KR102090708B1 - 레이저 어닐링 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 레이저 어닐링 중 반사된 레이저빔에 의한 오차 발생을 최소화할 수 있는 레이저 어닐링 장치를 위하여, 조사대상체로 조사될 레이저빔이 통과해 방출될 수 있는 렌즈부와, 상기 렌즈부를 수용하되 레이저빔이 통과할 수 있는 개구를 갖는 렌즈부하우징과, 상기 렌즈부를 통과해 방출되어 조사대상체에 도달한 후 조사대상체에서 반사된 레이저빔의 적어도 일부를 차단할 수 있는 차단플레이트와, 상기 차단플레이트와 상기 렌즈부하우징 사이에 배치된 냉각부를 구비하는, 레이저 어닐링 장치를 제공한다.

Description

레이저 어닐링 장치{Laser annealing apparatus}
본 발명은 레이저 어닐링 장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는 레이저 어닐링 중 반사된 레이저빔에 의한 오차 발생을 최소화할 수 있는 레이저 어닐링 장치에 관한 것이다.
일반적으로 TFT LCD나 능동 구동형 유기 발광 디스플레이 장치 등의 경우, 각 화소의 발광여부나 발광정도를 해당 화소에 전기적으로 연결된 박막 트랜지스터를 이용하여 제어한다. 그러한 박막 트랜지스터는 다양한 구성을 취할 수 있지만, 높은 이동도 등의 장점을 가진 폴리실리콘을 활성층을 사용하는 것이 바람직하며, 이를 위해 비정질실리콘을 폴리실리콘으로 결정화하는 공정이 필요하다.
그러나 이러한 종래의 결정화 공정에 사용되는 레이저 어닐링 장치에는 레이저 어닐링을 수행하는 과정에서 레이저빔의 조사 정확도가 저하된다는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 포함하여 여러 문제점들을 해결하기 위한 것으로서, 레이저 어닐링 중 반사된 레이저빔에 의한 오차 발생을 최소화할 수 있는 레이저 어닐링 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. 그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 이에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 일 관점에 따르면, 조사대상체로 조사될 레이저빔이 통과해 방출될 수 있는 렌즈부와, 상기 렌즈부를 수용하되 레이저빔이 통과할 수 있는 개구를 갖는 렌즈부하우징과, 상기 렌즈부를 통과해 방출되어 조사대상체에 도달한 후 조사대상체에서 반사된 레이저빔의 적어도 일부를 차단할 수 있는 차단플레이트와, 상기 차단플레이트와 상기 렌즈부하우징 사이에 배치된 냉각부를 구비하는, 레이저 어닐링 장치가 제공된다.
상기 렌즈부를 통과해 방출되어 조사대상체에 도달하는 레이저빔은 조사대상체에 0이 아닌 입사각을 갖도록 입사하게 할 수 있다. 아울러 상기 차단플레이트는 상기 렌즈부하우징 하부에 배치되어, 조사대상체에서 반사되어 상기 렌즈부하우징으로 향하는 레이저빔을 차단하도록 할 수 있다.
상기 냉각부는, 유입구와 유출구를 갖는 유로가 내부에 형성된 것일 수 있다.
상기 냉각부는 상기 렌즈부하우징의 상기 개구에 대응하는 개구부를 갖는 플레이트 형상일 수 있다. 나아가 상기 냉각부는 상기 개구부의 일측에서 상기 차단플레이트와 면접촉하는 것일 수 있다.
상기 냉각부는 외곽에, 상기 렌즈부하우징 방향으로 돌출하여 상기 렌즈부하우징과 컨택하는 하우징컨택부를 가질 수 있다. 상기 하우징컨택부는 상기 냉각부 외곽을 일주(一周)할 수 있다. 아울러, 상기 냉각부와 상기 렌즈부하우징 사이의 공간을 퍼징할 수 있는 퍼징라인을 더 구비할 수 있다. 구체적으로, 상기 퍼징라인은 상기 하우징컨택부를 통해 상기 냉각부와 상기 렌즈부하우징 사이의 공간을 퍼징할 수 있다.
