JPH05212572A - レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工装置

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JPH05212572A
JPH05212572A JP4047733A JP4773392A JPH05212572A JP H05212572 A JPH05212572 A JP H05212572A JP 4047733 A JP4047733 A JP 4047733A JP 4773392 A JP4773392 A JP 4773392A JP H05212572 A JPH05212572 A JP H05212572A
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JP
Japan
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workpiece
laser beam
laser
reflection mirror
focus
Prior art date
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Pending
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JP4047733A
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English (en)
Inventor
Atsushi Mori
敦 森
Yoshinori Nakada
嘉教 中田
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Fanuc Corp
Original Assignee
Fanuc Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 レーザ加工の一つである、焦点を外したスポ
ットによる熱処理加工をレーザ出力の損失を少なくし、
効率良く行えるレーザ加工装置の提供。 【構成】 レーザ加工装置において、レーザビーム4の
焦点を被加工物5の表面から外れた位置に設定できる焦
点位置決め機構と、被加工物表面からの光を被加工物表
面に向けて反射する再反射ミラー7を設ける。再反射ミ
ラーは加工ヘッド1と被加工物5の間に配置され、レー
ザビーム4を通過させる貫通孔8を有している。再反射
ミラー7を作動位置と退避位置とに移動可能としたり、
冷却機構を設けることがある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、被加工物に溶接、焼
き入れなどの熱処理加工を行うレーザ加工装置に関す
る。
【0002】
【従来技術】近年レーザ発振器の大出力化が進むにつれ
て、レーザ溶接、レーザ焼き入れと入ったレーザによる
熱処理への応用が進んでいる。レーザ加工は、非常に狭
い範囲にレーザビームを集光照射して被加工物を急速に
加熱して加工できることが特徴である。
【0003】レーザビームによる溶接加工では、通常、
被加工物表面に焦点を合わせてレーザビームが照射され
る。この場合の被加工物上の集光点(スポット)はきわ
めて小さく、高いエネルギ密度となるので、被加工物表
面は急速に加熱されて溶け込む。この溶けこみ個所は加
工ヘッドあるいは被加工物の移動にともなうスポットの
移動と共に移動し、所要長さの溶接が行われる。溶けこ
み個所は周囲に対して非常に小さな個所なので、従来の
熱処理加工のように広い範囲にわたり熱による影響を残
してしまうことがない利点がある。
【0004】しかし、溶接過程において、周囲に対して
非常に小さな溶けこみ個所は、スポットが移動して去る
と、急速に熱を失い、急速に冷却される。このためにレ
ーザビームによる溶接は、溶けこみ個所が急冷されるこ
とが原因で、焼き入れ性がある材料の場合に焼きが入っ
て割れたり(焼き割れ)、また、他の材料であっても溶
けて膨脹した部分が元に戻らない間に固まってしまい、
芯の部分が割れてしまう(引け割れ)と入った現象を生
じる。
【0005】このような現象は、抵抗やガスなどの副次
的な熱源を利用して、溶接個所を予熱し、また、溶融後
を徐冷するようにすれば防ぐことができる。しかし、副
次的熱源を利用することは熱処理装置としてコスト高に
なるし、なによりも、熱を加える部分を必要最小限に止
めることができるとか、ビームを伝送することによって
どんなところでも加工できるという、レーザによる熱処
理加工の長所を充分に活かすことができない。
【0006】一方、被加工物表面に焦点を外したレーザ
ビームを照射して行う熱処理加工がある。焼き入れ加工
や焼き鈍し加工、あるいは溶接の場合に溶融される幅を
