KR102028584B1 - 불소중합체 및 불소중합체를 포함한 막(i) - Google Patents
불소중합체 및 불소중합체를 포함한 막(i) Download PDFInfo
- Publication number
- KR102028584B1 KR102028584B1 KR1020180161339A KR20180161339A KR102028584B1 KR 102028584 B1 KR102028584 B1 KR 102028584B1 KR 1020180161339 A KR1020180161339 A KR 1020180161339A KR 20180161339 A KR20180161339 A KR 20180161339A KR 102028584 B1 KR102028584 B1 KR 102028584B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- porous membrane
- copolymer
- membrane
- carbon atoms
- porous
- Prior art date
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 166
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 title description 9
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 title description 9
- -1 vinylphenyl Chemical group 0.000 claims abstract description 62
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 52
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 20
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- PQHYOGIRXOKOEJ-UHFFFAOYSA-N 2-(1,2-dicarboxyethylamino)butanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)NC(C(O)=O)CC(O)=O PQHYOGIRXOKOEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 claims description 21
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 16
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical group OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 16
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 15
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 15
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 8
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 8
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 8
- 229920000491 Polyphenylsulfone Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 6
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 claims description 6
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 claims description 6
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 claims description 6
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 claims description 6
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 6
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 claims description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 claims description 4
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 claims description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 3
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 3
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 claims 2
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 claims 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 abstract description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 92
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 22
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 19
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylformamide Substances CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 6
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- GQQLLWNLHAMWAL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-[(carbamoylamino)-carboxymethyl]amino]-2-cyano-2-nitroacetic acid Chemical compound N(C(=O)N)C(C(=O)O)N(CCN(CC(=O)O)CC(=O)O)C(C(=O)O)([N+](=O)[O-])C#N GQQLLWNLHAMWAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYQFWFHDPNXORA-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooct-1-ene Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C=C FYQFWFHDPNXORA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 4
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- KQNZLOUWXSAZGD-UHFFFAOYSA-N benzylperoxymethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1COOCC1=CC=CC=C1 KQNZLOUWXSAZGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 229910021654 trace metal Inorganic materials 0.000 description 3
- VJJZJBUCDWKPLC-UHFFFAOYSA-N 3-methoxyapigenin Chemical compound O1C2=CC(O)=CC(O)=C2C(=O)C(OC)=C1C1=CC=C(O)C=C1 VJJZJBUCDWKPLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LMRVYUVOZMATLH-UHFFFAOYSA-N FC(=C(C(SC(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)C1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F Chemical compound FC(=C(C(SC(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)C1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)F LMRVYUVOZMATLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000012705 nitroxide-mediated radical polymerization Methods 0.000 description 2
- 229920003208 poly(ethylene sulfide) Polymers 0.000 description 2
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910021655 trace metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 230000004584 weight gain Effects 0.000 description 2
- 235000019786 weight gain Nutrition 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- SSFPFXJXRPTLGF-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-heptadecafluorooctane-2-thiol Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(S)C(F)(F)F SSFPFXJXRPTLGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 1,1-difluoroethane Chemical compound CC(F)F NPNPZTNLOVBDOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZQZKLFXWPAMFW-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentafluoro-6-(1,2,2-trifluoroethenyl)benzene Chemical compound FC(F)=C(F)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F GZQZKLFXWPAMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDQPBSDHHTRNI-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-3-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=CC(C=C)=C1 HMDQPBSDHHTRNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-ethenylbenzene Chemical compound ClCC1=CC=C(C=C)C=C1 ZRZHXNCATOYMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRJRKPMIRMSBNK-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctan-1-ol Chemical compound OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F GRJRKPMIRMSBNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJUBFBTUBACDHW-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluoro-1-decanol Chemical compound OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JJUBFBTUBACDHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URJIJZCEKHSLHA-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecane-1-thiol Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)CCS URJIJZCEKHSLHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100031102 C-C motif chemokine 4 Human genes 0.000 description 1
- 101100054773 Caenorhabditis elegans act-2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100000858 Caenorhabditis elegans act-3 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100161935 Caenorhabditis elegans act-4 gene Proteins 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N Ibuprofen Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(C(C)C(O)=O)C=C1 HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002565 Polyethylene Glycol 400 Polymers 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 1
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 1
- 239000013060 biological fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006143 cell culture medium Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000003636 chemical group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004965 chloroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009838 combustion analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 229920000359 diblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 125000004982 dihaloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N ethanethiol Chemical compound CCS DNJIEGIFACGWOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- 238000001990 intravenous administration Methods 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012982 microporous membrane Substances 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006682 monohaloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920006030 multiblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007523 nucleic acids Chemical class 0.000 description 1
- 102000039446 nucleic acids Human genes 0.000 description 1
- 108020004707 nucleic acids Proteins 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003075 superhydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002352 surface water Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004385 trihaloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000785 ultra high molecular weight polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F214/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
- C08F214/18—Monomers containing fluorine
- C08F214/22—Vinylidene fluoride
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/30—Polyalkenyl halides
- B01D71/32—Polyalkenyl halides containing fluorine atoms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0002—Organic membrane manufacture
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0002—Organic membrane manufacture
- B01D67/0009—Organic membrane manufacture by phase separation, sol-gel transition, evaporation or solvent quenching
- B01D67/0011—Casting solutions therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0002—Organic membrane manufacture
- B01D67/0009—Organic membrane manufacture by phase separation, sol-gel transition, evaporation or solvent quenching
- B01D67/0013—Casting processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0002—Organic membrane manufacture
- B01D67/0023—Organic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes
- B01D67/003—Organic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes by selective elimination of components, e.g. by leaching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
- B01D67/0093—Chemical modification
- B01D67/00931—Chemical modification by introduction of specific groups after membrane formation, e.g. by grafting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/10—Supported membranes; Membrane supports
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/28—Polymers of vinyl aromatic compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/28—Polymers of vinyl aromatic compounds
- B01D71/281—Polystyrene
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/66—Polymers having sulfur in the main chain, with or without nitrogen, oxygen or carbon only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/76—Macromolecular material not specifically provided for in a single one of groups B01D71/08 - B01D71/74
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/06—Organic material
- B01D71/76—Macromolecular material not specifically provided for in a single one of groups B01D71/08 - B01D71/74
- B01D71/80—Block polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/16—Halogens
- C08F12/18—Chlorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/16—Halogens
- C08F12/20—Fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/22—Oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F12/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F12/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F12/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F12/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by hetero atoms or groups containing heteroatoms
- C08F12/30—Sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/16—Halogens
- C08F212/18—Chlorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/16—Halogens
- C08F212/20—Fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/30—Sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F214/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
- C08F214/18—Monomers containing fluorine
- C08F214/184—Monomers containing fluorine with fluorinated vinyl ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F214/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
- C08F214/18—Monomers containing fluorine
- C08F214/20—Vinyl fluoride
- C08F214/202—Vinyl fluoride with fluorinated vinyl ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F293/00—Macromolecular compounds obtained by polymerisation on to a macromolecule having groups capable of inducing the formation of new polymer chains bound exclusively at one or both ends of the starting macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F293/00—Macromolecular compounds obtained by polymerisation on to a macromolecule having groups capable of inducing the formation of new polymer chains bound exclusively at one or both ends of the starting macromolecule
- C08F293/005—Macromolecular compounds obtained by polymerisation on to a macromolecule having groups capable of inducing the formation of new polymer chains bound exclusively at one or both ends of the starting macromolecule using free radical "living" or "controlled" polymerisation, e.g. using a complexing agent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/26—Removing halogen atoms or halogen-containing groups from the molecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/30—Introducing nitrogen atoms or nitrogen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/20—Manufacture of shaped structures of ion-exchange resins
- C08J5/22—Films, membranes or diaphragms
- C08J5/2206—Films, membranes or diaphragms based on organic and/or inorganic macromolecular compounds
- C08J5/2218—Synthetic macromolecular compounds
- C08J5/2231—Synthetic macromolecular compounds based on macromolecular compounds obtained by reactions involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
- C08J5/2237—Synthetic macromolecular compounds based on macromolecular compounds obtained by reactions involving unsaturated carbon-to-carbon bonds containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/20—Manufacture of shaped structures of ion-exchange resins
- C08J5/22—Films, membranes or diaphragms
- C08J5/2287—After-treatment
- C08J5/2293—After-treatment of fluorine-containing membranes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/12—Chemical modification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/28—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof by elimination of a liquid phase from a macromolecular composition or article, e.g. drying of coagulum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/36—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/18—Homopolymers or copolymers of aromatic monomers containing elements other than carbon and hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L53/00—Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/02—Hydrophilization
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/36—Introduction of specific chemical groups
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2325/00—Details relating to properties of membranes
- B01D2325/02—Details relating to pores or porosity of the membranes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2325/00—Details relating to properties of membranes
- B01D2325/36—Hydrophilic membranes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2438/00—Living radical polymerisation
- C08F2438/02—Stable Free Radical Polymerisation [SFRP]; Nitroxide Mediated Polymerisation [NMP] for, e.g. using 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl [TEMPO]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2201/00—Foams characterised by the foaming process
- C08J2201/04—Foams characterised by the foaming process characterised by the elimination of a liquid or solid component, e.g. precipitation, leaching out, evaporation
- C08J2201/05—Elimination by evaporation or heat degradation of a liquid phase
- C08J2201/0502—Elimination by evaporation or heat degradation of a liquid phase the liquid phase being organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2325/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Derivatives of such polymers
- C08J2325/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2325/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Derivatives of such polymers
- C08J2325/18—Homopolymers or copolymers of aromatic monomers containing elements other than carbon and hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2327/04—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing chlorine atoms
- C08J2327/08—Homopolymers or copolymers of vinylidene chloride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2327/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
- C08J2327/02—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08J2327/12—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08J2327/18—Homopolymers or copolymers of tetrafluoroethylene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2333/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Derivatives of such polymers
- C08J2333/18—Homopolymers or copolymers of nitriles
- C08J2333/20—Homopolymers or copolymers of acrylonitrile
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2425/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Derivatives of such polymers
- C08J2425/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2425/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Derivatives of such polymers
- C08J2425/18—Homopolymers or copolymers of aromatic monomers containing elements other than carbon and hydrogen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Transplantation (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
공중합체, 상기 공중합체로 제조된 다공성 막, 및 상기 다공성 막을 사용하여 예를 들어, 마이크로전자 산업에서 유래하는 유체로부터 금속 이온을 제거하기 위한 유체를 처리하는 방법이 개시되며, 상기 공중합체는 중합된 단량체 유닛 I 및 II를 포함하고, 상기 단량체 유닛 I은 화학식 A-X-CH2-B로 표시되고, A는 Rf-(CH2)n이고, Rf는 화학식 CF3-(CF2)x-로 표시되는 퍼플루오로 알킬기이고, x는 3 내지 12의 정수이고, n은 1 내지 6의 정수이고, X 는 O 또는 S이고, B는 비닐페닐이고, 상기 단량체 유닛 II는 할로알킬 스티렌이고, 선택적으로 상기 할로알킬의 할로기가 임의의 치환기, 예를 들어 에틸렌디아민테트라아세트산, 이미노디아세트산 또는 이미노디숙신산으로 치환된다.
