KR102116690B1 - 차단챔버부재를 구비한 플라즈마 수처리장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 관체를 유동하고 있는 처리대상수에 플라즈마처리된 공기를 연속적으로 공급함으로써 다량의 처리대상수를 정화처리할 수 있도록 구성된 플라즈마 수처리장치를 제공한다. 본 발명은, 공기를 플라즈마영역에 통과시켜 배출하는 플라즈마처리부와, 상기 플라즈마처리부와 연결관에 의해 연결되어 플라즈마처리된 공기가 처리대상수와 혼합되는 기액혼합부를 포함하되, 플라즈마처리부는 가로방향으로 배치되는 유전체관과, 상기 유전체관의 내부에서 플라즈마를 발생시켜 유동하는 공기를 플라즈마처리하는 플라즈마발생기와, 상기 유전체관의 타단부를 고정시키는 타단고정부재와, 상기 타단고정부에 결합되고, 내부공간의 일측에서 유전체관의 타단과 연통되고 내부공간의 타측에서 상기 연결관과 연결되는 차단챔버부재를 포함한다.

Description

차단챔버부재를 구비한 플라즈마 수처리장치{PLASMA TYPE WATER TREATMENT DEVICE HAVING BLOCKING CHAMBER}

본 발명은 차단챔버부재를 구비한 플라즈마 수처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마 처리된 공기를 유동관 내에서 유동하는 처리대상수에 미세기포형태로 연속 공급하여 다량의 오염수를 정화처리할 수 있고, 플라즈마발생기 측으로 물의 역류를 차단하기 위해 차단챔버부재를 설치한 구조의 플라즈마 수처리장치에 관한 것이다.

수중의 각종 오염물질을 플라즈마에 의해 정화처리하는 방식의 플라즈마 수처리장치가 개발되고 있다.

플라즈마를 이용한 수처리장치는, 공기를 플라즈마처리함으로써 발생한 오존과 OH, H2O2, UV, HO2 등이 수중에 존재하는 각종 유해물질을 산화 및 분해시킴으로써 오폐수를 정화한다.

도 1은 등록특허공보 제10-0924649호에 기재된 것으로서, 플라즈마 수처리장치의 구성을 도시하고 있다.

도 1을 참조하면, 유전체관인 석영관(2)이 수조(1) 내에 설치되고 대향전극(6)이 수중에 설치된다.

헤드(7)의 공기주입구(7a)를 통해 공기를 석영관(2) 내로 공급하면, 석영관(2) 내에서 방전극(3)에서 발생되는 플라즈마에 의해 공기가 플라즈마처리되어 오존, 활성라디컬 등이 다량 발생한다.

이러한 공기가 버블발생기(4)를 통과하면서 미세기포형태로 수중에 분산되고 수중의 오염물질은 미세기포 중의 오존, 활성라디컬과 반응하여 산화, 분해됨으로써 정화작용이 이루어진다.

상기 석영관(2) 내에 플라즈마를 발생시키기 위해 설치되는 방전극(3)은, 코일형상(3a)으로 이루어져 석영관(2)의 내주면에 밀착되어 있다.

석영관(2)의 내주면에 밀착된 코일형상의 방전극(3)은 석영관(2)의 내주면을 따라 연면방전을 발생시키고, 석영관(2) 내부를 유동하는 공기는 연면방전영역을 따라 폭넓은 플라즈마 반응이 발생할 수 있다.

그러나, 전술한 종래의 플라즈마 발생장치는 수조에 저장된 소정량의 처리대상수에 버블발생기(4)로부터 미세버블을 발생시켜 오염물질을 산화, 분해처리하여 정화하도록 제작됨에 따라, 큰 용량의 처리성능을 발휘할 수 없는 문제가 있다.

또한, 석영관(2)을 통해 공기가 유동할 수 있도록 석영관(2)의 내부로 불어넣는 공기의 공급압을 소정치 이상 유지하지 못하거나, 일시적인 압력저하가 발생하면, 수압에 의해 석영관(2) 내부로 물이 역류함으로써, 물이 방전극(3)과 접촉하여 절연환경이 파괴되고 누전, 아크 등에 의한 전극파괴는 물론 화재와 같은 심각한 위험상황이 발생하는 문제가 있다.