大きくする場合である。前記の予熱、徐冷もこのような
熱処理加工の一つとして行うことができる。しかし、レ
ーザビームの焦点を被加工物の表面から外して照射する
ことによる熱処理加工は、そのままでは効率が悪い。
【0007】すなわち、レーザの出力が材料に効率良く
吸収されるのは、良く集光した焦点が材料の表面にあ
り、材料表面に材料の溶けた池とこの中央に形成された
孔(キーホール)があって、レーザ出力の大部分がキー
ホール内の狭い領域で反復反射によって吸収され、充分
なエネルギ密度が得られるときであるが、焦点が材料表
面から外れると、多くの材料の場合、とくに金属材料の
場合、吸収率が25%未満となり、他の大部分のレーザ
エネルギは反射されて散乱してしまい、高いエネルギ密
度を得られない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、レーザに
よる熱処理加工の一つである、焦点を被加工物の表面か
ら外してレーザビームを照射する熱処理加工を効率良く
行えるレーザ加工装置の提供を課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】加工ヘッド先端からレー
ザビームを被加工物に集光照射して熱処理を行うレーザ
加工装置とする。レーザビームの焦点を被加工物の表面
から外れた位置に設定できる焦点位置決め機構と、被加
工物表面からの光を被加工物表面に向けて反射する再反
射ミラーを設ける。前記のミラーは加工ヘッドと被加工
物間に位置し、レーザビームを通過させる貫通孔を有す
るものとする。
【0010】再反射ミラーを加工ヘッドと被加工物間の
作動位置と、この位置から退避した退避位置とに移動可
能とすることは好ましい構成である。再反射ミラーに冷
却機構を設けることは好ましい構成である。
【0011】
【作用】焦点位置決め機構は、レーザビームの焦点を被
加工物の表面から外れた位置に設定することを可能にす
る。再反射ミラーは被加工物表面から反射するレーザ光
を繰り返し反射し、被加工物表面に照射する。
【0012】
【実施例】図1、図2は、レーザ加工装置における加工
ヘッド1の個所を示す。加工ヘッド1は上下移動(Z
軸)する遮光筒2の先端に固定され、内部に集光レンズ
3を備えている。レーザ発振器から設定された導光路を
経て集光レンズ3に達したレーザビーム4は、集光され
て焦点Fを形成し、被加工物5の表面に集光点(スポッ
ト)Pを形成する。加工ヘッド1を上下することによっ
てスポットPは焦点Fの大きさとなったり、焦点Fから
若干拡散した大きさとなる。
【0013】すなわち、加工ヘッド1を先端に固定し上
下移動する遮光筒2、レーザ加工装置のZ軸移動機構お
よびレーザ加工装置が備えた数値制御装置(NC装置)
は、レーザビームの焦点Fを被加工物の表面から外れた
位置に設定することができる焦点位置決め機構を構成す
る。なお、加工ヘッド1にはアシストガスを供給するた
めの配管6が接続されている。
【0014】加工ヘッド1と被加工物5との間には平板
形の再反射ミラー7が被加工物5の表面と平行に水平配
置されている。再反射ミラー7は被加工物5と対面する
側が鏡面7´に形成され、レーザビーム4の光軸aと交
叉する個所に貫通孔8が形成されている。貫通孔8は集
光されたレーザビーム4を通過させるのに支障がない範
囲でできるだけ小さなものとされている。
【0015】再反射ミラー7は全体的に中空構造とさ
れ、一端に形成された水ポート9を介して冷却水が循環
できるようになっている。また、再反射ミラー7の一端
にはガス・ポート10が形成されて、再反射ミラー7と
被加工物5の表面との間隙にシールドガスが供給される
ようになっている。符号11は冷却水循環用配管、符号
12はシールドガス供給用配管である。
【0016】再反射ミラー7は一端に形成された軸受部
材13(図1)で支持体14から突出した軸15に固定
されている。軸15はモータ16の出力軸に連結されて
いて回転する。モータ16は支持体14の内部に取付け
られ、前記したレーザ加工装置のNC装置の制御下で駆
動される。支持体14は遮光筒2の下端部に固定され加
工ヘッド1と共に上下移動する。また、軸受部材13の
内部には水通路とガス通路が形成され、さらに、軸15
には前記の冷却水用配管11とシールドガス供給用配管
12が連結されており、これらは前記の水ポート9とガ
ス・ポート10で相互に回動可能に接続されている。
【0017】再反射ミラー7は前記のモータ16によっ
て、加工ヘッド1と被加工物5の間に配置された作動位
置(図1の実線位置)と、この位置から完全に退避した
退避位置(同鎖線位置)とに移動可能とされている。符
号17は再反射ミラー7を作動位置で停止するためのリ
ミットスイッチ、符号18は同様に退避位置で停止する
ためのリミットスイッチである。