한편, 상기 냉각부의 위치를 조정하여 상기 개구부의 위치를 변경할 수 있는 냉각부위치조절부를 가질 수 있다.
상기 냉각부는 상기 차단플레이트의 상기 렌즈부하우징 방향의 면에 접촉할 수 있다.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명의 일 실시예에 따르면, 레이저 어닐링 중 반사된 레이저빔에 의한 오차 발생을 최소화할 수 있는 레이저 어닐링 장치를 구현할 수 있다. 물론 이러한 효과에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 개략적으로 도시하는 개념도이다.
도 2는 도 1의 레이저 어닐링 장치의 일부분인 차단플레이트를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 3은 도 1의 레이저 어닐링 장치의 일부분인 냉각부를 개략적으로 도시하는 사시도이다.
도 4는 비교예에 따른 레이저 어닐링 장치를 사용할 시의 오차 발생 정도를 개략적으로 보여주는 그래프이다.
도 5는 도 1의 레이저 어닐링 장치를 사용할 시의 오차 발생 정도를 개략적으로 도시하는 그래프이다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 개략적으로 도시하는 개념도이다.
도 7은 도 6의 레이저 어닐링 장치의 일부분인 냉각부를 개략적으로 도시하는 사시도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 개략적으로 도시하는 개념도이다.
도 9는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 개략적으로 도시하는 개념도이다.
도 10은 도 9의 레이저 어닐링 장치의 일부분인 냉각부를 개략적으로 도시하는 사시도이다.
도 11은 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치의 일부분인 냉각부를 개략적으로 도시하는 사시도이다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있는 것으로, 이하의 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 또한 설명의 편의를 위하여 도면에서는 구성 요소들이 그 크기가 과장 또는 축소될 수 있다.
이하의 실시예에서, x축, y축 및 z축은 직교 좌표계 상의 세 축으로 한정되지 않고, 이를 포함하는 넓은 의미로 해석될 수 있다. 예를 들어, x축, y축 및 z축은 서로 직교할 수도 있지만, 서로 직교하지 않는 서로 다른 방향을 지칭할 수도 있다.
또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.
한편, 도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대 또는 축소하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 각종 구성요소가 다른 구성요소 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 구성요소 "바로 상에" 있는 경우뿐 아니라 그 사이에 다른 구성요소가 개재된 경우도 포함한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 개략적으로 도시하는 개념도이고, 도 2는 도 1의 레이저 어닐링 장치의 일부분인 차단플레이트를 개략적으로 도시하는 단면도이며, 도 3은 도 1의 레이저 어닐링 장치의 일부분인 냉각부를 개략적으로 도시하는 사시도이다.
본 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치는, 렌즈부(10), 렌즈부하우징(20), 차단플레이트(30) 및 냉각부(40)를 구비한다.
렌즈부(10)는 조사대상체(예컨대 기판(100))로 조사될 레이저빔(ℓ2)이 통과해 방출될 수 있다. 이러한 렌즈부(10)는 프로젝션 렌즈를 포함할 수 있다. 물론 렌즈부(10)에서 조사될 레이저빔(ℓ2)은 레이저빔 생성장치(미도시)에서 생성된 레이저빔(ℓ1)이 반사경(1) 등을 통해 반사되어 렌즈부(10)로 진입한 것일 수 있다.
렌즈부하우징(20)은 렌즈부(10)를 수용하되 레이저빔(ℓ2)이 통과할 수 있는 개구(22, 24)를 갖는다. 개구(22)는 반사경(1)에서 반사된 레이저빔(ℓ2)이 렌즈부(10)로 진입할 수 있도록 하며, 개구(24)는 렌즈부(10)를 통과한 레이저빔(ℓ2)이 렌즈부하우징(20) 외부로 방출될 수 있도록 한다.
렌즈부(10)를 통과한 레이저빔은, 비정질실리콘을 결정화하여 폴리실리콘으로 만든다. 즉, 기판(100) 상의 비정질실리콘 상에 레이저빔(ℓ2)이 입사되어 비정질실리콘의 용융과 고체화 과정이 반복되도록 함으로써, 비정질실리콘을 결정화하여 폴리실리콘으로 만든다.