Description
본 발명은 불소중합체 및 불소중합체를 포함한 막에 관한 것이다.
불소중합체를 포함한 막은 예를 들어, 마이크로일렉트로닉스 유체로부터 미량의 금속 불순물을 제거하기 위하여 다양한 유체를 여과하는 것으로 고려된다. 이러한 막 중 일부는 낮은 표면 에너지 값 또는 임계 젖음 표면 장력(critical wetting surface tension, CWST) 값 및/또는 유기 용매 및 공격성 화학 물질(aggressive chemicals)에 대한 높은 내성을 특징으로 한다. 이 막의 하나 이상의 이점에도 불구하고, 낮은 CWST 값 및/또는 유기 용매 및/또는 공격성 화학 물질에 대한 증가된 내성과 같은 개선된 특성을 갖는 불소중합체 및 이러한 불소중합체를 포함하는 막에 대한 필요성이 존재한다.
본 발명은 낮은 CWST 값을 갖는 불소중합체 및 상기 불소중합체로 제조된 막을 제공한다. 일 구현예에서, 본 발명은 중합된 단량체 유닛 I 및 II를 포함하는 공중합체를 제공하고,
상기 단량체 유닛 I은 화학식 A-X-CH2-B로 표시되고,
A는 Rf-(CH2)n이고, Rf는 화학식 CF3-(CF2)x-로 표시되는 퍼플루오로 알킬기이고, x는 3 내지 12의 정수이고, n은 1 내지 6의 정수이고, X는 O 또는 S이고, B는 비닐페닐이고,
상기 단량체 유닛 II는 할로알킬 스티렌이고,
선택적으로, 상기 할로알킬 스티렌의 할로기가 알콕시, 알킬카보닐, 히드록시알킬, 산성기, 염기성기, 양이온, 음이온, 양쪽성 이온, 히드록실, 아실옥시, 알킬티오, 알데히도, 아미도, 카바모일, 우레이도, 시아노, 니트로, 에틸렌디아민테트라아세트산, 이미노디아세트산 및 이미노디숙신산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환기로 치환된다.
상기 공중합체는 초소수성 중합체이며, 소유성(oleophobic properties) 물질 표면, 즉 25 dynes/cm 미만의 표면 장력을 부여하는데 사용될 수 있다. 또한, 본 발명은 다공성 지지체에 배치된 상기 공중합체를 포함하는 다공성 막의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 또한 유체를 여과하는 방법을 제공하고, 특히 1 ppb 미만의 농도로, 바람직하게는 0.005 ppb 미만 또는 대부분의 장치의 검출 한계 미만으로 마이크로전자 유체를 여과하는 방법을 제공한다.
도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 다공성 막을 제조하는 방법을 도시하며, 여기서 NaHCO3와 같은 입자가 기공을 생성하는데 사용된다.
도 2a는 본 발명의 일 구현예에 따라 제조된 편평한 시트 막의 단면의 SEM 현미경 사진을 도시한다. 도 2b는 상기 편평한 시트 막의 일면의 SEM 현미경 사진을 도시한다. 도 2c는 상기 편평한 시트 막의 다른 면의 SEM 현미경 사진을 도시한다.
도 3은 본 발명의 다른 구현예에 따라 제조된 다공성 막의 단면의 SEM 현미경 사진을 도시한다.
도 4는 일 구현예에 따른 다공성 막이 그 표면에 관능기를 포함하도록 개질시키는 방법을 예시한다.
도 5는 본 발명의 일 구현예에 따라 제조된 막의 금속 제거 효율을 도시한다.
도 2a는 본 발명의 일 구현예에 따라 제조된 편평한 시트 막의 단면의 SEM 현미경 사진을 도시한다. 도 2b는 상기 편평한 시트 막의 일면의 SEM 현미경 사진을 도시한다. 도 2c는 상기 편평한 시트 막의 다른 면의 SEM 현미경 사진을 도시한다.
도 3은 본 발명의 다른 구현예에 따라 제조된 다공성 막의 단면의 SEM 현미경 사진을 도시한다.
도 4는 일 구현예에 따른 다공성 막이 그 표면에 관능기를 포함하도록 개질시키는 방법을 예시한다.
도 5는 본 발명의 일 구현예에 따라 제조된 막의 금속 제거 효율을 도시한다.
일 구현예에 따르면, 본 발명은 중합된 단량체 유닛 I 및 II를 포함하는 공중합체를 제공하고,
상기 단량체 유닛 I은 화학식 A-X-CH2-B로 표시되고,
A는 Rf-(CH2)n이고, Rf는 화학식 CF3-(CF2)x-로 표시되는 퍼플루오로 알킬기이고, x는 3 내지 12의 정수이고, n은 1 내지 6의 정수이고, X는 O 또는 S이고, B는 비닐페닐이고,
상기 단량체 유닛 II는 할로알킬 스티렌이고,
선택적으로, 상기 할로알킬 스티렌의 할로기가 알콕시, 알킬카보닐, 히드록시알킬, 산성기, 염기성기, 양이온, 음이온, 양쪽성 이온, 히드록실, 아실옥시, 알킬티오, 알데히도, 아미도, 카바모일, 우레이도, 시아노, 니트로, 에틸렌디아민테트라아세트산, 이미노디아세트산 및 이미노디숙신산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환기로 치환된다.
일 구현예에서, n은 2, 3 또는 4이고, 특히 2이다.
상기 구현예 중 어느 하나에서, x는 4, 5, 6, 7 또는 8이고, 특히 6이다.
상기 구현예 중 어느 하나에서, 상기 단량체 유닛 II는 클로로알킬 스티렌, 특히 클로로메틸 스티렌이다. 할로알킬, 또는 클로로알킬은 스티렌에서 메타 또는 파라 치환될 수 있거나, 또는 단량체 유닛 II는 메타 및 파라 치환된 할로알킬 스티렌의 혼합물일 수 있다.
상기 퍼플루오로알킬기는 임의의 적합한 위치, 오르토, 메타 또는 파라, 바람직하게는 메타 또는 파라 위치에서에서 B의 페닐 고리 상에 존재할 수 있거나, 또는 오르토(o), 메타(m) 및/또는 파라(p) 이성질체의 혼합물이 사용될 수 있다. 여기서, "p/m"는 파라 이성질체 및 메타 이성질체의 혼합물을 나타낸다.
상기 구현예 중 어느 하나에서, 상기 공중합체는 블록 공중합체, 예를 들어 디블록, 트리블록, 또는 멀티블록 공중합체이거나, 또는 랜덤 공중합체이다.
"알킬"기는 선형 또는 분지형일 수 있다. 일 구현예에 따르면, 알킬기는 바람직하게는 C1-C22 알킬이다. 알킬기의 예는 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸, tert-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, n-헥실, 헥사데실 등을 포함한다. 이 정의는 또한 "알킬"이 히드록시알킬, 모노할로 알킬, 디할로 알킬, 및 트리할로 알킬과 같은 경우에 적용된다. C1-C22 알킬은 또한 시클로알킬기, 예를 들어 C3-C11 시클로알킬기로 더 치환될 수 있다.
일 구현예에 따르면, "알콕시"기는 바람직하게는 C1-C22 알콕시이다. 알콕시기의 예는 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, sec-부톡시, 이소부톡시, tert-부톡시, n-펜톡시, 이소펜톡시, n-헥사옥시, 헥사데실옥시 등을 포함한다.
용어 "할로"는 불소, 염소, 브롬 및 요오드로 이루어진 군으로부터 선택된 할로겐을 지칭하고, 바람직하게는 염소를 지칭한다.
