KR102088820B1 - 박판용 이물질 세정장치의 지그장치 - Google Patents

박판용 이물질 세정장치의 지그장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102088820B1
KR102088820B1 KR1020190087696A KR20190087696A KR102088820B1 KR 102088820 B1 KR102088820 B1 KR 102088820B1 KR 1020190087696 A KR1020190087696 A KR 1020190087696A KR 20190087696 A KR20190087696 A KR 20190087696A KR 102088820 B1 KR102088820 B1 KR 102088820B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
thin plate
cleaned
cleaning
main body
jig
Prior art date
Application number
KR1020190087696A
Other languages
English (en)
Inventor
김해룡
Original Assignee
(주)에이앤티
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)에이앤티 filed Critical (주)에이앤티
Priority to KR1020190087696A priority Critical patent/KR102088820B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102088820B1 publication Critical patent/KR102088820B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

본 발명은 박판용 이물질 세정장치의 지그장치에 관한 것으로서, 상기 본체의 일측 중 상기 세정부의 전단에 X,Y,Z축 방향으로 이동가능하게 설치되고, 상기 세정부로 이동되는 상기 세정대상박판의 후단부를 파지함과 동시에 상기 세정대상박판과 동반이동되며, 상기 세정대상박판의 선단부가 상기 세정부를 통과하는 경우 파지상태를 해제하는 제1 지그유닛 및 상기 본체의 일측 중 상기 세정부의 후단에 X,Y,Z축 방향으로 이동가능하게 설치되고, 상기 세정부를 통과한 상기 세정대상박판의 선단부를 파지하며, 상기 세정대상박판이 상기 세정부를 통과한 경우 파지상태를 해제하는 제2 지그유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치를 제공한다.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 이동 및 세정중인 세정대상박판의 일측을 파지하면서도 세정대상박판의 이동동작에 간섭되지 않고, 세정대상박판의 말림현상을 방지함으로써 작업효율을 향상시킬 수 있고, 이로 인해 생산성을 크게 증대시킬 수 있는 효과가 있다.

Description

박판용 이물질 세정장치의 지그장치{Zig device of dust removal device for thin plate}
본 발명은 박판용 이물질 세정장치의 지그장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 이동 및 세정중인 세정대상박판의 일측을 파지하면서도 세정대상박판의 이동동작에 간섭되지 않고, 세정대상박판의 말림현상을 방지함으로써 작업효율을 향상시킬 수 있고, 이로 인해 생산성을 크게 증대시킬 수 있는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치에 관한 것이다.
통상 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 액정 디스플레이 패널(Liquid Crystal Display, LCD) 또는 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diodes, OLED), 인쇄회로기판(Printed circuit board) 등의 평판 디스플레이(Flat Panel Display: FPD)를 제조하기 과정에서 한 장의 대형 글래스 기판 또는 인쇄회로기판 상에 전극 또는 도트, 비아홀 등과 같은 다수의 패턴들을 형성하게 된다.
이후, 기판 일측에 전자부품을 실장하기 위해 비아홀과 대응되는 일측에 전자부품을 납땜하게 되는데, 납땜 품질의 향상을 위해 플럭스가 사용되고 있으며, 납땜 공정 후 잔류하는 플럭스 잔사에 의한 기판 부식, 전기 쇼트, 기능저하 등의 문제점을 방지하기 위해 이를 제거하는 세정공정을 거치게 된다.
한편, 세정과정을 거친 기판의 경우 그 표면에 수분이 잔류하게 되는 바 기판의 세정공정 이후에는 기판의 수분을 제거함과 동시에 기판상 이물질을 제거하기 위한 후속 세정공정이 이루어지게 된다.
기존에는 상기한 세정공정이 작업자에 의해 수동으로 이루어졌으나, 세정 인원의 인건비 및 공수 증가로 제조원가가 상승하는 문제, 인체에 유해한 세정 휘발 성분의 분산으로 인해 산업재해 발생 위험이 증가하는 문제가 발생하는 바 최근에는 세정롤러를 이용한 기판용 세정장치가 개발되어 상기한 세정공정이 자동화하고 있다.
도1은 종래의 기판용 세정장치를 도시한 도면이다.