본 발명은 상기와 같은 관점에서 도출된 것으로서, 본 발명의 목적은 관체를 유동하고 있는 처리대상수에 플라즈마처리된 공기를 연속적으로 공급함으로써 다량의 처리대상수를 정화처리할 수 있도록 구성된 플라즈마 수처리장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 플라즈마가 내부에서 발생하는 석영관 등 유전체관의 내부로 물이 역류하여 절연환경이 파괴되어 발생될 수 있는 누전, 아크에 의한 전극파괴 및 화재 등 위험상황이 발생할 수 있는 문제를 해소할 수 있는 구조의 플라즈마 수처리장치를 제공하는 것이다.

전술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 플라즈마 수처리장치는, 공기를 플라즈마영역에 통과시켜 배출하는 플라즈마처리부와, 상기 플라즈마처리부와 연결관에 의해 연결되어 상기 플라즈마처리부에서 플라즈마처리되어 배출되는 공기가 상기 연결관을 통해 공급되어 처리대상수와 혼합되는 기액혼합부를 포함하되, 상기 플라즈마처리부는, 일단에서 공기를 흡입하고 타단에서 배출하고 길이방향이 가로방향으로 배치되는 유전체관과, 상기 유전체관의 내부에서 플라즈마를 발생시켜 유동하는 공기를 플라즈마처리하는 플라즈마발생기와, 상기 유전체관의 타단부를 고정시키는 타단고정부재와, 상기 타단고정부에 결합되고, 내부공간의 일측에서 상기 유전체관의 타단과 연통되고 내부공간의 타측에서 상기 연결관과 연결되는 차단챔버부재를 포함하고, 상기 차단챔버부재는, 바닥면에서부터 간격을 두고 상측에, 상기 연결관과 연결되는 연결포트와, 상기 유전체관의 타단이 설치됨으로서, 바닥에 소정량의 물이 수용될 수 있는 것을 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 플라즈마 수처리장치는, 상기 차단챔버의 바닥면에 고인 물이 배출될 수 있는 배출구가 더 설치되는 것을 다른 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 플라즈마 수처리장치는, 상기 유전체관을 둘러싸는 통형상의 커버가 설치되고, 상기 커버의 일단과 타단을 차단하는 일단차단판 및 타단차단판이 더 설치되며, 상기 유전체관은 상기 일단차단판 및 상기 타단차단판을 관통하여 설치됨으로써 상기 타단차단판이 상기 타단고정부재이며, 상기 커버의 내부에는 상기 기액혼합부에서 공기와 혼합되어 배출되는 처리대상수가 유동함으로써 상기 유전체관을 냉각시키는 것을 또 다른 특징으로 한다.

또한, 본 발명의 플라즈마 수처리장치는, 상기 유전체관의 일단은 대기와 연통되어 대기 중의 공기를 내부로 흡입할 수 있고, 상기 기액혼합부는 처리대상수가 유동하는 유동관과, 상기 유동관에서 유동단면적이 감소하여 압력강하가 발생하는 넥부를 포함하고, 상기 연결관이 상기 넥부에 연결됨으로써, 상기 압력강하에 의해 대기 중의 공기가 유전체관과 상기 차단챔버부재와 상기 연결관을 순차로 통과하여 상기 넥부를 통해 상기 처리대상부수에 유입되는 유동이 발생하는 것을 또 다른 특징으로 한다.

본 발명에 따른 플라즈마 수처리장치는, 플라즈마처리부에서 발생한 플라즈마처리된 공기가 기액혼합부에서 유동관으로 공급되어, 유동관을 통해 연속적으로 유동하는 처리대상수에 지속적으로 오존, OH라디칼 등 활성기체를 공급할 수 있다.

이와 더불어, 본 발명은 타단고정부에 결합되는 것으로서, 내부공간의 일측에서 유전체관의 타단과 연통되고 내부공간의 타측에서 연결관과 연결되는 차단챔버부재를 구비하고 있고, 차단챔버부재의 내부공간에는 그 바닥면에서부터 간격을 두고 상측에, 연결관과 연결되는 연결포트와, 유전체관의 타단이 설치되어 있다.