이와 같이 레이저빔(ℓ2)의 조사에 의해 기판(100) 상의 비정질실리콘은 용융과 고체화 과정을 반복하게 되는바, 용융상태일 때의 실리콘은 높은 반사율을 갖기에 이때 조사된 레이저빔(ℓ2)의 상당 부분이 반사된다. 이렇게 조사대상체에서 반사된 레이저빔(ℓ3)은 렌즈부(10)나 렌즈부하우징(20) 또는 레이저 어닐링 장치로 향하여 그 부분에 영향을 미칠 수 있기에, 이를 방지하는 것이 필요하다.
차단플레이트(30)는 렌즈부(10)를 통과해 방출되어 조사대상체, 예컨대 기판(100) 상의 실리콘에 도달한 후 조사대상체에서 반사된 레이저빔(ℓ3)의 적어도 일부를 차단할 수 있다. 물론 차단플레이트(30)가 조사대상체에서 반사된 레이저빔(ℓ3)만을 차단해야 하고 렌즈부(10)에서 방출되어 조사대상체로 향하는 레이저빔(ℓ2)은 차단하면 안 되기에, 렌즈부(10)를 통과해 방출되어 조사대상체에 도달하는 레이저빔(ℓ2)이 조사대상체에 0이 아닌 입사각을 갖은 채 입사하도록, 즉 수직으로 입사하지 않도록 할 필요가 있다. 이러한 차단플레이트(30)는 렌즈부하우징(20) 하부에 배치되어, 조사대상체에서 반사되어 렌즈부하우징(20) 또는 렌즈부(10)로 향하는 레이저빔(ℓ3)을 차단할 수 있다.
차단플레이트(30)는 조사대상체에서 반사된 레이저빔(ℓ3)을 단순히 차단하는 것만이 아니라, 산란시킬 수도 있다. 이를 위해 차단플레이트(30)는 도 2에 도시된 것과 같이, 조사대상체에서 반사된 레이저빔(ℓ3)이 입사하는 면이 엠보싱처리된 것일 수 있다. 엠보싱처리는 불규칙하게 이루어짐으로써, 조사대상체에서 반사된 레이저빔(ℓ3)이 차단플레이트(30)에 입사할 시 난반사되어 레이저 어닐링 장치의 다른 특정 부분에 미치는 영향을 최소화할 수 있다.
냉각부(40)는 차단플레이트(30)와 렌즈부하우징(20) 사이에 배치된다. 이러한 냉각부(40)는 조사대상체에서 반사된 레이저빔(ℓ3)에 의해 렌즈부하우징(20)이나 렌즈부(10) 등이 영향 받는 것을 최소화하는 역할을 한다.
구체적으로, 조사대상체에서 반사된 레이저빔(ℓ3)이 차단플레이트(30)에 입사함에 따라 차단플레이트(30) 자체의 온도가 급격하게 상승하게 되는바, 이에 따라 고온의 차단플레이트(30)로부터의 복사(radiation) 등에 의해 렌즈부하우징(20)이나 렌즈부(10) 등이 영향을 받게 된다. 이 과정에서 매우 높은 정렬 수준을 만족해야만 하는 렌즈부하우징(20)이나 렌즈부(10) 등의 정렬이 틀어지거나 온도 상승에 의한 렌즈부(10)의 광학적 특성이 영향을 받아, 레이저 어닐링 장치의 전반적인 정밀도가 저하될 수 있다.
냉각부(40)는 전술한 바와 같이 차단플레이트(30)와 렌즈부하우징(20) 사이에 배치되는바, 이에 따라 차단플레이트(30)의 온도가 아무리 높아진다고 하더라도 렌즈부하우징(20)이나 렌즈부(10) 등이 차단플레이트(30)로부터의 복사(radiation) 등에 의해 영향을 받는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 그 결과, 레이저 어닐링 장치의 전반적인 정밀도를 계속해서 유지할 수 있다.
