 입자 직경이란, 금속 입자의 1차 입자 직경이다.In addition, the particle diameter of the said metal particle is the primary particle diameter of a metal particle.

본 명세서에 있어서의 금속 입자의 입자 직경의 평균값(평균 입경)은, 상기에 의해 산출된 금속 입자의 입자 직경을 평균(수평균)한 것이다.The average value (average particle diameter) of the particle diameter of the metal particles in the present specification is the average (number average) of the particle diameters of the metal particles calculated as described above.

(A) 성분의 금속 입자의 입자 직경의 평균값(평균 입경)이, 상기의 범위를 만족시키고 있음으로써, 금속 입자를 포함하는 도전성 페이스트의 유동 특성이 양호해져, 상기 도전성 페이스트에 의해 미세 배선을 제작하기 쉽다. 금속 입자의 입자 직경의 평균값(평균 입경)이 1㎛ 미만이면, 도전성 페이스트로 하였을 때, 충분한 유동 특성이 얻어지지 않는다. 한편, 금속 입자의 입자 직경의 평균값(평균 입경)이 15㎛를 초과하면, 얻어지는 도전성 페이스트에 의한, 미세 배선의 제작이 곤란해질 우려가 있다.When the average value (average particle diameter) of the particle diameter of the metal particles of the component (A) satisfies the above range, the flow characteristics of the conductive paste containing the metal particles are improved, and fine wiring is produced from the conductive paste. easy to do. When the average value (average particle diameter) of the particle diameters of the metal particles is less than 1 µm, sufficient flow characteristics cannot be obtained when using a conductive paste. On the other hand, when the average value (average particle diameter) of the particle diameters of the metal particles exceeds 15 µm, there is a concern that it may become difficult to manufacture fine wiring using the obtained conductive paste.

(A) 성분의 금속 입자의 입자 직경의 평균값(평균 입경)은 1 내지 15㎛인 것이 바람직하고, 2 내지 8㎛인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 1-15 micrometers, and, as for the average value (average particle diameter) of the particle diameter of the metal particle of (A) component, it is more preferable that it is 2-8 micrometers.

또한, (A) 성분의 금속 입자로서는, 금속 입자 표면을 환원 처리한 「표면 개질 금속 입자」를 사용해도 된다. 표면 개질 금속 입자는, 환원 처리에 의해, 입자 표면의 산소 농도가 낮아지기 때문에, 금속 입자간의 접촉 저항이 보다 작아져, 얻어지는 도전막의 도전성이 향상된다.Further, as the metal particles of the component (A), "surface-modified metal particles" obtained by reducing the surface of the metal particles may be used. In the surface-modified metal particles, since the oxygen concentration on the surface of the particles is lowered by the reduction treatment, the contact resistance between the metal particles becomes smaller, and the conductivity of the resulting conductive film is improved.

본 발명의 도전성 페이스트에 있어서, (A) 성분의 금속 입자의 배합량은, 도전성 페이스트의 전체 성분의 합계 100질량부에 대하여, 75 내지 95질량부인 것이 바람직하고, 80 내지 90질량부가 보다 바람직하다. 75질량부 이상이면, 도전성 페이스트를 사용하여 형성되는 도전막의 도전성이 양호해진다. 95질량부 이하이면, 금속 입자와 바인더 수지가 결합하는 부분이 증가되어 경화막의 경도가 향상됨과 함께 도전성 페이스트의 유동 특성이 양호해진다.In the conductive paste of the present invention, the compounding amount of the metal particles of the component (A) is preferably 75 to 95 parts by mass, and more preferably 80 to 90 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total of all components of the conductive paste. If it is 75 parts by mass or more, the conductivity of the conductive film formed using the conductive paste becomes good. If it is 95 parts by mass or less, the portion where the metal particles and the binder resin are bonded increases, the hardness of the cured film is improved, and the flow characteristics of the conductive paste are improved.

(B) 비금속 입자 (B) non-metallic particles

(B) 성분의 비금속 입자는 내구성의 향상에 기여하는 성분이다. (B) 성분의 비금속 입자에 사용되는 비금속은, (A) 성분의 금속보다 산화되기 쉬운 금속이면서, 공기 중의 산소에 의한 자발적인 산화는 진행되기 어려운 금속이다. 이 비금속의 산화 환원 전위는, 안정된 금속 이온이 수용액 중에서 금속으로 환원되는 25℃에서의 표준 전극 전위(산화 환원 전위)를 기준으로 하여, -440mV 내지 320㎷(SHE(표준 수소 전극))의 범위에 있다.The nonmetallic particles of the component (B) are components that contribute to the improvement of durability. The non-metal used for the non-metallic particles of the component (B) is a metal that is more susceptible to oxidation than the metal of the component (A), and is a metal that is less likely to undergo spontaneous oxidation by oxygen in the air. The redox potential of this non-metal is in the range of -440 mV to 320 mV (SHE (standard hydrogen electrode)) based on the standard electrode potential (oxidation-reduction potential) at 25°C at which stable metal ions are reduced to metal in aqueous solution. Is in.

구체적인 금속으로서는 니켈(산화 환원 전위 -257㎷(SHE)), 주석(산화 환원 전위 -140㎷(SHE)), 비스무트(산화 환원 전위 317㎷(SHE)), 철(산화 환원 전위 -440㎷(SHE)) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 니켈, 주석이 저항값의 낮음, 입수 용이성 등의 이유로부터 바람직하고, 표면 산화막의 안정성의 점에서 니켈이 특히 바람직하다.Specific metals include nickel (oxidation-reduction potential -257 mV (SHE)), tin (oxidation-reduction potential -140 mV (SHE)), bismuth (oxidation-reduction potential 317 mV (SHE)), iron (oxidation-reduction potential -440 mV ( SHE)) etc. are mentioned. Among these, nickel and tin are preferable for reasons such as low resistance value and easy availability, and nickel is particularly preferable from the viewpoint of stability of the surface oxide film.