【0018】なお、支持体14には、再反射ミラー7の
退避位置に該ミラー7の鏡面7´に接し、これの全面を
覆うカバー19が固定されている。また、再反射ミラー
7が作動位置とされたとき、レーザビーム4の焦点Fは
貫通孔8の出口付近に位置するように調整されている。
これにより、再反射ミラー7における貫通孔8の出口径
をもっとも小さなものとできる。
【0019】以上のような加工ヘッド1を備えたレーザ
加工装置で、パイプ20とフランジ21を溶接ラインb
に沿って溶接する場合について説明する(図4)。これ
らパイプ20とフランジ21の素材は焼き入れ性のある
鉄鋼材である。治具22,22´が準備される。治具2
2,22´はそれぞれ、架台23とその一端に取り付け
られたモータ24,24´およびモータ24,24´の
出力軸に連結されて回転する取付け具25,25´で構
成されている。また、レーザ加工装置の加工ヘッド1は
Z軸による上下移動のみが行われる。この上下移動のタ
イミングと移動量、前記のモータ16(再反射ミラー
用)やモータ24,24´(治具用)の駆動タイミング
および回転量などはNC装置にプログラムされ、また、
データとして入力されて設定されている。
【0020】一方の治具22における取付け具25にフ
ランジ21を仮に固定し、他方の治具22´における架
台23´にパイプ20を載せて回動自在とする。パイプ
20の一端面をフランジ21の端面を突き合わせ、他端
を補助具26を用いて取付け具24´に固定する。そし
て、治具22,22のモータ24,24´が同期してて
駆動され、フランジ21とパイプ20が所定の速度で回
転される。
【0021】レーザ加工装置の加工ヘッド1を溶接ライ
ンbに近接させて配置し、再反射ミラー7を作動位置と
する(図2、図3A)。この状態で加工ヘッド1にアシ
ストガスを、また、再反射ミラー7に冷却水とシールド
ガスを供給して、レーザビーム4を照射する。レーザビ
ーム4は焦点Fを通過して少し拡散した状態で被加工物
5の表面にスポットPを形成する。
【0022】スポットPは拡散しているので、被加工物
5の表面が溶けて溶融した材料の池にキーホールが形成
されることはないので、レーザビーム4のエネルギは一
次的には20%くらいしか熱として被加工物5に吸収さ
れない。他の80%は被加工物5の表面で反射される。
したがって、この段階で溶接ラインbの被加工物は加熱
されるが、スポットPにより溶融されることはない。一
方、反射されたレーザ光は再反射ミラー7で反射されて
再び被加工物5の表面に到達し、二次的に一部が熱に変
化する。さらに反射されたレーザ光はさらに再反射ミラ
ー7で反射されて被加工物5の表面に達し、一部が熱に
変化する。
【0023】このようにして、被加工物5の表面で反射
されたレーザ光は再反射ミラー7との間で反射を繰り返
し、最終的にレーザビーム4が持っていたエネルギのほ
とんどが熱として被加工物5に吸収される。しかし、そ
の熱吸収面は反射にともなうレーザ光の拡散によって広
く、被加工物5が溶融される程ではない。なお、レーザ
ビーム4のエネルギは、一部が再反射ミラー7に吸収さ
れ、該ミラー7の温度を上昇させるが、この熱は冷却水
により外部に排出されて、再反射ミラー7が損なわれる
ことはない。
【0024】この間、溶接ラインbは所定の速度で回動
されているので、結局、溶接ラインbの周辺が比較的広
い範囲にわたって予熱される。このような予熱を溶接ラ
インbの全周にわたり、必要な温度が達成されるまで数
周回行う。
【0025】適宜な温度検出手段により、予熱の達成が
確認されると、加工ヘッド1がいったん被加工物5から
引き離され、ついで、モータ16が駆動されて再反射ミ
ラー7が作動位置から退避位置に回動される。モータ1
6は再反射ミラー7がリミットスイッチ18を踏むこと
で停止される。これにより、加工ヘッド1が被加工物5
に対し直接に対向すると共に、再反射ミラー7の鏡面7
´がカバー18で覆われる。
【0026】この状態で、加工ヘッド1が被加工物5の
表面に向けて移動され、今度は焦点Fを溶接ラインbに
配置する(図3B)。そして、レーザビーム4を照射す
ると、スポットPは非常に小さいので、被加工物5の表
面は急速に溶融され、また、溶接ラインbの回動にとも
ない溶融個所が移動していくので、溶接ラインbが一周
したとき、パイプ19とフランジ20が溶接される。こ
のとき、溶接ラインbの周辺は充分に予熱されているの
で、溶接個所の急冷は生じない。また、再反射ミラー7
は退避位置にあって、溶接時に生じる多量のスパツタや
ミストから鏡面7´がカバー18によって保護されてい
る。
【0027】モータ24の回転量から溶接ラインbの一
回転がNC装置によって確認されると、加工ヘッド1は
被加工物5から引き離され、再度、再反射ミラー7が作
動位置に設定される。ついで、加工ヘッド1は予熱時と
同じ位置まで被加工物5の表面に接近され、予熱時と同