이에 따라, 연결관을 통해 플라즈마처리부 측으로 역류할 수 있는 물이, 차단챔버부재 내에서 수용되어 역류가 차단될 수 있으므로, 방전극에 물이 접촉함에 따른 절연환경 파괴에 의한 위험상황이 방지될 수 있다.

특히, 본 발명은 유동관에서 처리대상유체의 흐름이 발생하는 경우만, 연결관을 통해 대기중에서 공기가 넥부로 빨려 들어오는 흡입력이 발생하고, 처리대상유체의 흐름이 느려지거나 중지되면, 연결관에서 공기를 유동시키는 압력은 대기압이 작용하게 되며, 연결관이 넥부에 연결되는 연결노즐이 넥부의 상부에서 넥부의 상측으로 세워져 연결되므로, 유동관이 연결노즐보다 높게 설치되지 않는 이상, 연결관을 통해 플라즈마처리부 측으로 물이 역류하는 상황이 거의 발생하지 않고, 역류가 발생하더라도 소량에 그칠 수 있는 구조이다.

도 1는 종래 플라즈마 수처리장치의 전체적 구성을 도시하는 구성설명도
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 수처리장치의 전체 구성을 도시하는 구성설명도
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 수처리장치에서 플라즈마처리부의 단면구성을 도시하는 구성설명도
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 수처리장치에서 차단챔버부재의 작용을 설명하는 작용설명도
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 수처리장치에서 차단챔버부재의 다른 구성 및 작용을 설명하는 구성 및 작용설명도

이하, 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 수처리장치는, 공기를 플라즈마영역에 통과시켜 배출하는 플라즈마처리부(10)와, 상기 플라즈마처리부(10)와 연결관(66)에 의해 연결되어 플라즈마처리부(10)에서 플라즈마처리되어 배출되는 공기가 연결관(66)을 통해 공급되어 처리대상수와 혼합되는 기액혼합부(60)를 포함한다.

상기 플라즈마처리부(10)는 공기를 플라즈마영역에 통과시켜 배출하는 부분으로서, 배출된 공기는 연결관(66)을 통애 기액혼합부(60)에 공급되고 기액혼합부(60)에서 처리대상수 내로 플라즈마처리된 공기가 공급되다.

플라즈마처리부(10)는, 일단에서 공기를 흡입하고 타단에서 배출하고 길이방향이 가로방향으로 배치되는 유전체관(20)과, 상기 유전체관(20)의 내부에서 플라즈마를 발생시켜 유동하는 공기를 플라즈마처리하는 플라즈마발생기(30)와, 상기 유전체관(20)의 타단부(21)를 고정시키는 타단고정부재와, 상기 타단고정부에 결합되고, 내부공간(41)의 일측에서 유전체관(20)의 타단과 연통되고 내부공간(41)의 타측에서 연결관(66)과 연결되는 차단챔버부재(40)를 포함한다.

상기 유전체관(20)은 중공관 형상으로 가로방향으로 배치되고, 내부에 방전극(31)이 삽입되며, 양단이 개방되어 내부를 공기가 통과한다.

유전체관(20)의 내부에서는 봉상의 체적방전극(31a)과 그 체적방전극(31a)을 감고 있는 와이어형상의 연면방전극(31b)으로부터 플라즈마가 발생함으로써 통과하는 공기가 플라즈마처리되어 공기 중에 오존, 라디컬 물질 등 활성종이 발생한다.

상기 체적방전극(31a)에서는 유전체관(20)의 내주면과 체적방전극(31a)의 미세돌기 사이에서 체적방전이 발생하고, 연면방전극(31b)은 유전체관(20)의 내주면에 밀착된 상태로 설치되어 유전체관(20)의 내주면에서 퍼지는 연면방전을 발생시킨다.

상기 유전체관(20)은 석영관이 가장 바람직하고, 세라믹관 또는 유리관도 가능하다.

상기 유전체관(20)의 일단부(22)는 일단차단판(52)을 관통하여 대기중에 노출되도록 설치되고, 유전체관(20)의 타단부(21)는 타단차단판(51)을 관통하여 타단차단판(51)의 외측으로 노출되어 공기를 배출한다.