(B) 성분의 비금속 입자는, 도전성을 주로 발휘하는 (A) 성분의 금속 입자 사이에 존재하고, (A) 성분의 금속 입자와의 상호 작용에 있어서, (B) 성분의 비금속은 (A) 성분의 금속에 비해 비금속이기 때문에, (A) 성분의 금속 입자가 산화되는 환경에 있는 경우에 희생 양극으로서 작용하여, (A) 성분의 금속 입자의 산화를 억제할 수 있다고 생각된다. 한편, 비교적 고유 저항값이 높은 (B) 성분의 비금속 입자는, 가열 경화 시에, 고유 저항값이 낮은 금속 입자((A) 성분의 입자)끼리의 계면에는 거의 존재하지 않기 때문에, 금속 입자간에서의 도통이 저해되는 일이 없다.The non-metallic particles of the component (B) exist between the metal particles of the component (A) that mainly exhibit electrical conductivity, and in the interaction with the metal particles of the component (A), the nonmetal of the component (B) is (A) Since it is a non-metal compared to the metal of the component, it is considered that it acts as a sacrificial anode when the metal particles of the component (A) are in an oxidized environment, and the oxidation of the metal particles of the component (A) can be suppressed. On the other hand, the non-metallic particles of the component (B) having a relatively high resistivity value hardly exist at the interface between the metal particles (particles of the component (A)) having a low resistivity during heat curing. The conduction of Esau is not hindered.

(B) 성분의 비금속 입자는, 전술한 정의에 의한 입자 직경의 평균값, 즉, 평균 입경이 0.1 내지 3㎛이다.The nonmetallic particles of the component (B) have an average value of the particle diameters defined above, that is, an average particle diameter of 0.1 to 3 µm.

(B) 성분의 비금속 입자의 입자 직경의 평균값(평균 입경)이, 상기의 범위를 만족시키고 있음으로써, 비금속 입자를 포함하는 도전성 페이스트의 유동 특성이 양호해져, 상기 도전성 페이스트에 의해 미세 배선을 제작하기 쉽다. 비금속 입자의 입자 직경의 평균값(평균 입경)이 0.1㎛ 미만이면, 도전성 페이스트로 하였을 때, 유동 특성이 얻어지기 어려워짐과 함께 자발적인 산화가 진행되어 내구성의 향상에 기여하기 어려워진다. 한편, 비금속 입자의 입자 직경의 평균값(평균 입경)이 3㎛를 초과하면, 도전 내구성의 향상에 기여하기 어려워질 우려가 있다.When the average value (average particle diameter) of the particle diameter of the non-metallic particles of the component (B) satisfies the above range, the flow characteristics of the conductive paste containing the non-metallic particles are improved, and fine wiring is produced from the conductive paste. easy to do. If the average value (average particle diameter) of the particle diameter of the non-metallic particles is less than 0.1 µm, when a conductive paste is formed, flow characteristics become difficult to obtain, and spontaneous oxidation proceeds, making it difficult to contribute to the improvement of durability. On the other hand, when the average value (average particle diameter) of the particle diameter of the non-metallic particles exceeds 3 μm, there is a fear that it becomes difficult to contribute to the improvement of the conductive durability.

(B) 성분의 비금속 입자의 입자 직경의 평균값(평균 입경)은 0.1 내지 3㎛인 것이 바람직하고, 0.1 내지 2㎛인 것이 보다 바람직하고, 0.1 내지 1㎛인 것이 더욱 바람직하다.The average value (average particle diameter) of the nonmetallic particles of the component (B) is preferably 0.1 to 3 µm, more preferably 0.1 to 2 µm, and still more preferably 0.1 to 1 µm.

또한, (B) 성분의 비금속 입자의 평균 입경과 (A) 성분의 금속 입자의 평균 입경의 비에 주목한 경우, (B) 성분의 비금속 입자의 평균 입경/(A) 성분의 금속 입자의 평균 입경의 값은 0.01 내지 1.0인 것이 바람직하다.In addition, when paying attention to the ratio of the average particle diameter of the nonmetallic particles of the component (B) and the average particle diameter of the metal particles of the component (A), the average particle diameter of the nonmetallic particles of the component (B) / the average of the metal particles of the component (A) It is preferable that the value of the particle diameter is 0.01 to 1.0.

(B) 성분의 비금속 입자의 평균 입경/(A) 성분의 금속 입자의 평균 입경의 값이 상기의 범위를 만족시키고 있음으로써, 도전성 페이스트 중의 금속 입자와의 관계에 있어서 비금속 입자가 희생 양극으로서 유효하게 작용하여, 도전성 페이스트를 사용하여 형성되는 도전막이 양호한 도전성과 우수한 내구성을 갖는다. (B) 성분의 비금속 입자의 평균 입경/(A) 성분의 금속 입자의 평균 입경의 값이 0.01 미만이면, 도전성 페이스트로 하였을 때, 유동 특성이 얻어지기 어려워짐과 함께 자발적인 산화가 진행되어 내구성의 향상에 기여하기 어려워진다. 한편, (B) 성분의 비금속 입자의 평균 입경/(A) 성분의 금속 입자의 평균 입경이 1.0을 초과하면, 도전 내구성의 향상에 기여하기 어려워질 우려가 있다.Since the value of the average particle diameter of the non-metallic particles of the component (B) / the average particle diameter of the metallic particles of the component (A) satisfies the above range, the non-metallic particles are effective as a sacrificial anode in relation to the metal particles in the conductive paste. As a result, a conductive film formed using a conductive paste has good conductivity and excellent durability. If the value of the average particle diameter of the non-metallic particles of the component (B)/the average particle diameter of the metal particles of the component (A) is less than 0.01, when a conductive paste is used, flow characteristics become difficult to obtain and spontaneous oxidation proceeds, resulting in durability. It becomes difficult to contribute to improvement. On the other hand, when the average particle diameter of the nonmetallic particles of the component (B)/the average particle diameter of the metal particles of the component (A) exceeds 1.0, there is a fear that it becomes difficult to contribute to the improvement of the conductive durability.

(B) 성분의 비금속 입자의 평균 입경/(A) 성분의 금속 입자의 평균 입경의 값은 0.03 내지 0.5인 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that the value of the average particle diameter of the nonmetallic particles of the component (B)/the average particle diameter of the metal particles of the component (A) is 0.03 to 0.5.

본 발명의 도전성 페이스트에 있어서, (B) 성분의 비금속 입자의 배합량은, (A) 성분의 금속 입자 100질량부에 대하여 0.01 내지 3질량부이다. 배합량은, 0.02 내지 2.5질량부가 바람직하고, 0.02 내지 1.5질량부가 더욱 바람직하고, 0.02 내지 1.0이 특히 바람직하고, 0.02 내지 0.3이 매우 바람직하다.In the conductive paste of the present invention, the blending amount of the non-metallic particles of the component (B) is 0.01 to 3 parts by mass per 100 parts by mass of the metal particles of the component (A). The blending amount is preferably 0.02 to 2.5 parts by mass, more preferably 0.02 to 1.5 parts by mass, particularly preferably 0.02 to 1.0, and very preferably 0.02 to 0.3.