구조 내의 원자 수의 범위(예를 들어, C1-22, C1-12, C1-8, C1-6, 또는 C1-4 알킬, 알콕시 등)를 나타낼 때, 나타낸 범위 내에 속하는 임의의 하위 범위 또는 개별적인 탄소 원자수가 또한 사용될 수 있음을 특히 고려해야 한다. 따라서, 예를 들어, 본원에서 언급된 임의의 화학기(예를 들어, 알킬, 알콕시 등)과 관련하여 사용되는, 1-22개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C22), 1-20개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C20), 1-18개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C20), 1-16개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C16), 1-14개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C14), 1-12개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C12), 1-10개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C10), 1-8개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C8), 1-6개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C6), 1-4개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C4), 1-3개의 탄소 원자(예를 들어, C1-C3), 또는 2-8개의 탄소 원자(예를 들어, C2-C8)의 범위를 기술하는 것은 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 20, 21, 또는 22개의 탄소 원자를 포함하고 구체적으로 기술할 뿐만 아니라, 적절하게는 그것의 임의의 하위 범위(예를 들어, 1-2개의 탄소 원자, 1-3개의 탄소 원자, 1-4개의 탄소 원자, 1-5개의 탄소 원자, 1-6개의 탄소 원자, 1-7개의 탄소 원자, 1-8개의 탄소 원자, 1-9개의 탄소 원자, 1-10개의 탄소 원자, 1-11개의 탄소 원자, 1-12개의 탄소 원자, 1-13개의 탄소 원자, 1-14개의 탄소 원자, 1-15개의 탄소 원자, 1-16개의 탄소 원자, 1-17개의 탄소 원자, 1-18개의 탄소 원자, 1-19개의 탄소 원자, 1-20개의 탄소 원자, 1-21개의 탄소 원자, 및 1-22개의 탄소 원자, 및 2-3개의 탄소 원자, 2-4개의 탄소 원자, 2-5개의 탄소 원자, 2-6개의 탄소 원자, 2-7개의 탄소 원자, 2-8개의 탄소 원자, 2-9개의 탄소 원자, 2-10개의 탄소 원자, 2-11개의 탄소 원자, 2-12개의 탄소 원자, 2-12개의 탄소 원자, 2-13개의 탄소 원자, 2-14개의 탄소 원자, 2-15개의 탄소 원자, 2-16개의 탄소 원자, 2-17개의 탄소 원자, 2-18개의 탄소 원자, 2-19개의 탄소 원자, 2-20개의 탄소 원자, 2-21개의 탄소 원자, 및 2-22개의 탄소 원자, 3-4개의 탄소 원자, 3-5개의 탄소 원자, 3-6개의 탄소 원자, 3-7개의 탄소 원자, 3-8개의 탄소 원자, 3-9개의 탄소 원자, 3-10개의 탄소 원자, 3-11개의 탄소 원자, 3-12개의 탄소 원자, 3-13개의 탄소 원자, 3-14개의 탄소 원자, 3-15개의 탄소 원자, 3-16개의 탄소 원자, 3-17개의 탄소 원자, 3-18개의 탄소 원자, 3-19개의 탄소 원자, 3-20개의 탄소 원자, 3-21개의 탄소 원자, 및 3-22개의 탄소 원자, 및 4-5개의 탄소 원자, 4-6개의 탄소 원자, 4-7개의 탄소 원자, 4-8개의 탄소 원자, 4-9개의 탄소 원자, 4-10개의 탄소 원자, 4-11개의 탄소 원자, 4-12개의 탄소 원자, 4-13개의 탄소 원자, 4-14개의 탄소 원자, 4-15개의 탄소 원자, 4-16개의 탄소 원자, 4-17개의 탄소 원자, 4-18개의 탄소 원자, 4-19개의 탄소 원자, 4-20개의 탄소 원자, 4-21개의 탄소 원자, 4-22개의 탄소 원자 등과 같은 그 범위 사이의 임의 개의 탄소 원자)를 포함하고 구체적으로 기술한다.
일 구현예에서, 상기 공중합체는 파라 및/또는 메타 치환된 [[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌 및 할로알킬 스티렌 단량체의 공중합체; 파라 및/또는 메타 치환된 [[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 및 할로알킬 스티렌 단량체의 공중합체; 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 미 폴리[클로로메틸스티렌]의 공중합체; 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥소]메틸]-스티렌 및 폴리[클로로메틸스티렌] 및 폴리[클로로메틸스티렌]의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택된다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 세그먼트 A는 2-(퍼플루오로헥실)에틸 알코올, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸 티올, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸 알코올, 2-(퍼플루오로헥실)에틸 티올, 파라 및/또는 메타 치환된 [[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌, 및 파라 및/또는 메타 치환된 [[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 단량체를 포함한다. 임의의 특정 이론 또는 메커니즘에 구애되지 않고, 퍼플루오로탄화수소는 소유성 및 기판에 대한 향상된 접착성을 제공한다.
일 구현예에서, 세그먼트 B는 스티렌 및 할로기를 포함하고, 상기 할로기는 염소이다. 다른 구현예에서, 세그먼트 B는 4-비닐벤질 클로라이드, 3-비닐벤질 클로라이드, 3,4-비닐벤질 클로라이드로 이루어진 군으로부터 선택된 단량체를 포함한다. 스티렌기의 이중 결합은 다른 중합체와의 중합을 용이하게 하며, 다른 관능기로 치환될 수 있는 할로기 때문에, 스티렌은 양전하 및/또는 음전하를 띤 군을 포함하는 다양한 관능기 중 하나 이상으로 쉽게 개질될 수 있다.
상기 공중합체는 임의의 적합한 기술에 의해 제조될 수 있다. 예를 들어, 블록 공중합체는 반응식 1에 예시된 바와 같이 제조될 수 있고, 랜덤 공중합체는 반응식 2에 예시된 바와 같이 제조될 수 있다.
<반응식 1>
<반응식 2>
일 구현예에서, 상기 랜덤 공중합체는 1.4당량의 4-파라 또는 3,4-파라-메타-클로로메틸 스티렌을, 톨루엔 중 적절한 농도의 파라 또는 p, m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌과 톨루엔(예를 들어, 66 중량%의 p, m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌) 1당량을 혼합하여 합성할 수 있다.
이어서, 3 몰%의 아조비스이소뷰티로니트릴(AIBN)을 첨가하고 혼합물을 20분 동안 탈기시킨 후, 반응 혼합물을 적절한 온도(예를 들어, 섭씨 60도)에서 적절한 시간(예를 들어, 14시간) 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 냉각하고 아세톤으로 희석하였다. 얻어진 생성물을 메탄올에 침전시키고 2시간 동안 혼합하였다. 용매를 따라내고 침전물을 아세톤에 재용해 시켰다. 아세톤 중의 생성물을 새로운 메탄올에서 재침전시키고 거친 유리 깔대기를 사용하여 여과하고, 메탄올로 세척하고, 진공 오븐에서 밤새 건조시켰다.
일 구현예에서, 랜덤 공중합체의 수 평균 분자량은 약 1KDa 내지 약 500 KDa, 예를 들어 10 KDa 내지 약 50 KDa, 특히 약 20 KDa이다. 일 구현예에서, 수 평균 분자량은 398 KDa이다. 수 평균 분자량은 GPC를 사용하여 결정된다.
블록 공중합체는 임의의 적합한 방법, 예를 들어 원자 이동 라디칼 중합(ATRP), 요오드 전달 중합(ITP), 음이온 중합 및 다른 형태의 나이트록사이드 매개 라디칼 중합(NMP)을 포함하는 임의의 적합한 방법에 의해 합성될 수 있다.
블록 공중합체의 수 평균 분자량은 약 1KDa 내지 약 9000KDa, 특히 10 KDa 내지 약 50 KDa, 특히 약 20KDa이다. 블록 공중합체의 분자량은 중합 시간에 좌우되지만, 블록의 평균 분자량은 86시간의 중합 동안 약 8178 KDa이다.
본 발명은 또한 다공성 지지체, 예를 들어 다공성 고분자 지지체에 배치된 전술한 임의의 공중합체를 포함하는 다공성 막을 제공한다.
일 구현예에서, 상기 다공성 고분자 지지체는 PVC/PAN(폴리비닐 클로라이드/폴리아크릴로니트릴), 폴리술폰, 폴리에테르술폰, HDPE(고밀도 폴리에틸렌), PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트), PPS(폴리페닐렌 술파이드), PPSU(폴리페닐 술폰), PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌), PVDF(폴리비닐리덴 플루오라이드), PVF(폴리비닐 플루오라이드), PCTFE(폴리클로로트리플루오로에틸렌), FEP(불화 에틸렌-프로필렌), ETFE(폴리에틸렌테트라플루오로에틸렌), ECTFE(폴리 에틸렌클로로트리플루오로에틸렌), PFPE(퍼플루오로폴리에테르), PFSA(퍼플루오로술폰산) 및 퍼플루오로폴리옥세탄으로부터 선택된다.
본 발명은 또한 전술한 공중합체를 포함하는 다공성 막의 제조 방법을 제공하고, 일 구현예에서 상기 제조 방법은:
(i) 상기 공중합체를 용매에 용해시켜 상기 공중합체를 포함하는 용액을 얻는 단계;
(ii) 상기 (i)로부터의 용액을 주조하여 코팅을 얻는 단계;
(iii) 상기 코팅으로부터 상기 용매를 증발시키는 단계; 선택적으로
(iv) 상기 코팅을 세척하여 상기 다공성 막을 얻는 단계; 및
(v) 선택적으로 할로알킬의 할로기 중 하나 이상을 알콕시, 알킬카보닐, 히드록시알킬, 산성기, 염기성기, 양이온, 음이온, 양쪽성 이온, 히드록실, 아실옥시, 알킬티오, 알데히도, 아미도, 카바모일, 우레이도, 시아노, 니트로, 에틸렌디아민테트라아세트산, 이미노디아세트산, 및 이미노디숙신산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환기로 치환하는 단계;
를 포함한다.