대기 중에 연통된 유전체관(20)의 일단은 기액혼합부(60)에서 흡입압이 발생하면, 연결관(66) 및 차단챔버부재(40)를 거쳐 연통되어 있으므로 공기를 내부로 자연히 흡입할 수 있다.

상기 일단차단판(52)과 타단차단판(51)은 유전체관(20)을 둘러싸는 통형상의 커버(55)의 일단과 타단을 차단하도록 결합된 부분으로서, 일단차단판(52)과 타단차단판(51)은 커버(55) 내부에 냉각수가 수용될 수 있도록 공간을 폐쇄하여 유지함과 동시에 유전체관(20)을 고정시키는 역할을 한다.

타단차단판(51)이 유전체관(20)의 타단부(21)를 고정시키는 타단고정부재가 된다.

일단차단판(52)과 타단차단판(51)은 유전체관(20)의 내부의 방전에 영향을 주지 않도록 유리, 합성수지, 세라믹 등 절연물질로 제작되는 것이 바람직하다.

상기 플라즈마발생기(30)는 유전체관(20)의 내부에서 플라즈마를 발생시키기 위한 것으로서, 유전체관(20) 내부에 설치되는 방전극(31)과, 유전체관(20) 외부에 설치되는 대향전극과, 방전극(31)과 대향전극에 연결되어 플라즈마방전을 유발하는 전원(32)을 포함한다.

상기 방전극(31)은 전술한 바와 같이 봉상의 체적방전극(31a)과 그 체적방전극(31a)을 감고 있는 와이어형상의 연면방전극(31b)으로 이루어져 유전체관(20)의 내부에 삽입되도록 구성되는 것이 바람직하고, 유전체관(20)의 내주면과의 사이에 방전을 발생시켜 플라즈마영역을 형성한다.

대향전극은 유전체관(20)의 벽을 사이에 두고 방전극(31)과 전기적으로 대향하는 부분으로서, 본 실시예에서는 유전체관(20)을 외측에서 둘러싸는 커버(55)를 대향전극으로 사용한다.

커버(55)는 내부에서 유동하는 냉각수와 접촉하는 도전성 금속체로 형성되므로, 냉각수를 매개로 유전체관(20)의 외주면과 전기적으로 접촉한다.

상기 커버(55)는 유전체관(20)을 통형상으로 둘러싸고 있고, 커버(55)의 일단과 타단을 일단차단판(52) 및 타단차단판(51)이 차단하도록 결합되며, 커버(55)의 일측의 상부에는 냉각수유입구(56)가 설치되고 타측의 하부에는 냉각수배출구(57)가 설치되어, 커버(55)의 내부로 냉각수가 유동할 수 있다.

상기 유전체관(20)은 일단차단판(52) 및 타단차단판(51)을 관통하여 설치되되, 다수개가 소정의 간격을 두고 서로 나란히 가로방향으로 배열된다.

커버(55)의 냉각수유입구(56)를 통해 유입되는 냉각수는 기액혼합부(60)에서 배출되는 처리대상수를 활용한다.

즉, 커버(55)의 내부를 유동하는 냉각수는 기액혼합부(60)에서 플라즈마처리된 공기의 미세기포를 포함하여 배출되는 처리대상수가 되고, 처리대상수가 유전체관(20)의 외주면과 접촉하면서 유동하여 유전체관(20)의 냉각작용을 수행한다.

이에 따라, 처리대상수는 그 유동하는 과정에서 커버(55) 내부로의 유입과 유전체관(20)과의 접촉에 의한 유동경로의 변화 및 교란이 발생하여, 플라즈마처리된 공기의 미세기포와 오염물질이 활발하게 유동하면서 서로 접촉하게 되므로, 오염물질의 산화, 분해작용이 보다 촉진될 수 있다.

상기 유전체관(20)은 냉각작용없이 내부에서 플라즈마가 지속적으로 발생되면, 방전열에 의해 피로가 누적되어 파손될 위험이 있다.

상기 전원(32)은 방전극(31)과 대향전극에 연결되어 방전극(31)과 유전체관(20)의 내주면 사이에 플라즈마를 발생시키는 공지의 전원을 채용하되, 고전압 펄스교류전원(32)을 가지는 상용 전자식 네온트랜스를 사용할 수도 있다.