(B) 성분의 비금속 입자의 배합량이 상기의 범위를 만족시키고 있음으로써, 도전성 페이스트 중의 금속 입자와의 관계에 있어서 비금속 입자가 희생 양극으로 서 유효하게 작용하여, 도전성 페이스트를 사용하여 형성되는 도전막이, 양호한 도전성과 우수한 내구성을 갖는다.When the blending amount of the nonmetallic particles of the component (B) satisfies the above range, the nonmetallic particles effectively act as sacrificial anodes in relation to the metal particles in the conductive paste, and a conductive film formed using the conductive paste is , Has good conductivity and excellent durability.

(B) 성분의 비금속 입자의 배합량이, (A) 성분의 금속 입자 100질량부에 대하여 0.01질량부 미만이면, 비금속 입자의 배합량이 부족하기 때문에, 도전성 페이스트 중의 금속 입자와의 관계에 있어서 비금속 입자가 희생 양극으로서 충분히 기능하지 않는다. 이 때문에, 내구성의 향상에 기여하기 어려워진다. If the blending amount of the non-metallic particles of the component (B) is less than 0.01 parts by mass per 100 parts by mass of the metal particles of the component (A), since the blending amount of the non-metallic particles is insufficient, the non-metallic particles in relation to the metal particles in the conductive paste Does not function sufficiently as a sacrificial anode. For this reason, it becomes difficult to contribute to the improvement of durability.

한편, (B) 성분의 비금속 입자의 배합량이, (A) 성분의 금속 입자 100질량부에 대하여 3질량부 초과이면, 가열 경화 시에, 고유 저항값이 낮은 금속 입자((A) 성분의 입자)끼리의 계면에 비교적 고유 저항값이 높은 비금속 입자((B) 성분의 입자)가 존재하게 되어, 고유 저항값이 낮은 금속 입자간에서의 도통이 저해되는 결과, 형성되는 도전막의 도전성이 낮아진다고 생각된다.On the other hand, if the blending amount of the non-metallic particles of the component (B) is more than 3 parts by mass based on 100 parts by mass of the metal particles of the component (A), the metal particles having a low specific resistance value (particles of the component (A)) during heat curing ) Non-metallic particles with relatively high resistivity (particles of component (B)) exist at the interface between them, and as a result, conduction between metal particles with low resistivity is inhibited, resulting in lowering the conductivity of the formed conductive film. I think.

(C) 바인더 수지(C) binder resin

금속 입자를 함유하는 도전성 페이스트에서는, 경화 후에 형성하는 금속 입자를 포함하는 도전체의 구조를 유지하기 위해서 바인더 수지가 사용된다.In the conductive paste containing metal particles, a binder resin is used in order to maintain the structure of the conductor including the metal particles formed after curing.

본 발명의 도전성 페이스트에서는, (C) 성분의 바인더 수지로서, 포름알데히드를 1성분으로 하는 열경화성 수지를 포함하는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 그 이유는, 포름알데히드를 1성분으로 하는 열경화성 수지는 가열 경화 시의 수축이 커서, 금속 입자를 압박하는 힘이 강해지므로 높은 도전성이 얻어지기 쉽기 때문이다. 또한, 특히 금속 입자로서 구리 미립자를 사용한 경우에 포름알데히드로부터 생성되는 메틸올기의 환원 작용에 의해 구리 입자 표면의 산화를 억제할 수 있고, 또한 적절하게 경화 수축이 진행되어 구리 입자끼리의 접촉이 확보되기 때문이다.In the conductive paste of the present invention, it is preferable to use, as the binder resin of the component (C), a thermosetting resin containing formaldehyde as one component. The reason for this is that the thermosetting resin containing formaldehyde as a single component has a large shrinkage during heat curing, and the force to press the metal particles becomes strong, so that high conductivity is easily obtained. In addition, especially when copper fine particles are used as metal particles, oxidation on the surface of the copper particles can be suppressed by the reduction of methylol groups generated from formaldehyde, and curing shrinkage proceeds appropriately to ensure contact between copper particles. Because it becomes.

포름알데히드를 1성분으로 하는 열경화성 수지로서는, 페놀 수지, 멜라민 수지, 크실렌 수지, 요소 수지가 예시된다. 그 중에서도 페놀 수지가 메틸올기의 환원 작용과 경화 수축의 정도로부터 바람직하다. 경화 수축이 지나치게 크면 도전막 내에 불필요한 응력이 축적되어, 기계적 파괴의 원인으로 된다. 경화 수축이 지나치게 적으면 금속 입자끼리의 접촉을 충분히 확보할 수 없다.As a thermosetting resin containing formaldehyde as one component, a phenol resin, a melamine resin, a xylene resin, and a urea resin are illustrated. Among them, phenolic resins are preferable from the extent of reduction of methylol groups and curing shrinkage. If the cure shrinkage is too large, unnecessary stress is accumulated in the conductive film, which causes mechanical breakdown. If the curing shrinkage is too small, sufficient contact between metal particles cannot be ensured.

본 발명의 도전성 페이스트에 있어서, (C) 성분의 바인더 수지의 배합량은, (A) 성분(예를 들면, 구리 입자)의 체적과 금속 입자간에 존재하는 공극부의 체적의 비율에 따라서 적절히 선택할 수 있지만, 도전성 페이스트의 전체 성분의 합계 100질량부에 대하여, 5 내지 25 질량부인 것이 바람직하고, 10 내지 20질량부가 보다 바람직하다. 5질량부 이상이면, 바인더 수지와 금속 입자 표면이 결합하는 부분이 증가하여 경화막의 경도가 향상됨과 함께 도전성 페이스트의 유동 특성이 양호해진다. 25질량부 이하이면, 도전성 페이스트를 사용하여 형성되는 도전막의 도전성이 양호해진다.In the conductive paste of the present invention, the blending amount of the binder resin of the component (C) can be appropriately selected according to the ratio of the volume of the component (A) (for example, copper particles) and the volume of the voids present between the metal particles. It is preferably 5 to 25 parts by mass, and more preferably 10 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of all components of the conductive paste. If it is 5 parts by mass or more, the portion where the binder resin and the surface of the metal particles are bonded increases, the hardness of the cured film is improved, and the flow characteristics of the conductive paste are improved. If it is 25 parts by mass or less, the conductivity of the conductive film formed using the conductive paste becomes good.