냉각부(40)는 다양한 구성을 가질 수 있지만, 도 3에 도시된 것과 같이 유입구(42a)와 유출구(42b)를 갖는 유로(42)가 내부에 형성된 것일 수 있다. 이러한 유로(42)에는 냉각공기가 흐르거나 냉각수가 흐름으로써, 차단플레이트(30)의 온도 상승에도 불구하고 냉각부(40)의 성능이 계속해서 유지되도록 할 수 있다.
도 4는 비교예에 따른 레이저 어닐링 장치를 사용할 시의 오차 발생 정도를 개략적으로 보여주는 그래프로서, 기판을 투입한 후 20초간 레이저 어닐링을 수행할 시의 오차 발생 정도를 보여주는 그래프이다. 도 4의 그래프에서 가로축은 투입된 기판의 번호를 나타내고 세로축은 레이저빔의 변위량(드리프트 양, 단위는 ㎛)을 나타낸다.
도 4를 참조하면, 차단플레이트에서 발생한 열이 렌즈부나 렌즈부하우징 등에 누적적으로 영향을 주어 레이저 어닐링 장치의 정밀도를 저하시킴에 따라, 후속으로 투입되는 기판일수록 레이저빔의 쉬프트 정도나 로테이션 정도가 매우 크게 나타나는 것을 알 수 있다. 구체적으로, 52번째 투입된 기판을 기준으로 레이저빔의 쉬프트양은 210㎛에 이르고 로테이션양은 28㎛에 이르는 것으로 나타났다. 이와 같은 레이저빔 조사의 정밀도 저하는 비정질실리콘을 폴리실리콘으로 결정화함에 있어서 전기적 특성의 편차가 커지는 등 품질의 저하를 야기할 수밖에 없고, 이에 따라 이를 바탕으로 제작되는 TFT LCD나 능동구동형 유기 발광 디스플레이 장치의 성능 저하를 야기할 수밖에 없다.
하지만 본 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 사용할 시의 오차 발생 정도를 개략적으로 도시하는 그래프인 도 5를 참조하면, 본 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 사용할 경우에는 종래의 레이저 어닐링 장치를 사용하는 경우보다 레이저빔의 쉬프트양이나 로테이션양이 훨씬 적다는 것을 확인할 수 있다. 구체적으로, 본 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 이용할 경우 52번째 투입된 기판을 기준으로 레이저빔의 쉬프트양은 103㎛에 그쳤고 로테이션양은 10㎛에 그쳐, 종래의 레이저 어닐링 장치를 사용하는 경우보다 그 오차가 획기적으로 줄어드는 것으로 나타났다. 따라서 본 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 이용하게 되면, 균일한 전기적 특성을 갖는 폴리실리콘을 만들 수 있으며, 따라서 이를 바탕으로 TFT LCD나 능동구동형 유기 발광 디스플레이 장치를 제조할 시 불량률을 획기적으로 낮출 수 있다.
도 6은 본 발명의 다른 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 개략적으로 도시하는 개념도이고, 도 7은 도 6의 레이저 어닐링 장치의 일부분인 냉각부를 개략적으로 도시하는 사시도이다.
본 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치가 전술한 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치와 상이한 점은, 냉각부(40)의 형상이 상이하다는 점이다. 본 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치가 갖는 냉각부(40)는 도 6 및 도 7에 도시된 것과 같이 렌즈부하우징(20)의 개구(24)에 대응하는 개구부(44)를 갖는 플레이트 형상이다. 물론 이 경우에도 냉각부(40)는 유입구(42a)와 유출구(42b)를 갖는 유로(42)가 내부에 위치할 수 있다.
이와 같은 본 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치의 경우, 냉각부(40)가 렌즈부하우징(20)의 차단플레이트(30)에 대응하는 부분(A)만을 렌즈부하우징(20) 하부의 차단플레이트(30)로부터 차폐하는 것이 아니라, 다른 부분(B)까지 포함하여 렌즈부하우징(20)의 개구(24)를 제외한 렌즈부하우징(20)을 그 하부로부터 대부분 차폐할 수 있다. 이를 통해 차단플레이트(30)로부터 렌즈부하우징(20)의 차단플레이트(30)에 대응하는 부분(A)으로 직접 향하는 복사열뿐만 아니라, 차단플레이트(30)로부터 렌즈부하우징(20)의 다른 부분으로 향하는 복사열까지 모두 차단함으로써, 레이저 어닐링 장치가 더욱 확실하게 성능을 유지할 수 있도록 할 수 있다.