도1에서 보는 바와 같이 종래의 기판용 세정장치(100)는 본체(110)와, 본체(110) 상부에 설치되고 상면에 안착되는 세정대상기판을 일방향으로 이송하는 이송부(120) 및 본체(110)의 일측 중 이송부(120)에 의해 이송되는 세정대상기판의 이동로 일측 상하부에 각각 설치되는 세정롤러(130)를 구비하되, 세정롤러(130)는 세정대상기판의 이동로 하측에 회전가능하게 설치되는 하부세정롤러(131)와, 세정대상기판의 이동로 상측에 회전가능하게 설치되는 상부세정롤러(132)로 구성된다.
이러한 종래의 기판용 세정장치(100)는 이송부(120) 상면에 세정대상기판이 안착되는 경우 이송부(120)에 의해 세정대상기판이 일방향으로 이송되는데, 이송되는 세정대상기판이 상부세정롤러(132) 및 하부세정롤러(131) 사이를 통과하고, 상부세정롤러(132) 및 하부세정롤러(131)가 각각 회전하면서 세정대상기판의 상면과 하면에 접촉됨으로써 세정대상기판의 상하면에 잔존하는 수분 및 이물질을 제거하게 된다.
여기서, 종래의 기판용 세정장치(100)는 기판상에 잔존하는 수분을 제거하기 위해 세정롤러(130)가 수분 흡수 및 이물질을 제거할 수 있는 연질의 재질로 형성되는 바 세정대상기판 세정시 세정대상기판과 세정롤러(130)간 큰 마찰력을 가질 뿐 아니라 세정롤러(130)의 점착력에 의해 세정대상기판의 일단부가 상부세정롤러(132) 또는 하부세정롤러(131) 중 어느 하나의 롤러 표면에 부착된 상태로 롤러의 회전동작에 따라 말려 올라가는 말림현상이 발생되는 문제점이 있었다.
즉, 종래의 기판용 세정장치(100)는 상기한 말림현상으로 인해 세정공정이 일시중단되면서 작업시간이 증가하고, 나아가 작업효율이 크게 저하되어 생산성이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 이동 및 세정중인 세정대상박판의 일측을 파지하면서도 세정대상박판의 이동동작에 간섭되지 않고, 세정대상박판의 말림현상을 방지함으로써 작업효율을 향상시킬 수 있고, 이로 인해 생산성을 크게 증대시킬 수 있는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치를 제공한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일측면에 따르면, 본체와, 상기 본체의 상부에 설치되어 세정대상박판을 일방향으로 이송하는 이송부와, 상기 세정대상박판의 이동로 일측에 설치되어 회전하면서 상기 세정대상박판의 표면상 수분 및 이물질을 제거하는 세정부를 포함하는 박판용 이물질 세정장치을 통해 상기 세정대상박판의 표면 상 수분 및 이물질을 제거하는 경우 상기 세정대상박판의 일측을 지지하는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치에 있어서, 상기 본체의 일측 중 상기 세정부의 전단에 X,Y,Z축 방향으로 이동가능하게 설치되고, 상기 세정부로 이동되는 상기 세정대상박판의 후단부를 파지함과 동시에 상기 세정대상박판과 동반이동되며, 상기 세정대상박판의 선단부가 상기 세정부를 통과하는 경우 파지상태를 해제하는 제1 지그유닛 및 상기 본체의 일측 중 상기 세정부의 후단에 X,Y,Z축 방향으로 이동가능하게 설치되고, 상기 세정부를 통과한 상기 세정대상박판의 선단부를 파지하며, 상기 세정대상박판이 상기 세정부를 통과한 경우 파지상태를 해제하는 제2 지그유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치를 제공한다.
그리고, 상기 제1 지그유닛 및 상기 제2 지그유닛은 상기 본체의 상부에 상기 본체의 폭방향으로 배치되고, 상기 본체의 길이방향으로 이동가능하게 설치되는 지지부와, 상기 지지부의 일측에 상기 지지부의 길이방향으로 이동가능하게 설치되되, 상기 세정대상박판의 폭과 대응되게 이격설치되는 한 쌍의 이동블럭 및 상기 이동블럭의 하부 일측에 설치되고, 상기 세정대상박판의 일측을 파지하는 지그부를 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 지그부는 상기 이동블럭 저면 일측으로부터 하방으로 연장형성되는 고정바와, 상기 이동블럭 저면 타측으로부터 하방으로 연장형성되되, 상기 이동블럭에 상하방향으로 이동가능하게 설치되는 지지바 및 상기 고정바의 하단부에 상하방향으로 이동가능하게 설치되고, 일측이 상기 지지바의 하부에 배치되어 상승하는 경우 세정대상박판의 일측을 파지하는 파지부를 포함할 수 있다.