상기 나타낸 바와 같이 할로기가 선택적으로 치환기로 치환되는 경우, 제조된 공중합체는 보다 높은 표면 장력 값, 예를 들어, 약 45 dynes/cm 이하, 특히 약 40 내지 약 45 dynes/cm의 값을 가진다.
상기 선택적인 치환은 임의의 적합한 방법에 의하여 수행될 수 있다. 예를 들어, 단계 (iv)의 마지막에 얻어진 다공성 막은 물, NaOH 및 DMF의 혼합물 중의 개질제, 예를 들어 이미노디숙신산(IDSA)의 용액에 적절한 시간 동안 침지될 수 있다. 상기 용액을 80℃로 가열할 수 있다. 이어서, 막을 물 및 이소프로판올(IPA)로 세척하고 건조시킨다. 이어서 막을 HCl에 침지시키고, IPA로 헹구고, 건조시킨다.
일 구현예에서, 물(18 g), 8M NaOH(10 g) 및 DMF(45 g)의 혼합물에 IDSA (15 g)을 용해시킨다. 상기 혼합물을 배양 접시에서 DMF로 미리 적신 막 위에 붓는다. 상기 막을 80℃로 밤새 가열하고, 다량의 물로 헹군 다음 IPA로 헹군다. 이후, 상기 막을 80℃에서 1시간 동안 건조시킨다. 상기 막을 3% HCl에 2시간 동안 침지시키고, 물 및 IPA로 1시간 동안 헹구고, 다시 80℃에서 45분 동안 건조시킨다. 막의 표면 장력은 40 내지 45 dynes/cm이다.
다른 구현예에서, 물(120 g), 8M NaOH(140 g) 및 DMF(160 g)의 혼합물에 이미노디아세트산(IDA) (60 g)을 용해시킨다. 이어서 상기 혼합물을 배양 접시에서 DMF로 미리 적신 막 위에 붓는다. 막을 80℃로 밤새 가열하고, 다량의 물로 헹군 다음 IPA로 헹군다. 이후, 상기 막을 80℃에서 1시간 동안 건조시킨다. 막을 3% HCl에 2시간 동안 침지시키고, 물 및 IPA로 1시간 동안 헹구고, 다시 80℃에서 45분 동안 건조시킨다. 제조된 막의 표면 장력은 45 내지 48 dynes/cm이다.
또 다른 구현예에서, 물(50mL) 중의 트리에틸아민(TEA) 33%를 IPA(50 mL)와 혼합하고, p-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 및 클로로메틸스티렌의 랜덤 공중합체(폴리(pfotms-ran-cms)로 코팅된, CWST가 23 dynes/cm인 PTFE 0.2μm를 실온에서 상기 용액에 밤새 담근다. 이후, 막을 다량의 물로 헹군 다음 IPA에 밤새 침지시킨다. 막을 80℃에서 30분 동안 건조시키고, 표면 장력을 측정한다. CWST는 38 dynes/cm이다.
다른 구현예에서, 본 발명은 전술한 공중합체를 포함하는 다공성 막의 제조 방법을 제공하고, 상기 제조 방법은:
(i) 상기 공중합체 및 제2 중합체를 용매에 용해시켜 상기 공중합체 및 상기 제2 중합체를 포함하는 용액을 얻는 단계;
(ii) 상기 (i)로부터의 용액을 기공 형성 분말과 혼합하여 혼합물을 얻는 단계;
(iii) 상기 (ii)로부터의 혼합물을 주조하여 코팅을 얻는 단계;
(iv) 상기 코팅으로부터 상기 용매를 증발시키는 단계;
(v) 상기 코팅을 세척하여 상기 기공 형성 분말을 제거하는 단계; 및
(vi) 제조된 막을 건조하는 단계; 및
(v) 선택적으로 할로알킬의 할로기 중 하나 이상을 알콕시, 알킬카보닐, 히드록시알킬, 산성기, 염기성기, 양이온, 음이온, 양쪽성 이온, 히드록실, 아실옥시, 알킬티오, 알데히도, 아미도, 카바모일, 우레이도, 시아노, 니트로, 에틸렌디아민테트라아세트산, 이미노디아세트산, 및 이미노디숙신산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환기로 치환하는 단계;
를 포함한다.
상기 다공성 막은 소유성, 특히 CWST가 약 23 dynes/cm 이하, 예를 들어 22 또는 21 dynes/cm인 소유성 막일 수 있다. 상기 다공성 막은 예를 들어, 다공성 지지체가 없는 공중합체 필름 또는 섬유를 포함하는 기능적으로 제조된 막일 수 있거나; 또는 상기 공중합체로 코팅된 다공성 지지체일 수 있다.
CWST는 적절한 방법으로 측정될 수 있다. 일 구현예에서, 상기 제조 방법은 특정 조성의 일련의 용액에 의존한다. 각 용액은 특정한 표면 장력을 갖는다. 용액의 표면 장력 범위는 15 내지 92 dynes/cm이고 비균등적으로 조금씩 증가한다. 막 표면 장력을 측정하기 위해, 백색광 테이블 위에 막을 위치시키고, 특정한 표면 장력을 갖는 용액 한 방울을 다공성 막 표면에 떨어뜨리고, 방울이 다공성 막을 통해 침투하여 다공성 막을 통과하는 빛의 표시로서 다공성 막이 밝은 백색이 되는데 걸리는 시간을 기록한다. 방울이 다공성 막을 침투하는데 걸리는 시간이 10 초 이하일 때 순간 젖음(Instant wetting)으로 간주된다. 방울이 다공성 막을 침투하는데 걸리는 시간이 10초를 초과하면, 용액이 부분적으로 다공성 막을 적시는 것으로 간주된다.
본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 다공성 막은 다공성 막, 예를 들어 나노 다공성 막, 예를 들어 1 nm 내지 100 nm의 직경의 기공을 갖는 다공성 막, 또는 1 μm 내지 10 μm의 직경의 기공을 갖는 마이크로 다공성 막이다.
상기 다공성 막은 또한 공중합체에 하나 이상의 첨가된 관능기를 포함하는 관능화된 막일 수 있다. 상기 다공성 막은, 예를 들어 전하를 띠는 막일 수 있다. 공중합체의 관능화는 약 50 dynes/cm이하의 CWST를 생성할 수 있다. 관능기는 예를 들어, 양이온, 음이온 또는 극성 관능기를 포함한다.
본 발명의 구현예에 따르면, 다공성 막은 평면형, 플랫 시트형, 주름형(pleated), 튜브형(tubular), 나선형 및 중공 섬유를 포함하는 다양한 구성을 가질 수 있다. 일 구현예에서, 다공성 막은 중공 섬유 막이다.
본 발명의 구현예에 따른 다공성 막은 전형적으로, 적어도 하나의 입구 및 적어도 하나의 출구를 포함하고 상기 입구와 상기 출구 사이에 적어도 하나의 유체 흐름 경로를 규정하는(defining) 하우징 내에 배치되고, 적어도 하나의 본 발명의 막 또는 적어도 하나의 본 발명의 막을 포함하는 필터가 상기 유체 흐름 경로를 가로질러 필터 장치 또는 필터 모듈을 제공한다. 일 구현예에서, 입구 및 제1 출구를 포함하고, 상기 입구와 상기 제1 출구 사이에 제1 유체 흐름 경로를 규정하는 하우징; 및 적어도 하나의 본 발명의 막 또는 적어도 하나의 본 발명의 막을 포함하는 필터를 포함하는 필터 장치가 제공되며, 상기 본 발명의 막 또는 적어도 하나의 본 발명의 막을 포함하는 필터는 상기 제1 유체 흐름 경로를 가로질러 하우징 내에 배치된다.
바람직하게는, 교차 흐름 적용을 위해서, 적어도 하나의 본 발명의 막 또는 적어도 하나의 본 발명의 막을 포함하는 필터는, 적어도 하나의 입구 및 적어도 2개의 출구를 포함하고, 적어도 상기 입구 및 상기 제2 출구 사이에 제1 유체 흐름 경로 및 상기 입구 및 상기 제2 출구 사이에 제2 유체 흐름 경로를 규정하는 하우징 내에 배치되고, 본 발명의 막 또는 적어도 하나의 본 발명의 막을 포함하는 필터는 상기 제1 유체 흐름 경로를 가로질러 필터 장치 또는 필터 모듈을 제공한다. 예시적인 구현예에서, 상기 필터 장치는 교차 흐름 필터 모듈 및 하우징을 포함하고, 상기 하우징은 입구, 농축물 출구를 포함하는 제1 출구 및 투과물 출구를 포함하는 제2 출구를 포함하고, 상기 하우징은 상기 입구 및 상기 제1 출구 사이의 제1 유체 흐름 경로 및 상기 입구 및 상기 제2 출구 사이의 제2 유체 흐름 경로를 규정하고, 적어도 하나의 본 발명의 막 또는 적어도 하나의 본 발명의 막을 포함하는 필터는 상기 제1 유체 흐름 경로를 가로질러 배치된다.