이와 같이 냉각부(40)가 개구부(44)를 가져 이 개구부(44)를 통해 레이저빔(ℓ2)이 조사대상체 방향으로 진행되도록 할 경우, 레이저빔(ℓ2)의 조사방향이나 각도 등이 변경될 시 냉각부(40)에 의해 레이저빔(ℓ2)의 조사가 방해되지 않도록, 냉각부(40)의 위치를 조정하여 그 개구부(44)의 위치를 변경할 수 있는 냉각부위치조절부(미도시)를 구비할 수도 있다.
한편, 지금까지 설명하면서 참조한 도면에서는 냉각부(40)가 렌즈부하우징(20)과 차단플레이트(30) 사이에 존재하되 차단플레이트(30)로부터 이격된 것으로 도시하였으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 개략적으로 도시하는 개념도인 도 8에 도시된 것과 같이, 냉각부(40)는 개구부(44)의 일측(+x 방향의 부분)에서 차단플레이트(30)와 면접촉할 수도 있다. 이를 통해 반사된 레이저빔(ℓ3)에 의해 차단플레이트(30)의 온도가 급격하게 상승하는 것 자체를 막아, 렌즈부(10)나 렌즈부하우징(20) 등이 열에 의해 영향을 받는 것을 방지할 수 있다.
이는 냉각부(40)가 개구부(44)를 갖는 형상일 경우뿐만 아니라, 도 1에 도시된 것과 같이 개구부를 갖지 않는 경우에도 적용 가능함은 물론이다. 즉, 그 경우에도 냉각부(40)는 차단플레이트(30)의 렌즈부하우징(20) 방향의 면에 접촉할 수 있다.
물론 레이저 어닐링 장치에 있어서 차단플레이트(30)의 온도가 높게 올라가지 않도록 하는 것도 바람직하지만 가장 중요한 것은 차단플레이트(30)의 온도변화에도 불구하고 렌즈부(10)나 렌즈부하우징(20)이 온도변화에 의한 영향을 받는 것을 최소화하는 것이다. 따라서 냉각부(40)가 도시된 것과 달리 렌즈부하우징(20)의 하면(-y 방향의 면)에 면접촉하도록 함으로써, 렌즈부하우징(20) 및 그 내부의 렌즈부(10)의 온도가 언제나 일정하도록 하여 레이저 어닐링 장치의 정밀한 성능이 계속해서 유지되도록 할 수도 있다.
도 9는 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치를 개략적으로 도시하는 개념도이고, 도 10은 도 9의 레이저 어닐링 장치의 일부분인 냉각부를 개략적으로 도시하는 사시도이다.
본 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치의 경우, 냉각부(40)가 외곽에, 렌즈부하우징(20) 방향(+y 방향)으로 돌출하여 렌즈부하우징(20)과 컨택하는 하우징컨택부(46)를 갖는다. 이 하우징컨택부(46)는 필요하다면 냉각부(40) 외곽을 일주(一周)하는 형상일 수 있다. 이를 통해 냉각부(40)의 개구부(44)나 렌즈부하우징(20)의 개구(24)를 제외하고는 렌즈부하우징(20)과 냉각부(40) 사이의 공간이 외부로부터 대부분 차폐되도록 함으로써, 레이저 어닐링 공정 등의 과정에서 렌즈부하우징(20) 내로 불순물이 들어오는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.