아울러, 상기 지지부는 상기 본체의 상부에 상기 본체의 길이방향으로 이동가능하게 설치되되, 한 쌍이 상기 본체의 상부 중 상기 본체의 폭과 대응되는 위치에서 상호 대향되게 설치되는 한 쌍의 지지몸체와, 양측단부가 상기 한 쌍의 지지몸체 일측에 결합되고, 한 쌍이 미리 설정된 간격으로 이격되게 배치되며, 일측에 상기 한 쌍의 이동블럭이 각각 길이방향으로 이동가능하게 결합되는 지지막대를 포함하는 것이 바람직하다.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 이동 및 세정중인 세정대상박판의 일측을 파지하면서도 세정대상박판의 이동동작에 간섭되지 않고, 세정대상박판의 말림현상을 방지함으로써 작업효율을 향상시킬 수 있고, 이로 인해 생산성을 크게 증대시킬 수 있는 효과가 있다.
도1은 종래의 기판용 세정장치를 도시한 도면,
도2는 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정치용 지그장치가 박판용 이물질 세정장치에 적용된 상태를 도시한 도면,
도3은 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정치용 지그장치가 박판용 이물질 세정장치의 평면도,
도4는 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정치용 지그장치의 사시도,
도5a 및 도5b는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 지그유닛이 세정대상박판의 후단을 파지하는 상태를 도시한 도면,
도6은 본 발명의 일실시예에 따른 세정부가 세정대상박판의 선단부를 세정하는 상태를 도시한 도면,
도7은 본 발명의 일실시예에 따른 제2 지그유닛이 세정대상박판의 선단을 파지하는 상태를 도시한 도면,
도8은 본 발명의 일실시예에 따른 세정부가 세정대상박판의 후단부를 세정하는 상태를 도시한 도면.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예를 상세하게 설명하기로 한다.
설명에 앞서 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정장치의 지그장치는 박판용 이물질 세정장치 일측에 설치되어 사용되는 것으로서, 이하 설명에서는 이해를 돕기 위해 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정장치의 지그장치를 박판용 이물질 세정장치의 구성과 함께 설명하도록 한다.
도2는 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정치용 지그장치가 박판용 이물질 세정장치에 적용된 상태를 도시한 도면이고, 도3은 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정치용 지그장치가 박판용 이물질 세정장치의 평면도이며, 도4는 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정치용 지그장치의 사시도이다.
도2 내지 도4에서 보는 바와 같이 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정장치의 지그장치가 적용된 박판용 이물질 세정장치(1)는 본체(10)와, 이송부(20)와, 세정부(30)와, 제1 지그유닛(40) 및 제2 지그유닛(50)을 포함하여 구성된다.
본체(10)는 대략 직육면체의 프레임 형상으로 형성되고, 설치대상영역에 설치되어 후술하는 이송부(20)의 설치영역을 제공함과 아울러 이를 지지하는 역할을 한다.
이송부(20)는 본체(10)의 상부에 설치되는 몸체부(21)와, 다수개가 미리 설정된 간격으로 몸체부(21) 일측에 회전가능하게 설치되는 회전축(22)과, 다수개가 회전축(22)의 외면에 일정간격으로 이격되게 결합되는 이송롤러(23)를 포함하여 구성되며, 상면에 세정대상박판이 안착되는 경우 회전축(22)이 회전하면서 세정대상박판을 일방향으로 이송하는 역할을 한다.
세정부(30)는 본체(10)의 일측 중 이송부(20)에 의해 이송되는 세정대상박판의 이동로 일측에 설치되는 하우징(31)과, 하우징(31)의 일측 중 세정대상박판의 이동로 하측에 설치되는 하부세정롤러(32)와, 하우징(31)의 일측 중 세정대상박판의 이동로 상측에 회전가능하게 설치되는 상부세정롤러(33) 및 하우징(31)의 일측 중 하부세정롤러(32) 하부에 설치되어 하우징(31) 내부에서 부유하는 부유물질을 흡입하는 이물질흡입부(34)를 포함하여 구성된다.