한편, 상기 차단챔버부재(40)는 다수의 유전체관(20)으로부터 각각 배출되는 플라즈마처리된 공기를 모아 연결관(66)으로 공급하는 역할과 함께, 연결관(66)을 통한 역류시 소정량의 물을 일시 수용함으로써 유전체관(20)의 내부로 물이 유입되지 않도록 한다.

차단챔버부재(40)는 내부공간(41)을 형성한 통체로서 타단차단판(51)의 외면에 부착되어 고정되며, 내부공간(41)의 일측에서 유전체관(20)의 타단과 연통되고 내부공간(41)의 타측에서 연결관(66)과 연결된다.

차단챔버부재(40)와 연결관(66)이 연결되는 연결포트(46)와, 내부공간(41)에 돌출되어 연통된 유전체관(20)의 타단은, 바닥면에서부터 간격을 두고 상측에 위치하고 있다.

이에 따라, 차단챔버부재(40)의 내부공간(41)에서는, 바닥에서부터 그 간격에 해당하는 높이(H)만큼의 여유공간(42)이 있어 소정량의 물이 수용될 수 있다.

이는 연결관(66)을 통해 역류된 소정량의 물이 유전체관(20)의 내부로 유입되지 않도록 차단하는 역할을 한다.

차단챔버부재(40)의 바닥면에는 고인 물이 배출될 수 있는 배출구(45)가 더 설치된다.

배출구(45)는 물을 배수시킬 수 있도록 도 3과 같이 잠금캡(45a)이 설치되는 구조이거나, 개폐레버에 의해 개폐가 가능한 밸브가 설치되어 별도의 배수관과 연결될 수 있다.

한편, 도 2를 참조하면, 상기 기액혼합부(60)는 플라즈마처리부(10)와 연결관(66)에 의해 연결되어 플라즈마처리부(10)에서 플라즈마처리되어 배출되는 공기가 연결관(66)을 통해 공급되어 처리대상수와 혼합되는 부분이다.

기액혼합부(60)는 처리대상수가 유동하는 유동관(71)과, 상기 유동관(71)에서 유동단면적이 감소하여 압력강하가 발생하는 넥부(62)를 포함하고, 연결관(66)이 넥부(62)에 연결된다.

넥부(62)는 유입측(61)이 점차 좁아지고 유출측(63)이 점차 넓어지면서 그 사이에 처리대상수의 유동단면적이 갑자기 좁아지는 부분으로서, 넥부(62)에서 처리대상수는 속도가 증가하고 압력이 낮아진다.

넥부(62)에 연결관(66)이 연결됨으로써 베르누이원리 및 벤츄리효과에 의한 넥부(62)의 압력강하로 연결관(66)의 공기가 처리대상수 내로 빨려 들어가면서 혼합이 이루어진다.

특히, 도 2와 같이, 연결관(66)이 넥부(62)에 연결되는 연결노즐(65)은 넥부(62)의 상부에서 넥부(62)의 상측으로 세워져 연결된다.

이러한 구조에 의해, 유동관(71)이 연결노즐(65)보다 높게 설치되지 않는 이상, 연결관(66)을 통해 플라즈마처리부(10) 측으로 물이 역류하는 상황이 거의 발생하지 않고, 역류가 발생하더라도 소량에 그칠 수 있는 구조이다.

이하, 본 발명의 플라즈마 수처리장치의 작용을 순차적으로 상세히 설명한다.

먼저, 전원(32)이 인가되어 유전체관(20) 내부의 방전극(31)에서 방전이 발생하고 외부펌프에 의해 유동관(71)으로 처리대상수가 공급된다.

이에 따라, 기액혼합부(60)의 넥부(62)에서는 처리대상수가 유동단면적이 좁아지는 부분을 통과하면서 압력강하가 발생하고 넥부(62)에 연결된 연결관(66)으로부터 공기를 흡입한다.

도 3을 참조하면, 연결관(66)은 차단챔버부재(40)의 내부공간(41)과 연통되어 있고 차단챔버부재(40)의 내부공간(41)은 유전체관(20)의 내부를 통해 대기와 연통되어 있으므로, 연결관(66)에 발생하는 흡입압에 의해 대기 중의 공기가 유전체관(20)의 일단으로부터 흡입되어 내부로 유동한다.

유전체관(20)의 내부에서는 방전극(31)에서의 방전으로 플라즈마영역이 발생하므로 플라즈마영역을 통과하는 공기가 플라즈마처리되어, 오존, OH라디칼 등의 활성종이 발생한다.

다수 설치된 유전체관(20)으로부터 상기 활성종을 포함한 공기가 차단챔버부재(40)의 내부공간(41)으로 배출되어 함께 모여 연결관(66)으로 순차적으로 유동한다.

연결관(66)을 통해 유동하는 플라즈마처리된 공기는 넥부(62)에서 처리대상수에 자동흡입됨으로써 미세한 기포형태로 처리대상수내에 분산되며, 처리대상수 내의 오존, 라디칼 물질 등은 오염물질과 접촉하면서 오염물질을 산화, 분해시키면서 정화작용을 수행한다.

이러한 작용은 유동관(71)을 처리대상수가 유동하면서 플라즈마처리된 공기를 흡입하여 미세기포를 처리대상수에 분산시켜 정화처리하는 방식이므로, 처리대상수는 계속적인 유동상태를 유지할 수 있어 다량의 처리대상수를 처리할 수 있는 방식이다.

한편, 정전 등의 상황이 발생하거나, 일시적으로 처리대상수가 유동관(71)에서의 유동이 정지하는 등의 원인으로 연결관(66)을 통한 물의 역류가 발생할 수 있다.

이때, 연결관(66)이 넥부(62)에 연결되는 연결노즐(65)은 비교적 직경이 작은 관통공의 형상이고, 연결관(66)에는 대기압이 작용하고 있을 뿐 펌프압 등이 존재하지 않으며, 연결관(66)이 넥부(62)에 연결되는 연결노즐(65)은 넥부(62)의 상부에서 넥부(62)의 상측으로 세워져 연결되어 있는 바, 유동관(71)이 연결노즐(65)보다 높게 설치되지 않는 이상, 연결관(66)을 통해 플라즈마처리부(10) 측으로 물이 역류하는 상황이 거의 발생하지 않고, 일시적 역류가 발생하더라도 소량에 그칠 수 있는 구조이다.

연결관(66)을 통해 역류된 물은 도 4와 같이 차단챔버부재(40)의 내부공간(41)으로 유입되고, 내부공간(41)에서는 바닥에서부터 물이 고이게 된다.

차단챔버부재(40)와 연결관(66)이 연결되는 연결포트(46)와, 내부공간(41)에 돌출되어 연통된 유전체관(20)의 타단은, 바닥면에서부터 간격을 두고 상측에 위치하고 있으므로, 차단챔버부재(40)의 내부공간(41)의 바닥에서부터 그 간격에 해당하는 높이(H)만큼 소정량의 물이 수용될 수 있다.

이는 연결관(66)을 통해 역류된 소정량의 물이 유전체관(20)의 내부로 유입되지 않도록 차단하는 역할을 하여, 누전 등의 위험상황을 방지하도록 한다.

차단챔버부재(40)의 바닥면에 고인 물은 배출구(45)를 열어 배출할 수 있다.

한편, 도 5는 본 발명의 다른 실시예에 관한 플라즈마처리부(10)를 도시하고 있다.

도 5를 참조하면, 플라즈마처리부(10)의 차단챔버부재(40)에는 내부공간(41)에 차단격벽(48)이 설치된다.

상기 차단격벽(48)은 바닥에서부터 수직으로 세워지면서 유전체관(20)의 타단과 연결관(66)이 연결되는 연결포트(46)를 가로막아 차단하고 있다.

또한, 차단격벽(48)이 설치됨에 의해, 연결관(66)이 연결되는 연결포트(46)와 차단격벽(48) 사이에 저수공간(49)이 형성될 수 있고, 저수공간(49)은 연결관(66)이 연결되는 연결포트(46)의 위치까지의 높이만큼 저수가 가능하다.

상기 차단격벽(48)의 설치로 인해, 유전체관(20)의 타단의 설치높이에 구애받지 않고 연결관(66)이 연결되는 연결포트(46)의 위치까지의 저수높이를 가지는 저수공간(49)을 형성함으로써 보다 많은 양의 물의 수용이 가능하다.

아울러, 차단격벽(48)이 유전체관(20)의 타단과, 연결관(66)이 연결되는 연결포트(46)를 그들 사이에서 가로막아, 연결관(66)을 통해 역류하는 물이 튀어 유전체관(20)의 타단으로 유입되는 상황도 방지할 수 있다.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 상기의 실시예는 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에 있는 일 실시예에 불과하며, 동업계의 통상의 기술자에 있어서는, 본 발명의 기술적인 사상 내에서 다른 변형된 실시가 가능함은 물론이다.

10; 플라즈마처리부 20; 유전체관
21; 타단부 22; 일단부
30; 플라즈마발생기 31; 방전극
31a; 체적방전극 31b; 연면방전극
32; 전원 40; 차단챔버부재
41; 내부공간 42; 여유공간
45; 배출구 45a; 잠금캡
46; 연결포트 48; 차단격벽
49; 저수공간 51; 타단차단판
52; 일단차단판 55; 커버
56; 냉각수유입구 57; 냉각수배출구
60; 기액혼합부 61; 유입측
62; 넥부 63; 유출측
66; 연결관 71; 유동관

Claims (4)

1. 공기를 플라즈마영역에 통과시켜 배출하는 플라즈마처리부(10)와,
   상기 플라즈마처리부(10)와 연결관(66)에 의해 연결되어 상기 플라즈마처리부(10)에서 플라즈마처리되어 배출되는 공기가 상기 연결관(66)을 통해 공급되어 처리대상수와 혼합되는 기액혼합부(60)를 포함하되,
   상기 플라즈마처리부(10)는
   일단에서 공기를 흡입하고 타단에서 배출하며 길이방향이 가로방향으로 배치되는 유전체관(20)과,
   상기 유전체관(20)의 내부에서 플라즈마를 발생시켜 유동하는 공기를 플라즈마처리하는 플라즈마발생기(30)와,
   상기 유전체관(20)의 타단부(21)를 고정시키는 타단고정부재와,
   내부공간(41)의 일측에서 상기 유전체관(20)의 타단과 연통되고 내부공간(41)의 타측에서 상기 연결관(66)과 연결되는 차단챔버부재(40)를 포함하고,
   상기 차단챔버부재(40)는,
   바닥면에서부터 간격을 두고 상측에, 상기 연결관(66)과 연결되는 연결포트(46)와, 상기 유전체관(20)의 타단이 설치됨으로서, 바닥에 소정량의 물이 수용될 수 있으며,
   상기 유전체관(20)의 일단은 대기와 연통되어 대기 중의 공기를 내부로 흡입할 수 있고,
   상기 기액혼합부(60)는
   처리대상수가 유동하는 유동관(71)과,
   상기 유동관(71)에서 유동단면적이 감소하여 압력강하가 발생하는 넥부(62)를 포함하며,
   상기 연결관(66)이 상기 넥부(62)에 연결됨으로써,
   상기 압력강하에 의해 대기 중의 공기가 유전체관(20)과 상기 차단챔버부재(40)와 상기 연결관(66)을 순차로 통과하여 상기 넥부(62)를 통해 상기 처리대상수에 유입되는 유동이 발생하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 수처리장치
2. 삭제
3. 제1항에 있어서,
   상기 차단챔버부재(40)는 상기 타단고정부재의 외면에 고정되고,
   상기 유전체관(20)을 둘러싸는 통형상의 커버(55)가 설치되며,
   상기 커버(55)의 일단과 타단을 차단하는 일단차단판(52) 및 타단차단판(51)이 더 설치되고,
   상기 유전체관(20)은 상기 일단차단판(52) 및 상기 타단차단판(51)을 관통하여 설치됨으로써 상기 타단차단판(51)이 상기 타단고정부재이며,
   상기 커버(55)의 내부에는 상기 기액혼합부(60)에서 공기와 혼합되어 배출되는 처리대상수가 유동함으로써 상기 유전체관(20)을 냉각시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 수처리장치
4. 삭제

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