나아가, 본 발명의 또 다른 일 실시예에 따른 레이저 어닐링 장치의 일부분인 냉각부(40)를 개략적으로 도시하는 사시도인 도 11에 도시된 것과 같이 냉각부(40)에 퍼징가스 유입구(48a, 48b)를 두고 이 퍼징가스 유입구(48a, 48b)에 연결된 퍼징라인(미도시)을 통해 질소 등과 같은 퍼징가스가 냉각부(40)와 렌즈부하우징(20) 사이의 공간에 공급되도록 할 수도 있다. 이 퍼징가스는 이후 냉각부(40)의 개구부(44) 등을 통해 하방으로 배출되기에, 하방으로부터 냉각부(40)의 개구부(44) 등을 통해 렌즈부(10) 방향으로 불순물 등이 침투하는 것을 사전에 확실하게 차단할 수 있다. 퍼징가스 유입구(48a, 48b)는 도시된 것과 같이 하우징컨택부(46)에 형성되어, 퍼징라인(미도시)이 하우징컨택부(46)를 통해 냉각부(40)와 렌즈부하우징(20) 사이의 공간을 퍼징할 수 있도록 할 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
1: 반사경 ℓ1, ℓ2, ℓ3: 레이저빔
10: 렌즈부 20: 렌즈부하우징
22, 24: 개구 30: 차단플레이트
40: 냉각부 42: 유로
42a: 유입구 42b: 유출구
44: 개구부 22, 24: 통과할 수 있는 개구
46: 하우징컨택부 48a, 48b: 퍼징가스 유입구
100: 기판

Claims (12)

  1. 조사대상체로 조사될 레이저빔이 통과해 방출될 수 있는 렌즈부;
    상기 렌즈부를 수용하되 레이저빔이 통과할 수 있는 개구를 갖는 렌즈부하우징;
    상기 렌즈부하우징 하부에 배치되어, 상기 렌즈부를 통과해 방출되어 조사대상체에 도달한 후 조사대상체에서 반사된 레이저빔의 적어도 일부를 차단할 수 있는, 차단플레이트;
    상기 차단플레이트와 상기 렌즈부하우징 사이에 배치되고, 상기 렌즈부하우징의 상기 개구에 대응하는 개구부를 갖는 플레이트 형상이며, 상기 렌즈부하우징 방향으로 돌출하여 상기 렌즈부하우징과 직접 컨택하고 외곽을 일주(一周)하는 하우징컨택부를 외곽에 갖는, 냉각부; 및
    상기 냉각부와 상기 렌즈부하우징 사이의 공간을 퍼징하여 퍼징가스가 상기 개구부를 통해 배출되도록 할 수 있는, 퍼징라인;
    을 구비하는, 레이저 어닐링 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 렌즈부를 통과해 방출되어 조사대상체에 도달하는 레이저빔은 조사대상체에 0이 아닌 입사각을 갖도록 입사하는, 레이저 어닐링 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 차단플레이트는 조사대상체에서 반사되어 상기 렌즈부하우징으로 향하는 레이저빔을 차단할 수 있는, 레이저 어닐링 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 냉각부는, 유입구와 유출구를 갖는 유로가 내부에 형성된, 레이저 어닐링 장치.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 냉각부는 상기 개구부의 일측에서 상기 차단플레이트와 면접촉하는, 레이저 어닐링 장치.
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서,
    상기 퍼징라인은 상기 하우징컨택부를 통해 상기 냉각부와 상기 렌즈부하우징 사이의 공간에 퍼징가스를 공급할 수 있는, 레이저 어닐링 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 냉각부의 위치를 조정하여 상기 개구부의 위치를 변경할 수 있는 냉각부위치조절부를 갖는, 레이저 어닐링 장치.
  12. 제3항에 있어서,
    상기 냉각부는 상기 차단플레이트의 상기 렌즈부하우징 방향의 면에 접촉하는, 레이저 어닐링 장치.
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102253448B1 (ko) * 2015-03-27 2021-05-20 삼성디스플레이 주식회사 레이저 결정화 장치 및 이를 이용한 결정층을 갖는 기판의 제조방법
KR102416569B1 (ko) 2015-08-27 2022-07-04 삼성디스플레이 주식회사 레이저 결정화 장치
KR102538119B1 (ko) * 2016-01-22 2023-05-26 주식회사 포스코 방향성 전기강판의 자구미세화 방법과 그 장치
KR101693511B1 (ko) * 2016-01-22 2017-01-06 주식회사 포스코 방향성 전기강판의 자구미세화 방법과 그 장치
KR101739865B1 (ko) 2016-01-22 2017-05-25 주식회사 포스코 방향성 전기강판의 자구미세화 방법과 그 장치
KR102148383B1 (ko) 2016-01-22 2020-08-26 주식회사 포스코 방향성 전기강판의 자구미세화 방법과 그 장치
KR101739866B1 (ko) 2016-01-22 2017-05-25 주식회사 포스코 방향성 전기강판의 자구미세화 방법과 그 장치
KR101739868B1 (ko) 2016-01-22 2017-05-25 주식회사 포스코 방향성 전기강판의 자구미세화 방법과 그 장치
KR101862088B1 (ko) * 2016-03-03 2018-05-30 에이피시스템 주식회사 Ela 공정용 레이저 빔 조절 모듈
KR102490081B1 (ko) * 2016-03-23 2023-01-18 삼성디스플레이 주식회사 레이저 결정화 장치 및 방법
KR101944900B1 (ko) * 2016-12-22 2019-02-01 주식회사 포스코 방향성 전기강판의 자구미세화 방법과 그 장치
JP6633030B2 (ja) * 2017-07-14 2020-01-22 本田技研工業株式会社 レーザ遮光装置
CN108188598A (zh) * 2017-12-27 2018-06-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 准分子激光退火设备
TWI822168B (zh) * 2022-07-06 2023-11-11 長庚大學 多晶金屬薄膜光熱處理系統及其運作方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61135497A (ja) * 1984-12-06 1986-06-23 Nippon Steel Corp レ−ザ反射光阻止用遮幣装置
JPH0673346B2 (ja) * 1985-01-17 1994-09-14 日本電気株式会社 レ−ザアニ−リング装置
JPH0525535A (ja) * 1991-07-16 1993-02-02 Nissan Motor Co Ltd レーザ焼入れ装置
JPH05212572A (ja) * 1992-02-05 1993-08-24 Fanuc Ltd レーザ加工装置
JP2983148B2 (ja) * 1994-12-02 1999-11-29 日本軽金属株式会社 レーザ加工装置
JPH11104875A (ja) * 1997-08-07 1999-04-20 Hitachi Cable Ltd Co2レーザ装置及びそれを用いた非金属材料部品の製造方法
JP2000012461A (ja) 1998-06-17 2000-01-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 結晶質半導体薄膜の作製方法
JP3751772B2 (ja) * 1999-08-16 2006-03-01 日本電気株式会社 半導体薄膜製造装置
JP2002076509A (ja) 2000-08-25 2002-03-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd レーザ光源
JP2002261042A (ja) 2000-12-26 2002-09-13 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザ照射装置およびレーザ照射方法
MY127193A (en) 2000-12-26 2006-11-30 Semiconductor Energy Lab Laser irradiation apparatus and method of laser irradiation
JP5091378B2 (ja) * 2001-08-17 2012-12-05 株式会社ジャパンディスプレイセントラル レーザアニール方法及びレーザアニール条件決定装置
US6849831B2 (en) * 2002-03-29 2005-02-01 Mattson Technology, Inc. Pulsed processing semiconductor heating methods using combinations of heating sources
US6747245B2 (en) * 2002-11-06 2004-06-08 Ultratech Stepper, Inc. Laser scanning apparatus and methods for thermal processing
US7098155B2 (en) * 2003-09-29 2006-08-29 Ultratech, Inc. Laser thermal annealing of lightly doped silicon substrates
US7148159B2 (en) * 2003-09-29 2006-12-12 Ultratech, Inc. Laser thermal annealing of lightly doped silicon substrates
US7279721B2 (en) * 2005-04-13 2007-10-09 Applied Materials, Inc. Dual wavelength thermal flux laser anneal
SG156537A1 (en) * 2008-04-09 2009-11-26 Toshiba Matsushita Display Tec Methods of laser annealing a semiconductor layer and semiconductor devices produced thereby
JP2013149924A (ja) * 2012-01-23 2013-08-01 Japan Display Central Co Ltd レーザアニール装置
JP5604458B2 (ja) * 2012-01-27 2014-10-08 株式会社ジャパンディスプレイ レーザアニール装置
CN102820614B (zh) * 2012-08-21 2015-08-05 山东能源重装集团大族再制造有限公司 一种半导体激光器

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