필터 장치 또는 모듈은 살균될 수 있다. 적합한 형태를 가지며, 입구 및 하나 이상의 출구를 제공하는 임의의 하우징이 사용될 수 있다.
하우징은 처리되는 유체와 적합성(compatibility)이 있는 임의의 불침투성 열가소성 재료를 포함하는, 임의의 적합한 강성 불침투성 재료로 제조될 수 있다. 예를 들어, 하우징은 스테인리스 스틸과 같은 금속, 또는 고분자, 예를 들어 아크릴, 폴리프로필렌, 폴리스티렌 또는 폴리카보네이트 수지와 같은 투명 또는 반투명 고분자로부터 제조될 수 있다.
다공성 막은 기능적으로 제조된 막("FAM 막")일 수 있으며, 이는 예를 들어 도 1에 예시한 바와 같이, 폴리(pftoms-ran-cms)를 제2 중합체(예를 들어, PVC-AN)와 THF 중에서 혼합하고 60분 동안 600 rpm으로 교반하고, 이어서 목표하는 공극 크기를 달성하는 용해성 입자(예를 들어, NaHCO3 입자)를 용액에 첨가하고, 120분 동안 1500 rpm으로 교반하여 제조될 수 있다. 이어서 이 혼합물을 유리판 위의 PET 기판에 주조한다. 실온에서 THF를 천천히 증발시킨 후, 묽은 염산 용액에 막을 밤새 침지시켜 입자를 제거한다. 제조된 막을 오븐에서 용매의 비점에 따른 적절한 온도(예를 들어, 40℃ 내지 100℃, 특히 80℃) 또는 실온에서, 용매를 제거하기 위한 적절한 시간(예를 들어, 60분) 동안 건조시킨다.
적합한 제2 중합체는 PVC-AN, HDPE, PET, PPS, PPSU(폴리페닐 술폰), PTFE, PVDF, PVF(폴리비닐 플루오라이드), PCTFE(폴리클로로트리플루오로에틸렌), FEP(불화 에틸렌-프로필렌), ETFE(폴리에틸렌테트라플루오로에틸렌), ECTFE(폴리 에틸렌클로로트리플루오로에틸렌), PFPE(퍼플루오로폴리에테르), PFSA(퍼플루오로술폰산) 및 퍼플루오로폴리옥세탄을 포함한다.
상기 방법에서 사용될 수 있는 다른 용해성 또는 제거 가능한 입자는 탄산칼륨, 제올라이트, 셀룰로오스, 용해성 섬유, 실리카 입자 및 나노입자(예, 산화아연)를 포함한다.
다공성 막은 많은 방식 중 하나로 공중합체를 포함할 수 있다. 예를 들어, 다공성 막은 공중합체를 포함하는 코팅을 포함할 수 있다. 코팅된 막은 예를 들어, 아세톤 중에 공중합체를 2% 용해시키고 막을 2초 동안 중합체 용액에 담금으로써 수행되는 막 코팅에 의해 제조될 수 있다. 제조된 막은 오븐에서 적절한 온도, 예를 들어 80℃에서 약 20분 동안 건조시키고, 다공성 막을 IPA에 약 2시간 동안 침지시키고, 80℃에서 30분 동안 오븐에서 건조시키고, 표면 장력 및 중량 증가를 측정한다. 실시예의 막의 SEM 현미경 사진을 도 2에 도시하였다.
다공성 막은 하나 이상의 관능기를 포함하도록 개질(modified)될 수 있다. 관능화된 막을 구성하기 위한 일반적인 도식을 도 4에 도시하였다. 다공성 막은 전하를 띠는 기로 관능화될 수 있다. 예를 들어, 일 구현예에서, 다공성 막은 음이온성 기로 관능화된다. 음이온성 막의 제조는, 예를 들어 물(100 g), 8M NaOH(100 g) 및 DMF(200 g)의 혼합물에 EDTA(40 g)를 용해시키는 것을 포함한다. 이어서 혼합물을 배양 접시에서 DMF로 미리 적신 막 위에 붓는다. 막을 80℃로 밤새 가열하고, 다량의 물로 헹군 다음 IPA로 헹군다. 다공성 막을 80℃에서 1시간 동안 건조시키고 3 % HCl에 2시간 동안 침지시키고, 물 및 IPA로 헹군 후, 다시 80℃에서 45분 동안 건조시켰다. 막의 표면 장력 범위는 45 내지 50 dynes/cm이다. 이 방법으로 얻은 막은 이소프로필 알코올로부터 대부분의 미량 금속 중 99%를 제거하였다.
불소화된 체인은 다공성 막에 소유성(oleophobicity)을 부여하기 위해 중합체의 체적 기준으로 적어도 35%로 존재해야 한다.
또한, 중합체가 비불소화된 용매에 용해될 수 있기 때문에 랜덤 공중합체 내의 퍼플루오로-스티렌 블록의 체적비는 50% 이하여야 한다.
다른 구현예에서, 다공성 막은 양이온성 기로 관능화될 수 있고, 이는 예를 들어, 물(50 mL) 중의 트리에틸아민 33%를 IPA(50 mL)와 혼합하고, PTFE와 같은 다공성 막을 실온에서 밤새 상기 혼합물에 침지시킴으로써 제조될 수 있다. 이후, 막을 물로 헹구고 IPA에 밤새 침지시킨다. 막을 80℃에서 30분 동안 건조시키고, 표면 장력을 측정한다. CWST는 38 dynes/cm였다.
본 발명은 다음의 구현예를 포함하나, 이에 한정되는 것은 아니다:
1) 세그먼트 A 및 세그먼트 A를 포함하는 랜덤 공중합체로서, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸 스티렌이다;
2) 세그먼트 A 및 세그먼트 B를 포함하는 블록 공중합체로서, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸 스티렌이다;
3) 관능화된 랜덤 공중합체 및 관능기로서, 랜덤 공중합체는 세그먼트 A, 세그먼트 A를 포함하고, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸 스티렌이고; 관능기는 친수성, 소수성, 양 또는 음으로 하전된 관능기를 포함한다;
4) 관능화된 블록 공중합체 및 관능기로서, 블록 공중합체는 세그먼트 A, 세그먼트 B를 포함하고, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸 스티렌이고; 관능기는 친수성, 소수성, 양 또는 음으로 하전된 관능기를 포함한다;
5) 친수성, 소수성 또는 하전된 막 및 세그먼트 A 및 세그먼트 B를 포함하는 랜덤 공중합체를 포함하는 코팅을 포함하는 다공성 막으로서, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸스티렌이고; 공중합체로 코팅된 경우, 다공성 막은 23 dynes/cm 이하의 표면 장력을 갖는 소유성 막이다;
6) 친수성, 소수성 또는 하전된 막 및 랜덤 공중합체를 포함하는 코팅을 포함하는 관능화된 막 및 관능기로서, 랜덤 공중합체는 세그먼트 A, 세그먼트 B 및 관능기를 포함하고, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸 스티렌이고; 관능기는 하전된 기 또는 친수성 기이고; 코팅된 경우, 다공성 막은 23 dynes/cm 이하의 표면 장력을 갖는다;
7) 친수성, 소수성 또는 하전된 막 및 세그먼트 A 및 세그먼트 B를 포함하는 블록 공중합체를 포함하는 코팅을 포함하는 다공성 막으로서, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸 스티렌이고; 공중합체로 코팅된 경우, 다공성 막은 23 dynes/cm 이하의 표면 장력을 갖는 소유성 막이다;
8) 친수성, 소수성 또는 하전된 막 랜덤 공중합체를 포함하는 코팅을 포함하는 하전된 막 및 관능기로서, 랜덤 공중합체는 세그먼트 A 및 세그먼트 B를 포함하고, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸 스티렌이고; 관능기는 에틸렌디아민테트라아세트산, 이미노디아세트산 또는 이미노디숙신산을 포함하고; 공중합체로 코팅된 경우, 다공성 막은 마이크로전자 유체 및 물로부터 미량의 금속 이온을 제공하는데 사용될 수 있는 50 dynes/cm 이하의 표면 장력을 갖는다.
9) 제1 중합체 및 세그먼트 A 및 세그먼트 B를 포함하는 랜덤 공중합체의 혼합물(blend)을 포함하는 소유성의 기능적으로 제조된 막으로서, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸 스티렌이고; 다공성 막은 23 dynes/cm 이하의 표면 장력을 갖는다.
10) 23 dynes 이하의 표면 장력을 갖는 소유성 중공 섬유 막으로서, 다공성 막은 다공성 막용 중합체(예를 들어, PES, PTFE, PVDF PVC/AN, PP, PE, HDPE, PET, PPS 및 PPSU) 및 세그먼트 A 및 세그먼트 B를 포함하는 랜덤 또는 블록 공중합체를 포함하고, 세그먼트 A는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 또는 폴리[p/m-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)옥시]메틸]-스티렌이고; 세그먼트 B는 클로로메틸 스티렌이다.