이러한 세정부(30)는 이송부(20)에 의해 세정대상박판이 상부세정롤러(33)와 하부세정롤러(32) 사이로 진입하는 경우 상부세정롤러(33)와 하부세정롤러(32)가 각각 세처대상박판의 상면과 저면에 접촉한 상태로 회전함으로써 세정대상박판상에 잔존하는 수분 및 이물질을 제거하는 역할을 한다.
제1 지그유닛(40)은 본체(10)의 상부 일측 중 세정부(30)의 전단에 설치되고, 세정부(30)방향으로 이동되는 세정대상박판의 후단부를 파지함으로써 세정대상박판의 이송이 안정적으로 이루어지도록 함과 아울러 세정대상박판의 말림현상을 방지하는 역할을 한다.
제2 지그유닛(50)은 본체(10)의 상부 일측 중 세정부(30)의 후단에 설치되고, 세정부(30)를 통과한 세정대상박판의 선단부를 파지함으로써 세정대상박판의 이송이 안정적으로 이루어지도록 함과 아울러 세정대상박판의 말림현상을 방지하는 역할을 한다.
여기서, 제1 지그유닛(40) 및 제2 지그유닛(50)은 각각 본체(10) 상부에 본체(10)의 폭방향으로 배치되고 본체(10)의 길이방향으로 이동가능하게 설치되는 지지부(41,51)와, 지지부(41,51)의 일측에 지지부(41,51)의 길이방향으로 이동가능하게 설치되는 한 쌍의 이동블럭(42,52)과, 각 이동블럭(42,52)의 하부에 설치되는 지그부(43,53)을 포함하여 구성된다.
지지부(41,51)는 본체(10)의 상부 일측에 본체(10)의 길이방향으로 이동가능하게 설치되되, 한 쌍이 본체의 상부 중 본체의 폭방향으로 상호 대향되는 위치에 설치되는 한 쌍의 지지몸체(41a,51a)와, 양측단부가 한 쌍의 지지몸체(41a,51a) 일측에 결합되고 한 쌍이 미리 설정된 간격으로 이격되게 배치되는 지지막대(41b,51b)를 포함하여 구성된다.
여기서 한 쌍의 지지막대(41b,51b)는 본체(10)의 상부에 본체(10)의 폭방향으로 배치되고, 그 일측에 후술하는 한 쌍의 이동블럭(42,52)이 각각 길이방향으로 이동가능하게 결합되는 바 이동블럭(42,52)의 설치영역을 제공함과 아울러 이동블럭(42,52)의 이동을 가이드하여 이동블럭(42,52)의 이동동작이 안정적으로 이루어질 수 있도록 하는 역할을 한다.
이동블럭(42,52)은 대략 직육면체의 블럭 형상으로 형성되고, 한 쌍이 지지부(41,51)의 일측에 이격되게 설치되는데, 세정대상박판의 폭 사이즈에 따라 그 이격거리를 조절하여 사용할 수 있다.
지그부는 이동블럭(42,52)의 하부 일측에 설치되는 고정바(43a,53a)와, 이동블럭(42,52)의 하부 타측에 결합되는 지지바(43b,53b) 및 일측이 고정바(43a,53a)의 하단부에 결합되는 파지부(43c,53c)를 포함하여 구성될 수 있으며, 이동 또는 세정 중인 세정대상박판의 일측을 파지하여 세정대상박판의 이동이 안정적으로 이루어질 수 있도록 함과 아울러 세정시 세정대상박판의 말림현상을 방지하는 역할을 하는데, 이들 각 구성을 보다 상술하면 아래와 같다.
고정바(43a,53a)는 대략 봉 형상으로 형성되고, 상단부가 이동블럭(42,52)의 저면 일측에 결합되어 수직방향으로 배치되는 것으로서, 하부에 결합되는 파지부(43c,53c)를 지지하는 역할을 한다.