様に焦点を外れた位置でスポットPを被加工物表面に形
成する。ついで、モータ24,24´により溶接ライン
bが回動される。そして、溶接個所の温度が設定した温
度になるまで数周回、溶接ラインbを回動させて徐冷が
行われる。これにより、溶接個所の急冷が防止される。
【0028】以上のようにして、結局、溶接個所の急冷
はなく、焼き割れや引け割れのない良質の溶接が完了す
る。また、予熱温度や徐冷温度は再反射ミラー7を用い
てレーザビーム4を照射するときの照射時間(回動数)
を調整することで任意に設定できる。しかも、この場合
にスポットPの大きさを変化させれば、被加工物5にお
いて予熱作用や徐冷作用のおよぶ範囲を調整することが
できる。
【0029】材料の溶融を必要としない焼き入れ、焼き
鈍しの場合は、一貫して再反射ミラー7を作動位置とし
た前記の予熱、徐冷の要領で行う。このときの焼き入
れ、焼き鈍し温度は加工ヘッド1に対する被加工物5の
移動速度や照射の繰り返し回数などによって調節する。
【0030】図5は再反射ミラー7に関する他の実施例
を示し、鏡面7´が凹面鏡に形成されている。前記のよ
うに鏡面7´が平面の場合、被加工物表面から反射され
たレーザ光はスポットPの周囲に拡散するが、この実施
例では被加工物表面から反射されたレーザ光をスポット
Pの周囲に集光させる機能がある。これにより、レーザ
光による予熱、徐冷あるいはその他の、被加工物5の表
面に焦点Fを外したレーザビーム4のスポットPを形成
して行う熱処理加工の効率を、より向上させることがで
きる。
【0031】以上は実施例である。被加工物5の表面
に、レーザビームの焦点Fを外したスポットPを作るの
に、前記の焦点Fの位置を実施例のように光軸a上、被
加工物表面に対する加工ヘッド1側ではなく、被加工物
5側としても良い。再反射ミラー7を作動位置と退避位
置とするのに、回動によらず平行移動によっても良く、
さらに、着脱式としても良い。ミラー7の冷却は液冷に
限らず空冷でも良い。
【0032】
【発明の効果】レーザ加工の一つである、焦点を外した
スポットによる熱処理加工において、レーザ出力の損失
を大きく改善し、効率の良い熱処理加工を実施すること
ができる。焼き入れ性のある材料を溶接する場合に、レ
ーザビームを用いて効率良く、予熱、徐冷を行うことが
でき、良質の溶接を行うことができる。溶接のような熱
処理加工であっても、加工時にレーザビーム以外の副次
的な熱源を必要としないので、レーザビームを伝送でき
るところであれば加工を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】レーザ加工装置における加工ヘッド部分の正面
図。
【図2】一部を断面にして示す機構図。
【図3】一部を断面にした、作動を説明するための図。
【図4】中央部を省略して示す正面図。
【図5】断面で示す正面図(他の実施例)。
【符号の説明】
1 加工ヘッド 4 レーザビーム 5 被加工物 7 再反射ミラー 8 貫通孔 F 焦点 P スポット

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 加工ヘッド先端からレーザビームを被加
    工物に集光照射して熱処理を行うレーザ加工装置であっ
    て、レーザビームの焦点を被加工物の表面から外れた位
    置に設定できる焦点位置決め機構と、被加工物表面から
    の光を被加工物表面に向けて反射する再反射ミラーを備
    え、該ミラーは加工ヘッド先端と被加工物間に位置し、
    レーザビームを通過させる貫通孔を有していることを特
    徴としたレーザ加工装置。
  2. 【請求項2】 再反射ミラーが、加工ヘッドと被加工物
    間の作動位置とこの位置から退避した退避位置とに移動
    可能とされていることを特徴とした請求項1に記載のレ
    ーザ加工装置。
  3. 【請求項3】 再反射ミラーに冷却機構が設けられてい
    ることを特徴とした請求項1または請求項2に記載のレ
    ーザ加工装置。
JP4047733A 1992-02-05 1992-02-05 レーザ加工装置 Pending JPH05212572A (ja)

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JP4047733A JPH05212572A (ja) 1992-02-05 1992-02-05 レーザ加工装置

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JP4047733A JPH05212572A (ja) 1992-02-05 1992-02-05 レーザ加工装置

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