본 발명의 구현예에 따른 다공성 막은 예를 들어, 다음을 포함하는 다양한 응용 분야에 사용될 수 있다: 진단 응용(예를 들어, 샘플 조제 및/또는 진단용 측방 유동 장치(diagnostic lateral flow device)를 포함한다), 잉크젯 응용, 리소그래피, 예를 들어 HD/UHMW PE 기반 매체의 대체, 제약 산업용 유체 여과, 금속 제거, 초순수 제조, 산업수 및 표층수 처리, 의료용 유체 여과(예를 들어, 가정용 및/또는 환자용(예를 들어, 정맥 주사 용도)을 포함하고, 또한 예를 들어, 혈액과 같은 생물학적 유체의 여과(예를 들어, 바이러스 제거)를 포함한다), 전자 산업용 유체 여과(예를 들어, 마이크로전자 산업에서의 포토레지스트 유체 여과 및 고온 SPM의 여과), 식음료 산업용 유체 여과, 맥주 여과, 정화, 항체 및/또는 단백질 함유 유체 여과, 핵산 함유 유체 여과, 세포 검출(인-시튜(in situ) 포함), 세포 채취, 및/또는 세포 배양액 여과를 포함한다. 대안적으로, 또는 부가적으로, 본 발명의 구현예에 따른 다공성 막은 공기 및/또는 기체를 여과하는데 사용될 수 있고/거나 환기(venting) 용도(예를 들어, 공기 및/또는 기체는 통과시키나, 액체는 통과시키지 않는 것)로 사용될 수 있다. 본 발명의 구현예에 따른 다공성 막은 외과용 장치 및 제품(예를 들어, 안과 수술용 제품)을 포함하는 다양한 장치에 사용될 수 있다.
추가로, 본 발명은 유체를 여과하는 방법을 제공하며, 상기 방법은 전술한 다공성 막 중 어느 하나를 통해 상기 유체를 통과시키는 단계를 포함한다. 예를 들어, 미량의 금속 불순물은 계속해서 차세대 반도체 및 마이크로전자 재료의 제조에 문제를 일으키고 있다. 본 발명의 일 구현예는 상기 공중합체를 포함하는 다공성 막을 통해 금속 함유 유체를 통과시키고, 상기 유체로부터 금속을 제거함으로써 유체, 특히 마이크로전자 유체로부터 금속을 제거하는 방법을 포함한다. 일 구현예에서, 본 발명의 방법은 상기 공중합체 및 관능기를 포함하는 관능화된 다공성 막을 통해 상기 금속 함유 유체를 통과시키는 단계 및 상기 유체로부터 상기 금속을 제거하는 단계를 포함한다. 상기 관능화된 막은 상기 유체로부터 대부분의 미량 금속의 약 99%를 제거할 수 있다.
미량 금속의 예는 Li, Na, K(및 다른 1족 금속); Mg, Ca(및 다른 2족 금속); Al(및 다른 3족 금속), Pb(및 다른 4족 금속), Sb, Bi(및 다른 5족 금속), 및 Cd, Cr, Mo, Pd, Ag, W, V, Mn, Fe, Ni, Cu, Zn(및 다른 전이 금속)을 포함한다.
바람직하게는, 공중합체는 예를 들어, 다공성 막과 같은 재료에 소유성을 부여할 수 있고, 이는 후 처리를 필요로 하지 않고 상기 재료에 23 dynes 이하의 표면 장력을 제공한다. 공중합체를 포함하는 다공성 막은 산, 염기, 유기 용매, 산화제에서 안정하고, 고온 및 감마선 조사에 대하여 안정하다. 높은 물 파과 압력(water breakthrough pressure) 및 공기 유속이 다공성 막에서 달성될 수 있고, 예를 들어, 양이온성 및 음이온성 기로 쉽게 관능화될 수 있다.
다공성 막은 물 및 많은 분야의 유기 유체(예를 들어, 마이크로전자 산업 분야의 유기 유체)로부터 미량 금속을 제거하는데 사용될 수 있고, 예를 들어 여과액이 0.005 ppb 또는 검출기의 검출 한계 미만의 농도를 갖도록 할 수 있다. 일 구현예에서, 처리되는 유체는 1 ppb 이상의 미량 금속을 함유하고, 여과액은 0.005 ppb의 미량 금속 농도를 갖는다.
이하의 실시예는 본 발명을 더욱 자세히 설명하나, 물론 어떠한 방식으로도 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 안된다.
실시예
1
본 실시예는 본 발명의 일 구현예에 따라 p-[[(퍼플루오로헥실에틸렌)티오]메틸]-스티렌 및 클로로메틸 스티렌의 랜덤 공중합체, 또는 폴리(pfotms-ran-cms)의 제조를 예시한다.
오븐 건조된 250 mL의 둥근 바닥 플라스크에 퍼플루오로헥실 에틸 티오메틸 스티렌( 60.3 g, 121.6 mmol), 4-클로로메틸 스티렌(26g, 171 mmol, 1.4 당량), 톨루엔(20 mL) 및 AIBN(838 mg, 5 mmol, 3 mol%)을 혼합하였다. 상기 반응 혼합물을 0℃에서 45분 동안 질소 기체로 탈기시키고, 60℃에서 14 시간 동안 교반한 후, 반응 혼합물을 냉각시키고 30 mL의 아세톤을 첨가하였다. 공중합체 생성물을 메탄올(1L)에 침전시키고 2시간 동안 혼합하였다. 용매를 따라내고 침전물을 아세톤(200 mL)에 재용해시켰다. 아세톤 중의 생성물을 신선한 메탄올(2 L)에 재침전시키고, 여과하고, 메탄올(500 mL)로 세척하고, 밤새 진공 오븐에서 건조하였다. 제조된 공중합체의 무게는 58 g이었다. 1H NMR 스펙트럼으로 상기 공중합체의 구조를 확인하였다.
p-[[(퍼플루오로옥틸에틸렌)티오]메틸]-스티렌 및 클로로메틸 스티렌의 랜덤 공중합체, ((폴리(pfdtms-ran-cms))도 같은 방법을 이용하여 합성하였다.
실시예
2
본 실시예는 본 발명의 일 구현예에 따른 폴리(pfotms-ran-cms)로부터의 막의 제조를 예시한다.
상기 랜덤 공중합체를 아세톤에 용해시키고 다공성 지지체 상에 주조하였다. 따라서, 아세톤 중의 2% 공중합체 용액을 제조하고, PTFE 또는 PES 중 어느 하나의 다공성 지지체를 2초 동안 상기 공중합체 용액에 담갔다. 제조된 코팅된 지지체를 80℃에서 20분 동안 오븐에서 건조시키고, 2시간 동안 IPA에 침지시키고, 80℃에서 30분 동안 오븐에서 건조시키고, 표면 장력 및 중량 증가를 측정하였다. 얻어진 중량 증가 및 표면 장력 결과를 표 1-2에 나타내었다.
0.2μm PTFE에 코팅된 폴리 ( pfotms -ran-cms) | |||
0.2 μm PTFE | 최초 중량 | 코팅 후 최종 중량 | 중량 증가 ( % ) |
막 1 | 0.2905 | 0.3618 | 24 |
막 2 | 0.3129 | 0.389 | 24 |
막 3 | 0.312 | 0.3621 | 16 |
막 4 | 0.3077 | 0.373 | 21 |
막 5 | 0.6416 | 0.7958 | 24 |
CWST ** (dynes/cm) |
AFR
(
slpm
)
@13.5 psi |
WBT(psi) | EDTA 개질 후 CWST | |
0.2μm PTFE 막 상의 1.5% poly(pfotms-ran-cms) | 22.85 | 11.1 | 40 | 50 |
대조군 0.2μm PTFE | 26.6 | 26 | 50 | |
지지된 0.2μm PTFE 상의 1.5% poly(pfotms-ran-cms) | 22.85 | 201 | 7.98 | |
0.8μm PES 상의 2% poly(pfotms-ran-cms) | 22.85 | 19.4 | 33.72 | |
0.8μm PES 대조군 | 85.0 | 0 | 0 |
실시예 3
본 실시예는 본 발명의 일 구현예에 따른 퍼플루오로헥실 에틸 티올 및 클로로메틸 스티렌의 블록 공중합체, 폴리(pfotms-b-cms)의 제조를 예시한다.
폴리(pfotms-block-cms)는 클로로메틸 스티렌 및 40시간 후에 첨가된 퍼플루오로헥실 에틸 티오메틸 스티렌의 연속 중합에 의해 합성되었다. 클로로메틸 스티렌(6.5 mL의 클로로벤젠 중 14.5 ml, 100 mmol), 재결정된 벤질 퍼옥사이드(BPO)(0.242 g, 1 mmol) 및 TEMPO(0.2 g, 1.3 mmol)의 용액을 둥근 바닥 플라스크에 넣었다. 얼음물 배스에서 20분 동안 탈기시킨 후, 상기 반응 혼합물을 95℃에서 3시간 동안 가열하여 BPO를 완전히 분해하고, 125℃에서 40시간 동안 중합을 진행시켰다. 상기 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 디클로로벤젠 3 mL로 희석하고, pfotms(6 mL 클로로벤젠 중 31.18 g, 62.9 mmol)을 첨가하였다. 상기 혼합물을 이전과 같이 탈기시켰다. 반응은 130℃에서 24시간 동안 수행되었다. 클로로포름(100 mL)로 희석하고, 메탄올로부터 침전시키고, 건조시켜 단량체로부터 블록 공중합체를 88%의 수율로 얻었다. NMR 결과는 1/0.62의 cms/pfotms 비율을 나타냈다. DSC 결과는 상기 블록 공중합체가 2개의 Tg(53℃ 및 79℃)를 가짐을 나타냈다. 상기 블록 공중합체의 1H NMR 스펙트럼으로 상기 공중합체의 구조를 확인하였다. 표 3은 상기 블록 공중합체의 몇 가지 특성, 예를 들어 Tg를 보여준다.
p-[[(퍼플루오로옥틸에틸렌)티오]메틸]-스티렌 및 클로로메틸 스티렌의 블록 공중합체, 폴리(pfdtms-b-cms)도 동일한 방법을 이용하여 합성하였다.