지지바(43b,53b)는 고정바(43a,53a)와 같이 대략 봉 형상으로 형성되고, 상단부가 이동블럭(42,52)의 저면 타측에 결합되어 수직방향으로 배치되는 것으로서, 파지부(43c,53c)가 상방으로 이동하는 경우 세정대상박판의 상면 일측을 지지하여 세정대상박판의 저면을 가압하는 파지부(43c,53c)와 함께 세정대상박판의 일측을 파지하는 역할을 한다.
또한, 본 실시예에 따른 지지바(43b,53b)는 이동블럭(42,52)의 저면에 상하방향으로 이동가능학 설치되어 세정대상박판을 파지하는 경우 상하이동하면서 파지부(43c,53c)와 함께 세정대상박판을 보다 용이하게 파지할 수 있도록 구성된다.
파지부(43c,53c)는 대략 일정길이를 갖는 플레이트 형상으로 형성되고, 일단부가 고정바(43a,53a)의 하단에 상하방향으로 이동가능하게 설치되며, 타단부가 지지바(43b,53b)의 하부에 배치되어 상방으로 이동하는 경우 세정대상박판의 저면을 가압하여 세정대상박판의 상면을 지지하는 지지바(43b,53b)와 함께 세정대상박판의 일측을 파지하는 역할을 한다.
상기한 바와 같이 제1 지그유닛(40) 및 제2 지그유닛(50)은 각각 지지부(41,51)와, 이동블럭(42,52)과, 고정바(43a,53a)와, 지지바(43b,53b) 및 파지부(43c,53c)를 포함하여 구성되는데, 이하에서는 설명의 편의를 위해 제1 지그유닛(40) 및 제2 지그유닛(50)의 하위구성들 명칭 앞에 각각 '제1' 및 '제2'를 표시하여 지칭하도록 한다.
도5a 및 도5b는 본 발명의 일실시예에 따른 제1 지그유닛이 세정대상박판의 후단을 파지하는 상태를 도시한 도면이고, 도6은 본 발명의 일실시예에 따른 세정부가 세정대상박판의 선단부를 세정하는 상태를 도시한 도면이며, 도7은 본 발명의 일실시예에 따른 제2 지그유닛이 세정대상박판의 선단을 파지하는 상태를 도시한 도면,
도8은 본 발명의 일실시예에 따른 세정부가 세정대상박판의 후단부를 세정하는 상태를 도시한 도면.
이와 같은 구성을 갖는 본 발명의 일실시예에 따른 박판용 이물질 세정장치의 지그장치가 구비된 박판용 이물질 세정장치(1)의 동작을 첨부된 도5 내지 도8을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
먼저, 이송부(20)의 상면에 세정대상박판(P)이 공급되면, 이송부(20)가 구동하면서 세정대상박판(P)을 세정부(30) 방향으로 이송하되, 정렬부(40)와 대응되는 위치에서 세정대상박판(P)의 이송을 1차 중지한다.
이때, 한 쌍의 제1 지그유닛(40)이 각각 세정대상박판(P)의 후단 양측부와 대응되는 위치로 이동하여 제1 지지바(43b)와, 제1 파지부(43c)사이에 세정대상박판(P)의 일측이 배치되고, 지지바(43b)가 하방으로 이동함과 아울러 제1 파지부(43c)가 상방으로 이동하여 제1 지지바(43b)와 함께 세정대상박판(P)의 후단 양측부를 파지한다.
이후, 이송부(20)가 다시 구동하여 세정대상박판(P)을 세정부(30)로 이동시키고, 제1 지지부(41)가 세정대상박판(P)과 함께 세정부(30) 방향으로 이동하여 세정대상박판(P)의 이동이 안정적으로 이루어질 수 있도록 한다.
세정대상박판(P)이 세정부(30) 내에 진입하면, 회전 중인 상부세정롤러(33) 및 하부세정롤러(32)가 세정대상박판(P)의 상면과 하면에 각각 접촉되어 세정대상박판(P) 표면에 잔존하는 수분 및 이물질을 제거하며, 비산되는 이물질은 하우징(31) 하부에 설치된 이물질 흡입부에 의해 흡입되어 일정위치에 포집된다.