(D) 기타 성분(D) other ingredients

본 발명의 도전성 페이스트는, 상기 (A) 내지 (C)의 각 성분 외에, 필요에 따라서, 용제나 각종 첨가제(레벨링제, 점도 조정제 등)를, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 포함하고 있어도 된다. 특히, 적당한 유동성을 갖는 페이스트를 얻기 위해서, 열경화성 수지를 용해할 수 있는 용제를 함유시키는 것이 바람직하다.The conductive paste of the present invention contains, as necessary, a solvent or various additives (leveling agent, viscosity modifier, etc.) in addition to each component of the above (A) to (C) within a range that does not impair the effects of the present invention. You may have it. In particular, in order to obtain a paste having an appropriate fluidity, it is preferable to contain a solvent capable of dissolving the thermosetting resin.

용제로서는, 예를 들면 시클로헥사논, 시클로헥산올, 테르피네올, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트를 사용할 수 있다. 인쇄용 페이스트로서, 적당한 점도 범위로 하는 관점에서, 도전성 페이스트에 함유시키는 용제의 양은, 도전성 페이스트의 전체 성분의 합계 100질량부에 대하여 5 내지 40질량부의 비율인 것이 바람직하다.As a solvent, for example, cyclohexanone, cyclohexanol, terpineol, ethylene glycol, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol , Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, and diethylene glycol monobutyl ether acetate can be used. As the printing paste, it is preferable that the amount of the solvent to be contained in the conductive paste is in a ratio of 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of all components of the conductive paste from the viewpoint of setting a suitable viscosity range.

도전성 페이스트는, 상기 (A) 내지 (C)의 각 성분 및 필요에 따라서 상기 용제 등의 기타 성분을 혼합하여 얻을 수 있다. 상기의 (A) 내지 (C)의 각 성분을 혼합할 때는, 열경화성 수지의 경화나 용제의 휘발이 발생하지 않을 정도의 온도 하에서 가열하면서 행할 수 있다.The conductive paste can be obtained by mixing each component of the above (A) to (C) and other components such as the above solvent as necessary. When mixing each component of the above (A) to (C), it can be carried out while heating under a temperature such that curing of the thermosetting resin or volatilization of the solvent does not occur.

혼합, 교반 시의 온도는, 10 내지 40℃로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 20 내지 30℃로 하는 것이 좋다. 도전 페이스트를 제조할 때 10℃ 이상의 온도로 가열함으로써, 페이스트의 점도를 충분히 저하시킬 수 있어, 교반을 원활하고 또한 충분히 행할 수 있다. 한편, 도전 페이스트를 제조할 때의 온도가 40℃를 초과하면, 페이스트 중에서 수지의 경화가 발생할 우려나, 입자끼리의 융착이 발생할 우려가 있다. 또한, 혼합 시에 금속 입자가 산화되는 것을 방지하기 위해서, 불활성 가스로 치환한 용기 내에서 혼합하는 것이 바람직하다.The temperature at the time of mixing and stirring is preferably 10 to 40°C. More preferably, it is good to set it as 20-30 degreeC. By heating at a temperature of 10° C. or higher when producing the conductive paste, the viscosity of the paste can be sufficiently reduced, and the stirring can be smoothly and sufficiently performed. On the other hand, when the temperature at the time of manufacturing the conductive paste exceeds 40°C, there is a fear that curing of the resin may occur in the paste or fusion of particles may occur. Further, in order to prevent the metal particles from being oxidized during mixing, it is preferable to mix in a container substituted with an inert gas.

이상 설명한 본 발명의 도전성 페이스트에 있어서는, (A) 성분의, 체적 고유 저항값이 10μΩㆍ㎝ 이하이고 평균 입경이 1 내지 15㎛인 금속 입자와 함께, (B) 평균 입경이 0.1 내지 3㎛이고 산화 환원 전위가 -440㎷ 내지 320㎷(SHE)인 비금속 입자, 및 (C) 성분의 바인더 수지를 함유하고 있으므로, 이 도전성 페이스트에 의해 형성되는 도전막은 도전성과 내구성이 우수하다.In the conductive paste of the present invention described above, the volume resistivity of the component (A) is 10 μΩ·cm or less and the average particle diameter is 1 to 15 μm, together with metal particles, (B) the average particle diameter is 0.1 to 3 μm. Since the non-metal particles having an oxidation-reduction potential of -440 mV to 320 mV (SHE) and the binder resin of the component (C) are contained, the conductive film formed from this conductive paste is excellent in conductivity and durability.

<도전막을 구비한 기재> <Substrate with conductive film>

본 발명의 도전막을 구비한 기재는, 기재와, 이 기재 상에 상술한 본 발명의 도전성 페이스트를 도포하고 경화시켜 형성한 도전막을 갖는다.A substrate with a conductive film of the present invention has a substrate and a conductive film formed by coating and curing the conductive paste of the present invention described above on the substrate.

기재 본체로서는, 유리 기판, 플라스틱 기판(예를 들면, 폴리이미드 기판, 폴리에스테르 기판 등), 섬유 강화 복합 재료를 포함하는 기판(예를 들면, 유리 섬유 강화 수지 기판 등)을 들 수 있다.Examples of the substrate main body include a glass substrate, a plastic substrate (eg, a polyimide substrate, a polyester substrate, etc.), and a substrate made of a fiber-reinforced composite material (eg, a glass fiber reinforced resin substrate, etc.).

도전성 페이스트의 도포 방법으로서는, 스크린 인쇄법, 롤 코트법, 에어 나이프 코트법, 블레이드 코트법, 바 코트법, 그라비아 코트법, 다이 코트법, 슬라이드 코트법 등의 공지의 방법을 들 수 있다. 이들 중에서도 스크린 인쇄법이 바람직하다.As a method of applying the conductive paste, known methods such as a screen printing method, a roll coating method, an air knife coating method, a blade coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a die coating method, and a slide coating method may be mentioned. Among these, the screen printing method is preferable.

도포층의 경화는, 온풍 가열, 열복사 가열 등의 방법에 의해 가열하여, 도전성 페이스트 중의 수지(열경화성 수지)를 경화시킴으로써 행한다.The curing of the coating layer is performed by heating by a method such as warm air heating or thermal radiation heating to cure the resin (thermosetting resin) in the conductive paste.

가열 온도 및 가열 시간은, 도전막에 요구되는 특성에 따라서 적절히 결정하면 된다. 가열 온도는 80 내지 200℃가 바람직하다. 가열 온도가 80℃ 이상이면, 바인더 수지의 경화가 원활하게 진행되고, 금속 입자간의 접촉이 양호해져 도전성 및 내구성이 향상된다. 가열 온도가 200℃ 이하이면, 기재 본체로서 플라스틱 기판을 사용할 수 있으므로, 기재 선택의 자유도가 높아진다.The heating temperature and heating time may be appropriately determined according to the characteristics required for the conductive film. The heating temperature is preferably 80 to 200°C. When the heating temperature is 80° C. or higher, curing of the binder resin proceeds smoothly, the contact between the metal particles is improved, and conductivity and durability are improved. When the heating temperature is 200° C. or lower, a plastic substrate can be used as the base body, so that the degree of freedom in selecting the base material increases.

기재 상에 형성되는 도전막의 두께는, 안정된 도전성과 배선 형상의 유지를 확보하는 관점에서, 1 내지 200㎛인 것이 바람직하고, 5 내지 100㎛의 범위가 보다 바람직하다.The thickness of the conductive film formed on the substrate is preferably 1 to 200 µm, and more preferably 5 to 100 µm, from the viewpoint of ensuring stable conductivity and maintenance of the wiring shape.

도전막의 비저항(체적 저항률이라고도 함)은 30μΩ㎝ 이하인 것이 바람직하다. 도전막의 비저항이 30μΩ㎝를 초과하면, 전자 기기용 도전체로서의 사용이 곤란해지는 경우가 있다.The specific resistance (also referred to as volume resistivity) of the conductive film is preferably 30 μΩcm or less. When the specific resistance of the conductive film exceeds 30 µΩcm, it may be difficult to use it as a conductor for electronic devices.

또한, 후술하는 실시예에 기재된 수순에 따라서 측정되는 도전 내구성이 내구성 시험 후에서의 비저항의 변화(증가)량이 20% 이하인 것이 바람직하고. 10% 이하인 것이 보다 바람직하고, 5% 이하인 것이 특히 바람직하다.In addition, it is preferable that the amount of change (increase) of the specific resistance after the durability test is 20% or less in the conductive durability measured according to the procedure described in Examples to be described later. It is more preferable that it is 10% or less, and it is especially preferable that it is 5% or less.

[실시예][Example]

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되지 않는다. 예 1 내지 8은 실시예, 예 9 내지 13은 비교예이다. 또한, 금속 입자(구리 입자)와 비금속 입자(니켈 입자)의 평균 입자 직경, 도전막의 두께 및 비저항은 각각 이하에 나타내는 장치를 사용하여 측정하였다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples, but the present invention is not limited to these examples. Examples 1 to 8 are Examples, and Examples 9 to 13 are Comparative Examples. In addition, the average particle diameter of the metal particle (copper particle) and the non-metal particle (nickel particle), the thickness of a conductive film, and the specific resistance were respectively measured using the apparatus shown below.

(평균 입자 직경) (Average particle diameter)

금속 입자로서 구리 입자를 사용하였다. 구리 입자의 입자 직경은, SEM(히타치 하이테크놀러지즈사제, S-4300)에 의해 얻어진 SEM상 중에서 무작위로 선택된 100개의 입자의 Feret 직경을 측정하고, 각 구리 입자에 있어서의 Feret 직경이 최댓값으로 되는 직경 방향을 장축으로 하고, 상기 장축에 직교하는 축을 단축으로 할 때, 상기 장축 방향의 Feret 직경과 상기 단축 방향의 Feret 직경의 평균값((장축 방향의 Feret 직경+단축 방향의 Feret 직경)/2)으로서 산출하였다. 그리고, 산출된 구리 입자의 입자 직경을 평균(수평균)함으로써 입자 직경의 평균값(평균 입자 직경)을 구하였다.Copper particles were used as metal particles. The particle diameter of the copper particle is measured by measuring the Feret diameter of 100 particles randomly selected from the SEM image obtained by SEM (manufactured by Hitachi High Technologies, S-4300), and the Feret diameter in each copper particle becomes the maximum value. When the radial direction is the major axis and the axis perpendicular to the major axis is the minor axis, the average value of the feret diameter in the major axis direction and the feret diameter in the minor axis direction ((Feret diameter in the major axis direction + Feret diameter in the minor axis direction)/2) It was calculated as. And the average value (average particle diameter) of the particle diameter was calculated|required by average (number average) the particle diameter of the calculated copper particle.

(도전막의 두께) (The thickness of the conductive film)

도전막의 두께는 DEKTAK3(Veeco metrology Group사제)을 사용하여 측정하였다.The thickness of the conductive film was measured using DEKTAK3 (manufactured by Veeco metrology Group).

(도전막의 비저항)(Resistivity of conductive film)

도전막의 비저항은 4탐침식 체적 저항률계(미쓰비시유까사제, 형식: lorestaIPMCP-T250)를 사용하여 측정하였다.The specific resistance of the conductive film was measured using a 4-probe volume resistivity meter (manufactured by Mitsubishi Yuka Corporation, type: lorestaIPMCP-T250).

예 1Example 1

유리제 비이커 내에, 포름산 3.0g과 50질량%의 차아인산 수용액 9.0g을 넣은 후, 이 비이커를 워터 배스에 넣어 40℃로 유지하였다. 이 비이커 내에, 입자 직경의 평균값이 6㎛인 구리 입자(미쓰이 긴조꾸 고교 가부시끼가이샤제, 상품명: 1400YP) 5.0g을 서서히 첨가하고, 30분간 교반하여 구리 분산액을 얻었다.After putting 3.0 g of formic acid and 9.0 g of a 50% by mass hypophosphorous acid aqueous solution into a glass beaker, this beaker was placed in a water bath and maintained at 40°C. In this beaker, 5.0 g of copper particles (manufactured by Mitsui Kinjoku Kogyo Co., Ltd., brand name: 1400YP) having an average particle diameter of 6 µm were gradually added and stirred for 30 minutes to obtain a copper dispersion.

얻어진 구리 분산액으로부터, 원심 분리기를 사용하여, 회전수 3000rpm으로 10분간 원심 분리하여 침전물을 회수하였다. 이 침전물을 증류수 30g에 분산시키고, 원심 분리에 의해 다시 응집물을 침전시켜, 침전물을 분리하였다. 그 후, 얻어진 침전물을, -35㎪의 감압 하, 80℃에서 60분간 가열하여, 잔류 수분을 휘발시켜 서서히 제거하여, 입자 표면이 표면 개질된 구리 입자 (A)를 얻었다.From the obtained copper dispersion liquid, centrifugal separation was performed for 10 minutes at a rotation speed of 3000 rpm using a centrifugal separator to recover a precipitate. The precipitate was dispersed in 30 g of distilled water, and the precipitate was again precipitated by centrifugation to separate the precipitate. Thereafter, the obtained precipitate was heated at 80° C. for 60 minutes under a reduced pressure of -35 kPa to volatilize residual moisture and gradually removed, thereby obtaining copper particles (A) having surface-modified particles.

표면 개질 후의 구리 입자는, 입자 직경의 평균값이 변화하지 않고, 6㎛이다. 또한, 표면 개질 후의 구리 입자는, 입자 직경의 평균값이 변화하지 않는 것은, 이하에 나타내는 다른 예에 대해서도 마찬가지이다.The copper particles after surface modification do not change the average value of the particle diameter and are 6 µm. In addition, that the average value of the particle diameter of the copper particles after surface modification does not change is the same for other examples shown below.

계속해서, 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지(군에이 가가꾸사제, 상품명: 레지톱 PL6220, 이하의 예에 있어서 모두 동일함) 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하였다. 또한, 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 0.3㎛, 산화 환원 전위 -257㎷(SHE)) 0.02g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은, (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 0.17질량부이었다. (C) 성분의 배합량은, 구리 페이스트의 전체 성분의 합계 100질량부에 대하여 11질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.05이다.Subsequently, 12 g of the obtained surface-modified copper particles (A) were added to 3.7 g of a phenolic resin (manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd., brand name: Rezitop PL6220, all the same in the following examples) as component (C). It was added to the resin solution dissolved in 4.3 g of butyl ether acetate. Further, with this mixture, 0.02 g of nickel powder (average particle diameter 0.3 µm, redox potential -257 mV (SHE)) as component (B) was put in a mortar, and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 0.17 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). The blending amount of the component (C) was 11 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of all components of the copper paste. In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of component (B)/the average particle diameter of the copper particle of (A) component is 0.05.

예 2 Example 2

구리 입자를 입자 직경의 평균값이 7㎛인 구리 입자(닛본 아토마이즈 가꼬 가부시끼가이샤제, 상품명: AFS-Cu), 니켈 분말을 평균 입경 0.5㎛로 변경한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 하여 구리 페이스트를 얻었다. (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.07이다.Copper paste in the same manner as in Example 1 except that copper particles having an average particle diameter of 7 μm (manufactured by Nippon Atomize Chemical Co., Ltd., brand name: AFS-Cu) and nickel powder were changed to an average particle diameter of 0.5 μm. Got it. The average particle diameter of the nickel powder (particle) of the component (B)/the average particle diameter of the copper particles of the component (A) is 0.07.

예 3 Example 3

구리 입자를 입자 직경의 평균값이 3㎛인 구리 입자(닛본 아토마이즈 가꼬 가부시끼가이샤제, 상품명: AFS-Cu)로 변경한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 하여 구리 페이스트를 얻었다. (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.1이다.A copper paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the copper particles were changed to copper particles having an average particle diameter of 3 µm (manufactured by Nippon Atomize Chemical Co., Ltd., brand name: AFS-Cu). The value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of the component (B)/the average particle diameter of the copper particles of the component (A) is 0.1.

예 4 Example 4

예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하고, 또한 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 0.2㎛) 0.004g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은, (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 0.03질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.03이다.12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 1 were added to a resin solution in which 3.7 g of a phenol resin as a component (C) was dissolved in 4.3 g of ethylene glycol monobutyl ether acetate, and with this mixture, ( B) 0.004 g of nickel powder (average particle diameter: 0.2 µm) as a component was put into a mortar and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 0.03 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of component (B)/the average particle diameter of the copper particle of (A) component is 0.03.

예 5 Example 5

예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하고, 또한 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 2.5㎛) 0.02g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은, (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 0.17질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.42이다.12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 1 were added to a resin solution in which 3.7 g of a phenol resin as a component (C) was dissolved in 4.3 g of ethylene glycol monobutyl ether acetate, and with this mixture, ( B) 0.02 g of nickel powder (average particle diameter of 2.5 µm) as a component was put in a mortar and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 0.17 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of the component (B)/the average particle diameter of the copper particles of the component (A) is 0.42.

예 6 Example 6

예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하고, 또한 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 0.3㎛) 0.1g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은 (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 0.8질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.05이다.12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 1 were added to a resin solution in which 3.7 g of a phenol resin as a component (C) was dissolved in 4.3 g of ethylene glycol monobutyl ether acetate, and with this mixture, ( B) 0.1 g of nickel powder (average particle diameter: 0.3 µm) as a component was put in a mortar and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 0.8 parts by mass based on 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of component (B)/the average particle diameter of the copper particle of (A) component is 0.05.

예 7 Yes 7

예 3과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하고, 또한 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 2.5㎛) 0.02g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은, (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 0.17질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.83이다.12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 3 were added to a resin solution in which 3.7 g of a phenol resin as a component (C) was dissolved in 4.3 g of ethylene glycol monobutyl ether acetate, and together with this mixture, ( B) 0.02 g of nickel powder (average particle diameter of 2.5 µm) as a component was put in a mortar and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 0.17 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of the component (B)/the average particle diameter of the copper particles of the component (A) is 0.83.

예 8 Yes 8

예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하고, 또한 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 2.5㎛) 0.2g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은, (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 1.7질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.42이다.12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 1 were added to a resin solution in which 3.7 g of a phenol resin as a component (C) was dissolved in 4.3 g of ethylene glycol monobutyl ether acetate, and with this mixture, ( B) 0.2 g of nickel powder (average particle diameter of 2.5 µm) as a component was put in a mortar and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 1.7 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of the component (B)/the average particle diameter of the copper particles of the component (A) is 0.42.

예 9Yes 9

예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g에 대하여, (B) 성분의 니켈 분말을 첨가하지 않은 것 이외는 예 1과 마찬가지로 하여, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다.With respect to 12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 1, it was carried out in the same manner as in Example 1 except that the nickel powder of the component (B) was not added, and mixed at room temperature to obtain a copper paste.

예 10 Yes 10

예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하고, 또한 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 0.3㎛) 0.001g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은, (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 0.008질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.05이다.12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 1 were added to a resin solution in which 3.7 g of a phenol resin as a component (C) was dissolved in 4.3 g of ethylene glycol monobutyl ether acetate, and with this mixture, ( B) 0.001 g of nickel powder (average particle diameter: 0.3 µm) as a component was put in a mortar and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 0.008 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of component (B)/the average particle diameter of the copper particle of (A) component is 0.05.

예 11Yes 11

예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하고, 또한 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 0.3㎛) 0.4g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은, (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 3.3질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.05이다.12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 1 were added to a resin solution in which 3.7 g of a phenol resin as a component (C) was dissolved in 4.3 g of ethylene glycol monobutyl ether acetate, and with this mixture, ( B) 0.4 g of nickel powder (average particle diameter: 0.3 µm) as a component was put into a mortar and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 3.3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of component (B)/the average particle diameter of the copper particle of (A) component is 0.05.

예 12 Yes 12

예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하고, 또한 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 0.05㎛) 0.02g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은, (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 0.17질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 0.008이다.12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 1 were added to a resin solution in which 3.7 g of a phenol resin as a component (C) was dissolved in 4.3 g of ethylene glycol monobutyl ether acetate, and with this mixture, ( B) 0.02 g of nickel powder (average particle diameter of 0.05 µm) as a component was put in a mortar and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 0.17 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of component (B)/the average particle diameter of the copper particle of (A) component is 0.008.

예 13Yes 13

예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 표면 개질 구리 입자 (A)의 12g을, (C) 성분으로서의 페놀 수지 3.7g을 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 4.3g에 용해한 수지 용액에 첨가하고, 또한 이 혼합물과 함께, (B) 성분으로서의 니켈 분말(평균 입경 10㎛) 0.02g을 유발에 넣고, 실온 하에서 혼합하여 구리 페이스트를 얻었다. 또한, (B) 성분의 배합량은, (A) 성분의 구리 입자 100질량부에 대하여 0.17질량부이었다. 또한, (B) 성분의 니켈 분말(입자)의 평균 입경/(A) 성분의 구리 입자의 평균 입경의 값은 1.7이다.12 g of the surface-modified copper particles (A) obtained in the same manner as in Example 1 were added to a resin solution in which 3.7 g of a phenol resin as a component (C) was dissolved in 4.3 g of ethylene glycol monobutyl ether acetate, and with this mixture, ( B) 0.02 g of nickel powder (average particle diameter of 10 µm) as a component was put in a mortar and mixed at room temperature to obtain a copper paste. In addition, the blending amount of the component (B) was 0.17 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the copper particles of the component (A). In addition, the value of the average particle diameter of the nickel powder (particle) of the component (B)/the average particle diameter of the copper particles of the component (A) is 1.7.

다음에, 예 1 내지 13에서 얻어진 구리 페이스트를, 3㎜의 두께의 유리 상에 각각 도포하고, 150℃에서 30분간 가열하여, (C) 성분으로서의 페놀 수지를 경화시켜, 두께 15㎛의 도전막을 형성하였다. 그리고, 얻어진 도전막의 전기 저항값을 저항값계(키슬리사제, 상품명: 밀리옴 하이테스터)를 사용하여 측정하여, 비저항(체적 저항률; 단위 μΩ㎝)을 측정하였다. 또한, 동일한 도전막을 85℃ 85%RH의 고온 고습조에서 250시간 보존 후에 전기 저항값을 측정하고, 전기 저항값의 변화량을 측정하였다.Next, the copper pastes obtained in Examples 1 to 13 were each applied on a glass having a thickness of 3 mm, heated at 150° C. for 30 minutes, and the phenol resin as component (C) was cured to form a conductive film having a thickness of 15 μm. Formed. Then, the electrical resistance value of the obtained conductive film was measured using a resistance value meter (manufactured by Keithley, brand name: Milliohm High Tester), and the specific resistance (volume resistivity; unit μΩcm) was measured. Further, the same conductive film was stored in a high-temperature, high-humidity bath at 85°C and 85% RH for 250 hours, and then the electrical resistance value was measured, and the amount of change in the electrical resistance value was measured.

결과를 표 1에 정리하였다.The results are summarized in Table 1.

Figure 112014084762242-pat00001
Figure 112014084762242-pat00001

표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 입자 직경의 평균값이 1.0 내지 15㎛인 구리 입자와 함께, 구리 입자 100질량부에 대하여, 입자 직경의 평균값이 0.1 내지 3㎛인 니켈 분말을 0.01 내지 3질량부 함유하는 예 1 내지 8의 도전성 페이스트를 사용함으로써, 상기 도전성 페이스트를 기재에 도포하고, 경화시킨 도전막은, 비저항이 낮고, 25μΩ㎝ 이하이었다. 또한, 고온 고습 보존 후에서의 도전성의 변화(저하)도 억제되어 있었다. 이것은 구리 입자의 사이에 적절한 양의 니켈 입자가 존재할 수 있어, 구리 입자와 니켈 입자간의 접촉 면적이 커졌기 때문에 희생 양극으로서의 기능이 유효하게 작용하였기 때문이라고 생각한다.As can be seen from Table 1, 0.01 to 3 parts by mass of nickel powder having an average particle diameter of 0.1 to 3 µm per 100 parts by mass of copper particles, together with copper particles having an average particle diameter of 1.0 to 15 µm. By using the conductive pastes of Examples 1 to 8 to be contained, the conductive film obtained by applying the conductive paste to a substrate and curing had a low specific resistance and was 25 µΩcm or less. Further, the change (deterioration) in conductivity after storage at high temperature and high humidity was also suppressed. This is considered to be due to the fact that an appropriate amount of nickel particles can exist between the copper particles, and the contact area between the copper particles and the nickel particles is increased, so that the function as a sacrificial anode has been effective.

이에 반해, (B) 성분의 니켈 분말을 배합하지 않은 예 9, (B) 성분의 니켈 분말의 배합량이, (A) 성분의 금속 입자 100질량부에 대하여, 0.01질량부 미만인 예 10, 3질량부 초과의 예 11, (B) 성분의 니켈 분말로서 평균 입경이 0.1 내지 3㎛가 아니라 평균 입경이 0.05㎛인 니켈 분말을 배합한 예 12, (B) 성분의 니켈 분말로서 평균 입경이 0.1 내지 3㎛가 아니라 평균 입경이 10㎛인 니켈 분말을 배합한 예 13은, 모두, 도전성 페이스트를 사용하여 제작한 도전막은 고온 고습 보존 후의 도전성의 변화(저하)가 컸다.On the other hand, Example 9 in which the nickel powder of component (B) was not blended, Example 10, 3 mass of which the blending amount of nickel powder of component (B) was less than 0.01 parts by mass based on 100 parts by mass of metal particles of component (A) Part 11, Example 12 in which nickel powder having an average particle diameter of 0.05 μm instead of 0.1 to 3 μm as the nickel powder of component (B) was blended, and the nickel powder of component (B) having an average particle diameter of 0.1 to In Example 13, in which nickel powder having an average particle diameter of 10 µm was mixed instead of 3 µm, the conductive film produced by using a conductive paste had a large change (deterioration) in conductivity after storage at high temperature and high humidity.

또한, 특허문헌 1의 구리 분말을 사용한 금속 페이스트로부터 형성한 도전막은 25℃의 대기 중에 30일간 방치하는 것만으로 비저항이 50%나 상승할 정도로 도전성의 변화(저하)가 커서, 이 도전막을 사용하여 전자 부품의 도체 배선을 형성하는 것은 곤란하다.In addition, the conductive film formed from the metal paste using the copper powder of Patent Literature 1 has a large change in conductivity (deterioration) so that the specific resistance increases by 50% just by leaving it in the atmosphere at 25°C for 30 days. It is difficult to form the conductor wiring of an electronic component.

본 출원을 상세하게 또한 특정한 실시 형태를 참조하여 설명하였지만, 본 발명의 정신과 범위를 일탈하지 않고 다양한 변경이나 수정을 가할 수 있는 것은 당업자에게 있어서 명확하다.Although this application has been described in detail and with reference to specific embodiments, it is clear to those skilled in the art that various changes and modifications can be added without departing from the spirit and scope of the present invention.

본 출원은 2013년 9월 4일에 출원된 일본 특허 출원(일본 특허 출원 제2013-182783호)에 기초하는 것이고, 그의 내용은 여기에 참조로서 포함된다.This application is based on the Japanese patent application (Japanese Patent Application No. 2013-182783) for which it applied on September 4, 2013, The content is taken in here as a reference.

본 발명의 도전성 페이스트는, 다양한 용도로 이용할 수 있고, 예를 들면 프린트 배선판 등에 있어서의 배선 패턴의 형성 및 수복, 반도체 패키지 내의 층간 배선, 프린트 배선판과 전자 부품의 접합 등의 용도에 이용할 수 있다.The conductive paste of the present invention can be used for various purposes, and can be used, for example, for forming and repairing a wiring pattern on a printed wiring board, interlayer wiring in a semiconductor package, and bonding a printed wiring board to an electronic component.

Claims (7)

(A) 체적 고유 저항값이 10μΩㆍ㎝ 이하이고 평균 입경이 1 내지 15㎛인 표면 개질 구리 입자와, (B) 평균 입경이 0.1 내지 3㎛이고 산화 환원 전위가 -440㎷ 내지 320㎷(SHE)인 비금속(卑金屬) 입자와, (C) 바인더 수지를 함유하는 도전성 페이스트이며, 상기 (A) 성분의 표면 개질 구리 입자 100질량부에 대하여, 상기 (B) 성분의 비금속 입자를 0.01 내지 3질량부 함유하는 것을 특징으로 하는 도전성 페이스트.(A) Surface-modified copper particles having a volume resistivity of 10 μΩ·cm or less and an average particle diameter of 1 to 15 μm, and (B) an average particle diameter of 0.1 to 3 μm and an oxidation-reduction potential of -440 mV to 320 mV (SHE ) Nonmetallic particles and (C) a conductive paste containing a binder resin, and 0.01 to 3 nonmetallic particles of the component (B) per 100 parts by mass of the surface-modified copper particles of the component (A). A conductive paste containing a mass part. 제1항에 있어서, 상기 (B) 성분의 비금속 입자의 평균 입경/상기 (A) 성분의 표면 개질 구리 입자의 평균 입경의 값이 0.01 내지 1.0인 도전성 페이스트.The conductive paste according to claim 1, wherein the average particle diameter of the nonmetallic particles of the component (B)/the average particle diameter of the surface-modified copper particles of the component (A) is 0.01 to 1.0. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (C) 성분의 바인더 수지가 포름알데히드를 1성분으로 하는 열경화성 수지를 포함하는 수지인 도전성 페이스트The conductive paste according to claim 1 or 2, wherein the binder resin of the component (C) is a resin containing a thermosetting resin containing formaldehyde as one component. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (B) 성분의 비금속 입자가 니켈, 주석, 비스무트, 철로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 도전성 페이스트.The conductive paste according to claim 1 or 2, wherein the non-metallic particles of the component (B) are at least one selected from the group consisting of nickel, tin, bismuth, and iron. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (B) 성분의 비금속 입자가 니켈인 도전성 페이스트.The conductive paste according to claim 1 or 2, wherein the non-metallic particles of the component (B) are nickel. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (C) 성분의 바인더 수지가 페놀 수지, 멜라민 수지, 크실렌 수지, 요소 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 도전성 페이스트.The conductive paste according to claim 1 or 2, wherein the binder resin of the component (C) is at least one selected from the group consisting of phenol resins, melamine resins, xylene resins, and urea resins. 제1항 또는 제2항에 기재된 도전성 페이스트를 도포하고 경화 시켜 이루어지는 도전막을 기재 상에 갖는 것을 특징으로 하는, 도전막을 구비한 기재.A substrate with a conductive film, comprising a conductive film formed by applying and curing the conductive paste according to claim 1 or 2 on the substrate.
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