중합체 | T g 1, ℃ | T g 2, ℃ | 수 평균 분자량(kD) | 중량 평균 분자량 (kD) | 용해도 |
폴리(pfotms-ran-cms) | 50 | - | 10.6 | 19.85 | 아세톤 |
폴리(pfotms-b-cms) | 53 | 79 | 3982.91 | 8177.93 | DMF |
실시예
4
본 실시예는 본 발명의 일 구현예에 따른 공중합체로부터 다공성 막을 제조하는 방법을 예시한다.
p-[[(퍼플루오로옥틸에틸렌)티오]메틸]-스티렌 및 클로로메틸 스티렌 (폴리(pfdtms-ran-cms)) 및 폴리비닐 클로라이드/아크릴로니트릴(PVC-AN)을 하기와 같이 혼합하였다. 폴리(pfdtms-ran-cms) 및 PVC-AN을 THF에서 혼합하고 600 rpm에서 60분 동안 교반하였다. 평균 입자 크기가 1.79 μm 인 NaHCO3 입자를 용액에 첨가하고 1500 rpm에서 120분 동안 교반하였다. 이어서 중합체 혼합물을 PEG 400으로 코팅된 유리판 상에 주조하였다. 대안적으로, 중합체 혼합물을 유리판에 장착된 PET 기재 상에 주조하였다. 실온에서 THF 를 천천히 증발시킨 후, 제조된 막을 밤새 묽은 HCl 용액에 침지하고 에칭(etching)하여 입자를 제거하고, 80℃의 오븐에서 60분 동안 건조시켰다.
특성 | 성능 |
CWST | 21.62 dynes/cm |
AFR (SLPM @ 5 psi) | 49 |
WBT (psi) | 2.02 |
특성 | 성능 |
CWST | 21.62 dynes/cm |
AFR (SLPM @ 5 psi) | 22.85 |
제조된 막을 EDTA, 이미노디숙신산(IDSA), 트리에틸아민(TEA) 또는 이미노디아세트산(IDA)로 처리하여 전하-개질하였다. 표 6은 IDA, EDTA 및 TEA에 의해 개질된 다공성 막의 전하 밀도 값을 나타낸다.
연소 분석에 의한 개질된 막의 전하 밀도 | |
샘플 | 전하 밀도 (mmol)/g 막 |
IDA | 3.4 |
EDTA | 3.4 |
TEA | 1.9 |
실시예
5
본 실시예는 실시예 4의 EDTA 또는 IDA 개질된 막을 사용하여 마이크로전자 유체, 특히 물 및 이소프로판올로부터 미량 금속 이온을 제거하는 방법을 예시한다.
본 발명의 일 구현예에 따른 다공성 막의 금속 이온 제거 효율은 개질된 막을 통해 1 ppb의 몇가지 금속이 첨가된 이소프로판올을 여과함으로써 시험된다. 시험 하기에 앞서, 모든 시험 장비를 3% HCl에 24시간 동안 침지하고 탈이온수(DIW)로 세척한다. 3개의 47 mm 디스크를 3개의 다른 플랫 시트 미디어 샘플로부터 잘라낸다. 각 디스크를 시험하기 위하여 하우징에 배치한다. 각 샘플에 순차적으로 100 mL의 IPA, 100 mL의 5% HCl, 마지막으로 200 mL의 DIW를 흘려보낸다. 20 mL의 IPA를 다공성 막을 통해 흘려보내고 마지막 10 mL를 미디어 블랭크(media blank)에 수집한다. 각 샘플에 1 ppb 금속이 첨가된 IPA를 시험한다. 7 mL/분의 유출 유속을 설정한다. 초기의 10 mL의 유출물은 버린다. 다음 10 mL의 유출물을 PFA 병에 수집한다. 유입물 및 모든 유출물 샘플을 ICP-MS 분석을 위해 수집한다. 도 5는 여과액 중의 금속 농도를 도시한다. 본 발명의 막의 금속 제거율은 일반적인 막의 금속 제거율보다 우수하다.
본원에 인용된 출판물, 특허 출원 및 특허를 포함하는 모든 참고자료는 마치 각 참고자료가 개별적으로 그리고 특정적으로 인용에 의하여 여기에 전체로서 통합된 것으로 표시되고 또한 본원에 전체로서 기재된 것과 같은 정도로 본원에 인용에 의하여 통합된다.
본 발명을 기술하는 문맥에서(특히, 하기 청구항의 문맥에서), "하나의", "일", "상기", "적어도 하나"라는 용어 및 이와 유사한 지시어의 사용은, 본 명세서에서 달리 표시되거나 문맥상 명백히 모순되지 않는 한, 단수 및 복수를 모두 포함하는 것으로 해석되어야 한다. 열거된 하나 이상의 항목 다음에 "적어도 하나"라는 용어를 사용하는 것(예를 들어, "A 및 B 중 적어도 하나")은 본 명세서에서 달리 표시되거나 문맥상 명백히 모순되지 않는 한, 열거된 항목들 중에서 선택된 하나의 항목(A 또는 B)을 의미하거나, 또는 열거된 항목들의 둘 이상의 임의의 조합(A 및 B)을 의미하는 것으로 해석되어야 한다. 용어 "포함하는(comprising 또는 including)", "갖는" 및 "함유하는"는 다른 언급이 없는 한 개방형 종결용어(즉, "포함하되, 이에 제한되지 않는 것"의 의미)로 해석되어야 한다. 본 명세서에서 수치 범위의 언급은, 본 명세서에 달리 표시되지 않는 한, 그 범위 내에 속하는 각각의 개별적인 수치를 개별적으로 언급하는 축약식 방법으로 기능하는 것으로 단순히 의도되고, 각각의 개별적인 수치는 마치 그것이 본 명세서에 개별적으로 언급된 것처럼 본 명세서에 통합된다. 본 명세서에 기술된 모든 방법은 본 명세서에 달리 표시되거나 문맥상 명백히 모순되지 않는 한, 임의의 적당한 순서로 실행될 수 있다. 본 명세서에 제공된 임의의 모든 예들 또는 예시적인 표현(예를 들면, "와/과 같은")의 사용은 단지 본 발명을 더욱 상세하게 설명하고자 하는 것으로 의도되며, 달리 청구되지 않는 한 본 발명의 범위에 제한을 부과하지 않는다. 본 명세서의 어떠한 표현도, 임의의 청구되지 않은 요소가 본 발명의 실시에 필수적인 것을 나타내는 것으로 해석되어서는 안된다.
본 발명을 실행하는 데 있어서 발명가에게 알려진 최적 모드를 포함하여 본 발명의 바람직한 구현예들이 여기에 기술된다. 상기 바람직한 구현예의 변형은 전술한 상세한 설명을 읽음으로써 통상의 기술자에게 자명해질 수 있다. 본 발명자들은 숙련된 기술자가 그러한 변형을 적절하게 적용할 것을 예상하며, 본 발명자들은 본 명세서에서 구체적으로 기술된 것과 다른 방식으로도 본 발명이 실시되는 것을 의도한다. 따라서, 본 발명은 관련 법규에 의하여 허용되는 바와 같이, 본 명세서에 첨부된 청구범위에 언급된 주제(subject matter)의 모든 변형예 및 균등물을 포함한다. 게다가, 상기 기술된 요소들의 임의의 조합을 통한 모든 가능한 변형예도 본 명세서에 달리 표시되거나 문맥상 명백하게 모순되지 않는 한, 본 발명에 포함된다.
Claims (20)
- 다공성 지지체에 배치된 공중합체를 포함하는 다공성 막으로서,
상기 공중합체는 중합된 단량체 유닛 I 및 II를 포함하며,
상기 단량체 유닛 I은 화학식 A-X-CH2-B로 표시되고, A는 Rf-(CH2)n이고, Rf는 화학식 CF3-(CF2)x-로 표시되는 퍼플루오로 알킬기이고, x는 3 내지 12의 정수이고, n은 1 내지 6의 정수이고, X는 S이고, B는 비닐페닐이고,
상기 단량체 유닛 II는 할로알킬 스티렌이고,
상기 공중합체의 상기 할로기 중 하나 이상이 에틸렌디아민 테트라아세트산, 이미노디아세트산 및 이미노디숙신산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환기로 치환되고,
상기 치환기가 이미노디숙신산인 경우, 상기 다공성 막의 표면 장력은 40 내지 45 dynes/cm이고,
상기 치환기가 이미노디아세트산인 경우, 상기 다공성 막의 표면 장력은 40 내지 48 dynes/cm이고,
상기 치환기가 에틸렌디아민 테트라아세트산인 경우, 상기 다공성 막의 표면 장력은 40 내지 45 dynes/cm인 다공성 막. - 제1항에 있어서, 상기 n이 2인 다공성 막.
- 제1항에 있어서, 상기 x가 4 내지 8의 정수인 다공성 막.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단량체 유닛 II가 클로로알킬 스티렌인 다공성 막.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 할로알킬이 클로로메틸인 다공성 막.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 공중합체가 블록 공중합체인 다공성 막.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 공중합체가 랜덤 공중합체인 다공성 막.
- 제1항에 있어서, 상기 다공성 지지체가 다공성 고분자 지지체인 다공성 막.