여기서, 세정부(30)는 제1 지그유닛(40)이 세정대상박판(P)의 후단을 파지한 상태에서 하부세정롤러(32)를 기준으로 시계방향으로 회전, 즉 세정대상박판(P) 선단의 외측방향으로 회전하는 바 세정부(30)가 세정대상박판(P)의 선단부 표면을 외측으로 쓸면서 회전하는 효과를 발휘하여 세정대상박판(P)의 말림현상을 방지하면서도 세정부(30)가 세정대상박판(P)을 보다 가압한 상태에서 회전할 수 있어 세정대상박판(P)의 수분제거 및 이물질 제거효율을 크게 향상시킬 수 있다.
다음, 세정대상박판(P)의 선단부가 세정부(30)를 통과하여 외부로 노출된 경우 세정대상박판(P)의 이송을 2차 중지하고, 한 쌍의 제2 지그유닛(50)이 각각 세정대상박판(P)의 선단 양측부와 대응되는 위치로 이동하여 제2 파지부(65)와 제2 지지바(64) 사이에 세정대상박판(P)의 일측이 배치되며, 제2 지지바(64)가 하방으로 이동함과 아울러 제2 파지부(65)가 상방으로 이동하여 세정대상박판(P)의 선단 양측부를 파지한다.
이때, 제1 지그유닛(40)은 세정대상박판(P)의 파지상태를 해제하고, 구동초기위치로 복귀한다.
이후 이송부(20)가 세정대상박판(P)을 일방향으로 이동시키고, 제2 지지부(51)가 세정대상박판(P)과 함께 이동하여 세정부(30)에 의해 수분 및 이물질이 제거된 세정대상박판(P)이 안정적으로 반출된다.
비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련하여 설명되어졌지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서 첨부된 특허청구의 범위는 본 발명의 요지에서 속하는 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.
10 : 본체 20 : 이송부
21 : 몸체부 22 : 회전축
23 : 이송롤러 30 : 세정부
31 : 하우징 32 : 하부세정롤러
33 : 상부세정롤러 34 : 이물질 흡입부
40 : 제1 지그유닛 41 : 제1 지지부
41a : 제1 지지몸체 41b : 제1 지지막대
42 : 제1 이동블럭 43 : 제1 지그부
43a : 제1 고정바 43b : 제1 지지바
43c : 제1 파지부 50 : 제2 지그유닛
51 : 제2 지지부 51a : 제2 지지몸체
51b : 제2 지지막대 52 : 제2 이동블럭
53 : 제2 지그부 53a : 제2 고정바
53b : 제2 지지바 53c : 제2 파지부

Claims (4)

  1. 본체와, 상기 본체의 상부에 설치되어 세정대상박판을 일방향으로 이송하는 이송부와, 상기 세정대상박판의 이동로 일측에 설치되어 회전하면서 상기 세정대상박판의 표면상 수분 및 이물질을 제거하는 세정부를 포함하는 박판용 이물질 세정장치을 통해 상기 세정대상박판의 표면 상 수분 및 이물질을 제거하는 경우 상기 세정대상박판의 일측을 지지하는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치에 있어서,
    상기 본체의 일측 중 상기 세정부의 전단에 X,Y,Z축 방향으로 이동가능하게 설치되고, 상기 세정부로 이동되는 상기 세정대상박판의 후단부를 파지함과 동시에 상기 세정대상박판과 동반이동되며, 상기 세정대상박판의 선단부가 상기 세정부를 통과하는 경우 파지상태를 해제하는 제1 지그유닛; 및
    상기 본체의 일측 중 상기 세정부의 후단에 X,Y,Z축 방향으로 이동가능하게 설치되고, 상기 세정부를 통과한 상기 세정대상박판의 선단부를 파지하며, 상기 세정대상박판이 상기 세정부를 통과한 경우 파지상태를 해제하는 제2 지그유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 지그유닛 및 상기 제2 지그유닛은
    상기 본체의 상부에 상기 본체의 폭방향으로 배치되고, 상기 본체의 길이방향으로 이동가능하게 설치되는 지지부와;
    상기 지지부의 일측에 상기 지지부의 길이방향으로 이동가능하게 설치되되, 상기 세정대상박판의 폭과 대응되게 이격설치되는 한 쌍의 이동블럭; 및
    상기 이동블럭의 하부 일측에 설치되고, 상기 세정대상박판의 일측을 파지하는 지그부를 포함하는 것을 특징으로 하는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 지그부는
    상기 이동블럭 저면 일측으로부터 하방으로 연장형성되는 고정바와;
    상기 이동블럭 저면 타측으로부터 하방으로 연장형성되되, 상기 이동블럭에 상하방향으로 이동가능하게 설치되는 지지바; 및
    상기 고정바의 하단부에 상하방향으로 이동가능하게 설치되고, 일측이 상기 지지바의 하부에 배치되어 상승하는 경우 세정대상박판의 일측을 파지하는 그리퍼를 포함하는 것을 특징으로 하는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 지지부는
    상기 본체의 상부에 상기 본체의 길이방향으로 이동가능하게 설치되되, 한 쌍이 상기 본체의 상부 중 상기 본체의 폭과 대응되는 위치에서 상호 대향되게 설치되는 한 쌍의 지지몸체와;
    양측단부가 상기 한 쌍의 지지몸체 일측에 결합되고, 한 쌍이 미리 설정된 간격으로 이격되게 배치되며, 일측에 상기 한 쌍의 이동블럭이 각각 길이방향으로 이동가능하게 결합되는 지지막대를 포함하는 것을 특징으로 하는 박판용 이물질 세정장치의 지그장치.