- 제8항에 있어서, 상기 다공성 고분자 지지체가 PVC/PAN(폴리비닐 클로라이드/폴리아크릴로니트릴), 폴리술폰, 폴리에테르술폰, HDPE(고밀도 폴리에틸렌), PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트), PPS(폴리페닐렌 술파이드), PPSU(폴리페닐 술폰), PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌), PVDF(폴리비닐리덴 플루오라이드), PVF(폴리비닐 플루오라이드), PCTFE(폴리클로로트리플루오로에틸렌), FEP(불화 에틸렌-프로필렌), ETFE(폴리에틸렌테트라플루오로에틸렌), ECTFE(폴리에틸렌클로로트리플루오로에틸렌), PFPE(퍼플루오로폴리에테르), PFSA(퍼플루오로술폰산) 및 퍼플루오로폴리옥세탄으로부터 선택된, 다공성 막.
- 제1항에 따른 공중합체를 포함하는 다공성 막의 제조 방법으로서,
(i) 중합된 단량체 유닛 I 및 II를 포함하는 상기 공중합체를 용매에 용해시켜 상기 공중합체를 포함하는 용액을 얻는 단계;
(ii) 상기 (i)로부터의 용액을 주조하여 코팅을 얻는 단계;
(iii) 상기 코팅으로부터 상기 용매를 증발시키는 단계; 선택적으로
(iv) 상기 코팅을 세척하여 상기 다공성 막을 얻는 단계; 및
(v) 상기 공중합체의 상기 할로기 중 하나 이상을 에틸렌디아민 테트라아세트산, 이미노디아세트산 및 이미노디숙신산으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 치환기로 치환하는 단계;
를 포함하는, 다공성 막의 제조 방법. - 유체를 여과하는 방법으로서,
제1항의 다공성 막을 통해 상기 유체를 통과시키는 단계를 포함하는 방법. - 제1항에 있어서, 상기 치환기가 이미노디아세트산이고, 상기 다공성 막의 전하 밀도는 3.4 (mmol)/g 막인 다공성 막.
- 제1항에 있어서, 상기 치환기가 에틸렌디아민 테트라아세트산이고, 상기 다공성 막의 전하 밀도는 3.4 (mmol)/g 막인 다공성 막.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/237,172 US10471396B2 (en) | 2016-08-15 | 2016-08-15 | Fluoropolymers and membranes comprising fluoropolymers (I) |
US15/237,172 | 2016-08-15 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170103188A Division KR20180019060A (ko) | 2016-08-15 | 2017-08-14 | 불소중합체 및 불소중합체를 포함한 막(i) |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180136921A KR20180136921A (ko) | 2018-12-26 |
KR102028584B1 true KR102028584B1 (ko) | 2019-11-04 |
Family
ID=59649481
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170103188A KR20180019060A (ko) | 2016-08-15 | 2017-08-14 | 불소중합체 및 불소중합체를 포함한 막(i) |
KR1020180161339A KR102028584B1 (ko) | 2016-08-15 | 2018-12-13 | 불소중합체 및 불소중합체를 포함한 막(i) |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170103188A KR20180019060A (ko) | 2016-08-15 | 2017-08-14 | 불소중합체 및 불소중합체를 포함한 막(i) |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10471396B2 (ko) |
EP (1) | EP3284759A1 (ko) |
JP (1) | JP6458960B2 (ko) |
KR (2) | KR20180019060A (ko) |
CN (1) | CN107759720B (ko) |
AU (1) | AU2017213595B2 (ko) |
BR (1) | BR102017017509B1 (ko) |
CA (1) | CA2976504C (ko) |
SG (1) | SG10201706490UA (ko) |
TW (1) | TWI648296B (ko) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10130918B2 (en) * | 2016-09-16 | 2018-11-20 | Pall Corporation | Fluoropolymers and membranes comprising fluoropolymers (III) |
KR102455810B1 (ko) * | 2018-03-15 | 2022-10-18 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 플루오르화 필터 막, 필터, 및 방법 |
KR102646311B1 (ko) | 2019-02-08 | 2024-03-13 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 리간드-개질된 필터 및 액체 조성물로부터 금속을 감소시키는 방법 |
US11574805B2 (en) | 2019-09-12 | 2023-02-07 | Brewer Science, Inc. | Selective liquiphobic surface modification of substrates |
CN111393546B (zh) * | 2020-03-31 | 2021-08-03 | 浙江康特生物科技有限公司 | 一种螯合树脂的制备及去除试剂盒纯化水中钴离子的应用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7074290B2 (ja) * | 2018-01-23 | 2022-05-24 | 株式会社ミヤデン | 誘導加熱用の出力変成器 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4954256A (en) | 1989-05-15 | 1990-09-04 | Pall Corporation | Hydrophobic membranes |
US5232600A (en) | 1989-05-15 | 1993-08-03 | Pall Corporation | Hydrophobic membranes |
JPH0774290B2 (ja) | 1990-05-18 | 1995-08-09 | ジャパンゴアテックス株式会社 | 親水性多孔質フッ素樹脂材料 |
US6354443B1 (en) | 1997-05-01 | 2002-03-12 | Millipore Corporation | Surface modified porous membrane and process |
EP1171226A1 (en) | 1999-04-14 | 2002-01-16 | Pall Corporation | Porous membrane |
JP2007009163A (ja) * | 2005-07-04 | 2007-01-18 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 含フッ素スチレン誘導体及びその重合体 |
US20090277837A1 (en) | 2008-05-06 | 2009-11-12 | Chunqing Liu | Fluoropolymer Coated Membranes |
EP2588507B1 (en) * | 2010-07-01 | 2014-06-04 | Solvay Specialty Polymers Italy S.p.A. | Process for the treatment of sulfonyl fluoride polymers |
JP4979824B1 (ja) | 2011-03-29 | 2012-07-18 | 株式会社アストム | イオン交換膜 |
KR101334888B1 (ko) | 2012-03-16 | 2013-11-29 | 강원대학교산학협력단 | 리튬 이차전지용 분리막 및 그 제조방법 |
US9776142B2 (en) | 2014-02-28 | 2017-10-03 | Pall Corporation | Porous polymeric membrane with high void volume |
US9604181B2 (en) | 2014-05-30 | 2017-03-28 | Pall Corporation | Membrane comprising self-assembled block copolymer and process for producing the same by spray coating (IIc) |
US9718924B2 (en) * | 2014-06-30 | 2017-08-01 | Pall Corporation | Hydrophilic block copolymers and membranes prepared therefrom (II) |
JP2016137455A (ja) | 2015-01-28 | 2016-08-04 | 富士フイルム株式会社 | 複合イオン交換膜及びその製造方法、イオン交換膜モジュール、並びに、イオン交換装置 |
US9649603B2 (en) * | 2015-03-31 | 2017-05-16 | Pall Corporation | Hydrophilically modified fluorinated membrane (III) |
-
2016
- 2016-08-15 US US15/237,172 patent/US10471396B2/en active Active
-
2017
- 2017-08-03 EP EP17184752.8A patent/EP3284759A1/en active Pending
- 2017-08-07 TW TW106126556A patent/TWI648296B/zh active
- 2017-08-08 JP JP2017153614A patent/JP6458960B2/ja active Active
- 2017-08-08 SG SG10201706490UA patent/SG10201706490UA/en unknown
- 2017-08-14 AU AU2017213595A patent/AU2017213595B2/en active Active
- 2017-08-14 KR KR1020170103188A patent/KR20180019060A/ko active Search and Examination
- 2017-08-15 CN CN201710694153.4A patent/CN107759720B/zh active Active
- 2017-08-15 BR BR102017017509-0A patent/BR102017017509B1/pt active IP Right Grant
- 2017-08-15 CA CA2976504A patent/CA2976504C/en active Active
-
2018
- 2018-12-13 KR KR1020180161339A patent/KR102028584B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7074290B2 (ja) * | 2018-01-23 | 2022-05-24 | 株式会社ミヤデン | 誘導加熱用の出力変成器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3284759A1 (en) | 2018-02-21 |
JP6458960B2 (ja) | 2019-01-30 |
KR20180019060A (ko) | 2018-02-23 |
US20180043313A1 (en) | 2018-02-15 |
BR102017017509A2 (pt) | 2018-03-13 |
US10471396B2 (en) | 2019-11-12 |
AU2017213595B2 (en) | 2021-07-08 |
TWI648296B (zh) | 2019-01-21 |
CA2976504A1 (en) | 2018-02-15 |
BR102017017509B1 (pt) | 2022-11-29 |
AU2017213595A1 (en) | 2018-03-01 |
CN107759720A (zh) | 2018-03-06 |
SG10201706490UA (en) | 2018-03-28 |
CN107759720B (zh) | 2021-05-28 |
CA2976504C (en) | 2019-07-23 |
TW201815841A (zh) | 2018-05-01 |
KR20180136921A (ko) | 2018-12-26 |
JP2018076479A (ja) | 2018-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102028584B1 (ko) | 불소중합체 및 불소중합체를 포함한 막(i) | |
KR102065159B1 (ko) | 불소중합체 및 불소중합체를 포함한 막(ii) | |
KR102035086B1 (ko) | 금속 제거용 다공성 ptfe 막 | |
KR20150128976A (ko) | 수지 조성물, 제막 원액, 다공질막, 상기 다공질막을 사용한 중공사막, 수처리 장치, 전해질 지지체 및 세퍼레이터 | |
KR102142571B1 (ko) | 플루오로폴리머 및 플루오로폴리머를 포함한 막(iii) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right |