KR1020190087696A 2019-07-19 2019-07-19 박판용 이물질 세정장치의 지그장치 KR102088820B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190087696A KR102088820B1 (ko) 2019-07-19 2019-07-19 박판용 이물질 세정장치의 지그장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190087696A KR102088820B1 (ko) 2019-07-19 2019-07-19 박판용 이물질 세정장치의 지그장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102088820B1 true KR102088820B1 (ko) 2020-03-13

Family

ID=69938325

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190087696A KR102088820B1 (ko) 2019-07-19 2019-07-19 박판용 이물질 세정장치의 지그장치

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102088820B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060073552A (ko) * 2006-06-07 2006-06-28 (주)두일알에스 패널의 클리너장치
KR20100091032A (ko) * 2009-02-09 2010-08-18 세메스 주식회사 기판 세정 장치 및 방법
JP2019175934A (ja) * 2018-03-27 2019-10-10 株式会社荏原製作所 洗浄装置、これを備えためっき装置、及び洗浄方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060073552A (ko) * 2006-06-07 2006-06-28 (주)두일알에스 패널의 클리너장치
KR20100091032A (ko) * 2009-02-09 2010-08-18 세메스 주식회사 기판 세정 장치 및 방법
JP2019175934A (ja) * 2018-03-27 2019-10-10 株式会社荏原製作所 洗浄装置、これを備えためっき装置、及び洗浄方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4644202B2 (ja) 基板端子クリーニング装置及び基板端子のクリーニング方法
JP4313284B2 (ja) 基板処理装置
KR20110028582A (ko) 클리닝 장치 및 스크린 인쇄 장치
JP2016196101A (ja) スクリーン印刷機
JP2018093071A (ja) 搬送体、搬送装置およびスクライブシステム
KR102088820B1 (ko) 박판용 이물질 세정장치의 지그장치
JP6803669B2 (ja) スクリーン印刷機
KR102018593B1 (ko) 말림방지 구조를 갖는 박판용 이물질 세정장치
WO2012164805A1 (ja) 印刷機
KR101450692B1 (ko) 글래스 세정장치
WO2006064596A1 (ja) 基板の清掃装置及び清掃方法
KR20180069677A (ko) 기판 절단 장치
JP5409749B2 (ja) ガラス加工装置
KR101305911B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
JP2004001547A (ja) スクリーン版自動交換装置
KR20060117663A (ko) 평판 디스플레이 제조를 위한 세정 브러시 유닛
KR100328345B1 (ko) 표면실장장치 및 그 실장방법
JP2005152717A (ja) 除塵装置
JP3332775B2 (ja) スクリーン印刷機
JPH05193106A (ja) スクリーン印刷機
JP4475204B2 (ja) 電子部品実装装置のノズルのクリーニング方法、電子部品実装装置及び電子部品実装方法
JP2010272754A (ja) 部品実装装置及びその方法
CN215477574U (zh) 具有去尘滚轮的上料台装置
JP7195299B2 (ja) スクリーン印刷機
JP7466106B2 (ja) マスククリーナ、スクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant